JPH0996712A - Production of color filter - Google Patents

Production of color filter

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JPH0996712A
JPH0996712A JP25263695A JP25263695A JPH0996712A JP H0996712 A JPH0996712 A JP H0996712A JP 25263695 A JP25263695 A JP 25263695A JP 25263695 A JP25263695 A JP 25263695A JP H0996712 A JPH0996712 A JP H0996712A
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light
layer
substrate
colored resist
transparent layer
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JP25263695A
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Inventor
Hirotake Marumichi
博毅 円道
Original Assignee
Sony Corp
ソニー株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain color filters aligned with high accuracy by making it possible to detect alignment marks with high accuracy even in colored resist layers of any colors. SOLUTION: Transparent layers 3 having translucency to light (alignment light) 5 of a prescribed wavelength are formed in the positions right above the alignment marks 2 formed on a substrate 1. A colored resist liquid is applied on the substrate 1 so as to cover the transparent layers 3 in such a manner the thickness on the transparent layers 3 is made smaller than the thickness at other points, by which the colored resist layers 4 consisting of the resist liquid are formed. In succession, the substrate 1 is irradiated with the alignment light 5 to detect the alignment marks 2. The mask is aligned to the substrate 1 in accordance with the result of the detection. The colored resist layers 4 are exposed by using a mask and are then developed, by which the colored resist layers 4 are formed to the patterns of prescribed filters 6.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CCD固体撮像素子やLCD表示素子等のカラーフィルタの製造に好適なカラーフィルタの製造方法に関するものである。 The present invention relates to relates to a process for the preparation of a preferred color filter to manufacture a color filter such as a CCD solid-state imaging device or an LCD display device.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来のカラーフィルタの製造方法には、 Background of the Invention to the conventional method of manufacturing a color filter,
着色されたレジスト層(以下、着色レジスト層と記す) Colored resist layer (hereinafter referred to as colored resist layer)
で形成したパターンを、そのままカラーフィルタとして使用する、いわゆるカラーレジスト法がある。 In the formed pattern is used as such as a color filter, a so-called color resist method.

【0003】カラーレジスト法では、例えば図3に示すごとく基板50上に平坦化層51が形成されている場合、まずこの平坦化層51上に着色されたレジスト層(以下、着色レジスト層と記す)52を形成する。 [0003] In the color resist method, for example, if the planarizing layer 51 on the substrate 50 as shown in FIG. 3 is formed, first resist layer colored on the planarization layer 51 (hereinafter, referred to as a colored resist layer ) 52 to forming. 次に、基板50へ向けて露光装置のアライメント光53を照射して基板50に形成されているアライメントマーク54を検出し、この結果に基づいて着色レジスト層52 Then, toward the substrate 50 is irradiated with alignment light 53 of the exposure device detects the alignment mark 54 formed on the substrate 50, a colored resist layer on the basis of the result 52
上にマスク(図示略)を位置合わせする。 Aligning the mask (not shown) above. そして、位置合わせしたマスクを用いて着色レジスト層52を露光し、その後現像して着色レジスト層52を所定のパターンに形成し、該パターンからなる色フィルタ(図示略) Then, exposing the colored resist layer 52 using a mask alignment, then developed to form a colored resist layer 52 in a predetermined pattern, color filters consisting of the pattern (not shown)
を形成する。 To form. この方法では、カラーフィルタを構成する各色毎、例えば赤、緑、青毎に上記工程を繰り返し行って、これら3色の各フィルタからなるカラーフィルタを製造する。 In this method, each color constituting the color filter, for example, red, green, and repeat the above steps for each blue, to produce a color filter comprising Each of these three color filters.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、カラーレジスト法を用いるカラーフィルタの製造方法では、通常のフォトリソグラフィ工程と異なり、レジスト層自体が着色しているために、着色レジスト層を露光する際の基板とマスクとの位置合わせ時に以下の問題が生じる。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, in the method for producing a color filter using a color resist method, unlike the conventional photolithography process, to the resist layer itself is colored, when exposing the colored resist layer the following problem arises when the alignment between the substrate and the mask. 例えば赤、緑、青の各フィルタから構成されるカラーフィルタを製造する場合、アライメント光が赤、緑、青のそれぞれの着色レジスト層に対して充分な透過性がある光でないと、着色レジスト層の下方のアライメントマークを検出することができない。 For example, red, green, when manufacturing formed color filter from each filter of blue, the alignment light is red, green, unless a light having a sufficient permeability with respect to each of the colored resist layer of the blue, the colored resist layer it is not possible to detect the alignment mark of the lower. このような要求に対し、アライメント光として例えば白色光を用いることが考えられるが、この光が青成分を含む場合、たいがいの着色レジスト層が感光してしまうといった問題が生じる。 For such requirements, it is conceivable to use, for example, white light as alignment light, if the light containing blue component, a problem mostly colored resist layer resulting in a photosensitive occur.

【0005】また白色光のような広帯域の光を用いると、露光装置光学系の色収差のために、アライメントマークの位置を正確に検出することが困難となる。 [0005] Using a broadband light such as white light, for the chromatic aberration of the exposure apparatus optical system, it is difficult to accurately detect the position of the alignment mark. このことは特に、固体撮像素子のような微細なパターンが要求される素子のカラーフィルタを製造する場合に大きな問題となる。 This is particularly a serious problem in the case of producing a color filter element fine pattern such as a solid-state image pickup device is required.

【0006】また以上のような理由から、通常、露光装置のアライメント光として単色光、特に赤色光が使用されることが多い。 [0006] For the above reasons, usually monochromatic light as alignment light of the exposure apparatus, it is often especially red light is used. しかしながら、赤色光が緑のレジスト、青のレジストに吸収される光であるうえ、図3に示すように従来、アライメントマーク54直上位置においても、着色レジスト層52が他の箇所と同様に厚く形成されてしまうため、アライメント光として赤色光を用いた場合には、緑のレジスト、青のレジストをアライメント光が透過せず、アライメントマークの検出が不可能となってしまうのである。 However, after a light red light is absorbed in the green of the resist, blue resist, conventionally as shown in FIG. 3, even in the alignment mark 54 directly above position, similar to the colored resist layer 52 and the other portions thicker because would be, in the case of using the red light as alignment light, it does not transmit the green resist, the resist blue alignment light is the detection of the alignment mark becomes impossible.

【0007】本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、いずれの色の着色レジスト層においても高精度にアライメントマークを検出することができ、このことにより高精度にアライメントされたカラーフィルタを製造できるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的としている。 [0007] The present invention has been made to solve the above problems, either can also be detected alignment mark with high accuracy in the colored resist layer of a color, the color that is aligned with high precision by this and its object is to provide a method for producing a color filter capable of producing filter.

【0008】 [0008]

【課題を解決するための手段】本発明に係るカラーフィルタの製造方法では、上記課題を解決するために、まず基板に形成されたアライメントマークの直上位置に、所定波長の光に対して透光性を有する透明層を形成し、次いでこの透明層を覆うようにして基板上に着色されたレジスト液を塗布し、透明層上の厚さが他の箇所の厚さより薄くなるようにしてレジスト液からなる着色レジスト層を形成する。 In the method for producing a color filter according to the present invention, in order to solve the problems], translucent in order to solve the above problems, the first position directly above the alignment mark formed on the substrate, with respect to light of a predetermined wavelength forming a transparent layer having a gender, then resist liquid as the transparent layer so as to cover coated with resist solution colored substrate, the thickness of the transparent layer is thinner than the thickness of other portions forming a colored resist layer formed of. 続いて基板へ向けて所定波長の光を照射してアライメントマークを検出し、この検出結果に基づき基板に対してマスクを位置合わせする。 Following detection of the alignment mark is irradiated with light of a predetermined wavelength toward the substrate, aligning the mask with respect to the substrate based on the detection result. そして着色レジスト層をマスクを用いて露光し、その後現像して着色レジスト層を所定のパターンに形成する。 The colored resist layer was exposed using a mask, then developed to form a colored resist layer in a predetermined pattern.

【0009】本発明方法では、透明層を形成した後、透明層上の厚さが他の箇所の厚さより薄くなるようにして着色レジスト層を形成するため、たとえ着色レジスト層が所定波長の光を吸収する色に着色されたものであっても、基板へ向けてその所定波長の光を照射すると、該光が透明層上の着色レジスト層を透過する。 [0009] In the method of the present invention, after forming the transparent layer, since the thickness of the transparent layer to form a colored resist layer as thinner than the thickness of other portions, even if the colored resist layer of a predetermined wavelength light even those that are colored color that absorbs, when irradiated with light of the predetermined wavelength toward the substrate, the light is transmitted through the colored resist layer on the transparent layer. また透明層が上記所定波長の光に対して透光性を有する層からなることから、着色レジスト層を透過した光は、さらに透明層を透過してアライメントマークに到達する。 Also since the transparent layer is a layer having a light-transmitting property with respect to light of the predetermined wavelength, the light transmitted through the colored resist layer reaches the alignment marks and further transmitted through the transparent layer.

【0010】 [0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るカラーフィルタの製造方法の実施形態を図面に基づいて詳しく説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, will be described in detail with reference to the embodiment of the manufacturing method of a color filter according to the present invention with reference to the accompanying drawings. 図1は本発明の一実施形態を工程順に説明するための図である。 Figure 1 is a diagram for explaining an embodiment in process order. カラーフィルタを製造するには、図1 To manufacture a color filter, Figure 1
(a)に示すように、まず基板1に形成されたアライメントマーク2の直上位置に、所定波長の光に対して、つまり露光装置のアライメント光に対して透光性を有する透明層3を形成する。 (A), the First position directly above the alignment mark 2 formed on the substrate 1, formed with respect to light of a predetermined wavelength, that is, the transparent layer 3 having a light-transmitting property with respect to the alignment light of the exposure apparatus to. ここでは、アライメントマーク2 In this case, the alignment mark 2
の直上位置に、アライメントマーク2を覆うようにして透明層3を形成する。 A position directly above, to form the transparent layer 3 so as to cover the alignment marks 2.

【0011】透明層3は、アライメント光に対して透光性があれば、透明樹脂等、種々の材料で形成することができ、また用いる材料に応じて種々の方法で形成することができる。 [0011] transparent layer 3, if there is light-transmitting property with respect to the alignment light can be formed in various ways depending on the transparent resin or the like, can be formed of various materials, also used materials. 例えば例えばアライメント光が赤色光である場合には、透明層3の材料として無色、黄色、赤色等のレジストを用いることができ、またパターニング等によって透明層3を形成することができる。 If for example, for example, the alignment light is red light, colorless as the transparent layer 3 materials may be used yellow, a resist such as red, also it is possible to form the transparent layer 3 by patterning or the like. また透明層3 The transparent layer 3
の厚さは、次工程の着色されたレジスト液の塗布に悪影響を及ぼさない寸法にする。 The thickness of the is dimensioned to not adversely affect the application of the pigmented resist solution in the subsequent step.

【0012】透明層3の形成後は、透明層3を覆うようにして基板1上に着色されたレジスト液を例えば回転塗布法によって塗布し、透明層3上の厚さが他の箇所の有さより薄くなるようにしてレジスト液からなる着色レジスト層4を形成する。 [0012] After the formation of the transparent layer 3, so as to cover the transparent layer 3 is coated by a resist solution which is colored on the substrate 1, for example spin coating, organic thickness of the transparent layer 3 is elsewhere set to be smaller than of forming a colored resist layer 4 made of the resist solution. ここでは、例えば他の箇所の厚さが1〜2μm程度、透明層3上の厚さが他の箇所の膜厚の半分程度となるようにして着色レジスト層4を形成する。 Here, for example, about the thickness of the other portions is 1 to 2 [mu] m, the thickness of the transparent layer 3 is set to be about half of the thickness of the other portions to form a colored resist layer 4.

【0013】通常、レジスト液は、レジスト液の塗布の際、透明層3の上側から下側に自重により流動する粘性を有している。 [0013] Normally, the resist solution, upon application of the resist solution, it has a viscosity to flow by gravity from the top to the bottom of the transparent layer 3. したがってレジスト液を用いて塗布を行った場合、形成されるレジスト層の厚さは、平坦面上ではほぼ一定となり、また凹部分においては平坦面上の厚さよりも厚く、反対に凸部分においては平坦面上よりも薄くなる現象が見られる。 Therefore, when the resist solution was applied using a thickness of the resist layer to be formed becomes substantially constant on a flat surface, also thicker than the thickness on the flat surface in the concave portion, the convex portion opposed to phenomenon that is thinner than on the flat surface can be seen. この現象は、当然、回転塗布法を用いた場合にも認められる。 This phenomenon, of course, is also found in the case of using the spin coating method. よって、基板1上面より突出した透明層3が形成された基板1上に、着色されたレジスト液を塗布することにより、レジスト液からなる着色レジスト層4を、その透明層3上の厚さが他の箇所の厚さよりも薄くなるように形成することができる。 Therefore, on a substrate 1 in which the substrate 1 transparent layer projecting from the upper surface 3 is formed by applying a colored resist liquid, the colored resist layer 4 made of the resist solution, the thickness of its transparent layer 3 it can be formed to be thinner than the thickness of other portions.

【0014】こうして着色レジスト層4を形成した後は、基板1へ向けてアライメント光5を照射してアライメントマーク2を検出し、検出結果に基づき、着色レジスト層4を所定のパターンに形成するためのマスク(図示略)を、基板1に対して位置合わせする。 [0014] After forming the colored resist layer 4 thus detects the alignment mark 2 by irradiating the alignment light 5 toward the substrate 1, on the basis of the detection result, to form a colored resist layer 4 into a predetermined pattern of the mask (not shown), to align the substrate 1. 次いで、着色レジスト層4を上記マスクを用いて露光し、その後現像して、図1(b)に示すように着色レジスト層4を所定のパターンに形成し、着色レジスト層4のパターンからなるフィルタ6を得る。 Then, the colored resist layer 4 is exposed with the mask, and then developed, the colored resist layer 4 as shown in FIG. 1 (b) is formed in a predetermined pattern, consisting of pattern of the colored resist layer 4 filter get a 6.

【0015】なお、例えば赤、緑、青の3色から構成されているカラーフィルタを製造する場合、上記工程によって例えば赤のフィルタ6を形成した後は、透明層3形成以降の工程を他の2色それぞれについて繰り返し行って、上記3色の各フィルタ6からなるカラーフィルタ7 [0015] Incidentally, for example, red, green, in the case of producing a color filter which is composed of three colors of blue, after forming a red filter 6, for example by the above process, the transparent layer 3 formed later steps the other Repeat done for two colors each, color filter 7 consisting of the filters 6 of the three colors
を製造する。 The manufacture.

【0016】上記実施形態の方法では、透明層3を形成した後、レジスト液を塗布することにより、着色レジスト層4をその透明層3上の厚さが他の箇所の有さより薄くなるように形成することができるので、たとえアライメント光5が緑のレジストや青のレジストに吸収される赤色光であっても、透明層3上の着色レジスト層4をアライメント光5を透過させることができる。 [0016] In the method of the above-described embodiment, after forming the transparent layer 3, by applying a resist solution, the colored resist layer 4 so that the thickness on the transparent layer 3 is thinner than the chromatic of other portions can be formed, even if red light alignment light 5 is absorbed in the resist green resist or blue, can transmit alignment light 5 coloring resist layer 4 on the transparent layer 3. また透明層3が、アライメント光5に対して透光性を有する層からなるので、着色レジスト層4を透過したアライメント光を、さらに透明層3を透過させてアライメントマーク2 The transparent layer 3 is, since a layer having a light-transmitting property with respect to alignment light 5, the alignment light transmitted through the colored resist layer 4, thereby further transmitted through the transparent layer 3 alignment marks 2
に到達させることができる。 It is possible to reach the.

【0017】よって、アライメント光5に白色光を用いなくても、いずれの色の着色レジスト層4においてもアライメントマーク2の位置検出を正確に行うことができ、基板1に対してマスクを高精度に位置合わせすることができるので、高精度にアラメントされたカラーフィルタ7を製造することができる。 [0017] Thus, without using a white light to the alignment light 5, it can also detect the position of the alignment mark 2 exactly in the colored resist layer 4 of any color, high precision mask to the substrate 1 it is possible to align, it is possible to manufacture the color filter 7 which is Aramento with high accuracy.

【0018】なお、上記実施形態では、透明層3を形成した後、カラーフィルタ7を構成する3色の各色毎に、 [0018] In the above embodiment, after forming the transparent layer 3, for each of the three colors constituting the color filter 7 colors,
着色レジスト層4の形成、基板1とマスクとの位置合わせ、露光、現像の一連の工程を繰り返し行う場合について述べたが、例えば最初のフィルタの形成と同時に透明層を形成し、その後、残りの2色について上記一連の工程を繰り返し行うことによってカラーフィルタを製造することも可能である。 Formation of the colored resist layer 4, alignment between the substrate 1 and the mask, exposure, it has dealt with the case where repeating the series of steps of developing, for example, to form a first formation of the filter at the same time transparent layer, then the remaining it is also possible to produce a color filter by repeating the above series of steps for 2-color.

【0019】例えば最初に赤のフィルタを形成する場合、赤のレジスト層から赤のフィルタと透明層とを同時にパターン形成した後、緑、青のフィルタを形成する。 [0019] For example, in the case of the first to form a red filter, after simultaneously patterned red filter and a transparent layer from the resist layer of red, green, to form a blue filter.
この場合、アライメント光に赤のレジスト層を透過する赤色光を用いれば、赤のフィルタを形成する際、透明層を形成しなくても基板とマスクとの位置合わせを行うことができるので、赤のフィルタおよび透明層を所定の位置に精度良く形成することができる。 In this case, the use of the red light transmitted through the resist layer of red alignment light, when forming a red filter, so without forming a transparent layer can be aligned with the substrate and the masks, red it is possible to accurately form the filter and a transparent layer in place. また、最初のフィルタの形成と同時に透明層を形成できるので、工程数を増加させることなくフィルタを製造することができる。 Moreover, can be formed at the same time transparent layer with the formation of the first filter, it is possible to manufacture the filter without increasing the number of steps.

【0020】また上記実施形態では、着色レジスト層4 [0020] In the above embodiment, the colored resist layer 4
の形成方法として回転塗布法を用いたが、他の方法を用いることができるのはもちろんである。 It was used as a method of forming a spin coating method, but it is of course possible to use other methods. さらに上記実施形態では、他の箇所の厚さが1〜2μm程度、透明層3 Further in the above embodiment, about 1~2μm thicknesses of the other portions, the transparent layer 3
上の厚さが他の箇所の膜厚の半分程度となるようにして着色レジスト層4を形成したが、本発明における着色レジスト層は、透明層上の厚さが他の箇所の有さより薄くなるように形成されればよく、上記寸法に限定されない。 The thickness of the top to form a colored resist layer 4 so as to be approximately half the thickness of the other portions, the colored resist layer in the present invention, the thickness of the transparent layer is thinner than the chromatic of other portions it is sufficient so as to be formed, not limited to the above dimensions. また透明層上においては着色レジスト層の厚みがない状態に着色レジスト層を形成してもよく、このように形成すれば、アライメントマークの位置検出を一層正確に行うことができる。 The may be formed colored resist layer to the absence of the thickness of the colored resist layer on the transparent layer, in this manner formed, it is possible to detect the position of the alignment mark more accurately.

【0021】また上記実施形態では、アライメントマーク2に対して直に透明層3を形成した場合を説明したが、アライメントマークの直上位置に透明層が形成されれば、例えば図2に示すごとくアライメントマーク2と透明層3との間に平坦化層8等、他の層が介在していてもよい。 [0021] In the above embodiment has been described the case of forming the directly transparent layer 3 with respect to the alignment marks 2, be made of a transparent layer in a position directly above the alignment mark, for example, as shown in FIG. 2 alignment planarizing layer 8, etc. between the marks 2 and the transparent layer 3, other layers may be interposed. ただし、その他の層は、透明層を透過する光(例えばアライメント光)に対して透光性を有する層からなっていることが必要である。 However, other layers, it is necessary to be composed of a layer having a light-transmitting property with respect to light transmitted through the transparent layer (e.g., the alignment light).

【0022】アライメントマーク2と透明層3との間に、アライメント光5に対して透光性を有する平坦化層8が介在しているカラーフィルタを製造する場合には、 [0022] Between the alignment marks 2 and the transparent layer 3, when the flattening layer 8 having a light-transmitting property with respect to alignment light 5 to produce a color filter is interposed,
図2(a)に示すように、基板1上にアライメントマーク2を覆って平坦化層8を形成し、この後、平坦化層8 As shown in FIG. 2 (a), covering the alignment mark 2 to form a flattening layer 8 on the substrate 1, thereafter, planarization layer 8
におけるアライメントマーク2直上位置に透明層3を形成する。 Forming the transparent layer 3 in the alignment mark 2 position directly above the. 次いで基板1上に平坦化層8を介して、透明層3上の厚さが他の箇所の厚さよりも薄くなるようにして着色レジスト層4を形成する。 Then through the planarization layer 8 on the substrate 1, the thickness of the transparent layer 3 is set to be thinner than the thickness of other portions to form a colored resist layer 4. そして前述の実施形態と同様に、アライメント光5の照射によりアライメントマーク2を検出し、マスクと基板1とを位置合わせした後、露光、現像して図2(b)に示すごとく着色レジスト層4のパターンからなるフィルタ6を得る。 And, similar to the above embodiment, to detect the alignment mark 2 by the irradiation of the alignment light 5, after aligning the mask and the substrate 1, exposed, developed and as shown in FIG. 2 (b) colored resist layer 4 obtaining a filter 6 consisting of a pattern.

【0023】アライメントマーク2と透明層3との間に平坦化層8が介在している場合にも、平坦化層8がアライメント光5に対して透光性を有しているので、着色レジスト層4および透過層3を透過したアライメント光を、平坦化層8を透過させてアライメントマーク2に到達させることができる。 The case also the planarization layer 8 between the alignment marks 2 and the transparent layer 3 is interposed, since the planarizing layer 8 has a light-transmitting property with respect to the alignment light 5, the colored resist the alignment light that has passed through the layer 4 and transparent layer 3, it is possible to reach the alignment mark 2 by transmitting planarizing layer 8. よって、この場合にも前述した実施形態と同様の効果を得ることができ、高精度にアラメントされたカラーフィルタ9を製造することができる。 Therefore, this case also can be obtained the same effect as the embodiment described above, it is possible to manufacture the color filter 9 which is Aramento with high accuracy.

【0024】 [0024]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るカラーフィルタの製造方法によれば、所定波長の光に対して透光性を有する透明層を形成した後、透明層上の厚さが他の箇所の厚さより薄くなるようにして着色レジスト層を形成することから、たとえ着色レジスト層が所定波長の光を吸収する色に着色されたものであっても、アライメントマークの位置検出を正確に行うことができる。 According to the manufacturing method of a color filter according to the present invention as described in the foregoing, after forming the transparent layer having a light-transmitting property with respect to light of a predetermined wavelength, the thickness of the transparent layer other since set to be thinner than the thickness of the portion forming a colored resist layer, even if they colored resist layer is colored in a color that absorbs light of a predetermined wavelength, accurately detect the position of the alignment mark It can be carried out. したがって、いずれの色の着色レジスト層においても、基板に対してマスクを高精度に位置合わせすることができることから、高精度にアラメントされたカラーフィルタを製造することができるので、合わせずれに起因する不良を低減することができる。 Therefore, also in the colored resist layer of every color, since it is possible to align the mask with high accuracy relative to the substrate, it is possible to manufacture the color filters Aramento with high precision, due to misalignment it is possible to reduce the bad.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】(a)、(b)は、本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一実施形態を工程順に説明するための要部側断面図である。 [1] (a), (b) is a main portion side sectional view for explaining an embodiment of a method for producing a color filter according to the present invention in order of steps.

【図2】(a)、(b)は、本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他の実施形態を工程順に説明するための要部側断面図である。 Figure 2 (a), (b) is a main portion side sectional view for explaining another embodiment of a method for producing a color filter according to the present invention in order of steps.

【図3】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を説明する図である。 3 is a diagram illustrating an example of a conventional method for manufacturing a color filter.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 基板 2 アライメントマーク 3 透明層 4 着色レジスト層 5 アライメント光 7、9 カラーフィルタ 1 substrate 2 alignment mark 3 transparent layer 4 colored resist layer 5 alignment light 7 and 9 color filter

Claims (1)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 基板に形成されたアライメントマークの直上位置に、所定波長の光に対して透光性を有する透明層を形成する工程と、 前記透明層を覆うようにして前記基板上に着色されたレジスト液を塗布し、前記透明層上の厚さが他の箇所の厚さより薄くなるようにして前記レジスト液からなる着色レジスト層を形成する工程と、 前記基板へ向けて前記所定波長の光を照射して前記アライメントマークを検出し、該検出結果に基づき前記基板に対してマスクを位置合わせする工程と、 前記着色レジスト層を前記マスクを用いて露光し、その後現像して前記着色レジスト層を所定のパターンに形成する工程とを有していることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 To 1. A position immediately above the alignment mark formed on the substrate, the coloring with respect to light of a predetermined wavelength and forming a transparent layer having a light-transmitting property, the transparent layer so as to cover a manner on the substrate resist solution is applied, and forming a colored resist layer formed from said resist liquid as a thickness on the transparent layer is thinner than the thickness of the other portion, of the predetermined wavelength toward said substrate by irradiating light to detect the alignment mark, aligning the mask relative to the substrate on the basis of the detection result, the colored resist layer was exposed using the mask, the colored resist subsequently developing the method of manufacturing a color filter, characterized in that it has a step of forming a layer in a predetermined pattern.
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Cited By (8)

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