JPH0971646A - Production of polyimide - Google Patents

Production of polyimide

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JPH0971646A
JPH0971646A JP23009495A JP23009495A JPH0971646A JP H0971646 A JPH0971646 A JP H0971646A JP 23009495 A JP23009495 A JP 23009495A JP 23009495 A JP23009495 A JP 23009495A JP H0971646 A JPH0971646 A JP H0971646A
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JP
Japan
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aminophenoxy
polyimide
bis
formula
hydrocarbon
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Application number
JP23009495A
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Japanese (ja)
Inventor
Miyoshi Shirasaki
美佳 白崎
Mitsuhiro Shibata
充弘 柴田
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0971646A publication Critical patent/JPH0971646A/en
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a polyimide by a new method using a hydrocarbon as a reaction solvent, capable of completing a reaction in a short time at a low temperature, having improved workability and reliability because of the easy removal of the solvent and of a low cost on an industrial scale. SOLUTION: (A) A tetracarboxylic acid dianhydride or its diesterdicarboxylic acid derivative is made to react with (B) a diamino compound in a hydrocarbon solvent (preferably, toluene or xylene). Further, the component B is preferably a compound of formula I [X is a 1-20C hydrocarbon or a sulfur atom; R is a halogen, a 1-6C hydrocarbon or a 1-6C halogen-containing hydrocarbon; (a)=0-4] e.g. 1,1-bis[4-(4-aminophenoxy)-3-t-butyl-6-methylphenyl]butane}, and the component A is preferably a compound of formula II (Y is a >=2C tetravalent organic group) (e.g. pyromellitic dianhydride).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はポリイミドの新規な
製造方法に関するものであり、さらに詳しくは、高耐熱
性、高接着性、良絶縁性、低吸湿性、低誘電特性等の諸
物性および加工性に優れたポリイミドを、炭化水素溶媒
中でテトラカルボン酸二無水物あるいはその誘導体とジ
アミノ化合物を反応させることにより、安易かつ安価な
製造条件で得る方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel method for producing a polyimide, and more specifically, it has various physical properties such as high heat resistance, high adhesiveness, good insulating property, low hygroscopicity, low dielectric property and processing. The present invention relates to a method for obtaining a polyimide having excellent properties under an easy and inexpensive production condition by reacting a tetracarboxylic dianhydride or its derivative with a diamino compound in a hydrocarbon solvent.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミドはその高耐熱性に加え、機械
的強度や電気絶縁性に優れた特性を活かして、電気、電
子分野において多用されている。ポリイミドの従来の製
法は、テトラカルボン酸二無水物あるいはジアルキルエ
ステルジカルボン酸に代表されるテトラカルボン酸二無
水物の官能性誘導体と、ジアミノ化合物あるいはジイソ
シアネートとを有機溶媒中で反応させるというものであ
るが、ポリイミドやその前駆体であるポリアミド酸は一
般に溶解性が悪く、反応溶媒には溶解性の高い極性溶
媒、例えばN―メチル―2―ピロリドンやN、N―ジメ
チルアセトアミド等のアミド系溶媒、ジグライム、1,
4―ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶
媒、クレゾールやクロロフェノール等のフェノール系溶
媒、γ―ブチロラクトン等のラクトン類、ニトロベンゼ
ン、ベンゾニトリル、ピリジン等が使用されている。だ
がこれらの溶媒は好ましくない点が多々ある。例えば、
ポリイミド合成に通常使われるアミド系溶媒は、ポリイ
ミドやその前駆体であるポリアミド酸と親和性が高いた
め成形後のポリイミドより完全に除去するためには高温
乾燥が必要で作業性に難があり、残留溶媒により発泡す
る恐れがある他、吸湿性が高いため成形時に白化が起き
やすい点や、溶媒自体が高価な点が好ましくない。フェ
ノール系溶媒は激しい刺激臭を有し、皮膚に付着すると
炎症を起こす。また塩素含有溶媒においては、電気、電
子用途の場合含有する塩素により腐食の危険性があり好
ましくない。
2. Description of the Related Art Polyimide is widely used in the fields of electricity and electronics because of its high heat resistance and its excellent mechanical strength and electrical insulation. A conventional method for producing a polyimide is to react a functional derivative of a tetracarboxylic acid dianhydride or a tetracarboxylic acid dianhydride represented by a dialkyl ester dicarboxylic acid with a diamino compound or a diisocyanate in an organic solvent. However, polyimide and its precursor polyamic acid generally have poor solubility, and a polar solvent having high solubility in the reaction solvent, for example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide or other amide-based solvent, Jig Lime, 1,
Ether-based solvents such as 4-dioxane and tetrahydrofuran, phenol-based solvents such as cresol and chlorophenol, lactones such as γ-butyrolactone, nitrobenzene, benzonitrile and pyridine are used. However, these solvents have many disadvantages. For example,
The amide-based solvent usually used for polyimide synthesis has high workability because it requires high-temperature drying in order to completely remove it from the polyimide after molding because it has high affinity with polyimide and its precursor polyamic acid. In addition to the possibility of foaming due to the residual solvent, it is not preferable in that it has high hygroscopicity, so whitening easily occurs during molding, and that the solvent itself is expensive. Phenolic solvents have a strong irritating odor and are irritating to the skin. In addition, chlorine-containing solvents are not preferable for electrical and electronic applications because there is a risk of corrosion due to chlorine contained therein.

【0003】また可溶性のポリイミドの簡便な合成方法
であるワンポット合成法で合成する場合には、イミド化
を完結し高分子量のポリイミドを得るため、高沸点の反
応溶媒、例えばN―メチル―2―ピロリドン、m―クレ
ゾール、ベンゾニトリル、ニトロベンゼン等を使用し
て、200℃内外の高温で副生する水を系外に除去しな
がら反応させなければならない。この場合反応温度が高
温のため作業上や合成装置面で手間がかかり、また溶媒
自体が高価なので、工業的にはより安易かつ安価な方法
が望ましい。
In the case of synthesizing a soluble polyimide by a one-pot synthesis method which is a simple synthesis method, a high boiling point reaction solvent such as N-methyl-2- is used in order to complete imidization and obtain a high molecular weight polyimide. It is necessary to use pyrrolidone, m-cresol, benzonitrile, nitrobenzene, etc., while removing water produced as a by-product at a high temperature of 200 ° C. or higher outside the reaction system. In this case, since the reaction temperature is high, it is troublesome in work and in terms of a synthesis apparatus, and the solvent itself is expensive. Therefore, an industrially easier and cheaper method is desirable.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、溶媒
除去が容易で、吸湿性が低く、低沸点で安価な溶媒中
で、ポリイミドを製造する方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing a polyimide in a solvent which is easy to remove the solvent, has a low hygroscopic property, and has a low boiling point and is inexpensive.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、反応溶媒として炭化水素を用いることにより上
記目的を果たすことができること、また特定な構造を有
するポリイミドが変性を行わずともイミド化後も溶媒可
溶性を保持し、特に炭化水素溶媒にも良く溶解すること
を見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、炭
化水素溶媒中でテトラカルボン酸二無水物あるいはその
ジエステルジカルボン酸誘導体とジアミノ化合物を反応
させることを特徴とするポリイミドの製造方法に関する
ものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive investigations by the present inventors, it has been found that the use of hydrocarbon as a reaction solvent can achieve the above-mentioned object and that a polyimide having a specific structure can be modified without modification. The present invention was completed based on the finding that it retains solvent solubility even after being formed, and is particularly well dissolved in a hydrocarbon solvent. That is, the present invention relates to a method for producing a polyimide, which comprises reacting a tetracarboxylic dianhydride or its diester dicarboxylic acid derivative with a diamino compound in a hydrocarbon solvent.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明で製造されるポリイミド
は、一般式(1)
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polyimide produced by the present invention has the general formula (1)

【0007】[0007]

【化5】 (式中、Xは炭素数1〜20の炭化水素基または硫黄原
子を表す。Rはハロゲン原子、炭素数1〜6の炭化水素
基または炭素数1〜6の含ハロゲン炭化水素基を表し、
aは0〜4の整数で置換基の数を表す。但し、複数のR
およびaはそれぞれ独立に異なった置換基および値をと
りうる。)で表されるジアミノ化合物と、一般式(2)
Embedded image (In the formula, X represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a sulfur atom. R represents a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms or a halogen-containing hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
a is an integer of 0 to 4 and represents the number of substituents. However, multiple R
And a may independently have different substituents and values. ) And a diamino compound represented by the general formula (2)

【0008】[0008]

【化6】 (式中、Yは炭素数2以上の4価の有機基を表す。)で
表されるテトラカルボン酸二無水物を反応させて得られ
るものであることが望ましい。
[Chemical 6] (In the formula, Y represents a tetravalent organic group having 2 or more carbon atoms.) Desirably, it is obtained by reacting a tetracarboxylic acid dianhydride.

【0009】一般式(1)において、Rとして使用され
るハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨ
ウ素が挙げられ、炭素数1〜6の炭化水素基および炭素
数1〜6の含ハロゲン化炭化水素基としては、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルの直鎖
または分鎖状のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニ
ル基等の炭化水素基およびこれらの炭化水素基の水素原
子の一つ以上をハロゲン原子で置換した基が挙げられ
る。
In the general formula (1), examples of the halogen atom used as R include fluorine, chlorine, bromine and iodine, and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and a halogen-containing compound having 1 to 6 carbon atoms. As the hydrocarbon group, methyl,
Hydrocarbon groups such as ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl linear or branched alkyl groups, cyclohexyl groups, phenyl groups, and groups in which one or more hydrogen atoms of these hydrocarbon groups are substituted with halogen atoms. Is mentioned.

【0010】一般式(1)において、Xとして使用され
る炭素数1〜20の炭化水素基としては、炭素数1〜6
のアルキレン基、炭素数2〜14のアルキリデン基、炭
素数7〜20のフェニルアルキリデン基または脂環構造
を含む炭素数5〜20の炭化水素基が挙げられる。炭素
数1〜6のアルキレン基の代表例としては、メチレン
基、エチレン基等、炭素数2〜14のアルキリデン基の
代表例としては、エチリデン基、プロピリデン基、ブチ
リデン基、ペンチリデン基、ヘキシリデン基、ヘプチリ
デン基等の直鎖または分鎖状のアルキリデン基、炭素数
7〜20のフェニルアルキリデン基の代表例としては、
フェニルメチリデン基、フェニルエチリデン基、フェニ
ルプロピリデン基等の直鎖または分鎖状のフェニルアル
キリデン基を挙げることができる。また、脂環構造を含
む炭素数5〜20の炭化水素基の代表例としては、式
(b)、(c)、(d)、(e)、(f)または(g)
In the general formula (1), the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms used as X has 1 to 6 carbon atoms.
And an alkylene group having 2 to 14 carbon atoms, a phenylalkylidene group having 7 to 20 carbon atoms, or a hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms and containing an alicyclic structure. Representative examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms include a methylene group and an ethylene group, and representative examples of the alkylidene group having 2 to 14 carbon atoms include an ethylidene group, a propylidene group, a butylidene group, a pentylidene group and a hexylidene group. Typical examples of a linear or branched alkylidene group such as a heptylidene group and a phenylalkylidene group having 7 to 20 carbon atoms include
Examples thereof include linear or branched phenylalkylidene groups such as phenylmethylidene group, phenylethylidene group, and phenylpropylidene group. Moreover, as a typical example of a C5-C20 hydrocarbon group containing an alicyclic structure, there may be mentioned formulas (b), (c), (d), (e), (f) or (g).

【0011】[0011]

【化7】 等で表される基およびこれらの脂環中の水素原子の1つ
以上をメチル基、エチル基等のアルキル基で置換した基
が挙げられる。この中でも式(b)、(c)および
(d)で表される基が好ましい。更に一般式(1)で表
されるジアミノ化合物のうち、式(a)
[Chemical 7] And groups in which one or more hydrogen atoms in these alicyclic groups are substituted with an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group. Among these, the groups represented by the formulas (b), (c) and (d) are preferable. Furthermore, among the diamino compounds represented by the general formula (1), those represented by the formula (a)

【0012】[0012]

【化8】 (式中、Xはブチリデン基または硫黄原子を表す。)で
表されるものも好ましい化合物の一群である。
Embedded image (In the formula, X represents a butylidene group or a sulfur atom) is also a preferred group of compounds.

【0013】一般式(1)で表されるジアミノ化合物の
代表例を示すと次の通りである。ビス〔4−(4−アミ
ノフェノキシ)−3−t−ブチル−6−メチルフェニ
ル〕スルフィド、ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)
−3−t−ブチル−6−メチルフェニル〕スルフィド、
1,1−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−3−t
−ブチル−6−メチルフェニル〕ブタン、1,1−ビス
〔3−(4−アミノフェノキシ)−3−t−ブチル−6
−メチルフェニル〕ブタン、1,1−ビス〔4−(4−
アミノフェノキシ)−3−t−ブチル−6−メチルフェ
ニル〕ペンタン、1,1−ビス〔3−(4−アミノフェ
ノキシ)−3−t−ブチル−6−メチルフェニル〕ペン
タン、1,1−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−
3−t−ブチル−6−メチルフェニル〕ヘキサン、1,
1−ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)−3−t−ブ
チル−6−メチルフェニル〕ヘキサン、1,1−ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)−3−t−ブチル−6
−メチルフェニル〕ヘプタン、1,1−ビス〔3−(4
−アミノフェノキシ)−3−t−ブチル−6−メチルフ
ェニル〕ヘプタン、ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕メンタン、ビス〔2−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕メンタン、1−〔2−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル〕−8−〔4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕メンタン、ビス〔4−(3−アミノ
フェノキシ)フェニル〕メンタン、ビス〔2−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕メンタン、1−〔2−(3
−アミノフェノキシ)フェニル〕−8−〔4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕メンタン、ビス〔4−(4
−アミノフェノキシ)−3−メチルフェニル〕メンタ
ン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジ
メチルフェニル〕メンタン、ビス〔4−(4−アミノフ
ェノキシ)−3−ブチル−6−メチルフェニル〕メンタ
ン、ビス〔4−(4−アミノ−5−メチルフェノキシ)
−3−メチルフェニル〕メンタン、ビス〔4−(4−ア
ミノ−5−メチルフェノキシ)−3,5−ジメチルフェ
ニル〕メンタン、ビス〔4−(4−アミノ−5−メチル
フェノキシ)−3−ブチル−6−メチルフェニル〕メン
タン、ビス〔2−(4−アミノフェノキシ)−3−メチ
ルフェニル〕メンタン、1−〔2−(4−アミノフェノ
キシ)−3−メチルフェニル〕−8−〔4−(4−アミ
ノフェノキシ)−3−メチルフェニル〕メンタン、ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕トリシクロ
[5,2,1,02,6 ]デカン、ビス〔2−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル〕トリシクロ[5,2,1,0
2,6 ]デカン、〔2−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕−〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕トリ
シクロ[5,2,1,02,6 ]デカン、ビス〔4−(3
−アミノフェノキシ)フェニル〕トリシクロ[5,2,
1,02,6 ]デカン、ビス〔2−(3−アミノフェノキ
シ)フェニル〕トリシクロ[5,2,1,02,6 ]デカ
ン、〔2−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕−〔4
−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕トリシクロ
[5,2,1,02,6 ]デカン、ビス〔4−(4−アミ
ノフェノキシ)−3−メチルフェニル〕トリシクロ
[5,2,1,02,6 ]デカン、ビス〔4−(4−アミ
ノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル〕トリシク
ロ[5,2,1,02,6 ]デカン、ビス〔4−(4−ア
ミノフェノキシ)−3−ブチル−6−メチルフェニル〕
トリシクロ[5,2,1,02,6 ]デカン、ビス〔4−
(4−アミノ−5−メチルフェノキシ)−3−メチルフ
ェニル〕トリシクロ[5,2,1,02,6 ]デカン、ビ
ス〔4−(4−アミノ−5−メチルフェノキシ)−3,
5−ジメチルフェニル〕トリシクロ[5,2,1,0
2,6 ]デカン、ビス〔4−(4−アミノ−5−メチルフ
ェノキシ)−3−ブチル−6−メチルフェニル〕トリシ
クロ[5,2,1,02,6 ]デカン、ビス〔2−(4−
アミノフェノキシ)−3−メチルフェニル〕トリシクロ
[5,2,1,02,6 ]デカン、〔2−(4−アミノフ
ェノキシ)−3−メチルフェニル〕−〔4−(4−アミ
ノフェノキシ)−3−メチルフェニル〕トリシクロ
[5,2,1,02,6 ]デカン等が例示される。これら
の中でも、1,1−ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)−3−t−ブチル−6−メチルフェニル〕ブタン、
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕メンタ
ンおよびビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−3,5
−ジメチルフェニル〕トリシクロ[5,2,1,
2,6 ]デカンが好ましい。
Typical examples of the diamino compound represented by the general formula (1) are as follows. Bis [4- (4-aminophenoxy) -3-t-butyl-6-methylphenyl] sulfide, bis [3- (4-aminophenoxy)
-3-t-butyl-6-methylphenyl] sulfide,
1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) -3-t
-Butyl-6-methylphenyl] butane, 1,1-bis [3- (4-aminophenoxy) -3-t-butyl-6
-Methylphenyl] butane, 1,1-bis [4- (4-
Aminophenoxy) -3-t-butyl-6-methylphenyl] pentane, 1,1-bis [3- (4-aminophenoxy) -3-t-butyl-6-methylphenyl] pentane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy)-
3-t-butyl-6-methylphenyl] hexane, 1,
1-bis [3- (4-aminophenoxy) -3-t-butyl-6-methylphenyl] hexane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) -3-t-butyl-6
-Methylphenyl] heptane, 1,1-bis [3- (4
-Aminophenoxy) -3-t-butyl-6-methylphenyl] heptane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] menthane, bis [2- (4-aminophenoxy) phenyl] mentane, 1- [2 -(4-Aminophenoxy) phenyl] -8- [4- (4-aminophenoxy) phenyl] menthane, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] mentane, bis [2- (3-aminophenoxy) phenyl ] Mentan, 1- [2- (3
-Aminophenoxy) phenyl] -8- [4- (3-aminophenoxy) phenyl] menthane, bis [4- (4
-Aminophenoxy) -3-methylphenyl] menthane, bis [4- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl] mentane, bis [4- (4-aminophenoxy) -3-butyl-6-methyl Phenyl] menthane, bis [4- (4-amino-5-methylphenoxy)
-3-Methylphenyl] menthane, bis [4- (4-amino-5-methylphenoxy) -3,5-dimethylphenyl] mentane, bis [4- (4-amino-5-methylphenoxy) -3-butyl -6-Methylphenyl] menthane, bis [2- (4-aminophenoxy) -3-methylphenyl] mentane, 1- [2- (4-aminophenoxy) -3-methylphenyl] -8- [4- ( 4-aminophenoxy) -3-methylphenyl] menthane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane, bis [2- (4-aminophenoxy) Phenyl] tricyclo [5,2,1,0
2,6 ] decane, [2- (4-aminophenoxy) phenyl]-[4- (4-aminophenoxy) phenyl] tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane, bis [4- (3
-Aminophenoxy) phenyl] tricyclo [5,2,2]
1,0 2,6] decane, bis [2- (3-aminophenoxy) phenyl] tricyclo [5,2,1,0 2,6] decane, [2- (3-aminophenoxy) phenyl] - [4
-(3-Aminophenoxy) phenyl] tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane, bis [4- (4-aminophenoxy) -3-methylphenyl] tricyclo [5,2,1,0 2 , 6 ] decane, bis [4- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl] tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane, bis [4- (4-aminophenoxy) -3 -Butyl-6-methylphenyl]
Tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane, bis [4-
(4-Amino-5-methylphenoxy) -3-methylphenyl] tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane, bis [4- (4-amino-5-methylphenoxy) -3,
5-Dimethylphenyl] tricyclo [5,2,1,0
2,6 ] decane, bis [4- (4-amino-5-methylphenoxy) -3-butyl-6-methylphenyl] tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane, bis [2- ( 4-
Aminophenoxy) -3-methylphenyl] tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane, [2- (4-aminophenoxy) -3-methylphenyl]-[4- (4-aminophenoxy)- 3-Methylphenyl] tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane and the like are exemplified. Among these, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) -3-t-butyl-6-methylphenyl] butane,
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] menthane and bis [4- (4-aminophenoxy) -3,5
-Dimethylphenyl] tricyclo [5,2,1,
0 2,6 ] decane is preferred.

【0014】一般式(1)で表されるジアミノ化合物
に、他のジアミノ化合物を混合して使用してもよい。他
のジアミノ化合物の代表例としては、以下のものが挙げ
られる。m―フェニレンジアミン、p―フェニレンジア
ミン、2,4―ジアミノトルエン、2,6―ジアミノト
ルエン、3,3’―ジアミノジフェニルエーテル、3,
4’―ジアミノジフェニルエーテル、4,4’―ジアミ
ノジフェニルエーテル、3,3’―ジアミノジフェニル
メタン、3,4’―ジアミノジフェニルメタン、4,
4’―ジアミノジフェニルメタン、3,3’,5,5’
―テトラブロモ―4,4’―ジアミノジフェニルメタ
ン、3,3’―ジアミノジフェニルスルフィド、3,
4’―ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’―ジア
ミノジフェニルスルフィド、3,3’―ジアミノジフェ
ニルスルホン、3,4’―ジアミノジフェニルスルホ
ン、4,4’―ジアミノジフェニルスルホン、1,3―
ビス(4―アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4―ビス
(4―アミノフェノキシ)ベンゼン等が例示される。こ
れらジアミノ化合物は単独あるいは2種以上混合して良
いが、良好な溶解性を得るためには、ジアミノ化合物全
量のうち一般式(1)で表されるジアミノ化合物が70
%以上占めることが望ましい。
The diamino compound represented by the general formula (1) may be mixed with another diamino compound. Representative examples of other diamino compounds include the following. m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,
4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,
4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'
-Tetrabromo-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,
4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 1,3-
Examples include bis (4-aminophenoxy) benzene and 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene. These diamino compounds may be used alone or in combination of two or more, but in order to obtain good solubility, the diamino compound represented by the general formula (1) is 70
It is desirable to occupy at least%.

【0015】一般式(2)で表されるテトラカルボン酸
二無水物は上記のジアミノ化合物と縮合反応しうるもの
であれば如何なるものも適用可能であるが、代表例とし
ては、以下のものが挙げられる。エチレンテトラカルボ
ン酸二無水物、シクロペンタンカルボン酸二無水物、ピ
ロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,
3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテ
トラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェ
ニルヘキサフルオロイソプロピリデンテトラカルボン酸
二無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、2,
3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸
二無水物、1,2,7,8−フェナントラセンテトラカ
ルボン酸二無水物、4−(1,2−ジカルボキシルエチ
ル)−4−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ−
1,2−ナフタレンジカルボン酸二無水物、2,2−ビ
ス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン二無水物、5−(1,2−ジカルボキシル
エチル)−3−メチル−1,2,5,6−テトラハイド
ロフタル酸二無水物、6−メチル−トリシクロ[6,
2,2,02,7 ]−ドデカ−6,11−ジエン−3,
4,9,10−テトラカルボン酸二無水物等が例示され
る。これらテトラカルボン酸二無水物は、単独あるいは
2種以上混合して使用される。
Any tetracarboxylic acid dianhydride represented by the general formula (2) can be applied as long as it can undergo a condensation reaction with the above-mentioned diamino compound. Typical examples are as follows. Can be mentioned. Ethylene tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane carboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3 ′
-Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,
3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride Anhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylhexafluoroisopropylidene tetracarboxylic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 2,
3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride,
1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1, 2,7,8-phenanthracene tetracarboxylic acid dianhydride, 4- (1,2-dicarboxylethyl) -4-methyl-1,2,3,4-tetrahydro-
1,2-Naphthalenedicarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 5- (1,2-dicarboxyethyl) -3-methyl -1,2,5,6-tetrahydrophthalic dianhydride, 6-methyl-tricyclo [6,6
2,2,0 2,7 ] -dodeca-6,11-diene-3,
Examples include 4,9,10-tetracarboxylic dianhydride and the like. These tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in admixture of two or more.

【0016】本発明で使用される炭化水素としてはシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キ
シレン、o―キシレン、m―キシレン、p―キシレン、
メシチレン、クメン、o―シメン、m―シメン、p―シ
メン、ソルベントナフサ等が挙げられる。これらの中で
もキシレン類が特に好ましい。これらの溶媒は単独ある
いは2種以上混合して使用しても良い。濃度は、ジアミ
ノ化合物とテトラカルボン酸二無水物の重量の和で1〜
50重量%、好ましくは5〜30重量%程度となるよう
に調製する。
Hydrocarbons used in the present invention include cyclohexane, benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, o-xylene, m-xylene, p-xylene,
Mesitylene, cumene, o-cymene, m-cymene, p-cymene, solvent naphtha and the like can be mentioned. Among these, xylenes are particularly preferable. You may use these solvent individually or in mixture of 2 or more types. The concentration is 1 to the sum of the weights of the diamino compound and the tetracarboxylic dianhydride.
It is prepared to be about 50% by weight, preferably about 5 to 30% by weight.

【0017】本発明で使用される炭化水素には、溶解性
や反応温度の調節のため、N−メチル−2−ピロリド
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、ジグライム、メチルイソブチルケトン、
m−クレゾール、γ−ブチロラクトン等の相溶する極
性溶媒を混合してもよいが、本発明の趣旨を考えると、
混合の割合は溶媒全量のうち30%程度までに留めたほ
うがよい。
Hydrocarbons used in the present invention include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, diglyme, and methylisobutyl for controlling solubility and reaction temperature. Ketone,
Although compatible polar solvents such as m-cresol and γ-butyrolactone may be mixed, considering the gist of the present invention,
It is better to keep the mixing ratio to about 30% of the total amount of the solvent.

【0018】本発明におけるポリイミドの合成方法とし
ては、ポリイミドを合成可能な方法ならいかなる方法で
も適用可能であるが、中でも、ジアミノ化合物とテトラ
カルボン酸二無水物を溶媒中熱的に反応させる、いわゆ
るワンポット合成法が好ましい。生成する水は反応溶媒
と共沸により系外に排出する。ポリイミドの合成に先だ
って原料中の水分を公知の方法で十分に除去しておき、
反応中は乾燥窒素気流下で行うことが好ましい。反応圧
力は特に限定されず、常圧で十分実施できる。反応時間
は用いるジアミノ化合物およびテトラカルボン酸二無水
物の種類、溶媒、反応温度により異なるが、通常5〜2
4時間である。
As the method for synthesizing the polyimide in the present invention, any method can be applied as long as it is a method capable of synthesizing a polyimide. Among them, a so-called thermal reaction of a diamino compound and tetracarboxylic dianhydride in a solvent The one-pot synthesis method is preferred. The water produced is azeotropically distilled with the reaction solvent and discharged out of the system. Prior to the synthesis of the polyimide, water in the raw material is sufficiently removed by a known method,
It is preferable to carry out the reaction under a stream of dry nitrogen. The reaction pressure is not particularly limited, and the reaction can be sufficiently performed at normal pressure. The reaction time varies depending on the type of diamino compound and tetracarboxylic dianhydride used, the solvent and the reaction temperature, but is usually 5 to 2
4 hours.

【0019】ジアミノ化合物とテトラカルボン酸二無水
物のモル比は1/0.5から1/2の範囲から選ばれ、
高分子量体を得たい場合には1/1に近いモル比で反応
が行われる。また分子量を制御するために、芳香族モノ
アミノ化合物や芳香族ジカルボン酸無水物を添加して、
末端を非反応性にする方法も用いることができる。反応
を促進させる触媒として、安息香酸やイソキノリン等を
添加することもできる。また得られるポリイミドの耐燃
性や接着性付与等の物性改良のため、反応型あるいは非
反応型の適当な添加剤を加えることもできる。
The molar ratio of the diamino compound and the tetracarboxylic dianhydride is selected from the range of 1 / 0.5 to 1/2,
When it is desired to obtain a high molecular weight product, the reaction is carried out at a molar ratio close to 1/1. To control the molecular weight, add an aromatic monoamino compound or an aromatic dicarboxylic acid anhydride,
A method of making the ends non-reactive can also be used. Benzoic acid, isoquinoline or the like may be added as a catalyst for promoting the reaction. Further, in order to improve the physical properties of the obtained polyimide such as imparting flame resistance and adhesiveness, an appropriate reactive or non-reactive additive may be added.

【0020】得られたポリイミドは、反応溶液をそのま
まフィルム等の成形に供することができる。または反応
溶液をメタノール等の貧溶媒に注いで生成したポリイミ
ドを沈澱させて粉末とした後、粉末をそのまま、または
適当な溶媒に再溶解させて、成形に供することもでき
る。
The obtained polyimide can be used as it is for forming a film or the like with the reaction solution. Alternatively, the reaction solution may be poured into a poor solvent such as methanol to precipitate the generated polyimide to give a powder, and the powder may be used as it is or may be redissolved in an appropriate solvent for molding.

【0021】得られたポリイミドの用途としては、電気
・電子部品の各種保護膜や層間絶縁膜、フレキシブルプ
リント基板やTABテープのベースフィルム、耐熱性接
着剤、液晶表示素子の配向膜、ガス分離膜や透過膜、成
型用樹脂等が挙げられるが、特に限定されるものではな
い。
The applications of the obtained polyimide are various protective films for electric and electronic parts, interlayer insulating films, base films for flexible printed boards and TAB tapes, heat resistant adhesives, alignment films for liquid crystal display devices, gas separation films. Examples of the material include, but are not limited to, a transparent film, a molding resin, and the like.

【0022】[0022]

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により具体
的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限される
ものではない。尚、本実施例および比較例にて用いた測
定方法および装置は次の通りである。 固有粘度ηinh.:0.5g/dlのo−キシレン溶液を
調製し、ウベローデ粘度計を使用して30℃の恒温槽中
で落下時間を測定し、次式により算出した。 ηinh.=〔ln(t/t0)〕/0.5〔dl/g〕 ただし、t :粘度計で測定される溶液の落下時間
(秒) t0 :同様に測定される溶媒の落下時間(秒) 赤外吸収スペクトル:日本分光工業社製 IR−700
装置を使用して測定した。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. The measuring methods and devices used in the examples and comparative examples are as follows. An o-xylene solution having an intrinsic viscosity η inh . : 0.5 g / dl was prepared, and the drop time was measured in a thermostat at 30 ° C. using an Ubbelohde viscometer, and calculated by the following formula. η inh. = [ln (t / t 0 )] / 0.5 [dl / g] where t: drop time (seconds) of solution measured by viscometer t 0 : drop of solvent similarly measured Time (second) Infrared absorption spectrum: IR-700 manufactured by JASCO Corporation
It was measured using the device.

【0023】実施例1 窒素ガス導入管、温度計、撹拌装置、o―キシレンを満
たしたディーン・スターク管を備えた100ml4つ口
フラスコに、ピロメリット酸二無水物2.18g(0.
01mol)およびo―キシレン24.3gを仕込み、
窒素気流下135℃まで昇温し溶解させたところへ、
1,1−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−3−t
−ブチル−6−メチルフェニル〕ブタン5.64g
(0.01mol)をo―キシレン20.0gに溶解さ
せた溶液を発熱に注意しながら滴下した。滴下と同時に
ポリアミド酸が析出したが、5分程で析出物は溶解し均
一な溶液になった。イミド化に伴い生成した水を共沸に
より系外へ除きながら窒素気流下140℃で8時間撹拌
した。赤外吸収スペクトルを測定したところ、5員環イ
ミド基の特性吸収帯である1720cm-1および178
0cm-1付近の吸収が認められるが、アミド基に由来す
る1650cm-1付近の吸収は認められず、イミド化完
結を確認した。得られたポリイミドの固有粘度は0.6
0dl/gであった。
Example 1 2.18 g of pyromellitic dianhydride (0. 0%) was placed in a 100 ml four-necked flask equipped with a nitrogen gas introduction tube, a thermometer, a stirrer, and a Dean-Stark tube filled with o-xylene.
01 mol) and 24.3 g of o-xylene,
To a place where the temperature was raised to 135 ° C under a nitrogen stream and dissolved,
1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) -3-t
-Butyl-6-methylphenyl] butane 5.64 g
A solution prepared by dissolving (0.01 mol) in 20.0 g of o-xylene was added dropwise while paying attention to heat generation. Polyamic acid was deposited at the same time as the dropping, but the deposit was dissolved in about 5 minutes to form a uniform solution. While water generated by imidization was removed from the system by azeotropic distillation, the mixture was stirred at 140 ° C. for 8 hours under a nitrogen stream. When the infrared absorption spectrum was measured, the characteristic absorption bands of the 5-membered ring imide group were 1720 cm −1 and 178 cm −1.
Absorption around 0 cm -1 was observed, but no absorption around 1650 cm -1 due to the amide group was observed, confirming the completion of imidization. The obtained polyimide has an intrinsic viscosity of 0.6
It was 0 dl / g.

【0024】実施例2 窒素ガス導入管、温度計、撹拌装置、o―キシレンを満
たしたディーン・スターク管を備えた100ml4つ口
フラスコに、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物2.94g(0.01mol)および
o―キシレン28.6gを仕込み、窒素気流下135℃
まで昇温したところ(酸二無水物は溶けきらず懸濁状
態)へ、1,1−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)
−3−t−ブチル−6−メチルフェニル〕ブタン5.6
4g(0.01mol)をo―キシレン20.0gに溶
解させた溶液を発熱に注意しながら滴下した。滴下と同
時にポリアミド酸が析出したが、20分程で析出物は溶
解し均一な溶液になった。イミド化に伴い生成した水を
共沸により系外へ除きながら窒素気流下140℃で8時
間撹拌し、赤外吸収スペクトルを測定してイミド化完結
を確認した。得られたポリイミドの固有粘度は0.55
dl/gであった。
Example 2 A 100 ml four-necked flask equipped with a nitrogen gas introduction tube, a thermometer, a stirrer, and a Dean-Stark tube filled with o-xylene was charged with 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid. 2.94 g (0.01 mol) of dianhydride and 28.6 g of o-xylene were charged, and the temperature was 135 ° C. under a nitrogen stream.
When the temperature was raised to (suspension state where the acid dianhydride was not completely dissolved), 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy)]
-3-t-Butyl-6-methylphenyl] butane 5.6
A solution prepared by dissolving 4 g (0.01 mol) in 20.0 g of o-xylene was added dropwise while paying attention to heat generation. Polyamic acid was deposited at the same time as the dropping, but the deposit was dissolved in about 20 minutes to form a uniform solution. While removing water generated by imidization from the system by azeotropic distillation, the mixture was stirred at 140 ° C. for 8 hours in a nitrogen stream, and infrared absorption spectrum was measured to confirm completion of imidization. The intrinsic viscosity of the obtained polyimide is 0.55
It was dl / g.

【0025】比較例1 窒素ガス導入管、温度計、撹拌装置を備えた100ml
4つ口フラスコに、1,1−ビス〔4−(4−アミノフ
ェノキシ)−3−t−ブチル−6−メチルフェニル〕ブ
タン5.64g(0.01mol)およびN―メチル―
2―ピロリドン44.3gを仕込み溶解させたところ
へ、ピロメリット酸二無水物2.18g(0.01mo
l)を仕込み、窒素気流下室温で一晩撹拌してポリアミ
ド酸溶液を得た。得られたポリアミド酸の固有粘度は、
0.5g/dlのN―メチル―2―ピロリドン溶液を調
製して同様に測定したところ0.63dl/gであっ
た。次にポリアミド酸溶液を140℃まで昇温し、窒素
気流下生成した水を窒素と共に系外へ除きながら20時
間撹拌したが、イミド化完結に至らなかった。
Comparative Example 1 100 ml equipped with a nitrogen gas introducing pipe, a thermometer and a stirring device
In a 4-necked flask, 5.64 g (0.01 mol) of 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) -3-t-butyl-6-methylphenyl] butane and N-methyl-
2-pyrrolidone 44.3 g was charged and dissolved, and then pyromellitic dianhydride 2.18 g (0.01 mo
1) was charged and stirred overnight at room temperature under a nitrogen stream to obtain a polyamic acid solution. The intrinsic viscosity of the obtained polyamic acid is
When a 0.5 g / dl N-methyl-2-pyrrolidone solution was prepared and measured in the same manner, it was 0.63 dl / g. Next, the temperature of the polyamic acid solution was raised to 140 ° C., and the mixture was stirred for 20 hours while removing the water produced under a nitrogen stream from the system along with nitrogen, but imidization was not completed.

【0026】比較例2 比較例1と同様にポリアミド酸溶液を得て、実施例1と
同じ8時間でイミド化が完結する反応温度を調べたとこ
ろ、190℃の反応温度が必要であった。このとき得ら
れたポリイミドの固有粘度は0.57dl/gであっ
た。
Comparative Example 2 A polyamic acid solution was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, and the reaction temperature at which imidization was completed in the same 8 hours as in Example 1 was examined. As a result, a reaction temperature of 190 ° C. was necessary. The intrinsic viscosity of the polyimide obtained at this time was 0.57 dl / g.

【0027】実施例1、2および比較例2にて得られた
ポリイミドの反応溶液をガラス板上にキャストした。比
較例2で得られた溶液はキャスト後3分もすると白化が
見られたが、実施例1および2で得られた溶液では白化
は見られなかった。実施例1および2で得られた溶液を
キャストしたものは通風オーブン中150℃で1時間、
比較例2で得られた溶液をキャストしたものは減圧下2
00℃で3時間それぞれ乾燥後剥離し、それぞれ30μ
m厚のポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムの
外観はどれもボイドや白濁等が観測されず良好であっ
た。
The polyimide reaction solutions obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 were cast on a glass plate. The solution obtained in Comparative Example 2 showed whitening even after 3 minutes from casting, but the solutions obtained in Examples 1 and 2 did not show whitening. The cast solutions of the solutions obtained in Examples 1 and 2 were stored in a ventilated oven at 150 ° C. for 1 hour,
The solution obtained in Comparative Example 2 was cast under reduced pressure.
After drying at 00 ℃ for 3 hours, peeling off, 30μ each
An m-thick polyimide film was obtained. The appearance of each of the obtained films was good with no voids or cloudiness observed.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上のように、本発明におけるポリイミ
ドの製造方法は、炭化水素溶媒中で反応させることによ
り低温短時間で反応完結させることが可能となり、また
溶媒除去が容易なため作業性や信頼性が向上し、製造そ
の他に関わる装置も簡便にできて、工業的に有用であ
る。
As described above, in the method for producing a polyimide according to the present invention, the reaction can be completed in a hydrocarbon solvent at a low temperature in a short time, and the solvent can be easily removed to improve workability and workability. The reliability is improved, and the apparatus related to manufacturing and the like can be simplified, which is industrially useful.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の合成例1のポリイミドの赤外吸収スペ
クトルを示すものである。
FIG. 1 shows an infrared absorption spectrum of a polyimide of Synthesis Example 1 of the present invention.

【図2】本発明の合成例2のポリイミドの赤外吸収スペ
クトルを示すものである。
FIG. 2 shows an infrared absorption spectrum of the polyimide of Synthesis Example 2 of the present invention.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】炭化水素溶媒中でテトラカルボン酸二無水
物あるいはそのジエステルジカルボン酸誘導体とジアミ
ノ化合物を反応させることを特徴とするポリイミドの製
造方法。
1. A process for producing a polyimide, which comprises reacting a tetracarboxylic dianhydride or its diester dicarboxylic acid derivative with a diamino compound in a hydrocarbon solvent.
【請求項2】ジアミノ化合物が、一般式(1) 【化1】 (式中、Xは炭素数1〜20の炭化水素基または硫黄原
子を表す。Rはハロゲン原子、炭素数1〜6の炭化水素
基または炭素数1〜6の含ハロゲン炭化水素基を表し、
aは0〜4の整数で置換基の数を表す。但し、複数のR
およびaはそれぞれ独立に異なった置換基および値をと
りうる。)で表される化合物であり、テトラカルボン酸
二無水物が一般式(2) 【化2】 (式中、Yは炭素数2以上の4価の有機基を表す。)で
表される化合物である請求項1記載の製造方法。
2. A diamino compound is represented by the general formula (1): (In the formula, X represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a sulfur atom. R represents a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms or a halogen-containing hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
a is an integer of 0 to 4 and represents the number of substituents. However, multiple R
And a may independently have different substituents and values. ), Wherein the tetracarboxylic acid dianhydride is represented by the general formula (2): The manufacturing method according to claim 1, which is a compound represented by the formula (Y represents a tetravalent organic group having 2 or more carbon atoms).
【請求項3】一般式(1)のジアミノ化合物が式(a) 【化3】 (式中、Xはブチリデン基または硫黄原子を表す。)で
表されるものである請求項2記載のポリイミドの製造方
法。
3. A diamino compound represented by the general formula (1) is represented by the formula (a): (In the formula, X represents a butylidene group or a sulfur atom.) The method for producing a polyimide according to claim 2.
【請求項4】一般式(1)において、Xが式(b)、
(c)または(d) 【化4】 で表されるものである請求項2記載のポリイミドの製造
方法。
4. In the general formula (1), X is the formula (b),
(C) or (d) The method for producing a polyimide according to claim 2, which is represented by:
【請求項5】一般式(1)中のエーテル酸素原子の置換
位置に対するアミノ基のそれがパラ位である請求項2、
3または4記載のポリイミドの製造方法。
5. The amino group of the general formula (1) with respect to the substitution position of the ether oxygen atom is in the para position.
3. The method for producing a polyimide according to 3 or 4.
【請求項6】炭化水素溶媒がトルエンまたはキシレンで
ある請求項1、2、3、4または5記載の製造方法。
6. The production method according to claim 1, wherein the hydrocarbon solvent is toluene or xylene.
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WO2002023276A1 (en) * 2000-09-12 2002-03-21 Pi R & D Co., Ltd. Negative photosensitive polyimide composition and method of forming image from the same

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