JPH0990538A - Silver halide photographic sensitive material and its processing method - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material and its processing method

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Publication number
JPH0990538A
JPH0990538A JP27072495A JP27072495A JPH0990538A JP H0990538 A JPH0990538 A JP H0990538A JP 27072495 A JP27072495 A JP 27072495A JP 27072495 A JP27072495 A JP 27072495A JP H0990538 A JPH0990538 A JP H0990538A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
silver halide
general formula
mol
acid
Prior art date
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Application number
JP27072495A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihide Ezoe
利秀 江副
Nobuaki Inoue
伸昭 井上
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP27072495A priority Critical patent/JPH0990538A/en
Publication of JPH0990538A publication Critical patent/JPH0990538A/en
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive material having adequate spectral sensitivity to laser beams to be used for exposure and high sensitivity and high Dmax in high illumination in a short time and small fluctuation of performance even in a long time storage and improved pressure resistance by incorporating a specified compound in an emulsion layer or another hydrophilic colloidal layer. SOLUTION: The photosensitive silver halide emulsion layer on a support contains flat silver halide grains having a silver chloride content of >=80mol% and principal faces (100) and an average aspect ratio of 2-5 and an average grain size of <0.5μm, and the emulsion layer or another hydrophilic colloidal layer contains at least one of compounds represented by formulae I and II and the like, and in the formulae I and II, Z is a C-X group; X is an alkyl or aryl group; M is H or a metal atom or the like; Y is a hydrophilic alkyl or aryl group; and each of R<1> and R<2> is, independently, a hydroxyl or hydroxyalkyl group or the like.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料に関し、特に写真製版用に用いられる超硬調ハ
ロゲン化銀写真感光材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly to an ultra-high contrast silver halide photographic light-sensitive material used for photolithography.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年印刷製版分野ではスキャナー方式が
広く用いられている。スキャナー方式による画像形成方
法を実用した記録装置は種々のものがあり、これらのス
キャナー方式記録装置の記録用光源には、グローラン
プ、キセノンランプ、タングステンランプ、LED、あ
るいはHe−Neレーザー、アルゴンレーザー及び半導
体レーザーなどがある。これらのスキャナーに使用され
る感光材料には種々の特性が要求されるが、特に10-3
〜10-7秒という短時間露光で露光されるためこのよう
な条件下でも、高感度でかつ高コントラストであること
が必須条件となる。
2. Description of the Related Art In recent years, a scanner system has been widely used in the field of printing plate making. There are various types of recording apparatuses that have practically used the image forming method by the scanner method, and the light source for recording of these scanner type recording apparatuses is a glow lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, an LED, a He-Ne laser, an argon laser. And semiconductor lasers. Various characteristics are required for the light-sensitive materials used in these scanners, but especially 10 −3
Even under such conditions, high sensitivity and high contrast are essential conditions because the exposure is performed in a short exposure time of -10 -7 seconds.

【0003】また各種レーザー光源に対して波長適性を
もたせるため、通常分光増感が施される。例えば特開平
7−43844号に記載の一般式(I)で表わされる化
合物は主にHe−Neレーザーに対して分光感度適性を
有し、一般式(II)、(III) で表わされる化合物は主に半
導体レーザーに対して分光感度適性を有している。これ
らの一般式で示される化合物は感度、残色の点において
他の増感色素より優れたものではあるが、分光増感効率
が充分高いとは言えず、さらに添加量により、固有減感
を起こす場合がある。分光増感の効率を高める方法とし
ては、例えばHe−Neレーザー光源用途に対しては、
特公昭49−25500号、半導体レーザー用途に関し
ては特開昭59−19032号、同59−192242
号等が挙げられるが、露光後返し工程におけるUV透過
性の悪化や、残色等が問題となる場合がある。更に近年
は印刷業界においても作業の効率化、スピードアップは
強く望まれている。
Further, spectral sensitization is usually performed in order to have wavelength suitability for various laser light sources. For example, the compound represented by the general formula (I) described in JP-A-7-43844 is suitable for spectral sensitivity mainly to He-Ne lasers, and the compounds represented by the general formulas (II) and (III) are Its spectral sensitivity is suitable mainly for semiconductor lasers. The compounds represented by these general formulas are superior to other sensitizing dyes in terms of sensitivity and residual color, but it cannot be said that the spectral sensitization efficiency is sufficiently high, and further the intrinsic desensitization is caused by the addition amount. It may happen. As a method for increasing the efficiency of spectral sensitization, for example, for He-Ne laser light source applications,
JP-B-49-25500, and JP-A-59-19032 and 59-192242 for use in semiconductor lasers.
No., etc., but there is a case where deterioration of UV transmittance in the post-exposure returning step, residual color and the like become a problem. Further, in recent years, there has been a strong demand in the printing industry for work efficiency and speedup.

【0004】これら印刷分野のニーズに答えるために、
露光機(スキャナー、プロッター)においてはスキャニ
ングの高速化、および高画質化のための線数増加やビー
ムのしぼり込みが望まれており、ハロゲン化銀写真感光
材料においては、高感度で処理安定性に優れ、かつ迅速
に現像処理することができることが望まれている。この
方法に用いられるべき高塩化銀ハロゲン化銀乳剤は一般
的に低感度であることが知られており、実用するために
はこれらの点を克服することが課題であった。
In order to meet the needs of these printing fields,
For exposure machines (scanners, plotters), it is desired to increase scanning speed, increase the number of lines and narrow the beam for higher image quality, and for silver halide photographic light-sensitive materials, high sensitivity and process stability. It is desired that the development is excellent and that development processing can be performed quickly. The high silver chloride silver halide emulsion to be used in this method is generally known to have low sensitivity, and it has been a challenge to overcome these points in order to put it into practical use.

【0005】高塩化銀粒子の感度およびDmaxを向上させ
るために、最近(1,0,0,)面を主平面とする平板状粒子
を含む写真感光材料が、特開平7−110554号等に
公開されているが、感光材料を製造後の経時安定性ある
いは、フィルムを搬送中の圧力による、かぶりの発生の
問題がある。
In order to improve the sensitivity and Dmax of high silver chloride grains, a photographic light-sensitive material containing tabular grains whose main plane is the (1,0,0,) plane is disclosed in JP-A-7-110554. Although disclosed, there is a problem in that fogging occurs due to stability over time after the production of the light-sensitive material or the pressure during transport of the film.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の第一目
的は、露光に用いられるレーザー光源に対して適切な分
光感度を有し、高照度短時間露光において、高感度、高
Dmaxでかつ長時間保存しても性能変動が小さく、圧力性
の改良されたハロゲン化銀写真感光材料を提供すること
にある。本発明の第二の目的は、自動現像機の現像液の
補充量を少なくしても、長期稼働における写真性の変動
が少ない超硬調なハロゲン化銀写真感光材料およびその
処理方法を提供することにある。
Therefore, the first object of the present invention is to have an appropriate spectral sensitivity to a laser light source used for exposure, and to provide high sensitivity and high sensitivity in short exposure with high illuminance.
An object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material having a Dmax and a small performance variation even when stored for a long time, and having improved pressure resistance. A second object of the present invention is to provide an ultra-high-contrast silver halide photographic light-sensitive material and a method of processing the same, which has little fluctuation in photographic properties in long-term operation even when the amount of replenishment of the developing solution in the automatic processor is reduced. It is in.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の第一の目的に対
しては、支持体上に、少なくとも1層の感光性ハロゲン
化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料におい
て、該ハロゲン化銀乳剤が塩化銀含有率80モル%以上
の平板状粒子であり、主平面が(100)面、平均アス
ペクト比が2以上5未満かつ平均粒子サイズが0.5μ
m 未満であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料において、該乳剤層または、その他の親水性コロイド
層中に一般式(1)、(2)、(3)、(4)、(5)
および(6)で表される化合物のうち、少なくとも1つ
を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料
によって達成された。 一般式(1)
For the first object of the present invention, in a silver halide photographic light-sensitive material having at least one light-sensitive silver halide emulsion layer on a support, the halogenation is carried out. The silver emulsion is a tabular grain having a silver chloride content of 80 mol% or more, the main plane is the (100) plane, the average aspect ratio is 2 or more and less than 5, and the average grain size is 0.5 μm.
In the silver halide photographic light-sensitive material, the emulsion layer or other hydrophilic colloid layer is represented by the general formula (1), (2), (3), (4), (5) )
And a silver halide photographic light-sensitive material characterized by containing at least one of the compounds represented by (6) and (6). General formula (1)

【0008】[0008]

【化11】 Embedded image

【0009】式中、ZはNまたはC−X(Xはアルキル
基またはアリール基を表す)、Mは水素原子、金属原子
またはアンモニウム、Yは親水性基を有するアルキル基
またはアリール基を表す。 一般式(2)
In the formula, Z represents N or C—X (X represents an alkyl group or an aryl group), M represents a hydrogen atom, a metal atom or ammonium, and Y represents an alkyl group or an aryl group having a hydrophilic group. General formula (2)

【0010】[0010]

【化12】 [Chemical 12]

【0011】式中、R1 、R2 は同じでも異なってもよ
く、各々ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、アミノ
基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキル
アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、アルキル基、
アリール基、アルキルチオ基またはフェニルチオ基を表
す。 一般式(3)
In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different and each is a hydroxy group, a hydroxyalkyl group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, an aralkylamino group, an alkoxy group, a phenoxy group or an alkyl group. ,
It represents an aryl group, an alkylthio group or a phenylthio group. General formula (3)

【0012】[0012]

【化13】 Embedded image

【0013】式中、R1 、R2 、R3 、R4 はそれぞれ
水素原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原
子、1,2,3級のアミノ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基、アルキル基、アリール基、少なくとも1
個のN、O、S原子を含む5員または6員のヘテロ環、
ホルミル基、ケト基、スルホン酸基、カルボン酸基、ア
ルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基を表
す。 一般式(4)
In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a halogen atom, a 1,2,3 secondary amino group. , Carbonamide group, sulfonamide group, alkyl group, aryl group, at least 1
5- or 6-membered heterocycle containing N, O, S atoms,
It represents a formyl group, keto group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, alkylsulfonyl group or arylsulfonyl group. General formula (4)

【0014】[0014]

【化14】 Embedded image

【0015】式中、Zはアルキル基、アリール基または
ヘテロ環基を表し、Mは金属原子または有機カチオンを
表す。 一般式(5)
In the formula, Z represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and M represents a metal atom or an organic cation. General formula (5)

【0016】[0016]

【化15】 [Chemical 15]

【0017】式中、Yは芳香環またはヘテロ環を形成す
るのに必要な原子群を表す。 一般式(6)
In the formula, Y represents a group of atoms necessary for forming an aromatic ring or a hetero ring. General formula (6)

【0018】[0018]

【化16】 Embedded image

【0019】式中、Yは芳香環またはヘテロ環を形成す
るのに必要な原子群を表し、nは2から10の整数を表
す。また本発明の第一の目的に対しては、支持体上に、
少なくとも1層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤
が塩化銀含有率50モル%以上の平板状粒子であり、主
平面が(100)面、平均アスペクト比が2以上5未満
かつ平均粒子サイズが0.5μm 未満であることを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料において、該乳剤層側
の膜面pHが4.5以上6.0未満であることを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料によっても達成すること
ができる。また、本発明の第二の目的に対しては、上記
のハロゲン化銀写真感光材料を、画像露光後、現像液を
補充しながら現像する方法において、現像開始液および
現像補充液がジヒドロキシベンゼン系現像主薬およびこ
れと超加成性を示す補助現像主薬を含有し、かつ該液1
リットルに対して0.1モルの水酸化ナトリウムを加え
たときのpH上昇が0.25以下である性質を有する液
であり、該現像開始液のpHが9.5以上11.0未満
であって、現像液の補充量が225ml/m2以下であるこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方
法が好ましい。
In the formula, Y represents a group of atoms necessary for forming an aromatic ring or a hetero ring, and n represents an integer of 2 to 10. For the first object of the present invention, on the support,
In a silver halide photographic light-sensitive material having at least one light-sensitive silver halide emulsion layer, the silver halide emulsion is tabular grains having a silver chloride content of 50 mol% or more, the main plane being a (100) plane, A silver halide photographic light-sensitive material characterized by having an average aspect ratio of 2 or more and less than 5 and an average grain size of less than 0.5 μm and having a film surface pH on the emulsion layer side of 4.5 or more and less than 6.0. It can also be achieved by a silver halide photographic light-sensitive material characterized by being present. Further, for the second object of the present invention, in the method of developing the above silver halide photographic light-sensitive material after image exposure while replenishing the developing solution, the development initiation solution and the development replenishing solution are dihydroxybenzene-based. Liquid 1 containing a developing agent and an auxiliary developing agent exhibiting superadditivity therewith
A solution having a property that the pH rise when 0.1 mol of sodium hydroxide is added to liter is 0.25 or less, and the pH of the development starter solution is 9.5 or more and less than 11.0. Therefore, a method of developing and processing a silver halide photographic light-sensitive material is preferable, which is characterized in that the replenishing amount of the developing solution is 225 ml / m 2 or less.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下に本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.

【0021】本発明において、(1,0,0)面を主平
面として有する塩化銀含有率50%以上の平板状ハロゲ
ン化銀粒子は、欧州特許第534,395A1号明細書
7頁53行目から19頁35行目あるいは特開平6−5
9360号公報の段落番号(0006)〜(0024)
に記載された方法で調製することができる。本発明のハ
ロゲン化銀粒子は、全ハロゲン化銀粒子の投影面積の合
計の35%以上が(1,0,0)面を主平面として有す
る平板状ハロゲン化銀粒子であることが好ましい。より
好ましくは60%以上、更に好ましくは80%以上であ
る。該平板状ハロゲン化銀粒子のアスペクト比は、2〜
5が好ましい。該平板状ハロゲン化銀粒子の平均投影粒
径は10μm以下が好ましく、0.2から5μmがより
好ましい。ここでアスペクト比とは平板状粒子の(直径
/厚み)を指し、直径とは粒子を電子顕微鏡で観察した
時、粒子の投影面積と等しい面積を有する円の直径を指
すものとする。また厚みは平板状粒子の主平面間の距離
を指す。また、平均アスペクト比とはすべての該平板状
粒子のアスペクト比の平均値を指す。該平均投影粒径
は、すべての該平板状粒子の該直径の算術平均値を指
す。主平面とは1つの平板状粒子において2つの平行な
最大外表面を指す。該平板状粒子の粒子サイズ分布は単
分散であることが好ましく、変動係数は40%以下が好
ましく、20%以下がより好ましい。本発明に用いるハ
ロゲン化銀乳剤としては、塩化銀、塩臭化銀もしくは塩
沃臭化銀よりなり、平均塩化銀含有率50モル%以上の
乳剤を使用することが必要であり、80モル%以上であ
ることがより好ましい。ここで、沃化銀含有率は1モル
%以下であることが好ましく、より好ましくは0.2モ
ル%以下である。本発明において平均塩化銀含有率が5
0モル%より小さくなると、迅速処理適性に劣る傾向が
生じる。
In the present invention, tabular silver halide grains having a (1,0,0) plane as a main plane and having a silver chloride content of 50% or more are described in European Patent No. 534,395A1 at page 7, line 53. From page 19, line 35 or JP-A-6-5
Paragraph numbers (0006) to (0024) of 9360 Publication
It can be prepared by the method described in. The silver halide grains of the present invention are preferably tabular silver halide grains in which 35% or more of the total projected area of all silver halide grains has a (1,0,0) plane as a main plane. It is more preferably 60% or more, still more preferably 80% or more. The aspect ratio of the tabular silver halide grains is 2 to
5 is preferred. The average projected grain size of the tabular silver halide grains is preferably 10 μm or less, more preferably 0.2 to 5 μm. Here, the aspect ratio refers to (diameter / thickness) of the tabular grain, and the diameter refers to the diameter of a circle having an area equal to the projected area of the grain when the grain is observed with an electron microscope. The thickness means the distance between the main planes of tabular grains. The average aspect ratio means the average value of the aspect ratios of all the tabular grains. The average projected grain size refers to the arithmetic mean value of the diameters of all the tabular grains. The principal plane refers to two parallel maximum outer surfaces in one tabular grain. The particle size distribution of the tabular grains is preferably monodisperse, and the coefficient of variation is preferably 40% or less, more preferably 20% or less. As the silver halide emulsion used in the present invention, it is necessary to use an emulsion composed of silver chloride, silver chlorobromide or silver chloroiodobromide and having an average silver chloride content of 50 mol% or more. The above is more preferable. Here, the silver iodide content is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.2 mol% or less. In the present invention, the average silver chloride content is 5
If it is less than 0 mol%, the rapid processability tends to be poor.

【0022】乳剤のハロゲン組成は粒子間で異なってい
ても等しくても良いが、粒子間で等しいハロゲン組成を
有する乳剤を用いると、各粒子の性質を均質にすること
が容易であり好ましい。
The halogen composition of the emulsion may be different or the same between the grains, but it is preferable to use an emulsion having the same halogen composition between the grains because it is easy to make the properties of each grain uniform.

【0023】本発明においては、臭素イオンは粒子表面
に局在して存在することが必要であり、粒子全体の平均
臭素イオン含有率に対し、粒子表面の臭素イオン含有率
は2倍以上であることが好ましく、3倍以上200倍以
下であることがより好ましく、5倍以上100倍以下で
あることが特に好ましい。本発明において定義する表面
とはXPS(X−ray Photoerectron Spectroscopy)法
により測定される範囲の表面を示す。この測定法につい
て具体的には染野・安盛井著「表面分析」講談社(19
77年発行)に記載されている。
In the present invention, it is necessary that the bromine ions are localized on the particle surface, and the bromine ion content on the particle surface is at least twice the average bromine ion content on the entire particle. It is preferable that it is 3 times or more and 200 times or less, and it is particularly preferable that it is 5 times or more and 100 times or less. The surface defined in the present invention means a surface in a range measured by the XPS (X-ray Photoerectron Spectroscopy) method. This measuring method is specifically described by Someno and Yasumorii "Surface Analysis" Kodansha (19
Published in 1977).

【0024】こうした高塩化銀乳剤粒子においては臭化
銀局在相を層状もしくは非層状にハロゲン化銀粒子表面
に有する構造のものが好ましい。上記局在相のハロゲン
組成は臭化銀含有率において少なくとも10モル%のも
のが好ましく20モル%を越えるものがより好ましい。
そして、これらの局在相は、粒子表面のエッジやコーナ
ーあるいは面上にあることができるが、一つの好ましい
例として、粒子のコーナー部にエピタキシャル成長した
ものを挙げることができる。粒子表面の高い臭素イオン
濃度は、化学増感の開始前から乳剤の塗布までの間に臭
化銀などの難溶性臭化物や臭化カリウムのような水溶性
臭化物、或いは米国特許第5,061,615号に記載
されているような臭素イオン徐放剤といった臭素イオン
供与化合物を添加することによって達成される。
The high silver chloride emulsion grains preferably have a structure in which the silver bromide localized phase is layered or non-layered on the surface of the silver halide grain. The halogen composition of the localized phase preferably has a silver bromide content of at least 10 mol%, more preferably more than 20 mol%.
These localized phases can be present on the edges, corners or planes of the grain surface, and one preferable example is a grain epitaxially grown on the corner portion of the grain. The high bromine ion concentration on the surface of the grain means that a sparingly soluble bromide such as silver bromide or a water-soluble bromide such as potassium bromide, or US Pat. This is accomplished by adding a bromide ion donating compound, such as a bromide ion sustained release agent as described in No. 615.

【0025】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤に含まれ
るハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズ(粒子の投影面積
と等価な円の直径を以て粒子サイズとし、その数平均を
とったもの)は、0.5μ未満が好ましく、下限値は
0.02μ程度である。また、それらの粒子サイズ分布
は変動係数(粒子サイズ分布の標準偏差を平均粒子サイ
ズで除したもの)20%以下、望ましくは15%以下の
所謂単分散なものが好ましい。このとき、広いラチチュ
ードを得る目的で上記の単分散乳剤を同一層にブレンド
して使用することや、重層塗布することも好ましく行わ
れる。
The average grain size of the silver halide grains contained in the silver halide emulsion used in the present invention (the grain size is defined by the diameter of a circle equivalent to the projected area of the grain and the number average thereof is taken) is 0. It is preferably less than 5μ, and the lower limit is about 0.02μ. Further, the particle size distribution thereof is preferably a so-called monodispersed coefficient of variation coefficient (standard deviation of particle size distribution divided by average particle size) of 20% or less, preferably 15% or less. At this time, for the purpose of obtaining a wide latitude, it is also preferable to use the above monodispersed emulsion by blending it in the same layer, or to perform multi-layer coating.

【0026】また、これら以外にも平均アスペクト比
(円換算直径/厚み)が5以上、好ましくは8以上の平
板状粒子が投影面積として全粒子の50重量%を越える
ような乳剤も好ましく用いることができる。本発明に用
いる塩臭化銀乳剤は、P.Glafkides 著 Chimie et Phisi
que Photographique(Paul Montel 社刊、1967
年)、G. F. Duffin 著 PhotographicEmulsion Chemi
stry (Focal Press社刊、1966 年)、V.L. Zelikman
et al著 Making and Coating Photographic Emulsi
on (Focal Press 社刊、1964年)などに記載された
方法を用いて調製することができる。すなわち、酸性
法、中性法、アンモニア法等のいずれでも良く、また可
溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形式として
は、片側混合法、同時混合法、およびそれらの組み合わ
せなどのいずれの方法を用いても良い。粒子を銀イオン
過剰の雰囲気の下において形成させる方法(所謂逆混合
法)を用いることもできる。同時混合法の一つの形式と
してハロゲン化銀の生成する液相中のpAgを一定に保
つ方法、すなわち所謂コントロールド・ダブルジェット
法を用いることもできる。この方法によると、結晶形が
規則的で粒子サイズが均一に近いハロゲン化銀乳剤を得
ることができる。
In addition to these, an emulsion in which tabular grains having an average aspect ratio (diameter in terms of circle / thickness) of 5 or more, preferably 8 or more exceeds 50% by weight of all grains as a projected area is also preferably used. You can The silver chlorobromide emulsion used in the present invention is a Chimie et Phisi by P. Glafkides.
que Photographique (Published by Paul Montel, 1967
), GF Duffin PhotographicEmulsion Chemi
stry (Focal Press, 1966), VL Zelikman
et al Making and Coating Photographic Emulsi
on (Focal Press, Inc., 1964) and the like. That is, any of an acidic method, a neutral method, an ammonia method, etc. may be used, and a method of reacting a soluble silver salt with a soluble halogen salt may be any method such as a one-sided mixing method, a simultaneous mixing method, and a combination thereof. You may use. It is also possible to use a method of forming particles in an atmosphere in which silver ions are excessive (so-called reverse mixing method). As one type of the simultaneous mixing method, a method of keeping pAg in a liquid phase where silver halide is formed constant, that is, a so-called controlled double jet method can be used. According to this method, a silver halide emulsion having a regular crystal form and a nearly uniform grain size can be obtained.

【0027】本発明のハロゲン化銀粒子中にはイリジウ
ム化合物やロジウム化合物を用いてイリジウムやロジウ
ムをドープすることができる。本発明に用いるイリジウ
ム化合物としては水溶性イリジウム化合物を用いること
ができる。例えば、ハロゲン化イリジウム(III)化合
物、またハロゲン化イリジウム(IV)化合物、またイリジ
ウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラ
ト等を持つもの、例えばヘキサクロロイリジウム(III)
あるいは(IV)錯塩、ヘキサアンミンイリジウム(III) あ
るいは(IV)錯塩、トリオキザラトイリジウム(III) ある
いは(IV)錯塩などが挙げられる。本発明においては、こ
れらの化合物の中から III価のものとIV価のものを任意
に組合せて用いることができる。これらのイリジウム化
合物は水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、
イリジウム化合物の溶液を安定化させるために一般によ
く行われる方法、即ちハロゲン化水素水溶液(例えば塩
酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ
(例えばKCl、NaCl、NaBr等)を添加する方
法を用いることができる。水溶性イリジウムを用いる代
わりに、ハロゲン化銀粒子調製時にあらかじめイリジウ
ムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶
解させることも可能である。本発明に係わるイリジウム
化合物の全添加量は、最終的に形成されるハロゲン化銀
1モル当たり10-9モル以上、特に5×10-9〜1×1
-4モルが適当であり、好ましくは1×10-8〜1×1
-5モル、最も好ましくは5×10-8〜5×10-6モル
である。これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤の
製造時及び、乳剤を塗布する前の各段階において適宜行
なうことができるが、特に、粒子形成時に添加し、ハロ
ゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。またイ
リジウム化合物以外のVIII属原子を含む化合物とイリジ
ウム化合物を併用しても良い。
The silver halide grains of the present invention can be doped with iridium or rhodium using an iridium compound or rhodium compound. As the iridium compound used in the present invention, a water-soluble iridium compound can be used. For example, iridium (III) halide compounds, iridium (IV) halide compounds, and iridium complex salts having halogens, amines, oxalates, etc. as ligands, such as hexachloroiridium (III)
Alternatively, (IV) complex salt, hexaammineiridium (III) or (IV) complex salt, trioxalatoiridium (III) or (IV) complex salt and the like can be mentioned. In the present invention, among these compounds, a trivalent compound and a tetravalent compound can be arbitrarily combined and used. These iridium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent,
A commonly used method for stabilizing an iridium compound solution, that is, a method of adding an aqueous hydrogen halide solution (eg, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid, etc.) or an alkali halide (eg, KCl, NaCl, NaBr, etc.) Can be used. Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another silver halide grain which has been previously doped with iridium when preparing the silver halide grain. The total addition amount of the iridium compound according to the present invention is 10 -9 mol or more, particularly 5 × 10 -9 to 1 × 1 per 1 mol of finally formed silver halide.
0 -4 mol is suitable, preferably 1 x 10 -8 to 1 x 1
It is 0 -5 mol, most preferably 5 × 10 -8 to 5 × 10 -6 mol. The addition of these compounds can be appropriately carried out at the time of producing the silver halide emulsion and at each stage before coating the emulsion, but in particular, it can be added at the time of grain formation and incorporated into the silver halide grains. preferable. Further, a compound containing a Group VIII atom other than the iridium compound may be used in combination with the iridium compound.

【0028】これらの金属イオンのなかでも錯イオンの
形で用いることが好ましく、配位子としては、シアノ、
イソシアノ、チオシアノ、ニトロシル、チオニトロシ
ル、アミン、ヒドロキシルなどの基や分子が好ましく用
いられる。
Among these metal ions, it is preferable to use them in the form of complex ions, and the ligand is cyano,
Groups and molecules such as isocyano, thiocyano, nitrosyl, thionitrosyl, amine and hydroxyl are preferably used.

【0029】本発明に用いられるロジウム化合物として
は水溶性ロジウム化合物を用いることができる。例え
ば、ハロゲン化ロジウム(III) 化合物、またはロジウム
錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラト等
を持つもの、例えば、ヘキサクロロロジウム(III) 錯
塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキサアンミン
ロジウム(III) 錯塩、トリオキザラトロジウム(III) 錯
塩などが挙げられる。これらのロジウム化合物は、水あ
るいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウム化
合物の溶液を安定化させるために一般によく行われる方
法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液(例えば塩酸、臭
酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ(例えば
KCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添加する方
法を用いることができる。水溶性ロジウムを用いる代わ
りにハロゲン化銀粒子調製時に、あらかじめロジウムを
ドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解さ
せることも可能である。本発明に係わるロジウム化合物
の全添加量は、最終的に形成されるハロゲン化銀1モル
当たり10-9モル以上、特に1×10-9〜1×10-6
ルが適当であり、好ましくは5×10-9〜1×10-6
ルである。これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤
粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において適
宜行うことができるが、特に粒子形成時に添加し、ハロ
ゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
As the rhodium compound used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, a halogenated rhodium (III) compound, or a rhodium complex salt having a halogen, an amine, oxalate, etc. as a ligand, for example, hexachlororhodium (III) complex salt, hexabromorhodium (III) complex salt, hexaammine rhodium ( III) complex salts, trioxalatrodium (III) complex salts and the like. These rhodium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent, and they are generally used to stabilize the solution of rhodium compounds, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid). Etc.) or an alkali halide (eg, KCl, NaCl, KBr, NaBr, etc.) can be used. Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve another silver halide grain which has been previously doped with rhodium when preparing the silver halide grain. The total addition amount of the rhodium compound according to the present invention is suitably 10 -9 mol or more, particularly 1 × 10 -9 to 1 × 10 -6 mol, and preferably 1 × 10 -9 to 1 × 10 -6 mol, per 1 mol of the finally formed silver halide. It is 5 × 10 −9 to 1 × 10 −6 mol. The addition of these compounds can be appropriately carried out during the production of silver halide emulsion grains and before each step of coating the emulsion, but it is particularly preferable to add them at the time of grain formation and to incorporate them into the silver halide grains. .

【0030】本発明では2価または3価の鉄イオン含有
化合物をイリジウム化合物、ロジウム化合物と併用する
ことができ、好ましくは水溶性をもつ鉄塩や鉄錯塩が用
いられる。具体的化合物を以下に示す。 硝酸第一鉄アンモニウム 塩基性酢酸第二鉄 アルブミン酸第二鉄 酢酸第二鉄アンモニウム 臭化第二鉄 塩化第二鉄 クロル酸第二鉄 クエン酸第二鉄 フッ化第二鉄 ぎ酸第二鉄 グリセロ・リン酸第二鉄 水酸化第二鉄 酸性リン酸第二鉄 硝酸第二鉄 リン酸第二鉄 ピロリン酸第二鉄 ピロリン酸第二鉄ナトリウム チオシアン化第二鉄 硫酸第二鉄 硫酸第二鉄アンモニウム ヒ酸第一鉄 臭化第一鉄 炭酸第一鉄 塩化第一鉄 クエン酸第一鉄 フッ化第一鉄 ぎ酸第一鉄 グルコン酸第一鉄 水酸化第一鉄 よう化第一鉄 乳酸第一鉄 しゅう酸第一鉄 リン酸第一鉄 こはく酸第一鉄 硫酸第一鉄 チオシアン酸第一鉄 硝酸第一鉄 硝酸第二鉄グアニジン クエン酸第二鉄アンモニウム ヘキサンシアノ鉄(II)酸カリウム べンタシアノアンミン第一鉄カリウム エチレンジニトリロ四酢酸第二鉄ナトリウム ヘキサシアノ鉄(III) 酸カリウム 塩化トリス(ジピリジル)第二鉄 ベンタシアノニトロシル第二鉄カリウム 塩化ヘキサレア第二鉄 特にヘキサシアノ鉄(II)酸塩、ヘキサシアノ鉄(III) 酸
塩、チオシアン酸第一鉄塩やチオシアン酸第二鉄塩が顕
著な効果を表す。
In the present invention, a divalent or trivalent iron ion-containing compound can be used in combination with an iridium compound or a rhodium compound, and a water-soluble iron salt or iron complex salt is preferably used. Specific compounds are shown below. Ferrous nitrate ammonium basic ferric acetate ferric albumin ferric ammonium acetate ferric bromide ferric chloride ferric chloride ferric citrate ferric fluoride ferric formate Glycero ・ ferric phosphate, ferric hydroxide, ferric acid phosphate, ferric nitrate, ferric phosphate, ferric pyrophosphate, ferric pyrophosphate, sodium thiocyanate, ferric sulfate, ferric sulfate Iron Ammonium Ferrous arsenate Ferrous bromide Ferrous carbonate Ferrous chloride Ferrous ferrous citrate Ferrous ferrous formate Ferrous gluconate Ferrous ferrous hydroxide Ferrous iron ferrous iodide Ferrous lactate ferrous oxalate ferrous phosphate ferrous succinate ferrous sulfate ferrous thiocyanate ferrous nitrate ferric nitrate guanidine ferric ammonium citrate hexane cyanoferrate (II) acid Potassium bentacyanoammine ferrous potassium ethylenedinit (B) Sodium ferric tetraacetate Potassium hexacyanoferrate (III) Tris (dipyridyl) ferric chloride Ferric bentacyanonitrosyl ferric potassium Hexarea ferric chloride Especially hexacyanoferrate (II) and hexacyanoferrate (III) Ferrous thiocyanate and ferric thiocyanate show remarkable effects.

【0031】本発明には、レニウム、ルテニウム、オス
ミウム化合物、例えばヨーロッパ公開特許(EP)03
36689A号、同0336427A1号、同0336
425A1号、同0336426A1号に記載された六
座配位錯体、特にシアニド配位子を少なくとも4個以上
含むものを併用することができる。好ましい態様におい
てはこれらの化合物は次のような式によって表わすとこ
とができる。 〔M(CN)6 −y Ly 〕n ここに、Mはレニウム、ルテニウム、オスミウムであ
り、Lは架橋配位子であり、yは整数0、1又は2であ
り、そしてnは−2、−3又は−4である。
The present invention includes rhenium, ruthenium and osmium compounds such as European Published Patent (EP) 03.
No. 36689A, No. 0336427A1, No. 0336
The hexadentate coordination complexes described in Nos. 425A1 and 0336426A1, especially those containing at least 4 or more cyanide ligands can be used in combination. In a preferred embodiment, these compounds can be represented by the formula: [M (CN) 6 -y Ly] n where M is rhenium, ruthenium, osmium, L is a bridging ligand, y is an integer 0, 1 or 2, and n is -2, -3 or -4.

【0032】具体例として以下のものを挙げることがで
きる。 〔Re(CN)5 -4 〔Ru(CN)5 -4 〔Os(CN)5 -4 〔ReF(CN)5 -4 〔RuF(CN)5 -4 〔OsF(CN)5 -4 〔ReCl(CN)5 -4 〔RuCl(CN)5 -4 〔OsCl(CN)5 -4 〔ReBr(CN)5 -4 〔RuBr(CN)5 -4 〔OsBr(CN)5 -4 〔ReI(CN)5 -4 〔RuI(CN)5 -4 〔OsI(CN)5 -4 〔ReF2(CN)4 -4 〔RuF2(CN)5 -4 〔OsF2(CN)5 -4 〔ReCl2(CN)4 -4 〔RuCl2(CN)4 -4 〔OsCl2(CN)4 -4 〔RuBr2(CN)4 -4 〔OsBr2(CN)4 -4 〔ReBr2(CN)4 -4 〔RuI2(CN)4 -4 〔OsI2(CN)4 -4 〔Ru(CN)5 (OCN)〕-4 〔Os(CN)5 (OCN)〕-4 〔Ru(CN)5 (SCN)〕-4 〔Os(CN)5 (SCN)〕-4 〔Ru(CN)5 (N3)〕-4 〔Os(CN)5 (N3)〕-4 〔Ru(CN)5 (H2 O) 〕-3 〔Os(CN)5 (H2 O) 〕-3
The following can be mentioned as specific examples. [Re (CN) 5 ] -4 [Ru (CN) 5 ] -4 [Os (CN) 5 ] -4 [ReF (CN) 5 ] -4 [RuF (CN) 5 ] -4 [OsF (CN) 5 ] -4 [ReCl (CN) 5 ] -4 [RuCl (CN) 5 ] -4 [OsCl (CN) 5 ] -4 [ReBr (CN) 5 ] -4 [RuBr (CN) 5 ] -4 [ OsBr (CN) 5 ] -4 [ReI (CN) 5 ] -4 [RuI (CN) 5 ] -4 [OsI (CN) 5 ] -4 [ReF 2 (CN) 4 ] -4 [RuF 2 (CN ) 5] -4 [OSF 2 (CN) 5] -4 [ReCl 2 (CN) 4] -4 [RuCl 2 (CN) 4] -4 [OsCl 2 (CN) 4] -4 [RuBr 2 (CN ) 4 ] -4 [OsBr 2 (CN) 4 ] -4 [ReBr 2 (CN) 4 ] -4 [RuI 2 (CN) 4 ] -4 [OsI 2 (CN) 4 ] -4 [Ru (CN) 5 (OCN)] -4 [Os (CN) 5 (OCN) -4 [Ru (CN) 5 (SCN)] -4 [Os (CN) 5 (SCN)] -4 [Ru (CN) 5 (N 3 ) ] -4 [Os (CN) 5 (N 3 ) ] -4 [Ru (CN) 5 (H 2 O)] -3 [Os (CN) 5 (H 2 O)] -3

【0033】上記の鉄、レニウム、ルテニウム、オスミ
ウム化合物は、ハロゲン化銀粒子形成中に添加すること
が好ましい。添加位置としては、粒子中に均一に分布さ
せても、また粒子形成の初期、中期、後期に局在化させ
ても良いが、粒子形成の後期、すなわち最終粒子径の5
0%、より好ましくは80%が形成された後に添加する
ことが好ましい。添加量は銀1モルに対し10-3モル以
下であるが、好ましくは10-6〜10-4モルである。本
発明においては第VIII族に含まれる他の金属、すなわち
コバルト、ニッケル、パラジウム、白金などを併用して
も良い。
The above iron, rhenium, ruthenium and osmium compounds are preferably added during the formation of silver halide grains. The addition position may be evenly distributed in the particles, or may be localized in the early, middle, and late stages of particle formation.
It is preferred to add after 0%, more preferably 80% is formed. The addition amount is 10 -3 mol or less per 1 mol of silver, and preferably 10 -6 to 10 -4 mol. In the present invention, other metals contained in Group VIII, that is, cobalt, nickel, palladium, platinum and the like may be used in combination.

【0034】本発明のハロゲン化銀乳剤の粒子形成は、
四置換チオ尿素、有機チオエーテル化合物の如きハロゲ
ン化銀溶剤の存在下で行うことが好ましい。本発明で用
いられる好ましい四置換チオ尿素ハロゲン化銀溶剤は、
特開昭53−82408、同55−77737などに記
載されている。
The grain formation of the silver halide emulsion of the present invention comprises
It is preferably carried out in the presence of a silver halide solvent such as a tetra-substituted thiourea or an organic thioether compound. Preferred tetra-substituted thiourea silver halide solvents used in the present invention are
It is described in JP-A Nos. 53-82408 and 55-77737.

【0035】本発明の乳剤はセレン増感されることが好
ましい。ここでセレン増感とは、従来公知の方法にて実
施される。すなわち、通常、不安定型セレン化合物およ
び/または非不安定型セレン化合物を添加して、高温、
好ましくは40℃以上で乳剤を一定時間攪拌することに
より行なわれる。特公昭44−15748号に記載の不
安定セレン増感剤を用いるセレン増感が好ましく用いら
れる。具体的な不安定セレン増感剤としては、アリルイ
ソセレノシアネートの如き脂肪族イソセレノシアネート
類、セレノ尿素類、セレノケトン類、セレノアミド類、
セレノカルボン酸類およびエステル類、セレノフォスフ
ェート類がある。特に好ましい不安定セレン化合物は以
下に示される。
The emulsion of the present invention is preferably selenium-sensitized. Here, the selenium sensitization is performed by a conventionally known method. That is, usually, an unstable selenium compound and / or a non-unstable selenium compound is added,
It is preferably carried out by stirring the emulsion at 40 ° C. or higher for a certain period of time. Selenium sensitization using the unstable selenium sensitizer described in JP-B-44-15748 is preferably used. Specific unstable selenium sensitizers include aliphatic isoselenocyanates such as allyl isoselenocyanate, selenoureas, selenoketones, selenoamides,
There are selenocarboxylic acids and esters, selenophosphates. Particularly preferred unstable selenium compounds are shown below.

【0036】I.コロイド状金属セレン II.有機セレン化合物(セレン原子が共有結合により有
機化合物の炭素原子に2重結合しているもの) a イソセレノシアネート類 例えば、アリルイソセレノシアネートの如き脂肪族イソ
セレノシアネート b セレノ尿素類(エノール型を含む) 例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、ヘキシル、オクチル、ジオクチル、テトラメチ
ル、N−(β−カルボキシエチル)−N′,N′−ジメ
チル、N,N−ジメチル、ジエチル、ジメチル等の脂肪
族セレノ尿素;フェニル、トリル等の芳香族基を1個又
はそれ以上もつ芳香族セレノ尿素;ピリジル、ベンゾチ
アゾリル等の複素環式基をもつ複素環式セレノ尿素 c セレノケトン類 例えば、セレノアセトン、セレノアセトフェノン、アル
キル基が>C=Seに結合したセレノケトン、セレノベ
ンゾフェノン等 d セレノアミド類 例えば、セレノアセトアミド類 e セレノカルボン酸およびエステル類 例えば、2−セレノプロピオン酸、3−セレノ酪酸、メ
チル−3−セレノブチレート等 III.その他 a セレナイド類 例えば、ジエチルセレナイド、ジエチルジセレナイド、
トリフェニルフォスフィンセレナイド等 b セレノフォスフェート類 例えば、トリ−p−トリルセレノフォスフェート、トリ
−n−ブチルセレノフォスフェート等
I. Colloidal metal selenium II. Organic selenium compound (selenium atom is double-bonded to carbon atom of organic compound by covalent bond) a isoselenocyanate, for example, aliphatic isoselenocyanate such as allyl isoselenocyanate b selenourea (enol type For example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, hexyl, octyl, dioctyl, tetramethyl, N- (β-carboxyethyl) -N ′, N′-dimethyl, N, N-dimethyl, diethyl, dimethyl, etc. An aromatic selenourea having one or more aromatic groups such as phenyl and tolyl; a heterocyclic selenoureas having a heterocyclic group such as pyridyl and benzothiazolyl c selenoketones, for example, selenacetone, Selenoacetophenone, selenoketo having an alkyl group bonded to> C = Se , Selenobenzophenone, etc. d selenoamides, for example, selenoacetamides e, selenocarboxylic acids and esters, for example, 2-selenopropionic acid, 3-selenobutyric acid, methyl-3-selenobutyrate, etc. III. Other a selenides, for example, diethylselena Id, diethyl diselenide,
Triphenylphosphine selenide, etc. b Selenophosphates, for example, tri-p-tolylselenophosphate, tri-n-butylselenophosphate, etc.

【0037】不安定型セレン化合物の好ましい類型を上
に述べたがこれらは限定的なものではない。当業技術者
には写真乳剤の増感剤としての不安定型セレン化合物と
いえば、セレンが不安定である限りに於て該化合物の構
造はさして重要なものではなく、セレン増感剤分子の有
機部分はセレンを担持し、それを不安定な形で乳剤中に
存在せしめる以外何らかの役割をもたぬことが一般に理
解されている。本発明に於いては、かかる広範な概念の
不安定セレン化合物が有利に用いられる。特公昭46−
4553号、特公昭52−34492号および特公昭5
2−34491号に記載の非不安定型セレン増感剤を用
いるセレン増感も用いられる。非不安定型セレン化合物
には例えば亜セレン酸、セレノシアン化カリ、セレナゾ
ール類、セレナゾール類の4級アンモニウム塩、ジアリ
ールセレニド、ジアリールジセレニド、2−チオセレテ
ゾリジンジオン、2−セレノオキゾリジンチオンおよび
これらの誘導体等が含まれる。特公昭52−38408
号に記載の非不安定型セレン増感剤、チオセレナゾリジ
ンジオン化合物も有効である。
Preferred types of labile selenium compounds have been described above, but are not limiting. Stable selenium compounds as sensitizers for photographic emulsions are known to those skilled in the art, as long as selenium is unstable, the structure of the compounds is not so important, and organic compounds of selenium sensitizer molecules are not important. It is generally understood that the moieties carry selenium and have no role other than allowing it to be present in the emulsion in an unstable form. In the present invention, such a broad concept of unstable selenium compounds is advantageously used. Japanese Examined Sho 46-
4553, JP-B-52-34492 and JP-B-5
Selenium sensitization using the non-labile selenium sensitizer described in JP-A-2-34491 can also be used. Examples of the non-unstable selenium compound include selenious acid, potassium selenocyanide, selenazoles, quaternary ammonium salts of selenazoles, diaryl selenides, diaryl diselenides, 2-thioceretezolidinediones, and 2-selenooxo. Lysine thione and derivatives thereof are included. Japanese Examined Japanese Patent Publication Sho 52-38408
The non-labile selenium sensitizers and thioselenazolidinedione compounds described in JP-A No. 1994-1999 are also effective.

【0038】これらのセレン増感剤は水またはメタノー
ル、エタノールなどの有機溶媒の単独または混合溶媒に
溶解し化学増感時に添加される。好ましくは化学増感開
始前に添加される。使用されるセレン増感剤は1種に限
られず上記セレン増感剤の2種以上を併用して用いるこ
とができる。不安定セレン化合物と非不安定セレン化合
物の併用は好ましい。本発明に使用されるセレン増感剤
の添加量は、用いるセレン増感剤の活性度、ハロゲン化
銀の種類や大きさ、熟成の温度および時間などにより異
なるが、好ましくはハロゲン化銀1モル当り1×10-8
モル以上である。より好ましくは1×10-7モル以上1
×10-5モル以下である。セレン増感剤を用いた場合の
化学熟成の温度は好ましくは45℃以上である。より好
ましくは、50℃以上80℃以下である。pAgおよび
pHは任意である。例えばpHは4から9までの広い範
囲で本発明の効果は得られる。
These selenium sensitizers are added at the time of chemical sensitization by dissolving them in water or an organic solvent such as methanol and ethanol alone or in a mixed solvent. Preferably, it is added before the start of chemical sensitization. The selenium sensitizer used is not limited to one type, and two or more types of the above selenium sensitizers can be used in combination. A combination of an unstable selenium compound and a non-unstable selenium compound is preferred. The addition amount of the selenium sensitizer used in the present invention varies depending on the activity of the selenium sensitizer used, the type and size of silver halide, the temperature and time of ripening, and preferably 1 mol of silver halide. Per 1 x 10 -8
It is more than a mole. More preferably 1 × 10 −7 mol or more 1
× 10 −5 mol or less. The temperature of chemical ripening when a selenium sensitizer is used is preferably 45 ° C. or higher. More preferably, it is 50 ° C. or higher and 80 ° C. or lower. pAg and pH are arbitrary. For example, the effect of the present invention can be obtained in a wide range of pH from 4 to 9.

【0039】本発明では、テルル増感も好ましく用いる
ことができる。テルル増感剤としては、米国特許第1,
623,499号、同3,320,069号、同3,7
72,031号、英国特許第235,211号、同1,
121,496号、同1,295,462号、同1,3
96,696号、カナダ特許第800,958号、ジャ
ーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・ケミカル・
コミュニケーション(J.Chem.Soc.Chem.Commun.) 635(1
980)、ibid 1102(1979) 、ibid 645(1979)、ジャーナル
・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキン・トラン
ザクション(J.Chem.Soc.Perkin Trans.)1,2191(1985)
等に記載の化合物を用いることが好ましい。
In the present invention, tellurium sensitization can also be preferably used. As tellurium sensitizers, U.S. Pat.
623, 499, 3,320,069, 3,7
72,031, British Patent No. 235,211 and 1,
121,496, 1,295,462, 1,3
96,696, Canadian Patent No. 800,958, Journal of Chemical Society Chemicals.
Communication (J.Chem.Soc.Chem.Commun.) 635 (1
980), ibid 1102 (1979), ibid 645 (1979), Journal of Chemical Society Perkin Trans (J. Chem. Soc. Perkin Trans.) 1, 2191 (1985)
It is preferable to use the compounds described in the above.

【0040】具体的なテルル増感剤としては、コロイド
状テルル、テルロ尿素類(例えばアリルテルロ尿素、
N,N−ジメチルテルロ尿素、テトラメチルテルロ尿
素、N−カルボキシエチル−N′,N′−ジメチルテル
ロ尿素、N,N′−ジメチルエチレンテルロ尿素、N,
N′−ジフェニルエチレンテルロ尿素)、イソテルロシ
アナート類(例えばアリルイソテルロシアナート)、テ
ルロケトン類(例えばテルロアセトン、テルロアセトフ
ェノン)、テルロアミド類(例えばテルロアセトアミ
ド、N,N−ジメチルテルロベンズアミド)、テルロヒ
ドラジド(例えばN,N′,N′−トリメチルテルロベ
ンズヒドラジド)、テルロエステル(例えばt−ブチル
−t−ヘキシルテルロエステル)、ホスフィンテルリド
類(例えばトリブチルホスフィンテルリド、トリシクロ
ヘキシルホスフィンテルリド、トリイソプロピルホスフ
ィンテルリド、ブチル−ジイソプロピルホスフィンテル
リド、ジブチルフェニルホスフィンテルリド)、他のテ
ルル化合物(例えば英国特許第1,295,462号記
載の負電荷のテルライドイオン含有ゼラチン、ポタシウ
ムテルリド、ポタシウムテルロシアナート、テルロペン
タチオネートナトリウム塩、アリルテルロシアネート)
等が挙げられる
Specific tellurium sensitizers include colloidal tellurium and telluroureas (eg, allyl tellurourea,
N, N-dimethyl tellurourea, tetramethyl tellurourea, N-carboxyethyl-N ', N'-dimethyl tellurourea, N, N'-dimethylethylene tellurourea, N,
N'-diphenylethylene tellurourea), isotellocyanates (for example, allyl isotellurocyanate), telluroketones (for example, telluroacetone, telluroacetophenone), telluroamides (for example, telluroacetamide, N, N-dimethyl tellurobenzamide), tellurohydrazide. (For example, N, N ′, N′-trimethyltelurobenzhydrazide), telluroester (for example, t-butyl-t-hexyltelluroester), phosphine tellurides (for example, tributylphosphine telluride, tricyclohexylphosphine telluride, triisopropyl). Phosphine telluride, butyl-diisopropylphosphine telluride, dibutylphenylphosphine telluride) and other tellurium compounds (eg negatively charged tellurium described in British Patent 1,295,462). Doion containing gelatin, Potassium nitrosium telluride, Potassium nitrosium tellurocyanate diisocyanate, tellurocarbonyl penta isethionate, sodium salt, allyl tellurocyanate)
Etc.

【0041】これらの本発明で用いるテルル増感剤の使
用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等に
より変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当り10-8
10-2モル、好ましくは10-7〜5×10-3モル程度を
用いる。
The amount of these tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, the chemical ripening conditions, etc., but is generally from 10 −8 to 1 mol per mol of silver halide.
10 −2 mol, preferably about 10 −7 to 5 × 10 −3 mol is used.

【0042】化学増感は、ハロゲン化銀溶剤の存在下で
行うことにより、より効果的である。本発明で用いるこ
とができるハロゲン化銀溶剤としては、米国特許第3,
271,157号、同第3,531,289号、同第
3,574,628号、特開昭54−1019号、同5
4−158917号等に記載された(a)有機チオエー
テル類、特開昭53−82408号、同55−7773
7号、同55−2982号等に記載された(b)チオ尿
素誘導体、特開昭53−144319号に記載された
(c)酸素または硫黄原子と窒素原子とにはさまさたチ
オカルボニル基を有するハロゲン化銀溶剤、特開昭54
−100717号に記載された(d)イミダゾール類、
(e)亜硫酸塩、(f)チオシアネート等が挙げられ
る。特に好ましい溶剤としては、チオシアネートおよび
テトラメチルチオ尿素がある。また用いられる溶剤の量
は種類によっても異なるが、例えばチオシアネートの場
合、好ましい量はハロゲン化銀1モル当り1×10-4
ル以上1×10-2モル以下である。
Chemical sensitization is more effective when carried out in the presence of a silver halide solvent. Examples of the silver halide solvent that can be used in the present invention include US Pat.
Nos. 271,157, 3,531,289, 3,574,628, JP-A-54-1019, and 5
(A) Organic thioethers described in JP-A-4-158917, JP-A-53-82408 and JP-A-55-7773.
No. 7, 55-2982 and the like (b) thiourea derivatives, and (c) the thiocarbonyl group described in JP-A No. 53-144319, sandwiched between an oxygen or sulfur atom and a nitrogen atom. Silver halide solvent having
(D) imidazoles described in No. 100717,
(E) Sulfite, (f) thiocyanate and the like. Particularly preferred solvents include thiocyanate and tetramethylthiourea. Although the amount of the solvent used varies depending on the type, for example, in the case of thiocyanate, the preferable amount is from 1 × 10 −4 mol to 1 × 10 −2 mol per mol of silver halide.

【0043】本発明のハロゲン化銀写真乳剤は、化学増
感において金増感を併用することによりさらに高感度、
低かぶりを達成することができる。必要によりさらにイ
オウ増感を併用することが好ましい。イウオ増感は、通
常、イオウ増感剤を添加して、高温、好ましくは40℃
以上で乳剤を一定時間攪拌することにより行なわれる。
また、金増感は、通常、金増感剤を添加して、高温、好
ましくは40℃以上で乳剤を一定時間攪拌することによ
り行なわれる。上記のイオウ増感には硫黄増感剤として
公知のものを用いることができる。例えばチオ硫酸塩、
アリルチオカルバミドチオ尿素、アリルイソチアシアネ
ート、シスチン、p−トルエンチオスルホン酸塩、ロー
ダニンなどが挙げられる。その他米国特許第1,57
4,944号、同第2,410,689号、同第2,2
78,947号、同第2,728,668号、同第3,
501,313号、同第3,656,955号各明細
書、ドイツ特許1,422,869号、特公昭56−2
4937号、特開昭55−45016号公報等に記載さ
れている硫黄増感剤も用いることができる。硫黄増感剤
の添加量は、乳剤の感度を効果的に増大させるのに十分
な量でよい。この量は、pH、温度、ハロゲン化銀粒子
の大きさなどの種々の条件の下で相当の範囲にわたって
変化するが、ハロゲン化銀1モル当り1×10-7モル以
上5×10-5モル以下が好ましい。
The silver halide photographic emulsion of the present invention has a higher sensitivity when combined with gold sensitization in chemical sensitization.
A low fog can be achieved. It is preferable to use sulfur sensitization together if necessary. Sulfur sensitization is usually carried out at a high temperature, preferably 40 ° C, by adding a sulfur sensitizer.
This is done by stirring the emulsion for a certain period of time.
The gold sensitization is usually carried out by adding a gold sensitizer and stirring the emulsion at a high temperature, preferably 40 ° C. or higher for a certain time. For sulfur sensitization, known sulfur sensitizers can be used. For example thiosulfate,
Allyl thiocarbamide thiourea, allyl isothiocyanate, cystine, p-toluene thiosulfonate, rhodanine and the like can be mentioned. Other US Patent No. 1,57
4,944, 2,410,689, 2,2
78, 947, 2, 728, 668, and 3,
501,313, 3,656,955, German Patent 1,422,869, Japanese Patent Publication No. 56-2
The sulfur sensitizers described in JP-A-4937, JP-A-55-45016 and the like can also be used. The sulfur sensitizer may be added in an amount sufficient to effectively increase the sensitivity of the emulsion. This amount varies over a considerable range under various conditions such as pH, temperature, and size of silver halide grains, but is not less than 1 × 10 -7 mol and not less than 5 × 10 -5 mol per mol of silver halide. The following are preferred.

【0044】上記の金増感の金増感剤としては金の酸化
数が+1価でも+3価でもよく、金増感剤として通常用
いられる金化合物を用いることができる。代表的な例と
しては塩化金酸塩、カリウムクロロオーレート、オーリ
ックトリクロライド、カリウムオーリックチオシアネー
ト、カリウムヨードオーレート、テトラシアノオーリッ
クアシド、アンモニウムオーロチオシアネート、ピリジ
ルトリクロロゴールドなどが挙げられる。金増感剤の添
加量は種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲ
ン化銀1モル当り1×10-7モル以上5×10-5モル以
下が好ましい。
As the gold sensitizer for gold sensitization, the oxidation number of gold may be +1 valence or +3 valence, and a gold compound usually used as a gold sensitizer can be used. Representative examples include chloroaurate, potassium chloroaurate, auric trichloride, potassium auric thiocyanate, potassium iodooleate, tetracyano auric acidide, ammonium aurothiocyanate, pyridyl trichlorogold, and the like. The amount of the gold sensitizer added varies depending on various conditions, but as a guide, it is preferably 1 × 10 −7 mol or more and 5 × 10 −5 mol or less per mol of silver halide.

【0045】化学熟成に際して、ハロゲン化銀溶剤およ
びセレン増感剤またはテルル増感剤と併用する金増感剤
等の添加の時期および順位については特に制限を設ける
必要はなく、例えば化学熟成の初期(好ましくは)また
は化学熟成進行中に上記化合物を同時に、あるいは添加
時点を異にして添加することができる。また添加に際し
ては、上記の化合物を水または水と混合し得る有機溶
媒、例えばメタノール、エタノール、アセトン等の単液
あるいは混合液に溶解せしめて添加させればよい。
At the time of chemical ripening, there is no particular limitation on the timing and order of addition of the silver halide solvent and the gold sensitizer used in combination with the selenium sensitizer or tellurium sensitizer. The above compounds can be added at the same time (preferably) or during the chemical ripening, or at different addition points. In addition, the above compound may be added by dissolving the above compound in water or an organic solvent miscible with water, for example, a single solution or a mixed solution of methanol, ethanol, acetone or the like.

【0046】本発明に用いられる還元増感の方法は、い
わゆる還元増感剤としてアスコルビン酸、2酸化チオ尿
素の他に例えば、塩化第1スズ、アミノイミノメタンス
ルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン
化合物、ポリアミン化合物を用いて還元増感することが
できる。また、乳剤のpHを7以上又はpAgを8.3
以下に保持し、熟成することにより還元増感することが
できる。又、粒子形成中に銀イオンのシングルアディシ
ョン部分を導入することにより還元増感することができ
る。しかしながら、粒子形成・結晶成長への影響を少な
くし、かつ制御された還元増感を行なう上から、アスコ
ルビン酸ならびにその誘導体、又は2酸化チオ尿素を用
いて還元増感することが好ましい。用いる還元増感剤の
量は、還元剤種によって異なるが10-7モルから10-2
モル/モルAg量が好ましく用いられる。還元増感は、
粒子形成中のいかなるところで行なっても良く、粒子形
成後も化学増感前であるならば、いつ行っても良い。
The method of reduction sensitization used in the present invention includes, as so-called reduction sensitizers, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, Reduction sensitization can be performed using a silane compound or a polyamine compound. Further, the pH of the emulsion was 7 or more or the pAg was 8.3.
It is possible to carry out reduction sensitization by keeping it below and aging. Further, reduction sensitization can be performed by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation. However, it is preferable to carry out reduction sensitization using ascorbic acid and its derivative or thiourea dioxide in order to reduce the influence on grain formation and crystal growth and to carry out controlled reduction sensitization. The amount of the reduction sensitizer used depends on the type of the reducing agent, but varies from 10 -7 mol to 10 -2.
A mol / mol Ag amount is preferably used. Reduction sensitization is
It may be carried out at any point during grain formation, and may be carried out at any time after grain formation but before chemical sensitization.

【0047】化学増感の条件は任意であるが、pAgと
しては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度とし
ては40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
The conditions for chemical sensitization are arbitrary, but the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 85 ° C.

【0048】本発明においては、金、白金、パラジウ
ム、イリジウム等の貴金属増感剤を併用することが好ま
しい。特に、金増感剤を併用することは好ましく、具体
的には、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウ
ムオーリチオシアネート、硫化金、金セレナイド等が挙
げられ、ハロゲン化銀1モル当り10-7〜10-2モル程
度を用いることができる。
In the present invention, it is preferable to use a noble metal sensitizer such as gold, platinum, palladium or iridium together. In particular, it is preferable to also perform gold sensitization agent include chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide, and the like, per mol of silver halide 10-7 About 10 -2 mol can be used.

【0049】本発明において、更に、硫黄増感剤を併用
することも好ましい。具体的には、チオ硫酸塩(例え
ば、ハイポ)、チオ尿素類(例えば、ジフェニルチオ尿
素、トリエチル尿素、アリルチオ尿素)、ローダニン類
等の公知の不安定硫黄化合物が挙げられ、ハロゲン化銀
1モル当り10-7〜10-2モル程度を用いることができ
る。
In the present invention, it is also preferable to use a sulfur sensitizer together. Specific examples thereof include known unstable sulfur compounds such as thiosulfates (for example, hypo), thioureas (for example, diphenylthiourea, triethylurea, allylthiourea), and rhodanines. 1 mol of silver halide About 10 -7 to 10 -2 mol can be used per unit.

【0050】次に本発明に用いられる一般式〔1〕によ
って表わされるメルカプトアゾール類について説明す
る。 一般式〔1〕
Next, the mercaptoazoles represented by the general formula [1] used in the present invention will be explained. General formula [1]

【0051】[0051]

【化17】 Embedded image

【0052】式中ZはN又はC−X(Xはアルキル基、
アリール基を表わす)、Mは水素原子、金属原子または
アンモニウム、Yは親水性基を有するアルキル基または
アリール基を表わす。X、Y及びMが表わすアルキル
基、アリール基及びアンモニウム基はさらに置換基を有
していてもよい。Xで表わされる基のうち好ましいもの
は、炭素原子数1ないし30の置換もしくは無置換のア
ルキル基、炭素原子数6ないし30の置換もしくは無置
換のフェニル基、または炭素原子数10ないし30の置
換もしくは無置換のナフチル基である。Yで表わされる
基のうち好ましいものは親水性基を有する炭素原子数1
ないし30の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原
子数6ないし30の置換もしくは無置換のアリール基で
あり、特に好ましくは炭素原子数6ないし30の置換も
しくは無置換のフェニル基、または炭素原子数10ない
し30の置換もしくは無置換のナフチル基である。好ま
しい親水性基としては、−SO3 M、−SO2 NH
1 、−NHSO2 1 、−CO2 NHR1 、−PO3
M、PO(OR1)2 、PO(NHR1)2 、−COOM、
又はOHなどが好ましい。さらに好ましくは、−SO3
M、−COOM、−OHである。ここにR1 は水素原子
又は炭素数1〜5のアルキル基を表わす。Mは水素原
子、アルカリ金属、四級アンモニウム、又は四級ホスホ
ニウムを表わす。以下に本発明で用いられる一般式
〔1〕で表わされる化合物の具体例を示すが、本発明の
範囲はこの化合物例に限定されるものではない。
In the formula, Z is N or C--X (X is an alkyl group,
Represents an aryl group), M represents a hydrogen atom, a metal atom or ammonium, and Y represents an alkyl group or an aryl group having a hydrophilic group. The alkyl group, aryl group and ammonium group represented by X, Y and M may further have a substituent. Preferred among the groups represented by X are a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 10 to 30 carbon atoms. Alternatively, it is an unsubstituted naphthyl group. Among the groups represented by Y, the preferred one is a hydrophilic group having 1 carbon atom.
To a substituted or unsubstituted alkyl group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, particularly preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 30 carbon atoms, or a carbon atom number It is a substituted or unsubstituted naphthyl group of 10 to 30. Preferred hydrophilic groups, -SO 3 M, -SO 2 NH
R 1, -NHSO 2 R 1, -CO 2 NHR 1, -PO 3
M, PO (OR 1 ) 2 , PO (NHR 1 ) 2 , -COOM,
Alternatively, OH or the like is preferable. More preferably, -SO 3
M, -COOM, -OH. Here, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. M represents a hydrogen atom, an alkali metal, a quaternary ammonium, or a quaternary phosphonium. Specific examples of the compound represented by the general formula [1] used in the present invention are shown below, but the scope of the present invention is not limited to this compound example.

【0053】[0053]

【化18】 Embedded image

【0054】[0054]

【化19】 Embedded image

【0055】[0055]

【化20】 Embedded image

【0056】[0056]

【化21】 [Chemical 21]

【0057】[0057]

【化22】 Embedded image

【0058】一般式〔1〕で表わされる化合物の合成法
については、一般に良く知られているようにイソチオシ
アナートを出発原料として用いる方法で容易に合成する
ことが出来る。以下に参考となる合成法の記載されいる
特許、文献例を示す。米国特許2,585,388号、
同2,541,924号、特公昭42−21842号、
特開昭53−50169号各公報;英国特許第1,27
5,701号明細書;D.A.Berges et all,“Journa
l of Heterocyclic Chemistry " 第15巻981頁(1
978年);“The Chemistry of Heterocyclic Chemis
try "Imidazole and Derivatives part I. 336〜3
39頁 Chemical Abstract 58,7921号(196
3)、394頁;E.Hoggarth“Journal of ChemicalS
ociety"1949年巻1160〜1167頁及びS.
R.Sandler ,W.Karo著、“Organic Functional Gro
up Preparations ”,Academic Press社 1968年発
行、312〜315頁。
The compound represented by the general formula [1] can be easily synthesized by a method using isothiocyanate as a starting material, as is well known. The patents and literature examples in which the synthetic method is described as reference are shown below. U.S. Pat. No. 2,585,388,
2,541,924, JP-B No. 42-21842,
JP-A-53-50169; British Patent Nos. 1,27
5,701; D. A. Berges et all, “Journa
l of Heterocyclic Chemistry "15, 981 (1
978); “The Chemistry of Heterocyclic Chemis
try "Imidazole and Derivatives part I. 336-3
Page 39 Chemical Abstract 58,7921 (196
3) 394; E. Hoggarth “Journal of ChemicalS
ociety "1949, pp. 1160-1167 and S.M.
R. Sandler, W.M. Karo, “Organic Functional Gro
up Preparations ", Academic Press, 1968, 312-315.

【0059】これらの化合物は、水溶液、塩酸性の水溶
液若しくはメタノール溶液として写真乳剤又は乳剤層以
外の構成層(例えば上塗層、フィルター層、中間層など
であるが、乳剤層の隣接層が好ましい)を作るための親
水性コロイド溶液に添加する。添加の時期は特に制限さ
れないが、写真乳剤に添加する場合は第2熟成後塗布直
前までの間に添加するのが便利である。これらの化合物
の添加量は、通常、銀1モルあたり10-6〜10-2
ル、好ましくは、5×10-5〜2×10-3モルの範囲で
用いられる。
These compounds are used as an aqueous solution, a hydrochloric acid aqueous solution, or a methanol solution as a photographic emulsion or a constituent layer other than the emulsion layer (for example, an overcoat layer, a filter layer, an intermediate layer, etc., but a layer adjacent to the emulsion layer is preferable. ) Is added to the hydrophilic colloid solution to make The timing of addition is not particularly limited, but when it is added to the photographic emulsion, it is convenient to add it after the second ripening and immediately before coating. The amount of these compounds added is usually in the range of 10 −6 to 10 −2 mol, preferably 5 × 10 −5 to 2 × 10 −3 mol per mol of silver.

【0060】次に本発明に用いられる一般式〔2〕で表
わされるトリアジン化合物について説明する。 一般式〔2〕
Next, the triazine compound represented by the general formula [2] used in the present invention will be explained. General formula [2]

【0061】[0061]

【化23】 Embedded image

【0062】式中R1 、R2 は同じでも互いに異なって
いてもよく、各々ヒドロキシ基、ヒドロキシルアミノ
基、アミノ基、アルキルアミノ基(好ましくは炭素数1
〜5のアルキル基のモノ又はジ置換アミノ基)、アラル
キルアミノ基(好ましくは炭素数7〜11のもの)、ア
リールアミノ基(好ましくは炭素数6〜10のアリール
基が置換したアミノ基)、アルコキシ基(好ましくは炭
素数1〜5のもの)、フェノキシ基、アルキル基(好ま
しくは炭素数1〜5のもの)、アリール基(好ましくは
炭素数6〜10のもの)、アルキルチオ基(好ましくは
炭素数1〜5のもの)、又はフェニルチオ基を表わす。
上記の各基におけるアルキル部分はヒドロキシ基、アル
コキシ基(好ましくは炭素数1〜4、特に1〜2のも
の)、アミノ基、アルキルアミノ基(好ましくは炭素数
1〜4、特に1〜2のアルキル基のモノ又はジ置換アミ
ノ基)などの置換基を有していてもよい。また上記
1 、R2 が表わす各基においてアリール又はフェニル
部分はヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基(好
ましくは炭素数1〜4、特に1〜2のアルキル基のモノ
又はジ置換アミノ基)、アルキル基(好ましくは炭素数
1〜4、特に1〜2のもの)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜4、特に1〜2のもの)などの置換基を有
していてもよい。一般式〔2〕の化合物を使用する例は
特開昭63−75737号等に記載されている。以下に
本発明に於いて好ましく使用される一般式〔2〕の化合
物を例示する。
In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different from each other and each is a hydroxy group, a hydroxylamino group, an amino group or an alkylamino group (preferably having 1 carbon atom).
A mono- or di-substituted amino group of an alkyl group of 5 to 5), an aralkylamino group (preferably having a carbon number of 7 to 11), an arylamino group (preferably an amino group substituted by an aryl group having a carbon number of 6 to 10), Alkoxy group (preferably having 1 to 5 carbon atoms), phenoxy group, alkyl group (preferably having 1 to 5 carbon atoms), aryl group (preferably having 6 to 10 carbon atoms), alkylthio group (preferably C1-5) or a phenylthio group.
The alkyl moiety in each of the above groups is a hydroxy group, an alkoxy group (preferably having 1 to 4 carbon atoms, particularly 1 to 2 carbon atoms), an amino group, an alkylamino group (preferably having 1 to 4 carbon atoms, particularly 1 to 2 carbon atoms). It may have a substituent such as an alkyl group (mono- or di-substituted amino group). Further, in each of the groups represented by R 1 and R 2 , the aryl or phenyl moiety is a hydroxy group, an amino group, an alkylamino group (preferably a mono- or di-substituted amino group having 1 to 4 carbon atoms, particularly 1 to 2 carbon atoms). It may have a substituent such as an alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms, especially 1 to 2 carbon atoms), an alkoxy group (preferably having 1 to 4 carbon atoms, especially 1 to 2 carbon atoms). Examples of using the compound of the general formula [2] are described in JP-A-63-75737. The compounds of the general formula [2] preferably used in the present invention are exemplified below.

【0063】[0063]

【化24】 Embedded image

【0064】[0064]

【化25】 Embedded image

【0065】[0065]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0066】[0066]

【化27】 Embedded image

【0067】これらの化合物はジャーナル・オブ・ジ・
オルガニック・ケミストリー、27巻4054頁(19
62)、ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティ、73巻2981頁(1951)、特公昭
49−10692号公報等に記載の合成方によって合成
できる。これらの化合物は、水溶液、塩酸性の水溶液若
しくはメタノール溶液として写真乳剤又は乳剤層以外の
構成層(例えば上塗層、フィルター層、中間層などであ
るが、乳剤層の隣接層が好ましい)を作るための親水性
コロイド溶液に添加するが、本発明においては特に写真
乳剤層に添加することが好ましい。添加の時期は特に制
限されないが、写真乳剤に添加する場合は第2熟成後塗
布直前までの間に添加するのが便利である。これらの化
合物の添加量は、通常銀1モル当り0.01g〜10
g、特に0.1g〜1gの範囲に設定する。
These compounds are available from Journal of the
Organic Chemistry, 27: 4054 (19)
62), Journal of the American Chemical Society, 73, 2981 (1951), and Japanese Patent Publication No. 49-10692. These compounds form a photographic emulsion or a constituent layer other than the emulsion layer (for example, an overcoat layer, a filter layer or an intermediate layer, but preferably adjacent to the emulsion layer) as an aqueous solution, a hydrochloric acid aqueous solution or a methanol solution. It is added to the hydrophilic colloid solution, but in the present invention, it is particularly preferably added to the photographic emulsion layer. The timing of addition is not particularly limited, but when it is added to the photographic emulsion, it is convenient to add it after the second ripening and immediately before coating. The addition amount of these compounds is usually 0.01 g to 10 per mol of silver.
g, particularly 0.1 g to 1 g.

【0068】次に本発明の一般式〔3〕で表わされるよ
うなジヒドロキシベンゼン類について説明する。 一般式〔3〕
Next, the dihydroxybenzenes represented by the general formula [3] of the present invention will be explained. General formula [3]

【0069】[0069]

【化28】 Embedded image

【0070】式中、R1 、R2 、R3 、R4 はそれぞれ
水素原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原
子、1、2、3級のアミノ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基、アルキル基、アリール基、少なくとも1
個のN、O、S原子を含む5又は6員のヘテロ環基、ホ
ルミル基、ケト基、スルホン酸基、カルボン酸基、アル
キルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表わ
す。
In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a halogen atom, a primary, secondary, tertiary amino group. , Carbonamide group, sulfonamide group, alkyl group, aryl group, at least 1
Represents a 5- or 6-membered heterocyclic group containing N, O, S atoms, formyl group, keto group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, alkylsulfonyl group, or arylsulfonyl group.

【0071】以下、一般式〔3〕の化合物について、さ
らに詳細に説明する。式中、R1 、R2 、R3 、R4
水素原子、ヒドロキシ基、置換又は無置換のアルコキシ
基、置換又は無置換のアリールオキシ基、置換又は無置
換のアルキルチオ基、置換又は無置換のアリールチオ
基、ハロゲン原子、1、2、3級のアミノ基、置換又は
無置換のカルボンアミド基、置換又は無置換のスルホン
アミド基、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置
換のアリール基、置換又は無置換の、少なくとも1個の
N、O、S原子を含む5又は6員のヘテロ環基、ホルミ
ル基、ケト基、スルホン酸基、カルボン酸基、置換又は
無置換のアルキルスルホニル基、置換又は無置換のアリ
ールスルホニル基である。
The compound of the general formula [3] will be described in more detail below. In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen atom, hydroxy group, substituted or unsubstituted alkoxy group, substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted alkylthio group, substituted or unsubstituted Arylthio group, halogen atom, primary, secondary, tertiary amino group, substituted or unsubstituted carbonamido group, substituted or unsubstituted sulfonamide group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aryl group A substituted or unsubstituted 5- or 6-membered heterocyclic group containing at least one N, O or S atom, a formyl group, a keto group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group A substituted or unsubstituted arylsulfonyl group.

【0072】これらのジヒドロキシベンゼン誘導体の具
体例としては例えば The MerckIndex 10 th edition に
多くの例が記載されているほか、米国特許2,728,
659号、同3,700,453号、同3,227,5
52号、特開昭49−106329号、同50−15
6,438号、同56−109344号、同57−22
237号、同59−202465号、同58−1743
1号、特公昭50−21249号、同56−40818
号、同59−37497号、英国特許752146号、
同1086208号、西独特許公開2,149,789
号、ケミカル・アブストラクツ誌5巻6367h、特開
昭57−17949などに記載されている。これらの好
ましいジヒドロキシベンゼン類のうち特に好ましいもの
は、無置換のハイドロキノンであり、2個の水酸基以外
の置換基のハメットのシグマ値の和が−1.2ないし+
1.2、特に好ましくは−1.0ないし+0.5の範囲
内にあるものである。以下にこれらジヒドロキシベンゼ
ン類の具体例を示すが、本発明はこれらのみにて限定さ
れるものではない。
As specific examples of these dihydroxybenzene derivatives, many examples are described in, for example, The Merck Index 10th edition, and US Pat. No. 2,728,
No. 659, No. 3,700,453, No. 3,227,5
52, JP-A-49-106329 and JP-A-50-15.
6,438, 56-109344, 57-22.
No. 237, No. 59-202465, No. 58-1743.
No. 1, Japanese Patent Publication No. 50-21249, No. 56-40818.
No. 59-37497, British Patent No. 752146,
No. 1086208, West German Patent Publication No. 2,149,789.
No. 5, Chemical Abstracts, Vol. 5, 6367h, JP-A-57-17949, and the like. Particularly preferred among these preferred dihydroxybenzenes are unsubstituted hydroquinones having a sum of Hammett sigma values of the substituents other than the two hydroxyl groups of -1.2 to +.
1.2, particularly preferably in the range of -1.0 to +0.5. Specific examples of these dihydroxybenzenes are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0073】[0073]

【化29】 [Chemical 29]

【0074】[0074]

【化30】 Embedded image

【0075】[0075]

【化31】 [Chemical 31]

【0076】[0076]

【化32】 Embedded image

【0077】[0077]

【化33】 [Chemical 33]

【0078】一般式〔3〕で表わされる化合物は、ハロ
ゲン化銀1モルあたり1×10-6ないし5×10-1モル
含有させるのが好ましく、特に1×10-5モルないし8
×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。
The compound represented by the general formula [3] is preferably contained in an amount of 1 × 10 -6 to 5 × 10 -1 mol, and particularly 1 × 10 -5 to 8 mol per mol of silver halide.
The preferable addition amount is in the range of x10 -2 mol.

【0079】これら、一般式〔3〕の化合物を写真感光
材料中に含有させるときは、水溶性の場合は水溶液とし
て、水不溶性の場合はアルコール類(たとえばメタノー
ル、エタノール)エステル類(たとえば酢酸エチル)、
ケトン類(たとえばアセトン)などの水に混和しうる有
機溶媒の溶液として、ハロゲン化銀乳剤溶液又は、親水
性コロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀乳剤溶
液中に添加する場合は、その添加は化学熟成の開始から
塗布までの任意の時期に行うことができるが化学熟成終
了後に行うのが好ましく、特に塗布のために用意された
塗布液中に添加するのが好ましい。
When the compound of the general formula [3] is contained in the photographic light-sensitive material, it is an aqueous solution when it is water-soluble, and alcohols (eg methanol, ethanol) esters (eg ethyl acetate) when it is water-insoluble. ),
It may be added to the silver halide emulsion solution or the hydrophilic colloid solution as a solution of a water-miscible organic solvent such as ketones (eg acetone). When it is added to the silver halide emulsion solution, it can be added at any time from the start of chemical ripening to the coating, but it is preferable to add it after the chemical ripening, especially the coating prepared for coating. It is preferably added to the liquid.

【0080】次に本発明に用いられる一般式〔4〕、
〔5〕、〔6〕で表わされるチオスルホン酸化合物につ
いて説明する。
Next, the general formula [4] used in the present invention,
The thiosulfonic acid compound represented by [5] and [6] will be described.

【0081】[0081]

【化34】 Embedded image

【0082】但し、Z:アルキル基(炭素数1〜1
8)、アリール基(炭素数6〜18)、又はヘテロ環
基、 Y:芳香環(炭素数6〜18)、又はヘテロ環を形成す
るに必要な原子 M:金属原子、又は有機カチオン n:2〜10の整数 を表わす。一般式〔4〕、〔5〕、〔6〕に於けるZ及
びYで表わされるアルキル基、アリール基、ヘテロ環
基、芳香環及びヘテロ環は置換されていてもよい。置換
基としては、例えばメチル基、エチル基等の低級アルキ
ル基、フェニル基等のアリール基、炭素数1〜8のアル
コキシ基、塩素等のハロゲン原子、ニトロ基、アミノ
基、カルボキシル基などを挙げることができる。Z及び
Yで表わされるヘテロ環としては、チアゾール、ベンズ
チアゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、オキ
サゾール環等を挙げることが出来る。Mで表わされる金
属原子としては、ナトリウムイオン、カリウムイオンの
如きアルカリ金属原子が、有機カチオンとしては、アン
モニウムイオン、グアニジン基などが好ましい。Zとし
て好ましい基は炭素数1〜12のアルキル基である。一
般式〔4〕、〔5〕、〔6〕で表わされる化合物の具体
例としては、下記のものを挙げることができる。
However, Z: alkyl group (having 1 to 1 carbon atoms)
8), an aryl group (having 6 to 18 carbon atoms), or a heterocyclic group, Y: an atom necessary for forming an aromatic ring (having 6 to 18 carbon atoms), or a hetero ring, M: a metal atom, or an organic cation n: Represents an integer from 2 to 10. The alkyl group, aryl group, heterocyclic group, aromatic ring and heterocycle represented by Z and Y in the general formulas [4], [5] and [6] may be substituted. Examples of the substituent include a lower alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, an aryl group such as a phenyl group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom such as chlorine, a nitro group, an amino group and a carboxyl group. be able to. Examples of the heterocycle represented by Z and Y include a thiazole, benzthiazole, imidazole, benzimidazole and oxazole ring. The metal atom represented by M is preferably an alkali metal atom such as sodium ion or potassium ion, and the organic cation is preferably an ammonium ion or a guanidine group. A preferred group as Z is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. The following can be mentioned as specific examples of the compounds represented by the general formulas [4], [5], and [6].

【0083】[0083]

【化35】 Embedded image

【0084】[0084]

【化36】 Embedded image

【0085】[0085]

【化37】 Embedded image

【0086】一般式〔4〕、〔5〕、〔6〕で表わされ
る化合物は、一般に、よく知られた方法で合成すること
が出来る。例えば、相当するスルホニルクロリドと硫化
ソーダを反応させるか、相当するスルフィン酸ソーダと
硫黄を反応させる方法により合成することが出来る。一
方、これらの化合物は市販品として容易に入手すること
も出来る。本発明に於ける一般式〔4〕、〔5〕、
〔6〕で表わされる化合物の添加量はハロゲン化銀1モ
ル当り1×10-5〜1×10-3モル、特に5×10-5
1×10-3モルが好ましい。これらの化合物の添加場所
としては乳剤層であることが好ましく、その添加時期
は、粒子形成時、化学熟成時又は塗布直前である。特に
好ましいのは塗布直前である。
The compounds represented by the general formulas [4], [5] and [6] can be generally synthesized by a well-known method. For example, it can be synthesized by a method of reacting a corresponding sulfonyl chloride and sodium sulfide, or a method of reacting a corresponding sodium sulfinate and sulfur. On the other hand, these compounds can be easily obtained as commercial products. General formulas [4], [5], and
The addition amount of the compound represented by [6] is 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol, and especially 5 × 10 −5 to 1 mol of silver halide.
1 × 10 −3 mol is preferable. The addition place of these compounds is preferably an emulsion layer, and the addition time is at the time of grain formation, chemical ripening or immediately before coating. Particularly preferred is immediately before coating.

【0087】本発明の感光性ハロゲン化銀乳剤は、増感
色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光ま
たは赤外光に分光増感されてもよい。本発明に用いる増
感色素の添加量は、ハロゲン化銀粒子の形状、サイズ等
により異なるが、ハロゲン化銀1モル当り4×10-6
8×10-3モルノ範囲で用いられる。例えば、ハロゲン
化銀粒子サイズが0.2〜1.3μmの場合には、ハロ
ゲン化銀粒子の表面積1m2当り、2×10-7〜3.5×
10-6モルの添加量範囲が好ましく、特に6.5×10
-7〜2.0×10-6モルの添加量範囲が好ましい。
The photosensitive silver halide emulsion of the present invention may be spectrally sensitized by a sensitizing dye to blue light, green light, red light or infrared light having a relatively long wavelength. The addition amount of the sensitizing dye used in the present invention varies depending on the shape, size, etc. of the silver halide grains, but is 4 × 10 −6 to 1 mol per mol of silver halide.
Used in the 8 × 10 −3 molno range. For example, when the silver halide grain size is 0.2 to 1.3 μm, 2 × 10 −7 to 3.5 × per 1 m 2 of surface area of the silver halide grain.
The addition amount range of 10 −6 mol is preferable, and 6.5 × 10 is particularly preferable.
The addition amount range of −7 to 2.0 × 10 −6 mol is preferable.

【0088】増感色素としては、シアニン色素、メロシ
アニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレッ
クスメロシアニン色素、ホロホーラーシアニン色素、ス
チリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘ
ミオキソノール色素等を用いることができる。本発明に
使用される有用な増感色素は例えば RESEARCH DISCLOS
URE I tem 17643 IV −A項(1978年12月
p.23)、同 Item 1831X項(1978年8月
p.437)に記載もしくは引用された文献に記載され
ている。特に各種スキャナー光源の分光特性に適した分
光感度を有する増感色素を有利に選択することができ
る。例えば A)アルゴンレーザー光源に対しては、特開昭60−1
62247号、特開平2−48653号、米国特許2,
161,331号、西独特許936,071号、特願平
3−189532号記載のシンプルメロシアニン類、
B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特開昭
50−62425号、同54−18726号、同59−
102229号に示された三核シアニン色素類、特願平
6−103272号に示されたメロシアニン類、C)L
ED光源及び赤色半導体レーザーに対しては特公昭48
−42172号、同51−9609号、同55−398
18号へ特開昭62−284343号、特開平2−10
5135号に記載されたチアカルボシアニン類、D)赤
外半導体レーザー光源に対しては特開昭59−1910
32号、特開昭60−80841号に記載されたトリカ
ルボシアニン類、特開昭59−192242号、特開平
3−67242号の一般式(IIIa)、一般式(IIIb)に
記載された4−キノリン核を含有するジカルボシアニン
類などが有利に選択される。これらの増感色素は単独に
用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感
色素の組合せは特に、強色増感の目的でしばしば用いら
れる。増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもた
ない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であ
って、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有
用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増
感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャー(Resear
ch Disclosure) 176巻17643(1978年12
月発行)第23頁IVのJ項に記載されている。
As the sensitizing dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holoholer cyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes and the like can be used. Useful sensitizing dyes used in the present invention are, for example, RESEARCH DISCLOS
URE Item 17643 IV-A (Dec. 1978, p. 23) and Item 1831X (Dec. 1978, p. 437) or cited therein. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected. For example, as for A) an argon laser light source, JP-A-60-1
No. 62247, JP-A-2-48653, US Pat.
No. 161,331, West German Patent 936,071, Simple Merocyanines described in Japanese Patent Application No. 3-189532,
B) For a helium-neon laser light source, see JP-A-50-62425, JP-A-54-18726, and JP-A-59-62426.
Trinuclear cyanine dyes described in JP-A-102229, merocyanines described in Japanese Patent Application No. 6-103272, C) L
Japanese Patent Publication No. 48 for ED light source and red semiconductor laser
-42172, 51-9609, 55-398.
No. 18, JP-A-62-284343, JP-A-2-10
JP-A-59-1910 for thiacarbocyanines described in 5135 and D) infrared semiconductor laser light source.
No. 32, tricarbocyanines described in JP-A-60-80841, JP-A-59-192242 and JP-A-3-67242, and general formula (IIIa) and general formula (IIIb). -Dicarbocyanines and the like containing a quinoline nucleus are advantageously selected. These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and the combination of sensitizing dyes is often used especially for the purpose of supersensitization. Along with the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are described in Research Disclosure (Resear
ch Disclosure) Volume 176 17643 (December 1978)
(Published monthly), page 23, IV, J.

【0089】具体的には特願平7−191007号に記
載のS1−1〜S1−13、S2−1〜S2−10、S
3−1〜S3−8、S4−1〜S4−9、S5−1〜S
5−20、特願平6−103272号に記載の化合物I
−1〜I−34が挙げられる。
Specifically, S1-1 to S1-13, S2-1 to S2-10, S described in Japanese Patent Application No. 7-191007.
3-1 to S3-8, S4-1 to S4-9, S5-1 to S
5-20, Compound I described in Japanese Patent Application No. 6-103272
-1-I-34 are mentioned.

【0090】本発明に於て膜面pHを6.0未満にする
ためには酸を添加することが好ましい。本発明において
用いられる、膜面pH調製用の酸は、有機酸、無機酸ど
ちらでもかまわないが、クエン酸、フタル酸、クエン酸
エステル、サリチル酸、リン酸などの酸が好ましく、下
塗り層、乳剤層、保護層など、どの層に添加してもかま
わない。本発明における「膜面pH」とは、1cm2 の写
真感光材料の測定面の上に水0.05cc添加し、90%
RH以上の雰囲気下で10分間放置後、塩化銀平型複合
電極を用いて測定した値である。平型電極の具体例とし
ては、東亜電波工業(株)製のpHメーターなどがあ
る。本発明における膜面pHは4.5以上6.0未満で
あるが、特に4.5〜5.8が良好である。
In the present invention, it is preferable to add an acid in order to keep the film surface pH below 6.0. The acid for adjusting the film surface pH used in the present invention may be either an organic acid or an inorganic acid, but an acid such as citric acid, phthalic acid, citric acid ester, salicylic acid or phosphoric acid is preferred, and an undercoat layer, an emulsion It may be added to any layer such as a layer and a protective layer. The "film surface pH" in the present invention means that 0.05 cc of water is added on the measuring surface of a photographic light-sensitive material of 1 cm 2 and 90%.
It is a value measured using a silver chloride flat type composite electrode after being left for 10 minutes in an atmosphere of RH or more. A specific example of the flat electrode is a pH meter manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd. The film surface pH in the present invention is 4.5 or more and less than 6.0, and particularly preferably 4.5 to 5.8.

【0091】本発明に用いられるヒドラジン誘導体につ
いて説明する。本発明には、特願平6−47961号に
記載の一般式(I)の化合物が用いられる。具体的に
は、同明細書に記載のI−1〜I−53で表される化合
物が用いられる。
The hydrazine derivative used in the present invention will be described. In the present invention, the compound of the general formula (I) described in Japanese Patent Application No. 6-47961 is used. Specifically, compounds represented by I-1 to I-53 described in the same specification are used.

【0092】また下記のヒドラジン誘導体も好ましく用
いられる。特公平6−77138号に記載の(化1)で
表される化合物で、具体的には同公報3頁、4頁に記載
の化合物。特公平6−93082号に記載の一般式
(I)で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜1
8頁に記載の1〜38の化合物。特開平6−23049
7号に記載の一般式(4)、一般式(5)および一般式
(6)で表される化合物で、具体的には同公報25頁、
26頁に記載の化合物4−1〜化合物4−10、28頁
〜36頁に記載の化合物5−1〜5−42、および39
頁、40頁に記載の化合物6−1〜化合物6−7。特開
平6−289520号に記載の一般式(1)および一般
式(2)で表される化合物で、具体的には同公報5頁〜
7頁に記載の化合物1−1)〜1−17)および2−
1)。特開平6−313936号に記載の(化2)およ
び(化3)で表される化合物で、具体的には同公報6頁
〜19頁に記載の化合物。特開平6−313951号に
記載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報
3頁〜5頁に記載の化合物。特開平7−5610号に記
載の一般式(I)で表される化合物で、具体的には同公
報5頁〜10頁に記載の化合物I−1〜I−38。特開
平7−77783号に記載の一般式(II)で表される化
合物で、具体的には同公報10頁〜27頁に記載の化合
物II−1〜II−102。特開平7−104426号に記
載の一般式(H)および一般式(Ha)で表される化合
物で、具体的には同公報8頁〜15頁に記載の化合物H
−1〜H−44。
The following hydrazine derivatives are also preferably used. Compounds represented by (Chemical Formula 1) described in JP-B-6-77138, specifically, compounds described on pages 3 and 4 of the same publication. A compound represented by the general formula (I) described in JP-B-6-93082, specifically, pages 8 to 1 of the publication
Compounds 1 to 38 on page 8. JP-A-6-23049
A compound represented by the general formula (4), the general formula (5) or the general formula (6) described in No. 7;
Compounds 4-1 to 4-10 described on page 26, Compounds 5-1 to 5-42 described on pages 28 to 36, and 39
6-1 to 6-7. Compounds represented by the general formula (1) and the general formula (2) described in JP-A-6-289520, specifically, from page 5 of the same publication.
Compounds 1-1) to 1-17) and 2-
1). Compounds represented by (Chemical Formula 2) and (Chemical Formula 3) described in JP-A-6-313936, specifically, compounds described on pages 6 to 19 of the same. Compounds represented by (Chemical Formula 1) described in JP-A-6-313951, specifically, compounds described on pages 3 to 5 of the same. Compounds represented by formula (I) described in JP-A-7-5610, specifically compounds I-1 to I-38 described on pages 5 to 10 of the same; Compounds represented by the general formula (II) described in JP-A-7-77783, specifically, compounds II-1 to II-102 described on pages 10 to 27 of the publication. Compounds represented by formula (H) and formula (Ha) described in JP-A-7-104426, specifically compound H described on pages 8 to 15 of the same;
-1-H-44.

【0093】本発明に特に好ましく用いられるヒドラジ
ン誘導体は、ヒドラジン基の近傍にアニオン性基または
ヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成するノニ
オン性基を有することを特徴とするヒドラジン誘導体、
および一般式(D)で表されるヒドラジン誘導体であ
る。まず、前者について詳細に説明する。
The hydrazine derivative particularly preferably used in the present invention has an anionic group or a nonionic group which forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine in the vicinity of the hydrazine group,
And a hydrazine derivative represented by the general formula (D). First, the former will be described in detail.

【0094】アニオン性基としては具体的には、カルボ
ン酸、スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン酸
およびそれらの塩が挙げられる。ここでヒドラジン基の
近傍とは、ヒドラジンのアニオン性基に近い窒素原子と
アニオン性基の間に、炭素原子、窒素原子、酸素原子お
よび硫黄原子の少なくとも一種から選ばれる原子2〜5
個で形成される結合鎖が介在することを意味する。近傍
としてより好ましくは炭素原子と窒素原子の少なくとも
一種から選ばれる原子2〜5個で形成される結合鎖が介
在する場合であり、さらに好ましくは炭素原子2〜3個
で形成される結合鎖が介在する場合である。ヒドラジン
水素と分子内水素結合を形成するノニオン性基としては
孤立電子対が5ないし7員環でヒドラジン水素と水素結
合を形成する基であり、酸素原子、窒素原子、硫黄原子
またはリン原子の少なくとも一つを有する基である。ノ
ニオン性基としてはアルコキシ基、アミノ基、アルキル
チオ基、カルボニル基、カルバモイル基、アルコキシカ
ルボニル基、ウレタン基、ウレイド基、アシルオキシ
基、アシルアミノ基が挙げられる。これらのうちアニオ
ン性基が好ましく、さらにカルボン酸およびその塩が最
も好ましい。本発明で用いられる造核剤として好ましい
ものは以下に一般式(A)、(B)、(C)で示される
ものである。 一般式(A)
Specific examples of the anionic group include carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphoric acid, phosphonic acid and salts thereof. Here, the vicinity of the hydrazine group means an atom selected from at least one of a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom between a nitrogen atom and an anionic group near the anionic group of hydrazine.
It means that a binding chain formed by the individual is interposed. More preferably, a bond chain formed by 2 to 5 atoms selected from at least one of a carbon atom and a nitrogen atom is present as the vicinity, and a bond chain formed by 2 to 3 carbon atoms is more preferable. It is the case of intervening. The nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with hydrazine hydrogen is a group in which a lone electron pair forms a hydrogen bond with hydrazine hydrogen in a 5- to 7-membered ring, and has at least an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. A group having one. Examples of the nonionic group include an alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, a carbonyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, a urethane group, a ureido group, an acyloxy group and an acylamino group. Of these, anionic groups are preferred, and carboxylic acids and salts thereof are most preferred. Preferred nucleating agents used in the present invention are those represented by the following formulas (A), (B) and (C). General formula (A)

【0095】[0095]

【化38】 Embedded image

【0096】(式中、R1 はアルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表し、L1 は電子吸引基を有する2価
の連結基を表し、Y1 はアニオン性基またはヒドラジン
の水素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を
表す。) 一般式(B)
(Wherein R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, L 1 represents a divalent linking group having an electron-withdrawing group, Y 1 represents an anionic group or a hydrogen atom of hydrazine). Represents a nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond.) General formula (B)

【0097】[0097]

【化39】 Embedded image

【0098】(式中、R2 はアルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表し、L2 は2価の連結基を表し、Y
2 はアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分子内
水素結合を形成するノニオン性基を表す。) 一般式(C)
(In the formula, R 2 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, L 2 represents a divalent linking group, and Y
2 represents an anionic group or a nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine. ) General formula (C)

【0099】[0099]

【化40】 [Chemical 40]

【0100】(式中、X3 はベンゼン環に置換可能な基
を表し、R3 はアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基またはアミ
ノ基を表し、Y3 はアニオン性基またはヒドラジンの水
素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を表
す。m3 は0から4の整数でありn3 は1または2であ
る。n3 が1のときR3 は電子吸引性基を有する。)
(Wherein X 3 represents a group capable of substituting on a benzene ring, R 3 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group or an amino group, and Y 3 represents An anionic group or a nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine, m 3 is an integer of 0 to 4, n 3 is 1 or 2. When n 3 is 1, R 3 is It has an electron-withdrawing group.)

【0101】一般式(A)、(B)、(C)に関しさら
に詳細に説明する。R1 、R2 のアルキル基としては炭
素数1〜16、好ましくは炭素数1〜12の直鎖、分岐
鎖または環状のアルキル基であり、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、t−ブチル、アリル、プ
ロパルギル、2−ブテニル、2−ヒドロキシエチル、ベ
ンジル、ベンズヒドリル、トリチル、4−メチルベンジ
ル、2−メトキシエチル、シクロペンチル、2−アセト
アミドエチルである。
The general formulas (A), (B) and (C) will be described in more detail. The alkyl group of R 1 and R 2 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, t-butyl, Allyl, propargyl, 2-butenyl, 2-hydroxyethyl, benzyl, benzhydryl, trityl, 4-methylbenzyl, 2-methoxyethyl, cyclopentyl, 2-acetamidoethyl.

【0102】アリール基としては炭素数6〜24、好ま
しくは炭素数6〜12のアリール基で例えば、フェニ
ル、ナフチル、p−アルコキシフェニル、p−スルホン
アミドフェニル、p−ウレイドフェニル、p−アミドフ
ェニルである。ヘテロ環基としては炭素数1〜5の酸素
原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含む5員
または6員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環
を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つでも複
数であっても良く、例えば、2−フリル、2−チエニ
ル、4−ピリジルである。
The aryl group is an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, preferably 6 to 12 carbon atoms, for example, phenyl, naphthyl, p-alkoxyphenyl, p-sulfonamidophenyl, p-ureidophenyl, p-amidophenyl. Is. The heterocyclic group is a 5-membered or 6-membered saturated or unsaturated heterocycle containing at least one oxygen atom, nitrogen atom, or sulfur atom having 1 to 5 carbon atoms, and the number of heteroatoms constituting the ring. The type of the element may be one or plural, and examples thereof include 2-furyl, 2-thienyl, and 4-pyridyl.

【0103】R1 、R2 として好ましくはアリール基、
芳香族ヘテロ環基またはアリール置換メチル基であり、
更に好ましくはアリール基(例えばフェニル、ナフチ
ル)である。R1 、R2 は置換基で置換されていてもよ
く、置換基としては例えばアルキル基、アラルキル基、
アルコキシ基、アルキルまたはアリール置換アミノ基、
アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン
基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイ
ル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、リンサ
ンアミド基である。これらの基は更に置換されていても
よい。これらのうちスルホンアミド基、ウレイド基、ア
ミド基、アルコキシ基、ウレタン基が好ましく、スルホ
ンアミド基、ウレイド基が更に好ましい。これらの基は
可能なときは互いに連結して環を形成してもよい。
An aryl group is preferred as R 1 and R 2 .
An aromatic heterocyclic group or an aryl-substituted methyl group,
More preferably, it is an aryl group (eg phenyl, naphthyl). R 1 and R 2 may be substituted with a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, an aralkyl group,
An alkoxy group, an alkyl- or aryl-substituted amino group,
Amide group, sulfonamide group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, aryl group, alkylthio group, arylthio group,
A sulfonyl group, a sulfinyl group, a hydroxy group, a halogen atom, a cyano group, a sulfo group, a carboxyl group, and a phosphorus amide group. These groups may be further substituted. Of these, a sulfonamide group, a ureido group, an amide group, an alkoxy group, and a urethane group are preferable, and a sulfonamide group and a ureido group are more preferable. When possible, these groups may be linked to each other to form a ring.

【0104】R3 のアルキル基、アリール基、ヘテロ環
基はR1 で述べたものが挙げられる。アルケニル基とし
ては炭素数2〜18好ましくは2〜10のもので、例え
ばビニル、2−スチリルである。アルキニル基としては
炭素数2〜18好ましくは2〜10のもので、例えばエ
チニル、フェニルエチニルである。アルコキシ基として
は炭素数1ないし16、好ましくは炭素数1ないし10
の直鎖、分岐鎖または環状のアルコキシ基であり、例え
ばメトキシ、イソプロポキシ、ベンジルオキシである。
アミノ基としては炭素数0〜16、好ましくは炭素数1
〜10のもので、エチルアミノ、ベンジルアミノ、フェ
ニルアミノである。n3 =1のときR3としてはアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基が好ましい。n3
2のときR3 としてはアミノ基、アルコキシ基が好まし
い。
[0104] alkyl groups R 3, aryl group, heterocyclic group include those described in R 1. The alkenyl group has 2 to 18 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, such as vinyl and 2-styryl. The alkynyl group has 2 to 18 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include ethynyl and phenylethynyl. The alkoxy group has 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms.
Linear, branched or cyclic alkoxy group such as methoxy, isopropoxy and benzyloxy.
The amino group has 0 to 16 carbon atoms, preferably 1 carbon atom.
-10, and are ethylamino, benzylamino and phenylamino. When n 3 = 1, R 3 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. n 3 =
In the case of 2, R 3 is preferably an amino group or an alkoxy group.

【0105】R3 の有する電子吸引性基としては、ハメ
ットのσm の値が0.2以上のもの、好ましくは0.3
以上のもので、例えばハロゲン原子(フッ素、塩素、臭
素)、シアノ基、スルホニル基(メタンスルホニル、ベ
ンゼンスルホニル)、スルフィニル基(メタンスルフィ
ニル)、アシル基(アセチル、ベンゾイル)、オキシカ
ルボニル基(メトキシカルボニル)、カルバモイル基
(N−メチルカルバモイル)、スルファモイル基(メチ
ルスルファモイル)、ハロゲン置換アルキル基(トリフ
ルオロメチル)、ヘテロ環基(2−ベンズオキサゾリ
ル、ピロロ)、4級オニウム基(トリフェニルホスホニ
ウム、トリアルキルアンモニウム、ピリジニウム)が挙
げられる。電子吸引基を有するR3 としては、例えばト
リフルオロメチル、ジフルオロメチル、ペンタフルオロ
エチル、シアノメチル、メタンスルホニルメチル、アセ
チルエチル、トリフルオロメチルエチニル、エトキシカ
ルボニルメチルが挙げられる。
The electron-withdrawing group of R 3 has a Hammett σ m value of 0.2 or more, preferably 0.3.
As described above, for example, a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine), a cyano group, a sulfonyl group (methanesulfonyl, benzenesulfonyl), a sulfinyl group (methanesulfinyl), an acyl group (acetyl, benzoyl), an oxycarbonyl group (methoxycarbonyl) ), Carbamoyl group (N-methylcarbamoyl), sulfamoyl group (methylsulfamoyl), halogen-substituted alkyl group (trifluoromethyl), heterocyclic group (2-benzoxazolyl, pyrrolo), quaternary onium group (tri Phenylphosphonium, trialkylammonium, pyridinium). Examples of R 3 having an electron-withdrawing group include trifluoromethyl, difluoromethyl, pentafluoroethyl, cyanomethyl, methanesulfonylmethyl, acetylethyl, trifluoromethylethynyl and ethoxycarbonylmethyl.

【0106】L1 、L2 は2価の連結基を表し、アルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、二価のヘテロ環基およびそれらを−O−、−S−、
−NH−、−CO−、−SO2 −等の単独または組み合
わせからなる基で連結したものである。L1 、L2 はR
1 の置換基として述べた基で置換されていてもよい。ア
ルキレン基としては、例えばメチレン、エチレン、トリ
メチレン、プロピレン、2−ブテン−1,4−イル、2
−ブチン−1,4−イルである。アルケニレン基として
は、例えばビニレンである。アルキニレン基としてはエ
チニレンである。アリーレン基としては、例えばフェニ
レンである。二価のヘテロ環基としては、例えばフラン
−1,4−ジイルである。L1 としてはアルキレン基、
アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基が好ま
しく、アルキレン基がより好ましい。さらに鎖長が炭素
数2〜3のアルキレン基が最も好ましい。L2 としては
アルキレン基、アリーレン基、−NH−アルキレン−、
−O−アルキレン−、−NH−アリーレン−が好まし
く、−NH−アルキレン−、−O−アルキレン−がより
好ましい。
L 1 and L 2 each represent a divalent linking group, and include an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group, and -O-, -S-,
It is a group in which groups such as —NH—, —CO—, and —SO 2 — are used alone or in combination. L 1 and L 2 are R
It may be substituted with the group described as the substituent of 1 . Examples of the alkylene group include methylene, ethylene, trimethylene, propylene, 2-butene-1,4-yl, 2
-Butyn-1,4-yl. The alkenylene group is, for example, vinylene. The alkynylene group is ethynylene. The arylene group is, for example, phenylene. The divalent heterocyclic group is, for example, furan-1,4-diyl. L 1 is an alkylene group,
An alkenylene group, an alkynylene group and an arylene group are preferable, and an alkylene group is more preferable. Further, an alkylene group having a chain length of 2 to 3 carbon atoms is most preferable. L 2 is an alkylene group, an arylene group, —NH-alkylene-,
-O-alkylene- and -NH-arylene- are preferable, and -NH-alkylene- and -O-alkylene- are more preferable.

【0107】L1 の有する電子吸引性基としては、R3
の有する電子吸引性基として述べたものが挙げられる。
1 として例えばテトラフルオロエチレン、フルオロメ
チレン、ヘキサフルオロトリメチレン、パーフルオロフ
ェニレン、ジフルオロビニレン、シアノメチレン、メタ
ンスルホニルエチレンが挙げられる。
Examples of the electron-withdrawing group possessed by L 1 include R 3
Examples of the electron-withdrawing group of the above include.
Examples of L 1 include tetrafluoroethylene, fluoromethylene, hexafluorotrimethylene, perfluorophenylene, difluorovinylene, cyanomethylene, and methanesulfonylethylene.

【0108】Y1 ないしY3 としてはすでに述べたもの
であり、アニオン性基または孤立電子対が5ないし7員
環でヒドラジン水素と水素結合を形成するノニオン性基
である。さらに具体的には、アニオン性基としてはカル
ボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン
酸およびそれらの塩が挙げられる。塩としてはアルカリ
金属イオン(ナトリウム、カリウム)、アルカリ土類金
属イオン(カルシウム、マグネシウム)、アンモニウム
(アンモニウム、トリエチルアンモニウム、テトラブチ
ルアンモニウム、ピリジニウム)、ホスホニウム(テト
ラフェニルホスホニウム)が挙げられる。ノニオン性基
としては酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはリン原子
の少なくとも一つを有する基で、アルコキシ基、アミノ
基、アルキルチオ基、カルボニル基、カルバモイル基、
アルコキシカルボニル基、ウレタン基、ウレイド基、ア
シルオキシ基、アシルアミノ基が挙げられる。Y1 ない
しY3 としてはアニオン性基が好ましく、カルボン酸お
よびその塩がさらに好ましい。
Y 1 to Y 3 are as described above, and are anionic groups or nonionic groups in which a lone pair of electrons forms a hydrogen bond with hydrazine hydrogen in a 5- to 7-membered ring. More specifically, examples of the anionic group include carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphoric acid, phosphonic acid, and salts thereof. Examples of the salt include alkali metal ions (sodium and potassium), alkaline earth metal ions (calcium and magnesium), ammonium (ammonium, triethylammonium, tetrabutylammonium, pyridinium) and phosphonium (tetraphenylphosphonium). As the nonionic group, an oxygen atom, a nitrogen atom, a group having at least one of a sulfur atom and a phosphorus atom, an alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, a carbonyl group, a carbamoyl group,
Examples thereof include an alkoxycarbonyl group, a urethane group, a ureido group, an acyloxy group and an acylamino group. Y 1 to Y 3 are preferably anionic groups, and more preferably carboxylic acids and salts thereof.

【0109】X3 のベンゼン環に置換可能な基およびそ
の好ましいものは、一般式(A)のR1 が有する置換基
として述べたものが挙げられる。m3 が2以上の時それ
ぞれは同じでも異なっていてもよい。
Examples of the group capable of substituting on the benzene ring of X 3 and its preferable groups include those mentioned as the substituents contained in R 1 of the general formula (A). When m 3 is 2 or more, they may be the same or different.

【0110】R1 ないしR3 、またはX3 は写真用カプ
ラーで用いられる耐拡散基を有してもよいし、ハロゲン
化銀への吸着促進基を有してもよい。耐拡散基としては
炭素数8以上30以下のもので、炭素数12以上25以
下のものが好ましい。ハロゲン化銀への吸着促進基とし
ては、好ましくはチオアミド類(例えばチオウレタン、
チオウレイド、チオアミド)、メルカプト類(例えば5
−メルカプトテトラゾール、3−メルカプト−1,2,
4−トリアゾール、2−メルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール、2−メルカプト−1,3,4−オキサジア
ゾール等のヘテロ環メルカプト、アルキルメルカプト、
アリールメルカプト)およびイミノ銀を生成する5ない
し6員の含窒素ヘテロ環(例えばベンゾトリアゾール)
である。ハロゲン化銀吸着促進基を有するものとして
は、吸着基が保護されており現像処理時に保護基が除去
されてハロゲン化銀への吸着性が高まる構造のものも含
まれる。
R 1 to R 3 or X 3 may have a diffusion resistant group used in a photographic coupler, or may have an adsorption promoting group to silver halide. The diffusion-resistant group has 8 to 30 carbon atoms, and preferably has 12 to 25 carbon atoms. As the adsorption-promoting group for silver halide, thioamides (eg, thiourethane,
Thioureido, thioamide), mercaptos (eg 5
-Mercaptotetrazole, 3-mercapto-1,2,2
Heterocyclic mercapto such as 4-triazole, 2-mercapto-1,3,4-thiadiazole, and 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole, alkylmercapto,
Aryl mercapto) and a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle (eg benzotriazole) which produces silver imino
It is. Examples of those having a silver halide adsorption promoting group include those having a structure in which the adsorptive group is protected and the protective group is removed at the time of development to increase the adsorptivity to silver halide.

【0111】一般式(A)、(B)、(C)において、
それぞれ二つの化合物の水素原子が除去されたラジカル
どうしが結合してビス型を形成してもよい。一般式
(A)、(B)、(C)において、一般式(A)および
(B)が好ましく、一般式(A)がより好ましい。さら
に一般式(A)、(B)、(C)において以下に示す一
般式(D)、(E)、(F)がより好ましく、一般式
(D)が最も好ましい。 一般式(D)
In the general formulas (A), (B) and (C),
The radicals from which the hydrogen atoms of the two compounds are removed may combine with each other to form a bis type. In the general formulas (A), (B), and (C), the general formulas (A) and (B) are preferable, and the general formula (A) is more preferable. Further, in the general formulas (A), (B) and (C), the following general formulas (D), (E) and (F) are more preferable, and the general formula (D) is most preferable. General formula (D)

【0112】[0112]

【化41】 Embedded image

【0113】(式中、R4 、X4 、m4 はそれぞれ一般
式(C)のR3 、X3 、m3 と同義であり、L4 、Y4
は一般式(A)のL1 、Y1 と同義である。) 一般式(E)
(In the formula, R 4 , X 4 and m 4 are respectively synonymous with R 3 , X 3 and m 3 of the general formula (C), and L 4 , Y 4 and
Is synonymous with L 1 and Y 1 of the general formula (A). ) General formula (E)

【0114】[0114]

【化42】 Embedded image

【0115】(式中、R5 、X5 、m5 はそれぞれ一般
式(C)のR3 、X3 、m3 と同義であり、L5 、Y5
は一般式(B)のL2 、Y2 と同義である。) 一般式(F)
(In the formula, R 5 , X 5 and m 5 have the same meanings as R 3 , X 3 and m 3 in formula (C), respectively, and L 5 , Y 5 and
Is synonymous with L 2 and Y 2 in the general formula (B). ) General formula (F)

【0116】[0116]

【化43】 Embedded image

【0117】(式中、R61、R62、X6 、m6 、n6
Yは一般式(C)のR3 、R3 、X3 、m3 、n3 、Y
3 と同義である。)
(Wherein R 61 , R 62 , X 6 , m 6 , n 6 ,
Y is R 3 , R 3 , X 3 , m 3 , n 3 or Y in the general formula (C).
Synonymous with 3 . )

【0118】以下に本発明で用いられる造核剤の具体例
を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the nucleating agent used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0119】[0119]

【化44】 Embedded image

【0120】[0120]

【化45】 Embedded image

【0121】[0121]

【化46】 Embedded image

【0122】[0122]

【化47】 Embedded image

【0123】[0123]

【化48】 Embedded image

【0124】[0124]

【化49】 Embedded image

【0125】次に、一般式(D)で表されるヒドラジン
誘導体について詳細に説明する。 一般式(D)
Next, the hydrazine derivative represented by the general formula (D) will be described in detail. General formula (D)

【0126】[0126]

【化50】 Embedded image

【0127】式中、R0 は、ジフルオロメチル基または
モノフルオロメチル基を表し、A0は芳香族基を表す。
但し、A0 の有する置換基の少なくとも一つは、耐拡散
基、ハロゲン化銀への吸着促進基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、ヘテロ環チオ基、4級アンモニウム基、
4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基、エチレ
ンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を含むアルコキ
シ基、またはスルフィド結合もしくはジスルフィド結合
を含む飽和ヘテロ環基であるか、またはこれらの基の少
なくとも一つを含む置換基である。
In the formula, R 0 represents a difluoromethyl group or a monofluoromethyl group, and A 0 represents an aromatic group.
However, at least one of the substituents possessed by A 0 is a diffusion resistant group, a silver halide adsorption promoting group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, a quaternary ammonium group,
A nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, an alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, or a saturated heterocyclic group containing a sulfide bond or a disulfide bond, or at least one of these groups It is a substituent containing.

【0128】一般式(D)で表される化合物のうち、好
ましいものは次の一般式(1−a)で表される。 一般式(1−a)
Among the compounds represented by the general formula (D), preferred compounds are represented by the following general formula (1-a). General formula (1-a)

【0129】[0129]

【化51】 [Chemical 51]

【0130】式中R1 はジフルオロメチル基もしくはモ
ノフルオロメチル基を表し、A1 は2価の芳香族基を表
し、R2 およびR3は2価の脂肪族基または芳香族基を
表し、L1 およびL2 は2価の連結基を表し、m2 およ
びm3 はそれぞれ独立に0または1を表す。X1 は耐拡
散性基、ハロゲン化銀への吸着促進基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、4級アンモニウ
ム基、4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基、
エチレンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を含むア
ルコキシ基、またはスルフィド結合もしくはジスルフィ
ド結合を含む飽和ヘテロ環基を表す。
In the formula, R1 represents a difluoromethyl group or a monofluoromethyl group, A1 represents a divalent aromatic group, R2 and R3 represent a divalent aliphatic group or an aromatic group, and L1 and L2 are It represents a divalent linking group, and m2 and m3 each independently represent 0 or 1. X1 is a diffusion-resistant group, a group promoting adsorption to silver halide, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, a quaternary ammonium group, a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom,
It represents an alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, or a saturated heterocyclic group containing a sulfide bond or a disulfide bond.

【0131】一般式(1−a)で表される化合物のう
ち、好ましいものは次の一般式(1−b)で表される。 一般式(1−b)
Among the compounds represented by the general formula (1-a), preferred compounds are represented by the following general formula (1-b). General formula (1-b)

【0132】[0132]

【化52】 Embedded image

【0133】式中X11、R11、R21、R31、L21、m21
およびm31は、それぞれ一般式(1−a)に於けるX1
、R1 、R2 、R3 、L2 、m2 およびm3 と同義の
基であり、Yは置換基を表し、nは0から4の整数を表
す。次に一般式(D)で表される化合物について、詳し
く説明する。一般式(D)に於いてA0 で表される芳香
族基とは、単環もしくは2環のアリール基、および芳香
族ヘテロ環基である。具体的にはベンゼン環、ナフタレ
ン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ピロ
ール環、フラン環、チオフェン環、チアゾール環、イン
ドール環等が挙げられる。A0 として好ましくは、ベン
ゼン環を含むものであり、特に好ましくはベンゼン環で
ある。A0 は置換基で置換されていてもよく、置換基と
しては例えばアルキル基、アラルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アシ
ルオキシ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモ
イル基、N−スルホニルカルバモイル基、カルボキシル
基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド
基、ウレイド基、ウレタン基、スルホニルウレイド基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スル
ファモイル基、アシルスルファモイル基、カルバモイル
スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原
子、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ス
ルファモイルアミノ基、オキサモイルアミノ基等が挙げ
られる。これらの基はさらに置換されていてもよい。こ
れらのうち、スルホンアミド基、ウレイド基、アシルア
ミノ基、カルバモイル基、アルコキシ基、置換アミノ
基、アルキル基、オキシカルボニル基が好ましく、スル
ホンアミド基、ウレイド基が特に好ましい。次にA0
置換基が有すべき、特定の基について詳しく説明する。
耐拡散性基とは、写真用のカプラー等に於ける耐拡散性
基、いわゆるバラスト基を意味するもので、本発明の化
合物が特定のハロゲン化銀乳剤層中に添加される際、こ
のものが容易に他の層へ拡散するのを防止しうる基、も
しくは現像時に現像液に容易に溶出するのを防止する基
のことである。具体的には総炭素原子数8以上の、好ま
しくは総炭素原子数8〜16の基の事で、バラスト基と
して好ましくは、総炭素原子数8以上のアルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、オキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、カルボニルオキシ基、ウレイド基、スルフ
ァモイル基、およびこれらの組み合わせからなる基が挙
げられる。A0 がバラスト基を有するとき、バラスト基
を含めたA0 の総炭素原子数は、14以上である。
In the formula, X11, R11, R21, R31, L21, m21
And m31 are each X1 in the general formula (1-a).
, R1, R2, R3, L2, m2 and m3 have the same meanings, Y represents a substituent and n represents an integer of 0 to 4. Next, the compound represented by formula (D) will be described in detail. The aromatic group represented by A 0 in the general formula (D) is a monocyclic or bicyclic aryl group and an aromatic heterocyclic group. Specific examples include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a pyrrole ring, a furan ring, a thiophene ring, a thiazole ring and an indole ring. A 0 preferably contains a benzene ring, and particularly preferably a benzene ring. A 0 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group,
Alkoxy, aryloxy, hydroxy, acyloxy, acyl, oxycarbonyl, carbamoyl, N-sulfonylcarbamoyl, carboxyl, substituted amino, acylamino, sulfonamide, ureido, urethane, sulfonyl Ureido group,
Alkylthio, arylthio, sulfonyl, sulfamoyl, acylsulfamoyl, carbamoylsulfamoyl, sulfo, cyano, halogen, phosphinyloxy, phosphinylamino, sulfamoylamino And an oxamoylamino group. These groups may be further substituted. Among these, a sulfonamide group, a ureido group, an acylamino group, a carbamoyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, an alkyl group, and an oxycarbonyl group are preferred, and a sulfonamide group and a ureido group are particularly preferred. Next, the specific group which the substituent of A 0 should have is described in detail.
The diffusion resistant group means a diffusion resistant group in a photographic coupler or the like, a so-called ballast group, which is used when the compound of the present invention is added to a specific silver halide emulsion layer. Is a group that can easily prevent diffusion to other layers, or a group that can be prevented from being easily eluted in a developing solution during development. Specifically, it is a group having 8 or more total carbon atoms, preferably 8 to 16 total carbon atoms. As the ballast group, preferably, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryl group having 8 or more total carbon atoms is used. Examples include an oxy group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, a carbonyloxy group, a ureido group, a sulfamoyl group, and a combination thereof. When A 0 has a ballast group, the total number of carbon atoms of A 0 including the ballast group is 14 or more.

【0134】ハロゲン化銀への吸着促進基として好まし
くは、チオアミド基、メルカプト基、ジスルフィド結合
を有する基または5ないし6員の含窒素ヘテロ環基があ
げられる。チオアミド吸着促進基としては、−CS−ア
ミノ−で表される二価の基であり、環構造の一部であっ
てもよいし、また非環式チオアミド基であってもよい。
有用なチオアミド吸着促進基は、例えば米国特許4,0
30,925号、同4,031,127号、同4,08
0,207号、同4,245,037号、同4,25
5,511号、同4,266,013号、及び同4,2
76,364号、ならびに「リサーチ・ディスクロージ
ャー」(Research Disclosure) 誌第151巻 No. 1
5162(1976年11月)、及び同第176巻 N
o. 17626(1978年12月)に開示されている
ものから選ぶことができる。
The adsorption promoting group to silver halide is preferably a thioamide group, a mercapto group, a group having a disulfide bond or a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group. The thioamide adsorption promoting group is a divalent group represented by -CS-amino- and may be a part of the ring structure or may be an acyclic thioamide group.
Useful thioamide adsorption promoting groups are described, for example, in US Pat.
30,925, 4,031,127, 4,08
Nos. 0,207, 4,245,037, 4,25
Nos. 5,511, 4,266,013 and 4,2
76, 364, and "Research Disclosure," Vol. 151, No. 1.
5162 (November 1976), and Vol. 176, N
o. 17626 (December 1978).

【0135】非環式チオアミド基の具体例としては、例
えばチオウレイド基、チオウレタン基、ジチオカルバミ
ン酸エステル基など、また環状のチオアミド基の具体例
としては、例えば4−チアゾリン−2−チオン、4−イ
ミダゾリン−2−チオン、2−チオヒダントイン、ロー
ダニン、チオバルビツール酸、テトラゾリン−5−チオ
ン、1,2,4−トリアゾリン−3−チオン、1,3,
4−チアジアゾリン−2−チオン、1,3,4−オキサ
ジアゾリン−2−チオン、ベンズイミダゾリン−2−チ
オン、ベンズオキサゾリン−2−チオン及びベンゾチア
ゾリン−2−チオンなどが挙げられ、これらは更に置換
されていてもよい。メルカプト基としては脂肪族メルカ
プト基、芳香族メルカプト基やヘテロ環メルカプト基
(−SH基が結合した炭素原子の隣りが窒素原子の場合
は、これと互変異性体の関係にある環状チオアミド基と
同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同じ
である)が挙げられる。
Specific examples of the acyclic thioamide group are, for example, thioureido group, thiourethane group, dithiocarbamic acid ester group and the like, and specific examples of the cyclic thioamide group are, for example, 4-thiazoline-2-thione and 4-thiazoline-2-thione group. Imidazoline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine, thiobarbituric acid, tetrazoline-5-thione, 1,2,4-triazoline-3-thione, 1,3.
4-thiadiazoline-2-thione, 1,3,4-oxadiazoline-2-thione, benzimidazoline-2-thione, benzoxazoline-2-thione, benzothiazoline-2-thione and the like can be mentioned. It may be substituted. As the mercapto group, an aliphatic mercapto group, an aromatic mercapto group or a heterocyclic mercapto group (when the carbon atom to which the —SH group is bonded is a nitrogen atom next to it, a cyclic thioamide group having a tautomer relationship with Are synonymous, and specific examples of this group are the same as those listed above).

【0136】5員ないし6員の含窒素ヘテロ環基として
は、窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員な
いし6員の含窒素ヘテロ環があげられる。これらのう
ち、好ましいものとしては、ベンゾトリアゾール、トリ
アゾール、テトラゾール、インダゾール、ベンズイミダ
ゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾー
ル、ベンゾオキサゾール、オキサゾール、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、トリアジンなどがあげられる。
これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。
吸着促進基として好ましいものは環状のチオアミド基
(すなわちメルカプト置換含窒素ヘテロ環で、例えば2
−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプト−1,
2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール
基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール
基、2−メルカプトベンズオキサゾール基など)、又は
イミノ銀を形成する含窒素ヘテロ環基(例えば、ベンゾ
トリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール
基など)の場合である。なお本発明において吸着促進基
には、その前駆体も含まれる。前駆体とは、現像時に現
像液によってはじめて吸着促進基が放出される、プレカ
ーサー基のついた吸着促進基のことで、現像液中の水酸
イオン、亜硫酸イオンによって、或いは現像主薬との反
応をひきがねとして分解される。具体的には、カルバモ
イル基、1,3,3a,7−テトラザインデン−4−イ
ル基、ウラシル基、アルコキシカルボニル基、あるい
は、4位がウレイド基、スルホンアミド基、アミド基で
置換された4−置換−2,5−ジヒドロキシフェニル基
等があげられる。
Examples of the 5- to 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group include 5- to 6-membered nitrogen-containing heterocycles consisting of a combination of nitrogen, oxygen, sulfur and carbon. Among these, preferred are benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benzimidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, benzoxazole, oxazole, thiadiazole, oxadiazole, triazine and the like.
These may be further substituted with a suitable substituent.
Preferred as the adsorption promoting group is a cyclic thioamide group (that is, a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocycle, for example, 2
-Mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,
2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, etc.), or a nitrogen-containing heterocyclic group forming iminosilver (for example, , A benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.). In the present invention, the adsorption promoting group includes its precursor. The precursor is an adsorption promoting group with a precursor group, which is released by the developing solution for the first time during development, and reacts with hydroxide ion or sulfite ion in the developing solution or with a developing agent. It is disassembled as a scratch. Specifically, a carbamoyl group, a 1,3,3a, 7-tetrazainden-4-yl group, a uracil group, an alkoxycarbonyl group, or the 4-position is substituted with an ureido group, a sulfonamide group, or an amide group. 4-substituted-2,5-dihydroxyphenyl group and the like can be mentioned.

【0137】アルキルチオ基とは置換もしくは無置換
の、分岐、環状もしくは直鎖の、総炭素原子数1〜18
のアルキルチオ基で、その置換基として、好ましくは、
アリール基、アルコキシ基(エチレンオキシもしくはプ
ロピレンオキシ単位をくり返し含むアルコキシ基を含
む。)、カルボキシル基、カルボニルオキシ基、オキシ
カルボニル基、アシルアミノ基、4級アンモニウム基、
アルキルチオ基、ヘテロ環基、スルホンアミド基、ウレ
イド基等が挙げられる。アルキルチオ基の具体例として
は、以下の基が挙げられる。
The alkylthio group is a substituted or unsubstituted, branched, cyclic or linear chain having 1 to 18 total carbon atoms.
The alkylthio group of is preferably a substituent thereof,
An aryl group, an alkoxy group (including an alkoxy group containing repeating ethyleneoxy or propyleneoxy units), a carboxyl group, a carbonyloxy group, an oxycarbonyl group, an acylamino group, a quaternary ammonium group,
Examples thereof include an alkylthio group, a heterocyclic group, a sulfonamide group, and a ureido group. Specific examples of the alkylthio group include the following groups.

【0138】[0138]

【化53】 Embedded image

【0139】アリールチオ基とは、置換もしくは無置換
の、総炭素原子数6〜18のアリールチオ基で、置換基
としては一般式(D)のA0 が有していてもよい置換基
について説明したのと同じものが挙げられる。アリール
チオ基として好ましくは、置換もしくは無置換のフェニ
ルチオ基であり、具体的には、フェニルチオ基、4−τ
−ブチルフェニルチオ基、4−ドデシルフェニルチオ基
等である。
The arylthio group is a substituted or unsubstituted arylthio group having a total of 6 to 18 carbon atoms, and as the substituent, the substituent which A 0 of the general formula (D) may have is explained. The same thing as is mentioned. The arylthio group is preferably a substituted or unsubstituted phenylthio group, specifically, a phenylthio group and 4-τ.
-Butylphenylthio group, 4-dodecylphenylthio group and the like.

【0140】ヘテロ環チオ基とは、置換もしくは無置換
の、総炭素原子数1〜18の、飽和もしくは不飽和のヘ
テロ環チオ基で、酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原
子を1個以上含む5員または6員の単環のヘテロ環、ま
たは縮合ヘテロ環である。具体的には、ベンゾチアゾリ
ルチオ基、1−フェニル−5−テトラゾリルチオ基、2
−メルカプトチアジアゾリル−4−チオ基、ピリジル−
2−チオ基、等が挙げられる。
The heterocyclic thio group is a substituted or unsubstituted, saturated or unsaturated heterocyclic thio group having 1 to 18 carbon atoms and contains at least one oxygen atom, nitrogen atom, or sulfur atom. It is a 5- or 6-membered monocyclic heterocycle or a condensed heterocycle. Specifically, a benzothiazolylthio group, a 1-phenyl-5-tetrazolylthio group, 2
-Mercaptothiadiazolyl-4-thio group, pyridyl-
2-thio group and the like can be mentioned.

【0141】4級アンモニウム基とは、4級の脂肪族ア
ンモニウムカチオンまたは4級の芳香族アンモニウムカ
チオンと、これらの対アニオンを表わす。環状の4級ア
ンモニウム基であってもよく、また4級アンモニウムカ
チオンの総炭素数は3〜24が好ましい。対アニオンと
しては、具体的にはクロルアニオン、ブロモアニオン、
ヨードアニオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニ
オン等が、あげられるが、一般式(D)で表わされる化
合物が、スルホ基又はカルボキシル基等を有する場合分
子内塩を形成してもよい。
The quaternary ammonium group represents a quaternary aliphatic ammonium cation or a quaternary aromatic ammonium cation, and their counter anions. It may be a cyclic quaternary ammonium group, and the total carbon number of the quaternary ammonium cation is preferably 3 to 24. As the counter anion, specifically, chloro anion, bromo anion,
Examples thereof include iodo anion, sulfonate anion, and carboxylate anion. When the compound represented by the general formula (D) has a sulfo group, a carboxyl group, or the like, an inner salt may be formed.

【0142】Xが4級化された窒素原子を含む含窒素ヘ
テロ環基を表わす時、具体的には、ピリジニウム基、キ
ノリニウム基、イソキノリニウム基、フェナンスリニウ
ム基、トリアゾリニウム基、イミダゾリニウム基、ベン
ゾチアゾリニウム基、が挙げられる。これらの基はさら
に置換基によって置換されていてもよいが、置換基とし
て好ましくは、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アルキルカルバモイル基、アミノ基、アンモニウム
基、ヘテロ環基が挙げられる。
When X represents a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, specific examples thereof include pyridinium group, quinolinium group, isoquinolinium group, phenanthrinium group, triazolinium group and imidazoli group. And a benzothiazolinium group. These groups may be further substituted with a substituent, but the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkylcarbamoyl group, an amino group, an ammonium group or a heterocyclic group.

【0143】エチレンオキシもしくはプロピレンオキシ
単位を含むアルコキシ基とは、具体的に、R4-O-(CH2CH2
O)p - 、R4-O−{CH2CH(CH3)O }p −、またはR4-O−
{CH2CH(OH)CH2O }p − 等で表わされるアルコキシ基
である。ただしここでpは1以上の整数を表わし、R4
は脂肪族基または芳香族基を表わす。R4 は好ましくは
炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリー
ル基である。具体的には、CH3O(CH2CH2O)3−、 C6H13O
(CH2CH2O)2 −、 C4H9O−(CH2CH2CH2O)2 −、C8H17OCH2
CH(OH)CH2O −、 C12H25O−{CH2CH(CH3)O }2 −、C2H
5O(CH2CH2O)6 −、等の基が挙げられる。
The alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit is specifically R 4 -O- (CH 2 CH 2
O) p- , R 4 -O- {CH 2 CH (CH 3 ) O} p- or R 4 -O-
It is an alkoxy group represented by {CH 2 CH (OH) CH 2 O} p − or the like. Here, p represents an integer of 1 or more, and R 4
Represents an aliphatic group or an aromatic group. R 4 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Specifically, CH 3 O (CH 2 CH 2 O) 3 −, C 6 H 13 O
(CH 2 CH 2 O) 2 −, C 4 H 9 O− (CH 2 CH 2 CH 2 O) 2 −, C 8 H 17 OCH 2
CH (OH) CH 2 O - , C 12 H 25 O- {CH 2 CH (CH 3) O} 2 -, C 2 H
5 O (CH 2 CH 2 O) 6- , and the like.

【0144】スルフィド結合もしくはジスルフィド結合
を含む飽和ヘテロ環基とは、具体的に、−S−、−S−
S−結合を含む、5員もしくは6員の飽和ヘテロ環を表
わし、好ましくは下記に示した基である。
The saturated heterocyclic group containing a sulfide bond or a disulfide bond is specifically -S- or -S-.
It represents a 5- or 6-membered saturated heterocycle containing an S-bond and is preferably a group shown below.

【0145】[0145]

【化54】 Embedded image

【0146】次に一般式(1−a)で表される化合物に
ついて説明する。一般式(1−a)においてA1 は2価
の芳香族基を表すが、これは一般式(1−a)に於いて
0 の有すべき置換基をより限定した以外は、一般式
(D)のA0 とほぼ同義の基であり、その好ましい範囲
もまた同じである。すなわち、一般式(1−a)におい
てA1 で表わされる2価の芳香族基として好ましくは、
単環のアリーレン基であり、さらに好ましくはフェニレ
ン基である。A1 がフェニレン基を表わすとき、これは
置換基を有していてもよい。フェニレン基が有する置換
基としては、一般式(D)のA0 の置換基について述べ
たものが挙げられるが、好ましくは、アルキル基、アル
コキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、
ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基等であり、こ
れらの基の総炭素原子数は1〜12、特に好ましくは1
〜8である。A1 がフェニレン基を表わすとき、特に好
ましくはA1 が無置換のフェニレン基を表わすときであ
る。
Next, the compound represented by formula (1-a) will be described. In A 1 is formula (1-a) represents a divalent aromatic group, which except where more limited Yu to be substituents of A 0 In formula (1-a), general formula It is a group having substantially the same meaning as A 0 in (D), and its preferred range is also the same. That is, the divalent aromatic group represented by A 1 in the general formula (1-a) is preferably
It is a monocyclic arylene group, more preferably a phenylene group. When A 1 represents a phenylene group, this may have a substituent. Examples of the substituent of the phenylene group include those described for the substituent of A 0 in the general formula (D), and preferably an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an amino group, an alkylamino group, an acylamino group. , Sulfonamide group, ureido group,
It is a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, etc., and the total number of carbon atoms in these groups is 1 to 12, particularly preferably 1
~ 8. When A 1 represents a phenylene group, particularly preferably when A 1 represents an unsubstituted phenylene group.

【0147】一般式(1−a)に於いてR2 、R3 は2
価の脂肪族基または芳香族基を表す。2価の脂肪族基と
は、置換もしくは無置換で、直鎖、分岐、もしくは環状
のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基であ
り、芳香族基とは単環もしくは2環のアリーレン基であ
る。R2 およびR3 として好ましくは、アルキレン基ま
たはアリーレン基であり、さらに最も好ましくはR2 が
フェニレン基、R3 がフェニレン基またはアルキレン基
を表す時である。これらは先に一般式(D)に於けるA
0 が有する置換基について説明したのと同じ置換基を有
していてもよい。
In the general formula (1-a), R2 and R3 are 2
Represents a valent aliphatic group or aromatic group. The divalent aliphatic group is a substituted or unsubstituted, linear, branched or cyclic alkylene group, alkenylene group or alkynylene group, and the aromatic group is a monocyclic or bicyclic arylene group. R2 and R3 are preferably an alkylene group or an arylene group, and most preferably R2 represents a phenylene group and R3 represents a phenylene group or an alkylene group. These are A in the general formula (D).
It may have the same substituent as described for the substituent of 0 .

【0148】一般式(1−a)に於いてL1 、L2 で表
される2価の連結基とは、−O−、−S−、−N
(RN )−(RN は水素原子、アルキル基、またはアリ
ール基を表す。)、−CO−、−SO2 −、等の基の単
独、またはこれらの基の組み合わせからなる基である。
ここで組み合わせからなる基とは、具体的には、−CO
N(RN )−、−SO2 N(RN )−、−COO−、−
N(RN )CON(RN )−、−SO2 N(RN )CO
−、−SO2 N(RN )CON(RN )−、−N
(RN )COCON(RN )−、−N(RN )SO2
(RN )−等の基である。一般式(1−a)に於いてL
1 は、好ましくは−SO2 NH−、−NHCONH−、
−O−、−S−、−N(RN )−であり、最も好ましく
は−SO2 NH−、−NHCONH−である。L2 は好
ましくは、−CON(RN )−、−SO2 NH−、−N
HCONH−、−N(RN )CONH−、−COO−で
ある。ここでL2 が−CON(RN )−もしくは−N
(RN )CONH−を表す時、RN が置換アルキル基と
して、一般式(1−a)における−R3 −X基を表わす
こともあってよい。
In the general formula (1-a), the divalent linking group represented by L1 and L2 means --O--, --S--, --N.
(R N) - (R N represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group,.), - CO -, - SO 2 -, group alone etc., or a group composed of a combination of these groups.
The group consisting of a combination here specifically means -CO.
N (R N) -, - SO 2 N (R N) -, - COO -, -
N (R N) CON (R N) -, - SO 2 N (R N) CO
-, - SO 2 N (R N) CON (R N) -, - N
(R N) COCON (R N ) -, - N (R N) SO 2 N
(R N )-and the like. In the general formula (1-a), L
1 is preferably -SO 2 NH -, - NHCONH-,
-O -, - S -, - N (R N) - a, and most preferably -SO 2 NH -, - it is -NHCONH-. L2 is preferably, -CON (R N) -, - SO 2 NH -, - N
HCONH -, - N (R N ) CONH -, - is COO-. Here L 2 is -CON (R N) - or -N
When representing the (R N) CONH-, as R N is a substituted alkyl group, it may be a represent the -R 3 -X groups in Formula (1-a).

【0149】一般式(1−a)に於いて、X1 は耐拡散
性基、ハロゲン化銀への吸着促進基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、4級アンモニウム
基、4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基、エ
チレンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を含むアル
コキシ基、またはジスルフィド結合を含むヘテロ環基を
表す。これらは先に一般式(D)のA0 の置換基、もし
くは置換基に含まれる基として説明したものと同じであ
る。一般式(1−a)に於いてX1 がアルキルチオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、4級アンモニウム
基、エチレンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を含
むアルコキシ基、またはジスルフィド結合を含むヘテロ
環基を表す時、R3 は好ましくはアルキレン基であり、
m3 は1を表す。一般式(1−a)においてX1 が4級
化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を表す時、含
窒素ヘテロ環基が、その窒素原子とR3 との結合によっ
て4級化される場合と、もともと4級化された含窒素ヘ
テロ環基が、R3 を介さずにL2またはL1 に結合する
場合とがある。前者ではm3 は1で、R3 は好ましくは
アルキレン基であり、後者ではm3 は0を表す。
In the general formula (1-a), X1 is a diffusion resistant group, an adsorption promoting group on silver halide, an alkylthio group,
It represents an arylthio group, a heterocyclic thio group, a quaternary ammonium group, a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, an alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, or a heterocyclic group containing a disulfide bond. These are the same as those described above as the substituent of A 0 of the general formula (D) or the group contained in the substituent. In the general formula (1-a), X1 is an alkylthio group,
When representing an arylthio group, a heterocyclic thio group, a quaternary ammonium group, an alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, or a heterocyclic group containing a disulfide bond, R3 is preferably an alkylene group,
m3 represents 1. When X1 in the formula (1-a) represents a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, the nitrogen-containing heterocyclic group is quaternized by the bond between the nitrogen atom and R3. In some cases, the nitrogen-containing heterocyclic group originally quaternized binds to L2 or L1 without via R3. In the former, m3 is 1 and R3 is preferably an alkylene group; in the latter, m3 represents 0.

【0150】一般式(1−a)で表される化合物のう
ち、より好ましいものは、一般式(1−b)で表され
る。式中X11、R11、R21、R31、L21、m21およびm
31は、それぞれ一般式(1−a)に於けるX1 、R1 、
R2 、R3 、L2 、m2 およびm3 と同義の基であり、
Yは置換基を表し、nは0から4の整数を表す。Yで表
される置換基とは、一般式(1−a)に於いてA1 が有
していてもよい置換基について説明したものと同義であ
り、好ましい範囲もまた同じである。nは0または1が
好ましく、さらに好ましくはnが0を表す時である。
Among the compounds represented by the general formula (1-a), more preferable ones are represented by the general formula (1-b). Wherein X11, R11, R21, R31, L21, m21 and m
31 is X1, R1 in the general formula (1-a),
R2, R3, L2, m2 and m3 are the same as defined above,
Y represents a substituent, and n represents an integer of 0 to 4. The substituent represented by Y has the same meaning as that described for the substituent that A1 may have in formula (1-a), and the preferred range is also the same. n is preferably 0 or 1, and more preferably n is 0.

【0151】一般式(1−b)で表わされる化合物にお
いて、X11がアルキルチオ基を表わすとき、さらに好ま
しいものは、次の一般式(1−c)で表わされるもので
ある。 一般式(1−c)
In the compound represented by the general formula (1-b), when X11 represents an alkylthio group, more preferable ones are those represented by the following general formula (1-c). General formula (1-c)

【0152】[0152]

【化55】 Embedded image

【0153】式中R12は一般式(1−b)におけるR11
と同じものであり、R5 はアルキレン基を表わす。L32
は、ベンゼン環との連結において、アシルアミノ基、カ
ルバモイル基、ウレイド基、オキシカルボニル基、スル
ホンアミド基を表わす。L32がアシルアミノ基、オキシ
カルボニル基、スルホンアミド基を表わすとき、m4
1を表わし、L32がカルバモイル基、ウレイド基を表わ
すとき、m4 は1または2を表わす。m4 が1のとき、
6 は総炭素数7以上の無置換のアルキル基、総炭素数
1〜18の置換アルキル基、総炭素数3以上のシクロア
ルキル基を表わし、m4 が2のとき、R6 は総炭素数1
〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、総炭素数3
以上のシクロアルキル基を表わす。
In the formula, R 12 is R 11 in the general formula (1-b).
And R 5 represents an alkylene group. L 32
Represents an acylamino group, a carbamoyl group, a ureido group, an oxycarbonyl group or a sulfonamide group in connection with a benzene ring. When L 32 represents an acylamino group, an oxycarbonyl group or a sulfonamide group, m 4 represents 1, and when L 32 represents a carbamoyl group or an ureido group, m 4 represents 1 or 2. When m 4 is 1,
R 6 represents an unsubstituted alkyl group having a total carbon number of 7 or more, a substituted alkyl group having a total carbon number of 1 to 18, a cycloalkyl group having a total carbon number of 3 or more, and when m 4 is 2, R 6 is a total carbon number. Number 1
To 18 substituted or unsubstituted alkyl groups, 3 carbon atoms in total
It represents the above cycloalkyl group.

【0154】以下に本発明の化合物を例示するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
The compounds of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0155】[0155]

【化56】 Embedded image

【0156】[0156]

【化57】 Embedded image

【0157】[0157]

【化58】 Embedded image

【0158】[0158]

【化59】 Embedded image

【0159】[0159]

【化60】 Embedded image

【0160】[0160]

【化61】 [Chemical formula 61]

【0161】[0161]

【化62】 Embedded image

【0162】本発明のヒドラジン系造核剤は、適当な水
混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。また、既によく知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテート
あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチル
やシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機
械的に乳化分散物を作製して用いることができる。ある
いは固体分散法として知られている方法によって、ヒド
ラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散し用いることができ
る。
The hydrazine nucleating agent of the present invention is a suitable water-miscible organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, It can be used by dissolving it in methyl cellosolve or the like. Further, by a well-known emulsification dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. An object can be produced and used. Alternatively, a powder of a hydrazine derivative can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method and used.

【0163】本発明のヒドラジン造核剤は、支持体に対
してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層ある
いは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよい
が、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水
性コロイド層に添加することが好ましい。本発明の造核
剤添加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6〜1×
10-2モルが好ましく、1×10-5〜5×10-3モルが
より好ましく、2×10-5〜5×10-3モルが最も好ま
しい。
The hydrazine nucleating agent of the present invention may be added to any of the silver halide emulsion layer on the silver halide emulsion layer side of the support or any other hydrophilic colloid layer. It is preferably added to the silver halide emulsion layer or the hydrophilic colloid layer adjacent thereto. The addition amount of the nucleating agent of the present invention is 1 × 10 −6 to 1 × with respect to 1 mol of silver halide.
10 −2 mol is preferred, 1 × 10 −5 to 5 × 10 −3 mol is more preferred, and 2 × 10 −5 to 5 × 10 −3 mol is most preferred.

【0164】本発明に用いられる造核促進剤としては、
特開平7−77783号公報48頁2行〜37行に記載
の化合物が挙げられ、具体的には同公報49頁〜58頁
に記載の化合物A−1)〜A−73)が用いられる。
Examples of the nucleation accelerator used in the present invention include:
The compounds described in JP-A No. 7-77783, page 48, lines 2 to 37 are mentioned, and specifically, the compounds A-1) to A-73) described on pages 49 to 58 of the same are used.

【0165】本発明に好ましく用いられる造核促進剤
は、一般式(I)、(II)、(III) および(IV)で表される
オニウム塩化合物と、アミノ化合物である。以下詳細に
説明する。
Nucleation accelerators preferably used in the present invention are onium salt compounds represented by the general formulas (I), (II), (III) and (IV), and amino compounds. This will be described in detail below.

【0166】まず一般式(I)について、詳細に説明す
る。
First, the general formula (I) will be described in detail.

【0167】[0167]

【化63】 Embedded image

【0168】式中R1 、R2 、R3 はアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロアル
ケニル基、ヘテロ環残基を表わし、これらはさらに置換
基を有していてもよい。mは整数を表わし、LはP原子
とその炭素原子で結合するm価の有機基を表わし、nは
1ないし3の整数を表わし、Xはn価の陰イオンを表わ
し、XはLと連結していてもよい。R1 、R2 、R3
表わされる基の例としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s
ec−ブチル基、tert−ブチル基、オクチル基、2−エ
チルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタ
デシル基などの直鎖又は分枝状のアルキル基、置換、無
置換のベンジル基などのアラルキル基;シクロプロピル
基、シクロペンチール基、シクロヘキシル基などのシク
ロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、フエナントリ
ル基などのアリール基;アリル基、ビニル基、5−ヘキ
セニル基、などのアルケニル基;シクロペンテニル基、
シクロヘキセニル基などのシクロアルケニル基;ピリジ
ル基、キノリル基、フリル基、イミダゾリル基、チアゾ
リル基、チアジアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベ
ンゾチアゾリル基、モルホリル基、ピリミジル基、ピロ
リジル基などのヘテロ環残基が挙げられる。これらの基
上に置換した置換基の例としては、R1 、R2 、R3
表わされる基の他に、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、1、
2、3級アミノ基、アルキル又はアリールエーテル基、
アルキル又はアリールチオエーテル基、カルボンアミド
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、ヒドロキシル基、スルホキシ基、スルホニル基、
カルボキシル基、スルホン酸基、シアノ基又はカルボニ
ル基、が挙げられる。Lで表わされる基の例としてはR
1 、R2、R3 と同義の基のほかにトリメチレン基、テ
トラメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタメチレン
基、オクタメチレン基、ドデカメチレン基などのポリメ
チレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン
基などの2価芳香族基、トリメチレンメチル基、テトラ
メチレンメチル基などの多価脂肪族基、フェニレン−
1,3,5−トルイル基、フェニレン−1,2,4,5
−テトライル基などの多価芳香族基などが挙げられる。
Xで表わされる陰イオンの例としては、塩素イオン、臭
素イオン、ヨウ素イオンなどのハロゲンイオン、アセテ
ートイオン、オキサレートイオン、フマレートイオン、
ベンゾエートイオンなどのカルボキシレートイオン、p
−トルエンスルホネート、メタンスルホネート、ブタン
スルホネート、ベンゼンスルホネートなどのスルホネー
トイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、
硝酸イオンが挙げられる。一般式(I)において、
1 、R2 、R3 は好ましくは炭素数20以下の基であ
り、炭素数15以下のアリール基が特に好ましい。mは
1または2が好ましく、mが1を表わす時、Lは好まし
くは炭素数20以下の基であり、総炭素数15以下のア
ルキル基またはアリール基が特に好ましい。mが2を表
わす時、Lで表わされる2価の有機基は好ましくはアル
キレン基、アリーレン基またはこれらの基を結合して形
成される2価の基、さらにはこれらの基と−CO−基、
−O−基、−NR4 −基(ただしR4 は水素原子または
1 、R2 、R3 と同義の基を表わし、分子内に複数の
4 が存在する時、これらは同じであっても異なってい
ても良く、さらには互いに結合していても良い)、−S
−基、−SO−基、−SO2 −基を組みあわせて形成さ
れる2価の基である。mが2を表わす時、Lはその炭素
原子でP原子と結合する総炭素数20以下の2価基であ
ることが特に好ましい。mが2以上の整数を表わす時、
分子内にR1 、R2 、R3 はそれぞれ複数存在するが、
その複数のR1 、R2 、R3 はそれぞれ同じであっても
異なっていても良い。nは1または2が好ましく、mは
1または2が好ましい。XはR1 、R2 、R 3 、または
Lと結合して分子内塩を形成しても良い。本発明の一般
式(I)で表わされる化合物の多くのものは公知であ
り、試薬として市販のものである。一般的合成法として
は、ホスフィン酸類をハロゲン化アルキル類、スルホン
酸エステルなどのアルキル化剤と反応させる方法:ある
いはホスホニウム塩類の対陰イオンを常法により交換す
る方法がある。一般式(I) で表わされる化合物の具体
例を以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定さ
れるものではない。
R in the formula1, R2, RThreeIs an alkyl group,
Alkyl group, aryl group, alkenyl group, cycloal
Represents a alkenyl group or heterocyclic residue, which are further substituted
It may have a group. m represents an integer, L is a P atom
And an m-valent organic group bonded at its carbon atom, n is
Represents an integer of 1 to 3 and X represents an n-valent anion.
However, X may be linked to L. R1, R2, RThreeso
Examples of groups represented are methyl, ethyl,
Pill group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s
ec-butyl group, tert-butyl group, octyl group, 2-d
Tylhexyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octa
Linear or branched alkyl group such as decyl group, substituted or not
Aralkyl groups such as substituted benzyl groups; cyclopropyl
Groups such as radicals, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.
Low alkyl group, phenyl group, naphthyl group, phenol
Aryl groups such as vinyl group; allyl group, vinyl group, 5-hexyl group
An alkenyl group such as a cenyl group; a cyclopentenyl group,
Cycloalkenyl groups such as cyclohexenyl group; pyridi
Group, quinolyl group, furyl group, imidazolyl group, thiazo
Ryl group, thiadiazolyl group, benzotriazolyl group,
Nzothiazolyl group, morpholyl group, pyrimidyl group, pyro
Heterocyclic residues such as lysyl groups are mentioned. These groups
Examples of the above substituted substituents include R1, R2, RThreeso
In addition to the groups represented, fluorine atom, chlorine atom, bromine source
Child, halogen atom such as iodine atom, nitro group, 1,
A secondary or tertiary amino group, an alkyl or aryl ether group,
Alkyl or aryl thioether group, carbonamide
Group, carbamoyl group, sulfonamide group, sulfamoy
Group, hydroxyl group, sulfoxy group, sulfonyl group,
Carboxyl group, sulfonic acid group, cyano group or carbonic acid group
Group. Examples of the group represented by L include R
1, R2, RThreeIn addition to the groups synonymous with
Tramethylene group, hexamethylene group, pentamethylene
Group, octamethylene group, dodecamethylene group, etc.
Tylene group, phenylene group, biphenylene group, naphthylene
Divalent aromatic groups such as groups, trimethylenemethyl group, tetra
Polyvalent aliphatic groups such as methylenemethyl group, phenylene-
1,3,5-toluyl group, phenylene-1,2,4,5
-A polyvalent aromatic group such as a tetrayl group may be mentioned.
Examples of the anion represented by X include chlorine ion and odor.
Halide ions such as elementary ions and iodine ions, acete
Ion, oxalate ion, fumarate ion,
Carboxylate ion such as benzoate ion, p
-Toluene sulfonate, methane sulfonate, butane
Sulfonates such as sulfonate and benzene sulfonate
Toion, Sulfate ion, Perchlorate ion, Carbonate ion,
An example is nitrate ion. In the general formula (I),
R1, R2, RThreeIs preferably a group having 20 or less carbon atoms
In particular, an aryl group having 15 or less carbon atoms is particularly preferable. m is
1 or 2 is preferred, and when m represents 1, L is preferred
Is a group having 20 or less carbon atoms, and an
Particularly preferred is a alkyl group or an aryl group. m is 2
When forgoing, the divalent organic group represented by L is preferably an alkenyl group.
Xylene group, arylene group or a combination of these groups
Formed divalent group, and further, these groups and -CO- group,
-O- group, -NRFour-Group (where RFourIs a hydrogen atom or
R1, R2, RThreeRepresents a group synonymous with
RFourAre present, they are the same or different
Or may be bonded to each other), -S
-Group, -SO- group, -SO2-Formed by combining bases
Is a divalent group. When m represents 2, L is the carbon
A divalent group having 20 or less total carbon atoms bonded to a P atom.
Is particularly preferable. When m represents an integer of 2 or more,
R in the molecule1, R2, RThreeThere are multiple
The multiple R1, R2, RThreeEven though they are the same
It can be different. n is preferably 1 or 2 and m is
1 or 2 is preferable. X is R1, R2, R ThreeOr
It may combine with L to form an inner salt. General of the invention
Many of the compounds of formula (I) are known
Are commercially available reagents. As a general synthetic method
Phosphinic acids, alkyl halides, sulfones
Method of reacting with alkylating agent such as acid ester: Yes
The counter anion of phosphonium salts is exchanged by a conventional method.
There is a way to do it. Specific examples of the compound represented by formula (I)
An example is shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds
It is not something to be done.

【0169】[0169]

【化64】 Embedded image

【0170】[0170]

【化65】 Embedded image

【0171】[0171]

【化66】 Embedded image

【0172】[0172]

【化67】 Embedded image

【0173】一般式(II)、一般式(III) について更に詳
細に説明する。
General formulas (II) and (III) will be described in more detail.

【0174】[0174]

【化68】 Embedded image

【0175】式中、Aはヘテロ環を完成させるための有
機基を表わし、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原
子、硫黄原子を含んでもよく、更にベンゼン環が縮環し
てもかまわない。好ましい例として、Aは5〜6員環を
挙げることができ、更に好ましい例としてピリジン環を
挙げることができる。B、Cで表わされる2価基は、ア
ルキレン、アリーレン、アルケニレン、−SO2 −、−
SO−、−O−、−S−、−N(R5 )−を単独または
組合せて構成されるものが好ましい。ただし、R5 はア
ルキル基、アリール基、水素原子を表わす。特に好まし
い例として、B、Cはアルキレン、アリーレン、−O
−、−S−を単独または組合せて構成されるものを挙げ
ることができる。R1 、R2 は炭素数1〜20のアルキ
ル基が好ましく、各々同じでも異なっていてもよい。ア
ルキル基に置換基が置換してもよく、置換基としては、
ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あ
るいは無置換のアルキル基(例えば、メチル基、ヒドロ
キシエチル基など)、置換あるいは無置換のアリール基
(例えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル
基など)、置換あるいは無置換のアシル基(例えば、ベ
ンゾイル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル基な
ど)、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、アリ
ールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、ウレイド基、無置換あるいはアルキル置換アミ
ノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基を表わす。特に好ましい例として、R1 、R2
各々炭素数1〜10のアルキル基を表わす。好ましい置
換基の例として、アリール基、スルホ基、カルボキシ
基、ヒドロキシ基を挙げることができる。R3 、R4
水素原子、又は置換基を表わし、置換基の例としては上
記にR1、R2 のアルキル基の置換基として挙げた置換
基から選ばれる。好ましい例として、R3 、R4 は炭素
数0〜10であり、具体的には、アリール置換アルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基を挙げることがで
きる。Xはアニオン基を表わすが、分子内塩の場合はX
は必要ない。Xの例として、塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンス
ルホン酸イオン、オギザラートを表わす。次に本発明の
具体的化合物を記すが、これらに限られるものではな
い。また、本発明の化合物の合成は一般によく知られた
方法により容易に合成することができるが、以下の文献
が参考になる。(参照、Quart.Rev., 16,163(1
962).)
In the formula, A represents an organic group for completing the heterocyclic ring, and may contain a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and the benzene ring may be condensed. . As a preferred example, A can be a 5- or 6-membered ring, and a more preferred example is a pyridine ring. B, 2 divalent group represented by C is an alkylene, arylene, alkenylene, -SO 2 -, -
SO -, - O -, - S -, - N (R 5) - those constituted alone or in combination are preferred. However, R 5 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom. As particularly preferred examples, B and C are alkylene, arylene, -O
-, -S- may be used alone or in combination. R 1 and R 2 are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and may be the same or different. A substituent may be substituted on the alkyl group, and as the substituent,
Halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom), substituted or unsubstituted alkyl group (eg, methyl group, hydroxyethyl group, etc.), substituted or unsubstituted aryl group (eg, phenyl group, tolyl group, p-chlorophenyl) Group), a substituted or unsubstituted acyl group (eg, benzoyl group, p-bromobenzoyl group, acetyl group, etc.), sulfo group, carboxy group, hydroxy group, alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.), It represents an aryloxy group, an amide group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a ureido group, an unsubstituted or alkyl-substituted amino group, a cyano group, a nitro group, an alkylthio group and an arylthio group. As a particularly preferred example, R 1 and R 2 each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Preferred examples of the substituent include an aryl group, a sulfo group, a carboxy group, and a hydroxy group. R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent are selected from the substituents mentioned above as the substituents of the alkyl group of R 1 and R 2 . As preferred examples, R 3 and R 4 have 0 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include an aryl-substituted alkyl group and a substituted or unsubstituted aryl group. X represents an anion group, but in the case of an inner salt, X
Is not necessary. Examples of X include chlorine ion, bromine ion,
It represents iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate ion, and oxalate. Next, specific compounds of the present invention are described, but are not limited thereto. Further, the compound of the present invention can be easily synthesized by a generally well-known method, and the following documents are helpful. (See Quart. Rev., 16, 163 (1
962). )

【0176】一般式(II)及び一般式(III) の具体的化
合物を以下に示すが、本発明は、これに限定されるもの
ではない。
Specific compounds of the general formulas (II) and (III) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0177】[0177]

【化69】 Embedded image

【0178】[0178]

【化70】 Embedded image

【0179】一般式(IV)について更に詳細に説明す
る。
The general formula (IV) will be described in more detail.

【0180】[0180]

【化71】 Embedded image

【0181】Zが表わす含窒素複素芳香環は窒素原子の
他に炭素原子、水素原子、酸素原子、硫黄原子を含んで
もよく、さらにベンゼン環が縮環してもよい。形成され
る複素芳香環は5〜6員環が好ましく、ピリジン環、キ
ノリン環、イソキノリン環がさらに好ましい。R5 は炭
素数1〜20のアルキル基が好ましく、直鎖でも分枝し
ていても、さらには環状のアルキル基でも良い。炭素数
1〜12のアルキル基がさらに好ましく、炭素数1〜8
が最も好ましい。X- はアニオン基を表わすが、分子内
塩の場合はX- は必要ない。X- の例として、塩素イオ
ン、臭素イオン、沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオ
ン、p−トルエンスルホン酸イオン、オギザラートを表
わす。
The nitrogen-containing heteroaromatic ring represented by Z may contain a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom in addition to the nitrogen atom, and the benzene ring may be condensed. The heteroaromatic ring formed is preferably a 5- or 6-membered ring, more preferably a pyridine ring, a quinoline ring, or an isoquinoline ring. R 5 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and may be a straight chain, branched chain, or cyclic alkyl group. More preferred is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and 1 to 8 carbon atoms
Is most preferred. X represents an anion group, but in the case of an intramolecular salt, X is not necessary. Examples of X include chlorine ion, bromine ion, iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate ion, and oxalate.

【0182】またZ、R5 で表わされる基は置換されて
いても良く好ましい置換基としては、ハロゲン原子(例
えば、塩素原子、臭素原子)、置換あるいは無置換のア
リール基(例えば、フェニル基、トリル基、p−クロロ
フェニル基など)、置換あるいは無置換のアシル基(例
えば、ベンゾイル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチ
ル基など)、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、
アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基な
ど)、アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル
基、カルバモイル基、ウレイド基、無置換あるいはアル
キル置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基を表わす。特に好ましい置換基の例
として、アリール基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロ
キシ基を挙げることができる。またAの置換基としては
他にも置換あるいは無置換のアルキル基(例えば、メチ
ル基、ヒドロキシエチル基など)、置換あるいは無置換
のアラルキル基(例えば、ベンジル基、p−メトキシフ
ェネチル基など)も好ましい。次に本発明の具体的化合
物を記すが、これらに限られるものではない。また、本
発明の化合物の合成は一般によく知られた方法により容
易に合成することができるが、以下の文献が参考にな
る。(参照、Quart.Rev., 16,163(196
2).) 一般式(IV)の具体的化合物を以下に示すが、本発明
は、これに限定されるものではない。
The groups represented by Z and R 5 may be substituted and preferred substituents include a halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom), a substituted or unsubstituted aryl group (eg phenyl group, Tolyl group, p-chlorophenyl group, etc.), substituted or unsubstituted acyl group (for example, benzoyl group, p-bromobenzoyl group, acetyl group, etc.), sulfo group, carboxy group, hydroxy group,
Represents an alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.), aryloxy group, amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, unsubstituted or alkyl-substituted amino group, cyano group, nitro group, alkylthio group, arylthio group . Particularly preferred examples of the substituent include an aryl group, a sulfo group, a carboxy group, and a hydroxy group. Other examples of the substituent of A include a substituted or unsubstituted alkyl group (eg, methyl group, hydroxyethyl group, etc.) and a substituted or unsubstituted aralkyl group (eg, benzyl group, p-methoxyphenethyl group, etc.). preferable. Next, specific compounds of the present invention are described, but are not limited thereto. Further, the compound of the present invention can be easily synthesized by a generally well-known method, and the following documents are helpful. (See Quart. Rev., 16, 163 (196
2). ) Specific compounds of the general formula (IV) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0183】[0183]

【化72】 Embedded image

【0184】[0184]

【化73】 Embedded image

【0185】アミノ化合物は以下に示す化合物が用いら
れる。特開平7−84331号に記載の(化21)、
(化22)および(化23)で表される化合物で、具体
的には同公報6頁〜8頁に記載の化合物。特開平7−1
04426号に記載の一般式〔Na〕で表される化合物
で、具体的には同公報16頁〜20頁に記載のNa−1
〜Na−22の化合物。特願平7−37817号に記載
の一般式(1)、一般式(2)、一般式(3)、一般式
(4)、一般式(5)、一般式(6)および一般式
(7)で表される化合物で、具体的には同明細書に記載
の1−1〜1−19の化合物、2−1〜2−22の化合
物、3−1〜3−36の化合物、4−1〜4−5の化合
物、5−1〜5−41の化合物、6−1〜6−58の化
合物および7−1〜7−38の化合物。
The following compounds are used as the amino compound. (Chemical formula 21) described in JP-A-7-84331,
Compounds represented by (Chemical Formula 22) and (Chemical Formula 23), specifically, compounds described on pages 6 to 8 of the same publication. JP-A-7-1
No. 04426, a compound represented by the general formula [Na], specifically Na-1 described on pages 16 to 20 of the same;
~ Na-22 compounds. General formula (1), general formula (2), general formula (3), general formula (4), general formula (5), general formula (6) and general formula (7) described in Japanese Patent Application No. 7-37817. ), Specifically, the compounds 1-1 to 1-19, the compounds 2-1 to 2-22, the compounds 3-1 to 3-36, and the compound 4- described in the same specification. 1 to 4-5 compounds, 5-1 to 5-41 compounds, 6-1 to 6-58 compounds and 7-1 to 7-38 compounds.

【0186】本発明の造核促進剤は、適当な水混和性有
機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。また、既によく知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、造核促進
剤の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散し用いることができる。
The nucleation accelerator of the present invention is a suitable water-miscible organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl. It can be used by dissolving it in cellosolve or the like. Further, by a well-known emulsification dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. An object can be produced and used. Alternatively, the powder of the nucleation accelerator can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves according to a method known as a solid dispersion method.

【0187】本発明の造核促進剤は、支持体に対してハ
ロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層あるいは他
の親水性コロイド層のどの層に添加してもよいが、該ハ
ロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水性コロイ
ド層に添加することが好ましい。本発明の造核促進剤添
加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6〜2×10
-2モルが好ましく、1×10-5〜2×10-2モルがより
好ましく、2×10-5〜1×10-2モルが最も好まし
い。
The nucleation accelerator of the present invention may be added to any of the silver halide emulsion layer on the silver halide emulsion layer side of the support or any other hydrophilic colloid layer. It is preferably added to the silver halide emulsion layer or the hydrophilic colloid layer adjacent thereto. The addition amount of the nucleation accelerator of the present invention is 1 × 10 −6 to 2 × 10 per mol of silver halide.
-2 mol is preferable, 1 × 10 −5 to 2 × 10 −2 mol is more preferable, and 2 × 10 −5 to 1 × 10 −2 mol is most preferable.

【0188】本発明で感光材料を現像処理する際の現像
液には、通常用いられる添加剤(例えば、現像主薬、ア
ルカリ剤、pH緩衝剤、保恒剤、キレート剤)を含有する
ことができる。本発明の現像処理には、公知の方法のい
ずれを用いることもできるし、現像処理液には公知のも
のを用いることができる。本発明に使用する現像液に用
いる現像主薬には特別な制限はないが、ジヒドロキシベ
ンゼン類及びこれと超加成性を示す補助現像主薬を含有
する。更に現像能力の点でジヒドロキシベンゼン類と1
−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合せ、ジヒドロキ
シベンゼン類とp−アミノフェノール類の組合せが好ま
しい。
The developer used in the development processing of the light-sensitive material according to the present invention may contain additives usually used (eg, developing agent, alkaline agent, pH buffering agent, preservative, chelating agent). . Any known method can be used for the development processing of the present invention, and a known development processing solution can be used. The developing agent used in the developing solution used in the present invention is not particularly limited, but contains dihydroxybenzenes and auxiliary developing agents exhibiting superadditivity therewith. Furthermore, in terms of developing ability, it is 1 with dihydroxybenzenes.
A combination of -phenyl-3-pyrazolidones, a combination of dihydroxybenzenes and p-aminophenols is preferred.

【0189】本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像
主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、
イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
ハイドロキノンモノスルホン酸塩などがあるが、特にハ
イドロキノンが好ましい。本発明に用いる1−フェニル
−3−ピラゾリドン又はその誘導体の現像主薬としては
1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,
4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−
メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドンなど
がある。本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主
薬としてはN−メチル−p−アミノフェノール、p−ア
ミノフェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−
アミノフェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グ
リシン等があるが、なかでもN−メチル−p−アミノフ
ェノールが好ましい。ジヒドロキシベンゼン系現像主薬
は通常0.05〜0.8モル/リットルの量で用いられ
るのが好ましい。特に好ましくは、0.2〜0.6モル
/リットルの範囲である。またジヒドロキシベンゼン類
と1−フェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミ
ノフェノール類の組合せを用いる場合には前者を0.0
5〜0.6モル/リットル、さらに好ましくは0.2〜
0.5モル/リットル、後者を0.06モル/リットル
以下、さらに好ましくは0.03モル/リットル以下の
量で用いるのが好ましい。
Examples of the dihydroxybenzene developing agent used in the present invention include hydroquinone, chlorohydroquinone,
Isopropyl hydroquinone, methyl hydroquinone,
There are hydroquinone monosulfonate, etc., but hydroquinone is particularly preferable. Examples of the developing agent for 1-phenyl-3-pyrazolidone or its derivative used in the present invention include 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,
4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-
Methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone and the like. As the p-aminophenol-based developing agent used in the present invention, N-methyl-p-aminophenol, p-aminophenol, N- (β-hydroxyethyl) -p-
There are aminophenol, N- (4-hydroxyphenyl) glycine and the like, and among them, N-methyl-p-aminophenol is preferable. The dihydroxybenzene-based developing agent is usually preferably used in an amount of 0.05 to 0.8 mol / liter. Particularly preferably, it is in the range of 0.2 to 0.6 mol / liter. When the combination of dihydroxybenzenes and 1-phenyl-3-pyrazolidones or p-aminophenols is used, the former is 0.0
5 to 0.6 mol / liter, more preferably 0.2 to
0.5 mol / liter, the latter is preferably used in an amount of 0.06 mol / liter or less, more preferably 0.03 mol / liter or less.

【0190】本発明に用いる保恒剤としては亜硫酸ナト
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アン
モニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。
亜硫酸塩は0.20モル/リットル以上、特に0.3モ
ル/リットル以上用いられるが、余りに多量添加すると
現像液中の銀汚れの原因になるので、上限は1.2モル
/リットルとするのが望ましい。特に好ましくは、0.
35〜0.7モル/リットルである。ジヒドロキシベン
ゼン系現像主薬の保恒剤として、亜硫酸塩と併用してア
スコルビン酸誘導体を少量使用しても良い。アスコルビ
ン酸誘導体としては、アスコルビン酸、その立体異性体
であるエリソルビン酸やそのアルカリ金属塩(ナトリウ
ム、カリウム塩)などがあるが、エリソルビン酸ナトリ
ウムを用いることが素材コストの点で好ましい。添加量
はジヒドロキシベンゼン系現像主薬に対して、モル比で
0.03〜0.12の範囲が好ましく、特に好ましくは
0.05〜0.10の範囲である。保恒剤としてアスコ
ルビン酸誘導体を使用する場合には現像液中にホウ素化
合物を含まないことが好ましい。
Examples of the preservative used in the present invention include sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, ammonium sulfite, sodium bisulfite, potassium metabisulfite and formaldehyde sodium bisulfite.
The sulfite is used in an amount of 0.20 mol / liter or more, particularly 0.3 mol / liter or more, but if added in an excessively large amount, it causes silver stain in the developing solution, so the upper limit is 1.2 mol / liter. Is desirable. Particularly preferably, 0.
It is 35 to 0.7 mol / liter. As a preservative for a dihydroxybenzene-based developing agent, a small amount of an ascorbic acid derivative may be used in combination with sulfite. Examples of the ascorbic acid derivative include ascorbic acid, its stereoisomer, erythorbic acid, and alkali metal salts (sodium and potassium salts) thereof, and sodium erysorbate is preferably used from the viewpoint of material cost. The amount added is preferably in the range of 0.03 to 0.12, more preferably 0.05 to 0.10. In molar ratio to the dihydroxybenzene-based developing agent. When an ascorbic acid derivative is used as a preservative, it is preferable that the developer contains no boron compound.

【0191】本発明において使われている、該現像液1
リットルに0.1モルの水酸化ナトリウム入れたときの
pH上昇が0.25以下で、定義を詳しく説明する。該
現像液は、pH=10.5である現像液1リットルに水
酸化ナトリウムを0.1モル添加したときの現像液のp
H値が10.75以下である現像液のことである。さら
に好ましくはpH上昇が0.2以下である。
The developer 1 used in the present invention.
The definition will be explained in detail because the pH increase when 0.1 mol of sodium hydroxide is added to liter is 0.25 or less. The developer has a p of the developer when 0.1 mol of sodium hydroxide is added to 1 liter of the developer having a pH of 10.5.
A developer having an H value of 10.75 or less. More preferably, the pH increase is 0.2 or less.

【0192】pHの設定のために用いるアルカリ剤には
通常の水溶性無機アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム)を用いることができる。上記の以外に用いられる添
加剤としては、臭化ナトリウム、臭化カリウムの如き現
像抑制剤;エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジメチルホルムアミドの
如き有機溶剤;ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等のアルカノールアミン、イミダゾール又はその誘
導体等の現像促進剤;メルカプト系化合物、インダゾー
ル系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミ
ダゾール系化合物をカブリ防止剤又は黒ポツ(black pep
per)防止剤として含んでもよい。具体的には、5−ニト
ロインダゾール、5−p−ニトロベンゾイルアミノイン
ダゾール、1−メチル−5−ニトロインダゾール、6−
ニトロインダゾール、3−メチル−5−ニトロインダゾ
ール、5−ニトロベンズイミダゾール、2−イソプロピ
ル−5−ニトロベンズイミダゾール、5−ニトロベンズ
トリアゾール、4−〔(2−メルカプト−1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)チオ〕ブタンスルホン酸ナ
トリウム、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−
2−チオール、メチルベンゾトリアゾール、5−メチル
ベンゾトリアゾール、2−メルカプトベンゾトリアゾー
ルなどを挙げることができる。これらカブリ防止剤の量
は、通常、現像液1リットル当り0.01〜10mmolで
あり、より好ましくは、0.1〜2mmolである。
As the alkaline agent used for setting the pH, a usual water-soluble inorganic alkali metal salt (eg sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate) can be used. Additives other than those described above include development inhibitors such as sodium bromide and potassium bromide; organic solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol and dimethylformamide; alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine; A development accelerator such as imidazole or a derivative thereof; a mercapto-based compound, an indazole-based compound, a benzotriazole-based compound, or a benzimidazole-based compound as an antifoggant or black pep
per) may be included as an inhibitor. Specifically, 5-nitroindazole, 5-p-nitrobenzoylaminoindazole, 1-methyl-5-nitroindazole, 6-
Nitroindazole, 3-methyl-5-nitroindazole, 5-nitrobenzimidazole, 2-isopropyl-5-nitrobenzimidazole, 5-nitrobenztriazole, 4-[(2-mercapto-1,3,4-
Sodium thiadiazol-2-yl) thio] butanesulfonate, 5-amino-1,3,4-thiadiazole-
Examples thereof include 2-thiol, methylbenzotriazole, 5-methylbenzotriazole, and 2-mercaptobenzotriazole. The amount of these antifoggants is usually 0.01 to 10 mmol, more preferably 0.1 to 2 mmol, per liter of developer.

【0193】更に本発明の現像液中には各種の有機・無
機のキレート剤を併用することができる。無機キレート
剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタ
リン酸ナトリウム等を用いることができる。一方、有機
キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリ
カルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン酸及び有
機ホスホノカルボン酸を用いることができる。有機カル
ボン酸としては、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コハク
酸、アシエライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン
酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マ
レイン酸、イタコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸等
を挙げることができるがこれらに限定されるものではな
い。
Further, various organic / inorganic chelating agents can be used in combination in the developer of the present invention. As the inorganic chelating agent, sodium tetrapolyphosphate, sodium hexametaphosphate or the like can be used. On the other hand, as the organic chelating agent, organic carboxylic acid, aminopolycarboxylic acid, organic phosphonic acid, aminophosphonic acid and organic phosphonocarboxylic acid can be mainly used. Examples of the organic carboxylic acids include acrylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, succinic acid, acelineic acid, sebacic acid, nonanedicarboxylic acid, decanedicarboxylic acid, undecanedicarboxylic acid, and maleic acid. , Itaconic acid, malic acid, citric acid, tartaric acid and the like, but are not limited thereto.

【0194】アミノポリカルボン酸としては、イミノ二
酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチ
レンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジ
アミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、1,2−ジ
アミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3−ジアミノ−2
−プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミン四
酢酸、その他特開昭52−25632号、同55−67
747号、同57−102624号、及び特公昭53−
40900号明細書等に記載の化合物を挙げることがで
きる。
Examples of aminopolycarboxylic acids include iminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, nitrilotripropionic acid, ethylenediaminemonohydroxyethyltriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, glycol ether tetraacetic acid, 1,2-diaminopropanetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid. Acetic acid,
Triethylenetetramine hexaacetic acid, 1,3-diamino-2
-Propanol tetraacetic acid, glycol ether diamine tetraacetic acid, and others, JP-A-52-25632, and JP-A-55-67
Nos. 747, 57-102624, and JP-B-53-
Compounds described in, for example, Japanese Patent No. 40900 can be exemplified.

【0195】有機ホスホン酸としては、米国特許321
4454号、同3794591号、及び西独特許公開2
227639号等に記載のヒドロキシアルキリデン−ジ
ホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー(Research
Disclosure) 第181巻、Item 18170(1979
年5月号)等に記載の化合物が挙げられる。アミノホス
ホン酸としては、アミノトリス(メチレンホスホン
酸)、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ア
ミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他
上記リサーチ・ディスクロージャー18170号、特開
昭57−208554号、同54−61125号、同5
5−29883号及び同56−97347号等に記載の
化合物を挙げることができる。
As the organic phosphonic acid, US Pat.
Nos. 4454 and 3794591, and West German Patent Publication 2
227639 and the like, hydroxyalkylidene-diphosphonic acid and Research Disclosure (Research
Disclosure) Volume 181, Item 18170 (1979)
May, 2002) and the like. Examples of the aminophosphonic acid include aminotris (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid, and aminotrimethylenephosphonic acid. In addition, the above Research Disclosure 18170, JP-A-57-208554 and 54- 61125, 5
Examples thereof include compounds described in JP-A Nos. 5-29883 and 56-97347.

【0196】有機ホスホノカルボン酸としては、特開昭
52−102726号、同53−42730号、同54
−121127号、同55−4024号、同55−40
25号、同55−126241号、同55−65955
号、同55−65956号、及び前述のリサーチ・ディ
スクロージャー18170号等に記載の化合物を挙げる
ことができる。これらのキレート剤はアルカリ金属塩や
アンモニウム塩の形で使用してもよい。これらキレート
剤の添加量としては、現像液1リットル当り好ましく
は、1×10-4〜1×10-1モル、より好ましくは1×
10-3〜1×10-2モルである。
Examples of the organic phosphonocarboxylic acid include JP-A Nos. 52-102726, 53-42730 and 54.
No. 121127, No. 55-4024, No. 55-40
No. 25, No. 55-126241, No. 55-65955.
No. 55-69556, and the above-mentioned Research Disclosure 18170. These chelating agents may be used in the form of an alkali metal salt or an ammonium salt. The addition amount of these chelating agents is preferably 1 × 10 -4 to 1 × 10 -1 mol, more preferably 1 × 10 -1 mol per liter of developer.
It is 10 -3 to 1 × 10 -2 mol.

【0197】さらに、現像液中に銀汚れ防止剤として特
開昭56−24347号、特公昭56−46585号、
特公昭62−2849号、特開平4−362942号記
載の化合物を用いることができる。また、現像ムラ防止
剤として特開昭62−212651号記載の化合物、溶
解助剤として特開昭61−267759号記載の化合物
を用いることができる。さらに必要に応じて色調剤、界
面活性剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでもよい。
Further, as a silver stain preventing agent in a developing solution, JP-A-56-24347, JP-B-56-46585,
The compounds described in JP-B-62-2849 and JP-A-4-362942 can be used. Further, the compound described in JP-A-62-212651 can be used as the development unevenness preventing agent, and the compound described in JP-A-61-267759 can be used as the dissolution aid. Further, if necessary, a color toning agent, a surfactant, an antifoaming agent, a hardener and the like may be contained.

【0198】本発明に用いられる現像液には、緩衝剤と
して炭酸塩、特開昭62−186259号に記載のホウ
酸、特開昭60−93433号に記載の糖類(例えばサ
ッカロース)、オキシム類(例えばアセトオキシム)、
フェノール類(例えば5−スルホサリチル酸)、第3リ
ン酸塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩)などが用い
られ、好ましくは炭酸塩、ホウ酸が用いられる。現像液
のpHは9.5〜11.0が好ましく、特に好ましくは
9.8〜10.7の範囲である。現像処理温度及び時間
は相互に関係し、全処理時間との関係において決定され
るが、一般に現像温度は約20℃〜約50℃、好ましく
は25〜45℃で、現像時間は5秒〜2分、好ましくは
7秒〜1分30秒である。ハロゲン化銀黒白写真感光材
料1平方メートルを処理する際に、現像液の補充液量は
225ミリリットル以下、好ましくは180ミリリット
ル〜60ミリリットルである。処理液の搬送コスト、包
装材料コスト、省スペース等の目的で、処理液を濃縮化
し、使用時に希釈して用いるようにすることは好ましい
ことである。現像液の濃縮化のためには、現像液に含ま
れる塩成分をカリウム塩化することが有効である。
In the developer used in the present invention, carbonate is used as a buffer, boric acid described in JP-A-62-186259, saccharides (for example, saccharose) and oximes described in JP-A-60-93433. (Eg acetoxime),
Phenols (for example, 5-sulfosalicylic acid), tertiary phosphates (for example, sodium salt, potassium salt) and the like are used, and carbonate and boric acid are preferably used. The pH of the developer is preferably 9.5 to 11.0, and particularly preferably 9.8 to 10.7. The developing temperature and time are interrelated and are determined in relation to the total processing time. Generally, the developing temperature is about 20 ° C to about 50 ° C, preferably 25 to 45 ° C, and the developing time is 5 seconds to 2 seconds. Minutes, preferably 7 seconds to 1 minute 30 seconds. When processing 1 square meter of the silver halide black and white photographic light-sensitive material, the replenisher amount of the developer is 225 ml or less, preferably 180 ml to 60 ml. It is preferable to concentrate the treatment liquid and dilute it at the time of use for the purpose of transportation cost of the treatment liquid, packaging material cost, space saving and the like. In order to concentrate the developer, it is effective to potassium salt the salt component contained in the developer.

【0199】本発明における定着液の定着剤としては特
に限定はないが、チオ硫酸アンモンソーダ、チオ硫酸ア
ンモニウム、チオ硫酸ナトリウムや、これらの混合物が
好ましく使用できる。定着剤の使用量は適宜変えること
ができる。使用液における濃度は一般には0.7〜約
2.0モル/リットルである。本発明における定着用処
理剤は、硬膜剤として作用する水溶性アルミニウム塩を
含んでおり、それにはたとえば硫酸アンモニウム、カリ
明礬、アンモニウム明礬、亜鉛明礬、硝酸アルミニウ
ム、塩化アルミニウム、塩素酸アルミニウムなどがあ
る。これらは使用液におけるアルミニウムイオン濃度と
して、0.01〜0.15モル/リットルで含まれるこ
とが好ましい。
The fixing agent for the fixing solution in the present invention is not particularly limited, but ammonium thiosulfate, ammonium thiosulfate, sodium thiosulfate, and mixtures thereof can be preferably used. The amount of the fixing agent used can be appropriately changed. The concentration in the working solution is generally 0.7 to about 2.0 mol / liter. The fixing treatment agent in the present invention contains a water-soluble aluminum salt which acts as a hardener, and examples thereof include ammonium sulfate, potassium alum, ammonium alum, zinc alum, aluminum nitrate, aluminum chloride, aluminum chlorate and the like. . These are preferably contained in an amount of 0.01 to 0.15 mol / liter as the aluminum ion concentration in the used liquid.

【0200】本発明におけるアルミニウムの安定化剤と
しては、5−スルホサリチル酸、イミノジ酢酸、グルコ
ン酸ナトリウム、グルコヘプタン酸ナトリウム、リンゴ
酸、酒石酸が好ましい。
As the aluminum stabilizer in the present invention, 5-sulfosalicylic acid, iminodiacetic acid, sodium gluconate, sodium glucoheptanate, malic acid and tartaric acid are preferable.

【0201】中でも、グルコン酸、イミノジ酢酸、5−
スルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、それらの誘導
体、またはそれらの塩が好ましい。ここでグルコン酸は
ラクトン環をまいた無水物でもよい。前述の化合物の中
でもグルコン酸、イミノジ酢酸およびそれらのアルカリ
金属塩またはアンモニウム塩が特に好ましく、これらの
化合物は本発明の定着剤を水に溶解したときにおいて、
0.005〜0.2モル/リットル、好ましくは0.0
05〜0.1モル/リットルの濃度で用いられる。これ
らの化合物は、単独で用いても良いし、2種以上を併用
しても良い。さらに、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、コ
ハク酸、シュウ酸、マレイン酸、グリコール酸、安息香
酸、サリチル酸、タイロン、アスコルビン酸、グルタル
酸、アジピン酸などの有機酸、アスパラギン酸、グリシ
ン、システインなどのアミノ酸、エチレンジアミン四酢
酸、ジエチレントリアミン五酢酸、1,3−プロパンジ
アミン四酢酸、ニトリロ三酢酸などのアミノポリカルボ
ン酸や、糖類などと併用することも本発明の態様として
好ましい。
Among them, gluconic acid, iminodiacetic acid, 5-
Sulfosalicylic acid, glucoheptanoic acid, their derivatives, or their salts are preferred. Here, gluconic acid may be an anhydride having a lactone ring. Among the above-mentioned compounds, gluconic acid, iminodiacetic acid and their alkali metal salts or ammonium salts are particularly preferable, and when these compounds dissolve the fixing agent of the present invention in water,
0.005-0.2 mol / liter, preferably 0.0
Used at a concentration of 05-0.1 mol / l. These compounds may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, malic acid, tartaric acid, citric acid, succinic acid, oxalic acid, maleic acid, glycolic acid, benzoic acid, salicylic acid, tyron, ascorbic acid, glutaric acid, organic acids such as adipic acid, aspartic acid, glycine, cysteine, etc. The combined use with aminopolycarboxylic acids such as amino acids, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, 1,3-propanediaminetetraacetic acid and nitrilotriacetic acid, and sugars is also preferable as an embodiment of the present invention.

【0202】また、定着液には所望により保恒剤(たと
えば、亜硫酸塩、重亜硫酸塩など)、pH緩衝剤(たと
えば、酢酸、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、り
ん酸など)、pH調整剤(たとえば、水酸化ナトリウ
ム、アンモニア、硫酸など)、硬水軟化能のあるキレー
ト剤、特開昭62−78551号に記載の化合物、界面
活性剤、湿潤剤、定着促進剤などを含むことができる。
界面活性剤としては、たとえば硫酸化物、スルフィン酸
化物などのアニオン界面活性剤、ポリエチレン系界面活
性剤、特開昭57−6840号記載の両性界面活性剤が
あげられ、公知の消泡剤を使用することもできる。湿潤
剤としては、たとえばアルカノールアミン、アルキレン
グリコールなどがある。定着促進剤としては、たとえば
アルキルおよびアリル置換されたチオスルホン酸および
その塩や、特公昭45−35754号、同58−122
535号、同58−122536号記載のチオ尿素誘導
体、分子内に3重結合を有するアルコール、米国特許第
4,126,459号記載のチオエーテル化合物、特開
昭64−4739号、特開平1−4739号、同1−1
59645号および同3−101728号に記載のメル
カプト化合物、同4−170539号に記載のメソイオ
ン化合物、チオシアン酸アンモニウムを含むことができ
る。本発明における定着用固形剤(粉状、顆粒状、粒
状、塊状、ペースト状)並びに錠剤は、互いに接触して
反応する成分を隣接した層に持たないような複数の層か
ら構成されていても良いし、単一および/または互いに
反応しない複数成分のブレンドを水溶性のコーティング
剤および/または水溶性フィルムでコーティングして包
装しても良い。
If desired, the fixer may contain preservatives (eg, sulfite, bisulfite, etc.), pH buffers (eg, acetic acid, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, phosphoric acid, etc.), and pH adjusters (eg. For example, sodium hydroxide, ammonia, sulfuric acid, etc.), a chelating agent having the ability to soften water, a compound described in JP-A-62-78551, a surfactant, a wetting agent, a fixing accelerator and the like can be contained.
Examples of the surfactant include anionic surfactants such as sulfates and sulfin oxides, polyethylene-based surfactants and amphoteric surfactants described in JP-A-57-6840, and known defoaming agents are used. You can also do it. Examples of the wetting agent include alkanolamine and alkylene glycol. Examples of the fixing accelerator include alkyl- and allyl-substituted thiosulfonic acids and salts thereof, and JP-B-45-35754 and JP-B-58-122.
Thiourea derivatives described in JP-A Nos. 535 and 58-122536, alcohols having a triple bond in the molecule, thioether compounds described in U.S. Pat. No. 4,126,459, JP-A-64-4739, JP-A-1-47939. No. 4739, 1-1
The mercapto compounds described in Nos. 59645 and 3-101728, the mesoionic compound described in No. 4-170539, and ammonium thiocyanate can be included. The fixing solid agent (powder, granule, granule, lump, paste) and tablet of the present invention may be composed of a plurality of layers such that adjacent layers do not have components that react with each other when they contact each other. Alternatively, a single and / or a blend of multiple components that do not react with each other may be coated with a water-soluble coating agent and / or a water-soluble film and packaged.

【0203】本発明における定着用固形剤および錠剤の
製法は、公知のいずれの方法を用いることができる。た
とえば包装方法としては、特開昭61−259921
号、特開平4−16841号、同4−78848号に記
載の方法を使用することができる。また固形化および錠
剤化の方法としては、特開平4−85533号、同4−
85534号、同4−85535号、同5−13436
2号、同5−197090号、同5−204098号、
同5−224361号、同6−138604号、同6−
138605号等に記載の方法を使用することができ
る。
Any known method can be used for producing the fixing solid agent and the tablet in the present invention. For example, as a packaging method, there is JP-A-61-259921.
The methods described in JP-A-4-16841 and JP-A-4-78848 can be used. Further, as a method of solidification and tableting, there are disclosed in JP-A-4-85533 and JP-A-4-85533.
No. 85534, No. 4-85535, No. 5-13436.
No. 2, No. 5-197090, No. 5-204098,
No. 5-224361, No. 6-138604, No. 6-
The method described in 138605 or the like can be used.

【0204】本発明の処理剤の溶解および補充の方法と
しては、攪拌機能を有する溶解装置で一定量を溶解し、
補充する方法、溶解部分と完成液をストックする部分と
を有する溶解装置で溶解し、ストック部から補充する方
法、自動現像機の循環系に処理に応じて処理剤を投入し
て溶解・補充する方法、溶解槽を内蔵する自動現像機で
溶解・補充する方法などがあるが、この他の公知のいず
れの方法を用いる事もできる。
As a method of dissolving and replenishing the treating agent of the present invention, a certain amount is dissolved with a dissolving device having a stirring function,
Method of replenishing, dissolving with a dissolving device having a dissolving portion and a portion for stocking the completed liquid, replenishing from the stock portion, adding a treating agent to the circulating system of the automatic developing machine according to the treatment to dissolve and replenish There are methods such as a method and a method of dissolving and replenishing with an automatic developing machine having a dissolving tank built therein, and any other known method can be used.

【0205】本発明の定着処理剤の溶解時のpHは4.
0以上、好ましくは4.6〜5.5である。また定着液
の補充量は、感光材料の処理量に対して600ml/m2
下であり、好ましくは500ml/m2〜60ml/m2であ
る。
The pH of the fixing processing agent of the present invention when dissolved is 4.
It is 0 or more, preferably 4.6 to 5.5. The replenishing amount of the fixing solution is 600 ml / m 2 or less with respect to the processing amount of light-sensitive material, preferably 500ml / m 2 ~60ml / m 2 .

【0206】現像、定着処理が済んだ感光材料は、次い
で水洗または安定化処理される。水洗または安定化処理
は、水洗水量は通常ハロゲン化銀感光材料1m2当り、2
0リットル以下で行われ、3リットル以下の補充量(0
も含む、すなわちため水水洗)で行うこともできる。す
なわち、節水処理が可能となるのみならず、自現機設置
の配管を不要とすることができる。水洗水の補充量を少
なくする方法として、古くより多段向流方式(例えば2
段、3段など)が知られている。この多段向流方式を本
発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に正常な方
向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触
して処理されていくので、さらに効率の良い水洗がなさ
れる。水洗を少量の水で行う場合は、特開昭63−18
350号、同62−287252号などに記載のスクイ
ズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設ける
ことがより好ましい。あるいは、また、少量水洗時に問
題となる公害負荷低減のために種々の酸化剤添加やフィ
ルター濾過を組み合わせてもよい。更に、本発明の方法
で水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に応
じて補充することによって生ずる水洗又は安定化浴から
のオーバーフロー液の一部又は全部は特開昭60−23
5133号に記載されているようにその前の処理工程で
ある定着能を有する処理液に利用することもできる。ま
た、少量水洗時に発生し易い水泡ムラ防止および/また
はスクイズローラーに付着する処理剤成分が処理された
フィルムに転写することを防止するために水溶性界面活
性剤や消泡剤を添加してもよい。また、感光材料から溶
出した染料による汚染防止に、特開昭63−16345
6号記載の色素吸着剤を水洗槽に設置してもよい。ま
た、前記水洗処理に続いて安定化処理する場合もあり、
その例として特開平2−201357号、同2−132
435号、同1−102553号、特開昭46−444
46号に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴
として使用してもよい。この安定浴にも必要に応じてア
ンモニウム化合物、Bi、Alなどの金属化合物、蛍光
増白剤、各種キレート剤、膜pH調節剤、硬膜剤、殺菌
剤、防かび剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加え
ることもできる。水洗工程もしくは安定化工程に用いら
れる水としては水道水のほか脱イオン処理した水やハロ
ゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤(オゾン、過酸化水
素、塩素酸塩など)等によって殺菌された水を使用する
ことが好ましいし、また、特開平4−39652号、特
開平5−241309号記載の化合物を含む水洗水を使
用してもよい。水洗または安定浴温度及び時間は0〜5
0℃、5秒〜2分が好ましい。
The light-sensitive material which has been developed and fixed is then washed with water or stabilized. In the washing or stabilizing treatment, the washing water amount is usually 2 m 2 per m 2 of the silver halide photosensitive material.
It is performed at 0 liters or less, and a replenishment amount (0 liters or less
In other words, it can also be carried out by washing with water. That is, not only water saving processing can be performed, but also piping for installing the automatic processing machine can be eliminated. As a method for reducing the replenishing amount of washing water, a multi-stage countercurrent method (for example, 2
Stage, three stage, etc.) are known. If this multi-stage countercurrent method is applied to the present invention, the photosensitive material after fixing is gradually processed in the normal direction, that is, the processing solution which is not stained with the fixing solution is sequentially contacted, so that the efficiency is further improved. Washing is performed. When the washing with water is carried out with a small amount of water, JP-A-63-18
It is more preferable to provide a washing tank for a squeeze roller and a crossover roller described in JP-A Nos. 350 and 62-287252. Alternatively, various oxidizing agents may be added or a filter may be combined to reduce the pollution load which is a problem when washing with a small amount of water. Further, part or all of the overflow liquid from the washing or stabilizing bath produced by replenishing the water subjected to the antifungal means to the washing or stabilizing bath by the method of the present invention according to the treatment is disclosed in 23
As described in JP-A No. 5133, it can be used for a processing solution having a fixing ability which is a preceding processing step. Further, a water-soluble surfactant or an antifoaming agent may be added in order to prevent water bubble unevenness that tends to occur when washing with a small amount of water and / or to prevent the processing agent component attached to the squeeze roller from being transferred to the processed film. Good. Further, in order to prevent contamination by the dye eluted from the photosensitive material, JP-A-63-16345
The dye adsorbent described in No. 6 may be installed in a washing tank. In addition, a stabilization process may be performed following the water washing process,
Examples thereof include JP-A-2-201357 and JP-A-2-132.
No. 435, No. 1-102553, JP-A-46-444.
A bath containing the compound described in No. 46 may be used as a final bath of the light-sensitive material. Also in this stabilizing bath, if necessary, ammonium compounds, metal compounds such as Bi and Al, optical brighteners, various chelating agents, film pH adjusting agents, film hardening agents, bactericides, fungicides, alkanolamines and surface active agents. Agents can also be added. The water used in the washing step or the stabilization step includes tap water, deionized water, halogen, ultraviolet sterilizing lamp, and water sterilized by various oxidizing agents (ozone, hydrogen peroxide, chlorate, etc.). It is preferable to use, and washing water containing the compounds described in JP-A-4-39652 and JP-A-5-241309 may be used. Washing or stabilizing bath temperature and time are 0-5
0 ° C. and 5 seconds to 2 minutes are preferable.

【0207】本発明に用いられる処理液は特開昭61−
73147号に記載された酸素透過性の低い包材で保管
することが好ましい。補充量を低減する場合には処理槽
の空気との接触面積を小さくすることによって液の蒸
発、空気酸化を防止することが好ましい。ローラー搬送
型の自動現像機については米国特許第3025779号
明細書、同第3545971号明細書などに記載されて
おり、本明細書においては単にローラー搬送型プロセッ
サーとして言及する。ローラー搬送型プロセッサーは現
像、定着、水洗及び乾燥の四工程からなっており、本発
明の方法も、他の工程(例えば、停止工程)を除外しな
いが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。水洗工
程の代わりに安定工程による四工程でも構わない。
The treatment liquid used in the present invention is disclosed in JP-A-61-161.
It is preferable to store the packaging material having low oxygen permeability described in No. 73147. When the replenishment rate is reduced, it is preferable to prevent evaporation of the liquid and air oxidation by reducing the contact area of the processing tank with the air. The roller-conveying type automatic developing machine is described in U.S. Pat. Nos. 3,025,779 and 3,545,971, and is referred to simply as a roller-conveying type processor in this specification. The roller conveyance type processor comprises four steps of developing, fixing, washing and drying, and the method of the present invention does not exclude other steps (for example, stopping step), but it is most preferable to follow these four steps. . Four steps of a stabilization step may be used instead of the washing step.

【0208】本発明で用いられる固形処理剤は、粉末、
錠剤、顆粒、粉末、塊状又はペースト状のものが用いら
れ、好ましい形態は、特開昭61−259921号記載
の形態あるいは錠剤である。錠剤の製造方法は、例えば
特開昭51−61837号、同54−155038号、
同52−88025号、英国特許1,213,808号
等に記載される一般的な方法で製造でき、更に顆粒処理
剤は、例えば特開平2−109042号、同2−109
043号、同3−39735号及び同3−39739号
等に記載される一般的な方法で製造できる。更に又、粉
末処理剤は、例えば特開昭54−133332号、英国
特許725,892号、同729,862号及びドイツ
特許3,733,861号等に記載されるが如き一般的
な方法で製造できる。
The solid processing agent used in the present invention is powder,
Tablets, granules, powders, lumps, or pastes are used, and the preferred form is the form or tablet described in JP-A-61-259921. The method for producing tablets is described in, for example, JP-A Nos. 51-61837 and 54-155038.
No. 52-88025, British Patent No. 1,213,808, and the like, and can be produced by a general method. Further, as a granule treating agent, for example, JP-A Nos. 2-109042 and 2-109.
It can be produced by a general method described in Nos. 043, 3-39735 and 3-39739. Further, the powder treating agent can be prepared by a general method as described in, for example, JP-A-54-133332, British Patents 725,892 and 729,862, and German Patent 3,733,861. Can be manufactured.

【0209】本発明の固形処理剤の高密度は、その溶解
性の観点と、本発明の目的の効果の点から、0.5〜
6.0g/cm3 のものが好ましく、特に1.0〜5.0
g/cm 3 のものが好ましい。
The high density of the solid processing agent of the present invention means that its dissolution
From the viewpoint of sex and the effect of the object of the present invention, 0.5 to
6.0 g / cmThreeThose of 1.0 to 5.0 are particularly preferable.
g / cm ThreeAre preferred.

【0210】“少なくとも2種の相互に反応性の粒状物
質を持ち、反応性物質の隣接する層に対して不活性な物
質による少なくとも一つの介在分離層によって分離され
た層になるように2種の反応性物質を置き、真空包装可
能な袋を包材とし、袋内から排気しシールすることを特
徴とする固形処理剤”において、不活性という言葉は物
質が互いに物理的に接触されたときにパッケージ内の通
常の状態下で反応しないこと、又は何らかの反応があっ
ても著しくないことを意味する。不活性物質は、二つの
相互に反応性の物質に対して不活性であることは別にし
て、二つの反応性の物質が意図される使用において不活
発であればよい。さらに不活性物質は二つの反応性物質
と同時に用いられる物質である。例えば、現像液におい
てハイドロキノンと水酸化ナトリウムは直接接触すると
反応してしまうので、真空包装においてハイドロキノン
と水酸化ナトリウムの間に分別層として亜硫酸ナトリウ
ム等を使うことで長期間パッケージ中に保存できる。こ
れらの真空包装材料の包材として用いられるのは不活性
なプラスチックフィルム、プラスチック物質と金属箔の
ラミネートから作られたバッグである。
"Two types of particles having at least two mutually reactive particulate materials, separated by at least one intervening separation layer of a material inert to adjacent layers of reactive materials. In a solid processing agent characterized by placing a reactive substance of, a vacuum-packable bag as a packaging material, and evacuating and sealing the bag, the word "inert" means that when the substances are in physical contact with each other. It means that it does not react under normal conditions in the package, or that there is no reaction if there is any reaction. The inert substance, apart from being inert to the two mutually reactive substances, need only be inert in the intended use of the two reactive substances. Furthermore, an inert substance is a substance that is used simultaneously with two reactive substances. For example, since hydroquinone and sodium hydroxide react with each other in a developing solution when they come into direct contact, they can be stored in a package for a long period of time by using sodium sulfite or the like as a separation layer between hydroquinone and sodium hydroxide in vacuum packaging. Used as packaging materials for these vacuum packaging materials are bags made from a laminate of inert plastic film, plastic material and metal foil.

【0211】本発明の感光材料に用いられる各種添加
剤、現像処理方法等に関しては、特に制限は無く、例え
ば下記箇所に記載されたものを好ましく用いることが出
来る。 項目 該当箇所 1)分光増感色素 特開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目から 同右下欄4行目、同2−103536号公報第16頁右 下欄3行目から同第17頁左下欄20行目、さらに特開 平1−112235号、同2−124560号、同3− 7928号、特願平3−189532号及び同3−41 1064号に記載の分光増感色素。 2)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目から同 右下欄7行目、及び特開平2−18542号公報第2頁 左下欄13行目から同第4頁右下欄18行目。 3)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19行目 から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行目から5 行目、さらに特開平1−237538号公報に記載のチ オスルフィン酸化合物。 4)ポリマーラテッ 特開平2−103536号公報第18頁左下欄12行目 クス から同20行目。 5)酸基を有する化 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行目か 合物 ら同19行目左上欄1行目。 6)マット剤・滑り 特開平2−103536号公報第19頁左上欄15行目 剤・可塑剤 から同第19頁右上欄15行目。 7)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行目か ら同17行目。 8)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行目か ら同18行目の染料、同2−294638号公報及び特 願平3−185773号に記載の固体染料。 9)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目から2 0行目。 10) 黒ポツ防止剤 米国特許第4956257号及び特開平1−11883 2号公報に記載の化合物 11) レドックス化合 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表され 物 る化合物(特に化合物例1ないし50)、同3−174 143号公報第3頁ないし第20頁に記載の一般式(R −1)、(R−2)、(R−3)、化合物例1ないし7 5、さらに特願平3−69466号、同3−15648 号に記載の化合物。 12) モノメチン化合 特開平2−287532号公報の一般式(II)の化合物 物 (特に化合物II−1ないしII−26)。 13) ジヒドロキシベ 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から第12 ンゼン類 頁左下欄の記載、及びEP452772A号公報に記載 の化合物。
There are no particular restrictions on the various additives used in the light-sensitive material of the present invention and the development processing method. For example, those described in the following sections can be preferably used. Item Applicable place 1) Spectral sensitizing dye JP-A-2-12236, page 8, lower left column, line 13 to same, right lower column, line 4, and JP-A 2-103536, page 16, lower right column, line 3 to the same Page 17, lower left column, line 20, and spectral sensitizing dyes described in JP-A Nos. 1-112235, 2-124560, 3-79928, Japanese Patent Application Nos. 3-189532 and 3-41, 1064. . 2) Surfactant JP-A-2-12236, page 9, upper right column, line 7 to lower right column, line 7 and JP-A-2-18542, page 2, lower left column, line 13 to page 4, Lower right column, line 18. 3) Antifoggant JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 19 to page 18, upper right column, line 4 and lower right column, lines 1 to 5, further JP-A-1-237538 The thiosulfinic acid compound described in the official gazette. 4) Polymer Latte JP-A-2-103536, page 18, lower left column, line 12 to line 20. 5) Compounds having an acid group JP-A-2-103536, page 18, lower right column, line 6 to compound 19th line, upper left column, first line. 6) Mat agent / slip JP-A-2-103536, page 19, upper left column, line 15 From agent / plasticizer, page 19, upper right column, line 15 7) Hardener JP-A-2-103536, page 18, upper right column, line 5 to line 17 8) Dyes: Dyes from the lower right column, lines 1 to 18 of page 17, JP-A-2-103536, the solid dyes described in JP-A-2-294638 and JP-A-3-185773. 9) Binder JP-A-2-18542, page 3, lower right column, lines 1 to 20. 10) Anti-black spot agent Compounds described in U.S. Pat. No. 4,956,257 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-131832 11) Redox compound Compounds represented by the general formula (I) in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-301743 (especially compound Examples 1 to 50), the general formulas (R -1), (R-2) and (R-3) described in JP-A 3-174 143, page 3 to page 20, compound examples 1 to 75, Further, the compounds described in Japanese Patent Application Nos. 3-69466 and 3-15648. 12) Monomethine compound Compounds of general formula (II) described in JP-A-2-287532 (particularly compounds II-1 to II-26). 13) Dihydroxybe Compounds described in JP-A-3-39948, page 11, upper left column to twelfth genus, page lower left column, and EP452772A.

【0212】[0212]

【実施例】【Example】

実施例1 <乳剤の調製> 乳剤Aの調製 反応容器にゼラチン水溶液1582ml(ゼラチン−1
(メチオニン含率が約40μモル/gの脱イオン化カル
カリ処理骨ゼラチン)19.5g、HNO3 1N液7.
8mlを含み、pH4.3)、NaCl−1液(100ml
中にNaCl 10gを含む)を13ml入れ、温度を4
0℃に保ちながら、Ag−1液(100ml中にAgNO
3 20gを含む)とX−1液(100ml中にNaCl
7.05gを含む)を62.4ml/分で15.6mlずつ
同時混合添加した。3分間攪拌した後、Ag−2液(1
00ml中にAgNO3 2gを含む)とX−2液(100
ml中にKBr 4.2gを含む)を80.6ml/分で2
8.2mlずつ同時混合した。3分間攪拌した後、Ag−
1液とX−1液を62.4ml/分で46.8mlずつ同時
混合添加した。2分間攪拌した後、ゼラチン水溶液20
3ml(ゼラチン−113g、NaCl 1.3g、pH
6.0にするためにNaOH1N液を含む)を加え、p
Clを1.8とした後、温度を75℃に昇温し、pCl
を1.8とした後42分間熟成した。AgCl微粒子乳
剤(平均粒子直径0.1μm )を2.68×10-2モル
/分のAgClの添加速度で20分添加した。添加後1
0分間熟成した後、沈降剤を加え、温度を35℃に下
げ、沈降水洗した。ゼラチン水溶液を加え、60℃でp
H6.0に調節した。得られた乳剤は、銀を基準として
AgBrを1.3モル%含む高塩化銀(100)平板粒
子であった。該粒子の形状特性値は表1のようであっ
た。同様の方法で、X−1液およびX−2液のKBr添
加量、粒子調製中の温度を調整することにより表1の様
な乳剤B〜Gを調製した。
Example 1 <Preparation of emulsion> Preparation of emulsion A 1582 ml of gelatin aqueous solution (gelatin-1) was placed in a reaction vessel.
(Deionized calcari-treated bone gelatin having a methionine content of about 40 μmol / g) 19.5 g, HNO 3 1N liquid 7.
8 ml, pH 4.3), NaCl-1 solution (100 ml
13 ml of NaCl (containing 10 g of NaCl therein),
While maintaining the temperature at 0 ° C., the Ag-1 solution (AgNO
3 containing 20 g) and X-1 solution (NaCl in 100 ml)
(Including 7.05 g) was simultaneously mixed and added at 62.4 ml / min in 15.6 ml portions. After stirring for 3 minutes, the Ag-2 solution (1
100 ml of AgNO 3 in 2 ml) and X-2 solution (100
(containing 4.2 g of KBr in 8 ml) at 80.6 ml / min.
8.2 ml was mixed simultaneously. After stirring for 3 minutes, Ag-
Solution 1 and solution X-1 were simultaneously mixed and added at a rate of 62.4 ml / min in 46.8 ml portions. After stirring for 2 minutes, aqueous gelatin solution 20
3 ml (gelatin-113 g, NaCl 1.3 g, pH
NaOH 1N solution was added to make it 6.0), and p
After setting Cl to 1.8, the temperature is raised to 75 ° C. and pCl
And then aged for 42 minutes. An AgCl fine grain emulsion (average grain diameter 0.1 μm) was added for 20 minutes at an addition rate of 2.68 × 10 −2 mol / min AgCl. 1 after addition
After aging for 0 minutes, a precipitating agent was added, the temperature was lowered to 35 ° C., and the precipitate was washed with water. Add an aqueous gelatin solution and p
H was adjusted to 6.0. The resulting emulsion was high silver chloride (100) tabular grains containing 1.3 mol% of AgBr based on silver. The shape characteristic values of the particles are shown in Table 1. Emulsions B to G as shown in Table 1 were prepared in the same manner by adjusting the amount of KBr added to solutions X-1 and X-2 and the temperature during grain preparation.

【0213】乳剤Hの調製 0.13Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり1.5×
10-7モルに相当するK2Rh(H2O)Cl5および2×10-7
ルに相当するK3IrCl6 を含み、0.04Mの臭化カリウ
ムと0.09Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶
液を、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル−2−イミ
ダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液に、攪拌し
ながら38℃で12分間ダブルジェット法により添加
し、平均粒子サイズ0.13μm、塩化銀含有率70モ
ル%の塩臭化銀粒子を得ることにより核形成を行った。
続いて同様に0.87Mの硝酸銀水溶液と0.26Mの
臭化カリウムと、0.65Mの塩化ナトリウムを含むハ
ロゲン塩水溶液をダブルジェット法により20分間かけ
て添加した。
Preparation of Emulsion H 0.13 M silver nitrate aqueous solution and 1.5 × per mol of silver
Contains 10 -7 moles of K 2 Rh (H 2 O) Cl 5 and 2 × 10 -7 moles of K 3 IrCl 6 , containing 0.04 M potassium bromide and 0.09 M sodium chloride. The halogen salt aqueous solution was added to a gelatin aqueous solution containing sodium chloride and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinethione by stirring with a double jet method at 38 ° C. for 12 minutes to obtain an average particle size of 0.13 μm and containing silver chloride. Nucleation was performed by obtaining silver chlorobromide grains having a rate of 70 mol%.
Subsequently, similarly, a 0.87 M silver nitrate aqueous solution, a 0.26 M potassium bromide, and a halogen salt aqueous solution containing 0.65 M sodium chloride were added over 20 minutes by the double jet method.

【0214】その後それぞれの乳剤に1×10-3モルの
KI溶液を加えてコンバージョンを行い常法に従ってフ
ロキュレーション法により水洗し、銀1モルあたりゼラ
チン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調製
し、温度を60℃として本発明の増感色素および下記の
比較化合物を銀1モルあたり5×10-4モル、表1に示
すように添加した。さらに銀1モルあたりベンゼンチオ
スルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスルフィン酸2m
g、塩化金酸8mg、チオシアン酸カリウム200mgおよ
びチオ硫酸ナトリウム5mgを加え、60℃で45分間加
熱し化学増感を施した後、安定剤として4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン1
50mgを加え、さらに防腐剤としてプロキセル100mg
を加えた。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ0.
25μm 、塩化銀含有率69.9モル%の沃塩臭化銀立
方体粒子であった。(変動係数10%) 乳剤A〜Hの特性値を表1に示す。
Thereafter, 1 × 10 −3 mol of KI solution was added to each emulsion for conversion, and the emulsion was washed with water by a flocculation method according to a conventional method, and 40 g of gelatin was added per mol of silver, pH 6.5 and pAg 7.5. Then, the sensitizing dye of the present invention and the following comparative compound were added at 5 × 10 −4 mol per mol of silver as shown in Table 1 at a temperature of 60 ° C. Furthermore, 7 mg of sodium benzenethiosulfonate and 2 m of benzenesulfinic acid per mol of silver
g, 8 mg of chloroauric acid, 200 mg of potassium thiocyanate and 5 mg of sodium thiosulfate were added and chemically sensitized by heating at 60 ° C. for 45 minutes, and then 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a as a stabilizer. , 7-Tetrazaindene 1
50mg was added, and proxel 100mg was added as a preservative.
Was added. The obtained particles each have an average particle size of 0.
The silver iodochlorobromide cubic grains had a size of 25 μm and a silver chloride content of 69.9 mol%. (Variation coefficient 10%) Table 1 shows characteristic values of Emulsions A to H.

【0215】[0215]

【表1】 [Table 1]

【0216】これらの乳剤を凝集法により脱塩処理後、
ゼラチン62g、フェノキシエタノール1.75gを加
え、pH6.5、pAg8.5gに合わせた。
After desalting these emulsions by a coagulation method,
62 g of gelatin and 1.75 g of phenoxyethanol were added to adjust to pH 6.5 and pAg 8.5 g.

【0217】<化学増感>以上の如く調製した粒子A〜
Hを攪拌しながら60℃に保った状態で化学増感を施し
た。まず、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをハロゲ
ン化銀1モルあたり10-4モル添加し、つぎに直径0.
10μm のAgBr微粒子を全銀量に対し1.0モル%
添加し、引き続き直径0.01μm のAgI微粒子を全
銀量に対し0.1モル%添加し、さらに二酸化チオ尿素
を1×10-6モル/モルAg添加し、22分間そのまま
保持して還元増感を施した。つぎに4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,3a,7−テトラアザインデンを3
×10-4モル/モルAgと増感色素D−1、D−2をそ
れぞれ5×10-4モル/モルAg添加した。さらに塩化
カルシウムを添加した。引き続きチオ硫酸ナトリウム
(6×10-6モル/モルAg)及びセレン化合物−I
(4×10-6モル/モルAg)を添加した。さらに塩化
金酸1×10-5モル/モルAgおよびチオシアン酸カリ
ウム3.0×10-3モル/モルAgを添加し、40分後
に35℃に冷却した。
<Chemical sensitization> Particle A prepared as described above
Chemical sensitization was performed while H was maintained at 60 ° C. with stirring. First, sodium benzenethiosulfonate was added in an amount of 10 −4 mol per mol of silver halide, and then a diameter of 0.
10 μm AgBr fine particles 1.0 mol% based on the total silver amount
Then, AgI fine particles with a diameter of 0.01 μm were added in an amount of 0.1 mol% with respect to the total amount of silver, and thiourea dioxide was added in an amount of 1 × 10 −6 mol / mol Ag, and the mixture was maintained for 22 minutes to reduce and increase I made a sense. Then 4-hydroxy-6
-Methyl-1,3,3a, 7-tetraazaindene to 3
× 10 -4 mol / mol Ag and sensitizing dyes D-1 and D-2 were added at 5 × 10 -4 mol / mol Ag, respectively. Further calcium chloride was added. Then sodium thiosulfate (6 × 10 −6 mol / mol Ag) and selenium compound-I
(4 × 10 −6 mol / mol Ag) was added. Further, 1 × 10 −5 mol / mol Ag of chloroauric acid and 3.0 × 10 −3 mol / mol Ag of potassium thiocyanate were added, and 40 minutes later, the mixture was cooled to 35 ° C.

【0218】[0218]

【化74】 Embedded image

【0219】<塗布試料の作成>塩化ビニリデンを含む
防湿層下塗りを有するポリエステルテレフタレートフィ
ルム支持体上に、支持体側から順次、EM層、PC層、
OC層の層構成になるよう塗布し、試料を作成した。以
下に各層の調製法とよび塗布量を示す。
<Preparation of Coated Sample> On a polyester terephthalate film support having a moisture-proof layer undercoat containing vinylidene chloride, an EM layer, a PC layer and a PC layer were sequentially formed from the support side.
A sample was prepared by coating so as to have a layer structure of the OC layer. The preparation method of each layer and the coating amount are shown below.

【0220】(EM)上記乳剤に、表2、表3に示す化
合物を加え、さらに銀1モルあたり5mgのKBr、3×
10-4モルの下記(a)で示されるメルカプト化合物、
2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキシキノリン
を加え、ヒドラジン誘導体H−1を1×10-4モル添加
し、造核促進剤として下記化合物A−1を4×10-4
ル、A−2を4×10-4モル添加した。さらに、N−オ
レイル−N−メチルタウリンナトリウム塩を20mg/
m2、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩20mg/
m2、(d)の化合物を15mg/m2、平均粒径0.02μ
m のコロイダルシリカを200mg/m2塗布されるように
添加し、(e)で示される水溶性ラテックスを100mg
/m2、ポリエチルアクリレートの分散物を150mg/
m2、メチルアクリレートと2−アクリルアミド−2−メ
チルプロパンスルホン酸ナトリウム塩と2−アセトアセ
トキシエチルメタクリレートのラテックス共重合体(重
量比88:5:7)を150mg/m2、コアシェル型ラテ
ックス(コア;スチレン/ブタジエン共重合体(重量比
37/63)、シェル;スチレン/2−アセトアセトキ
シエチルメタクリレート(重量比84/16)、コア/
シェル比=50/50)を150mg/m2、さらに硬膜剤
として1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール
を200mg/m2を加えた。溶液のpHは酢酸を用いて
5.5に調製した。また、膜面pHが表2、表3に示す
値になるように、クエン酸を添加した。それらを塗布銀
量2.8g/m2、ゼラチン1.3g/m2になるように塗
布した。
(EM) To the above emulsion, the compounds shown in Tables 2 and 3 were added, and further 5 mg of KBr per 1 mol of silver, 3 ×.
10 −4 mol of a mercapto compound represented by the following (a),
2 × 10 −3 mol of 5-chloro-8-hydroxyquinoline was added, 1 × 10 −4 mol of the hydrazine derivative H-1 was added, and 4 × 10 −4 mol of the following compound A-1 was used as a nucleation accelerator. , A-2 was added at 4 × 10 −4 mol. Further, 20 mg / N-oleyl-N-methyltaurine sodium salt
m 2 , dodecylbenzenesulfonic acid sodium salt 20 mg /
m 2 and (d) compound 15 mg / m 2 , average particle size 0.02 μ
200 mg / m 2 of colloidal silica of m 2 was added so that 100 mg of the water-soluble latex shown in (e) was added.
/ M 2 , polyethyl acrylate dispersion 150 mg /
m 2 , 150 mg / m 2 of a latex copolymer of methyl acrylate, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium salt and 2-acetoacetoxyethyl methacrylate (weight ratio 88: 5: 7), core-shell type latex (core Styrene / butadiene copolymer (weight ratio 37/63), shell; styrene / 2-acetoacetoxyethyl methacrylate (weight ratio 84/16), core /
(Shell ratio = 50/50) was added at 150 mg / m 2 , and 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol was added at 200 mg / m 2 as a hardening agent. The pH of the solution was adjusted to 5.5 using acetic acid. Further, citric acid was added so that the pH on the film surface became the values shown in Tables 2 and 3. They were coated such that the coated silver amount was 2.8 g / m 2 and gelatin was 1.3 g / m 2 .

【0221】(PC)ゼラチン0.5g/m2、ホリエチ
ルアクリレートの分散物250mg/m2、エチルスルホン
酸ナトリウムを5mg/m2、1,5−ジヒドロキシ−2−
ベンズアルドキシムを10mg/m2、染料(a)を5mg/
m2塗布した。 (OC)ゼラチン0.3g/m2、平均粒子サイズ約3.
5μm の不定形なSiO2 マット剤40mg/m2、平均粒
径0.02μm のコロイダルシリカ100mg/m2、メタ
ノールシリカ100mg/m2、ポリアクリルアミド100
mg/m2とシリコーンオイル20mg/m2と(f)で示され
る化合物を30mg/m2および塗布助剤として下記構造式
(g)で示されるフッ素界面活性剤5mg/m2とドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム50mg/m2を塗布した。
(PC) Gelatin 0.5 g / m 2 , dispersion of polyethyl acrylate 250 mg / m 2 , sodium ethylsulfonate 5 mg / m 2 , 1,5-dihydroxy-2-
Benzaldoxime 10 mg / m 2 , dye (a) 5 mg / m 2
m 2 was applied. (OC) Gelatin 0.3 g / m 2 , average particle size about 3.
An amorphous SiO 2 matting agent 40 mg / m 2 of 5 [mu] m, an average particle diameter of the colloidal silica 100 mg / m 2 of 0.02 [mu] m, Methanol Silica 100 mg / m 2, polyacrylamides 100
mg / m 2 , silicone oil 20 mg / m 2 and a compound represented by (f) 30 mg / m 2, and a fluorosurfactant 5 mg / m 2 represented by the following structural formula (g) as a coating aid and dodecylbenzene sulfone. 50 mg / m 2 of sodium acid was applied.

【0222】[0222]

【化75】 Embedded image

【0223】これらの塗布試料は下記組成のバック層お
よびバック保護層を有する。 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2 化合物〔a〕 110mg/m2
These coated samples have a back layer and a back protective layer having the following compositions. [Back layer formulation] Gelatin 3 g / m 2 latex Polyethyl acrylate 2 g / m 2 Surfactant sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40 mg / m 2 Compound [a] 110 mg / m 2

【0224】[0224]

【化76】 [Chemical 76]

【0225】 SnO2 /Sb(重量比90/10、平均粒径0.20μm)200mg/m2 染料 染料〔b〕、染料〔c〕、染料〔d〕、染料〔e〕の混合物 染料〔b〕 120mg/m2 染料〔c〕 50mg/m2 染料〔d〕 30mg/m2 染料〔e〕 30mg/m2 SnO 2 / Sb (weight ratio 90/10, average particle size 0.20 μm) 200 mg / m 2 dye Mixture of dye [b], dye [c], dye [d], dye [e] Dye [b ] 120 mg / m 2 dye [c] 50 mg / m 2 dye [d] 30 mg / m 2 dye [e] 30 mg / m 2

【0226】[0226]

【化77】 Embedded image

【0227】 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 [Back protective layer] Gelatin 0.8 mg / m 2 polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 4.5 μm) 30 mg / m 2 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium salt 15 mg / m 2 p-dodecylbenzenesulfonic acid Sodium 15 mg / m 2 Sodium acetate 40 mg / m 2

【0228】<露光、現像>作成した各試料は488nm
にピークを持つ干渉フィルターを介し、センシトメトリ
ー用光学ウエッジを通して発光時間10-5sec のキセノ
ンフラッシュ光で露光を与え、下記組成の現像液で35
℃30秒現像液後、定着、水洗、乾燥、処理を行った。
定着液は、富士写真フイルム株式会社製GR−F1を使
用した。現像には富士写真フイルム株式会社製FG−6
80AGを用いた。
<Exposure and development> Each sample prepared is 488 nm
Through an optical wedge for sensitometry through an interference filter having a peak at 1, and then exposed with xenon flash light with an emission time of 10 -5 sec, and a developing solution of the following composition
After developing at 30 ° C. for 30 seconds, fixing, washing with water, drying and processing were performed.
As the fixing solution, GR-F1 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used. FG-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
80AG was used.

【0229】 <現像液処方> 水酸化カリウム 40.0g ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0g 炭酸カリウム 60.0g メタ重亜硫酸ナトリウム 70.0g 臭化カリウム 3.0g ハイドロキノン 40.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.08g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル−3− ピラゾリドン 0.45g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸 ナトリウム 0.3g エリソルビン酸ナトリウム 6.0g 水酸化カリウムを加えて、水を加えて1リットルとし pHを10.5に合わせる。 <写真性の評価> (写真特性−1)塗布直後の試料から得られた性能。 (写真特性−2)温度50℃、湿度60%で3日間保存
した試料から得られた性能。
<Developer formulation> Potassium hydroxide 40.0 g Diethylenetriamine-pentaacetic acid 2.0 g Potassium carbonate 60.0 g Sodium metabisulfite 70.0 g Potassium bromide 3.0 g Hydroquinone 40.0 g 5-Methylbenzotriazole 0. 08 g 4-hydroxymethyl-4-methyl-1-phenyl-3-pyrazolidone 0.45 g 2-mercaptobenzimidazole-5-sulfonic acid sodium salt 0.3 g sodium erythorbate 6.0 g potassium hydroxide is added, and water is added. To 1 liter and adjust the pH to 10.5. <Evaluation of Photographic Property> (Photographic Property-1) Performance obtained from a sample immediately after coating. (Photographic property-2) Performance obtained from a sample stored at a temperature of 50 ° C. and a humidity of 60% for 3 days.

【0230】<写真性評価項目> (感度)濃度1.5を与える露光量の逆数の相対値で示
した。 (γ)画像のコントラストを示す指標として、特性曲線
のfog+濃度0.3の点からfog+濃度3.0の点
を直線で結び、この直線を傾きをγ値として表した。即
ちγ=(3.0−0.3)/〔log(濃度3.0を与
える露光量)−log(濃度0.3を与える露光量)〕
であり、γ値は大きいほど硬調な写真特性であることを
示している。 (Dmax, fog)それぞれ最大濃度、カブリ濃度を示した。
<Photographic Evaluation Items> (Sensitivity) The sensitivity is shown by the relative value of the reciprocal of the exposure dose. (Γ) As an index showing the contrast of the image, a point of fog + density 0.3 to a point of fog + density 3.0 of the characteristic curve was connected by a straight line, and this straight line was expressed as a γ value. That is, γ = (3.0-0.3) / [log (exposure amount giving density 3.0) -log (exposure amount giving density 0.3)]
The larger the γ value, the harder the photographic characteristics are. (Dmax, fog) shows the maximum density and fog density, respectively.

【0231】<圧力性の評価>25℃60%RH条件下
にて、直径0.1mmのサファイヤ針で0〜200gの連
続荷重で試料の表面を摩擦した後、上記現像液を用いて
現像処理を行ないカブリが発生する荷重を求めた。実用
的には、150g未満の荷重でカブリが発生しないこと
が好ましい。
<Evaluation of Pressure Property> Under the condition of 25 ° C. and 60% RH, the surface of the sample was rubbed with a sapphire needle having a diameter of 0.1 mm under a continuous load of 0 to 200 g, and then developed using the above developing solution. Then, the load at which fogging occurs was determined. Practically, it is preferable that fog does not occur under a load of less than 150 g.

【0232】結果を表2、表3に示す。The results are shown in Tables 2 and 3.

【0233】[0233]

【表2】 [Table 2]

【0234】[0234]

【表3】 [Table 3]

【0235】本発明のサンプルは、経時による写真性能
の変動が小さく、かつ圧力カブリも発生しにくい。
The sample of the present invention has little change in photographic performance with the passage of time and is less likely to cause pressure fog.

【0236】実施例2 <乳剤の調整、化学増感>実施例1の乳剤A〜Hを用
い、実施例1と同じ方法で化学増感を行った。但し、増
感色素はD−3を用いた。
Example 2 <Preparation of Emulsion, Chemical Sensitization> Emulsions A to H of Example 1 were used to carry out chemical sensitization in the same manner as in Example 1. However, D-3 was used as the sensitizing dye.

【0237】[0237]

【化78】 Embedded image

【0238】<塗布試料の作成>塩化ビニリデンを含む
防湿層下塗りを有するポリエチレンテレフタレートフィ
ルム支持体上に、支持体側から順次、UL層、EM層、
PC層、OC層の層構成になるよう塗布し、試料を作成
した。以下に各層の調製法とよび塗布量を示す。 (UL)UL層として、ゼラチンを0.5g/m2、ポリ
エチルアクリレートの分散物を150mg/m2、下記染料
〔a〕を5mg/m2、化合物(a)を5mg/m2塗布した。
<Preparation of Coating Sample> On a polyethylene terephthalate film support having a moistureproof layer undercoat containing vinylidene chloride, a UL layer, an EM layer, and a support layer were sequentially formed from the support side.
A sample was prepared by coating so as to have a PC layer and an OC layer. The preparation method of each layer and the coating amount are shown below. (UL) as a UL layer, gelatin 0.5 g / m 2, dispersion of 150 mg / m 2 of polyethyl acrylate, following dye [a] 5 mg / m 2, the compound (a) was 5 mg / m 2 coating .

【0239】(EM)上記乳剤に、表4に示す化合物を
加え、さらに銀1モルあたり5mgのKBr、3×10-4
モルの下記(b)で示されるメルカプト化合物、2×1
-3モルの5−クロル−8−ヒドロキシキノリンを加
え、ヒドラジン誘導体H−2を1×10-4モル添加し、
造核促進剤として下記化合物A−1を4×10-4モル、
A−2を4×10-4モル添加した。さらに、N−オレイ
ル−N−メチルタウリンナトリウム塩を20mg/m2、ド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩20mg/m2
(e)の化合物を15mg/m2、平均粒径0.02μm の
コロイダルシリカを200mg/m2塗布されるように添加
し、(f)で示される水溶性ラテックスを100mg/
m2、ポリエチルアクリレートの分散物を150mg/m2
メチルアクリレートと2−アクリルアミド−2−メチル
プロパンスルホン酸ナトリウム塩と2−アセトアセトキ
シエチルメタクリレートのラテックス共重合体(重量比
88:5:7)を150mg/m2、コアシェル型ラテック
ス(コア;スチレン/ブタジエン共重合体(重量比37
/63)、シェル;スチレン/2−アセトアセトキシエ
チルメタクリレート(重量比84/16)、コア/シェ
ル比=50/50)を150mg/m2、さらに硬膜剤とし
て1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノールを2
00mg/m2を加えた。溶液のpHは酢酸を用いて5.5
に調製した。また、膜面pHが表3に示す値になるよう
に、クエン酸を添加した。それらを塗布銀量3.5g/
m2、ゼラチン1.5g/m2になるように塗布した。
(EM) To the above emulsion, the compounds shown in Table 4 were added, and further, 5 mg of KBr per mol of silver, 3 × 10 -4.
Molar mercapto compound represented by the following (b), 2 × 1
0 -3 mol of 5-chloro-8-hydroxyquinoline was added, the hydrazine derivative H-2 was added 1 × 10 -4 mol,
4 × 10 −4 mol of the following compound A-1 as a nucleation accelerator,
4 × 10 −4 mol of A-2 was added. Further, N-oleyl-N-methyltaurine sodium salt 20 mg / m 2 , dodecylbenzenesulfonic acid sodium salt 20 mg / m 2 ,
The compound (e) was added in an amount of 15 mg / m 2 , colloidal silica having an average particle size of 0.02 μm was added so as to be applied in an amount of 200 mg / m 2 , and the water-soluble latex represented by (f) was added in an amount of 100 mg / m 2.
m 2 , 150 mg / m 2 of polyethyl acrylate dispersion,
150 mg / m 2 of a latex copolymer of methyl acrylate, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium salt and 2-acetoacetoxyethyl methacrylate (weight ratio 88: 5: 7), core-shell type latex (core; styrene / Butadiene copolymer (weight ratio 37
/ 63), shell; styrene / 2-acetoacetoxyethylmethacrylate (weight ratio 84/16), core / shell ratio = 50/50) 150 mg / m 2 , and 1,3-divinylsulfonyl-2 as a hardener. -2 propanol
00 mg / m 2 was added. The pH of the solution was 5.5 using acetic acid.
Was prepared. Further, citric acid was added so that the pH on the film surface became the value shown in Table 3. The amount of silver coated on them is 3.5 g /
m 2 and gelatin 1.5 g / m 2 .

【0240】(PC)ゼラチン0.5g/m2、ホリエチ
ルアクリレートの分散物250mg/m2、エチルスルホン
酸ナトリウムを5mg/m2、1,5−ジヒドロキシ−2−
ベンズアルドキシムを10mg/m2塗布した。 (OC)ゼラチン0.3g/m2、平均粒子サイズ約3.
5μm の不定形なSiO2 マット剤40mg/m2、平均粒
径0.02μm のコロイダルシリカ100mg/m2、メタ
ノールシリカ100mg/m2、ポリアクリルアミド100
mg/m2とシリコーンオイル20mg/m2と(g)で示され
る化合物を30mg/m2および塗布助剤として下記構造式
(h)で示されるフッ素界面活性剤5mg/m2とドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム50mg/m2を塗布した。
(PC) Gelatin 0.5 g / m 2 , dispersion of polyethyl acrylate 250 mg / m 2 , sodium ethylsulfonate 5 mg / m 2 , 1,5-dihydroxy-2-
Benzaldoxime was applied at 10 mg / m 2 . (OC) Gelatin 0.3 g / m 2 , average particle size about 3.
An amorphous SiO 2 matting agent 40 mg / m 2 of 5 [mu] m, an average particle diameter of the colloidal silica 100 mg / m 2 of 0.02 [mu] m, Methanol Silica 100 mg / m 2, polyacrylamides 100
30 mg / m 2 of a compound represented by mg / m 2 , silicone oil 20 mg / m 2 and (g) and 5 mg / m 2 of a fluorosurfactant represented by the following structural formula (h) as a coating aid and dodecylbenzene sulfone. 50 mg / m 2 of sodium acid was applied.

【0241】[0241]

【化79】 Embedded image

【0242】これらの塗布試料は下記組成のバック層お
よびバック保護層を有する。 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2 化合物〔a〕 110mg/m2
These coated samples have a back layer and a back protective layer having the following compositions. [Back layer formulation] Gelatin 3 g / m 2 latex Polyethyl acrylate 2 g / m 2 Surfactant sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40 mg / m 2 Compound [a] 110 mg / m 2

【0243】[0243]

【化80】 Embedded image

【0244】 SnO2 /Sb(重量比90/10、平均粒径0.20μm)200mg/m2 染料 染料〔b〕、染料〔c〕、染料〔d〕の混合物 染料〔b〕 40mg/m2 染料〔c〕 20mg/m2 染料〔d〕 90mg/m2 SnO 2 / Sb (weight ratio 90/10, average particle size 0.20 μm) 200 mg / m 2 dye Mixture of dye [b], dye [c] and dye [d] dye [b] 40 mg / m 2 Dye [c] 20 mg / m 2 Dye [d] 90 mg / m 2

【0245】[0245]

【化81】 Embedded image

【0246】 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 [Back protective layer] Gelatin 0.8 mg / m 2 polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 4.5 μm) 30 mg / m 2 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium salt 15 mg / m 2 p-dodecylbenzenesulfonic acid Sodium 15 mg / m 2 Sodium acetate 40 mg / m 2

【0247】<露光、現像>作成した各試料は633nm
にピークを持つ干渉フィルターを介し、センシトメトリ
ー用光学ウエッジを通して発光時間10-5sec のキセノ
ンフラッシュ光で露光を与え、実施例1と同様に現像処
理を行った。
<Exposure and development> Each sample prepared is 633 nm.
Through an interference filter having a peak at 1, a light was exposed with a xenon flash light having an emission time of 10 −5 sec through an optical wedge for sensitometry, and the development process was performed in the same manner as in Example 1.

【0248】<写真性の評価>実施例1と同様に行っ
た。 <圧力性の評価>実施例1と同様に行った。
<Evaluation of Photographic Properties> The same procedure as in Example 1 was carried out. <Evaluation of pressure property> The same evaluation as in Example 1 was performed.

【0249】結果を表4に示す。The results are shown in Table 4.

【0250】[0250]

【表4】 [Table 4]

【0251】本発明のサンプルは、経時による写真性能
の変動が小さく、かつ圧力カブリも発生しにくい。
The samples of the present invention have little change in photographic performance with the passage of time and are less likely to cause pressure fog.

【0252】実施例3 実施例1で得られた本発明のサンプル(No. 4、6、
8)および比較サンプル(No. 22)を表5に示した。
現像液でランニング実験を行ない、写真特性を評価し
た。なお、ランニング条件は、1日に80%黒化(10
枚中8枚の曝光されている)した大全紙サイズ(50.
8×61.0cm)の各フィルムを40枚処理して、6日
稼働し1日休むというランニングを1ラウンドとして6
回行った。補充量は250ml/m2、170ml/m2であ
る。評価方法は写真特性と同一条件で評価し、補充量2
50ml/m2、170ml/m2に対して、それぞれ写真特性
3、4とした。感度は実験ナンバー1の感度を100と
して相対評価した。結果を表6に示した。本発明のサン
プルおよび、本発明における好ましい現像液を用いた実
験ナンバー2、4、6、8、10、12は良好な結果を
示した。
Example 3 Samples of the invention obtained in Example 1 (No. 4, 6,
8) and a comparative sample (No. 22) are shown in Table 5.
A running experiment was conducted with a developer to evaluate photographic characteristics. The running conditions are 80% blackening per day (10
Eight of the sheets were exposed to light, and the size of the whole paper (50.
40 times each film of 8 x 61.0 cm) is processed and running for 6 days and resting for 1 day
I went there. The replenishing amount is 250ml / m 2, 170ml / m 2. The evaluation method is the same as the photo characteristics, and the replenishment amount is 2
Respect 50ml / m 2, 170ml / m 2, and the photographic characteristics 3,4 respectively. The sensitivity was evaluated relative to the sensitivity of Experiment No. 1 as 100. The results are shown in Table 6. Experiment Nos. 2, 4, 6, 8, 10, 12 using the sample of the present invention and the preferred developing solution of the present invention showed good results.

【0253】[0253]

【表5】 [Table 5]

【0254】[0254]

【表6】 [Table 6]

【0255】実施例4 実施例2で用いた本発明のサンプル(サンプルNo. 37
〜40)および比較サンプル(No. 47〜48)を用い
て、実施例3と同様の実験を行ったところ、本発明の好
ましい構成(現像液D−2およびD−4)は良好なラン
ニング性能を示した。
Example 4 The sample of the present invention used in Example 2 (Sample No. 37)
~ 40) and comparative samples (Nos. 47 to 48), the same experiment as in Example 3 was carried out. As a result, the preferable constitutions of the present invention (Developers D-2 and D-4) had good running performance. showed that.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 1/34 G03C 1/34 5/29 501 5/29 501 5/30 5/30 5/31 5/31 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI Technical display location G03C 1/34 G03C 1/34 5/29 501 5/29 501 5/30 5/30 5/31 5/31

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、少なくとも1層の感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料に
おいて、該ハロゲン化銀乳剤が塩化銀含有率80モル%
以上の平板状粒子であり、主平面が(100)面、平均
アスペクト比が2以上5未満かつ平均粒子サイズが0.
5μm 未満であることを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料において、該乳剤層または、その他の親水性コロ
イド層中に一般式(1)、(2)、(3)、(4)、
(5)および(6)で表される化合物のうち、少なくと
も1つを含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。 一般式(1) 【化1】 式中、ZはNまたはC−X(Xはアルキル基またはアリ
ール基を表す)、Mは水素原子、金属原子またはアンモ
ニウム、Yは親水性基を有するアルキル基またはアリー
ル基を表す。 一般式(2) 【化2】 式中、R1 、R2 は同じでも異なってもよく、各々ヒド
ロキシ基、ヒドロキシアルキル基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、ア
ルコキシ基、フェノキシ基、アルキル基、アリール基、
アルキルチオ基またはフェニルチオ基を表す。 一般式(3) 【化3】 式中、R1 、R2 、R3 、R4 はそれぞれ水素原子、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、1,2,3
級のアミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、
アルキル基、アリール基、少なくとも1個のN、O、S
原子を含む5員または6員のヘテロ環、ホルミル基、ケ
ト基、スルホン酸基、カルボン酸基、アルキルスルホニ
ル基またはアリールスルホニル基を表す。 一般式(4) 【化4】 式中、Zはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を
表し、Mは金属原子または有機カチオンを表す。 一般式(5) 【化5】 式中、Yは芳香環またはヘテロ環を形成するのに必要な
原子群を表す。 一般式(6) 【化6】 式中、Yは芳香環またはヘテロ環を形成するのに必要な
原子群を表し、nは2から10の整数を表す。
1. A silver halide photographic light-sensitive material having at least one light-sensitive silver halide emulsion layer on a support, wherein the silver halide emulsion has a silver chloride content of 80 mol%.
The tabular grains described above, the main plane of which is the (100) plane, the average aspect ratio is 2 or more and less than 5, and the average grain size is 0.
In the silver halide photographic light-sensitive material characterized by having a size of less than 5 μm, the emulsion layer or the other hydrophilic colloid layer has the general formula (1), (2), (3), (4),
A silver halide photographic light-sensitive material containing at least one of the compounds represented by (5) and (6). General formula (1) In the formula, Z represents N or C—X (X represents an alkyl group or an aryl group), M represents a hydrogen atom, a metal atom or ammonium, and Y represents an alkyl group or an aryl group having a hydrophilic group. General formula (2) In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different and each is a hydroxy group, a hydroxyalkyl group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, an aralkylamino group, an alkoxy group, a phenoxy group, an alkyl group, an aryl group. ,
It represents an alkylthio group or a phenylthio group. General formula (3) In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a halogen atom, 1, 2, 3
Grade amino group, carbonamide group, sulfonamide group,
Alkyl group, aryl group, at least one N, O, S
It represents a 5- or 6-membered heterocycle containing atoms, a formyl group, a keto group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, an alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group. General formula (4) In the formula, Z represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and M represents a metal atom or an organic cation. General formula (5) In the formula, Y represents an atomic group necessary for forming an aromatic ring or a hetero ring. General formula (6) In the formula, Y represents an atomic group necessary for forming an aromatic ring or a hetero ring, and n represents an integer of 2 to 10.
【請求項2】 支持体上に、少なくとも1層の感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料に
おいて、該ハロゲン化銀乳剤が塩化銀含有率50モル%
以上の平板状粒子であり、主平面が(100)面、平均
アスペクト比が2以上5未満かつ平均粒子サイズが0.
5μm 未満であることを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料において、該乳剤層側の膜面pHが4.5以上
6.0未満であることを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。
2. A silver halide photographic light-sensitive material having at least one photosensitive silver halide emulsion layer on a support, wherein the silver halide emulsion has a silver chloride content of 50 mol%.
The tabular grains described above, the main plane of which is the (100) plane, the average aspect ratio is 2 or more and less than 5, and the average grain size is 0.
A silver halide photographic light-sensitive material characterized by having a film surface pH on the emulsion layer side of 4.5 or more and less than 6.0 in the range of less than 5 μm.
【請求項3】 該ハロゲン化銀乳剤層中および/または
その他の親水性コロイド層に、ヒドラジン誘導体および
造核促進剤を含有することを特徴とする請求項1または
請求項2に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
3. The halogenated compound according to claim 1 or 2, wherein the silver halide emulsion layer and / or the other hydrophilic colloid layer contains a hydrazine derivative and a nucleation accelerator. Silver photographic light-sensitive material.
【請求項4】 該造核促進剤が一般式(I)、(II) 、
(III) 、(IV)で表される化合物およびアミノ化合物の中
から選ばれることを特徴とする請求項3に記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。 一般式(I) 【化7】 式中、R1 、R2 、R3 はアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基、
ヘテロ環残基を表す。mは整数、LはP原子とその炭素
原子で結合するn価の有機基、nは1ないし3の整数を
表す。 一般式(II) 【化8】 一般式(III) 【化9】 式中、Aはヘテロ環を完成させるための有機基を表す。
B、Cはそれぞれ、アルキレン、アリーレン、アルケニ
レン、−SO2 −、−SO−、−O−、−S−、−N
(R5)−を単独または組み合わせて構成されるものを表
す。ただし、R5はアルキル基、アリール基、水素原子
を表す。R1 、R2 は各々アルキル基を表し、R3 、R
4 は各々置換基を表す。Xはアニオン基を表すが、分子
内塩の場合はXは必要ない。 一般式(IV) 【化10】 式中、Zはヘテロ環を完成させるための有機基を表す。
5 はアルキル基を表す。Xはアニオン基を表すが、分
子内塩の場合はXは必要ない。
4. The nucleation accelerator is represented by the general formula (I), (II),
The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 3, which is selected from compounds represented by (III) and (IV) and amino compounds. General formula (I) In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group,
Represents a heterocycle residue. m is an integer, L is an n-valent organic group which is bonded to the P atom by its carbon atom, and n is an integer of 1 to 3. General formula (II): General formula (III): In the formula, A represents an organic group for completing the heterocycle.
B, and C is an alkylene, arylene, alkenylene, -SO 2 -, - SO - , - O -, - S -, - N
(R 5 )-represents one or a combination of these. However, R 5 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom. R 1 and R 2 each represent an alkyl group, and R 3 and R 2
Each 4 represents a substituent. X represents an anionic group, but X is not necessary in the case of an internal salt. General formula (IV): In the formula, Z represents an organic group for completing the heterocycle.
R 5 represents an alkyl group. X represents an anionic group, but X is not necessary in the case of an internal salt.
【請求項5】 該ハロゲン化銀乳剤粒子がセレン化合物
またはテルル化合物の少なくとも1種で化学増感されて
いることを特徴とする請求項1、2、3または4に記載
のハロゲン化銀写真感光材料。
5. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the silver halide emulsion grains are chemically sensitized with at least one of a selenium compound and a tellurium compound. material.
【請求項6】 請求項1、2、3、4または5に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料を画像露光後、現像液を補充
しながら現像する方法において、現像開始液および現像
補充液がジヒドロキシベンゼン系現像主薬およびこれと
超加成性を示す補助現像主薬を含有し、かつ該液1リッ
トルに対して0.1モルの水酸化ナトリウムを加えたと
きのpH上昇が0.25以下である性質を有する液であ
り、該現像開始液のpHが9.5以上11.0未満であ
って、現像液の補充量が225ml/m2以下であることを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。
6. A method of developing the silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, after imagewise exposure and replenishing with a developing solution, wherein the development initiation solution and the development replenishing solution are dihydroxy. It contains a benzene-based developing agent and an auxiliary developing agent that exhibits superadditivity with the benzene-based developing agent, and the pH rise is 0.25 or less when 0.1 mol of sodium hydroxide is added to 1 liter of the solution. A silver halide photographic light-sensitive material, which is a liquid having properties, wherein the pH of the development initiating liquid is 9.5 or more and less than 11.0, and the replenishing amount of the developing liquid is 225 ml / m 2 or less. Development processing method.
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