JPH0991779A - Magneto-optical disk - Google Patents
Magneto-optical diskInfo
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- JPH0991779A JPH0991779A JP25072995A JP25072995A JPH0991779A JP H0991779 A JPH0991779 A JP H0991779A JP 25072995 A JP25072995 A JP 25072995A JP 25072995 A JP25072995 A JP 25072995A JP H0991779 A JPH0991779 A JP H0991779A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は光磁気ディスクの改
良に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to improvements in magneto-optical disks.
【0002】[0002]
【従来の技術】読み出し層と記録層とを交換結合してな
る光磁気ディスクが提案されている(たとえば特開昭6
3−18545号)。同公開公報によれば、記録層にR
−FeCo−M(R:TbおよびDyから選ばれる1種
または2種の元素、M:CrおよびAlから選ばれる1
種)を、読み出し層にGdFeCoを用いて、これら二
層で交換結合した構成が提案され、そして、実施例には
いずれの層の厚みも500Åであることが記載されてい
る。2. Description of the Related Art A magneto-optical disk having a read layer and a recording layer exchange-coupled to each other has been proposed (for example, Japanese Patent Laid-Open No. Sho 6).
3-18545). According to the publication, the recording layer has R
-FeCo-M (R: 1 or 2 elements selected from Tb and Dy, 1 selected from M: Cr and Al)
Seed) is proposed, in which GdFeCo is used for the readout layer and exchange coupling is performed in these two layers, and it is stated in the examples that the thickness of each layer is 500Å.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、記録層
と読み出し層の双方を希土類金属と遷移金属の合金で構
成し、遷移金属は共通してFeCo合金を使用している
が、希土類金属の種類が異なっているので、スパッタリ
ングによって両層を順次成膜する際に、記録層用と、読
み出し層用の二つの成膜室を設ける必要があり、その結
果、製造コストが大幅の高くなっている。However, both the recording layer and the reading layer are composed of an alloy of a rare earth metal and a transition metal, and the transition metal commonly uses a FeCo alloy. Since they are different, it is necessary to provide two film forming chambers for the recording layer and the reading layer when sequentially forming both layers by sputtering, and as a result, the manufacturing cost is significantly increased.
【0004】さらに500Åの厚みの読み出し層を成膜
しようとすると、その大きな厚みによって製造時間が長
くなり、材料の使用量も増大し、かかる理由によっても
製造コストが高くなっていた。Further, if an attempt is made to form a read-out layer having a thickness of 500 Å, the manufacturing time is lengthened due to the large thickness, the amount of material used is increased, and the manufacturing cost is also increased for this reason.
【0005】しかも、読み出し層については、GdFe
Coのように3元系原子からなるので、それら個々の原
子間で組成比を厳密に設定しなければならないが、一般
的には多元系になるほどに組成制御がむずかしく、その
上、GdFeCoの読み出し層を用いた場合には保磁力
が小さいので、最適な保磁力を得ようとすると、その組
成範囲がさらに狭くなり、これによってスパッタリング
条件に微妙な調整が要求されるという問題点もある。加
えて、読み出し特性が未だ満足できるものではないとい
う問題点もある。Moreover, regarding the read layer, GdFe is used.
Since it consists of ternary atoms like Co, the composition ratio between these individual atoms must be set strictly, but in general, the composition control becomes difficult as it becomes a multi-element system, and moreover, reading of GdFeCo Since the coercive force is small when the layer is used, there is a problem in that the composition range is further narrowed down in order to obtain the optimum coercive force, which requires a fine adjustment in the sputtering conditions. In addition, there is a problem that the reading characteristics are not yet satisfactory.
【0006】したがって、本発明の目的はC/Nなどの
読み出し特性を向上させるとともに、製造コストを低減
して、高性能かつ低コストな光磁気ディスクを提供する
ことにある。Therefore, it is an object of the present invention to provide a high performance and low cost magneto-optical disk with improved read characteristics such as C / N and reduced manufacturing cost.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の光磁気ディスク
は、透明ディスク基板上に第1誘電体層と、原子組成式
がFe1-x Cox (0.10≦x≦0.50)であり、
かつ厚みが50〜150Åである読み出し層と、この読
み出し層と同じ組成比であるFeCo合金にTbを添加
した記録層と、第2誘電体層と、反射層とを順次積層し
たことことを特徴とする。The magneto-optical disk of the present invention comprises a transparent disk substrate, a first dielectric layer, and an atomic composition formula of Fe 1-x Co x (0.10≤x≤0.50). And
In addition, a reading layer having a thickness of 50 to 150 Å, a recording layer in which Tb is added to a FeCo alloy having the same composition ratio as the reading layer, a second dielectric layer, and a reflecting layer are sequentially laminated. And
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】光磁気ディスクの構成 図1は本発明の光磁気ディスクM(直径3.5インチ)
の平面図であり、図2は図1に示す切断面線X−Xによ
る断面図である。また、図3は光磁気ディスクMを構成
する薄膜の層構造を示す。1 is a block diagram of the magneto-optical disk M of the present invention (diameter 3.5 inches).
2 is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG. 1. Further, FIG. 3 shows a layer structure of a thin film forming the magneto-optical disk M.
【0009】前記透明ディスク基板としてポリカーボネ
ート樹脂から成る基板1を用いており、この基板1の片
面側にはトラッキング用溝2が同心円状に多数形成さ
れ、その中心部にはハブ装着用の穴3が設けられてい
る。トラッキング用溝2が形成された面上には薄膜4が
被覆されている。A substrate 1 made of a polycarbonate resin is used as the transparent disk substrate. A plurality of tracking grooves 2 are concentrically formed on one side of the substrate 1, and a hub mounting hole 3 is formed in the center thereof. Is provided. A thin film 4 is coated on the surface on which the tracking grooves 2 are formed.
【0010】この薄膜4は第1誘電体層としての膜厚8
00Åのサイアロンから成る誘電体層5と、FeCoか
らなる読み出し層6aと、TbFeCoからなる記録層
6bと、第2誘電体層としての膜厚400Åのサイアロ
ンから成る誘電体層7と、膜厚600Åのアルミニウム
から成る反射層8と、紫外線硬化型樹脂からなる保護樹
脂層9との積層構造である。読み出し層6aと記録層6
bとの二層でもって交換結合され、本実施形態では、こ
れら両層の組合せを交換結合層6を称する。This thin film 4 has a film thickness of 8 as a first dielectric layer.
A dielectric layer 5 made of 00Å sialon, a read layer 6a made of FeCo, a recording layer 6b made of TbFeCo, a dielectric layer 7 made of sialon having a film thickness of 400Å as a second dielectric layer, and a film thickness of 600Å 2 is a laminated structure of the reflection layer 8 made of aluminum and the protective resin layer 9 made of an ultraviolet curable resin. Read layer 6a and recording layer 6
Exchange-coupled by two layers with b, and in the present embodiment, a combination of these two layers is referred to as an exchange-coupled layer 6.
【0011】上記読み出し層6aについては、原子組成
Fe1-x Cox で表示するX値を0.10≦x≦0.5
0に範囲にするとよく、そして、上記記録層6bは、読
み出し層6aと同じ組成比のFeCo合金にTbを添加
したものであって、X値が0.10未満の場合には、再
生時のC/N値が小さいために十分な読み出し特性が得
られず、X値が0.50を越える場合にはC/N値は十
分であるが、その反面、記録に必要なレーザーパワーが
高くなりすぎて実用上支障がある。For the readout layer 6a, the X value represented by the atomic composition Fe 1-x Co x is 0.10 ≦ x ≦ 0.5.
The range is preferably 0, and the recording layer 6b is made by adding Tb to a FeCo alloy having the same composition ratio as that of the read layer 6a, and when the X value is less than 0.10. Since the C / N value is small, sufficient read characteristics cannot be obtained. When the X value exceeds 0.50, the C / N value is sufficient, but on the other hand, the laser power required for recording becomes high. There is a problem in practical use.
【0012】また、読み出し層6aの厚みは50〜15
0Åの範囲にするとよく、50Å未満の場合には、カー
回転角の効果が小さくなるためにC/N値が低下し、1
50Åを越える場合には垂直磁化しなくなってC/N値
が低下する。The thickness of the readout layer 6a is 50-15.
The range of 0 Å is recommended, and if it is less than 50 Å, the effect of the car rotation angle becomes small and the C / N value decreases,
When it exceeds 50 Å, the perpendicular magnetization is stopped and the C / N value is lowered.
【0013】そして、上記構成の光磁気ディスクMにお
いて、基板1を回転させながら、波長780nmのレー
ザービームを基板1を通して照射し、トラッキング用溝
2に沿ってトラッキングすると、そのレーザービームが
誘電体層5を通して交換結合層6へ到達し、更にその一
部が交換結合層6を通過し、誘電体層7を通して反射層
8で反射され、その反射光が交換結合層6へ到る。Then, in the magneto-optical disk M having the above structure, while the substrate 1 is rotated, a laser beam having a wavelength of 780 nm is irradiated through the substrate 1 and tracking is performed along the tracking groove 2, the laser beam is the dielectric layer. 5 to reach the exchange coupling layer 6, and a part of the light passes through the exchange coupling layer 6 and is reflected by the reflection layer 8 through the dielectric layer 7, and the reflected light reaches the exchange coupling layer 6.
【0014】マグネトロンスパッタリング装置の構成 次に図4により交換結合層6を成膜するためのマグネト
ロンスパッタリング装置10を説明する。13は真空チ
ャンバであって、真空チャンバ13の内部には、上方に
公転機構14を設け、公転機構14に自転機構15を形
成し、さらに自転機構15に被成膜用基板11を固定し
ている。公・自転機構14、15および基板11と対向
するように希土類金属用ターゲート(Tb金属)12と
遷移金属用ターゲート(FeCo合金)16とを配置
し、これらターゲート12、16にマグネット17なら
びにカソード18a、18bを配設する。そして、真空
チャンバ13の一部にはスパッタリング用ガスであるA
rガスの導入口19と、成膜後の残余ガスを排出する排
気口20とが設けられている。 Configuration of Magnetron Sputtering Apparatus Next, a magnetron sputtering apparatus 10 for forming the exchange coupling layer 6 will be described with reference to FIG. Reference numeral 13 denotes a vacuum chamber. Inside the vacuum chamber 13, a revolution mechanism 14 is provided above, a revolution mechanism 15 is formed in the revolution mechanism 14, and the film formation substrate 11 is fixed to the revolution mechanism 15. There is. A rare earth metal targate (Tb metal) 12 and a transition metal targate (FeCo alloy) 16 are arranged so as to face the public / self-rotating mechanisms 14 and 15 and the substrate 11, and a magnet 17 and a cathode 18a are arranged on these targates 12 and 16. , 18b are provided. Then, in a part of the vacuum chamber 13, A which is a sputtering gas is used.
An r gas inlet 19 and an exhaust port 20 for exhausting the residual gas after film formation are provided.
【0015】上記構成のマグネトロンスパッタリング装
置10により交換結合層6を成膜するには、被成膜用基
板11(基板1)を自転機構15でもって自転させ、さ
らに自転機構15を公転機構14でもって公転させ、こ
れによって被成膜用基板11を公・自転させ、そして、
導入口19よりArガスを導入し、カソード18に電力
を印加して、スパッタリングをおこなう。In order to form the exchange coupling layer 6 by the magnetron sputtering apparatus 10 having the above-mentioned structure, the film formation substrate 11 (substrate 1) is rotated by the rotation mechanism 15, and the rotation mechanism 15 is rotated by the revolution mechanism 14. The substrate 11 for film formation is revolved and revolved, and
Ar gas is introduced through the inlet 19 and electric power is applied to the cathode 18 to perform sputtering.
【0016】そして、読み出し層6aと記録層6bとを
順次成膜するには、希土類金属用ターゲート12用のカ
ソード18aには電力印加しないで、遷移金属用ターゲ
ート16用のカソード18bに電力を印加し、かかる成
膜条件でもって読み出し層6aを被成膜用基板11上に
成膜し、次いで読み出し層6aの成膜条件を維持しなが
らも、希土類金属用ターゲート12用のカソード18a
も電力印加し、これによって読み出し層6aと同じ組成
比のFeCo合金にTbを加えてなる記録層6bが成膜
される。Then, in order to sequentially form the read layer 6a and the recording layer 6b, power is not applied to the cathode 18a for the rare earth metal targate 12, but power is applied to the cathode 18b for the transition metal targate 16. Then, the readout layer 6a is formed on the film formation target substrate 11 under such film formation conditions, and then the cathode 18a for the rare earth metal targate 12 while maintaining the film formation conditions for the readout layer 6a.
Is also applied to form a recording layer 6b formed by adding Tb to a FeCo alloy having the same composition ratio as that of the readout layer 6a.
【0017】かくして本発明の光磁気ディスクMによれ
ば、上記原子組成式がFe1-x Cox (0.10≦x≦
0.50)であり、かつ厚みが50〜150Åである読
み出し層6aと、この読み出し層6aと同じ組成比のF
eCo合金にTbを加えてなる記録層6bとを順次積層
してなる交換結合層6を形成したことによって、その両
層6a、6bの形成のためのスパッタリングに際して、
共通の遷移金属用ターゲート16と希土類金属用ターゲ
ート12を使用するだけであるので、記録層用と、読み
出し層用の二つの成膜室を設ける必要がなくなり、その
成膜室数の減少に応じて、製造コストが低減した。Thus, according to the magneto-optical disk M of the present invention, the above atomic composition formula is Fe 1-x Co x (0.10≤x≤
0.50) and a reading layer 6a having a thickness of 50 to 150Å and F having the same composition ratio as that of the reading layer 6a.
By forming the exchange coupling layer 6 by sequentially laminating the recording layer 6b formed by adding Tb to the eCo alloy, during sputtering for forming both layers 6a and 6b,
Since only the common transition metal targate 16 and rare earth metal targate 12 are used, it is not necessary to provide two film forming chambers for the recording layer and the reading layer, and the number of film forming chambers can be reduced. Manufacturing costs have been reduced.
【0018】しかも、読み出し層6aの厚みが50〜1
50Åにまで少なくできるので、従来の500Åの厚み
の読み出し層とくらべて著しく成膜時間および材料の使
用量も減少し、これによっても製造コストが低減した。Moreover, the thickness of the readout layer 6a is 50 to 1
Since it can be reduced to 50 Å, the film formation time and the amount of materials used are significantly reduced as compared with the conventional read layer having a thickness of 500 Å, which also reduces the manufacturing cost.
【0019】また、読み出し層6aがFeCoの2元系
原子からなるので、従来の3元系原子からなるものとく
らべても、製造上容易に原子組成比を設定することがで
き、そのような容易な製造作業によっても製造コストが
低減した。加えて、GdFeCoの読み出し層を使用し
た光磁気ディスクとくらべても優れた保磁力が得られ
た。Further, since the read layer 6a is made of FeCo binary atoms, the atomic composition ratio can be set easily in manufacturing, as compared with the conventional ternary atoms. Manufacturing costs were also reduced by easy manufacturing operations. In addition, an excellent coercive force was obtained as compared with the magneto-optical disk using the read layer of GdFeCo.
【0020】[0020]
【実施例】以下、上述の製法にもとづく実施例を詳述す
る。表1に示すように読み出し層6aの厚みおよびFe
1-x Cox のX値を幾通りにも変えて、11種類の試作
をおこなった。ただし、記録層6bの組成はTb
0.15(Fe1-x Cox )0.85であり、厚みは150Åに
した。なお、本例においては、保護樹脂層9を形成しな
いで測定に供している。EXAMPLES Examples based on the above manufacturing method will be described in detail below. As shown in Table 1, the thickness of the readout layer 6a and Fe
11 kinds of prototypes were made by changing the X value of 1-x Co x in various ways. However, the composition of the recording layer 6b is Tb.
The thickness was 0.15 (Fe 1-x Co x ) 0.85 and the thickness was 150 Å. In this example, the protective resin layer 9 was not formed before the measurement.
【0021】[0021]
【表1】 [Table 1]
【0022】各試料について、C/Nを測定したとこ
ろ、図5と図6に示す通りの結果が得られた。図5にお
いては、試料No.1〜4および試料No.10と11
にもとづいて、読み出し層6aの厚みを70Åにして、
Fe1-x Cox のX値を変えた場合のC/Nならびに記
録に要するレーザーパワーを示している。また、図6に
おいては、試料No.4〜9にもとづいて、読み出し層
6aのFe1-x Cox のX値を0.15にして、厚みを
変えた場合のC/Nを示している。When the C / N of each sample was measured, the results shown in FIGS. 5 and 6 were obtained. In FIG. 1-4 and sample No. 10 and 11
Based on the above, the thickness of the readout layer 6a is set to 70Å,
The C / N and the laser power required for recording when the X value of Fe 1-x Co x is changed are shown. Moreover, in FIG. Based on 4 to 9, the C / N is shown when the X value of Fe 1-x Co x of the reading layer 6a is set to 0.15 and the thickness is changed.
【0023】なお、これらの測定においては、回転数3
000rpm、記録パワー4〜15mW、再生パワー1
mW、記録周波数5.84MHz、記録パルス幅20ナ
ノ秒の条件でもって、半径24.1mmの記録部位でお
こなった。In these measurements, the rotation speed was 3
000 rpm, recording power 4 to 15 mW, reproduction power 1
The recording was performed at a recording portion with a radius of 24.1 mm under the conditions of mW, recording frequency 5.84 MHz and recording pulse width 20 nanoseconds.
【0024】図5の結果から明らかな通り、X値が0.
1〜0.5である場合には、C/Nが50dB以上、記
録パワー10mw以下という優れた特性が得られた。ま
た、図6の結果からは、読み出し層6aの厚みが50〜
150Åであれば、C/Nが50dB以上という優れた
特性が得られたことがわかる。As is clear from the result shown in FIG. 5, the X value is 0.
In the case of 1 to 0.5, excellent characteristics of C / N of 50 dB or more and recording power of 10 mw or less were obtained. From the result of FIG. 6, the readout layer 6a has a thickness of 50 to
It can be seen that when 150Å, excellent characteristics of C / N of 50 dB or more were obtained.
【0025】しかも、Fe1-x Cox の読み出し層6a
を用いることで、GdFeCoの読み出し層とくらべて
原子比率の調整が容易であり、これによって所望通りに
高いC/Nが得られた。Moreover, the read layer 6a of Fe 1-x Co x
By using, it was easier to adjust the atomic ratio compared with the read layer of GdFeCo, and as a result, a high C / N was obtained as desired.
【0026】[0026]
【発明の効果】以上の通り、本発明の光磁気ディスクに
よれば、原子組成式がFe1-x Cox(0.10≦x≦
0.50)であり、かつ厚みが50〜150Åである読
み出し層と、この読み出し層と同じ組成比のFeCo合
金にTbを添加した記録層との組み合わせの積層からな
るので、両層をスパッタリングによって順次成膜する際
に、記録層用と、読み出し層用の二つの成膜室を設ける
必要がなくなり、さらに読み出し層の厚みが小さくな
り、これによって製造コストが低減する。As described above, according to the magneto-optical disk of the present invention, the atomic composition formula is Fe 1-x Co x (0.10 ≦ x ≦
0.50) and a reading layer having a thickness of 50 to 150Å and a recording layer obtained by adding Tb to a FeCo alloy having the same composition ratio as that of the reading layer. When the films are sequentially formed, it is not necessary to provide two film forming chambers for the recording layer and the reading layer, and the thickness of the reading layer is further reduced, which reduces the manufacturing cost.
【0027】また、本発明の光磁気ディスクによれば、
読み出し層の原子組成比を容易にかつ厳密に設定でき、
さらにC/Nなどの読み出し特性が向上し、これによっ
て高性能かつ低コストな光磁気ディスクが提供できる。According to the magneto-optical disk of the present invention,
The atomic composition ratio of the readout layer can be set easily and strictly,
Further, the read characteristics such as C / N are improved, and thereby a high performance and low cost magneto-optical disk can be provided.
【図1】本発明の光磁気ディスクMの平面図である。FIG. 1 is a plan view of a magneto-optical disk M according to the present invention.
【図2】本発明の光磁気ディスクMの断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a magneto-optical disk M of the present invention.
【図3】光磁気記録層の層構成を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a layer structure of a magneto-optical recording layer.
【図4】マグネトロンスパッタリング装置の概略図であ
る。FIG. 4 is a schematic diagram of a magnetron sputtering apparatus.
【図5】C/Nと記録パワーを示す線図である。FIG. 5 is a diagram showing C / N and recording power.
【図6】C/Nを示す線図である。FIG. 6 is a diagram showing C / N.
M 光磁気ディスク 1 基板 4 薄膜 5、7 誘電体層 6 交換結合層 6a 読み出し層 6b 記録層 8 反射層 9 保護樹脂層 M Magneto-optical disk 1 Substrate 4 Thin film 5, 7 Dielectric layer 6 Exchange coupling layer 6a Read-out layer 6b Recording layer 8 Reflective layer 9 Protective resin layer
Claims (1)
原子組成式がFe1-xCox (0.10≦x≦0.5
0)であり、かつ厚みが50〜150Åである読み出し
層と、この読み出し層と同じ組成比であるFeCo合金
にTbを添加した記録層と、第2誘電体層と、反射層と
を順次積層したことを特徴とする光磁気ディスク。1. A first dielectric layer on a transparent disk substrate,
The atomic composition formula is Fe 1-x Co x (0.10 ≦ x ≦ 0.5
0) and having a thickness of 50 to 150Å, a recording layer in which Tb is added to a FeCo alloy having the same composition ratio as the reading layer, a second dielectric layer, and a reflective layer are sequentially laminated. A magneto-optical disk characterized by the above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25072995A JPH0991779A (en) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | Magneto-optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25072995A JPH0991779A (en) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | Magneto-optical disk |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0991779A true JPH0991779A (en) | 1997-04-04 |
Family
ID=17212181
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25072995A Pending JPH0991779A (en) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | Magneto-optical disk |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0991779A (en) |
-
1995
- 1995-09-28 JP JP25072995A patent/JPH0991779A/en active Pending
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