JPH10152626A - Water-repellent member and water-repellent coating composition - Google Patents

Water-repellent member and water-repellent coating composition

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JPH10152626A
JPH10152626A JP32794696A JP32794696A JPH10152626A JP H10152626 A JPH10152626 A JP H10152626A JP 32794696 A JP32794696 A JP 32794696A JP 32794696 A JP32794696 A JP 32794696A JP H10152626 A JPH10152626 A JP H10152626A
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JP
Japan
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water
repellent
cobalt
silicone
photocatalyst
Prior art date
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Application number
JP32794696A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Kitamura
厚 北村
Makoto Hayakawa
信 早川
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Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
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Publication date
Application filed by Toto Ltd filed Critical Toto Ltd
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Publication of JPH10152626A publication Critical patent/JPH10152626A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a water-repellent member showing persistent surface repellency for a long term by forming a surface layer containing photocatalyst particles, a water-repellent silicone and a substance which prevents the silicone from being hydrophilized by photoexcitation on the surface of a substrate or immobilizing a substance which prevents the water-repellent silicone from being hydrophilized on at least part of the surface layer. SOLUTION: Examples of the photocatalysts include anatase titanium oxide, zinc oxide, tin oxide and strontium titanate. The silicone is a resin represented by the average compositional formula: Rp SiO(4-p)/2 (wherein R is a functional group comprising at least one monovalent organic group or a functional group comprising at least two members selected among monovalent organic groups and hydrogen groups; X is an alkoxyl or a halogen; and p is a number in the range: 0<<2. Examples of the substances which inhibit the water-repellent silicone from being hydrophilized by the photoexcitation by the photocatalyst include cobalt alloys, cobalt oxides, cobalt chlorides and cobalt sulfates.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、抗菌、脱臭、防汚
等の光触媒による酸化分解性を発揮しつつ、撥水性シリ
コ−ンによる表面の撥水性を長期にわたり維持可能な部
材、及び基材表面に塗膜形成すると、塗膜面に上記部材
と同様の性質を付与することを可能とする撥水性コ−テ
ィング組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a member and a substrate capable of maintaining the surface water repellency of a water repellent silicone for a long period of time while exhibiting oxidative decomposability by a photocatalyst such as antibacterial, deodorizing and antifouling. The present invention relates to a water-repellent coating composition capable of imparting the same properties as the above-mentioned members to a coated film surface when a coating film is formed on the surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光触媒による酸化分解性を利用し
て抗菌、脱臭、防汚等を行うことが広く提案されてい
る。また、本発明者らにより、光触媒には従来知られて
いた酸化分解性以外に、表面を光励起に応じて超親水化
する性質があることも見出され、その性質を利用して透
明部材や鏡の曇り防止や雨天時の視界性向上、建造物等
の各種部材の降雨洗浄性向上、水のみによる洗浄可能性
確保等を行うことができることも、WO96/2937
5号において提案されている。
2. Description of the Related Art In recent years, it has been widely proposed to carry out antibacterial, deodorizing, antifouling, etc. utilizing the oxidative decomposability of a photocatalyst. The present inventors have also found that, besides the conventionally known oxidative decomposability, the photocatalyst has a property of making the surface superhydrophilic in response to photoexcitation, and utilizing this property, a transparent member or the like can be used. It is also possible to prevent fogging of mirrors, improve visibility in rainy weather, improve rainfall cleaning of various members such as buildings, and secure cleaning possibility only with water.
No. 5 is proposed.

【0003】WO96/29375号の一態様に、基材
表面に光触媒とシリコ−ンとからなる表面層が形成され
ている部材がある。この部材は、製造直後にはシリコ−
ンの有する撥水性質により90゜程度の撥水性を示す
が、光触媒の光励起により、シリコ−ン分子中のシリコ
ン原子に結合する有機基の少なくとも一部が水酸基に置
換されて親水性を呈するようになり、さらに光触媒の光
励起に応じて、表面に吸着する物理吸着水量が増加し、
超親水性を呈するようになる。それにより、透明部材や
鏡の曇り防止や雨天時の視界性向上、建造物等の各種部
材の降雨洗浄性向上、水のみによる洗浄可能性確保等を
行うことができる。
[0003] In one embodiment of WO 96/29375, there is a member in which a surface layer made of a photocatalyst and silicone is formed on the surface of a substrate. This member is made of silicon
It exhibits water repellency of about 90 ° due to its water repellency, but at least part of the organic groups bonded to the silicon atoms in the silicone molecules are replaced with hydroxyl groups by photoexcitation of the photocatalyst to exhibit hydrophilicity. In addition, the amount of physically adsorbed water adsorbed on the surface increases according to the photoexcitation of the photocatalyst,
It becomes super hydrophilic. As a result, it is possible to prevent fogging of the transparent member and the mirror, improve visibility in rainy weather, improve rainfall washability of various members such as a building, and ensure washability only with water.

【0004】[0004]

【発明が解決すべき課題】しかしながら、一方では、親
水性よりも撥水性である方が好ましい用途も存在する。
例えば、送電線、アンテナ、屋根等の屋外に設置される
部材は、雨、雪、氷による害を受けやすい。送電線に水
滴が付着すると、水滴の形状は下向きの円錐状となるた
め、放電しやすくなり、送電ロスにつながる。この場合
冬季には水滴がツララ状に垂れ下がり、先端は尖って更
に放電量が多くなる。また、アンテナに氷雪が付着する
と、電界強度が下がり、通信の質が低下したり通信障害
の原因となる。更に、送電線、アンテナ、屋根等の屋外
に設置される部材に氷雪が付着すると、放置しておけ
ば、その重みによって、例えば、送電線の切断、鉄塔の
倒壊、アンテナの折れ曲がり、屋根の変形等が生じるお
それがある。そのため、これら屋外に設置される部材
は、降雪地域では頻繁に雪おろしする必要性が生じ、多
大のコストと労力を要していた。
However, on the other hand, there are applications in which water repellency is more preferable than hydrophilicity.
For example, members installed outdoors, such as power lines, antennas, and roofs, are susceptible to rain, snow, and ice. If water droplets adhere to the transmission line, the shape of the water droplets becomes a downward conical shape, so that discharge becomes easy, which leads to power transmission loss. In this case, in winter, the water droplets hang down in an icy manner, the tip is sharpened, and the discharge amount further increases. In addition, if snow and ice adhere to the antenna, the electric field intensity decreases, which deteriorates the quality of communication or causes communication failure. Furthermore, if ice or snow adheres to members installed outdoors, such as power transmission lines, antennas, and roofs, if left unattended, depending on the weight, for example, cutting of power transmission lines, collapse of steel towers, bending of antennas, deformation of roofs, etc. Etc. may occur. Therefore, these members installed outdoors require frequent snow removal in a snowfall area, and have required a great deal of cost and labor.

【0005】例えば、上記着氷雪を防止するためには、
部材表面にむしろ撥水性を付与することが好ましい。部
材表面に撥水性を付与すると、部材表面で水滴が動き回
るようになる。このため水滴が付着しにくくなり、水滴
が付着しないため、雪や氷も付着しにくくなる。
For example, in order to prevent the icing and snow,
It is preferable to impart water repellency to the member surface. When water repellency is imparted to the member surface, water droplets move around on the member surface. As a result, water droplets are less likely to adhere, and snow and ice are less likely to adhere because water droplets do not adhere.

【0006】上記課題を解決する一方法として、基材表
面に撥水性シリコ−ンからなる表面層を形成する方法が
ある。しかしながら、この構成では経時的に汚れが付着
することによって水との接触角が70゜程度に低下し、
撥水性の効果が持続しない。そこで、上記課題を解決す
る他の方法として、基材表面に光触媒と撥水性シリコ−
ンとからなる表面層を形成する方法がある。この方法に
よれば、光触媒の酸化分解性に基づき、経時的に付着す
る汚れを分解できる。しかしながら、この構成では屋外
で太陽光に晒すと、光触媒の光励起によりシリコ−ンが
親水化してしまうため表面の撥水性を維持することがで
きない。本発明では、上記事情に鑑み、表面の撥水性を
長期にわたり維持しうる部材を提供することを目的とす
る。
As one method for solving the above problems, there is a method of forming a surface layer made of a water-repellent silicone on the surface of a substrate. However, in this configuration, the dirt adheres with time, and the contact angle with water is reduced to about 70 °.
The effect of water repellency does not last. Therefore, as another method for solving the above-mentioned problem, a photocatalyst and a water-repellent silica-
There is a method of forming a surface layer comprising According to this method, it is possible to decompose the adhered dirt over time based on the oxidative decomposability of the photocatalyst. However, in this configuration, when exposed to sunlight outdoors, the silicone is hydrophilized by photoexcitation of the photocatalyst, so that the water repellency of the surface cannot be maintained. In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a member capable of maintaining the surface water repellency for a long period of time.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく、基材表面に、光触媒粒子と、撥水性シリコ
−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起に
よる親水化を防止するための物質とを含有する表面層が
形成されている、或いは基材表面に、光触媒粒子と撥水
性シリコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその層
表面の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記
光触媒の光励起による親水化を防止するための物質が固
定されていることを特徴とする撥水性部材を提供する。
コバルト又はコバルト化合物のような光触媒の光励起に
よる親水化を防止するための物質が表面層に含有されて
いるようにすることにより、光触媒の光励起によりシリ
コ−ンが親水化してしまうのを防止することができる。
かつ光触媒が含有されているので、光触媒の酸化分解性
に基づき、経時的に付着する汚れを分解できる。従っ
て、表面の撥水性を維持することができ、例えば、送電
線、アンテナ、屋根等の屋外に設置される部材に氷雪が
付着するのを防止することができる。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, photocatalytic particles, water-repellent silicone, and hydrophilicity of the water-repellent silicone by photoexcitation of the photocatalyst are provided on a substrate surface. Or a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the base material, and is further formed on at least a part of the surface of the layer. The present invention provides a water-repellent member to which a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is fixed.
Preventing the silicon from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst by making the surface layer contain a substance such as cobalt or a cobalt compound for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation. Can be.
In addition, since the photocatalyst is contained, it is possible to decompose the dirt adhering with time based on the oxidative decomposability of the photocatalyst. Therefore, the water repellency of the surface can be maintained, and it is possible to prevent ice and snow from adhering to members installed outdoors, such as power transmission lines, antennas, and roofs.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】次に、本発明の具体的な構成につ
いて説明する。本発明の一態様においては、図1に示す
ように、基材の表面に光触媒粒子と、シリコ−ンと、コ
バルト又はコバルト化合物等の光触媒の光励起による親
水化を防止するための物質を含む表面層が形成されてい
る。本発明の他の態様においては、図2に示すように、
基材の表面に光触媒粒子と、撥水性シリコ−ンとを含有
する層が形成され、さらにその層表面の少なくとも一部
にはコバルト又はコバルト化合物等の撥水性シリコ−ン
の光触媒の光励起による親水化を防止するための物質が
固定されている。
Next, a specific configuration of the present invention will be described. In one embodiment of the present invention, as shown in FIG. 1, a surface containing a photocatalyst particle, a silicone, and a substance for preventing photo-catalyzed hydrophilicity of photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound on the surface of a substrate. A layer is formed. In another embodiment of the present invention, as shown in FIG.
A layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the substrate, and at least a part of the surface of the layer is hydrophilic by photoexcitation of a photocatalyst of a water-repellent silicone such as cobalt or a cobalt compound. The substance to prevent the conversion is fixed.

【0009】光触媒とは、その結晶の伝導帯と価電子帯
との間のエネルギ−ギャップよりも大きなエネルギ−
(すなわち短い波長)の光(励起光)を照射したとき
に、価電子帯中の電子の励起(光励起)が生じて、伝導
電子と正孔を生成しうる物質をいい、例えば、アナタ−
ゼ型酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化第二鉄、三酸
化二ビスマス、三酸化タングステン、チタン酸ストロン
チウム等の酸化物が好適に利用できる。ここで光触媒性
酸化物が、アナタ−ゼ型酸化チタン、酸化亜鉛、チタン
酸ストロンチウムの場合には、光触媒の光励起に用いる
光源としては、太陽光、室内照明、蛍光灯、水銀灯、白
熱電灯、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプ、メタ
ルハライドランプ、BLBランプ等が好適に利用でき
る。また、光触媒性酸化物が酸化錫の場合には、殺菌
灯、BLBランプ等が好適に利用できる。
A photocatalyst has an energy greater than the energy gap between the conduction band and the valence band of the crystal.
A substance capable of generating conduction electrons and holes by excitation of electrons in the valence band (photoexcitation) when irradiated with light (excitation light) having a short wavelength (excitation light).
Oxides such as zeta-type titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, ferric oxide, bismuth trioxide, tungsten trioxide and strontium titanate can be suitably used. When the photocatalytic oxide is an anatase type titanium oxide, zinc oxide, or strontium titanate, the light source used for photoexcitation of the photocatalyst is sunlight, indoor lighting, fluorescent lamp, mercury lamp, incandescent lamp, xenon. Lamps, high-pressure sodium lamps, metal halide lamps, BLB lamps and the like can be suitably used. When the photocatalytic oxide is tin oxide, a germicidal lamp, a BLB lamp, or the like can be suitably used.

【0010】シリコ−ンには、平均組成式 RpSiO(4-p)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは0<p<2を満足する数
である)で表される樹脂が利用できる。
The silicone has an average composition formula R p SiO (4-p) / 2 (where R is a functional group comprising one or more monovalent organic groups, or a monovalent organic group) A resin represented by the following formula: X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is a number satisfying 0 <p <2. Is available.

【0011】コバルト化合物には、コバルト合金、酸化
コバルト、塩化コバルト、硫酸コバルト、ヨウ化コバル
ト、臭化コバルト、酢酸コバルト、塩素酸コバルト、硝
酸コバルト等が好適に利用できる。
As the cobalt compound, a cobalt alloy, cobalt oxide, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, cobalt bromide, cobalt acetate, cobalt chlorate, cobalt nitrate and the like can be suitably used.

【0012】表面層の膜厚は、0.4μm以下にするの
が好ましい。そうすれば、光の乱反射による白濁を防止
することができ、表面層は実質的に透明となる。さら
に、表面層の膜厚を、0.2μm以下にすると一層好ま
しい。そうすれば、光の干渉による表面層の発色を防止
することができる。また、表面層が薄ければ薄いほどそ
の透明度は向上する。更に、膜厚を薄くすれば、表面層
の耐摩耗性が向上する。
The thickness of the surface layer is preferably set to 0.4 μm or less. Then, cloudiness due to irregular reflection of light can be prevented, and the surface layer becomes substantially transparent. Further, it is more preferable that the thickness of the surface layer be 0.2 μm or less. Then, it is possible to prevent the surface layer from being colored by light interference. Also, the thinner the surface layer, the better its transparency. Further, when the film thickness is reduced, the wear resistance of the surface layer is improved.

【0013】表面層には、Ag、Cu、Znのような金
属を添加することができる。前記金属を添加した表面層
は、表面に付着した細菌や黴を暗所でも死滅させること
ができる。
A metal such as Ag, Cu and Zn can be added to the surface layer. The surface layer to which the metal is added can kill bacteria and fungi attached to the surface even in a dark place.

【0014】表面層にはPt、Pd、Ru、Rh、I
r、Osのような白金族金属を添加することができる。
前記金属を添加した表面層は、光触媒の酸化還元活性を
増強でき、有機物汚れの分解性、有害気体や悪臭の分解
性を向上させることができる。
Pt, Pd, Ru, Rh, I
A platinum group metal such as r or Os can be added.
The surface layer to which the metal is added can enhance the redox activity of the photocatalyst, and can improve the decomposability of organic contaminants and the decomposability of harmful gases and odors.

【0015】本発明が適用可能な基材としては、その材
質としては、金属、セラミックス、ガラス、プラスチッ
ク、木、石、セメント、コンクリ−ト、繊維、布帛、そ
れらの組合せ、それらの積層体が好適に利用できる。適
用可能な基材を用途でいえば、屋根材、壁材等の建材、
建物外装、建物内装、窓枠、窓ガラス、構造部材、送電
線、アンテナ、乗物の外装及び塗装、機械装置や物品の
外装、防塵カバ−及び塗装、交通標識、各種表示装置、
広告塔、道路用遮音壁、鉄道用遮音壁、橋梁、ガ−ドレ
−ルの外装及び塗装、トンネル内装及び塗装、碍子、太
陽電池カバ−、太陽熱温水器集熱カバ−、ビニ−ルハウ
ス、車両用照明灯のカバ−、住宅設備、便器、浴槽、洗
面台、照明器具、照明カバ−、台所用品、食器、食器洗
浄器、食器乾燥器、流し、調理レンジ、キッチンフ−
ド、換気扇、及び上記物品に貼付させるためのフィルム
を含む。
The substrate to which the present invention can be applied includes metals, ceramics, glass, plastic, wood, stone, cement, concrete, fiber, cloth, combinations thereof, and laminates thereof. It can be suitably used. Speaking of applicable base materials, roofing materials, building materials such as wall materials,
Building exteriors, building interiors, window frames, window glass, structural members, power lines, antennas, vehicle exteriors and paintings, exteriors of machinery and articles, dustproof covers and paintings, traffic signs, various display devices,
Advertising towers, noise barriers for roads, noise barriers for railways, bridges, exterior and coating of garages, tunnel interiors and coatings, insulators, solar battery covers, solar water heater collector covers, vinyl houses, vehicle lighting Light covers, housing equipment, toilets, bathtubs, washbasins, lighting fixtures, lighting covers, kitchen utensils, dishes, dishwashers, dish dryers, sinks, cooking ranges, kitchen hoods
And a film to be attached to the article.

【0016】次に、基材表面に、光触媒粒子と、撥水性
シリコ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光
励起による親水化を防止するための物質とを含有する表
面層が形成されている撥水性部材の製法について説明す
る。この場合の製法は、基本的には、基材表面にコ−テ
ィング組成物を塗布し、硬化させることによる。
Next, a surface layer containing photocatalyst particles, water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is formed on the surface of the substrate. The method of manufacturing the water-repellent member described above will be described. The production method in this case is basically based on applying a coating composition on the surface of a substrate and curing the coating composition.

【0017】ここでコ−ティング組成物は、光触媒粒
子、コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の光励起に
よる親水化を防止するための物質にシリコ−ンの前駆体
を必須構成要件とし、その他に水、エタノ−ル、プロパ
ノ−ル等の溶媒や、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン
酸等のシリコ−ンの前駆体の加水分解を促進する触媒
や、トリブチルアミン、ヘキシルアミンなどの塩基性化
合物類、アルミニウムトリイソプロポキシド、テトライ
ソプロピルチタネ−トなどの酸性化合物類等のシリコ−
ンの前駆体を硬化させる触媒や、シランカップリング剤
等のコ−ティング液の分散性を向上させる界面活性剤な
どを添加してもよい。
Here, the coating composition contains a precursor of silicon as an essential component of a substance for preventing the photocatalyst particles, cobalt or a cobalt compound or the like from becoming hydrophilic due to photoexcitation of the photocatalyst. Solvents such as ethanol and propanol, catalysts that promote hydrolysis of silicone precursors such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid and maleic acid, and basic compounds such as tributylamine and hexylamine Silicon compounds such as acidic compounds such as aluminum, aluminum triisopropoxide and tetraisopropyl titanate;
And a surfactant for improving the dispersibility of the coating liquid such as a silane coupling agent.

【0018】コバルト又はコバルト化合物としては、水
溶性のコバルト化合物を用いるのが好ましい。水溶性の
コバルト化合物としては、例えば、塩化コバルト、硫酸
コバルト、ヨウ化コバルト、臭化コバルト、酢酸コバル
ト、塩素酸コバルト、硝酸コバルト等が好適に利用でき
る。
As cobalt or a cobalt compound, a water-soluble cobalt compound is preferably used. As the water-soluble cobalt compound, for example, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, cobalt bromide, cobalt acetate, cobalt chlorate, cobalt nitrate and the like can be suitably used.

【0019】ここでシリコ−ンの前駆体としては、平均
組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素、又は一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素、
が好適に利用できる。
[0019] Here silicone - The precursor emissions in the average composition formula R p SiX q O (4- pq) / 2 ( wherein, R consists of one or more organic groups monovalent functional X or a functional group comprising two or more selected from a monovalent organic group and a hydrogen group, X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
a film-forming element composed of a siloxane represented by the following formula: q <4) or a general formula R p SiX 4-p (where R is one or more monovalent organic groups) Wherein X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2. A film-forming element comprising a hydrolyzable silane derivative to be
Can be suitably used.

【0020】ここで上記加水分解性シラン誘導体からな
る塗膜形成要素としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポ
キシシラン、フェニルメチルジブトキシシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリプロポキシシラン、n−プロ
ピルトリブトキシシラン、γ−グリコキシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が好適に利用できる。
Here, as the coating film forming element comprising the hydrolyzable silane derivative, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Phenyltributoxysilane,
Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldibutoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenyl Methyldipropoxysilane, phenylmethyldibutoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, γ-glycoxydoxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloxypropyltrimethoxysilane and the like can be suitably used.

【0021】また、上記シロキサンからなる塗膜形成要
素としては、上記加水分解性シラン誘導体の部分加水分
解及び脱水縮重合、又は上記加水分解性シラン誘導体の
部分加水分解物と、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、ジエトキシジメトキシシラン等の部分加水分解
物との脱水縮重合等で作製することができる。
The film-forming element composed of the siloxane includes partial hydrolysis and dehydration-condensation polymerization of the hydrolyzable silane derivative, or partial hydrolyzate of the hydrolyzable silane derivative, tetramethoxysilane, tetramethoxysilane and tetramethoxysilane. It can be produced by dehydration polycondensation with a partial hydrolyzate such as ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, diethoxydimethoxysilane and the like.

【0022】上記コ−ティング組成物の塗布方法として
は、スプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法
が好適に利用できる。硬化方法としては、熱処理、室温
放置、紫外線照射等により重合させて行うことができ
る。
The coating method of the coating composition includes spray coating, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, brush coating, and sponge. A method such as coating can be suitably used. As a curing method, it can be carried out by polymerizing by heat treatment, standing at room temperature, ultraviolet irradiation, or the like.

【0023】次に、基材表面に、光触媒粒子と撥水性シ
リコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその層表面
の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触
媒の光励起による親水化を防止するための物質が固定さ
れている撥水性部材の製法について説明する。この場合
の製法は、基本的には、光触媒粒子と撥水性シリコ−ン
の前駆体とを含有するコ−ティング組成物を塗布し、硬
化させた後、コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質を含有する溶
液を塗布し、表面に固定することによる。
Next, a layer containing photocatalyst particles and water-repellent silicone is formed on the surface of the substrate, and at least a part of the surface of the layer is formed by photoexcitation of the photocatalyst of the water-repellent silicone. A method for manufacturing a water-repellent member to which a substance for preventing hydrophilicity is fixed will be described. The production method in this case is basically based on the photo-excitation of a photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound after coating and curing a coating composition containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone precursor. By applying a solution containing a substance for preventing hydrophilization and fixing the solution to the surface.

【0024】ここでコ−ティング組成物は、光触媒粒子
と、撥水性シリコ−ンの前駆体を必須構成要件とし、そ
の他に水、エタノ−ル、プロパノ−ル等の溶媒や、塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン酸等のシリカの前駆体
の加水分解を促進する触媒や、トリブチルアミン、ヘキ
シルアミンなどの塩基性化合物類、アルミニウムトリイ
ソプロポキシド、テトライソプロピルチタネ−トなどの
酸性化合物類等のシリカの前駆体を硬化させる触媒や、
シランカップリング剤等のコ−ティング液の分散性を向
上させる界面活性剤などを添加してもよい。
Here, the coating composition has photocatalyst particles and a precursor of a water-repellent silicone as essential components, and in addition, a solvent such as water, ethanol and propanol, hydrochloric acid, nitric acid, and the like. Catalysts that promote the hydrolysis of silica precursors such as sulfuric acid, acetic acid and maleic acid, basic compounds such as tributylamine and hexylamine, and acidic compounds such as aluminum triisopropoxide and tetraisopropyl titanate Such as a catalyst for curing a precursor of silica,
A surfactant such as a silane coupling agent for improving the dispersibility of the coating liquid may be added.

【0025】ここでシリコ−ンの前駆体としては、平均
組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素、又は一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素、
が好適に利用できる。
[0025] Here silicone - The precursor emissions in the average composition formula R p SiX q O (4- pq) / 2 ( wherein, R consists of one or more organic groups monovalent functional X or a functional group comprising two or more selected from a monovalent organic group and a hydrogen group, X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
a film-forming element composed of a siloxane represented by the following formula: q <4) or a general formula R p SiX 4-p (where R is one or more monovalent organic groups) Wherein X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2. A film-forming element comprising a hydrolyzable silane derivative to be
Can be suitably used.

【0026】ここで上記加水分解性シラン誘導体からな
る塗膜形成要素としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポ
キシシラン、フェニルメチルジブトキシシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリプロポキシシラン、n−プロ
ピルトリブトキシシラン、γ−グリコキシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が好適に利用できる。
Here, as the coating film forming element comprising the hydrolyzable silane derivative, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Phenyltributoxysilane,
Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldibutoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenyl Methyldipropoxysilane, phenylmethyldibutoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, γ-glycoxydoxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloxypropyltrimethoxysilane and the like can be suitably used.

【0027】また、上記シロキサンからなる塗膜形成要
素としては、上記加水分解性シラン誘導体の部分加水分
解及び脱水縮重合、又は上記加水分解性シラン誘導体の
部分加水分解物と、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、ジエトキシジメトキシシラン等の部分加水分解
物との脱水縮重合等で作製することができる。
The film-forming element composed of the above-mentioned siloxane includes partial hydrolysis and dehydration-condensation polymerization of the above-mentioned hydrolyzable silane derivative, or partially hydrolyzate of the above-mentioned hydrolyzable silane derivative, tetramethoxysilane and tetramethoxysilane. It can be produced by dehydration polycondensation with a partial hydrolyzate such as ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, diethoxydimethoxysilane and the like.

【0028】上記コ−ティング組成物の塗布方法として
は、スプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法
が好適に利用できる。硬化方法としては、熱処理、室温
放置、紫外線照射等により重合させて行うことができ
る。
The coating method of the coating composition includes spray coating, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, brush coating, and sponge. A method such as coating can be suitably used. As a curing method, it can be carried out by polymerizing by heat treatment, standing at room temperature, ultraviolet irradiation, or the like.

【0029】コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質を含有する溶
液を塗布し、表面に固定する方法は、例えば、塩化コバ
ルト、硫酸コバルト、ヨウ化コバルト、臭化コバルト、
酢酸コバルト、塩素酸コバルト、硝酸コバルト等の水溶
性のコバルト化合物を、スプレ−コ−ティング法、ディ
ップコ−ティング法、フロ−コ−ティング法、スピンコ
−ティング法、ロ−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポ
ンジ塗り等の方法で塗布し、光還元、熱処理、アルコ−
ル等の犠牲酸化剤を併用する還元等の方法で固定するこ
とにより行う。
A method for applying a solution containing a substance for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation such as cobalt or a cobalt compound, and fixing the solution on the surface includes, for example, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, bromide, and the like. cobalt,
Spray coating method, dip coating method, flow coating method, spin coating method, roll coating method, brushing water-soluble cobalt compounds such as cobalt acetate, cobalt chlorate and cobalt nitrate Coating, sponge coating, etc., photoreduction, heat treatment, alcohol
This is performed by fixing by a method such as reduction using a sacrificial oxidizing agent such as toluene.

【0030】[0030]

【実施例】【Example】

参考例.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル(日産化学、TA
−15、硝酸解膠型、pH=1)と、シリカゾル(日本
合成ゴム、グラスカA液、pH=4)と、メチルトリメ
トキシシラン(日本合成ゴム、グラスカB液)とエタノ
−ルを混合し、2〜3時間撹拌して得たコ−ティング液
を、スプレ−コ−ティング法にて5×10cm角の施釉
タイル基材(東陶機器、AB02E11)上に塗布し、
200℃で15分熱処理して、アナタ−ゼ型酸化チタン
粒子11重量部、シリカ6重量部、シリコ−ン5重量部
からなる表面層を形成した#1試料を得た。#1試料の
水との接触角は92゜であった。ここで水との接触角は
接触角測定器(協和界面科学、CA−X150)を用
い、マイクロシリンジから水滴を滴下した後30秒後の
水との接触角で評価した。次いで#1試料表面に、紫外
線光源(三共電気、ブラックライトブル−(BLB)蛍
光灯)を用いて0.3mW/cm2の紫外線照度で1日
照射し、#2試料を得た。その結果、#2試料の水との
接触角は0゜まで親水化された。次に、#1試料と、#
1試料に水銀灯を22.8mW/cm2の紫外線照度で
2時間照射して得た#3試料夫々の試料表面をラマン分
光分析した。その結果、#1試料表面で認められたメチ
ル基のピ−クが#3試料では認められず、代わりに水酸
基のブロ−ドなピ−クが認められた。以上のことから、
光触媒であるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励起により被
膜の表面のシリコ−ン分子中のケイ素原子に結合した有
機基は、水酸基に置換されること、及び親水化されるこ
とがわかる。
Reference example. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA
-15, nitric acid peptized type, pH = 1), silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4), methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution) and ethanol are mixed. The coating liquid obtained by stirring for 2 to 3 hours was applied on a 5 × 10 cm square glazed tile base material (TOTOKIKI, AB02E11) by spray coating.
A heat treatment was performed at 200 ° C. for 15 minutes to obtain a # 1 sample having a surface layer formed of 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica, and 5 parts by weight of silicone. The contact angle of the # 1 sample with water was 92 °. Here, the contact angle with water was evaluated using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150) by the contact angle with water 30 seconds after a water droplet was dropped from the micro syringe. Next, the surface of the # 1 sample was irradiated for one day with an ultraviolet illuminance of 0.3 mW / cm 2 using an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp) to obtain a # 2 sample. As a result, the contact angle with water of the # 2 sample was hydrophilized to 0 °. Next, # 1 sample and #
One sample was irradiated with a mercury lamp at an ultraviolet irradiance of 22.8 mW / cm 2 for 2 hours, and the surface of each of the # 3 samples obtained was subjected to Raman spectroscopic analysis. As a result, a peak of methyl group observed on the surface of sample # 1 was not observed in sample # 3, but a peak of hydroxyl group was observed instead. From the above,
It can be seen that the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the film by the photoexcitation of the anatase type titanium oxide which is a photocatalyst is replaced by a hydroxyl group and becomes hydrophilic.

【0031】実施例1.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル
(日産化学、TA−15、硝酸解膠型、pH=1)と、
シリカゾル(日本合成ゴム、グラスカA液、pH=4)
と、メチルトリメトキシシラン(日本合成ゴム、グラス
カB液)と、塩化コバルト六水和物と、エタノ−ルを混
合し、2〜3時間撹拌して得たコ−ティング液を、スプ
レ−コ−ティング法にて5×10cm角の施釉タイル基
材(東陶機器、AB02E11)上に塗布し、200℃
で15分熱処理して、アナタ−ゼ型酸化チタン粒子11
重量部、シリカ6重量部、シリコ−ン5重量部、コバル
ト0.2重量部からなる表面層を形成した#4試料を得
た。#4試料の水との接触角は97゜であった。ここで
水との接触角は接触角測定器(協和界面科学、CA−X
150)を用い、マイクロシリンジから水滴を滴下した
後30秒後の水との接触角で評価した。次いで#4試料
表面に、紫外線光源(三共電気、ブラックライトブル−
(BLB)蛍光灯)を用いて0.3mW/cm2の紫外
線照度で1日照射し、#5試料を得た。その結果、#5
試料の水との接触角は依然96゜と撥水性を維持した。
従って、以上のことから、光触媒であるアナタ−ゼ型酸
化チタンの光励起による被膜の表面のシリコ−ンの親水
化が、コバルトにより阻害されることがわかる。これ
は、被膜の表面のシリコ−ン分子中のケイ素原子に結合
した有機基の水酸基への置換がコバルトにより阻害され
るためと考えられる。
Embodiment 1 Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA-15, peptized nitrate, pH = 1),
Silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4)
And methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution), cobalt chloride hexahydrate, and ethanol, and stirred for 2-3 hours. -Apply on a 5 x 10 cm square glazed tile base material (TOTOKI KIKI, AB02E11) at 200 ° C
And heat-treated for 15 minutes in anatase type titanium oxide particles 11
A # 4 sample was obtained in which a surface layer consisting of 6 parts by weight of silica, 6 parts by weight of silica, 5 parts by weight of silicon, and 0.2 parts by weight of cobalt was formed. The contact angle of the # 4 sample with water was 97 °. Here, the contact angle with water is measured using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X).
150), the contact angle with water was evaluated 30 seconds after a water drop was dropped from the micro syringe. Next, an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue-
(BLB) fluorescent lamp) for 1 day at an ultraviolet illuminance of 0.3 mW / cm 2 to obtain a # 5 sample. As a result, # 5
The contact angle of the sample with water was still 96 °, maintaining water repellency.
Therefore, it can be understood from the above that the hydrophilicity of the silicon on the surface of the coating film due to the photoexcitation of the anatase type titanium oxide as a photocatalyst is inhibited by cobalt. This is considered because the substitution of the hydroxyl group for the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the coating is inhibited by cobalt.

【0032】実施例2.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル
(日産化学、TA−15、硝酸解膠型、pH=1)と、
シリカゾル(日本合成ゴム、グラスカA液、pH=4)
と、メチルトリメトキシシラン(日本合成ゴム、グラス
カB液)と、エタノ−ルを混合し、2〜3時間撹拌して
得たコ−ティング液を、スプレ−コ−ティング法にて5
×10cm角の施釉タイル基材(東陶機器、AB02E
11)上に塗布し、200℃で15分熱処理して、アナ
タ−ゼ型酸化チタン粒子11重量部、シリカ6重量部、
シリコ−ン5重量部からなる表面層を形成した。さらに
その上にコバルト金属濃度50μmol/gの塩化コバ
ルト六水和物水溶液を0.3g塗布後、紫外線光源(三
共電気、ブラックライトブル−(BLB)蛍光灯)を用
いて紫外線照度0.4mW/cm2の紫外線を10分照
射して基材上にコバルトを固定して#6試料を得た。#
6試料の水との接触角は96゜であった。ここで水との
接触角は接触角測定器(協和界面科学、CA−X15
0)を用い、マイクロシリンジから水滴を滴下した後3
0秒後の水との接触角で評価した。次いで#6試料表面
に、紫外線光源(三共電気、ブラックライトブル−(B
LB)蛍光灯)を用いて0.3mW/cm2の紫外線照
度で1日照射し、#7試料を得た。その結果、#7試料
の水との接触角は依然94゜と撥水性を維持した。従っ
て、以上のことから、光触媒であるアナタ−ゼ型酸化チ
タンの光励起による被膜の表面のシリコ−ンの親水化
が、コバルトにより阻害されることがわかる。これは、
被膜の表面のシリコ−ン分子中のケイ素原子に結合した
有機基の水酸基への置換がコバルトにより阻害されるた
めと考えられる。
Embodiment 2 FIG. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA-15, peptized nitrate, pH = 1),
Silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4)
, Methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution) and ethanol were mixed, and the mixture was stirred for 2 to 3 hours to obtain a coating solution by spray coating.
× 10cm square glazed tile base material (TOTOKI, AB02E
11) Coated on top and heat-treated at 200 ° C. for 15 minutes to obtain 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica,
A surface layer consisting of 5 parts by weight of silicone was formed. Further, 0.3 g of an aqueous solution of cobalt chloride hexahydrate having a cobalt metal concentration of 50 μmol / g was applied thereon, and then an ultraviolet illuminance of 0.4 mW / The cobalt was fixed on the substrate by irradiating it with ultraviolet rays of cm 2 for 10 minutes to obtain a # 6 sample. #
The contact angle of 6 samples with water was 96 °. Here, the contact angle with water is measured using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X15).
0), and after adding a water drop from the micro syringe, 3
Evaluation was made based on the contact angle with water after 0 seconds. Next, an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue- (B
(LB) Fluorescent lamp) to irradiate with an ultraviolet illuminance of 0.3 mW / cm 2 for 1 day to obtain a # 7 sample. As a result, the contact angle of the # 7 sample with water was still 94 °, maintaining water repellency. Therefore, it can be understood from the above that the hydrophilicity of the silicon on the surface of the coating film due to the photoexcitation of the anatase type titanium oxide as a photocatalyst is inhibited by cobalt. this is,
It is considered that the replacement of the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the coating film with the hydroxyl group is inhibited by cobalt.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明では、基材表面に、光触媒粒子
と、撥水性シリコ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記
光触媒の光励起による親水化を防止するための物質とを
含有する表面層が形成されているようにする、或いは基
材表面に、光触媒粒子と撥水性シリコ−ンとを含有する
層が形成され、さらにその層表面の少なくとも一部には
前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起による親水
化を防止するための物質が固定されているようにするこ
とにより、部材表面は長期にわたり撥水性を維持可能と
なった。
According to the present invention, a surface containing a photocatalyst particle, a water-repellent silicone and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is provided on the surface of the substrate. A layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the substrate so that a layer is formed, and at least a part of the surface of the layer is coated with the water-repellent silicone. By fixing a substance for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation, the surface of the member can maintain water repellency for a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る部材の表面構造を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a surface structure of a member according to the present invention.

【図2】本発明に係る部材の他の表面構造を示す図。FIG. 2 is a diagram showing another surface structure of the member according to the present invention.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材表面に、光触媒粒子と、撥水性シリ
コ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起
による親水化を防止するための物質とを含有する表面層
が形成されていることを特徴とする撥水性部材。
1. A surface layer containing photocatalyst particles, water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is formed on the surface of a substrate. A water-repellent member characterized in that:
【請求項2】 基材表面に、光触媒粒子と撥水性シリコ
−ンとを含有する層が形成され、さらにその層表面の少
なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質が固定されて
いることを特徴とする撥水性部材。
2. A layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of a base material, and at least a part of the surface of the layer is made hydrophilic by the photoexcitation of the photocatalyst of the water-repellent silicone. A water-repellent member, on which a substance for preventing the formation of a water-repellent material is fixed.
【請求項3】 前記光触媒の光励起による親水化を防止
するための物質は、コバルト又はコバルト化合物である
ことを特徴とする請求項1、2に記載の撥水性部材。
3. The water repellent member according to claim 1, wherein the substance for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation is cobalt or a cobalt compound.
【請求項4】(a)平均組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素であって、硬化させるとシリコ−ン樹
脂の被膜を形成するもの、(b)前記塗膜形成要素中に
分散された光触媒粒子、及び、(c)コバルト又はコバ
ルト化合物、を含有することを特徴とする撥水性コ−テ
ィング組成物。
Wherein (a) the average composition formula R p SiX q O (4- pq) / 2 ( wherein, R is one or of two or more functional groups of the monovalent organic group, or a monovalent X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
q <4 which satisfies q <4), which forms a silicone resin film when cured, and (b) dispersed in the film forming element A water-repellent coating composition comprising the photocatalyst particles thus obtained and (c) cobalt or a cobalt compound.
【請求項5】(a)一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素で
あって、硬化させるとシリコ−ン樹脂の被膜を形成する
もの、(b)前記塗膜形成要素中に分散された光触媒粒
子、及び、(c)コバルト又はコバルト化合物、を含有
することを特徴とする撥水性コ−ティング組成物。
5. A compound of the general formula R p SiX 4-p (wherein R is a functional group comprising one or more monovalent organic groups, or a monovalent organic group and a hydrogen group. X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2), and is a coating film forming element comprising a hydrolyzable silane derivative represented by the following formula: And curing to form a silicone resin film, (b) photocatalyst particles dispersed in the film forming element, and (c) cobalt or a cobalt compound. Water repellent coating composition.
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