JPH10188586A - Semiconductor non-volatile memory - Google Patents
Semiconductor non-volatile memoryInfo
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- JPH10188586A JPH10188586A JP34006296A JP34006296A JPH10188586A JP H10188586 A JPH10188586 A JP H10188586A JP 34006296 A JP34006296 A JP 34006296A JP 34006296 A JP34006296 A JP 34006296A JP H10188586 A JPH10188586 A JP H10188586A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電気的にプログラ
ム可能な半導体不揮発性記憶装置に係り、特にDINO
R(DIvided bit line NOR)型フラッシュメモリ等のよう
にファウラーノルドハイム(以下FN)トンネル現象に
よりフローティングゲートに電子を注入等してデータプ
ログラムを行う半導体不揮発性記憶装置におけるデータ
プログラム系回路に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrically programmable semiconductor nonvolatile memory device, and
It relates to a data program system circuit in a semiconductor non-volatile memory device which performs data programming by injecting electrons into a floating gate by a Fowler-Nordheim (hereinafter, FN) tunnel phenomenon, such as an R (Divided bit line NOR) type flash memory. is there.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、EPROM、フラッシュメモリ等
の半導体不揮発性記憶装置においては、チャンネルホッ
トエレクトロン(以下CHE)注入によりフローティン
グゲートに電子を注入してデータのプログラムを行うN
OR型の半導体不揮発性記憶装置が主流であった。2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor nonvolatile memory device such as an EPROM or a flash memory, data is programmed by injecting electrons into a floating gate by channel hot electron (hereinafter, CHE) injection.
OR type semiconductor nonvolatile memory devices have been the mainstream.
【0003】しかし、上述したNOR型半導体不揮発性
記憶装置においては、CHEデータプログラム時に大電
流を必要とし、この電流をチップ内昇圧回路から供給す
ることは難しく、今後電源電圧が低電圧化していった場
合、単一電源で動作させることは困難になると予想され
ている。しかも、NOR型半導体不揮発性記憶装置にお
いては、上記の電流制限からバイト単位で、つまり一度
に〜8個程度のメモリトランジスタにしか並列にデータ
プログラムが行えず、プログラム速度の点で非常な制約
があった。以上の観点から、FNトンネル現象によりフ
ローティングゲートに電子を注入等してデータのプログ
ラムを行う半導体不揮発性記憶装置、たとえばNAND
型あるいはDINOR型フラッシュメモリが提案されて
いる。However, the above-mentioned NOR type semiconductor nonvolatile memory device requires a large current at the time of CHE data programming, and it is difficult to supply this current from the on-chip booster circuit, and the power supply voltage will be reduced in the future. In that case, it is expected that it will be difficult to operate with a single power supply. Moreover, in the NOR type semiconductor nonvolatile memory device, data programming can be performed in units of bytes, that is, only up to about eight memory transistors at a time due to the above current limitation, and there is an extremely limited program speed. there were. In view of the above, a semiconductor non-volatile memory device that performs data programming by injecting electrons into the floating gate by the FN tunnel phenomenon, for example, a NAND
Type or DINOR type flash memory has been proposed.
【0004】図6(a),(b)は、それぞれNAND
型、DINOR型フラッシュメモリにおけるメモリアレ
イ構造を示す図である。FIGS. 6 (a) and 6 (b) respectively show NAND gates.
FIG. 2 is a diagram showing a memory array structure in a flash memory of the DINOR type.
【0005】図6(a)のNAND型フラッシュメモリ
は、便宜上、1本のビット線に接続されたNAND列1
本に4個のメモリトランジスタが接続された場合の、メ
モリアレイを示す図である。[0005] For convenience, the NAND flash memory of FIG. 6A has a NAND string 1 connected to one bit line.
FIG. 9 is a diagram showing a memory array when four memory transistors are connected to a book.
【0006】図6(a)において、BLはビット線を示
し、当該ビット線BLに2個の選択トランジスタST
1,ST2、および4個のメモリトランジスタMT1〜
MT4が直列接続されたNAND列が接続される。選択
トランジスタST1,ST2はそれぞれ選択ゲート線S
L1,SL2により制御され、またメモリトランジスタ
MT1〜MT4はそれぞれワード線WL1〜WL4によ
り制御される。In FIG. 6A, BL indicates a bit line, and two select transistors ST are connected to the bit line BL.
1, ST2, and four memory transistors MT1 to MT1.
A NAND string in which MT4s are connected in series is connected. The select transistors ST1 and ST2 are connected to select gate lines S
L1 and SL2, and the memory transistors MT1 to MT4 are controlled by word lines WL1 to WL4, respectively.
【0007】図6(b)のDINOR型フラッシュメモ
リは、便宜上、1本の主ビット線MBLに接続された副
ビット線SBL1本に4個のメモリトランジスタが接続
された場合のDINORメモリアレイを示す図である。
DINOR型においては、主ビット線MBLと副ビット
線SBLは、選択ゲート線SLにより制御される選択ト
ランジスタST1を介して接続される。副ビット線SB
Lは、4本のワード線WL1〜WL4と交差し、各交差
位置に4個のメモリトランジスタMT1〜MT4が配置
される。The DINOR type flash memory shown in FIG. 6B shows a DINOR memory array in which four memory transistors are connected to one sub-bit line SBL connected to one main bit line MBL for convenience. FIG.
In the DINOR type, the main bit line MBL and the sub bit line SBL are connected via a select transistor ST1 controlled by a select gate line SL. Sub-bit line SB
L intersects with four word lines WL1 to WL4, and four memory transistors MT1 to MT4 are arranged at each intersection position.
【0008】かかるNAND型,DINOR型フラッシ
ュメモリのプログラム動作においては、データプログラ
ム時の動作電流が小さいため、この電流をチップ内昇圧
回路から供給することとが比較的容易であり、単一電源
で動作させ易いという利点がある。さらに、NAND
型,DINOR型フラッシュメモリにおいては、上記の
動作電流の優位性からページ単位で、つまり選択するワ
ード線に接続されたメモリトランジスタ一括にデータプ
ログラムを行うことが可能であり、当然の結果として、
プログラム速度の点で優位である。さらに、上述したフ
ラッシュメモリにおいては、プロセスバラツキ等に起因
してメモリトランジスタ間でプログラウム特性がバラツ
いても、プログラム動作がベリファイ読み出し動作を介
して複数回のプログラム動作を繰り返し行うことにより
なされるため、プログラムしきい値電圧Vthのバラツ
キが抑えられるという利点がある。In the programming operation of such a NAND type or DINOR type flash memory, since the operating current at the time of data programming is small, it is relatively easy to supply this current from the booster circuit in the chip. There is an advantage that it is easy to operate. In addition, NAND
And DINOR type flash memories, it is possible to perform data programming in page units, that is, collectively for the memory transistors connected to the selected word line, due to the superiority of the operating current described above.
It is advantageous in terms of program speed. Further, in the above-described flash memory, even if program characteristics vary between memory transistors due to process variations or the like, the program operation is performed by repeating the program operation a plurality of times via the verify read operation. There is an advantage that variation in the program threshold voltage Vth can be suppressed.
【0009】つまり、選択するワード線に接続されたメ
モリトランジスタ一括にページプログラムする場合、ペ
ージプログラムデータをビット線毎のデータラッチ回路
に転送し、プログラム終了セルのラッチデータを順次反
転してプログラム禁止状態をすることにより、いわゆる
ビット毎ベリファイ動作が行われ、過剰プログラムを防
止してプログラムしきい値電圧Vthのバラツキが抑え
られる。In other words, when performing a page program for the memory transistors connected to the selected word line at a time, the page program data is transferred to a data latch circuit for each bit line, and the latch data of the program end cell is sequentially inverted to inhibit the program. By performing the state, a so-called bit-by-bit verify operation is performed, and excessive programming is prevented, and variation in the program threshold voltage Vth is suppressed.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したN
AND型,DINOR型フラッシュメモリは以上説明し
たような種々の利点を有するが、以下の問題点を有す
る。すなわち、かかるフラッシュメモリのデータプログ
ラム動作において、プロセスバラツキ等に起因するプロ
グラム特性のバラツキが大きい場合に、選択ワード線に
接続されたメモリトランジスタ間でプログラム速度の差
が大きくなり、プログラム/ベリファイ回数が増大し、
プログラム速度が律速されるという問題がある。The above-mentioned N
The AND type and DINOR type flash memories have various advantages as described above, but have the following problems. That is, in the data programming operation of the flash memory, when the variation in the program characteristics due to the process variation or the like is large, the difference in the programming speed between the memory transistors connected to the selected word line becomes large, and the number of program / verify operations is reduced. Increase,
There is a problem that the program speed is limited.
【0011】これは、プロセスバラツキ等に起因するプ
ログラム速度のバラツキは、選択ワード線内のメモリト
ランジスタ間で、経験的におよそ〜2桁程度のプログラ
ム時間差にもなることから、従来の同一パルス電圧値、
同一パルス時間幅の単純プログラムパルスの繰り返し印
加方式では、プログラム/ベリファイ回数も〜100程
度行う必要があるためである。このような場合、実質的
なプログラム電圧印加時間よりも、むしろプログラム動
作/ベリファイ読み出しの電圧切り替えに要する時間が
支配的となり、実質的にプログラム速度が損なわれてし
まう。[0011] This is because the variation in the programming speed due to the process variation or the like results in an empirical program time difference of about two digits between the memory transistors in the selected word line. value,
This is because, in the method of repeatedly applying a simple program pulse having the same pulse time width, the number of program / verify operations needs to be performed to about 100. In such a case, the time required for switching the voltage of the program operation / verify read becomes dominant rather than the substantial program voltage application time, and the programming speed is substantially impaired.
【0012】かかる問題を回避するためには、プログラ
ム/ベリファイ回数を最大限でも〜10回程度に抑制し
てデータプログラムを行う必要がある。しかし、従来の
同一パルス電圧値、同一パルス時間幅の単純プログラム
パルスの繰り返し印加方式でこれを実行するには、パル
ス電圧値を強めたプログラムパルスを印加する必要があ
る。この場合、最もプログラム速度の早いメモリトラン
ジスタが過剰プログラムされたプログラムしきい値電圧
Vthのバラツキが増大するという副作用をもたらす。In order to avoid such a problem, it is necessary to perform data programming while suppressing the number of program / verify operations to a maximum of about 10 times. However, in order to perform this in the conventional repetitive application method of a simple program pulse having the same pulse voltage value and the same pulse time width, it is necessary to apply a program pulse having an increased pulse voltage value. In this case, there is a side effect that the variation of the program threshold voltage Vth in which the memory transistor having the fastest programming speed is excessively programmed increases.
【0013】上述した問題点を解決して、プログラムし
きい値電圧Vthのバラツキを増大することなくプログ
ラム/ベリファイ回数を抑制することのできるNAND
型フラッシュメモリの新しいプログラム方式が、以下の
文献に開示されている。 文献:『A 3.3V 32Mb NAND Flas
h Memory with Incremental
Step Pulse Programming S
cheme』 ’95 ISSCC p128〜。A NAND which can solve the above-mentioned problem and can suppress the number of program / verify operations without increasing the variation of the program threshold voltage Vth.
A new programming method for a flash memory is disclosed in the following literature. Literature: "A 3.3V 32Mb NAND Flas
h Memory with Incremental
Step Pulse Programming S
cheme] '95 ISSCC p128 ~.
【0014】上述した文献に開示されたデータプログラ
ム動作は、選択ワード線に高電圧のプログラムワード線
電圧、ビット線に基準ビット線電圧を印加して、前記プ
ログラムワード線電圧と基準ビット線電圧とのプログラ
ム電圧差により、データプログラムを行うNAND型フ
ラッシュメモリにおいて、プログラム動作がベリファイ
読み出し動作を介して複数回のプログラム動作を繰り返
し行うことによりなされ、前記プログラムワード線電圧
がプログラム回数の増加にしたがって漸増する方向に可
変の電圧値に設定することにより、また前記基準ビット
線電圧がプログラム回数のかかわらず一定の電圧値に設
定することにより、前記プログラム電圧差がプログラム
回数の増加にしたがって漸増するように、データのプロ
グラムを行う。つまり、Incremental St
ep Pulse Programming法(以下I
SPP法)と呼ばれる由縁である。このISPP法はD
INOR型フラッシュメモリにも同様に適用可能であ
る。In the data program operation disclosed in the above-mentioned document, a high program word line voltage is applied to a selected word line and a reference bit line voltage is applied to a bit line, and the program word line voltage and the reference bit line voltage are applied. In the NAND flash memory that performs data programming, the program operation is performed by repeating the program operation a plurality of times through the verify read operation, and the program word line voltage gradually increases as the number of program increases. By setting the reference bit line voltage to a constant voltage value irrespective of the number of times of programming, the program voltage difference is gradually increased as the number of times of programming increases. , Program the data. That is, Incremental St
ep Pulse Programming method (hereinafter I
(SPP method). This ISPP method is D
The same can be applied to an INOR type flash memory.
【0015】図7は、上述したISPP法によりNAN
D型,DINOR型フラッシュメモリのデータプログラ
ムを行う場合の、タイミングチャートを示す図である。
以下、図7のタイミングチャートについて、順を追って
説明する。FIG. 7 is a diagram showing NAN by the above-mentioned ISPP method.
FIG. 3 is a diagram showing a timing chart when data programming is performed on D-type and DINOR-type flash memories.
Hereinafter, the timing chart of FIG. 7 will be described step by step.
【0016】まず時刻t1〜t2の間は、ページデータ
転送クロック信号φCLと同期してページプログラムデ
ータを各ビット線毎に設けられたデータラッチ回路1〜
mに転送するステップである。First, from time t1 to time t2, the page program data is synchronized with the page data transfer clock signal φCL in the data latch circuits 1 to 3 provided for each bit line.
m.
【0017】次に時刻t2から時刻t4の間は、第1回
目のプログラム/ベリファイ動作を行うステップであ
る。すなわちプログラム/ベリファイ制御信号φP/R
の制御により、第1番目のプログラムワード線電圧VP
P1(15V)とベリファイ読み出しワード線電圧VR
(1.5V)が選択ワード線WSLに交互に印加され
る。またプログラムメモリトランジスタが接続された選
択ビット線には基準ビット線電圧GND(0V)、非プ
ログラムメモリトランジスタが接続された非選択ビット
線には中間禁止電1/2VPP(8V)が印加される。
その結果、時刻t4までに第1回目のプログラムが終了
し、プログラム終了セルのラッチデータは反転して次回
からはプログラム禁止状態となる。Next, from time t2 to time t4, the first program / verify operation is performed. That is, program / verify control signal φP / R
Controls the first program word line voltage VP
P1 (15V) and verify read word line voltage VR
(1.5 V) is alternately applied to the selected word line WSL. The reference bit line voltage GND (0 V) is applied to the selected bit line connected to the program memory transistor, and the intermediate inhibition power 1/2 VPP (8 V) is applied to the non-selected bit line connected to the non-program memory transistor.
As a result, the first program is completed by time t4, the latch data of the program end cell is inverted, and the program is inhibited from the next time.
【0018】時刻t4〜t6の間は、第2回目のプログ
ラム/ベリファイ動作を行うステップであるが、基本的
には第1回目のプログラム/ベリファイ動作と同様であ
る。異なる点は、第2番目のプログラムワード線電圧V
PP2(15.5V)が第1番目のプログラムワード線
電圧VPP1(15V)より0.5Vインクリメントさ
れることである。From time t4 to t6, the second program / verify operation is performed, but is basically the same as the first program / verify operation. The difference is that the second program word line voltage V
PP2 (15.5 V) is to be incremented by 0.5 V from the first program word line voltage VPP1 (15 V).
【0019】時刻t6〜t8の間は、第3回目のプログ
ラム/ベリファイ動作を行うステップであり、同様に、
第3番目のプログラムワード線電圧VPP3(16V)
が0.5Vインクリメントされる。From time t6 to time t8, a third program / verify operation is performed.
Third program word line voltage VPP3 (16 V)
Is incremented by 0.5V.
【0020】最後に時刻t9〜t11の間は、最終のq
回目(たとえば10回目)のプログラム/ベリファイ動
作を行うステップであり、第q番目のプログラムワード
線電圧VPPq(19.5V)が印加され、すべてのプ
ログラムが終了し、その後、すべてのデータラッチ回路
のデータがハイレベルになったことを検出して、プログ
ラム動作を終了する。Finally, from time t9 to t11, the last q
This is the step of performing the 10th (eg, 10th) program / verify operation, in which the q-th program word line voltage VPPq (19.5 V) is applied, all programming is completed, and then all data latch circuits are turned off. Upon detecting that the data has become high level, the program operation ends.
【0021】なお、プログラム回数の進行は、常に最終
のq回目(たとえば10回目)まで行われるとは限られ
ず、すべてのデータラッチ回路のデータがハイレベルに
なったことを検出すれば、自動的に終了する。Incidentally, the progress of the number of program times is not always limited to the final q-th one (for example, the tenth one). If it is detected that the data of all the data latch circuits have become high level, the program is automatically performed. To end.
【0022】かかるISPP法によるデータプログラム
動作においては、プログラム回数の増加にしたがってメ
モリトランジスタのプログラムが進行してしきい値電圧
Vthが上昇しても、これによるフローティングゲート
電位の低下は漸増するプログラムワード電圧により補償
されて、メモリトランジスタのトンネル酸化膜に印加さ
れる電界は一定に保たれる。したがって、プログラム回
数の増加にかかわらずフローティングゲートに注入され
るFNトンネル電流値は常に一定値に保たれ、プログラ
ム回数の増加とプログラムしきい値電圧Vthの上昇値
が線形関係となる。その結果、プログラム/ベリファイ
回数を抑えながら、精度のよりプログラムしきい値電圧
Vthの制御が可能となる。In the data program operation according to the ISPP method, even if the threshold voltage Vth rises due to the progress of the programming of the memory transistor as the number of times of programming increases, the decrease in the floating gate potential due to this increases the program word. The electric field compensated by the voltage and applied to the tunnel oxide film of the memory transistor is kept constant. Therefore, the FN tunnel current value injected into the floating gate is always kept constant regardless of the increase in the number of times of programming, and the increase in the number of times of programming and the increase in the program threshold voltage Vth have a linear relationship. As a result, it is possible to control the program threshold voltage Vth more accurately while suppressing the number of program / verify operations.
【0023】これに対して、従来の同一パルス電圧値、
同一パルス時間幅の単純プログラムパルスの繰り返し印
加方式によるデータプログラム動作においては、プログ
ラム回数の増加にしたがってメモリトランジスタのプロ
グラムが進行してしきい値電圧Vthが上昇した場合、
これによりフローティングゲート電位が低下するため、
メモリトランジスタのトンネル酸化膜に印加される電界
は減少する。したがって、プログラム回数の増加にした
がってフローティングゲートに注入されるFNトンネル
電流値は次第に減少し、プログラム回数の増加とともに
プログラムしきい値電圧Vthの飽和現象が顕著とな
り、理論的にはプログラム回数の増加に対するプログラ
ムしきい値電圧Vthの上昇値が対数関係となる。その
結果、プログラム/ベリファイ回数を抑えながらの精度
のよいプログラムしきい値電圧Vthの制御が困難であ
り、プログラム電圧値を高くすると過剰プログラム等の
副作用をもたらす。On the other hand, the same pulse voltage value
In the data program operation by the repetitive application method of the simple program pulse having the same pulse time width, when the programming of the memory transistor progresses as the number of times of programming increases and the threshold voltage Vth rises,
This lowers the floating gate potential,
The electric field applied to the tunnel oxide of the memory transistor decreases. Therefore, the value of the FN tunnel current injected into the floating gate gradually decreases as the number of times of programming increases, and the saturation phenomenon of the program threshold voltage Vth becomes remarkable as the number of times of programming increases. The rising value of the program threshold voltage Vth has a logarithmic relationship. As a result, it is difficult to control the program threshold voltage Vth with high accuracy while suppressing the number of program / verify operations. When the program voltage value is increased, side effects such as excessive programming are caused.
【0024】上述したISPP法によるデータプログラ
ム動作は、プログラム/ベリファイ回数の抑制と精度の
高いプログラム制御が両立できる点で、非常にすぐれた
プログラム方法である。しかしながら、上記ISPP法
によるデータプログラム動作においては、プログラム回
数の増加にしたがって漸増する方向に電圧値が段階的に
変化するプログラムワード線電圧を発生する必要があ
る。The above-described data program operation by the ISPP method is a very excellent programming method in that the control of the number of program / verify operations and the high-precision program control are compatible. However, in the data program operation by the ISPP method, it is necessary to generate a program word line voltage whose voltage value changes stepwise in a direction gradually increasing as the number of times of programming increases.
【0025】かかるプログラムワード線電圧の発生回路
の具体的例が、以下の文献に開示されている。 文献:IEEE JOURNAL OF SOLID−
STATE CIRCUITS,VOL.30,NO.
11,NOVEMBER 1995 p1152におけ
るFig.7の回路例。A specific example of such a program word line voltage generating circuit is disclosed in the following literature. Reference: IEEE JOURNAL OF SOLID-
STATE CIRCUITS, VOL. 30, NO.
11, NOVEMBER 1995 p1152 in FIG. 7 is a circuit example.
【0026】しかし、上記文献に開示されたプログラム
ワード線電圧の発生回路は、プログラムワード線電圧自
体が〜20V程度の高電圧を必要とするため、昇圧回路
により発生した高電圧源により、電圧値が段階変化する
上記プログラムワード線電圧を発生する必要がある。し
たがって、上記プログラムワード線電圧の段階的な変化
をより細かくかつ多ステップに漸増させる必要がある場
合、昇圧回路および電圧値が段階的に変化するプログラ
ムワード線電圧発生手段の構成が簡単ではない。However, the program word line voltage generating circuit disclosed in the above document requires a high voltage of about 20 V, so that the voltage value of the program word line voltage is increased by the high voltage source generated by the booster circuit. It is necessary to generate the program word line voltage that changes step by step. Therefore, when it is necessary to gradually increase the stepwise change of the program word line voltage more finely and in multiple steps, the configurations of the booster circuit and the program word line voltage generating means whose voltage value changes stepwise are not simple.
【0027】たとえば上記問題に該当する例として、1
個のメモリトランジスタに2ビットのデジタルデータを
記録する、いわゆる、多値型のNAND型フラッシュメ
モリにISPP法を適用した場合の例が、以下の文献に
示されている。 文献:『A 3.3V 128Mb Multe−Le
bel NAND Flash Memory for
Mass Storage Application
s』’96 ISCC p32〜p33。For example, as an example corresponding to the above problem, 1
An example in which the ISPP method is applied to a so-called multi-level NAND flash memory in which 2-bit digital data is recorded in individual memory transistors is disclosed in the following literature. Literature: “A 3.3V 128Mb Multi-Le
Bel NAND Flash Memory for
Mass Storage Application
s "'96 ISCC p32-p33.
【0028】上記文献例においては、多値型のメモリに
要求される各状態のVth分布を狭く抑えるために、プ
ログラムワード線電圧を14.5Vから21Vまで0.
2Vステップで変化させるISPP法を採用している。
したがってこの場合、32段階ものステップで電圧値が
段階変化するプログラムワード線電圧を発生させる必要
がある。In the above-mentioned reference example, in order to suppress the Vth distribution of each state required for a multi-valued memory to be narrow, the program word line voltage is set to 0.1V from 14.5V to 21V.
The ISPP method of changing in 2V steps is adopted.
Therefore, in this case, it is necessary to generate a program word line voltage whose voltage value changes stepwise in as many as 32 steps.
【0029】以上のプログラムワード線電圧の発生回路
等もDINOR型フラッシュメモリにも適用可能であ
り、この場合も上述したと同様の不利益を有し、簡単な
構成で精度の高いDINOR型フラッシュメモリを実現
することは困難である。The above-described circuit for generating a program word line voltage can be applied to a DINOR type flash memory. In this case, the DINOR type flash memory has the same disadvantages as described above, and has a simple structure and high accuracy. It is difficult to achieve.
【0030】本発明は係る事情に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、ISPP法と実質的に同様の効果を
有し、しかも回路構成が簡単で高速にかつ精度の高いデ
ータプログラムを行うことのできるDINOR型半導体
不揮発性記憶装置を実現することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object the same effects as the ISPP method, with a simple circuit configuration, high-speed and high-precision data programming. It is an object of the present invention to realize a DINOR type semiconductor nonvolatile memory device that can perform the above-described operations.
【0031】[0031]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、行列状に配置された複数のメモリトラン
ジスタを有し、主ビット線が副ビット線に階層化され、
副ビット線にメモリセルトランジスタが接続されたDI
NOR構造をなし、同一行に配置されたメモリトランジ
スタが共通のワード線に接続され、前記メモリトランジ
スタが接続されたワード線に高電圧のプログラムワード
線電圧、ビット線に基準ビット線電圧を印加して前記プ
ログラムワード線電圧と基準ビット線電圧とのプログラ
ム電圧差により、前記メモリトランジスタに電気的にデ
ータプログラムを行うDINOR型半導体不揮発性記憶
装置であって、ベリファイ読み出し動作を介して複数回
のプログラム動作を繰り返し行い、前記プログラムワー
ド線電圧および基準ビット線電圧をともにプログラム回
数に応じた可変の電圧値に設定し、かつ前記プログラム
電圧差をプログラム回数の増加にしたがって漸増させる
手段を有する。To achieve the above object, the present invention comprises a plurality of memory transistors arranged in a matrix, wherein a main bit line is hierarchized into sub-bit lines,
DI with memory cell transistor connected to sub-bit line
A NOR transistor is formed, and memory transistors arranged on the same row are connected to a common word line. A high program word line voltage is applied to the word line to which the memory transistor is connected, and a reference bit line voltage is applied to the bit line. A DINOR type semiconductor nonvolatile memory device for electrically programming data in said memory transistor by a program voltage difference between said program word line voltage and a reference bit line voltage, wherein said memory transistor is programmed a plurality of times through a verify read operation. Means are provided for repeating the operation, setting both the program word line voltage and the reference bit line voltage to variable voltage values according to the number of times of programming, and gradually increasing the program voltage difference as the number of times of programming increases.
【0032】また、前記DINOR型半導体不揮発性記
憶装置は、さらに各ビット線毎に設けられたデータラッ
チ回路と、選択ワード線に接続されたメモリトランジス
タ一括に行うページプログラムデータを前記データラッ
チ回路に転送する手段と、プログラム動作時に、前記デ
ータラッチ回路に前記プログラムワード線電圧よりは低
く前記基準ビット線電圧よりは高い電圧値に設定された
プログラム禁止ビット線電圧を供給する手段とを有す
る。The DINOR type semiconductor nonvolatile memory device further comprises a data latch circuit provided for each bit line, and page program data to be collectively performed by memory transistors connected to a selected word line, to the data latch circuit. Means for transferring, and means for supplying a program inhibit bit line voltage set to a voltage value lower than the program word line voltage and higher than the reference bit line voltage to the data latch circuit during a program operation.
【0033】また、前記DINOR型半導体不揮発性記
憶装置において、前記プログラムワード線電圧は所定の
プログラム回数の進行を単位とした所定プログラム回数
毎に電圧値が段階的に増加し、前記基準ビット線電圧は
前記所定プログラム回数を構成する単一プログラム回数
毎に電圧値が段階的に減少しかつ前記所定プログラム回
数毎に同一電圧で当該電圧変化が繰り返される。Further, in the DINOR type semiconductor nonvolatile memory device, the program word line voltage increases stepwise at every predetermined number of times of programming in units of progress of a predetermined number of times of programming. The voltage value decreases step by step for each single program constituting the predetermined program count, and the voltage change is repeated at the same voltage for each predetermined program count.
【0034】また、前記DINOR型半導体不揮発性記
憶装置において、前記基準ビット線電圧は所定のプログ
ラム回数の進行を単位とした所定プログラム回数毎に電
圧値が段階的に減少し、前記プログラムワード線電圧は
前記所定プログラム回数を構成する単一プログラム回数
毎に電圧値が段階的に増加しかつ前記所定プログラム回
数毎に同一電圧で該当変化が繰り返される。Further, in the DINOR type semiconductor nonvolatile memory device, the reference bit line voltage is stepwise reduced in voltage value every predetermined number of times of programming in units of progress of a predetermined number of times of programming. The voltage value increases stepwise for each single program that constitutes the predetermined program count, and the corresponding change is repeated at the same voltage for each predetermined program count.
【0035】また、前記DINOR型半導体不揮発性記
憶装置において、前記プログラムワード線電圧は昇圧回
路により昇圧された昇圧電圧であり、前記基準ビット線
電圧は電源電圧の範囲内において分圧された分圧電圧で
ある。In the DINOR type semiconductor nonvolatile memory device, the program word line voltage is a boosted voltage boosted by a booster circuit, and the reference bit line voltage is a divided voltage within a power supply voltage range. Voltage.
【0036】本発明のDINOR型半導体不揮発性記憶
装置によれば、たとえば前記プログラムワード線電圧は
〜数回程度の所定プログラム回数毎に電圧値が段階的に
大きく増加し、一方前記基準ビット線電圧は単一プログ
ラム回数毎に電圧値が段階的に小さく減少しかつ前記所
定プログラム回数毎に同一で当該電圧変化が繰り返され
るように設定される。したがって、それぞれの両電圧の
変化数は少なくても、実質的なプログラム電圧差の漸増
変化数を大きくすることができ、前記プログラムワード
線電圧および基準ビット線電圧の発生回路を簡単な回路
で構成することができ好適である。According to the DINOR type semiconductor nonvolatile memory device of the present invention, for example, the program word line voltage greatly increases stepwise every predetermined number of times of about several times, while the reference bit line voltage increases. Is set so that the voltage value gradually decreases and decreases step by step for each single program, and the same voltage change is repeated every predetermined program. Therefore, even though the number of changes of each of the two voltages is small, the substantial number of changes of the substantial program voltage difference can be increased, and the circuit for generating the program word line voltage and the reference bit line voltage is constituted by a simple circuit. It can be preferred.
【0037】あるいは、本発明のDINOR型半導体不
揮発性記憶装置において、前記基準ビット線電圧は〜数
回程度の所定プログラム回数毎に電圧値が段階的に大き
く減少し、一方前記プログラムワード線電圧は単一プロ
グラム回数毎に電圧値が段階的に小さく増加しかつ前記
所定プログラム回数毎に同一で当該電圧変化が繰り返さ
れるように設定される。したがって、それぞれの両電圧
の変化数は少なくても、実質的なプログラム電圧差の漸
増変化数を大きくすることができ、前記プログラムワー
ド線電圧および基準ビット線電圧の発生回路を簡単な回
路で構成することができ好適である。Alternatively, in the DINOR type semiconductor non-volatile memory device according to the present invention, the reference bit line voltage greatly decreases stepwise at every predetermined number of program times of about several times, while the program word line voltage decreases. The voltage value is set so that the voltage value increases stepwise and gradually with each single program count, and the voltage change is the same every predetermined program count. Therefore, even though the number of changes of each of the two voltages is small, the substantial number of changes of the substantial program voltage difference can be increased, and the circuit for generating the program word line voltage and the reference bit line voltage is constituted by a simple circuit. It can be preferred.
【0038】[0038]
【発明の実施の形態】図1は、本発明に係る半導体不揮
発性記憶装置、より具体的には、DINOR型フラッシ
ュメモリのデータプログラム系回路の具体的な構成例を
示す図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a diagram showing a specific configuration example of a semiconductor nonvolatile memory device according to the present invention, more specifically, a data program system circuit of a DINOR type flash memory.
【0039】図1において、1はメモリアレイを示し、
m本のビット線B1〜Bmが配線される。また、おのお
のビット線B1〜Bmは、それぞれがn本のDINOR
列に接続され、各DINOR列は、それぞれ2個の選択
トランジスタ(図中□)とj個のメモリトランジスタ
(図中○)から構成される。つまり、メモリアレイ1は
DINOR列S11〜Snmから構成される。SL11〜SL
n1、SL12〜SLn2は選択トランジスタを制御する選択
ゲート線を示し、WL11〜WLnjはメモリトランジスタ
を制御するワード線を示している。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a memory array,
The m bit lines B1 to Bm are wired. Each of the bit lines B1 to Bm has n DINORs.
Each DINOR column is composed of two selection transistors (□ in the figure) and j memory transistors (O in the figure). That is, the memory array 1 includes DINOR columns S11 to Snm. SL11-SL
n1, SL12 to SLn2 indicate selection gate lines for controlling the selection transistors, and WL11 to WLnj indicate word lines for controlling the memory transistors.
【0040】また、SA1〜SAmは、おのおのビット
線B1〜Bm毎に対応して設けられたデータラッチ回路
を示している。データラッチ回路SA1〜SAmの供給
電源は、陰極側が(VB)L、陽極側が(VB)Hに接
続され、データプログラム時には、(VB)Lはkの進
行(k=1〜5)にしたがって電源電圧(VCC=3.
3V)の範囲内で漸減する基準ビット線電圧(Vb)1
〜(Vb)kのいずれかに、(VB)Hは中間禁止電圧
1/2VPP(たとえば8V)に設定される。SA1 to SAm indicate data latch circuits provided corresponding to the respective bit lines B1 to Bm. The supply power of the data latch circuits SA1 to SAm is such that the cathode side is connected to (VB) L and the anode side is connected to (VB) H. At the time of data programming, (VB) L is powered according to the progress of k (k = 1 to 5). Voltage (VCC = 3.
3V), the reference bit line voltage (Vb) 1 gradually decreasing within the range of
To (Vb) k, (VB) H is set to the intermediate inhibition voltage 1/2 VPP (for example, 8 V).
【0041】2はメインローデコーダを示し、メインロ
ーデコーダ2は、X入力の上位X1〜Xaをデコードし
て、選択ゲート線SL11〜SLn1、SL12〜SLn2の出
力電圧、およびDINOR列選択信号x1〜xnを発生
する。Reference numeral 2 denotes a main row decoder. The main row decoder 2 decodes the upper X1 to Xa of the X input, outputs the output voltages of the selection gate lines SL11 to SLn1, SL12 to SLn2, and the DINOR column selection signal x1 to Xn. xn.
【0042】3はサブデコードを示し、サブデコーダ3
は、X入力の上位X1〜Xbをデコードして、選択DI
NOR列におけるワード線電圧V1〜Vjを発生する。
データプログラム時のワード線電圧V1〜Vjは、選択
ワード線電圧がsの進行(s=1〜5)にしたがって漸
増する高電圧に昇圧されたプログラムワード線電圧(V
w)1〜(Vw)sのいずれかに、非選択ワード線電圧
が中間禁止電圧1/2VPP(たとえば8V)に設定さ
れる。Reference numeral 3 denotes a sub-decoder.
Decodes the upper X1 to Xb of the X input and selects the selected DI
The word line voltages V1 to Vj in the NOR column are generated.
The word line voltages V1 to Vj at the time of data programming are the program word line voltages (V) in which the selected word line voltage is raised to a high voltage that gradually increases as s progresses (s = 1 to 5).
w) The unselected word line voltage is set to one of (1) to (Vw) s to the intermediate inhibition voltage 1/2 VPP (for example, 8 V).
【0043】4はローカルデコーダを示し、ローカルデ
コーダ4は、各ワード線WL11〜WLnjに対応した伝達
回路T11〜Tnjから構成され、DINOR列選択信号x
1〜xnによりDINOR列単位で選択される。それぞ
れの伝達回路T11〜Tnjは、DINOR列選択信号によ
り選択される場合には、ワード線電圧V1〜Vjを対応
するワード線に出力し、また、DINOR列選択信号に
より選択されない場合には、動作に応じた適当な電圧値
(たとえば接地電圧GND)を対応するワード線に出力
する。Reference numeral 4 denotes a local decoder. The local decoder 4 includes transmission circuits T11 to Tnj corresponding to the respective word lines WL11 to WLnj, and includes a DINOR column selection signal x.
1 to xn are selected in DINOR column units. Each of the transmission circuits T11 to Tnj outputs the word line voltages V1 to Vj to the corresponding word line when selected by the DINOR column selection signal, and operates when not selected by the DINOR column selection signal. And outputs an appropriate voltage value (for example, ground voltage GND) to the corresponding word line.
【0044】5はプログラムワード線電圧発生部を示
し、プログラムワード線電圧発生部5は、sの進行(k
=1〜5)にしたがって、制御信号φ1〜φsにより次
第に漸増する高電圧に昇圧されたプログラムワード線電
圧(Vw)1〜(Vw)sを発生して出力する。Reference numeral 5 denotes a program word line voltage generator.
= 1 to 5), and generates and outputs program word line voltages (Vw) 1 to (Vw) s which are boosted to high voltages gradually increased by control signals φ1 to φs.
【0045】6はプログラムワード線電圧制御部を示
し、プログラムワード線電圧制御部6は、sの進行(k
=1〜5)にしたがって、前記制御信号φ1〜φsを出
力する。Reference numeral 6 denotes a program word line voltage control unit. The program word line voltage control unit 6 controls the progress of s (k
= 1 to 5), the control signals φ1 to φs are output.
【0046】7は基準ビット線電圧発生部を示し、基準
ビット線電圧発生部7は、kの進行(k=1〜5)にし
たがって、制御信号φ1〜φkにより電源電圧(VCC
=3.3V)の範囲内で次第に漸減する基準ビット電圧
(Vb)1〜(Vb)kを発生して出力する。Reference numeral 7 denotes a reference bit line voltage generator. The reference bit line voltage generator 7 controls the power supply voltage (VCC) by control signals φ1 to φk in accordance with the progress of k (k = 1 to 5).
= 3.3V), and generates and outputs the reference bit voltages (Vb) 1 to (Vb) k that gradually decrease within the range.
【0047】8は基準ビット線電圧制御部を示し、基準
ビット線電圧制御部8は、kの進行(k=1〜5)にし
たがって、前記制御信号φ1〜φkを出力する。Reference numeral 8 denotes a reference bit line voltage controller. The reference bit line voltage controller 8 outputs the control signals φ1 to φk as k progresses (k = 1 to 5).
【0048】9はカラムデコーダを示し、カラムデコー
ダ9は、Y入力Y1〜Ycをデコードして、カラム選択
部10でビット線B1〜Bmの任意の1本を選択する。
ページプログラムデータ転送時のカラムアドレスは、ペ
ージデータ転送信号φCKと同期して順次インクリメン
トされ、データバスDBからデータラッチ回路SA1〜
SAmに順次ページプログラムがシリアル転送される。Reference numeral 9 denotes a column decoder. The column decoder 9 decodes the Y inputs Y1 to Yc, and selects an arbitrary one of the bit lines B1 to Bm by the column selection unit 10.
The column address at the time of transferring the page program data is sequentially incremented in synchronization with the page data transfer signal φCK.
The page program is serially transferred to SAm sequentially.
【0049】図1の本発明の第1のDINOR型フラッ
シュメモリにおいては、プログラムワード線電圧がsの
進行(k=1〜5)にしたがって段階的に漸増し、一方
基準ビット線電圧はkの進行(k=1〜5)にしたがっ
て段階的に漸減するように設定する。したがって、それ
ぞれの両電圧の変化数はs=k=5と少なくても、実質
的なプログラム電圧差の漸増変化数は、組み合わせによ
りs×k=25と大きくすることができる。In the first DINOR type flash memory of the present invention shown in FIG. 1, the program word line voltage gradually increases in accordance with the progress of s (k = 1 to 5), while the reference bit line voltage increases by k. It is set so as to gradually decrease in accordance with the progress (k = 1 to 5). Therefore, even though the number of changes of both voltages is as small as s = k = 5, the actual number of gradually increasing changes in the program voltage difference can be increased to s × k = 25 by a combination.
【0050】図2は、図1の第1のDINOR型フラッ
シュメモリの具体的な構成例において、プログラムワー
ド線電圧発生部5の具体的な回路構成の例を示す図であ
る。FIG. 2 is a diagram showing an example of a specific circuit configuration of the program word line voltage generator 5 in the specific example of the configuration of the first DINOR type flash memory of FIG.
【0051】図2において、5aは昇圧回路を示し、昇
圧回路5aは、発振回路5bにより出力された相補のク
ロック信号により駆動されて昇圧電圧VPPを出力す
る。In FIG. 2, reference numeral 5a denotes a booster circuit. The booster circuit 5a is driven by a complementary clock signal output from the oscillation circuit 5b and outputs a boosted voltage VPP.
【0052】5cは抵抗分割部を示し、抵抗分割部5c
は、抵抗素子R0を制御信号φ1〜φkに制御された転
送ゲートT1〜Tkを介して抵抗素子R1〜Rkのいず
れかに直列接続することにより、分圧電圧Vaを出力す
る。Reference numeral 5c denotes a resistance dividing unit.
Outputs the divided voltage Va by connecting the resistance element R0 in series with any of the resistance elements R1 to Rk via the transfer gates T1 to Tk controlled by the control signals φ1 to φk.
【0053】5dは基準電圧発生回路を示し。基準電圧
発生回路5dは、基準電圧Vrefを発生する。5eは
比較器を示し、比較器5eは、抵抗分割部5cによる分
圧電圧Vaと基準電圧Vrefの比較出力C−outを
出力して、分圧電圧Vaが基準電圧Vrefより大きく
なると発振回路5bを停止し、小さくなると再活性化す
る。このようにして出力されるプログラムワード線電圧
(Vw)1〜(Vw)sは、理論的に以下の電圧値とな
る。Reference numeral 5d denotes a reference voltage generation circuit. The reference voltage generation circuit 5d generates a reference voltage Vref. Reference numeral 5e denotes a comparator. The comparator 5e outputs a comparison output C-out between the divided voltage Va and the reference voltage Vref by the resistance dividing unit 5c, and when the divided voltage Va becomes larger than the reference voltage Vref, the oscillation circuit 5b Stop and re-activate when smaller. The program word line voltages (Vw) 1 to (Vw) s output in this manner theoretically have the following voltage values.
【0054】[0054]
【数1】 (Vw)1〜s=Vref×{1+(R0 /R1-s )} …(1)(Vw) 1-s = Vref × {1+ (R 0 / R 1−s )} (1)
【0055】したがって、抵抗素子R1〜Rsの抵抗値
R0 〜Rs をsの進行(k=1〜5)にしたがって漸減
する方向に設定することにより、プログラムワード線電
圧(Vw)1〜(Vw)sを漸増させることができる。Therefore, by setting the resistance values R 0 to R s of the resistance elements R 1 to Rs in such a manner as to gradually decrease as the s progresses (k = 1 to 5), the program word line voltages (Vw) 1 to (Vw) 1 to ( Vw) s can be gradually increased.
【0056】図3は、図1のDINOR型フラッシュメ
モリの構成例において、基準ビット線電圧発生部7の具
体的な回路構成の例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an example of a specific circuit configuration of the reference bit line voltage generator 7 in the configuration example of the DINOR type flash memory of FIG.
【0057】図3において、電源電圧間(VCC〔3.
3V〕〜GND〔0V〕間)は、直列に接続された抵抗
素子R0〜Rkにより分圧されて、基準ビット線電圧
(Vb)1〜(Vb)kを発生する。また各基準ビット
線電圧(Vb)1〜(Vb)kは、転送ゲートT1〜T
kを介して、制御信号φ1〜φkの制御によりkの進行
(k=1〜5)にしたがって漸減する基準ビット線電圧
(Vb)1〜(Vb)kを、ボルテージフォロワ構成を
とるバッファBUFを介して出力する。In FIG. 3, between the power supply voltages (VCC [3.
3V] to GND [0V]) are divided by the resistance elements R0 to Rk connected in series to generate reference bit line voltages (Vb) 1 to (Vb) k. Further, each of the reference bit line voltages (Vb) 1 to (Vb) k is
Through k, the reference bit line voltages (Vb) 1 to (Vb) k gradually decreasing according to the progress of k (k = 1 to 5) under the control of control signals φ1 to φk, and a buffer BUF having a voltage follower configuration Output via
【0058】図4は、図1の本発明に係るDINOR型
フラッシュメモリの構成例において、第1のデータプロ
グラム方法における、タイミングチャートを示す図であ
る。FIG. 4 is a diagram showing a timing chart in the first data programming method in the configuration example of the DINOR type flash memory according to the present invention of FIG.
【0059】この場合、プログラムワード線電圧(V
w)1〜(Vw)sは、5回のプログラム回数の進行毎
にsがインクリメントされ、その度にプログラムワード
線電圧値が1Vづつ段階的に増加し、s=1〜5の進行
に対して(Vw)1〜(Vw)s=15V〜19Vに電
圧値が漸増する。In this case, the program word line voltage (V
w) 1 to (Vw) s are incremented by s every time the number of times of programming is five, the program word line voltage value is increased stepwise by 1 V each time, and s = 1 to 5 Then, the voltage value gradually increases from (Vw) 1 to (Vw) s = 15V to 19V.
【0060】一方、基準ビット線電圧(Vb)1〜(V
b)kは、単一プログラム回数毎にkがインクリメント
され、その度に基準ビット線電圧値が0.2Vづつ段階
的に減少し、k=1〜5の進行に対して(Vb)1〜
(Vb)k=0.8V〜0Vに電圧値が漸減する。また
当該電圧変化はs=1〜5の進行に対して同一電圧で繰
り返される。On the other hand, reference bit line voltages (Vb) 1 to (V
b) k is incremented by k for each single program, the reference bit line voltage value is gradually decreased by 0.2 V each time, and (Vb) 1 to
(Vb) The voltage value gradually decreases from k = 0.8V to 0V. The voltage change is repeated at the same voltage as s = 1 to 5 progresses.
【0061】したがって、第1のデータプログラム方法
においては、sおよびkの組み合わせにより、単一プロ
グラム回数の進行毎にプログラム電圧差が14.2Vか
ら19Vまで0.2Vづつ段階的に漸増する。Therefore, in the first data programming method, the combination of s and k causes the program voltage difference to gradually increase from 14.2 V to 19 V in steps of 0.2 V every time the number of times of single programming is increased.
【0062】以下、図4の第1のデータプログラム方法
のタイミングチャートを、図1の構成例等を参照しなが
ら、順を追って説明する。Hereinafter, a timing chart of the first data programming method of FIG. 4 will be described step by step with reference to the configuration example of FIG.
【0063】まず時刻t1〜t2の間は、ページデータ
転送クロック信号φCLと同期してページプログラムデ
ータを各ビット線毎に設けられたデータラッチ回路1〜
mに転送するステップである。First, from time t1 to time t2, page program data is synchronized with the page data transfer clock signal φCL in the data latch circuits 1 to 3 provided for each bit line.
m.
【0064】次に時刻t2から時刻t3の間は、s=1
であってk=1〜5の5回のプログラム/ベリファイ動
作を行うステップである。すなわちプログラム/ベリフ
ァイ制御信号φP/Rの制御によりプログラムワード線
電圧(Vw)1=15Vとベリファイ読み出しワード線
電圧VR=1.5Vが選択ワード線WSLに交互に5回
印加される。また、プログラムメモリトランジスタが接
続された選択ビット線にはプログラム回数の進行(k=
1〜5)とともに0.2Vづつ段階的に減少する基準ビ
ット線電圧(Vb)1〜(Vb)k=0.8V〜0Vが
印加され、非プログラムメモリトランジスタが接続され
た非選択ビット線には中間禁止電圧1/2VPP(8
V)が印加される。その結果、プログラム回数の進行
(k=1〜5)とともに0.2Vづつ段階的に増加する
プログラム電圧差(14.2V〜15V)がプログラム
メモリトランジスタに印加されるとともに、プログラム
終了セルのラッチデータは反転して次回からはプログラ
ム禁止状態となる。Next, from time t2 to time t3, s = 1
This is a step of performing five program / verify operations of k = 1 to 5. In other words, program word line voltage (Vw) 1 = 15 V and verify read word line voltage VR = 1.5 V are alternately applied to the selected word line WSL five times under the control of the program / verify control signal φP / R. In addition, the progress of the number of programs (k =
Reference bit line voltages (Vb) 1 to (Vb) k = 0.8 V to 0 V, which gradually decrease by 0.2 V together with 1 to 5), are applied to the unselected bit lines to which the non-program memory transistors are connected. Is the intermediate inhibition voltage 1/2 VPP (8
V) is applied. As a result, a program voltage difference (14.2 V to 15 V) that increases stepwise by 0.2 V with the progress of the program count (k = 1 to 5) is applied to the program memory transistor, and the latch data of the program end cell is Is inverted and the program is prohibited from the next time.
【0065】時刻t3から時刻t4の間は、s=2であ
っってk=1〜5の5回のプログラム/ベリファイ動作
を行うステップであるが、基本的には前述したs=1の
場合と同様である。異なる点は、プログラムワード線電
圧が(Vw)2=16Vへと、(Vw)1=15Vから
1V増加することである。その結果、プログラム回数の
進行(k=1〜5)とともに、プログラム電圧差(1
5.2V〜16V)が引き続き0.2Vつづ段階的に増
加する。From time t3 to time t4, s = 2 and k = 1 to 5 for performing the program / verify operation five times. Basically, when s = 1 described above, Is the same as The difference is that the program word line voltage increases by 1V from (Vw) 1 = 15V to (Vw) 2 = 16V. As a result, the program voltage difference (1
(5.2V to 16V) continuously increases in steps of 0.2V.
【0066】同様の動作を繰り返して、時刻t5から時
刻t6の間は、最終のs=5であってk=1〜5の5回
のプログラム/ベリファイ動作を行うステップである。
プログラムワード線電圧(Vw)5=19Vが印加さ
れ、プログラム回数の進行(k=1〜5)とともに、プ
ログラム電圧差(18.2V〜19V)が0.2Vつづ
段階的に増加する。The same operation is repeated, and between the time t5 and the time t6, the final s = 5 and k = 1 to 5 program / verify operations are performed five times.
A program word line voltage (Vw) 5 = 19 V is applied, and the program voltage difference (18.2 V to 19 V) increases step by step by 0.2 V as the number of program times progresses (k = 1 to 5).
【0067】なお、上記プログラム回数の進行は、常に
最終のs=k=5まで行われるとは限られず、すべての
データラッチ回路のデータがハイレベルになったことを
検出すれば、自動的に終了する。It should be noted that the progress of the number of programs is not always performed until the last s = k = 5. When it is detected that the data of all the data latch circuits have become high level, the program is automatically performed. finish.
【0068】以上説明したように、本発明のDINOR
型フラッシュメモリにおける、第1のデータプログラム
方法によれば、プログラムワード線電圧は〜数回程度の
所定プログラム回数毎に電圧値が段階的に大きく増加
し、一方基準ビット線電圧は単一プログラム回数毎に電
圧値が段階的に小さく減少しかつ所定プログラム回数毎
に同じ電圧値が繰り返されるように設定する。したがっ
て、それぞれの両電圧の変化数は少なくても、実質的な
プログラム電圧差が漸増変化数を大きくすることがで
き、かつ、プログラムワード線電圧および基準ビット線
電圧の発生回数を単純な回路で構成することができ好適
である。As explained above, the DINOR of the present invention
According to the first data programming method in the flash memory of the type, the program word line voltage is greatly increased stepwise at every predetermined number of times of about several times, while the reference bit line voltage is Each time, the voltage value is set so that the voltage value gradually decreases gradually and the same voltage value is repeated every predetermined number of programs. Therefore, even if the number of changes of both voltages is small, the substantial program voltage difference can increase the number of changes gradually, and the number of generations of the program word line voltage and the reference bit line voltage can be reduced by a simple circuit. It can be constituted and is suitable.
【0069】図5は、図1の本発明に係わるDINOR
型フラッシュメモリの構成例において、第2のデータプ
ログラム方法における、タイミングチャートを示す図で
ある。FIG. 5 shows the DINOR according to the present invention of FIG.
FIG. 5 is a diagram showing a timing chart in a second data programming method in a configuration example of a flash memory.
【0070】この場合、基準ビット線電圧(Vb)1〜
(Vb)kは、5回のプログラム回数の進行毎にkがイ
ンクリメントされ、その度に基準ビット線電圧が0.5
Vづつ段階的に減少し、k=1〜5の進行に対して(V
b)1〜(Vb)k=2V〜0Vに電圧値が漸減する。In this case, the reference bit line voltages (Vb) 1 to
(Vb) k is incremented every time the number of program operations is five, and the reference bit line voltage is set to 0.5 each time.
V gradually decreases, and for k = 1 to 5 progression, (V
b) 1 to (Vb) The voltage value gradually decreases to k = 2V to 0V.
【0071】一方、プログラムワード線電圧(Vw)1
〜(Vw)sは、単一プログラム回数にsがインクリメ
ントされ、その度にプログラムワード線電圧が0.1V
づつ段階的に増加し、s=1〜5の進行に対して(V
w)1〜(Vw)2=17V〜17.4Vに電圧値が漸
増する。また当該電圧変化はk=1〜5の進行に対して
同一電圧で繰り返される。On the other hand, the program word line voltage (Vw) 1
((Vw) s, s is incremented by the number of times of single program, and each time the program word line voltage is 0.1 V
S = 1 to 5 (V
w) The voltage value gradually increases from 1 to (Vw) 2 = 17V to 17.4V. The voltage change is repeated at the same voltage as k = 1 to 5 progresses.
【0072】したがって、第2のデータプログラム方法
においては、kおよびsの組み合わせにより、単一プロ
グラム回数の進行毎にプログラム電圧値が15.0Vか
ら17.4Vまで0.1Vつづ段階的に漸増する。Therefore, in the second data programming method, the program voltage value gradually increases in steps of 0.1 V from 15.0 V to 17.4 V every time the single program is performed by the combination of k and s. .
【0073】以下、図5の第2のデータプログラム方法
のタイミングチャートを、図1の構成例等を参照しなが
ら、順を追って説明する。The timing chart of the second data programming method shown in FIG. 5 will be described step by step with reference to the configuration example shown in FIG.
【0074】まず時刻t1〜t2の間は、ページデータ
転送クロック信号φCKと同期してページプログラムデ
ータを各ビット線毎に設けられたデータラッチ回路1〜
mに転送するステップである。First, from time t1 to time t2, page program data is supplied in synchronization with page data transfer clock signal φCK to data latch circuits 1 to 3 provided for each bit line.
m.
【0075】次に時刻t2から時刻t3の間は、k=1
であってs=1〜5の5回のプログラム/ベリファイ動
作を行うステップである。すなわちプログラム/ベリフ
ァイ制御信号φP/Rの制御によりプログラムワード線
電圧とベリファイ読み出しワード線電圧VR=1.5V
が選択ワード線WSLに交互に5回印加されるが、プロ
グラム回数の進行(s=1〜5)とともにプログラムワ
ード線電圧が(Vw)1〜(Vw)s=17V〜17.
4Vと0.1Vづつ段階的に増加する。またプログラム
メモリトランジスタが接続された選択ビット線にプログ
ラム回数の進行にかかわらず基準ビット線電圧(Vb)
1=2Vが印加され、非プログラムメモリトランジスタ
が接続された非選択ビット線には中間禁止電圧1/2V
PP(8V)が印加される。その結果、プログラム回数
の進行(s=1〜5)とともに0.1Vづつ段階的に増
加するプログラム電圧差(15V〜15.4V)がプロ
グラムメモリトランジスタに印加されるとともに、プロ
グラム終了セルのラッチデータは反転して次回からプロ
グラム禁止状態となる。Next, from time t2 to time t3, k = 1
This is a step of performing five program / verify operations of s = 1 to 5. That is, the program / verify control signal φP / R controls the program word line voltage and the verify read word line voltage VR = 1.5 V
Are alternately applied to the selected word line WSL five times, and the program word line voltage becomes (Vw) 1 to (Vw) s = 17 V to 17.
It increases stepwise by 4V and 0.1V. The reference bit line voltage (Vb) is applied to the selected bit line to which the program memory transistor is connected, regardless of the progress of the number of programming.
1 = 2V is applied, and the non-selected bit line to which the non-program memory transistor is connected has the intermediate inhibition voltage of 1 / 2V
PP (8V) is applied. As a result, a program voltage difference (15 V to 15.4 V) that increases stepwise by 0.1 V with the progress of the number of program times (s = 1 to 5) is applied to the program memory transistor, and the latch data of the program end cell is Is inverted and the program is prohibited from the next time.
【0076】時刻t3から時刻t4の間は、k=2であ
ってs=1〜5の5回のプログラム/ベリファイ動作を
行うステップであるは、基本的には前述したk=1の場
合と同様であり、異なる点は、基準ビット線電圧が(V
b)2=1.5Vへと、(Vb)1=2Vから0.5V
減少することである。その結果、プログラム回数の進行
(s=1〜5)とともに、プログラム電圧差(15.5
V〜15.9V)が引き続き0.1Vづつ段階的に増加
する。From time t3 to time t4, the step of performing five program / verify operations of k = 2 and s = 1 to 5 is basically the same as the above-described case of k = 1. The difference is that the reference bit line voltage is (V
b) 0.5V from (Vb) 1 = 2V to 2 = 1.5V
Is to decrease. As a result, the program voltage difference (15.5) increases with the progress of the number of programs (s = 1 to 5).
V to 15.9 V) continuously increases in steps of 0.1 V.
【0077】同様の動作を繰り返して、時刻t5からt
6の間は、最終のk=5であってs=1〜5の5回のプ
ログラム/ベリファイ動作を行うステップである。基準
ビット線電圧(Vb)5=0Vが印加され、プログラム
回数の進行(s=1〜5)とともに、プログラム電圧差
(17V〜17.4V)が0.1Vづつ段階的に増加す
る。By repeating the same operation, from time t5 to t
Step 6 is a step in which the final k = 5 and s = 1 to 5 for five program / verify operations. A reference bit line voltage (Vb) of 5 = 0 V is applied, and the program voltage difference (17 V to 17.4 V) increases stepwise by 0.1 V as the number of times of programming progresses (s = 1 to 5).
【0078】なお、上記プログラム回数の進行は、常に
最終のk=s=5まで行われるとは限られず、すべての
データラッチ回路のデータがハイレベルになったことを
検出すれば、自動的に終了する。The progress of the number of programming is not always limited to the last k = s = 5. If it is detected that the data of all the data latch circuits have become high level, the program is automatically performed. finish.
【0079】以上説明したように、本発明のDINOR
型フラッシュメモリにおける、第2のデータプログラム
方法によれば、基準ビット線電圧は〜数回程度の所定プ
ログラム回数毎に電圧値が段階的に大きく減少し、一方
プログラムワード線電圧は単一プログラム回数毎に電圧
値が段階的に小さく増加しかつ所定プログラム回数毎に
同じ電圧変化が繰り返されるように設定する。したがっ
て、それぞれの両電圧の変化数は少なくても、実質的な
プログラム電圧差の漸増変化数を大きくすることがで
き、かつ、プログラムワード線電圧および基準ビット線
電圧の発生回路を簡単な回路で構成することができ好適
である。As described above, the DINOR of the present invention
According to the second data programming method in the flash memory of the type, the reference bit line voltage is greatly reduced stepwise at every predetermined number of program times of about several times, while the program word line voltage is reduced by a single program number. Each time, the voltage value is set so as to gradually increase and decrease, and the same voltage change is repeated every predetermined number of programs. Therefore, even though the number of changes in each of the two voltages is small, the number of substantial changes in the substantial program voltage difference can be increased, and the circuit for generating the program word line voltage and the reference bit line voltage is a simple circuit. It can be constituted and is suitable.
【0080】以上説明したように、本発明のDINOR
型フラッシュメモリによれば、プログラムワード線電圧
と基準ビット線電圧とのプログラム電圧差によりデータ
プログラムがなされ、前記プログラムワード線電圧およ
び基準ビット線電圧がともにプログラム回数に応じた可
変の電圧値に設定され、かつ前記プログラム電圧差がプ
ログラム回数の増加にしたがって漸増する。したがっ
て、ISPP法と実質的に同様の効果を得ることがで
き、高速にかつ精度の高いデータプログラムを行うこと
が可能である。しかも、前記プログラムワード線電圧お
よび基準ビット線電圧がともに可変であることにより、
前記プログラム電圧差の漸増変化が多段階ステップの変
化である場合においても、これを実現するための回路
は、高電圧のプログラムワード線電圧のみを漸増するI
SPP法により、はるかに簡単に構成することができ
る。As described above, the DINOR of the present invention
According to the flash memory, data programming is performed by a program voltage difference between a program word line voltage and a reference bit line voltage, and both the program word line voltage and the reference bit line voltage are set to variable voltage values according to the number of times of programming. And the program voltage difference gradually increases as the number of times of programming increases. Therefore, substantially the same effect as the ISPP method can be obtained, and high-speed and high-precision data programming can be performed. Moreover, since both the program word line voltage and the reference bit line voltage are variable,
Even in the case where the gradual change of the program voltage difference is a multi-step change, a circuit for realizing this is a circuit for increasing only the high program word line voltage.
With the SPP method, the configuration can be made much easier.
【0081】また、上述した説明においては、便宜上、
主としてDINOR型フラッシュメモリについて説明し
たが、本発明がFNトンネル現象によりフローティング
ゲートに電子を注入等してデータプログラムを行う他の
半導体不揮発性記憶装置に適用できることは、言うまで
もないことである。In the above description, for convenience,
Although the description has been given mainly of the DINOR type flash memory, it goes without saying that the present invention can be applied to other semiconductor nonvolatile memory devices that perform data programming by injecting electrons into the floating gate by the FN tunnel phenomenon.
【0082】[0082]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ISPP法と実質的に同様の効率を有し、しかも回路構
成が簡単で高速にかつ精度の高いデータプログラムを行
うことのできるDINOR型半導体不揮発性記憶装置を
実現することができる。As described above, according to the present invention,
A DINOR-type semiconductor nonvolatile memory device having substantially the same efficiency as the ISPP method, and having a simple circuit configuration and capable of performing high-speed and high-accuracy data programming can be realized.
【図1】本発明に係る第1のDINOR型フラッシュメ
モリデータプログラム動作時の具体的な構成例を示す図
である。FIG. 1 is a diagram showing a specific configuration example at the time of a first DINOR type flash memory data program operation according to the present invention.
【図2】図1のDINOR型フラッシュメモリにおい
て、プログラムワード線電圧発生部の具体的な回路構成
の例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a specific circuit configuration of a program word line voltage generator in the DINOR type flash memory of FIG. 1;
【図3】図1のDINOR型フラッシュメモリにおい
て、基準ビット線電圧発生部の具体的な回路構成の例を
示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an example of a specific circuit configuration of a reference bit line voltage generator in the DINOR type flash memory of FIG. 1;
【図4】図1のDINOR型フラッシュメモリにおい
て、第1のデータプログラム方法の、タイミングチャー
トを示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a timing chart of a first data programming method in the DINOR type flash memory of FIG. 1;
【図5】図1のDINOR型フラッシュメモリにおい
て、第2のデータプログラム方法の、タイミングチャー
トを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a timing chart of a second data programming method in the DINOR type flash memory of FIG. 1;
【図6】DINOR型フラッシュメモリにおける、メモ
リアレイ構造を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a memory array structure in a DINOR type flash memory.
【図7】従来のISPP法によりDINOR型フラッシ
ュメモリのデータプログラムを行う場合の、タイミング
チャートを示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a timing chart when data programming of a DINOR type flash memory is performed by a conventional ISPP method.
SL11〜SLn2…選択ゲート線、W11〜Wnj…ワード
線、B1〜Bm…ビット線、X1〜Xa,X1〜Xb…
X入力、Y1〜Yc…Y入力、V1〜Vj…選択DIN
OR列ワード線電圧、x1〜xn…DINOR列選択信
号、T11〜Tnj…ワード線電圧伝達回路、S11〜Snm…
DINOR列、SA1〜SAm…データラッチ回路、
(VB)H…陽極電源(データラッチ回路)、(VB)
L…陰極電源(データラッチ回路)、VPP…昇圧電
圧、1/2VPP…中間禁止電圧、VPP1〜VPPq
…第1〜第q番目のプログラムワード線電圧、(Vw)
1〜(Vw)s…第1〜第s番目のプログラムワード線
電圧、(Vb)1〜(Vb)k…第1〜第k番目の基準
ビット線電圧、φ1〜φs…第1〜第s番目の制御信
号、φ1〜φk…第1〜第k番目の制御信号、T1〜T
s…第1〜第s番目の転送ゲート、T1〜Tk…第1〜
第k番目の転送ゲート、R0〜Rs,R0〜Rk…分圧
抵抗素子、Vref…基準電圧、Va…分圧電圧、φ、
φ ̄…相補クロック信号(昇圧回路)、φCL…ページ
データ転送クロック信号、φP/R…プログラム/ベリ
ファイ制御信号、ST1〜ST2…選択トランジスタ、
MT1〜MT4…メモリトランジスタ、1…メモリアレ
イ、2…メインローデコーダ、3…サブローデコーダ、
4…ローカルローデコーダ、5…プログラムワード線電
圧発生部、5a…昇圧回路、5b…発振回路、5c…抵
抗分割部、5d…基準電圧発生回路、5e…比較器、6
…プログラムワード線電圧制御部、7…基準ビット線電
圧発生部、8…基準ビット線電圧制御部、9…カラムデ
コーダ、10…カラム選択部。SL11 to SLn2 ... select gate line, W11 to Wnj ... word line, B1 to Bm ... bit line, X1 to Xa, X1 to Xb ...
X input, Y1 to Yc ... Y input, V1 to Vj ... select DIN
OR column word line voltage, x1 to xn... DINOR column selection signal, T11 to Tnj... Word line voltage transmission circuit, S11 to Snm.
DINOR column, SA1 to SAm ... data latch circuit,
(VB) H: anode power supply (data latch circuit), (VB)
L: Cathode power supply (data latch circuit), VPP: Boost voltage, 1/2 VPP: Intermediate inhibition voltage, VPP1 to VPPq
... first to q-th program word line voltages (Vw)
1 to (Vw) s: 1st to sth program word line voltage, (Vb) 1 to (Vb) k: 1st to kth reference bit line voltage, φ1 to φs: 1st to sth The first control signal, φ1 to φk... The first to kth control signals, T1 to T
s: first to s-th transfer gates, T1 to Tk: first to first
K-th transfer gate, R0 to Rs, R0 to Rk... Voltage dividing resistance elements, Vref... Reference voltage, Va.
φ ̄: complementary clock signal (boost circuit), φCL: page data transfer clock signal, φP / R: program / verify control signal, ST1 to ST2: selection transistor,
MT1 to MT4: memory transistor, 1: memory array, 2: main row decoder, 3: sub row decoder,
4 Local row decoder 5 Program word line voltage generator 5a Boost circuit 5b Oscillator 5c Resistor divider 5d Reference voltage generator 5e Comparator 6
... Program word line voltage control unit, 7 ... reference bit line voltage generation unit, 8 ... reference bit line voltage control unit, 9 ... column decoder, 10 ... column selection unit.
Claims (5)
ジスタを有し、主ビット線が副ビット線に階層化され、
副ビット線にメモリセルトランジスタが接続されたDI
NOR構造をなし、同一行に配置されたメモリトランジ
スタが共通のワード線に接続され、前記メモリトランジ
スタが接続されたワード線に高電圧のプログラムワード
線電圧、ビット線に基準ビット線電圧を印加して前記プ
ログラムワード線電圧と基準ビット線電圧とのプログラ
ム電圧差により、前記メモリトランジスタに電気的にデ
ータプログラムを行うDINOR型半導体不揮発性記憶
装置であって、 ベリファイ読み出し動作を介して複数回のプログラム動
作を繰り返し行い、前記プログラムワード線電圧および
基準ビット線電圧をともにプログラム回数に応じた可変
の電圧値に設定し、かつ前記プログラム電圧差をプログ
ラム回数の増加にしたがって漸増させる手段を有するD
INOR型半導体不揮発性記憶装置。A plurality of memory transistors arranged in a matrix, wherein a main bit line is hierarchized into sub-bit lines;
DI with memory cell transistor connected to sub-bit line
A NOR transistor is formed, and memory transistors arranged on the same row are connected to a common word line. A high program word line voltage is applied to the word line to which the memory transistor is connected, and a reference bit line voltage is applied to the bit line. A DINOR type semiconductor nonvolatile memory device for electrically programming data in the memory transistor by a program voltage difference between the program word line voltage and a reference bit line voltage, wherein a plurality of program operations are performed through a verify read operation. Means for repeating the operation, setting both the program word line voltage and the reference bit line voltage to variable voltage values according to the number of times of programming, and gradually increasing the program voltage difference as the number of times of programming increases
INOR type semiconductor nonvolatile memory device.
回路と、 選択ワード線に連なるメモリトランジスタ一括に行うペ
ージプログラムデータを前記データラッチ回路に転送す
る手段と、 プログラム動作時に、前記データラッチ回路に前記プロ
グラムワード線電圧よりは低く前記基準ビット線電圧よ
りは高い電圧値に設定されたプログラム禁止ビット線電
圧を供給する手段とをさらに有する請求項1記載のDI
NOR型半導体不揮発性記憶装置。2. A data latch circuit provided for each bit line, means for transferring page program data to be collectively performed on memory transistors connected to a selected word line to the data latch circuit, and the data latch circuit during a program operation. 2. The DI according to claim 1, further comprising: means for supplying a program inhibit bit line voltage set to a voltage value lower than the program word line voltage and higher than the reference bit line voltage.
NOR type semiconductor nonvolatile memory device.
ム回数の進行を単位とした所定プログラム回数毎に電圧
値が段階的に増加し、前記基準ビット線電圧は前記所定
プログラム回数を構成する単一プログラム回数毎に電圧
値が段階的に減少しかつ前記所定プログラム回数毎に同
一電圧で当該電圧変化が繰り返される請求項1記載のD
INOR型半導体不揮発性記憶装置。3. The program word line voltage gradually increases in voltage every predetermined number of times of programming in units of progress of the number of times of programming, and the reference bit line voltage is a single program number constituting the predetermined number of times of programming. 2. The method according to claim 1, wherein the voltage value decreases step by step every time, and the voltage change is repeated at the same voltage every predetermined number of times of the program.
INOR type semiconductor nonvolatile memory device.
ム回数の進行を単位とした所定プログラム回数毎に電圧
値が段階的に減少し、前記プログラムワード線電圧は前
記所定プログラム回数を構成する単一プログラム回数毎
に電圧値が段階的に増加しかつ前記所定プログラム回数
毎に同一電圧で該当変化が繰り返される請求項1記載の
DINOR型半導体不揮発性記憶装置。4. The voltage value of the reference bit line voltage decreases step by step at every predetermined number of times of programming in units of progress of a predetermined number of times of programming, and the program word line voltage is a unit voltage constituting the predetermined number of times of programming. 2. The DINOR type semiconductor nonvolatile memory device according to claim 1, wherein the voltage value is increased stepwise every time the program is executed, and the change is repeated at the same voltage every time the predetermined program is executed.
により昇圧された昇圧電圧であり、前記基準ビット線電
圧は電源電圧の範囲内において分圧された分圧電圧であ
る請求項1記載のDINOR型半導体不揮発性記憶装
置。5. The DINOR type according to claim 1, wherein the program word line voltage is a boosted voltage boosted by a booster circuit, and the reference bit line voltage is a divided voltage divided within a power supply voltage range. Semiconductor nonvolatile storage device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34006296A JPH10188586A (en) | 1996-12-19 | 1996-12-19 | Semiconductor non-volatile memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34006296A JPH10188586A (en) | 1996-12-19 | 1996-12-19 | Semiconductor non-volatile memory |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10188586A true JPH10188586A (en) | 1998-07-21 |
Family
ID=18333366
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34006296A Pending JPH10188586A (en) | 1996-12-19 | 1996-12-19 | Semiconductor non-volatile memory |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10188586A (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006294142A (en) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Toshiba Corp | Nonvolatile semiconductor memory device |
KR100688494B1 (en) | 2003-07-10 | 2007-03-02 | 삼성전자주식회사 | Flash memory device |
KR100697053B1 (en) * | 2000-09-28 | 2007-03-20 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | Non-volatile memory and method of non-volatile memory programming |
JP2007193942A (en) * | 2002-04-29 | 2007-08-02 | Spansion Llc | Semiconductor storage device and control method of the device |
US7417896B2 (en) | 2004-12-14 | 2008-08-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Flash memory device capable of reduced programming time |
JP2009199706A (en) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Samsung Electronics Co Ltd | Flash memory capable of variably controlling programming voltage, and method of programming the same |
-
1996
- 1996-12-19 JP JP34006296A patent/JPH10188586A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100697053B1 (en) * | 2000-09-28 | 2007-03-20 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | Non-volatile memory and method of non-volatile memory programming |
JP2007193942A (en) * | 2002-04-29 | 2007-08-02 | Spansion Llc | Semiconductor storage device and control method of the device |
JP2011018445A (en) * | 2002-04-29 | 2011-01-27 | Spansion Llc | Semiconductor storage device and control method thereof |
KR100688494B1 (en) | 2003-07-10 | 2007-03-02 | 삼성전자주식회사 | Flash memory device |
US7417896B2 (en) | 2004-12-14 | 2008-08-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Flash memory device capable of reduced programming time |
US7492642B2 (en) | 2004-12-14 | 2009-02-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Flash memory device capable of reduced programming time |
JP2006294142A (en) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Toshiba Corp | Nonvolatile semiconductor memory device |
JP2009199706A (en) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Samsung Electronics Co Ltd | Flash memory capable of variably controlling programming voltage, and method of programming the same |
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