JPH10177243A - Method for processing black-and-white silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Method for processing black-and-white silver halide photographic sensitive material

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JPH10177243A
JPH10177243A JP33812196A JP33812196A JPH10177243A JP H10177243 A JPH10177243 A JP H10177243A JP 33812196 A JP33812196 A JP 33812196A JP 33812196 A JP33812196 A JP 33812196A JP H10177243 A JPH10177243 A JP H10177243A
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black
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Takeshi Sanpei
武司 三瓶
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing method for the black-and-while silver halide photographic sensitive material prevented from occurrence of precipitates due to a fixing solution and deterioration of image storage stability and any problem on residual dye stains in the case of executing stabilization processing in a processing system containing a water-soluble aluminum salt as a hardening agent for the fixing solution and reducing a replenishing amount for the fixing solution and utilizing a part or all of the overflow of the stabilization processing solution. SOLUTION: A part or all of the overflow of the stabilization processing solution is reused for the fixing replenishing solution when the black-and-white silver halide photographic sensitive material is processed with the fixing solution containing the water-soluble aluminum salt and then processed with the stabilization processing solution, and a replenishing amount for the fixing solution is <=260cc/m<2> of the photosensitive material to be processed and the stabilization processing solution contains a chelating agent having a stability constant of >=8 and, preferably, an antimolding agent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は黒白ハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法に関し、詳しくは定着補充量を低
減し得る、特に印刷製版分野に好適な黒白ハロゲン化銀
写真感光材料の処理方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for processing a black-and-white silver halide photographic material, and more particularly to a method for processing a black-and-white silver halide photographic material which can reduce the amount of replenished fixing and is particularly suitable for the field of printing plate making. .

【0002】[0002]

【従来の技術】印刷製版用感光材料(以下、単に感光材
料とも言う。)は、一般に露光後、少なくとも、現像
部、定着部、水洗部或いは安定化浴部、及び乾燥部を有
する自動現像機で、通常、各工程に補充液が補充されな
がら処理される。
2. Description of the Related Art A photosensitive material for plate making (hereinafter simply referred to as "photosensitive material") is generally an automatic developing machine having at least a developing section, a fixing section, a washing section or a stabilizing bath section, and a drying section after exposure. In general, each step is processed while a replenisher is being replenished.

【0003】近年、地球環境保護を目的としてロンドン
条約が締結され、日本では1996年1月1日より写真
処理廃液の海洋投棄が禁止された。このため写真業界で
は写真処理廃液を極限にまで低減する努力が行なわれて
おり、印刷製版分野においても処理液の補充量の低減に
より廃液を減少させる要請が大きく、様々な検討がなさ
れている。
[0003] In recent years, the London Treaty has been concluded for the purpose of protecting the global environment, and the dumping of photographic processing wastewater into the ocean has been prohibited in Japan since January 1, 1996. For this reason, the photographic industry has made efforts to reduce the photographic processing waste liquid to the utmost limit. In the printing plate making field, there is a great demand for reducing the waste liquid by reducing the replenishment amount of the processing liquid, and various studies have been made.

【0004】その1つが、特開昭60−235133
号、同63−129343号に記載の様な、水洗に代え
て安定化処理を行い、水洗廃液を未出にすると共に、安
定化処理液のオーバーフローの一部又は全部を定着補充
液に利用して、定着補充量を低減することである。
One of them is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-235133.
As described in JP-A No. 63-129343, a stabilizing treatment is performed in place of washing to remove the washing waste liquid, and part or all of the overflow of the stabilizing treatment solution is used as a fixing replenisher. That is, the fixing replenishment amount is reduced.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、黒白ハロゲ
ン化銀写真感光材料用の定着液、特に印刷製版用の定着
液には、処理後の画像強度を保つため硬膜剤として水溶
性アルミニウム塩が含有されることが多い。この様な処
理系で安定化処理を用い、定着補充量を低減し、且つ安
定化処理液のオーバーフローの一部又は全部を定着補充
液に利用すると、定着液に沈殿が発生したり、処理後の
画像保存性が劣化したり、残色が強くなったりする問題
がある。
In a fixing solution for a black-and-white silver halide photographic light-sensitive material, in particular, a fixing solution for printing plate making, a water-soluble aluminum salt is used as a hardening agent to maintain the image strength after processing. Often contained. If a stabilization process is used in such a processing system to reduce the amount of fixing replenishment and if part or all of the overflow of the stabilizing solution is used as the fixing replenisher, sedimentation occurs in the fixing solution, However, there is a problem that the image storability deteriorates and the residual color becomes strong.

【0006】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、定着液に硬膜剤として水溶性アル
ミニウム塩が含有される処理系で、安定化処理を用い、
定着補充量を低減し、且つ安定化処理液のオーバーフロ
ーの一部又は全部を定着補充液に利用しても、定着液で
の沈殿の発生、画像保存性の劣化及び残色の問題を招か
ない黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供す
ることにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a fixing system containing a water-soluble aluminum salt as a hardening agent, using a stabilizing treatment,
Even if the amount of fixing replenishment is reduced and part or all of the overflow of the stabilizing processing solution is used for the fixing replenishing solution, it does not cause problems such as occurrence of precipitation in the fixing solution, deterioration of image storability and residual color. An object of the present invention is to provide a method for processing a black-and-white silver halide photographic light-sensitive material.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、黒
白ハロゲン化銀写真感光材料を水溶性アルミニウム塩を
含む定着液で処理した後に安定化処理液で処理するにあ
たり、安定化処理液のオーバーフローの一部又は全部を
定着補充液に利用し、該定着補充液を処理される感光材
料1m2当たり260cc以下で補充し、且つ、安定化
処理液が第2鉄イオンに対するキレート安定度定数が
8以上のキレート剤を含有する、防黴性を付与された
処理液である、一般式(1)Z−SMで表される化合
物を含有する、又はゼラチン硬化剤を含有する黒白ハ
ロゲン化銀写真感光材料の処理方法、前記定着補充液の
調製に用いる定着補充剤が固体処理剤であること、及
び、処理される感光材料が4級オニウム化合物を含有す
ること、によって達成される。
The object of the present invention is to provide a method for treating a black-and-white silver halide photographic material with a stabilizing solution after treating it with a fixing solution containing a water-soluble aluminum salt. Part or all of the overflow is used as a fixer replenisher, and the fixer replenisher is replenished at a rate of 260 cc or less per m 2 of the light-sensitive material to be processed. A black-and-white silver halide photograph containing a compound represented by the general formula (1) Z-SM or a gelatin hardening agent, which is a processing solution imparted with antifungal properties containing at least 8 chelating agents. This is achieved by a method for processing a light-sensitive material, a fixing replenisher used for preparing the fixing replenisher being a solid processing agent, and a light-sensitive material to be processed containing a quaternary onium compound.

【0008】即ち本発明者は、安定化処理液が第2鉄
イオンに対するキレート安定度定数が8以上のキレート
剤を含有する、防黴性を付与された処理液である、
一般式(1)Z−SMで表される化合物を含有する、又
はゼラチン硬化剤を含有する、いずれかの構成を採る
ことにより、定着液に硬膜剤として水溶性アルミニウム
塩が含有される処理系で、安定化処理を用い、定着補充
量を処理される感光材料1m2当たり260cc以下に
低減し、且つ安定化処理液のオーバーフローの一部又は
全部を定着補充液に利用しても、定着液での沈殿の発
生、画像保存性の劣化及び残色の問題を解消し得ること
を見出し、本発明に至ったものである。
That is, the inventor of the present invention has stated that the stabilized treatment liquid is a treatment liquid provided with a fungicidal property, which contains a chelating agent having a chelate stability constant for ferric ion of 8 or more.
A treatment in which a water-soluble aluminum salt is contained as a hardening agent in a fixing solution by adopting any one of a structure containing a compound represented by the general formula (1) Z-SM or a gelatin hardener. The system uses a stabilizing process to reduce the replenishment rate of the fixing material to 260 cc or less per m 2 of the photosensitive material to be processed, and to use a part or all of the overflow of the stabilizing processing solution for the replenishing solution. The present invention has been found to be able to solve the problem of the occurrence of precipitation in the liquid, the deterioration of image storability, and the problem of residual color, leading to the present invention.

【0009】以下、本発明について項目毎に詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in detail for each item.

【0010】《安定化処理液》本発明の安定化処理液
は、第2鉄イオン(Fe3+)に対するキレート安定度定
数が8以上であるものを含有する。ここにキレート安定
度定数とは、L.G.Sillen,A.E.Mart
ell著、“Stability Constants
of Metal Complexes”、The
ChemicalSociety,London(19
64)。S.Chaberek,A.E.Martel
l著、“Organic Sequestering
Agents”、Willey(1959)等により一
般に知られた定数を意味する。
<< Stabilizing Solution >> The stabilizing solution of the present invention contains a solution having a chelate stability constant of 8 or more with respect to ferric ion (Fe 3+ ). Here, the chelate stability constant is defined as L.C. G. FIG. Sillen, A .; E. FIG. Mart
, "Stability Constants"
of Metal Complexes ", The
Chemical Society, London (19
64). S. Chaberek, A .; E. FIG. Martel
l, "Organic Sequestering"
Agents ", Willley (1959) and the like.

【0011】本発明において鉄イオンに対するキレート
安定度定数が8以上であるキレート剤としては、有機カ
ルボン酸キレート剤、有機リン酸キレート剤、無機リン
酸キレート剤、ポリヒドロキシ化合物等が挙げられ、具
体的化合物としては、エチレンジアミンジオルトヒドロ
キシフェニル酢酸、ジアミノプロパン四酢酸、ニトリロ
三酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジ
ヒドロキシエチルグリシン、エチレンジアミン二酢酸、
エチレンジアミン二プロピオン酸、イミノ二酢酸、ジエ
チレントリアミン五酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢
酸、1,3−ジアミノプロパノール四酢酸、トリエチレ
ンテトラミン六酢酸、トランスシクロヘキサンジアミン
四酢酸、エチレンジアミン四酢酸、グリコールエーテル
ジアミン四酢酸、エチレンジアミンテトラキスメチレン
ホスホン酸、ジエチレントリアミンペンタメチレンホス
ホン酸、ニトリロトリメチレンホスホン酸、1−ヒドロ
キシエチリデン−1,1−ジホスホン酸、1,1−ジホ
スホノエタン−2−カルボン酸、2−ホスホノプタン−
1,2,4−トリカルボン酸、1−ヒドロキシ−1−ホ
スホノプロパン−1,2,3−トリカルボン酸、カテコ
ール−3,5−ジスルホン酸、ピロリン酸ナトリウム、
テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリ
ウムが挙げられ、特に好ましくは例えばジエチレントリ
アミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3
−ジアミノプロパノール四酢酸、グリコールエーテルジ
アミン四酢酸、ヒドロキシエチレンジアミン三酢酸、2
−ホスホノプタン−1,2,4−トリカルボン酸、1,
1−ジホスホノエタン−2−カルボン酸、ニトリロトリ
メチレンホスホン酸、エチレンジアミンテトラホスホン
酸、ジエチレントリアミンペンタホスホン酸、1−ヒド
ロキシプロピリデン−1,1−ジホスホン酸、1−アミ
ノエチリデン−1,1−ジホスホン酸、1−ヒドロキシ
エチリデン−1,1−ジホスホン酸やこれらの塩があ
る。
In the present invention, examples of the chelating agent having a chelating stability constant for iron ions of 8 or more include an organic carboxylic acid chelating agent, an organic phosphoric acid chelating agent, an inorganic phosphoric acid chelating agent, a polyhydroxy compound and the like. Typical compounds include ethylenediamine diorthohydroxyphenylacetic acid, diaminopropanetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, dihydroxyethylglycine, ethylenediaminediacetic acid,
Ethylenediaminedipropionic acid, iminodiacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, 1,3-diaminopropanoltetraacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, transcyclohexanediaminetetraacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, glycoletherdiaminetetraacetic acid, Ethylenediaminetetrakismethylenephosphonic acid, diethylenetriaminepentamethylenephosphonic acid, nitrilotrimethylenephosphonic acid, 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid, 1,1-diphosphonoethane-2-carboxylic acid, 2-phosphonobutane-
1,2,4-tricarboxylic acid, 1-hydroxy-1-phosphonopropane-1,2,3-tricarboxylic acid, catechol-3,5-disulfonic acid, sodium pyrophosphate,
Examples thereof include sodium tetrapolyphosphate and sodium hexametaphosphate. Particularly preferred are, for example, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, and 1,3.
-Diaminopropanol tetraacetic acid, glycol ether diamine tetraacetic acid, hydroxyethylene diamine triacetic acid, 2
-Phosphonoptan-1,2,4-tricarboxylic acid, 1,
1-diphosphonoethane-2-carboxylic acid, nitrilotrimethylenephosphonic acid, ethylenediaminetetraphosphonic acid, diethylenetriaminepentaphosphonic acid, 1-hydroxypropylidene-1,1-diphosphonic acid, 1-aminoethylidene-1,1-diphosphonic acid, -Hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid and salts thereof.

【0012】これらのキレート剤の使用量は安定化処理
液1リットル当たり、0.01〜100g、好ましくは
0.05〜50gの範囲で良好な結果が得られる。
Good results can be obtained when the amount of these chelating agents used is in the range of 0.01 to 100 g, preferably 0.05 to 50 g per liter of the stabilizing solution.

【0013】防黴性を付与する手段としては、安定化処
理液が現像、定着性能に悪影響を与えず、処理済み感光
材料の品質が良好に維持可能であれば特に限定されない
が、好ましくは、紫外線照射、磁場付与、イオン交換及
び防黴剤添加から選ばれる。最も好ましいのは防黴剤を
用いることである。
Means for imparting antifungal properties are not particularly limited as long as the stabilized processing solution does not adversely affect the developing and fixing performance and the quality of the processed light-sensitive material can be maintained satisfactorily. It is selected from ultraviolet irradiation, application of a magnetic field, ion exchange, and addition of a fungicide. Most preferably, a fungicide is used.

【0014】磁場は、強磁性体の鉄、コバルト、ニッケ
ルからなる永久磁石等を用いたり、コイル等に直流電流
を流したりして得られ、発生した磁場に安定化処理液又
はその補充液を通過させる。循環系パイプの内部又は外
部の一部又は全部に永久磁石を固定し安定化処理液を循
環させる方法を採るのが好ましい。
The magnetic field is obtained by using a permanent magnet made of ferromagnetic iron, cobalt or nickel, or by applying a direct current to a coil or the like, and applying a stabilizing treatment solution or a replenisher thereof to the generated magnetic field. Let it pass. It is preferable to employ a method in which a permanent magnet is fixed to part or all of the inside or outside of the circulation system pipe and the stabilizing treatment liquid is circulated.

【0015】紫外線照射は一般に市販されている紫外線
ランプ(好ましくは管出力が5〜800Wのもの)又は
紫外線照射装置等を用いて行い、波長としては220〜
350nmが好ましい。
The ultraviolet irradiation is carried out using a commercially available ultraviolet lamp (preferably having a tube output of 5 to 800 W), an ultraviolet irradiation device, or the like.
350 nm is preferred.

【0016】イオン交換は、一般に市販されているH型
強酸性カチオン交換樹脂とOH型強塩基性交換樹脂を充
填した温床式カラムに安定化処理液を通過させて行う。
The ion exchange is performed by passing the stabilizing solution through a hot-bed column filled with a commercially available H-type strongly acidic cation exchange resin and an OH-type strongly basic exchange resin.

【0017】紫外線を用いる方法については特開昭60
−263939号等、磁場を用いる方法については特開
昭60−263940号等、イオン交換樹脂を用いる方
法については特願昭61−131632号等に詳しく記
載される。
A method using ultraviolet light is disclosed in
The method using a magnetic field is described in detail in JP-A-60-263940, and the method using an ion exchange resin is described in detail in Japanese Patent Application No. 61-131632.

【0018】本発明において使用される防黴剤として
は、チアゾリルベンゾイミダゾール系化合物、イソチア
ゾロン系化合物、クロロフェノール系化合物、ブロモフ
ェノール系化合物、チオシアン酸やイソチオシアン酸系
化合物、酸アジド系化合物、ダイアジンやトリアジン系
化合物、チオ尿素系化合物、アルキルグアニジン化合
物、4級アンモニウム塩、有機錫や有機亜鉛化合物、シ
クロヘキシルフェノール系化合物、イミダゾール及びベ
ンゾイミダゾール系化合物、スルファミド系化合物、塩
素化イソシアヌル酸ナトリウム等の活性ハロゲン化化合
物、キレート剤、亜硫酸化合物、ペニシリンに代表され
る抗生物質等を挙げることができる。その他、L.E.
West,“Water Quality Crite
ria”Phot.Sci.and Eng.,Vo
l.9,No.6(1965)に記載の殺菌剤;特開昭
55−111942号、同57−8524号、同57−
157244号、同58−105145号及び同59−
126533号に記載の各種防黴剤;「防菌防黴の化
学」堀口博著・三共出版(昭和57年)、「防菌防黴技
術ハンドブック」日本防菌防黴学会・技報堂(昭和61
年)に記載の化合物等を採用できる。
The fungicides used in the present invention include thiazolyl benzimidazole compounds, isothiazolone compounds, chlorophenol compounds, bromophenol compounds, thiocyanic acid and isothiocyanic acid compounds, acid azide compounds, Diazine and triazine compounds, thiourea compounds, alkylguanidine compounds, quaternary ammonium salts, organotin and organozinc compounds, cyclohexylphenol compounds, imidazole and benzimidazole compounds, sulfamide compounds, chlorinated sodium isocyanurate, etc. Active halogenated compounds, chelating agents, sulfite compounds, antibiotics represented by penicillin and the like can be mentioned. In addition, L. E. FIG.
West, “Water Quality Crite
ria "Phot. Sci. and Eng., Vo
l. 9, No. 6 (1965): JP-A-55-111942, JP-A-57-8524, and JP-A-57-524.
Nos. 157244, 58-105145 and 59-
Various fungicides described in No. 126533; "Chemistry of fungicides and fungi" written by Hiroshi Horiguchi and published by Sankyo Publishing Co., Ltd. (Showa 57);
Year)).

【0019】以下に防黴剤の具体例を挙げるが、これら
に限定されない。
The following are specific examples of the antifungal agent, but the invention is not limited thereto.

【0020】1)5−クロロ−2−メチル−4−イソチ
アゾリン−3−オン 2)2−(4−チアゾリル)ベンゾイミダゾール 3)イソチオシアン酸メチル 4)3,5−ジクロロ−4′−フルオロチオカルバニリ
ド 5)4−クロロ−3,5−ジメチルフェノール 6)2,4,6−トリクロロフェノール 7)デヒドロ酢酸ナトリウム 8)スルファニルアミド 9)3,4,5−トリブロモサリチルアニリド 10)ソルビン酸カリウム 11)ベンゾアルコニウムクロライド 12)1−ブロモ−3−クロロ−5,6−ジメチルヒダ
ントイン 13)モノクロロアセトアミド 14)モノブロモアセトアミド 15)モノヨードアセトアミド 16)ベンゾイミダゾール 17)シクロヘキシルフェノール 18)2−オクチルイソチアゾリン−3−オン 19)エチレンジアミン4酢酸 20)ニトリロ−N,N,N−トリメチレンホスホン酸 21)1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸 22)エチレンジアミン−N,N,N′,N′−テトラ
メチレンホスホン酸 23)塩素化イソシアヌル酸ナトリウム 24)2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 25)10,10′−オキシビスフェノキシアルシン 26)1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オン これらの化合物は、米国特許第2,767,172号、
同2,767,173号、同2,767,174号、同
2,870,015号、英国特許第848,130号、
仏国特許第1,555,416号等を参照して合成する
ことができる。更に、プレデントールON、パーマケム
PD、トップサイド800、トップサイドEG5、トッ
プサイド300、トップサイド600(以上パーマケム
アジア社製)、ファインサイドJ−700(東京ファイ
ンケミカル社製)、ProzelGXL(I.C.I社
製)の商品名で入手することができる。
1) 5-chloro-2-methyl-4-isothiazolin-3-one 2) 2- (4-thiazolyl) benzimidazole 3) methyl isothiocyanate 4) 3,5-dichloro-4'-fluorothiocarba Nilide 5) 4-Chloro-3,5-dimethylphenol 6) 2,4,6-Trichlorophenol 7) Sodium dehydroacetate 8) Sulfanilamide 9) 3,4,5-Tribromosalicylanilide 10) Potassium sorbate 11) Benzoalkonium chloride 12) 1-Bromo-3-chloro-5,6-dimethylhydantoin 13) Monochloroacetamide 14) Monobromoacetamide 15) Monoiodoacetamide 16) Benzimidazole 17) Cyclohexylphenol 18) 2-Octylisothiazoline -3-on 9) Ethylenediaminetetraacetic acid 20) Nitrilo-N, N, N-trimethylenephosphonic acid 21) 1-Hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid 22) Ethylenediamine-N, N, N ', N'-tetramethylenephosphonic acid 23) Chlorinated sodium isocyanurate 24) 2-Methyl-4-isothiazolin-3-one 25) 10,10'-oxybisphenoxyarsine 26) 1,2-Benzoisothiazolin-3-one These compounds are disclosed in U.S. Pat. No. 2,767,172,
No. 2,767,173, No. 2,767,174, No. 2,870,015, British Patent No. 848,130,
It can be synthesized with reference to French Patent No. 1,555,416 and the like. Furthermore, Predentol ON, Permachem PD, Topside 800, Topside EG5, Topside 300, Topside 600 (all manufactured by Permachem Asia), Fineside J-700 (Tokyo Fine Chemical), ProzelGXL (IC) .I company).

【0021】これらの防黴剤は、安定化処理液1リット
ル当たり0.01〜50g程度、好ましくは0.05〜
20gで用いる。
These antifungal agents are used in an amount of about 0.01 to 50 g, preferably 0.05 to 50 g per liter of the stabilized solution.
Used at 20 g.

【0022】また防黴性を付与する手段として、酸化剤
を用いることもできる。用いることができる酸化剤とし
ては、金属又は非金属の酸化物、酸素酸又はその塩、過
酸化物、有機の酸系を含む化合物が挙げられる。上記酸
素酸としては硫酸、亜硝酸、硝酸、次亜塩素酸等、過酸
化物としては過酸化水素水、フェントン酸試薬等、そし
てオゾンが好ましく用いられる。
As a means for imparting antifungal properties, an oxidizing agent can be used. Examples of the oxidizing agent that can be used include metal or nonmetal oxides, oxyacids or salts thereof, peroxides, and compounds containing an organic acid system. Sulfuric acid, nitrous acid, nitric acid, hypochlorous acid and the like are preferably used as the oxyacid, and hydrogen peroxide, fentonic acid reagent and the like, and ozone are preferably used as the peroxide.

【0023】また本発明の安定化処理液は、一般式
(1)で表される化合物を含有する。
The stabilizing solution of the present invention contains a compound represented by the general formula (1).

【0024】一般式(1)において、Zで表されるアル
キル基は好ましくは、炭素数1〜30のものであって特
に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状のアルキル基
であって前記置換基の他に置換基を有していてもよい。
Zで表される芳香族基は好ましくは炭素数6〜32の単
環又は縮合環のものであって前記置換基の他に置換基を
有していてもよい。Zで表されるヘテロ環基は好ましく
は炭素数1〜32の単環又は縮合環であり、窒素、酸
素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘテロ原子を1つの
環中に1〜6個有する5又は6員環であり、前記の他に
置換基を有していてもよい。但し、ヘテロ環基がテトラ
ゾールの場合、置換基として、置換もしくは無置換のナ
フチル基を有さない。一般式(1)で表される化合物の
うち、好ましくはZが、2個以上の窒素原子を有するヘ
テロ環基である化合物である。
In the general formula (1), the alkyl group represented by Z preferably has 1 to 30 carbon atoms, particularly a straight-chain, branched or cyclic alkyl group having 2 to 20 carbon atoms. May have a substituent other than the above substituent.
The aromatic group represented by Z is preferably a monocyclic or condensed ring having 6 to 32 carbon atoms, and may have a substituent in addition to the substituent. The heterocyclic group represented by Z is preferably a monocyclic or condensed ring having 1 to 32 carbon atoms, and has 1 to 6 heteroatoms in one ring independently selected from nitrogen, oxygen and sulfur. It is a 5- or 6-membered ring and may have a substituent other than the above. However, when the heterocyclic group is tetrazole, it does not have a substituted or unsubstituted naphthyl group as a substituent. Among the compounds represented by the general formula (1), a compound in which Z is a heterocyclic group having two or more nitrogen atoms is preferable.

【0025】アンモニオ基としては好ましくは炭素数2
0以下であって置換基としては置換又は無置換の直鎖、
分岐、又は環状のアルキル基(メチル基、エチル基、ベ
ンジル基、エトキシプロピル基、シクロヘキシル基
等)、置換又は無置換のフェニル基、ナフチル基を表
す。
The ammonium group preferably has 2 carbon atoms.
0 or less and the substituent is a substituted or unsubstituted straight chain,
It represents a branched or cyclic alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, benzyl group, ethoxypropyl group, cyclohexyl group), substituted or unsubstituted phenyl group, and naphthyl group.

【0026】更に一般式(1)で表される化合物の好ま
しいものは下記一般式(1−a)で表される化合物であ
る。
Further preferred compounds represented by the general formula (1) are compounds represented by the following general formula (1-a).

【0027】[0027]

【化1】 Embedded image

【0028】式中、Z′は窒素原子を有する不飽和の5
員ヘテロ環又は、6員ヘテロ環(ピロール環、イミダゾ
ール環、ピラゾール環、ピリミジン環、ピリダジン環、
ピラジン環等)を形成するのに必要な基であり、少なく
とも一つの−SM基又はチオン基を有する化合物であっ
て、且つヒドロキシル基、−COOM基、−SO3
基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置
換のアンモニオ基からなる群から選ばれた少なくとも一
つの置換基を有する。式中、R1、R2は、水素原子、−
SM基、ハロゲン原子、アルキル基(置換基を有するも
のを含む)、アルコキシ基(置換基を有するものを含
む)、ヒドロキシル基、−COOM基、−SO3M基、
アルケニル基(置換基を有するものを含む)、アミノ基
(置換基を有するものを含む)、カルバモイル基(置換
基を有するものを含む)、フェニル基(置換基を有する
ものを含む)であり、R1とR2で環を形成してもよい。
形成できる環としては、5員環または6員環であり、好
ましくは含窒素ヘテロ環である。Mは、前記一般式
(1)で定義されたMと同義である。好ましくはZ′は
二つ以上の窒素原子を含むヘテロ環化合物を形成する基
であり、前記−SM基若しくはチオン基以外の置換基を
有していてもよく、該置換基としては、ハロゲン原子、
低級アルキル基(置換基を有するものを含む。メチル
基、エチル基等の炭素数5以下のものが好ましい。)、
低級アルコキシ基(置換基を有するものを含む。メトキ
シ、エトキシ、ブトキシ等の炭素数5以下のものが好ま
しい。)、低級アルケニル基(置換基を有するものを含
む。炭素数5以下のものが好ましい。)、カルバモイル
基、フェニル基等が挙げられる。更に一般式(1−a)
において次の一般式AからFで表される化合物が特に好
ましい。
In the formula, Z 'is an unsaturated 5 having a nitrogen atom.
Membered heterocycle or 6-membered heterocycle (pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, pyrimidine ring, pyridazine ring,
A group required to form a pyrazine ring, etc.), a compound having at least one -SM group or thione group and a hydroxyl group, -COOM group, -SO 3 M
And at least one substituent selected from the group consisting of a group, a substituted or unsubstituted amino group, and a substituted or unsubstituted ammonium group. In the formula, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom,-
SM group (including those having a substituent) a halogen atom, an alkyl group (including those having a substituent) alkoxy group, a hydroxyl group, -COOM group, -SO 3 M group,
An alkenyl group (including one having a substituent), an amino group (including one having a substituent), a carbamoyl group (including one having a substituent), and a phenyl group (including one having a substituent); R 1 and R 2 may form a ring.
The ring that can be formed is a 5- or 6-membered ring, preferably a nitrogen-containing heterocycle. M has the same meaning as M defined in the general formula (1). Preferably, Z 'is a group forming a heterocyclic compound containing two or more nitrogen atoms, and may have a substituent other than the above-described -SM group or thione group. ,
Lower alkyl groups (including those having a substituent, preferably those having 5 or less carbon atoms such as methyl group and ethyl group);
A lower alkoxy group (including those having a substituent; methoxy, ethoxy, butoxy, etc., preferably having 5 or less carbon atoms) and a lower alkenyl group (including those having a substituent; preferably having 5 or less carbon atoms); ), Carbamoyl group, phenyl group and the like. Further, the general formula (1-a)
In the above, compounds represented by the following general formulas A to F are particularly preferred.

【0029】[0029]

【化2】 Embedded image

【0030】式中、各々R3、R4、R5、R6は各々、水
素原子、−SM基、ハロゲン原子、低級アルキル基(置
換基を有するものを含む。メチル基、エチル基等の炭素
数5以下のものが好ましい。)、低級アルコキシ基(置
換基を有するものを含む。炭素数5以下のものが好まし
い。)、ヒドロキシ基、−COOM1、−SO32基、
低級アルケニル基(置換基を有するものを含む。炭素数
5以下のものが好ましい。)、アミノ基、カルバモイル
基、フェニル基であり、少なくとも一つは−SM基であ
る。M、M1、M2は各々水素原子、アルカリ金属原子又
はアンモニウム基を表す。特に、−SM以外の置換基と
してはヒドロキシ基、−COOM1、−SO32基、ア
ミノ基等の水溶性基を持つことが好ましい。R3、R4
5、R6で表されるアミノ基は置換又は非置換のアミノ
基を表し、好ましい置換基としては低級アルキル基であ
る。アンモニウム基としては置換又は非置換のアンモニ
ウム基であり、好ましくは非置換のアンモニウム基であ
る。
In the formula, R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 are each a hydrogen atom, a —SM group, a halogen atom, a lower alkyl group (including those having a substituent; a methyl group, an ethyl group, etc. Those having 5 or less carbon atoms are preferred), lower alkoxy groups (including those having a substituent, and those having 5 or less carbon atoms are preferred), hydroxy groups, -COOM 1 , -SO 3 M 2 groups,
A lower alkenyl group (including a group having a substituent, preferably a group having 5 or less carbon atoms), an amino group, a carbamoyl group and a phenyl group, at least one of which is a -SM group. M, M 1 and M 2 each represent a hydrogen atom, an alkali metal atom or an ammonium group. In particular, the substituent other than -SM preferably has a water-soluble group such as a hydroxy group, -COOM 1 , -SO 3 M 2 group, or amino group. R 3 , R 4 ,
The amino group represented by R 5 or R 6 represents a substituted or unsubstituted amino group, and a preferable substituent is a lower alkyl group. The ammonium group is a substituted or unsubstituted ammonium group, preferably an unsubstituted ammonium group.

【0031】以下に一般式(1)で表される化合物の具
体例を示すが、これらに限定されるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (1) are shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0032】[0032]

【化3】 Embedded image

【0033】[0033]

【化4】 Embedded image

【0034】[0034]

【化5】 Embedded image

【0035】[0035]

【化6】 Embedded image

【0036】[0036]

【化7】 Embedded image

【0037】[0037]

【化8】 Embedded image

【0038】一般式(1)で表される化合物の使用量
は、安定化処理液1リットル中に10-6〜10-1モルで
あることが好ましく、更には10-5〜10-2モルである
ことが好ましい。
The amount of the compound represented by the general formula (1) is preferably 10 -6 to 10 -1 mol, more preferably 10 -5 to 10 -2 mol, per liter of the stabilizing solution. It is preferred that

【0039】ゼラチン硬化剤としては、無機又は有機の
硬化剤を用いることができる。例えばクロム塩(クロム
明礬、酢酸クロム等)、アルデヒド類(ホルムアルデヒ
ド、グリオキザール、グルタルアルデヒド等)、N−メ
チロール化合物(ジメチロール尿素、メチロールジメチ
ルヒダントイン等)、ジオキサン誘導体(2,3−ジヒ
ドロキシジオキサン等)、活性ビニル化合物(1,3,
5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジ
ン、ビス(ビニルスルホニル)メチルエーテル、N,
N′−メチレンビス−〔β−(ビニルスルホニル)プロ
ピオンアミド〕等)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジ
クロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン等)、ムコハ
ロゲン酸類(ムコクロル酸、フェノキシムコクロル酸
等)、イソオキサゾール類、ジアルデヒド澱粉、2−ク
ロロ−6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラチン等を、単
独又は組み合わせて用いることができる。これらの硬化
剤はリサーチ・ディスクロージャー(Research
Disclosure)176巻17643(197
8年12月発行)第26頁のA〜C項に記載されてい
る。その中でも好ましくは、カルボキシル基活性型硬膜
剤であり、中でも好ましいカルボキシル基活性型硬膜剤
として、以下の一般式(2)〜(8)で表される化合物
を挙げることができる。
As the gelatin hardener, an inorganic or organic hardener can be used. For example, chromium salts (chromium alum, chromium acetate, etc.), aldehydes (formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, etc.), N-methylol compounds (dimethylolurea, methyloldimethylhydantoin, etc.), dioxane derivatives (2,3-dihydroxydioxane, etc.), Active vinyl compounds (1,3,
5-triacryloyl-hexahydro-s-triazine, bis (vinylsulfonyl) methyl ether, N,
N'-methylenebis- [β- (vinylsulfonyl) propionamide], etc., active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine, etc.), mucohalic acids (mucochloric acid, phenoxymucochloric acid, etc.) ), Isoxazoles, dialdehyde starch, 2-chloro-6-hydroxytriazinylated gelatin and the like can be used alone or in combination. These curing agents are available from Research Disclosure (Research).
Disclosure) 176 Volume 17643 (197
(Issued in December 2008) on page 26, paragraphs A to C. Among them, a carboxyl group-active hardener is preferable, and among them, compounds represented by the following general formulas (2) to (8) can be mentioned as preferable carboxyl group-active hardeners.

【0040】[0040]

【化9】 Embedded image

【0041】式中、R21、R22は各々、炭素数1〜10
のアルキル基(メチル基、エチル基、2−エチルヘキシ
ル基等)、炭素数6〜15のアリール基(フェニル基、
ナフチル基等)又は炭素数7〜15のアラルキル基(ベ
ンジル基、フェネチル基等)を表す。またR21、R22
互いに結合して窒素原子と共にピロリジン環、ピペラジ
ン環、モルホリン環等の複素環を形成してもよい。
In the formula, R 21 and R 22 each have 1 to 10 carbon atoms.
Alkyl group (methyl group, ethyl group, 2-ethylhexyl group, etc.), aryl group having 6 to 15 carbon atoms (phenyl group,
Naphthyl group) or an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms (benzyl group, phenethyl group, etc.). R 21 and R 22 may combine with each other to form a heterocyclic ring such as a pyrrolidine ring, a piperazine ring, and a morpholine ring together with the nitrogen atom.

【0042】R23は置換基(水素原子、ハロゲン原子、
カルバモイル基、スルホ基、スルホオキシ基、ウレイド
基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10の
アルキル基、炭素数2〜20のジアルキル置換アミノ基
等)を表し、R23がアルコキシ基、アルキル基、ジアル
キルアミノ基、N−アルキルカルバモイル基であると
き、それらは更にハロゲン原子、カルバモイル基、スル
ホ基、スルホオキシ基、ウレイド基等の置換基を有して
もよい。
R 23 is a substituent (hydrogen atom, halogen atom,
Carbamoyl group, a sulfo group, a sulfoxy group, a ureido group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, represents a dialkyl-substituted amino group, etc.) having 2 to 20 carbon atoms, R 23 is an alkoxy group , An alkyl group, a dialkylamino group, or an N-alkylcarbamoyl group, they may further have a substituent such as a halogen atom, a carbamoyl group, a sulfo group, a sulfoxy group, or a ureido group.

【0043】X-は陰イオンを表し、N−カルバモイル
ピリジニウム塩の対イオンとなる。R23の置換基にスル
ホ基、スルホオキシ基を含むときは、分子内塩を形成し
てX-は無くてもよい。好ましい陰イオンとしては、ハ
ロゲン化物イオン、硫酸イオン、スルホネートイオン、
ClO4 -、BF4 -、PF6 -等が挙げられる。
[0043] X - represents an anion, a counter ion of N- carbamoyl pyridinium salts. When the substituent of R 23 contains a sulfo group or a sulfoxy group, an internal salt may be formed to eliminate X . Preferred anions include halide ions, sulfate ions, sulfonate ions,
ClO 4 , BF 4 , PF 6 − and the like.

【0044】一般式(2)で表されるカルバモイルアン
モニウム塩系硬膜剤については、特公昭56−1285
3号、同58−32699号、特開昭49−51945
号、同51−59623号、同61−9641号等に詳
しく記載される。
The carbamoyl ammonium salt hardener represented by the general formula (2) is described in JP-B-56-1285.
No. 3, No. 58-32699, JP-A-49-51945.
And Nos. 51-59623 and 61-9641.

【0045】[0045]

【化10】 Embedded image

【0046】一般式(3)におけるR31、R32、R33
びX-は一般式(2)におけるR21、R22、R23及びX-
とそれぞれ同義であり、これらの化合物はベルギー特許
第825726号に詳しく記載される。
R 31 , R 32 , R 33 and X in the general formula (3) are the same as R 21 , R 22 , R 23 and X in the general formula (2).
And these compounds are described in detail in Belgian Patent No. 825726.

【0047】[0047]

【化11】 Embedded image

【0048】式中、R41、R42、R43及びR44は各々、
炭素数1〜20のアルキル基(メチル基、エチル基、ブ
チル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基等)、炭素
数6〜20のアラルキル基(ベンジル基、フェネチル
基、3−ピリジルメチル基等)又は炭素数5〜20のア
リール基(フェニル基、ナフチル基、ピリジル基等)を
表し、これらはハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコ
キシ基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、N,N−
ジ置換カルバモイル基等の置換基を有してもよい。また
41、R42、R43及びR44の任意の2つが結合して環を
形成してもよい。R41とR42或いはR43とR44が結合し
て窒素原子と共に形成する環としては、ピロリジン環、
ピペラジン環、ペルヒドロアセピン環、モルホリン環等
が挙げられる。またR41とR43或いはR42とR44が結合
して2つの窒素原子及びそれらに挟まれた炭素原子と共
に形成する環としては、イミダゾリン環、テトラヒドロ
ピリミジン環、テトラヒドロアゼピン環等が挙げられ
る。
Wherein R 41 , R 42 , R 43 and R 44 are each
C1-C20 alkyl group (methyl group, ethyl group, butyl group, 2-ethylhexyl group, dodecyl group, etc.), C6-C20 aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, 3-pyridylmethyl group, etc.) Or an aryl group having 5 to 20 carbon atoms (phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, etc.), which are a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, N, N −
It may have a substituent such as a disubstituted carbamoyl group. Also, any two of R 41 , R 42 , R 43 and R 44 may combine to form a ring. The ring formed by R 41 and R 42 or R 43 and R 44 together with the nitrogen atom includes a pyrrolidine ring,
Examples include a piperazine ring, a perhydroacepine ring, and a morpholine ring. Examples of the ring formed by combining R 41 and R 43 or R 42 and R 44 with two nitrogen atoms and a carbon atom interposed therebetween include an imidazoline ring, a tetrahydropyrimidine ring, and a tetrahydroazepine ring.

【0049】Xは一般式(4)で表される化合物が求核
試薬と反応した際に脱離し得る基を表し、ハロゲン原
子、スルホニルオキシ基、1−ピリジニウミル基等が好
ましい。Y-は陰イオンを表し、ハロゲン化物イオン、
スルホネートイオン、硫酸イオン、ClO4 -、BF4 -
PF6 -等が好ましい。Y-がスルホネートイオンを表す
とき、X、R41、R42、R43又はR44と結合して分子内
塩を形成してもよい。
X represents a group capable of leaving when the compound represented by the general formula (4) reacts with a nucleophile, and is preferably a halogen atom, a sulfonyloxy group, a 1-pyridinium group or the like. Y - is represents an anion, halide ions,
Sulfonate ion, sulfate ion, ClO 4 , BF 4 ,
PF 6- and the like are preferred. Y - is to represent a sulfonate ion, X, R 41, R 42 , combined with R 43 or R 44 may form an intramolecular salt.

【0050】一般式(4)で表されるアミジニウム塩系
硬膜剤については特開昭60−225148号に詳しく
記載される。
The amidinium salt hardener represented by the general formula (4) is described in detail in JP-A-60-225148.

【0051】 一般式(5) R51−N=C=N−R52 式中、R51は炭素数1〜10のアルキル基(メチル基、
エチル基、2−エチルヘキシル基等)、炭素数3〜10
のアルコキシアルキル基(メトキシエチル基等)又は炭
素数1〜15のアラルキル基(ベンジル基、フェネチル
基等)を表す。
Formula (5) R 51 —N = C −N—R 52 In the formula, R 51 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (methyl group,
Ethyl group, 2-ethylhexyl group, etc.), having 3 to 10 carbon atoms
Represents an alkoxyalkyl group (such as a methoxyethyl group) or an aralkyl group having 1 to 15 carbon atoms (such as a benzyl group or a phenethyl group).

【0052】R52はR51で定義された基又はR 52 is a group defined for R 51 or

【0053】[0053]

【化12】 Embedded image

【0054】を表す。R53は炭素数2〜4のアルキレン
基(エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等)を
表し、R54、R55は各々、炭素数1〜6のアルキル基
(メチル基、エチル基等)を表し、互いに結合して窒素
原子と共にピロリジン環、ピペラジン環、モルホリン環
等の複素環を形成してもよい。R56は炭素数1〜6のア
ルキル基(メチル基、エチル基、ブチル基等)を表し、
置換基(置換又は無置換のカルバモイル基、スルホ基
等)を有してもよい。X-は陰イオンを表し、ハロゲン
化物イオン、スルホネートイオン、硫酸イオン、ClO
4 -、BF4 -、PF6 -等が好ましい。またR56がスルホ基
で置換される場合は分子内塩を形成してX-は存在しな
くてもよい。
Represents the following. R 53 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms (ethylene group, propylene group, trimethylene group, etc.), and R 54 and R 55 each represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.). And may combine with each other to form a heterocyclic ring such as a pyrrolidine ring, a piperazine ring, and a morpholine ring together with the nitrogen atom. R 56 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (methyl group, ethyl group, butyl group, etc.);
It may have a substituent (substituted or unsubstituted carbamoyl group, sulfo group, etc.). X - represents an anion, halide ions, sulfonate ions, sulfate ion, ClO
4 -, BF 4 -, PF 6 - are preferable. When R 56 is substituted with a sulfo group, an internal salt may be formed and X may not be present.

【0055】一般式(5)で表されるカルボジイミド系
硬膜剤については特開昭51−126125号、同52
−48311号に詳しく記載される。
The carbodiimide hardeners represented by the general formula (5) are described in JP-A-51-126125 and JP-A-52-126125.
-48311.

【0056】[0056]

【化13】 Embedded image

【0057】式中、R61は炭素数1〜10のアルキル基
(メチル基、エチル基、ブチル基等)、炭素数6〜15
のアリール基(フェニル基、ナフチル基等)又は炭素数
7〜15のアラルキル基(ベンジル基、フェネチル基
等)を表す。これらはカルバモイル基、スルファモイル
基、スルホ基等の置換基を有してもよい。R62、R63
各々置換基(水素原子、ハロゲン原子、アシルアミド
基、ニトロ基、カルバモイル基、ウレイド基、アルコキ
シ基、アルキル基、アリール基、アラルキル基等)を表
し、互いに結合してピリジニウム環骨格と共に縮合環を
形成してもよい。
In the formula, R 61 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, or a butyl group);
(Phenyl group, naphthyl group, etc.) or an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms (benzyl group, phenethyl group, etc.). These may have a substituent such as a carbamoyl group, a sulfamoyl group, and a sulfo group. R 62 and R 63 each represent a substituent (hydrogen atom, halogen atom, acylamide group, nitro group, carbamoyl group, ureido group, alkoxy group, alkyl group, aryl group, aralkyl group, etc.), A condensed ring may be formed together with the skeleton.

【0058】Xは一般式(6)で表される化合物が求核
試薬と反応した際に脱離し得る基を表し、好ましい例と
しては、ハロゲン原子、スルホニルオキシ基又は
X represents a group capable of leaving when the compound represented by the general formula (6) reacts with a nucleophile, and is preferably a halogen atom, a sulfonyloxy group or

【0059】[0059]

【化14】 Embedded image

【0060】が挙げられる。Xがスルホニルオキシ基で
ある場合はXとR61が結合してもよい。
[0060] When X is a sulfonyloxy group, X and R 61 may be bonded.

【0061】Y-は陰イオンを表し、ハロゲン化物イオ
ン、スルホネートイオン、硫酸イオン、ClO4 -、BF
4 -、PF6 -等が好ましい。またR61がスルホ基で置換さ
れる場合は分子内塩を形成して、Y-は存在しなくても
よい。
Y represents an anion, and is a halide ion, a sulfonate ion, a sulfate ion, ClO 4 , BF
4 -, PF 6 - are preferable. When R 61 is substituted with a sulfo group, an inner salt is formed, and Y may not be present.

【0062】これらのピリジニウム塩型硬膜剤について
は、特公昭58−50699号、特開昭57−4414
0号、同57−46538号に詳しく記載される。
These pyridinium salt hardeners are described in JP-B-58-50699 and JP-A-57-4414.
Nos. 0 and 57-46538.

【0063】[0063]

【化15】 Embedded image

【0064】一般式(7)においてR71、R72の定義は
一般式(2)におけるR21、R22の定義と各々同義であ
り、R73は炭素数1〜10のアルキル基(メチル基、エ
チル基、ブチル基等)、炭素数6〜15のアリール基
(フェニル基、ナフチル基等)又は炭素数7〜15のア
ラルキル基(ベンジル基、フェネチル基等)を表す。X
-は陰イオンを表し、ハロゲン化物イオン、スルホネー
トイオン、硫酸イオン、ClO4 -、BF4 -、PF6 -等が
好ましい。
In the general formula (7), the definitions of R 71 and R 72 are the same as the definitions of R 21 and R 22 in the general formula (2), and R 73 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (methyl group). , An ethyl group, a butyl group, etc.), an aryl group having 6 to 15 carbon atoms (phenyl group, naphthyl group, etc.) or an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms (benzyl group, phenethyl group, etc.). X
- represents an anion, halide ions, sulfonate ions, sulfate ion, ClO 4 -, BF 4 - , PF 6 - are preferable.

【0065】一般式(7)で表されるピリジニウム塩系
硬膜剤については特開昭52−54427号に詳しく記
載される。
The pyridinium salt hardener represented by the general formula (7) is described in detail in JP-A-52-54427.

【0066】[0066]

【化16】 Embedded image

【0067】式中、R81は炭素数1〜10のアルキル基
(メチル基、エチル基、2−エチルヘキシル基等)、炭
素数6〜15のアリール基(フェニル基、ナフチル基
等)又は炭素数7〜15のアラルキル基(ベンジル基、
フェネチル基等)を表し、ハロゲン原子、カルバモイ
ル、スルホ、スルホオキシ、ウレイド、炭素数1〜10
のアルコキシ、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2
〜20のジアルキル置換アミノ基等の置換基を有しても
よい。
In the formula, R 81 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (methyl group, ethyl group, 2-ethylhexyl group, etc.), an aryl group having 6 to 15 carbon atoms (phenyl group, naphthyl group, etc.) or 7 to 15 aralkyl groups (benzyl group,
Phenethyl group), a halogen atom, carbamoyl, sulfo, sulfoxy, ureido, carbon number 1-10
Alkoxy, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, 2 carbon atoms
It may have up to 20 dialkyl-substituted amino groups and other substituents.

【0068】Zは含窒素複素芳香環を完成するのに必要
な非金属原子群を表し、ピリジン環、ピリミジン環、ピ
ラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環及びそれ
らのベンゾ縮合環等が好ましい。
Z represents a group of nonmetal atoms necessary to complete the nitrogen-containing heteroaromatic ring, and is preferably a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxazole ring, or a benzo-fused ring thereof.

【0069】R82は置換基(水素原子、ハロゲン原子、
カルバモイル基、スルホ基、スルホオキシ基、ウレイド
基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10の
アルキル基、炭素数2〜20のジアルキル置換アミノ基
等)を表し、R82がアルコキシ基、アルキル基、ジアル
キルアミノ基、N−アルキルカルバモイル基であると
き、それらは更に置換基(ハロゲン原子、カルバモイル
基、スルホ基、スルホオキシ基、ウレイド基等)を有し
てもよい。
R 82 represents a substituent (a hydrogen atom, a halogen atom,
A carbamoyl group, a sulfo group, a sulfoxy group, a ureido group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a dialkyl-substituted amino group having 2 to 20 carbon atoms, etc.), and R 82 represents an alkoxy group , An alkyl group, a dialkylamino group, or an N-alkylcarbamoyl group, they may further have a substituent (a halogen atom, a carbamoyl group, a sulfo group, a sulfoxy group, a ureido group, etc.).

【0070】X-は陰イオンを表し、ハロゲン化物イオ
ン、スルホネートイオン、硫酸イオン、ClO4 -、BF
4 -、PF6 -等が好ましい。R81、R82又はそれらの置換
基にスルホ基、スルホオキシ基を含むときは、分子内塩
を形成してX-は無くてもよい。
[0070] X - represents an anion, halide ions, sulfonate ions, sulfate ion, ClO 4 -, BF
4 -, PF 6 - are preferable. When a sulfo group or a sulfooxy group is contained in R 81 , R 82 or a substituent thereof, an internal salt may be formed to eliminate X .

【0071】本発明においては、ゼラチン硬化剤として
一般式(2)〜(8)で表される化合物の他に、特開昭
50−38540号、同52−93470号、同56−
43353号、同58−113929号、米国特許第
3,321,313号に記載の化合物を用いることがで
きる。
In the present invention, besides the compounds represented by the general formulas (2) to (8) as gelatin hardeners, JP-A-50-38540, JP-A-52-93470 and JP-A-56-93470 may be used.
No. 43353, No. 58-113929 and U.S. Pat. No. 3,321,313 can be used.

【0072】以下にゼラチン硬化剤の具体例を挙げる
が、これらに限定されない。
The following are specific examples of gelatin hardeners, but are not limited thereto.

【0073】[0073]

【化17】 Embedded image

【0074】[0074]

【化18】 Embedded image

【0075】[0075]

【化19】 Embedded image

【0076】[0076]

【化20】 Embedded image

【0077】[0077]

【化21】 Embedded image

【0078】[0078]

【化22】 Embedded image

【0079】[0079]

【化23】 Embedded image

【0080】[0080]

【化24】 Embedded image

【0081】[0081]

【化25】 Embedded image

【0082】[0082]

【化26】 Embedded image

【0083】[0083]

【化27】 Embedded image

【0084】[0084]

【化28】 Embedded image

【0085】[0085]

【化29】 Embedded image

【0086】これらのゼラチン硬化剤は単独で用いても
併用してもよく、処理系に応じて任意の量で使用できる
が、好ましくは安定化処理液1リットル当たり10-5
1モル、更には10-4〜0.1モルである。
These gelatin hardeners may be used alone or in combination, and may be used in any amount depending on the processing system. However, it is preferably 10 -5 to 1 -5 per liter of the stabilized processing solution.
1 mol, and more preferably 10 -4 to 0.1 mol.

【0087】安定化処理液のpHは4〜9が好ましく、
pHを調整するためには、有機酸、無機酸及びそれらの
塩から選ばれる化合物やアルカリ剤(炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム等の炭酸塩;重炭酸ナトリウム等の重炭酸
塩;水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の金属水酸化
物;リン酸ナトリウム等のリン酸塩、等)が用いられ
る。その中でも有機酸及びその塩から選ばれる化合物を
用いることが好ましい。好ましい有機酸としては、酢
酸、クエン酸、酒石酸、りんご酸、琥珀酸等が挙げられ
る。酢酸、クエン酸、酒石酸、りんご酸、琥珀酸等の塩
としてはこれらのリチウム塩、カリウム塩、ナトリウム
塩、アンモニウム塩等、酒石酸の水素リチウム、水素カ
リウム、水素ナトリウム、水素アンモニウム、酒石酸の
アンモニウムカリウム、酒石酸のナトリウムカリウム等
を用いてもよい。更にこれらの光学異性体等が含まれ
る。これらの中でより好ましいものとしてはクエン酸、
イソクエン酸、りんご酸、琥珀酸及びこれらの塩であ
る。
The pH of the stabilizing solution is preferably 4 to 9,
In order to adjust the pH, a compound selected from an organic acid, an inorganic acid and a salt thereof and an alkali agent (a carbonate such as potassium carbonate and sodium carbonate; a bicarbonate such as sodium bicarbonate); Metal hydroxides such as sodium; phosphates such as sodium phosphate, etc.). Among them, it is preferable to use a compound selected from organic acids and salts thereof. Preferred organic acids include acetic acid, citric acid, tartaric acid, malic acid, succinic acid and the like. Examples of salts of acetic acid, citric acid, tartaric acid, malic acid, succinic acid and the like include lithium salts, potassium salts, sodium salts, and ammonium salts thereof, such as lithium hydrogen tartaric acid, potassium hydrogen, sodium hydrogen, ammonium hydrogen, and ammonium potassium tartaric acid. And sodium potassium tartaric acid may be used. Further, these optical isomers and the like are included. Among these, citric acid,
Isocitric acid, malic acid, succinic acid and salts thereof.

【0088】安定化処理液には、前記記載のもの以外
に、亜硫酸塩(亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム
等)、ハロゲン化物(塩化ナトリウム、臭化カリウム
等)、前記一般式(1)で表される化合物以外の含窒素
ヘテロ環化合物(1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾール、5−メチルベンゾトリアゾール、5−ニトロイ
ンダゾール等)や前記以外の硬膜剤(グルタルアルデヒ
ド、硫酸アルミニウム等)を含むことができる。
In addition to those described above, the stabilizing solution may be a sulfite (sodium sulfite, potassium sulfite, etc.), a halide (sodium chloride, potassium bromide, etc.), or represented by the general formula (1). It may contain a nitrogen-containing heterocyclic compound other than the compound (eg, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 5-methylbenzotriazole, 5-nitroindazole) and a hardener other than the above (eg, glutaraldehyde, aluminum sulfate). .

【0089】本発明においては、安定化処理液を補充し
ながら処理することが好ましいが、その補充量は環境上
及び経済上の観点から感光材料1m2当たり3リットル
以下であることが好ましい。補充された安定化処理液
は、一部は感光材料により乾燥等の次工程に持ち出され
るが、残りはオーバーフローする。
In the present invention, it is preferable to perform the processing while replenishing the stabilizing processing solution, but the replenishing amount is preferably 3 liters or less per m 2 of the photographic material from the viewpoints of environment and economy. A part of the replenished stabilizing solution is taken out to the next step such as drying by the photosensitive material, but the rest overflows.

【0090】本発明においては安定化処理液のオーバー
フローの一部又は全部が定着補充液に利用されることを
1つの特徴とする。安定化処理液のオーバーフローの一
部又は全部は、定着濃縮液の希釈や後述の固体定着補充
剤の溶解に使われる。安定化処理液のオーバーフローの
全部を使っても、これらの希釈や溶解に必要な水分量が
不足する場合は、更に水を補給しても良い。
One feature of the present invention is that part or all of the overflow of the stabilizing processing solution is used for the fixing replenisher. Part or all of the overflow of the stabilizing solution is used for diluting the fixing concentrate and dissolving the solid fixing replenisher described below. Even if all of the overflow of the stabilization treatment liquid is used, if the amount of water required for dilution or dissolution is insufficient, water may be further supplied.

【0091】《定着液》本発明においては、定着液に硬
膜剤として作用する水溶性アルミニウム塩が添加され
る。水溶性アルミニウム塩としては、例えば塩化アルミ
ニウム、硫酸アルミニウム、カリ明礬等を用いることが
好ましい。また他の硬膜作用を有する化合物、例えばア
ルデヒド化合物(グルタルアルデヒド、グルタルアルデ
ヒドの亜硫酸付加物等)等を加えることもできる。
<< Fixing Solution >> In the present invention, a water-soluble aluminum salt acting as a hardener is added to the fixing solution. As the water-soluble aluminum salt, it is preferable to use, for example, aluminum chloride, aluminum sulfate, potassium alum and the like. In addition, other compounds having a hardening action, for example, aldehyde compounds (glutaraldehyde, glutaraldehyde sulfite adducts, etc.) can also be added.

【0092】本発明においてより低い定着補充量で処理
を行うためには、定着補充液が固体処理剤から調製され
ることが好ましく、これは処理の迅速化にも有利であ
る。ここに固体処理剤とは、定着補充剤を構成する成分
が2種以上で成形された固体をいい、定着成分が全て含
有された1種の固体、又は固体が2種以上で定着成分を
構成できるものであっても良い。固体処理剤において
は、少なくとも2種以上の化合物から成形された固体が
少なくとも1種あればよく、成形された固体以外は単体
物質でも良い。好ましい固体処理剤としては、スプレー
ドライ製法で作成した粉末状のもの、フリーズドライ製
法や造粒により成形(押し出し造粒、流動槽造粒、転動
造粒)された顆粒状(平均粒径0.1mm〜10mm特
に前粒子の90%の粒子サイズが平均粒径の±40%以
内である)のもの、圧縮成形された錠剤状のものであ
る。特に好ましい形態は、顆粒及び錠剤状のものであ
る。固体処理剤には、結合剤及び滑沢剤等の成形に必要
な化合物を含んでも良い。
In order to carry out the processing with a lower fixing replenishing amount in the present invention, it is preferable that the fixing replenisher is prepared from a solid processing agent, which is also advantageous for speeding up the processing. Here, the solid processing agent refers to a solid formed of two or more components constituting the fixing replenisher. One solid containing all the fixing components, or two or more solids forming the fixing component. It may be something that can be done. In the solid processing agent, at least one type of solid formed from at least two or more compounds may be used, and a single substance other than the formed solid may be used. Preferable solid processing agents include powders prepared by spray-drying, granules formed by extrusion-drying or granulation (extrusion granulation, fluidized-bed granulation, tumbling granulation) (average particle size of 0). 0.1 mm to 10 mm, in particular, the particle size of 90% of the front particles is within ± 40% of the average particle size) and compression-molded tablets. Particularly preferred forms are granules and tablets. The solid processing agent may contain compounds necessary for molding such as a binder and a lubricant.

【0093】固体処理剤としては溶解時に処理剤成分が
粉として舞わないものが好ましく、そのためには下記一
般式(9)で表される化合物を滑沢剤として含む固体処
理剤が好ましい。
As the solid treating agent, those in which the treating agent component does not behave as a powder at the time of dissolution are preferable, and for that purpose, a solid treating agent containing a compound represented by the following general formula (9) as a lubricant is preferable.

【0094】[0094]

【化30】 Embedded image

【0095】〔式中、X、Yはハロゲン原子、水酸基、
スルホン酸基又はカルボキシル基を表し、R91、R92
水素原子又は水酸基を表す。nは3〜10の整数を表
す。〕 一般式(9)の好ましい構造としては下記一般式(9−
a)である。
Wherein X and Y are a halogen atom, a hydroxyl group,
It represents a sulfonic acid group or a carboxyl group, and R 91 and R 92 represent a hydrogen atom or a hydroxyl group. n represents an integer of 3 to 10. As a preferable structure of the general formula (9), the following general formula (9-
a).

【0096】[0096]

【化31】 Embedded image

【0097】以下に一般式(9−a)で表される化合物
の具体例を挙げるが、これらの化合物には構造異性体が
存在し、それらを含む。
Specific examples of the compound represented by the general formula (9-a) are shown below. These compounds have structural isomers and include them.

【0098】[0098]

【化32】 Embedded image

【0099】上記化合物のうち9−6の構造異性体のD
−マンニトール及びソルビトールが好ましい。添加量は
定着補充液1リットルに対して0.2〜50g程度とな
る量、好ましくは0.5〜20g、更には0.5〜10
gである。
Of the above compounds, the D of the 9-6 structural isomer
Mannitol and sorbitol are preferred. The addition amount is about 0.2 to 50 g, preferably 0.5 to 20 g, and more preferably 0.5 to 10 g per liter of the fixing replenisher.
g.

【0100】廃液量の低減のために、処理する感光材料
の面積に比例する一定量の定着補充を行いながら処理す
る。本発明において定着補充量は感光材料1m2当たり
260cc以下であるが、30〜250ccが好まし
く、より好ましくは30〜200ccである。定着補充
液は、自動現像機のタンク内の定着母液と同じ液でも、
異なった液や固体処理剤から調整された液でもよい。こ
こに言う補充量は、定着母液と同じ液で補充する場合の
それぞれの液の補充量であり、定着濃縮液を水で希釈し
た液で補充する場合の、それぞれの濃縮液と水の合計量
であり、固体定着補充剤を水で溶解した液で補充する場
合の、それぞれの固体処理剤容積と水の容積の合計量で
あり、又、固体定着補充剤と水を別々に補充する場合
の、それぞれの固体処理剤容積と水の容積の合計量であ
る。固体処理剤で補充する場合は、自動現像機の処理槽
に直接投入する固体処理剤の容積と、別に加える補充水
の容積を合計した量とすることが好ましい。
In order to reduce the amount of waste liquid, processing is performed while a fixed amount of fixing replenishment proportional to the area of the photosensitive material to be processed is performed. In the present invention, the fixing replenishment amount is 260 cc or less per 1 m 2 of the photosensitive material, but is preferably 30 to 250 cc, more preferably 30 to 200 cc. The fixing replenisher is the same as the fixing mother liquor in the tank of the automatic processor,
A liquid prepared from a different liquid or a solid processing agent may be used. The replenishment amount referred to here is the replenishment amount of each solution when replenishing with the same solution as the fixing mother liquor, and the total amount of each concentrated solution and water when replenishing the fixing concentrate with a solution diluted with water. In the case where the solid fixing replenisher is replenished with a solution dissolved in water, it is the total amount of each solid processing agent volume and the volume of water, and when the solid fixing replenisher and water are separately replenished. , The total volume of each solid treatment agent volume and water volume. When replenishing with a solid processing agent, the total volume of the volume of the solid processing agent directly charged into the processing tank of the automatic developing machine and the volume of the replenishing water to be separately added is preferably used.

【0101】《現像液》現像液には、通常、現像主薬
(ジヒドロキシベンゼン系化合物、アスコルビン酸系化
合物等)、保恒剤(亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウ
ム、亜硫酸アンモニウム等の亜硫酸塩;メタ重亜硫酸ナ
トリウム等のメタ重亜硫酸塩、等)アルカリ剤(水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム等)及びpH緩衝剤(例え
ば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸櫞酸、アル
カノールアミン等)が添加される。pH緩衝剤として炭
酸塩が好ましい。又、必要により溶解助剤(ポリエチレ
ングリコール類、それらのエステル、アルカノールアミ
ン等)、増感剤(ポリオキシエチレン類を含む非イオン
界面活性剤、四級アンモニウム化合物等)、界面活性
剤、消泡剤、カブリ防止剤(臭化カリウムや臭化ナトリ
ウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズインダゾール、
ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベン
ゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾール類等)、キ
レート化剤(エチレンジアミン四酢酸又はそのアルカリ
金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、現像促進
剤(米国特許第2,304,025号、特公昭47−4
5541号に記載の化合物等)、硬膜剤(グルタルアル
デヒド又は、その重亜硫酸塩付加物等)、或いは消泡剤
等を添加することができる。現像液のpHは8.5以上
11未満に調整されることが好ましく、更には、pH
9.0以上10.7以下である。
<< Developer >> A developer usually contains a developing agent (dihydroxybenzene compound, ascorbic acid compound, etc.), a preservative (sulfite such as sodium sulfite, potassium sulfite, ammonium sulfite, etc .; sodium metabisulfite) Meta-bisulfites, etc.), alkaline agents (sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) and pH buffers (eg carbonates, phosphates, borates, boric acid, acetic acid, citric acid, alkanolamines, etc.) Is done. Carbonates are preferred as pH buffers. If necessary, dissolution aids (polyethylene glycols, their esters, alkanolamines, etc.), sensitizers (nonionic surfactants including polyoxyethylenes, quaternary ammonium compounds, etc.), surfactants, defoaming Agents, antifoggants (halides such as potassium bromide and sodium bromide, nitrobenzindazole,
Nitrobenzimidazole, benzotriazole, benzothiazole, tetrazoles, thiazoles, etc., chelating agents (ethylenediaminetetraacetic acid or its alkali metal salts, nitrilotriacetates, polyphosphates, etc.), development accelerators (US Pat. No. 2) , 304,025, Tokiko 47-4
No. 5541), a hardener (glutaraldehyde or a bisulfite adduct thereof) or an antifoaming agent can be added. The pH of the developer is preferably adjusted to 8.5 or more and less than 11, and
It is 9.0 or more and 10.7 or less.

【0102】《自動現像機》本発明においては、自動現
像機を用いて処理する時に、感光材料の先端が自動現像
機に挿入されてから乾燥ゾーンから排出されるまでの全
処理時間(Dryto dry〜現像、定着、漂白、水
洗、安定化、乾燥等の工程を全て含んだ時間)が10〜
80秒、更には15〜60秒であることが、処理時間短
縮の要望に応えるうえで好ましい。全処理時間が10秒
未満になると減感や軟調化等で満足な写真性能が得られ
ないことがある。又、100m2以上の大量の感光材料
を安定にランニング処理するためには、現像時間は2〜
22秒であることが好ましい。
<< Automatic Developing Machine >> In the present invention, when processing is performed using an automatic developing machine, the entire processing time (Dryto dry) from the insertion of the leading end of the photosensitive material into the automatic developing machine to the discharge from the drying zone. ~ Time including all steps of development, fixing, bleaching, washing with water, stabilization, drying, etc.)
The time is preferably 80 seconds, more preferably 15 to 60 seconds, in order to meet the demand for shortening the processing time. If the total processing time is less than 10 seconds, satisfactory photographic performance may not be obtained due to desensitization or softening. In order to stably process a large amount of photosensitive material of 100 m 2 or more, the development time is 2 to 2.
Preferably, it is 22 seconds.

【0103】現像液、定着液、安定化液の温度は10〜
45℃が好ましく、それぞれが別々に温度調整されてい
てもよい。
The temperature of the developing solution, fixing solution and stabilizing solution is 10 to
45 ° C. is preferred, and each may be separately temperature-controlled.

【0104】本発明の効果を顕著に発現させるために、
60℃以上の伝熱体(60〜130℃のヒートローラ
等)或いは150℃以上の輻射物体(タングステン、炭
素、ニクロム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・
酸化トリウムの混合物、炭化ケイ素等に直接電流を通じ
て発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネルギーを
銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミック等の放射体
に伝達させたりして赤外線を放出するもの)で乾燥する
ゾーンを持つ自動現像機が好ましい。
In order to remarkably exert the effects of the present invention,
Heat transfer material at 60 ° C or higher (heat roller at 60 to 130 ° C) or radiant object at 150 ° C or higher (tungsten, carbon, nichrome, zirconium oxide, yttrium oxide,
Drying with a mixture of thorium oxide, silicon carbide, etc., which emits heat by direct current generation, or which transmits thermal energy from a resistance heating element to a radiator such as copper, stainless steel, nickel, various ceramics, etc. to emit infrared rays) An automatic developing machine having a zone in which it is formed is preferred.

【0105】前記ヒートローラは、アルミ製の中空ロー
ラの外周部がシリコンゴム、ポリウレタン又はテフロン
によって被覆されているものが好ましい。又ヒートロー
ラの両端部は、耐熱性樹脂(例えば商品名ルーロン)の
軸受けによって乾燥部の搬送口近傍内側に配設され、側
壁に回転自在に軸支されることが好ましい。更にヒート
ローラの一方の端部にはギアが固着されて、駆動手段及
び駆動伝達手段によって搬送方向に回転されることが好
ましい。ヒートローラのローラ内には自動現像機に配設
された温度コントローラに接続されたハロゲンヒータが
挿入されることが好ましい。
It is preferable that the heat roller has an aluminum hollow roller whose outer peripheral portion is covered with silicon rubber, polyurethane or Teflon. Both ends of the heat roller are preferably disposed inside the vicinity of the transport port of the drying unit by bearings made of a heat-resistant resin (for example, Lulon), and are rotatably supported on the side walls. Further, it is preferable that a gear is fixed to one end of the heat roller, and the heat roller is rotated in the transport direction by a drive unit and a drive transmission unit. It is preferable that a halogen heater connected to a temperature controller provided in the automatic developing machine be inserted into the roller of the heat roller.

【0106】その他、本発明においては下記に記載され
た方法や機構を採用する自動現像機を好ましく用いるこ
とができる。
In addition, in the present invention, an automatic developing machine employing the method and mechanism described below can be preferably used.

【0107】(1)脱臭装置:特開昭64−37560
号(2)頁左上欄〜(3)頁左上欄 (2)水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−2503
52号(3)頁「0011」〜(8)頁「0058」 (3)廃液処理方法:特開平2−64638号(2)頁
左下欄〜(5)頁左下欄 (4)現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31
3749号(18)頁「0054」〜(21)頁「00
65」 (5)水補充方法:特開平1−281446号(2)頁
左下欄〜右下欄 (6)外気の温度及び湿度を検出して自動現像機の乾燥
風を制御する方法:特開平1−315745号(2)頁
右下欄〜(7)頁右下欄、及び特開平2−108051
号(2)頁左下欄〜(3)頁左下欄 (7)定着廃液の銀回収方法:特開平6−27623号
(4)頁「0012」〜(7)頁「0071」。
(1) Deodorizing device: JP-A-64-37560
No. (2) upper left column to (3) upper left column (2) Washing water regenerating purifying agent and apparatus: JP-A-6-2503
No. 52, page 3 (0011) to (8), page 0058 (3) Waste liquid treatment method: JP-A-2-64638, lower left column of page (2) to lower left column of page (5) (4) developing bath and fixing Rinse bath during bath: JP-A-4-31
No. 3749, page 18 [0054] to page (21) [00]
65 "(5) Water replenishment method: JP-A-1-281446, page 2 (lower left column to lower right column on page 2) (6) Method of detecting dry air temperature and humidity to control drying air of automatic developing machine: No. 1-315745, lower right column of page (2) to lower right column of page (7), and JP-A-2-108051
No. (2) lower left column to (3) lower left column (7) Silver recovery method of fixing waste liquid: JP-A-6-27623, page (4), "0012" to page (7), "0071".

【0108】《感光材料》本発明において、処理される
感光材料は4級オニウム塩を含有するものであることが
より本発明の効果を発揮できる。用いる4級オニウム化
合物は、分子内に窒素原子又は燐原子の4級カチオン基
を有する化合物であり、好ましくは一般式(P)で表さ
れる化合物である。
<< Photosensitive Material >> In the present invention, the effect of the present invention can be more exhibited when the photosensitive material to be processed contains a quaternary onium salt. The quaternary onium compound to be used is a compound having a quaternary cation group of a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule, and is preferably a compound represented by the general formula (P).

【0109】[0109]

【化33】 Embedded image

【0110】式中、Qは窒素原子又は燐原子を表し、R
7、R8、R9及びR10は各々、水素原子又は置換基を表
し、X-はアニオンを表す。又、R7〜R10は互いに連結
して環を形成してもよい。
In the formula, Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom;
7 , R 8 , R 9 and R 10 each represent a hydrogen atom or a substituent, and X represents an anion. R 7 to R 10 may be linked to each other to form a ring.

【0111】R7〜R10で表される置換基としては、ア
ルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基
(アリル基、ブテニル基等)、アルキニル基(プロパル
ギル基、ブチニル基等)、アリール基(フェニル基、ナ
フチル基等)、複素環基(ピペリジニル基、ピペラジニ
ル基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニ
ル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル
基、スルホラニル基等)、アミノ基等が挙げられる。
Examples of the substituent represented by R 7 to R 10 include an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc.) and an alkenyl group (allyl group, butenyl group, etc.) , Alkynyl group (propargyl group, butynyl group, etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (piperidinyl group, piperazinyl group, morpholinyl group, pyridyl group, furyl group, thienyl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrofuryl group Thienyl group, sulfolanyl group, etc.), amino group and the like.

【0112】R7〜R10が互いに連結して形成しうる環
としては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダ
ゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げら
れる。
Examples of the ring which can be formed by connecting R 7 to R 10 to each other include a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring, a quinuclidine ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a triazole ring and a tetrazole ring. .

【0113】R7〜R10で表される基はヒドロキシル
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル
基、スルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有
してもよい。
The groups represented by R 7 to R 10 may have a substituent such as a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group and an aryl group.

【0114】R7、R8、R9及びR10としては、水素原
子及びアルキル基が好ましい。
R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are preferably a hydrogen atom and an alkyl group.

【0115】X-が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
[0115] X - include anions represented by the halogen ion, sulfate ion, nitrate ion, acetate ion, and inorganic and organic anions, such as p- toluenesulfonic acid ion.

【0116】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
More preferably, the following general formulas (Pa) and (P
b) or a compound represented by (Pc); and a compound represented by the following general formula [T].

【0117】[0117]

【化34】 Embedded image

【0118】式中、A1、A2、A3、A4及びA5は、含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4
びA5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、
イミダゾール、チオゾール、オキサゾール、ピラジン、
ピリミジン等の各環)を挙げることができ、更に好まし
い例としてピリジン環が挙げられる。
In the formula, A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 represent a group of nonmetal atoms for completing a nitrogen-containing heterocyclic ring, and may contain an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom. And the benzene ring may be condensed. A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5
May have a substituent and may be the same or different. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfo group, a carboxy group, a hydroxyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, amino group, sulfonamide group, sulfonyl group, cyano group, nitro group, mercapto group, alkylthio group and arylthio group. Preferred examples of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 include a 5- to 6-membered ring (pyridine,
Imidazole, thiozole, oxazole, pyrazine,
Each ring such as pyrimidine), and a more preferred example is a pyridine ring.

【0119】BPは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
BP represents a divalent linking group, and m represents 0 or 1
Represents Examples of the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, —SO 2 —, —SO—, and —O
—, —S—, —CO—, and —N (R 6 ) — (R 6 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom) alone or in combination. Preferred examples of B p include an alkylene group and an alkenylene group.

【0120】R1、R2及びR5は各々、炭素数1〜20
のアルキル基を表す。又、R1及びR2は同一でも異って
いてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換のアル
キル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、A4
びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。
R 1 , R 2 and R 5 each have 1 to 20 carbon atoms
Represents an alkyl group. R 1 and R 2 may be the same or different. The alkyl group represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and the substituent is the same as the substituents described as the substituents for A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 .

【0121】R1、R2及びR5の好ましい例としては、
それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に好ま
しい例としては、置換或いは無置換のアリール置換アル
キル基が挙げられる。
Preferred examples of R 1 , R 2 and R 5 include:
Each is an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. More preferred examples include a substituted or unsubstituted aryl-substituted alkyl group.

【0122】Xp -は分子全体の電荷を均衡さすに必要な
対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素
イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスルホ
ナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電荷
を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の場
合にはnpは0である。
[0122] X p - is a counter ion necessary to refer balancing the charge of the whole molecule, expressed as chlorine ion, bromine ion, iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p- toluenesulfonate, the oxalato or the like. n p represents the number of counter ions required to balance the charge of the whole molecule, and n p is 0 in the case of an internal salt.

【0123】[0123]

【化35】 Embedded image

【0124】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R11
12、R13は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負のものが好ましい。
The substituent R 11 of the phenyl group of the triphenyltetrazolium compound represented by the general formula [T],
R 12 and R 13 are preferably a hydrogen atom or a compound having a negative Hammett sigma value (σP) indicating the degree of electron withdrawing property.

【0125】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
The Hammett's sigma value for the phenyl group has been described in many literatures, for example, Journal of Medical Chemistry.
Chemistry) 20, vol. 304, p. As a group having a particularly preferable negative sigma value, for example, a methyl group ([sigma] P = -0.17 or less, and any group having a negative sigma value) can be seen in reports by C. Hansch et al.
P value), ethyl group (-0.15), cyclopropyl group (-0.21), n-propyl group (-0.13), is
o-propyl group (-0.15), cyclobutyl group (-
0.15), n-butyl group (-0.16), iso-butyl group (-0.20), n-pentyl group (-0.1
5), cyclohexyl group (-0.22), amino group (-
0.66), acetylamino group (-0.15), hydroxyl group (-0.37), methoxy group (-0.27),
Ethoxy group (-0.24), propoxy group (-0.2
5), butoxy group (-0.32), pentoxy group (-
0.34), etc., each of which has the general formula [T]
Is useful as a substituent of the compound of

【0126】nは1或いは2を表し、XT n-で表される
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
N represents 1 or 2, and examples of the anion represented by X T n- include halogen ions such as chloride ion, bromide ion and iodide ion, nitric acid, sulfuric acid, and the like.
Acid radicals of inorganic acids such as perchloric acid, acid radicals of organic acids such as sulfonic acid and carboxylic acid, anionic activators, specifically p-
Lower alkylbenzene sulfonic acid anions such as toluene sulfonic acid anion; higher alkyl benzene sulfonic acid anions such as p-dodecyl benzene sulfonic acid anion; higher alkyl sulfate anions such as lauryl sulfate anion; boric acid anions such as tetraphenyl boron; Dialkyl sulfosuccinate anions such as 2-ethylhexyl sulfosuccinate anion,
Examples thereof include higher fatty acid anions such as cetyl polyethenoxy sulfate anion, and polymers having an acid radical attached to a polymer such as polyacrylate anion.

【0127】以下、4級オニウム化合物の具体例を下記
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
Hereinafter, specific examples of the quaternary onium compound will be shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0128】[0128]

【化36】 Embedded image

【0129】[0129]

【化37】 Embedded image

【0130】[0130]

【化38】 Embedded image

【0131】[0131]

【化39】 Embedded image

【0132】[0132]

【化40】 Embedded image

【0133】[0133]

【化41】 Embedded image

【0134】[0134]

【化42】 Embedded image

【0135】[0135]

【化43】 Embedded image

【0136】[0136]

【化44】 Embedded image

【0137】[0137]

【化45】 Embedded image

【0138】上記4級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
は Chemical Reviews 55 p.3
35〜483に記載の方法を参考にできる。
The above quaternary onium compound can be easily synthesized according to a known method. For example, the above tetrazolium compound can be prepared according to Chemical Reviews 55 p. 3
35-483 can be referred to.

【0139】これら4級オニウム化合物は、単独で用い
ても2種以上を適宜併用して用いてもよく、ハロゲン化
銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好ましくは1
×10-7〜1×10-1モルで用いる。これらはハロゲン
化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感光材料中
に添加できる。また感光材料の構成層中のいかなる層に
添加してもよいが、好ましくはハロゲン化銀乳剤層を有
する側の構成層の少なくとも1層、更にはハロゲン化銀
乳剤層及び/又はその隣接層に添加する。
These quaternary onium compounds may be used alone or in an appropriate combination of two or more. About 1 × 10 -8 to 1 mol, preferably 1 to 10 mol, per mol of silver halide
It is used in an amount of × 10 -7 to 1 × 10 -1 mol. These can be added to the light-sensitive material at any time from the time of silver halide grain formation to the time of coating. It may be added to any of the constituent layers of the light-sensitive material, but is preferably added to at least one of the constituent layers on the side having the silver halide emulsion layer, further to the silver halide emulsion layer and / or a layer adjacent thereto. Added.

【0140】[0140]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0141】実施例1 《支持体の作成》 (シンジオタクチックポリスチレンの合成)トルエン2
00重量部にスチレンを100重量部、トリイソブチル
アルミニウム56g、ペンタメチルシクロペンタジエニ
ルチタントリメトキサイド234gを使用して96℃8
時間反応を行った。水酸化ナトリウムのメタノール溶液
で触媒を分解除去した後、メタノールで3回洗浄してシ
ンジオタクチックポリスチレン(SPS)を34重量部
得た。
Example 1 << Preparation of Support >> (Syndiotactic Polystyrene Synthesis) Toluene 2
100 parts by weight of styrene, 56 parts of triisobutylaluminum, 234 g of pentamethylcyclopentadienyltitanium trimethoxide at 96 ° C.
A time reaction was performed. After the catalyst was decomposed and removed with a methanol solution of sodium hydroxide, it was washed three times with methanol to obtain 34 parts by weight of syndiotactic polystyrene (SPS).

【0142】(SPSフィルムの作成)得られたSPS
を330℃でTダイからフィルム状に溶融押し出しをお
こない、冷却ドラム上で急冷固化して未遠心フィルムを
得た。このとき、冷却ドラムの引き取り速度を2段階で
おこない、厚さ1054μmの未延伸フィルムを135
℃で予熱し、縦延伸(3.1倍)した後、130℃で横
延伸(3.4倍)し、更に250℃で熱固定をおこなっ
た。その結果、支持体として曲げ弾性率450kg/m
2、厚さ100μmの2軸延伸フィルムを得た。
(Preparation of SPS Film) Obtained SPS
Was melt-extruded from a T-die at 330 ° C. into a film and quenched and solidified on a cooling drum to obtain an uncentrifuged film. At this time, the take-up speed of the cooling drum was performed in two stages, and the unstretched film having a thickness of
After preheating at ℃ and longitudinal stretching (3.1 times), transverse stretching at 130 ° C (3.4 times) and heat fixing at 250 ° C. As a result, the bending elastic modulus of the support was 450 kg / m.
A biaxially stretched film having a thickness of m 2 and a thickness of 100 μm was obtained.

【0143】(SPSフィルムの下塗り)上記SPSフ
ィルムの両面にシリカ蒸着した後に、スチレン−グリシ
ジルアクリレート及び酸化スズ微粒子を含む帯電防止加
工を施した下塗層を形成した。
(Undercoat of SPS Film) After silica was vapor-deposited on both sides of the SPS film, an undercoat layer containing styrene-glycidyl acrylate and tin oxide fine particles and subjected to antistatic treatment was formed.

【0144】《感光材料の作成》 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)同時混合法を用いて塩化
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05
μm、平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製
した。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀1モル当たり
8×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法
を用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モ
ル当たり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均
厚み0.10μm、平均直径0.25μmのコア/シェ
ル型単分散(変動係数10%)の(100)面を主平面
として有する塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃臭化銀
0.2モル%、残りは臭化銀からなる)平板粒子の乳剤
であった。ついで特開平2−280139号287
(3)頁に記載の変性ゼラチンG−8(ゼラチン中のア
ミノ基をフェニルカルバミルで置換したもの)を使い脱
塩した。
<< Preparation of Light-Sensitive Material >> (Preparation of Silver Halide Emulsion A) An average thickness of 70 mol% of silver chloride and the balance of silver bromide was 0.05 by a double jet method.
μm, silver chlorobromide core particles having an average diameter of 0.15 μm were prepared. At the time of mixing the core particles, K 3 RuCl 6 was added in an amount of 8 × 10 −8 mol per mol of silver. The core particles were shelled using a double jet method. At that time, 3 × 10 −7 mol of K 2 IrCl 6 was added per mol of silver. The obtained emulsion was silver / chloroiodobromide (90 mol% of silver chloride) having a core / shell type monodisperse (coefficient of variation: 10%) having a (100) plane as a main plane having an average thickness of 0.10 μm and an average diameter of 0.25 μm. , 0.2 mol% of silver iodobromide, the remainder being silver bromide). Then, JP-A-2-280139, 287
Desalting was performed using denatured gelatin G-8 (having the amino group in gelatin replaced with phenylcarbamyl) described on page (3).

【0145】脱塩後のEAgは50℃で190mVであ
った。得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸を
添加してpH5.6、EAg123mVに調整して、塩
化金酸を2×10-5モル添加した後に無機硫黄を3×1
-6モル添加して温度60℃で最高感度が出るまで化学
熟成を行った。
The EAg after desalting was 190 mV at 50 ° C. 4-hydroxy-6-methyl-
1,3,3a, 7-Tetrazaindene was added in an amount of 1 × 10 −3 mol per mol of silver, potassium bromide and citric acid were added to adjust the pH to 5.6 and the EAg to 123 mV. After adding 10-5 mol, 3 x 1 of inorganic sulfur was added.
0 -6 mol added to up sensitivity exits at temperature 60 ° C. chemically ripened.

【0146】熟成終了後、4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当た
り2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
After completion of ripening, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added in an amount of 2 × 10 -3 mol per mol of silver, and 1-phenyl-5-mercaptotetrazole was added in an amount of 3 × 10 3. -4 moles and gelatin were added.

【0147】(ハロゲン化銀乳剤Bの調製)同時混合法
を用いて塩化銀60モル%、沃化銀2.5モル%、残り
は臭化銀からなる平均厚み0.05μm、平均直径0.
15μmの塩沃臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混
合時にK3Rh(H2O)Br5を銀1モル当たり2×1
-8モル添加した。このコア粒子に同時混合法を用いて
シェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モル当たり
3×10-7モル添加した。
(Preparation of Silver Halide Emulsion B) Using a double jet method, 60 mol% of silver chloride and 2.5 mol% of silver iodide, and the balance consisting of silver bromide having an average thickness of 0.05 μm and an average diameter of 0.1 mol / m.
15 μm silver chloroiodobromide core grains were prepared. At the time of mixing the core particles, K 3 Rh (H 2 O) Br 5 was added in an amount of 2 × 1 per mole of silver.
0-8 moles were added. The core particles were shelled using a double jet method. At that time, 3 × 10 −7 mol of K 2 IrCl 6 was added per mol of silver.

【0148】得られた乳剤は平均厚み0.10μm、平
均直径0.42μmのコア/シェル型単分散(変動係数
10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃臭化銀
0.5モル%、残りは臭化銀からなる)平板状粒子乳剤
であった。次いで変性ゼラチンG−8(前出)を使い脱
塩した。脱塩後のEAgは50℃で180mVであっ
た。
The obtained emulsion was a core / shell type monodisperse (coefficient of variation: 10%) silver chloroiodobromide (90 mol% of silver chloride, silver iodobromide having an average thickness of 0.10 μm and an average diameter of 0.42 μm). 0.5 mol%, the balance consisting of silver bromide). Subsequently, desalting was performed using denatured gelatin G-8 (supra). The EAg after desalting was 180 mV at 50 ° C.

【0149】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpH5.6、EAg123mVに調整し
て、塩化金酸を2×10-5モル添加した後にN,N,
N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿素を
3×10-5モル添加して温度60℃で最高感度が出るま
で化学熟成を行った。
To the resulting emulsion, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added at 1 × 10 −3 mol per mol of silver, and potassium bromide and citric acid were further added. The pH was adjusted to 5.6 and the EAg to 123 mV, and 2 × 10 −5 mol of chloroauric acid was added.
N'-trimethyl-N'-heptafluoroselenourea was added in an amount of 3 × 10 -5 mol and chemically ripened at a temperature of 60 ° C. until the maximum sensitivity was obtained.

【0150】熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
After aging, 4-hydroxy-6-methyl-
1,3,3a, 7-Tetrazaindene was added in an amount of 2 × 10 −3 mol per mol of silver, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole was added in an amount of 3 × 10 −4 mol, and gelatin was added.

【0151】(He−Neレーザー及び赤色半導体レー
ザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光
材料の調製)上記の支持体の一方の下塗層上に、下記の
処方1のゼラチン下塗層をゼラチン量が0.5g/m2
になる様に、その上に下記処方2のハロゲン化銀乳剤層
1を銀量1.5g/m2、ゼラチン量が0.5g/m2
なる様に、更にその上層に中間保護層として下記処方3
の塗布液をゼラチン量が0.3g/m2になる様に、更
にその上層に処方4のハロゲン化銀乳剤層2を銀量1.
4g/m2、ゼラチン量が0.4g/m2になる様に、更
に下記処方5の塗布液をゼラチン量が0.6g/m2
なるよう同時重層塗布した。また反対側の下塗層上には
下記処方6のバッキング層をゼラチン量が0.6g/m
2になる様に、その上に下記処方7の疎水性ポリマー層
を、更にその上に下記処方8のバッキング保護層をゼラ
チン量が0.4g/m2になる様に乳剤層側と同時重層
塗布することで試料を得た。
(Preparation of a silver halide photographic light-sensitive material for a printing plate making scanner for a He-Ne laser and a red semiconductor laser light source) On one undercoat layer of the above support, a gelatin undercoat layer of the following formula 1 was coated. The amount of gelatin is 0.5 g / m 2
The silver halide emulsion layer 1 having the following formula 2 was further provided thereon with a silver content of 1.5 g / m 2 and a gelatin content of 0.5 g / m 2 as an intermediate protective layer. Formula 3 below
The coating solution as the amount of gelatin is 0.3 g / m 2, further amount of silver halide emulsion layers 2 formulations 4 thereon 1.
4g / m 2, as the amount of gelatin is 0.4 g / m 2, further amount of gelatin coating solution having the following formulation 5 is simultaneous multilayer coating so as to be 0.6 g / m 2. On the other side of the undercoat layer, a backing layer of the following formulation 6 was coated with a gelatin amount of 0.6 g / m 2.
2 , a hydrophobic polymer layer of the following formulation 7 was further formed thereon, and a backing protective layer of the following formulation 8 was further formed thereon at the same time as the emulsion layer side so that the amount of gelatin became 0.4 g / m 2. A sample was obtained by coating.

【0152】 処方1(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料AD−1の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 25mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 S−1(ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層1組成) ハロゲン化銀乳剤A 銀量1.5g/m2になる様に 染料AD−8の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 20mg/m2 シクロデキストリン(親水性ポリマー) 0.5g/m2 増感色素d−1 5mg/m2 増感色素d−2 5mg/m2 4級オニウム化合物:例示化合物P−20 30mg/2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 硬膜剤g 5mg/m2 S−1 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 エチレンジアミン4酢酸(EDTA) 30mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m 処方3(中間層組成) ゼラチン 0.3g/m レドックス化合物:RE−1 10mg/m2 S−1 2mg/m2 処方4(ハロゲン化銀乳剤層2組成) ハロゲン化銀乳剤B 銀量1.4g/m2になる様に 増感色素d−1 3mg/m2 増感色素d−2 3mg/m2 ヒドラジン誘導体:H−1 20mg/m2 造核促進剤Nb−1 40mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 20mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 S−1 1.7mg/m2 処方5(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 染料AD−5の固体分散体(平均粒径0.1μm) 40mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 造核促進剤Na−1 40mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 硬膜剤:K−1 30mg/m2 処方6(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m 化合物i 100mg/m2 処方7(疎水性ポリマー層組成) ラテックス(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方8(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 HO(CH2CH2O)68H 50mg/m2 硬膜剤:K−1 20mg/m Formulation 1 (Composition of gelatin undercoat layer) Gelatin 0.5 g / m 2 Solid dispersed fine particles of dye AD-1 (average particle size 0.1 μm) 25 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 10 mg / m 2 S-1 (Sodium-iso-amyl-n-decylsulfosuccinate) 0.4 mg / m 2 Prescription 2 (composition of silver halide emulsion layer 1) Silver halide emulsion A Dye AD so that the silver amount becomes 1.5 g / m 2 -8 solid dispersion fine particles (average particle size: 0.1 μm) 20 mg / m 2 cyclodextrin (hydrophilic polymer) 0.5 g / m 2 sensitizing dye d-1 5 mg / m 2 sensitizing dye d-2 5 mg / m 2 quaternary onium compound: exemplified compound P-20 30 mg / 2 compound e 100 mg / m 2 latex polymer f 0.5 g / m 2 hardener g 5mg / m 2 S-1 0.7mg / m 2 2- mercapto - - hydroxy purine 5 mg / m 2 ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) 30 mg / m 2 Colloidal silica (average particle size 0.05 .mu.m) 10 mg / m 2 Formulation 3 (intermediate layer composition) Gelatin 0.3 g / m 2 Redox compound: RE- 1 10mg / m 2 S-1 2mg / m 2 formulation 4 (silver halide emulsion layer 2 composition) silver halide emulsion B silver amount 1.4 g / sensitizing dyes which become m 2 d-1 3mg / m 2 Sensitizing dye d-2 3 mg / m 2 hydrazine derivative: H-1 20 mg / m 2 Nucleation promoter Nb-1 40 mg / m 2 2-mercapto-6-hydroxypurine 5 mg / m 2 EDTA 20 mg / m 2 latex polymer f 0.5 g / m 2 S-1 1.7 mg / m 2 Formulation 5 (Emulsion protective layer composition) Gelatin 0.6 g / m 2 Solid dispersion of dye AD-5 (average particle size 0.1 μm) 40 m g / m 2 S-1 12 mg / m 2 Matting agent: monodisperse silica having an average particle size of 3.5 μm 25 mg / m 2 nucleation promoting agent Na-1 40 mg / m 2 1,3-vinylsulfonyl-2-propanol 40 mg / m 2 surfactant h 1 mg / m 2 colloidal silica (average particle size 0.05 .mu.m) 10 mg / m 2 hardener: K-1 30 mg / m 2 formulation 6 (backing layer composition) gelatin 0.6 g / m 2 S-1 5 mg / m 2 latex polymer f 0.3 g / m 2 colloidal silica (average particle size 0.05 μm) 70 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 20 mg / m 2 Compound i 100 mg / m 2 Formulation 7 (hydrophobic polymer Layer composition) Latex (methyl methacrylate: acrylic acid = 97: 3) 1.0 g / m 2 Hardener g 6 mg / m 2 Formulation 8 (backing protective layer) Gelatin 0.4 g / m 2 matting agent: monodispersed polymethyl methacrylate having an average particle size of 5 μm 50 mg / m 2 sodium-di- (2-ethylhexyl) -sulfosuccinate 10 mg / m 2 surfactant h 1 mg / m 2 dye k 20 mg / m 2 HO (CH 2 CH 2 O) 68 H 50 mg / m 2 Hardener: K-1 20 mg / m 2

【0153】[0153]

【化46】 Embedded image

【0154】[0154]

【化47】 Embedded image

【0155】[0155]

【化48】 Embedded image

【0156】[0156]

【化49】 Embedded image

【0157】なお塗布乾燥後のバッキング側の表面比抵
抗値は23℃、20%RHで6×1011で、乳剤側の
表面の膜面pHは5.5、膨潤度は175であった。
[0157] Note that the surface resistivity of the backing side after coating and drying is 23 ° C., at 6 × 10 11 in 20% RH, the film surface pH of the surface of the emulsion side is 5.5, the degree of swelling was 175.

【0158】《処理剤の作製》 (処理液処方) (1)現像開始液(使用液1リットル分) 生分解性キレート剤:Ch 5g ジエチレントリアミン4酢酸(DTPA)・5Na塩 10.35g 亜硫酸ナトリウム 61g 亜硫酸カリウム 3.8g 臭化カリウム 1.9g 炭酸カリウム 53.3g ジエチレングリコール 38g 8−メルカプトアデニン 0.2g ハイドロキノン 22.8g エリソルビン酸ナトリウム 2g ベンゾトリアゾール 0.25g 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4 −メチル−3−ピラゾリドン(ジメゾンS) 1.25g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.08g 水酸化カリウム 7.4g 水を加えて 1リットル pHを調整して 10.6<< Preparation of Processing Agent >> (Preparation of Processing Solution) (1) Development Initiation Solution (1 L of Used Solution) Biodegradable chelating agent: Ch 5 g Diethylenetriaminetetraacetic acid (DTPA) .5Na salt 10.35 g Sodium sulfite 61 g Potassium sulfite 3.8 g Potassium bromide 1.9 g Potassium carbonate 53.3 g Diethylene glycol 38 g 8-mercaptoadenine 0.2 g Hydroquinone 22.8 g Sodium erythorbate 2 g Benzotriazole 0.25 g 1-phenyl-4-hydroxymethyl-4-methyl -3-pyrazolidone (dimesone S) 1.25 g 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 0.08 g potassium hydroxide 7.4 g 1 liter by adding water 10.6 after pH adjustment

【0159】[0159]

【化50】 Embedded image

【0160】 (2)現像錠剤の作成 〈造粒Aパーツの作成〉(使用液1リットル分) 生分解性キレート剤:Ch 5g DTPA・5Na塩 10.35g 亜硫酸ナトリウム 61g 亜硫酸カリウム 3.8g 炭酸カリウム 53.3g D−マンニトール(商品名:花王社製) 5g 〈造粒Bパーツの作成〉(使用液1リットル分) 臭化カリウム 1.9g 8−メルカプトアデニン 0.2g ハイドロキノン 22.8g エリソルビン酸ナトリウム 2g ベンゾトリアゾール 0.25g ジメゾンS 1.25g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.08g 化合物TO−1 0.2g D−ソルビトール 5g 1−オクタンスルホン酸ナトリウム 2g pHを調整すると 10.6 上記造粒Aパーツの素材及び造粒Bパーツの素材をそれ
ぞれ市販のバンダムミル中で30分間混合し、更に市販
の撹拌造粒機にて室温で10分間造粒した後、造粒物を
流動槽乾燥機にて40℃、2時間乾燥し造粒Aパーツ及
び造粒Bパーツを得た。
(2) Preparation of Developing Tablet <Preparation of Granulation A Parts> (for 1 liter of liquid used) Biodegradable chelating agent: Ch 5 g DTPA / 5Na salt 10.35 g Sodium sulfite 61 g Potassium sulfite 3.8 g Potassium carbonate 53.3 g D-mannitol (trade name: manufactured by Kao Corporation) 5 g <Preparation of granulation B parts> (for 1 liter of used solution) Potassium bromide 1.9 g 8-Mercaptoadenine 0.2 g Hydroquinone 22.8 g Sodium erythorbate 2g Benzotriazole 0.25g Dimezone S 1.25g 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 0.08g Compound TO-1 0.2g D-sorbitol 5g 1-Sodium 1-octanesulfonate 2g When pH is adjusted 10.6 The above granulation A part material and granulation B part material After mixing for 30 minutes in a commercial bandam mill and further granulating for 10 minutes at room temperature with a commercially available stirring granulator, the granulated product is dried at 40 ° C. for 2 hours in a fluidized-bed dryer, and granulated A parts and Granulated B parts were obtained.

【0161】上記のAパーツとBパーツを10分間完全
混合し、得られた混合物をマシーナUD・DFE30・
40打錠装置(マシーナ(株)製)を用い、1.5トン
/m2の圧縮打錠により直径30mm、厚さ10mmの
錠剤10個を得た。
The above A parts and B parts were thoroughly mixed for 10 minutes, and the resulting mixture was mixed with a machine UDN DFE30.
Using a 40 tablet press (manufactured by Masina Co., Ltd.), 10 tablets having a diameter of 30 mm and a thickness of 10 mm were obtained by compression tableting at 1.5 ton / m 2 .

【0162】尚、使用する際は該錠剤10個を容量が1
リットルになるよう純水に溶解して用い、使用液のpH
は調整した。
When used, 10 tablets were prepared with a capacity of 1
Dissolve in pure water to make liters
Was adjusted.

【0163】 (3)定着開始液(使用液1リットル分) 純水 120ml チオ硫酸アンモニウム(70%Na塩:ヘキスト社製) 260g 亜硫酸ナトリウム 22g 硼酸 10g 酒石酸 3g 酢酸ナトリウム・3水塩 32g 酢酸(90%水溶液) 16.5g 硫酸アルミニウム・18水塩 18g 50%硫酸水溶液及び純水を用い400mlに仕上げ
る。尚、使用する際は純水600mlと上記濃厚液40
0mlとを混合して用いる。使用時のpHは4.7であ
る。
(3) Fixing start solution (for 1 liter of used solution) Pure water 120 ml Ammonium thiosulfate (70% Na salt: manufactured by Hoechst) 260 g Sodium sulfite 22 g Boric acid 10 g Tartaric acid 3 g Sodium acetate trihydrate 32 g Acetic acid (90% Aqueous solution) 16.5 g Aluminum sulfate / 18-hydrate 18 g Finished to 400 ml using 50% sulfuric acid aqueous solution and pure water. When used, 600 ml of pure water and the above concentrated liquid 40
And 0 ml. The pH at the time of use is 4.7.

【0164】 (4)定着補充錠剤の作成 〈造粒Aパーツの作成〉(使用液1リットル分) チオ硫酸アンモニウム 183g 重亜硫酸ナトリウム 10g 酢酸ナトリウム 40g イソエリートP(塩水港精糖) 5g パインフロー(商品名:松谷化学社製) 8g 〈造粒Bパーツの作成〉(使用液1リットル分) ほう酸 10g 酒石酸 3g 硫酸水素ナトリウム 18g 硫酸アルミニウム・12水塩 37g パインフロー(商品名:松谷化学社製) 4g 上記造粒Aパーツの素材及び造粒Bパーツの素材をそれ
ぞれ市販のバンダムミル中で30分間混合し、更に市販
の撹拌造粒機にて室温で10分間造粒した後、造粒物を
流動槽乾燥機にて40℃、2時間乾燥し造粒Aパーツ及
び造粒Bパーツを得た。
(4) Preparation of Fixing Replenishment Tablet <Preparation of Granulation A Parts> (for 1 liter of liquid used) Ammonium thiosulfate 183 g Sodium bisulfite 10 g Sodium acetate 40 g Isoelite P (brine port refined sugar) 5 g Pine flow (trade name) 8g <Preparation of granulation B parts> (1 liter of liquid used) 10 g of boric acid 3 g of tartaric acid 18 g of sodium hydrogen sulfate 18 g of aluminum sulfate 12 hydrate 37 g Pine flow (trade name: manufactured by Matsutani Chemical Co.) 4 g The material of the granulation A part and the material of the granulation B part are mixed in a commercially available bandam mill for 30 minutes, and granulated at room temperature for 10 minutes with a commercially available stirring granulator. The mixture was dried at 40 ° C. for 2 hours to obtain a granulated A part and a granulated B part.

【0165】上記AパーツとBパーツを10分間完全に
混合し、得られた混合物をマシーナUD・DFE30・
40打錠装置(マシーナ(株)製)を用い、1錠当たり
11.0gの充填量にして1.5トン/m2の圧縮打錠
により直径30mm、厚さ10mmの錠剤25個を得
た。
The above A parts and B parts were thoroughly mixed for 10 minutes, and the obtained mixture was used in a machine UD · DFE30 ·
Using a 40 tableting machine (manufactured by Masina Co., Ltd.), 25 tablets having a diameter of 30 mm and a thickness of 10 mm were obtained by compressing tablets at a filling amount of 11.0 g per tablet and 1.5 ton / m 2 . .

【0166】尚、使用する際は該錠剤25個を容量が1
リットルになるよう安定化処理液のオーバーフロー及び
水で溶解して用い、使用液のpHは調整した。溶解後の
使用時のpHは4.7であった。
When used, 25 tablets were prepared with a capacity of 1
The solution used was dissolved in water and overflowed with a stabilizing treatment solution so that the volume became 1 liter, and the pH of the working solution was adjusted. The pH at the time of use after dissolution was 4.7.

【0167】 (5)安定化処理液(使用液1リットル分) 本発明に係るキレート剤 表1に示す 亜硫酸カリウム 30g 8−メルカプトアデニン 0.1g 化合物K−1 5g クエン酸 10g 硫酸を加えて使用時のpHを4.8にし、水を加えて全
量を1リットルにして使用する。
(5) Stabilization treatment solution (1 liter of working solution) Chelating agent according to the present invention Potassium sulfite shown in Table 1 30 g 8-mercaptoadenine 0.1 g Compound K-1 5 g Citric acid 10 g Used by adding sulfuric acid Adjust the pH to 4.8 and add water to make the total volume 1 liter.

【0168】《自動現像機》コニカ(株)製GR−26
SRの水洗方式を3段向流方式に改造したものを用い、
水洗に代えて安定化処理を行い、定着槽に一番近い処理
槽からオーバーフローする安定化処理液を固体定着補充
剤の希釈に用いるものとする。希釈に不足する水は水道
水を用いた。
<< Automatic developing machine >> GR-26 manufactured by Konica Corporation
Using the SR washing system modified to a three-stage countercurrent system,
A stabilizing process is performed instead of washing with water, and a stabilizing processing solution overflowing from the processing tank closest to the fixing tank is used for diluting the solid fixing replenisher. Tap water was used as the water short for dilution.

【0169】なおこの自動現像機の乾燥ゾーンには遠赤
外線ヒーターを有し、処理液が蒸発しにくいよう処理槽
の液表面の全体を覆うカバーを有している。
The drying zone of the automatic developing machine has a far-infrared heater and a cover for covering the entire surface of the processing tank so that the processing liquid is difficult to evaporate.

【0170】 《処理条件》 温 度 時 間 補 充 量 現 像 38℃ 12秒 130cc/m2 定 着 38℃ 8秒 130cc/m2 安 定 38℃ 10秒 300cc/m2 スクイズ 2秒 乾 燥 40℃ 10秒 合計 42秒 ラインスピード(搬送速度) 3300mm/分 又、定着廃液は特開平6−27623号の実施例1に記
載の銀回収装置を用いて銀回収を行い、処理後の液を再
度定着槽に戻しながら処理を行った。
<< Treatment Conditions >> Temperature Time Refill Amount Image 38 ° C. 12 seconds 130 cc / m 2 Fixed 38 ° C. 8 seconds 130 cc / m 2 Stable 38 ° C. 10 seconds 300 cc / m 2 Squeeze 2 seconds Drying 40 10 seconds in total 42 seconds Line speed (conveyance speed) 3300 mm / min In addition, the fixing waste liquid is subjected to silver recovery by using a silver recovery apparatus described in Example 1 of JP-A-6-27623, and the processed liquid is reused. The processing was performed while returning to the fixing tank.

【0171】《評価》得られた感光材料試料を裁断し、
感光材料の黒化率が50%となる様に未露光試料と全面
露光試料を1枚ずつ交互に100m2連続処理した。
<< Evaluation >> The obtained photosensitive material sample was cut,
Unexposed samples and full-surface exposed samples were alternately and continuously processed 100 m 2 one by one so that the blackening ratio of the photosensitive material became 50%.

【0172】(定着液の沈殿)連続処理後、定着槽中の
沈殿について目視で観察した。沈殿の発生の見られない
ものを5として、濁りの度合いに応じて5段階で評価し
た。
(Precipitation of Fixing Solution) After the continuous treatment, the precipitation in the fixing tank was visually observed. Assuming that no generation of precipitation was observed as 5, the evaluation was made in five steps according to the degree of turbidity.

【0173】(画像保存性)連続処理後、太陽光下で3
0秒間放置した試料を処理し、50℃、80%RHの条
件で2日間保存して最高濃度の低下で評価した。
(Image preservability) After continuous processing, 3
The sample left for 0 second was processed, stored at 50 ° C. and 80% RH for 2 days, and evaluated by the decrease in the maximum concentration.

【0174】(残色)連続処理後、上記と同様に露光し
た試料を、自動現像機のラインスピードを4620mm
/分として全処理時間を30秒にして処理し、60℃、
80%RHで1時間保存してから、着色について目視で
観察した。全く着色の無いものを5として、着色の度合
いに応じて5段階で評価した。
(Residual color) After continuous processing, the sample exposed in the same manner as described above was treated with an automatic processor at a line speed of 4620 mm.
/ Min, the total processing time is 30 seconds,
After storing at 80% RH for 1 hour, the color was visually observed. Assuming that there was no coloring at 5, the evaluation was made in five steps according to the degree of coloring.

【0175】以上の結果を表1に示す。Table 1 shows the above results.

【0176】[0176]

【表1】 [Table 1]

【0177】実施例2 ハロゲン化銀乳剤層1組成における4級オニウム化合物
をP−27に代え、安定化処理液組成を下記の如くした
以外は実施例1と同様にして評価を行った。
Example 2 Evaluation was carried out in the same manner as in Example 1 except that the quaternary onium compound in the composition of the silver halide emulsion layer 1 was changed to P-27 and the composition of the stabilizing solution was as described below.

【0178】 本発明に係るゼラチン硬化剤 表2に示す 亜硫酸カリウム 20g 8−メルカプトアデニン 0.1g 化合物K−1 5g リンゴ酸 10g 硫酸を加えて使用時のpHを5.2にし、水を加えて全
量を1リットルにして使用する。
Gelatin hardener according to the present invention Potassium sulfite shown in Table 2 20 g 8-mercaptoadenine 0.1 g Compound K-1 5 g Malic acid 10 g Sulfuric acid was added to adjust the pH at the time of use to 5.2, and water was added. Use the whole volume in 1 liter.

【0179】結果を表2に示す。Table 2 shows the results.

【0180】[0180]

【表2】 [Table 2]

【0181】《明室返し用ハロゲン化銀写真感光材料試
料の調製》同時混合法を用いて塩化銀含有率99モル
%、臭化銀含有率1モル%の平均粒径0.15μmの単
分散、立方晶の塩臭化銀粒子を調製した。混合時にK3
Rh(H2O)Br5を銀1モル当たり7×10-5モル添
加した。また常法による可溶性塩類を除去する脱塩工程
の前に4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7
−テトラザインデン(TAI)を銀1モル当たり0.6
g添加した(以下、特に記載がない場合は、銀1モル当
たりの量とする)。
<< Preparation of Silver Halide Photographic Material Sample for Turning Back Light Room >> Monodispersion having a silver chloride content of 99 mol% and a silver bromide content of 1 mol% having an average particle size of 0.15 μm by a double jet method. And cubic silver chlorobromide particles were prepared. K 3 when mixing
Rh (H 2 O) Br 5 was added in an amount of 7 × 10 −5 mol per mol of silver. Prior to the desalting step of removing soluble salts by a conventional method, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7
-Tetrazaindene (TAI) at 0.6 / mol silver
g (hereinafter referred to as an amount per mole of silver unless otherwise specified).

【0182】この乳剤を60℃に昇温し、TAIを60
mg、チオ硫酸ナトリウム0.75mgを添加し、TA
Iを添加してから60分後に更にTAIを600mg添
加し温度を下げてセットさせた。
The temperature of this emulsion was raised to 60 ° C.
mg and 0.75 mg of sodium thiosulfate were added.
60 minutes after adding I, 600 mg of TAI was further added and the temperature was lowered and set.

【0183】ついで添加物を1m2当たり以下の量にな
るように加えて塗布液を調製し、実施例1の下塗り済み
SPS支持体の一方の面上に、順次下記の乳剤層塗布
液、保護層下層液を、反対側の面上に下記のバッキング
塗布液をそれぞれ同時塗布した。
Then, a coating solution was prepared by adding an additive so as to be in the following amount per 1 m 2, and the following emulsion layer coating solution and protective solution were sequentially coated on one surface of the subbed SPS support of Example 1. The lower layer liquid was simultaneously coated with the following backing coating liquid on the opposite surface.

【0184】 〈乳剤塗布液〉 NaOH0.5N溶液 4.39ml/m2 化合物 イ 6.53mg/m2 4級オニウム化合物:T−7 30mg/m2 キラヤサポニン 107mg/m2 化合物 ロ 18.5mg/m2 化合物 ハ 9.8mg/m2 ゼラチンラテックス 480mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 52.2mg/m2 コロイダルシリカ 20mg/m2 〈保護層下層液〉 ゼラチン 0.5g/m2 染料 ニ の固体分散体(平均粒径0.1μm) 62.0mg/m2 クエン酸 4.1mg/m2 ホルマリン 1.2mg/m2 硬膜剤:K−1 0.6mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 11.0mg/m2 〈保護層上層液〉 ゼラチン 0.3g/m2 化合物 ホ 18.0mg/m2 染料 ニ 48.4mg/m2 化合物 ヘ 105.0mg/m2 化合物 ト 1.25mg/m2 不定形シリカ(平均粒径1.63μm) 15.0mg/m2 不定形シリカ(平均粒径3.5μm) 21.0mg/m2 クエン酸 4.5mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 11.0mg/m インライン添加で硬膜剤レ 10mg/m
2 〈バッキング塗布液〉 化合物 チ 170mg/m2 染料 ニ 30mg/m2 化合物 リ 45mg/m2 化合物 ヌ 10mg/m2 キラヤサポニン 111mg/m2 化合物 ル 200mg/m2 コロイダルシリカ 200mg/m2 化合物 オ 35mg/m2 化合物 ワ 31mg/m2 化合物 カ 3.1mg/m2 ポリメチルメタアクリレート酸ポリマー(平均粒径5.6μm) 28.9mg/m2 グリオキザール 10.1mg/m2 クエン酸 9.3mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 71.1mg/m2 インラインで以下のものを添加 化合物 ヨ 81mg/m2 化合物 タ 88.2mg/m2 酢酸カルシウム 3.0mg/m2 硬膜剤:K−1 10mg/m
[0184] <Emulsion Coating Solution> NaOH0.5N solution 4.39 ml / m 2 Compound i 6.53mg / m 2 4 quaternary onium compound: T-7 30mg / m 2 Quillaja saponin 107 mg / m 2 Compound B 18.5 mg / m 2 compound c 9.8 mg / m 2 of gelatin latex 480 mg / m 2 sodium polystyrenesulfonate 52.2 mg / m 2 colloidal silica 20 mg / m 2 <protective layer infranate> gelatin 0.5 g / m 2 dye two solid dispersion body (average particle size 0.1μm) 62.0mg / m 2 citric acid 4.1 mg / m 2 formalin 1.2 mg / m 2 hardener: K-1 0.6mg / m 2 sodium polystyrene sulfonate 11.0mg / m 2 <upper protective layer solution> gelatin 0.3 g / m 2 compound e 18.0 mg / m 2 dye d 48.4 mg / m 2 compound f 105.0 g / m 2 Compound DOO 1.25 mg / m 2 amorphous silica (average particle size 1.63μm) 15.0mg / m 2 amorphous silica (average particle size 3.5μm) 21.0mg / m 2 Citric acid 4. 5 mg / m 2 sodium polystyrenesulfonate 11.0 mg / m 2 inline added hardener les 10 mg / m
2 <Backing Coating Solution> compound Chi 170 mg / m 2 Dye D 30 mg / m 2 Compound Li 45 mg / m 2 Compound j 10 mg / m 2 Quillaja saponin 111 mg / m 2 Compound le 200 mg / m 2 Colloidal silica 200 mg / m 2 Compound O 35 mg / m 2 compound follower 31 mg / m 2 compound Ca 3.1 mg / m 2 of polymethyl methacrylate acid polymer (average particle size 5.6μm) 28.9mg / m 2 glyoxal 10.1 mg / m 2 citric acid 9.3mg / m 2 of sodium polystyrenesulfonate 71.1 mg / m 2 additive compound the following in-line Yo 81 mg / m 2 compound data 88.2Mg / m 2 of calcium acetate 3.0 mg / m 2 hardener: K-1 10 mg / M 2

【0185】[0185]

【化51】 Embedded image

【0186】[0186]

【化52】 Embedded image

【0187】[0187]

【化53】 Embedded image

【0188】但し、塗布量は乳剤層の銀量が2.0g/
でゼラチン量が1.2g/m2、バッキング層のゼ
ラチン量が2.1g/m2になるよう均一塗布した。
The coating amount was 2.0 g / silver in the emulsion layer.
gelatin amount 1.2 g / m 2 m 2, and the amount of gelatin backing layer is uniformly coated so as to be 2.1 g / m 2.

【0189】《処理剤処方》 (6)現像錠剤の作成 〈造粒Aパーツの作成〉(使用液1リットル分) 生分解性キレート剤:Ch 8g 炭酸カリウム 33g D−マンニトール(商品名:花王社製) 5g 〈造粒Bパーツの作成〉(使用液1リットル分) 亜硫酸ナトリウム 16g 臭化カリウム 2.5g 炭酸水素カリウム 65g 8−メルカプトアデニン 0.15g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.5g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g ジメゾンS 2.7g エリソルビン酸ナトリウム 70g D−ソルビトール 5g 1−オクタンスルホン酸ナトリウム 2g 使用液にした場合のpH 9.7 上記Aパーツ用素材及びBパーツ用素材を、それぞれ市
販のバンダムミル中で30分間混合し、更に市販の撹拌
造粒機にて室温で10分間造粒した後、造粒物を流動槽
乾燥機にて40℃、2時間乾燥し造粒Aパーツ及び造粒
Bパーツを得た。
<< Preparation of Processing Agent >> (6) Preparation of Developing Tablet <Preparation of Granulation A Parts> (for 1 liter of liquid used) Biodegradable chelating agent: Ch 8 g Potassium carbonate 33 g D-mannitol (trade name: Kaosha) 5 g <Preparation of granulation B parts> (for 1 liter of liquid used) Sodium sulfite 16 g Potassium bromide 2.5 g Potassium hydrogen carbonate 65 g 8-mercaptoadenine 0.15 g 5-methylbenzotriazole 0.5 g 1-phenyl- 5-mercaptotetrazole 0.02 g Dimezone S 2.7 g Sodium erythorbate 70 g D-sorbitol 5 g 1-sodium octanesulfonate 2 g pH 9.7 when used as a working solution The above materials for parts A and B were respectively used. Mix in a commercially available bandam mill for 30 minutes, and then use a commercially available stirring granulator. After granulating for 10 minutes at temperature, 40 ° C. The granulation in a fluidized bath dryer, and dried for 2 hours to obtain a granulated A part and granulation B part.

【0190】上記のAパーツとBパーツを10分間完全
混合し、得られた混合物をマシーナUD・DFE30・
40打錠装置(マシーナ(株)製)を用い、1錠当たり
充填量21.0gにして1.5トン/m2の圧縮打錠に
より直径30mm、厚さ10mmの錠剤10個を得た。
The above parts A and B are thoroughly mixed for 10 minutes, and the resulting mixture is extracted from a machine UDN DFE30.
Using a 40 tableting machine (manufactured by Masina Co., Ltd.), 10 tablets having a diameter of 30 mm and a thickness of 10 mm were obtained by compression tableting at 1.5 ton / m 2 with a filling amount of 21.0 g per tablet.

【0191】尚、開始液は該錠剤10個を容量が1リッ
トルになるよう純水に溶解して、pHを調整して用い
た。
The starting solution was prepared by dissolving 10 tablets in pure water so as to have a volume of 1 liter and adjusting the pH.

【0192】(7)定着 実施例1と同じものを用いて処理した。(7) Fixing Processing was carried out using the same one as in Example 1.

【0193】 (8)安定化処理液(使用液1リットル分) 本発明に係る一般式(1)で表される化合物 表3に示す 亜硫酸カリウム 20g 化合物K−1 5g クエン酸 10g 硫酸を加えて使用時のpHを5.1にし、水を加えて全
量を1リットルにして使用する。
(8) Stabilization treatment solution (1 liter of use solution) Compound represented by general formula (1) according to the present invention Potassium sulfite 20 g shown in Table 3 Compound K-1 5 g Citric acid 10 g Add sulfuric acid Adjust the pH at the time of use to 5.1, add water to make the total volume 1 liter, and use.

【0194】《評価》実施例1と同様にして現像処理し
て評価した。結果を表3に示す。
<< Evaluation >> Development was performed in the same manner as in Example 1, and the evaluation was performed. Table 3 shows the results.

【0195】[0195]

【表3】 [Table 3]

【0196】実施例4 ハロゲン化銀乳剤層1組成の4級オニウム化合物をT−
6に代え、安定化処理液を下記組成にした以外は、実施
例3と同様にして現像処理し、評価した。
Example 4 A quaternary onium compound having a silver halide emulsion layer 1 composition was prepared using T-
The development processing was carried out in the same manner as in Example 3 except that the stabilizing processing solution was changed to the following composition in place of 6, and evaluated.

【0197】 (9)安定化処理液(使用液1リットル分) 本発明に係る防黴剤 表4に示す 亜硫酸カリウム 20g 8−メルカプトアデニン 0.1g 化合物K−1 5g リンゴ酸 15g 硫酸を加えて使用時のpHを4.9にし、水を加えて全
量を1リットルにして使用する。
(9) Stabilizing solution (for 1 liter of used solution) Antifungal agent according to the present invention Potassium sulfite shown in Table 4 20 g 8-mercaptoadenine 0.1 g Compound K-1 5 g Malic acid 15 g Add sulfuric acid Adjust the pH to 4.9 when used, add water to make the total volume 1 liter, and use.

【0198】結果を表4に示す。The results are shown in Table 4.

【0199】[0199]

【表4】 [Table 4]

【0200】[0200]

【発明の効果】本発明によれば、定着液に硬膜剤として
水溶性アルミニウム塩が含有されても、定着液での沈殿
の発生、画像保存性の劣化及び残色の問題を招かずに、
補充量を低減することが可能である。
According to the present invention, even if the fixing solution contains a water-soluble aluminum salt as a hardener, it does not cause the problems of precipitation in the fixing solution, deterioration of image storability and residual color. ,
It is possible to reduce the amount of replenishment.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 黒白ハロゲン化銀写真感光材料を水溶性
アルミニウム塩を含む定着液で処理した後に安定化処理
液で処理するにあたり、安定化処理液のオーバーフロー
の一部又は全部を定着補充液に利用し、該定着補充液を
処理される感光材料1m2当たり260cc以下で補充
し、且つ安定化処理液が第2鉄イオンに対するキレート
安定度定数が8以上のキレート剤を含有することを特徴
とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
When a black-and-white silver halide photographic material is treated with a stabilizing processing solution after being treated with a fixing solution containing a water-soluble aluminum salt, part or all of the overflow of the stabilizing processing solution is converted into a fixing replenisher. use, and characterized in that supplemented with the following photosensitive material 1 m 2 per 260cc processed the fixing replenisher, and chelate stability constant stabilization treatment liquid for ferric ion containing 8 or more chelating agents For processing black-and-white silver halide photographic light-sensitive materials.
【請求項2】 黒白ハロゲン化銀写真感光材料を水溶性
アルミニウム塩を含む定着液で処理した後に安定化処理
液で処理するにあたり、安定化処理液のオーバーフロー
の一部又は全部を定着補充液に利用し、該定着補充液を
処理される感光材料1m2当たり260cc以下で補充
し、且つ安定化処理液が防黴性を付与された処理液であ
ることを特徴とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処
理方法。
2. When a black-and-white silver halide photographic material is treated with a stabilizing processing solution after being processed with a fixing solution containing a water-soluble aluminum salt, part or all of the overflow of the stabilizing processing solution is converted into a fixing replenisher. A black-and-white silver halide photographic light-sensitive material wherein the fixing replenisher is replenished at a rate of 260 cc or less per m 2 of the light-sensitive material to be processed, and the stabilizing processing solution is a processing solution having antifungal properties. Material treatment method.
【請求項3】 黒白ハロゲン化銀写真感光材料を水溶性
アルミニウム塩を含む定着液で処理した後に安定化処理
液で処理するにあたり、安定化処理液のオーバーフロー
の一部又は全部を定着補充液に利用し、該定着補充液を
処理される感光材料1m2当たり260cc以下で補充
し、且つ安定化処理液が一般式(1)で表される化合物
を含有することを特徴とする黒白ハロゲン化銀写真感光
材料の処理方法。 一般式(1) Z−SM 〔式中Zは、アルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環基
であって、ヒドロキシル基、−SO31基、−COOM
1基(ここでM1は水素原子、アルカリ金属原子、又は置
換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置換
若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアン
モニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つ又は、
この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基によ
って置換されているものを表す。Mは水素原子、アルカ
リ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基(これは
ハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形成してい
てもよい)を表す。〕
3. When a black-and-white silver halide photographic light-sensitive material is processed with a stabilizing processing solution after being processed with a fixing solution containing a water-soluble aluminum salt, part or all of the overflow of the stabilizing processing solution is converted into a fixing replenisher. A black-and-white silver halide wherein the fixing replenisher is replenished at a rate of 260 cc or less per m 2 of the light-sensitive material to be processed, and the stabilized processing solution contains a compound represented by the general formula (1). Processing method of photographic photosensitive material. General formula (1) Z-SM [wherein Z is an alkyl group, an aromatic group or a heterocyclic group, and is a hydroxyl group, a —SO 3 M 1 group, a —COOM
At least one group selected from the group consisting of one group (where M 1 represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, or a substituted or unsubstituted ammonium ion), a substituted or unsubstituted amino group, or a substituted or unsubstituted ammonium group Or
It represents those substituted with at least one substituent selected from this group. M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, a substituted or unsubstituted amidino group (which may form a hydrohalide or a sulfonate). ]
【請求項4】 黒白ハロゲン化銀写真感光材料を水溶性
アルミニウム塩を含む定着液で処理した後に安定化処理
液で処理するにあたり、安定化処理液のオーバーフロー
の一部又は全部を定着補充液に利用し、該定着補充液を
処理される感光材料1m2当たり260cc以下で補充
し、且つ安定化処理液がゼラチン硬化剤を含有すること
を特徴とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
4. When a black-and-white silver halide photographic material is treated with a stabilizing processing solution after being processed with a fixing solution containing a water-soluble aluminum salt, part or all of the overflow of the stabilizing processing solution is converted into a fixing replenisher. A method for processing a black-and-white silver halide photographic light-sensitive material, wherein the fixing replenisher is replenished at a rate of 260 cc or less per m 2 of the light-sensitive material to be processed, and the stabilizing processing solution contains a gelatin hardener.
【請求項5】 前記定着補充液の調製に用いる定着補充
剤が固体処理剤であることを特徴とする請求項1、2、
3又は4に記載の黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法。
5. The fixing replenisher used in the preparation of the fixing replenisher is a solid processing agent.
3. The method for processing a black-and-white silver halide photographic material according to 3 or 4.
【請求項6】 処理される感光材料が4級オニウム化合
物を含有することを特徴とする請求項1、2、3、4又
は5に記載の黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
6. The method for processing a black-and-white silver halide photographic material according to claim 1, wherein the photographic material to be processed contains a quaternary onium compound.
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US9695171B2 (en) 2013-12-17 2017-07-04 Pfizer Inc. 3,4-disubstituted-1 H-pyrrolo[2,3-b]pyridines and 4,5-disubstituted-7H-pyrrolo[2,3-c]pyridazines as LRRK2 inhibitors
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