JPH0989764A - Atomic absorption photometer - Google Patents

Atomic absorption photometer

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JPH0989764A
JPH0989764A JP24259695A JP24259695A JPH0989764A JP H0989764 A JPH0989764 A JP H0989764A JP 24259695 A JP24259695 A JP 24259695A JP 24259695 A JP24259695 A JP 24259695A JP H0989764 A JPH0989764 A JP H0989764A
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photodetector
atomic absorption
spectroscope
absorption spectrophotometer
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Hitoshi Komuro
仁 小室
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幸治 冨田
Hayato Tobe
早人 戸辺
Kantaro Maruoka
幹太郎 丸岡
Takaharu Saito
隆治 斉藤
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Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an atomic absorption photometer which can shorten the time required for automatically setting an analytical condition. SOLUTION: A plurality of hollow cathode lamps 14 are held so as to be rotatable by a turret 12, and the turret 12 is turned by a motor 16. A sample to be analyzed is atomized by a burner 20 or a graphite furnace 30 as a sample atomization part. Light which is passed through the sample atomization furnace is separated into its spectral components by a spectroscope 50 so as to be detected by a photodetector 74. A μ-CPU 80 controls the motor 16, it scans the position of every hollow cathode lamp 14 in a prescribed range, and it checks the output of the photodetector 74 during the scanning operation of its light source. When the output exceeds a prescribed range, an applied voltage to the photodetector 74 is controlled so as to become the prescribed range. After the finish of the scanning operation, the position of the light source is moved to a position in which the intensity of light from the light source becomes maximum.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、原子吸光光度計に
係り、特に、分析条件の自動設定を行うのに好適な原子
吸光光度計に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an atomic absorption spectrophotometer, and more particularly to an atomic absorption spectrophotometer suitable for automatically setting analysis conditions.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近の原子吸光光度計は、例えば、特開
平6−94606号公報に記載のように、マイコンを備
えており、測定元素を指定することにより、その分析条
件に自動設定可能になっている。分析条件としては、光
源であるホローカソードランプのランプ電流,分光器の
測定波長やスリット幅,試料原子化部がバーナーである
場合には、バーナーの種類やフレームの種類,試料原子
化部がグラファイト炉である場合には、キュベットの種
類や加熱方法等が、予めマイコンの中に記憶されてい
る。これらの分析条件の中で、バーナーの交換やキュベ
ットの交換は、オペレータの手によって交換する必要が
あるものの、他の条件については、マイコンによって自
動設定可能となっている。
2. Description of the Related Art Recent atomic absorption spectrophotometers are equipped with a microcomputer as described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 6-94606, and analysis conditions can be automatically set by designating measurement elements. Has become. The analysis conditions include the lamp current of the hollow cathode lamp as the light source, the measurement wavelength and slit width of the spectroscope, the type of burner and frame, and the type of flame of the sample atomization part when the sample atomization part is a burner. In the case of a furnace, the type of cuvette, the heating method, etc. are stored in advance in the microcomputer. Among these analysis conditions, the replacement of the burner and the replacement of the cuvette need to be replaced by the operator, but other conditions can be automatically set by the microcomputer.

【0003】ここで、光源部について見ると、例えば、
特開平2−311746号公報に記載のように、光源部
は、複数本のホローカソードランプが、回転可能なタレ
ットの上に載置されており、予めタレットホルダーの番
号とそこに設置されているホローカソードランプの種類
を記憶しておくことにより、測定元素に応じて、タレッ
トを回転させることにより、所望のホローカソードラン
プを自動選択できる。また、分光器について見ると、測
定元素毎にその測定波長を予め記憶しておくことによ
り、分光器の波長を自動設定できる。
Looking at the light source section, for example,
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-311746, in the light source unit, a plurality of hollow cathode lamps are mounted on a rotatable turret, and the number of the turret holder and the number thereof are set in advance. By storing the type of the hollow cathode lamp, the desired hollow cathode lamp can be automatically selected by rotating the turret according to the measurement element. Further, regarding the spectroscope, the wavelength of the spectroscope can be automatically set by storing the measurement wavelength for each measurement element in advance.

【0004】しかしながら、タレット上に設置されたホ
ローカソードランプは、その取付の際の傾き等によっ
て、ホローカソードランプから発せられる発光スペクト
ルのピークと光軸がずれていることがある。そこで、従
来は、ホローカソードランプが設置されたタレットを僅
かに回転させ、発光スペクトルのプロファイルを測定し
た上で、発光スペクトルのピーク位置が光軸に一致する
ように、タレットの位置を制御するようにしている。
However, the hollow cathode lamp installed on the turret may have its optical axis deviated from the peak of the emission spectrum emitted from the hollow cathode lamp due to the inclination at the time of mounting. Therefore, conventionally, the turret in which the hollow cathode lamp is installed is slightly rotated, the emission spectrum profile is measured, and then the turret position is controlled so that the peak position of the emission spectrum coincides with the optical axis. I have to.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】発光スペクトルのプロ
ファイルの測定をする際には、光検知器であるホトマル
チプライヤの印加電圧を任意の電圧とした上で、タレッ
トを回転するようにしているが、ホトマルチプライヤの
印加電圧が適当でない場合には、ホトマルチプライヤの
出力が大きすぎるか、小さすぎるかするため、ホローカ
ソードランプの発光スペクトルのピーク位置を検出でき
ないことがある。
When measuring the profile of the emission spectrum, the applied voltage of the photomultiplier, which is a photodetector, is set to an arbitrary voltage, and the turret is rotated. If the applied voltage to the photomultiplier is not appropriate, the peak position of the emission spectrum of the hollow cathode lamp may not be detected because the output of the photomultiplier is too large or too small.

【0006】そこで、タレットを一定量回転させた後、
ピーク位置を適当に検出できない時には、ホトマルチプ
ライヤの印加電圧を上昇若しくは下降させた上で、再
度、タレットを一定量回転させるという操作を繰り返す
必要があった。そのため、分析条件を最適条件に自動設
定するのに時間を要するという問題があった。ちなみ
に、ホトマルチプライヤの印加電圧が適切でない場合に
は、この自動設定に2分間程度を要する場合もあった。
Therefore, after rotating the turret by a certain amount,
When the peak position could not be detected properly, it was necessary to repeat the operation of raising or lowering the applied voltage of the photomultiplier and then rotating the turret by a certain amount again. Therefore, there is a problem that it takes time to automatically set the analysis conditions to the optimum conditions. Incidentally, if the applied voltage of the photomultiplier is not appropriate, it may take about 2 minutes for this automatic setting.

【0007】本発明の目的は、分析条件の自動設定に要
する時間の短縮できる原子吸光光度計を提供するにあ
る。
An object of the present invention is to provide an atomic absorption photometer capable of shortening the time required for automatic setting of analysis conditions.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、複数の光源が回転可能に保持された光源
部と、この光源部に保持された上記光源の位置を移動す
る光源位置駆動手段と、測定試料を原子化するととも
に、この光源部の中の所定の光源から発せられた光が導
かれる試料原子化部と、この試料原子化部を通過した光
の中から所定の波長の光を分光する分光器と、この分光
器から出射した光を電気信号に変換する光検知器とを有
する原子吸光光度計において、上記光源位置駆動手段を
制御して、上記光源部に保持された上記光源の位置を所
定範囲走査するとともに、この光源の走査中における上
記光検知器の出力をチェックして、その出力が所定範囲
を越えているときには、所定範囲内になるように上記光
検知器への印加電圧を制御するとともに、上記走査の終
了後、上記光源からの光強度が最大となる位置に、上記
光源の位置を移動する制御手段を備えるようにしたもの
であり、かかる手段を備えることにより、1回の走査
で、光源の位置を最適位置に設定し得るものとなる。
In order to achieve the above object, the present invention provides a light source section in which a plurality of light sources are rotatably held, and a light source which moves the position of the light source held in the light source section. A position drive means, a sample atomization unit that atomizes the measurement sample and guides light emitted from a predetermined light source in the light source unit, and a predetermined amount of light that has passed through the sample atomization unit. In an atomic absorption photometer having a spectroscope for separating light of a wavelength and a photodetector for converting the light emitted from the spectroscope into an electric signal, the light source position driving means is controlled and held in the light source section. The position of the light source is scanned within a predetermined range, the output of the photodetector is checked during scanning of the light source, and if the output exceeds the predetermined range, the light is adjusted to fall within the predetermined range. Voltage applied to the detector A control means for controlling the position of the light source is provided at a position where the light intensity from the light source is maximized after the scanning is completed. The scanning of allows the position of the light source to be set to the optimum position.

【0009】上記原子吸光光度計において、好ましく
は、上記所定範囲は、上記光源の基準位置を中心とし
て、上記光源から発せられる発光スペクトルの幅に、光
源位置のズレ量を加えた幅を含む範囲としたものであ
り、かかる構成とすることにより、走査範囲を必要最小
限とし得るものとなる。
In the atomic absorption spectrophotometer, preferably, the predetermined range includes a width obtained by adding a deviation amount of a light source position to a width of an emission spectrum emitted from the light source with the reference position of the light source as a center. With such a configuration, the scanning range can be minimized.

【0010】上記原子吸光光度計において、好ましく
は、上記制御手段は、さらに、上記分光器を制御して、
上記分光器を所定範囲走査するとともに、この分光器に
よる波長走査中における上記光検知器の出力をチェック
して、その出力が所定範囲を越えているときには、所定
範囲内になるように上記光検知器への印加電圧を制御す
るとともに、上記走査の終了後、上記光源からの光強度
が最大となる位置に、上記分光器の波長位置に移動制御
するようにしたものであり、かかる構成とすることによ
り、1回の走査で、分光器の波長位置を最適位置に設定
し得るものとなる。
In the atomic absorption spectrophotometer, preferably, the control means further controls the spectroscope,
The spectroscope is scanned within a predetermined range, and the output of the photodetector is checked during wavelength scanning by the spectroscope. If the output exceeds the predetermined range, the photodetection is performed within the predetermined range. In addition to controlling the voltage applied to the spectroscope, after the scanning is completed, the movement is controlled to the wavelength position of the spectroscope at the position where the light intensity from the light source is maximized. As a result, the wavelength position of the spectroscope can be set to the optimum position with one scan.

【0011】上記原子吸光光度計において、好ましく
は、上記所定範囲は、上記分光器の基準位置を中心とし
て、上記分光器から出射する光スペクトルの幅に、分光
器の波長位置のズレ量を加えた幅を含む範囲としたもの
であり、かかる構成とすることにより、走査範囲を必要
最小限とし得るものとなる。
In the atomic absorption spectrophotometer described above, preferably, the predetermined range is the center of the reference position of the spectroscope, and the deviation of the wavelength position of the spectroscope is added to the width of the optical spectrum emitted from the spectroscope. The scanning range can be minimized by adopting such a configuration.

【0012】上記原子吸光光度計において、好ましく
は、上記制御手段は、さらに、上記光源位置駆動手段に
よる制御に先だって、上記光源を基準位置に設定した時
の、上記光検知器の出力をチェックして、その出力が所
定範囲を越えているときには、所定範囲になるように上
記光検知器への印加電圧を制御するとともに、上記光検
知器の印加電圧の制御は、印加電圧を下げる制御である
ようにしたものであり、かかる構成とすることにより、
印加電圧を上げる制御がなくなり、制御を短時間で行い
得るものとなる。
In the atomic absorption spectrophotometer, preferably, the control means further checks the output of the photodetector when the light source is set to the reference position, prior to the control by the light source position driving means. Then, when the output exceeds the predetermined range, the applied voltage to the photodetector is controlled so as to be within the predetermined range, and the control of the applied voltage to the photodetector is a control for lowering the applied voltage. By adopting such a configuration,
The control for increasing the applied voltage is eliminated, and the control can be performed in a short time.

【0013】上記原子吸光光度計において、好ましく
は、上記制御手段は、さらに、上記光源位置駆動手段に
よる制御に先だって、上記光検知器への印加電圧を最大
となるように設定するとともに、上記光検知器の印加電
圧の制御は、印加電圧を下げる制御であるようにしたも
のであり、かかる構成とすることにより、制御が容易に
行い得るものとなる。
In the atomic absorption spectrophotometer, preferably, the control means further sets the voltage applied to the photodetector to the maximum prior to the control by the light source position driving means, and The control of the applied voltage of the detector is such that the applied voltage is lowered, and with such a configuration, the control can be easily performed.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態について、
図1乃至図7を用いて説明する。図1は、本発明の一実
施の形態による原子吸光光度計のブロック構成図であ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described.
This will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a block diagram of an atomic absorption spectrophotometer according to an embodiment of the present invention.

【0015】光源部10は、円盤状のタレット12と、
このタレットの上の同一円周上に設置された複数のホロ
ーカソードランプ14から構成されている。ホローカソ
ードランプ14は、タレット12に設けられたソケット
にその電極端子を挿入することにより、取り付けられ
る。ホローカソードランプ14は、4本図示されている
が、後述するように、タレット12上に8本が等間隔で
取り付けられている。
The light source unit 10 includes a disk-shaped turret 12 and
The turret is composed of a plurality of hollow cathode lamps 14 installed on the same circumference. The hollow cathode lamp 14 is attached by inserting its electrode terminal into a socket provided in the turret 12. Although four hollow cathode lamps 14 are illustrated, eight hollow cathode lamps 14 are mounted on the turret 12 at equal intervals, as will be described later.

【0016】タレット12は、タレット駆動用のパルス
モーター16によって回転可能である。タレット12の
回転軸には、円盤が固定されており、この円盤には、1
箇所だけスリットが形成されており、このスリットを挟
んで対向する位置にホトカプラが設けられている。従っ
て、ホトカプラの間にスリットが位置した時、ホトカプ
ラから出力を取り出すことができ、この出力によって、
タレット12の基準位置を検出することができる。パル
スモーター16に与えられる制御パルス数とそれによっ
て回転されるタレット12の回転角の関係は、100パ
ルスの制御パルスによって、タレット12が9゜回転す
るように設計されている。この時のホローカソードラン
プ14の円周方向への移動距離は、約16mmである。
The turret 12 can be rotated by a pulse motor 16 for driving the turret. A disk is fixed to the rotary shaft of the turret 12, and this disk has a size of 1
Slits are formed only at the portions, and photocouplers are provided at positions facing each other with the slits in between. Therefore, when the slit is located between the photocouplers, the output can be taken out from the photocoupler.
The reference position of the turret 12 can be detected. The relationship between the number of control pulses given to the pulse motor 16 and the rotation angle of the turret 12 rotated by the pulse motor 16 is designed so that the turret 12 rotates by 9 ° by 100 control pulses. The moving distance of the hollow cathode lamp 14 in the circumferential direction at this time is about 16 mm.

【0017】光源位置の微調整は、パルスモーター16
をμ−CPU80によって制御っすることにより行われ
るが、その詳細については、後述する。
The pulse motor 16 is used for fine adjustment of the light source position.
Is controlled by the μ-CPU 80, the details of which will be described later.

【0018】光源部10の所定位置にセットされたホロ
ーカソードランプ14から発っせられた光は、光軸Lに
沿って進み、試料原子化部に導かれる。
Light emitted from the hollow cathode lamp 14 set at a predetermined position of the light source section 10 travels along the optical axis L and is guided to the sample atomizing section.

【0019】試料原子化部には、2種類の試料原子化装
置として、バーナー20とグラファイト炉30が光軸L
に沿って直列に配置されている。バーナー20の下に
は、チャンバ22とネブライザー24が取り付けられて
いる。試料容器40内に収容された試料は、ネブライザ
ー24によって吸引され、チャンバ22内に霧化されて
供給される。また、チャンバ22には、ガス制御部26
によって流量の制御された可燃ガスであるアセチレンガ
ス等が供給され、霧化された試料とともにバーナー20
の上部で燃焼されてフレーム28を形成する。フレーム
28内で、導入された試料が原子化される。
In the sample atomization section, a burner 20 and a graphite furnace 30 are provided as optical axes L as two types of sample atomization devices.
Are arranged in series. Below the burner 20, a chamber 22 and a nebulizer 24 are attached. The sample contained in the sample container 40 is sucked by the nebulizer 24, atomized and supplied into the chamber 22. In addition, the chamber 22 includes a gas control unit 26.
A combustible gas such as acetylene gas whose flow rate is controlled is supplied by the burner 20 together with the atomized sample.
Are combusted to form the flame 28. In the frame 28, the introduced sample is atomized.

【0020】また、ゼーマン効果を利用する原子吸光光
度計であるため、フレーム28を挟んで一対の磁石29
が対向配置されている。磁石29によって印加される磁
場方向は、光軸Lに直交する方向である。この磁石29
によって印加される磁場によって、原子化された試料に
よって形成される吸収スペクトルは、互いに直交する偏
光方向を有するπ成分とσ成分に分岐されている。
Further, since it is an atomic absorption spectrophotometer utilizing the Zeeman effect, a pair of magnets 29 with the frame 28 interposed therebetween.
Are arranged facing each other. The magnetic field direction applied by the magnet 29 is a direction orthogonal to the optical axis L. This magnet 29
The absorption spectrum formed by the atomized sample by the magnetic field applied by is branched into a π component and a σ component having polarization directions orthogonal to each other.

【0021】もう一つの試料原子化装置であるグラファ
イト炉30は、グラファイト製の円筒形状であり、円筒
の軸心と光軸Lが一致するように配置されている。グラ
ファイト炉30の温度は、グラファイトアトマイザ(G
A)電源32によって制御され、乾燥,灰化,原子化の
それぞれの温度段階を経て、約3000℃まで加熱され
る。測定試料は、グラファイト炉30の上部に形成され
た開口からグラファイト炉30の内部に導入され、約3
000℃まで加熱されることにより、原子化される。
The graphite furnace 30, which is another sample atomization device, has a cylindrical shape made of graphite, and is arranged so that the axis of the cylinder coincides with the optical axis L. The temperature of the graphite furnace 30 depends on the graphite atomizer (G
A) It is controlled by the power supply 32, and is heated to about 3000 ° C. through the temperature steps of drying, ashing and atomization. The measurement sample is introduced into the graphite furnace 30 through an opening formed in the upper portion of the graphite furnace 30,
It is atomized by heating to 000 ° C.

【0022】また、ゼーマン効果を利用する原子吸光光
度計であるため、グラファイト炉30を挟んで一対の磁
石34が対向配置されている。磁石34によって印加さ
れる磁場方向は、光軸Lに直交する方向である。この磁
石34によって印加される磁場によって、原子化された
試料によって形成される吸収スペクトルは、互いに直交
する偏光方向を有するπ成分とσ成分に分岐されてい
る。
Further, since it is an atomic absorption photometer utilizing the Zeeman effect, a pair of magnets 34 are arranged to face each other with the graphite furnace 30 sandwiched therebetween. The magnetic field direction applied by the magnet 34 is a direction orthogonal to the optical axis L. Due to the magnetic field applied by the magnet 34, the absorption spectrum formed by the atomized sample is branched into a π component and a σ component having polarization directions orthogonal to each other.

【0023】試料原子化部において、原子化された試料
によって吸収された光は、分光器50に導かれる。分光
器50は、光が入射する入射スリット52及び分光され
た光が出射する出射スリット54を有している。また、
分光器50の内部には、入射光を分散するための回折格
子56と、入射スリット52から入射した光をコリメー
テイングするための凹面鏡58と、回折格子56によっ
て分散された光を集光する凹面鏡59が配置されてい
る。凹面鏡58と回折格子56と凹面鏡59によって、
ツエルニーターナー型の分光器を構成している。
In the sample atomization section, the light absorbed by the atomized sample is guided to the spectroscope 50. The spectroscope 50 has an entrance slit 52 on which light is incident and an exit slit 54 on which the dispersed light is emitted. Also,
Inside the spectroscope 50, a diffraction grating 56 for dispersing the incident light, a concave mirror 58 for collimating the light incident from the entrance slit 52, and the light dispersed by the diffraction grating 56 are collected. A concave mirror 59 is arranged. By the concave mirror 58, the diffraction grating 56, and the concave mirror 59,
It constitutes a Tzerny-Turner type spectrometer.

【0024】従って、試料原子化部において吸収された
ホローカソードランプ14からの光は、分光器50に導
かれ、回折格子56で分散され、目的とする波長の光の
みが、出射スリット54から取り出される。
Therefore, the light from the hollow cathode lamp 14 absorbed in the sample atomization portion is guided to the spectroscope 50 and dispersed by the diffraction grating 56, and only the light of the target wavelength is extracted from the exit slit 54. Be done.

【0025】スリット52,54の幅は、スリット幅制
御用のパルスモーター62によって可変できる。また、
分光器50によって分光し、出射スリット54から取り
出される光の波長は、回折格子56を波長設定用のパル
スモーター64によって回転することにより行われる。
回折格子56とパルスモーター64の間には、図示しな
い送りネジ機構が設けられており、パルスモーター64
によって送りネジを回転させ、この送りネジの回転によ
って直線移動するスライダによって、回折格子を保持し
たテーブルを回転させることにより、回折格子56が回
転する。
The widths of the slits 52 and 54 can be changed by a pulse motor 62 for controlling the slit width. Also,
The wavelength of the light split by the spectroscope 50 and extracted from the exit slit 54 is obtained by rotating the diffraction grating 56 by the pulse motor 64 for wavelength setting.
A feed screw mechanism (not shown) is provided between the diffraction grating 56 and the pulse motor 64.
The feed screw is rotated by, and the diffraction grating 56 is rotated by rotating the table holding the diffraction grating by the slider that linearly moves by the rotation of the feed screw.

【0026】ここで、分光器50によって選択される波
長は、分光器自体の経年変化,例えば、送りネジ機構の
がたつきや、試料原子化部からの高温の熱の影響によっ
て、設定波長と実際に出射スリットから取り出される波
長の間に誤差を生じることがあるので、光源部10のホ
ローカソードランプ14から発光される発光スペクトル
のピーク波長と分光器50が選択する波長を一致させる
ために、回折格子56を微角度だけ回転させ、分光器5
0の選択波長の微調整をμ−CPU80により、行って
いるが、その詳細については、後述する。
Here, the wavelength selected by the spectroscope 50 is different from the set wavelength due to the secular change of the spectroscope itself, for example, the rattling of the feed screw mechanism and the effect of high temperature heat from the sample atomization section. Since an error may occur between the wavelengths actually extracted from the emission slit, in order to match the peak wavelength of the emission spectrum emitted from the hollow cathode lamp 14 of the light source unit 10 with the wavelength selected by the spectroscope 50, The diffraction grating 56 is rotated by a slight angle, and the spectroscope 5
The fine adjustment of the selected wavelength of 0 is performed by the μ-CPU 80, the details of which will be described later.

【0027】分光器50の出射スリット54から出た光
は、偏光子70に導かれる。偏光子70は、試料原子化
部の吸収スペクトルによって吸収を受けたホローカソー
ドランプ14からの発光スペクトルの内、上述したπ成
分と偏光方向が一致する第1の偏光成分とσ成分と偏光
方向が一致する第2の偏光成分に分離する。
The light emitted from the exit slit 54 of the spectroscope 50 is guided to the polarizer 70. The polarizer 70 has the first polarization component and the σ component whose polarization directions are the same as the above-mentioned π component and the polarization direction in the emission spectrum from the hollow cathode lamp 14 which is absorbed by the absorption spectrum of the sample atomization part. The second polarized light component that matches is separated.

【0028】偏光子70によって分離された第1及び第
2の偏光成分の光を遮る位置に回転するチョッパー72
が配置されている。チョッパー72には、スリットが形
成されており、スリットの形成位置は、第1の偏光成分
のみを透過する位置と、第2の偏光成分のみを透過する
位置である。チョッパー72を回転させることにより、
第1の偏光成分の光と、第2の偏光成分の光が交互に光
検知器74に導かれ、電気信号に変換され、μ−CPU
に内蔵されたA/D変換器を介してμ−CPU80に取
り込まれる。光検知器74としては、印加電圧を調整す
ることによって、そのゲインを可変できるホトマルチプ
ライヤが用いられている。ホトマルチプライヤへの印加
電圧の制御は、μ−CPU80によって行われる。
A chopper 72 that rotates to a position that blocks the light of the first and second polarized components separated by the polarizer 70.
Is arranged. A slit is formed in the chopper 72, and the slits are formed at a position where only the first polarized component is transmitted and a position where only the second polarized component is transmitted. By rotating the chopper 72,
The light of the first polarization component and the light of the second polarization component are alternately guided to the photodetector 74, converted into an electric signal, and the μ-CPU
It is taken into the μ-CPU 80 via the A / D converter built in the. As the photodetector 74, a photomultiplier whose gain can be changed by adjusting the applied voltage is used. The μ-CPU 80 controls the voltage applied to the photomultiplier.

【0029】光検知器74が出力する電気信号の内、第
1の偏光成分の光に対する電気信号と、第1の偏光成分
の光に対する電気信号の差分は、μ−CPU80によっ
て演算され、バックグラウンドの補正された吸光度を求
めることができる。
Of the electric signals output from the photodetector 74, the difference between the electric signal for the light of the first polarization component and the electric signal for the light of the first polarization component is calculated by the μ-CPU 80 and the background is calculated. The corrected absorbance of can be determined.

【0030】μ−CPU80は、予め標準試料によって
検量線を求めておくことにより、測定された吸光度か
ら、測定試料の濃度を求めることができる。
The μ-CPU 80 can obtain the concentration of the measurement sample from the measured absorbance by obtaining the calibration curve from the standard sample in advance.

【0031】測定された吸光度の信号の波形図や、測定
試料の濃度値のデータは、CRT82に表示される。ま
た、測定試料の濃度値のデータや、分析条件のデータ等
は、プリンタ84にプリントアウトできる。また、μ−
CPU80には、キーボード86が接続されており、分
析条件の設定等の入力に用いられる。
The waveform diagram of the measured absorbance signal and the data of the concentration value of the measurement sample are displayed on the CRT 82. Further, the concentration value data of the measurement sample, the analysis condition data, and the like can be printed out on the printer 84. In addition, μ-
A keyboard 86 is connected to the CPU 80 and is used for inputting analysis condition settings and the like.

【0032】次に、図2を用いて、光源の位置調整の原
理について説明する。図2は、本発明の一実施の形態に
よる原子吸光光度計の光源部の位置ずれを説明する図で
ある。
Next, the principle of position adjustment of the light source will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram for explaining the displacement of the light source unit of the atomic absorption spectrophotometer according to the embodiment of the present invention.

【0033】円盤状のタレット12を正面側から見た場
合、タレット12には、12本のホローカソードランプ
14A,14B,14C,14D,14E,14F,1
4G,14Iが同一円周上に等間隔で取り付けられてい
る。図において、太い実線は、光軸Lを表しており、こ
の光軸上に、試料原子化部であるバーナー20やグラフ
ァイト炉30,分光器50及び検知器74が配置されて
いる。
When the disc-shaped turret 12 is viewed from the front side, the turret 12 has twelve hollow cathode lamps 14A, 14B, 14C, 14D, 14E, 14F and 1.
4G and 14I are attached on the same circumference at equal intervals. In the figure, the thick solid line represents the optical axis L, and the burner 20, the graphite furnace 30, the spectroscope 50, and the detector 74, which are the sample atomization parts, are arranged on this optical axis.

【0034】タレット12の回転軸12aには、円盤1
8が取り付けられている。円盤18には、その外周方向
の一部にスリット18aが形成されている。スリット1
8aを挟む位置に図示しないホトカプラが配置されてお
り、このホトカプラによって基準位置を検出している。
The rotating shaft 12a of the turret 12 has a disk 1
8 is attached. The disk 18 has a slit 18a formed in a part thereof in the outer peripheral direction. Slit 1
A photo coupler (not shown) is arranged at a position sandwiching 8a, and the reference position is detected by this photo coupler.

【0035】ホローカソードランプ14Aは、通電状態
では、図示の黒丸の領域Eから光が出射されており、こ
の領域Eが光の有効範囲である。有効範囲の直径K1
は、例えば、3mmである。また、タレット12の回転
中心12aから有効範囲の中心までの距離K2は、例え
ば、100mmである。
In the energized state of the hollow cathode lamp 14A, light is emitted from a black circle area E shown in the figure, and this area E is the effective range of light. Effective range diameter K1
Is, for example, 3 mm. The distance K2 from the rotation center 12a of the turret 12 to the center of the effective range is 100 mm, for example.

【0036】図示の状態では、スリット18aにより基
準位置が検出されており、本来であれば、光軸L上に光
の有効範囲である領域Eの中心が配置するはずである
が、ここでは、例えば、ホローカソードランプ14Aが
タレット12に傾いて取り付けられているため、光の有
効範囲である領域Eの中心が光軸Lから距離K3だけず
れているものとする。このずれ量K3の最大値は、例え
ば、±1.0mm程度である。
In the illustrated state, the reference position is detected by the slit 18a, and the center of the area E, which is the effective range of light, should normally be located on the optical axis L, but here, For example, since the hollow cathode lamp 14A is attached to the turret 12 while being inclined, the center of the area E, which is the effective range of light, is displaced from the optical axis L by a distance K3. The maximum value of this shift amount K3 is, for example, about ± 1.0 mm.

【0037】そこで、基準位置を中心として、ずれ量K
3の最大値より広い範囲に亘って、タレット12を回転
させ、その時の光検知器74の出力を調べることによ
り、ホローカソードランプ14Aから出ている光のプロ
ファイルを測定でき、基準位置からのホローカソードラ
ンプの発光中心のずれ量K3を知ることができる。
Therefore, the shift amount K is centered on the reference position.
By rotating the turret 12 over a range wider than the maximum value of 3 and examining the output of the photodetector 74 at that time, the profile of the light emitted from the hollow cathode lamp 14A can be measured, and the hollow from the reference position can be measured. It is possible to know the deviation amount K3 of the emission center of the cathode lamp.

【0038】なお、基準位置からのずれ量については、
ホローカソードランプ14Aだけでなく、例えば、ホロ
ーカソードランプ14Hについても、知ることができ
る。即ち、8本のホローカソードランプが、等間隔でタ
レット12上に配置されているため、各ホローカソード
ランプ間の角度は、45゜である。従って、スリット1
8aによって検出された位置から45゜ずれた位置を、
ホローカソードランプ14Hの基準位置とすれば、ホロ
ーカソードランプ14Hから出る光の有効範囲の中心の
ずれ量も容易に求めることができる。ここで、タレット
12の回転は、図1にて説明したように、パルスモータ
ー16によって制御されるように構成されており、パル
スモーター16に駆動用の制御パルスを500パルス供
給することにより、タレット12を45゜回転すること
ができる。
Regarding the amount of deviation from the reference position,
It is possible to know not only the hollow cathode lamp 14A but also the hollow cathode lamp 14H, for example. That is, since eight hollow cathode lamps are arranged on the turret 12 at equal intervals, the angle between the hollow cathode lamps is 45 °. Therefore, slit 1
The position shifted by 45 ° from the position detected by 8a
If the reference position of the hollow cathode lamp 14H is used, the amount of deviation of the center of the effective range of the light emitted from the hollow cathode lamp 14H can be easily obtained. Here, the rotation of the turret 12 is configured to be controlled by the pulse motor 16 as described with reference to FIG. 1, and the turret is supplied by supplying 500 control pulses for driving to the pulse motor 16. 12 can be rotated 45 °.

【0039】光源部から出る光のプロファイルの測定原
理について、図3を用いて説明する。図3は、本発明の
一実施の形態による原子吸光光度計の光源部からの発光
スペクトルのプロファイルを説明する図である。
The principle of measuring the profile of the light emitted from the light source section will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating a profile of an emission spectrum from the light source unit of the atomic absorption spectrophotometer according to the embodiment of the present invention.

【0040】横軸は、タレットの回転走査範囲を示して
いる。中央の基準位置X0に対して、発光スペクトルS
のプロファイルは、図示の様に左右対象な山形となって
おり、光の有効範囲の距離K1は、例えば、3mmであ
る。発光スペクトルSのピークは、基準位置X0から距
離K3だけずれている。ここで、距離K3の最大値は、約
1.0mmである。
The horizontal axis represents the rotational scanning range of the turret. The emission spectrum S with respect to the central reference position X0
The profile has a bilaterally symmetrical mountain shape as shown in the figure, and the distance K1 of the effective range of light is, for example, 3 mm. The peak of the emission spectrum S deviates from the reference position X0 by the distance K3. Here, the maximum value of the distance K3 is about 1.0 mm.

【0041】従って、本実施の形態では、基準位置X0
をスリットによって検出した後、若しくは、スリットに
よって検出し、さらに、45゜の整数倍の角度だけ、タ
レットを回転させた後、さらに、距離(−X1)だけタ
レットを回転させる。ここで、距離X1としては、例え
ば、タレット回転角度で4.5゜としてある。この角度
は、距離に換算すると、約8mmである。また、タレッ
トを回転するためにパルスモーターに供給される制御パ
ルスの数にして、50パルスである。
Therefore, in this embodiment, the reference position X0
Is detected by a slit, or is detected by a slit, and the turret is further rotated by an angle that is an integral multiple of 45 °, and then the turret is further rotated by a distance (-X1). Here, the distance X1 is, for example, 4.5 ° in terms of the turret rotation angle. This angle is about 8 mm when converted to a distance. The number of control pulses supplied to the pulse motor for rotating the turret is 50 pulses.

【0042】距離(−X1)だけ、タレットを回転させ
た後、距離(2X1)だけ逆方向にタレットを回転させ
ることにより、発光スペクトルSのピークをほぼ中心と
して左右に所定角度づつタレットを回転することがで
き、その時に、光検知器の出力を検出することにより、
結果として、図のような発光スペクトルSのプロファイ
ルを検出することができる。
After the turret is rotated by the distance (-X1), the turret is rotated in the opposite direction by the distance (2X1) to rotate the turret by a predetermined angle to the left and right with the peak of the emission spectrum S as the center. By detecting the output of the photodetector at that time,
As a result, the profile of the emission spectrum S as shown in the figure can be detected.

【0043】そして、検出された発光スペクトルSのピ
ーク位置と基準位置の差である距離K3を求めて、タレ
ットを回転移動して、発光スペクトルSのピークを光軸
上に合わせることにより、精度の高い分析が可能にな
る。
Then, the distance K3 which is the difference between the detected peak position of the emission spectrum S and the reference position is obtained, the turret is rotationally moved, and the peak of the emission spectrum S is aligned on the optical axis. High analysis is possible.

【0044】次に、図4を用いて、分光器の設定波長の
調整の原理について説明する。図4は、本発明の一実施
の形態による原子吸光光度計の分光器の出射スリットか
ら取り出される光のスペクトルのプロファイルを説明す
る図である。
Next, the principle of adjusting the set wavelength of the spectroscope will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a diagram illustrating a profile of a spectrum of light extracted from the exit slit of the spectroscope of the atomic absorption spectrophotometer according to the embodiment of the present invention.

【0045】横軸は、回折格子を回転することによって
実施される波長走査範囲を示している。光スペクトル
S’のプロファイルは、図示の様に左右対象な山形とな
っており、その時の半値幅K4は、例えば、0.09〜
1.3nmである。この半値幅は、分光器の出射スリッ
ト幅によって異なるものである。光スペクトルS’のピ
ークは、基準位置X0から距離K5だけずれている。ここ
で、距離K5の最大値は、約0.4nmである。
The horizontal axis represents the wavelength scanning range implemented by rotating the diffraction grating. The profile of the optical spectrum S'has a bilaterally symmetrical mountain shape as shown in the drawing, and the half-value width K4 at that time is, for example, 0.09 to
1.3 nm. The full width at half maximum depends on the exit slit width of the spectroscope. The peak of the optical spectrum S'is displaced from the reference position X0 by the distance K5. Here, the maximum value of the distance K5 is about 0.4 nm.

【0046】ここで、分光器の中の回折格子は、送りネ
ジの回転に応じて直線移動するスライダによって回転さ
れるが、スライダの位置をホトカプラにより検出するこ
とにより、回折格子の基準波長位置を検出することがで
きる。即ち、スライダが所定位置に位置した時に、スラ
イダに取り付けられた検知片がホトカプラの間を通過し
て、ホトカプラから信号が出力するように構成すること
により、基準波長位置を検出することができる。基準波
長位置を、例えば、190nmとして、波長設定用のパ
ルスモーターに供給する制御パルス数が100パルス
で、1nmの波長走査が可能なように構成する。鉛(P
b)の測定波長は、283.3nmであるので、基準波
長位置を検出した後、パルスモーターに9330パルス
を供給すれば、283.3nmの基準位置X0に回折格
子を設定できたことになる。
Here, the diffraction grating in the spectroscope is rotated by a slider that linearly moves according to the rotation of the feed screw, and the reference wavelength position of the diffraction grating is determined by detecting the position of the slider with a photocoupler. Can be detected. That is, when the slider is located at a predetermined position, the detection piece attached to the slider passes between the photocouplers and a signal is output from the photocoupler, whereby the reference wavelength position can be detected. The reference wavelength position is set to 190 nm, for example, and the number of control pulses supplied to the pulse motor for wavelength setting is 100, so that the wavelength scanning of 1 nm is possible. Lead (P
Since the measured wavelength in b) is 283.3 nm, if the reference motor is detected and then 9330 pulses are supplied to the pulse motor, it means that the diffraction grating can be set at the reference position X0 of 283.3 nm.

【0047】このようにして、基準位置に波長設定した
後、さらに、波長(−X1’)だけ波長を走査する。こ
こで、波長X1としては、例えば、0.45nmとして
ある。この理由としては、光スペクトルのピーク位置の
基準位置からのずれK5の最大値が±0.4nm程度で
あるためである。また、そのために、パルスモーターに
供給される制御パルスの数は、45パルスである。
After setting the wavelength at the reference position in this way, the wavelength is further scanned by the wavelength (-X1 '). Here, the wavelength X1 is, for example, 0.45 nm. The reason for this is that the maximum value of the deviation K5 of the peak position of the optical spectrum from the reference position is about ± 0.4 nm. Therefore, the number of control pulses supplied to the pulse motor is 45 pulses.

【0048】波長(−X1’)だけ、波長をマイナス方
向に走査した後、波長(2X1’)だけプラス方向に波
長走査して、その時に、光検知器の出力を検出すること
により、結果として、図のような光スペクトルS’のプ
ロファイルを検出することができる。
After scanning the wavelength in the minus direction by the wavelength (-X1 '), the wavelength is scanned in the plus direction by the wavelength (2X1'), and at that time, the output of the photodetector is detected. , The profile of the optical spectrum S'as shown in the figure can be detected.

【0049】そして、検出された光スペクトルS’のピ
ーク位置と基準位置の差である波長K5を求めて、波長
を走査して、光スペクトルS’のピークを光軸上に合わ
せることにより、精度の高い分析が可能になる。
Then, the wavelength K5, which is the difference between the detected peak position of the optical spectrum S'and the reference position, is obtained, the wavelength is scanned, and the peak of the optical spectrum S'is aligned on the optical axis. Higher analysis is possible.

【0050】次に、図1,図5,図6及び図7を用い
て、本発明の一実施の形態による光源部の位置調整及び
分光器の波長調整の制御方法について説明する。図5
は、本発明の一実施の形態による原子吸光光度計による
光源部の位置調整及び分光器の波長調整を説明するフロ
ーチャートであり、図6は、本発明の一実施の形態によ
る原子吸光光度計による光検知器への印加電圧制御の動
作説明図であり、図7は、本発明の一実施の形態による
原子吸光光度計による光源部の位置調整及び分光器の波
長調整時の動作説明図である。
Next, a method of controlling the position adjustment of the light source unit and the wavelength adjustment of the spectroscope according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1, 5, 6 and 7. FIG.
FIG. 6 is a flowchart for explaining the position adjustment of the light source unit and the wavelength adjustment of the spectroscope by the atomic absorption spectrophotometer according to the embodiment of the present invention, and FIG. 6 is the atomic absorption spectrophotometer according to the embodiment of the present invention. FIG. 7 is an operation explanatory diagram of applied voltage control to the photodetector, and FIG. 7 is an operation explanatory diagram at the time of adjusting the position of the light source unit and the wavelength adjustment of the spectroscope by the atomic absorption photometer according to the embodiment of the present invention. .

【0051】図5において、本実施の形態による制御フ
ローは、大きくは、ステップ00の”初期設定”と、ス
テップ100の”印加電圧調整”のステップと、図2及
び図3に基づいて原理を説明したステップ200の”光
源位置設定”のステップと、図4に基づいて原理を説明
したステップ300の”分光器位置設定”の4ステップ
から構成されている。そこで、各ステップの詳細につい
て以下に説明する。
In FIG. 5, the control flow according to the present embodiment is basically based on the principle of “initial setting” in step 00, “adjusting applied voltage” in step 100, and FIGS. 2 and 3. It is composed of the four steps of the "light source position setting" of step 200 described above and the "spectrometer position setting" of step 300 whose principle has been described with reference to FIG. Therefore, the details of each step will be described below.

【0052】最初に、ステップ00の初期設定から説明
する。
First, the initial setting in step 00 will be described.

【0053】μ−CPU80の記憶回路には、予め測定
元素毎の標準的な測定条件や、オペレーターが登録した
測定条件が記憶されている。例えば、分析元素として、
銅(Cu)を例にとると、測定波長:324.8nm,
ホトマルチプライヤの印加電圧:330V,分光器のス
リット幅:1.30nm,ホローカソードランプのラン
プ電流:7.5mA、タレットのホルダーNo.:1と
いうように、測定条件が予め記憶されている。測定条件
としては、これら以外に、試料原子化部としてバーナー
を用いるか、グラファイト炉を用いるかの区別や、それ
ぞれの場合の燃焼ガスの種類や、ガス流量等が記憶され
ている。
In the memory circuit of the μ-CPU 80, standard measurement conditions for each measurement element and measurement conditions registered by the operator are stored in advance. For example, as an analytical element,
Taking copper (Cu) as an example, measurement wavelength: 324.8 nm,
Applied voltage of photomultiplier: 330 V, slit width of spectroscope: 1.30 nm, lamp current of hollow cathode lamp: 7.5 mA, turret holder No. The measurement conditions such as: 1 are stored in advance. In addition to the above, as the measurement conditions, the distinction between the burner and the graphite furnace used as the sample atomization unit, the type of combustion gas in each case, the gas flow rate, and the like are stored.

【0054】従って、μ−CPU80は、キーボード8
6を介して分析元素が選択されると、ステップ00にお
いて、その分析元素に応じた測定条件を記憶回路から読
みだして、初期設定を行う。即ち、分析元素として、銅
(Cu)を選択すると、タレット駆動用のパルスモータ
ー16に制御信号を送り、パルスモーター16を駆動し
てタレット12を回転させ、タレットNo.1を光軸上
に持ってくる。図2において、説明したように、タレッ
ト12の回転軸に取り付けられた円盤18に設けたスリ
ット18を挟む位置に設けられたホトカプラから出力の
得られる位置が、基準位置であり、この位置において、
タレットNo.1が、光軸上に位置するように予め位置
付けされている。
Therefore, the μ-CPU 80 uses the keyboard 8
When the analysis element is selected via 6, the measurement conditions corresponding to the analysis element are read from the memory circuit in step 00, and the initial setting is performed. That is, when copper (Cu) is selected as the analysis element, a control signal is sent to the pulse motor 16 for driving the turret, the pulse motor 16 is driven to rotate the turret 12, and the turret No. Bring 1 to the optical axis. In FIG. 2, as described, the position where the output is obtained from the photocoupler provided at the position sandwiching the slit 18 provided in the disk 18 attached to the rotary shaft of the turret 12 is the reference position, and at this position,
Turret No. 1 is pre-positioned so as to be located on the optical axis.

【0055】タレットNo.1が、光軸上に位置するよ
うに予め位置付けされると、タレットNo.1に通電さ
れるが、その時のランプ電流は、7.5mAとなるよう
に、μ−CPU80によって制御される。
Turret No. When the turret No. 1 is positioned in advance so as to be positioned on the optical axis. 1 is energized, and the lamp current at that time is controlled by the μ-CPU 80 to be 7.5 mA.

【0056】また、μ−CPU80は、スリット幅制御
用のパルスモーター62に制御信号を出力して、分光器
50のスリット幅が1.30nmとなるように制御す
る。
Further, the μ-CPU 80 outputs a control signal to the pulse motor 62 for controlling the slit width to control the slit width of the spectroscope 50 to be 1.30 nm.

【0057】それとともに、μ−CPU80は、波長設
定用のパルスモーター64に制御信号を出力して、分光
器50の選択波長を324.8nmに設定する。
At the same time, the μ-CPU 80 outputs a control signal to the pulse motor 64 for wavelength setting to set the selected wavelength of the spectroscope 50 to 324.8 nm.

【0058】また、μ−CPU80は、光検知器のゲイ
ン設定のために、ホトマルチプライヤ74の印加電圧を
330Vに設定する。
Further, the μ-CPU 80 sets the applied voltage of the photomultiplier 74 to 330V in order to set the gain of the photodetector.

【0059】以上のようにして、原子吸光光度計本体の
各部を駆動制御して、初期設定を終了する。
As described above, each part of the main body of the atomic absorption photometer is driven and controlled, and the initial setting is completed.

【0060】次に、ステップ100に進んで、印加電圧
設定を行う。光検知器であるホトマルチプライヤは、そ
の印加電圧を変えることにより、感度を変えることがで
きる。そこで、予め測定元素毎に、印加電圧の初期値を
決めてあるが、経年変化により、ホローカソードランプ
の輝度が低下した場合や、ホトマルチプライヤの感度が
劣化した場合には、ホトマルチプライヤの出力が低下す
ることがあるので、このような場合には、印加電圧を高
める必要がある。また、ホローカソードランプを新しい
ものに交換した場合には、印加電圧を高めに設定する必
要がでてくる。
Next, in step 100, the applied voltage is set. The photomultiplier, which is a photodetector, can change its sensitivity by changing its applied voltage. Therefore, although the initial value of the applied voltage has been determined in advance for each measurement element, if the brightness of the hollow cathode lamp decreases due to aging, or the sensitivity of the photomultiplier deteriorates, the photomultiplier In such a case, it is necessary to increase the applied voltage because the output may decrease. Also, when the hollow cathode lamp is replaced with a new one, it is necessary to set the applied voltage higher.

【0061】そこで、ステップ100において、印加電
圧設定を行う。なお、ステップ100の中に破線で示し
たステップ104は、別の実施の形態のステップである
ので、説明は後述する。
Therefore, in step 100, the applied voltage is set. It should be noted that step 104 shown by a broken line in step 100 is a step of another embodiment, and thus the description thereof will be described later.

【0062】ステップ101において、μ−CPU80
は、光検知器74の出力をモニターして、予め定めた所
定範囲内にあるかどうかを判断する。ここで、モニター
値の上限値をM1として、下限値をM2として、検出した
モニター値が、下限値M2以下の場合には、ステップ1
02に進む。また、上限値M1以上の場合には、ステッ
プ103に進む。
In step 101, the μ-CPU 80
Monitors the output of the photodetector 74 and determines whether it is within a predetermined range. Here, if the upper limit value of the monitor value is M1 and the lower limit value is M2, and the detected monitor value is less than or equal to the lower limit value M2, step 1
Go to 02. If the upper limit value M1 or more, the process proceeds to step 103.

【0063】ステップ102において、μ−CPU80
は、モニター値が下限値M2以下の場合には、印加電圧
を所定電圧だけ上げるように、光検知器74の印加電圧
を制御する。即ち、図6に破線で示すように、光源モニ
ター値が下限値M2より低い場合には、印加電圧を所定
電圧V1だけ上げる。その上で、再度ステップ101に
戻り、モニター値が下限値M2以下である場合には、再
度、印加電圧を所定電圧V1だけ上げる。このステップ
を繰り返し、モニター値が下限値M2を越えるまで繰り
返される。
In step 102, the μ-CPU 80
Controls the applied voltage of the photodetector 74 so as to raise the applied voltage by a predetermined voltage when the monitor value is equal to or lower than the lower limit value M2. That is, as shown by the broken line in FIG. 6, when the light source monitor value is lower than the lower limit value M2, the applied voltage is increased by the predetermined voltage V1. Then, the process returns to step 101 again, and when the monitor value is equal to or lower than the lower limit value M2, the applied voltage is increased again by the predetermined voltage V1. This step is repeated until the monitor value exceeds the lower limit value M2.

【0064】また、ステップ101において、モニター
値が上限値M1を越えた場合には、ステップ103に進
み、μ−CPU80は、モニター値が上限値M1以上の
場合には、印加電圧を所定電圧だけ下げるように、光検
知器74の印加電圧を制御する。即ち、図6に実線で示
すように、光源モニター値が下限値M1より高い場合に
は、印加電圧を所定電圧V1だけ下げる。その上で、再
度ステップ101に戻り、モニター値が上限値M1以上
である場合には、再度、印加電圧を所定電圧V1だけ下
げる。このステップを繰り返し、モニター値が下限値M
1以下となるまで繰り返される。
When the monitor value exceeds the upper limit value M1 in step 101, the flow proceeds to step 103, and the μ-CPU 80 applies the predetermined voltage to the applied voltage when the monitor value is equal to or higher than the upper limit value M1. The voltage applied to the photodetector 74 is controlled so as to lower it. That is, as indicated by the solid line in FIG. 6, when the light source monitor value is higher than the lower limit value M1, the applied voltage is lowered by the predetermined voltage V1. Then, the process returns to step 101 again, and when the monitor value is equal to or higher than the upper limit value M1, the applied voltage is again lowered by the predetermined voltage V1. Repeat this step until the monitor value reaches the lower limit M
It is repeated until it becomes 1 or less.

【0065】以上のようにして、モニター値が所定範囲
内に納まると、次のステップ200に進む。
When the monitor value is within the predetermined range as described above, the process proceeds to the next step 200.

【0066】ステップ200は、光源位置設定のステッ
プである。最初にステップ201において、光源を走査
開始位置に移動する。ここで言う走査開始位置とは、図
3において、説明したように、基準位置から距離(−X
1)だけタレット12を回転させた位置である。ここ
で、距離(−X1)とは、例えば、(−8mm)であ
り、これは、タレットの回転角度では4.5゜に相当す
るため、タレットを4.5゜回転させるために、μ−C
PU80は、タレット駆動用パルスモーター16に50
パルスの制御信号を出力する。これによって、タレット
12は、4.5゜回転して走査開始位置に移動したこと
になる。
Step 200 is a step of setting the light source position. First, in step 201, the light source is moved to the scanning start position. The scanning start position referred to here is, as described in FIG. 3, a distance (−X
1) This is the position where the turret 12 is rotated. Here, the distance (−X1) is, for example, (−8 mm), which corresponds to 4.5 ° in the rotation angle of the turret, and therefore μ− for rotating the turret by 4.5 °. C
PU80 is 50 in the turret drive pulse motor 16
Outputs a pulse control signal. As a result, the turret 12 is rotated by 4.5 ° and moved to the scanning start position.

【0067】その次に、ステップ202において、μ−
CPU80は、光源位置を移動して、検索を開始し、検
索終了までは、ステップ203に進む。光源位置の移動
は、タレット駆動用パルスモーター16に1パルスずつ
の制御信号を出力することにより行われる。
Then, in step 202, μ-
The CPU 80 moves the light source position, starts the search, and proceeds to step 203 until the search is completed. The light source position is moved by outputting a control signal for each pulse to the turret driving pulse motor 16.

【0068】ステップ203において、1パルス分光源
位置が移動する度に、μ−CPU80は、光検知器74
の出力を取り込んで、その値が、所定範囲内にあるかど
うかをチェックする。ここで、所定範囲は、図6で説明
した上限値M1及び下限値M2と同じにしてある。所定範
囲内にある時は、ステップ205に進み、走査位置を変
更し、所定範囲内にない時は、ステップ204に進ん
で、印加電圧を所定レベル下げた上で、ステップ205
に進んで、走査位置を変更する。
In step 203, each time the light source position moves by one pulse, the μ-CPU 80 causes the photodetector 74 to move.
Take the output of and check if its value is within a predetermined range. Here, the predetermined range is the same as the upper limit value M1 and the lower limit value M2 described in FIG. If it is within the predetermined range, the operation proceeds to step 205, and the scanning position is changed. If it is not within the predetermined range, the operation proceeds to step 204, the applied voltage is lowered by a predetermined level, and then step 205
Proceed to and change the scan position.

【0069】以上の制御動作について、図7を用いて説
明する。
The above control operation will be described with reference to FIG.

【0070】図7(A)に示すように、走査開始時点で
は、光検知器の出力である光源のモニター値は低いレベ
ルにある。従って、当初は、ステップ205によって、
走査位置の変更のみが行われる。図2に示した光源の有
効範囲Eが光軸上に近づく頃から、光源のモニター値が
上昇し始め、下限値M2を越え、さらに、上昇して、n
番目の制御パルスPnの時に、モニター値が、上限値M1
を越えると、そのタイミングで、図7(B)に示すよう
に、ステップ204において、ホトマルチプライヤへの
印加電圧をVAからVBへと所定電圧だけ印加電圧を下げ
る。
As shown in FIG. 7A, at the start of scanning, the monitor value of the light source, which is the output of the photodetector, is at a low level. Therefore, initially, by step 205,
Only the scan position is changed. When the effective range E of the light source shown in FIG. 2 approaches the optical axis, the monitor value of the light source starts to rise, exceeds the lower limit M2, and further rises to n.
At the th control pulse Pn, the monitor value is the upper limit value M1.
7B, the applied voltage to the photomultiplier is lowered from VA to VB by a predetermined voltage at step 204 at that timing, as shown in FIG. 7B.

【0071】さらに、n+1番目の制御パルスPn+1の
時にも、モニター値が、上限値M1を越えると、そのタ
イミングで、図7(B)に示すように、ステップ204
において、ホトマルチプライヤへの印加電圧をVBから
VCへと所定電圧だけ印加電圧を下げる。これ以降は、
モニター値が上限値M1を越えることはないため、印加
電圧は、Vc一定となる。
Further, even at the (n + 1) th control pulse Pn + 1, if the monitor value exceeds the upper limit value M1, at that timing, as shown in FIG.
In, the applied voltage to the photomultiplier is lowered from VB to VC by a predetermined voltage. From now on,
Since the monitor value does not exceed the upper limit value M1, the applied voltage is Vc constant.

【0072】このようにして、印加電圧を変えない時に
は、光源のモニター値は、図7(A)に点線で示すよう
に変化して、Pn+2のタイミングでピーク値となるが、
光源のモニター値は、破線で示すように、あるレベルで
飽和してしまい、ピーク値の検出は不可能になる。
In this way, when the applied voltage is not changed, the monitor value of the light source changes as shown by the dotted line in FIG. 7 (A) and reaches the peak value at the timing of Pn + 2.
The monitor value of the light source is saturated at a certain level as shown by the broken line, and the peak value cannot be detected.

【0073】一方、光源のモニター値に基づいて印加電
圧を変えることにより、光源のモニター値は、実線で示
すように、変化していくため、印加電圧が最低のレベル
になった後でのモニター値の最大値を検出することによ
り、容易にピーク位置を検出することができる。
On the other hand, by changing the applied voltage based on the monitor value of the light source, the monitor value of the light source changes as shown by the solid line, so that the monitor after the applied voltage reaches the minimum level is displayed. The peak position can be easily detected by detecting the maximum value.

【0074】以上のようにして、光源位置の移動を繰り
返して、検索を行い、μ−CPU80が100パルスの
制御信号を出力して検索を終了すると、ステップ202
からステップ206に進む。
As described above, the movement of the light source position is repeated to perform the search, and the μ-CPU 80 outputs the control signal of 100 pulses to complete the search.
To step 206.

【0075】ステップ206において、μ−CPU80
は、それまでの検索において、ピーク位置を検出できて
いるので、そのピーク値を検出した位置まで光源を移動
することにより、光源の中心を光軸上に合わせることが
できる。
In step 206, the μ-CPU 80
Since the peak position can be detected in the search so far, the center of the light source can be aligned with the optical axis by moving the light source to the position where the peak value is detected.

【0076】ここで、従来は、ホトマルチプライヤへの
印加電圧は、一定のまま、光源位置の移動を行っていた
ため、図7(A)に破線で示すように、モニター値が飽
和してしまい、1回の全範囲の移動だけでは、ピーク位
置を見いだすことができず、再度、印加電圧を下げた上
で、同一範囲について光源位置を移動することを繰り返
していたため、最適な光源位置を検出するのに時間を要
していた。この時間は、最大では、2分間ほどかかる場
合があったが、本実施の形態のように、光源のモニター
をしながら、上限値を越えた場合には、ホトマルチプラ
イヤへの印加電圧を低下させることにより、1回の光源
位置移動のみで、ピーク位置を検出できるため、そのこ
とに要する時間は、約5秒程度で済むことになった。
Here, conventionally, since the light source position is moved while the applied voltage to the photomultiplier is constant, the monitor value is saturated as shown by the broken line in FIG. 7 (A). The peak position could not be found by moving the entire range once, and the optimum light source position was detected because the applied voltage was lowered again and the light source position was repeatedly moved in the same range. It took time to do. This time may take up to 2 minutes at maximum, but when the upper limit is exceeded while monitoring the light source as in the present embodiment, the voltage applied to the photomultiplier is lowered. By doing so, the peak position can be detected by moving the light source position only once, and the time required for this can be about 5 seconds.

【0077】以上のようにして、光源位置の設定が終了
すると、次に、ステップ300において、分光器位置設
定を行う。
When the setting of the light source position is completed as described above, next, in step 300, the spectroscope position is set.

【0078】ステップ300は、分光器位置設定のステ
ップである。最初にステップ301において、分光器の
選択波長を走査開始位置に移動設定する。ここで言う走
査開始位置とは、図4において、説明したように、基準
位置から波長(−X1’)だけパルスモーター64によ
り、回折格子56を回転させた位置である。ここで、波
長(−X1’)とは、例えば、(−0.45nm)であ
り、そのために、μ−CPU80は、回折格子駆動用パ
ルスモーター64に45パルスの制御信号を出力する。
これによって、回折格子56が回転して走査開始位置に
移動したことになる。
Step 300 is a step of setting the spectroscope position. First, in step 301, the selected wavelength of the spectroscope is moved and set to the scanning start position. The scanning start position mentioned here is the position where the diffraction grating 56 is rotated by the pulse motor 64 by the wavelength (-X1 ') from the reference position, as described in FIG. Here, the wavelength (−X1 ′) is, for example, (−0.45 nm), and therefore the μ-CPU 80 outputs a 45 pulse control signal to the diffraction grating driving pulse motor 64.
As a result, the diffraction grating 56 rotates and moves to the scanning start position.

【0079】その次に、ステップ302において、μ−
CPU80は、波長走査して、検索を開始し、検索終了
までは、ステップ303に進む。波長走査は、回折格子
駆動用パルスモーター64に1パルスづつの制御信号を
出力することにより行われる。
Then, in step 302, μ-
The CPU 80 scans the wavelength, starts the search, and proceeds to step 303 until the search is completed. The wavelength scanning is performed by outputting a control signal for each pulse to the diffraction grating driving pulse motor 64.

【0080】ステップ303において、1パルス分、波
長が移動する度に、μ−CPU80は、光検知器74の
出力を取り込んで、その値が、所定範囲内にあるかどう
かをチェックする。ここで、所定範囲は、図6で説明し
た上限値M1及び下限値M2と同じにしてある。所定範囲
内にある時は、ステップ305に進み、走査位置を変更
し、所定範囲内にない時は、ステップ304に進んで、
印加電圧を所定レベル下げた上で、ステップ305に進
んで、走査位置を変更する。
In step 303, each time the wavelength shifts by one pulse, the μ-CPU 80 takes in the output of the photodetector 74 and checks whether the value is within a predetermined range. Here, the predetermined range is the same as the upper limit value M1 and the lower limit value M2 described in FIG. If it is within the predetermined range, the operation proceeds to step 305, the scanning position is changed, and if it is not within the predetermined range, the operation proceeds to step 304,
After lowering the applied voltage by a predetermined level, the process proceeds to step 305 to change the scanning position.

【0081】以上の制御動作について、図7を用いて説
明する。
The above control operation will be described with reference to FIG.

【0082】図7(A)に示すように、走査開始時点で
は、光検知器の出力である光源のモニター値は低いレベ
ルにある。従って、当初は、ステップ305によって、
走査位置の変更のみが行われる。図4に示したスペクト
ルが光軸上に近づく頃から、光源のモニター値が上昇し
始め、下限値M2を越え、さらに、上昇して、n番目の
制御パルスPnの時に、モニター値が、上限値M1を越え
ると、そのタイミングで、図7(B)に示すように、ス
テップ304において、ホトマルチプライヤへの印加電
圧をVAからVBへと所定電圧だけ印加電圧を下げる。
As shown in FIG. 7A, at the start of scanning, the monitor value of the light source, which is the output of the photodetector, is at a low level. Therefore, initially, by step 305,
Only the scan position is changed. When the spectrum shown in FIG. 4 approaches the optical axis, the monitor value of the light source starts to rise, exceeds the lower limit value M2, and further rises, and at the nth control pulse Pn, the monitor value becomes the upper limit. When the value exceeds the value M1, at that timing, as shown in FIG. 7B, in step 304, the applied voltage to the photomultiplier is decreased from VA to VB by a predetermined voltage.

【0083】さらに、n+1番目の制御パルスPn+1の
時にも、モニター値が、上限値M1を越えると、そのタ
イミングで、図7(B)に示すように、ステップ304
において、ホトマルチプライヤへの印加電圧をVBから
VCへと所定電圧だけ印加電圧を下げる。これ以降は、
モニター値が上限値M1を越えることはないため、印加
電圧は、Vc一定となる。
Further, even at the (n + 1) th control pulse Pn + 1, when the monitor value exceeds the upper limit value M1, at that timing, as shown in FIG.
In, the applied voltage to the photomultiplier is lowered from VB to VC by a predetermined voltage. From now on,
Since the monitor value does not exceed the upper limit value M1, the applied voltage is Vc constant.

【0084】このようにして、印加電圧を変えない時に
は、光源のモニター値は、図7(A)に点線で示すよう
に変化して、Pn+2のタイミングでピーク値となるが、
光源のモニター値は、破線で示すように、あるレベルで
飽和してしまい、ピーク値の検出は不可能になる。
In this way, when the applied voltage is not changed, the monitor value of the light source changes as shown by the dotted line in FIG. 7 (A) and reaches the peak value at the timing of Pn + 2.
The monitor value of the light source is saturated at a certain level as shown by the broken line, and the peak value cannot be detected.

【0085】一方、光源のモニター値に基づいて印加電
圧を変えることにより、光源のモニター値は、実線で示
すように、変化していくため、印加電圧が最低のレベル
になった後でのモニター値の最大値を検出することによ
り、容易にピーク位置を検出することができる。
On the other hand, by changing the applied voltage based on the monitor value of the light source, the monitor value of the light source changes as shown by the solid line. Therefore, the monitor after the applied voltage reaches the lowest level The peak position can be easily detected by detecting the maximum value.

【0086】以上のようにして、波長走査を順次行っ
て、検索を行い、μ−CPU80が90パルスの制御信
号を出力して検索を終了すると、ステップ302からス
テップ306に進む。
As described above, the wavelength scanning is sequentially performed to perform the search, and when the μ-CPU 80 outputs the 90-pulse control signal to complete the search, the process proceeds from step 302 to step 306.

【0087】ステップ306において、μ−CPU80
は、それまでの検索において、ピーク位置を検出できて
いるので、そのピーク値を検出した位置まで分光器を移
動することにより、分光器が選択する波長を光源の発光
スペクトルの中心波長に合わせることができる。
In step 306, the μ-CPU 80
Has detected the peak position in the search so far, so by moving the spectroscope to the position where the peak value was detected, the wavelength selected by the spectroscope should match the center wavelength of the emission spectrum of the light source. You can

【0088】ここで、従来は、ホトマルチプライヤへの
印加電圧は、一定のまま、波長走査を行っていたため、
図7(A)に破線で示すように、モニター値が飽和して
しまい、1回の全範囲の走査だけでは、ピーク位置を見
いだすことができず、再度、印加電圧を下げた上で、同
一範囲の波長走査を繰り返していたため、最適な分光器
位置を検出するのに時間を要していた。この時間は、最
大では、2分間ほどかかる場合があったが、本実施の形
態のように、光源のモニターをしながら、上限値を越え
た場合には、ホトマルチプライヤへの印加電圧を低下さ
せることにより、1回の波長走査のみで、ピーク位置を
検出できるため、そのことに要する時間は、約5秒程度
で済むことになった。
Here, conventionally, since the wavelength scanning was performed while the applied voltage to the photomultiplier was kept constant,
As indicated by the broken line in FIG. 7A, the monitor value is saturated, and the peak position cannot be found by only scanning the entire range once. Since the wavelength scanning of the range was repeated, it took time to detect the optimum spectroscope position. This time may take up to 2 minutes at maximum, but when the upper limit is exceeded while monitoring the light source as in the present embodiment, the voltage applied to the photomultiplier is lowered. By doing so, the peak position can be detected by only one wavelength scan, and the time required for this can be about 5 seconds.

【0089】本実施の形態によれば、光源の位置走査を
行いながら、光検知器の出力が一定の範囲内となるよう
に光検知器の印加電圧を制御し、光強度が最大となる位
置に光源の位置を移動することにより、光源の位置走査
を1回のみで、光源の最適位置への設定が可能となる。
According to the present embodiment, the voltage applied to the photodetector is controlled so that the output of the photodetector is within a certain range while the position scanning of the light source is performed, and the position where the light intensity is maximum is obtained. By moving the position of the light source, the position of the light source can be set to the optimum position only once by scanning the position of the light source.

【0090】また、分光器の位置走査を行いながら、光
検知器の出力が一定の範囲内となるように光検知器の印
加電圧を制御し、光強度が最大となる位置に分光器の位
置を移動することにより、分光器の波長走査を1回のみ
で、分光器の最適位置への波長設定が可能となる。
While scanning the position of the spectroscope, the applied voltage of the photodetector is controlled so that the output of the photodetector is within a certain range, and the position of the spectroscope is set to the position where the light intensity is maximum. By moving the, it is possible to set the wavelength to the optimum position of the spectroscope only by scanning the wavelength of the spectroscope only once.

【0091】また、光源を基準位置に設定した状態で、
光検知器の出力が一定の範囲内となるように光検知器の
印加電圧を制御するので、以降の光源位置走査や、分光
器の波長の走査の際に、光検知器の印加電圧の制御は、
下げる方向だけでよくなるため、制御が容易でかつ早く
なる。
With the light source set to the reference position,
Since the applied voltage of the photodetector is controlled so that the output of the photodetector is within a certain range, the applied voltage of the photodetector is controlled during the subsequent scanning of the light source position and scanning of the wavelength of the spectroscope. Is
Since it only needs to be lowered, control becomes easier and faster.

【0092】以上の結果として、光源や分光器の条件設
定の時間を短縮できる。
As a result of the above, the time for setting the conditions of the light source and the spectroscope can be shortened.

【0093】次に、図1,図5及び図8を用いて、本発
明の他の実施の形態について説明する。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1, 5 and 8.

【0094】図8は、本発明の他の実施の形態による原
子吸光光度計による光源部の位置調整及び分光器の波長
調整時の動作説明図である。
FIG. 8 is an operation explanatory diagram when the position of the light source unit and the wavelength of the spectroscope are adjusted by the atomic absorption photometer according to another embodiment of the present invention.

【0095】本実施の形態の特徴的なところは、図5に
示すフローチャートにおいて、ステップ100の印加電
圧設定において、ステップ101,102,103に代
えて、ステップ104を用いる点にある。
A feature of this embodiment is that step 104 is used in place of steps 101, 102 and 103 in the applied voltage setting of step 100 in the flowchart shown in FIG.

【0096】即ち、ステップ00において、初期設定が
終了した後、ステップ100の印加電圧設定において、
ステップ104では、印加電圧を最大値に設定する。図
6において、説明したように、第1の実施の形態では、
光源のモニター値が所定範囲内になるように、印加電圧
を上昇あるいは下降していたが、これを実行するには、
ある程度の時間を要する。そこで、次のステップ20
0,ステップ300では、印加電圧は下げ方向のみであ
ることを鑑みて、最大値に設定するようにしている。
That is, after the initial setting is completed in step 00, in the applied voltage setting in step 100,
In step 104, the applied voltage is set to the maximum value. As described with reference to FIG. 6, in the first embodiment,
The applied voltage was raised or lowered so that the monitor value of the light source was within the predetermined range.
It takes some time. Therefore, the next step 20
0, in step 300, the applied voltage is set to the maximum value in view of the fact that the applied voltage is only in the decreasing direction.

【0097】従って、ステップ200における光源位置
設定のフローや、ステップ300における分光器位置設
定のフロー自体は、第1の実施の形態と同じであるもの
の、その制御動作は多少異なったものとなる。
Therefore, although the flow of the light source position setting in step 200 and the flow of the spectrometer position setting in step 300 are the same as those in the first embodiment, the control operation is slightly different.

【0098】そこで、図5及び図8を用いて、ステップ
200における光源位置設定のフローや、ステップ30
0における分光器位置設定のフローに基づく制御動作に
ついて説明する。
Therefore, with reference to FIGS. 5 and 8, the light source position setting flow in step 200 and step 30
The control operation based on the spectroscope position setting flow at 0 will be described.

【0099】ステップ200は、光源位置設定のステッ
プである。最初にステップ201において、μ−CPU
80は、パルスモーター16を制御して、光源を走査開
始位置に移動する。
Step 200 is a step of setting the light source position. First, in step 201, the μ-CPU
Reference numeral 80 controls the pulse motor 16 to move the light source to the scanning start position.

【0100】次に、ステップ202において、μ−CP
U80は、光源位置を移動して、検索を開始し、検索終
了までは、ステップ203に進む。光源位置の移動は、
タレット駆動用パルスモーター16に1パルスずつの制
御信号を出力することにより行われる。
Next, in step 202, μ-CP
U80 moves the light source position, starts the search, and proceeds to step 203 until the search is completed. The movement of the light source position is
This is performed by outputting a control signal for each pulse to the turret driving pulse motor 16.

【0101】ステップ203において、1パルス分光源
位置が移動する度に、μ−CPU80は、光検知器74
の出力を取り込んで、その値が、所定範囲内にあるかど
うかをチェックする。ここで、所定範囲は、図6で説明
した上限値M1及び下限値M2と同じにしてある。所定範
囲内にある時は、ステップ205に進み、走査位置を変
更し、所定範囲内にない時は、ステップ204に進ん
で、印加電圧を所定レベル下げた上で、ステップ205
に進んで、走査位置を変更する。
In step 203, each time the light source position moves by one pulse, the μ-CPU 80 causes the photodetector 74 to move.
Take the output of and check if its value is within a predetermined range. Here, the predetermined range is the same as the upper limit value M1 and the lower limit value M2 described in FIG. If it is within the predetermined range, the process proceeds to step 205, and the scanning position is changed. If it is not within the predetermined range, the process proceeds to step 204, the applied voltage is lowered by a predetermined level, and then the step 205 is performed.
Proceed to and change the scan position.

【0102】図8(A)に示すように、走査開始時点で
は、光検知器の出力である光源のモニター値は低いレベ
ルにある。従って、当初は、ステップ205によって、
走査位置の変更のみが行われる。図2に示した光源の有
効範囲Eが光軸上に近づく頃から、光源のモニター値が
上昇し始め、下限値M2を越え、さらに、上昇して、モ
ニター値が、上限値M1を越えると、そのタイミング
で、図8(B)に示すように、ステップ204におい
て、ホトマルチプライヤへの印加電圧Vを所定電圧だけ
下げる。
As shown in FIG. 8A, at the start of scanning, the monitor value of the light source, which is the output of the photodetector, is at a low level. Therefore, initially, by step 205,
Only the scan position is changed. When the effective range E of the light source shown in FIG. 2 approaches the optical axis, the monitor value of the light source starts to increase, exceeds the lower limit M2, and further increases, and the monitor value exceeds the upper limit M1. At that timing, as shown in FIG. 8B, in step 204, the applied voltage V to the photomultiplier is decreased by a predetermined voltage.

【0103】ホトマルチプライヤへの印加電圧は最大値
にしてあるため、以後、印加電圧を下げることを繰り返
し、m番目の制御パルスPmで印加電圧を下げた後、次
のタイミングPm+1で光源のモニター値が上限値M1を越
えなくなるまで、繰り返され、それ以降は、印加電圧
は、一定となる。
Since the applied voltage to the photomultiplier is set to the maximum value, the applied voltage is repeatedly lowered thereafter, the applied voltage is lowered by the m-th control pulse Pm, and then the light source is output at the next timing Pm + 1. It is repeated until the monitor value of 1 does not exceed the upper limit value M1, and thereafter, the applied voltage becomes constant.

【0104】以上のようにして、光源位置の移動を繰り
返して、検索を行い、μ−CPU80が100パルスの
制御信号を出力して検索を終了すると、ステップ202
からステップ206に進む。
As described above, the movement of the light source position is repeated to perform the search, and the μ-CPU 80 outputs a 100-pulse control signal to complete the search.
To step 206.

【0105】ステップ206において、μ−CPU80
は、それまでの検索において、ピーク位置を検出できて
いるので、そのピーク値を検出した位置まで光源を移動
することにより、光源の中心を光軸上に合わせることが
できる。
At step 206, the μ-CPU 80
Since the peak position can be detected in the search so far, the center of the light source can be aligned with the optical axis by moving the light source to the position where the peak value is detected.

【0106】ここで、従来は、ホトマルチプライヤへの
印加電圧は、一定のまま、光源位置の移動を行っていた
ため、1回の全範囲の移動だけでは、ピーク位置を見い
だすことができず、再度、印加電圧を下げた上で、同一
範囲について光源位置を移動することを繰り返していた
ため、最適な光源位置を検出するのに時間を要してい
た。この時間は、最大では、2分間ほどかかる場合があ
ったが、本実施の形態のように、光源のモニターをしな
がら、上限値を越えた場合には、ホトマルチプライヤへ
の印加電圧を低下させることにより、1回の光源位置移
動のみで、ピーク位置を検出できるため、そのことに要
する時間は、従来よりも短縮できる。本実施の形態で
は、第1の実施の形態に比べて、光源位置調整に要する
時間は多少かかるが、印加電圧の制御について見ると、
印加電圧を下げる制御のみで済むため、制御が容易にな
る。
Here, conventionally, the position of the light source was moved while the applied voltage to the photomultiplier was kept constant, so the peak position could not be found by moving the entire range once. Since the applied voltage was lowered again and the light source position was repeatedly moved within the same range, it took time to detect the optimum light source position. This time may take up to 2 minutes at maximum, but when the upper limit is exceeded while monitoring the light source as in the present embodiment, the voltage applied to the photomultiplier is lowered. By doing so, the peak position can be detected by only moving the light source position once, and therefore the time required for that can be shortened compared to the conventional case. In the present embodiment, compared to the first embodiment, although it takes a little time to adjust the light source position, looking at the control of the applied voltage,
The control is easy because only the control for lowering the applied voltage is required.

【0107】また、以上の説明では、光源位置の調整に
ついて説明していたが、波長位置の調整も同様にして行
われる。
Further, in the above description, the adjustment of the light source position has been described, but the wavelength position is adjusted in the same manner.

【0108】本実施の形態によれば、光源の位置走査を
行いながら、光検知器の出力が一定の範囲内となるよう
に光検知器の印加電圧を制御し、光強度が最大となる位
置に光源の位置を移動することにより、光源の位置走査
を1回のみで、光源の最適位置への設定が可能となる。
According to the present embodiment, while the position of the light source is being scanned, the voltage applied to the photodetector is controlled so that the output of the photodetector is within a fixed range, and the position where the light intensity is maximized is controlled. By moving the position of the light source, the position of the light source can be set to the optimum position only once by scanning the position of the light source.

【0109】また、分光器の位置走査を行いながら、光
検知器の出力が一定の範囲内となるように光検知器の印
加電圧を制御し、光強度が最大となる位置に分光器の位
置を移動することにより、分光器の波長走査を1回のみ
で、分光器の最適位置への波長設定が可能となる。
Further, while scanning the position of the spectroscope, the applied voltage of the photodetector is controlled so that the output of the photodetector is within a certain range, and the position of the spectroscope is adjusted to the position where the light intensity is maximum. By moving the, it is possible to set the wavelength to the optimum position of the spectroscope only by scanning the wavelength of the spectroscope only once.

【0110】また、光源を基準位置に設定した状態で、
光検知器の印加電圧を最大値に設定するので、以降の光
源位置走査や、分光器の波長の走査の際に、光検知器の
印加電圧の制御は、下げる方向だけでよくなるため、制
御が容易となる。
With the light source set to the reference position,
Since the applied voltage of the photodetector is set to the maximum value, the control of the applied voltage of the photodetector can be performed only in the lowering direction during subsequent light source position scanning and scanning of the wavelength of the spectroscope. It will be easy.

【0111】以上の結果として、光源や分光器の条件設
定の時間を短縮できる。
As a result of the above, the time for setting the conditions of the light source and the spectroscope can be shortened.

【0112】[0112]

【発明の効果】本発明によれば、原子吸光光度計におけ
る分析条件の自動設定に要する時間を短縮することがで
きる。
According to the present invention, the time required for automatic setting of analysis conditions in an atomic absorption spectrophotometer can be shortened.

【0113】[0113]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態による原子吸光光度計の
ブロック構成図である。
FIG. 1 is a block diagram of an atomic absorption spectrophotometer according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態による原子吸光光度計の
光源部の位置ずれを説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a positional shift of a light source unit of an atomic absorption spectrophotometer according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施の形態による原子吸光光度計の
光源部からの発光スペクトルのプロファイルを説明する
図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a profile of an emission spectrum from a light source unit of the atomic absorption photometer according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施の形態による原子吸光光度計の
分光器の出射スリットから取り出される光のスペクトル
のプロファイルを説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a profile of a spectrum of light extracted from an exit slit of a spectroscope of an atomic absorption photometer according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施の形態による原子吸光光度計の
光源部の位置調整及び分光器の波長調整を説明するフロ
ーチャートである。
FIG. 5 is a flowchart illustrating position adjustment of a light source unit of an atomic absorption spectrophotometer and wavelength adjustment of a spectroscope according to an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施の形態による原子吸光光度計に
よる光検知器への印加電圧制御の動作説明図である。
FIG. 6 is an operation explanatory diagram of voltage application to a photodetector by the atomic absorption photometer according to the embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一実施の形態による原子吸光光度計の
光源部の位置調整及び分光器の波長調整時の動作説明図
である。
FIG. 7 is an operation explanatory diagram when the position of the light source unit of the atomic absorption spectrophotometer and the wavelength of the spectroscope are adjusted according to the embodiment of the present invention.

【図8】本発明の他の実施の形態による原子吸光光度計
の光源部の位置調整及び分光器の波長調整時の動作説明
図である。
FIG. 8 is an operation explanatory diagram when the position of the light source unit of the atomic absorption spectrophotometer and the wavelength of the spectroscope are adjusted according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…光源部 12…タレット 14…ホローカソードランプ 16,62,64…パルスモーター 20…バーナー 22…チャンバー 24…ネブライザ 26…ガス制御部 29,34…磁石 30…グラフィト炉 32…グラフィトアトマイザー電源 40…試料容器 50…分光器 52…入射スリット 54…出射スリット 56…回折格子 70…偏光子 74…検知器 80…μ−CPU 82…CRT表示器 84…プリンタ 86…キ−ボ−ド DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Light source part 12 ... Turret 14 ... Hollow cathode lamp 16, 62, 64 ... Pulse motor 20 ... Burner 22 ... Chamber 24 ... Nebulizer 26 ... Gas control part 29, 34 ... Magnet 30 ... Graphite furnace 32 ... Graphit atomizer power supply 40 ... sample container 50 ... spectroscope 52 ... entrance slit 54 ... exit slit 56 ... diffraction grating 70 ... polarizer 74 ... detector 80 ... .mu.-CPU 82 ... CRT display 84 ... printer 86 ... keyboard

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 冨田 幸治 茨城県ひたちなか市市毛882番地 株式会 社日立製作所計測器事業部内 (72)発明者 戸辺 早人 茨城県ひたちなか市市毛882番地 株式会 社日立製作所計測器事業部内 (72)発明者 丸岡 幹太郎 茨城県ひたちなか市市毛882番地 株式会 社日立製作所計測器事業部内 (72)発明者 斉藤 隆治 茨城県ひたちなか市堀口字長久保832番地 2 日立計測エンジニアリング株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Koji Tomita 882 Ichige Ichi, Hitachinaka City, Ibaraki Prefecture Stock Company, Hitachi, Ltd. Measuring Instruments Division (72) Hayato Tobe 882 Ichige Ichiga, Hitachinaka City, Ibaraki Prefecture Hitachi Ltd. Measuring Instruments Division (72) Inventor Mikitaro Maruoka 882 Ichimo Ichi, Hitachinaka City, Ibaraki Stock Company Hitachi Ltd. Measuring Instruments Division (72) Ryuji Saito 832 Nagakubo, Horiguchi, Hitachinaka City, Ibaraki Prefecture Engineering Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の光源が回転可能に保持された光源
部と、 この光源部に保持された上記光源の位置を移動する光源
位置駆動手段と、 測定試料を原子化するとともに、この光源部の中の所定
の光源から発せられた光が導かれる試料原子化部と、 この試料原子化部を通過した光の中から所定の波長の光
を分光する分光器と、 この分光器から出射した光を電気信号に変換する光検知
器とを有する原子吸光光度計において、 上記光源位置駆動手段を制御して、上記光源部に保持さ
れた上記光源の位置を所定範囲走査するとともに、この
光源の走査中における上記光検知器の出力をチェックし
て、その出力が所定範囲を越えているときには、所定範
囲内になるように上記光検知器への印加電圧を制御する
とともに、 上記走査の終了後、上記光源からの光強度が最大となる
位置に、上記光源の位置を移動する制御手段を備えたこ
とを特徴とする原子吸光光度計。
1. A light source section in which a plurality of light sources are rotatably held, a light source position driving means for moving the position of the light source held in the light source section, an atomization of a measurement sample, and the light source section. Sample atomization part to which the light emitted from the specified light source is guided; In an atomic absorption spectrophotometer having a photodetector for converting light into an electric signal, the light source position driving means is controlled to scan the position of the light source held by the light source unit within a predetermined range, and Check the output of the photodetector during scanning, and if the output exceeds a predetermined range, control the voltage applied to the photodetector so that it is within the predetermined range, and after the end of the scanning. , The above light source An atomic absorption spectrophotometer comprising a control means for moving the position of the light source to a position where the light intensity is maximum.
【請求項2】 請求項1記載の原子吸光光度計におい
て、 上記所定範囲は、上記光源の基準位置を中心として、上
記光源から発せられる発光スペクトルの幅に、光源位置
のズレ量を加えた幅を含む範囲であることを特徴とする
原子吸光光度計。
2. The atomic absorption spectrophotometer according to claim 1, wherein the predetermined range is a width obtained by adding a deviation amount of a light source position to a width of an emission spectrum emitted from the light source with the reference position of the light source as a center. Atomic absorption spectrophotometer, characterized in that the range includes.
【請求項3】 請求項2記載の原子吸光光度計におい
て、 上記制御手段は、さらに、上記分光器を制御して、上記
分光器を所定範囲走査するとともに、この分光器による
波長走査中における上記光検知器の出力をチェックし
て、その出力が所定範囲を越えているときには、所定範
囲内になるように上記光検知器への印加電圧を制御する
とともに、 上記走査の終了後、上記光源からの光強度が最大となる
位置に、上記分光器の波長位置に移動制御することを特
徴とする原子吸光光度計。
3. The atomic absorption spectrophotometer according to claim 2, wherein the control means further controls the spectroscope to scan the spectroscope in a predetermined range and to perform the wavelength scanning by the spectroscope. The output of the photodetector is checked, and when the output exceeds the predetermined range, the voltage applied to the photodetector is controlled so that it is within the predetermined range, and after the scanning is completed, Atomic absorption spectrophotometer, wherein movement is controlled to a wavelength position of the above spectroscope at a position where the light intensity of the above is maximum.
【請求項4】 請求項3記載の原子吸光光度計におい
て、 上記所定範囲は、上記分光器の基準位置を中心として、
上記分光器から出射する光スペクトルの幅に、分光器の
波長位置のズレ量を加えた幅を含む範囲であることを特
徴とする原子吸光光度計。
4. The atomic absorption spectrophotometer according to claim 3, wherein the predetermined range is centered on a reference position of the spectroscope.
An atomic absorption spectrophotometer, which is a range including a width obtained by adding a deviation amount of a wavelength position of a spectroscope to a width of an optical spectrum emitted from the spectroscope.
【請求項5】 請求項1記載の原子吸光光度計におい
て、 上記制御手段は、さらに、上記光源位置駆動手段による
制御に先だって、上記光源を基準位置に設定した時の、
上記光検知器の出力をチェックして、その出力が所定範
囲を越えているときには、所定範囲になるように上記光
検知器への印加電圧を制御するとともに、上記光検知器
の印加電圧の制御は、印加電圧を下げる制御であること
を特徴とする原子吸光光度計。
5. The atomic absorption spectrophotometer according to claim 1, wherein the control means further sets the light source at a reference position prior to the control by the light source position driving means.
The output of the photodetector is checked, and when the output exceeds a predetermined range, the voltage applied to the photodetector is controlled so that the output falls within the predetermined range, and the voltage applied to the photodetector is controlled. Is an atomic absorption spectrophotometer, characterized in that the applied voltage is controlled to be lowered.
【請求項6】 請求項1記載の原子吸光光度計におい
て、 上記制御手段は、さらに、上記光源位置駆動手段による
制御に先だって、上記光検知器への印加電圧を最大とな
るように設定するとともに、上記光検知器の印加電圧の
制御は、印加電圧を下げる制御であることを特徴とする
原子吸光光度計。
6. The atomic absorption spectrophotometer according to claim 1, wherein the control means further sets the voltage applied to the photodetector to a maximum prior to the control by the light source position driving means. The atomic absorption spectrophotometer, wherein the control of the applied voltage of the photodetector is a control of lowering the applied voltage.
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