JPH0985026A - Manufacture of filter - Google Patents

Manufacture of filter

Info

Publication number
JPH0985026A
JPH0985026A JP25077595A JP25077595A JPH0985026A JP H0985026 A JPH0985026 A JP H0985026A JP 25077595 A JP25077595 A JP 25077595A JP 25077595 A JP25077595 A JP 25077595A JP H0985026 A JPH0985026 A JP H0985026A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
filter
porous body
discharge plasma
inert gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25077595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junko Noguchi
順子 野口
Shigemasa Kawai
重征 河合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP25077595A priority Critical patent/JPH0985026A/en
Publication of JPH0985026A publication Critical patent/JPH0985026A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily remove dirts attached to a filter by washing the filter with water to reutilize the filter by subjecting a three-dimensional reticular porous material to a discharge plasma treatment in a mixture of treatment gas and an inert gas or in an inert gas at a pressure of about 1Atm. SOLUTION: A titanium dioxide sintered material being solid induction material 6 is placed on a lower electrode 5 in a space between an upper electrode 4 and the electrode 5, and a non-woven fabric of polyester being three- dimensionally reticular porous material 7 is disposed on the sintered material. A device is evacuated to 1Torr and helium gas is introduced from a gas introducing pipe 9 until the pressure in the device becomes 5Torr and voltage of, for example, 1.5kHz:3.1kV is applied between the electrides 4, 5 for 15 seconds to generate plasma, thereby to apply discharge plasma treatment to the non- woven fabric of the polyester. Thereby, hydrophilic property can be imparted to the fabric and dirts can easily be removed from a filter having a hydrophilic surface by washing it with water.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フィルターの製造
方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、換気に対する需要と関心が高まっ
ており、換気装置の普及が急速に進んでいる。台所、換
気通気口等に設置する換気装置は、油煙等による機器の
汚れ防止、塵芥の混入防止のためフィルターを装着する
タイプが主流となっている。上記フィルターは、ポリエ
ステル等の繊維を不織布状に形成したものが一般的であ
った。特開平6−63328号公報には、油捕集効率の
向上とフィルター交換間隔を長くすることを目的とし、
目の粗さの異なる不織布を積層して用いた換気装置用フ
ィルターが開示されている。しかし、上記換気装置用フ
ィルターは、一定の汚れを付着させた後に交換すること
を前提としており、使い捨てされるものであった。
2. Description of the Related Art In recent years, the demand and interest in ventilation have increased, and the use of ventilation devices has rapidly spread. Most ventilation systems installed in kitchens, ventilation vents, etc. are equipped with filters in order to prevent equipment from getting dirty due to oily smoke, and to prevent dust from entering. The filter is generally formed by forming fibers such as polyester into a non-woven fabric. Japanese Patent Laid-Open No. 6-63328 aims to improve oil collection efficiency and lengthen filter replacement intervals.
There is disclosed a filter for a ventilation device, which is formed by laminating non-woven fabrics having different mesh roughness. However, the ventilator filter is supposed to be replaced after being attached with a certain amount of dirt, and is therefore a disposable item.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を鑑み、フィルターを構成する3次元網目状多孔体に親
水性を与えることによって、フィルターに付着した汚れ
を水洗によって容易に除去出来、再利用可能なフィルタ
ーの製造方法を与える。
In view of the above problems, the present invention can easily remove stains attached to a filter by washing with water by imparting hydrophilicity to the three-dimensional mesh-like porous material constituting the filter, A method of manufacturing a reusable filter is provided.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

【0005】本発明の請求項1記載の発明(以下、本発
明1という。)における上記3次元網目状多孔体に親水
性を与える方法は、対向する電極の少なくとも一方の対
向面に固体誘電体を設置し、該電極と該固体誘電体の間
又は該固体誘電体同志の対向面間に連通気孔を有する3
次元網目状多孔体を配置し、処理用ガスと不活性ガスの
混合気体又は不活性ガスの大気圧近傍の圧力下で該多孔
体に放電プラズマ処理を行うことによる。
The method for imparting hydrophilicity to the three-dimensional mesh-like porous material in the invention according to claim 1 of the present invention (hereinafter referred to as the present invention 1) is a solid dielectric on at least one opposing surface of opposing electrodes. And a communication hole is provided between the electrode and the solid dielectric or between the facing surfaces of the solid dielectrics.
By disposing a three-dimensional mesh-like porous body and subjecting the porous body to discharge plasma treatment under a pressure near the atmospheric pressure of the mixed gas of the processing gas and the inert gas or the inert gas.

【0006】上記プラズマ処理によって、3次元網目状
多孔体に放電プラズマが接触し、該多孔体に親水性を与
える官能基が形成される。
By the above plasma treatment, the discharge plasma comes into contact with the three-dimensional mesh-like porous body, and a functional group that imparts hydrophilicity to the porous body is formed.

【0007】本発明のフィルターを構成する3次元網目
状多孔体(以下、単に多孔体という。)は、有機高分子
化合物、金属、セラミック等の材質を、繊維を編む、成
型加工して不織布状にする等の手段によって形成したも
のを用いることが出来る。可とう性があって施工の容易
な有機高分子化合物が好ましい。上記有機高分子化合物
としては、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂等が挙げられる。
The three-dimensional mesh-like porous body (hereinafter, simply referred to as a porous body) constituting the filter of the present invention is made of a material such as an organic polymer compound, metal or ceramic by knitting fibers into a non-woven fabric. What was formed by means, such as, can be used. Organic polymer compounds that are flexible and easy to apply are preferred. Examples of the organic polymer compound include polyolefin resins, polyester resins, polyamide resins and the like.

【0008】以下、プラズマ処理について述べる。The plasma processing will be described below.

【0009】上記不活性ガスとしては、ヘリウム、ネオ
ン、アルゴン、キセノン等の希ガスが好ましい。これら
は単独でも混合して用いてもよい。ヘリウムは準安定状
態の寿命が長いため、処理用ガスと不活性ガスを励起す
るのに有利である。ヘリウム以外の上記不活性ガスを用
いる場合は、放電プラズマ処理を安定して行うために、
2体積%以下の有機化合物気体を混合することが好まし
い。
The inert gas is preferably a rare gas such as helium, neon, argon or xenon. These may be used alone or in combination. Since helium has a long metastable lifetime, it is advantageous for exciting the processing gas and the inert gas. When using the above-mentioned inert gas other than helium, in order to perform discharge plasma treatment stably,
It is preferable to mix 2% by volume or less of an organic compound gas.

【0010】上記処理用ガスとしては、酸素、窒素、硫
黄のうち1種以上の元素を含有する気体を用いることが
出来る。上記酸素元素を含有する気体としては、酸素、
オゾン、水、一酸化炭素、二酸化炭素、一酸化窒素、二
酸化窒素等の気体が挙げられる。これらの気体を混合し
て用いてもよい。さらに、酸素元素を含有する気体に対
して、50体積%を超えない範囲でフッ素元素含有気体
を混合することによって、多孔体の親水化を促進するこ
とが出来る。上記フッ素元素含有気体としては、四フッ
化炭素、六フッ化炭素、六フッ化プロピレン等のフッ化
炭化水素ガス、一塩素化三フッ素化炭素ガス等のハロゲ
ン化炭素ガス、六フッ化硫黄等のフッ化硫黄化合物等が
挙げられる。四フッ化炭素、六フッ化炭素、六フッ化プ
ロピレンは、フッ化水素等の有害ガスの発生が起こらな
いため好ましい。
As the processing gas, a gas containing at least one element selected from oxygen, nitrogen and sulfur can be used. As the gas containing the oxygen element, oxygen,
Examples of the gas include ozone, water, carbon monoxide, carbon dioxide, nitric oxide and nitrogen dioxide. These gases may be mixed and used. Furthermore, by mixing the fluorine element-containing gas with the gas containing the oxygen element in a range not exceeding 50% by volume, the hydrophilicity of the porous body can be promoted. As the elemental fluorine-containing gas, fluorocarbon gas such as carbon tetrafluoride, carbon hexafluoride, propylene hexafluoride, halogenated carbon gas such as monochlorinated trifluorinated carbon gas, sulfur hexafluoride, etc. And the sulfur fluoride compound. Carbon tetrafluoride, carbon hexafluoride, and propylene hexafluoride are preferable because no harmful gas such as hydrogen fluoride is generated.

【0011】上記窒素元素を含有する気体としては、窒
素、アンモニア等の気体、これらと水素の混合気体等が
挙げられる。上記混合気体を用いる場合の組成は、十分
な親水性を得るために、〔N〕/(〔N〕+〔H〕)は
0.25以上であることが好ましく、さらに好ましくは
0.5〜1である。ただし、〔N〕、〔H〕は混合気体
中のN又はHの組成比である。
Examples of the gas containing the nitrogen element include gases such as nitrogen and ammonia, and mixed gases of these and hydrogen. In order to obtain sufficient hydrophilicity, the composition when the above mixed gas is used is preferably [N] / ([N] + [H]) of 0.25 or more, more preferably 0.5 to It is 1. However, [N] and [H] are composition ratios of N or H in the mixed gas.

【0012】上記硫黄元素を含有する気体としては、二
酸化硫黄、三酸化硫黄等の気体が挙げられる。これらの
気体を混合して用いてもよい。上記二酸化硫黄気体は硫
酸の蒸気を発生させて得てもよい。
Examples of the gas containing the elemental sulfur include gases such as sulfur dioxide and sulfur trioxide. These gases may be mixed and used. The sulfur dioxide gas may be obtained by generating sulfuric acid vapor.

【0013】上記処理用ガスと不活性ガスの混合割合は
使用するガスの種類によって決定されるが、処理用ガス
気体の濃度が10体積%を越えると、電圧を印加しても
均一な放電プラズマが発生し難くなるので0.01〜1
0体積%が好ましく、より好ましくは0.01〜5体積
%である。。
The mixing ratio of the processing gas and the inert gas is determined by the type of gas used. When the concentration of the processing gas gas exceeds 10% by volume, a uniform discharge plasma is obtained even if a voltage is applied. Is less likely to occur, so 0.01 to 1
It is preferably 0% by volume, more preferably 0.01 to 5% by volume. .

【0014】上記大気圧近傍の圧力下とは、100〜8
00Torrの圧力下を指す。圧力調整が容易で、装置
が簡便になる700〜780Torrの範囲が好まし
い。
The above-mentioned pressure near the atmospheric pressure means 100 to 8
Refers to a pressure of 00 Torr. The pressure is preferably in the range of 700 to 780 Torr, which facilitates pressure adjustment and makes the apparatus simple.

【0015】上記プラズマ処理は、対向する電極、該電
極の少なくとも一方の対向面に設置された固体誘電体、
該金属電極間の空間であるプラズマ発生部、上記処理用
ガスと不活性ガスの混合気体を該プラズマ発生部に供給
する管から構成される装置中で行われる。
The plasma treatment is performed by facing electrodes, a solid dielectric material provided on at least one facing surface of the electrodes,
It is carried out in an apparatus composed of a plasma generating part which is a space between the metal electrodes and a pipe which supplies a mixed gas of the processing gas and the inert gas to the plasma generating part.

【0016】上記電極としては、銅、アルミニウム等の
金属単体、ステンレス、真鍮等の合金、金属間化合物等
からなるものが挙げられる。上記電極の構造は、平行平
板型、円筒対向平板型、球対向平板型、双曲面対向平板
型、同軸円筒型、複数の細線と平板からなる構造等が挙
げられる。
Examples of the electrodes include those made of simple metals such as copper and aluminum, alloys such as stainless steel and brass, and intermetallic compounds. Examples of the structure of the electrode include a parallel plate type, a cylindrical opposed flat plate type, a spherical opposed flat plate type, a hyperboloid opposed flat plate type, a coaxial cylindrical type, and a structure including a plurality of thin wires and a flat plate.

【0017】上記固体誘電体は、一対の対向する電極に
おいて、一方の電極のもう一方に対向する面を完全に覆
うように、密着させて設置する。覆われていない部位が
あると、そこからアーク放電が生じ、好ましくない。上
記固体誘電体としては、ポリテトラフルオロエチレン、
ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、二酸化
珪素、酸化アルミニウム、二酸化ジルコニウム、二酸化
チタン等の金属酸化物、チタン酸バリウム等の複酸化物
等が挙げられる。
The above-mentioned solid dielectric is closely attached to the pair of electrodes so as to completely cover the surface of one of the electrodes facing the other. If there is a portion that is not covered, arc discharge occurs from that portion, which is not preferable. As the solid dielectric, polytetrafluoroethylene,
Examples thereof include plastics such as polyethylene terephthalate, metal oxides such as silicon dioxide, aluminum oxide, zirconium dioxide and titanium dioxide, and double oxides such as barium titanate.

【0018】上記固体誘電体の形状は、シート状でもフ
ィルム状でもよいが、厚みが0.05〜4mmであるこ
とが好ましい。厚すぎると放電プラズマを発生するのに
高電圧を要し、薄すぎると電圧印加時に絶縁破壊が起こ
りアーク放電が発生するためである。
The solid dielectric may be in the form of a sheet or a film, but the thickness is preferably 0.05 to 4 mm. If it is too thick, a high voltage is required to generate discharge plasma, and if it is too thin, dielectric breakdown occurs when a voltage is applied and arc discharge occurs.

【0019】上記多孔体は、対向する上記電極と上記固
体誘電体の間又は該固体誘電体同志の対向面間の空間で
あるプラズマ発生部に配置される。発生した放電プラズ
マに接触した部分に処理がなされるが、連通気孔を有す
る3次元網目状多孔体であるので、表面のみならず孔内
部にもプラズマが接触して処理がなされる。添付した図
面の例では、多孔体と固体誘電体が接触しているため、
この接触部分には処理がなされない。多孔体の全部に処
理を施したい場合は、上記空間に多孔体を浮かせて設置
する必要がある。
The porous body is arranged in a plasma generating portion which is a space between the electrode and the solid dielectric which face each other or between facing surfaces of the solid dielectrics. The treatment is performed on the portion in contact with the generated discharge plasma, but since it is a three-dimensional mesh-like porous body having continuous ventilation holes, the treatment is performed not only on the surface but also inside the pores. In the example of the attached drawing, since the porous body and the solid dielectric are in contact with each other,
No treatment is applied to this contact area. When it is desired to treat the entire porous body, it is necessary to float the porous body in the space.

【0020】上記電極間の距離は、固体誘電体の厚さ、
多孔体の厚さ、印加電圧の大きさ、混合気体の流量等に
よって適宜決定されるが、1〜30mmであることが好
ましい。1mm未満では、使用するガスに無駄が生じる
ため適当でない。30mmを超えると、均一な放電プラ
ズマを発生させることが困難である。
The distance between the electrodes is determined by the thickness of the solid dielectric,
The thickness is appropriately determined depending on the thickness of the porous body, the magnitude of the applied voltage, the flow rate of the mixed gas, etc., but is preferably 1 to 30 mm. If it is less than 1 mm, the gas used is wasted, which is not suitable. If it exceeds 30 mm, it is difficult to generate uniform discharge plasma.

【0021】上記放電プラズマの発生は、上記電極間に
電圧を印加することによって行われる。電圧は適宜決め
られるが、印加した際に電界強度が1〜40kV/cm
となるようにすることが好ましい。1kV/cm未満で
あると処理に時間がかかりすぎ、40kV/cmを超え
るとアーク放電が発生するためである。上記電圧印加に
必要な電源部は特に限定されないが、多孔体の耐熱性が
低い場合は、周波数が5〜30kHzであることが好ま
しい。
Generation of the discharge plasma is performed by applying a voltage between the electrodes. The voltage is appropriately determined, but when applied, the electric field strength is 1 to 40 kV / cm.
It is preferable that This is because if it is less than 1 kV / cm, the treatment takes too long, and if it exceeds 40 kV / cm, arc discharge occurs. The power supply unit required for applying the voltage is not particularly limited, but when the heat resistance of the porous body is low, the frequency is preferably 5 to 30 kHz.

【0022】上記放電プラズマ処理は、処理用ガスと不
活性ガスの混合気体中で行われる。上記混合気体はプラ
ズマ発生部に均一に供給されなければならない。不活性
ガスは処理用ガスに比較して軽いので、供給時に不均一
になることを避けるような装置の工夫がされていること
が好ましい。添付した図面に示した例では、処理用ガス
は導入管から多孔構造をもつ電極を通って供給される。
不活性ガスは、上記処理用ガスとは別の導入管からプラ
ズマ発生部に供給される。気体を均一に供給可能であれ
ば、このような構造に限定されず、気体を攪拌又は高速
で吹き付ける等の手段を用いてもよい。
The discharge plasma treatment is performed in a mixed gas of a treatment gas and an inert gas. The mixed gas should be uniformly supplied to the plasma generating part. Since the inert gas is lighter than the processing gas, it is preferable that the device be devised so as to avoid nonuniformity during supply. In the example shown in the accompanying drawings, the processing gas is supplied from an inlet pipe through an electrode having a porous structure.
The inert gas is supplied to the plasma generation unit from an introduction pipe different from the above-mentioned processing gas. The structure is not limited to such a structure as long as the gas can be supplied uniformly, and a means such as stirring or blowing the gas at a high speed may be used.

【0023】上記放電プラズマ処理が行われる装置は、
処理用ガスおよび不活性ガスの導入管、過剰な気体の排
出口を備えた容器中にある。上記容器の材質は、ガラ
ス、電極と絶縁のとれたステンレス、アルミニウム等の
金属等が挙げられる。
The apparatus for performing the above discharge plasma treatment is
It is in a container equipped with an inlet pipe for processing gas and an inert gas and an outlet for excess gas. Examples of the material of the container include glass, metals such as stainless steel and aluminum which are insulated from the electrodes.

【0024】上記放電プラズマ処理は、多孔体を加熱ま
たは冷却して行ってもよいが、室温下で充分可能であ
る。
The above-mentioned discharge plasma treatment may be carried out by heating or cooling the porous body, but it is sufficiently possible at room temperature.

【0025】上記放電プラズマ処理に要する時間は、印
加電圧の大きさおよび使用される混合気体によって適宜
決定される。
The time required for the discharge plasma treatment is appropriately determined depending on the magnitude of the applied voltage and the mixed gas used.

【0026】本発明の請求項3記載の発明(以下、本発
明2という。)における上記3次元網目状多孔体に親水
性を与える方法は、以下の工程による。 (1)対向する電極の少なくとも一方の対向面に固体誘
電体を設置し、該電極と該固体誘電体の間又は該固体誘
電体同志の対向面間に連通気孔を有する3次元網目状多
孔体を配置し、処理用ガスと不活性ガスの混合気体又は
不活性ガスの大気圧近傍の圧力下で該多孔体に放電プラ
ズマ処理を行う。 (2)上記処理の施された多孔体を親水性モノマーの溶
液に浸漬し、該多孔体に親水性高分子鎖をグラフト共重
合させる。
The method of imparting hydrophilicity to the three-dimensional mesh-like porous material in the invention according to claim 3 of the present invention (hereinafter referred to as the present invention 2) includes the following steps. (1) A three-dimensional mesh-like porous body in which a solid dielectric is provided on at least one of opposing surfaces of opposing electrodes, and communication holes are provided between the electrode and the solid dielectric or between opposing surfaces of the solid dielectrics. And the discharge plasma treatment is performed on the porous body under a pressure near the atmospheric pressure of the mixed gas of the processing gas and the inert gas or the inert gas. (2) The porous body subjected to the above treatment is immersed in a solution of a hydrophilic monomer, and a hydrophilic polymer chain is graft-copolymerized with the porous body.

【0027】上記工程(1)によって、多孔体表面に放
電プラズマが接触し、該多孔体表面に工程(2)で行わ
れるグラフト反応の開始点となる過酸化基、チオール基
等の官能基又はラジカルが形成される。
In the step (1), the discharge plasma comes into contact with the surface of the porous body, and the surface of the porous body becomes a starting point of the grafting reaction carried out in the step (2). Radicals are formed.

【0028】上記工程(1)のプラズマ処理は、以下で
述べる点以外は本発明1と同様である。
The plasma treatment of the above step (1) is the same as that of the present invention 1 except for the points described below.

【0029】上記プラズマ処理における処理用ガスとし
ては、以下に挙げる気体を用いることが出来る。これら
は、単独でも混合して用いてもよい。グラフト重合の開
始点となる過酸化基を形成させるものとしては、酸素、
オゾン、水、一酸化炭素、二酸化炭素、一酸化窒素、二
酸化窒素等の気体が挙げられる。グラフト重合の開始点
となるチオール基を形成させるものとしては、二酸化硫
黄又は三酸化硫黄等の気体が挙げられる。
As the processing gas in the above plasma processing, the following gases can be used. These may be used alone or in combination. As a substance which forms a peroxide group which is a starting point of graft polymerization, oxygen,
Examples of the gas include ozone, water, carbon monoxide, carbon dioxide, nitric oxide and nitrogen dioxide. Gases such as sulfur dioxide or sulfur trioxide may be used as the thiol group forming the starting point of the graft polymerization.

【0030】上記処理用ガスと不活性ガスの混合割合は
使用するガスの種類によって決定されるが、処理用ガス
気体の濃度が10体積%を越えると、電圧を印加しても
均一な放電プラズマが発生し難くなるので0.01〜1
0体積%が好ましく、より好ましくは0.01〜5体積
%である。
The mixing ratio of the processing gas and the inert gas is determined by the type of gas used, but when the concentration of the processing gas exceeds 10% by volume, a uniform discharge plasma is obtained even if a voltage is applied. Is less likely to occur, so 0.01 to 1
It is preferably 0% by volume, more preferably 0.01 to 5% by volume.

【0031】上記放電プラズマ処理に要する時間は、印
加電圧の大きさおよび使用される混合気体によって適宜
決定される。ラジカル、過酸化基は短時間の処理によっ
て形成可能である。ヘリウムガスの雰囲気中の場合で
は、15秒間の処理でラジカル、過酸化基が形成されて
いる。チオール基を多く形成させるためには、処理時間
を長くすることが好ましい。
The time required for the discharge plasma treatment is appropriately determined depending on the magnitude of the applied voltage and the mixed gas used. Radicals and peroxide groups can be formed by short-time treatment. In the helium gas atmosphere, radicals and peroxide groups are formed by the treatment for 15 seconds. In order to form many thiol groups, it is preferable to extend the treatment time.

【0032】工程(2)は、上記工程(1)によって形
成されたラジカル、過酸化基、チオール基等をグラフト
反応の開始点として、多孔体に親水性モノマーのグラフ
ト共重合を行わせるものである。材料に直接親水性基を
付与させた場合は、親水性基の層が薄く耐久性の確保が
困難である。これに対して、本発明2により形成された
親水性高分子鎖においては、親水性を与える部位がグラ
フト共重合鎖に結合しているので、耐久性に優れる。
In the step (2), the radical, the peroxide group, the thiol group and the like formed in the step (1) are used as the starting points of the graft reaction to cause the porous body to undergo graft copolymerization of the hydrophilic monomer. is there. When a hydrophilic group is directly applied to the material, the hydrophilic group layer is thin and it is difficult to secure durability. On the other hand, in the hydrophilic polymer chain formed according to the second aspect of the present invention, since the site that imparts hydrophilicity is bonded to the graft copolymer chain, the durability is excellent.

【0033】上記放電プラズマ処理を施された多孔体
は、親水性モノマーの溶液に浸漬される。上記親水性モ
ノマーは、不飽和結合部位と親水性を有する部位を持つ
ものが好ましい。上記親水性を有する部位としては、水
酸基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、1級若しくは2
級又は3級アミノ基、アミド基、4級アンモニウム塩
基、カルボン酸基、カルボン酸塩基等の親水性基、ポリ
エチレングリコール鎖等が挙げられる。上記モノマーと
しては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、
メタクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、
アクリル酸ナトリウム、メタクリル酸ナトリウム、アク
リル酸カリウム、メタクリル酸カリウム、スチレンスル
ホン酸ナトリウム、アリルアルコール、アリルアミン、
ポリエチレングリコールジメタクリル酸エステル、ポリ
エチレングリコールジアクリル酸エステル等が挙げられ
る。上記モノマーは、単独または混合して用いられる。
The above-mentioned discharge plasma-treated porous body is immersed in a solution of a hydrophilic monomer. The hydrophilic monomer preferably has an unsaturated bond site and a site having hydrophilicity. Examples of the hydrophilic portion include a hydroxyl group, a sulfonate group, a sulfonate group, a primary or secondary group.
Examples thereof include hydrophilic groups such as secondary or tertiary amino group, amide group, quaternary ammonium salt group, carboxylic acid group and carboxylate group, polyethylene glycol chain and the like. The monomers include acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide,
Methacrylamide, N, N-dimethylacrylamide,
Sodium acrylate, sodium methacrylate, potassium acrylate, potassium methacrylate, sodium styrenesulfonate, allyl alcohol, allylamine,
Examples include polyethylene glycol dimethacrylate and polyethylene glycol diacrylate. The above monomers are used alone or as a mixture.

【0034】上記親水性モノマーは溶媒に溶解させて、
親水性モノマーの溶液として用いられる。上記溶媒とし
ては、メタノール、エタノール、アセトン等の有機溶
媒、水等が挙げられる。上記溶媒は、単独又は混合して
用いられる。
The above hydrophilic monomer is dissolved in a solvent,
Used as a solution of a hydrophilic monomer. Examples of the solvent include organic solvents such as methanol, ethanol, and acetone, and water. The above solvents are used alone or as a mixture.

【0035】上記親水性モノマー溶液の濃度は、用いら
れる親水性モノマーの種類によって異なるが、効率のよ
い反応を行うという観点から、5〜30重量%が好まし
い。濃度が高すぎると未反応モノマーが溶液中に残存
し、濃度が低すぎると反応に要する時間が長くなるため
である。
The concentration of the hydrophilic monomer solution varies depending on the type of hydrophilic monomer used, but is preferably 5 to 30% by weight from the viewpoint of efficient reaction. If the concentration is too high, unreacted monomers will remain in the solution, and if the concentration is too low, the time required for the reaction will be long.

【0036】上記多孔体に親水性高分子鎖をグラフト共
重合させる方法は、特に限定されないが、該多孔体を浸
漬した親水性モノマーのラジカル重合を開始させ、成長
鎖末端のラジカルと該多孔体のチオール基を反応させて
グラフト共重合体を生成する方法、該多孔体を浸漬した
親水性モノマー溶液にレドックス開始剤を添加して該多
孔体のチオール基と反応させ、該チオール基を開始点と
するレドックス重合によって親水性モノマーをグラフト
共重合させる方法、多孔体に形成されたラジカルからグ
ラフト重合を開始させる方法、過酸化基をモノマー溶液
中で熱分解してラジカルを発生させ、これを開始点とし
てグラフト重合させる方法等が挙げられる。
The method for graft-copolymerizing a hydrophilic polymer chain on the above-mentioned porous body is not particularly limited, but radical polymerization of the hydrophilic monomer in which the porous body is immersed is initiated, and radicals at the end of the growing chain and the porous body. Of producing a graft copolymer by reacting the thiol group of, a redox initiator is added to the hydrophilic monomer solution in which the porous body is immersed, and the redox initiator is reacted with the thiol group of the porous body to start the thiol group. The method of graft-copolymerizing hydrophilic monomers by redox polymerization, the method of initiating graft polymerization from radicals formed in the porous body, and the thermal decomposition of peroxide groups in the monomer solution to generate radicals Examples of the points include a method of graft polymerization.

【0037】上記親水性高分子をグラフト共重合させた
後に、上記多孔体に未反応の親水性モノマー、該親水性
モノマーのホモポリマー等が付着している場合、水、有
機溶媒等を用いて多孔体の洗浄を行い、これらの付着物
を除去することが好ましい。
After graft copolymerization of the hydrophilic polymer, if unreacted hydrophilic monomer, homopolymer of the hydrophilic monomer or the like is attached to the porous body, water, an organic solvent or the like is used. It is preferable to wash the porous body to remove these deposits.

【0038】[0038]

【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳し
く説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0039】実施例1 添付した図面の装置(パイレックスガラス製、容量:5
L)において、上部電極4(ステンレス(SUS30
4)製、大きさ:φ120mm、φ1mmの孔が1cm
間隔で配設)と下部電極5(アルミニウム製、大きさ:
φ100mm)の電極間距離10mmの空間中の下部電
極上に、固体誘電体として二酸化チタン焼結体(大き
さ:φ120mm、厚み:2mm)を設置し、この上に
多孔体としてポリエステル製の不織布(日本バイリーン
社製、品晩:PS/150、大きさ:φ100mm)を
配置した。油回転ポンプで装置内が1Torrになるま
で排気を行った。次にヘリウムガスを流量500scc
mでガス導入管9から装置内が757Torrになるま
で導入した。電極に15kHz:3.1kVの電圧を1
5秒間印加してプラズマを発生させ、上記ポリエステル
製の不織布に放電プラズマ処理を行った。
Example 1 Apparatus shown in the attached drawing (made of Pyrex glass, capacity: 5
L), the upper electrode 4 (stainless steel (SUS30
4) Made, size: φ120mm, φ1mm hole is 1cm
Spaced) and lower electrode 5 (made of aluminum, size:
A titanium dioxide sintered body (size: φ120 mm, thickness: 2 mm) was installed as a solid dielectric on the lower electrode in a space of 10 mm between electrodes (φ100 mm), and a polyester non-woven fabric (as a porous body) A product manufactured by Japan Vilene Co., Ltd., product / night: PS / 150, size: φ100 mm) was placed. Evacuation was performed by an oil rotary pump until the inside of the apparatus became 1 Torr. Next, flow helium gas at a flow rate of 500 scc
At m, the gas was introduced from the gas introduction pipe 9 until the inside of the apparatus reached 757 Torr. Voltage of 15kHz: 3.1kV is applied to the electrode 1
Plasma was generated by applying for 5 seconds, and the polyester nonwoven fabric was subjected to discharge plasma treatment.

【0040】実施例2 以下の点を変えて、実施例1と同様に放電プラズマ処理
を行った。電極間距離を10mmの空間中に固体誘電体
として石英ガラス(大きさ:120mm×120mm、
厚み:2mm)を設置した。ヘリウムガスを流量995
sccmでガス導入管9から、二酸化硫黄気体を流量5
sccmでガス導入管8から多孔構造の上部電極4を介
して導入して(装置内の気体の組成は、0.5体積%二
酸化硫黄/ヘリウムである。)、電極に2.8kVの電
圧を15秒間印加してプラズマを発生させた。
Example 2 Discharge plasma treatment was carried out in the same manner as in Example 1 except for the following points. Quartz glass (size: 120 mm x 120 mm, as a solid dielectric in a space of 10 mm between electrodes)
(Thickness: 2 mm) was installed. Helium gas flow rate 995
The flow rate of sulfur dioxide gas is 5 from the gas introduction pipe 9 at sccm.
At a sccm, the gas was introduced from the gas introduction tube 8 through the upper electrode 4 having a porous structure (the composition of the gas in the apparatus was 0.5 vol% sulfur dioxide / helium), and a voltage of 2.8 kV was applied to the electrode. It was applied for 15 seconds to generate plasma.

【0041】実施例3 以下の点を変えて、実施例1と同様に放電プラズマ処理
を行った。電極間距離を9mmとして、この電極空間中
に固体誘電体として8重量%の酸化イットリウムで部分
安定化されたジルコニウムの溶射膜(大きさ:φ120
mm、厚み:500μm)を設置した。ヘリウムガスを
流量990sccmでガス導入管9から、酸素気体を流
量10sccmでガス導入管8から多孔構造の上部電極
4を介して導入して(装置内の気体の組成は、1体積%
酸素/ヘリウムである。)、電極に4.1kVの電圧を
15秒間印加してプラズマを発生させた。
Example 3 The discharge plasma treatment was performed in the same manner as in Example 1 except for the following points. The distance between the electrodes was set to 9 mm, and the sprayed film of zirconium partially stabilized with 8 wt% yttrium oxide as a solid dielectric in the electrode space (size: φ120
mm, thickness: 500 μm). Helium gas was introduced from the gas introduction pipe 9 at a flow rate of 990 sccm, and oxygen gas was introduced from the gas introduction pipe 8 at a flow rate of 10 sccm through the upper electrode 4 having a porous structure (the composition of the gas in the apparatus is 1% by volume).
It is oxygen / helium. ), And a voltage of 4.1 kV was applied to the electrodes for 15 seconds to generate plasma.

【0042】実施例4 以下の点を変えて、実施例1と同様に放電プラズマ処理
を行った。電極間距離を9mmとして、この電極空間中
に固体誘電体としてポリテトラフルオロエチレン(大き
さ:120mm×120mm、厚み:1mm)を設置し
た。ヘリウムガスを流量990sccmでガス導入管9
から、窒素気体を流量10sccmでガス導入管8から
多孔構造の上部電極4を介して導入して(装置内の気体
の組成は、1体積%窒素/ヘリウムである。)、電極に
3.8kVの電圧を15秒間印加してプラズマを発生さ
せた。
Example 4 The discharge plasma treatment was performed in the same manner as in Example 1 except for the following points. The distance between the electrodes was set to 9 mm, and polytetrafluoroethylene (size: 120 mm × 120 mm, thickness: 1 mm) was placed as a solid dielectric in this electrode space. Helium gas at a flow rate of 990 sccm and gas introduction pipe 9
Then, nitrogen gas was introduced at a flow rate of 10 sccm from the gas introduction pipe 8 through the upper electrode 4 having a porous structure (the composition of the gas in the apparatus was 1% by volume nitrogen / helium), and 3.8 kV was applied to the electrode. Was applied for 15 seconds to generate plasma.

【0043】実施例5 <工程(1)>実施例1に記載の方法によって放電プラ
ズマ処理を行った。 <工程(2)>工程(1)によって得られた不織布を脱
気した10重量%スチレンスルホン酸ナトリウム水溶液
に浸漬して、50℃に保って2時間静置して反応を行わ
せた。次に、上記不織布を溶液から取り出し、温水中で
超音波洗浄を行って処理品を得た。処理品をX線光電子
分光法(XPS)で分析したところ、スルホン酸基に由
来する硫黄のピークが確認された。
Example 5 <Step (1)> Discharge plasma treatment was carried out by the method described in Example 1. <Step (2)> The non-woven fabric obtained in the step (1) was immersed in a degassed 10 wt% sodium styrenesulfonate aqueous solution and kept at 50 ° C. for 2 hours to carry out a reaction. Next, the non-woven fabric was taken out of the solution and subjected to ultrasonic cleaning in warm water to obtain a treated product. When the treated product was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), a sulfur peak derived from a sulfonic acid group was confirmed.

【0044】実施例6 <工程(1)>電極に電圧を印加した時間を1分間に変
えた以外は、実施例2に記載の方法によって放電プラズ
マ処理を行った。 <工程(2)>上記放電プラズマ処理を施した不織布を
流水を用いて1分間洗浄を行った。洗浄後、上記不織布
を脱気した10重量%アクリルアミド水溶液に浸漬し
て、70℃に保って4時間静置して反応を行わせた。次
に、上記不織布を溶液から取り出し、温水中で超音波洗
浄を行って処理品を得た。処理品をX線光電子分光法
(XPS)で分析したところ、アクリルアミドに由来す
るアミド基のピークがC1sのスペクトルに確認され
た。
Example 6 <Step (1)> Discharge plasma treatment was carried out by the method described in Example 2 except that the voltage application time was changed to 1 minute. <Step (2)> The above-mentioned discharge plasma-treated nonwoven fabric was washed with running water for 1 minute. After washing, the non-woven fabric was immersed in a degassed 10 wt% acrylamide aqueous solution, kept at 70 ° C. and left standing for 4 hours to cause a reaction. Next, the non-woven fabric was taken out of the solution and subjected to ultrasonic cleaning in warm water to obtain a treated product. When the treated product was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), a peak of an amide group derived from acrylamide was confirmed in the C1s spectrum.

【0045】実施例7 <工程(1)>以下の点を変えた以外は、実施例6に記
載の方法によって放電プラズマ処理を行った。ヘリウム
ガスを流量990sccmでガス導入管9から、酸素気
体を流量10sccmでガス導入管8から多孔構造の上
部電極4を介して導入して(装置内の気体の組成は、1
体積%酸素/ヘリウムである。)、電極に4.1kVの
電圧を15秒間印加してプラズマを発生させた。 <工程(2)>上記放電プラズマ処理を施した不織布を
脱気した10重量%アクリル酸水溶液に浸漬して、50
℃に保って2時間静置して反応を行わせた。次に、上記
不織布を溶液から取り出し、温水中で超音波洗浄を行っ
て処理品を得た。処理品をX線光電子分光法(XPS)
で分析したところ、アクリル酸に由来するカルボキシル
基のピークがC1sのスペクトルに確認された。
Example 7 <Step (1)> Discharge plasma treatment was carried out by the method described in Example 6 except that the following points were changed. Helium gas was introduced at a flow rate of 990 sccm from the gas introduction tube 9 and oxygen gas was introduced at a flow rate of 10 sccm from the gas introduction tube 8 through the upper electrode 4 having a porous structure (the composition of gas in the apparatus is 1
Volume% oxygen / helium. ), And a voltage of 4.1 kV was applied to the electrodes for 15 seconds to generate plasma. <Step (2)> The non-woven fabric that has been subjected to the discharge plasma treatment is dipped in a degassed 10 wt% acrylic acid aqueous solution to obtain 50
The reaction was carried out by keeping it at 0 ° C. for 2 hours. Next, the non-woven fabric was taken out of the solution and subjected to ultrasonic cleaning in warm water to obtain a treated product. Treated products with X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)
As a result, the peak of the carboxyl group derived from acrylic acid was confirmed in the C1s spectrum.

【0046】実施例8 <工程(1)>以下の点を変えた以外は、実施例4に記
載の方法によって放電プラズマ処理を行った。ヘリウム
ガスを流量990sccmでガス導入管9から、窒素気
体を流量10sccmでガス導入管8から多孔構造の上
部電極4を介して導入して(装置内の気体の組成は、1
体積%窒素/ヘリウムである。)、電極に4.1kVの
電圧を1分間印加してプラズマを発生させた。 <工程(2)>上記放電プラズマ処理を施した不織布を
流水を用いて1分間洗浄を行った。洗浄後、上記不織布
を脱気した10重量%N,N−ジメチルアクリルアミド
水溶液に浸漬して、開始剤として硝酸二アンモニウムセ
リウム(IV)を加え、30℃に保って2時間静置して
反応を行わせた。次に、上記不織布を溶液から取り出
し、温水中で超音波洗浄を行って処理品を得た。処理品
をX線光電子分光法(XPS)で分析したところ、N,
N−ジメチルアクリルアミドに由来するアミド基のピー
クがC1sのスペクトルに確認された。
Example 8 <Step (1)> Discharge plasma treatment was performed by the method described in Example 4 except that the following points were changed. Helium gas was introduced from the gas introduction pipe 9 at a flow rate of 990 sccm, and nitrogen gas was introduced from the gas introduction pipe 8 at a flow rate of 10 sccm through the upper electrode 4 having a porous structure (the composition of gas in the apparatus is 1
Volume% nitrogen / helium. ), And a voltage of 4.1 kV was applied to the electrodes for 1 minute to generate plasma. <Step (2)> The above-mentioned discharge plasma-treated nonwoven fabric was washed with running water for 1 minute. After washing, the non-woven fabric was immersed in a degassed 10 wt% N, N-dimethylacrylamide aqueous solution, cerium diammonium nitrate (IV) was added as an initiator, and the mixture was allowed to stand at 30 ° C. for 2 hours for reaction. Let it be done. Next, the non-woven fabric was taken out of the solution and subjected to ultrasonic cleaning in warm water to obtain a treated product. When the processed product was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), N,
The peak of the amide group derived from N-dimethylacrylamide was confirmed in the C1s spectrum.

【0047】比較例 実施例1〜8と同様のポリエステル製不織布を、処理を
行わずに用いた。
Comparative Example The same polyester non-woven fabric as in Examples 1 to 8 was used without treatment.

【0048】<再利用実験>カーボンブラック300g
が分散している1リットルの純水中に、被処理不織布を
5分間浸漬した。上記浸漬によってカーボンブラックの
付着した不織布を60℃で1時間乾燥した後に、純水中
に30分間浸漬した。水に浸漬することによって不織布
から除去されたカーボンブラックの量を示すものとし
て、浸漬後の水の透過率を測定した。同様の工程を透過
率が50%以上になるまで繰り返した。不織布の表面が
親水化されていれば、カーボンブラックは水に浸漬する
だけで容易に除去され、浸漬後の水中に分散する。水の
透過率が50%以下である場合はカーボンブラックが不
織布表面から充分に除去されているものとして、これを
容易に洗浄が可能な回数とした。これらの結果を実施例
の条件とともに、表1に示す。
<Reuse Experiment> 300 g of carbon black
The non-woven fabric to be treated was immersed in 1 liter of pure water in which was dispersed for 5 minutes. The non-woven fabric having carbon black adhered thereto was dried at 60 ° C. for 1 hour and then immersed in pure water for 30 minutes. The water permeability after immersion was measured as an indication of the amount of carbon black removed from the nonwoven fabric by immersion in water. The same process was repeated until the transmittance became 50% or more. If the surface of the non-woven fabric is hydrophilized, the carbon black can be easily removed only by immersing it in water, and can be dispersed in the water after immersing. When the water permeability was 50% or less, it was determined that the carbon black had been sufficiently removed from the surface of the nonwoven fabric, and this was set as the number of times that cleaning could be performed easily. These results are shown in Table 1 together with the conditions of the examples.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明のにおいては、フィルターを構成
する3次元網目状多孔体に親水性基を形成させること又
は親水性モノマーをグラフト重合させることによって、
上記多孔体に親水性能を与えることが出来る。親水性表
面を有するフィルターは汚れを水洗によって簡単に落と
すことが出来るため、従来使い捨てされていたフィルタ
ーの再利用を可能とする。
INDUSTRIAL APPLICABILITY In the present invention, by forming a hydrophilic group on the three-dimensional network porous body constituting the filter or by graft-polymerizing a hydrophilic monomer,
Hydrophilicity can be imparted to the porous body. Since a filter having a hydrophilic surface can easily remove dirt by washing with water, it is possible to reuse a filter that has been conventionally thrown away.

【0051】[0051]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の放電プラズマ処理装置の模式図FIG. 1 is a schematic diagram of a discharge plasma processing apparatus of the present invention.

【符号の説明】 1 電源 2 パイレックスガラス製容器 3 放電プラズマ発生部 4 上部電極 5 下部電極 6 固体誘電体 7 3次元網目状多孔体 8 ガス導入管 9 ガス導入管 10 ガス排出口 11 排気口[Explanation of symbols] 1 power supply 2 Pyrex glass container 3 discharge plasma generation part 4 upper electrode 5 lower electrode 6 solid dielectric 7 three-dimensional meshed porous body 8 gas inlet pipe 9 gas inlet pipe 10 gas outlet 11 exhaust outlet

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成7年11月20日[Submission date] November 20, 1995

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0046[Correction target item name] 0046

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0046】実施例8 <工程(1)>以下の点を変えた以外は、実施例4に記
載の方法によって放電プラズマ処理を行った。ヘリウム
ガスを流量990sccmでガス導入管9から、二酸化
硫黄気体を流量10sccmでガス導入管8から多孔構
造の上部電極4を介して導入して(装置内の気体の組成
は、1体積%二酸化硫黄/ヘリウムである。)、電極に
3.6kVの電圧を分間印加してプラズマを発生させ
た。 <工程(2)>上記放電プラズマ処理を施した不織布を
流水を用いて1分間洗浄を行った。洗浄後、上記不織布
を脱気した10重量%N,N−ジメチルアクリルアミド
水溶液に浸漬して、開始剤として硝酸二アンモニウムセ
リウム(IV)を加え、30℃に保って2時間静置して
反応を行わせた。次に、上記不織布を溶液から取り出
し、温水中で超音波洗浄を行って処理品を得た。処理品
をX線光電子分光法(XPS)で分析したところ、N,
N−ジメチルアクリルアミドに由来するアミド基のピー
クがC1sのスペクトルに確認された。
Example 8 <Step (1)> Discharge plasma treatment was performed by the method described in Example 4 except that the following points were changed. The helium gas from the gas introduction pipe 9 at a flow rate 990Sccm, dioxide
Sulfur gas was introduced at a flow rate of 10 sccm from the gas introduction pipe 8 through the upper electrode 4 having a porous structure (the composition of the gas in the apparatus was 1% by volume sulfur dioxide / helium), and then the electrode was formed.
A voltage of 3.6 kV was applied for 2 minutes to generate plasma. <Step (2)> The above-mentioned discharge plasma-treated nonwoven fabric was washed with running water for 1 minute. After washing, the non-woven fabric was immersed in a degassed 10 wt% N, N-dimethylacrylamide aqueous solution, cerium diammonium nitrate (IV) was added as an initiator, and the mixture was allowed to stand at 30 ° C. for 2 hours for reaction. Let it be done. Next, the non-woven fabric was taken out of the solution and subjected to ultrasonic cleaning in warm water to obtain a treated product. When the processed product was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), N,
The peak of the amide group derived from N-dimethylacrylamide was confirmed in the C1s spectrum.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】対向する電極の少なくとも一方の対向面に
固体誘電体を設置し、該電極と該固体誘電体の間又は該
固体誘電体同志の対向面間に連通気孔を有する3次元網
目状多孔体を配置し、処理用ガスと不活性ガスの混合気
体又は不活性ガスの大気圧近傍の圧力下で該多孔体に放
電プラズマ処理を行うことを特徴とするフィルターの製
造方法。
1. A three-dimensional mesh structure having a solid dielectric on at least one of the facing surfaces of facing electrodes and having a communicating hole between the electrode and the solid dielectric or between facing surfaces of the solid dielectrics. A method for producing a filter, wherein a porous body is disposed, and discharge plasma treatment is performed on the porous body under a pressure of a mixed gas of a processing gas and an inert gas or an inert gas in the vicinity of an atmospheric pressure.
【請求項2】処理用ガスとして酸素、窒素、硫黄のうち
1種以上の元素を含有する気体を用い、該処理用ガスが
不活性ガスの0.01〜10体積%であることを特徴と
する請求項1記載のフィルターの製造方法。
2. A gas containing at least one element selected from oxygen, nitrogen and sulfur is used as the processing gas, and the processing gas is 0.01 to 10% by volume of the inert gas. The method for manufacturing the filter according to claim 1.
【請求項3】請求項1の処理を行った後に、、3次元網
目状多孔体を親水性モノマーの溶液に浸漬し、該多孔体
に親水性高分子鎖をグラフト共重合させることを特徴と
するフィルターの製造方法。
3. After the treatment according to claim 1, the three-dimensional network porous body is immersed in a solution of a hydrophilic monomer, and a hydrophilic polymer chain is graft-copolymerized on the porous body. Of manufacturing filter.
JP25077595A 1995-09-28 1995-09-28 Manufacture of filter Pending JPH0985026A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25077595A JPH0985026A (en) 1995-09-28 1995-09-28 Manufacture of filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25077595A JPH0985026A (en) 1995-09-28 1995-09-28 Manufacture of filter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0985026A true JPH0985026A (en) 1997-03-31

Family

ID=17212866

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25077595A Pending JPH0985026A (en) 1995-09-28 1995-09-28 Manufacture of filter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0985026A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006528549A (en) * 2003-07-11 2006-12-21 リダル、インコーポレイテッド Manufacturing method of fiber filter media
JP2010087505A (en) * 2008-09-29 2010-04-15 Asml Netherlands Bv System for non contact cleaning, lithography device, and device manufacturing method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006528549A (en) * 2003-07-11 2006-12-21 リダル、インコーポレイテッド Manufacturing method of fiber filter media
JP2010087505A (en) * 2008-09-29 2010-04-15 Asml Netherlands Bv System for non contact cleaning, lithography device, and device manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3421954B2 (en) Treatment method for ozone depleting substances
JP2010248633A (en) Method for plasma-cleaning surface of material coated with organic substance and apparatus used for carrying out the method
JP2002110397A (en) Generating method of normal pressure pulse plasma
JPH0985026A (en) Manufacture of filter
US4696686A (en) Oxygen separating member and process for producing the same
JP3288228B2 (en) Discharge plasma treatment method
JP3704792B2 (en) Method for producing photocatalytic material
JP2001214366A (en) Nonwoven fabric and method for producing the same, separator using the nonwoven fabric and used for secondary battery and method for producing the same
JP2002143795A (en) Method for cleaning glass substrate for liquid crystal
JPS62235339A (en) Modification of plastic surface
JP2002020514A (en) Method for modifying surface of fluororesin
JP3551319B2 (en) Dry surface treatment method for making porous material surface hydrophilic
JP2003505229A (en) Electret filter media with plasma treatment
JP3285764B2 (en) Surface treatment method using discharge plasma
JP3222037B2 (en) Surface treatment method by remote plasma
JPH0857225A (en) Manufacture of filter
JP2002316039A (en) Discharge plasma processing method
JP3373114B2 (en) Plasma surface treatment apparatus and plasma surface treatment method
JPH06206951A (en) Hydrophilized film
JP4756253B2 (en) Surface modification apparatus and surface modification method
JPH10298318A (en) Surface treatment using discharge plasma
JP2001336063A (en) Method for producing metal-carbon fiber composite material
JPH06228344A (en) Surface modification
JPH05243163A (en) Method of removing residual halogen inside reaction oven
JPH09296368A (en) Hydrophilic porous fluorine fiber sheet and its production