JPH10102267A - Formation of ceramic coating film with chemical coating film as underlayer - Google Patents
Formation of ceramic coating film with chemical coating film as underlayerInfo
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- JPH10102267A JPH10102267A JP25583796A JP25583796A JPH10102267A JP H10102267 A JPH10102267 A JP H10102267A JP 25583796 A JP25583796 A JP 25583796A JP 25583796 A JP25583796 A JP 25583796A JP H10102267 A JPH10102267 A JP H10102267A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウム基体
表面に前駆体となる下地層上にセラミックス皮膜を設け
た表面保護皮膜を形成する方法、及びアルミニウム基体
表面に前駆体となる下地層上に表面保護皮膜を有するア
ルミニウム製品に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a surface protective film in which a ceramic film is provided on a base layer serving as a precursor on the surface of an aluminum substrate, and a method for forming a surface on the base layer serving as a precursor on an aluminum base surface. The present invention relates to an aluminum product having a protective film.
【従来の技術】一般にアルミニウムやアルミニウム合金
の表面処理方法として、種々の化成処理法が行われてお
り、このうち、クロメート処理は、優れた耐食性を付与
できることに加えて、得られたものの外観が優れ、かつ
処理コストが安価であることから広く用いられている
が、クロム化合物の有害性が問題となり、世界的に使用
が規制される動きが見られる。又、特公開平０４−１９
１３８１号公報には、アルカリ金属またはアルカリ土類
金属の硫酸塩または硝酸塩と、アルミニウムと化合物を
形成するか、溶解時に弱塩基性を示す化合物とを含有す
る処理液を用いることにより、アルミニウム表面に耐食
性化成皮膜を形成する方法が開示されている。この方法
では、耐食性等の性能において不十分な場合がある。2. Description of the Related Art In general, various chemical conversion treatment methods have been used as a surface treatment method for aluminum and aluminum alloys. Among them, the chromate treatment not only provides excellent corrosion resistance but also provides an appearance of the obtained product. Although it is widely used because of its excellent properties and low processing cost, the harmfulness of chromium compounds becomes a problem, and there is a movement to restrict its use worldwide. In addition, special publication Hei 04-19
No. 1381 discloses that a treatment liquid containing a sulfate or nitrate of an alkali metal or an alkaline earth metal and a compound which forms a compound with aluminum or a compound which shows weak basicity upon dissolution is used. A method for forming a corrosion resistant chemical conversion coating is disclosed. This method may be insufficient in performance such as corrosion resistance.
【０００２】一方、アルミニウム基体上にセラミックス
皮膜を形成する方法として陽極火花放電による方法が知
られている。例えば、特公昭５８−１７２７８号公報、
同５９−２８６３６号公報、同５９−２８６３７号公
報、同５９−２８６３８号公報、同５９−４５７２２号
公報、同６０−１２４３８号公報等には、シリケートあ
るいは各種の金属酸素酸塩のアルカリ性水溶液を使用し
て、陽極付近に吸引される珪酸イオン、金属酸素酸イオ
ンと、陽極金属との間に陽極火花放電を生じさせ、これ
によってセラミックス皮膜を形成する方法が開示されて
いる。特に近年、この陽極火花放電による方法で得られ
る皮膜は、超高真空でのガス放射特性、耐食性、可とう
性に優れる等の特徴が見いだされて注目を集めるように
なっている。しかしながら該陽極火花放電法によりアル
ミニウムダイカスト等にセラミックス皮膜を形成する
と、皮膜形成速度が遅いという問題がある。またアルミ
ニウム箔上にセラミックス皮膜を形成すると、得られる
皮膜の均一性が劣る場合があり、改善が望まれている。On the other hand, as a method of forming a ceramic film on an aluminum substrate, a method using anodic spark discharge is known. For example, Japanese Patent Publication No. 58-17278,
JP-A-59-28636, JP-A-59-28637, JP-A-59-28638, JP-A-59-45722 and JP-A-60-12438 disclose an alkaline aqueous solution of silicate or various metal oxyacid salts. A method is disclosed in which an anode spark discharge is generated between silicate ions and metal oxyacid ions attracted near the anode and the anode metal, thereby forming a ceramic film. In particular, in recent years, films obtained by the method using the anodic spark discharge have attracted attention because they have been found to have characteristics such as excellent gas emission characteristics in ultra-high vacuum, corrosion resistance, and flexibility. However, when a ceramic film is formed on an aluminum die-cast or the like by the anode spark discharge method, there is a problem that the film formation speed is low. In addition, when a ceramic film is formed on an aluminum foil, the uniformity of the obtained film may be poor, and improvement is desired.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、セラミック
ス皮膜の形成速度を上げ、外観均一性に優れるセラミッ
クス皮膜を効率よく形成させる方法を提供することを目
的とする。本発明は、又、アルミニウム基体表面に前駆
体となる下地層上に表面保護皮膜を有するアルミニウム
製品を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for increasing the forming speed of a ceramic film and efficiently forming a ceramic film having excellent appearance uniformity. Another object of the present invention is to provide an aluminum product having a surface protective film on a base layer serving as a precursor on the surface of an aluminum substrate.
【課題を解決するための手段】本発明は、陽極火花放電
によるセラミックス皮膜形成の初期段階ではアルマイト
皮膜を形成し、このアルマイト形成段階に代えて、化成
処理皮膜を予め形成させておくと、皮膜外観と皮膜形成
速度の向上が計れるとの知見に基ずいてなされたのであ
る。すなわち、本発明は、アルミニウム基体上に化成処
理皮膜を形成し、次いで電解浴中で火花放電法により該
化成処理皮膜上にセラミックス皮膜を形成することを特
徴とするセラミックス皮膜の形成方法を提供する。本発
明は、又、アルミニウム基体上に、化成処理皮膜及びセ
ラミックス皮膜がこの順序で形成されてなることを特徴
とする表面保護皮膜を有するアルミニウム製品を提供す
る。According to the present invention, an alumite film is formed in the initial stage of forming a ceramic film by anodic spark discharge, and a chemical conversion treatment film is formed in advance in place of the alumite formation step. It was based on the finding that the appearance and the film formation rate could be improved. That is, the present invention provides a method for forming a ceramic film, comprising forming a chemical conversion film on an aluminum substrate, and then forming the ceramic film on the chemical conversion film by a spark discharge method in an electrolytic bath. . The present invention also provides an aluminum product having a surface protective film, wherein a chemical conversion treatment film and a ceramic film are formed on an aluminum substrate in this order.
【０００４】[0004]
【発明の実施の形態】本発明で対象とするアルミニウム
基体としては、アルミニウム単独又はアルミニウムの合
金からなる任意の形状の材料（例えば、アルニミウム
箔、アルニミウム板、アルニミウム棒など、角形、円
形、柱状、筒状、箔状等任意の形状でよい）及び物品
（例えば、鋳物、アルニミウムダイカストなど）があげ
られる。ここで、アルミニウムの合金としては、JIS に
規定されるアルミニウム展伸材、ダイカスト用アルミニ
ウム合金があげられる。具体的にはアルミニウム展伸材
としては、JIS A1050 、A2017 、A3003 、A5052 、A606
3 、ダイカスト用アルミニウム合金材としては、ADC3、
ADC10 、ADC12 などの合金があげられる。本発明で用い
る化成処理皮膜形成方法としては、クロメート処理（例
えば、金属表面技術便覧、金属表面技術協会編、Ｐ−７
８４）、燐酸塩皮膜化成処理（例えば、金属表面技術便
覧、金属表面技術協会編、Ｐ−７８０記載の方法）及び
アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の硫酸塩または
硝酸塩と、アルミニウムと化合物を形成するか、溶解時
に弱塩基性を示す化合物を用いた処理（例えば、特開平
０４−１９１３８１号公報記載の方法）などがあげられ
る。これらの公報の記載内容は、本明細書の記載に含ま
れるものとする。これらの処理方法により、アルミニウ
ム基体上に耐食性化成皮膜を形成することができる。
尚、これらの化成処理皮膜形成の前に、アルミニウム基
体を、脱脂、アルカリエッチングや、酸処理などの前処
理を行ってもよい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As an aluminum substrate to be used in the present invention, a material of any shape made of aluminum alone or an alloy of aluminum (for example, aluminum, foil, aluminum plate, aluminum rod, etc., square, circular, columnar, etc.) Any shape such as a tubular shape and a foil shape) and articles (for example, casting, aluminum die casting, etc.) are included. Here, examples of aluminum alloys include aluminum wrought materials specified in JIS and aluminum alloys for die casting. Specifically, as wrought aluminum, JIS A1050, A2017, A3003, A5052, A606
3, As the aluminum alloy material for die casting, ADC3,
Alloys such as ADC10 and ADC12 can be mentioned. As a method of forming a chemical conversion coating film used in the present invention, a chromate treatment (for example, Metal Surface Technology Handbook, edited by Metal Surface Technology Association, P-7)
84), phosphate film chemical conversion treatment (for example, a method described in P-780, Handbook of Metal Surface Technology, edited by Japan Society of Metal Surface Technology), and formation of a compound with aluminum and an alkali metal or alkaline earth metal sulfate or nitrate. Alternatively, a treatment using a compound exhibiting weak basicity upon dissolution (for example, a method described in JP-A-04-191381) can be mentioned. The contents described in these publications are included in the description of this specification. By these treatment methods, a corrosion-resistant chemical conversion film can be formed on an aluminum substrate.
Before forming these chemical conversion coatings, the aluminum substrate may be subjected to a pretreatment such as degreasing, alkali etching, or acid treatment.
【０００５】本発明によりアルミニウム基体表面に成形
する化成処理皮膜の厚みは任意とすることができるが、
0.１〜5.０μ程度とするのがよい。上記化成処理皮膜形
成方法のうち、燐酸塩皮膜化成処理を施したものでは、
その後のセラミックス皮膜の形成速度は向上するもの
の、セラミックス皮膜外観があまり良好ではなく、また
クロメート処理においては有害性が問題となるため、ア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属の硫酸塩、または硝
酸塩とアルミニウムと化合物を形成するか、溶解時に弱
塩基性を示す化合物を用いた処理が好ましい。。特に、
この処理方法を用いると、環境面、皮膜形成速度及び外
観向上効果の全てにおいて優れた効果が得られる。ここ
で用いる（ａ）アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属
の硫酸塩または硝酸塩と（ｂ）アルミニウムと化合物を
形成するか、溶解時に弱塩基性を示す化合物とを含有す
る耐食性化成皮膜を形成する方法について説明する。使
用するアルカリ金属またはアルカリ土類金属の硫酸塩ま
たは硝酸塩としては、カルシウム化合物ならば、硝酸
塩、酢酸塩が挙げられる。またマグネシウム化合物なら
ば、硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩を挙げることが出来る。そ
の中でも特に硫酸マグネシウムが好ましい。[0005] The thickness of the chemical conversion coating formed on the surface of the aluminum substrate according to the present invention can be arbitrary.
It is preferable to set it to about 0.1 to 5.0 μ. Among the above-mentioned chemical conversion treatment film forming methods, those subjected to a phosphate film chemical conversion treatment,
Although the subsequent formation rate of the ceramic film is improved, the appearance of the ceramic film is not very good, and the harmfulness of the chromate treatment becomes a problem. Therefore, the alkali metal or alkaline earth metal sulfate, or nitrate and aluminum and Treatment with a compound that forms a compound or that exhibits weak basicity upon dissolution is preferred. . Especially,
When this processing method is used, excellent effects can be obtained in all of the environmental aspect, the film formation speed, and the appearance improving effect. A method for forming a corrosion-resistant chemical conversion film containing (a) an alkali metal or alkaline earth metal sulfate or nitrate and (b) a compound with aluminum or a compound showing a weak basicity when dissolved here explain. As the sulfate or nitrate of the alkali metal or alkaline earth metal to be used, in the case of a calcium compound, nitrate and acetate are exemplified. In the case of a magnesium compound, nitrates, sulfates and acetates can be mentioned. Among them, magnesium sulfate is particularly preferred.
【０００６】アルミニウムと化合物を形成するか、溶解
時に弱塩基性を示す化合物としてはアルカリ金属の炭酸
塩、硝酸塩、酢酸塩または有機アミン類等を挙げること
が出来る。例としては炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリ
ウム、亜硝酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエタノー
ルアミン、エチルアミン等が挙げられる。その中でも特
に炭酸水素ナトリウムが好ましい。この処理方法におい
ては、上記成分（ａ）と（ｂ）とを含有する水溶液に、
アルミニウム基体を浸漬し、好ましくは、温度５０〜９
０℃で５〜１８０分間、特に３０〜１２０分間浸漬して
アルミニウム基体上に化成処理皮膜を形成するのがよ
い。ここで使用する水溶液における成分（ａ）と（ｂ）
の濃度は、成分（ａ）が５g/l 〜２５g/l 、成分（ｂ）
が0.１g/l 〜1.０g/l であるのが好ましい。Examples of the compound which forms a compound with aluminum or shows weak basicity upon dissolution include carbonates, nitrates, acetates and organic amines of alkali metals. Examples include sodium bicarbonate, sodium acetate, sodium nitrite, potassium carbonate, triethanolamine, ethylamine and the like. Among them, sodium bicarbonate is particularly preferred. In this treatment method, an aqueous solution containing the components (a) and (b) is
Dipping the aluminum substrate, preferably at a temperature of 50-9
It is preferable to form a chemical conversion treatment film on the aluminum substrate by immersing at 0 ° C. for 5 to 180 minutes, particularly 30 to 120 minutes. Components (a) and (b) in the aqueous solution used here
The concentration of component (a) is 5 g / l to 25 g / l, and component (b)
Is preferably from 0.1 g / l to 1.0 g / l.
【０００７】化成皮膜処理後、充分に水洗した後、水洗
後乾燥を行った後、電解浴中で火花放電法により該化成
処理皮膜上にセラミックス皮膜を形成するのがよい。本
発明で使用する電解浴としては、水溶性若しくはコロイ
ド状珪酸塩及び／又はタングステン酸、錫酸塩、モリブ
デン酸、ホウ酸塩、アルミン酸塩、燐酸塩等の酸素酸塩
を１種ないし２種以上添加した水溶液があげられる。こ
こで、珪酸塩としては、一般式M2O ・nSiO2 （M はアル
カリ金属を示し、n は0.５乃至100 の正数を示す）で表
される種々の水溶性のもの、例えば、珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム、珪酸リチウムや、コロイダルシリカ等の
水分散性のものを挙げることができる。これらの珪酸塩
は、単独で若しくは２種以上の混合物として用いること
ができる。電解浴に用いる水溶液中の珪酸塩及び／又は
酸素酸塩の濃度は５g/l 以上が好ましく、２５〜２００
g/l が好適である。尚、水溶液のｐＨは任意であるが、
３〜１3.５とするのが良い。[0007] After the chemical conversion coating treatment, it is preferable to sufficiently wash with water, then wash and then dry, and then form a ceramic coating on the chemical conversion coating by a spark discharge method in an electrolytic bath. As the electrolytic bath used in the present invention, one or two or more water-soluble or colloidal silicates and / or oxyacid salts such as tungstic acid, stannate, molybdic acid, borate, aluminate and phosphate are used. An aqueous solution to which more than one kind is added can be given. Here, as the silicate, various water-soluble silicates represented by the general formula M 2 O · nSiO 2 (M represents an alkali metal and n represents a positive number from 0.5 to 100), for example, Sodium silicate,
Water-dispersible materials such as potassium silicate, lithium silicate, and colloidal silica can be used. These silicates can be used alone or as a mixture of two or more. The concentration of the silicate and / or oxyacid salt in the aqueous solution used for the electrolytic bath is preferably 5 g / l or more, and
g / l is preferred. The pH of the aqueous solution is arbitrary,
It is good to set it to 3 to 13.5.
【０００８】陰極には、鉄、ステンレス、ニッケル等不
溶性電極を用い、陽極にアルミニウム基体を用いて、浴
温５〜９０℃、好ましくは１５〜６０℃で火花放電を行
うのがよい。低温では火花放電による皮膜の形成速度が
おそくなり、一方高温では、形成された皮膜が不均一と
なりやすい。電流密度は0.２〜２０A/dm2 で行うのが良
く、好ましくは１〜５A/dm2 である。用いる整流器の波
形は、３相全波、ノコギリ波、パルス波等任意のもので
よいが、より均一な皮膜を得ようとするには、ノコギリ
波、パルス波（矩形波形）がよい。本発明では、このよ
うにしてアルミニウム基体上に形成された化成処理皮膜
の上に、５〜３０μｍの厚みのセラミックス皮膜を形成
するのがよい。A spark discharge is preferably carried out at a bath temperature of 5 to 90 ° C., preferably 15 to 60 ° C., using an insoluble electrode such as iron, stainless steel, nickel or the like as the cathode and an aluminum substrate as the anode. At low temperatures, the rate of film formation by spark discharge is slow, while at high temperatures, the formed film tends to be non-uniform. Current density may be carried out in 0.2~20A / dm 2, preferably 1-5A / dm 2. The rectifier used may have any waveform, such as a three-phase full wave, a sawtooth wave, and a pulse wave. To obtain a more uniform film, a sawtooth wave and a pulse wave (rectangular waveform) are preferable. In the present invention, a ceramic film having a thickness of 5 to 30 μm is preferably formed on the chemical conversion treatment film thus formed on the aluminum substrate.
【０００９】[0009]
【発明の効果】本発明によれば、皮膜形成時間が短縮
し、得られた皮膜外観も良好になるので、これまで問題
となっていたアルミニウムダイカスト等の皮膜形成速度
の遅いものについて、またアルミ箔など皮膜均一性が得
られにくいものについても、実用的な速度で外観の良い
保護皮膜の形成が可能となる。又、本発明の表面保護皮
膜を有するアルミニウム製品は、真空中において薄膜を
形成する装置の形成室内部の汚染防止に有効な防汚シー
ト、可とう性に優れるヒーター、アルミニウム箔音響振
動板、ターボ分子ポンプの静翼、動翼、半導体製造装置
チャンバー内壁や防着板、その他自動車部品、電気部品
などとして幅広く使用することができる。次に実施例に
より本発明を説明する。According to the present invention, the film formation time is shortened and the appearance of the obtained film is also improved. It is possible to form a protective film having good appearance at a practical speed even for a film such as a foil, for which film uniformity is difficult to obtain. Further, the aluminum product having the surface protective film of the present invention is an antifouling sheet effective for preventing contamination of the inside of a forming chamber of a device for forming a thin film in a vacuum, a heater having excellent flexibility, an aluminum foil acoustic diaphragm, and a turbo. It can be widely used as stationary blades and rotor blades of molecular pumps, inner walls of chambers of semiconductor manufacturing equipment, anti-adhesion plates, other automobile parts, electric parts, and the like. Next, the present invention will be described with reference to examples.
【００１０】[0010]
実施例１ アルミニウムダイカストADC-12を、脱脂、アルカリエッ
チング、酸活性して清浄化した後、硫酸マグネシウム１
２g/l 、炭酸水素ナトリウム0.４g/l を含む化成処理水
溶液中に、９０℃で１２０分間浸漬して化成処理皮膜
（厚み５μｍ）を形成させた。その後ステンレス板を陰
極として、K2O ・nSiO2 を２００g/l 含有する水溶液中
で、２５℃、１A/dm2 、３８分間火花放電して、電解時
ピーク電圧を４４５Ｖとしてセラミックス皮膜（厚み２
５μｍ）を形成した。使用した電解浴組成及び皮膜外観
について表−１に示すが、実施例１の方法によれば比較
例１に比べて、皮膜形成速度が向上した。Example 1 After cleaning aluminum die-cast ADC-12 by degreasing, alkali etching and acid activation, magnesium sulfate 1 was used.
It was immersed in a chemical conversion aqueous solution containing 2 g / l and 0.4 g / l of sodium bicarbonate at 90 ° C. for 120 minutes to form a chemical conversion coating (thickness: 5 μm). Thereafter, using a stainless steel plate as a cathode, spark discharge was performed in an aqueous solution containing 200 g / l of K 2 O.nSiO 2 at 25 ° C., 1 A / dm 2 for 38 minutes, and the peak voltage at the time of electrolysis was set to 445 V to obtain a ceramic film (thickness 2).
5 μm). The composition of the electrolytic bath used and the appearance of the film are shown in Table 1. According to the method of Example 1, the film formation speed was improved as compared with Comparative Example 1.
【００１１】実施例２ 実施例１で用いたのと同じアルミニウムダイカストを、
実施例１と同様に前処理し、次いで化成処理液であるク
ロメート（ディップソールAL-710）中に２５℃で１２０
分間浸漬して化成処理皮膜（厚み0.５μｍ）を形成させ
た。次いで、実施例１と同様にして火花放電し、１A/dm
2 、３８分間で、電解時ピーク電圧を４４５Ｖとしてセ
ラミックス皮膜（厚み２５μｍ）を形成した。Example 2 The same aluminum die casting used in Example 1 was used.
Pretreatment was carried out in the same manner as in Example 1, and then 120 minutes at 25 ° C. in a chromate treatment solution (Dipsol AL-710).
The coating was immersed for 5 minutes to form a chemical conversion coating (thickness: 0.5 μm). Then, spark discharge was carried out in the same manner as in Example 1, and 1 A / dm
A ceramic film (thickness: 25 μm) was formed at a peak voltage of 445 V during electrolysis for 2 to 38 minutes.
【００１２】実施例３ 実施例１で用いたのと同じアルミニウムダイカストを、
実施例１と同様に前処理し、次いで化成処理液である燐
酸塩含有処理水溶液（ディップソールＰ−６７０）中に
４５℃で３０分間浸漬し化成処理皮膜（厚み５μｍ）を
形成させた。次いで、実施例１と同様にして火花放電
し、１A/dm2 、３５分間で、電解時ピーク電圧を４４５
Ｖとしてセラミックス皮膜（厚み２５μｍ）を形成し
た。得られたセラミックス皮膜はムラがあり、これは硫
酸マグネシウムと炭酸水素ナトリウムの混合化成処理皮
膜、クロメートによる化成処理皮膜よりも燐酸塩皮膜処
理で得られる化成処理皮膜のほうが粗いためにセラミッ
クス皮膜に影響を及ぼしているものと思われる。Example 3 The same aluminum die casting as used in Example 1 was used.
Pretreatment was performed in the same manner as in Example 1, and then immersed in a phosphate-containing treatment aqueous solution (Dipsol P-670), which is a chemical treatment solution, at 45 ° C. for 30 minutes to form a chemical conversion treatment film (thickness: 5 μm). Next, spark discharge was performed in the same manner as in Example 1, and the peak voltage during electrolysis was set to 445 at 1 A / dm 2 for 35 minutes.
As V, a ceramic film (thickness: 25 μm) was formed. The resulting ceramic coating has unevenness, which affects the ceramic coating because the chemical conversion coating obtained by phosphate coating is coarser than the chemical conversion coating of magnesium sulfate and sodium hydrogen carbonate and the chemical conversion coating by chromate. It seems that it is exerting.
【００１３】実施例４ 厚さ５０μｍのアルミニウム箔を、脱脂、アルカリエッ
チング、酸活性して清浄化した後、硫酸マグネシウム１
２g/l と炭酸水素ナトリウム0.４g/l を含む化成処理水
溶液液中に、９０℃で１２０分間浸漬して化成処理皮膜
（厚み５μｍ）を形成させた。ステンレス板を陰極とし
て、Na4P2O7 ・H2O 、７０g/l を含有する水溶液中で２
５℃、１A/dm2 、１５分間火花放電してセラミックス皮
膜（厚み５μｍ）を形成した。得られた皮膜は、均一性
に優れたものであった。Example 4 An aluminum foil having a thickness of 50 μm was cleaned by degreasing, alkali etching and acid activation, and then magnesium sulfate 1
It was immersed in a chemical conversion aqueous solution containing 2 g / l and sodium hydrogencarbonate at 0.4 g / l at 90 ° C. for 120 minutes to form a chemical conversion coating (thickness: 5 μm). Using a stainless steel plate as a cathode, an aqueous solution containing 70 g / l of Na 4 P 2 O 7 .H 2 O 2
Spark discharge was performed at 5 ° C. and 1 A / dm 2 for 15 minutes to form a ceramic film (thickness: 5 μm). The obtained film was excellent in uniformity.
【００１４】実施例５ クロメート（ディップソールAL-710）中に２５℃で２時
間浸漬し化成処理皮膜を形成させた以外は、実施例４と
同様にしてアルミニウム箔上に、化成処理皮膜とセラミ
ックス皮膜を形成した。 比較例１ 化成処理皮膜の形成を行わない以外は、実施例１と同様
にして、電解浴中で２５℃、１A/dm2 、７５分間火花放
電して、電解時ピーク電圧を４４５Ｖとしてセラミック
ス皮膜を形成した。 比較例２ 化成皮膜処理は行わない以外は、実施例４と同様にし
て、電解浴中で２５℃、１A/dm2 、１５分間火花放電し
てセラミックス皮膜を形成した。得られた皮膜はムラが
あり均一性に欠けるものであった。Example 5 A chemical conversion coating and a ceramic were formed on an aluminum foil in the same manner as in Example 4 except that a chemical conversion coating was formed by immersion in chromate (Dipsol AL-710) at 25 ° C. for 2 hours. A film was formed. Comparative Example 1 In the same manner as in Example 1 except that the chemical conversion coating was not formed, spark discharge was performed in an electrolytic bath at 25 ° C., 1 A / dm 2 , for 75 minutes, and the peak voltage during electrolysis was set to 445 V. Was formed. Comparative Example 2 A ceramic film was formed by performing a spark discharge in an electrolytic bath at 25 ° C., 1 A / dm 2 for 15 minutes in the same manner as in Example 4 except that the chemical conversion film treatment was not performed. The obtained film was uneven and lacked in uniformity.
【００１５】実施例１〜５及び比較例１〜２により得ら
れたセラミックス皮膜の平滑性を目視により観察して下
記の基準で判定した。 ○…良い △…やや良い ×…悪い 結果をまとめて表−１に示す。尚、表中での皮膜形成時
間は、電解時ピーク電圧が４４５Ｖに達するまでの時間
である。The smoothness of the ceramic films obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was visually observed and judged according to the following criteria. Good: Good: Good: Good: Bad: The results are summarized in Table 1. In addition, the film formation time in the table is a time until the peak voltage during electrolysis reaches 445 V.
【００１６】[0016]
【表１】 表−１ 素材 化成処理浴 皮膜形成 電解浴 皮膜 時間（分） 均一性 実施例 1 アルミニウム MgSO4 12g/l ３８ K2O ・nSiO2 ○ ダイカスト ADC-12 NaHCO3 0.4g/l 200g/l 実施例 2 アルミニウム AL-710 ５０ K2O ・nSiO2 ○ ダイカスト ADC-12 200g/l 実施例 3 アルミニウム P-670 ３５ K2O ・nSiO2 △ ダイカスト ADC-12 200g/l 実施例 4 アルミニウム MgSO4 12g/l ７ Na4P2O7 ・H2O ○ 箔 NaHCO3 0.4g/l 70g/l 実施例 5 アルミニウム AL-710 ８ Na4P2O7 ・H2O ○ 箔 70g/l 比較例 1 アルミニウム 無 ７５ K2O ・nSiO2 ○ ダイカスト ADC-12 200g/l 比較例２ アルミニウム 無 １０ Na4P2O7 ・H21 × 箔 70g/l [Table 1] Table-1 Material Chemical conversion bath Film formation Electrolytic bath Film time (min) Uniformity Example 1 Aluminum MgSO 4 12g / l 38 K 2 O · nSiO 2 Die casting ADC-12 NaHCO 3 0.4g / l 200g / l Example 2 Aluminum AL -710 50 K 2 O · nSiO 2 ○ Die cast ADC-12 200g / l Example 3 Aluminum P-670 35 K 2 O · nSiO 2 △ Die cast ADC-12 200g / l Example 4 Aluminum MgSO 4 12g / l 7 Na 4 P 2 O 7・ H 2 O ○ Foil NaHCO 3 0.4 g / l 70 g / l Example 5 Aluminum AL-710 8 Na 4 P 2 O 7・ H 2 O ○ Foil 70 g / l Comparative example 1 No aluminum 75 K 2 O · nSiO 2 ○ die cast ADC-12 200g / l Comparative example 2 aluminum No 10 Na 4 P 2 O 7 · H 2 1 × foil 70 g / l
Claims (2)
成し、次いで電解浴中で火花放電法により該化成処理皮
膜上にセラミックス皮膜を形成することを特徴とするセ
ラミックス皮膜の形成方法。1. A method for forming a ceramic film, comprising: forming a chemical conversion film on an aluminum substrate; and forming a ceramic film on the chemical conversion film by a spark discharge method in an electrolytic bath.
びセラミックス皮膜がこの順序で形成されてなることを
特徴とする表面保護皮膜を有するアルミニウム製品。2. An aluminum product having a surface protective film, wherein a chemical conversion film and a ceramic film are formed on an aluminum substrate in this order.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25583796A JPH10102267A (en) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | Formation of ceramic coating film with chemical coating film as underlayer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25583796A JPH10102267A (en) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | Formation of ceramic coating film with chemical coating film as underlayer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10102267A true JPH10102267A (en) | 1998-04-21 |
Family
ID=17284291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25583796A Pending JPH10102267A (en) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | Formation of ceramic coating film with chemical coating film as underlayer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10102267A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115478269A (en) * | 2022-10-11 | 2022-12-16 | 山西聚星辰新材料科技有限公司 | Preparation method of flexible aluminum-based ceramic insulating foil |
-
1996
- 1996-09-27 JP JP25583796A patent/JPH10102267A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN115478269A (en) * | 2022-10-11 | 2022-12-16 | 山西聚星辰新材料科技有限公司 | Preparation method of flexible aluminum-based ceramic insulating foil |
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