JPH10161304A - Laser direct image forming material - Google Patents

Laser direct image forming material

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Publication number
JPH10161304A
JPH10161304A JP32402496A JP32402496A JPH10161304A JP H10161304 A JPH10161304 A JP H10161304A JP 32402496 A JP32402496 A JP 32402496A JP 32402496 A JP32402496 A JP 32402496A JP H10161304 A JPH10161304 A JP H10161304A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
groups
photosensitive layer
formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP32402496A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsugio Yamaoka
亜夫 山岡
Toshiyoshi Urano
年由 浦野
Etsuko Hino
悦子 檜野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
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Publication of JPH10161304A publication Critical patent/JPH10161304A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a laser direct image forming material having excellent sensitivity by incorporating a polymer compd. having azide groups and having a structure derived from specified polymerizable monomers. SOLUTION: The laser direct image forming material has a photosensitive layer containing at least a photo-thermal exchanging material on a substrate, and the photosensitive layer contains a polymer compd. having azide groups and having a structure derived from polymerizable monomers expressed by the formula. In the formula, R<1> is a hydrogen atom or 1 to 15C alkyl group, R<2> is 1 to 15C alkylene chain, and to this alkylene chain, substituents selected from the following groups may be bonded. The substituents are 1 to 15C alkyl groups, bromine atoms, chlorine atoms, iodine atoms, hydroxyl groups, 1 to 10C alkoxy groups, 1 to 10C alkoxy carbonyl groups, 1 to 10C acyl groups, 1 to 10C acyloxy groups, phenyl groups and naphthyl groups.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はデジタル画像データ
から半導体レーザーを用い、直接、平版印刷版、印刷校
正用カラー画像(ブルーフ)、グラビア、或いは配線板
用銅エッチングレジスト、カラーフィルター等を提供す
るレーザーダイレクト画像形成材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention provides a lithographic printing plate, a color image for printing proofing (Bruf), a gravure, or a copper etching resist for a wiring board, a color filter, etc., directly from digital image data using a semiconductor laser. The present invention relates to a laser direct image forming material.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
半導体レーザー及びコンピュータを用いるデジタル画像
処理技術の進歩に伴い、コンピュータ上で形成されたデ
ジタル画像データから、印刷版用銀塩フィルムを用いる
ことなしに、直接感光性平版印刷版上に半導体レーザー
で走査露光を行い、露光部分を不溶化又は可溶化した
後、水溶液で現像処理(湿式現像処理)することにより
画像を形成する、又は露光部分を劣化若しくは昇華、溶
融させて除去する(乾式現像処理)ことにより画像を形
成する、レーザーダイレクト製版技術が注目されてい
る。特に、水と印刷インクのバランスを考える必要が無
く、印刷操作が容易で、印刷初期の損紙が少なく、印刷
時間の短い、湿し水不要デジタル印刷システムは、デジ
タル画像データから短時間で容易に印刷物を作製するこ
とができるため、新しい印刷システムとして期待されて
いる。
2. Description of the Related Art In recent years,
With the progress of digital image processing technology using a semiconductor laser and a computer, a semiconductor laser is directly scanned on a photosensitive lithographic printing plate from digital image data formed on a computer without using a silver halide film for a printing plate. After performing exposure and insolubilizing or solubilizing the exposed portion, an image is formed by developing with an aqueous solution (wet developing process), or the exposed portion is deteriorated, sublimated, melted and removed (dry developing process). Laser direct plate making technology, which forms an image with a laser, has attracted attention. In particular, there is no need to consider the balance between water and printing ink, the printing operation is easy, there is little wasted paper at the beginning of printing, and the printing time is short. It is expected to be a new printing system because it can produce printed matter.

【0003】湿し水不要デジタル印刷システムに使用さ
れる、レーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版
に関しては、種々の試みがなされている。例えば、
(イ)支持体上に感光層、シリコーンゴム層をこの順に
塗設し、感光層の露光部のアブレーションにより生ずる
熱により、シリコーンゴム層を溶融、揮発又は燃焼させ
て除去するもの(特開平7−164773、同6−18
6750、同6−199064、同7−30900
1)、(ロ)感光層の露光部のアブレーションにより生
ずる熱により、シリコーンゴム層を劣化させて感光層と
の接着性を低下させ、後で擦り取るもの(特開平6−5
5723、同6−55869、同6−92050)、
(ハ)シリコーンゴム層を設けた支持体上に、インク着
肉性のトナー画像を電子写真法により形成させるもの
(特開昭51−66008)等が知られている。これら
のうち(イ)の方式が、画像形成処理が最も簡便であ
り、また画質も優れたものが得られ易いので、より好適
と考えられている。
[0003] Various attempts have been made for laser-direct fountain-free photosensitive lithographic printing plates used in fountain-free digital printing systems. For example,
(A) A photosensitive layer and a silicone rubber layer are coated in this order on a support, and the silicone rubber layer is removed by melting, volatilizing or burning by heat generated by ablation of an exposed portion of the photosensitive layer (Japanese Patent Application Laid-Open No. -164773, 6-18
6750, 6-199064, 7-30900
1), (b) a method in which the silicone rubber layer is degraded by heat generated by ablation of the exposed portion of the photosensitive layer to reduce the adhesiveness to the photosensitive layer, and is rubbed later (JP-A-6-5)
5723, 6-55869, and 6-92050),
(C) A method of forming an ink-adhesive toner image on a support provided with a silicone rubber layer by an electrophotographic method (JP-A-51-66008) is known. Among these methods, the method (a) is considered to be more preferable because the image forming process is the simplest and the one having excellent image quality is easily obtained.

【0004】しかしながら、上記(イ)のアプレーショ
ンを利用するレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版
印刷版は、感度が低く、大出力のレーザー光源が必要で
あり、また、レーザー露光工程に長時間を要する等の点
が問題とされている。この印刷版の感度を向上させる試
みとして、ニトロセルロース樹脂等の自己酸化性樹脂を
感光層に添加する方法が知られている(特開昭50−1
58405号)。しかし、通常のニトロセルロース樹脂
では、感度の向上はそれほど大きくなく、またより感光
を高めるためニトロ基の含有量の多いニトロセルロース
を用いることは、安全上問題がある。本発明は優れた感
度を有するレーザーダイレクト画像形成材料を提供せん
とするものである。
However, a photosensitive lithographic printing plate requiring no laser dampening solution utilizing the above-mentioned application (a) has a low sensitivity and requires a high-power laser light source. Is required. As an attempt to improve the sensitivity of the printing plate, a method of adding a self-oxidizing resin such as a nitrocellulose resin to a photosensitive layer has been known (Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 50-1).
58405). However, with ordinary nitrocellulose resins, the improvement in sensitivity is not so large, and using nitrocellulose containing a large amount of nitro groups in order to further enhance photosensitivity poses a safety problem. The present invention seeks to provide a laser direct imaging material having excellent sensitivity.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、基板上
に少くとも光熱変換物質を含有する感光層を有するレー
ザーダイレクト画像形成材料において、感光層中に式
(4)で示される重合性モノマーから誘導された構造を
有するアジド基を有する高分子化合物を含有させること
により、高感度のレーザーダイレクト画像形成材料とす
ることができる。
According to the present invention, in a laser direct image forming material having a photosensitive layer containing at least a photothermal conversion substance on a substrate, the polymerizable compound represented by the formula (4) is contained in the photosensitive layer. By including a polymer compound having an azide group having a structure derived from a monomer, a highly sensitive laser direct image forming material can be obtained.

【0006】[0006]

【化4】 Embedded image

【0007】〔式中、R1 は水素原子又は炭素数1〜1
5のアルキル基を表わす。R2 は炭素数1〜15のアル
キレン鎖を表わし、アルキレン鎖上には炭素数1〜10
のアルキル基、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、水酸
基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10の
アルコキシカルボニル基、炭素数1〜10のアシル基、
炭素数1〜10のアシルオキシ基、フェニル基及びナフ
チル基から選ばれた置換基が結合していてもよい。〕
[Wherein, R 1 is a hydrogen atom or a C 1 -C 1
5 represents an alkyl group. R 2 represents an alkylene chain having 1 to 15 carbon atoms, and has 1 to 10 carbon atoms on the alkylene chain.
An alkyl group, a bromine atom, a chlorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 1 to 10 carbon atoms,
A substituent selected from an acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group and a naphthyl group may be bonded. ]

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下に本発明を更に詳細に説明す
る。本発明において用いられる基板としては、通常の画
像形成装置にセットできるたわみ性を有し、画像形成時
にかかる荷重に耐えうるものであればいかなるものも用
いることができる。例えば、コート紙などの紙類、アル
ミニウム板などの金属板、又は、ポリエチレンテレフタ
レートなどのプラスチックフィルムが用いられる。これ
らのうち、ポリエチレンテレフタレート、アルミニウム
板、又は、アルミニウム箔と他の材料との複合材が好ま
しい。基板の厚さは通常10μm〜1mm、好ましくは
20μm〜0.5mmである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail. As the substrate used in the present invention, any substrate can be used as long as it has flexibility that can be set in an ordinary image forming apparatus and can withstand a load applied during image formation. For example, paper such as coated paper, a metal plate such as an aluminum plate, or a plastic film such as polyethylene terephthalate is used. Among these, polyethylene terephthalate, an aluminum plate, or a composite material of an aluminum foil and another material is preferable. The thickness of the substrate is usually 10 μm to 1 mm, preferably 20 μm to 0.5 mm.

【0009】基板上に形成される感光層は、レーザー光
を効率よく吸収して熱に変換し、感光層のアブレーショ
ンを引起して、露光した感光層部分の溶解性を変化させ
るか又は当該部分を消失させる光熱変換物質を含んでい
る。本発明の一態様の湿し水不要感光性印刷版では、感
光層の上にシリコーンゴム層を有しているが、この場合
には感光層を消失させるアブレーションに応答してシリ
コーンゴム層もアブレーションを誘発し、溶融、揮発、
燃焼、圧力などによりシリコーンゴム層を消失させるよ
うな光熱変換物質を用いる。光熱変換物質としては、光
エネルギーを熱エネルギーに効率よく変換する機能を有
するものであれば任意のものを用いることができる。通
常は有機、無機の顔料、有機色素、金属などで、600
〜1200nm、好ましくは680〜1200nmの近
赤外線を吸収するものが用いられる。
The photosensitive layer formed on the substrate efficiently absorbs the laser beam and converts it into heat, causing ablation of the photosensitive layer to change the solubility of the exposed photosensitive layer portion or to change the solubility of the exposed photosensitive layer portion. Contains a light-to-heat conversion material. In the photosensitive printing plate requiring no dampening solution according to one embodiment of the present invention, the silicone rubber layer is provided on the photosensitive layer. In this case, the silicone rubber layer is also ablated in response to ablation that causes the photosensitive layer to disappear. Induces melting, volatilization,
A light-to-heat conversion substance that causes the silicone rubber layer to disappear by combustion, pressure, or the like is used. As the photothermal conversion substance, any substance can be used as long as it has a function of efficiently converting light energy into heat energy. Usually, organic and inorganic pigments, organic dyes, metals, etc.
What absorbs near-infrared rays of up to 1200 nm, preferably 680 to 1200 nm is used.

【0010】例えばカーボンブラック(三菱化学社の製
品であるMA−7、MA−100、MA−220、#
5、#10、デグッサ社の製品であるカラーブラックF
W2、FW20、プリンテックスVなど);黒鉛;チタ
ン、クロム等の金属;酸化チタン、酸化スズ、酸化亜
鉛、酸化バナジウム、酸化タングステン等の金属酸化
物;チタンカーバイト等の金属炭化物;金属ホウ化物;
特開平4−322219号公報に記載されている無機黒
色顔料、アゾ系のブラック顔料、リオノールグリーン2
YS、緑色顔料7などの黒、緑などの有機顔料が用いら
れる。また、「特殊機能色素」(池森・住谷編集、19
86年(株)シーエムシー発行)、「機能性色素の化
学」(檜垣編集、1981年(株)シーエムシー発
行)、「色素ハンドブック」(大河、平嶋、松岡、北尾
編集、講談社発行)、(株)日本感光色素研究所が19
95年に発行したカタログ及びExciton In
c.が1989年に発行したレーザー色素カタログ等に
記載されている近赤外領域に吸収を有する色素も用いら
れる。更には特開平3−97590、同97591、同
63185、同26593、同97589、特開平2−
2074、同2075、同2076等に記載されている
近赤外領域に吸収を有する有機色素、日本化薬社製IR
820B等の近赤外領域に吸収を有する色素も用いられ
る。このような近赤外に吸収を有する色素のいくつかを
下記の第1表に例示する。
For example, carbon black (MA-7, MA-100, MA-220, #
5, # 10, Color Black F, a product of Degussa
Graphite; metals such as titanium and chromium; metal oxides such as titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, vanadium oxide and tungsten oxide; metal carbides such as titanium carbide; metal borides ;
Inorganic black pigments, azo black pigments, and lionol green 2 described in JP-A-4-322219
Organic pigments such as black and green such as YS and green pigment 7 are used. In addition, "Special Function Dyes" (edited by Ikemori and Sumiya, 19
1986, published by CMC Inc.), "Chemicals of Functional Dyes" (edited by Higaki, published by CMC Inc. 1981), "Dye Handbook" (edited by Okawa, Hirashima, Matsuoka, Kitao, published by Kodansha), ( Japan Photographic Dye Laboratories Inc. 19
Catalog published in 1995 and Exciton In
c. And dyes having absorption in the near-infrared region described in Laser Dye Catalog published in 1989. Further, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 3-97590, 97591, 63185, 26593, 97589,
2074, 2075, 2076, etc., organic dyes having absorption in the near infrared region, IR manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
Dyes having absorption in the near infrared region such as 820B are also used. Some of such dyes having absorption in the near infrared are exemplified in Table 1 below.

【0011】[0011]

【表1】 [Table 1]

【0012】[0012]

【表2】 [Table 2]

【0013】[0013]

【表3】 [Table 3]

【0014】[0014]

【表4】 [Table 4]

【0015】[0015]

【表5】 [Table 5]

【0016】[0016]

【表6】 [Table 6]

【0017】[0017]

【表7】 [Table 7]

【0018】[0018]

【表8】 [Table 8]

【0019】[0019]

【表9】 [Table 9]

【0020】[0020]

【表10】S−34 ポリメチン色素;IR−820B(日本火薬社製)S−35 ニグロシン色素;Colour Index Solvent Black 5S−36 ニグロシン色素;Colour Index Solvent Black 7S−37 ニグロシン色素;Colour Index Acid Black 2S−38 カーボンブラック;MA−100(三菱化学社製)S−39 一酸化チタン;チタンブラック13M(三菱マテリアル社製)S−40 一酸化チタン;チタンブラック13B(三菱マテリアル社製)Table 10 S-34 polymethine dye; IR-820B (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) S-35 nigrosine dye; Color Index Solvent Black 5 S-36 nigrosine dye; Color Index Solvent Black 7 S-37 nigrosine dye; Color Index Acid Black 2 S-38 carbon black; MA-100 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) S-39 titanium monoxide; titanium black 13M (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation) S-40 titanium monoxide; titanium black 13B (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation)

【0021】[0021]

【表11】 [Table 11]

【0022】[0022]

【表12】 [Table 12]

【0023】[0023]

【表13】 [Table 13]

【0024】これらの近赤外線吸収剤は、単独又は複数
混合し、通常は感光層塗布溶液中に溶解又は分散させ用
いられる。感光層中での近赤外線吸収剤の占める割合は
通常、0.5〜90重量%である。好ましくは近赤外線
吸収剤は感光層の1.0〜80重量%、特に2.0〜7
0重量%を占めるように用いる。感光層に占める近赤外
線吸収剤の割合が小さ過ぎると、レーザー光を十分に吸
収できず、その結果、十分なアブレーションを引起し難
くなる。本発明では、感光層に、式(5)で示される重
合性モノマーから誘導された構造を有するアジド基を有
する高分子化合物を含有させる。この高分子化合物を存
在させると、感光層の
These near-infrared absorbers are used alone or as a mixture of two or more, and are usually used by dissolving or dispersing them in a coating solution for a photosensitive layer. The proportion of the near-infrared absorbing agent in the photosensitive layer is usually from 0.5 to 90% by weight. Preferably, the near-infrared absorbing agent is 1.0 to 80% by weight of the photosensitive layer, especially 2.0 to 7%.
Used to account for 0% by weight. If the proportion of the near-infrared absorber in the photosensitive layer is too small, the laser beam cannot be sufficiently absorbed, and as a result, it is difficult to cause sufficient ablation. In the invention, the photosensitive layer contains a polymer compound having an azide group having a structure derived from the polymerizable monomer represented by the formula (5). When this polymer compound is present, the photosensitive layer

【0025】[0025]

【化5】 Embedded image

【0026】感度が著しく向上する。その理由として
は、レーザー光を吸収した近赤外線吸収剤の発生する熱
により、アジド基が分解して窒素ガス等のガスを発生
し、このガスが感光層や、場合によりその上に形成され
ているシリコーン層の消失を助長することによるものと
考えられる。式(5)において、R1 は水素原子又は炭
素数1〜15のアルキル基を表わし、R2 は炭素数1〜
15のアルキレン鎖を表わす。アルキレン鎖の置換基と
しては、炭素数1〜10のアルキル基、臭素原子、塩素
原子、ヨウ素原子、水酸基、炭素数1〜10のアルコキ
シ基、炭素数1〜10のアルコキシカルボニル基、炭素
数1〜10のアシル基、炭素数1〜10のアシルオキシ
基、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。置換基
として好ましいのは炭素数1〜5のアルキル基、フェニ
ル基、ナフチル基などである。
The sensitivity is significantly improved. The reason is that azide groups are decomposed by the heat generated by the near-infrared absorber that has absorbed the laser light to generate a gas such as nitrogen gas, which is formed on the photosensitive layer and, if necessary, on the photosensitive layer. This is probably due to promoting the disappearance of the silicone layer. In the formula (5), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and R 2 represents a 1 to 1 carbon atom.
Represents 15 alkylene chains. Examples of the substituent of the alkylene chain include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a bromine atom, a chlorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 1 carbon atom. And acyl groups having 1 to 10 carbon atoms, acyloxy groups having 1 to 10 carbon atoms, phenyl groups, and naphthyl groups. Preferred examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group and a naphthyl group.

【0027】通常はR1 は水素原子又はメチル基、エチ
ル基などの炭素数1〜5のアルキル基であり、R2 はメ
チレン基、エチレン基、メチルエチレン基、n−プロピ
レン基、2−メチル−n−プロピレン基、n−ブチレン
基、1,1−ジメチルエチレン基などの炭素数1〜5の
直鎖状アルキレン基又はこれに炭素数1〜5のアルキル
基、フェニル基、ナフチル基などが置換したアルキレン
基である。好ましくはR1 は水素原子又はメチル基であ
り、R2 はエチレン又はn−プロピレン基である。
Usually, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group, and R 2 is a methylene group, an ethylene group, a methylethylene group, an n-propylene group or a 2-methyl group. -N-propylene group, n-butylene group, a linear alkylene group having 1 to 5 carbon atoms such as 1,1-dimethylethylene group or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group and the like. It is a substituted alkylene group. Preferably, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is an ethylene or n-propylene group.

【0028】(5)式の化合物は、単独重合体若しくは
(5)式の化合物相互間の共重合体として用いることも
でき、又はこれと共重合し得る他の重合性化合物との共
重合体として用いることもできる。(5)式の化合物と
共重合させる重合性化合物としては、(メタ)アクリル
酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリ
ル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)ア
クリル酸フェニル等の(メタ)アクリル酸エステル、ス
チレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ピバリン酸ビニ
ル、バーサチック酸ビニル等が用いられる。また、ヒド
ロキシ−α−メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、ヒ
ドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロ
キシフェニル(α−メチル)ビニルスルホンアミド、ヒ
ドロキシフェニル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、イタコン酸等
の水酸基又はカルボキシル基を有する化合物も用いられ
る。
The compound of the formula (5) can be used as a homopolymer or a copolymer between the compounds of the formula (5), or a copolymer with another polymerizable compound copolymerizable therewith. Can also be used. As the polymerizable compound to be copolymerized with the compound of the formula (5), methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate (Meth) acrylic acid ester, styrene, α-methylstyrene, acrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate, vinyl pivalate, vinyl versatate and the like. Also, hydroxy-α-methylstyrene, hydroxystyrene, hydroxyphenyl (meth) acrylamide, N-hydroxyphenyl (α-methyl) vinylsulfonamide, hydroxyphenyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) ) A compound having a hydroxyl group or a carboxyl group such as acrylate, (meth) acrylic acid, and itaconic acid is also used.

【0029】アジド基を有する高分子化合物に占めるこ
れらの共重合成分の比率は通常0〜80モル%である。
好ましくは共重合成分の占める比率は0〜70モル%、
特に0〜60モル%である。またアジド基を有する高分
子化合物の重量平均分子量(Mw)は通常103 〜10
6 である。好ましくは1.5×103 〜5×105 、特
に1.5×103 〜3×105 のものを用いる。
The proportion of these copolymer components in the polymer compound having an azide group is usually from 0 to 80 mol%.
Preferably, the proportion of the copolymer component is 0 to 70 mol%,
In particular, it is 0 to 60 mol%. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer compound having an azide group is usually 10 3 to 10.
6 Preferably, 1.5 × 10 3 to 5 × 10 5 , particularly 1.5 × 10 3 to 3 × 10 5 is used.

【0030】アジド基を有する高分子化合物は、公知の
方法により製造することができる。例えばハロゲン化ア
ルキルビニルエーテルとアジ化ナトリウムを反応させて
アジド化アルキルビニルエーテルとし、これをそのまま
又は他の重合性化合物(Y)と一緒に、重合開始剤の存
在下、光又は熱により、ラジカル重合、カチオン重合又
はアニオン重合させることができる。
The polymer compound having an azide group can be produced by a known method. For example, a halogenated alkyl vinyl ether is reacted with sodium azide to give an azido alkyl vinyl ether, which is used as it is or together with another polymerizable compound (Y) in the presence of a polymerization initiator by light or heat to undergo radical polymerization, Cationic or anionic polymerization can be performed.

【0031】[0031]

【化6】 Embedded image

【0032】また別法として、ハロゲン化アルキルビニ
ルエーテルをそのまま又は他の共重合成分(Y)と一緒
に、光又は熱により、ラジカル重合、アニオン重合又は
カチオン重合させ、得られたポリマーにアジ化ナトリウ
ムを反応させてもよい。
Alternatively, radical polymerization, anion polymerization or cationic polymerization of the halogenated alkyl vinyl ether as it is or together with the other copolymer component (Y) is carried out by light or heat, and sodium azide is added to the obtained polymer. May be reacted.

【0033】[0033]

【化7】 Embedded image

【0034】このようにして得られるアジド基を有する
高分子化合物のいくつかを下記の第2表に例示する。
Some of the thus obtained polymer compounds having an azide group are shown in Table 2 below.

【0035】[0035]

【表14】 [Table 14]

【0036】[0036]

【表15】 [Table 15]

【0037】アジド基を有する高分子化合物は、通常、
感光層の5〜90重量%を占めるようにする。好ましく
は感光層の10〜80重量%、特に15〜75重量%を
占めるようにする。感光層は基本的に前述の近赤外線吸
収剤とアジド基を有する高分子化合物から成っている
が、これに加えて塗布性、近赤外線吸収剤との相溶性、
膜強度及びアブレーションの効果を高めるなどの目的
で、他の有機高分子物質を含有させることもできる。こ
のような有機高分子物質としては、例えば、(メタ)ア
クリル酸やイタコン酸等の不飽和酸と、(メタ)アクリ
ル酸アルキル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)
アクリル酸ベンジル、スチレン、α−メチルスチレン等
との共重合体;ポリメチルメタクリレートに代表される
メタクリル酸アルキルやアクリル酸アルキルの重合体;
(メタ)アクリル酸アルキルとアクリロニトリル、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共重合体;ア
クリロニトリルと塩化ビニルや塩化ビニリデンとの共重
合体;側鎖にカルボキシル基を有するセルロース変性
物;ポリエチレンオキシド;ポリビニルピロリドン;フ
ェノール、o−、m−、p−クレゾール、及び/又はキ
シレゾールとアルデヒド、アセトン等との縮合反応で得
られるノボラック樹脂;エピクロロヒドリンとビスフェ
ノールAとのポリエーテル;可溶性ナイロン;ポリ塩化
ビニリデン;塩素化ポリオレフィン;塩化ビニルと酢酸
ビニルとの共重合体、酢酸ビニル、ピバリン酸ビニル、
バーサチック酸ビニルなどの重合体やそれらの共重合
体、アクリロニトリルとスチレンとの共重合体;アクリ
ロニトリルとブダジエン及びスチレンとの共重合体;ポ
リビニルアルキルエーテル;ポリビニルアルキルケト
ン;ポリスチレン;ポリウレタン;ポリエチレンテレフ
タレートイソフタレート;アセチルセルロース;アセチ
ルプロピオキシセルロース;アセチルブトキシセルロー
ス;ニトロセルロース;セルロイド;ポリビニルブチラ
ール等が用いられる。これらの有機高分子物質は感光層
の0〜80重量%を占めるように用いられる。好ましく
は2〜70重量%、特に5〜60重量%を占めるように
用いる。
The polymer compound having an azide group is usually
It accounts for 5 to 90% by weight of the photosensitive layer. Preferably, it accounts for 10 to 80% by weight, especially 15 to 75% by weight of the photosensitive layer. The photosensitive layer is basically composed of the above-mentioned near infrared ray absorbent and a polymer compound having an azide group, but in addition to this, applicability, compatibility with the near infrared ray absorbent,
For the purpose of increasing the film strength and the effect of ablation, other organic polymer substances can be contained. Examples of such organic polymer substances include unsaturated acids such as (meth) acrylic acid and itaconic acid, alkyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate.
Copolymers with benzyl acrylate, styrene, α-methylstyrene and the like; alkyl methacrylate and alkyl acrylate polymers represented by polymethyl methacrylate;
Copolymer of alkyl (meth) acrylate with acrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, styrene, etc .; copolymer of acrylonitrile with vinyl chloride or vinylidene chloride; modified cellulose having carboxyl group in side chain; polyethylene oxide; Polyvinylpyrrolidone; novolak resin obtained by condensation reaction of phenol, o-, m-, p-cresol, and / or xylesol with aldehyde, acetone, etc .; polyether of epichlorohydrin and bisphenol A; soluble nylon; Vinylidene chloride; chlorinated polyolefin; copolymer of vinyl chloride and vinyl acetate, vinyl acetate, vinyl pivalate,
Polymers such as vinyl versatate and their copolymers, copolymers of acrylonitrile and styrene; copolymers of acrylonitrile, butadiene and styrene; polyvinyl alkyl ether; polyvinyl alkyl ketone; polystyrene; polyurethane; polyethylene terephthalate isophthalate Acetylcellulose; acetylpropoxycellulose; acetylbutoxycellulose; nitrocellulose; celluloid; polyvinyl butyral; These organic polymer substances are used so as to occupy 0 to 80% by weight of the photosensitive layer. It is preferably used so as to account for 2 to 70% by weight, particularly 5 to 60% by weight.

【0038】また、感光層中には、必要に応じて、感光
層を着色し多色カラー画像を形成する目的で、近赤外線
吸収剤以外の着色材料を含有させることができる。着色
材料としては、染顔料が用いられる。色校正の用途の場
合は、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックと一致し
た色調の染顔料が必要となるが、この他、金属粉、白色
顔料、蛍光顔料なども用いることができる。
The photosensitive layer may contain a coloring material other than a near-infrared absorbing agent, if necessary, for the purpose of coloring the photosensitive layer to form a multicolor image. Dyes and pigments are used as coloring materials. For use in color proofing, dyes and pigments having a color tone that matches yellow, magenta, cyan, and black are required. In addition, metal powders, white pigments, fluorescent pigments, and the like can also be used.

【0039】染顔料の具体例としては、ビクトリアピュ
アブルー(42595)、オーラミンO(4100
0)、カチロンブリリアントフラビン(ベーシック1
3)、ローダミン6GCP(45160)、ローダミン
B(45170)、サフラニンOK70:100(50
240)、エリオグラウシンX(42080)、ファー
ストブラックHB(26150)、No.120/リオ
ノールイエロー(21090)、リオノールイエローG
RO(21090)、シムラーファーストイエロー8G
F(21105)、ベンジジンイエロー4T−564D
(21095)、シムラーファーストレッド4015
(12355)、リオノールレッド7B4401(15
850)、ファーストゲンブルーTGR−L(7416
0)、リオノールブルーSM(26150)、三菱カー
ボンブラックMA−100、三菱カーボンブラック#4
0等が挙げられる(上記の( )内の数字は、カラーイ
ンデックス(C.I.)を意味する)。これらの着色材
料は、一般に感光層の5〜60重量%を占めるように用
いられる。感光層の厚さは通常0.3〜5μmである。
0.3〜3μm、特に0.5〜2μmであるのが好まし
い。
Specific examples of dyes and pigments include Victoria Pure Blue (42595) and Auramine O (4100).
0), Kachiron Brilliant Flavin (Basic 1)
3), Rhodamine 6 GCP (45160), Rhodamine B (45170), Safranin OK 70: 100 (50
240), Erioglaucine X (42080), Fast Black HB (26150), No. 120 / Lionol Yellow (21090), Lionol Yellow G
RO (21090), Shimla First Yellow 8G
F (21105), Benzidine Yellow 4T-564D
(21095), Shimla Fast Red 4015
(12355), Lionol Red 7B4401 (15
850), Fast Gen Blue TGR-L (7416
0), Lionol Blue SM (26150), Mitsubishi Carbon Black MA-100, Mitsubishi Carbon Black # 4
0 and the like (the numbers in parentheses above indicate the color index (CI)). These coloring materials are generally used so as to account for 5 to 60% by weight of the photosensitive layer. The thickness of the photosensitive layer is usually from 0.3 to 5 μm.
It is preferably from 0.3 to 3 μm, particularly preferably from 0.5 to 2 μm.

【0040】本発明に係るレーザーダイレクト画像形成
材料は、レーザー光により感光層をアブレーションさせ
ることにより、印刷校正用プループ等に用いられる着色
画像シート又は印刷版を直接得ることができる。また、
レーザー光によるアブレーションにより露光部分の感光
層の溶解性を向上させることにより、アルカリ水溶液に
よる湿式画像形成に用いることもできる。すなわちアル
カリ水溶液で露光部分の感光層を除去し、ポジ型の感光
層画像を形成させることができる。
The laser direct image forming material according to the present invention can directly obtain a colored image sheet or a printing plate used for a print proofing group by ablating the photosensitive layer with a laser beam. Also,
By improving the solubility of the photosensitive layer in the exposed portion by ablation with a laser beam, it can be used for wet image formation with an aqueous alkaline solution. That is, the exposed portion of the photosensitive layer can be removed with an aqueous alkali solution to form a positive photosensitive layer image.

【0041】また、本発明に係るレーザーダイレクト画
像形成材料は、感光層の上に更にインク反発性のシリコ
ーンゴム層を設けて湿し水不要印刷版とすることができ
る。また、感光層の上に印刷インクの付着を防ぐ親水性
層を設けて湿式印刷用印刷版とすることもできる。シリ
コーンゴム層としては、特開平7−164773号公報
等に記載されているものから適宜選択できるが、好まし
くは下記の縮合反応によりシリコーンゴム組成物を硬化
させる縮合架橋タイプと、付加反応によりシリコーンゴ
ム組成物を硬化させる付加架橋タイプの2つのタイプの
いずれかを用いる。縮合架橋タイプのシリコーンゴム組
成物は、両末端に水酸基を有する線状オルガノポリシロ
キサンと、これと架橋反応してシリコーンゴム層を形成
する反応性シラン化合物を必須成分として含むものであ
る。両末端に水酸基を有する線状オルガノポリシロキサ
ンとしては、下記式(8)で示すものが用いられる。
Further, the laser direct image forming material according to the present invention can be provided as a printing plate requiring no dampening solution by further providing an ink-repellent silicone rubber layer on the photosensitive layer. In addition, a printing plate for wet printing may be provided by providing a hydrophilic layer on the photosensitive layer for preventing adhesion of printing ink. The silicone rubber layer can be appropriately selected from those described in JP-A-7-164773 and the like. Preferably, a silicone rubber composition is cured by a condensation reaction described below, and a silicone rubber layer is cured by an addition reaction. Either of two types of addition-crosslinking type for curing the composition is used. The condensation-crosslinking type silicone rubber composition contains, as essential components, a linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends and a reactive silane compound which forms a silicone rubber layer by crosslinking with the same. As the linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends, those represented by the following formula (8) are used.

【0042】[0042]

【化8】 Embedded image

【0043】(式中、2つのR3 は各々独立して、水素
原子、メチル基、フェニル基、ビニル基を示し、yは5
以上の整数を示す。) 式(8)の化合物のうち、好ましくはR1 がメチル基で
あるものが用いられる。オルガノポリシロキサンの重量
平均分子量(Mw)は5×103 〜1×106であり、
好ましくは1×104 〜1×106 である。Mwが著し
く低いと、シリコーンゴム層の膜強度が低下し、耐印刷
性が低くなる。逆にMwが著しく高いと、アブレーショ
ンによるシリコーンゴム層の除去効果が低下し、感度低
下、画像再現性の低下を起こしやすい。
(Wherein two R 3 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, a phenyl group, or a vinyl group;
The following integers are shown. Among the compounds of the formula (8), those in which R 1 is a methyl group are preferably used. The weight average molecular weight (Mw) of the organopolysiloxane is 5 × 10 3 to 1 × 10 6 ,
Preferably it is 1 × 10 4 to 1 × 10 6 . When Mw is extremely low, the film strength of the silicone rubber layer is reduced, and the printing resistance is reduced. Conversely, when Mw is extremely high, the effect of removing the silicone rubber layer by ablation is reduced, and sensitivity and image reproducibility are likely to be reduced.

【0044】線状オルガノポリシロキサンと架橋反応す
る反応性シラン化合物は、線状オルガノポリシロキサン
の水酸基と反応し、脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコ
ール型、脱アミノ型又は脱水型等の縮合を起こして架橋
することができる官能基を、2つ以上有する分子量2,
000以下の反応性シラン化合物である。このような官
能基としては、例えば、下記のものが挙げられる。
The reactive silane compound which undergoes a cross-linking reaction with the linear organopolysiloxane reacts with a hydroxyl group of the linear organopolysiloxane to form a condensation such as a deacetic acid type, a deoxime type, a dealcohol type, a deamino acid type or a dehydration type. Having two or more functional groups capable of causing cross-linking
000 or less reactive silane compound. Examples of such a functional group include the following.

【0045】[0045]

【化9】 Embedded image

【0046】(式中、R4 は炭素数1〜5のアルキル基
を示すが同一原子団に2個のR4 がある場合、それぞれ
は同一でも異なっていても良い。) これらのうち、官能基がアシルオキシ基(−OCO
4 )で官能基数が3以上のもの、又は官能基がアルコ
キシ基(−OR3 )で官能基数が3以上のものは、塗布
後の乾燥処理後において短時間にシリコーンゴム層を形
成するため好ましい。特に好ましいのは、官能基がアセ
トキシ基で官能基数が3以上のもの、又は官能基がアル
コキシ基で官能基数が6以上のものである。反応性シラ
ン化合物としては、例えば下記一般式(9)〜(12)
で表される化合物が用いられる。式中、Qは前記した両
末端に水酸基を有する線状オルガノポリシロキサンの水
酸基と反応する官能基を表し、Qは1分子中に少なくと
も2個存在する。
(In the formula, R 4 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. When two R 4 are present in the same atomic group, they may be the same or different.) Group is an acyloxy group (—OCO
R 4 ) having a functional group number of 3 or more, or a functional group having an alkoxy group (—OR 3 ) having a functional group number of 3 or more forms a silicone rubber layer in a short time after drying treatment after coating. preferable. Particularly preferred are those in which the functional group is an acetoxy group and the number of functional groups is 3 or more, or those in which the functional group is an alkoxy group and the number of functional groups is 6 or more. As the reactive silane compound, for example, the following general formulas (9) to (12)
The compound represented by is used. In the formula, Q represents a functional group which reacts with a hydroxyl group of the above-mentioned linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends, and Q is present at least two in one molecule.

【0047】[0047]

【化10】 Embedded image

【0048】(式中、Xは炭素数1〜5のアルキル基、
フェニル基、ビニル基、H2 N−(CH2 h −、CH
2 =C(CH3 )CO−、CH2 =CHCO−、
(Wherein X is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms;
Phenyl group, vinyl group, H 2 N- (CH 2) h -, CH
2 CC (CH 3 ) CO—, CH 2 CHCHCO—,

【0049】[0049]

【化11】 を示し、R4 は前記と同様に炭素数1〜5のアルキル基
を示し、R5 はアリル基又は−(CH2 q −SiR4
3-p P を示し、R6 は水素原子、炭素数1〜5のアル
キル基、又はフェニル基を示すが、R4 、R5 、R6
それぞれが同一分子内に複数存在する場合、その複数個
のそれぞれは同一でも異なっていても良く、h、j及び
qは各々1〜5の整数を示し、p及びrは各々1〜3の
整数を示し、sは2〜4の整数を示し、t及びuは各々
0〜5の整数を示す。) 反応性シラン化合物のいくつかを第3表に例示する。
Embedded image R 4 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms as described above, and R 5 represents an allyl group or — (CH 2 ) q —SiR 4
3-p Q indicates P, R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, R 4, R 5, when each of R 6 there are a plurality in the same molecule, Each of the plurality may be the same or different, h, j and q each represent an integer of 1 to 5, p and r each represent an integer of 1 to 3, s represents an integer of 2 to 4 And t and u each represent an integer of 0 to 5. Table 3 lists some of the reactive silane compounds.

【0050】[0050]

【表16】 [Table 16]

【0051】[0051]

【表17】 [Table 17]

【0052】[0052]

【表18】 [Table 18]

【0053】[0053]

【表19】 [Table 19]

【0054】縮合架橋タイプのシリコーンゴム組成物
は、上記の両末端に水酸基を有するオルガノポリシロキ
サンと反応性シラン化合物の縮合架橋反応の反応効率を
高めるため、有機カルボン酸、チタン酸エステル、錫酸
エステル、アルミ酸エステル、白金系触媒等の縮合触媒
を適宜含有させて縮合反応を行い硬化させる。縮合架橋
タイプのシリコーンゴム組成物に占める両末端に水酸基
を有するオルガノポリシロキサン、反応性シラン化合物
及び縮合触媒の比率は、両末端水酸基を有するオルガノ
ポリシロキサンが80〜98重量%、好ましくは85〜
98重量%、反応性シラン化合物が、2〜20重量%、
好ましくは2〜15重量%、縮合触媒が0.05〜5重
量%、好ましくは0.1〜3重量%である。
The condensation-crosslinking type silicone rubber composition comprises an organic carboxylic acid, a titanate, and a stannic acid in order to increase the reaction efficiency of the condensation crosslinking reaction between the above-mentioned organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends and a reactive silane compound. An appropriate condensation catalyst such as an ester, an aluminate ester or a platinum-based catalyst is added to carry out a condensation reaction to cure. The ratio of the organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends to the condensation crosslinking silicone rubber composition, the reactive silane compound and the condensation catalyst is such that the organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends is 80 to 98% by weight, preferably 85 to 98% by weight.
98% by weight, the reactive silane compound is 2 to 20% by weight,
It is preferably 2 to 15% by weight, and the condensation catalyst is 0.05 to 5% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight.

【0055】反応性シラン化合物及び縮合触媒の割合が
高過ぎるとインク反撥性が低下し、また、アブレーショ
ン時のシリコーンゴム層の除去が困難になり、感度及び
画像再現性が低下する。逆に、これらの占める割合が低
過ぎると、シリコーンゴム層の膜強度が低下し、印刷耐
久性が低下する。組成物に占める反応性シラン化合物及
び縮合触媒の最も好ましい割合は、それぞれ2〜7重量
%及び0.1〜1重量%である。
If the proportions of the reactive silane compound and the condensation catalyst are too high, the ink repellency decreases, and it becomes difficult to remove the silicone rubber layer during ablation, and the sensitivity and image reproducibility decrease. Conversely, if the proportion of these components is too low, the film strength of the silicone rubber layer will decrease, and the printing durability will decrease. The most preferable proportions of the reactive silane compound and the condensation catalyst in the composition are 2 to 7% by weight and 0.1 to 1% by weight, respectively.

【0056】縮合架橋タイプのシリコーンゴム組成物に
は、シリコーンゴム層のインク反撥性を高めるために、
上記の両端に水酸基を有するポリオルガノシロキサン以
外のポリシロキサンを含有させることができる。その量
はシリコーンゴム層の2〜15重量%、特に3〜12重
量%を占めるのが好ましい。このようなポリシロキサン
としては例えば、両末端がトリメチルシリル化された重
量平均分子量が1×104 〜1×106 のポリジメチル
シロキサン等が用いられる。
In order to increase the ink repellency of the silicone rubber layer, a condensation-crosslinking type silicone rubber composition is used.
Polysiloxanes other than the polyorganosiloxane having a hydroxyl group at both ends can be contained. The amount preferably accounts for 2 to 15% by weight, especially 3 to 12% by weight of the silicone rubber layer. As such a polysiloxane, for example, a polydimethylsiloxane having a weight average molecular weight of 1 × 10 4 to 1 × 10 6 , which is trimethylsilylated at both terminals, is used.

【0057】付加架橋タイプのシリコーンゴムを形成す
る組成物は、1分子中に脂肪族不飽和基を少なくとも2
個有するオルガノポリシロキサンと、該オルガノポリシ
ロキサンと架橋しシリコーンゴム層を形成させる、1分
子中にSi−H結合を少なくとも2個有するオルガノポ
リシロキサンを必須成分として含むものである。1分子
中に脂肪族不飽和基を少なくとも2個有するオルガノポ
リシロキサンは、その構造が、鎖状、環状、分岐状のい
ずれでもよいが、鎖状が好ましい。脂肪族不飽和基の例
としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニ
ル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;シクロペンテニ
ル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シク
ロオクテニル基等のシクロアルケニル基;エチニル基、
プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル
基等のアルキニル基等が挙げられる。これらのうち、反
応性の点から末端に不飽和結合を有するアルケニル基が
好ましく、ビニル基が特に好ましい。また、脂肪族不飽
和基以外の残余の置換基は、良好な印刷インク反撥性を
得るためにメチル基が好ましい。
The composition for forming the addition-crosslinking type silicone rubber has at least two aliphatic unsaturated groups in one molecule.
And an organopolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule, which forms a silicone rubber layer by crosslinking with the organopolysiloxane, as essential components. The organopolysiloxane having at least two aliphatic unsaturated groups in one molecule may have any of a chain structure, a cyclic structure and a branched structure, but is preferably a chain structure. Examples of the aliphatic unsaturated group include alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group and hexenyl group; cycloalkenyl groups such as cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, cycloheptenyl group and cyclooctenyl group; ethynyl group ,
Alkynyl groups such as a propynyl group, a butynyl group, a pentynyl group and a hexynyl group are exemplified. Among these, an alkenyl group having an unsaturated bond at a terminal is preferable from the viewpoint of reactivity, and a vinyl group is particularly preferable. The remaining substituents other than the aliphatic unsaturated groups are preferably methyl groups in order to obtain good printing ink repellency.

【0058】1分子中に脂肪族不飽和基を少なくとも2
個有するオルガノポリシロキサンの重量平均分子量Mw
は通常5×102 〜5×105 、好ましくは1×103
〜3×105 である。Mwが小さ過ぎると、シリコーン
ゴム層の強度が低下し、印刷時にシリコーンゴム層に傷
がつきやすく、その部分の印刷インク反撥性が低下し、
インクが付着しやすくなり、印刷汚れの原因となる。ま
た、Mwが高過ぎると、アブレーションによるシリコー
ンゴム層の除去が不良となり、感度の低下、画像再現性
の低下を起こしやすい。
At least two aliphatic unsaturated groups are present in one molecule.
Weight average molecular weight Mw of the organopolysiloxane
Is usually 5 × 10 2 to 5 × 10 5 , preferably 1 × 10 3
33 × 10 5 . When Mw is too small, the strength of the silicone rubber layer is reduced, the silicone rubber layer is easily damaged at the time of printing, and the printing ink repellency of the portion is reduced,
Ink easily adheres, causing printing stains. On the other hand, if the Mw is too high, the removal of the silicone rubber layer by ablation becomes poor, and the sensitivity and the image reproducibility are likely to be reduced.

【0059】1分子中にSi−H結合を少なくとも2個
有するオルガノポリシロキサンは、その構造が、鎖状、
環状、分岐状のいずれでもよいが、鎖状が好ましい。S
i−H結合は、シロキサン骨格の末端あるいは中間のい
ずれにあっても良く、置換基の総数に対する水素原子の
占める割合は通常1〜60%であり、好ましくは2〜5
0%である。また、水素原子以外の残余の置換基は良好
な印刷インク反撥性を得るためにメチル基が好ましい。
1分子中にSi−H結合を少なくとも2個有するオルガ
ノポリシロキサンの重量平均分子量Mwは通常3×10
2 〜3×105 、好ましくは5×102 〜2×105
ある。Mwが著しく高いと感度の低下、画像再現性の低
下を起こしやすい。
An organopolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule has a chain-like structure.
It may be cyclic or branched, but is preferably chain. S
The i-H bond may be at the terminal or at the middle of the siloxane skeleton, and the ratio of hydrogen atoms to the total number of substituents is usually 1 to 60%, preferably 2 to 5%.
0%. The remaining substituents other than hydrogen atoms are preferably methyl groups in order to obtain good printing ink repellency.
The weight average molecular weight Mw of an organopolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule is usually 3 × 10
It is 2 to 3 × 10 5 , preferably 5 × 10 2 to 2 × 10 5 . If the Mw is extremely high, the sensitivity and the image reproducibility tend to decrease.

【0060】上記の1分子中に脂肪族不飽和基を少なく
とも2個有するオルガノポリシロキサンと、1分子中に
Si−H結合を少なくとも2個有するオルガノポリシロ
キサンを付加反応させるためには、通常、付加反応触媒
を用いる。この付加反応触媒としては、公知のものの中
から任意に選ぶことができるが、白金系触媒が好まし
く、白金族金属及び白金族系化合物から選ばれる1種又
は2種以上の混合物が使用される。白金族金属として
は、白金の単体(例えば白金黒)、パラジウムの単体
(例えばパラジウム黒)、ロジウムの単体等が用いられ
る。また白金族系化合物としては、塩化白金酸、白金−
オレフィン錯体、白金−アルコール錯体、白金−ケトン
錯体、白金とビニルシロキサンの錯体、テトラキス(ト
リフェニルホスフィン)白金、テトラキス(トリフェニ
ルホスフィン)パラジウム等が用いられる。これらのな
かでも、塩化白金酸又は白金−オレフィン錯体をアルコ
ール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素
系溶剤などに溶解したものが特に好ましい。
In order to carry out an addition reaction between the above-mentioned organopolysiloxane having at least two aliphatic unsaturated groups in one molecule and the organopolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule, An addition reaction catalyst is used. The addition reaction catalyst can be arbitrarily selected from known catalysts, but a platinum-based catalyst is preferable, and one or a mixture of two or more selected from platinum group metals and platinum group compounds is used. As the platinum group metal, a simple substance of platinum (for example, platinum black), a simple substance of palladium (for example, palladium black), a simple substance of rhodium, or the like is used. The platinum group compounds include chloroplatinic acid, platinum-
Olefin complexes, platinum-alcohol complexes, platinum-ketone complexes, complexes of platinum and vinylsiloxane, tetrakis (triphenylphosphine) platinum, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, and the like are used. Among these, those obtained by dissolving chloroplatinic acid or a platinum-olefin complex in an alcohol solvent, a ketone solvent, an ether solvent, a hydrocarbon solvent or the like are particularly preferable.

【0061】シリコーンゴム層を形成する組成物に占め
る各成分の比率は、全固形分に対して、1分子中に脂肪
族不飽和基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキ
サンが、80〜98重量%、好ましくは85〜98重量
%であり、1分子中にSi−H結合を少なくとも2個有
するオルガノポリシロキサンが、2〜20重量%、好ま
しくは2〜15重量%であり、付加反応触媒が、0.0
0001〜10重量%、好ましくは0.0001〜5重
量%である。
The proportion of each component in the composition forming the silicone rubber layer is such that the organopolysiloxane having at least two aliphatic unsaturated groups in one molecule is 80 to 98% by weight based on the total solid content. And preferably 85 to 98% by weight, and 2 to 20% by weight, preferably 2 to 15% by weight of an organopolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule. 0.0
It is 0001 to 10% by weight, preferably 0.0001 to 5% by weight.

【0062】1分子中にSi−H結合を少なくとも2個
有するオルガノポリシロキサンの配合率が低過ぎるとシ
リコーンゴム層の膜強度が低下し、印刷インク反撥性及
び耐印刷性が低下し、逆に配合率が高過ぎると感度及び
画像再現性が低下する。また、付加架橋タイプのシリコ
ーンゴム層を形成する組成物中には、上記の各成分の他
に、さらにシリコーンゴム層の膜強度を高める目的で、
下記式(13)で表される加水分解性基を有するアミノ
系有機ケイ素化合物を添加することができる。
If the compounding ratio of the organopolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule is too low, the film strength of the silicone rubber layer is reduced, and the repulsion and printing resistance of the printing ink are reduced. If the compounding ratio is too high, the sensitivity and the image reproducibility decrease. In addition, in the composition for forming the addition-crosslinking type silicone rubber layer, in addition to the above components, for the purpose of further increasing the film strength of the silicone rubber layer,
An amino-based organosilicon compound having a hydrolyzable group represented by the following formula (13) can be added.

【0063】[0063]

【化12】 Embedded image

【0064】(式中、Zは加水分解性基を示し、R7
2価の炭化水素基を示し、R8 は1価の置換されていて
もよい炭化水素基を示し、2つのR9 は各々独立して水
素原子、1価の置換されていても良い炭化水素基あるい
は−R7 −SiR8 3-p p で表される基を示し、pは
1〜3の整数を示す。) Zで表される加水分解性基としては例えば、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基;2−
プロペニルオキシ基等のアルケニルオキシ基;フェノキ
シ基等のアリールオキシ基;アセチルオキシ基等のアシ
ルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、安定性、硬
化性などの点からメトキシ基、エトキシ基、アセチルオ
キシ基が好ましい。R7 の二価の炭化水素基としては例
えば、
(Wherein, Z represents a hydrolyzable group, R 7 represents a divalent hydrocarbon group, R 8 represents a monovalent hydrocarbon group which may be substituted, and two R 9 each independently hydrogen atom, a monovalent optionally substituted hydrocarbon group or -R 7 -SiR 8 3-p Z groups represented by p, p is an integer of 1-3. Examples of the hydrolyzable group represented by Z include an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group;
An alkenyloxy group such as a propenyloxy group; an aryloxy group such as a phenoxy group; an acyloxy group such as an acetyloxy group. Among these, a methoxy group, an ethoxy group, and an acetyloxy group are preferred in terms of stability, curability, and the like. Examples of the divalent hydrocarbon group for R 7 include:

【0065】[0065]

【化13】 Embedded image

【0066】が好ましい。R8 及びR9 で表される置換
基のうち一価の置換されていてもよい炭化水素基として
は例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;ビニル
基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル
基、等のアルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘ
キセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基
等のシクロアルケニル基;グリシドキシプロピル基、ア
クリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、ア
ミノエチル基等の置換アルキル基等が挙げられる。硬化
性の点からR8 及びR9 はビニル基、アリル基、グリシ
ジル基、メタクリル基、又はγ−グリシドキシプロピル
基が好ましい。
Is preferred. Examples of the monovalent hydrocarbon group which may be substituted among the substituents represented by R 8 and R 9 include, for example, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group; cyclopropyl group, cyclobutyl Group,
Cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group such as cyclooctyl group; vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, etc. alkenyl group; cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, cycloheptenyl group, Cycloalkenyl groups such as cyclooctenyl group; substituted alkyl groups such as glycidoxypropyl group, acryloxypropyl group, methacryloxypropyl group and aminoethyl group. From the viewpoint of curability, R 8 and R 9 are preferably a vinyl group, an allyl group, a glycidyl group, a methacryl group, or a γ-glycidoxypropyl group.

【0067】式(13)で表されるアミノ系有機ケイ素
化合物としては、例えば、3−〔N−アリル−N−(2
−アミノエチル)〕アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、3−(N−アリル−N−グリシジル)アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、3−(N−アリル−N−メタク
リル)アミノプロピルトリメトキシシラン、N−グリシ
ジル−N,N−ビス〔3−(メチルジメトキシシリル)
プロピル〕アミン、N−グリシジル−N,N−ビス〔3
−(トリメトキシシリル)プロピル〕アミン、アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリアセチ
ルオキシシラン、3−〔N−アリル−N−(2−アミノ
エチル)〕アミノプロピルトリアセチルオキシシラン、
3−(N−アリル−N−グリシジル)アミノプロピルト
リアセチルオキシシラン、3−(N−アリル−N−メタ
クリル)アミノプロピルトリアセチルオキシシラン等が
挙げられる。これらは2種以上を混合して用いてもよ
い。
Examples of the amino organosilicon compound represented by the formula (13) include 3- [N-allyl-N- (2
-Aminoethyl)] aminopropyltrimethoxysilane, 3- (N-allyl-N-glycidyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3- (N-allyl-N-methacryl) aminopropyltrimethoxysilane, N-glycidyl-N , N-bis [3- (methyldimethoxysilyl)
Propyl] amine, N-glycidyl-N, N-bis [3
-(Trimethoxysilyl) propyl] amine, aminopropyltrimethoxysilane, aminopropyltriacetyloxysilane, 3- [N-allyl-N- (2-aminoethyl)] aminopropyltriacetyloxysilane,
3- (N-allyl-N-glycidyl) aminopropyltriacetyloxysilane, 3- (N-allyl-N-methacryl) aminopropyltriacetyloxysilane and the like. These may be used as a mixture of two or more.

【0068】アミノ系有機ケイ素化合物は、シリコーン
ゴム層を形成する組成物の全固形分に対して通常0〜1
0重量%、好ましくは0〜5重量%となるように用いら
れる。また、付加架橋タイプのシリコーンゴム層を形成
する組成物には、シリコーンゴム層を塗設する際に、シ
リコーンゴム層組成の急激な硬化を防ぐ目的で、硬化遅
延剤を添加することができる。硬化遅延剤としては一般
的に知られているアセチレン系アルコール、マレイン酸
エステル、アセチレン系アルコールのシリル化物、マレ
イン酸のシリル化物、トリアリルイソシアヌレート、ビ
ニルシロキサン等から、任意に選ぶことができる。
The amino-based organosilicon compound is generally used in an amount of 0 to 1 based on the total solid content of the composition forming the silicone rubber layer.
It is used in an amount of 0% by weight, preferably 0 to 5% by weight. Further, a curing retarder can be added to the composition for forming the addition-crosslinking type silicone rubber layer in order to prevent rapid curing of the silicone rubber layer composition when applying the silicone rubber layer. The curing retarder can be arbitrarily selected from commonly known acetylenic alcohols, maleic esters, silylated acetylenic alcohols, silylated maleic acids, triallyl isocyanurate, vinyl siloxane, and the like.

【0069】硬化遅延剤の添加量は所望の硬化速度によ
って異なるが、通常シリコーンゴム層を形成する組成物
の全固形分に対し、0.0001〜1.0重量部であ
る。上記した縮合架橋タイプ及び付加架橋タイプのシリ
コーンゴム層には、その強度を向上させる目的で、シリ
カ、酸化チタン、酸化アルミニウムなどの無機質充填剤
を含有させても良く、特にシリカが好ましく用いられ
る。このような充填剤としては分散性又は分散安定性の
点から、平均粒子径500μm以下のものが用いるのが
好ましい。
The addition amount of the curing retarder varies depending on the desired curing speed, but is usually 0.0001 to 1.0 part by weight based on the total solids of the composition forming the silicone rubber layer. The above-mentioned condensation-crosslinking type and addition-crosslinking type silicone rubber layers may contain an inorganic filler such as silica, titanium oxide or aluminum oxide for the purpose of improving the strength, and silica is particularly preferably used. From the viewpoint of dispersibility or dispersion stability, it is preferable to use a filler having an average particle diameter of 500 μm or less.

【0070】これらのシリコーンゴム層は印刷インク反
撥性、耐印刷性に優れ、さらにアブレーションにより容
易に除去され、高感度で、高い画像再現性を与える機能
を有する。シリコーンゴム層の引掻傷強度は10〜10
0gであることが好ましい(引掻傷強度とは、0.2m
mのサファイア針を試料上に加重を加えながら10cm
/分のスピードで移動させた際、引掻傷が発生するため
に必要な加重(g)を表す)。引掻傷強度が上記範囲で
あれば、印刷インキ反撥性、耐印刷性、感度、画像再現
性等の印刷適性が良好となる。シリコーンゴム層の膜厚
は通常0.1〜10μmである。0.2〜5μm、特に
0.3〜2μmであるのが好ましい。
These silicone rubber layers have excellent printing ink repellency and printing resistance, and are easily removed by ablation, and have a function of providing high sensitivity and high image reproducibility. The scratch strength of the silicone rubber layer is 10 to 10
0 g (scratch strength is 0.2 m
m sapphire needle 10 cm while applying weight on the sample
/ G (represents the weight (g) required to cause scratching when moved at a speed of / min). When the scratch strength is in the above range, the printing suitability such as printing ink repellency, printing resistance, sensitivity, and image reproducibility is improved. The thickness of the silicone rubber layer is usually 0.1 to 10 μm. It is preferably from 0.2 to 5 μm, particularly preferably from 0.3 to 2 μm.

【0071】本発明に係るレーザーダイレクト画像形成
材料は、感光層の上に上述のシリコーンゴム層に代えて
親水性層を設け、湿式印刷用印刷版とすることもでき
る。親水性層は、印刷時供給される湿し水により表面が
水の薄膜でおおわれた状態(ウェット状態)になり、エ
マルジョン状態の印刷インクと接触した際に、親油性の
インク粒子の付着を防ぎ印刷物上の非画像部を形成させ
る機能を有する。親水性層中には、親水性を保つため、
必要に応じて架橋剤等で硬化させた親水性バインダーポ
リマーを、親水性層の全固形分に対して5〜100重量
部含有させる。親水性層に占める親水性バインダーポリ
マーの好ましい割合は20〜95重量%、特に40〜9
0重量%である。
The laser direct image forming material according to the present invention can be provided as a printing plate for wet printing by providing a hydrophilic layer on the photosensitive layer instead of the silicone rubber layer. The surface of the hydrophilic layer is covered with a thin film of water (wet state) by fountain solution supplied during printing, and prevents the adhesion of lipophilic ink particles when it comes into contact with the printing ink in an emulsion state. It has a function of forming a non-image portion on printed matter. In the hydrophilic layer, to maintain hydrophilicity,
If necessary, a hydrophilic binder polymer cured with a crosslinking agent or the like is contained in an amount of 5 to 100 parts by weight based on the total solid content of the hydrophilic layer. The preferred proportion of the hydrophilic binder polymer in the hydrophilic layer is 20 to 95% by weight, particularly 40 to 9%.
0% by weight.

【0072】親水性バインダーポリマーとしては、炭素
−炭素結合から構成されたポリマーに側鎖として、カル
ボキシル基、アミノ基、リン酸基、スルフォン酸基、ま
たはこれらの塩、水酸基、アミド基、ポリオキシエチレ
ン基等の親水性官能基を複数個有する網目化されたポリ
マー、または炭素−炭素結合中に酸素、窒素、硫黄、リ
ンなどのヘテロ原子が介在しているポリマー若しくはそ
の側鎖にカルボキシル基、アミノ基、リン酸基、スルフ
ォン酸基、またはこれらの塩、水酸基、アミド基、ポリ
オキシエチレン基等の親水性官能基を複数個有するポリ
マーが用いられる。例えば、ポリ(メタ)アクリレート
系、ポリオキシアルキレン系、ポリウレタン系、エポキ
シ開環付加重合系、ポリ(メタ)アクリル酸系、ポリ
(メタ)アクリルアミド系、ポリエステル系、ポリアミ
ド系、ポリアミン系、ポリビニル系、多糖類系或いはセ
ルロース誘導体系等のポリマーが用いられる。なかで
も、側鎖に水酸基、カルボキシル基若しくはそのアルカ
リ金属塩、アミノ基若しくはそのハロゲン化水素塩、ス
ルホン酸基若しくはそのアミン、アルカリ金属、アルカ
リ土類金属塩、又はアミド基のいずれか、またはこれら
を組み合わせたものを繰り返し有するもの、さらにはこ
れらの側鎖の親水性官能基に加えて主鎖セグメントの一
部にポリオキシエチレン基を有するものは、親水性が高
く好ましい。さらに親水性バインダーポリマーの主鎖ま
たは側鎖にウレタン結合またはウレア結合を有するもの
は、親水性のみならず非画像部の耐刷性も向上するの
で、さらに好ましい。
As the hydrophilic binder polymer, a carboxyl group, an amino group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, or a salt, a hydroxyl group, an amide group, a polyoxy group, or a carboxyl group, an amino group, a phosphoric acid group, or a side chain thereof may be used. A networked polymer having a plurality of hydrophilic functional groups such as an ethylene group, or a polymer in which a hetero atom such as oxygen, nitrogen, sulfur, or phosphorus is interposed in a carbon-carbon bond or a carboxyl group in a side chain thereof, A polymer having a plurality of hydrophilic functional groups such as an amino group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, a salt thereof, a hydroxyl group, an amide group, and a polyoxyethylene group is used. For example, poly (meth) acrylate type, polyoxyalkylene type, polyurethane type, epoxy ring-opening addition polymerization type, poly (meth) acrylic acid type, poly (meth) acrylamide type, polyester type, polyamide type, polyamine type, polyvinyl type Polymers such as polysaccharides and cellulose derivatives are used. Among them, any one of a hydroxyl group, a carboxyl group or an alkali metal salt thereof, an amino group or a hydrogen halide salt thereof, a sulfonic acid group or an amine thereof, an alkali metal, an alkaline earth metal salt, or an amide group on the side chain, or these Are repeatedly used, and those having a polyoxyethylene group in a part of the main chain segment in addition to the hydrophilic functional group of these side chains are preferable because of high hydrophilicity. Further, those having a urethane bond or a urea bond in the main chain or side chain of the hydrophilic binder polymer are more preferable because not only the hydrophilicity but also the printing durability of the non-image area are improved.

【0073】親水性バインダーポリマーは公知の種々の
方法により得ることができる。例えば親水性官能基を有
する重合性化合物を重合するから又はこれを他の重合性
モノマーと共重合することにより、親水性バインダーポ
リマーを得ることができる。親水性官能基を有する重合
性化合物としては、例えば(メタ)アクリル酸若しくは
そのアルカリ、アミン塩、イタコン酸若しくはそのアル
カリ、アミン塩、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、(メタ)アクリルアミド、N−モノメチロール
(メタ)アクリルアミド、N−ジメチロール(メタ)ア
クリルアミド、3−ビニルプロピオン酸若しくはそのア
ルカリ、アミン塩、ビニルスルフォン酸若しくはそのア
ルカリ、アミン塩、2−スルホエチル(メタ)アクリレ
ート、ポリオキシエチレングリコールモノ(メタ)アク
リレート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンス
ルホン酸、アシッドホスホオキシポリオキシエチレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、アリルアミン若し
くはそのハロゲン化水素酸塩等の水酸基、カルボキシル
基、スルホン酸基、リン酸若しくはこれらの塩、アミド
基、アミノ基、エーテル基といった親水性基を有する化
合物が用いられる。
The hydrophilic binder polymer can be obtained by various known methods. For example, a hydrophilic binder polymer can be obtained by polymerizing a polymerizable compound having a hydrophilic functional group or by copolymerizing it with another polymerizable monomer. Examples of the polymerizable compound having a hydrophilic functional group include (meth) acrylic acid or its alkali, amine salt, itaconic acid or its alkali, amine salt, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N- Monomethylol (meth) acrylamide, N-dimethylol (meth) acrylamide, 3-vinylpropionic acid or its alkali, amine salt, vinylsulfonic acid or its alkali, amine salt, 2-sulfoethyl (meth) acrylate, polyoxyethylene glycol mono Hydroxyl groups such as (meth) acrylate, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate, allylamine or hydrohalide thereof, Hexyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid or a salt thereof, an amide group, an amino group, a compound having a hydrophilic group such as an ether group is used.

【0074】また親水性層を架橋させるには、例えば親
水性ポリマー中の水酸基、カルボキシル基、アミノ基、
エポキシ基等の官能基を利用して、親水性ポリマーにビ
ニル基、アリル基、(メタ)アクリル基、シンナモイル
基等の重合性不飽和基を導入したものをバインダーポリ
マーとし、これを所望により併用される該不飽和基と共
重合し得るモノマー及び重合開始剤と一緒に適当な溶媒
に溶解し、感光層上に塗布し、乾燥後又は乾燥を兼ねて
三次元架橋させればよい。また、水酸基、アミノ基、カ
ルボキシル基といった活性水素を含有する親水性バイン
ダーポリマーは、イソシアネート化合物又はブロックポ
リイソシアネート化合物と共に活性水素非含有溶剤中に
加えて感光層上に塗布し、乾燥後又は乾燥を兼ねて反応
させて三次元架橋させてもよい。
In order to crosslink the hydrophilic layer, for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group,
A binder polymer obtained by introducing a polymerizable unsaturated group such as a vinyl group, an allyl group, a (meth) acryl group, or a cinnamoyl group into a hydrophilic polymer using a functional group such as an epoxy group is used as a binder polymer. What is necessary is just to dissolve it in a suitable solvent together with the monomer capable of copolymerizing with the unsaturated group and the polymerization initiator, apply it to the photosensitive layer, and carry out three-dimensional crosslinking after drying or also as drying. Further, a hydrophilic binder polymer containing an active hydrogen such as a hydroxyl group, an amino group, and a carboxyl group is added to an active hydrogen-free solvent together with an isocyanate compound or a blocked polyisocyanate compound, and applied on the photosensitive layer, and dried or dried. Reaction may also be performed to effect three-dimensional crosslinking.

【0075】また、親水性バインダーポリマーの共重合
成分にグリシジル(メタ)アクリレートなどのグリシジ
ル基を有するモノマーを併用した場合には、架橋剤とし
て、1,2−エタンジカルボン酸、アジピン酸といった
α,ω−アルカン若しくはアルケンジカルボン酸、1,
2,3−プロパントリカルボン酸、トリメリット酸等の
ポリカルボン酸、1,2−エタンジアミン、ジエチレン
ジアミン、ジエチレントリアミン、α,ω−ビス−(3
−アミノプロピル)−ポリエチレングリコールエーテル
等のポリアミン化合物、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ジエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール等のオリゴアルキレンまたはポリアルキレン
グリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペ
ンタエリスリトール、ソルビトール等のポリヒドロキシ
化合物を用い、これらとの開環反応を利用して三次元架
橋できる。
When a monomer having a glycidyl group such as glycidyl (meth) acrylate is used in combination with the copolymer component of the hydrophilic binder polymer, α, such as 1,2-ethanedicarboxylic acid or adipic acid, is used as a crosslinking agent. ω-alkane or alkenedicarboxylic acid, 1,
Polycarboxylic acids such as 2,3-propanetricarboxylic acid and trimellitic acid, 1,2-ethanediamine, diethylenediamine, diethylenetriamine, α, ω-bis- (3
Polyamino compounds such as -aminopropyl) -polyethylene glycol ether; oligoalkylene or polyalkylene glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol and tetraethylene glycol; and polyhydroxy compounds such as trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol and sorbitol. And three-dimensional cross-linking by utilizing a ring-opening reaction therewith.

【0076】カルボキシル基、アミノ基を有する親水性
バインダーポリマーは、架橋剤として、エチレンまたは
プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチ
レンまたはポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、
1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテル等のポリエ
ポキシ化合物を用いたエポキシ開環反応等を利用して三
次元架橋することができる。
The hydrophilic binder polymer having a carboxyl group or an amino group may be used as a crosslinking agent such as ethylene or propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene or polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether,
Three-dimensional crosslinking can be performed using an epoxy ring-opening reaction using a polyepoxy compound such as 1,6-hexanediol diglycidyl ether and trimethylolpropane triglycidyl ether.

【0077】セルロース誘導体などの多糖類やポリビニ
ルアルコール若しくはその部分鹸化物、グリシドールホ
モ若しくはコポリマー又はこれらをベースとした親水性
バインダーポリマーは、これらが含有する水酸基を利用
し、前述の架橋反応し得る官能基を導入し、前述の方法
で三次元架橋構造をもたらすことができる。他の三次元
架橋構造を形成させる方法としては、合成された親水性
ポリウレタン前駆体が、イソシアネート基末端を有する
場合は、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート、N−モノメチロール
(メタ)アクリルアミド、N−ジメチロール(メタ)ア
クリルアミド、(メタ)アクリル酸、桂皮酸、桂皮アル
コール等の活性水素を有する化合物と、または、水酸基
あるいはアミノ基末端を有する場合は、(メタ)アクリ
ル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、2−イソシア
ナトエチル(メタ)アクリレートなどと反応させる方法
がある。
Polysaccharides such as cellulose derivatives, polyvinyl alcohol or partially saponified products thereof, glycidol homo- or copolymers, or hydrophilic binder polymers based on these are used for the above-mentioned functional groups capable of undergoing a crosslinking reaction by utilizing the hydroxyl groups contained therein. Groups can be introduced to provide a three-dimensional crosslinked structure in the manner described above. As another method for forming a three-dimensional crosslinked structure, when the synthesized hydrophilic polyurethane precursor has an isocyanate group terminal, glycerol mono (meth) acrylate,
Has active hydrogen such as hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, N-monomethylol (meth) acrylamide, N-dimethylol (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, cinnamic acid, and cinnamic alcohol When the compound has a hydroxyl group or an amino group terminal, there is a method of reacting the compound with (meth) acrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate, or the like.

【0078】また、多塩基酸とポリオールや多塩基酸と
ポリアミンとを塗布後、加熱により三次元架橋させた
り、カゼイン、グルー、ゼラチン等の水溶性コロイド形
成化合物を加熱により三次元架橋させて網目構造を有す
る親水性バインダーポリマーを形成してもよい。さら
に、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ビニ
ルアルコールといった水酸基含有モノマーやアリルアミ
ンから合成したホモ又はコポリマー、部分鹸化ポリビニ
ルアルコール、セルロース誘導体といった多糖類、グリ
シドールホモ又はコポリマー等の、水酸基、アミノ基含
有親水性ポリマーと一分子中に二個以上の酸無水物基を
有する多塩基酸無水物との反応で三次元架橋した親水性
バインダーポリマーを形成する方法もある。
Further, after applying a polybasic acid and a polyol or a polybasic acid and a polyamine, a three-dimensional cross-linking is carried out by heating, or a water-soluble colloid-forming compound such as casein, glue or gelatin is three-dimensionally cross-linked by heating. A hydrophilic binder polymer having a structure may be formed. Furthermore, hydroxyl- and amino-group-containing hydrophilic groups such as homo- or copolymers synthesized from hydroxyl-containing monomers such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and vinyl alcohol, and allylamine, polysaccharides such as partially saponified polyvinyl alcohol and cellulose derivatives, and glycidol homo or copolymers. There is also a method of forming a three-dimensionally crosslinked hydrophilic binder polymer by reacting a hydrophilic polymer with a polybasic acid anhydride having two or more acid anhydride groups in one molecule.

【0079】多塩基酸無水物としては、エチレングリコ
ール ビス アンヒドロ トリメリテート、グリセロー
ル トリス アンヒドロトリメリテート、1,3,3
a,4,5,9b ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ
−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト〔1,2
−C〕フラン−1,3−ジオン、3,3′,4,4′−
ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,
2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物を用いる
ことができる。
Examples of polybasic acid anhydrides include ethylene glycol bis anhydro trimellitate, glycerol tris anhydro trimellitate, 1,3,3
a, 4,5,9b hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2
-C] furan-1,3-dione, 3,3 ', 4,4'-
Diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 1,
2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride can be used.

【0080】末端にイソシアネート基を残したポリウレ
タンとポリアミン又はポリオール等の活性水素含有化合
物と後述の他の成分とを溶剤中に溶解若しくは分散させ
支持体に塗布して溶剤を除去した後、マイクロカプセル
が破壊しない温度でキュアリングし三次元架橋させるこ
ともできる。この場合、親水性はポリウレタン若しくは
活性水素含有化合物のいずれか又は両方のセグメント、
側鎖に親水性官能基を導入することにより付与すればよ
い。親水性を発現するセグメント、官能基としては上記
記載の中から適宜選択すればよい。
An active hydrogen-containing compound such as a polyurethane or a polyamine or a polyol having an isocyanate group at the end and other components described below are dissolved or dispersed in a solvent and coated on a support to remove the solvent. Can be cured at a temperature at which they do not break down to form a three-dimensional crosslink. In this case, the hydrophilicity is either the segment of the polyurethane or the active hydrogen containing compound or both,
It may be provided by introducing a hydrophilic functional group into the side chain. The segment and the functional group that express hydrophilicity may be appropriately selected from the above description.

【0081】ポリイソシアネート化合物としては、2,
4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイ
ソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリジ
ンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシ
アネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジ
イソシアネート、リジンジイソシアネート、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイ
ソシアネート等が用いられる。
As the polyisocyanate compound, 2,
4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, lysine diisocyanate, Triphenylmethane triisocyanate, bicycloheptane triisocyanate and the like are used.

【0082】塗布工程前後のハンドリング時、イソシア
ネート基が変化するのを防ぐことを目的に、イソシアネ
ート基を公知の方法でブロック化(マスク化)しておく
のが好ましい場合もある。たとえば、岩田敬治著「プラ
スチック材料講座ポリウレタン樹脂」日刊工業新聞社
刊(1974)、頁51−52、岩田敬治著「ポリウレ
タン樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊(198
7)、頁98、419、423、499、等に従い、酸
性亜硫酸ナトリウム、芳香族2級アミン、3級アルコー
ル、アミド、フェノール、ラクタム、複素環化合物、ケ
トオキシム等でブロックすればよい。酸性亜硫酸ナトリ
ウムのようにイソシアネート再生温度が低温であって親
水性のものが好ましい。
In handling before and after the coating step, it is sometimes preferable to block (mask) the isocyanate group by a known method in order to prevent the isocyanate group from changing. For example, Keiji Iwata, "Plastic Materials Course Polyurethane Resin", Nikkan Kogyo Shimbun (1974), pp. 51-52, Keiji Iwata, "Polyurethane Resin Handbook", Nikkan Kogyo Shimbun (198)
7), pages 98, 419, 423, 499, etc., it may be blocked with sodium acid sulfite, aromatic secondary amine, tertiary alcohol, amide, phenol, lactam, heterocyclic compound, ketoxime or the like. It is preferable that the isocyanate regeneration temperature is low and hydrophilic such as sodium acid sulfite.

【0083】前述の非ブロック化或いはブロック化ポリ
イソシアネートの何れかに付加重合性不飽和基を導入
し、架橋の強化に利用してもよい。架橋間平均分子量等
架橋度の程度は、使用するセグメントの種類、官能基の
種類と量等により異なるが、要求される耐刷性に応じ決
めていけばよい。通常、架橋間平均分子量は500〜5
万の範囲で設定される。500より短いとかえって脆く
なる傾向があり、5万より長いと湿し水で膨潤し耐刷性
が損なわれるので好ましくない場合もある。耐刷性、親
水性のバランス上、800〜3万さらには1000〜1
万程度が実用的である。親水性バインダーポリマー中に
は、さらに下記のような種々の単官能又は多官能モノマ
ーを併用してもよい。
An addition-polymerizable unsaturated group may be introduced into any of the above-mentioned unblocked or blocked polyisocyanates and used for strengthening crosslinking. The degree of the degree of crosslinking such as the average molecular weight between crosslinks varies depending on the type of the segment used, the type and amount of the functional group, and the like, but may be determined according to the required printing durability. Usually, the average molecular weight between crosslinks is 500-5.
It is set in the range of 10,000. If it is shorter than 500, it tends to be brittle, and if it is longer than 50,000, it may be unfavorable because it swells with fountain solution and printing durability is impaired. 800 to 30,000, or even 1000 to 1 on balance of printing durability and hydrophilicity
About ten thousand is practical. In the hydrophilic binder polymer, various monofunctional or polyfunctional monomers as described below may be used in combination.

【0084】山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブッ
ク」大成社刊(1981)、加藤清視著「紫外線硬化シ
ステム」総合技術センター刊(1989)、加藤清視編
「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」高分子刊行
会(1985)、赤松清監修「新・感光性樹脂の実際技
術」シーエムシー、頁102−14、(1987)等に
記載されているN,N′−メチレンビスアクリルアミ
ド、(メタ)アクリロイルモルホリン、ビニルピリジ
ン、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメ
チル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノ
プロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルア
ミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルア
ミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルア
ミノネオペンチル(メタ)アクリレート、N−ビニル−
2−ピロリドン、ダイアセトンアクリルアミド、N−メ
チロール(メタ)アクリルアミド、パラスチレンスルホ
ン酸とその塩、
Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, "Crosslinking Agent Handbook" Taiseisha Publishing (1981), Kiyomi Kato, "Ultraviolet Curing System", published by Integrated Technology Center (1989), Kiyomi Kato, "UV / EB Curing Handbook ( N, N'-methylenebisacrylamide described in Polymer Publishing Association (1985), edited by Kiyoshi Akamatsu, "Practical Technology of New Photosensitive Resins", CMC, pp. 102-14, (1987). , (Meth) acryloylmorpholine, vinylpyridine, N-methyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminoethyl (meth) Acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoneopentyl (meth ) Acrylate, N- vinyl -
2-pyrrolidone, diacetone acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, p-styrenesulfonic acid and its salt,

【0085】メトキシトリエチレングリコール(メタ)
アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール(メ
タ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール
(メタ)アクリレート(PEGの数平均分子量40
0)、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリ
レート、(PEGの数平均分子量1000)、ブトキシ
エチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール
(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコ
ール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチル
(メタ)アクリレート、ジメチロールトリシクロデカン
ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート(PEGの数平均分子量40
0)、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
(PEGの数平均分子量600)、ポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート(PEGの数平均分子量1
000)、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート(PEGの数平均分子量400)、
Methoxytriethylene glycol (meth)
Acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (PEG has a number average molecular weight of 40
0), methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, (PEG number average molecular weight 1000), butoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, nonyl Phenoxyethyl (meth) acrylate, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate (PEG has a number average molecular weight of 40
0), polyethylene glycol di (meth) acrylate (number average molecular weight of PEG 600), polyethylene glycol di (meth) acrylate (number average molecular weight of PEG 1)
000), polypropylene glycol di (meth) acrylate (number average molecular weight of PEG 400),

【0086】2,2−ビス〔4−(メタクリロキシエト
キシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(メタ
クリロキシ・ジエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2
−ビス〔4−(メタクリロキシ・ポリエトキシ)フェニ
ル〕プロパンまたはそのアクリレート体、β−(メタ)
アクリロイルオキシエチルハイドロジエンフタレート、
β−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジエン
サクシネート、ポリエチレンまたはポリプロピレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1,3−ブチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキ
サンジオール(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ(メタ)アクリレート、
2,2-bis [4- (methacryloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloxydiethoxy) phenyl] propane, 2,2
-Bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane or its acrylate, β- (meth)
Acryloyloxyethyl hydrogendiene phthalate,
β- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen succinate, polyethylene or polypropylene glycol mono (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1, 6-hexanediol (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate,

【0087】テトラメチロールメタントリ(メタ)アク
リレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アク
リレート、イソボルニア(メタ)アクリレート、ラウリ
ル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレ
ート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソデシル
(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリ
レート、テトラフルフリル(メタ)アクリレート、ベン
ジル(メタ)アクリレート、モノ(2−アクリロイルオ
キシエチル)アシッドホスフェートまたはそのメタクリ
ル体、グリセリンモノまたはジ(メタ)アクリレート、
トリス(2−アクリロキシエチル)、イソシアヌレート
またはそのメタクリル体、N−フェニルマレイミド、N
−(メタ)アクリルオキシコハク酸イミド、N−ビニル
カルバゾール、ジビニルエチレン尿素、ジビニルプロピ
レン尿素等がある。
Tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate, isobornia (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate , Cyclohexyl (meth) acrylate, tetrafurfuryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, mono (2-acryloyloxyethyl) acid phosphate or its methacrylic body, glycerin mono- or di (meth) acrylate,
Tris (2-acryloxyethyl), isocyanurate or its methacrylic body, N-phenylmaleimide, N
-(Meth) acryloxysuccinimide, N-vinylcarbazole, divinylethyleneurea, divinylpropyleneurea and the like.

【0088】また、本発明に用いられる親水性層中に
は、湿し水の保水性を向上させる目的で、粒径10〜4
0nmのコロイダルシリカ、粒径10〜100nmのコ
ロイダルアルミナ、酢酸、ギ酸、クエン酸、酒石酸、リ
ンゴ酸、イタコン酸等のカルボン酸又はその塩等を親水
性層の全固形分に対して、0〜90重量%、好ましくは
0〜80重量%の配合率で含有させることができる。
The hydrophilic layer used in the present invention has a particle diameter of 10 to 4 for the purpose of improving the water retention of the dampening solution.
0 nm colloidal silica, colloidal alumina having a particle size of 10 to 100 nm, acetic acid, formic acid, citric acid, tartaric acid, malic acid, a carboxylic acid such as itaconic acid or a salt thereof, relative to the total solid content of the hydrophilic layer, is 0 to 90% by weight, preferably 0 to 80% by weight can be contained.

【0089】またさらに、親水性層中には、感光性層へ
の塗布性を向上させる目的で、適当な界面活性剤を、親
水性層塗布溶液の全固形分に対して、0.01〜10重
量%の配合率を含有させることができる。本発明に用い
られる親水性層中には、感光性層のアブレーション時の
親水性層の除去を容易にするため、前記感光性層に使用
した光熱変換色素或いは顔料を親水性層の全固形分に対
して5〜80重量%、好ましくは10〜70重量%、さ
らに好ましくは20〜60重量%の配合率で含有させる
ことができる。
Further, an appropriate surfactant is added to the hydrophilic layer in an amount of 0.01 to 0.01% based on the total solid content of the hydrophilic layer coating solution for the purpose of improving the coating property on the photosensitive layer. A blending ratio of 10% by weight can be contained. In the hydrophilic layer used in the present invention, in order to facilitate the removal of the hydrophilic layer during ablation of the photosensitive layer, the photothermal conversion dye or pigment used in the photosensitive layer is added to the total solid content of the hydrophilic layer. 5 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, more preferably 20 to 60% by weight.

【0090】本発明に用いられる親水性層の膜厚は、
0.1〜100μm、好ましくは0.2〜50μm、さ
らに好ましくは0.5〜20μmである。上記の感光層
又はシリコーンゴム層若しくは親水性層を形成する組成
物は、それぞれ適当な溶剤に溶解して、支持体又は感光
層上にワイヤバー、スピナー、ロールコーター等の各種
の塗布装置により塗布した後、乾燥して、それぞれ感光
層又はシリコーンゴム層若しくは親水性層を形成するこ
とができる。感光性層の塗布溶剤としては、例えばメチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸
ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル等のエステル
類、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、四塩化
炭素、トリクロロエチレン、トリクロロエタン等の炭化
水素やハロゲン化炭化水素類、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、テトラヒドロフラン等のエーテル類、さ
らにはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ベントキノン、ジメチルホルムアミドなど常用の
ものを用いることができる。シリコーンゴム層の塗布溶
剤としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、石油エー
テル、脂肪族炭化水素系溶剤エクソン化学(株)製:ア
イソパーE、H、G及びこれらの溶剤と上記の感光層塗
布溶剤との混合溶媒等を用いることができる。親水性層
の塗布溶剤としては、通常は水、メタノール、エタノー
ル等が用いられる。なお、シリコーンゴム層の上には、
さらにこれを保護するため、ポリプロピレンシート、ポ
リエチレンシート、ポリエチレンテレフタレート等の離
型性プラスチックシートや離型紙などをラミネートして
もよい。
The hydrophilic layer used in the present invention has a thickness of
It is 0.1 to 100 μm, preferably 0.2 to 50 μm, and more preferably 0.5 to 20 μm. The composition for forming the above-mentioned photosensitive layer or silicone rubber layer or hydrophilic layer was dissolved in an appropriate solvent, respectively, and coated on a support or a photosensitive layer by various coating devices such as a wire bar, a spinner, and a roll coater. Thereafter, drying is performed to form a photosensitive layer, a silicone rubber layer, or a hydrophilic layer, respectively. Examples of the coating solvent for the photosensitive layer include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; esters such as butyl acetate, amyl acetate and ethyl propionate; and hydrocarbons such as toluene, xylene, monochlorobenzene, carbon tetrachloride, trichloroethylene, and trichloroethane. And halogenated hydrocarbons, ethers such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and tetrahydrofuran, as well as common ones such as propylene glycol monomethyl ether acetate, bentquinone, and dimethylformamide. As the coating solvent for the silicone rubber layer, n-hexane, cyclohexane, petroleum ether, aliphatic hydrocarbon solvent Exxon Chemical Co., Ltd .: Isopar E, H, G, and these solvents and the above-mentioned photosensitive layer coating solvent A mixed solvent or the like can be used. As a coating solvent for the hydrophilic layer, water, methanol, ethanol or the like is usually used. In addition, on the silicone rubber layer,
Further, in order to protect this, a release plastic sheet such as a polypropylene sheet, a polyethylene sheet, or a polyethylene terephthalate, or a release paper may be laminated.

【0091】本発明に係るレーザーダイレクト画像形成
材料は、通常680〜1100nmの近赤外光を発振す
る半導体レーザー光を5〜30μm径に集光したビーム
スポットにより走査露光して露光部分をアブレーション
させ、後処理なしにレジスト画像、色材画像、又は印刷
版として使用されるが、アブレーションで発生した感光
層又はシリコーンゴム層や親水性層の微粒子を除去する
目的で、画像形成材料表面に必要に応じて水溶液又は有
機溶剤を供給しながら、ブラシ、パッド、超音波、スプ
レー等の物理刺激を与える後処理を行ってもよい。
The laser direct image-forming material according to the present invention is usually subjected to ablation of the exposed portion by scanning and exposing a semiconductor laser beam oscillating near infrared light of 680 to 1100 nm with a beam spot condensed to a diameter of 5 to 30 μm. It is used as a resist image, color material image, or printing plate without post-processing, but is necessary on the surface of the image forming material for the purpose of removing fine particles of the photosensitive layer or silicone rubber layer or hydrophilic layer generated by ablation. Post-treatment for applying physical stimuli such as brushes, pads, ultrasonic waves, and sprays may be performed while supplying an aqueous solution or an organic solvent accordingly.

【0092】また、アブレーションで発生した微粒子を
除去する他の方法としては、該微粒子に対して接着性の
高い表面を有するカバーシートを露光済の画像形成材料
上に、画像形成材料の感光面と接着性のカバーシート表
面が合わさるようにラネミートした後、剥離する方法
や、レーザー光を通過させるこのようなカバーシートを
露光前に上記と同様にラミネートし、露光後に剥離して
画像形成材料上の微粒子を除く方法等もある。このよう
なカバーシートとしては、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリプロピレン、ポリカーボネート、紙等に、シリ
コーンゴム、アイオノマー、酢酸ビニル等の粘着層を設
けたものが用いられる。
As another method for removing fine particles generated by ablation, a cover sheet having a surface having a high adhesiveness to the fine particles is placed on an exposed image forming material, and the photosensitive surface of the image forming material is removed. After ranmeating so that the adhesive cover sheet surfaces fit together, a method of peeling or laminating such a cover sheet through which laser light passes before exposure in the same manner as above, and peeling after exposure on the image forming material There is also a method for removing fine particles. As such a cover sheet, a sheet provided with an adhesive layer of silicone rubber, ionomer, vinyl acetate, or the like on polyethylene terephthalate, polypropylene, polycarbonate, paper, or the like is used.

【0093】なお、本発明に係るレーザーダイレクト画
像形成材料で印刷版を作成する方法としては、上記以外
に、粗面化及び陽極酸化処理により表面を親水性したア
ルミニウムシート等に、上記に形成した画像を重ね合わ
せ、加熱してアルミニウムシート等に画像を転写して用
いることができる。。また更なる別法として、本発明に
係る画像形成材料を前記のアルミニウムシート等に重ね
合わせ、画像形成材料の裏面からレーザー光を照射し、
露光部分の感光層をアブレーションによりアルミニウム
シート上に移行させる方法によることもできる。
As a method for preparing a printing plate with the laser direct image forming material according to the present invention, in addition to the methods described above, the above method was applied to an aluminum sheet or the like whose surface was made hydrophilic by roughening and anodizing. Images can be superposed, heated and transferred to an aluminum sheet or the like for use. . As still another alternative, the image forming material according to the present invention is overlaid on the aluminum sheet or the like, and a laser beam is irradiated from the back surface of the image forming material,
It is also possible to adopt a method in which the photosensitive layer in the exposed portion is transferred onto an aluminum sheet by ablation.

【0094】[0094]

【実施例】以下に実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。 アジド基を有する高分子化合物(P−1)の合成;ジク
ロロメタンに、2−クロロエチルビニルエーテルを1.
5×10-2モル/l、トリフェニルスルホニウムテトラ
フルオロボレートを3.5×10-5モル/lとなるよう
に溶解させた溶液300mlを、1kW高圧水銀灯を装
着した内部光照射型光反応装置に仕込み、液中に窒素ガ
スを吹込みながら、室温で4時間反応させた。次いでこ
れに10倍量のn−ヘキサンを加え、生成したポリ(2
−クロロエチルビニルエーテル)を析出させて回収し
た。回収したポリ(2−クロロエチルビニルエーテル)
は60℃で真空乾燥した。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Synthesis of polymer compound (P-1) having an azide group; 2-chloroethyl vinyl ether was added to dichloromethane in the form of 1.
An internal light irradiation type photoreactor equipped with a 1 kW high-pressure mercury lamp, and 300 ml of a solution in which 5 × 10 −2 mol / l and triphenylsulfonium tetrafluoroborate are dissolved at 3.5 × 10 −5 mol / l. And reacted at room temperature for 4 hours while blowing nitrogen gas into the solution. Then, 10 times the amount of n-hexane was added thereto, and the resulting poly (2
-Chloroethyl vinyl ether) was collected by precipitation. Recovered poly (2-chloroethyl vinyl ether)
Was vacuum dried at 60 ° C.

【0095】ポリ(2−クロロエチルビニルエーテル)
2gとアジ化ナトリウム2gとを30gのジメチルスル
ホキシドに加え、撹拌しながら80℃で30時間反応さ
せた。反応液を室温に戻し、撹拌下にこれに100gの
水を徐々に加え、析出したアジド基を有する高分子化合
物(第2表のP−1)回収し、40℃で真空乾燥した。
同様にして第2表のP−9及びP−11のアジド基を有
する高分子化合物を合成した。
Poly (2-chloroethyl vinyl ether)
2 g and 2 g of sodium azide were added to 30 g of dimethyl sulfoxide, and reacted at 80 ° C. for 30 hours with stirring. The reaction solution was returned to room temperature, 100 g of water was gradually added thereto with stirring, and the precipitated polymer compound having an azide group (P-1 in Table 2) was recovered and dried in vacuo at 40 ° C.
Similarly, polymer compounds having an azide group of P-9 and P-11 in Table 2 were synthesized.

【0096】実施例1〜10及び比較例1〜3 レーザーダイレクト画像形成材料の作成;第4表に記載
の感光層を形成する近赤外線吸収剤、アジド基を有する
高分子化合物及び有機高分子物質を、溶剤(N−メチル
ピロリドン、シクロヘキサノン及びエタノールを重量比
で6:3:1で混合)に添加して、感光層形成用塗布溶
液を調製した。第4表において、括弧内の数値は固形分
の重量%を示す。これを基板上に乾燥膜厚が1.5μm
となるように塗布して、画像形成材料を作成した。な
お、基板、近赤外線吸収剤及び有機高分子物質としては
下記のものを用いた。
Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 Preparation of Laser Direct Image Forming Materials; Near-Infrared Absorbers for Forming Photosensitive Layers, Polymer Compounds Having Azide Groups and Organic Polymer Substances as shown in Table 4 Was added to a solvent (N-methylpyrrolidone, cyclohexanone and ethanol were mixed at a weight ratio of 6: 3: 1) to prepare a coating solution for forming a photosensitive layer. In Table 4, the values in parentheses indicate the weight percentage of solid content. This is dried on a substrate to a dry thickness of 1.5 μm.
To form an image forming material. The following were used as the substrate, near-infrared absorber and organic polymer substance.

【0097】基板; 基板(A):厚さ100μmのポリエチレンテレフタレ
ートシート上に、厚さ30μmのポリエチレンシートを
熱軟化層としてラミネートした複合シート。 基板(B):厚さ150μmのアルミニウムシートに粗
面化処理及び陽極酸化処理を施して、表面を親水化した
アルミニウムシート。
Substrate; Substrate (A): a composite sheet obtained by laminating a 30 μm-thick polyethylene sheet as a heat-softening layer on a 100 μm-thick polyethylene terephthalate sheet. Substrate (B): an aluminum sheet having a 150 μm-thick aluminum sheet whose surface has been made hydrophilic by performing a roughening treatment and an anodizing treatment.

【0098】[0098]

【化14】 Embedded image

【0099】吸収剤(B):ニグロシン(N−90,オ
リエンタル色素社製品) 有機高分子物質; 高分子物質(A):フェノキシ樹脂(PKH−J,ユニ
オンカーバイド社製品) 高分子物質(B):酢酸ビニル−バーサチック酸ビニル
共重合体(コーポニール1635,日本合成化学社製
品) 高分子物質(C):フェノール−ホルムアミド縮合ノボ
ラック樹脂(フェノール、O−クレゾール及びメタクレ
ゾールをモル比で20:30:50で混合したものとホ
ルムアルデヒドとの縮合物重量平均分子量 4500)
Absorbent (B): Nigrosine (N-90, product of Oriental Dye) Organic polymer; Polymer (A): Phenoxy resin (PKH-J, product of Union Carbide) Polymer (B) : Vinyl acetate-vinyl versatate copolymer (Corponyl 1635, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) Polymeric substance (C): phenol-formamide condensed novolak resin (phenol: O-cresol and meta-cresol in a molar ratio of 20:30) : Condensate of formaldehyde and a mixture obtained by mixing at a ratio of 50: 4500)

【0100】画像形成及び評価;次の4つの方法で画像
形成を行い、その感度を評価した結果を第4表に示す。 画像形成(A):画像形成材料を周囲が20cmの回転
ドラムに感光層が外側になるようにして固定した。これ
を回転させつつ、これに半導体レーザー(日立製作所
製、HL8325G)からのレーザー光(830nm,
30mW)をビーム径15μmに集光させて照射し、走
査露光して感光層の露光部分をアブレーションにより消
失させ、画像を形成した。 画像形成(B):画像形成(A)により画像形成された
画像形成材料の感光層の上に受像シートを重ね合わせ、
100℃のローラーを用い、2kg/cm2 の圧力で5
0cm/分の速度で押圧して、受像シート上に画像を転
写した。 画像形成(C):画像形成材料の感光層の上に受像シー
トを重ね合わせたものを、画像形成材料の基板が外側に
なるようにして周囲20cmの回転ドラムに取付けた。
これを回転させつつ、これに半導体レーザー(日立製作
所製、HL8325L)からのレーザー光(830n
m,30mW)をビーム径15μmに集光させて照射
し、アブレーションにより露光部分の感光層を受像シー
トに移行させ、受像シート上に画像を形成した。 画像形成(D):画像形成材料を周囲が20cmの回転
ドラムに感光層が外側になるようにして取付けた。これ
を回転させつつ、これに半導体レーザー(日立製作所
製、HL8325L)からのレーザー光(830nm,
30mW)をビーム径15μmに集光させて照射し、露
光部分の一部の感光層がアブレーションされる程度に露
光した。ついでこの露光済の画像形成材料を、ポジ型感
光性平版用アルカリ現像液(コニカ社製のDP−4を4
倍に稀釈したもの)に25℃で1分間浸漬したのちスポ
ンジで5回こすって、基板上にポジ画像を形成した。
Image formation and evaluation; Table 4 shows the results of image formation and evaluation of the sensitivity by the following four methods. Image formation (A): The image forming material was fixed on a rotating drum having a circumference of 20 cm such that the photosensitive layer was on the outside. While rotating this, a laser beam (830 nm, 830 nm from a semiconductor laser (manufactured by Hitachi, Ltd., HL8325G)) was applied thereto.
(30 mW) was condensed to a beam diameter of 15 μm, irradiated, scanned and exposed to remove the exposed portion of the photosensitive layer by ablation to form an image. Image formation (B): superimposing an image receiving sheet on a photosensitive layer of an image forming material on which an image has been formed by image formation (A);
Using a roller at 100 ° C. and a pressure of 2 kg / cm 2 ,
The image was transferred onto the image receiving sheet by pressing at a speed of 0 cm / min. Image formation (C): An image receiving sheet was superimposed on a photosensitive layer of an image forming material, and attached to a rotating drum having a circumference of 20 cm with the substrate of the image forming material facing outside.
While rotating this, a laser beam (830n) from a semiconductor laser (HL8325L, manufactured by Hitachi, Ltd.)
m, 30 mW) was condensed to a beam diameter of 15 μm and irradiated, and the exposed portion of the photosensitive layer was transferred to the image receiving sheet by ablation to form an image on the image receiving sheet. Image formation (D): The image forming material was mounted on a rotating drum having a circumference of 20 cm such that the photosensitive layer was on the outside. While rotating this, a laser beam (830 nm, from a semiconductor laser (HL8325L, manufactured by Hitachi, Ltd.))
(30 mW) was condensed to a beam diameter of 15 μm and irradiated, and the light was exposed to such an extent that a portion of the exposed portion of the photosensitive layer was ablated. Then, the exposed image forming material was washed with an alkali developing solution for positive photosensitive lithographic plate (DP-4 manufactured by Konica Co., Ltd.).
(One-fold diluted) at 25 ° C. for 1 minute, and then rubbed with a sponge five times to form a positive image on the substrate.

【0101】なお、上記の画像形成(B)及び(C)に
おいて、受像シートとしては下記のものを用いた。 受像シート(A):厚さ100μmの発泡ポリエチレン
テレフタレートシート 受像シート(B):特菱アート(三菱製紙社製品) 感度の評価;回転ドラムの回転数(=走査速度)を変化
させて露光を行ない画像形成可能(画像形成(A)及び
(D)では基板上への画像形成、画像形成(B)及び
(C)では受像シート上への画像形成)な最高走査速度
(cm/s)を測定した。
In the above image formations (B) and (C), the following image-receiving sheets were used. Image receiving sheet (A): Foamed polyethylene terephthalate sheet having a thickness of 100 μm Image receiving sheet (B): Tokishi Art (Mitsubishi Paper Manufacturing Co., Ltd.) Sensitivity evaluation: Exposure is performed by changing the number of revolutions of the rotating drum (= scanning speed). The maximum scanning speed (cm / s) at which image formation is possible (image formation on the substrate in image formation (A) and (D), image formation on the image receiving sheet in image formation (B) and (C)) is measured. did.

【0102】[0102]

【表20】 [Table 20]

【0103】*1 感光層の上に下記の組成のシリコー
ンゴム層形成用の組成物を塗布して厚さ1μmのシリコ
ーンゴム層を設け、湿し水不要印刷版とした。
* 1 A composition for forming a silicone rubber layer having the following composition was applied on the photosensitive layer to provide a silicone rubber layer having a thickness of 1 μm, thereby preparing a printing plate requiring no dampening solution.

【0104】[0104]

【化15】 Embedded image

【0105】*2 感光層の上に、ポリビニルアルコー
ル(日本合成化学社製品、GL−05)の10重量%水
溶液を塗布して、厚さ1μmの親水性層を設けた。 *3 画像形成しなかった。
* 2 A 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (GL-05, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) was applied on the photosensitive layer to provide a hydrophilic layer having a thickness of 1 μm. * 3 No image was formed.

【0106】[0106]

【発明の効果】本発明によれば感光層のアブレーション
効果が向上し、感度に優れたレーザーダイレクト画像形
成材料を提供することができる。
According to the present invention, a laser direct image forming material having an improved ablation effect of the photosensitive layer and excellent sensitivity can be provided.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に少くとも光熱変換物質を含有す
る感光層を有するレーザーダイレクト画像形成材料にお
いて、感光層中に式(1)で示される重合性モノマーか
ら誘導された構造を有するアジド基を有する高分子化合
物を含有していることを特徴とするレーザーダイレクト
画像形成材料。 【化1】 〔式中、R1 は水素原子又は炭素数1〜15のアルキル
基を表わす。R2 は炭素数1〜15のアルキレン鎖を表
わし、アルキレン鎖上には炭素数1〜10のアルキル
基、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、水酸基、炭素数
1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10のアルコキシ
カルボニル基、炭素数1〜10のアシル基、炭素数1〜
10のアシルオキシ基、フェニル基及びナフチル基から
選ばれた置換基が結合していてもよい。〕
1. A laser direct image forming material having a photosensitive layer containing at least a photothermal conversion substance on a substrate, wherein an azide group having a structure derived from a polymerizable monomer represented by the formula (1) in the photosensitive layer. A laser direct image-forming material comprising a polymer compound having the following formula: Embedded image [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. R 2 represents an alkylene chain having 1 to 15 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a bromine atom, a chlorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, 1 to 10 alkoxycarbonyl groups, 1 to 10 carbon acyl groups, 1 to 1 carbon atoms
Ten substituents selected from an acyloxy group, a phenyl group and a naphthyl group may be bonded. ]
【請求項2】 式(1)において、R1 が水素原子又は
メチル基であり、R 2 がエチレン又はn−プロピレン基
であることを特徴とする請求項1記載のレーザーダイレ
クト画像形成材料。
2. In the formula (1), R1Is a hydrogen atom or
A methyl group, TwoIs an ethylene or n-propylene group
2. The laser die according to claim 1, wherein
Image forming material.
【請求項3】 基板上に少くとも光熱変換物質を含有す
る感光層を有し、その上にシリコーンゴム層を有するレ
ーザーダイレクト湿し水不要感光性印刷版において、感
光層中に式(2)で示される重合性モノマーから誘導さ
れた構造を有するアジド基を有する高分子化合物を含有
していることを特徴とするレーザーダイレクト湿し水不
要感光性印刷版。 【化2】 〔式中、R1 は水素原子又は炭素数1〜15のアルキル
基を表わす。R2 は炭素数1〜15のアルキレン鎖を表
わし、アルキレン鎖上には炭素数1〜10のアルキル
基、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、水酸基、炭素数
1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10のアルコキシ
カルボニル基、炭素数1〜10のアシル基、炭素数1〜
10のアシルオキシ基、フェニル基及びナフチル基から
選ばれた置換基が結合していてもよい。〕
3. A laser direct dampening water-free photosensitive printing plate having a photosensitive layer containing at least a photothermal conversion substance on a substrate and having a silicone rubber layer on the photosensitive layer, wherein the formula (2) is contained in the photosensitive layer. A laser direct dampening solution-free photosensitive printing plate comprising a polymer compound having an azide group having a structure derived from a polymerizable monomer represented by the formula: Embedded image [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. R 2 represents an alkylene chain having 1 to 15 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a bromine atom, a chlorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, 1 to 10 alkoxycarbonyl groups, 1 to 10 carbon acyl groups, 1 to 1 carbon atoms
Ten substituents selected from an acyloxy group, a phenyl group and a naphthyl group may be bonded. ]
【請求項4】 基板上に少くとも光熱変換物質を含有す
る感光層を有し、その上に親水性層を有するレーザーダ
イレクト感光性印刷版において、感光層中に式(3)で
示される重合性モノマーから誘導された構造を有するア
ジド基を有する高分子化合物を含有していることを特徴
とするレーザーダイレクト感光性印刷版。 【化3】 〔式中、R1 は水素原子又は炭素数1〜15のアルキル
基を表わす。R2 は炭素数1〜15のアルキレン鎖を表
わし、アルキレン鎖上には炭素数1〜10のアルキル
基、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、水酸基、炭素数
1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10のアルコキシ
カルボニル基、炭素数1〜10のアシル基、炭素数1〜
10のアシルオキシ基、フェニル基及びナフチル基から
選ばれた置換基が結合していてもよい。〕
4. In a laser direct photosensitive printing plate having a photosensitive layer containing at least a photothermal conversion substance on a substrate and a hydrophilic layer thereon, the polymerization represented by the formula (3) is contained in the photosensitive layer. A laser direct photosensitive printing plate comprising a polymer compound having an azide group having a structure derived from a hydrophilic monomer. Embedded image [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. R 2 represents an alkylene chain having 1 to 15 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a bromine atom, a chlorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, 1 to 10 alkoxycarbonyl groups, 1 to 10 carbon acyl groups, 1 to 1 carbon atoms
Ten substituents selected from an acyloxy group, a phenyl group and a naphthyl group may be bonded. ]
【請求項5】 式(2)又は式(3)において、R1
水素原子又はメチル基であり、R2 がエチレン又はn−
プロピレン基であることを特徴とする請求項3又は4記
載の感光性印刷版。
5. In the formula (2) or (3), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is ethylene or n-
5. The photosensitive printing plate according to claim 3, wherein the photosensitive printing plate is a propylene group.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002023364A (en) * 2000-07-13 2002-01-23 Mitsubishi Chemicals Corp Positive type photosensitive composition and positive type photosensitive planographic printing plate
US6596460B2 (en) 2000-12-29 2003-07-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions
US7544461B2 (en) 2004-07-22 2009-06-09 Kansai Paint Co., Ltd. Near infrared ray activation type positive resin composition

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