JPH0983349A - Variable wiring circuit and logical integrated circuit using the wiring circuit - Google Patents

Variable wiring circuit and logical integrated circuit using the wiring circuit

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JPH0983349A
JPH0983349A JP7237322A JP23732295A JPH0983349A JP H0983349 A JPH0983349 A JP H0983349A JP 7237322 A JP7237322 A JP 7237322A JP 23732295 A JP23732295 A JP 23732295A JP H0983349 A JPH0983349 A JP H0983349A
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JP
Japan
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circuit
memory cell
variable
logic
wiring circuit
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Application number
JP7237322A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuo Tanba
展雄 丹場
Akira Masaki
亮 正木
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
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    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate the reduction of the operating margin of a circuit of the next stage and also to eliminate a limited number of passable circuits by securing a constitution where the buffer gate circuits are operated based on the stored information and send the signals to the output signal lines. SOLUTION: A variable wiring circuit SB (GSB, LSB) is provided with an input signal line INL and 3 output signal lines OTL1 to OTL3, 3 clocked inverter type buffer gates G1 to G3, and 3 memory cells MC1 to MC3. In such a constitution, the input signals can be sent in one of three directions based on the data stored in the cells MC1 to MC3. Then the signals can be sent in two or three optional directions when '1' is written in 2 or 3 memory cells MC. Thus the circuits G1 to G3 are operated based on the information stored in the cells MC, so that the circuit SB can send the signals to the output signal lines.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路技術さ
らには回路間の配線接続を変更可能な可変配線回路に適
用して有効な技術に関し、例えば利用者が任意に論理を
構成可能なプログラマブル論理LSI(大規模集積回
路)に利用して有効な技術に関する。上記プログラマブ
ル論理LSIは、FPGA(Field Programmable Gate
Array)やFPLA(Field Programmable Logic Arra
y)等を含む。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit technique and a technique effective when applied to a variable wiring circuit in which wiring connection between circuits can be changed. The present invention relates to a technique effectively used for a logic LSI (large scale integrated circuit). The programmable logic LSI is an FPGA (Field Programmable Gate).
Array) and FPLA (Field Programmable Logic Arra)
y) etc. are included.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ユーザがプログラム可能な可変配
線回路として、例えば図1に示すような回路が知られて
いる(米国特許第4870302号)。図1の可変配線
回路SBは、互いに直交する方向に配設されれた2本の
信号線上に設けられたMOSFET(Metal Oxide Semi
conducter Field Effect Transister))T1,T2
と、このMOSFET T1,T2によって分離された
各信号線L11,L12,L21,L22間に設けられ
たMOSFET T3,T4,T5,T6と、上記各M
OSFETT1〜T6に対応して設けられた6個のメモ
リセルMC1〜MC6とにより構成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a user-programmable variable wiring circuit, for example, a circuit shown in FIG. 1 is known (US Pat. No. 4,870,302). The variable wiring circuit SB of FIG. 1 is a MOSFET (Metal Oxide Semi) provided on two signal lines arranged in directions orthogonal to each other.
conducter Field Effect Transister)) T1, T2
And the MOSFETs T3, T4, T5 and T6 provided between the signal lines L11, L12, L21 and L22 separated by the MOSFETs T1 and T2, and the above Ms.
It is composed of six memory cells MC1 to MC6 provided corresponding to the OSFETs T1 to T6.

【0003】上記可変配線回路においては、メモリ素子
MC1〜MC6のいずれかにデータ「1」を記憶させる
と、MOSFET T1〜T6のうち対応するものがオ
ンされ、図2に示すような2つの直交する信号線間の6
つの方向〜のうちいずれか一つの方向の信号伝達が
可能となる。また、メモリ素子MC1〜MC6のうちい
ずれか2つ(T1とT2、T3とT6またはT4とT
5)をオンさせることで互いに競合しない2方向(図2
のとあるいはとまたはと)の信号伝達が可
能である。
In the above variable wiring circuit, when data "1" is stored in any of the memory elements MC1 to MC6, the corresponding one of the MOSFETs T1 to T6 is turned on, and two orthogonal lines as shown in FIG. 6 between signal lines
It is possible to transmit a signal in any one of the two directions. Further, any two of the memory elements MC1 to MC6 (T1 and T2, T3 and T6, or T4 and T6).
By turning on 5), two directions that do not compete with each other (Fig. 2
Signal transmission is possible.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図1の
可変配線回路においては、信号がこの回路を通過する度
にMOSFETのオン抵抗によって信号伝搬遅延時間が
増大するという問題点が本発明者等によって明らかにさ
れた。しかも、大規模な論理LSIを実現するには回路
を構成する素子のサイズを小さくしなければならず、そ
れによってMOSFETのオン抵抗は数Kオームから数
10Kオームに達し、LSIの動作速度が著しく低下し
てしまう。
However, in the variable wiring circuit of FIG. 1, the present inventors have a problem that the signal propagation delay time increases due to the ON resistance of the MOSFET each time a signal passes through this circuit. Was revealed. Moreover, in order to realize a large-scale logic LSI, it is necessary to reduce the size of the elements that form the circuit, and as a result, the on-resistance of the MOSFET reaches several K ohms to several 10 K ohms, and the operating speed of the LSI is extremely high. Will fall.

【0005】またさらに、図1の可変配線回路において
は、信号がこの回路を通過する度に信号のレベルがMO
SFETのしきい値電圧分だけ下がってしまい次段の回
路の動作マージンが低下してしまうことを本発明者等は
見い出した。特に、大規模な論理LSIでは、微細加工
半導体プロセスでのトランジスタの信頼性を確保するた
めや消費電力を低減するために低電源電圧を用いること
が行われるが、その場合には上記伝送時の信号のレベル
ダウンがネックとなって、信号が通過することができる
可変配線回路の数を多くすることができないという問題
点がある。
Furthermore, in the variable wiring circuit of FIG. 1, the level of the signal is MO every time the signal passes through this circuit.
The present inventors have found that the threshold voltage of the SFET lowers and the operating margin of the circuit in the next stage decreases. Particularly in a large-scale logic LSI, a low power supply voltage is used to secure the reliability of a transistor in a microfabricated semiconductor process and to reduce power consumption. There is a problem in that the number of variable wiring circuits through which a signal can pass cannot be increased because the level reduction of the signal becomes a bottleneck.

【0006】上記トランスファMOSFETでの信号の
レベルダウンを回避する方法として、信号線の途中に波
形整形のためのドライバ回路を設けることも考えられる
が、そのようにするには、ドライバを設ける位置を決定
するためのアルゴリズムを必要としプログラムが複雑化
するとともに、そのようなドライバ回路を構成するため
のセルが別途必要になるという不具合がある。
As a method of avoiding the signal level down in the transfer MOSFET, it is possible to provide a driver circuit for waveform shaping in the middle of the signal line. To do so, the position where the driver is provided is set. There is a problem in that an algorithm for making a decision is required, the program becomes complicated, and a cell for configuring such a driver circuit is additionally required.

【0007】この発明の目的は、信号のレベルダウンが
なく次段の回路の動作マージンを低下させることがない
とともに通過可能な回路の数に制限のない可変配線回路
を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a variable wiring circuit in which the level of a signal is not lowered, the operation margin of the circuit in the next stage is not lowered, and the number of circuits which can be passed is not limited.

【0008】この発明の他の目的は、信号伝搬遅延時間
の小さな可変配線回路を提供し、もって高速動作可能な
論理LSIを実現することにある。
Another object of the present invention is to provide a variable wiring circuit having a small signal propagation delay time and thereby realize a logic LSI capable of high speed operation.

【0009】この発明の前記ならびにそのほかの目的と
新規な特徴については、本明細書の記述および添附図面
から明らかになるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、下記のと
おりである。
The outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application is as follows.

【0011】すなわち、1または2以上のメモリセル
と、入力端子が同一の信号線に接続されかつ出力端子が
互いに方向の異なる他の信号線に接続された複数のバッ
ファゲート回路とを備え、上記メモリセルの記憶情報に
基づいて上記バッファゲート回路が動作状態にされるこ
とにより信号が出力側信号線へ伝送されるように可変配
線回路を構成したものである。
That is, it is provided with one or more memory cells and a plurality of buffer gate circuits each having an input terminal connected to the same signal line and an output terminal connected to another signal line whose directions are different from each other. The variable wiring circuit is configured so that a signal is transmitted to the output side signal line by activating the buffer gate circuit based on the information stored in the memory cell.

【0012】[0012]

【作用】上記した手段によれば、メモリセルの記憶情報
にしたがって動作状態または非動作状態が決定されるバ
ッファゲート回路を設けるようにしているため、信号の
レベルダウンがなく次段の回路の動作マージンを低下さ
せることがないとともに、通過可能な回路の数に制限の
ない可変配線回路を得ることができる。
According to the above-mentioned means, since the buffer gate circuit whose operating state or non-operating state is determined according to the stored information of the memory cell is provided, the operation of the circuit of the next stage does not occur without the level down of the signal. It is possible to obtain a variable wiring circuit that does not reduce the margin and has an unlimited number of circuits that can pass through.

【0013】また、信号のレベルダウンをなくすことが
できるため、信号伝搬遅延時間を小さくすることがで
き、その結果、高速動作可能な論理LSIを実現するこ
とができる。
Further, since the level down of the signal can be eliminated, the signal propagation delay time can be shortened, and as a result, a logic LSI capable of operating at high speed can be realized.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明の好適な実施例を図面に基づい
て説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】図3〜図5は本発明に係る可変配線回路の
第1の実施例を示す回路図である。
3 to 5 are circuit diagrams showing a first embodiment of the variable wiring circuit according to the present invention.

【0016】この実施例の可変配線回路SB(GSB,
LSB)は、図3に示すように、1本の入力信号線IN
Lと3本の出力信号線OTL1,OTL2,OTL3
と、3個のクロックドインバータ形式のバッファゲート
回路G1,G2,G3と、3個のメモリセルMC1,M
C2,MC3とを備えており、入力された信号をメモリ
セルMC1,MC2,MC3の記憶データに応じて3方
向のいずれか1方向に信号を送出できるように構成され
ている。また、いずれか2つあるいは3つのメモリセル
に「1」を書き込むことによって任意の2方向あるいは
3方向全てに信号を伝送できるように構成されている。
The variable wiring circuit SB (GSB, GSB,
LSB) is, as shown in FIG. 3, one input signal line IN
L and three output signal lines OTL1, OTL2, OTL3
And three clocked inverter type buffer gate circuits G1, G2 and G3 and three memory cells MC1 and M
C2 and MC3 are provided so that the input signal can be transmitted in any one of the three directions according to the storage data of the memory cells MC1, MC2 and MC3. Further, by writing "1" in any two or three memory cells, it is possible to transmit a signal in all two arbitrary directions or all three directions.

【0017】図4は、上記可変配線回路SBのより具体
的な回路構成例を示す。この実施例においては、入力信
号が入力されるMOSFET MNiとMPiとが各バ
ッファゲートG1〜G3で共有するように構成されてお
り、該入力MOSFET MNi,MPi間に、各メモ
リセルMC1,MC2,MC3の出力電圧をゲート端子
に受けるようにされたNチャネルMOSFETとPチャ
ネルMOSFETのペアQ11,Q12;Q21,Q2
2;Q31,Q32が並列に接続されている。そして、
入力信号線INLはMOSFET MNiおよびMPi
のゲート端子に接続されている。また、出力信号線OT
L1はMOSFET Q11とQ12の共通ドレイン
に、出力信号線OTL2はMOSFET Q21とQ2
2の共通ドレインに、出力信号線OTL3はMOSFE
T Q31とQ32の共通ドレインに、それぞれ接続さ
れている。
FIG. 4 shows a more specific circuit configuration example of the variable wiring circuit SB. In this embodiment, the MOSFETs MNi and MPi to which an input signal is input are configured to be shared by the buffer gates G1 to G3, and the memory cells MC1, MC2, and MPi are connected between the input MOSFETs MNi and MPi. A pair of N-channel MOSFET and P-channel MOSFET Q11, Q12; Q21, Q2 whose gate terminals receive the output voltage of MC3.
2; Q31 and Q32 are connected in parallel. And
The input signal line INL is MOSFET MNi and MPi.
Is connected to the gate terminal of. Also, the output signal line OT
L1 is the common drain of the MOSFETs Q11 and Q12, and the output signal line OTL2 is the MOSFETs Q21 and Q2.
The output signal line OTL3 is connected to the
They are connected to the common drains of TQ31 and Q32.

【0018】図5は、上記メモリセルMC1,MC2,
MC3としてスタティック型メモリセルを使用した場合
の具体例を、1つのメモリセルおよびバッファゲート回
路について示したものである。同図に示すように、一対
のインバータIV1,IV2と選択用MOSFET Q
sとからなるメモリセルMC1(MC2,MC3)の相
補的な出力が、バッファゲート回路G1(G2,G3)
を構成するMOSFET Q11,Q12(Q21,Q
22;Q31,Q32)のゲート端子にそれぞれ供給さ
れ、一方がオンされるときは他方もオンされるようにな
っている。
FIG. 5 shows the memory cells MC1, MC2,
A specific example of the case where a static memory cell is used as MC3 is shown for one memory cell and a buffer gate circuit. As shown in the figure, a pair of inverters IV1 and IV2 and a selection MOSFET Q
The complementary outputs of the memory cell MC1 (MC2, MC3) composed of s and the buffer gate circuit G1 (G2, G3)
MOSFETs Q11, Q12 (Q21, Q
22; Q31, Q32), and when one is turned on, the other is also turned on.

【0019】図5に示すように、メモリセルMC1は、
ゲート端子がワード線WLに接続されドレイン端子がビ
ット線BLに接続された書込み選択用のMOSFET
Qsと、互いの入力端子と出力端子とが結合された一対
のインバータからなるフリップフロップ回路FFとによ
って構成されており、選択用MOSFET Qsのソー
ス端子にフリップフロップ回路FFの一方の入出力端子
が接続されている。
As shown in FIG. 5, the memory cell MC1 is
A MOSFET for write selection whose gate terminal is connected to the word line WL and whose drain terminal is connected to the bit line BL.
Qs and a flip-flop circuit FF composed of a pair of inverters whose input terminals and output terminals are coupled to each other, and one input / output terminal of the flip-flop circuit FF is connected to the source terminal of the selection MOSFET Qs. It is connected.

【0020】この実施例のメモリセルを使用した場合、
上記ワード線をハイレベルに立ち上げてMOSFET
Qsをオンさせてビット線からデータを供給することに
より、所望のデータをフリップフロップFFに書き込ん
で配線回路の信号伝送方向を一義的に設定してやること
ができる。この信号伝送方向の設定は、システムの立ち
上がり時に行なわれるイニシャライズ等によって行なう
ようにすればよい。メモリセルとしてスタティック型の
もの(SRAM)を用いた場合には、イニシャライズご
とに各可変配線回路における信号伝送方向の設定を変え
ることにより、当該論理LSIに異なる機能を持たせる
ことができるようになる。
When the memory cell of this embodiment is used,
The word line is raised to a high level to turn on the MOSFET
By turning on Qs and supplying data from the bit line, desired data can be written in the flip-flop FF and the signal transmission direction of the wiring circuit can be uniquely set. The setting of the signal transmission direction may be performed by initialization or the like performed when the system starts up. When a static type (SRAM) is used as the memory cell, the setting of the signal transmission direction in each variable wiring circuit is changed for each initialization, so that the logic LSI can have different functions. .

【0021】上記実施例の可変配線回路(図3〜図5)
は、1方向から入力された信号を任意の3方向に送出す
るものであるが、実際のLSIでは入力信号が入ってく
る方向は特定されるものでない。そこで、図6に示すよ
うに、図3〜図5の可変配線回路を4個組み合わせて入
力信号の入ってくる方向を90度ずつずらしたものを1
つのブロックとして、これを論理LSI内の任意の位置
に配置するようにするとよい。これによって、いずれの
方向から入力信号が入って来る場合にも対応することが
できるようになる。ただし、比較的離れた位置にある論
理回路に信号を伝送する可変配線回路(遠隔用可変配線
回路)に関しては、信号の伝送方向が比較的特定される
ことが多いので、図3〜図5の可変配線回路を1つだけ
用いたり、2個組み合わせて入力信号の入ってくる方向
を180度ずらしたものを1つのブロックとしてこれを
所望の位置に配置するようにしてもよい。
Variable wiring circuit of the above embodiment (FIGS. 3 to 5)
In the above, a signal input from one direction is transmitted in any three directions, but in an actual LSI, the direction in which the input signal enters is not specified. Therefore, as shown in FIG. 6, four variable wiring circuits of FIGS. 3 to 5 are combined and the direction in which the input signal is input is shifted by 90 degrees.
As one block, it may be arranged at any position in the logic LSI. This makes it possible to deal with the case where the input signal comes in from either direction. However, with respect to a variable wiring circuit (remote variable wiring circuit) that transmits a signal to a logic circuit located at a relatively distant position, the signal transmission direction is often relatively specified. Only one variable wiring circuit may be used, or two variable wiring circuits may be combined and the direction in which the input signal enters is shifted by 180 degrees to form one block, which may be arranged at a desired position.

【0022】なお、可変論理回路を構成するメモリセル
は、図5に示すようなスタティック型のものに限定され
ず、EPROM(Erasable Programmable Read Only Me
mory)を構成するFAMOS(Floating Gate Avalanch
e Injection MOSFET)やヒューズ素子を使用するように
しても良い。
The memory cells constituting the variable logic circuit are not limited to those of the static type as shown in FIG. 5, but an EPROM (Erasable Programmable Read Only Me).
FAMOS (Floating Gate Avalanch)
e Injection MOSFET) or a fuse element may be used.

【0023】図7および図8に本発明に係る可変配線回
路の第2の実施例を示す。なお、図7および図8の可変
配線回路は、一方向すなわち信号線L1からL2または
L2からL1への信号の伝達を可能にする可変論理回路
の例であり、バッファゲート回路を2個備えメモリセル
としてスタティック型のものを使用している。周知のよ
うに、スタティック型メモリセル(SRAM)の一対の
入出力端子は互いに相補的なレベルの電圧を出力する。
7 and 8 show a variable wiring circuit according to a second embodiment of the present invention. The variable wiring circuits of FIGS. 7 and 8 are examples of variable logic circuits that enable transmission of a signal in one direction, that is, from the signal lines L1 to L2 or from L2 to L1, and include two buffer gate circuits. A static type is used as the cell. As is well known, a pair of input / output terminals of a static memory cell (SRAM) output voltages having complementary levels.

【0024】そのため、図7に示すように、メモリセル
MCをバッファゲート回路G1とG2とで共有させるよ
うに構成した場合、メモリセルMCの記憶情報によって
例えばバッファゲート回路G1が動作状態にされている
とバッファゲート回路G2は非動作状態にされるため、
信号は信号線L1からL2に向かって伝送される。一
方、メモリセルMCの記憶情報によってバッファゲート
回路G2が動作状態にされているとバッファゲート回路
G1は非動作状態にされるため、信号は信号線L2から
L1に向かって伝送可能にされる。これによって、図7
の実施例は、図3の実施例のようにバッファゲート回路
毎にメモリセルを設ける場合に比べて可変配線回路の構
成素子数を減らすことができる。
Therefore, as shown in FIG. 7, when the memory cell MC is configured to be shared by the buffer gate circuits G1 and G2, the stored information of the memory cell MC causes the buffer gate circuit G1 to operate, for example. If so, the buffer gate circuit G2 is deactivated,
The signal is transmitted from the signal lines L1 to L2. On the other hand, when the buffer gate circuit G2 is in the operating state by the stored information of the memory cell MC, the buffer gate circuit G1 is in the non-operating state, so that the signal can be transmitted from the signal line L2 to the signal line L1. As a result, FIG.
The embodiment can reduce the number of constituent elements of the variable wiring circuit as compared with the case where the memory cell is provided for each buffer gate circuit as in the embodiment of FIG.

【0025】図8に示すように、図7の可変配線回路を
構成するバッファゲート回路G1は電源電圧Vccと接
地点との間に直列に接続されたPチャネル型MOSFE
TQP1,Q11とNチャネル型MOSFET Q1
2,QN1とから構成されており、QP1とQN1のゲ
ート端子に一方の信号線L1が接続され、Q11とQ1
2のゲート端子にメモリセルMCの相補的な出力電圧が
それぞれ印加され、Q11とQ12の共通ドレイン端子
(ノードn1)が他方の信号線L2に接続されている。
また、可変配線回路を構成するバッファゲート回路G2
は電源電圧Vccと接地点との間に直列に接続されたP
チャネル型MOSFET QP2,Q21とNチャネル
型MOSFET Q22,QN2とから構成されてお
り、QP2とQN2のゲート端子に信号線L2が接続さ
れ、Q21とQ22のゲート端子にメモリセルMCの相
補的な出力電圧が上記バッファゲート回路G1側のQ1
1,Q12のゲート印加電圧と逆の関係になるように印
加され、Q21とQ22の共通ドレイン端子(ノードn
2)が他方の信号線L1に接続されている。
As shown in FIG. 8, the buffer gate circuit G1 constituting the variable wiring circuit of FIG. 7 is a P-channel type MOSFE connected in series between the power supply voltage Vcc and the ground point.
TQP1, Q11 and N-channel MOSFET Q1
2, QN1 and one signal line L1 is connected to the gate terminals of QP1 and QN1, and Q11 and Q1
Complementary output voltages of the memory cell MC are applied to the gate terminals of the two, and the common drain terminals (node n1) of Q11 and Q12 are connected to the other signal line L2.
In addition, a buffer gate circuit G2 forming a variable wiring circuit
Is P connected in series between the power supply voltage Vcc and the ground point.
It is composed of channel type MOSFETs QP2 and Q21 and N channel type MOSFETs Q22 and QN2, the signal line L2 is connected to the gate terminals of QP2 and QN2, and the complementary outputs of the memory cell MC to the gate terminals of Q21 and Q22. The voltage is Q1 on the buffer gate circuit G1 side.
1 and Q12 are applied so as to have an inverse relationship with the gate applied voltage, and common drain terminals of Q21 and Q22 (node n
2) is connected to the other signal line L1.

【0026】図9〜図11には、上記構成の可変配線回
路SBおよび後述の可変論理回路を用いてプログラマブ
ル論理LSIを構成する場合のレイアウトの一実施例が
示されている。
FIGS. 9 to 11 show an embodiment of a layout in the case of configuring a programmable logic LSI using the variable wiring circuit SB having the above configuration and a variable logic circuit described later.

【0027】図9において、中央に符号LCBで示され
ているのは後述の可変論理回路からなる可変論理ブロッ
クであり、この実施例では4個の可変論理回路をレイア
ウト的に左右対称および上下対称に配置したものを1つ
のブロックLCBとして配置し、その周囲に前述の可変
配線回路SBを4個レイアウト的に左右対称および上下
対称に配置したものを1つのブロックとして、上記可変
論理ブロックLCBの周囲の符号LSBとGSBで示す
ような位置に配置して1つのユニットUNTを構成して
いる。そのため、図9においてはユニットUNTの境界
を示す一点鎖線が可変配線ブロックGSBとLSBの中
心を縦断するように示されている。なお、LSBとGS
Bは、近接配線か遠隔配線かの違いのみで構成は同一の
可変配線ブロックである。
In FIG. 9, the reference numeral LCB in the center is a variable logic block composed of a variable logic circuit described later. In this embodiment, four variable logic circuits are symmetrical in layout and vertically symmetrical. Are arranged as one block LCB, and the four variable wiring circuits SB described above arranged symmetrically and vertically symmetrically in layout are formed as one block, and the surroundings of the variable logic block LCB. One unit UNT is formed by arranging them at the positions shown by the symbols LSB and GSB. Therefore, in FIG. 9, the alternate long and short dash line indicating the boundary of the unit UNT is shown to cross the centers of the variable wiring blocks GSB and LSB. In addition, LSB and GS
B is a variable wiring block having the same configuration except that it is a proximity wiring or a remote wiring.

【0028】図9において、実線の矢印は隣接する可変
配線ブロックとの間を接続する配線を示しており、これ
らは例えば一層目のメタル層と二層目のメタル層により
形成される。また、図9において、点線の矢印は比較的
離れた位置にある可変配線ブロックとの間を接続する配
線を示しており、これらは例えば三層目のメタル層と四
層目のメタル層により形成される。
In FIG. 9, solid arrows indicate wirings that connect adjacent variable wiring blocks, which are formed by, for example, a first metal layer and a second metal layer. Further, in FIG. 9, dotted arrows indicate wirings that connect to variable wiring blocks located at relatively distant positions, and these are formed by, for example, a third metal layer and a fourth metal layer. To be done.

【0029】上記実施例の可変配線回路(図3〜図5)
は、1方向から入力された信号を任意の3方向に送出す
るものであるが、入力信号が入ってくる方向は特定され
るものでない。そこで、図6に示すように、図3〜図5
の可変配線回路を4個組み合わせて入力信号の入ってく
る方向を90度ずつずらしたものを1つのブロックとし
て、これを図9に示されているGSBやLSBとして配
置するようにした。ただし、遠隔用可変配線回路GSB
に関しては、信号の伝送方向が比較的特定されることが
多いので、図7の可変配線回路を2個組み合わせたもの
を1つのブロックとして、これを図9に示されているG
SBの位置に配置するというように2種類のブロックを
用意して使い分けるようにしてもよい。
Variable wiring circuit of the above embodiment (FIGS. 3 to 5)
Is to send a signal input from one direction to any three directions, but the direction in which the input signal is input is not specified. Therefore, as shown in FIG.
The variable wiring circuits of 4 are combined and the directions of the input signals are shifted by 90 degrees to form one block, which is arranged as the GSB or LSB shown in FIG. However, remote variable wiring circuit GSB
With respect to the above, since the signal transmission direction is often relatively specified, a combination of two variable wiring circuits of FIG. 7 is regarded as one block, and this is shown in FIG.
It is also possible to prepare two types of blocks such that they are arranged at the position of SB and use them properly.

【0030】さらに、この実施例では、上記のように構
成されたユニットUNTを図10に示すようにマトリッ
クス状に配置してマクロブロックMBLを構成し、この
マクロブロックMBLを図11に示すように、半導体チ
ップCHIP上にタイル状に敷き詰めてプログラマルブ
論理LSIを構成している。
Further, in this embodiment, the unit UNT configured as described above is arranged in a matrix as shown in FIG. 10 to form a macro block MBL, and this macro block MBL is arranged as shown in FIG. The semiconductor chips CHIP are tiled to form a programmable logic LSI.

【0031】図10において、ユニットUNTの中心に
縦方向に設けられているのは入出力回路およびワード線
選択回路の配置領域YAR、ユニットUNTの中心に横
方向に設けられているのは入出力回路、ビット線選択回
路および書き込み回路の配置領域XARであり、その交
差部すなわちユニット中央にはクロック分配回路CKD
が配置されている。また、丸印が付されているのは、そ
れぞれ入出力端子、電源端子、接地端子、制御端子であ
る。一方、図11において、各マクロブロックMBL間
に設けられているスペースSPは配線形成領域である。
In FIG. 10, an input / output circuit and word line selection circuit arrangement area YAR is provided vertically in the center of the unit UNT, and an input / output is provided horizontally in the center of the unit UNT. The clock distribution circuit CKD is an arrangement area XAR of the circuit, the bit line selection circuit, and the write circuit, and the intersection thereof, that is, the center of the unit.
Is arranged. Further, the circles indicate the input / output terminal, the power supply terminal, the ground terminal, and the control terminal, respectively. On the other hand, in FIG. 11, the space SP provided between the macro blocks MBL is a wiring formation region.

【0032】次に、上記可変論理ブロックLCBを構成
する可変論理回路PLGの具体例を図12を用いて説明
する。なお、図12の可変論理回路は、メモリセルを8
個有する4入力論理の一例である。図12において、M
0,M1はメモリセルであり、図12の可変論理回路
は、各々メモリセルを2個ずつ有する4個の積和演算回
路CA1〜CA4と、これらの積和演算回路CA1〜C
A4の出力信号を共通の出力ノードn0に伝達するため
の伝送手段としてのMOSトランスファゲートTG1〜
TG4およびTG11,TG12と、共通出力ノードn
0に接続された出力インバータIVoと、入力される選
択信号SEL1に基づいて上記MOSトランスファゲー
トTG2,TG4を制御する信号を形成するインバータ
IV1と、選択信号SEL2に基づいて上記MOSトラ
ンスファゲートTG12を制御する信号を形成するイン
バータIV2とにより構成されている。
Next, a specific example of the variable logic circuit PLG forming the variable logic block LCB will be described with reference to FIG. The variable logic circuit in FIG. 12 has eight memory cells.
It is an example of a 4-input logic having a number. In FIG. 12, M
0 and M1 are memory cells, and the variable logic circuit of FIG. 12 has four product-sum operation circuits CA1 to CA4 each having two memory cells and these product-sum operation circuits CA1 to CA1.
MOS transfer gates TG1 to TG1 as transmission means for transmitting the output signal of A4 to the common output node n0
TG4 and TG11, TG12 and common output node n
An output inverter IVo connected to 0, an inverter IV1 forming a signal for controlling the MOS transfer gates TG2, TG4 based on an input selection signal SEL1, and a MOS transfer gate TG12 controlled based on a selection signal SEL2. And an inverter IV2 that forms a signal for

【0033】さらに、上記積和演算回路CA1〜CA4
は、それぞれ上記一対のメモリセル(M0,M1)と、
これらのメモリセルの出力電圧(保持情報)をゲート端
子に受ける一対のスイッチMOSFET Q0,Q1
と、これらのスイッチMOSFET Q0,Q1のソー
ス端子と接地点との間にそれぞれ直列形態に接続された
スイッチMOSFET Q2,Q3と、上記MOSFE
T Q0,Q1の共通ドレイン端子と電源電圧端子との
間に接続されたPチャネル形MOSFET Q4と、入
力信号W(X,Y,Z)を反転するインバータIViと
により構成されており、上記MOSFET Q4はその
ゲート端子に接地電位が印加されて負荷抵抗として作用
するとともに、上記MOSFET Q2,Q3のゲート
端子には入力信号W(X,Y,Z)とその反転信号が印
加されるようになっている。
Further, the product-sum operation circuits CA1 to CA4
Is a pair of memory cells (M0, M1),
A pair of switch MOSFETs Q0 and Q1 that receive the output voltage (holding information) of these memory cells at their gate terminals.
And switch MOSFETs Q2 and Q3 connected in series between the source terminals of these switch MOSFETs Q0 and Q1 and the ground point, respectively, and the above-mentioned MOSFE.
The MOSFET includes a P-channel MOSFET Q4 connected between the common drain terminal of TQ0 and Q1 and a power supply voltage terminal, and an inverter IVi for inverting the input signal W (X, Y, Z). A ground potential is applied to the gate terminal of Q4 to act as a load resistance, and an input signal W (X, Y, Z) and its inverted signal are applied to the gate terminals of the MOSFETs Q2 and Q3. ing.

【0034】この実施例の可変論理回路は、上記のよう
に構成されているため、各積和論理回路内のメモリセル
へ記憶させるデータによって、4つの入力信号および2
つの選択信号の組合せに応じて1876通りの論理機能
を実現することができる。
Since the variable logic circuit of this embodiment is configured as described above, four input signals and 2 are input depending on the data to be stored in the memory cell in each product-sum logic circuit.
1876 logical functions can be realized according to the combination of two selection signals.

【0035】表1に本実施例の可変論理回路の実現可能
な論理の種類の計算式を示す。表1の計算式の欄に示さ
れている式のなかで、2C1はペアとなっているメモリセ
ルの一方に「1」が記憶されている場合を、また2C2は
ペアとなっているメモリセルの両方に「1」が記憶され
ている場合を示している。さらに、論理種F2〜F8欄
の各計算式の最後の数字「2」,「5」,「15」は、
入力として同一の信号が重複して入力される場合(例え
ば図3のように入力がすべてXの場合等)を考慮したも
ので、有効な信号の組合せ数を示すものである。表2〜
表4に具体的な信号の組合せを示す。
Table 1 shows calculation formulas of types of logic that can be realized by the variable logic circuit of this embodiment. In the formulas shown in the calculation formula column of Table 1, 2C1 is the case where "1" is stored in one of the paired memory cells, and 2C2 is the paired memory cell. Shows the case where "1" is stored in both. Furthermore, the last numbers "2", "5", and "15" of the respective calculation formulas in the logical species F2 to F8 columns are
The number of effective signal combinations is shown in consideration of the case where the same signal is redundantly input as an input (for example, when the inputs are all X as shown in FIG. 3). Table 2
Table 4 shows specific signal combinations.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【表2】 [Table 2]

【0038】[0038]

【表3】 [Table 3]

【0039】[0039]

【表4】 [Table 4]

【0040】また、本実施例の可変論理回路は、図13
に示すように、各積和演算回路CA1〜CA4に共通の
入力信号Xを供給するように接続することにより、選択
信号A,Bと入力信号Xとをアドレス信号とする8×1
ビットのメモリ回路として動作させることができる。表
5に、可変論理回路をメモリ回路として使用する場合の
ビットマップの一例を示す。表5は、信号A,B,Xが
右欄のような組合せになったときに左欄のメモリセルが
選択されることを意味している。
The variable logic circuit of this embodiment is shown in FIG.
As shown in FIG. 8, by connecting the sum-of-products arithmetic circuits CA1 to CA4 so as to supply a common input signal X, the selection signals A and B and the input signal X are used as address signals 8 × 1.
It can be operated as a bit memory circuit. Table 5 shows an example of a bitmap when the variable logic circuit is used as a memory circuit. Table 5 means that the memory cell in the left column is selected when the signals A, B, and X have the combination shown in the right column.

【0041】[0041]

【表5】 [Table 5]

【0042】図14に可変論理回路の他の実施例を示
す。なお、図14の可変論理回路は、メモリセルを4個
有する2入力論理の例である。
FIG. 14 shows another embodiment of the variable logic circuit. The variable logic circuit of FIG. 14 is an example of a 2-input logic having four memory cells.

【0043】第1実施例(図2)の4入力可変論理回路
と比較すると明らかなように、2入力可変論理回路で
は、積和演算回路は2個(CA1とCA2)で、これら
の積和演算回路CA1,CA2の出力信号を共通の出力
ノードn0に伝達するための伝送手段としてのMOSト
ランスファゲートは1段(TG1とTG2)で済むこと
が分かる。
As is clear from comparison with the 4-input variable logic circuit of the first embodiment (FIG. 2), the 2-input variable logic circuit has two product-sum operation circuits (CA1 and CA2), and these product-sums are summed. It can be seen that the MOS transfer gate as a transmission means for transmitting the output signals of the arithmetic circuits CA1 and CA2 to the common output node n0 requires only one stage (TG1 and TG2).

【0044】なお、この実施例においては図2の実施例
におけるMOSFET Q0,Q1の共通ドレイン端子
と電源電圧端子との間に接続されたPチャネル形MOS
FET Q4のゲート端子に接地電位を印加する代わり
にメモリセルM0の出力電圧(保持情報)を印加すると
ともに、Q4と直列に接続された第2のPチャネル形M
OSFET Q5を設けて、そのゲート端子にメモリセ
ルM1の出力電圧(保持情報)を印加させてある。
In this embodiment, a P-channel type MOS transistor connected between the common drain terminal of the MOSFETs Q0 and Q1 in the embodiment of FIG. 2 and the power supply voltage terminal.
Instead of applying the ground potential to the gate terminal of the FET Q4, the output voltage (holding information) of the memory cell M0 is applied and a second P-channel type M connected in series with Q4.
The OSFET Q5 is provided, and the output voltage (holding information) of the memory cell M1 is applied to its gate terminal.

【0045】この実施例の可変論理回路は、上記のよう
に構成されているため、各積和論理回路CA1,CA2
内のメモリセルMiへ記憶させるデータによって、2つ
の入力信号W,Xおよび1つの選択信号Aの組合せに応
じて25通りの論理機能を実現することができる。
Since the variable logic circuit of this embodiment is constructed as described above, the product-sum logic circuits CA1 and CA2
Depending on the combination of the two input signals W, X and one selection signal A, 25 kinds of logic functions can be realized by the data stored in the memory cell Mi in the.

【0046】表6に本実施例の可変論理回路の実現可能
な論理の種類の計算式を示す。さらに、表7,表8に
は、本実施例の可変論理回路で実現可能な論理機能のう
ち一部の論理機能の真理値表を示す。
Table 6 shows formulas for calculating the types of logic that can be realized by the variable logic circuit of this embodiment. Further, Tables 7 and 8 show truth value tables of some of the logic functions that can be realized by the variable logic circuit of this embodiment.

【0047】[0047]

【表6】 [Table 6]

【0048】[0048]

【表7】 [Table 7]

【0049】[0049]

【表8】 [Table 8]

【0050】図15には上記可変論理回路を構成するメ
モリセルの一実施例が示されている。なお、図15はメ
モリセルとして、図3の可変配線回路と同様にスタティ
ック型メモリセルを使用した例である。
FIG. 15 shows an embodiment of a memory cell which constitutes the variable logic circuit. Note that FIG. 15 shows an example in which a static memory cell is used as the memory cell as in the variable wiring circuit of FIG.

【0051】図15に示すように、各メモリセルMi
は、ゲート端子がワード線WLに接続されドレイン端子
がビット線BLに接続された書込み選択用のMOSFE
T Qsと、互いの入力端子と出力端子とが結合された
一対のインバータからなるフリップフロップ回路FFと
によって構成されており、選択用MOSFET Qsの
ソース端子にフリップフロップ回路FFの一方の入出力
端子が接続され、フリップフロップ回路の他方の入出力
端子がスイッチMOSFET Q0(またはQ1)のゲ
ート端子に接続されている。
As shown in FIG. 15, each memory cell Mi
Is a write-selection MOSFE whose gate terminal is connected to the word line WL and whose drain terminal is connected to the bit line BL.
T Qs and a flip-flop circuit FF composed of a pair of inverters whose input terminals and output terminals are coupled to each other, and the source terminal of the selection MOSFET Qs is one input / output terminal of the flip-flop circuit FF. And the other input / output terminal of the flip-flop circuit is connected to the gate terminal of the switch MOSFET Q0 (or Q1).

【0052】この実施例のメモリセルを使用した場合、
上記ワード線WLをハイレベルに立ち上げてMOSFE
T Qsをオンさせてビット線BLからデータを供給す
ることにより、所望のデータを書き込んで当該可変論理
回路の論理を一義的に設定してやることができる。この
論理の設定は、システムの立ち上がり時に行なわれるイ
ニシャライズ等によって行なうようにすればよい。メモ
リセルとしてスタティック型のものを用いた場合には、
イニシャライズごとに各可変論理回路に設定する論理を
変えることにより、当該論理LSIに異なる機能を持た
せることができるようになる。
When the memory cell of this embodiment is used,
The word line WL is raised to the high level to make the MOSFE
By turning on T Qs and supplying data from the bit line BL, desired data can be written and the logic of the variable logic circuit can be uniquely set. The setting of this logic may be performed by initialization or the like performed at the start-up of the system. When using static type memory cells,
By changing the logic set in each variable logic circuit for each initialization, the logic LSI can have different functions.

【0053】可変論理回路を構成するメモリセルは、図
15に示すようなスタティック型のものに限定されず、
EPROMを構成するFAMOSやヒューズ素子を使用
するようにしても良い。図16にはメモリセルにFAM
OSを使用した場合の可変論理回路の構成例を、また、
図17にはメモリセルにヒューズ素子を使用した場合の
可変論理回路の構成例を示す。なお、ここで使用される
ヒューズ素子としては、例えば高電圧をかけて絶縁膜を
破壊することによって上下の導電層を接続させるいわゆ
るアンチヒューズを用いている。メモリセルにヒューズ
素子を使用した場合、データ書込み用のワード線やビッ
ト線は不要となる。
The memory cells constituting the variable logic circuit are not limited to the static type as shown in FIG.
You may make it use FAMOS and a fuse element which comprise EPROM. In FIG. 16, the memory cell is FAM
A configuration example of a variable logic circuit when an OS is used,
FIG. 17 shows a configuration example of a variable logic circuit when a fuse element is used for a memory cell. As the fuse element used here, for example, a so-called anti-fuse that connects the upper and lower conductive layers by breaking the insulating film by applying a high voltage is used. When the fuse element is used for the memory cell, the word line and the bit line for writing data are not necessary.

【0054】図18には、図12や図14に示されてい
る可変論理回路を構成するメモリセルMiとして図15
に示すようなスタティック型のものを使用した場合にお
けるメモリセルへのデータの書込みのためのワード線お
よびビット線を含んだより具体的な回路の一実施例を示
す。各ワード線WLiはワード線選択駆動回路WSDか
ら延設されるとともに、各ビット線BLiはビット線選
択、書込み回路BSWから延設され、ワード線とビット
線とは互いに直交する方向に配設されている。
FIG. 18 shows a memory cell Mi composing the variable logic circuit shown in FIG. 12 or FIG.
An example of a more specific circuit including a word line and a bit line for writing data to a memory cell when using a static type as shown in FIG. Each word line WLi extends from the word line selection drive circuit WSD, each bit line BLi extends from the bit line selection / write circuit BSW, and the word line and the bit line are arranged in directions orthogonal to each other. ing.

【0055】前述したように、LSIチップ上には複数
個の可変論理回路がマトリックス状に配置されており、
各ワード線WLiにはワード線方向に配置されている複
数の可変論理回路内の対応するメモリセルMiの選択用
MOSFET Qsのゲート端子が共通に接続されてい
るとともに、各ビット線BLiにはビット線方向に配置
されている複数の可変論理回路内の対応するメモリセル
の選択用MOSFETQsのドレイン端子が共通に接続
されている。
As described above, a plurality of variable logic circuits are arranged in a matrix on the LSI chip.
The gate terminals of the selection MOSFETs Qs of the corresponding memory cells Mi in the plurality of variable logic circuits arranged in the word line direction are commonly connected to each word line WLi, and the bit line BLi is connected to the bit line BLi. The drain terminals of the selection MOSFETs Qs of the corresponding memory cells in the plurality of variable logic circuits arranged in the line direction are commonly connected.

【0056】更に、各ビット線BLiの他端には、特に
制限されないが、ビット線のハイインピーダンス時すな
わち非選択時にビット線電位がノイズによって変動して
メモリセルに誤ったデータが書き込まれるのを防止する
ため、プルアップ用のMOSFETQp1,Qp2が接
続されている。
Further, at the other end of each bit line BLi, although not particularly limited, when the bit line is in a high impedance state, that is, when it is not selected, the bit line potential fluctuates due to noise and erroneous data is written in the memory cell. To prevent this, pull-up MOSFETs Qp1 and Qp2 are connected.

【0057】図19には、可変配線回路SB内のメモリ
セルをスタティック型メモリセルで構成しかつ図9〜図
11のような配置をする場合に好適な可変配線回路の一
部のレイアウトパターン例を示す。また、図20にその
等価回路を示す。図6に示すような4個の可変配線回路
からなるブロックを構成する場合には、図12に示され
ているパターンが一点鎖線α−α’に沿って上下対称に
形成され、かつ一点鎖線β−β’に沿って左右対称に形
成される。
FIG. 19 shows an example of a partial layout pattern of a variable wiring circuit which is suitable when the memory cells in the variable wiring circuit SB are static memory cells and are arranged as shown in FIGS. 9 to 11. Indicates. Further, FIG. 20 shows an equivalent circuit thereof. In the case of configuring a block composed of four variable wiring circuits as shown in FIG. 6, the pattern shown in FIG. 12 is formed vertically symmetrical along the dashed-dotted line α-α ′ and the dashed-dotted line β. It is formed symmetrically along −β ′.

【0058】図20と図15とを比較すれば明らかなよ
うに、可変配線回路と可変論理回路とで一部の回路が類
似しており、図19のレイアウトパターンによれば、可
変配線回路と可変論理回路とでレイアウトパターンの一
部共通化もしくは援用を図ることができる。図19のレ
イアウトパターンに、図4に示されているPチャネルM
OSFET MPiおよびQ11〜,Q21,Q31の
パターンを追加してやれば、図3〜図5に示されている
可変配線回路が得られる。
As is clear from a comparison between FIG. 20 and FIG. 15, some circuits are similar between the variable wiring circuit and the variable logic circuit, and according to the layout pattern of FIG. The layout pattern can be partially shared or used with the variable logic circuit. The P-channel M shown in FIG. 4 is added to the layout pattern of FIG.
If the patterns of the OSFET MPi and Q11 to Q21, Q31 are added, the variable wiring circuit shown in FIGS. 3 to 5 can be obtained.

【0059】図19において、WL1,WL2はワード
線、BL1,BL2,BL3はビット線を示す。また、
M1が付されているパターンは一層目のメタル層で形成
される導電層、M2が付されているパターンは二層目の
メタル層で形成される導電層、M3が付されているパタ
ーンは三層目のメタル層で形成される導電層、ハッチン
グが付されている領域LはMOSFETのソース、ドレ
イン領域となる拡散層、INLは入力信号がのる信号
線、OTL1〜OTL3は出力信号がのる信号線であ
る。
In FIG. 19, WL1 and WL2 indicate word lines, and BL1, BL2 and BL3 indicate bit lines. Also,
The pattern with M1 is a conductive layer formed by the first metal layer, the pattern with M2 is a conductive layer formed by the second metal layer, and the pattern with M3 is three. A conductive layer formed of the metal layer of the second layer, a hatched region L is a diffusion layer serving as the source and drain regions of the MOSFET, INL is a signal line carrying an input signal, and OTL1 to OTL3 are output signals. Signal line.

【0060】図21には、可変配線回路内のメモリセル
をヒューズ素子(アンチヒューズ)を用いたメモリセル
で構成しかつ図9〜図11のような配置をする場合に好
適な可変配線回路のレイアウトパターン例を示す。図2
2にその等価回路を示す。このように可変配線回路内の
メモリセルとしてヒューズ素子を使用した場合、図12
の可変論理回路内のメモリセルも同様にヒューズ素子で
構成するようにすれば、可変配線回路と可変論理回路と
でレイアウトパターンの一部共通化もしくは援用を図る
ことができる。
FIG. 21 shows a variable wiring circuit which is suitable when the memory cells in the variable wiring circuit are constituted by memory cells using a fuse element (anti-fuse) and arranged as shown in FIGS. 9 to 11. An example of a layout pattern is shown. FIG.
2 shows the equivalent circuit. When the fuse element is used as the memory cell in the variable wiring circuit as described above, FIG.
If the memory cell in the variable logic circuit is also configured by the fuse element, the layout pattern can be partially shared or used for the variable wiring circuit and the variable logic circuit.

【0061】図21において、M1が付されているパタ
ーンは一層目のメタル層で形成される導電層、M2が付
されているパターンは二層目のメタル層で形成される導
電層、M3が付されているパターンは三層目のメタル層
で形成される導電層、ハッチングが付されている領域L
はMOSFETのソース、ドレイン領域となる拡散層、
FGが付されているのはポリシリコンゲート電極、IN
Lは入力信号がのる信号線、OTL1〜OTL3は出力
信号がのる信号線である。また、黒く塗り潰された四角
はアンチヒューズF1,F2,F3を構成する絶縁膜が
形成されている箇所を示している。
In FIG. 21, the pattern marked with M1 is the conductive layer formed of the first metal layer, the pattern marked with M2 is the conductive layer formed of the second metal layer, and M3 is the conductive layer formed of the second metal layer. The attached pattern is the conductive layer formed by the third metal layer, and the hatched region L.
Is a diffusion layer to be the source and drain regions of the MOSFET,
FG is a polysilicon gate electrode, IN
L is a signal line on which an input signal is carried, and OTL1 to OTL3 are signal lines on which an output signal is carried. Further, the blackened squares indicate the locations where the insulating films forming the antifuses F1, F2 and F3 are formed.

【0062】図23には、可変配線回路内のメモリセル
をFAMOS(フローティングゲート・アバランシェM
OSFET)を用いて構成しかつ図9〜図11のような
配置をする場合に好適な可変配線回路のレイアウトパタ
ーン例を示す。図24にその等価回路を示す。このよう
に可変配線回路内のメモリセルとしてFAMOSを使用
した場合、図12の可変論理回路内のメモリセルも同様
にFAMOSで構成するようにすれば、可変配線回路と
可変論理回路とでレイアウトパターンの一部共通化もし
くは援用を図ることができる。
In FIG. 23, memory cells in the variable wiring circuit are shown as FAMOS (floating gate avalanche M).
An example of a layout pattern of a variable wiring circuit suitable for the case where the variable wiring circuit is configured using the OSFET) and arranged as shown in FIGS. FIG. 24 shows an equivalent circuit thereof. When FAMOS is used as the memory cell in the variable wiring circuit as described above, if the memory cell in the variable logic circuit of FIG. 12 is also configured by FAMOS, the layout pattern of the variable wiring circuit and the variable logic circuit is formed. Can be partially shared or used.

【0063】図23において、符号FN1,FN2,F
N3が付されている箇所がFAMOSの形成されている
部位であり、図示しないが、このFAMOSのゲート電
極となるワード線WL1の下に一層目のポリシリコン層
等からなるフローティングゲートが形成されている。
In FIG. 23, reference numerals FN1, FN2, F
A portion marked with N3 is a portion where FAMOS is formed, and although not shown, a floating gate made of a first polysilicon layer or the like is formed under the word line WL1 which is a gate electrode of this FAMOS. There is.

【0064】以上説明したように、上記実施例は、1ま
たは2以上のメモリセルと、入力端子が同一の信号線に
接続されかつ出力端子が互いに方向の異なる他の信号線
に接続された複数のバッファゲート回路とを備え、上記
メモリセルの記憶情報に基づいて上記バッファゲート回
路が動作状態にされることにより信号が出力側信号線へ
伝送されるように可配線回路を構成したので、信号のレ
ベルダウンがなく次段の回路の動作マージンを低下させ
ることがないとともに、通過可能な回路の数に制限のな
い可変配線回路を得ることができ、その結果、より高機
能で大規模な論理LSIが実現可能となるという効果が
ある。
As described above, in the above-described embodiment, one or more memory cells and a plurality of memory cells whose input terminals are connected to the same signal line and whose output terminals are connected to other signal lines whose directions are different from each other are provided. And the buffer circuit is configured so that the signal is transmitted to the output-side signal line by activating the buffer gate circuit based on the information stored in the memory cell. It is possible to obtain a variable wiring circuit in which the number of circuits that can pass through is not limited, and the operation margin of the circuit in the next stage is not reduced, and as a result, a higher-performance and large-scale logic can be obtained. There is an effect that an LSI can be realized.

【0065】また、従来の可変配線回路のように信号の
伝達/遮断にトランスファMOSFETを使用しないで
バッファゲート回路を用いているので、信号伝搬遅延時
間を小さくすることができ、その結果、高速動作可能な
論理LSIを実現することができるという効果がある。
Also, unlike the conventional variable wiring circuit, the buffer gate circuit is used instead of using the transfer MOSFET for signal transmission / interruption, so that the signal propagation delay time can be reduced, resulting in high-speed operation. The effect is that a possible logic LSI can be realized.

【0066】さらに、上記実施例で説明したように、可
変配線回路を構成するメモリセルと可変論理回路を構成
するメモリセルとに同一タイプのメモリセルを使用すれ
ば、可変配線回路と可変論理回路とに類似性を持たせる
ことができるため、レイアウトパターンを設計する際に
一方の設計データを他方の設計に利用することができ、
レイアウト設計が容易になるという効果がある。
Further, as described in the above embodiment, if the same type of memory cell is used for the memory cell forming the variable wiring circuit and the memory cell forming the variable logic circuit, the variable wiring circuit and the variable logic circuit are used. Since it is possible to have similarity to and, when designing a layout pattern, one design data can be used for the other design,
This has the effect of facilitating layout design.

【0067】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。例えば図3
の実施例においては、出力側の信号線を3本としこれに
応じてバッファゲート回路とメモリセルを3組設けてい
るが、出力側の信号線を2本としバッファゲート回路と
メモリセルを2組設けるようにしてもよい。また、図4
において、MOSFET MNi,Q12等と相補的に
オン、オフされるPチャネルMOSFET MPi,Q
11,Q21,Q31を設けているが、これらのMOS
FETは、図12の可変論理回路内のMOSFET Q
4と同様にゲート端子が接地点に接続された1つのPチ
ャネルMOSFETで置き換えることも可能である。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, FIG.
In the embodiment, three signal lines are provided on the output side and three sets of buffer gate circuits and memory cells are provided accordingly. However, two signal lines are provided on the output side and two buffer gate circuits and memory cells are provided. You may make it provide a group. Also, FIG.
In P-channel MOSFET MPi, Q which is turned on / off complementarily with MOSFET MNi, Q12 etc.
Although 11, Q21 and Q31 are provided, these MOS
FET is MOSFET Q in the variable logic circuit of FIG.
It is also possible to replace with one P-channel MOSFET whose gate terminal is connected to the ground point as in the case of 4.

【0068】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるプログ
ラマブル論理LSIに適用した場合について説明した
が、この発明はそれに限定されるものでなく、通常の論
理LSIにおいてその一部の回路の配線接続を可変にす
る可変配線回路として利用することができる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is applied to a programmable logic LSI which is a field of application which is the background of the invention has been mainly described. However, the present invention is not limited to this, and a general It can be used as a variable wiring circuit that makes the wiring connection of some of the circuits in the logic LSI variable.

【0069】[0069]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
のとおりである。
The effects obtained by the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0070】すなわち、信号のレベルダウンがなく次段
の回路の動作マージンを低下させることがないとともに
通過可能な回路の数に制限のない可変配線回路を得るこ
とができる。
That is, it is possible to obtain a variable wiring circuit in which the level of the signal is not lowered, the operation margin of the circuit in the next stage is not lowered, and the number of circuits which can be passed through is not limited.

【0071】また、信号伝搬遅延時間の小さな可変配線
回路を実現し、これを使用した論理LSIの高速化を図
ることができる。
Further, it is possible to realize a variable wiring circuit having a small signal propagation delay time and speed up a logic LSI using the variable wiring circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の可変配線回路の一例を示す回路図であ
る。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a conventional variable wiring circuit.

【図2】従来の可変配線回路における信号伝送可能な方
向を示す作用説明図である。
FIG. 2 is an operation explanatory view showing directions in which signal transmission is possible in a conventional variable wiring circuit.

【図3】本発明に係る可変配線回路の第1の実施例を示
す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a first embodiment of a variable wiring circuit according to the present invention.

【図4】図2の実施例の可変配線回路のより具体的な回
路構成例を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a more specific circuit configuration example of the variable wiring circuit of the embodiment of FIG.

【図5】図2の実施例の可変配線回路を構成するメモリ
セルとしてスタティック型のものを使用した場合の具体
的な回路構成例を示す回路図である。
5 is a circuit diagram showing a specific circuit configuration example when a static type memory cell is used as a memory cell forming the variable wiring circuit of the embodiment of FIG.

【図6】上記可変配線回路をプログラマブル論理LSI
を構成する要素として使用する場合の好適な構成例を示
す概念図である。
FIG. 6 is a programmable logic LSI in which the above variable wiring circuit is provided.
It is a conceptual diagram which shows the suitable structural example when using it as an element which comprises.

【図7】可変配線回路の第2の実施例を示す回路図であ
る。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a second embodiment of a variable wiring circuit.

【図8】図7の実施例の可変配線回路のより具体的な回
路構成例を示す回路図である。
8 is a circuit diagram showing a more specific circuit configuration example of the variable wiring circuit of the embodiment of FIG.

【図9】本発明に係る可変配線回路および可変論理回路
を用いてプログラマブル論理LSIを構成する場合の一
実施例を示すユニットの概念図である。
FIG. 9 is a conceptual diagram of a unit showing an example of configuring a programmable logic LSI using the variable wiring circuit and the variable logic circuit according to the present invention.

【図10】本発明に係る可変配線回路および可変論理回
路を用いてプログラマブル論理LSIを構成する場合の
一実施例を示すマクロブロックの概念図である。
FIG. 10 is a conceptual diagram of a macro block showing an embodiment when a programmable logic LSI is configured using the variable wiring circuit and the variable logic circuit according to the present invention.

【図11】本発明に係る可変配線回路および可変論理回
路を用いてプログラマブル論理LSIを構成する場合の
LSI全体の概念図である。
FIG. 11 is a conceptual diagram of the entire LSI in the case of configuring a programmable logic LSI using the variable wiring circuit and the variable logic circuit according to the present invention.

【図12】上記論理LSIを構成する可変論理回路の一
例(4入力)を示す回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing an example (4 inputs) of a variable logic circuit which constitutes the logic LSI.

【図13】図12の実施例の可変論理回路をメモリ回路
として使用する場合の入力信号線の接続例を示す回路図
である。
13 is a circuit diagram showing a connection example of input signal lines when the variable logic circuit of the embodiment of FIG. 12 is used as a memory circuit.

【図14】可変論理回路の他の例(2入力)を示す回路
図である。
FIG. 14 is a circuit diagram showing another example (2 inputs) of the variable logic circuit.

【図15】可変論理回路内のメモリセルの一例を示す回
路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram showing an example of a memory cell in a variable logic circuit.

【図16】可変論理回路内のメモリセルの他の例を示す
回路図である。
FIG. 16 is a circuit diagram showing another example of a memory cell in a variable logic circuit.

【図17】可変論理回路内のメモリセルのさらに他の例
を示す回路図である。
FIG. 17 is a circuit diagram showing still another example of the memory cell in the variable logic circuit.

【図18】可変論理回路を構成するメモリセルとしてス
タティック型のものを使用した場合における可変論理回
路の具体的な回路の一実施例を示す回路図である。
FIG. 18 is a circuit diagram showing an example of a specific circuit of a variable logic circuit when a static type is used as a memory cell forming the variable logic circuit.

【図19】可変配線回路内のメモリセルをスタティック
型メモリセルで構成しかつ図9〜図11のような配置を
する場合に好適な可変配線回路の要部のレイアウトパタ
ーン例を示す平面図である。
FIG. 19 is a plan view showing an example of a layout pattern example of a main part of a variable wiring circuit, which is suitable when the memory cells in the variable wiring circuit are static memory cells and are arranged as shown in FIGS. 9 to 11; is there.

【図20】図19の可変配線回路の等価回路を示す回路
図である。
20 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of the variable wiring circuit of FIG.

【図21】可変配線回路内のメモリセルをヒューズ素子
を用いて構成しかつ図9〜図11のような配置をする場
合に好適な可変配線回路の要部のレイアウトパターン例
を示す平面図である。
FIG. 21 is a plan view showing a layout pattern example of a main part of a variable wiring circuit, which is suitable when a memory cell in the variable wiring circuit is configured by using fuse elements and arranged as shown in FIGS. 9 to 11; is there.

【図22】図21の可変論理回路の等価回路を示す回路
図である。
22 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of the variable logic circuit of FIG.

【図23】可変配線回路内のメモリセルをFAMOSを
用いて構成しかつ図9〜図11のような配置をする場合
に好適な可変配線回路の要部のレイアウトパターン例を
示す平面図である。
FIG. 23 is a plan view showing a layout pattern example of a main part of a variable wiring circuit, which is suitable when a memory cell in the variable wiring circuit is configured using FAMOS and arranged as shown in FIGS. 9 to 11; .

【図24】図23の可変論理回路の等価回路を示す回路
図である。
FIG. 24 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of the variable logic circuit of FIG. 23.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

SB 可変配線回路 MC1〜MC3,MCi メモリセル G1,G2,G3 バッファゲート回路 INL 入力信号線 OTL1〜OTL3 出力信号線 L1,L2 信号線 WL ワード線 BL ビット線 GSB 遠隔用可変配線回路 LSB 近接用可変配線回路 MC1,MC2,MC3 メモリセル LCB 可変論理回路 UNT ユニット MBL マクロブロック SP 配線形成領域 YAR 入出力回路およびワード線選択回路の配置領域 XAR 入出力回路、ビット線選択回路および書き込み
回路の配置領域
SB variable wiring circuit MC1 to MC3, MCi memory cell G1, G2, G3 buffer gate circuit INL input signal line OTL1 to OTL3 output signal line L1, L2 signal line WL word line BL bit line GSB remote variable wiring circuit LSB proximity variable Wiring circuit MC1, MC2, MC3 Memory cell LCB Variable logic circuit UNT unit MBL macro block SP Wiring formation area YAR I / O circuit and word line selection circuit layout area XAR I / O circuit, bit line selection circuit and write circuit layout area

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1または2以上のメモリセルと、入力端
子が同一の信号線に接続されかつ出力端子が互いに方向
の異なる他の信号線に接続された複数のバッファゲート
回路とを備え、上記メモリセルの記憶情報に基づいて上
記バッファゲート回路が動作状態にされることにより信
号が出力側信号線へ伝送されるように構成されてなるこ
とを特徴とする可変配線回路。
1. A memory cell comprising one or more memory cells, and a plurality of buffer gate circuits each having an input terminal connected to the same signal line and an output terminal connected to another signal line having a different direction from each other. A variable wiring circuit characterized in that a signal is transmitted to an output side signal line by activating the buffer gate circuit based on stored information in a memory cell.
【請求項2】 上記バッファゲート回路は電源電圧端子
と接地点との間に直列形態に接続された2個のPチャネ
ルMOSFETおよび2個のNチャネルMOSFETと
からなり、上記PチャネルMOSFETの一方および上
記NチャネルMOSFETの一方のゲート端子には入力
信号が供給され、他方のMOSFETのゲート端子には
上記メモリセルの記憶情報に応じた相補的な信号が供給
されるように構成されてなることを特徴とする請求項1
に記載の可変配線回路。
2. The buffer gate circuit includes two P-channel MOSFETs and two N-channel MOSFETs connected in series between a power supply voltage terminal and a ground point, and one of the P-channel MOSFETs and An input signal is supplied to one gate terminal of the N-channel MOSFET, and a complementary signal corresponding to the stored information of the memory cell is supplied to the gate terminal of the other MOSFET. Claim 1 characterized by
Variable wiring circuit according to.
【請求項3】 上記メモリセルはスタティック型メモリ
セルからなり、該メモリセルを選択するための選択信号
線とメモリセルへ書き込むべきデータを供給するための
データ信号線とが互いに直交する方向に配設されてなる
ことを特徴とする請求項1または2に記載の可変配線回
路。
3. The memory cell comprises a static memory cell, and a selection signal line for selecting the memory cell and a data signal line for supplying data to be written to the memory cell are arranged in directions orthogonal to each other. The variable wiring circuit according to claim 1, wherein the variable wiring circuit is provided.
【請求項4】 複数の論理回路を備え、各論理回路の周
囲に請求項1、2または3に記載の可変配線回路がそれ
ぞれ配置されてなることを特徴とする論理集積回路。
4. A logic integrated circuit comprising a plurality of logic circuits, each variable wiring circuit according to claim 1, 2 or 3 being arranged around each logic circuit.
【請求項5】 上記論理回路の周囲に配置された可変配
線回路には、比較的離れた位置に配置されている論理回
路と接続する遠隔用可変配線回路および比較的近傍に配
置されている論理回路と接続する近接用可変配線回路が
配置されていることを特徴とする請求項4に記載の論理
集積回路。
5. A variable wiring circuit arranged around the logic circuit is connected to a logic circuit arranged at a relatively distant position, and a variable wiring circuit for remote connection and a logic arranged relatively close to the variable wiring circuit. The logic integrated circuit according to claim 4, wherein a proximity variable wiring circuit connected to the circuit is arranged.
【請求項6】 上記論理回路は、メモリセルと、このメ
モリセルの記憶情報にしたがってオン状態またはオフ状
態が決定される1または2以上の第1トランジスタと、
該第1トランジスタと直列に接続され入力信号によって
オンまたはオフされる第2トランジスタと、上記第1お
よび第2トランジスタの状態に応じた電位を発生する第
3トランジスタと、発生された電位を選択信号に応じて
出力端子に伝達もしくは遮断する伝送手段とにより構成
された可変論理回路からなることを特徴とする請求項4
または5に記載の論理集積回路。
6. The logic circuit comprises: a memory cell; one or more first transistors whose on-state or off-state is determined according to the stored information of the memory cell;
A second transistor connected in series with the first transistor and turned on or off by an input signal, a third transistor that generates a potential according to the states of the first and second transistors, and a generated potential selection signal 5. A variable logic circuit configured by a transmission means for transmitting or blocking to an output terminal according to the above.
Or the logic integrated circuit described in 5.
【請求項7】 上記メモリセルおよび第1トランジスタ
をそれぞれ偶数個備えるとともに上記第3トランジスタ
は上記第1トランジスタの半数とされ、第1トランジス
タは2個ずつ対をなして上記第3トランジスタの一つに
それぞれ共通に接続されてなることを特徴とする請求項
6に記載の論理集積回路。
7. The memory cell and the first transistor are each provided in an even number, and the third transistors are half the number of the first transistors, and two first transistors are paired to form one of the third transistors. 7. The logic integrated circuit according to claim 6, wherein the logic integrated circuit is commonly connected to the logic integrated circuits.
【請求項8】 上記対をなす第1トランジスタのそれぞ
れに直列接続された第2トランジスタのうち一方には入
力信号がまた他方には入力信号の反転信号が供給される
ように構成されてなることを特徴とする請求項7に記載
の論理集積回路。
8. An input signal is supplied to one of the second transistors connected in series to each of the pair of first transistors, and an inverted signal of the input signal is supplied to the other. The logic integrated circuit according to claim 7, wherein:
【請求項9】 上記第1および第2トランジスタはNチ
ャネルMOSFETからなり、上記第3トランジスタは
PチャネルMOSFETからなることを特徴とする請求
項6、7または8に記載の論理集積回路。
9. The logic integrated circuit according to claim 6, wherein the first and second transistors are N-channel MOSFETs, and the third transistor is a P-channel MOSFET.
【請求項10】 上記第3トランジスタのゲート端子に
は接地電位が印加されて負荷抵抗として作用するように
構成されてなることを特徴とする請求項9に記載の論理
集積回路。
10. The logic integrated circuit according to claim 9, wherein a ground potential is applied to a gate terminal of the third transistor so as to act as a load resistance.
【請求項11】 上記第3トランジスタは直列形態の2
個のPチャネルMOSFETからなり、これらのMOS
FETのゲート端子には対応するメモリセルの記憶情報
に応じた電圧が印加されるように構成されてなることを
特徴とする請求項9に記載の論理集積回路。
11. The third transistor is a series type transistor.
Consisting of P-channel MOSFETs, these MOS
10. The logic integrated circuit according to claim 9, wherein the gate terminal of the FET is configured to be applied with a voltage according to the stored information of the corresponding memory cell.
【請求項12】 上記メモリセルはスタティック型メモ
リセルからなり、該メモリセルを選択するための選択信
号線とメモリセルへ書き込むべきデータを供給するため
のデータ信号線とが互いに直交する方向に配設されてな
ることを特徴とする請求項6、7、8、9、10または
11に記載の論理集積回路。
12. The memory cell comprises a static memory cell, and a selection signal line for selecting the memory cell and a data signal line for supplying data to be written to the memory cell are arranged in directions orthogonal to each other. The logic integrated circuit according to claim 6, 7, 8, 9, 10 or 11, wherein the logic integrated circuit is provided.
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KR1019960039287A KR970017625A (en) 1995-09-14 1996-09-11 Variable wiring circuit and semiconductor integrated circuit device using the same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP5289559B2 (en) * 2009-03-26 2013-09-11 株式会社東芝 Nonvolatile programmable logic switch

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