JPH0968709A - Rubbing method - Google Patents

Rubbing method

Info

Publication number
JPH0968709A
JPH0968709A JP22240095A JP22240095A JPH0968709A JP H0968709 A JPH0968709 A JP H0968709A JP 22240095 A JP22240095 A JP 22240095A JP 22240095 A JP22240095 A JP 22240095A JP H0968709 A JPH0968709 A JP H0968709A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rubbing
liquid crystal
substrate
roller
orientation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22240095A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukio Haniyu
由紀夫 羽生
Yasuhiro Ito
靖浩 伊藤
Hirohide Munakata
博英 棟方
Yasuaki Takeda
恭明 武田
Yasushi Asao
恭史 浅尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP22240095A priority Critical patent/JPH0968709A/en
Publication of JPH0968709A publication Critical patent/JPH0968709A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the occurrence of the transfer and C2 orientation of liquid crystal molecules and to improve the yield. SOLUTION: The feed speed (v) of a conveyor 13 is continuously increased from the start of rubbing (the time when the rubbing is started by contact of a rubbing roller 11 with the front end edge of a substrate E) to the end of the rubbing (the time when the rubbing roller 11 parts from the rear end edge of the substrate E) at the time of subjecting one sheet of the substrate E to a rubbing treatment. Such control of the feed speed (v) is executed similarly for the respective substrates E. The other rubbing conditions (roller rotating speed R, indenting rate (x), etc.) are held at desired values. As a result, the adequate range of the rubbing conditions is widened and the occurrence of the transfer and C2 orientation of the liquid crystal molecules is prevented even if the indenting rate (x) and the roller rotating speed R deviate slightly from the desired values.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶分子の移動現
象、及びC2配向の発生を防止して製造歩留りを向上さ
せるラビング方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rubbing method for improving the manufacturing yield by preventing the movement phenomenon of liquid crystal molecules and the occurrence of C2 orientation.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、カイラルスメクチック液晶、特に
強誘電性液晶の屈折率異方性を利用して偏光素子との組
み合わせにより透過光線を制御する型の表示素子がクラ
ーク(Clark)及びラガーウォル(Lagerwa
ll)により提案されている(特開昭56−10721
6号公報、米国特許第4367924号明細書等)。
2. Description of the Related Art In recent years, display devices of the type in which transmitted light rays are controlled by using a chiral smectic liquid crystal, particularly a ferroelectric liquid crystal, in combination with a polarizing element to control transmitted light rays are Clark and Lagerwal.
11) (Japanese Patent Laid-Open No. 56-10721).
No. 6, the specification of US Pat. No. 4,367,924).

【0003】この強誘電性液晶は、一般に特定の温度域
において、非らせん構造のカイラルスメクチックC相
(SmC* )又はH相(SmH* )を有し、この状態に
おいて、加えられる電界に応答して第1の光学的安定状
態と第2の光学的安定状態のいずれかを取り、且つ電界
の印加のないときはその状態を維持する性質、すなわち
双安定性を有し、また電界の変化に対する応答も速やか
であり、高速ならびに記憶型の表示素子用としての広い
利用が期待されている。
This ferroelectric liquid crystal generally has a non-helical chiral smectic C phase (SmC * ) or H phase (SmH * ) in a specific temperature range, and responds to an electric field applied in this state. Has either a first optical stable state or a second optical stable state, and has the property of maintaining that state when no electric field is applied, that is, bistability, and is resistant to changes in the electric field. It responds quickly and is expected to be widely used for high-speed and memory type display devices.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した強
誘電性液晶表示素子においては、その製造過程にてラビ
ング処理が行なわれてプレチルト角が付与されるが、こ
のプレチルト角が大きいと液晶分子の移動という問題が
生じ、逆に、プレチルト角が小さいとC2配向の発生と
いう問題が生じていた(詳細は後述)。したがって、こ
のような問題を回避するためには、プレチルト角が適正
範囲となるようにラビング条件をコントロールする必要
がある。しかし、実際には、ラビング条件の適正範囲が
狭いものであるため、ラビング条件が適正範囲からずれ
易く、液晶分子の移動やC2配向が発生して、液晶表示
素子の製造歩留りを低下させていた。
By the way, in the above-mentioned ferroelectric liquid crystal display element, a rubbing treatment is performed in the manufacturing process to give a pretilt angle. The problem of movement occurred, and conversely, the problem of occurrence of C2 orientation occurred when the pretilt angle was small (details will be described later). Therefore, in order to avoid such a problem, it is necessary to control the rubbing condition so that the pretilt angle falls within an appropriate range. However, in practice, since the proper range of the rubbing condition is narrow, the rubbing condition is likely to deviate from the proper range, liquid crystal molecules move or C2 alignment occurs, and the manufacturing yield of the liquid crystal display element is reduced. .

【0005】ここで、液晶分子の移動、及びC2配向に
ついて説明する。 〈液晶分子の移動〉まず、液晶分子の移動現象につい
て、図1に沿って説明する。
Here, movement of liquid crystal molecules and C2 orientation will be described. <Movement of Liquid Crystal Molecules> First, the movement phenomenon of liquid crystal molecules will be described with reference to FIG.

【0006】強誘電性液晶分子は、上述したように双安
定性を有するが、この双安定状態における平均的な分子
位置(以下、“平均分子軸方向”とする)を図1にて符
号21、21´で模式的に示す。なお、図中の符号20
はラビング方向を示す。
Ferroelectric liquid crystal molecules have bistability as described above, and the average molecular position in this bistable state (hereinafter referred to as "average molecular axis direction") is designated by reference numeral 21 in FIG. , 21 '. In addition, reference numeral 20 in the drawing
Indicates the rubbing direction.

【0007】いま、例えば、平均分子軸方向が符号21
となりスイッチングされないような交流電界22を印加
し、強誘電性液晶表示素子を長時間駆動すると、液晶分
子は矢印aの方向に移動してセル端部Bのセル厚が増加
し、また、平均分子軸方向が符号21′となりスイッチ
ングされないような交流電界22′を印加すると、液晶
分子は矢印bの方向に移動してC部分のセル厚が増加す
る。そして、このようにセル厚の増加した部分が黄色に
色付いて見えてくるという問題(以下、“黄変”とす
る)が認められる。
Now, for example, the average molecular axis direction is 21.
When an AC electric field 22 that does not cause switching is applied and the ferroelectric liquid crystal display element is driven for a long time, the liquid crystal molecules move in the direction of arrow a, the cell thickness at the cell end B increases, and the average molecular weight increases. When an alternating electric field 22 'is applied so that the axial direction becomes 21' and is not switched, the liquid crystal molecules move in the direction of arrow b and the cell thickness of the C portion increases. Then, there is a problem that the portion where the cell thickness is increased appears yellow (hereinafter referred to as "yellowing").

【0008】ここで、液晶分子の移動方向a,bは、ラ
ビング方向20と平均分子軸方向21,…によって規定
される。このことは、本発明者が実験により確かめてい
る。なお、液晶分子の移動方向は、ラビング方向20に
対して垂直な方向となり、スメクチック層内において液
晶の移動が生じる。
Here, the moving directions a and b of the liquid crystal molecules are defined by the rubbing direction 20 and the average molecular axis directions 21, .... This has been confirmed by the present inventors through experiments. The liquid crystal molecules move in a direction perpendicular to the rubbing direction 20, and the liquid crystal moves in the smectic layer.

【0009】なお、本発明者は、このように液晶分子が
移動する原因を、駆動パルスによる交流的な電界で液晶
分子の双極子モーメントが揺らぐことにより発生する電
気力学的効果によるものと推察している。
The inventor of the present invention speculates that the cause of the movement of the liquid crystal molecules is due to the electrodynamic effect generated by the fluctuation of the dipole moment of the liquid crystal molecules in the AC electric field due to the driving pulse. ing.

【0010】そして、このように液晶分子の移動方向が
ラビング方向に依存することから、黄変現象が基板界面
でのプレチルトの状態に依存することが容易に推察され
る。具体的には、プレチルト角が大きいと液晶分子が移
動して黄変現象が発生していた。
Since the moving direction of the liquid crystal molecules depends on the rubbing direction as described above, it is easily inferred that the yellowing phenomenon depends on the pretilt state at the substrate interface. Specifically, when the pretilt angle is large, liquid crystal molecules move to cause a yellowing phenomenon.

【0011】なお、一般に黄変は、液晶の注入口付近に
顕著に観察される。また、ここでは自発分極の向きが負
である液晶材料を用いた場合について述べており、自発
分極が逆になると液晶分子の移動方向も逆になる。さら
に、基板界面の状態によっても液晶分子の移動方向が変
化し、また、移動する液晶分子の量が少なくなったりす
る。 〈C2配向〉次に、C2配向について、図2及び図3に
沿って説明する。
In general, yellowing is noticeably observed near the liquid crystal injection port. In addition, here, the case where a liquid crystal material in which the direction of spontaneous polarization is negative is described, and when the spontaneous polarization is reversed, the moving directions of the liquid crystal molecules are also reversed. Furthermore, the moving direction of the liquid crystal molecules changes depending on the state of the substrate interface, and the amount of moving liquid crystal molecules decreases. <C2 Alignment> Next, the C2 alignment will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

【0012】まず、C1およびC2の2種類の配向状態
を、図2に示すようなスメクチック層のシェブロン構造
の違いで説明する。ここで、図2中の符号31はスメク
チック層を、符号32はC1配向領域を、符号33はC
2配向領域を、それぞれ示している。
First, two kinds of orientation states, C1 and C2, will be explained by the difference in chevron structure of the smectic layer as shown in FIG. Here, reference numeral 31 in FIG. 2 indicates a smectic layer, reference numeral 32 indicates a C1 orientation region, and reference numeral 33 indicates C.
Two orientation regions are shown respectively.

【0013】スメクチック液晶は、一般に層構造を持つ
が、SmA相からSmC相またはSmC* 相に転移する
と層間隔が縮むので、図2に示すように、層が上下基板
(1a,1b)の中央付近で折れ曲がった構造(シェブ
ロン構造)をとる。ここで、折れ曲がる方向は、図2に
示すように、C1とC2の2つ有り得るが、良く知られ
ているように一軸性配向(ラビング)によって基板界面
の液晶分子は基板に対して角度をなし(プレチルト)、
その方向はラビング方向20に向かって液晶分子が頭を
もたげる(先端が浮いた格好になる)向きである。この
プレチルトのためにC1配向とC2配向とは弾性エネル
ギー的に等価でなく、ある温度で転移が起こることがあ
る。また、機械的な歪みで転移が起こることもある。図
2の層構造を平面的に見ると、ラビング方向20に向か
ってC1配向からC2配向に移るときの境界34はジグ
ザグの稲妻状でライトニング欠陥と呼ばれ、C2配向か
らC1配向に移るときの境界35は幅の広いゆるやかな
曲線状で、ヘアピン欠陥と呼ばれる。
Smectic liquid crystals generally have a layered structure, but when the SmA phase transitions to the SmC phase or the SmC * phase, the layer spacing shrinks. As shown in FIG. It takes a bent structure (chevron structure) in the vicinity. Here, as shown in FIG. 2, there may be two bending directions C1 and C2, but as is well known, uniaxial alignment (rubbing) causes liquid crystal molecules at the interface of the substrate to form an angle with the substrate. (Pretilt),
The direction is the direction in which the liquid crystal molecules lift their heads toward the rubbing direction 20 (the tip becomes floating). Due to this pretilt, the C1 orientation and the C2 orientation are not elastically energy-equivalent, and a transition may occur at a certain temperature. In addition, mechanical strain may cause dislocation. When the layered structure of FIG. 2 is viewed in a plan view, the boundary 34 at the time of shifting from the C1 orientation to the C2 orientation in the rubbing direction 20 is zigzag lightning and is called a lightning defect, and the boundary 34 at the time of shifting from the C2 orientation to the C1 orientation. The boundary 35 has a wide and gentle curved shape and is called a hairpin defect.

【0014】ところで、強誘電性液晶表示素子は、平行
に配置された一対の基板を備え、それらの基板表面には
一軸性配向処理が同一方向になされ、強誘電性液晶の配
向が図られているが、いま、強誘電性液晶のプレチルト
角をαとし、チルト角(コーン角の1/2)をΘとし、
SmC* 層の傾斜角をδとした場合に、次式を満足する
ように強誘電性液晶を配向させると、C1配向状態に於
いてシェブロン構造を有する4つの状態が存在する。
The ferroelectric liquid crystal display element comprises a pair of substrates arranged in parallel, and the surfaces of these substrates are subjected to a uniaxial alignment treatment in the same direction to align the ferroelectric liquid crystal. However, the pretilt angle of the ferroelectric liquid crystal is α, and the tilt angle (1/2 of the cone angle) is Θ,
When the ferroelectric liquid crystal is oriented so as to satisfy the following equation, where the inclination angle of the SmC * layer is δ, there are four states having a chevron structure in the C1 orientation state.

【0015】[0015]

【式3】Θ<α+δ この4つのC1配向状態は、従来のC1配向状態とは異
なっており、なかでも4つのC1配向状態のうちの2つ
の状態は、双安定状態(ユニフォーム状態)を形成して
いる。ここで、無電界時のみかけのチルト角をθaとす
れば、C1配向状態における4つの状態のうち、次式の
関係を示す状態をユニフォーム状態という。
[Formula 3] Θ <α + δ These four C1 orientation states are different from the conventional C1 orientation states. Among them, two of the four C1 orientation states form a bistable state (uniform state). are doing. Here, if the apparent tilt angle when there is no electric field is θa, of the four states in the C1 orientation state, the state showing the relationship of the following equation is called the uniform state.

【0016】[0016]

【式4】Θ>θa>Θ/2 このユニフォーム状態においては、その光学的性質から
みて液晶分子(ダイレクタ)が上下基板間でねじれてい
ないと考えられる。図3(a) はC1配向の各状態におけ
る基板間の各位置でのダイレクタの配置を示す模式図で
ある。図中51〜54は各状態においてダイレクタをコ
ーンの底面に投影し、これを底面方向から見た様子を示
しており、Cダイレクタといわれる。この図で、符号5
1および52がスプレイ状態、符号53および54がユ
ニフォーム状態と考えられるCダイレクタの配置であ
る。同図から分かるとおり、ユニフォームの2状態53
と54においては、上下いずれかの基板界面の液晶分子
の位置がスプレイ状態の位置と入れ替わっている。図3
(b) はC2配向を示しており、界面のスイッチングはな
く内部のスイッチングで2状態55と56がある。
[Formula 4] Θ>θa> Θ / 2 In this uniform state, it is considered that liquid crystal molecules (directors) are not twisted between the upper and lower substrates in view of their optical properties. FIG. 3A is a schematic view showing the arrangement of directors at respective positions between the substrates in each state of C1 orientation. In the figure, reference numerals 51 to 54 show the state in which the director is projected on the bottom surface of the cone in each state and viewed from the bottom surface direction, which is called a C director. In this figure, reference numeral 5
Reference numerals 1 and 52 are C-director arrangements which are considered to be in a spray state and reference numerals 53 and 54 are considered to be in a uniform state. As you can see from the figure, two uniform states 53
In Nos. 54 and 54, the positions of the liquid crystal molecules at the interface between the upper and lower substrates are replaced with the positions in the splay state. FIG.
(b) shows the C2 orientation, and there are two states 55 and 56 due to internal switching without switching at the interface.

【0017】このC1配向のユニフォーム状態は、従来
用いていたC2配向における双安定状態より大きなチル
ト角θaを生じ、輝度大きくしかもコントラストが高
い。
This C1 orientation uniform state produces a larger tilt angle θa than the conventionally used bistable state in the C2 orientation, and has a large luminance and a high contrast.

【0018】ところで、プレチルト角の小さい強誘電性
液晶表示素子を低温下で駆動すると、C1配向中に部分
的に(例えば、液晶注入口とは反対側に)C2配向状態
が発生することがある。そして、このC2配向状態の発
生によりジグザグ欠陥が発生し、画質が部分的に劣化し
てしまうという問題がある。
By the way, when a ferroelectric liquid crystal display element having a small pretilt angle is driven at a low temperature, a C2 alignment state may be partially generated (for example, on the side opposite to the liquid crystal injection port) during the C1 alignment. . Further, there is a problem that a zigzag defect occurs due to the occurrence of the C2 orientation state, and the image quality is partially deteriorated.

【0019】なお、C2配向状態が発生する原因は、温
度の低下に伴って“SmC* 層の傾斜角δ”が小さくな
ることや、プレチルト角αが低いことや、補助電極(金
属電極)等の影響による。したがって、このようなC2
配向状態の発生を防止するためには、プレチルト角αを
大きくすれば良い。
The cause of the C2 orientation state is that the "SmC * layer inclination angle δ" becomes smaller with a decrease in temperature, the pretilt angle α is low, the auxiliary electrode (metal electrode), etc. Due to. Therefore, such C2
In order to prevent the occurrence of the alignment state, the pretilt angle α may be increased.

【0020】したがって、上述した黄変現象及びC2配
向の発生を防止するためには、プレチルト角が適正範囲
となるように、ローラの押し込み量xや回転速度R等の
ラビング条件をコントロールする必要がある。しかし、
実際には、ラビング条件の適正範囲が狭いものであるた
め、ラビング条件が適正範囲からずれ易く、液晶分子の
移動やC2配向が発生して、液晶表示素子の製造歩留り
を低下させていた。
Therefore, in order to prevent the above-mentioned yellowing phenomenon and the occurrence of C2 orientation, it is necessary to control the rubbing conditions such as the pressing amount x and the rotation speed R of the roller so that the pretilt angle is in an appropriate range. is there. But,
In practice, since the proper range of the rubbing condition is narrow, the rubbing condition is likely to deviate from the proper range, liquid crystal molecules move or C2 alignment occurs, and the manufacturing yield of the liquid crystal display element is reduced.

【0021】そこで、本発明は、配向欠陥及び黄変の発
生を防止し製造歩留りの改善を可能とするラビング方法
を提供することを目的とするものである。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a rubbing method capable of preventing the occurrence of alignment defects and yellowing and improving the manufacturing yield.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】本発明は、上述事情に鑑
みなされたものであって、一対の基板間にカイラルスメ
クチック液晶を挟持してなる液晶素子の製造に用いら
れ、少なくとも一方の基板にラビング布を擦り付けるこ
とにより配向規制力を付与してなるラビング方法におい
て、ラビング強度を前記一方の基板内にて連続的に減少
させる、ことを特徴とする。この場合、前記ラビング布
が取り付けられたラビングローラと、該ラビングローラ
を回転駆動する回転駆動手段と、前記ラビングローラ及
び前記一方の基板を相対的に移動させる移動手段と、を
備えたラビング装置を用い、かつ、前記ラビング布を前
記一方の基板に当接させた状態で、前記ラビングローラ
を回転駆動すると共に、前記ラビングローラ及び前記一
方の基板を相対的に移動させることにより、該一方の基
板に配向規制力を付与する、ようにしてもよい。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is used for manufacturing a liquid crystal element in which a chiral smectic liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, and at least one of the substrates is provided. In a rubbing method in which an alignment control force is applied by rubbing a rubbing cloth, the rubbing strength is continuously reduced in the one substrate. In this case, a rubbing device including a rubbing roller to which the rubbing cloth is attached, a rotation driving unit that rotationally drives the rubbing roller, and a moving unit that relatively moves the rubbing roller and the one substrate are provided. Using the rubbing cloth in contact with the one substrate, the rubbing roller is driven to rotate, and the rubbing roller and the one substrate are moved relatively to each other. The orientation regulating force may be applied to the.

【0023】また、前記ラビングローラ及び前記一方の
基板の相対移動速度を連続的に増加させ、該相対移動速
度の増加に基づきラビング強度を変化させる、ようにし
てもよい。さらに、前記ラビングローラの回転速度を連
続的に減少させ、該回転速度の減少に基づきラビング強
度を変化させる、ようにしてもよい。またさらに、前記
一方の基板に対する前記ラビング布の当接圧力を連続的
に減少させ、該当接圧力の減少に基づきラビング強度を
変化させる、ようにしてもよい。
Further, the relative moving speed of the rubbing roller and the one substrate may be continuously increased, and the rubbing strength may be changed based on the increase of the relative moving speed. Further, the rotation speed of the rubbing roller may be continuously decreased, and the rubbing strength may be changed based on the decrease in the rotation speed. Furthermore, the contact pressure of the rubbing cloth with respect to the one substrate may be continuously decreased, and the rubbing strength may be changed based on the decrease of the contact pressure.

【0024】また、前記カイラルスメクチック液晶が、
少なくとも2つの安定状態を示し、かつ、それらの光学
軸のなす角度の1/2であるθaと、コーン角Θとが、
Further, the chiral smectic liquid crystal is
Θa, which is at least two stable states, and is ½ of the angle formed by these optical axes, and the cone angle Θ are

【0025】[0025]

【式5】Θ>θa>Θ/2 の関係を満足する、ようにすると好ましい。[Formula 5] It is preferable to satisfy the relation of Θ> θa> Θ / 2.

【0026】さらに、液晶のプレチルト角をαとし、コ
ーン角をΘとし、カイラルスメクチック層の傾斜角をδ
とした場合に、
Furthermore, the pretilt angle of the liquid crystal is α, the cone angle is Θ, and the tilt angle of the chiral smectic layer is δ.
And if

【0027】[0027]

【式6】α>Θ−δ を満足する、ようにしてもよい。[Expression 6] α> Θ−δ may be satisfied.

【0028】またさらに、前記液晶素子が、前記基板上
に形成された透明電極と、これらの透明電極の上に形成
された金属電極と、を有する、ようにしてもよい。
Furthermore, the liquid crystal element may have a transparent electrode formed on the substrate and a metal electrode formed on these transparent electrodes.

【0029】なお、以上構成に基づき、基板にラビング
布を擦り付けて配向規制力を付与するに際し、ラビング
強度を前記基板内にて連続的に減少させると、仮にラビ
ング条件が多少ずれても、黄変の発生やC2配向の発生
を防止できる。
Based on the above construction, when rubbing cloth is rubbed against the substrate to give the alignment regulating force, if the rubbing strength is continuously decreased in the substrate, even if the rubbing condition is slightly deviated, It is possible to prevent the occurrence of deformation and the occurrence of C2 orientation.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、図面に沿って、本発明の実
施の形態について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0031】まず、第1の実施の形態について、図4及
び図5に沿って説明する。
First, the first embodiment will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

【0032】図4は、強誘電性液晶表示素子の構造を模
式的に示す断面図であるが、液晶表示素子Pは、平行に
配置された2枚のガラス基板1a,1b(以下、適宜
“上基板1a”及び“下基板1b”とする)を備えてお
り、これらの基板1a,1b上には、透明電極2a,2
bと、透明電極2a,2bを被覆する絶縁膜3a,3b
と、絶縁膜3a,3bを被覆する配向制御膜5a,5b
と、がそれぞれ順に形成されている。ここで、透明電極
2a,2bの厚さは約40〜300nmであり、絶縁膜
3a,3bの厚さは10〜300nmである。この絶縁
膜3a,3bは、塗布及び焼成によって形成されている
が、スパッタ膜との複層構造でもよい。また、配向制御
膜5a,5bの厚さは5〜30nmであり、配向制御膜
5a,5bの表面には一軸配向処理が施されている。
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the ferroelectric liquid crystal display element. The liquid crystal display element P is composed of two glass substrates 1a and 1b (hereinafter, referred to as appropriate). Upper substrate 1a "and" lower substrate 1b "), and transparent electrodes 2a, 2 are provided on these substrates 1a, 1b.
b and insulating films 3a and 3b for covering the transparent electrodes 2a and 2b
And the orientation control films 5a and 5b covering the insulating films 3a and 3b.
Are formed in order. Here, the thickness of the transparent electrodes 2a and 2b is about 40 to 300 nm, and the thickness of the insulating films 3a and 3b is 10 to 300 nm. The insulating films 3a and 3b are formed by coating and baking, but may have a multilayer structure with a sputtered film. The thickness of the orientation control films 5a and 5b is 5 to 30 nm, and the surfaces of the orientation control films 5a and 5b are uniaxially oriented.

【0033】一方、基板間隙には多数のスペーサ7,…
が配置されて基板間隙が規定されており、ガラス基板1
a,1bの端部はシール部材(不図示)によって接着さ
れている。また、該間隙には、強誘電性液晶、好ましく
は、少なくとも2つの安定状態を持つ強誘電性液晶9が
配置されている。
On the other hand, a large number of spacers 7, ...
Are arranged to define the substrate gap, and the glass substrate 1
The ends of a and 1b are bonded by a seal member (not shown). Further, a ferroelectric liquid crystal, preferably, a ferroelectric liquid crystal 9 having at least two stable states is arranged in the gap.

【0034】なお、本実施の形態においては、強誘電性
液晶9としてカイラルスメクチック相状態のものを用い
ることができ、具体的には、カイラルスメクチックC相
(SmC* )、H相(SmH* )、I相(SmI* )、
K相(SmK* )やG相(SmG* )の液晶を用いるこ
とができる。
In the present embodiment, the ferroelectric liquid crystal 9 may be in the chiral smectic phase state, specifically, the chiral smectic C phase (SmC * ) and H phase (SmH * ). , Phase I (SmI * ),
Liquid crystals of K phase (SmK * ) or G phase (SmG * ) can be used.

【0035】特に好ましい液晶としては、これより高温
側でコレステリック相を示すものがあり、例えば、次に
示す相転移温度及び物性値を示すピリミジン系混合液晶
がある。
Particularly preferred liquid crystals include those exhibiting a cholesteric phase on the higher temperature side, for example, pyrimidine-based mixed liquid crystals exhibiting the following phase transition temperatures and physical properties.

【0036】[0036]

【化1】 ピリミジン系液晶A −3℃ 57℃ 79℃ 85℃ Cryst → SmC* → SmA → Ch → Iso チルト角 Θ=14°(30℃) 層の傾斜角 δ=11°(30℃) 見かけのチルト角 θ=11°(30℃) なお、本実施の形態においては、液晶9は、少なくとも
2つの安定状態を示し、かつ、それらの光学軸のなす角
度の1/2であるθaと、コーン角Θとが、
Embedded image Pyrimidine type liquid crystal A −3 ° C. 57 ° C. 79 ° C. 85 ° C. Cryst → SmC * → SmA → Ch → Iso Tilt angle Θ = 14 ° (30 ° C.) Layer tilt angle δ = 11 ° (30 ° C.) Apparent Tilt angle θ = 11 ° (30 ° C.) In the present embodiment, the liquid crystal 9 exhibits at least two stable states, and θa which is 1/2 of the angle formed by the optical axes thereof. The cone angle Θ is

【0037】[0037]

【式7】Θ>θa>Θ/2 の関係を満足する、ようになっている。また、液晶9の
プレチルト角をαとし、コーン角をΘとし、カイラルス
メクチック層の傾斜角をδとした場合に、
[Formula 7] The relation of Θ>θa> Θ / 2 is satisfied. When the pretilt angle of the liquid crystal 9 is α, the cone angle is Θ, and the tilt angle of the chiral smectic layer is δ,

【0038】[0038]

【式8】α>Θ−δ を満足する、ようになっている。[Expression 8] α> Θ−δ is satisfied.

【0039】次に、本実施の形態に用いるラビング方法
について説明する。
Next, the rubbing method used in this embodiment will be described.

【0040】ラビング処理には、図5に示すようなラビ
ング装置10が用いられる。このラビング装置10は、
回転自在に支持されたラビングローラ11を備えてお
り、このローラ11の外周面にはラビング布12が貼付
されている。また、このローラ11は、モータ(回転駆
動手段)Mに接続されて、所定の回転速度Rにて回転駆
動されるように構成されている。さらに、このローラ1
1の下方にはコンベア(移動手段)13が配置されてお
り、該コンベア13に載置された基板Eを所定の相対移
動速度v(以下、“送り速度v”とする)にて移動する
ようになっている。またさらに、ラビングローラ11
は、その高さ位置を調節して押し込み量x(当接圧力)
を変化できるように構成されている。
A rubbing apparatus 10 as shown in FIG. 5 is used for the rubbing process. This rubbing device 10 is
A rubbing roller 11 rotatably supported is provided, and a rubbing cloth 12 is attached to the outer peripheral surface of the roller 11. Further, the roller 11 is connected to a motor (rotational driving means) M and is configured to be rotationally driven at a predetermined rotational speed R. Furthermore, this roller 1
A conveyor (moving means) 13 is arranged below 1 so that the substrate E placed on the conveyor 13 is moved at a predetermined relative moving speed v (hereinafter, referred to as “feeding speed v”). It has become. Furthermore, the rubbing roller 11
Adjust the height position and push in x (contact pressure)
Is configured to be variable.

【0041】本実施の形態においては、送り速度vが、
1枚の基板Eをラビングするに際し、ラビング開始時
(基板Eの先端縁にラビングローラ11が接触してラビ
ングを開始する時)からラビング終了時(その基板Eの
後端縁からラビングローラ11が離脱する時)にかけて
連続的に増加し、これによって、ラビング強度が連続的
に減少されるように構成されている。そして、このよう
な送り速度vの制御は、各基板に対して同様に行なわれ
る。なお、この間、ローラ回転速度Rは一定(例えば、
1000rpm)に保持され、押し込み量xは一定(例
えば、0.15mm)に保持されている。
In this embodiment, the feed rate v is
When rubbing one substrate E, from the start of rubbing (when the rubbing roller 11 contacts the leading edge of the substrate E to start rubbing) to the end of rubbing (from the rear edge of the substrate E to the rubbing roller 11). It is configured such that the rubbing strength is continuously reduced by increasing the rubbing strength. Then, such control of the feed speed v is similarly performed for each substrate. During this period, the roller rotation speed R is constant (for example,
1000 rpm) and the pushing amount x is kept constant (for example, 0.15 mm).

【0042】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
Next, the effect of the present embodiment will be described.

【0043】本実施の形態によれば、送り速度vを連続
的に増加させることによってラビング条件が広がり、押
し込み量xやローラ回転速度Rが仮に所望値から多少ず
れても、黄変やC2配向の発生を防止できる。したがっ
て、液晶表示素子Pの製造歩留りが向上され、その結
果、液晶表示素子Pのコストが低減される。
According to the present embodiment, the rubbing condition is widened by continuously increasing the feed speed v, and even if the pushing amount x and the roller rotation speed R are slightly deviated from desired values, yellowing or C2 orientation is caused. Can be prevented. Therefore, the manufacturing yield of the liquid crystal display element P is improved, and as a result, the cost of the liquid crystal display element P is reduced.

【0044】なお、本発明者は、本実施の形態の効果を
確認するために実験を行なった。以下、その実験の内容
について説明する。 〈実験1〉本実験に用いたガラス基板1a,1bの厚さ
は1.1mmであり、透明電極2a,2bとしては約1
50nm厚のITO膜を用いた。
The present inventor conducted an experiment to confirm the effect of this embodiment. Hereinafter, the contents of the experiment will be described. <Experiment 1> The glass substrates 1a and 1b used in this experiment have a thickness of 1.1 mm, and the transparent electrodes 2a and 2b have a thickness of about 1 mm.
An ITO film having a thickness of 50 nm was used.

【0045】また、配向制御膜5a,5bの形成にはス
ピンコート法を用いた。すなわち、2000rpmの速
度で回転しているガラス基板1a,1b上に溶液(日立
化成社製のLQ1802のNMP/nBC=1/1の
1.5重量%溶液)を垂らし、そのまま20秒間回転さ
せた。その後、270℃の温度で約1時間加熱焼成処理
を施した。なお、かかる方法により形成した配向制御膜
5a,5bの膜厚は20nmであった。
A spin coating method was used to form the orientation control films 5a and 5b. That is, the solution (NMP / nBC = 1/1 1.5 wt% solution of LQ1802 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was dripped on the glass substrates 1a and 1b rotating at a speed of 2000 rpm, and was rotated for 20 seconds. . After that, heat baking treatment was performed at a temperature of 270 ° C. for about 1 hour. The film thickness of the orientation control films 5a and 5b formed by this method was 20 nm.

【0046】次に、このようにして形成された配向制御
膜5a,5bに、ナイロン植毛布による一方向ラビング
処理を行った。なお、本実験においては、1枚の基板E
をラビングするに際し、ラビング開始時からラビング終
了時にかけて20mm/sから40mm/sまで送り速度vを連
続的に増加させている。また、ローラ回転速度Rを一定
(1000rpm)とし、押し込み量xを一定(詳細は
後述)とした。
Next, the orientation control films 5a and 5b thus formed were unidirectionally rubbed with a nylon flocked cloth. In this experiment, one substrate E
When rubbing, the feeding speed v is continuously increased from 20 mm / s to 40 mm / s from the start of rubbing to the end of rubbing. Further, the roller rotation speed R is constant (1000 rpm), and the pushing amount x is constant (details will be described later).

【0047】その後、一方のガラス基板1a又は1b上
に、スペーサ7,…としてのアルミナビーズ(平均粒径
1.1μm)を散布し、2枚のガラス基板1a,1bを
貼り合わせてセルを作成した。なお、ガラス基板1a,
1bを貼り合わせた状態では、それぞれのラビング処理
軸は、側面視においては平行となり、平面視(上基板1
a側から見た場合)においては、下基板1b側のラビン
グ処理軸が上基板1a側のラビング処理軸よりも時計周
りの方向に8°回転した位置となるように設定されてい
る。
Then, on one of the glass substrates 1a or 1b, alumina beads (average particle size: 1.1 μm) as spacers 7, ... Are scattered, and the two glass substrates 1a and 1b are bonded together to form a cell. did. The glass substrate 1a,
In the state in which 1b is bonded, the rubbing treatment axes are parallel in a side view and are in a plan view (the upper substrate 1
(when viewed from the a side), the rubbing treatment axis on the lower substrate 1b side is set to a position rotated by 8 ° in the clockwise direction from the rubbing treatment axis on the upper substrate 1a side.

【0048】その後、ピリミジン系液晶を主成分とする
混合液晶Aを、等方相下で真空注入してから0.5℃/
minの冷却速度で室温まで徐冷することによって配向
させた。
Then, a mixed liquid crystal A containing a pyrimidine-based liquid crystal as a main component was vacuum-injected in an isotropic phase, and then 0.5 ° C. /
Orientation was achieved by slow cooling to room temperature at a cooling rate of min.

【0049】なお、本実験においては、上述した方法に
よって、押し込み量xの異なる複数の液晶表示素子P,
…を作成した。つまり、押し込み量xは、1個の液晶表
示素子P(上下基板1a,1b)については一定とした
が、液晶表示素子相互では0.17mm〜0.25mmの範
囲内で0.02mmずつ異ならせた。
In this experiment, a plurality of liquid crystal display elements P having different pushing amounts x,
…made. That is, the pressing amount x is constant for one liquid crystal display element P (upper and lower substrates 1a and 1b), but is different by 0.02 mm in the range of 0.17 mm to 0.25 mm between the liquid crystal display elements. It was

【0050】そして、作成した液晶表示素子P,…につ
き、セル厚の増加量とC2配向の発生とを調べた。その
結果を表1に示す。
Then, with respect to the produced liquid crystal display elements P, ..., The amount of increase in cell thickness and the occurrence of C2 orientation were examined. Table 1 shows the results.

【0051】[0051]

【表1】 本実験によれば、押し込み量xが0.17〜0.25mm
の範囲内であれば、セル厚も増加せず、C2配向の発生
もないことが確認された。
[Table 1] According to this experiment, the pushing amount x is 0.17 to 0.25 mm.
It was confirmed that the cell thickness did not increase and the C2 orientation did not occur within the range.

【0052】なお、C2配向の発生は、5℃の温度で液
晶表示素子Pを駆動して観察した。また、セル厚の増加
量は以下の方法により測定した。
The occurrence of C2 orientation was observed by driving the liquid crystal display element P at a temperature of 5 ° C. The increase in cell thickness was measured by the following method.

【0053】すなわち、セル厚を測定する場合、ガラス
基板1a,1bは75mm×75mmの大きさとした。
そして、図1に示す領域A,B,C,Dのセル厚を測定
した。次に、液晶表示素子Pに対して、図1に示す書き
込み波形22、22′を入力した。なお、これらの書き
込み波形22、22′は、パルス幅3OμS、1/3バ
イアス、1/1000デューティとした。なお、このよ
うな書き込み波形22、22′を入力すると、上述した
ように液晶分子の平均分子軸は符号21又は21′とな
る。この状態で7日間連続書き込みを行ない、駆動後に
再度、領域A,B,C,Dのセル厚を測定した。 〈実験2〉本実験においては、送り速度vは、実験1の
ように変化させず、30mm/sで一定とし、ラビングロー
ラの回転速度Rを1000rpmで一定とした。
That is, when measuring the cell thickness, the glass substrates 1a and 1b had a size of 75 mm × 75 mm.
Then, the cell thickness of the regions A, B, C, D shown in FIG. 1 was measured. Next, the write waveforms 22 and 22 'shown in FIG. 1 were input to the liquid crystal display element P. The write waveforms 22 and 22 'had a pulse width of 30 μS, a 1/3 bias, and a 1/1000 duty. When such write waveforms 22 and 22 'are input, the average molecular axis of the liquid crystal molecule becomes reference numeral 21 or 21' as described above. In this state, continuous writing was performed for 7 days, and after driving, the cell thicknesses of the regions A, B, C and D were measured again. <Experiment 2> In this experiment, the feed speed v was not changed as in Experiment 1 and was constant at 30 mm / s, and the rotation speed R of the rubbing roller was constant at 1000 rpm.

【0054】それ以外の条件は、上記実験1と同様と
し、押し込み量xが0.17mm〜0.25mmの範囲内で
異なる複数の液晶表示素子を作成し、セル厚の増加量と
C2配向の発生とを調べた。その結果を表2に示す。
The other conditions were the same as in Experiment 1 above, and a plurality of liquid crystal display elements having different indentations x within the range of 0.17 mm to 0.25 mm were prepared to increase the cell thickness and the C2 orientation. Occurrence and investigation. The results are shown in Table 2.

【0055】[0055]

【表2】 本実験によれば、押し込み量xの適正範囲(セル厚の増
加やC2配向の発生のない範囲)は0.21mmとなり、
実験1の場合よりもかなり狭いことが確認された。
[Table 2] According to this experiment, the proper range of the pushing amount x (the range where the cell thickness does not increase and the C2 orientation does not occur) is 0.21 mm,
It was confirmed that it was considerably narrower than that in Experiment 1.

【0056】ここで、実験1と実験2とを比較すると、
送り速度vを連続的に増加させることによって押し込み
量xの適正範囲が広がり、押し込み量xが仮に所望値か
ら多少ずれても、黄変やC2配向の発生が防止されるこ
とが理解できる。
Now, comparing Experiment 1 and Experiment 2,
It can be understood that by continuously increasing the feed rate v, the appropriate range of the pushing amount x is expanded, and even if the pushing amount x deviates from the desired value to some extent, yellowing or C2 orientation is prevented.

【0057】ついで、本発明の第2の実施の形態につい
て説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.

【0058】本実施の形態においては、送り速度vを一
定(例えば、30mm/s)とし、押し込み量xを一定(例
えば、0.15mm)としている。また、ローラ回転速
度Rは、1枚の基板Eをラビングするに際し、ラビング
開始時からラビング終了時にかけて連続的に減少し、こ
れによって、ラビング強度が連続的に減少されるように
構成されている。
In this embodiment, the feed speed v is constant (for example, 30 mm / s) and the pushing amount x is constant (for example, 0.15 mm). Further, the roller rotation speed R is continuously reduced when rubbing one substrate E from the start of rubbing to the end of rubbing, whereby the rubbing strength is continuously reduced. .

【0059】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
Next, the effect of the present embodiment will be described.

【0060】本実施の形態によれば、ローラ回転速度R
を連続的に減少させることによってラビング条件が広が
り、押し込み量x等のラビング条件が所望値から多少ず
れても、黄変やC2配向の発生を防止できる。したがっ
て、液晶表示素子Pの製造歩留りが向上され、その結
果、液晶表示素子Pのコストが低減される。
According to the present embodiment, the roller rotation speed R
By continuously decreasing the value, the rubbing condition spreads, and even if the rubbing condition such as the pushing amount x deviates from a desired value to some extent, it is possible to prevent yellowing and C2 orientation from occurring. Therefore, the manufacturing yield of the liquid crystal display element P is improved, and as a result, the cost of the liquid crystal display element P is reduced.

【0061】なお、本発明者は、本実施の形態の効果を
確認するために実験を行なった。以下、その実験の内容
について説明する。 〈実験3〉本実験においては、1枚の基板Eをラビング
するに際し、ラビング開始時からラビング終了時にかけ
て1200rpmから800rpmまでローラ回転速度
Rを連続的に減少させている。一方、送り速度vは30
mm/sで一定とし、それ以外の条件は、上記実験1と同様
とした。
The present inventor conducted an experiment to confirm the effect of the present embodiment. Hereinafter, the contents of the experiment will be described. <Experiment 3> In this experiment, when rubbing one substrate E, the roller rotation speed R was continuously reduced from 1200 rpm to 800 rpm from the start of rubbing to the end of rubbing. On the other hand, the feed speed v is 30
The condition was the same as in Experiment 1 above, except that the value was constant at mm / s.

【0062】そして、押し込み量xが0.17mm〜0.
25mmの範囲内で異なる複数の液晶表示素子を作成し、
セル厚の増加量とC2配向の発生とを調べた。その結果
を表3に示す。
The pushing amount x is 0.17 mm to 0.
Create different liquid crystal display elements within the range of 25 mm,
The increase in cell thickness and the occurrence of C2 orientation were investigated. Table 3 shows the results.

【0063】[0063]

【表3】 本実験によれば、押し込み量xが0.15〜0.23mm
の範囲内であれば、セル厚も増加せず、C2配向の発生
もないことが確認された。 〈実験4〉本実験においては、ローラ回転速度Rは、実
験1のように変化させず、1000rpmで一定とし
た。
[Table 3] According to this experiment, the pushing amount x is 0.15 to 0.23 mm
It was confirmed that the cell thickness did not increase and the C2 orientation did not occur within the range. <Experiment 4> In this experiment, the roller rotation speed R was not changed as in Experiment 1 and was kept constant at 1000 rpm.

【0064】それ以外の条件は、上記実験1と同様と
し、押し込み量xが0.17mm〜0.25mmの範囲内で
異なる複数の液晶表示素子を作成し、セル厚の増加量と
C2配向の発生とを調べた。その結果を表4に示す。
The other conditions were the same as in Experiment 1 above, and a plurality of liquid crystal display devices having different indentations x within the range of 0.17 mm to 0.25 mm were prepared, and the increase in cell thickness and the C2 orientation were determined. Occurrence and investigation. The results are shown in Table 4.

【0065】[0065]

【表4】 本実験によれば、押し込み量xの適正範囲(セル厚の増
加やC2配向の発生のない範囲)は0.21mmとなり、
実験1の場合よりもかなり狭いことが確認された。
[Table 4] According to this experiment, the proper range of the pushing amount x (the range where the cell thickness does not increase and the C2 orientation does not occur) is 0.21 mm,
It was confirmed that it was considerably narrower than that in Experiment 1.

【0066】ここで、実験3と実験4とを比較すると、
ローラ回転速度Rを連続的に減少させることによって押
し込み量xの適正範囲が広がり、押し込み量xが仮に所
望値から多少ずれても、黄変やC2配向の発生が防止さ
れることが理解できる。
Here, comparing Experiment 3 and Experiment 4,
It can be understood that by continuously decreasing the roller rotation speed R, the appropriate range of the pushing amount x is expanded, and even if the pushing amount x deviates from the desired value to some extent, the occurrence of yellowing or C2 orientation is prevented.

【0067】ついで、本発明の第3の実施の形態につい
て説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described.

【0068】本実施の形態においては、送り速度vを一
定(例えば、20mm/s)とし、ローラ回転速度Rを一定
(例えば、1000rpm)としている。また、コンベ
ア13は多少傾けて設置されており、その結果、押し込
み量xが、1枚の基板Eをラビングするに際し、ラビン
グ開始時からラビング終了時にかけて連続的に減少し、
これによって、ラビング強度が連続的に減少されるよう
に構成されている。
In this embodiment, the feed speed v is constant (for example, 20 mm / s) and the roller rotation speed R is constant (for example, 1000 rpm). Further, the conveyor 13 is installed with a slight inclination, and as a result, the pushing amount x decreases continuously when rubbing one substrate E from the start of rubbing to the end of rubbing.
Thereby, the rubbing strength is continuously reduced.

【0069】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
Next, the effect of this embodiment will be described.

【0070】本実施の形態によれば、押し込み量xを連
続的に減少させることによってラビング条件が広がり、
送り速度v等のラビング条件が所望値から多少ずれて
も、黄変やC2配向の発生を防止できる。したがって、
液晶表示素子Pの製造歩留りが向上され、その結果、液
晶表示素子Pのコストが低減される。
According to the present embodiment, the rubbing condition is expanded by continuously decreasing the pushing amount x,
Even if the rubbing conditions such as the feeding speed v are slightly deviated from desired values, it is possible to prevent yellowing and C2 orientation from occurring. Therefore,
The manufacturing yield of the liquid crystal display element P is improved, and as a result, the cost of the liquid crystal display element P is reduced.

【0071】なお、本発明者は、本実施の形態の効果を
確認するために実験を行なった。以下、その実験の内容
について説明する。 〈実験5〉本実験においては、1枚の基板Eをラビング
するに際し、ラビング開始時からラビング終了時にかけ
て0.25mmから0.15mmまで押し込み量xを連続的
に減少させている。一方、ローラ回転速度Rは1000
rpmで一定とし、それ以外の条件は、上記実験1と同
様とした。
The present inventor conducted an experiment to confirm the effect of the present embodiment. Hereinafter, the contents of the experiment will be described. <Experiment 5> In this experiment, when rubbing one substrate E, the pushing amount x is continuously reduced from 0.25 mm to 0.15 mm from the start of rubbing to the end of rubbing. On the other hand, the roller rotation speed R is 1000
The rpm was kept constant, and the other conditions were the same as in Experiment 1 above.

【0072】そして、送り速度vが20〜40mm/sの範
囲で異なる複数の液晶表示素子を作成し、セル厚の増加
量とC2配向の発生とを調べた。その結果を表5に示
す。
A plurality of liquid crystal display elements having different feed rates v in the range of 20 to 40 mm / s were prepared, and the increase in cell thickness and the occurrence of C2 orientation were investigated. The results are shown in Table 5.

【0073】[0073]

【表5】 本実施の形態によれば、送り速度vが20〜36mm/sの
範囲内であれば、セル厚も増加せず、C2配向の発生も
ないことが確認された。 〈実験6〉本実験においては、押し込み量xは、実験1
のように変化させず、0.2mmで一定とした。
[Table 5] According to the present embodiment, it was confirmed that if the feed rate v is in the range of 20 to 36 mm / s, the cell thickness does not increase and the C2 orientation does not occur. <Experiment 6> In this experiment, the pushing amount x is the same as in Experiment 1.
It was not changed and was kept constant at 0.2 mm.

【0074】それ以外の条件は、上記実験1と同様と
し、送り速度vが20〜40mm/sの範囲で異なる複数の
液晶表示素子を作成し、セル厚の増加量とC2配向の発
生とを調べた。その結果を表6に示す。
Other conditions were the same as in Experiment 1 above, and a plurality of liquid crystal display elements having different feed rates v in the range of 20 to 40 mm / s were prepared, and the increase in cell thickness and the occurrence of C2 alignment were generated. Examined. Table 6 shows the results.

【0075】[0075]

【表6】 本実験によれば、送り速度vの適正範囲(セル厚の増加
やC2配向の発生のない範囲)は20〜28mm/sとな
り、実験1の場合よりも狭いことが確認された。
[Table 6] According to this experiment, it was confirmed that the proper range of the feed rate v (the range in which the cell thickness does not increase and the C2 orientation does not occur) is 20 to 28 mm / s, which is narrower than that in the experiment 1.

【0076】ここで、実験5と実験6とを比較すると、
押し込み量xを連続的に減少させることによって送り速
度vの適正範囲が広がり、送り速度vが仮に所望値から
多少ずれても、黄変やC2配向の発生が防止されること
が理解できる。
Here, comparing Experiment 5 and Experiment 6,
It can be understood that by continuously decreasing the pushing amount x, the proper range of the feed speed v is widened, and even if the feed speed v is slightly deviated from the desired value, yellowing and C2 orientation are prevented from occurring.

【0077】最後に、プレチルト角αの測定方法につい
て説明する。
Finally, a method of measuring the pretilt angle α will be described.

【0078】プレチルト角αは、Jpn.J.App
l.Phys.Vol.119(1980)No.1
0. Short Notes 2013に記載されて
いる方法(クリスタルローテーション法)に従って求め
た。なお、測定用のセルは上下界面での液晶の傾きが平
行かつ同一方向になるように2枚の基板を張り合わせて
作成した。またプレチルト角測定用の液晶としては、チ
ッソ社製強誘電性液晶CS−1014に以下の構造式で
示される化合物を重量比で20%混合したものを標準液
晶として封入し測定を行った。
The pretilt angle α is determined according to Jpn. J. App
l. Phys. Vol. 119 (1980) No. 1
0. It was determined according to the method (crystal rotation method) described in Short Notes 2013. The measurement cell was prepared by laminating two substrates so that the liquid crystal tilts at the upper and lower interfaces were parallel and in the same direction. Further, as a liquid crystal for measuring the pretilt angle, a ferroelectric liquid crystal CS-1014 manufactured by Chisso Corp. was mixed with 20% by weight of a compound represented by the following structural formula as a standard liquid crystal, and the measurement was performed.

【0079】[0079]

【化2】 なお、この混合した液晶組成物は、10〜55℃の温度
範囲でSmA相を示す。
Embedded image The mixed liquid crystal composition exhibits a SmA phase in the temperature range of 10 to 55 ° C.

【0080】測定法は、液晶セルを上下基板に垂直かつ
配向処理軸を含む面で回転させながら、回転軸と45°
の角度をなす偏向面を持つヘリウム・ネオンレーザー光
を回転軸に垂直な方向から照射して、その反対側で入射
偏向面と平行な透過軸を持つ偏向板を通してしてホトダ
イオードで透過光強度を測定した。
The measuring method is as follows: While rotating the liquid crystal cell in a plane perpendicular to the upper and lower substrates and including the alignment treatment axis, the rotation axis is 45 ° with respect to the rotation axis.
The helium-neon laser light with a deflection surface that makes an angle of is irradiated from the direction perpendicular to the rotation axis, and on the opposite side, through the deflection plate with the transmission axis parallel to the incident deflection surface, the transmitted light intensity is increased by the photodiode. It was measured.

【0081】干渉によってできた透過光強度の双曲線群
の中心となる角と液晶セルに垂直な線とのなす角をφx
とし、下式に代入してプレチルト角αを求めた。
The angle formed by the center angle of the hyperbolic group of transmitted light intensity generated by interference and the line perpendicular to the liquid crystal cell is φx.
Then, the pretilt angle α was obtained by substituting in the following equation.

【0082】[0082]

【式9】 なお、上述各実施の形態においては、基板Eの方を移動
させると共に、ラビングローラ11は所定停止位置にて
回転させることとしたが、もちろんこれに限る必要はな
く、基板Eを停止させると共に、ラビングローラ11を
移動させながら回転させるようにしても良い。また、基
板E及びラビングローラ11の双方を移動させるように
してもよい。
[Formula 9] In each of the above-described embodiments, the substrate E is moved and the rubbing roller 11 is rotated at a predetermined stop position. However, the invention is not limited to this, and the substrate E may be stopped. The rubbing roller 11 may be rotated while being moved. Further, both the substrate E and the rubbing roller 11 may be moved.

【0083】ところで、上述実施の形態においては、電
極は透明電極2a,2bだけであり金属電極は形成され
ていないが、補助電極として金属電極を透明電極2a,
2bの表面に形成した場合にはC2配向状態がより発生
し易く、したがって、本実施の形態を適用してC2配向
状態を除去することが重要となる。
By the way, in the above-described embodiment, the electrodes are only the transparent electrodes 2a and 2b, and the metal electrodes are not formed, but the metal electrodes are used as auxiliary electrodes.
When it is formed on the surface of 2b, the C2 orientation state is more likely to occur, and therefore it is important to apply this embodiment to remove the C2 orientation state.

【0084】[0084]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
基板にラビング布を擦り付けてラビング処理を行なうに
際し、ラビング強度を前記基板内にて連続的に減少させ
るようにした。その結果、ラビング条件の適正範囲が広
がり、押し込み量x等のラビング条件が所望値から多少
ずれても、黄変やC2配向の発生を防止できる。したが
って、液晶素子の製造歩留りが向上され、その結果、液
晶素子のコストが低減される。
As described above, according to the present invention,
When rubbing treatment was performed by rubbing a rubbing cloth on the substrate, the rubbing strength was continuously reduced in the substrate. As a result, the proper range of the rubbing conditions is widened, and even if the rubbing conditions such as the pushing amount x deviate from the desired values to some extent, it is possible to prevent the occurrence of yellowing and C2 orientation. Therefore, the manufacturing yield of the liquid crystal element is improved, and as a result, the cost of the liquid crystal element is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ラビング方向と液晶の移動方向との関係や、セ
ル厚の測定方法を説明するための図。
FIG. 1 is a diagram for explaining a relationship between a rubbing direction and a liquid crystal moving direction and a method for measuring a cell thickness.

【図2】スメクチック層の配向モデルを示した図。FIG. 2 is a diagram showing an orientation model of a smectic layer.

【図3】(a) はC1配向の各状態における基板間の各位
置でのダイレクタの配置を示す模式図、(b) はC2配向
を示す模式図。
3A is a schematic view showing the arrangement of directors at respective positions between substrates in each state of C1 orientation, and FIG. 3B is a schematic view showing C2 orientation.

【図4】液晶表示素子の構造を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a sectional view schematically showing the structure of a liquid crystal display element.

【図5】ラビング装置の構造等を説明するための斜視
図。
FIG. 5 is a perspective view for explaining the structure and the like of the rubbing device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a,1b ガラス基板(基板) 2a,2b 透明電極 3a,3b 絶縁膜 5a,5b 配向制御膜 9 強誘電性液晶 10 ラビング装置 11 ラビングローラ 12 ラビング布 13 コンベア(移動手段) E 基板 M モータ(回転駆動手段) P 液晶表示素子(液晶素子) 1a, 1b Glass substrate (substrate) 2a, 2b Transparent electrode 3a, 3b Insulating film 5a, 5b Alignment control film 9 Ferroelectric liquid crystal 10 Rubbing device 11 Rubbing roller 12 Rubbing cloth 13 Conveyor (moving means) E Substrate M Motor (rotating) Driving means) P liquid crystal display element (liquid crystal element)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武田 恭明 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 浅尾 恭史 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yasuaki Takeda 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Yasushi Asao 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Kiya Non non corporation

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の基板間にカイラルスメクチック液
晶を挟持してなる液晶素子の製造に用いられ、少なくと
も一方の基板にラビング布を擦り付けることにより配向
規制力を付与してなるラビング方法において、 ラビング強度を前記一方の基板内にて連続的に減少させ
る、 ことを特徴とするラビング方法。
1. A rubbing method used for manufacturing a liquid crystal device comprising a pair of substrates sandwiching a chiral smectic liquid crystal, wherein a rubbing cloth is rubbed on at least one of the substrates to provide an alignment regulating force. A rubbing method, characterized in that the strength is continuously reduced in the one substrate.
【請求項2】 前記ラビング布が取り付けられたラビン
グローラと、該ラビングローラを回転駆動する回転駆動
手段と、前記ラビングローラ及び前記一方の基板を相対
的に移動させる移動手段と、を備えたラビング装置を用
い、かつ、 前記ラビング布を前記一方の基板に当接させた状態で、
前記ラビングローラを回転駆動すると共に、前記ラビン
グローラ及び前記一方の基板を相対的に移動させること
により、該一方の基板に配向規制力を付与する、 ことを特徴とする請求項1記載のラビング方法。
2. A rubbing roller provided with a rubbing roller to which the rubbing cloth is attached, a rotation driving means for rotationally driving the rubbing roller, and a moving means for relatively moving the rubbing roller and the one substrate. Using the device, and with the rubbing cloth in contact with the one substrate,
The rubbing method according to claim 1, wherein the rubbing roller is rotationally driven, and the rubbing roller and the one substrate are moved relatively to each other to impart an alignment regulating force to the one substrate. .
【請求項3】 前記ラビングローラ及び前記一方の基板
の相対移動速度を連続的に増加させ、 該相対移動速度の増加に基づきラビング強度を変化させ
る、 ことを特徴とする請求項2記載のラビング方法。
3. The rubbing method according to claim 2, wherein the relative moving speed of the rubbing roller and the one substrate is continuously increased, and the rubbing strength is changed based on the increase of the relative moving speed. .
【請求項4】 前記ラビングローラの回転速度を連続的
に減少させ、 該回転速度の減少に基づきラビング強度を変化させる、
ことを特徴とする請求項2記載のラビング方法。
4. The rotation speed of the rubbing roller is continuously decreased, and the rubbing strength is changed based on the decrease of the rotation speed.
The rubbing method according to claim 2, wherein:
【請求項5】 前記一方の基板に対する前記ラビング布
の当接圧力を連続的に減少させ、 該当接圧力の減少に基づきラビング強度を変化させる、 ことを特徴とする請求項2記載のラビング方法。
5. The rubbing method according to claim 2, wherein the contact pressure of the rubbing cloth against the one substrate is continuously decreased, and the rubbing strength is changed based on the decrease of the contact pressure.
【請求項6】 前記カイラルスメクチック液晶が、少な
くとも2つの安定状態を示し、かつ、それらの光学軸の
なす角度の1/2であるθaと、コーン角Θとが、 【式1】Θ>θa>Θ/2 の関係を満足する、 ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の
ラビング方法。
6. The chiral smectic liquid crystal exhibits at least two stable states, and θa, which is ½ of the angle formed by the optical axes thereof, and the cone angle Θ are expressed by the following formula: Θ> θa The relationship of> Θ / 2 is satisfied, The rubbing method according to claim 1, wherein the rubbing method is satisfied.
【請求項7】 液晶のプレチルト角をαとし、コーン角
をΘとし、カイラルスメクチック層の傾斜角をδとした
場合に、 【式2】α>Θ−δ を満足する、 ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の
ラビング方法。
7. When the pretilt angle of the liquid crystal is α, the cone angle is Θ, and the tilt angle of the chiral smectic layer is δ, the following equation 2 is satisfied: α> θ−δ The rubbing method according to any one of claims 1 to 6.
【請求項8】 前記液晶素子が、前記基板上に形成され
た透明電極と、これらの透明電極の上に形成された金属
電極と、を有する、 ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項記載の
ラビング方法。
8. The liquid crystal element has a transparent electrode formed on the substrate, and a metal electrode formed on these transparent electrodes, according to any one of claims 1 to 7. The rubbing method according to item 1.
JP22240095A 1995-08-30 1995-08-30 Rubbing method Pending JPH0968709A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22240095A JPH0968709A (en) 1995-08-30 1995-08-30 Rubbing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22240095A JPH0968709A (en) 1995-08-30 1995-08-30 Rubbing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0968709A true JPH0968709A (en) 1997-03-11

Family

ID=16781787

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22240095A Pending JPH0968709A (en) 1995-08-30 1995-08-30 Rubbing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0968709A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0550846B1 (en) Ferroelectric liquid crystal device and process for production thereof
JP2667816B2 (en) Liquid crystal element
EP0307959A2 (en) Ferroelectric smectic liquid crystal device
JP2942161B2 (en) Liquid crystal alignment treatment method, liquid crystal element manufacturing method using the method, and liquid crystal element
EP0539992B1 (en) Liquid crystal device
JP2612503B2 (en) Liquid crystal element
US5668615A (en) LCD device with alignment films having a pretilt changing characteristic
KR0159969B1 (en) Liquid crystal element and liquid crystal device for driving the same
JPH0968709A (en) Rubbing method
JP2721357B2 (en) Liquid crystal device
JPH05203961A (en) Ferroelectric liquid crystal element
JPH07168188A (en) Liquid crystal element, liquid crystal device using the same and liquid crystal display device
JP2983724B2 (en) Alignment treatment method for ferroelectric liquid crystal devices
JPH08334767A (en) Rubbing device
US5726725A (en) Liquid crystal device and process for production thereof with polyimide alignment film rubbed and then baked
JP3080123B2 (en) Manufacturing method of ferroelectric liquid crystal device
JP2681779B2 (en) Liquid crystal cell
JPH07333619A (en) Liquid crystal display element
JP3131761B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal element
JPH08313914A (en) Orientation treatment of liquid crystal
JP2614347B2 (en) Liquid crystal element and liquid crystal display
JP2582309B2 (en) Liquid crystal element
JPH0756176A (en) Ferroelectric liquid crystal element
JPH07181495A (en) Ferroelectric liquid crystal element
JP3083016B2 (en) Liquid crystal alignment treatment method and liquid crystal element manufacturing method