JPH0973672A - Spacer layer forming device and method for disk having two-layered structure - Google Patents

Spacer layer forming device and method for disk having two-layered structure

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Publication number
JPH0973672A
JPH0973672A JP25452895A JP25452895A JPH0973672A JP H0973672 A JPH0973672 A JP H0973672A JP 25452895 A JP25452895 A JP 25452895A JP 25452895 A JP25452895 A JP 25452895A JP H0973672 A JPH0973672 A JP H0973672A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spacer layer
substrate
layer
stamper
curable resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP25452895A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshinori Yoshimura
芳紀 吉村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Music Solutions Inc
Original Assignee
Sony Disc Technology Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Disc Technology Inc filed Critical Sony Disc Technology Inc
Priority to JP25452895A priority Critical patent/JPH0973672A/en
Publication of JPH0973672A publication Critical patent/JPH0973672A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to improve the accuracy of a spacer layer by supplying a UV curing resin between a rotary stamper and a first reflection layer and rotating a substrate and the rotary stamper at the time of crushing this resin between the substrate and the rotary stamper. SOLUTION: The UV curing resin 103a is successively diffused from the central side toward the outer periphery side by a centrifugal force and the prescribed size is eventually obtd. gradually from the central side when the substrate and the rotary stamper are rotated while the UV curing resin 103a is held therebetween. The UV curing resin may, thereupon, be cured successively by gradually irradiating the resin with the UV rays from the part where the size accuracy on the central side is obtd. by moving a UV nozzle 24 from the central side toward the outer periphery side. Namely, the immediate curing of the part where the accuracy is obtd. is possible in the state that this accuracy is obtd. and, therefore, the deviation in the accuracy is eventually obviated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル・ビデオ
・ディスク(DVD)用の高密度マルチメディアCD
(コンパクト・ディスク)等を製造するのに好適な2層
構造ディスクのスペーサ層形成装置及び方法に関するも
のである。
FIELD OF THE INVENTION This invention relates to high density multimedia CDs for digital video discs (DVDs).
The present invention relates to a spacer layer forming apparatus and method for a two-layer structure disk suitable for manufacturing (compact disk) and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】今日、次世代高画質映像記録方式として
高密度マルチメディアCDを用いた技術が提案されてお
り、これはデジタル・ビデオ・ディスク(DVD)で応
用することができる。高密度マルチメディアCDは、直
径12cmの読み出し専用ディスクに現行CD(650メ
ガバイト)の5倍以上にあたる約3.7ギガバイトのデジ
タルデータを片面に記録することができ、さらにディス
クを片面2層構造(以下、この構造のディスクを単に
「2層構造ディスク」と言う)にすることで、記憶容量
が2倍、つまり約7.4ギガバイトになる。
2. Description of the Related Art Today, a technique using a high-density multimedia CD has been proposed as a next-generation high-definition video recording system, which can be applied to a digital video disc (DVD). The high-density multimedia CD can record about 3.7 gigabytes of digital data, which is more than 5 times the current CD (650 megabytes), on one side of a read-only disc with a diameter of 12 cm. By simply changing the disc of this structure to a “double-layer disc”, the storage capacity is doubled, that is, about 7.4 gigabytes.

【0003】図10は、その2層構造ディスクの一例を
示す概略断面図である。図10において、この2層構造
ディスク100は、ポリカーボネート基板101上に、
半透明膜(1層目の低反射膜)102、スペーサ層(透
明膜)103、アルミニューム(Al)等でなる金属膜
(2層目の高反射膜)104、保護膜(透明膜)105
を順次積層させた構造になっており、またポリカーボネ
ート基板101と1層目の低反射膜102との間、及び
スペーサ層103と2層目の高反射層104との間には
それぞれピット(凹凸)が設けられている。ここで、ポ
リカーボネート基板101の厚みは約1.2mm、1層目
の低反射膜102の厚みは0.05μm、スペーサ層103
の厚みは約40μm、2層目の高反射膜104の厚みは約
0.05μm、保護膜105の厚みは約10μmである。
FIG. 10 is a schematic sectional view showing an example of the two-layer structure disk. In FIG. 10, the two-layer structure disc 100 has a polycarbonate substrate 101,
Semi-transparent film (first-layer low-reflection film) 102, spacer layer (transparent film) 103, metal film (second-layer high-reflection film) 104 made of aluminum (Al) or the like, protective film (transparent film) 105
And a pit (roughness) is formed between the polycarbonate substrate 101 and the first low-reflection film 102, and between the spacer layer 103 and the second high-reflection layer 104. ) Is provided. Here, the thickness of the polycarbonate substrate 101 is about 1.2 mm, the thickness of the first low-reflection film 102 is 0.05 μm, and the spacer layer 103 is
Is about 40 μm, and the thickness of the second high-reflection film 104 is about
The thickness of the protective film 105 is 0.05 μm, and the thickness of the protective film 105 is about 10 μm.

【0004】そして、このように構成された2層構造デ
ィスク100を使用した場合は、光学ピックアップ11
0で、まず1層目にレンズの焦点を合わせて1層目の低
反射膜102のピットを読み取りながらディスクの中心
から外周端方向、またはその反対方向へ間欠的に移動す
る。すると、1層目のピットを読み取ることができ(図
10中の実線で示す光学ピックアップ110参照)、2
層目の高反射膜104のピットを読み取るには2層目に
レンズの焦点を合わせてディスクの外周端側からディス
クの中心方向、またはその反対方向へ間欠的に移動す
る。すると、2層目のピットを読み取ることができ(図
10中の点線で示す光学ピックアップ110参照)。し
たがって、これを切り換えることで1層目と2層目のピ
ットを連続して読み取ることができる。
When the two-layer disc 100 having the above-mentioned structure is used, the optical pickup 11
At 0, first, the lens is focused on the first layer and the pits of the low-reflection film 102 on the first layer are read, and the disc is intermittently moved from the center of the disc toward the outer peripheral edge direction or the opposite direction. Then, the pit of the first layer can be read (see the optical pickup 110 shown by the solid line in FIG. 10), 2
In order to read the pits of the high-reflection film 104 of the layer, the lens is focused on the second layer and intermittently moved from the outer peripheral edge side of the disc toward the center of the disc or in the opposite direction. Then, the pit of the second layer can be read (see the optical pickup 110 shown by the dotted line in FIG. 10). Therefore, by switching this, the pits of the first and second layers can be continuously read.

【0005】図11は2層構造ディスク100の成形工
程を概略的に示す図である。そこで、図11を用いて2
層構造ディスク100の成形方法を工程(1)〜(6)
の順に説明する。工程(1)では、スタンパー(原盤)
106を用いてピットの有る基板(ポリカーボネート基
板101)を成形する。工程(2)では、ポリカーボネ
ート基板101上にスパッタリングにより、半透明膜
(1層目の低反射膜)102を付ける。工程(3)で
は、半透明膜102上に、紫外線を照射すると硬化する
透明な液状をした樹脂(UV硬化樹脂)103aを流し
込む。工程(4)では、工程(3)で流し込まれたUV
硬化樹脂103aの上から2層目のスタンパー(原盤)
107を圧着させ、ポリカーボネート基板101の下か
ら紫外線を照射する。すると、UV硬化樹脂103aが
スタンパー107の型通りに成形され、1層目の低反射
膜102上にスペーサ層103が形成される。工程
(5)では、スペーサ層103上にスパッタリングによ
りアルミニウム金属膜(2層目の高反射膜)104を付
ける。工程(6)では、アルミニウム金属膜(2層目の
高反射膜)104上に、UV硬化樹脂103aを流し込
み、紫外線を照射して硬化させると保護層105が形成
され、これにより2層構造ディスク100が完成する。
FIG. 11 is a diagram schematically showing a molding process of the two-layer structure disc 100. Therefore, using FIG.
The molding method of the layered structure disc 100 includes steps (1) to (6).
Will be described in this order. In step (1), stamper (master)
Using 106, a substrate having pits (polycarbonate substrate 101) is molded. In step (2), a semi-transparent film (first low-reflection film) 102 is attached onto a polycarbonate substrate 101 by sputtering. In the step (3), a transparent liquid resin (UV curable resin) 103a which is cured when irradiated with ultraviolet rays is poured onto the semitransparent film 102. In the step (4), the UV cast in the step (3)
The second layer stamper from the cured resin 103a (master)
107 is pressed and ultraviolet rays are irradiated from below the polycarbonate substrate 101. Then, the UV curable resin 103a is molded according to the mold of the stamper 107, and the spacer layer 103 is formed on the first low-reflection film 102. In step (5), an aluminum metal film (second-layer high reflection film) 104 is formed on the spacer layer 103 by sputtering. In the step (6), the UV curable resin 103a is cast on the aluminum metal film (second high-reflection film) 104, and the protective layer 105 is formed by irradiating the UV curable resin 103a to cure the UV curable resin 103a. 100 is completed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、2層
構造ディスク100では、1層目の反射膜102におけ
るピットを読み取る場合は光学ピックアップ110のレ
ンズの焦点を1層目の反射膜102に合わせ、2層目の
反射膜104におけるピットを読み取る場合は光学ピッ
クアップ110のレンズの焦点を2層目の反射膜104
に合わせるようにしている。したがって、スペーサ層1
03の厚みの管理は非常に厳しく要求される。また、ス
ペーサ層103を成形する場合、従来では、上面に半透
明膜102が設けられたポリカーボネート基板101上
にUV硬化樹脂103aを流し込み、この上からスタン
パー106を単に圧着させるとともに、ポリカーボネー
ト基板101の下から紫外線を照射して硬化させ、その
後、スタンパー106を離して形成するようにしてい
る。すなわち、ポリカーボネート基板101とスタンパ
ー106とで圧力を掛けてUV硬化樹脂103aを均一
に延ばしてスペーサ層103を形成する構造であるが、
ポリカーボネート基板101等の影響を受けてスペーサ
層103における分布精度が悪くなり易い。また、成形
するのに約2〜3分程かかり、生産性も悪いと言う問題
点があった。さらに、成形後にポリカーボネート基板1
01よりはみ出した余分な材料(バリ)を処理するのに
手間がかかり、作業性が悪いと言う問題点があった。
As described above, in the two-layer structure disc 100, when the pits in the reflection film 102 of the first layer are read, the focal point of the lens of the optical pickup 110 is set to the reflection film 102 of the first layer. When the pits on the second-layer reflective film 104 are read, the lens of the optical pickup 110 is focused on the second-layer reflective film 104.
I am trying to match. Therefore, the spacer layer 1
03 thickness control is very strictly required. Further, when the spacer layer 103 is molded, conventionally, the UV curable resin 103a is poured onto the polycarbonate substrate 101 having the semitransparent film 102 provided on the upper surface thereof, and the stamper 106 is simply pressure-bonded thereon, and at the same time, the polycarbonate substrate 101 Ultraviolet rays are radiated from below to cure, and then the stamper 106 is formed separately. That is, the structure in which the spacer layer 103 is formed by applying pressure between the polycarbonate substrate 101 and the stamper 106 to uniformly spread the UV curable resin 103a,
Due to the influence of the polycarbonate substrate 101 and the like, the distribution accuracy in the spacer layer 103 tends to deteriorate. Further, there is a problem that it takes about 2 to 3 minutes to mold and the productivity is poor. Furthermore, the polycarbonate substrate 1 after molding
However, it took a lot of time to process the extra material (burrs) protruding from No. 01, and the workability was poor.

【0007】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は生産性に優れた2層構造ディスク
のスペーサ層形成装置及び方法を提供することにある。
さらに、他の目的は、以下に説明する内容の中で順次明
らかにして行く。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a spacer layer forming apparatus and method for a two-layer structure disk having excellent productivity.
Further, other objects will be clarified sequentially in the contents described below.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の2層構造ディスクのスペーサ層形成装置に
あっては、基板上に第1の反射層とスペーサ層と第2の
反射層とを順次配してなるものであって、前記基板上の
前記第1の反射層と面対向して配置される回転スタンパ
ーと、前記第1の反射層と前記回転スタンパーとの間に
液状のUV硬化樹脂を供給するためのUV硬化樹脂供給
手段と、前記基板と前記回転スタンパーとの間を圧接さ
せて前記UV硬化樹脂を圧し潰しながら前記基板及び前
記回転スタンパーと共に回転し、前記UV硬化樹脂によ
る前記スペーサ層を前記基板と前記回転スタンパーとの
間に作るためのスペーサ層形成手段と、前記スペーサ層
形成手段によるスペーサ層形成動作に連動して回転中心
側から外周側に向かって移動しながら前記スペーサ層に
紫外線(UV)スポット光を照射して硬化させるための
紫外線供給手段とを備えた構成としたものである。
To achieve the above object, in a spacer layer forming apparatus for a two-layer structure disk according to the present invention, a first reflective layer, a spacer layer and a second reflective layer are formed on a substrate. And a rotary stamper disposed to face the first reflective layer on the substrate, and a liquid stamper between the first reflective layer and the rotary stamper. The UV curable resin supplying means for supplying the UV curable resin and the substrate and the rotary stamper are brought into pressure contact with each other to rotate the substrate and the rotary stamper while crushing the UV curable resin. Spacer layer forming means for forming the spacer layer between the substrate and the rotary stamper by means of the spacer layer forming means, and moving from the rotation center side to the outer peripheral side in conjunction with the spacer layer forming operation by the spacer layer forming means. Is obtained by a structure in which a UV supply means for curing by irradiation with ultraviolet (UV) spot light on the spacer layer while moving Te.

【0009】また、上記目的を達成するため、本発明の
2層構造ディスクのスペーサ層形成方法にあっては、基
板上に第1の反射層とスペーサ層と第2の反射層とを順
次配してなる2層構造ディスクにおけるスペーサ層を形
成する方法において、前記基板上の前記第1の反射層と
面対向して配置される回転スタンパーと前記第1の反射
層との間に液状のUV硬化樹脂を供給し、前記基板と前
記回転スタンパーとの間に供給された前記UV硬化樹脂
の圧し潰し動作と、前記基板及び前記回転スタンパーの
一体回転動作とを伴わせて、前記UV硬化樹脂による前
記スペーサ層を前記基板と前記回転スタンパーとの間に
作るとともに、回転中心側から外周側に向かって移動し
ながら前記スペーサ層に紫外線をスポット光で照射して
硬化させるようにしたものである。
In order to achieve the above object, in the method for forming a spacer layer of a two-layer structure disc of the present invention, a first reflective layer, a spacer layer and a second reflective layer are sequentially arranged on a substrate. In the method for forming a spacer layer in a two-layer structure disk, the liquid UV is interposed between a rotary stamper and a first reflective layer which are arranged to face the first reflective layer on the substrate. The curing resin is supplied, and the crushing operation of the UV curing resin supplied between the substrate and the rotating stamper and the integral rotation operation of the substrate and the rotating stamper are performed, and the UV curing resin is used. The spacer layer is formed between the substrate and the rotary stamper, and the spacer layer is irradiated with ultraviolet rays as spot light to be cured while moving from the rotation center side to the outer peripheral side. Those were.

【0010】上記発明によれば、基板上の第1の反射層
と面対向して配置される回転スタンパーと第1の反射層
との間に液状のUV硬化樹脂を供給し、これを基板と回
転スタンパーとの間で圧し潰すときに、基板と回転スタ
ンパーとを回転させるので、この回転による遠心力でU
V硬化樹脂が基板と回転スタンパーとの間で都合良く引
き延ばされる。また、同時に、回転中心側から外周側に
向かって移動しながら前記スペーサ層に紫外線をスポッ
ト光で与えて硬化させるようにしているので、膜厚をコ
ントロールしながら、しかも所定の膜厚が出来上がった
部分から徐々に固めることができるので、分布精度が良
く、全体として均一化されたスペーサ層が簡単、かつ素
早く形成されることになる。
According to the above invention, a liquid UV curable resin is supplied between the rotary stamper and the first reflective layer, which are arranged so as to face the first reflective layer on the substrate, and the liquid UV curable resin is supplied to the substrate. Since the substrate and the rotary stamper are rotated when they are crushed between the rotary stamper and the rotary stamper, the centrifugal force generated by this rotation causes U
V-cured resin is conveniently stretched between the substrate and the rotary stamper. At the same time, while moving from the rotation center side toward the outer circumference side, ultraviolet rays are applied to the spacer layer as spot light to cure the spacer layer, so that a predetermined film thickness is achieved while controlling the film thickness. Since it can be gradually solidified from the part, the distribution accuracy is good, and the uniformized spacer layer as a whole can be formed easily and quickly.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて詳細に説明する。図1及び図2は本発明の一実
施の形態例として示すスペーサ層形成装置を示すもの
で、図1は図2のA−A線に沿う概略縦断側面図、図2
は同上装置の上面図である。なお、図1及び図2におい
て、図10及び図11と同一符号を付したものは図10
及び図11と同一のものを示している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. 1 and 2 show a spacer layer forming apparatus shown as an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a schematic vertical sectional side view taken along the line AA of FIG.
FIG. 3 is a top view of the same device. In addition, in FIG. 1 and FIG. 2, the same reference numerals as those in FIG. 10 and FIG.
11 shows the same as FIG.

【0012】図1及び図2において、符号1は装置本体
である。この装置本体1の下側にはガイドフレーム2が
取り付けられている。ガイドフレーム2は、4隅に一端
が装置本体1の下面側に固定されているガイドロッド3
を各々有し、下方に延ばされた他端にはプレート4が固
定して取り付けられている。加えて、プレート4の略中
心にはモータ5が、その回転軸5aを上方に向けて配設
されている。また、プレート4には、下側に向かってガ
イドロッド6が取り付けられているとともに、このガイ
ドロッド6の下端にプレート7が固定して取り付けら
れ、このプレート7上にシリンダー8が配設されてい
る。
In FIGS. 1 and 2, reference numeral 1 is the main body of the apparatus. A guide frame 2 is attached to the lower side of the device body 1. The guide frame 2 has a guide rod 3 whose one end is fixed to the lower surface side of the apparatus body 1 at four corners.
And a plate 4 is fixedly attached to the other end extending downward. In addition, a motor 5 is disposed substantially at the center of the plate 4 with its rotation shaft 5a facing upward. A guide rod 6 is attached to the plate 4 downward, a plate 7 is fixedly attached to the lower end of the guide rod 6, and a cylinder 8 is arranged on the plate 7. There is.

【0013】シリンダー8は、進退出ロッド8aを有
し、この進退出ロッド8aの先端にアンダーフレーム9
が一体移動可能に取り付けられている。なお、アンダー
フレーム9は、ガイドロッド3及びガイドロッド6の外
側に配設されており、内部には上記プレート4,モータ
5等が配設された状態になっている。そして、このアン
ダーフレーム9は、シリンダー8の駆動でガイドロッド
3及びガイドロッド6に案内されて上下方向に往復移動
可能になっている。また、アンダーフレーム9の上面に
おける略中心には貫通孔10が設けられており、この貫
通孔10に軸受11を介してカップリングユニット12
が回転自在に取り付けられている。
The cylinder 8 has an advancing / retreating rod 8a, and an underframe 9 is attached to the tip of the advancing / retreating rod 8a.
Are mounted so as to be movable together. The under frame 9 is arranged outside the guide rods 3 and 6, and the plate 4, the motor 5 and the like are arranged inside. The underframe 9 is guided by the guide rod 3 and the guide rod 6 by the drive of the cylinder 8 and can reciprocate vertically. Further, a through hole 10 is provided substantially in the center of the upper surface of the underframe 9, and a coupling unit 12 is provided in the through hole 10 via a bearing 11.
Is rotatably attached.

【0014】カップリングユニット12は、アンダーフ
レーム9内に配設されている上記モータ5とセンター軸
ユニット13との間を一体的に連結しているもので、ま
たモータ5とカップリングユニット12との間にはサブ
カップリング部材14が介装され、このサブカップリン
グ部材14を介してモータ5の駆動がカップリングユニ
ット12に伝達され、回転軸5aとサブカップリング部
材14とカップリングユニット12とが一体に回転可能
になっている。
The coupling unit 12 integrally connects the motor 5 arranged in the underframe 9 and the center shaft unit 13, and the motor 5 and the coupling unit 12 are connected to each other. A sub-coupling member 14 is interposed between the sub-coupling members 14, and the drive of the motor 5 is transmitted to the coupling unit 12 via the sub-coupling member 14 so that the rotary shaft 5a, the sub-coupling member 14, and the coupling unit 12 are connected. And can rotate together.

【0015】一方、センター軸ユニット13は、装置本
体1を貫通して、この装置本体1の上側に突出されてお
り、この装置本体1の上面側に固定して取り付けられて
いるホルダーユニット15によって回転自在に保持され
ている外側筒軸13Aと、この外側筒軸13A内におい
て、この外側筒軸13Aと独立して上下方向に移動可能
で、かつ外側筒軸13Aと一体に回転可能なセンターピ
ン13Bとで構成されている。そして、ホルダーユニッ
ト15よりも上側に突出された部分において、外側筒軸
13Aの上端にはスタンパー107が一体回転可能に取
り付けられ、センターピン13Bの上端には基板位置決
め部材16が一体回転可能に取り付けられている。ここ
で、スタンパー107の外径はポリカーボネート基板1
01の外径と略等しく形成されていて、UV硬化樹脂1
03aでスペーサ層103を作るときに、スタンパー1
07とポリカーボネート基板101との間からはみ出し
た余分なUV硬化樹脂103aでバリが発生しずらく
し、これによって成形後における処理がし易くなるよう
にしている。
On the other hand, the center shaft unit 13 penetrates the apparatus main body 1 and projects to the upper side of the apparatus main body 1, and by a holder unit 15 fixedly attached to the upper surface side of the apparatus main body 1. An outer cylinder shaft 13A that is rotatably held, and a center pin that can move vertically within the outer cylinder shaft 13A independently of the outer cylinder shaft 13A and that can rotate integrally with the outer cylinder shaft 13A. And 13B. Then, in the portion projecting above the holder unit 15, the stamper 107 is integrally rotatably attached to the upper end of the outer cylindrical shaft 13A, and the substrate positioning member 16 is integrally rotatably attached to the upper end of the center pin 13B. Has been. Here, the outer diameter of the stamper 107 is the polycarbonate substrate 1
The UV curable resin 1 is formed to have an outer diameter substantially equal to 01.
When making the spacer layer 103 with 03a, the stamper 1
07, the extra UV curable resin 103a protruding from between the polycarbonate substrate 101 and the polycarbonate substrate 101 does not easily generate burrs, which facilitates post-molding treatment.

【0016】また、基板位置決め部材16には、ポリカ
ーボネート基板101を配置し、その後から押さえ部材
19で固定することで、ポリカーボネート基板101を
同心的に配置し、一体に回転することができる構造にな
っている。さらに、ホルダーユニット15には、スタン
パー107の回転中心の近傍に一端が開口され、他端が
ホルダーユニット15の外周部に開口されたエアー供給
・排出路17が形成されている。このエアー供給・排出
路17は図示せぬエア制御機に接続されており、このエ
アー供給・排出路17を通してスタンパー107の回転
中心におけるエアを強制的に吸引したり、逆に回転中心
部分にエアーを強制的に吹き付けたりすることができる
構造になっている。
Further, by arranging the polycarbonate substrate 101 on the substrate positioning member 16 and then fixing it by the pressing member 19, the polycarbonate substrate 101 is concentrically arranged and can rotate integrally. ing. Further, the holder unit 15 is formed with an air supply / discharge path 17 having one end opened near the rotation center of the stamper 107 and the other end opened to the outer peripheral portion of the holder unit 15. The air supply / exhaust path 17 is connected to an air controller (not shown), and the air at the center of rotation of the stamper 107 is forcibly sucked through the air supply / exhaust path 17, or conversely, air is supplied to the center of rotation. It has a structure that can be forcibly sprayed.

【0017】加えて、装置本体1の上側において、スタ
ンパー107の周囲には、このスタンパー107を中心
に配して設けられた廃棄樹脂受け部材20が固定シャフ
ト21を介して装置本体1に取り付けられている。この
廃棄樹脂受け部材20は、後述するようにして、スタン
パー107上より振り切られた余分なUV硬化樹脂10
3aを受け、さらに廃棄孔24を通して廃棄通路より排
出するためのものである。また、装置本体1上には、ス
タンパー107の上にUV硬化樹脂103aを供給する
ための樹脂供給ノズル22を有したUV硬化樹脂供給機
23と、センターピン13Bにセットされたポリカーボ
ネート基板101上に紫外線(UV)を照射するための
UVノズル24を有したUV照射器25とが配設されて
いる。そして、UV硬化樹脂供給用のノズル22はスタ
ンパー107上と、この上から外れた位置とに移動でき
るとともに、UV照射用のUVノズル24はスタンパー
107の中心から外周方向に向かって徐々に連続して移
動できるようになっている。
In addition, on the upper side of the apparatus main body 1, around the stamper 107, a waste resin receiving member 20 provided centering on the stamper 107 is attached to the apparatus main body 1 via a fixed shaft 21. ing. The waste resin receiving member 20 is used to remove the excess UV curable resin 10 that has been shaken off from the stamper 107, as will be described later.
It is for receiving 3a and further discharging it from the waste passage through the waste hole 24. In addition, on the apparatus main body 1, a UV curable resin supplier 23 having a resin supply nozzle 22 for supplying the UV curable resin 103a on the stamper 107, and a polycarbonate substrate 101 set on the center pin 13B. A UV irradiator 25 having a UV nozzle 24 for irradiating ultraviolet rays (UV) is provided. The nozzle 22 for supplying the UV curable resin can move to a position above the stamper 107 and a position deviated from this, and the UV nozzle 24 for UV irradiation gradually continues from the center of the stamper 107 toward the outer peripheral direction. Can be moved.

【0018】そして、このように構成されたスペーサ層
形成装置では、シリンダー8が駆動されてロッド8aが
突き出されると、アンダーフレーム9がガイドロッド
3,6にガイドされて上昇し、スタンパー107が取り
付けられている外側筒軸13A及びカップリング部材1
4は動かずに、センターピン13B側だけが上昇する。
また、シリンダー8の駆動が停止されてロッド8aが引
っ込むと、アンダーフレーム9がガイドロッド3,6に
ガイドされて下降し、これと一体にカップリング部材1
4及びセンターピン13Bも下降する。さらに、モータ
5が回転されると、カップリング部材14を介してセン
ター軸ユニット13、すなわち外側筒軸13Aとセンタ
ーピン13Bとが一体に回転する構造になっている。
In the spacer layer forming apparatus having such a structure, when the cylinder 8 is driven and the rod 8a is projected, the underframe 9 is guided by the guide rods 3 and 6 and ascends, and the stamper 107 is moved. Outer cylinder shaft 13A and coupling member 1 attached
4 does not move and only the center pin 13B side rises.
Further, when the driving of the cylinder 8 is stopped and the rod 8a is retracted, the underframe 9 is guided by the guide rods 3 and 6 and descends, and the coupling member 1 is integrated with this.
4 and the center pin 13B also descend. Further, when the motor 5 is rotated, the center shaft unit 13, that is, the outer cylindrical shaft 13A and the center pin 13B are integrally rotated via the coupling member 14.

【0019】図3は図1及び図2に示したスペーサ層形
成装置を使用してなる2層構造ディスクの成形工程を概
略的に示す図で、図4乃至図9はスペーサ層形成装置の
要部動作説明図である。そこで、図3に示す成形工程
を、工程(1)〜(6)の順に図1及び図2、図3乃至
図9と共に説明する。なお、図3乃至図9において、図
1及び図2、図10及び図11とそれぞれ同一符号を付
したものは図1及び図2、図10及び図11と同一のも
のを示している。
FIG. 3 is a diagram schematically showing a molding process of a two-layer structure disk using the spacer layer forming apparatus shown in FIGS. 1 and 2, and FIGS. 4 to 9 are schematic views of the spacer layer forming apparatus. It is a part operation explanatory drawing. Therefore, the molding step shown in FIG. 3 will be described in order of steps (1) to (6) with reference to FIGS. 1 and 2 and FIGS. 3 to 9. 3 to 9, the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 2, 10 and 11 respectively denote the same as those in FIGS. 1 and 2, 10 and 11.

【0020】まず、工程(1)及び(2)は、図11に
示した従来方法における工程(1)及び(2)と同じで
あり、工程(1)では、スタンパー(原盤)106を用
いてピットの有る基板(ポリカーボネート基板101)
を成形する。工程(2)では、ポリカーボネート基板1
01上にスパッタリングにより、半透明膜(1層目の低
反射膜)102を付ける。
First, steps (1) and (2) are the same as steps (1) and (2) in the conventional method shown in FIG. 11, and in step (1), a stamper (master) 106 is used. Substrate with pits (polycarbonate substrate 101)
Is molded. In the step (2), the polycarbonate substrate 1
A semi-transparent film (first low-reflection film) 102 is attached onto 01 by sputtering.

【0021】工程(3)乃至工程(4−5)は図1及び
図2に示すスペーサ層形成装置を使用するもので、工程
(3)では、ポリカーボネート基板101がセンターピ
ン13Bの基板位置決め部材16にセットされる前に、
モータ5を低速で回転させ、このモータ5の駆動力で回
転しているセンター軸ユニット13上のスタンパー(原
盤)107の上面に、紫外線を照射すると硬化する透明
な液状をした樹脂(UV硬化樹脂)103aを樹脂供給
ノズル22より滴下させて環状に流し込む(図4参
照)。その後、モータ5の回転を停止させる。
Steps (3) to (4-5) use the spacer layer forming apparatus shown in FIGS. 1 and 2. In step (3), the polycarbonate substrate 101 is the substrate positioning member 16 of the center pin 13B. Before being set to
The motor 5 is rotated at a low speed, and the upper surface of the stamper (master) 107 on the center shaft unit 13 which is rotated by the driving force of the motor 5 is a transparent liquid resin (UV curable resin) that is cured when irradiated with ultraviolet rays. ) 103a is dropped from the resin supply nozzle 22 and poured in a ring shape (see FIG. 4). Then, the rotation of the motor 5 is stopped.

【0022】工程(4−1)では、シリンダー8を駆動
させてロッド8aを突き出し、アンダーフレーム9を上
昇させる。すると、これに伴ってセンターピン13Bも
一体に上昇する(図5参照)。そして、このセンターピ
ン13Bの基板位置決め部材16に工程(2)で形成し
た低反射膜102を有するポリカーボネート基板101
を、低反射膜102が下側(スタンパー107と対向す
る側)となるようにしてセットし、センターピン13B
とポリカーボネート基板101とが一体に回転できる状
態にする(図5の2点鎖線の部分参照)。続いて、シリ
ンダー8を駆動させてロッド8aを引き戻し、アンダー
フレーム9と共にセンターピン13Bを、スタンパー1
07とポリカーボネート基板101との間に空気が入っ
て気泡が出来ないように徐々に下降させ、スタンパー1
07上にUV硬化樹脂103aを介してポリカーボネー
ト基板101を接地させる。また、これと同時にエアー
供給・排出路17を通して回転中心の下側より強制的に
エア抜きを行い、UV硬化樹脂103aの一部を内側へ
と拡散させる(図6参照)。図6中にに符号27で示す
矢印は抜かれているエアを示している。
In step (4-1), the cylinder 8 is driven to protrude the rod 8a and raise the underframe 9. Then, along with this, the center pin 13B also integrally rises (see FIG. 5). Then, the polycarbonate substrate 101 having the low reflection film 102 formed in the step (2) on the substrate positioning member 16 of the center pin 13B.
Is set so that the low reflection film 102 is on the lower side (the side facing the stamper 107), and the center pin 13B
Then, the polycarbonate substrate 101 and the polycarbonate substrate 101 can be rotated together (see the two-dot chain line in FIG. 5). Subsequently, the cylinder 8 is driven to pull back the rod 8a, and the center pin 13B together with the underframe 9 are attached to the stamper 1
07 is gradually lowered so that air does not enter between the polycarbonate substrate 101 and the polycarbonate substrate 101, and the stamper 1
The polycarbonate substrate 101 is grounded on 07 via the UV curable resin 103a. At the same time, air is forcedly evacuated from the lower side of the rotation center through the air supply / exhaust path 17 to diffuse a part of the UV curable resin 103a inward (see FIG. 6). The arrow indicated by reference numeral 27 in FIG. 6 indicates the extracted air.

【0023】工程(4−2)では、センターピン13B
の下降途中または下降終了後に、モータ5を高速で回転
させ、センター軸ユニット13の外側筒軸13Aとセン
ターピン13Bとを一体に、上記エアー供給・排出路1
7のエア抜きを伴いながら回転させる。そして、この回
転による遠心力でUV硬化樹脂103aを外側へと拡散
させて行き、余分なUV硬化樹脂103aは外周より放
出させる(図7参照)。この放出させた余分なUV硬化
樹脂103aは、スタンパー107の周囲に設けられた
廃棄樹脂受け部材20で受けられ、さらに廃棄孔24を
通して廃棄通路より排出される。なお、ここでは図示し
ないがスタンパー107とポリカーボネート基板101
との間のUV硬化樹脂103aの厚みがセンサにより監
視され、所定の厚みになるまでポリカーボネート基板1
01(センターピン13B)の下降並びに回転及び上記
エア抜きを行う。また、モータ5による回転、及びエア
抜きは、UV硬化樹脂103aの粘度等を考慮して決定
される。
In the step (4-2), the center pin 13B is used.
The motor 5 is rotated at a high speed during or after the lowering of the air-conditioner so that the outer cylindrical shaft 13A of the center shaft unit 13 and the center pin 13B are integrally formed, and the air supply / exhaust passage 1
Rotate while removing air from 7. Then, the UV curable resin 103a is diffused to the outside by the centrifugal force due to this rotation, and the excess UV curable resin 103a is discharged from the outer periphery (see FIG. 7). The discharged excess UV curable resin 103a is received by the waste resin receiving member 20 provided around the stamper 107, and further discharged from the waste passage through the waste hole 24. Although not shown here, the stamper 107 and the polycarbonate substrate 101
The thickness of the UV curable resin 103a between and is monitored by a sensor, and the polycarbonate substrate 1 is adjusted to a predetermined thickness.
01 (center pin 13B) is lowered and rotated, and the air is removed. The rotation by the motor 5 and the air bleeding are determined in consideration of the viscosity of the UV curable resin 103a and the like.

【0024】工程(4−3)では、工程(4−2)でU
V硬化樹脂103aが所定の厚さに拡散されたポリカー
ボネート基板101の上側でUVノズル24を中心から
外周側に向かって移動させ、この移動に連動してポリカ
ーボネート基板102上で紫外線(UV)をスポット照
射する(図8参照)。すると、この紫外線がポリカーボ
ネート基板101を通してUV硬化樹脂103aに照射
され、この照射でUV硬化樹脂103aを硬化させ、こ
れがポリカーボネート基板101側に固着される。すな
わち、ポリカーボネート基板101の低反射膜102上
にスペーサ層103が形成されることになる。また、こ
こでポリカーボネート基板101の外周部分にUV硬化
樹脂103aによるバリが出ていたような場合には、図
示しないが、ポリカーボネート基板101の外周部分に
カッター刃等が突き出されて削り取られる。
In step (4-3), U is added in step (4-2).
The UV nozzle 24 is moved from the center toward the outer circumference on the upper side of the polycarbonate substrate 101 in which the V-curing resin 103a is diffused to a predetermined thickness, and ultraviolet rays (UV) are spotted on the polycarbonate substrate 102 in conjunction with this movement. Irradiate (see FIG. 8). Then, this ultraviolet ray is irradiated onto the UV curable resin 103a through the polycarbonate substrate 101, and the UV curable resin 103a is cured by this irradiation, and this is fixed to the polycarbonate substrate 101 side. That is, the spacer layer 103 is formed on the low reflection film 102 of the polycarbonate substrate 101. In addition, here, in the case where burrs due to the UV curable resin 103a appear on the outer peripheral portion of the polycarbonate substrate 101, a cutter blade or the like is projected and scraped off on the outer peripheral portion of the polycarbonate substrate 101, although not shown.

【0025】なお、紫外線を照射する場合、スペーサ層
形成装置が配置される部屋全体からも紫外線を照射でき
る構造にしても良いものである。すなわち、UVノズル
と併用しても良いもので、この併用の場合はUVノズル
24による紫外線の照射が始まると同時に部屋全体より
紫外線が補助的に照射される(図8中の符号26で示す
線は、その部屋全体より照射されている紫外線を示して
いる)。さらに、本実施形態例において、UVノズル2
4の移動は、中心から外周まで同じ速さではなく、中心
から外周側に離れるに従って移動速度が遅くなるように
する。これは、中心から外周側に離れるに従って周面積
が増加するためで、UVノズル24の移動速度を変える
ことにより各部分での紫外線の被照射量が略一定となる
ようにするためである。また、UVノズル24の移動速
度を変えずに、UVノズル24の照射量を変えたり、あ
るいはセンター軸ユニット13の回転数を変えて被照射
量が一定となるようにしても差し支えないものである。
When irradiating with ultraviolet rays, the structure may be such that the entire room in which the spacer layer forming device is placed can also be irradiated with ultraviolet rays. That is, it may be used in combination with a UV nozzle, and in the case of this combined use, ultraviolet light is supplementarily irradiated from the entire room at the same time as irradiation of ultraviolet light by the UV nozzle 24 is started (line indicated by reference numeral 26 in FIG. 8). Indicates the ultraviolet rays emitted from the entire room). Furthermore, in the present embodiment example, the UV nozzle 2
The movement of 4 is not the same speed from the center to the outer circumference, but the moving speed becomes slower as the distance from the center to the outer circumference side increases. This is because the peripheral area increases as the distance from the center to the outer peripheral side increases, and the irradiation amount of the ultraviolet rays in each portion is made substantially constant by changing the moving speed of the UV nozzle 24. Further, the irradiation amount of the UV nozzle 24 may be changed without changing the moving speed of the UV nozzle 24, or the rotation speed of the center shaft unit 13 may be changed to make the irradiation amount constant. .

【0026】そして、このようにUVノズル24を中心
から外周に向かって移動させ、UV硬化樹脂103aを
硬化させる理由としては次の点にある。UV硬化樹脂1
03aを間に挟んで回転させた場合、UV硬化樹脂10
3aは遠心力で中心側から外周側に拡散されて行き、所
定の寸法は中心側から徐々に得られることになる。そこ
で、中心側から外周側に向かってUVノズル24を移動
させることにより、中心側の寸法精度が得られた部分よ
り徐々に紫外線を照射させて硬化させて行くことができ
る。すなわち、精度が得られた部分を、その精度が得ら
れた状態で直ぐに硬化させることができるので、精度が
狂うことがなくなる。また、全体の精度出しを待たずに
精度の出た部分より順番に硬化させる作業を行うことが
できるので、作業速度が向上することになる。
The reason why the UV nozzle 24 is moved from the center toward the outer periphery in this way to cure the UV curable resin 103a is as follows. UV curable resin 1
When 03a is sandwiched and rotated, UV curing resin 10
3a is diffused from the center side to the outer peripheral side by centrifugal force, and a predetermined size is gradually obtained from the center side. Therefore, by moving the UV nozzle 24 from the center side toward the outer circumference side, it is possible to gradually irradiate the ultraviolet rays from the portion where the dimensional accuracy on the center side is obtained and to cure the UV nozzle. That is, since the portion where the accuracy is obtained can be immediately cured in the state where the accuracy is obtained, the accuracy is not lost. Further, since the work of hardening can be performed in order from the part where the accuracy is obtained without waiting for the accuracy of the whole to be obtained, the work speed is improved.

【0027】工程(4−4)では、こうしてポリカーボ
ネート基板101上にスペーサ層103が形成されたら
モータ5を停止させ、センター軸ユニット13の回転を
止める。
In step (4-4), when the spacer layer 103 is thus formed on the polycarbonate substrate 101, the motor 5 is stopped and the rotation of the center shaft unit 13 is stopped.

【0028】工程(4−5)では、シリンダー8を駆動
させてロッド8aを突き出し、アンダーフレーム9を上
昇させる。すると、これに伴ってセンターピン13Bも
一体に上昇することになる。このとき、エアー供給・排
出路17を通して回転中心の下側よりポリカーボネート
基板101の中心に向かってエアを強く吹き付ける。こ
れにより、スペーサ層103とスタンパー107との間
に空気が強制的に入り、スペーサ層103とスタンパー
107との間が剥がれ易くなり、スペーサ103をポリ
カーボネート基板101に付着させたまま、ポリカーボ
ネート基板101とスタンパー107の間が素早く剥離
され、スペーサ層形成装置より取り除かれる(図9参
照)。なお、図9中に符号28で示す矢印は、その吹き
付けられているエアを示している。そして、こうして作
られたものが、低反射膜102とスペーサ層103を有
したポリカーボネート基板101となり、これは次の工
程(5)へと送られる。また、センターピン13Bから
ポリカーボネート基板101が取り除かれると、シリン
ダー8を駆動させてロッド8aを引き戻し、スペーサ層
形成装置は、初期状態に戻り、次のポリカーボネート基
板101がセットされるのを待ち、この動作が繰り返さ
れることになる。
In step (4-5), the cylinder 8 is driven to protrude the rod 8a and raise the underframe 9. Then, along with this, the center pin 13B also integrally rises. At this time, air is strongly blown from the lower side of the rotation center toward the center of the polycarbonate substrate 101 through the air supply / discharge path 17. As a result, air is forced to enter between the spacer layer 103 and the stamper 107, and the spacer layer 103 and the stamper 107 are easily separated from each other. The space between the stampers 107 is quickly peeled off and removed by the spacer layer forming device (see FIG. 9). In addition, the arrow shown with the code | symbol 28 in FIG. 9 has shown the air blown. Then, the one thus produced becomes the polycarbonate substrate 101 having the low reflection film 102 and the spacer layer 103, and this is sent to the next step (5). When the polycarbonate substrate 101 is removed from the center pin 13B, the cylinder 8 is driven to pull back the rod 8a, the spacer layer forming apparatus returns to the initial state, waits for the next polycarbonate substrate 101 to be set, and The operation will be repeated.

【0029】次に、工程(5)及び(6)は従来方法と
同じであり、工程(5)では、低反射膜102とスペー
サ層103とが設けられたポリカーボネート基板101
の、スペーサ層103上にスパッタリングによりアルミ
ニウム金属膜(2層目の高反射膜)104を付ける。工
程(6)では、アルミニウム金属膜(2層目の高反射
膜)104上に、UV硬化樹脂103aを流し込み、紫
外線を照射して硬化させると保護層105が形成され
る。このように工程(1),(2),(3),(4−
1),(4−2),(4−3),(4−4),(4−
5),(5),(6)を経ることにより従来と同じ2層
構造ディスク100を素早く作ることができることにな
る。
Next, steps (5) and (6) are the same as the conventional method, and in step (5), the polycarbonate substrate 101 provided with the low reflection film 102 and the spacer layer 103.
Then, an aluminum metal film (second highly reflective film) 104 is attached on the spacer layer 103 by sputtering. In the step (6), the UV curable resin 103a is cast on the aluminum metal film (second high-reflection film) 104, and is irradiated with ultraviolet rays to be cured to form the protective layer 105. Thus, steps (1), (2), (3), (4-
1), (4-2), (4-3), (4-4), (4-
By going through 5), (5), and (6), the same dual-layer structure disc 100 as the conventional one can be quickly manufactured.

【0030】したがって、この実施の形態例によれば、
次の(a)乃至(d)に述べるような効果が期待でき
る。 (a)ポリカーボネート基板101上の低反射膜(第1
の反射層)102と面対向して配置されるスタンパー1
07の上に、液状のUV硬化樹脂103aを滴下させて
環状に供給し、これをポリカーボネート基板101とス
タンパー107との間で圧し潰すが、このときにポリカ
ーボネート基板101とスタンパー107とを高速で回
転させ、この回転による遠心力でUV硬化樹脂103a
をポリカーボネート基板101とスタンパー107との
間で引き延ばすようにしているので、UV硬化樹脂10
3aの偏りが防げる。また、同時に、回転中心側からポ
リカーボネート基板101とスタンパー107との間の
エアを強制的に抜きながらゆっくりと圧し潰すので、U
V硬化樹脂103a内にエア(気泡)が混入するのが防
止されるとともに、UV硬化樹脂103aが内側にも引
かれ、内側に引かれるUV硬化樹脂103aと外側に引
かれるUV硬化樹脂103aとが略均一になって分布精
度が向上し、全体として均一化されたスペーサ層103
が簡単、かつ素早く形成されることになる。
Therefore, according to this embodiment,
The following effects (a) to (d) can be expected. (A) Low-reflection film on the polycarbonate substrate 101 (first
Of the stamper 1 arranged to face the reflective layer 102 of
The liquid UV curable resin 103a is dripped onto 07 and supplied in an annular shape, which is crushed between the polycarbonate substrate 101 and the stamper 107. At this time, the polycarbonate substrate 101 and the stamper 107 are rotated at high speed. The centrifugal force generated by this rotation causes the UV curable resin 103a.
Is stretched between the polycarbonate substrate 101 and the stamper 107.
The deviation of 3a can be prevented. At the same time, since the air between the polycarbonate substrate 101 and the stamper 107 is forcibly released from the center of rotation and is squeezed slowly,
Air (air bubbles) is prevented from being mixed into the V-curable resin 103a, and the UV-curable resin 103a is also pulled inside, so that the UV-curable resin 103a pulled inside and the UV-curable resin 103a pulled outside. Spacer layer 103 that is substantially uniform, has improved distribution accuracy, and is uniform as a whole
Will be formed easily and quickly.

【0031】(b)ポリカーボネート基板101上の低
反射膜102と面対向して配置されるスタンパー107
の上に、このスタンパー107を低速回転させている状
態で液状のUV硬化樹脂103aを供給し、これをポリ
カーボネート基板101とスタンパー107との間で圧
し潰すときに、ポリカーボネート基板102とスタンパ
ー107とを高速回転させるので、この回転による遠心
力でUV硬化樹脂103aがポリカーボネート基板10
2とスタンパー107との間で都合良く引き延ばされ
る。また、同時に、回転中心側から外周側に向かって移
動しながらスペーサ層103に紫外線をスポット光で与
えて硬化させるようにしているので、膜厚をコントロー
ルしながら、しかも所定の膜厚が出来上がった部分から
徐々に固めることができることになり、分布精度が良
く、全体として均一化されたスペーサ層が簡単、かつ素
早く形成されることになる。
(B) A stamper 107 which is arranged so as to face the low reflection film 102 on the polycarbonate substrate 101.
When the stamper 107 is rotated at a low speed, a liquid UV curable resin 103a is supplied to the top of the polycarbonate substrate 101 and the stamper 107, and when the polycarbonate substrate 102 and the stamper 107 are crushed. Since it is rotated at a high speed, the UV curing resin 103a is transferred to the polycarbonate substrate 10 by the centrifugal force generated by this rotation.
Conveniently stretched between the 2 and stamper 107. Further, at the same time, ultraviolet rays are applied to the spacer layer 103 as spot light to cure the spacer layer 103 while moving from the rotation center side toward the outer peripheral side, so that a predetermined film thickness is achieved while controlling the film thickness. Since it can be gradually solidified from the portion, a spacer layer having good distribution accuracy and uniformed as a whole can be formed easily and quickly.

【0032】(c)ポリカーボネート基板101上の低
反射層102と面対向して配置されるスタンパー107
の上にUV硬化樹脂103aを供給し、これをポリカー
ボネート基板101とスタンパー107との間で圧し潰
すときに、ポリカーボネート基板101とスタンパー1
07とを回転させるので、この回転による遠心力でUV
硬化樹脂103aがポリカーボネート基板101とスタ
ンパー107との間で都合良く引き延ばされる。また、
同時に、回転中心側から外周側に向かって移動しながら
スペーサ層103に紫外線をスポット光で与えて硬化さ
せるようにしているので、膜厚をコントロールしなが
ら、しかも所定の膜厚が出来上がった部分から徐々に固
めることができる。しかも、スペーサ層103が回転中
心から外周側に向かうに従って、その照射を必要とする
面積も大きくなるが、外周側に向かうに従ってUVスポ
ット光の移動速度を遅くする等してUV照射量を変えて
いるので、UV硬化樹脂103aの硬化がどの位置でも
同じようにでき、全体として均一化されたスペーサ層が
簡単、かつ素早く形成されることになる。
(C) A stamper 107 disposed so as to face the low reflection layer 102 on the polycarbonate substrate 101.
When the UV curable resin 103a is supplied onto the above and crushed between the polycarbonate substrate 101 and the stamper 107, the polycarbonate substrate 101 and the stamper 1 are
Because 07 and 07 are rotated, the centrifugal force generated by this rotation causes UV
The cured resin 103a is conveniently stretched between the polycarbonate substrate 101 and the stamper 107. Also,
At the same time, ultraviolet rays are applied as spot light to the spacer layer 103 so as to cure it while moving from the rotation center side toward the outer peripheral side. Therefore, while controlling the film thickness, from the portion where the predetermined film thickness is completed. Can be gradually hardened. Moreover, although the area that requires irradiation increases as the spacer layer 103 moves from the center of rotation toward the outer peripheral side, the UV irradiation amount is changed by slowing the moving speed of the UV spot light toward the outer peripheral side. Since the UV curable resin 103a can be similarly cured at any position, the uniform spacer layer can be formed easily and quickly as a whole.

【0033】(d)ポリカーボネート基板101の外径
とスタンパー103の外径を略等しく形成しているの
で、ポリカーボネート基板101の外周とスタンパー1
07の外周よりはみ出したUV硬化樹脂(バリ)が発生
した場合は、ポリカーボネート基板101とスタンパー
107との回転により振り切り処理が行われるので、バ
リの付着が少なくなる。また、例え付着したとしても外
周面にカッター刃等を簡単に当てることができるのでは
ぎ取り処理がし易くなる。これにより作業性が良くな
り、生産性が向上する。
(D) Since the outer diameter of the polycarbonate substrate 101 and the outer diameter of the stamper 103 are formed substantially equal to each other, the outer periphery of the polycarbonate substrate 101 and the stamper 1 are formed.
When the UV curable resin (burrs) protruding from the outer periphery of 07 is generated, the shake-off process is performed by the rotation of the polycarbonate substrate 101 and the stamper 107, so that the adhesion of burrs is reduced. Further, even if they are attached, if the cutter blade or the like can be easily applied to the outer peripheral surface, the stripping process becomes easy. This improves workability and improves productivity.

【0034】なお、上記実施例では、基板としてポリカ
ーボネート基板101を使用した場合について説明した
が、これ以外の基板であっても勿論差し支えないもので
ある。また、UV硬化樹脂103aをスタンパー107
上に滴下させるようにした構造に付いて開示したが、逆
にポリカーボネート基板101上にUV硬化樹脂103
aを滴下させるとともに、スタンパー103を降下させ
てUV硬化樹脂103aを圧し潰すように構成しても差
し支えないものである。
In the above embodiment, the case where the polycarbonate substrate 101 is used as the substrate has been described, but it goes without saying that any other substrate may be used. Further, the UV curable resin 103a is attached to the stamper 107.
Although the structure which is designed to be dropped on is disclosed, conversely, the UV curing resin 103 is formed on the polycarbonate substrate 101.
The UV curing resin 103a may be pressed and crushed by dropping the a and dropping the stamper 103.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
基板上の第1の反射層と面対向して配置される回転スタ
ンパーと第1の反射層との間にUV硬化樹脂を供給し、
これを基板と回転スタンパーとの間で圧し潰すときに、
基板と回転スタンパーとを回転させるので、この回転に
よる遠心力でUV硬化樹脂が基板と回転スタンパーとの
間で都合良く引き延ばされる。また、同時に、回転中心
側から外周側に向かって移動しながら前記スペーサ層に
紫外線をスポット光で与えて硬化させるようにしている
ので、膜厚をコントロールしながら、しかも所定の膜厚
が出来上がった部分から徐々に固めることができるの
で、分布精度が良く、全体として均一化されたスペーサ
層が簡単、かつ素早く形成されることになり、生産性が
向上する。
As described above, according to the present invention,
A UV curable resin is supplied between the first reflective layer and the rotary stamper that is arranged to face the first reflective layer on the substrate,
When crushing this between the substrate and the rotary stamper,
Since the substrate and the rotary stamper are rotated, the UV curable resin is conveniently stretched between the substrate and the rotary stamper by the centrifugal force generated by this rotation. At the same time, while moving from the rotation center side to the outer circumference side, ultraviolet rays are applied to the spacer layer as spot light to cure the spacer layer, so that a predetermined film thickness is achieved while controlling the film thickness. Since it can be gradually solidified from the part, the distribution accuracy is good, and the uniformized spacer layer as a whole can be formed easily and quickly, and the productivity is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図2のA−A線に沿う概略縦断側面図である。FIG. 1 is a schematic vertical sectional side view taken along the line AA of FIG.

【図2】本発明の一実施の形態例として示すスペーサ層
形成装置を示す上面図である。
FIG. 2 is a top view showing a spacer layer forming apparatus shown as an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施の形態例として示す2層構造デ
ィスクの成形工程図である。
FIG. 3 is a process drawing of a two-layer structure disc shown as an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施の形態例として示すスペーサ層
形成装置を示す上面図である。
FIG. 4 is a top view showing a spacer layer forming apparatus shown as an embodiment of the present invention.

【図5】本実施例装置における動作説明図である。FIG. 5 is an operation explanatory diagram of the apparatus according to the present embodiment.

【図6】本実施例装置における動作説明図である。FIG. 6 is an operation explanatory diagram of the apparatus according to the present embodiment.

【図7】本実施例装置における動作説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of the operation of the apparatus of this embodiment.

【図8】本実施例装置における動作説明図である。FIG. 8 is an operation explanatory diagram of the apparatus according to the present embodiment.

【図9】本実施例装置における動作説明図である。FIG. 9 is an operation explanatory diagram of the apparatus according to the present embodiment.

【図10】従来より知られる2層構造ディスクの一例を
示す概略構造図である。
FIG. 10 is a schematic structural diagram showing an example of a conventionally known two-layer structure disc.

【図11】従来の2層構造ディスクにおける成形工程図
である。
FIG. 11 is a molding process diagram of a conventional two-layer structure disc.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 装置本体 13 センター軸ユニット 13A 外側筒軸 13B センターピン 17 エアー供給・排出路 22 樹脂供給ノズル 23 UV硬化樹脂供給機 24 UVノズル 25 UV照射器 100 2層構造ディスク 101 ポリカーボネート基板 102 低反射層(1層目の低反射膜) 103 スペーサ層 103a UV硬化樹脂 104 高反射層(2層目の高反射膜) 107 スタンパー 1 Device Main Body 13 Center Axis Unit 13A Outer Cylindrical Axis 13B Center Pin 17 Air Supply / Exhaust Path 22 Resin Supply Nozzle 23 UV Curing Resin Supply Machine 24 UV Nozzle 25 UV Irradiator 100 Two Layer Structure Disk 101 Polycarbonate Substrate 102 Low Reflection Layer ( Low-reflection film of the first layer 103 Spacer layer 103a UV curable resin 104 High-reflection layer (high-reflection film of the second layer) 107 Stamper

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に第1の反射層とスペーサ層と第
2の反射層を順次配してなる2層構造ディスクにおける
スペーサ層を形成する装置において、 前記基板上の前記第1の反射層と面対向して配置される
回転スタンパーと、 前記第1の反射層と前記回転スタンパーとの間に液状の
UV硬化樹脂を供給するためのUV硬化樹脂供給手段
と、 前記基板と前記回転スタンパーとの間を圧接させて前記
UV硬化樹脂を圧し潰しながら前記基板及び前記回転ス
タンパーと共に回転し、前記UV硬化樹脂による前記ス
ペーサ層を前記基板と前記回転スタンパーとの間に作る
ためのスペーサ層形成手段と、 前記スペーサ層形成手段によるスペーサ層形成動作に連
動して回転中心側から外周側に向かって移動しながら前
記スペーサ層に紫外線(UV)スポット光を照射して硬
化させるための紫外線供給手段、 とを備えたことを特徴とする2層構造ディスクのスペー
サ層形成装置。
1. An apparatus for forming a spacer layer in a two-layer structure disc comprising a first reflective layer, a spacer layer and a second reflective layer sequentially arranged on a substrate, wherein the first reflective layer on the substrate is provided. A rotary stamper arranged to face the layer; a UV curable resin supply means for supplying a liquid UV curable resin between the first reflective layer and the rotary stamper; the substrate and the rotary stamper. To form a spacer layer between the substrate and the rotary stamper by rotating the substrate and the rotary stamper together with the substrate and the rotary stamper while crushing the UV-curable resin by crushing the UV curable resin. Means, and an ultraviolet (UV) spot on the spacer layer while moving from the rotation center side to the outer peripheral side in conjunction with the spacer layer forming operation by the spacer layer forming means. UV supply means, the spacer layer forming device having a two-layer structure disc which comprising the city for curing by irradiation with bets light.
【請求項2】 前記スペーサ層形成手段によるスペーサ
層形成動作に連動して回転中心側から前記基板と前記回
転スタンパーとの間のエアを強制的に抜くための手段を
備えた請求項1に記載の2層構造ディスクのスペーサ層
形成装置。
2. The device according to claim 1, further comprising a unit for forcibly bleeding air between the substrate and the rotary stamper from a rotation center side in association with a spacer layer forming operation by the spacer layer forming unit. A device for forming a spacer layer of a two-layer disc.
【請求項3】 基板上に第1の反射層とスペーサ層と第
2の反射層を順次配してなる2層構造ディスクにおける
スペーサ層を形成する方法において、 前記基板上の前記第1の反射層と面対向して配置される
回転スタンパーと前記第1の反射層との間に液状のUV
硬化樹脂を供給し、 前記基板と前記回転スタンパーとの間に供給された前記
UV硬化樹脂の圧し潰し動作と、前記基板及び前記回転
スタンパーの一体回転動作とを伴わせて、前記UV硬化
樹脂による前記スペーサ層を前記基板と前記回転スタン
パーとの間に作るとともに、回転中心側から外周側に向
かって移動しながら前記スペーサ層に紫外線をスポット
光で照射して硬化させてなることを特徴とする2層構造
ディスクのスペーサ層形成方法。
3. A method for forming a spacer layer in a two-layer structure disc comprising a first reflective layer, a spacer layer and a second reflective layer sequentially arranged on a substrate, wherein the first reflective layer on the substrate is formed. Liquid UV between the rotary stamper arranged to face the layer and the first reflective layer
By supplying a curing resin, the crushing operation of the UV curing resin supplied between the substrate and the rotating stamper and the integral rotation operation of the substrate and the rotating stamper are performed, and The spacer layer is formed between the substrate and the rotary stamper, and the spacer layer is irradiated with ultraviolet rays as spot light and cured while moving from the rotation center side toward the outer peripheral side. A method for forming a spacer layer of a two-layer structure disc.
【請求項4】 前記スペーサ層形成手段によるスペーサ
層形成動作に連動して回転中心側から前記基板と前記回
転スタンパーとの間のエアを強制的に抜くようにした請
求項1に記載の2層構造ディスクのスペーサ層形成方
法。
4. The two-layer structure according to claim 1, wherein the air between the substrate and the rotary stamper is forcibly removed from the rotation center side in conjunction with the spacer layer forming operation by the spacer layer forming means. Method for forming spacer layer of structural disc.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1172812A1 (en) * 2000-07-14 2002-01-16 O.T.B. Group B.V. Method and device for producing a DVD

Cited By (2)

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EP1172812A1 (en) * 2000-07-14 2002-01-16 O.T.B. Group B.V. Method and device for producing a DVD
NL1017267C2 (en) * 2000-07-14 2002-01-18 Otb Group Bv Method and device for manufacturing a DVD disc.

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