JPH0971060A - Photosensitive planographic form plate - Google Patents

Photosensitive planographic form plate

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Publication number
JPH0971060A
JPH0971060A JP7247063A JP24706395A JPH0971060A JP H0971060 A JPH0971060 A JP H0971060A JP 7247063 A JP7247063 A JP 7247063A JP 24706395 A JP24706395 A JP 24706395A JP H0971060 A JPH0971060 A JP H0971060A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roughness
support
less
aluminum plate
lithographic printing
Prior art date
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Pending
Application number
JP7247063A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Mori
孝博 森
Koji Takagi
宏司 高木
Yasuhisa Sugi
泰久 杉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP7247063A priority Critical patent/JPH0971060A/en
Publication of JPH0971060A publication Critical patent/JPH0971060A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve plate wearability, unstainable property of non-image areas, and hardness of generation of fine dots when printing is stopped, by providing a photosensitive composition layer on a support body and forming the support body out of an aluminum plate which is roughened and anodized and has a surface having a specified range of total area of a diagram to be formed specifically. SOLUTION: A support body is formed of an aluminum plate comprising a pure aluminum plate. The aluminum plate is roughened and anodized and a photosensitive composition layer is provided. As for its surface state, a reference linear line is drawn in parallel with the center line of the roughness at 1μm below from a top of a mountain which is third in height of a two-dimensional surface roughness curve having a measured wavelength of 0.5mm. The total area of the diagram to be formed by the reference linear line and the roughness curve higher than the reference linear line is set to 50-150μm<2> . The roughening treatment and anodization treatment are not particularly limited, but a mechanical roughening method and an electrochemical roughening method can be used for the roughening treatment.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、感光性平版印刷版及び
感光性平版印刷版の製造方法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate and a method for producing a photosensitive lithographic printing plate.

【0002】[0002]

【発明の背景】感光性平版印刷版は、親水性支持体上に
感光層を設けたもので、支持体上にポジ型感光性組成物
の層を設けてなるポジ型感光性平版印刷版、支持体上に
ネガ型感光性組成物の層を設けてなるネガ型感光性平版
印刷版がある。
BACKGROUND OF THE INVENTION A photosensitive lithographic printing plate has a photosensitive layer provided on a hydrophilic support, and is provided with a layer of a positive photosensitive composition on the support. There is a negative-working photosensitive lithographic printing plate in which a layer of a negative-working photosensitive composition is provided on a support.

【0003】従来、これら感光性平版印刷版に用いる支
持体には、印刷適性の面から、優れた親水性及び保水性
を有し、かつ、感光層との接着性が優れているものが要
求されている。
Conventionally, the support used for these photosensitive lithographic printing plates is required to have excellent hydrophilicity and water retention property and excellent adhesiveness to the photosensitive layer from the viewpoint of printability. Has been done.

【0004】これら要求を満たすために、感光性平版印
刷版用の支持体には、通常、表面に砂目立てといわれる
粗面化処理を施したアルミニウム板が用られている。こ
れら粗面化処理の方法としては、ボール研磨、ブラシ研
磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホーニング研磨等による
機械的粗面化法、塩酸、硝酸等の酸性電解液中で交流あ
るいは直流によって支持体表面を電解処理する電気化学
的粗面化法が知られている。
In order to meet these requirements, a support for a photosensitive lithographic printing plate usually uses an aluminum plate whose surface has been subjected to a roughening treatment called graining. These surface-roughening treatment methods include mechanical surface-roughening methods such as ball polishing, brush polishing, blast polishing, buff polishing, and honing polishing, and the surface of the support by alternating current or direct current in an acidic electrolytic solution such as hydrochloric acid or nitric acid. There is known an electrochemical surface-roughening method for electrolytically treating a.

【0005】これら方法で砂目立て処理したアルミニウ
ム板は、そのままでは表面が柔らかく、摩耗し易いの
で、砂目立て処理した後に、陽極酸化処理をして酸化皮
膜を形成している。このように処理されたアルミニウム
板の表面は硬く、耐摩耗性に優れているが、近年、様々
な印刷条件下での印刷が要求されてきており、これら全
ての印刷条件下で非画線部の汚れ、耐刷性を満足させる
には不十分であった。
Since the aluminum plate which has been grained by these methods has a soft surface and is easily worn as it is, it is anodized after the graining to form an oxide film. The surface of the aluminum plate treated in this way is hard and has excellent wear resistance, but in recent years, printing under various printing conditions has been required, and under all of these printing conditions, non-image areas are not printed. Was not sufficient to satisfy the stain resistance and printing durability.

【0006】また、近年、印刷物には仕上がりの良さ、
品質の高さが要求されてきており、いわゆる高精細印刷
が普及してきている。これら高精細印刷においては、小
点再現性が求められてきており、上記従来の方法で砂目
立て処理したアルミニウム板において、小点再現性を向
上させようとすると、水幅が劣化してしまい、水幅と小
点再現性を両立させることは困難であった。また、ドッ
トゲイン、K値も満足するレベルには到らなかった。
[0006] In recent years, printed matter has a good finish,
High quality has been demanded, and so-called high-definition printing has become popular. In these high-definition printing, small dot reproducibility has been demanded, and in an aluminum plate grained by the above-mentioned conventional method, when trying to improve small dot reproducibility, the water width deteriorates, It was difficult to achieve both water width and small point reproducibility. Further, the dot gain and the K value did not reach a level that satisfied them.

【0007】感光性平版印刷版の非画線部の汚れを改善
するために、陽極酸化処理の後に親水化処理を施すこと
が提案されている。例えば、特開昭56-21126号公報では
親水性樹脂と水溶性塩からなる下塗層を設ける方法が、
特開昭64-14090号公報ではカルボン酸塩からなる下塗層
を設ける方法が、特開昭63-130391号公報では少なくと
も1つのアミノ基と、カルボキシル基及びスルホ基から
選ばれた少なくとも1つの基とを有する化合物の無機酸
塩及び有機酸塩から選ばれた少なくとも1つからなる親
水層を設ける方法が、特開昭63-165183号公報では少な
くとも1つのアミノ基と、ホスホン基またはホスホン基
の塩を含む親水層を設ける方法が提案されている。しか
しながら、これらの方法で親水化処理を施し、非画線部
の汚れを改善すると耐刷性が劣化してしまい、耐刷性を
劣化させることなく非画線部の汚れを改善するはできな
かった。
It has been proposed to carry out a hydrophilizing treatment after the anodizing treatment in order to improve the stain on the non-image area of the photosensitive lithographic printing plate. For example, in JP-A-56-21126, a method of providing an undercoat layer composed of a hydrophilic resin and a water-soluble salt,
In JP-A-64-14090, a method of providing an undercoat layer made of a carboxylate is disclosed, and in JP-A-63-130391, at least one amino group and at least one selected from a carboxyl group and a sulfo group. A method of providing a hydrophilic layer comprising at least one selected from an inorganic acid salt and an organic acid salt of a compound having a group is disclosed in JP-A-63-165183, which has at least one amino group and a phosphon group or a phosphon group. There has been proposed a method of providing a hydrophilic layer containing the salt. However, if the hydrophilic treatment is applied by these methods to improve the stain on the non-printing area, the printing durability is deteriorated, and the stain on the non-printing area cannot be improved without deteriorating the printing durability. It was

【0008】また、印刷途中で、見当合わせや休憩等を
行なうためにしばらく印刷機を停止すると印刷再開時に
微点状の汚れが発生するが、上記方法ではこれらの欠点
は改善することはできなかった。
Further, if the printing machine is stopped for a while during printing to perform registration, breaks, etc., fine dot-like stains will occur when printing is resumed, but these drawbacks cannot be ameliorated. It was

【0009】感光性平版印刷版の支持体の表面の形状を
特定のものとすることにより上記の欠点を改善すること
が提案されている。例えば、米国特許第4,301,229号明
細書では支持体の表面のピット径の累積度数分布と中心
線平均粗さを規定、米国特許第3,861,917号明細書では
支持体の表面の粗面の深さを規定、カナダ特許第955,44
9号明細書では支持体の表面の粗面の山の高さと直径を
規定、ドイツ特許第1,813,443号明細書では支持体の表
面の粗面の高低差を規定、特開昭55-132294号公報では
支持体の表面の平均深さを規定、特開平5-24376号公報
では支持体の表面のピット径と径に垂直な方向の最大深
さを規定することが提案されているが、耐刷性と非画線
部の汚れの両者を共に改善するには不十分であった。特
に、印刷を再開した時に発生する微点状の汚れを解消さ
せるには不十分であった。
It has been proposed to ameliorate the above-mentioned drawbacks by making the surface shape of the support of the photosensitive lithographic printing plate specific. For example, U.S. Pat.No. 4,301,229 defines the cumulative frequency distribution of pit diameters and the center line average roughness of the surface of the support, and U.S. Pat.No. 3,861,917 defines the depth of the rough surface of the support. Canadian Patent No. 955,44
No. 9 specification defines the height and diameter of the peaks of the rough surface of the support, and German Patent No. 1,813,443 defines the height difference of the rough surface of the support, JP-A-55-132294. In JP-A-5-24376, it is proposed to specify the average depth of the surface of the support, and to specify the pit diameter on the surface of the support and the maximum depth in the direction perpendicular to the diameter. It was not sufficient to improve both the stain resistance and the non-image area stain. In particular, it was not sufficient to eliminate fine dot-like stains that occur when printing is restarted.

【0010】本発明者らは粗面の突起部分を特定の形状
とすることで、耐刷の改善、非画線部の汚れの改善、印
刷再開時に発生する微点状の汚れの改善、保水性の改
善、小点再現性の改善、ドットゲイン、K値の向上、現
像性の向上、ストップ汚れの減少ができることを見出し
た。
The present inventors improve the printing durability, the stain on the non-image area, the stain on the fine dots when the printing is restarted, and the water retention by forming the protrusions on the rough surface into a specific shape. It was found that it is possible to improve the developing property, the small point reproducibility, the dot gain, the K value, the developing property, and the stop stain.

【0011】[0011]

【発明の目的】本発明の第1の目的は、耐刷性を向上さ
せ、かつ、非画線部の汚れ難さ、特に印刷停止後の微点
状の汚れの発生しにくい感光性平版印刷版を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION A first object of the present invention is to improve the printing durability and to prevent the non-image area from being smeared, especially in the form of light-sensitive lithographic printing which is unlikely to cause fine dot-like dirt after printing is stopped. To provide a version.

【0012】本発明の第2の目的は、支持体の保水性を
維持しつつ、小点再現性を改善した感光性平版印刷版を
提供することにある。
A second object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate which improves the dot reproducibility while maintaining the water retention property of the support.

【0013】本発明の第3の目的は、ドットゲイン、K
値を向上させた感光性平版印刷版を提供することにあ
る。
A third object of the present invention is to obtain a dot gain, K
It is to provide a photosensitive lithographic printing plate having an improved value.

【0014】[0014]

【発明の構成】従って、本発明の上記第1の目的は、 (1)支持体上に感光性組成物の層を設けてなる感光性
平版印刷版において、支持体が、測定長0.5mmの2次元
の表面粗さ曲線の3番目に高い山の頂点から1μm下に
粗さの中心線と平行に引いた基準直線と該基準直線より
も上の粗さ曲線とで形成される図形の面積の合計が50μ
m2以上150μm2以下である表面を有する粗面化処理及び
陽極酸化処理を施されたアルミニウム板であること特徴
とする感光性平版印刷版。 (2)支持体上に感光性組成物の層を設けてなる感光性
平版印刷版において、支持体が、測定長0.5mmの2次元
の表面粗さ曲線の3番目に高い山の頂点から3μm下に
粗さの中心線と平行に引いた基準直線と該基準直線より
も下の粗さ曲線とで形成される図形の面積の合計が50μ
m2以上250μm2以下である表面を有する粗面化処理及び
陽極酸化処理を施されたアルミニウム板であること特徴
とする感光性平版印刷版。 (3)支持体上に感光性組成物の層を設けてなる感光性
平版印刷版において、支持体が、測定長0.5mmの2次元
の表面粗さ曲線の3番目に高い山の頂点から1μm下に
粗さの中心線と平行に引いた基準直線と該基準直線より
も上の粗さ曲線とで形成される図形の面積の合計が50μ
m2以上150μm2以下であり、かつ、3番目に高い山の頂
点から3μm下に粗さの中心線と平行に引いた基準直線
と該基準直線よりも下の粗さ曲線とで形成される図形の
面積の合計が50μm2以上250μm2以下である表面を有す
る粗面化処理及び陽極酸化処理を施されたアルミニウム
板であること特徴とする感光性平版印刷版。 (4)支持体上に感光性組成物の層を設けてなる感光性
平版印刷版において、支持体が、粗面化処理及び陽極酸
化処理を施されたアルミニウム板であり、かつ、粗面化
されたアルミニウム板の表面形態が、100μm×100μmの
範囲内において、粗面の最高点及び最低点の高さの差が
6.0μm以上10.0μm以下であり、かつ、最高点及び最低
点の高さの差を100としたときに最低点側から70の位置
における粗さの中心面と平行な平面でアルミニウム板の
粗面化された表面を切断したときの断面に形成される島
部の面積が、1000μm2以上2000μm2以下であることを特
徴とする感光性平版印刷版。 (5)最高点及び最低点の高さの差を100としたときに
最低点側から70の位置における粗さの中心面と平行な平
面でアルミニウム板の粗面化された表面を切断したとき
に断面に形成される島部の個数が、100μm×100μmの範
囲内において10以上50以下であることを特徴とする上記
(4)記載の感光性平版印刷版。 (6)支持体上に感光性組成物の層を設けてなる感光性
平版印刷版において、支持体が、粗面化処理及び陽極酸
化処理を施されたアルミニウム板であり、かつ、粗面化
されたアルミニウム板の表面形態が、100μm×100μmの
範囲内において、粗面の最高点及び最低点の高さの差が
6.0μm以上10.0μm以下であり、かつ、最高点及び最低
点の高さの差を100としたときに最低点側から50の位置
における粗さの中心面と平行な平面でアルミニウム板の
粗面化された表面を切断したときの断面に形成される海
部の面積が、1500μm2以上3000μm2以下であることを特
徴とする感光性平版印刷版。 (7)最高点及び最低点の高さの差を100としたときに
最低点側から50の位置における粗さの中心面と平行な
平面でアルミニウム板の粗面化された表面を切断したと
きの断面に形成される海部の個数が、100μm×100μmの
範囲内において、10以上50以下であることを特徴とする
上記(6)記載の感光性平版印刷版。
Accordingly, the first object of the present invention is: (1) In a photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of the photosensitive composition, the support has a measurement length of 0.5 mm. Area of a figure formed by a reference line drawn parallel to the center line of roughness 1 μm below the apex of the third highest mountain of the two-dimensional surface roughness curve and a roughness curve above the reference line Is 50μ
A photosensitive lithographic printing plate, which is an aluminum plate having a surface of m 2 or more and 150 μm 2 or less, which has been subjected to a roughening treatment and an anodization treatment. (2) In a photosensitive lithographic printing plate in which a layer of a photosensitive composition is provided on a support, the support is 3 μm from the apex of the third highest peak of a two-dimensional surface roughness curve having a measurement length of 0.5 mm. The total area of the figure formed by the reference straight line drawn parallel to the center line of the roughness below and the roughness curve below the reference straight line is 50μ.
A photosensitive lithographic printing plate which is an aluminum plate having a surface of m 2 or more and 250 μm 2 or less and which has been subjected to a roughening treatment and an anodization treatment. (3) In a photosensitive lithographic printing plate in which a layer of a photosensitive composition is provided on a support, the support is 1 μm from the apex of the third highest peak of a two-dimensional surface roughness curve having a measurement length of 0.5 mm. The total area of the figure formed by the reference straight line drawn parallel to the center line of the roughness below and the roughness curve above the reference straight line is 50μ.
m 2 or more and 150 μm 2 or less, and is formed by a reference straight line drawn parallel to the center line of roughness 3 μm below the apex of the third highest mountain and a roughness curve below the reference straight line A photosensitive lithographic printing plate, which is an aluminum plate that has been subjected to a roughening treatment and an anodizing treatment and has a surface having a total area of figures of 50 μm 2 or more and 250 μm 2 or less. (4) In a photosensitive lithographic printing plate in which a layer of a photosensitive composition is provided on a support, the support is an aluminum plate that has been subjected to surface roughening treatment and anodization, and the surface is roughened. If the surface morphology of the aluminum plate is 100 μm × 100 μm, the difference in height between the highest point and the lowest point of the rough surface is
A rough surface of the aluminum plate that is 6.0 μm or more and 10.0 μm or less, and is a plane parallel to the center plane of the roughness at a position 70 from the lowest point side when the height difference between the highest point and the lowest point is 100. A photosensitive lithographic printing plate characterized in that an area of an island portion formed in a cross section when the converted surface is cut is 1000 μm 2 or more and 2000 μm 2 or less. (5) When the roughened surface of the aluminum plate is cut by a plane parallel to the center plane of the roughness at the position 70 from the lowest point side when the height difference between the highest point and the lowest point is 100. The photosensitive lithographic printing plate as described in (4) above, wherein the number of island portions formed in the cross section is 10 or more and 50 or less within a range of 100 μm × 100 μm. (6) In a photosensitive lithographic printing plate in which a layer of a photosensitive composition is provided on a support, the support is an aluminum plate that has been subjected to surface roughening treatment and anodization, and the surface is roughened. If the surface morphology of the aluminum plate is 100 μm × 100 μm, the difference in height between the highest point and the lowest point of the rough surface is
A rough surface of the aluminum plate that is 6.0 μm or more and 10.0 μm or less and is a plane parallel to the center plane of roughness at the position 50 from the lowest point side when the height difference between the highest point and the lowest point is 100. reduction has been an area of sea to be formed in the cross section obtained by cutting the surface, a photosensitive lithographic printing plate, characterized in that at 1500 .mu.m 2 or more 3000 .mu.m 2 or less. (7) When the roughened surface of the aluminum plate is cut with a plane parallel to the center plane of the roughness at the position 50 from the lowest point side, where the height difference between the highest point and the lowest point is 100. The photosensitive lithographic printing plate as described in (6) above, wherein the number of sea parts formed in the cross section is 10 or more and 50 or less within a range of 100 μm × 100 μm.

【0015】本発明の上記第2の目的は、 (8)支持体上に感光性組成物の層を設けてなる感光性
平版印刷版において、支持体が、表面粗さがRaで0.6
μm以上0.9μm以下、Rzで3.5μm以上6.0μm以下であ
る表面を有する粗面化処理および陽極酸化処理を施され
たアルミニウム板であり、該アルミニウム板上に感光性
組成物の層を塗布し、次いで、該感光性組成物層の表面
を平滑化する工程を設けたことを特徴とする感光性平版
印刷版の製造方法。 (9)支持体上に感光性組成物の層を設けてなる感光性
平版印刷版において、支持体が、表面粗さがRaで0.6
μm以上0.9μm以下、Rzで3.5μm以上6.0μm以下であ
る表面を有する粗面化処理及び陽極酸化処理を施された
アルミニウム板であり、かつ、感光性組成物の層の表面
粗さがRaで0.1μm以上0.35μm以下、Rzで0.7μm以
上2.2μm以下であることを特徴とする感光性平版印刷
版。 (10)感光性組成物の層の表面粗さがRaで0.1μm以
上0.2μm以下、Rzで0.7μm以上1.1μm以下であること
を特徴とする上記(9)記載の感光性平版印刷版。 (11)支持体上に感光性組成物の層を設けてなる感光
性平版印刷版において、支持体が、粗面化処理及び陽極
酸化処理を施されたアルミニウム板であり、かつ、粗面
化されたアルミニウム板の表面形態が、100μm×100μm
の範囲内において、粗面の最高点及び最低点の高さの差
が6.0μm以上10.0μm以下であり、かつ、最高点及び最
低点の高さの差を100としたときに、最低点側から50の
位置における粗さの中心面と平行な平面と70の位置にお
ける粗さの中心面と平行な平面とで囲まれた範囲におけ
るアルミニウム板表面の粗面部分の投影面積が6000μm2
以上であることを特徴とする感光性平版印刷版。
The second object of the present invention is: (8) In a photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of the photosensitive composition provided thereon, the support has a surface roughness Ra of 0.6.
A roughened aluminum plate having a surface of Rm of 3.5 μm or more and 0.9 μm or less and Rz of 3.5 μm or more and 6.0 μm or less, anodized, and a layer of a photosensitive composition applied on the aluminum plate. Then, a method for producing a photosensitive lithographic printing plate is characterized by further comprising a step of smoothing the surface of the photosensitive composition layer. (9) In a photosensitive lithographic printing plate having a layer of a photosensitive composition provided on a support, the support has a surface roughness Ra of 0.6.
A surface-roughened and anodized aluminum plate having a surface with a Rz of 3.5 μm or more and 0.9 μm or less and a Rz of 3.5 μm or more and 6.0 μm or less, and the surface roughness of the layer of the photosensitive composition is Ra. Is 0.1 μm or more and 0.35 μm or less, and Rz is 0.7 μm or more and 2.2 μm or less. (10) The photosensitive lithographic printing plate as described in (9) above, wherein the surface roughness of the layer of the photosensitive composition is from 0.1 μm to 0.2 μm in Ra and from 0.7 μm to 1.1 μm in Rz. (11) In a photosensitive lithographic printing plate in which a layer of a photosensitive composition is provided on a support, the support is an aluminum plate that has been subjected to a surface roughening treatment and an anodizing treatment, and the surface is roughened. The surface morphology of the formed aluminum plate is 100 μm × 100 μm
Within the range of, the height difference between the highest point and the lowest point of the rough surface is 6.0 μm or more and 10.0 μm or less, and when the difference in height between the highest point and the lowest point is 100, the lowest point side The projection area of the rough surface portion of the aluminum plate surface in the range surrounded by the plane parallel to the center plane of roughness at the position of 50 and the plane parallel to the center plane of the roughness at position of 70 is 6000 μm 2
A photosensitive lithographic printing plate characterized by the above.

【0016】本発明の上記第3の目的は、 (12)支持体上に感光性組成物の層を設けてなる感光
性平版印刷版において、支持体が、粗面化処理及び陽極
酸化処理を施されたアルミニウム板であり、かつ、開口
径が0.5μm以上2.0μm以下の範囲内にある電気化学的粗
面化により形成されたアルミニウム板表面のピットの数
が、開口径が0.1μm以上2.0μm以下の範囲内にあるピッ
トの数の80%以上であることを特徴とする感光性平版印
刷版。 によって達成することができる。
The third object of the present invention is: (12) In a photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of the photosensitive composition provided thereon, the support undergoes a roughening treatment and an anodizing treatment. The number of pits on the surface of the aluminum plate formed by electrochemical graining is 0.5 μm or more and 2.0 μm or less, and the opening diameter is 0.1 μm or more and 2.0 μm or more. A photosensitive lithographic printing plate comprising 80% or more of the number of pits within a range of μm or less. Can be achieved by:

【0017】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0018】本発明の感光性平版印刷版の支持体に使用
されるアルミニウム板には、純アルミニウム板及びアル
ミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては
種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、
マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの
合金が用いられる。
The aluminum plate used for the support of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention includes a pure aluminum plate and an aluminum alloy plate. Various kinds of aluminum alloys can be used, for example, silicon, copper, manganese,
Alloys of aluminum with metals such as magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium and iron are used.

【0019】本発明において、アルミニウム板は、粗面
化するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処
理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレ
ン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、ト
リエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱
脂処理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソー
ダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処
理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記
脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去す
ることができる。
In the present invention, the aluminum plate is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove the rolling oil on the surface before roughening. Examples of the degreasing treatment include a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, and an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol. In the degreasing treatment, an aqueous solution of an alkali such as caustic soda can be used. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed by the above degreasing treatment alone can also be removed.

【0020】脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液
を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するの
で、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の
酸、あるいはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施
すことが好ましい。
When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is formed on the surface of the support. In this case, therefore, acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. It is preferable to perform immersion and desmut treatment.

【0021】本発明においては、アルミニウム板に粗面
化処理及び陽極酸化処理を施し、感光性組成物の層を設
けるアルミニウム板表面の形態を、 (1)測定長0.5mmの2次元の表面粗さ曲線の3番目に
高い山の頂点から1μm下に粗さの中心線と平行に引い
た基準直線と該基準直線よりも上の粗さ曲線とで形成さ
れる図形の面積の合計(以下、面積Aという。)を50μ
m2以上150μm2以下とする。 (2)測定長0.5mmの2次元の表面粗さ曲線の3番目に
高い山の頂点から3μm下に粗さの中心線と平行に引い
た基準直線と該基準直線よりも下の粗さ曲線とで形成さ
れる図形の面積の合計(以下、面積Bという。)を50μ
m2以上250μm2以下とする。 (3)面積Aを50μm2以上150μm2以下とし、かつ、面
積Bを50μm2以上250μm2以下とする。 (4)100μm×100μmの範囲内において、表面形態を、
粗面の最高点及び最低点の高さの差を6.0μm以上10.0μ
m以下とし、かつ、最高点及び最低点の高さの差を100と
したときに、最低点側から70の位置における粗さの中心
面と平行な平面でアルミニウム板の粗面化された表面を
切断したときの断面に形成される島部(突起が存在する
箇所)の面積(以下、面積Cという。)を1000μm2以上
2000μm2以下とする。 (5)最高点及び最低点の高さの差を100としたときに
最低点側から70の位置における粗さの中心面と平行な平
面でアルミニウム板の粗面化された表面を切断したとき
に断面に形成される島部の数を、100μm×100μmの範囲
内において、10以上50以下とする。 (6)100μm×100μmの範囲内において、表面形態を、
粗面の最高点及び最低点の高さの差を6.0μm以上10.0μ
m以下とし、かつ、最高点及び最低点の高さの差を100と
したときに、最低点側から50の位置における粗さの中心
面と平行な平面でアルミニウム板の粗面化された表面を
切断したときの断面に形成される海部(突起が存在しな
い箇所)の面積(以下、面積Dという。)を1500μm2
上3000μm2以下とする。 (7)最高点及び最低点の高さの差を100としたときに
最低点側から50の位置における粗さの中心面と平行な平
面でアルミニウム板の粗面化された表面を切断したとき
の断面に形成される分断された海部の数を、100μm×10
0μmの範囲内において、10以上50以下とする。 (8)表面粗さをRaで0.6μm以上0.9μm以下、Rzで
3.5μm以上6.0μm以下とする。 (9)100μm×100μmの範囲内において、表面形態を、
粗面の最高点及び最低点の高さの差が6.0μm以上10.0μ
m以下とし、かつ、最高点及び最低点の高さの差を100と
したときに、最低点側から50の位置における粗さの中心
面と平行な平面と70の位置における粗さの中心面と平行
な平面とで囲まれた範囲におけるアルミニウム板表面の
粗面部分の投影面積を6000μm2以上とする。 (10)開口径が0.5μm以上2.0μm以下の範囲内にある
電気化学的粗面化により形成されたアルミニウム板表面
のピットの数が、開口径が0.1μm以上2.0μm以下の範囲
内にあるピットの数の80%以上とする。
In the present invention, the surface of the aluminum plate on which the photosensitive composition layer is provided by subjecting the aluminum plate to surface roughening treatment and anodizing treatment is as follows: (1) Two-dimensional surface roughness with a measurement length of 0.5 mm The total area of the figure formed by the reference straight line drawn parallel to the center line of roughness 1 μm below the apex of the third highest peak of the height curve and the roughness curve above the reference straight line (hereinafter, Area A.) is 50μ
It should be m 2 or more and 150 μm 2 or less. (2) A reference straight line drawn parallel to the roughness center line 3 μm below the third highest peak of the two-dimensional surface roughness curve with a measurement length of 0.5 mm, and a roughness curve below the reference straight line The total area of the figure formed by and (hereinafter referred to as area B) is 50μ.
It should be more than m 2 and less than 250 μm 2 . (3) The area A is 50 μm 2 or more and 150 μm 2 or less, and the area B is 50 μm 2 or more and 250 μm 2 or less. (4) Surface morphology within the range of 100 μm × 100 μm
The height difference between the highest point and the lowest point of the rough surface is 6.0μm or more 10.0μ
When the height difference between the highest point and the lowest point is 100 or less, and the height difference between the highest point and the lowest point is 100, the roughened surface of the aluminum plate is a plane parallel to the center plane of the roughness at the position 70 from the lowest point side. The area (hereinafter referred to as area C) of the island portion (the portion where the protrusion exists) formed in the cross section when cut is 1000 μm 2 or more
2000μm 2 or less. (5) When the roughened surface of the aluminum plate is cut by a plane parallel to the center plane of the roughness at the position 70 from the lowest point side when the height difference between the highest point and the lowest point is 100. The number of islands formed on the cross section is 10 or more and 50 or less within the range of 100 μm × 100 μm. (6) In the range of 100 μm × 100 μm, the surface morphology is
The height difference between the highest point and the lowest point of the rough surface is 6.0μm or more 10.0μ
When the height difference between the highest point and the lowest point is 100 m or less, and the height difference between the highest point and the lowest point is 100, the roughened surface of the aluminum plate is a plane parallel to the center plane of the roughness at the position 50 from the lowest point side. area of the sea portion to be formed in the cross section obtained by cutting the (portion where the protrusion does not exist) (hereinafter, referred to as area D.) is referred to as 1500 .mu.m 2 or more 3000 .mu.m 2 or less. (7) When the roughened surface of the aluminum plate is cut with a plane parallel to the center plane of the roughness at the position 50 from the lowest point side, where the height difference between the highest point and the lowest point is 100. The number of divided sea parts formed in the cross section of 100 μm × 10
Within the range of 0 μm, it is 10 or more and 50 or less. (8) Surface roughness Ra is 0.6 μm or more and 0.9 μm or less, and Rz is
3.5 μm or more and 6.0 μm or less. (9) In the range of 100 μm × 100 μm, the surface morphology is
The height difference between the highest point and the lowest point of the rough surface is 6.0 μm or more 10.0 μ
When the height difference between the highest point and the lowest point is 100 or less and the height difference between the highest point and the lowest point is 100, the plane parallel to the center plane of the roughness at the position 50 from the lowest point side and the center plane of the roughness at the position 70 The projected area of the rough surface portion of the aluminum plate surface in the range surrounded by the plane parallel to is 6000 μm 2 or more. (10) The number of pits on the surface of the aluminum plate formed by electrochemical graining, which has an opening diameter of 0.5 μm or more and 2.0 μm or less, is in the range of 0.1 μm or more and 2.0 μm or less. 80% or more of the number of pits.

【0022】上記アルミニウム板表面の形態を得るため
に用いられる粗面化処理及び陽極酸化処理は、特に限定
されるものではないが、粗面化処理としては、機械的粗
面化処理法、電気化学的粗面化法を用いることができ
る。
The roughening treatment and the anodizing treatment used for obtaining the above-mentioned morphology of the surface of the aluminum plate are not particularly limited, but the roughening treatment includes a mechanical roughening treatment method, an electric Chemical surface roughening methods can be used.

【0023】用いられる機械的粗面化法は特に限定され
るものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が
好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径
0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、
支持体表面に、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子
を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラ
シを押しつけてを行うことができる。ホーニング研磨に
よる粗面化は、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子
を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、
支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことがで
きる。また、例えば、支持体表面に、粒径10〜100μmの
研磨剤粒子を、研摩剤粒子同士が100〜200μmの間隔で、
2.5×103〜10×103個/cm2の密度で存在するように塗布
したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パ
ターンを転写することにより粗面化を行うこともでき
る。
The mechanical surface roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. Roughening by the brush polishing method
Rotate the rotating brush using 0.2-0.8 mm brush bristles,
For example, a brush can be pressed against the surface of the support while supplying a slurry in which particles of volcanic ash having a particle size of 10 to 100 μm are uniformly dispersed in water. Roughening by honing polishing, for example, the particles of volcanic ash with a particle size of 10 ~ 100 (mu) m is uniformly dispersed in water, injected by applying pressure from a nozzle,
Roughening can be performed by obliquely colliding with the surface of the support. Further, for example, on the support surface, abrasive particles having a particle size of 10 to 100 μm, the abrasive particles are 100 to 200 μm apart,
It is also possible to carry out roughening by laminating sheets coated so as to exist at a density of 2.5 × 10 3 to 10 × 10 3 pieces / cm 2 and applying pressure to transfer the rough surface pattern of the sheet.

【0024】上記の機械的粗面化法で粗面化した後、機
械的粗面化法で用いられ、支持体の表面に食い込んだ研
磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸
またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸
としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、
塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中で
もアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアル
ミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好まし
い。
After the surface is roughened by the above-mentioned mechanical surface-roughening method, it is used in the mechanical surface-roughening method, and in order to remove the abrasives, the aluminum scraps and the like formed on the surface of the support, an acid or Immersion in an aqueous alkali solution is preferred. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid,
Hydrochloric acid or the like is used, and examples of the base include sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution. The amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 5 g / m 2 .

【0025】アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、
燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸あるいはそれらの混
酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
After the immersion treatment with an aqueous alkali solution,
It is preferable to immerse in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, and chromic acid or a mixed acid thereof to perform a neutralization treatment.

【0026】用いられる電気化学的粗面化法も特に限定
されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗
面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的
粗面化法に通常用いられる酸性電解液を使用することが
できるが、硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化
学的粗面化方法については、例えば、特公昭48-28123号
公報、英国特許第896,563号明細書、特開昭53-67507号
公報に記載されている方法を用いることができる。
The electrochemical surface-roughening method used is not particularly limited, but a method of electrochemically surface-roughening in an acidic electrolyte is preferable. As the acidic electrolytic solution, an acidic electrolytic solution usually used for an electrochemical graining method can be used, but a nitric acid-based electrolytic solution is preferably used. As the electrochemical surface-roughening method, for example, the methods described in JP-B-48-28123, British Patent 896,563, and JP-A-53-67507 can be used.

【0027】電気化学的粗面化法は、一般には、1〜50
ボルトの範囲の電圧を印加することによって行なうこと
ができるが、アルミニウム板表面の形態を本発明の形態
とするためには、印加する電圧を10〜30ボルトの範囲か
ら選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範
囲を用いることができるが、アルミニウム板表面の形態
を本発明の形態とするためには、50〜150A/dm2の範囲
から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2
範囲を用いることができるが、アルミニウム板表面の形
態を本発明の形態とするためには、100〜2000c/dm2
更には200〜1000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。
電気化学的粗面化法を行なう温度は、10〜50℃の範囲を
用いることができるが、アルミニウム板表面の形態を本
発明の形態とするためには、15〜45℃の範囲から選ぶの
が好ましい。
Electrochemical graining methods generally range from 1 to 50.
It can be carried out by applying a voltage in the range of Volt, but it is preferable to select the applied voltage from the range of 10 to 30 Volt in order to make the form of the surface of the aluminum plate the form of the present invention. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, the form of the surface of the aluminum plate to the embodiment of the present invention is preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The amount of electricity may be in the range of 100 to 5000 c / dm 2 , but in order to make the form of the aluminum plate surface the form of the present invention, 100 to 2000 c / dm 2 ,
Furthermore, it is preferable to select from the range of 200 to 1000 c / dm 2 .
The temperature for carrying out the electrochemical graining method can be used in the range of 10 to 50 ° C., but in order to make the form of the aluminum plate surface the form of the present invention, it is selected from the range of 15 to 45 ° C. Is preferred.

【0028】電解液として硝酸系電解液を用いて電気化
学的粗面化を行なう場合、一般には、1〜50ボルトの範
囲の電圧を印加することによって行なうことができる
が、アルミニウム板表面の形態を本発明の形態とするた
めには、印加する電圧を10〜30ボルトの範囲から選ぶの
が好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用い
ることができるが、アルミニウム板表面の形態を本発明
の形態とするためには、20〜100A/dm2の範囲から選ぶ
のが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用
いることができるが、アルミニウム板表面の形態を本発
明の形態とするためには、100〜2000c/dm2、更には20
0〜1000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学
的粗面化法を行なう温度は、10〜50℃の範囲を用いるこ
とができるが、アルミニウム板表面の形態を本発明の形
態とするためには、15〜45℃の範囲から選ぶのが好まし
い。
When electrochemical graining is performed using a nitric acid-based electrolyte as the electrolyte, it can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 V. In order to form the embodiment of the present invention, it is preferable to select the applied voltage from the range of 10 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, the form of the surface of the aluminum plate to the embodiment of the present invention is preferably selected from the range of 20 to 100 A / dm 2. The amount of electricity may be in the range of 100 to 5000 c / dm 2 , but in order to make the form of the surface of the aluminum plate the form of the present invention, 100 to 2000 c / dm 2 , and further 20
It is preferable to select from the range of 0 to 1000 c / dm 2 . The temperature for carrying out the electrochemical graining method can be used in the range of 10 to 50 ° C., but in order to make the form of the aluminum plate surface the form of the present invention, it is selected from the range of 15 to 45 ° C. Is preferred.

【0029】電解液における硝酸濃度は0.1〜5重量%
が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化
物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ
酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。
The nitric acid concentration in the electrolytic solution is 0.1 to 5% by weight.
Is preferred. If necessary, nitrate, chloride, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid and the like can be added to the electrolytic solution.

【0030】電解液として塩酸系電解液を用いて電気化
学的粗面化を行なう場合、一般には、1〜50ボルトの範
囲の電圧を印加することによって行なうことができる
が、アルミニウム板表面の形態を本発明の形態とするた
めには、印加する電圧を2〜30ボルトの範囲から選ぶの
が好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用い
ることができるが、アルミニウム板表面の形態を本発明
の形態とするためには、50〜150A/dm2の範囲から選ぶ
のが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用
いることができるが、アルミニウム板表面の形態を本発
明の形態とするためには、100〜2000c/dm2、更には20
0〜1000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学
的粗面化法を行なう温度は、10〜50℃の範囲を用いるこ
とができるが、アルミニウム板表面の形態を本発明の形
態とするためには、15〜45℃の範囲から選ぶのが好まし
い。
When electrochemical surface roughening is carried out using a hydrochloric acid-based electrolytic solution as the electrolytic solution, it can be generally carried out by applying a voltage in the range of 1 to 50 V. In order to make the embodiment of the present invention, it is preferable to select the applied voltage from the range of 2 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, the form of the surface of the aluminum plate to the embodiment of the present invention is preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The amount of electricity may be in the range of 100 to 5000 c / dm 2 , but in order to make the form of the surface of the aluminum plate the form of the present invention, 100 to 2000 c / dm 2 , and further 20
It is preferable to select from the range of 0 to 1000 c / dm 2 . The temperature for carrying out the electrochemical graining method can be used in the range of 10 to 50 ° C., but in order to make the form of the aluminum plate surface the form of the present invention, it is selected from the range of 15 to 45 ° C. Is preferred.

【0031】電解液における塩酸濃度は0.1〜5重量%
が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化
物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ
酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。
The concentration of hydrochloric acid in the electrolytic solution is 0.1 to 5% by weight.
Is preferred. If necessary, nitrate, chloride, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid and the like can be added to the electrolytic solution.

【0032】上記の電気化学的粗面化法で粗面化した
後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸または
アルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸として
は、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等
が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもア
ルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニ
ウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。
After the surface is roughened by the above-mentioned electrochemical surface roughening method, it is preferable to immerse it in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove aluminum scraps and the like on the surface. As the acid, for example, sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid and the like are used, and as the base, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like are used. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution. The amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 5 g / m 2 .

【0033】アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、
燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸あるいはそれらの混
酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
After the immersion treatment with an aqueous alkali solution,
It is preferable to immerse in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, and chromic acid or a mixed acid thereof to perform a neutralization treatment.

【0034】機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法
はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、また、機
械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行なっ
て粗面化してもよい。機械的粗面化処理法または電気化
学的粗面化法における処理条件は、アルミニウム板表面
の形態を本発明の形態とするように選択される。該選択
は、簡単な実験によって行なうことができる。
The mechanical surface-roughening treatment method and the electrochemical surface-roughening method may be used alone for surface-roughening, or the mechanical surface-roughening method may be followed by the electrochemical surface-roughening method. You may carry out and roughen. The processing conditions in the mechanical surface roughening method or the electrochemical surface roughening method are selected so that the form of the surface of the aluminum plate becomes the form of the present invention. The selection can be done by simple experimentation.

【0035】粗面化処理の次には、陽極酸化処理が行な
われる。
After the roughening treatment, an anodic oxidation treatment is performed.

【0036】本発明において用いることができる陽極酸
化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いる
ことができる。陽極酸化処理を行なうことにより、支持
体上には酸化皮膜が形成される。
The method of anodizing treatment that can be used in the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. By carrying out the anodizing treatment, an oxide film is formed on the support.

【0037】本発明において、陽極酸化処理には、硫酸
及び/または燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶液を電
解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解する方法が
好ましく用いられるが、他に、米国特許第1,412,768号
明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する
方法や、米国特許第3,511,661号明細書に記載されてい
る燐酸を用いて電解する方法等を用いることができる。
In the present invention, a method of electrolyzing at an electric current density of 1 to 10 A / dm 2 using an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid or the like at a concentration of 10 to 50% is preferably used for the anodizing treatment. However, in addition, a method of electrolyzing in sulfuric acid at high current density described in U.S. Pat.No. 1,412,768, a method of electrolyzing using phosphoric acid described in U.S. Pat.No. 3,511,661, etc. Can be used.

【0038】陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ
封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処
理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロ
ム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処
理等公知の方法を用いて行うことができる。
The support which has been anodized may be subjected to a sealing treatment if necessary. These sealing treatments can be performed by using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment and ammonium acetate treatment.

【0039】支持体にはさらに、親水性層を設けること
が好ましい。親水性層の形成には、米国特許第3,181,46
1号明細書に記載のアルカリ金属珪酸塩、米国特許第1,8
60,426号明細書に記載の親水性セルロース、特開昭60-1
49491号公報、特開昭63-165183号公報に記載のアミノ酸
及びその塩、特開昭60-232998号公報に記載の水酸基を
有するアミン類及びその塩、特開昭62-19494号公報に記
載の燐酸塩、特開昭59-101651号公報に記載のスルホ基
を有するモノマー単位を含む高分子化合物等を用いるこ
とができる。
It is preferable that the support is further provided with a hydrophilic layer. For the formation of the hydrophilic layer, U.S. Pat.
Alkali metal silicates described in US Pat. No. 1,8
Hydrophilic cellulose described in JP 60,426 A, JP-A-60-1
49491, amino acids and salts thereof described in JP-A-63-165183, amines having a hydroxyl group and salts thereof described in JP-A-60-232998, described in JP-A-62-19494 And the polymer compounds containing a monomer unit having a sulfo group described in JP-A-59-101651 can be used.

【0040】更に、感光性平版印刷版を重ねたときの感
光層への擦れ傷を防ぐために、また、現像時、現像液中
へのアルミニウム成分の溶出を防ぐために、特開昭50-1
51136号公報、特開昭57-63293号公報、特開昭60-73538号
公報、特開昭61-67863号公報、特開平6-35174号公報等
に記載されている、支持体裏面に保護層を設ける処理を
行うことができる。
Further, in order to prevent scratches on the photosensitive layer when the photosensitive lithographic printing plates are stacked, and to prevent the elution of the aluminum component into the developing solution at the time of development, JP-A-50-1
No. 51136, JP-A-57-63293, JP-A-60-73538, JP-A-61-67863, JP-A-6-35174, etc. The process of providing layers can be performed.

【0041】本発明の感光性平版印刷版に使用される感
光性組成物は特に限定されるものではなく、通常、感光
性平版印刷版に用いられている感光性組成物を用いるこ
とができる。本発明において用いることができる感光性
組成物としては、例えば、下記のものを挙げることがで
きる。 1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物における感光成分は、分子中
に不飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、
例えば、米国特許第3,030,208号明細書、同第3,435,237
号明細書及び同第3,622,320号明細書等に記載されてい
る如き、重合体主鎖中に感光基として
The photosensitive composition used in the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is not particularly limited, and the photosensitive composition usually used in the photosensitive lithographic printing plate can be used. Examples of the photosensitive composition that can be used in the present invention include the following. 1) Photocrosslinkable photosensitive resin composition The photosensitive component in the photocrosslinkable photosensitive resin composition comprises a photosensitive resin having an unsaturated double bond in a molecule,
For example, U.S. Pat.Nos. 3,030,208 and 3,435,237
No. 3,622,320, etc., as a photosensitive group in the polymer main chain.

【0042】[0042]

【化1】 を含む感光性樹脂及び重合体の側鎖に感光基を有するポ
リビニルシンナメート等が挙げられる。 2)光重合系感光性樹脂組成物 付加重合性不飽和化合物を含む光重合成性組成物であっ
て、二重結合を有する単量体または二重結合を有する単
量体と高分子バインダーとからなり、このような組成物
の代表的なものは、例えば、米国特許第2,760,863号明
細書及び同第2,791,504号明細書等に記載されている。
Embedded image And polyvinyl cinnamate having a photosensitive group on the side chain of the polymer. 2) Photopolymerizable photosensitive resin composition A photopolymerizable composition containing an addition-polymerizable unsaturated compound, comprising a monomer having a double bond or a monomer having a double bond, and a polymer binder. Representative examples of such a composition are described in, for example, US Pat. Nos. 2,760,863 and 2,791,504.

【0043】光重合成性組成物としては、例えば、メタ
クリル酸メチルを含む組成物、メタクリル酸メチル及び
ポリメチルメタクリレートを含む組成物、メタクリル酸
メチル、ポリメチルメタクリレート及びポリエチレング
リコールメタクリレートモノマーを含む組成物、メタク
リル酸メチル、アルキッド樹脂とポリエチレングリコー
ルジメタクリレートモノマーを含む組成物等の光重合性
組成物が挙げられる。
Examples of the photopolymerizable composition include a composition containing methyl methacrylate, a composition containing methyl methacrylate and polymethyl methacrylate, a composition containing methyl methacrylate, polymethyl methacrylate and polyethylene glycol methacrylate monomers. , A photopolymerizable composition such as a composition containing methyl methacrylate, an alkyd resin and a polyethylene glycol dimethacrylate monomer.

【0044】これら光重合系感光性樹脂組成物には、こ
の技術分野で通常知られている光重合開始剤(例えば、
べンゾインメチルエーテル等のべンゾイン誘導体、ベン
ゾフェノン等のべンゾフェノン誘導体、チオキサントン
誘導体、アントラキノン誘導体、アクリドン誘導体等)
が添加される。 3)ジアゾ化合物を含む感光性組成物 感光性組成物に用いられるジアゾ化合物の好ましい例と
しては、芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドまた
はアセトアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂
が挙げられる。特に好ましくは、p−ジアゾフェニルア
ミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮
合物の塩、例えば、へキサフルオロ燐酸塩、テトラフル
オロホウ酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前記縮
合物との反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国特
許第3,300,309号明細書中に記載されている、前記縮合
物とスルホン酸類との反応生成物であるジアゾ樹脂有機
塩等が挙げられる。
The photopolymerization type photosensitive resin composition contains a photopolymerization initiator (eg, a photopolymerization initiator) usually known in this technical field.
Benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzophenone derivatives such as benzophenone, thioxanthone derivatives, anthraquinone derivatives, acridone derivatives, etc.)
Is added. 3) Photosensitive composition containing diazo compound Preferred examples of the diazo compound used in the photosensitive composition include diazo resins represented by condensates of an aromatic diazonium salt with formaldehyde or acetaldehyde. Particularly preferably, a salt of a condensate of p-diazophenylamine with formaldehyde or acetaldehyde, for example, a reaction product of the above condensate with hexafluorophosphate, tetrafluoroborate, perchlorate or periodate. Diazo resin inorganic salts, and diazo resin organic salts, which are reaction products of the condensate and sulfonic acids described in US Pat. No. 3,300,309.

【0045】ジアゾ樹脂は、好ましくは結合剤と共に使
用される。かかる結合剤としては種々の高分子化合物を
使用することができるが、好ましくは、特開昭54-98613
号公報に記載されている芳香族性水酸基を有する単量
体、例えば、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミド、o−、m−またはp−ヒドロキシスチレン、o
−、m−またはp−ヒドロキシフェニルメタクリレート
等と他の単量体との共重合体、米国特許第4,123,276号
明細書に記載されているヒドロキシエチルアクリレート
単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位を主な
繰り返し単位として含むポリマー、シェラック、ロジン
等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第3,75
1,257号明細書に記載されている線状ポリウレタン樹
脂、ポリビニルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフ
ェノールAとエピクロルヒドリンとの縮合物であるエポ
キシ樹脂、酢酸セルロース、セルロースアセテートフタ
レート等のセルロール誘導体が挙げられる。 4)o−キノンジアジド化合物を含む感光性組成物 o−キノンジアジド化合物とは、分子中にo−キノンジ
アジド基を有する化合物であって、本発明で使用するこ
とができるo−キノンジアジド化合物としては、例え
ば、o−ナフトキノンジアジド化合物、例えば、o−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸とフェノール類及びアル
デヒド又はケトンとの重縮合樹脂とのエステル化合物等
が挙げられる。
The diazo resin is preferably used with a binder. As such a binder, various polymer compounds can be used, and preferably, a polymer is disclosed in JP-A-54-98613.
Monomer having an aromatic hydroxyl group, for example, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m- or p-hydroxystyrene , O
-, A copolymer of m- or p-hydroxyphenyl methacrylate and the like and another monomer, a hydroxyethyl acrylate unit or a hydroxyethyl methacrylate unit described in U.S. Pat.No. 4,123,276 as a main repeating unit Containing polymers, natural resins such as shellac, rosin, polyvinyl alcohol, U.S. Pat.
Examples thereof include linear polyurethane resins described in No. 1,257, phthalated resins of polyvinyl alcohol, epoxy resins which are condensates of bisphenol A and epichlorohydrin, and cellulose derivatives such as cellulose acetate and cellulose acetate phthalate. 4) Photosensitive composition containing o-quinonediazide compound The o-quinonediazide compound is a compound having an o-quinonediazide group in a molecule. Examples of the o-quinonediazide compound that can be used in the present invention include: o-Naphthoquinonediazide compounds, for example, ester compounds of o-naphthoquinonediazidesulfonic acid with phenols and polycondensation resins with aldehydes or ketones.

【0046】上記フェノール類及びアルデヒドまたはケ
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、3,5−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
Examples of the phenols in the polycondensation resin with the above-mentioned phenols and aldehydes or ketones include phenol, o-cresol, m-cresol,
Examples include monohydric phenols such as p-cresol, 3,5-xylenol, carvacrol, and thymol; dihydric phenols such as catechol, resorcinol, and hydroquinone; and trihydric phenols such as pyrogallol and phloroglucin. As the aldehyde, for example, formaldehyde,
Examples include benzaldehyde, acetaldehyde, crotonaldehyde, furfural and the like. Preferred among these are formaldehyde and benzaldehyde. Examples of the ketone include acetone, methyl ethyl ketone, and the like.

【0047】フェノール類及びアルデヒドまたはケトン
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
Specific examples of polycondensation resins with phenols and aldehydes or ketones include phenol-formaldehyde resin, m-cresol-formaldehyde resin, m-, p-mixed cresol-formaldehyde resin, resorcin-benzaldehyde resin, Examples include pyrogallol / acetone resin.

【0048】前記o−ナフトキノンジアジド化合物にお
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は、15%〜80%が好ましく、より好ましくは20%〜
45%である。
In the o-naphthoquinonediazide compound, the condensation rate of o-naphthoquinonediazide sulfonic acid with respect to the OH group of phenols (reaction rate with respect to one OH group) is preferably 15% to 80%, more preferably 20%. ~
45%.

【0049】更に本発明に用いられるo−キノンジアジ
ド化合物としては、特開昭58-43451号公報に記載の以下
の化合物も挙げることができる。即ち、例えば、1,2
−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−ベ
ンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、1,2−ナフト
キノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1,2−
キノンジアジド化合物、更に具体的には、ジェイ・コサ
ール(J.Kosar)著「ライト−センシティブ・システム
ズ」(Light-Sensitive Systems)第339〜352頁(1965
年)、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wille
y & Sons)社(ニューヨーク)やダブリュー・エス・デ
ィ・フォレスト(W.S.De Forest)著「フォトレジス
ト」(Photoresist)第50巻(1975年)、マックローヒ
ル(McGraw Hill)社(ニューヨーク)に記載されてい
る1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェ
ニルエステル、1,2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル
−N−β−ナフチル)−スルホンアミド、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエス
テル、1−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニル)−3,5−ジメチルピラゾール、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシ
ジフェニル−4′−アゾ−β−ナフトールエステル、
N,N−ジ−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホニル)−アニリン、2′−(1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−
アントラキノン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−
スルホン酸−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエス
テル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸
−2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンエステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸ク
ロリド2モルと4,4′−ジアミノベンゾフェノン1モ
ルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸クロリド2モルと4,4′−ジヒドロキシ−
1,1′−ジフェニルスルホン酸1モルとの縮合物、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリ
ド1モルとプルプロガリン1モルとの縮合物、1,2−
ナフトキノンジアジド−5−(N−ジヒドロアビエチ
ル)−スルホンアミドなどの1,2−キノンジアジド化
合物を例示することができる。また、特公昭37-1953
号、同37-3627号、同37-13109号、同40-26126号、同40-
3801号、同45-5604号、同45-27345号、同51-13013号、
特開昭48-96575号、同48-63802号、同48-63803号各公報
に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙げるこ
とができる。
Further, as the o-quinonediazide compound used in the present invention, the following compounds described in JP-A-58-43451 can also be mentioned. That is, for example,
-Benzoquinonediazidesulfonic acid ester, 1,2-
Known 1,2- such as naphthoquinonediazidosulfonic acid ester, 1,2-benzoquinonediazidosulfonic acid amide, and 1,2-naphthoquinonediazidosulfonic acid amide
Quinonediazide compounds, more specifically, "Light-Sensitive Systems" by J. Kosar, 339-352 (1965)
Year), John Wille and Sands
y & Sons, Inc. (New York) and WSDe Forest, Photoresist, Vol. 50 (1975); McGraw Hill, New York 1,2-benzoquinonediazide-4-sulfonic acid phenyl ester, 1,2,1 ', 2'-di- (benzoquinonediazide-4-sulfonyl) -dihydroxybiphenyl, 1,2-benzoquinonediazide-4- (N- Ethyl-N-β-naphthyl) -sulfonamide, 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid cyclohexyl ester, 1- (1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl) -3,5-dimethylpyrazole, 2-Naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid-4'-hydroxydiphenyl-4'-azo-β-naphthol Tel,
N, N-di- (1,2-naphthoquinonediazido-5-sulfonyl) -aniline, 2 '-(1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyloxy) -1-hydroxy-
Anthraquinone, 1,2-naphthoquinonediazide-5
Sulfonic acid-2,4-dihydroxybenzophenone ester, 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid-2,3,4-trihydroxybenzophenone ester, 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid chloride 2 mol and 4 mol Condensate with 1 mol of 4,4'-diaminobenzophenone, 2 mol of 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid chloride and 4,4'-dihydroxy-
A condensate with 1 mol of 1,1'-diphenylsulfonic acid,
Condensate of 1 mol of 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid chloride with 1 mol of purprogalin, 1,2-
A 1,2-quinonediazide compound such as naphthoquinonediazide-5- (N-dihydroabietyl) -sulfonamide can be exemplified. In addition, Japanese Patent Publication No. 37-1953
Nos. 37-3627, 37-13109, 40-26126, 40-
No. 3801, No. 45-5604, No. 45-27345, No. 51-13013,
1,2-quinonediazide compounds described in JP-A-48-96575, JP-A-48-63802, and JP-A-48-63803 can also be mentioned.

【0050】上記o−キノンジアジド化合物のうち、
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。
Of the above o-quinonediazide compounds,
An o-quinonediazide ester compound obtained by reacting 1,2-benzoquinonediazidosulfonyl chloride or 1,2-naphthoquinonediazidosulfonylchloride with a pyrogallol-acetone condensed resin or 2,3,4-trihydroxybenzophenone is particularly preferred.

【0051】本発明において、o−キノンジアジド化合
物は、上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以
上を組合せて用いてもよい。
In the present invention, as the o-quinonediazide compound, the above compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0052】o−キノンジアジド化合物の感光性組成物
中に占める割合は、5〜60重量%が好ましく、特に好ま
しいのは、10〜50重量%である。
The proportion of the o-quinonediazide compound in the photosensitive composition is preferably 5 to 60% by weight, and particularly preferably 10 to 50% by weight.

【0053】o−キノンジアジド化合物を含む感光性組
成物には、さらにアルカリ可溶性樹脂を添加することが
好ましい。
It is preferable to further add an alkali-soluble resin to the photosensitive composition containing the o-quinonediazide compound.

【0054】本発明において、o−キノンジアジド化合
物と併用することが好ましいアルカリ可溶性樹脂として
は、例えば、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有
するビニル系重合体、特開昭55-57841号公報に記載され
ている多価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮合
樹脂等が挙げられる。
In the present invention, the alkali-soluble resin which is preferably used in combination with the o-quinonediazide compound is, for example, a novolac resin, a vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group, or JP-A-55-57841. Examples thereof include condensation resins of polyphenols with aldehydes or ketones.

【0055】上記ノボラック樹脂としては、例えば、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルム
アルデヒド樹脂、特開昭55-57841号公報に記載されてい
るようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共
重合体樹脂、特開昭55-127553号公報に記載されている
ようなp−置換フェノールとフェノールもしくはクレゾ
ールとホルムアルデヒドとの共重合体樹脂等が挙げられ
る。
Examples of the novolak resin include phenol / formaldehyde resin, cresol / formaldehyde resin, phenol / cresol / formaldehyde copolymer resin as described in JP-A-55-57841, and JP-A-55. Copolymer resins of p-substituted phenol and phenol or cresol and formaldehyde as described in JP-A-127553.

【0056】ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレン標
準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×102〜7.5
0×103、重量平均分子量Mwが1.00×103〜3.00×104
より好ましくはMnが5.00×102〜4.00×103、Mwが3.
00×103〜2.00×104である。
The molecular weight (polystyrene standard) of the novolak resin is preferably such that the number average molecular weight Mn is 3.00 × 10 2 to 7.5.
0 × 10 3 , weight average molecular weight Mw is 1.00 × 10 3 to 3.00 × 10 4 ,
More preferably, Mn is 5.00 × 10 2 to 4.00 × 10 3 , and Mw is 3.
00 × 10 3 to 2.00 × 10 4 .

【0057】上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよい
し、2種以上を組合せて用いてもよい。
The above novolak resins may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0058】ノボラック樹脂を併用する場合、ノボラッ
ク樹脂は感光性組成物中に5〜95重量%含有させるのが
好ましい。
When a novolac resin is used in combination, it is preferable that the novolac resin is contained in the photosensitive composition in an amount of 5 to 95% by weight.

【0059】また、フェノール性水酸基を有するビニル
系重合体とは、該フェノール性水酸基を有する単位を分
子構造中に有する重合体であり、下記一般式[I]〜
[V]で表される構造単位を少なくとも1つの含む重合
体が好ましい。
The vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group is a polymer having a unit having a phenolic hydroxyl group in its molecular structure, and is represented by the following general formula [I] to
A polymer containing at least one structural unit represented by [V] is preferable.

【0060】[0060]

【化2】 Embedded image

【0061】一般式[I]〜一般式[V]において、R
1およびR2は、それぞれ水素原子、アルキル基又はカル
ボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。R
3は、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、
好ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のアルキ
ル基である。R4、R5は、水素原子、アルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子で
ある。Aは、窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子と
を連結する、置換基を有していてもよいアルキレン基を
表し、mは、0〜10の整数を表し、Bは、置換基を有し
ていてもよいフェニレン基又は置換基を有してもよいナ
フチレン基を表す。
In the general formulas [I] to [V], R
1 and R 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or a carboxyl group, preferably a hydrogen atom. R
3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group,
Preferred is a hydrogen atom or an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group. R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and are preferably a hydrogen atom. A represents an optionally substituted alkylene group connecting a nitrogen atom or an oxygen atom to an aromatic carbon atom, m represents an integer of 0 to 10, and B represents a substituent. Represents a phenylene group which may be substituted or a naphthylene group which may have a substituent.

【0062】本発明に用いる上記フェノール性水酸基を
有するビニル系重合体は、前記一般式[I]〜一般式
[V]でそれぞれ表される構造単位を有する共重合体型
の構造を有するものが好ましく、共重合させる単量体と
しては、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不飽和オレ
フィン類、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p
−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチレン
類、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸
類、例えば、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸
等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えば、アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、
アクリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル
酸−2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロ
ロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、エタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族
モノカルボン酸のエステル類、例えば、アクリロニトリ
ル、メタアクリロニトリル等のニトリル類、例えば、ア
クリルアミド等のアミド類、例えば、アクリルアニリ
ド、p−クロロアクリルアニリド、m−ニトロアクリル
アニリド、m−メトキシアクリルアニリド等のアニリド
類、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾ
エ酸ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル類、例え
ば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イ
ソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエー
テル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデンク
ロライド、ビニリデンシアナイド、例えば、1−メチル
−1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキシエチレ
ン、1,2−ジメトキシエチレン、1,1−ジメトキシ
カルボニルエチレン、1−メチル−1−ニトロエチレン
等のエチレン誘導体類、例えば、N−ビニルピロール、
N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−
ビニルピロリデン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニ
ル系単量体がある。これらの単量体は、不飽和二重結合
が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
The vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group used in the present invention preferably has a copolymer type structure having structural units represented by the general formulas [I] to [V]. Examples of the monomer to be copolymerized include ethylenically unsaturated olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene, for example, styrene, α-methylstyrene, p
Styrenes such as -methylstyrene and p-chlorostyrene; for example, acrylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid; for example, unsaturated aliphatic dicarboxylic acids such as itaconic acid, maleic acid, and maleic anhydride; for example, methyl acrylate , Ethyl acrylate, n-butyl acrylate,
Esters of α-methylene aliphatic monocarboxylic acids such as isobutyl acrylate, dodecyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, phenyl acrylate, α-methyl methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate and ethyl ethacrylate For example, nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile, for example, amides such as acrylamide, for example, anilides such as acrylanilide, p-chloroacrylanilide, m-nitroacrylanilide, and m-methoxyacrylanilide, for example, acetic acid Vinyl esters such as vinyl, vinyl propionate, vinyl benzoate, and vinyl acetate, for example, vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, and β-chloroethyl vinyl ether , Vinyl chloride, vinylidene chloride, vinylidene cyanide, for example, 1-methyl-1-methoxyethylene, 1,1-dimethoxyethylene, 1,2-dimethoxyethylene, 1,1-dimethoxycarbonylethylene, 1-methyl-1- Ethylene derivatives such as nitroethylene, for example, N-vinylpyrrole,
N-vinylcarbazole, N-vinylindole, N-
There are N-vinyl monomers such as vinylpyrrolidene and N-vinylpyrrolidone. These monomers are present in the polymer compound in a structure in which the unsaturated double bond is cleaved.

【0063】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。
Of the above monomers, aliphatic monocarboxylic acid esters and nitriles are preferable because they exhibit excellent performance for the purpose of the present invention.

【0064】これらの単量体は、本発明に用いられる重
合体中にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結
合していてもよい。
These monomers may be bonded to the polymer used in the present invention in either a block or random state.

【0065】フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体を併用する場合、フェノール性水酸基を有するビニル
系重合体は感光性組成物中に0.5〜70重量%含有させる
のが好ましい。
When a vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group is used in combination, the vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group is preferably contained in the photosensitive composition in an amount of 0.5 to 70% by weight.

【0066】フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又2種以上
を組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物等と組
合せて用いることもできる。
As the vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group, the above polymers may be used alone or in combination of two or more kinds. It can also be used in combination with other polymer compounds.

【0067】アルカリ可溶性樹脂を併用する場合、o−
キノンジアジド化合物の感光性組成物中に占める割合
は、5〜60重量%が好ましく、特に好ましいのは、10〜
50重量%である。
When an alkali-soluble resin is used in combination, o-
The proportion of the quinonediazide compound in the photosensitive composition is preferably 5 to 60% by weight, particularly preferably 10 to 60% by weight.
50% by weight.

【0068】更に、本発明の感光性組成物には、露光に
より可視画像を形成させるプリントアウト材料を添加す
ることができる。プリントアウト材料は、露光により酸
もしくは遊離基を生成する化合物と該生成された酸もし
くは遊離基と相互作用することによってその色調を変え
る有機染料より成るもので、露光により酸もしくは遊離
基を生成する化合物としては、例えば、特開昭50-36209
号公報に記載のo−ナフトキノンジアジド−4−スルホ
ン酸ハロゲニド、特開昭53-36223号公報に記載のトリハ
ロメチル−2−ピロンやトリハロメチル−トリアジン、
特開昭55-6244号公報に記載のo−ナフトキノンジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドと電子吸引性置換基を有
するフェノール類またはアニリンとのエステル化合物ま
たはアミド化合物、特開昭55-77742号公報、特開昭57-1
48784号公報等に記載のハロメチルビニルオキサジアゾ
ール化合物及びジアゾニウム塩等を挙げることができ、
また、有機染料としては、例えば、ビクトリアピュアー
ブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製)、パテントピュ
アーブルー(住友三国化学(株)製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業(株)製)、スーダンブルーI
I(BASF製)、クリスタルバイオレット、マラカイ
トグリーン、フクシン、メチルバイオレット、エチルバ
イオレット、メチルオレンジ、ブリリアントグリーン、
コンゴーレッド、エオシン、ローダミン66等を挙げるこ
とができる。
Furthermore, a printout material capable of forming a visible image by exposure can be added to the photosensitive composition of the present invention. Printout materials consist of a compound that generates an acid or a free radical upon exposure to light and an organic dye that changes its color by interacting with the generated acid or a free radical. As the compound, for example, JP-A-50-36209
O-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide described in JP-A-53-36223, trihalomethyl-2-pyrone and trihalomethyl-triazine described in JP-A-53-36223,
An ester compound or amide compound of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid chloride described in JP-A-55-6244 and a phenol or aniline having an electron-withdrawing substituent, JP-A-55-77742, JP-A-57-1
Examples of the halomethyl vinyl oxadiazole compound and diazonium salt described in JP 48784 publication,
Examples of organic dyes include Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue (Sumitomo Mikuni Chemical Co., Ltd.), and Oil Blue #.
603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Sudan Blue I
I (manufactured by BASF), crystal violet, malachite green, fuchsin, methyl violet, ethyl violet, methyl orange, brilliant green,
Examples thereof include Congo Red, Eosin, Rhodamine 66 and the like.

【0069】また、本発明の感光性組成物には、上記の
素材の他、必要に応じて可塑剤、界面活性剤、有機酸、
酸無水物などを添加することができる。
In addition to the above-mentioned materials, the photosensitive composition of the present invention may further contain a plasticizer, a surfactant, an organic acid, if necessary.
Acid anhydrides and the like can be added.

【0070】さらに、本発明の感光性組成物には、該感
光性組成物の感脂性を向上させるために、例えば、p−
tert−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、p−n
−オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはこ
れらの樹脂がo−キノンジアジド化合物で部分的にエス
テル化されている樹脂などを添加することもできる。
Further, in order to improve the oil sensitivity of the photosensitive composition of the present invention, for example, p-
tert-butylphenol formaldehyde resin, pn
Octylphenol formaldehyde resins or resins in which these resins are partially esterified with an o-quinonediazide compound can also be added.

【0071】本発明の感光性組成物の層は、これらの各
成分よりなる感光性組成物を溶媒に溶解又は分散した塗
布液を、支持体上に塗布し、乾燥することにより形成す
ることができる。
The layer of the photosensitive composition of the present invention may be formed by applying a coating solution prepared by dissolving or dispersing the photosensitive composition comprising each of these components in a solvent onto a support and drying it. it can.

【0072】更に本発明の感光性組成物には包接化合物
を添加することができる。
Further, an inclusion compound may be added to the photosensitive composition of the present invention.

【0073】本発明で使用することができる包接化合物
は、化学種を取り込む(包接する)ことができる化合物
であれば特に限定されないが、組成物の調製に用いる溶
剤に可溶な有機系化合物が好ましい。そのような有機系
化合物の例としては、例えば、「ホストゲストケミスト
リー」(平岡道夫ら著、講談社1984年、東京)などの成
書や「テトラヘドロンレポート」(No.226(1987)P572
5A. Colletら)、「化学工業4月号」((1991)P278新
海ら)、「化学工業4月号」((1991)P288平岡ら)な
どに示されているものが挙げられる。
The inclusion compound that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound capable of incorporating (inclusion) a chemical species, but it is an organic compound soluble in a solvent used for preparing a composition. Is preferred. Examples of such organic compounds include, for example, books such as "Host Guest Chemistry" (written by Michio Hiraoka, Kodansha, 1984, Tokyo) and "Tetrahedron Report" (No.226 (1987) P572).
5A. Collet et al.), "Chemical Industry April Issue" ((1991) P278 Shinkai et al.), "Chemical Industry April Issue" ((1991) P288 Hiraoka et al.) And the like.

【0074】本発明において好ましく使用することがで
きる包接化合物としては、例えば、環状D−グルカン
類、シクロファン類、中性ポリリガンド、環状ポリアニ
オン、環状ポリカチオン、環状ペプチド、スフェランド
(SPHERANDS)、キャビタンド(CAVITANDS)およびそれ
らの非環状類縁体が挙げられる。これらの中でも、環状
D−グルカン類及びその非環状類縁体、シクロファン
類、中性ポリリガンドが更に好ましい。
Inclusion compounds that can be preferably used in the present invention include, for example, cyclic D-glucans, cyclophanes, neutral polyligands, cyclic polyanions, cyclic polycations, cyclic peptides, SPHERANDS, Included are CAVITANDS and their acyclic analogs. Among these, cyclic D-glucans and acyclic analogs thereof, cyclophanes, and neutral polyligands are more preferable.

【0075】環状D−グルカン類およびその非環状類縁
体としては、例えば、α−D−グルコピラノースがグリ
コキシド結合によって連なった化合物が挙げられる。
Examples of cyclic D-glucans and non-cyclic analogs thereof include compounds in which α-D-glucopyranose is linked by a glycolide bond.

【0076】該化合物としては、デンプン、アミロー
ス、アミロペクチンなどのD−グルコピラノース基によ
り構成される糖質類、α−シクロデキストリン、β−シ
クロデキストリン、γ−シクロデキストリン、D−グル
コピラノース基の重合度が9以上のシクロデキストリン
などのシクロデキストリン及びSO364CH264
SO3基、NHCH2CH2NH基、NHCH2CH2NH
CH2CH2NH基、SC65基、N3基、NH2基、NE
2基、SC(NH + 2)NH2基、SH基、SCH2CH
2NH2基、イミダゾール基、エチレンジアミン基などの
置換基を導入した下記式
Examples of the compound include starch, amylose, amylopectin, and other sugars composed of D-glucopyranose groups, α-cyclodextrin, β-cyclodextrin, γ-cyclodextrin, and polymerization of D-glucopyranose group. Cyclodextrins such as cyclodextrin having a degree of 9 or more, and SO 3 C 6 H 4 CH 2 C 6 H 4
SO 3 group, NHCH 2 CH 2 NH group, NHCH 2 CH 2 NH
CH 2 CH 2 NH group, SC 6 H 5 group, N 3 group, NH 2 group, NE
t 2 group, SC (NH + 2 ) NH 2 group, SH group, SCH 2 CH
2 The following formula introducing a substituent such as NH 2 group, imidazole group, ethylenediamine group, etc.

【0077】[0077]

【化3】 で表されるD−グルカン類の修飾物が挙げられる。ま
た、下記一般式[IX]及び一般式[X]で表されるシク
ロデキストリン誘導体及び分岐シクロデキストリン、シ
クロデキストリンポリマー等も挙げられる。
Embedded image And modified D-glucans. Moreover, the cyclodextrin derivative represented by the following general formula [IX] and general formula [X], a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer, etc. are also mentioned.

【0078】[0078]

【化4】 一般式[IX]において、R1〜R3は、それぞれ同じでも
異なっていてもよく、水素原子、アルキル基または置換
アルキル基を表す。特に、R 1〜R3が水素原子あるいは
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基であるもの
が好ましく、1分子中の置換アルキル基の含有率が15%
〜50%であるものが更に好ましい。n2は4〜10の正
の整数を表す。
Embedded imageIn the general formula [IX], R1~ RThreeAre the same
May be different, hydrogen atom, alkyl group or substituted
Represents an alkyl group. In particular, R 1~ RThreeIs a hydrogen atom or
Hydroxyethyl group, hydroxypropyl group
Is preferred, and the content of substituted alkyl groups in one molecule is 15%.
It is more preferably about 50%. n2Is positive from 4 to 10
Represents an integer.

【0079】[0079]

【化5】 一般式[X]において、Rは、水素原子、−R2 −CO2
H、−R2 −SO3H、−R2−NH2または−N−
(R32(R2は、炭素数1〜5の直鎖または分岐鎖の
アルキレン基を表し、R3は、炭素数1〜5の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基を表す。
Embedded imageIn the general formula [X], R is a hydrogen atom, -R2 -CO2
H, -R2 -SOThreeH, -R2-NH2Or -N-
(RThree)2(R2Is a straight or branched chain having 1 to 5 carbon atoms.
Represents an alkylene group, RThreeIs a straight chain having 1 to 5 carbon atoms or
Represents a branched chain alkyl group.

【0080】なお、シクロデキストリンの製造例は「Jo
unal of the American Chemical Society」第71巻 第3
54頁 1949年、「Cheimish Berichte」第90巻 第2561頁
1949年,第90巻 第2561頁 1957年に記載されている
が、勿論これらに限定されるものではない。
The production example of cyclodextrin is "JoJo
unal of the American Chemical Society, Vol. 71, No. 3
P. 54, 1949, "Cheimish Berichte", vol. 90, p. 2561
1949, vol. 90, page 2561, 1957, but of course is not limited to these.

【0081】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンとは、公知のシクロデキストリンにグルコース、マル
トース、セロビオーズ、ラクトース、ショ糖、ガラクト
ース、グルコサミン等の単糖類や2糖類等の水溶性物質
を分岐付加ないし結合させたものであり、好ましくは、
シクロデキストリンにマルトースを結合させたマルトシ
ルシクロデキストリン(マルトースの結合分子数は1分
子、2分子、3分子等いずれでもよい)やシクロデキス
トリンにグルコースを結合させたグルコシルシクロデキ
ストリン(グルコースの結合分子数は1分子、2分子、
3分子等いずれでもよい)が挙げられる。
The branched cyclodextrin used in the present invention is a known cyclodextrin in which a water-soluble substance such as glucose, maltose, cellobiose, lactose, sucrose, galactose or glucosamine, or a water-soluble substance such as disaccharide is branched or added. And preferably,
Maltosylcyclodextrin in which maltose is bound to cyclodextrin (the number of molecules bound to maltose may be one, two or three) or glucosylcyclodextrin in which glucose is bound to cyclodextrin (the number of molecules bound to glucose) Is one molecule, two molecules,
Or any of three molecules).

【0082】これら分岐シクロデキストリンの具体的な
合成方法は、例えば、澱粉化学、第33巻、第2号、119
〜126頁(1986)、同127〜132頁(1986)、澱粉化学、
第30巻、第2号、231〜239頁(1983)等に記載されてお
り、これら公知の方法を参照して合成可能であり、例え
ば、マルトシルシクロデキストリンは、シクロデキスト
リンとマルトースを原料とし、イソアミラーゼやプルラ
ナーゼ等の酵素を利用してシクロデキストリンにマルト
ースを結合させる方法で製造できる。グルコシルシクロ
デキストリンも同様の方法で製造できる。
Specific methods for synthesizing these branched cyclodextrins are described in, for example, Starch Chemistry, Vol. 33, No. 2, 119.
-126 (1986), 127-132 (1986), starch chemistry,
Vol. 30, No. 2, pp. 231-239 (1983), etc., and can be synthesized with reference to these known methods. For example, maltosyl cyclodextrin can be prepared by using cyclodextrin and maltose as raw materials. And maltose by cyclodextrin using an enzyme such as isoamylase or pullulanase. Glucosylcyclodextrin can be produced in a similar manner.

【0083】本発明において、好ましく用いられる分岐
シクロデキストリンとしては、以下に示す具体的例示化
合物を挙げることができる。
In the present invention, examples of the branched cyclodextrin preferably used include the following specific exemplified compounds.

【0084】〔例示化合物〕 D−1 マルトースが1分子結合したα−シクロデキス
トリン D−2 マルトースが1分子結合したβ−シクロデキス
トリン D−3 マルトースが1分子結合したγ−シクロデキス
トリン D−4 マルト一スが2分子結合したα−シクロデキス
トリン D−5 マルトースが2分子結合したβ−シクロデキス
トリン D−6 マルトースが2分子結合したγ−シクロデキス
トリン D−7 マルトースが3分子結合したα−シクロデキス
トリン D−8 マルトースが3分子結合したβ−シクロデキス
トリン D−9 マルトースが3分子結合したγ−シクロデキス
トリン D−10 グルコースが1分子結合したα−シクロデキ
ストリン D−11 グルコースが1分子結合したβ−シクロデキ
ストリン D−12 グルコースが1分子結合したγ−シクロデキ
ストリン D−13 グルコースが2分子結合したα−シクロデキ
ストリン D−14 グルコースが2分子結合したβ−シクロデキ
ストリン D−15 グルコースが2分子結合したγ−シクロデキ
ストリン D−16 グルコースが3分子結合したα−シクロデキ
ストリン D−17 グルコースが3分子結合したβ−シクロデキ
ストリン D−18 グルコースが3分子結合したγ−シクロデキ
ストリン
[Exemplified Compounds] D-1 α-Cyclodextrin with one molecule of maltose bound D-2 β-Cyclodextrin with one molecule of maltose D-3 γ-Cyclodextrin with one molecule of maltose D-4 malto Α-Cyclodextrin with two molecules of D-sulfate D-5 β-Cyclodextrin with two molecules of maltose D-6 γ-Cyclodextrin with two molecules of maltose D-7 α-Cyclodextrin with three molecules of maltose D-8 β-Cyclodextrin with 3 molecules of maltose D-9 γ-Cyclodextrin with 3 molecules of maltose D-10 α-Cyclodextrin with 1 molecule of glucose D-11 β-with 1 molecule of glucose bonded Cyclodextrin D-12 1 molecule of glucose bound γ-cyclodextrin D-13 α-cyclodextrin with two glucose molecules bonded D-14 β-cyclodextrin with two glucose molecules bonded D-15 Gamma-cyclodextrin with two glucose molecules bonded D-16 glucose three molecules Α-cyclodextrin D-17 bound to β-cyclodextrin with three molecules of glucose D-18 γ-cyclodextrin bound to three molecules of glucose

【0085】これら分岐シクロデキストリンの構造につ
いては、HPLC,NMR,TLC(薄層クロマトグラフィー)、IN
EPT法(Insensitive nuclei enhanced by polarization
transfer)等の測定法で種々検討されてきているが、
現在の科学技術をもってしてもいまだ確定されておらず
推定構造の段階にある。しかしながら、各単糖類又は2
糖類等がシクロデキストリンに結合していることは上記
測定法で誤りのないことである。この故に、本発明にお
いては、単糖類や2糖類の多分子がシクロデキストリン
に結合している際には、例えば、以下に示すようにシク
ロデキストリンの各ぶどう糖に個々に結合している場合
や、1つのぶどう糖に直鎖状に結合しているものの両方
を包含するものである。
Regarding the structures of these branched cyclodextrins, HPLC, NMR, TLC (thin layer chromatography), IN
EPT method (Insensitive nuclei enhanced by polarization
transfer) has been studied in various ways,
Even with the current science and technology, it has not yet been finalized and is in the stage of an estimated structure. However, each monosaccharide or 2
The fact that sugars and the like are bound to cyclodextrin is correct in the above measurement method. Therefore, in the present invention, when the monosaccharide or disaccharide polymolecule is bound to cyclodextrin, for example, when individually bound to each glucose of cyclodextrin as shown below, or It includes both those linearly linked to one glucose.

【0086】[0086]

【化6】 [Chemical 6]

【0087】これら分岐シクロデキストリンにおいて、
既存のシクロデキストリンの環構造はそのまま保持され
ているので、既存のシクロデキストリンと同様な包接作
用を示し、かつ、水溶性の高いマルトースないしグルコ
ースが付加し、水ヘの溶解性が飛躍的に向上しているの
が特徴である。
In these branched cyclodextrins,
Since the ring structure of the existing cyclodextrin is kept as it is, it shows the same inclusion function as the existing cyclodextrin, and the addition of highly water-soluble maltose or glucose dramatically increases the solubility in water. The feature is that it has improved.

【0088】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンは市販品としての入手も可能であり、例えば、マルト
シルシクロデキストリンは塩水港精糖社製イソエリート
(登録商標)として市販されている。
The branched cyclodextrin used in the present invention can be obtained as a commercial product. For example, maltosyl cyclodextrin is commercially available as Isoeryte (registered trademark) manufactured by Shimizu Minato Sugar Co., Ltd.

【0089】次に、本発明に用いられるシクロデキスト
リンポリマーについて説明する。
Next, the cyclodextrin polymer used in the present invention will be described.

【0090】本発明に用いられるシクロデキストリンポ
リマーとしては、下記一般式[XI]で表されるものが好
ましい。
As the cyclodextrin polymer used in the present invention, those represented by the following general formula [XI] are preferable.

【0091】[0091]

【化7】 [Chemical 7]

【0092】本発明に用いられるシクロデキストリンポ
リマーは、シクロデキストリンを、例えば、エピクロル
ヒドリンにより架橋高分子化して製造できる。
The cyclodextrin polymer used in the present invention can be produced by crosslinking cyclodextrin with, for example, epichlorohydrin to form a crosslinked polymer.

【0093】前記シクロデキストリンポリマーは、その
水溶性すなわち水に対する溶解度が、25℃で水100ミリ
リットルに対し20g以上あることが好ましく、そのため
には上記一般式[XI]における重合度n2を3〜4とす
ればよく、この値が小さい程シクロデキストリンポリマ
ー自身の水溶性および前記物質の可溶化効果が高い。
The cyclodextrin polymer preferably has a water solubility, that is, a solubility in water of 20 g or more per 100 ml of water at 25 ° C., for that purpose, the degree of polymerization n 2 in the above general formula [XI] is 3 to 3. The lower the value, the higher the water solubility of the cyclodextrin polymer itself and the solubilizing effect of the substance.

【0094】これらシクロデキストリンポリマーは、例
えば、特開昭61-97025号公報やドイツ特許第3,544,842
号明細書等に記載された一般的な方法で合成できる。
These cyclodextrin polymers are disclosed, for example, in JP-A-61-97025 and German Patent 3,544,842.
It can be synthesized by a general method described in the specification and the like.

【0095】該シクロデキストリンポリマーについて
も、前記の如くシクロデキストリンポリマーの包接化合
物として使用してもよい。
The cyclodextrin polymer may also be used as an inclusion compound of the cyclodextrin polymer as described above.

【0096】シクロファン類とは、芳香環が種々の結合
によりつながった構造を有する環状化合物であって、多
くの化合物が知られてり、シクロファン類としては、こ
れら公知の化合物を挙げることができる。
Cyclophanes are cyclic compounds having a structure in which aromatic rings are connected by various bonds, and many compounds are known. Examples of cyclophanes include these known compounds. it can.

【0097】芳香環を結ぶ結合としては、例えば、単結
合、−(CR12m−結合、−O(CR12mO−結
合、−NH(CR12mNH−結合、−(CR12p
NR3(CR45q−結合、−(CR12p+34
(CR56q−結合、−(CR12p+3(CR4
5q−結合、−CO2−結合、−CONR−結合(こ
こで、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は、同一でも
異なっていてもよく、水素原子または炭素数1〜3のア
ルキル基を示し、m、pおよびqは、同一でも異なって
いてもよく、1〜4の整数を示す。)などが挙げられ
る。
[0097] As the bond connecting an aromatic ring, for example, a single bond, - (CR 1 R 2) m - bond, -O (CR 1 R 2) m O- bond, -NH (CR 1 R 2) m NH − Bond, − (CR 1 R 2 ) p
NR 3 (CR 4 R 5 ) q -bond,-(CR 1 R 2 ) p N + R 3 R 4
(CR 5 R 6 ) q -bond,-(CR 1 R 2 ) p S + R 3 (CR 4
R 5 ) q -bond, -CO 2 -bond, -CONR-bond (where R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 may be the same or different and a hydrogen atom Or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and m, p and q may be the same or different, and represent an integer of 1 to 4).

【0098】該化合物としては、例えば、下記式Examples of the compound include compounds represented by the following formulas:

【0099】[0099]

【化8】 で表されるパラシクロファン類、トリ−o−テイモタイ
ド、シクロトリヴェラトリレンに代表される下記式
Embedded image The following formula represented by paracyclophanes, tri-o-tymotide, and cycloriveratrilene represented by

【0100】[0100]

【化9】 で表されるオルトシクロファン類、メタシクロフファ
ン、カリックスアレン、レゾルシノール−アルデヒド環
状オリゴマーなどに代表される下記式
Embedded image The following formula represented by orthocyclophanes, metacyclophphane, calixarene, resorcinol-aldehyde cyclic oligomers represented by

【0101】[0101]

【化10】 で表されるメタシクロファン類、あるいは下記式Embedded image Metacyclophanes represented by

【0102】[0102]

【化11】 で表されるパラ置換フェノール類非環状オリゴマーが挙
げられる。
Embedded image Para-substituted phenolic acyclic oligomers represented by

【0103】中性ポリリガンドとしては、クラウン化合
物、クリプタンド、環状ポリアミンおよびそれらの非環
状類縁体が挙げられる。該化合物は、金属イオンを有効
に取り込むことが知られているが、カチオン性有機分子
も有効に取り込むことができる。
Neutral polyligands include crown compounds, cryptands, cyclic polyamines and their acyclic analogs. The compound is known to effectively incorporate metal ions, but can also effectively incorporate cationic organic molecules.

【0104】その他の包接化合物として、尿素、チオ尿
素、デオキシコール酸、ジニトロジフェニル、ヒドロキ
ノン、o−トリチモチド、オキシフラバン、ジシアノア
ンミンニッケル、ジオキシトリフェニルメタン、トリフ
ェニルメタン、メチルナフタリン、スピロクロマン、ぺ
ルヒドロトリフェニレン、粘度鉱物、グラファイト、ゼ
オライト(ホージャサイト、チャバザイト、モルデナイ
ト、レビーナイト、モンモリロナイト、ハロサイト
等)、セルロース、アミロース、タンパク質等が挙げら
れる。
Other inclusion compounds include urea, thiourea, deoxycholic acid, dinitrodiphenyl, hydroquinone, o-trithymotide, oxyflavan, dicyanoamminenickel, dioxytriphenylmethane, triphenylmethane, methylnaphthalene, spirochroman, Examples include perhydrotriphenylene, clay minerals, graphite, zeolites (faujasite, chabazite, mordenite, levinite, montmorillonite, halosite, etc.), cellulose, amylose, proteins and the like.

【0105】これらの包接化合物は、単体として添加し
てもよいが、包接化合物自身あるいは分子を取り込んだ
包接化合物の溶剤への溶解性、その他の添加剤との相溶
性を良好にするために包接能を有する置換基をポリマー
にペンダント置換基として懸垂させたポリマーを一緒に
添加してもよい。
These clathrate compounds may be added as a simple substance, but they improve the solubility of the clathrate compound itself or the clathrate compound incorporating the molecule in a solvent and the compatibility with other additives. For this reason, a polymer in which a substituent having an inclusion ability is suspended as a pendant substituent may be added together with the polymer.

【0106】該ポリマーは、例えば、特開平3-221501号
公報、特開平3-221502号公報、特開平3-221503号公報、
特開平3-221504号公報、特開平3-221505号公報に開示さ
れているような方法を用いて容易に得ることができる。
Examples of the polymer include those disclosed in JP-A-3-221501, JP-A-3-221502, and JP-A-3-221503.
It can be easily obtained by using a method as disclosed in JP-A-3-221504 and JP-A-3-221505.

【0107】上記包接化合物のうち、環状および非環状
D−グルカン類、シクロファン類、および非環状シクロ
ファン類縁体が好ましい。更に具体的には、シクロデキ
ストリン、カリックスアレン、レゾルシノール−アルデ
ヒド環状オリゴマー、パラ置換フェノール類非環状オリ
ゴマーが好ましい。
Among the above-mentioned clathrate compounds, cyclic and acyclic D-glucans, cyclophanes, and acyclic cyclophane analogs are preferable. More specifically, cyclodextrin, calixarene, resorcinol-aldehyde cyclic oligomer, and para-substituted phenols acyclic oligomer are preferred.

【0108】また、最も好ましいものとして、シクロデ
キストリン及びその誘導体が挙げられ、このうちβ−シ
クロデキストリン及びその誘導体が更に好ましい。
Cyclodextrin and its derivatives are most preferred, and β-cyclodextrin and its derivatives are more preferred.

【0109】本発明の感光性平版印刷版は、アルミニウ
ム板に粗面化処理及び陽極酸化処理を施し、アルミニウ
ム板表面の形態を、前記特定のものとした上に、上記の
感光性組成物を溶媒に溶解した塗布液を塗設し、感光性
組成物の層を設けることにより得ることができる 感光性組成物を溶解する際に使用し得る溶媒としては、
例えば、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチル
エーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピ
レングリコール、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエー
テル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジ
プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレン
グリコールメチルエチルエーテル、ギ酸エチル、ギ酸プ
ロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチ
ル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサ
ン、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、メチルシクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、
アセチルアセトン、γ−ブチロラクトン等が挙げられ
る。これらの溶媒は、単独であるいは2種以上を混合し
て使用することができる。
In the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, an aluminum plate is subjected to surface roughening treatment and anodic oxidation treatment so that the surface of the aluminum plate has the above-mentioned specific form, and the above-mentioned photosensitive composition is added. A solvent that can be obtained by applying a coating solution dissolved in a solvent and providing a layer of the photosensitive composition, can be used when dissolving the photosensitive composition.
For example, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate,
Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol Dimethyl ether, dipropylene glycol methyl ethyl ether, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, amyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, dimethylformamide Dimethyl sulfoxide, dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, diacetone alcohol,
Examples include acetylacetone and γ-butyrolactone. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0110】感光性組成物を支持体表面に塗布する際に
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、スプレー塗布、エアースプレー塗布、静電エア
ースプレー塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテ
ン塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は用途によ
り異なるが、例えば,固形分として0.05〜5.0g/m2
塗布量が好ましい。
The coating method used when the photosensitive composition is coated on the surface of the support is a conventionally known method, for example, spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, spray coating, air spray coating, Methods such as electrostatic air spray coating, roll coating, blade coating and curtain coating are used. At this time, the coating amount varies depending on the application, but for example, a coating amount of 0.05 to 5.0 g / m 2 as a solid content is preferable.

【0111】面積Aが50μm2以上150μm2以下である表
面を有する粗面化処理及び陽極酸化処理を施されたアル
ミニウム支持体は、支持体表面の突起部分の先端形状が
鋭く、印刷により感光性組成物の層が摩耗した際に、こ
の鋭い突起先端が露出し壁/柱状の構造となるため、そ
れ以上の感光性組成物の層の摩耗が防がれ、その結果、
耐刷性が向上する。面積Aが150μm2よりも大きいと、
突起先端の鋭さがなくなり、突起の頂点が平坦となるた
め、感光性組成物の層が摩耗した際には突起頂点の平坦
部が露出するため、画像の抜けが生じ、この時点で印刷
が不適正になってしまう。また、面積Aが50μm2よりも
小さいと、上記壁/柱構造の強度が不足することにな
り、耐刷性は低下する。
An aluminum support which has a surface having an area A of 50 μm 2 or more and 150 μm 2 or less and which has been subjected to roughening treatment and anodization treatment has a sharp tip shape of the protruding portion on the surface of the support, which makes it photosensitive by printing. When the layer of the composition is abraded, the sharp protrusion tips are exposed to form a wall / columnar structure, so that further abrasion of the layer of the photosensitive composition is prevented, and as a result,
Printing durability is improved. If the area A is larger than 150 μm 2 ,
Since the sharpness of the projection tip disappears and the peak of the projection becomes flat, the flat portion of the projection peak is exposed when the layer of the photosensitive composition is abraded, resulting in image loss, and at this point printing fails. It will be appropriate. When the area A is smaller than 50 μm 2 , the wall / column structure has insufficient strength, and printing durability is deteriorated.

【0112】面積Bが50μm2以上250μm2以下である表
面を有する粗面化処理及び陽極酸化処理を施されたアル
ミニウム支持体は、深さ3μm以上のピットが適度に存
在するので、湿し水が均一に蒸発し、優れた保水性が得
られ、印刷再開時に発生する微点状の汚れを改善するこ
とができる。また、広い水幅を保持することができる。
面積Bが50μm2以下では上記の効果は得られず、また、
面積Bが250μm2以上では深いピットがつながった状態
になり水を均一に蒸発させる効果が得られない。
The aluminum support which has a surface having an area B of 50 μm 2 or more and 250 μm 2 or less and which has been subjected to the roughening treatment and the anodization treatment has moderate pits with a depth of 3 μm or more. Can be uniformly evaporated, excellent water retention can be obtained, and fine dot-like stains generated when printing is restarted can be improved. Moreover, a wide water width can be maintained.
If the area B is 50 μm 2 or less, the above effect cannot be obtained.
When the area B is 250 μm 2 or more, deep pits are connected to each other and the effect of uniformly evaporating water cannot be obtained.

【0113】支持体として、表面粗さがRaで0.6μm以
上0.9μm以下、Rzで3.5μm以上6.0μm以下である表面
を有する粗面化処理および陽極酸化処理を施されたアル
ミニウム板を用い、アルミニウム板上に感光性組成物の
層を塗布した後、感光性組成物の層の表面を平滑化する
工程を設けて、感光性組成物の層の表面粗さをRaで0.
1μm以上0.35μm以下、Rzで0.7μm以上2.2μm以下、
更には、Raで0.1μm以上0.2μm以下、Rzで0.7μm以
上1.1μm以下とすることにより、支持体の保水性/広い
水幅を保持しつつ優れた小点再現性を得ることができ
る。
As the support, an aluminum plate which has a surface roughness Ra of 0.6 μm or more and 0.9 μm or less and Rz of 3.5 μm or more and 6.0 μm or less and which has been subjected to surface roughening treatment and anodization treatment is used. After applying the layer of the photosensitive composition on the aluminum plate, a step of smoothing the surface of the layer of the photosensitive composition is provided, and the surface roughness Ra of the layer of the photosensitive composition is 0.
1 μm or more and 0.35 μm or less, Rz 0.7 μm or more and 2.2 μm or less,
Further, when Ra is 0.1 μm or more and 0.2 μm or less and Rz is 0.7 μm or more and 1.1 μm or less, excellent small point reproducibility can be obtained while maintaining water retention / wide water width of the support.

【0114】感光性組成物の層の表面粗さは通常その下
地であるアルミニウム板の表面粗さの影響を受ける。ア
ルミニウム板が平滑であれば、感光性組成物の層の厚み
は全体に均一となり平滑となる。このように、厚みが均
一で平滑な感光性組成物の層において露光、現像によっ
て形成されるドットは10μm程度の小さなドットであっ
ても一定の大きさにそろい、その形状も真円に近いきれ
いな形状となる。この結果として、小点再現性は向上す
る。ただし、アルミニウム板の表面粗さがRaで0.6μm
未満もしくはRzで3.5μm未満では保水性や水幅に劣
る。
The surface roughness of the layer of the photosensitive composition is usually influenced by the surface roughness of the underlying aluminum plate. If the aluminum plate is smooth, the thickness of the layer of the photosensitive composition becomes uniform and smooth. As described above, the dots formed by exposure and development in the layer of the photosensitive composition having a uniform and smooth thickness have a uniform size even if the dots are as small as about 10 μm, and the shape thereof is also a perfect circle. It becomes the shape. As a result, the dot reproducibility is improved. However, the surface roughness of the aluminum plate is Ra 0.6 μm
If it is less than Rz or less than 3.5 μm in Rz, water retention and water width are poor.

【0115】アルミニウム板の表面粗さが粗くなると、
感光性組成物の層の厚みは不均一となり表面粗さも粗く
なる。このように、厚みが不均一で表面粗さが粗い感光
性組成物の層において露光、現像によって形成されるド
ットは、小さなドットになるほどアルミニウム板および
感光性組成物の層の凹凸の影響を受け、10μm程度の小
さなドットでは大きさが不ぞろいになり、その形状も不
定形になる。この結果として小点再現性は低下する。
When the surface roughness of the aluminum plate becomes rough,
The thickness of the layer of the photosensitive composition becomes uneven and the surface roughness becomes rough. As described above, the dots formed by exposure and development in the layer of the photosensitive composition having a non-uniform thickness and rough surface roughness are influenced by the unevenness of the aluminum plate and the layer of the photosensitive composition as the dots become smaller. , Small dots of about 10 μm have irregular sizes and irregular shapes. As a result, the small point reproducibility is lowered.

【0116】アルミニウム板の表面粗さがRaで0.6μm
以上0.9μm以下、Rzで3.5μm以上6.0μm以下である場
合に、感光性組成物の層を塗布した後にその表面粗さを
平滑化する工程を設けて、表面粗さをRaで0.1μm以上
0.35μm以下、Rzで0.7μm以上2.2μm以下、更には、
Raで0.1μm以上0.2μm以下、Rzで0.7μm以上1.1μm
以下とすることにより、露光、現像における感光性組成
物の層の表面の凹凸の影響を受けなくなるため、10μm
程度の小さなドットでも一定の大きさにそろい、その形
状も真円に近いきれいな形状となって小点再現性は良好
になり、かつ保水性、水幅ともに良好となる。
The surface roughness Ra of the aluminum plate is 0.6 μm.
When the Rz is 3.5 μm or more and the Rz is 3.5 μm or more and 6.0 μm or less, a step of smoothing the surface roughness after coating the layer of the photosensitive composition is provided, and the surface roughness Ra is 0.1 μm or more.
0.35 μm or less, Rz 0.7 μm or more and 2.2 μm or less, and further,
Ra 0.1 μm to 0.2 μm, Rz 0.7 μm to 1.1 μm
By the following, because it is not affected by the unevenness of the surface of the layer of the photosensitive composition during exposure and development, 10 μm
Even small dots have a uniform size, and the shape is also a clean shape close to a perfect circle, resulting in good small dot reproducibility, and good water retention and water width.

【0117】感光性組成物の層の表面を平滑化するに
は、例えば、感光性組成物の層を塗布した後の乾燥速度
を下げてレベリングにより平滑化させる、または、感光
性組成物の層を形成した後に、感光性組成物の層の表面
に、表面が平滑である板、例えば、Raが0.01μm以下
の平滑なガラス板を載置し、加温、加圧下で適当な時間
放置する、または、感光性組成物の層を形成した後、表
面を鏡面とした金属ロールと樹脂性ロールとの間を感光
性組成物の層が金属ロールに接するように通し、適当な
温度、圧力をかけて圧延処理を行なうといった方法があ
げられる。
To smooth the surface of the layer of the photosensitive composition, for example, after drying the layer of the photosensitive composition, the drying speed is reduced to level the surface, or the layer of the photosensitive composition is smoothed. After forming, a plate having a smooth surface, for example, a smooth glass plate having Ra of 0.01 μm or less is placed on the surface of the layer of the photosensitive composition, and the plate is allowed to stand under heating and pressure for an appropriate time. Or, after forming the layer of the photosensitive composition, the layer of the photosensitive composition is passed between the metal roll and the resin roll whose surface is a mirror surface so as to contact the metal roll, and an appropriate temperature and pressure are applied. There is a method of carrying out rolling treatment.

【0118】感光性組成物の層の表面を平滑化する工程
の後に、感光性組成物の表面にマット剤を付与しても良
い。
A matting agent may be added to the surface of the photosensitive composition after the step of smoothing the surface of the layer of the photosensitive composition.

【0119】開口径が0.5μm以上2.0μm以下の範囲内に
ある電気化学的粗面化により形成されたアルミニウム板
表面のピットの数が、開口径が0.1μm以上2.0μm以下の
範囲内にあるピットの数の80%以上である粗面化処理及
び陽極酸化処理を施されたアルミニウム支持体を用いる
ことにより、ドットゲイン、K値を改善することができ
る。
The number of pits on the surface of the aluminum plate formed by electrochemical graining having an opening diameter of 0.5 μm or more and 2.0 μm or less is in the range of 0.1 μm or more and 2.0 μm or less. The dot gain and K value can be improved by using an aluminum support which has been subjected to a surface roughening treatment and anodization treatment having 80% or more of the number of pits.

【0120】上記の開口径は、SEM写真で観察される
ピットの短径と長径の平均開口径で表す。
The above-mentioned opening diameter is represented by the average opening diameter of the short diameter and the long diameter of the pit observed in the SEM photograph.

【0121】印刷を行なうことにより、支持体上の感光
性組成物の層は、徐々に摩耗し、ついには支持体表面の
突起の頂点部分が露出する。支持体表面の突起の頂点部
分は親水性を有しているため露出部分にはインキが着肉
せず、印刷不良を起こすことになる。突起の頂点付近に
平面に近い構造を持っている部分が多い支持体の場合に
は、感光性組成物の層が摩耗し支持体の突起が露出する
と、頂点付近は平面に近い構造を持っているため、その
時点で露出した面積が多くなってしまい、印刷物には画
線の抜けが目立つようになり、印刷が不適正となってし
まう。これに対して、支持体表面の突起の頂点部分が鋭
角的な構造を持っている場合には、感光性組成物の層の
摩耗により支持体表面の突起の頂点部分が露出しても、
露出する面積は少なく、その時点では感光性組成物の層
へのインクの着肉にほとんど影響をあたえない。しか
も、その露出した支持体突起頂点がブランケットとの接
触の圧力を支える構造となるため、それ以上感光性組成
物の層が磨滅するのを防止する効果もあり耐刷性は大き
く向上する。
By carrying out the printing, the layer of the photosensitive composition on the support is gradually worn away, and finally the apex portions of the protrusions on the surface of the support are exposed. Since the apex portion of the protrusion on the surface of the support has hydrophilicity, the ink does not adhere to the exposed portion, resulting in defective printing. In the case of a support that has many portions near the apex of the protrusions that have a structure close to a plane, when the layer of the photosensitive composition is worn and the protrusions of the support are exposed, the structure near the apex has a structure close to a plane. As a result, the exposed area becomes large at that time, resulting in the noticeable omission of image lines on the printed matter, resulting in improper printing. On the other hand, when the apex portions of the protrusions on the surface of the support have an acute angle structure, even if the apex portions of the protrusions on the surface of the support are exposed due to abrasion of the layer of the photosensitive composition,
The exposed area is small, and at that time, there is almost no effect on the ink deposition on the layer of the photosensitive composition. Moreover, since the exposed protrusions of the support have a structure for supporting the pressure of contact with the blanket, there is an effect of preventing the layer of the photosensitive composition from being further worn away, and the printing durability is greatly improved.

【0122】粗面化されたアルミニウム板の表面形態
が、100μm×100μmの範囲内において、粗面の最高点及
び最低点の高さの差が6.0μm以上10.0μm以下であり、
面積Cが、100μm×100μmの10%以上20%以下、即ち、
1000μm2以上2000μm2以下である表面を有する粗面化処
理及び陽極酸化処理を施されたアルミニウム支持体は、
支持体表面に鋭い頂点を有する突起を有しているため、
優れた耐刷性が得られる。
The surface morphology of the roughened aluminum plate has a height difference between the highest point and the lowest point of the rough surface of 6.0 μm or more and 10.0 μm or less in the range of 100 μm × 100 μm,
Area C is 10% or more and 20% or less of 100 μm × 100 μm, that is,
1000 .mu.m 2 or more 2000 .mu.m 2 graining treatment and anodizing treatment applied aluminum support having at which surface or less,
Since it has protrusions with sharp vertices on the surface of the support,
Excellent printing durability can be obtained.

【0123】更に、100μm×100μmの範囲内において、
断面を形成する島部が分断されており、分断された島部
の数が10以上50以下であると、突起頂点を適度の水膜で
覆うことができる。突起の存在が疎であり、島部の数が
10未満であるときには、突起頂点が水膜で覆われにくく
なり、突起先端にインキローラーからインキが付着しや
すくなって、付着したインキがブランケットに転写する
ことによりブランケット汚れが発生しやすくなる。ま
た、突起の存在が密であり、島部の数が50よりも多いと
きには、狭い領域での凹凸が激しく、現像性に問題が出
てくる。また、100μm×100μmの範囲での最高点と最低
点との差(Rt)が6.0μm以上10.0μmであることが必
要である。Rtが6.0μm未満であると、面積Cが範囲内
であっても凹部に保持できる水量が少なく、汚れが発生
しやすくなり、湿し水の供給量を多くすると水負けし易
くなり、Rtが10.0μmより大きいと、面積Cが範囲内
であっても凹部の容積が大きくなりすぎて、湿し水の供
給量を少なくすると汚れが発生しやすくなる。面積Cが
10%以上20%以下であり、かつその領域の数を10以上50
以下とすることで、耐刷性と現像性に優れた感光性平版
印刷版を得ることができる。
Furthermore, within the range of 100 μm × 100 μm,
When the island portion forming the cross section is divided and the number of divided island portions is 10 or more and 50 or less, the protrusion apex can be covered with an appropriate water film. The presence of protrusions is sparse, and the number of islands
When it is less than 10, the protrusion apexes are less likely to be covered with the water film, ink is more likely to adhere to the tip of the protrusion from the ink roller, and the adhered ink is transferred to the blanket, so that blanket stains are likely to occur. Further, when the projections are densely present and the number of islands is more than 50, the unevenness in a narrow area is severe, which causes a problem in developability. Further, the difference (Rt) between the highest point and the lowest point in the range of 100 μm × 100 μm needs to be 6.0 μm or more and 10.0 μm. If Rt is less than 6.0 μm, the amount of water that can be retained in the recesses is small even if the area C is within the range, and stains are likely to occur. If the dampening water supply is increased, water loss tends to occur, and Rt is reduced. If it is larger than 10.0 μm, the volume of the recess becomes too large even if the area C is within the range, and if the supply amount of dampening water is reduced, stains are likely to occur. Area C is
10% or more and 20% or less, and the number of areas is 10 or more and 50
By the following, a photosensitive lithographic printing plate excellent in printing durability and developability can be obtained.

【0124】粗面化されたアルミニウム板の表面形態
が、100μm×100μmの範囲内において、粗面の最高点及
び最低点の高さの差が6.0μm以上10.0μm以下であり、
面積Dが、100μm×100μmの15%以上30%以下、即ち、
1500μm2以上3000μm2以下である表面を有する粗面化処
理及び陽極酸化処理を施されたアルミニウム支持体は、
支持体表面に適度の凹部を有しているため、保持した水
の乾燥が適度であり、非画像部に汚れが発生することが
少なく、また、小点の再現性も優れたものとなる。面積
Dが15%未満であると、凹部に保持できる水量が少な
く、乾燥が早く進むことにより、汚れが発生しやすくな
る。面積Dが30%よりも多くなると、全体の粗さが粗く
なりすぎて小点の再現性が悪くなる。また、100μm×10
0μmの範囲での最高点と最低点との差(Rt)が6.0μm
以上10.0μmであることが必要である。Rtが6.0μm未
満であると、面積Dが範囲内であっても凹部に保持でき
る水量が少なく、汚れが発生しやすくなり、湿し水の供
給量を多くすると水負けし易くなり、Rtが10.0μmよ
り大きいと、面積Dが範囲内であっても凹部の容積が大
きくなりすぎて、湿し水の供給量を少なくすると汚れが
発生しやすくなる。
The surface morphology of the roughened aluminum plate has a height difference between the highest point and the lowest point of the rough surface of 6.0 μm or more and 10.0 μm or less in the range of 100 μm × 100 μm,
The area D is 15% or more and 30% or less of 100 μm × 100 μm, that is,
1500 .mu.m 2 or more 3000 .mu.m 2 graining treatment and anodizing treatment applied aluminum support having at which surface or less,
Since the surface of the support has appropriate depressions, the water held therein is dried appropriately, stains are less likely to occur on the non-image area, and the reproducibility of small dots is excellent. If the area D is less than 15%, the amount of water that can be retained in the recesses is small, and the drying proceeds quickly, so that stains are likely to occur. If the area D is more than 30%, the overall roughness becomes too coarse and the reproducibility of small dots deteriorates. Also, 100 μm x 10
The difference (Rt) between the highest point and the lowest point in the range of 0 μm is 6.0 μm
It is necessary that the thickness is 10.0 μm or more. If Rt is less than 6.0 μm, the amount of water that can be retained in the recesses is small even if the area D is within the range, and stains are likely to occur. If it is larger than 10.0 μm, the volume of the recess becomes too large even if the area D is within the range, and if the supply amount of dampening water is reduced, stains are likely to occur.

【0125】更に、100μm×100μmの範囲内において、
断面を形成する海部が分断されており、分断された海部
の数が10以上50以下であると、湿し水の乾燥に対してよ
い影響を与え、印刷再開時に発生し易い微点状汚れを阻
止することができる。海部の存在が疎であり、その数が
10未満であるときには、凹部と凹部との間の部分の乾燥
が速まり、、微点状汚れの防止効果が弱まる。海部の存
在が密であり、その数が50よりも多いときには、狭い領
域での凹凸が激しく、現像性に問題が出てくる。面積D
が15%以上30%以下であり、かつその領域の数を10以上
50以下とすることで、微点状よごれと現像性に優れた感
光性平版印刷版を得ることができる。
Furthermore, within the range of 100 μm × 100 μm,
The sea area that forms the cross section is divided, and if the number of sea areas that are divided is 10 or more and 50 or less, it has a good effect on the drying of the dampening water, and fine spots that are likely to occur when printing is restarted. Can be stopped. The existence of Kaifu is sparse, and the number of
When it is less than 10, the portion between the concave portions is dried more quickly, and the effect of preventing fine dot-like stains is weakened. When the number of sea areas is high and the number is more than 50, the unevenness in the narrow area is severe and the developability becomes a problem. Area D
Is 15% or more and 30% or less, and the number of areas is 10 or more
When it is 50 or less, a photosensitive lithographic printing plate excellent in fine dot stains and developability can be obtained.

【0126】粗面化されたアルミニウム板の表面形態
が、100μm×100μmの範囲内において、粗面の最高点及
び最低点の高さの差が6.0μm以上10.0μm以下であり、
かつ、最高点及び最低点の高さの差を100としたとき
に、最低点側から50の位置における粗さの中心面と平行
な平面と70の位置における粗さの中心面と平行な平面と
で囲まれた範囲におけるアルミニウム板表面の粗面部分
の投影面積(測定範囲の面積から面積C及び面積Dを除
いた部分の面積)が、100μm×100μmの範囲内におい
て、60%以上、即ち、6000μm2以上であると、支持体の
突起部分及び凹部(ピット部分)以外の部分は平坦であ
り、感光性組成物の層の膜厚がミクロ的に見ても均一に
なり、版上に小さなドットがきれいに形成できるように
なり、小点再現性が良好となる。60%未満では、版上の
小さなドットの形状がきれいに形成できなくなり、小点
再現性が劣化する。また、100μm×100μmの範囲での最
高点と最低点との差(Rt)が6.0μm以上10.0μmであ
ることが必要である。Rtが6.0μm未満であると、上記
アルミニウム板表面の粗面部分の投影面積が上記の範囲
内であっても凹部に保持できる水量が少なく、汚れが発
生しやすくなり、湿し水の供給量を多くすると水負けし
易くなり、Rtが10.0μmより大きいと、上記アルミニ
ウム板表面の粗面部分の投影面積が上記の範囲内であっ
ても凹部の容積が大きくなりすぎて、湿し水の供給量を
少なくすると汚れが発生しやすくなる。
The surface morphology of the roughened aluminum plate has a height difference between the highest point and the lowest point of the rough surface of 6.0 μm or more and 10.0 μm or less within the range of 100 μm × 100 μm,
Moreover, when the difference in height between the highest point and the lowest point is 100, a plane parallel to the center plane of roughness at the position 50 from the lowest point side and a plane parallel to the center plane of roughness at the position 70. Within a range of 100 μm × 100 μm, the projected area of the rough surface portion of the aluminum plate in the area surrounded by (the area of the area excluding the area C and the area D from the measurement range) is 60% or more, that is, , 6000 μm 2 or more, the portions other than the protruding portions and the concave portions (pit portions) of the support are flat, and the film thickness of the layer of the photosensitive composition becomes uniform even when viewed microscopically, and Small dots can be formed neatly, and small dot reproducibility is improved. If it is less than 60%, the shape of small dots on the plate cannot be formed neatly, and the dot reproducibility deteriorates. Further, the difference (Rt) between the highest point and the lowest point in the range of 100 μm × 100 μm needs to be 6.0 μm or more and 10.0 μm. When Rt is less than 6.0 μm, even if the projected area of the rough surface portion of the aluminum plate is within the above range, the amount of water that can be retained in the recesses is small, stains are likely to occur, and the amount of dampening water supplied. When Rt is larger than 10.0 μm, the volume of the concave portion becomes too large even if the projected area of the rough surface portion of the aluminum plate surface is within the above range, and the dampening water is increased. If the supply amount is reduced, stains easily occur.

【0127】本発明において、 (1)測定長0.5mmの2次元の表面粗さ曲線の3番目に
高い山の頂点から1μm下に粗さの中心線と平行に引い
た基準直線と該基準直線よりも上の粗さ曲線とで形成さ
れる図形の面積の合計(面積A) (2)測定長0.5mmの2次元の表面粗さ曲線の3番目に
高い山の頂点から3μm下に粗さの中心線と平行に引い
た基準直線と該基準直線よりも下の粗さ曲線とで形成さ
れる図形の面積の合計(面積B) (3)表面粗さ(Ra及びRz) (4)アルミニウム板表面の開口径及びピットの数 (5)アルミニウム板表面の粗面の最高点及び最低点の
高さの差(Rt) (6)アルミニウム板表面の粗面の最高点及び最低点の
高さの差(Rt)を100としたときに、最低点側から70
の位置における粗さの中心面と平行な平面でアルミニウ
ム板の粗面化された表面を切断したときの断面に形成さ
れる島部の面積(面積C)及び島部の数 (7)アルミニウム板表面の粗面の最高点及び最低点の
高さの差(Rt)を100としたときに、最低点側から50
の位置における粗さの中心面と平行な平面でアルミニウ
ム板の粗面化された表面を切断したときの断面に形成さ
れる海部の面積(面積D)及び海部の数 (8)アルミニウム板表面の粗面の最高点及び最低点の
高さの差(Rt)を100としたときに、最低点側から50
の位置における粗さの中心面と平行な平面と70の位置に
おける粗さの中心面と平行な平面とで囲まれた範囲にお
けるアルミニウム板表面の粗面部分の投影面積 は、以下のようにして測定されたものである。 (1)測定長0.5mmの2次元の表面粗さ曲線の3番目に
高い山の頂点から1μm下に粗さの中心線と平行に引い
た基準直線と該基準直線よりも上の粗さ曲線とで形成さ
れる図形の面積の合計(面積A) ランクテーラーホブソン社製タリステップを使用して支
持体の表面粗さを測定し、粗さ曲線を求めた。表面粗さ
の測定は、0.1×2.5μmの角錐形のスタイラスを使用
し、縦倍率10000倍、測定長0.5mm、測定速度0.0025mm/
s、サンプリング周波数10msで行ない、フィルタカット
オフ8Hzとして8Hzよりも高周波成分を除去した。
In the present invention, (1) a reference straight line drawn parallel to the roughness center line 1 μm below the apex of the third highest peak of a two-dimensional surface roughness curve having a measurement length of 0.5 mm, and the reference straight line The total area of the figure formed with the roughness curve above (area A). (2) Roughness 3 μm below the 3rd highest peak of the two-dimensional surface roughness curve with a measurement length of 0.5 mm. (3) Surface roughness (Ra and Rz) of the figure formed by the reference straight line drawn in parallel with the center line of R and the roughness curve below the reference straight line (3) Surface roughness (Ra and Rz) (4) Aluminum Opening diameter and number of pits on plate surface (5) Height difference between maximum and minimum points of rough surface of aluminum plate (Rt) (6) Height of maximum point and minimum point of rough surface of aluminum plate When the difference (Rt) is set to 100, 70 from the lowest point side
Area (area C) and number of islands formed in the cross section when the roughened surface of the aluminum plate is cut along a plane parallel to the center plane of roughness at the position (7) Aluminum plate When the difference in height (Rt) between the highest point and the lowest point of the rough surface is 100, 50 from the lowest point side
The area (area D) of the sea part and the number of sea parts formed in the cross section when the roughened surface of the aluminum plate is cut by a plane parallel to the center plane of the roughness at the position (8) When the height difference (Rt) between the highest point and the lowest point of the rough surface is 100, 50 from the lowest point side
The projected area of the rough surface portion of the aluminum plate surface in the range enclosed by the plane parallel to the center plane of roughness at the position of and the plane parallel to the center plane of roughness at the position of 70 is as follows. It was measured. (1) A reference straight line drawn parallel to the center line of roughness 1 μm below the third highest peak of the two-dimensional surface roughness curve with a measurement length of 0.5 mm, and a roughness curve above the reference straight line The total area of the patterns formed by and (area A) The surface roughness of the support was measured by using Taristep manufactured by Rank Taylor Hobson, and the roughness curve was obtained. The surface roughness is measured using a pyramidal stylus of 0.1 × 2.5 μm, vertical magnification of 10,000 times, measuring length of 0.5 mm, measuring speed of 0.0025 mm /
s, the sampling frequency was 10 ms, and the filter cutoff was set to 8 Hz to remove higher frequency components than 8 Hz.

【0128】上記の粗さ曲線から、3番目に高い突起を
運び、その突起頂点より1μm下に粗さの中心線と平行
に基準線Aを引き、基準線Aと基準線Aよりも上の粗さ
曲線とで形成される図形の面積の合計を求めた。実際に
は、タリステップよりディジタルで取り込み、得られた
データを用いて計算を行なうことによって求めることが
できる。 (2)測定長0.5mmの2次元の表面粗さ曲線の3番目に
高い山の頂点から3μm下に粗さの中心線と平行に引い
た基準直線と該基準直線よりも下の粗さ曲線とで形成さ
れる図形の面積の合計(面積B) 上記(1)と同様にして粗さ曲線を求め、粗さ曲線か
ら、3番目に高い突起を選び、その突起頂点より3μm
下に粗さの中心線と平行に基準線Bを引き、基準線Bと
基準線Bよりも下の粗さ曲線とで形成される図形の面積
の合計を求めた。実際には、タリステップよりディジタ
ルで取り込み、得られたデータを用いて計算を行なうこ
とによって求めることができる。 (3)表面粗さ(Ra及びRz) ランクテーラーホブソン社製タリステップを使用して支
持体の表面粗さを測定し、粗さ曲線を求めた。表面粗さ
の測定は、0.1×2.5μmの角錐形のスタイラスを使用
し、縦倍率10000倍、測定長0.5mm、測定速度0.0025mm/
s、サンプリング周波数10msで行ない、フィルタカット
オフ8Hzとして8Hzよりも高周波成分を除去した。
得られた粗さ曲線より、JIS規格にもとづいてRa及
びRzを求める。 (4)アルミニウム板表面の開口径及びピットの数 SEM写真によって求める。開口径は、SEM写真で観
察されるピットの短径と長径の平均開口径で表す。 (5)アルミニウム板表面の粗面の最高点及び最低点の
高さの差(Rt) WYKO社製非接触3次元微小表面測定装置(RST
PLUS)を使用して測定する。測定は「バーティカル
スキャン法」モードで、対物レンズ:40倍、倍率セレク
ター:0.5倍、空間サンプリング間隔:0.42×0.48μmの
条件で行なった。
From the above-mentioned roughness curve, the third highest protrusion is carried, a reference line A is drawn 1 μm below the protrusion apex parallel to the center line of the roughness, and the reference line A and the reference line A and above. The total area of the figure formed by the roughness curve and the figure was calculated. Actually, it can be obtained by digitally capturing from the tally step and performing calculation using the obtained data. (2) A reference straight line drawn parallel to the roughness center line 3 μm below the third highest peak of the two-dimensional surface roughness curve with a measurement length of 0.5 mm, and a roughness curve below the reference straight line The total area of the figures formed by and (area B) Obtain the roughness curve in the same manner as in (1) above, select the third highest protrusion from the roughness curve, and select 3 μm from the protrusion vertex.
A reference line B was drawn below in parallel with the center line of roughness, and the total area of the figures formed by the reference line B and the roughness curve below the reference line B was obtained. Actually, it can be obtained by digitally capturing from the tally step and performing calculation using the obtained data. (3) Surface Roughness (Ra and Rz) The surface roughness of the support was measured using a Taristep manufactured by Rank Taylor Hobson Co., and a roughness curve was obtained. The surface roughness is measured using a pyramidal stylus of 0.1 × 2.5 μm, vertical magnification of 10,000 times, measuring length of 0.5 mm, measuring speed of 0.0025 mm /
s, the sampling frequency was 10 ms, and the filter cutoff was set to 8 Hz to remove higher frequency components than 8 Hz.
Ra and Rz are obtained from the obtained roughness curve based on JIS standard. (4) Opening diameter of aluminum plate surface and number of pits Determined by SEM photograph. The opening diameter is represented by the average opening diameter of the minor axis and the major axis of the pit observed in the SEM photograph. (5) Height difference between the highest point and the lowest point of the rough surface of the aluminum plate (Rt) WYKO non-contact three-dimensional micro surface measuring device (RST
PLUS). The measurement was performed in the "vertical scan method" mode under the conditions of an objective lens: 40 times, a magnification selector: 0.5 times, and a spatial sampling interval: 0.42 × 0.48 μm.

【0129】測定は最初に115×150μm程度の範囲で行
い、不連続なデータがあった場合は装置に付属のソフト
ウエアにより修復(連続化)した後、範囲を選択して10
0×100μmのデータに加工した(データ点数:238×20
9)。また、粗面の最高点及び最低点を、WYKO RS
T付属のソフトウエアにより求め、最高点と最低点の差
(Rt)を算出する。 (6)アルミニウム板表面の粗面の最高点及び最低点の
高さの差(Rt)を100としたときに、最低点側から70
の位置における粗さの中心面と平行な平面でアルミニウ
ム板の粗面化された表面を切断したときの断面に形成さ
れる島部の面積(面積C)及び島部の数 WYKO社製非接触3次元微小表面測定装置(RST
PLUS)を使用して測定する。測定は「バーティカル
スキャン法」モードで、対物レンズ:40倍、倍率セレク
ター:0.5倍、空間サンプリング間隔:0.42×0.48μmの
条件で行なった。
The measurement is first carried out in a range of about 115 × 150 μm, and if there is discontinuous data, it is restored (continuousized) by the software attached to the device, and then the range is selected to 10
Processed to 0 × 100 μm data (data points: 238 × 20
9). In addition, the highest point and the lowest point of the rough surface can be calculated by WYKO RS
Calculated by the software attached to T, and calculate the difference (Rt) between the highest point and the lowest point. (6) When the difference (Rt) in height between the highest point and the lowest point of the rough surface of the aluminum plate is 100, 70 from the lowest point side
Area (area C) and the number of islands formed in the cross section when the roughened surface of the aluminum plate is cut along a plane parallel to the center plane of roughness at the position WYKO non-contact Three-dimensional micro surface measuring device (RST
PLUS). The measurement was performed in the "vertical scan method" mode under the conditions of an objective lens: 40 times, a magnification selector: 0.5 times, and a spatial sampling interval: 0.42 × 0.48 μm.

【0130】測定は最初に115×150μm程度の範囲で行
い、不連続なデータがあった場合は装置に付属のソフト
ウエアにより修復(連続化)した後、範囲を選択して10
0×100μmのデータに加工した(データ点数:238×20
9)。また、粗面の最高点及び最低点を、WYKO RS
T付属のソフトウエアにより求める。
The measurement is first carried out in a range of about 115 × 150 μm, and if there is discontinuous data, it is restored (continuousized) by the software attached to the device, and then the range is selected to 10
Processed to 0 × 100 μm data (data points: 238 × 20
9). In addition, the highest point and the lowest point of the rough surface can be calculated by WYKO RS
Calculated by the software attached to T.

【0131】粗さ曲面の最高点及び最低点の高さの差を
100としたとき最低点から70の位置の粗さの中心面と平
行な平面で粗面化された表面を切断したときの断面の面
積をWYKO RST付属のソフトウエアにより求め、
また、その断面がいくつの領域に分断されているかを数
える。ただし、面積が10μm2に満たない領域(データ点
で50点以下)は無視する。 (7)アルミニウム板表面の粗面の最高点及び最低点の
高さの差(Rt)を100としたときに、最低点側から50
の位置における粗さの中心面と平行な平面でアルミニウ
ム板の粗面化された表面を切断したときの断面に形成さ
れる海部の面積(面積D)及び海部の数 WYKO社製非接触3次元微小表面測定装置(RST
PLUS)を使用して測定する。測定は「バーティカル
スキャン法」モードで、対物レンズ:40倍、倍率セレク
ター:0.5倍、空間サンプリング間隔:0.42×0.48μmの
条件で行なった。
The difference in height between the highest point and the lowest point of the roughness surface is
The area of the cross section when the surface roughened by the plane parallel to the center plane of the roughness at the position of 70 from the lowest point is cut when 100 is determined by the software attached to WYKO RST,
Also, count how many areas the cross section is divided into. However, the area where the area is less than 10 μm 2 (50 data points or less) is ignored. (7) When the difference (Rt) in height between the highest point and the lowest point of the rough surface of the aluminum plate is 100, 50 from the lowest point side.
Area of sea part (area D) and number of sea parts formed in the cross section when the roughened surface of the aluminum plate is cut by a plane parallel to the center plane of roughness at the position WYKO non-contact three-dimensional Micro surface measuring device (RST
PLUS). The measurement was performed in the "vertical scan method" mode under the conditions of an objective lens: 40 times, a magnification selector: 0.5 times, and a spatial sampling interval: 0.42 × 0.48 μm.

【0132】測定は最初に115×150μm程度の範囲で行
い、不連続なデータがあった場合は装置に付属のソフト
ウエアにより修復(連続化)した後、範囲を選択して10
0×100μmのデータに加工した(データ点数:238×20
9)。また、粗面の最高点及び最低点を、WYKO RS
T付属のソフトウエアにより求める。
The measurement is first carried out in the range of about 115 × 150 μm, and if there is discontinuous data, it is restored (continuousized) by the software attached to the device, and then the range is selected to 10
Processed to 0 × 100 μm data (data points: 238 × 20
9). In addition, the highest point and the lowest point of the rough surface can be calculated by WYKO RS
Calculated by the software attached to T.

【0133】粗さ曲面の最高点及び最低点の高さの差を
100としたとき最低点から50の位置の粗さの中心面と平
行な平面で粗面化された表面を切断したときの断面の凹
部(海部)の面積をWYKO RST付属のソフトウエ
アにより求め、また、その断面がいくつの領域に分断さ
れているかを数えた。ただし、面積が10μm2に満たない
領域(データ点で50点以下)は無視した。 (8)アルミニウム板表面の粗面の最高点及び最低点の
高さの差(Rt)を100としたときに、最低点側から50
の位置における粗さの中心面と平行な平面と70の位置に
おける粗さの中心面と平行な平面とで囲まれた範囲にお
けるアルミニウム板表面の粗面部分の投影面積 WYKO社製非接触3次元微小表面測定装置(RST
PLUS)を使用して測定する。測定は「バーティカル
スキャン法」モードで、対物レンズ:40倍、倍率セレク
ター:0.5倍、空間サンプリング間隔:0.42×0.48μmの
条件で行なった。
The difference in height between the highest point and the lowest point of the roughness surface is
The area of the recessed part (sea part) of the cross section when the surface roughened by the plane parallel to the center plane of the roughness at the position of 50 from the lowest point is cut when 100 is determined by the software attached to WYKO RST, We also counted how many areas the cross section was divided into. However, the region with an area less than 10 μm 2 (50 data points or less) was ignored. (8) When the difference (Rt) in height between the highest point and the lowest point of the rough surface of the aluminum plate is 100, it is 50 from the lowest point side.
The projected area of the rough surface portion of the aluminum plate surface in the range surrounded by the plane parallel to the center plane of the roughness at the position of 70 and the plane parallel to the center plane of the roughness at the position of 70 WYKO non-contact three-dimensional Micro surface measuring device (RST
PLUS). The measurement was performed in the "vertical scan method" mode under the conditions of an objective lens: 40 times, a magnification selector: 0.5 times, and a spatial sampling interval: 0.42 × 0.48 μm.

【0134】測定は最初に115×150μm程度の範囲で行
い、不連続なデータがあった場合は装置に付属のソフト
ウエアにより修復(連続化)した後、範囲を選択して10
0×100μmのデータに加工した(データ点数:238×20
9)。また、粗面の最高点及び最低点を、WYKO RS
T付属のソフトウエアにより求めた。
The measurement is first performed within a range of about 115 × 150 μm, and if there is discontinuous data, it is repaired (continuous) by the software attached to the device, and then the range is selected to 10
Processed to 0 × 100 μm data (data points: 238 × 20
9). In addition, the highest point and the lowest point of the rough surface can be calculated by WYKO RS
It was determined by the software attached to T.

【0135】得られた粗さ曲面の最高点及び最低点の高
さの差を100としたとき、最低点側から50の位置におけ
る粗さの中心面と平行な平面と70の位置における粗さの
中心面と平行な平面とで囲まれた範囲におけるアルミニ
ウム板表面の粗面部分の投影面積をWYKO RST付
属のソフトウエアにより求めた。
When the difference in height between the highest point and the lowest point of the obtained roughness curved surface is 100, the plane parallel to the center plane of the roughness at the position 50 from the lowest point side and the roughness at the position 70 The projected area of the rough surface portion of the aluminum plate surface in the range surrounded by the center plane and the plane parallel to was determined by the software attached to WYKO RST.

【0136】本発明の感光性平版印刷版は、通常の方法
で露光、現像処理することにより製版することができ
る。例えば、線画像、網点画像などを有する透明原画を
感光面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像液を
用いて感光性層を除去することによりレリーフ像が得ら
れる。
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention can be made into a plate by exposing and developing it in a usual manner. For example, a transparent original image having a line image, a halftone image or the like is brought into close contact with a photosensitive surface and exposed, and then the photosensitive layer is removed using an appropriate developing solution to obtain a relief image.

【0137】露光に好適な光源としては、水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、
カーボンアーク灯などが挙げられる。また、現像に使用
される現像液としては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸
カリウム等のアルカリ金属珪酸塩、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の水溶液の
ようなアルカリ水溶液を用いることができる。このとき
のアルカリ水溶液の濃度は、感光性組成物及びアルカリ
の種類により異なるが、概して0.1〜10重量%の範囲が
適当である。また、アルカリ水溶液には必要に応じ界面
活性剤やアルコール等のような有機溶媒を加えることも
できる。
Suitable light sources for exposure include mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, chemical lamps,
And carbon arc lamps. Further, as the developer used for development, for example, sodium silicate, alkali metal silicate such as potassium silicate, sodium hydroxide,
An alkaline aqueous solution such as an aqueous solution of potassium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like can be used. The concentration of the aqueous alkali solution at this time varies depending on the type of the photosensitive composition and the alkali, but is generally in the range of 0.1 to 10% by weight. Further, an organic solvent such as a surfactant or alcohol can be added to the aqueous alkali solution as needed.

【0138】[0138]

【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0139】実施例1 厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)
を、85℃に保たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中に浸
漬し、10秒間脱脂処理を行った後水洗した。脱脂処理し
たアルミニウム板を、25℃に保たれた10%硫酸水溶液分
間浸漬し中和処理した後水洗した。
Example 1 0.3 mm thick aluminum plate (material 1050, temper H16)
Was immersed in a 10% sodium hydroxide aqueous solution kept at 85 ° C., degreased for 10 seconds, and then washed with water. The degreased aluminum plate was immersed in a 10% sulfuric acid aqueous solution kept at 25 ° C. for a minute, neutralized, and washed with water.

【0140】次いで、得られたアルミニウム板を、表1
に記載したように、表1に示したブラシ研磨条件でブラ
シ研磨し、あるいは、ブラシ研磨することなく表1に示
した電解条件で、60Hzの交流電流を用いて電解粗面化
した。
Then, the obtained aluminum plate is shown in Table 1.
As described above, brush polishing was performed under the brush polishing conditions shown in Table 1, or electrolytic surface roughening was performed without brush polishing under the electrolytic conditions shown in Table 1 using an alternating current of 60 Hz.

【0141】なお、ブラシ研磨を行なったときは、ブラ
シ研磨後、70℃に保たれた10%水酸化ナトリウム水溶液
中で10秒間浸漬し、次いで、25℃に保たれた10%硫酸水
溶液中に10秒間浸漬した後水洗した。また、電解粗面化
した後には、50℃に保たれた1%水酸化ナトリウム水溶
液中で30秒間浸漬し、次いで25℃に保たれた10%硫酸水
溶液中に10秒間浸漬した後水洗した。
When brush-polishing was performed, after brush-polishing, it was immersed in a 10% sodium hydroxide aqueous solution kept at 70 ° C. for 10 seconds, and then immersed in a 10% sulfuric acid aqueous solution kept at 25 ° C. It was immersed for 10 seconds and washed with water. After the electrolytic surface roughening, it was immersed in a 1% sodium hydroxide aqueous solution kept at 50 ° C. for 30 seconds, then immersed in a 10% sulfuric acid aqueous solution kept at 25 ° C. for 10 seconds, and then washed with water.

【0142】その後、20%硫酸水溶液中で、温度35℃、
電流密度2A/dm2の条件で1分間陽極酸化処理を行
い、次いで、80℃に保たれた0.1%の酢酸アンモニウム
水溶液中に30秒間浸漬し封孔処理を行い、80℃で5分間
乾燥して支持体1〜14を得た。
Then, in a 20% sulfuric acid aqueous solution, at a temperature of 35 ° C.,
Anodizing treatment was performed for 1 minute under the condition of current density of 2 A / dm 2 , then it was immersed in 0.1% ammonium acetate aqueous solution kept at 80 ° C for 30 seconds for sealing treatment, and dried at 80 ° C for 5 minutes. To obtain supports 1 to 14.

【0143】[0143]

【表1】 表1において、ブラシ研磨条件は下記のとおりである。
(以下の実施例においても同じ。)
[Table 1] In Table 1, the brush polishing conditions are as follows.
(The same applies to the following examples.)

【0144】ブラシ研磨条件A 火山灰(#300)を20重量%の濃度で水に懸濁した研摩剤
懸濁液を使用し、回転するナイロンブラシを支持体に押
し付けることにより粗面化を行なった。粗面化は支持体
に対してブラシの押込みを20mmとし、ラインスピード5
m/minで1回通過させて行なった。ブラシの回転方向
は支持体走行方向の逆方向とし、回転数は毎分400回転
とした。
Brush Polishing Condition A Volatile ash (# 300) was used as a polishing agent suspension prepared by suspending it in water at a concentration of 20% by weight, and roughening was performed by pressing a rotating nylon brush against a support. . For roughening, the brush indentation is 20 mm against the support and the line speed is 5
It was carried out by passing once at m / min. The rotation direction of the brush was opposite to the running direction of the support, and the rotation speed was 400 rotations per minute.

【0145】ブラシ研磨条件B ブラシ研磨条件Aでの処理を2回行なった。Brush Polishing Condition B The process under the brush polishing condition A was performed twice.

【0146】ブラシ研磨条件C ブラシ研磨条件Aでの処理を3回行なった。Brush Polishing Condition C The treatment under the brush polishing condition A was performed three times.

【0147】得られた支持体1〜14の表面の表面粗さ
を下記の方法により測定し、「面積A」(測定長0.5mm
の2次元の表面粗さ曲線の3番目に高い山の頂点から1
μm下に粗さの中心線と平行に引いた基準直線と該基準
直線よりも上の粗さ曲線によって囲まれた面積)及び
「面積B」(測定長0.5mmの2次元の表面粗さ曲線の3
番目に高い山の頂点から3μm下に粗さの中心線と平行
に引いた基準直線と該基準直線よりも下の粗さ曲線によ
って囲まれた面積)を下記により求めた。得られた結果
を表2に示す。
The surface roughness of the surface of each of the obtained supports 1 to 14 was measured by the following method, and "area A" (measurement length 0.5 mm
1 from the top of the third highest mountain of the two-dimensional surface roughness curve of
Area surrounded by a reference straight line drawn parallel to the center line of roughness under μm and a roughness curve above the reference straight line and "Area B" (two-dimensional surface roughness curve with a measurement length of 0.5 mm) Of 3
An area surrounded by a reference straight line drawn parallel to the center line of the roughness 3 μm below the apex of the second highest mountain and an area surrounded by the roughness curve below the reference straight line) was obtained by the following. Table 2 shows the obtained results.

【0148】〈表面粗さ〉ランクテーラーホブソン社製
タリステップを使用して支持体の表面粗さを測定し、粗
さ曲線を求めた。表面粗さの測定は、0.1×2.5μmの角
錐形のスタイラスを使用し、縦倍率10000倍、測定長0.5
mm、測定速度0.0025mm/s、サンプリング周波数10msで
行ない、フィルタカットオフ8Hzとして8Hzよりも
高周波成分を除去した。
<Surface Roughness> The surface roughness of the support was measured by using Taristep manufactured by Rank Taylor Hobson Co., and the roughness curve was obtained. The surface roughness is measured using a pyramidal stylus of 0.1 × 2.5 μm, longitudinal magnification of 10,000 times, measurement length of 0.5.
mm, measurement speed 0.0025 mm / s, sampling frequency 10 ms, and filter cutoff was set to 8 Hz to remove high frequency components higher than 8 Hz.

【0149】〈面積A〉表面粗さ測定で得られた粗さ曲
線から、3番目に高い突起を運び、その突起頂点より1
μm下に粗さの中心線と平行に基準線Aを引き、基準線
Aと基準線Aよりも上の粗さ曲線とで形成される図形の
面積の合計を求めた。実際には、タリステップよりディ
ジタルで取り込み、得られたデータを用いて計算を行な
うことによって求めることができる。
<Area A> From the roughness curve obtained by the surface roughness measurement, the third highest protrusion is carried, and it is 1 from the protrusion apex.
A reference line A was drawn under μm in parallel with the center line of roughness, and the total area of the figure formed by the reference line A and the roughness curve above the reference line A was obtained. Actually, it can be obtained by digitally capturing from the tally step and performing calculation using the obtained data.

【0150】〈面積B〉表面粗さ測定で得られた粗さ曲
線から、3番目に高い突起を選び、その突起頂点より3
μm下に粗さの中心線と平行に基準線Bを引き、基準線
Bと基準線Bよりも下の粗さ曲線とで形成される図形の
面積の合計を求めた。実際には、タリステップよりディ
ジタルで取り込み、得られたデータを用いて計算を行な
うことによって求めることができる。
<Area B> From the roughness curve obtained by the surface roughness measurement, the protrusion having the third highest height is selected, and the protrusion is 3 from the protrusion vertex.
A reference line B was drawn under μm in parallel with the center line of the roughness, and the total area of figures formed by the reference line B and the roughness curve below the reference line B was obtained. Actually, it can be obtained by digitally capturing from the tally step and performing calculation using the obtained data.

【0151】次に、支持体1〜14に、下記組成の感光
性組成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で
乾燥し、感光性平版印刷版試料1〜14を得た。このと
き、感光性組成物塗布液は乾燥重量として2.0g/m2
なるように塗布した。
Then, a photosensitive composition coating solution having the following composition was applied to the supports 1 to 14 using a wire bar and dried at 80 ° C. to obtain photosensitive lithographic printing plate samples 1 to 14. At this time, the photosensitive composition coating liquid was applied so as to have a dry weight of 2.0 g / m 2 .

【0152】 《感光性組成物組成》 ノボラック樹脂 (フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が10 /54/36、重量平均分子量4000) 6.7 g ピロガロールアセトン樹脂(重量平均分子量3000)とo−ナフトキノンジアジド −5−スルホニルクロリドの縮合物(エステル化率30%) 1.5g ポリエチレングリコール#2000 0.2g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−トリ アジン 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製) 0.08g FC−430(住友3M(株)製) 0.03g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.2g メチルセロソルフ゛ 100ミリリットル<< Photosensitive Composition Composition >> Novolac resin (phenol / m-cresol / p-cresol molar ratio 10/54/36, weight average molecular weight 4000) 6.7 g pyrogallolacetone resin (weight average molecular weight 3000) and o -Naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride condensate (esterification rate 30%) 1.5 g Polyethylene glycol # 2000 0.2 g 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (p-methoxystyryl) -s-triazine 0.2 g Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.08 g FC-430 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) 0.03 g cis-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid 0.2 g Methyl cellosolve 100 ml

【0153】得られたそれぞれの感光性平版印刷版を、
原稿フィルムを密着し、光源として4kwメタルハライド
ランプを使用し、8mW/cm2の照度で60秒間照射するこ
とにより露光した。この露光済みの感光性平版印刷版
を、市販されている現像液〔SDR−1、コニカ(株)
製、6倍に希釈、現像時間20秒、現像温度27℃〕で現像
し、下記により耐刷性及び微点状の汚れを評価した。得
られた結果を表2に示す。
Each of the obtained photosensitive lithographic printing plates was
The original film was brought into close contact, and a 4 kw metal halide lamp was used as a light source, and irradiation was performed for 60 seconds at an illuminance of 8 mW / cm 2 for exposure. This exposed photosensitive lithographic printing plate was used as a commercially available developing solution [SDR-1, Konica Corporation
Made, diluted 6 times, developed for 20 seconds, developed at 27 ° C.] and evaluated for printing durability and fine dot-like stains as follows. Table 2 shows the obtained results.

【0154】《耐刷性の評価》得られた平版印刷版を用
い、印刷機(三菱重工業(株)製 DAIYAlF−
1)にかけコート紙、湿し水(東京インキ(株)製 エ
ッチ液SG−51 濃度1.5%)、インキ(東洋インキ製
造(株)製 ハイプラスM紅)を使用して印刷を行い、
印刷物の画像部にインキ着肉不良が現れるかまたは非画
像部にインキが付着するまで印刷を続け、その時の印刷
枚数を数え、この枚数をもって耐刷力とした。
<< Evaluation of Printing Durability >> Using the obtained lithographic printing plate, a printing machine (manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., DAIYAlF-
1) Printing is carried out using dipped coated paper, dampening water (Tokyo Ink Co., Ltd. etch solution SG-51 concentration 1.5%), ink (Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. High Plus M red),
Printing was continued until ink inking defects appeared in the image area of the printed matter or ink adhered to the non-image area, and the number of printed sheets at that time was counted.

【0155】《微点状の汚れの評価》耐刷性の評価にお
けると同様の印刷条件で、5000枚刷った時点でいったん
印刷機を停止し、1時間放置した後印刷を開始し、発生
した微点状の汚れの個数を数え、100cm2当たりの発生個
数で評価した。
<Evaluation of fine dot-like stain> Under the same printing conditions as in the evaluation of printing durability, the printing machine was stopped once at the time of printing 5000 sheets, left for 1 hour, and then printing was started. The number of fine dot-like stains was counted and evaluated by the number generated per 100 cm 2 .

【0156】[0156]

【0157】[0157]

【表2】 [Table 2]

【0158】実施例2 ブラシ研磨条件及び電解粗面化条件を表3〜表5に示し
たように変更した以外は実施例1の支持体1〜14と同
様にして、支持体15〜52を得た。得られた支持体1
5〜52の表面粗さRa及びRzを下記の方法により求
めた。得られた結果を表3〜表5に示す。
Example 2 Supports 15-52 were prepared in the same manner as Supports 1-14 of Example 1 except that the brush polishing conditions and electrolytic surface roughening conditions were changed as shown in Tables 3-5. Obtained. Obtained support 1
The surface roughness Ra and Rz of 5 to 52 were determined by the following method. Tables 3 to 5 show the obtained results.

【0159】〈表面粗さRa及びRz〉ランクテーラー
ホブソン社製タリステップを使用して支持体の表面粗さ
を測定し、粗さ曲線を求めた。表面粗さの測定は、0.1
×2.5μmの角錐形のスタイラスを使用し、縦倍率10000
倍、測定長0.5mm、測定速度0.0025mm/s、サンプリン
グ周波数10msで行ない、フィルタカットオフ8Hzとし
て8Hzよりも高周波成分を除去した。得られた粗さ曲
線より、JIS規格にもとづいてRa及びRzを求め
た。
<Surface Roughness Ra and Rz> The surface roughness of the support was measured using a Taristep manufactured by Rank Taylor Hobson Co., and a roughness curve was obtained. Surface roughness is 0.1
X2.5μm pyramid-shaped stylus is used, vertical magnification is 10000
Double, measurement length 0.5 mm, measurement speed 0.0025 mm / s, sampling frequency 10 ms, and a filter cutoff of 8 Hz to remove high frequency components higher than 8 Hz. Ra and Rz were determined from the obtained roughness curve based on JIS standards.

【0160】次に、支持体15〜52に、実施例1記載
の感光性組成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、
表3〜表5に記載の乾燥温度で乾燥し、感光性平版印刷
版試料15〜52を得た。このとき、感光性組成物塗布
液は乾燥重量として2.0g/m2となるように塗布した。
Next, the photosensitive composition coating liquid described in Example 1 was applied to the supports 15 to 52 using a wire bar,
It was dried at the drying temperature shown in Tables 3 to 5 to obtain photosensitive lithographic printing plate samples 15 to 52. At this time, the photosensitive composition coating liquid was applied so as to have a dry weight of 2.0 g / m 2 .

【0161】さらに、表3〜表5に示した一部の試料に
おいては、感光層の平滑化処理を行なった。平滑化処理
は、感光性平版印刷版をガラス板2枚ではさみ、表3〜
表5に記載の平滑化処理温度に保たれた恒温槽中に水平
に静置し、感光性平版印刷版100cm2あたり500gの荷重
を均一にかけ、表3〜表5に記載の平滑化処理時間保持
することによって行なった。
Further, in some of the samples shown in Tables 3 to 5, the photosensitive layer was smoothed. The smoothing treatment was carried out by sandwiching the photosensitive lithographic printing plate between two glass plates and
The sample was placed horizontally in a constant temperature bath maintained at the smoothing treatment temperature shown in Table 5 and uniformly loaded with a load of 500 g per 100 cm 2 of the photosensitive lithographic printing plate, and the smoothing treatment time shown in Table 3 to Table 5 was applied. This was done by holding.

【0162】次いで、平滑化処理を行なった感光性平版
印刷版試料15〜52の感光層の表面粗さRa及びRz
を、上記の支持体の表面粗さを求めたと同様の方法によ
り求めた。得られた結果を表3〜表5に示す。
Then, the surface roughness Ra and Rz of the photosensitive layers of the photosensitive lithographic printing plate samples 15 to 52 subjected to the smoothing treatment were carried out.
Was determined by the same method as the surface roughness of the above support. Tables 3 to 5 show the obtained results.

【0163】[0163]

【表3】 [Table 3]

【0164】[0164]

【表4】 [Table 4]

【0165】[0165]

【表5】 現像した感光性平版印刷版試料15〜52を用い実施例
1に示すと同様にして印刷を行い、湿し水を少なくしと
きの汚れ易さ、湿し水を多くしたときの水負けし易さ及
び小点再現性を下記により評価した。得られた結果を表
6〜表7に示した。
[Table 5] Printing was carried out in the same manner as in Example 1 using the developed photosensitive lithographic printing plate samples 15 to 52, and easiness of stain when the dampening water was reduced and water loss when the dampening water was increased. And the small dot reproducibility were evaluated by the following. The obtained results are shown in Tables 6 to 7.

【0166】《湿し水を少なくしときの汚れ易さ、湿し
水を多くしたときの水負けし易さの評価》印刷時にイン
キ量ダイヤルを一定にして、水量ダイヤルを変更し、湿
し水の供給量を変化させ、湿し水を少なくしていつたと
きに非画像部に汚れが生じ始めるダイヤル値(大きい方
が汚れ易い)と、湿し水を多くしていつたときに水負け
が生じ始めるダイヤル値(小さい方が水負けし易い)と
を調べた。
<< Evaluation of Ease of Staining When Reducing Dampening Water and Ease of Water Loss When Increasing Dampening Water >> During printing, the ink amount dial was kept constant, and the water amount dial was changed. When the amount of dampening water is changed and the amount of dampening water is reduced, the dial value at which non-image areas start to become dirty (the larger the value is, the more easily it becomes dirty) and the amount of dampening water that is lost I checked the dial value that started to occur (the smaller the value, the easier it was to lose water).

【0167】《小点再現性の評価》露光、現像した印刷
版上において、スクリーン線数300line/inchの20%網
点の形状を微分干渉顕微鏡を使用して観察し、小点再現
性を下記の評価基準により5段階で評価した。 〈評価基準〉 5;ドットの大きさがほぼ一定で形状が円に近い 4;ドットの大きさがほぼ一定で形状が円形からはずれ
る(長径/短径≧1.5)ものが30%未満 3;ドットの形状が円形からはずれる(長径/短径≧1.
5)ものが30%以上80%以下 2;ドットの形状が円形からはずれる(長径/短径≧1.
5)ものが80%を超える 1;一部形成されないドットが見られる
<Evaluation of Small Point Reproducibility> On the exposed and developed printing plate, the shape of 20% halftone dots with a screen ruling of 300 line / inch was observed using a differential interference microscope, and the small point reproducibility was as follows. It was evaluated on a scale of 5 according to the evaluation criteria. <Evaluation criteria> 5: Dot size is almost constant and shape is close to circle 4; Dot size is almost constant and shape deviates from circle (major axis / minor axis ≧ 1.5) Less than 30% 3; Dot Shape deviates from a circle (major axis / minor axis ≥ 1.
5) 30% or more and 80% or less 2; Dot shape deviates from circle (major axis / minor axis ≥ 1.
5) More than 80% 1; some dots are not formed

【0168】[0168]

【表6】 [Table 6]

【0169】[0169]

【表7】 [Table 7]

【0170】実施例3 ブラシ研磨条件及び電解粗面化条件を表8に示したよう
に変更した以外は実施例1の支持体1〜14と同様にし
て、支持体53〜65を得た。得られた支持体53〜6
5表面のピット径の分布を下記の方法により求めた。得
られた結果を表8に示す。
Example 3 Supports 53 to 65 were obtained in the same manner as the supports 1 to 14 of Example 1 except that the brush polishing conditions and the electrolytic surface roughening conditions were changed as shown in Table 8. Obtained Supports 53-6
The distribution of the pit diameter on the surface of No. 5 was determined by the following method. Table 8 shows the obtained results.

【0171】〈ピット径の分布〉開口径が0.1μm〜0.5
μm、0.5μm〜1.0μm、1.0μm〜1.5μm、1.5μm〜2.0μ
mの4つの範囲にあるピット個数を、開口径0.5〜2.0μm
のピットは5000倍のSEM写真、0.1〜0.5μmのピット
は10000倍のSEM写真を使用して求め、それぞれ100μ
m×100μmの範囲の個数に換算した。
<Pit Diameter Distribution> Opening diameter is 0.1 μm to 0.5
μm, 0.5 μm to 1.0 μm, 1.0 μm to 1.5 μm, 1.5 μm to 2.0 μ
The number of pits in 4 ranges of m, the opening diameter 0.5 ~ 2.0μm
Pits are obtained by using a SEM photograph of 5000 times, and pits of 0.1 to 0.5 μm are obtained by using a SEM photograph of 10,000 times.
It was converted to the number in the range of m × 100 μm.

【0172】[0172]

【表8】 [Table 8]

【0173】次に、支持体53〜65に、実施例1記載
の感光性組成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、
80℃で乾燥し、感光性平版印刷版試料53〜65を得
た。このとき、感光性組成物塗布液は乾燥重量として2.
0g/m2となるように塗布した。
Next, the support 53 to 65 is coated with the photosensitive composition coating solution described in Example 1 using a wire bar,
It was dried at 80 ° C. to obtain photosensitive lithographic printing plate samples 53 to 65. At this time, the photosensitive composition coating liquid has a dry weight of 2.
It was applied so as to be 0 g / m 2 .

【0174】次いで、感光性平版印刷版試料53〜65
を実施例1と同様の条件で露光、現像し、現像した感光
性平版印刷版試料53〜65を用い実施例1に示すと同
様にして印刷を行い、ドットゲイン及びK値を下記によ
り求めた。得られた結果を表9に示す。
Then, photosensitive planographic printing plate samples 53 to 65 were prepared.
Was exposed and developed under the same conditions as in Example 1, and printing was performed in the same manner as in Example 1 using the developed photosensitive lithographic printing plate samples 53 to 65, and the dot gain and K value were determined by the following. . Table 9 shows the obtained results.

【0175】《ドットゲイン》画像部の濃度を1.6にし
て印刷を行い、印刷物上において、スクリーン線数150l
ine/inchの50%網点の面積を測定し、ゲイン量を算出
した。面積の測定はマクベス濃度計で行った。
<< Dot gain >> Printing was performed with the density of the image area set to 1.6, and the screen line number of 150 l was printed on the printed matter.
The area of 50% halftone dot of ine / inch was measured and the gain amount was calculated. The area was measured with a Macbeth densitometer.

【0176】《K値》画像部の濃度を1.6にして印刷を
行い、印刷物上において、スクリーン線数150line/inc
hの80%綱点の濃度を測定し、以下の式を用いてK値を
算出した。濃度の測定はマクベス濃度計で行った K値=(画像部濃度−80%綱点濃度)/画像部濃度 K値は大きいほど高濃度網点部の再現性がよい。
<< K value >> Printing was performed with the density of the image part being 1.6, and the screen line number was 150 line / inc on the printed matter.
The concentration of 80% of the points of h was measured, and the K value was calculated using the following formula. The density was measured with a Macbeth densitometer. K value = (density of image part-80% density of image point) / density of image part The larger the K value, the better the reproducibility of the high density halftone dot part.

【0177】[0177]

【表9】 [Table 9]

【0178】実施例4 ブラシ研磨条件及び電解粗面化条件を表10に示したよ
うに変更した以外は実施例1の支持体1〜14と同様に
して、支持体66〜73を得、下記によりRt(粗面の
最高点と最低点の差)、面積C(粗面の最高点及び最低
点の高さの差を100としたときに最低点側から70の位置
における粗さの中心面と平行な平面でアルミニウム板の
粗面化された表面を切断したときの断面の面積)及び面
積Cの領域数(粗面の最高点及び最低点の高さの差を10
0としたときに最低点側から70の位置における粗さの中
心面と平行な平面でアルミニウム板の粗面化された表面
を切断したときの断面に形成される島部の数)を求め
た。
Example 4 Supports 66 to 73 were obtained in the same manner as Supports 1 to 14 of Example 1 except that the brush polishing conditions and the electrolytic surface roughening conditions were changed as shown in Table 10. Therefore, Rt (difference between the highest point and the lowest point on the rough surface), area C (the height difference between the highest point and the lowest point on the rough surface is 100, and the center plane of the roughness at the position 70 from the lowest point side) The area of the cross section when the roughened surface of the aluminum plate is cut by a plane parallel to the surface area and the number of areas of area C (the difference in height between the highest point and the lowest point of the rough surface is 10).
When 0 was set, the number of islands formed in the cross section when the roughened surface of the aluminum plate was cut in a plane parallel to the center plane of the roughness at a position 70 from the lowest point side) was obtained. .

【0179】〈Rt〉得られた支持体66〜73表面の
3次元表面粗さをWYKO社製非接触3次元微小表面測
定装置(RST PLUS)を使用して測定した。測定
は「バーティカルスキャン法」モードで、対物レンズ:
40倍、倍率セレクター:0.5倍、空間サンプリング間
隔:0.42×0.48μmの条件で行なった。
<Rt> The three-dimensional surface roughness of the surfaces of the obtained supports 66 to 73 was measured using a non-contact three-dimensional fine surface measuring device (RST PLUS) manufactured by WYKO. Measurement is in "vertical scan method" mode, objective lens:
40 times, magnification selector: 0.5 times, spatial sampling interval: 0.42 × 0.48 μm.

【0180】測定は最初に115×150μm程度の範囲で行
い、不連続なデータがあった場合は装置に付属のソフト
ウエアにより修復(連続化)した後、範囲を選択して10
0×100μmのデータに加工した(データ点数:238×20
9)。また、粗面の最高点及び最低点を、WYKO RS
T付属のソフトウエアにより求めた。最高点と最低点の
差(Rt)を算出した。
The measurement is first carried out in a range of about 115 × 150 μm, and if there is discontinuous data, it is repaired (continuous) by the software attached to the device, and then the range is selected to 10
Processed to 0 × 100 μm data (data points: 238 × 20
9). In addition, the highest point and the lowest point of the rough surface can be calculated by WYKO RS
It was determined by the software attached to T. The difference (Rt) between the highest point and the lowest point was calculated.

【0181】〈面積C及び面積Cの領域数〉粗さ曲面の
最高点及び最低点の高さの差を100としたとき最低点か
ら70の位置の粗さの中心面と平行な平面で粗面化された
表面を切断したときの断面の面積をWYKO RST付
属のソフトウエアにより求め、また、その断面がいくつ
の領域に分断されているかを数えた。ただし、面積が10
μm2に満たない領域(データ点で50点以下)は無視し
た。得られた結果を表10に示す。
<Area C and Number of Areas of Area C> When the difference in height between the highest point and the lowest point of the roughness curved surface is 100, the roughness is a plane parallel to the center plane of the roughness at the position 70 from the lowest point. The area of the cross section when the planarized surface was cut was obtained by the software attached to WYKO RST, and the number of regions into which the cross section was divided was counted. However, the area is 10
The area less than μm 2 (50 data points or less) was ignored. Table 10 shows the obtained results.

【0182】[0182]

【表10】 [Table 10]

【0183】表10において、ブラシ研磨条件は下記の
とおりである。(以下の実施例においても同じ。)
In Table 10, the brush polishing conditions are as follows. (The same applies to the following examples.)

【0184】ブラシ研磨条件D 研磨剤を火山灰(#300)から火山灰(#400)に変えた以
外は、ブラシ研磨条件Aと同様にして粗面化を行った
Brush Polishing Condition D Roughening was performed in the same manner as in Brush Polishing Condition A, except that the abrasive was changed from volcanic ash (# 300) to volcanic ash (# 400).

【0185】ブラシ研磨条件E ブラシ研磨条件Dでの処理を2回行なった。Brush Polishing Condition E The process under the brush polishing condition D was performed twice.

【0186】ブラシ研磨条件F ブラシ研磨条件Dでの処理を3回行なった。Brush Polishing Condition F The process under the brush polishing condition D was performed three times.

【0187】次に、支持体53〜65に、実施例1記載
の感光性組成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、
80℃で乾燥し、感光性平版印刷版試料53〜65を得
た。このとき、感光性組成物塗布液は乾燥重量として2.
0g/m2となるように塗布した。
Next, the photosensitive composition coating solution described in Example 1 was applied to the supports 53 to 65 using a wire bar,
It was dried at 80 ° C. to obtain photosensitive lithographic printing plate samples 53 to 65. At this time, the photosensitive composition coating liquid has a dry weight of 2.
It was applied so as to be 0 g / m 2 .

【0188】次いで、感光性平版印刷版試料53〜65
を実施例1と同様の条件で露光、現像し、現像した感光
性平版印刷版試料53〜65を用い実施例1に示すと同
様にして印刷を行い、耐刷性、ブランケット汚れ、湿し
水を少なくしときの汚れ易さ及び湿し水を多くしたとき
の水負けし易さを評価した。得られた結果を表11に示
す。
Then, photosensitive planographic printing plate samples 53 to 65 were prepared.
Was exposed and developed under the same conditions as in Example 1, and printing was carried out in the same manner as in Example 1 using the developed photosensitive lithographic printing plate samples 53 to 65 to obtain printing durability, blanket stains and fountain solution. The easiness of soiling when the amount of water was reduced and the ease of losing water when the amount of dampening water was increased were evaluated. Table 11 shows the obtained results.

【0189】《耐刷性の評価》実施例1と同一<< Evaluation of Printing Durability >> Same as in Example 1

【0190】《湿し水を少なくしときの汚れ易さ及び湿
し水を多くしたときの水負けし易さの評価》実施例2と
同一
<< Evaluation of Staining Ease with Less Dampening Water and Ease of Water Loss with More Damping Water >> Same as in Example 2

【0191】《ブランケット汚れの評価》2000枚印刷し
た時点で、印刷版非画像部に接触する箇所のブランケツ
トの汚れを透明接着テープをブランケツトに貼り付けて
から剥離することにより採取し、これを白色の紙に貼り
付けてから、汚れの程度をマクベス濃度計で測定した。
評価は支持体66を使用した場合の汚れの濃度を100と
したときの相対値で行なつた。インキは東洋インキ製ハ
イプラスM墨を使用した。
<< Evaluation of Blanket Stain >> At the time of printing 2000 sheets, stains on the blanket at a portion contacting the non-image area of the printing plate were collected by sticking a transparent adhesive tape on the blanket and peeling it off, and this was collected in white. After sticking to the paper, the degree of stain was measured with a Macbeth densitometer.
The evaluation was carried out by a relative value when the stain density when the support 66 was used was 100. As the ink, Toyo Ink High Plus M ink was used.

【0192】[0192]

【表11】 [Table 11]

【0193】実施例5 ブラシ研磨条件及び電解粗面化条件を表12に示したよ
うに変更した以外は実施例1の支持体1〜14と同様に
して、支持体74〜84を得、下記によりRt(粗面の
最高点と最低点の差)、面積D(粗面の最高点及び最低
点の高さの差を100としたときに最低点側から50の位置
における粗さの中心面と平行な平面でアルミニウム板の
粗面化された表面を切断したときの断面に形成される海
部の面積)及び面積Dの領域数(粗面の最高点及び最低
点の高さの差を100としたときに最低点側から50の位置
における粗さの中心面と平行な平面でアルミニウム板の
粗面化された表面を切断したときの断面に形成される海
部の数)を求めた。
Example 5 Supports 74 to 84 were obtained in the same manner as Supports 1 to 14 of Example 1 except that the brush polishing conditions and the electrolytic surface roughening conditions were changed as shown in Table 12. Therefore, Rt (difference between the highest point and the lowest point of the rough surface), area D (when the difference between the height of the highest point and the lowest point of the rough surface is 100, the center plane of roughness at the position of 50 from the lowest point side The area of the sea part formed in the cross section when the roughened surface of the aluminum plate is cut by a plane parallel to and the number of regions of area D (the difference in height between the highest point and the lowest point of the rough surface is 100). Then, the number of sea parts formed in the cross section when the roughened surface of the aluminum plate was cut at a plane parallel to the center plane of the roughness at the position 50 from the lowest point side was calculated.

【0194】〈Rt〉実施例4と同一<Rt> Same as Example 4

【0195】〈面積D及び面積Dの領域数〉得られた支
持体74〜84表面の3次元表面粗さをWYKO社製非
接触3次元微小表面測定装置(RST PLUS)を使
用して測定した。測定は「バーティカルスキャン法」モ
ードで、対物レンズ:40倍、倍率セレクター:0.5倍、
空間サンプリング間隔:0.42×0.48μmの条件で行なっ
た。
<Area D and Number of Areas of Area D> The three-dimensional surface roughness of the obtained supports 74 to 84 was measured using a non-contact three-dimensional micro surface measuring device (RST PLUS) manufactured by WYKO. . Measurement is in "vertical scan method" mode, objective lens: 40x, magnification selector: 0.5x,
Spatial sampling interval: 0.42 × 0.48 μm.

【0196】測定は最初に115×150μm程度の範囲で行
い、不連続なデータがあった場合は装置に付属のソフト
ウエアにより修復(連続化)した後、範囲を選択して10
0×100μmのデータに加工した(データ点数:238×20
9)。また、粗面の最高点及び最低点を、WYKO RS
T付属のソフトウエアにより求めた。
The measurement is first carried out in the range of about 115 × 150 μm, and if there is discontinuous data, it is repaired (made continuous) by the software attached to the device, and then the range is selected to 10
Processed to 0 × 100 μm data (data points: 238 × 20
9). In addition, the highest point and the lowest point of the rough surface can be calculated by WYKO RS
It was determined by the software attached to T.

【0197】得られた粗さ曲面の最高点及び最低点の高
さの差を100としたとき最低点から50の位置の粗さの中
心面と平行な平面で粗面化された表面を切断したときの
断面の面積をWYKO RST付属のソフトウエアによ
り求め、また、その断面がいくつの領域に分断されてい
るかを数えた。ただし、面積が10μm2に満たない領域
(データ点で50点以下)は無視した。得られた結果を表
12に示す。
When the difference between the heights of the highest point and the lowest point of the obtained roughness curved surface is 100, the roughened surface is cut by a plane parallel to the center plane of the roughness at the position of 50 from the lowest point. The area of the cross-section at that time was obtained by the software attached to WYKO RST, and the number of regions into which the cross-section was divided was counted. However, the region with an area less than 10 μm 2 (50 data points or less) was ignored. Table 12 shows the obtained results.

【0198】[0198]

【表12】 [Table 12]

【0199】次に、支持体74〜84に、実施例1記載
の感光性組成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、
80℃で乾燥し、感光性平版印刷版試料74〜84を得
た。このとき、感光性組成物塗布液は乾燥重量として2.
0g/m2となるように塗布した。
Next, the photosensitive composition coating liquid described in Example 1 was applied to the supports 74 to 84 using a wire bar,
It was dried at 80 ° C. to obtain photosensitive lithographic printing plate samples 74 to 84. At this time, the photosensitive composition coating liquid has a dry weight of 2.
It was applied so as to be 0 g / m 2 .

【0200】次いで、感光性平版印刷版試料74〜84
を実施例1と同様の条件で露光、現像し、下記により現
像性を評価した。また、現像した感光性平版印刷版試料
74〜84を用い実施例1に示すと同様にして印刷を行
い、微点状の汚れ、湿し水を少なくしときの汚れ易さ及
び湿し水を多くしたときの水負けし易さを下記により評
価した。得られた結果を表13に示す。
Then, photosensitive planographic printing plate samples 74 to 84 were prepared.
Was exposed and developed under the same conditions as in Example 1, and the developability was evaluated as follows. Further, printing was performed in the same manner as in Example 1 using the developed photosensitive lithographic printing plate samples 74 to 84 to remove fine dot-like stains, the ease of stain when the dampening water was reduced, and the dampening water. The easiness of losing water when the amount was increased was evaluated by the following. The obtained results are shown in Table 13.

【0201】《現像性の評価》露光した感光性平版印刷
版を、現像液〔SDR−1、コニカ(株)製、8倍に希
釈、現像時間20秒、現像温度27℃〕で現像した試料と、
現像液〔SDR−1、コニカ(株)製、6倍に希釈、現
像時間20秒、現像温度27℃〕で現像した試料を対比し、
クリア段数に差があるかどうかで現像性を評価した。現
像性が優れているものを○、現像性が劣るものを×とし
た。
<Evaluation of developability> A sample obtained by developing an exposed photosensitive lithographic printing plate with a developer [SDR-1, manufactured by Konica Corporation, diluted 8 times, development time 20 seconds, development temperature 27 ° C.] When,
A sample developed with a developer [SDR-1, manufactured by Konica Corporation, diluted 6 times, development time 20 seconds, development temperature 27 ° C.] was compared,
The developability was evaluated by whether there is a difference in the number of clear stages. A sample having excellent developability was marked with ◯, and a sample having poor developability was marked with x.

【0202】《微点状の汚れの評価》実施例1と同一<< Evaluation of fine dot-like stain >> Same as in Example 1

【0203】《湿し水を少なくしときの汚れ易さ及び湿
し水を多くしたときの水負けし易さの評価》実施例2と
同一
<< Evaluation of Staining Ease with Less Dampening Water and Ease of Water Loss with Increasing Damping Water >> Same as Example 2

【0204】[0204]

【表13】 [Table 13]

【0205】実施例6 ブラシ研磨条件及び電解粗面化条件を表14に示したよ
うに変更した以外は実施例1の支持体1〜14と同様に
して、支持体85〜93を得、下記によりRt(粗面の
最高点と最低点の差)及び高さ50〜70の面積(粗面の最
高点及び最低点の高さの差を100としたときに、最低点
側から50の位置における粗さの中心面と平行な平面と70
の位置における粗さの中心面と平行な平面とで囲まれた
範囲におけるアルミニウム板表面の粗面部分の投影面
積)を求めた。
Example 6 Supports 85 to 93 were obtained in the same manner as Supports 1 to 14 of Example 1 except that the brush polishing conditions and the electrolytic surface roughening conditions were changed as shown in Table 14. Therefore, Rt (difference between the highest point and the lowest point on the rough surface) and the area of height 50 to 70 (when the difference between the height of the highest point and the lowest point on the rough surface is 100, the position of 50 from the lowest point side) And a plane parallel to the center plane of the roughness at 70
The projected area of the rough surface portion of the aluminum plate surface in the range surrounded by the center plane of the roughness and the plane parallel to the position was calculated.

【0206】〈Rt〉実施例4と同一<Rt> Same as Example 4

【0207】〈高さ50〜70の面積〉得られた支持体85
〜93表面の3次元表面粗さをWYKO社製非接触3次
元微小表面測定装置(RST PLUS)を使用して測
定した。測定は「バーティカルスキャン法」モードで、
対物レンズ:40倍、倍率セレクター:0.5倍、空間サン
プリング間隔:0.42×0.48μmの条件で行なった。
<Area of height 50 to 70> Obtained support 85
The three-dimensional surface roughness of the ~ 93 surface was measured using a non-contact three-dimensional micro surface measuring device (RST PLUS) manufactured by WYKO. The measurement is in the "vertical scan method" mode,
The objective lens was 40 times, the magnification selector was 0.5 times, and the spatial sampling interval was 0.42 × 0.48 μm.

【0208】測定は最初に115×150μm程度の範囲で行
い、不連続なデータがあった場合は装置に付属のソフト
ウエアにより修復(連続化)した後、範囲を選択して10
0×100μmのデータに加工した(データ点数:238×20
9)。また、粗面の最高点及び最低点を、WYKO RS
T付属のソフトウエアにより求めた。
The measurement is first carried out in the range of about 115 × 150 μm, and if there is discontinuous data, it is repaired (continuous) by the software attached to the device and then the range is selected to 10
Processed to 0 × 100 μm data (data points: 238 × 20
9). In addition, the highest point and the lowest point of the rough surface can be calculated by WYKO RS
It was determined by the software attached to T.

【0209】得られた粗さ曲面の最高点及び最低点の高
さの差を100としたとき、最低点側から50の位置におけ
る粗さの中心面と平行な平面と70の位置における粗さの
中心面と平行な平面とで囲まれた範囲におけるアルミニ
ウム板表面の粗面部分の投影面積をWYKO RST付
属のソフトウエアにより求めた。得られた結果を表14
に示す。
When the difference between the heights of the highest point and the lowest point of the obtained roughness curved surface is 100, a plane parallel to the center plane of the roughness at the position 50 from the lowest point side and the roughness at the position 70 The projected area of the rough surface portion of the aluminum plate surface in the range surrounded by the center plane and the plane parallel to was determined by the software attached to WYKO RST. The results obtained are shown in Table 14.
Shown in

【0210】[0210]

【表14】 [Table 14]

【0211】次に、支持体85〜93に、実施例1記載
の感光性組成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、
80℃で乾燥し、感光性平版印刷版試料85〜93を得
た。このとき、感光性組成物塗布液は乾燥重量として2.
0g/m2となるように塗布した。
Next, the photosensitive composition coating liquid described in Example 1 was applied to the supports 85 to 93 using a wire bar,
It was dried at 80 ° C. to obtain photosensitive planographic printing plate samples 85 to 93. At this time, the photosensitive composition coating liquid has a dry weight of 2.
It was applied so as to be 0 g / m 2 .

【0212】次いで、感光性平版印刷版試料85〜93
を実施例1と同様の条件で露光、現像し、下記により現
像性を評価した。また、現像した感光性平版印刷版試料
85〜93を用い実施例1に示すと同様にして印刷を行
い、小点再現性、湿し水を少なくしときの汚れ易さ及び
湿し水を多くしたときの水負けし易さを下記により評価
した。得られた結果を表15に示す。
Then, photosensitive planographic printing plate samples 85 to 93 were prepared.
Was exposed and developed under the same conditions as in Example 1, and the developability was evaluated as follows. Further, printing was performed in the same manner as in Example 1 using the developed photosensitive lithographic printing plate samples 85 to 93, and small point reproducibility, ease of staining when reducing fountain solution and increase in fountain solution were increased. The easiness of losing water was evaluated by the following. The results obtained are shown in Table 15.

【0213】《小点再現性の評価》実施例2と同一<< Evaluation of Small Point Reproducibility >> Same as in Example 2

【0214】《湿し水を少なくしときの汚れ易さ及び湿
し水を多くしたときの水負けし易さの評価》実施例2と
同一
<< Evaluation of Staining Ease with Less Dampening Water and Ease of Water Loss with More Damping Water >> Same as Example 2

【0215】[0215]

【表15】 [Table 15]

【0216】[0216]

【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版は、耐刷性が
優れ、非画線部の汚れ難さ、特に印刷停止後の微点状の
汚れが発生しにくく、また、本発明の感光性平版印刷版
は、支持体の保水性を維持しつつ、小点再現性が改善さ
れ、また、本発明の感光性平版印刷版は、優れたドット
ゲイン、K値を有している。
EFFECT OF THE INVENTION The photosensitive lithographic printing plate of the present invention has excellent printing durability, is less likely to be smeared on non-image areas, and is particularly unlikely to cause fine dot-like stains after printing is stopped. The photosensitive lithographic printing plate has improved dot reproducibility while maintaining the water retention property of the support, and the photosensitive lithographic printing plate of the present invention has excellent dot gain and K value.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C25D 11/16 301 C25D 11/16 301 G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 (72)発明者 杉 泰久 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C25D 11/16 301 C25D 11/16 301 G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 (72) Inventor Yasuhisa Sugi No. 1 Sakura-cho, Hino City, Tokyo Konica Stock Company

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に感光性組成物の層を設けてな
る感光性平版印刷版において、支持体が、測定長0.5mm
の2次元の表面粗さ曲線の3番目に高い山の頂点から1
μm下に粗さの中心線と平行に引いた基準直線と該基準
直線よりも上の粗さ曲線とで形成される図形の面積の合
計が50μm2以上150μm2以下である表面を有する粗面化
処理及び陽極酸化処理を施されたアルミニウム板である
こと特徴とする感光性平版印刷版。
1. A photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of a photosensitive composition provided thereon, wherein the support has a measurement length of 0.5 mm.
1 from the top of the third highest mountain of the two-dimensional surface roughness curve of
A rough surface having a surface having a total area of 50 μm 2 or more and 150 μm 2 or less formed by a reference straight line drawn parallel to the center line of roughness below μm and a roughness curve above the reference straight line A photosensitive lithographic printing plate, which is an aluminum plate that has been subjected to chemical treatment and anodization treatment.
【請求項2】 支持体上に感光性組成物の層を設けてな
る感光性平版印刷版において、支持体が、測定長0.5mm
の2次元の表面粗さ曲線の3番目に高い山の頂点から3
μm下に粗さの中心線と平行に引いた基準直線と該基準
直線よりも下の粗さ曲線とで形成される図形の面積の合
計が50μm2以上250μm2以下である表面を有する粗面化
処理及び陽極酸化処理を施されたアルミニウム板である
こと特徴とする感光性平版印刷版。
2. In a photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of the photosensitive composition provided thereon, the support has a measurement length of 0.5 mm.
3 from the top of the third highest mountain of the two-dimensional surface roughness curve of
A rough surface having a surface having a total area of 50 μm 2 or more and 250 μm 2 or less formed by a reference straight line drawn parallel to the center line of roughness under μm and a roughness curve below the reference straight line A photosensitive lithographic printing plate, which is an aluminum plate that has been subjected to chemical treatment and anodization treatment.
【請求項3】 支持体上に感光性組成物の層を設けてな
る感光性平版印刷版において、支持体が、測定長0.5mm
の2次元の表面粗さ曲線の3番目に高い山の頂点から1
μm下に粗さの中心線と平行に引いた基準直線と該基準
直線よりも上の粗さ曲線とで形成される図形の面積の合
計が50μm2以上150μm2以下であり、かつ、3番目に高
い山の頂点から3μm下に粗さの中心線と平行に引いた
基準直線と該基準直線よりも下の粗さ曲線とで形成され
る図形の面積の合計が50μm2以上250μm2以下である表
面を有する粗面化処理及び陽極酸化処理を施されたアル
ミニウム板であること特徴とする感光性平版印刷版。
3. A photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of the photosensitive composition provided thereon, wherein the support has a measurement length of 0.5 mm.
1 from the top of the third highest mountain of the two-dimensional surface roughness curve of
The total area of the figure formed by a reference straight line drawn parallel to the center line of roughness below μm and the roughness curve above the reference straight line is 50 μm 2 or more and 150 μm 2 or less, and the third If the total area of the figure formed by the reference straight line drawn parallel to the center line of roughness 3 μm below the peak of the highest mountain and the roughness curve below the reference straight line is 50 μm 2 or more and 250 μm 2 or less A photosensitive lithographic printing plate, which is an aluminum plate having a surface and having been subjected to a roughening treatment and an anodizing treatment.
【請求項4】 支持体上に感光性組成物の層を設けてな
る感光性平版印刷版において、支持体が、粗面化処理及
び陽極酸化処理を施されたアルミニウム板であり、か
つ、粗面化されたアルミニウム板の表面形態が、100μm
×100μmの範囲内において、粗面の最高点及び最低点の
高さの差が6.0μm以上10.0μm以下であり、かつ、最高
点及び最低点の高さの差を100としたときに最低点側か
ら70の位置における粗さの中心面と平行な平面でアルミ
ニウム板の粗面化された表面を切断したときの断面に形
成される島部の面積が、1000μm2以上2000μm2以下であ
ることを特徴とする感光性平版印刷版。
4. A photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of a photosensitive composition on the support, wherein the support is an aluminum plate that has been subjected to a surface roughening treatment and an anodization treatment, and The surface morphology of the planarized aluminum plate is 100 μm
Within the range of × 100μm, the height difference between the highest point and the lowest point of the rough surface is 6.0μm or more and 10.0μm or less, and the lowest point when the height difference between the highest point and the lowest point is 100. The area of the island portion formed in the cross section when the roughened surface of the aluminum plate is cut by a plane parallel to the center plane of the roughness at the position 70 from the side is 1000 μm 2 or more and 2000 μm 2 or less A photosensitive lithographic printing plate characterized by:
【請求項5】 最高点及び最低点の高さの差を100とし
たときに最低点側から70の位置における粗さの中心面と
平行な平面でアルミニウム板の粗面化された表面を切断
したときに断面に形成される島部の個数が、100μm×10
0μmの範囲内において10以上50以下であることを特徴と
する請求項4記載の感光性平版印刷版。
5. The roughened surface of the aluminum plate is cut along a plane parallel to the center plane of the roughness at a position 70 from the lowest point side when the height difference between the highest point and the lowest point is 100. The number of islands formed on the cross section is 100 μm × 10
The photosensitive lithographic printing plate according to claim 4, which is 10 or more and 50 or less within a range of 0 µm.
【請求項6】 支持体上に感光性組成物の層を設けてな
る感光性平版印刷版において、支持体が、粗面化処理及
び陽極酸化処理を施されたアルミニウム板であり、か
つ、粗面化されたアルミニウム板の表面形態が、100μm
×100μmの範囲内において、粗面の最高点及び最低点の
高さの差が6.0μm以上10.0μm以下であり、かつ、最高
点及び最低点の高さの差を100としたときに最低点側か
ら50の位置における粗さの中心面と平行な平面でアルミ
ニウム板の粗面化された表面を切断したときの断面に形
成される海部の面積が、1500μm2以上3000μm2以下であ
ることを特徴とする感光性平版印刷版。
6. A photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of a photosensitive composition on the support, wherein the support is an aluminum plate which has been subjected to a surface roughening treatment and an anodizing treatment, and The surface morphology of the planarized aluminum plate is 100 μm
Within the range of × 100μm, the height difference between the highest point and the lowest point of the rough surface is 6.0μm or more and 10.0μm or less, and the lowest point when the height difference between the highest point and the lowest point is 100. that area of the sea, which is formed on the cross-section of a cutaway of the roughened surface of the aluminum plate in the center plane parallel to the plane of the roughness at the position of 50 from the side is at 1500 .mu.m 2 or more 3000 .mu.m 2 or less Characteristic photosensitive lithographic printing plate.
【請求項7】 最高点及び最低点の高さの差を100とし
たときに最低点側から50の位置における粗さの中心面
と平行な平面でアルミニウム板の粗面化された表面を切
断したときの断面に形成される海部の個数が、100μm×
100μmの範囲内において、10以上50以下であることを特
徴とする請求項6記載の感光性平版印刷版。
7. A roughened surface of an aluminum plate is cut by a plane parallel to the center plane of roughness at a position 50 from the lowest point side when the height difference between the highest point and the lowest point is 100. The number of sea areas formed in the cross section when
7. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 6, which is 10 or more and 50 or less within a range of 100 μm.
【請求項8】 支持体上に感光性組成物の層を設けてな
る感光性平版印刷版において、支持体が、表面粗さがR
aで0.6μm以上0.9μm以下、Rzで3.5μm以上6.0μm以
下である表面を有する粗面化処理および陽極酸化処理を
施されたアルミニウム板であり、該アルミニウム板上に
感光性組成物の層を塗布し、次いで、該感光性組成物層
の表面を平滑化する工程を設けたことを特徴とする感光
性平版印刷版の製造方法。
8. A photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of a photosensitive composition provided thereon, wherein the support has a surface roughness of R.
It is an aluminum plate having a surface of 0.6 μm or more and 0.9 μm or less in a and Rz of 3.5 μm or more and 6.0 μm or less, which has been subjected to a roughening treatment and anodization treatment, and a layer of a photosensitive composition on the aluminum plate. And a step of smoothing the surface of the photosensitive composition layer are then provided, which is a method for producing a photosensitive lithographic printing plate.
【請求項9】 支持体上に感光性組成物の層を設けてな
る感光性平版印刷版において、支持体が、表面粗さがR
aで0.6μm以上0.9μm以下、Rzで3.5μm以上6.0μm以
下である表面を有する粗面化処理及び陽極酸化処理を施
されたアルミニウム板であり、かつ、感光性組成物の層
の表面粗さがRaで0.1μm以上0.35μm以下、Rzで0.7
μm以上2.2μm以下であることを特徴とする感光性平版
印刷版。
9. A photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of a photosensitive composition on the support, wherein the support has a surface roughness R.
a is an aluminum plate having a surface of 0.6 μm or more and 0.9 μm or less and Rz of 3.5 μm or more and 6.0 μm or less, and has a surface roughness of a layer of a photosensitive composition. Ra is 0.1 μm or more and 0.35 μm or less, and Rz is 0.7
A photosensitive lithographic printing plate characterized by having a size of not less than μm and not more than 2.2 μm.
【請求項10】 感光性組成物の層の表面粗さがRaで
0.1μm以上0.2μm以下、Rzで0.7μm以上1.1μm以下で
あることを特徴とする請求項9記載の感光性平版印刷
版。
10. The surface roughness of the layer of the photosensitive composition is Ra.
10. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 9, wherein the Rz is 0.7 μm or more and 0.2 μm or less and Rz is 0.7 μm or more and 1.1 μm or less.
【請求項11】 支持体上に感光性組成物の層を設けて
なる感光性平版印刷版において、支持体が、粗面化処理
及び陽極酸化処理を施されたアルミニウム板であり、か
つ、粗面化されたアルミニウム板の表面形態が、100μm
×100μmの範囲内において、粗面の最高点及び最低点の
高さの差が6.0μm以上10.0μm以下であり、かつ、最高
点及び最低点の高さの差を100としたときに、最低点側
から50の位置における粗さの中心面と平行な平面と70の
位置における粗さの中心面と平行な平面とで囲まれた範
囲におけるアルミニウム板表面の粗面部分の投影面積が
6000μm2以上であることを特徴とする感光性平版印刷
版。
11. A photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of a photosensitive composition on the support, wherein the support is an aluminum plate that has been subjected to a surface-roughening treatment and an anodizing treatment, and The surface morphology of the planarized aluminum plate is 100 μm
Within the range of × 100μm, the difference between the height of the highest point and the lowest point of the rough surface is 6.0μm or more and 10.0μm or less, and the difference between the heights of the highest point and the lowest point is 100. The projected area of the rough surface portion of the aluminum plate surface in the range surrounded by the plane parallel to the roughness center plane at the position 50 from the point side and the plane parallel to the center plane of the roughness at position 70
A photosensitive lithographic printing plate characterized by having a size of 6000 μm 2 or more.
【請求項12】 支持体上に感光性組成物の層を設けて
なる感光性平版印刷版において、支持体が、粗面化処理
及び陽極酸化処理を施されたアルミニウム板であり、か
つ、開口径が0.5μm以上2.0μm以下の範囲内にある電気
化学的粗面化により形成されたアルミニウム板表面のピ
ットの数が、開口径が0.1μm以上2.0μm以下の範囲内に
あるピットの数の80%以上であることを特徴とする感光
性平版印刷版。
12. A photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer of a photosensitive composition on the support, wherein the support is an aluminum plate which has been subjected to a surface-roughening treatment and an anodization treatment, and The number of pits on the surface of the aluminum plate formed by electrochemical graining with a diameter within the range of 0.5 μm or more and 2.0 μm or less is the number of pits within the range of the opening diameter of 0.1 μm or more and 2.0 μm or less. A photosensitive lithographic printing plate characterized by being 80% or more.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002200859A (en) * 2000-12-28 2002-07-16 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive lithographic printing plate
KR101483833B1 (en) * 2010-02-23 2015-01-16 멕크 가부시키가이샤 Surface roughening agent for aluminum, and surface roughening method using said surface roughening agent

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