JPH0980499A - Image blur correcting device - Google Patents
Image blur correcting deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、カメラ等におい
て手ブレ等による像ブレを補正する像ブレ補正装置に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image blur correction device for correcting image blur caused by camera shake in a camera or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のこの種の像ブレ補正装置として、
撮影時にカメラが振動することにより生じる像ブレを補
正するために、撮影光学系の一部の光学系(ブレ補正光
学系)を、光軸と略垂直な方向に移動させる等して、撮
影光学系の光軸を変化させるものが知られている。図1
1は、従来の像ブレ補正装置の一例を示す断面図であ
る。ブレ補正光学系10は、鏡筒21により保持されて
いる。鏡筒21の近傍には、電磁的アクチュエータが配
置されている。電磁的アクチュエータは、鏡筒21すな
わちブレ補正光学系10を駆動させるためのものであ
る。電磁的アクチュエータは、磁石12と、ヨーク13
と、コイル14等とから構成されている。このコイル1
4に電流が流されることによって、電磁的アクチュエー
タは、電磁力を発生し、鏡筒21を駆動する。2. Description of the Related Art As a conventional image blur correction device of this type,
In order to correct the image blur caused by the vibration of the camera at the time of shooting, some optical system of the shooting optical system (shake correction optical system) is moved in a direction substantially perpendicular to the optical axis, and It is known to change the optical axis of the system. FIG.
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a conventional image blur correction device. The blur correction optical system 10 is held by a lens barrel 21. An electromagnetic actuator is arranged near the lens barrel 21. The electromagnetic actuator is for driving the lens barrel 21, that is, the shake correction optical system 10. The electromagnetic actuator includes a magnet 12 and a yoke 13.
And the coil 14 and the like. This coil 1
By causing a current to flow through the electromagnetic actuator 4, the electromagnetic actuator generates an electromagnetic force to drive the lens barrel 21.
【0003】また、像ブレ補正装置には、ブレ補正光学
系10の位置を検出するための位置検出装置が設けられ
ている。位置検出装置は、スリット16と、発光素子
(IRED)17と、受光素子(PSD)18等とから
構成されている。スリット16は、鏡筒21と一体で設
けられ、その一部に光が透過可能な穴が形成されたもの
である。そして、このスリット16を挟んで、発光素子
17と受光素子18とが対向して配置されている。発光
素子17は、固定部材100に取り付けられている。発
光素子17から投光されると、光はスリット16を通過
して受光素子18に入射される。これにより、スリット
16の動き、すなわちブレ補正光学系10の動きが、受
光素子18に入射する光の動きとなる。Further, the image blur correction device is provided with a position detection device for detecting the position of the blur correction optical system 10. The position detecting device is composed of a slit 16, a light emitting element (IRED) 17, a light receiving element (PSD) 18, and the like. The slit 16 is provided integrally with the lens barrel 21, and a hole through which light can be transmitted is formed in a part thereof. The light emitting element 17 and the light receiving element 18 are arranged so as to face each other with the slit 16 interposed therebetween. The light emitting element 17 is attached to the fixing member 100. When the light is emitted from the light emitting element 17, the light passes through the slit 16 and is incident on the light receiving element 18. As a result, the movement of the slit 16, that is, the movement of the blur correction optical system 10 becomes the movement of the light incident on the light receiving element 18.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来の
像ブレ補正装置では、以下の課題があった。第1に、発
光素子17に電流を流すため、ビニール線やフレキシブ
ルプリント基板(FPC)等を発光素子17に接続しな
ければならず、配線部材に多くの部品を用いなければな
らないので、構造が複雑になるという問題があった。さ
らに、組立作業がやりにくくなり、また、部品点数が多
いことから故障率が増加するという問題があった。However, the above-mentioned conventional image blur correction device has the following problems. First, in order to pass a current through the light emitting element 17, a vinyl line, a flexible printed circuit board (FPC) or the like must be connected to the light emitting element 17, and many parts must be used for the wiring member. There was a problem that it became complicated. Further, there is a problem that the assembling work becomes difficult and the failure rate increases due to the large number of parts.
【0005】第2に、以下の問題がある。図12は、位
置検出装置の透過光の様子を示す図である。受光素子1
8は、受光面上のスリット光の重心位置に応じて電流を
出力し、それを演算することによってブレ補正光学系1
0の位置を検出する。図12において、D1 は、発光素
子17と受光素子18との間の距離であり、D2 は、ス
リット16と受光素子18との間の距離である。スリッ
ト16が発光素子17の真下にあるとき、すなわちブレ
補正光学系10が駆動中心位置にあるときは、受光素子
18の位置出力とスリット16の中心位置とは一致する
(図中(a))。しかし、ブレ補正光学系10が駆動さ
れスリット16が発光素子17の真下からずれると、ス
リット16の位置と受光素子18の位置出力とは一致し
なくなり、δx1 だけ誤差を生じる(図中(b))。こ
の誤差は、 (数1)δx1 =D2 ・x/(D1 −D2 ) となる。従って、スリット16の移動量xに比例してδ
x1 が大きくなる。Secondly, there are the following problems. FIG. 12 is a diagram showing a state of transmitted light of the position detection device. Light receiving element 1
Reference numeral 8 outputs an electric current according to the position of the center of gravity of the slit light on the light receiving surface, and calculates the electric current to obtain the shake correction optical system 1
The position of 0 is detected. In FIG. 12, D1 is the distance between the light emitting element 17 and the light receiving element 18, and D2 is the distance between the slit 16 and the light receiving element 18. When the slit 16 is directly below the light emitting element 17, that is, when the shake correction optical system 10 is at the drive center position, the position output of the light receiving element 18 and the center position of the slit 16 match ((a) in the figure). . However, when the blur correction optical system 10 is driven and the slit 16 is displaced from directly below the light emitting element 17, the position of the slit 16 and the position output of the light receiving element 18 do not match, and an error of δx1 occurs ((b) in the figure) ). This error is given by (Equation 1) .delta.x1 = D2.multidot.x / (D1-D2). Therefore, δ is proportional to the movement amount x of the slit 16.
x1 becomes large.
【0006】図13は、位置検出装置における、スリッ
ト16の移動量xに対する受光素子18の位置出力を示
したグラフであり、ブレ補正光学系10の駆動中心位置
を原点にとっている。また、点線は、スリット16の中
心の動きを示したものである。図13において、有効ス
トロークと示している範囲では、スリット16の移動量
と受光素子18の位置出力は比例しており、このストロ
ーク内では精度よく位置検出を行うことができる。ま
た、スリット16の移動量xが大きくなると発光素子1
7からの光がスリット16の厚みによりけられ、移動量
がさらに大きくなるとスリット光が受光素子18から外
れてしまうため、スリット16の移動量xに対して受光
素子18の位置出力が比例しなくなる。そのため、グラ
フでもxが大きい部分は歪んでしまっている。FIG. 13 is a graph showing the position output of the light receiving element 18 with respect to the movement amount x of the slit 16 in the position detecting device, and the drive center position of the shake correction optical system 10 is taken as the origin. The dotted line shows the movement of the center of the slit 16. In the range shown as an effective stroke in FIG. 13, the amount of movement of the slit 16 and the position output of the light receiving element 18 are proportional, and position detection can be performed accurately within this stroke. Further, when the movement amount x of the slit 16 increases, the light emitting element 1
The light from 7 is eclipsed by the thickness of the slit 16, and when the amount of movement is further increased, the slit light is deviated from the light receiving element 18, so that the position output of the light receiving element 18 is not proportional to the movement amount x of the slit 16. . Therefore, even in the graph, the part where x is large is distorted.
【0007】従来例で示した像ブレ補正装置では、構造
上、D1 を長くすることができなかった。そのため、ス
リット16の移動量xがあまり大きくならないうちにス
リット光が受光素子18から外れてしまう。また、D1
が小さいとスリット16の厚みによる光のけられの影響
が大きくなる。以上のことから、D1 が小さいと図中の
有効ストロークが、ブレ補正光学系10の駆動中心位置
付近の狭い範囲に限られてしまうという問題があった。
これにより、ブレ補正光学系10の駆動量が大きい場合
に、ブレ補正光学系10の位置を正確に検出することが
できず、精度をあげることができないという問題があっ
た。一方、ブレ補正光学系10の駆動量が少ないと、補
正できる範囲が小さくなり、像ブレ補正効果が低下する
という問題があった。In the image blur correction device shown in the conventional example, D1 cannot be lengthened due to its structure. Therefore, the slit light is deviated from the light receiving element 18 before the movement amount x of the slit 16 becomes too large. Also, D1
When is small, the influence of the light shading due to the thickness of the slit 16 becomes large. From the above, there is a problem that when D1 is small, the effective stroke in the figure is limited to a narrow range near the drive center position of the shake correction optical system 10.
As a result, when the drive amount of the shake correction optical system 10 is large, the position of the shake correction optical system 10 cannot be accurately detected, and the accuracy cannot be increased. On the other hand, when the drive amount of the blur correction optical system 10 is small, the correction range becomes small and the image blur correction effect is deteriorated.
【0008】本発明の課題は、第1に、電気的接続を単
純化して、構造を簡素化することにある。第2に、発光
素子と受光素子との間の距離を長くした構造にすること
で、高精度に像ブレ補正を行うことにある。An object of the present invention is, firstly, to simplify the electrical connection and simplify the structure. Secondly, a structure in which the distance between the light emitting element and the light receiving element is long is used to perform image blur correction with high accuracy.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、請求項1の発明は、振動により発生する像ブレを
補正するために、撮影光学系の光軸を変化させるように
移動可能なブレ補正光学系と、電気信号を伝達するため
のパターンを有する基板と、前記ブレ補正光学系の位置
を検出する位置検出部とを備える像ブレ補正装置であっ
て、前記位置検出部の少なくとも一部の構成部材は、前
記基板上に設けられ、前記基板上の前記パターンと電気
的に接続されていることを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, the invention of claim 1 is movable so as to change the optical axis of the photographing optical system in order to correct the image blur caused by the vibration. An image blur correction device comprising: a blur correction optical system; a substrate having a pattern for transmitting an electric signal; and a position detection unit that detects the position of the blur correction optical system, wherein at least the position detection unit. Some of the constituent members are provided on the substrate and are electrically connected to the pattern on the substrate.
【0010】請求項2の発明は、請求項1に記載の像ブ
レ補正装置において、前記位置検出部は、発光素子と受
光素子とにより光学的に前記ブレ補正光学系の位置を検
出するものであり、前記発光素子又は前記受光素子の一
方は、前記基板上に設けられ、前記基板上の前記パター
ンと電気的に接続されていることを特徴とする。請求項
3の発明は、請求項1又は請求項2に記載の像ブレ補正
装置において、磁性体とコイルとにより、前記ブレ補正
光学系を駆動するための電磁力を発生する駆動力発生部
と、導電性を有する弾性材料から形成され、前記ブレ補
正光学系を支持するとともに、前記基板上の前記パター
ンと前記駆動力発生部の前記コイルとの間を連結するよ
うに取り付けられた支持部材とを備えることを特徴とす
る。According to a second aspect of the present invention, in the image blur correction device according to the first aspect, the position detection section optically detects the position of the blur correction optical system by a light emitting element and a light receiving element. One of the light emitting element and the light receiving element is provided on the substrate and is electrically connected to the pattern on the substrate. According to a third aspect of the present invention, in the image blur correction device according to the first or second aspect, a drive force generation unit that generates an electromagnetic force for driving the blur correction optical system by a magnetic body and a coil is provided. A supporting member which is formed of an elastic material having conductivity and which is mounted so as to support the shake correction optical system and to connect the pattern on the substrate and the coil of the driving force generating unit. It is characterized by including.
【0011】請求項4の発明は、請求項3に記載の像ブ
レ補正装置において、前記基板と前記ブレ補正光学系と
の間に配置され、前記駆動力発生部の前記磁性体を取り
付けるための取付板を備え、前記基板は、前記取付板に
固定されており、前記基板に取り付けられた前記駆動力
発生部の前記構成部材は、前記取付板に形成された開口
部内に配置されていることを特徴とする。請求項5の発
明は、請求項3又は請求項4に記載の像ブレ補正装置に
おいて、前記基板上には、前記駆動力発生部のドライバ
回路が設けられていることを特徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, in the image blur correction apparatus according to the third aspect, the image blur correction apparatus is disposed between the substrate and the blur correction optical system, and is for attaching the magnetic body of the driving force generating section. A mounting plate is provided, the substrate is fixed to the mounting plate, and the constituent members of the driving force generation unit mounted on the substrate are arranged in an opening formed in the mounting plate. Is characterized by. According to a fifth aspect of the present invention, in the image blur correction device according to the third or fourth aspect, a driver circuit for the driving force generation unit is provided on the substrate.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、図面等を参照して、本発明
の一実施形態について説明する。図1は、本発明による
像ブレ補正装置の第1の実施形態を示す分解斜視図であ
る。図1において、像ブレ補正装置は、ブレ補正光学系
10と、駆動力発生部(12,13,14,15)と、
位置検出部(16,17,18)等とから構成されてい
る。ブレ補正光学系10は、光軸に略垂直な方向に移動
して、撮影時の像ブレを補正するレンズ群である。ブレ
補正光学系10は、鏡筒21に保持されている。この鏡
筒21には、ブレ補正光学系10の外周を略90゜間隔
で囲むように、4本の支持棒11a〜11dが取り付け
られている。支持棒11は、導電率の高い弾性材料から
形成されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an exploded perspective view showing a first embodiment of an image blur correction device according to the present invention. In FIG. 1, an image blur correction device includes a blur correction optical system 10, a driving force generation unit (12, 13, 14, 15),
It is composed of a position detector (16, 17, 18) and the like. The blurring correction optical system 10 is a lens group that moves in a direction substantially perpendicular to the optical axis to correct image blurring during shooting. The blur correction optical system 10 is held by a lens barrel 21. Four support rods 11a to 11d are attached to the lens barrel 21 so as to surround the outer periphery of the shake correction optical system 10 at intervals of approximately 90 °. The support rod 11 is made of an elastic material having high conductivity.
【0013】駆動力発生部は、電磁力によってブレ補正
光学系10を駆動させるため、駆動力を発生するもので
ある。駆動力発生部は、ヨーク13,15と、磁石12
と、コイル14とから構成されている。さらに、これら
の構成部材は、ブレ補正光学系10をX軸方向に駆動さ
せるためのヨーク13a,15a、磁石12a、及びコ
イル14aと、Y軸方向に駆動させるためのヨーク13
b,15b、磁石12b、及びコイル14bとに分けら
れている。The driving force generating portion drives the blur correction optical system 10 by an electromagnetic force and therefore generates a driving force. The driving force generator includes the yokes 13 and 15 and the magnet 12
And a coil 14. Further, these constituent members include the yokes 13a and 15a for driving the shake correction optical system 10 in the X-axis direction, the magnet 12a, and the coil 14a, and the yoke 13 for driving the Y-axis direction.
b, 15b, the magnet 12b, and the coil 14b.
【0014】図2は、ブレ補正光学系10と鏡筒21等
を詳細に示す平面図である。図2において、コイル14
は、鏡筒21に取り付けられている。そして、コイル1
4aと14bとは、略90゜ずれて(略直交する方向
に)配置されている。鏡筒21には、コイル14と電気
的に接続された導線部14a−1、14a−2、14b
−1、及び14b−2が設けられており、これらの端末
と、支持棒11a〜11dとがそれぞれ電気的に接続さ
れている。FIG. 2 is a plan view showing in detail the blur correction optical system 10, the lens barrel 21, and the like. In FIG. 2, the coil 14
Are attached to the lens barrel 21. And coil 1
4a and 14b are arranged so as to deviate from each other by approximately 90 ° (in a direction substantially orthogonal to each other). The lens barrel 21 includes conductor portions 14a-1, 14a-2, and 14b electrically connected to the coil 14.
-1, and 14b-2 are provided, and these terminals and the support rods 11a to 11d are electrically connected, respectively.
【0015】図1において、ブレ補正光学系10の光軸
方向の両側には、それぞれ天板19と底板20とが配置
されている。天板19には、ヨーク15が取り付けられ
ている。また、底板20には、磁石12及びヨーク13
が取り付けられている。そして、これらの磁石12、ヨ
ーク13,15は、コイル14と適宜の間隔を介して対
向配置されるようになっている。In FIG. 1, a top plate 19 and a bottom plate 20 are arranged on both sides of the shake correction optical system 10 in the optical axis direction. A yoke 15 is attached to the top plate 19. The bottom plate 20 also has a magnet 12 and a yoke 13.
Is attached. The magnet 12 and the yokes 13 and 15 are arranged to face the coil 14 with an appropriate gap.
【0016】位置検出部は、発光素子17(IRED)
及び受光素子18(PSD)と、スリット16とから構
成されている。スリット16は、発光素子17から出射
された光を透過可能な穴が形成されたものである。スリ
ット16a,16bは、それぞれ鏡筒21と一体で設け
られており、光軸回りに、略90゜ずれて配置されてい
る(図2参照)。発光素子17は、基板30に固定され
ている。また、受光素子18は、底板20に固定されて
いる。発光素子17と受光素子18とは、スリット16
を介して対向配置されている。The position detector is a light emitting device 17 (IRED).
And a light receiving element 18 (PSD) and a slit 16. The slit 16 is formed with a hole through which the light emitted from the light emitting element 17 can be transmitted. The slits 16a and 16b are provided integrally with the lens barrel 21, respectively, and are arranged at an angle of about 90 ° around the optical axis (see FIG. 2). The light emitting element 17 is fixed to the substrate 30. The light receiving element 18 is fixed to the bottom plate 20. The light emitting element 17 and the light receiving element 18 include the slit 16
Are arranged opposite to each other.
【0017】天板19の外側(ブレ補正光学系10と反
対側)には、基板30が配置されている。図3は、基板
30を詳細に示す平面図である。基板30と天板19と
は、ネジ40a〜40dによってネジ結合されている。
基板30の一端部には、導電体端子33(33a〜33
d)及び37(37a〜37d)が接着されている。そ
して、基板30には、この導電体端子33及び37とそ
れぞれ電気的に接続されたパターン32(32a〜32
d)及び36(36a〜36d)が形成されている。パ
ターン32及び36は、電気信号を伝達するためのもの
であり、パターン32及び36の他端部には、それぞれ
穴31a〜31d、及び穴35a〜35dが形成されて
いる。そして、この穴31a〜31dにそれぞれ支持棒
11a〜11dが通してハンダ付けされ、固定される。
従って、支持棒11とパターン32とが電気的に接続さ
れる。これにより、導電体端子33に供給された電気信
号は、基板30のパターン32、支持棒11、及び導線
部14a−1、14a−2、14b−1、及び14b−
2を通り、コイル14に伝達される。A substrate 30 is arranged outside the top plate 19 (on the side opposite to the shake correction optical system 10). FIG. 3 is a plan view showing the substrate 30 in detail. The substrate 30 and the top plate 19 are screwed together by screws 40a to 40d.
The conductor terminal 33 (33a to 33) is provided at one end of the substrate 30.
d) and 37 (37a to 37d) are adhered. Then, on the substrate 30, patterns 32 (32 a to 32) electrically connected to the conductor terminals 33 and 37, respectively.
d) and 36 (36a to 36d) are formed. The patterns 32 and 36 are for transmitting electric signals, and holes 31a to 31d and holes 35a to 35d are formed at the other ends of the patterns 32 and 36, respectively. Then, the support rods 11a to 11d are passed through the holes 31a to 31d, respectively, and soldered and fixed.
Therefore, the support rod 11 and the pattern 32 are electrically connected. As a result, the electrical signal supplied to the conductor terminal 33 is transmitted to the pattern 32 of the substrate 30, the support rod 11, and the conductor portions 14a-1, 14a-2, 14b-1, and 14b-.
2 is transmitted to the coil 14.
【0018】また、穴35a及び35bに発光素子17
aが、穴35c及び35dに発光素子17bがハンダ付
けされ、固定される。従って、発光素子17とパターン
35とが電気的に接続される。これにより、導電体端子
37に供給された電気信号は、基板30のパターン35
を通り、発光素子17に伝達される。従って、以上のよ
うな構成により、多くの配線部材を用いず、部品点数を
削減して、構造を簡素化し、組立を簡易にした上で、コ
イル14及び発光素子17に電子信号を伝達することが
できるようになる。また、部品点数を少なくすることか
ら、故障率を低下させることができる。Further, the light emitting element 17 is provided in the holes 35a and 35b.
The light emitting element 17b is fixed by soldering the light emitting element 17b to the holes 35c and 35d. Therefore, the light emitting element 17 and the pattern 35 are electrically connected. As a result, the electric signal supplied to the conductor terminal 37 is transmitted to the pattern 35 of the substrate 30.
And is transmitted to the light emitting element 17. Therefore, with the above configuration, many wiring members are not used, the number of parts is reduced, the structure is simplified, and the assembly is facilitated, and then the electronic signal is transmitted to the coil 14 and the light emitting element 17. Will be able to. Moreover, since the number of parts is reduced, the failure rate can be reduced.
【0019】基板30の導電体端子33a,33bに電
気信号が供給されると、コイル14aに伝達され、駆動
力発生部のヨーク13a,15a、磁石12a、及びコ
イル14aにより発生する電磁力により、ブレ補正光学
系10は、X軸方向に駆動される。同様に、基板30の
導電体端子33c,33dに電気信号が供給されると、
コイル14bに伝達され、駆動力発生部のヨーク13
b,15b、磁石12b、及びコイル14bにより発生
する電磁力により、ブレ補正光学系10は、Y軸方向に
駆動される。すなわち、ブレ補正光学系10は、光軸に
略垂直方向に駆動され、像ブレが補正される。When an electric signal is supplied to the conductor terminals 33a and 33b of the substrate 30, the electric signal is transmitted to the coil 14a, and the electromagnetic force generated by the yokes 13a and 15a of the driving force generating portion, the magnet 12a, and the coil 14a causes The shake correction optical system 10 is driven in the X-axis direction. Similarly, when an electric signal is supplied to the conductor terminals 33c and 33d of the substrate 30,
It is transmitted to the coil 14b, and the yoke 13 of the driving force generator is generated.
The shake correction optical system 10 is driven in the Y-axis direction by the electromagnetic force generated by b, 15b, the magnet 12b, and the coil 14b. That is, the blur correction optical system 10 is driven in a direction substantially perpendicular to the optical axis to correct the image blur.
【0020】なお、基板30と天板19との支持棒11
が固定されている近傍は、ネジ40によって固定されて
いる。このようにすれば、支持棒11が固定されている
位置においては、基板30は天板19と密着する。これ
により、各支持棒11a〜11dのそれぞれの有効長が
等しくなる。従って、ブレ補正光学系10が移動して
も、ブレ補正光学系10の傾きを防止することができ、
光学性能を良好に保つことができる。像ブレ補正装置を
量産した場合において、基板30の歪みにばらつきがあ
っても、光学性能のばらつきをなくすことができる。The support rod 11 for supporting the substrate 30 and the top plate 19
The vicinity where is fixed is fixed by a screw 40. In this way, the substrate 30 is in close contact with the top plate 19 at the position where the support rod 11 is fixed. As a result, the effective lengths of the support bars 11a to 11d become equal. Therefore, even if the shake correction optical system 10 moves, the tilt of the shake correction optical system 10 can be prevented,
The optical performance can be kept good. When the image blur correction device is mass-produced, even if the distortion of the substrate 30 varies, the variation in optical performance can be eliminated.
【0021】ブレ補正光学系10のX軸方向の動きは、
位置検出部の発光素子17a、スリット16a、及び受
光素子18aにより検出される。すなわち、発光素子1
7aから出射された光は、スリット16aを通過して、
受光素子18aに入射する。受光素子18aは、スリッ
ト16aを通過した光の重心位置を検出し、これに応じ
て電流を出力する。同様に、ブレ補正光学系10のY軸
方向の動きは、位置検出部の発光素子17b、スリット
16b、及び受光素子18bにより検出される。The movement of the blur correction optical system 10 in the X-axis direction is
The light is detected by the light emitting element 17a, the slit 16a, and the light receiving element 18a of the position detector. That is, the light emitting element 1
The light emitted from 7a passes through the slit 16a,
It is incident on the light receiving element 18a. The light receiving element 18a detects the position of the center of gravity of the light passing through the slit 16a, and outputs a current accordingly. Similarly, the movement of the shake correction optical system 10 in the Y-axis direction is detected by the light emitting element 17b, the slit 16b, and the light receiving element 18b of the position detector.
【0022】図4は、図3の中心線で切断した断面を示
す像ブレ補正装置の断面図である。天板19には、発光
素子17が入り込むための穴が設けられている。さら
に、底板20には、受光素子18が入り込む穴が設けら
れており、この穴の中に受光素子18が配置されてい
る。従って、このような構造にすることで、発光素子1
7と受光素子18との間の距離D1 ’を、従来例におけ
る距離D1 (図11)と比較して、長くすることができ
る。図5は、本実施形態における位置検出装置の透過光
の様子を示す図であり、従来例での図12に相当するも
のである。上述したように、図5と図12とを比較する
と、D1 ’>D1 である。また、D2 は、本実施形態と
従来例とでほとんど変化がないため、(数1)から、δ
x1 ’<δx1 となる。FIG. 4 is a sectional view of the image blur correction device showing a section taken along the center line of FIG. The top plate 19 is provided with a hole into which the light emitting element 17 is inserted. Further, the bottom plate 20 is provided with a hole into which the light receiving element 18 is inserted, and the light receiving element 18 is arranged in this hole. Therefore, with such a structure, the light emitting element 1
The distance D1 'between 7 and the light receiving element 18 can be made longer than the distance D1 (FIG. 11) in the conventional example. FIG. 5 is a diagram showing a state of transmitted light of the position detecting device in the present embodiment, and corresponds to FIG. 12 in the conventional example. As described above, comparing FIG. 5 with FIG. 12, D1 '> D1. Further, since D2 hardly changes between this embodiment and the conventional example, from (Equation 1),
x1 '<δx1.
【0023】従って、スリット16の移動量をxとした
場合、x+δx1 ’<x+δx1 となる。これにより、
従来の位置検出装置では、スリット光が受光素子18か
ら外れてしまい、位置検出ができなくなってしまうよう
な移動量xでも、本実施形態の位置検出装置では、スリ
ット光が受光素子18上から外れず、位置検出が可能と
なる。また、発光素子17〜受光素子18間が長いた
め、スリット16の厚みによる光線のけられの影響も少
なくすることができる。Therefore, when the movement amount of the slit 16 is x, x + δx1 '<x + δx1. This allows
In the conventional position detecting device, even if the amount of movement x is such that the slit light is deviated from the light receiving element 18 and the position cannot be detected, in the position detecting device of the present embodiment, the slit light is removed from the light receiving element 18. The position can be detected. Further, since the distance between the light emitting element 17 and the light receiving element 18 is long, it is possible to reduce the influence of the beam eclipse due to the thickness of the slit 16.
【0024】図6は、本実施形態の位置検出装置におけ
る、スリット16の移動量xに対する受光素子18の位
置出力を示したグラフであり、従来例での図13に相当
するものである。従来例のものと比較して、発光素子1
7〜受光素子18間を長くすることができるため、(数
1)のδx1 を小さくし、かつスリット16の厚みによ
る光のけられの影響を少なくすることができる。その結
果、有効ストロークを広くすることができる。これによ
り、ブレ補正光学系10の移動量を大きくすることがで
きる。また、従来では補正しきれなかったような大きな
ブレも補正することができるようになり、像ブレ補正効
果を高めることができる。FIG. 6 is a graph showing the position output of the light receiving element 18 with respect to the movement amount x of the slit 16 in the position detecting device of this embodiment, and corresponds to FIG. 13 in the conventional example. Light-emitting element 1 compared to the conventional example
Since the distance between 7 and the light receiving element 18 can be lengthened, δx1 in (Equation 1) can be reduced, and the influence of light eclipse due to the thickness of the slit 16 can be reduced. As a result, the effective stroke can be widened. As a result, the amount of movement of the blur correction optical system 10 can be increased. Further, it becomes possible to correct even a large blurring that could not be corrected in the past, and the image blurring correction effect can be enhanced.
【0025】図7は、本発明による像ブレ補正装置の第
2の実施形態における基板30’を示す表面図及び裏面
図である。基板30’は、両面にパターンが形成された
両面基板である。図7において、第1の実施形態の基板
30(図3)と同一部分には、同一符合を付している。
導電体端子35a’〜35d’は、発光素子17を実装
するための端子である。このような両面基板を使用する
ことにより、チップ型の発光素子17を使用することが
可能となる。第2の実施形態では、導電体端子35a’
〜35d’に、チップ型の発光素子が直接ハンダ付けさ
れる。FIG. 7 is a front view and a back view showing a substrate 30 'in the second embodiment of the image blur correction device according to the present invention. The substrate 30 'is a double-sided substrate having a pattern formed on both sides. In FIG. 7, the same parts as those of the substrate 30 (FIG. 3) of the first embodiment are designated by the same reference numerals.
The conductor terminals 35a ′ to 35d ′ are terminals for mounting the light emitting element 17. By using such a double-sided substrate, the chip type light emitting element 17 can be used. In the second embodiment, the conductor terminal 35a '.
A chip type light emitting element is directly soldered to ~ 35d '.
【0026】図8は、本発明による像ブレ補正装置の第
3の実施形態を示す分解斜視図である。第3の実施形態
において、第1の実施形態(図1)と異なる部分は、発
光素子17が底板20側に取り付けられ、受光素子18
が基板30’’に取り付けられていることである。図9
は、図8の基板30’’を示す表面図及び裏面図であ
る。基板30’’は、両面にパターンが形成された両面
基板である。図9において、第1の実施形態での基板3
0(図3)と同一部分には、同一符合を付している。基
板30’’には、導電体端子45a〜45hが設けられ
ている。導電体端子45a〜45dには受光素子18b
が、導電体端子45e〜45hには受光素子18aが、
それぞれハンダ付けされる。導電体端子45b及び45
cは、それぞれパターン46b及び46cを介して導電
体端子47b及び47cと電気的に接続されている。同
様に、導電体端子45f及び45hは、それぞれパター
ン46f及び46hを介して導電体端子47f及び47
hと電気的に接続されている。また、導電体端子45d
及び45gは、双方ともパターン46dを介して導電体
端子48と電気的に接続されている。FIG. 8 is an exploded perspective view showing a third embodiment of the image blur correction device according to the present invention. The third embodiment is different from the first embodiment (FIG. 1) in that the light emitting element 17 is attached to the bottom plate 20 side and the light receiving element 18 is provided.
Is attached to the substrate 30 ″. FIG.
FIG. 9A is a front view and a rear view showing the substrate 30 ″ of FIG. The substrate 30 ″ is a double-sided substrate having a pattern formed on both sides. In FIG. 9, the substrate 3 according to the first embodiment
The same parts as 0 (FIG. 3) are denoted by the same reference numerals. Conductor terminals 45a to 45h are provided on the substrate 30 ″. The light receiving element 18b is attached to the conductor terminals 45a to 45d.
However, the light receiving element 18a is attached to the conductor terminals 45e to 45h,
Each is soldered. Conductor terminals 45b and 45
c is electrically connected to the conductor terminals 47b and 47c via the patterns 46b and 46c, respectively. Similarly, the conductor terminals 45f and 45h are connected to the conductor terminals 47f and 47h via the patterns 46f and 46h, respectively.
It is electrically connected to h. Also, the conductor terminal 45d
And 45g are both electrically connected to the conductor terminal 48 through the pattern 46d.
【0027】導電体端子45b及び45cには受光素子
18bのアノードが、導電体端子45f及び45hには
受光素子18aのアノードが、それぞれハンダ付けされ
る。受光素子18は、受光面上のスリット光の位置に応
じてアノードから電流を出力する。この基板30’’で
は受光素子18のアノードと導電体端子47とが電気的
に接続されているため、導電体端子47から受光素子1
8の出力を読むことができる。また、導電体端子45a
及び45dには受光素子18bのカソードが、導電体端
子45e及び45gには受光素子18aのカソードがハ
ンダ付けされる。このうち、導電体端子45d及び45
gに取り付けられたカソードは、導電体端子48に共通
化して接続してあり、導電体端子48から二つの受光素
子18a及び18bにバイアス電圧をかけることができ
る。なお、受光素子18a及び18bのカソードは、共
通化せず、それぞれ別々にバイアス電圧をかけても良
い。The anode of the light receiving element 18b is soldered to the conductor terminals 45b and 45c, and the anode of the light receiving element 18a is soldered to the conductor terminals 45f and 45h. The light receiving element 18 outputs a current from the anode according to the position of the slit light on the light receiving surface. Since the anode of the light receiving element 18 and the conductor terminal 47 are electrically connected to each other on the substrate 30 '', the light receiving element 1 is connected to the light receiving element 1 from the conductor terminal 47.
You can read 8 outputs. In addition, the conductor terminal 45a
And 45d are soldered to the cathode of the light receiving element 18b, and the conductor terminals 45e and 45g are soldered to the cathode of the light receiving element 18a. Of these, the conductor terminals 45d and 45
The cathode attached to g is commonly connected to the conductor terminal 48, and a bias voltage can be applied from the conductor terminal 48 to the two light receiving elements 18a and 18b. The cathodes of the light receiving elements 18a and 18b may not be commonly used, and bias voltages may be separately applied to them.
【0028】このように、支持棒11と2つの受光素子
18a及び18bを同一の基板30’’に取り付けるこ
とにより、9本のパターンがのっているFPC1枚を導
電体端子33,47及び48に取り付けることで、ブレ
補正光学系10を駆動させ、かつ受光素子18回りの電
気的処理を行うことができるようになる。よって、従来
例と比較して像ブレ補正装置の部品点数が減り、故障を
少なくすることができる。As described above, by mounting the support rod 11 and the two light receiving elements 18a and 18b on the same substrate 30 '', one FPC having nine patterns is formed on the conductor terminals 33, 47 and 48. It becomes possible to drive the shake correction optical system 10 and to perform electrical processing around the light-receiving element 18 by mounting it on the. Therefore, as compared with the conventional example, the number of parts of the image blur correction device is reduced, and the number of failures can be reduced.
【0029】図10は、図9の中心線で切断した断面を
示す像ブレ補正装置の断面図である。図10中、図4と
同様のものには同一符合を付している。この実施形態で
は、スリット16と受光素子18との間の距離が第1の
実施形態と同程度となるように、第1の実施形態と鏡筒
21の形状が異なっている。これは、(数1)におい
て、D2 が長くなるとδx1 が大きくなり、有効ストロ
ークが狭くなることを防止するためである。図10にお
いて、基板30’’に取り付けられた受光素子18は、
天板19に形成された穴に入り込むように配置されてい
る。また、発光素子17は、底板20に形成された穴に
入り込むように配置されている。これにより、発光素子
17と受光素子18との間の距離D1 ’’を従来例と比
較して長くすることができる。従って、位置検出部の精
度を向上させ、ブレ補正光学系10の駆動量を大きくす
ることができる。その結果、従来技術では補正しきれな
かった大きなブレを補正することができるようになる。FIG. 10 is a sectional view of the image blur correction device showing a section taken along the center line of FIG. 10, those parts which are the same as those corresponding parts in FIG. 4 are designated by the same reference numerals. In this embodiment, the shape of the lens barrel 21 is different from that of the first embodiment so that the distance between the slit 16 and the light receiving element 18 is substantially the same as that of the first embodiment. This is to prevent δx1 from increasing as D2 becomes longer and the effective stroke from becoming narrower in (Equation 1). In FIG. 10, the light receiving element 18 attached to the substrate 30 '' is
It is arranged so as to enter a hole formed in the top plate 19. Further, the light emitting element 17 is arranged so as to enter a hole formed in the bottom plate 20. As a result, the distance D1 '' between the light emitting element 17 and the light receiving element 18 can be increased as compared with the conventional example. Therefore, it is possible to improve the accuracy of the position detection unit and increase the drive amount of the shake correction optical system 10. As a result, it becomes possible to correct a large blur that cannot be corrected by the conventional technique.
【0030】以上、本発明の一実施形態について説明し
たが、本発明は、上述した実施形態に限定されることな
く、均等の範囲内で以下のような種々の変形が可能であ
る。例えば、発光素子17、スリット16、及び受光素
子18とから構成される位置検出部は、光学的手段によ
るものであるが、この手段以外の手段により、位置を検
出するようにしても良い。例えば、MRセンサ等の磁気
センサを用いたものがある。また、像ブレ補正装置のス
ペースに余裕があれば、アクチュエータのドライバ回路
等を基板30等に固定しても良い。なお、本実施形態に
おける像ブレ補正装置は、カメラの他、他の撮影装置に
も適用することができる。The embodiment of the present invention has been described above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and the following various modifications are possible within an equivalent range. For example, the position detecting unit including the light emitting element 17, the slit 16, and the light receiving element 18 is an optical means, but the position may be detected by means other than this means. For example, there is one using a magnetic sensor such as an MR sensor. If the image blur correction device has enough space, the driver circuit of the actuator may be fixed to the substrate 30 or the like. It should be noted that the image blur correction device according to the present embodiment can be applied to other image capturing devices in addition to the camera.
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明によれば、多くの配線部材を用い
ず、部品点数を削減して、構造を簡素化し、組立を簡易
にすることができる。さらに、部品点数を少なくするこ
とから、故障率を低下させることができる。また、請求
項3の発明によれば、発光素子と受光素子との間の距離
を長くすることができるので、像ブレが大きい場合で
も、位置検出が可能となる。さらに、スリットの厚みに
よる光線のけられの影響も少なくすることができる。According to the present invention, many wiring members are not used, the number of parts can be reduced, the structure can be simplified, and the assembly can be simplified. Furthermore, since the number of parts is reduced, the failure rate can be reduced. Further, according to the third aspect of the invention, the distance between the light emitting element and the light receiving element can be increased, so that the position can be detected even when the image blur is large. Further, it is possible to reduce the influence of light beam eclipse due to the thickness of the slit.
【図1】本発明による像ブレ補正装置の第1の実施形態
を示す分解斜視図である。FIG. 1 is an exploded perspective view showing a first embodiment of an image blur correction device according to the present invention.
【図2】ブレ補正光学系10と鏡筒21等を詳細に示す
平面図である。FIG. 2 is a plan view showing in detail a blur correction optical system 10, a lens barrel 21 and the like.
【図3】基板30を詳細に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing the substrate 30 in detail.
【図4】図3の中心線で切断した断面を示す像ブレ補正
装置の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the image blur correction device showing a cross section taken along the center line of FIG.
【図5】図1の実施形態における位置検出装置の透過光
の様子を示す図である。5 is a diagram showing a state of transmitted light of the position detection device in the embodiment of FIG.
【図6】図1の実施形態の位置検出装置における、スリ
ット16の移動量xに対する受光素子18の位置出力を
示したグラフである。6 is a graph showing the position output of the light receiving element 18 with respect to the movement amount x of the slit 16 in the position detecting device of the embodiment of FIG.
【図7】本発明による像ブレ補正装置の第2の実施形態
における基板30’を示す表面図及び裏面図である。7A and 7B are a front view and a rear view showing a substrate 30 ′ in a second embodiment of the image blur correction device according to the present invention.
【図8】本発明による像ブレ補正装置の第3の実施形態
を示す分解斜視図である。FIG. 8 is an exploded perspective view showing a third embodiment of the image blur correction device according to the present invention.
【図9】図8の基板30’’を示す表面図及び裏面図で
ある。9 is a front view and a back view showing the substrate 30 ″ of FIG.
【図10】図9の中心線で切断した断面を示す像ブレ補
正装置の断面図である。10 is a cross-sectional view of the image blur correction device showing a cross section taken along the center line of FIG.
【図11】従来の像ブレ補正装置の一例を示す断面図で
ある。FIG. 11 is a sectional view showing an example of a conventional image blur correction device.
【図12】位置検出装置の透過光の様子を示す図であ
る。FIG. 12 is a diagram showing a state of transmitted light of a position detection device.
【図13】位置検出装置における、スリット16の移動
量xに対する受光素子18の位置出力を示したグラフで
ある。FIG. 13 is a graph showing the position output of the light receiving element 18 with respect to the movement amount x of the slit 16 in the position detecting device.
10 ブレ補正光学系 11 支持棒 12 磁石 13 ヨーク 14 コイル 15 ヨーク 16 スリット 17 発光素子 18 受光素子 19 天板 20 底板 21 鏡筒 30 基板 10 Shake Correction Optical System 11 Support Rod 12 Magnet 13 Yoke 14 Coil 15 Yoke 16 Slit 17 Light-Emitting Element 18 Light-Receiving Element 19 Top Plate 20 Bottom Plate 21 Lens Tube 30 Substrate
Claims (5)
めに、撮影光学系の光軸を変化させるように移動可能な
ブレ補正光学系と、 電気信号を伝達するためのパターンを有する基板と、 前記ブレ補正光学系の位置を検出する位置検出部とを備
える像ブレ補正装置であって、 前記位置検出部の少なくとも一部の構成部材は、前記基
板上に設けられ、前記基板上の前記パターンと電気的に
接続されていることを特徴とする像ブレ補正装置。1. A blur correction optical system that is movable so as to change the optical axis of a photographing optical system to correct an image blur caused by vibration, and a substrate having a pattern for transmitting an electric signal. An image blur correction device comprising a position detection unit that detects the position of the blur correction optical system, wherein at least a part of the component members of the position detection unit is provided on the substrate, and the pattern on the substrate is provided. An image blur correction device characterized in that it is electrically connected to.
て、 前記位置検出部は、発光素子と受光素子とにより光学的
に前記ブレ補正光学系の位置を検出するものであり、 前記発光素子又は前記受光素子の一方は、前記基板上に
設けられ、前記基板上の前記パターンと電気的に接続さ
れていることを特徴とする像ブレ補正装置。2. The image blur correction device according to claim 1, wherein the position detector optically detects a position of the blur correction optical system by a light emitting element and a light receiving element. Alternatively, one of the light receiving elements is provided on the substrate and is electrically connected to the pattern on the substrate.
正装置において、 磁性体とコイルとにより、前記ブレ補正光学系を駆動す
るための電磁力を発生する駆動力発生部と、 導電性を有する弾性材料から形成され、前記ブレ補正光
学系を支持するとともに、前記基板上の前記パターンと
前記駆動力発生部の前記コイルとの間を連結するように
取り付けられた支持部材とを備えることを特徴とする像
ブレ補正装置。3. The image blur correction device according to claim 1, wherein a magnetic force and a coil generate a driving force generation unit that generates an electromagnetic force for driving the blur correction optical system, and a conductive member. And a supporting member that is formed of an elastic material that has a property of supporting the blur correction optical system and that is mounted so as to connect the pattern on the substrate and the coil of the driving force generating unit. An image blur correction device characterized by the above.
て、 前記基板と前記ブレ補正光学系との間に配置され、前記
駆動力発生部の前記磁性体を取り付けるための取付板を
備え、 前記基板は、前記取付板に固定されており、 前記基板に取り付けられた前記駆動力発生部の前記構成
部材は、前記取付板に形成された開口部内に配置されて
いることを特徴とする像ブレ補正装置。4. The image blur correction device according to claim 3, further comprising a mounting plate disposed between the substrate and the blur correction optical system for mounting the magnetic body of the driving force generation unit, The image is characterized in that the substrate is fixed to the attachment plate, and the constituent members of the driving force generation unit attached to the substrate are arranged in an opening formed in the attachment plate. Image stabilization device.
正装置において、 前記基板上には、前記駆動力発生部のドライバ回路が設
けられていることを特徴とする像ブレ補正装置。5. The image blur correction device according to claim 3 or 4, wherein a driver circuit of the driving force generation unit is provided on the substrate.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22976895A JPH0980499A (en) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | Image blur correcting device |
US08/707,471 US5717960A (en) | 1995-09-06 | 1996-09-05 | Image vibration correcting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22976895A JPH0980499A (en) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | Image blur correcting device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0980499A true JPH0980499A (en) | 1997-03-28 |
Family
ID=16897377
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22976895A Pending JPH0980499A (en) | 1995-09-06 | 1995-09-07 | Image blur correcting device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0980499A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001021937A (en) * | 1999-07-06 | 2001-01-26 | Nikon Corp | Blurring correction device and lens barrel |
-
1995
- 1995-09-07 JP JP22976895A patent/JPH0980499A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001021937A (en) * | 1999-07-06 | 2001-01-26 | Nikon Corp | Blurring correction device and lens barrel |
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