JPH0955205A - Slurry applying device - Google Patents

Slurry applying device

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Publication number
JPH0955205A
JPH0955205A JP7203712A JP20371295A JPH0955205A JP H0955205 A JPH0955205 A JP H0955205A JP 7203712 A JP7203712 A JP 7203712A JP 20371295 A JP20371295 A JP 20371295A JP H0955205 A JPH0955205 A JP H0955205A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slurry
substrate
slit
scraped
coating thickness
Prior art date
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Pending
Application number
JP7203712A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Sakamoto
昌之 坂本
Satoshi Hamakawa
聡 濱川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Furukawa Battery Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
Furukawa Battery Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd, Furukawa Battery Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP7203712A priority Critical patent/JPH0955205A/en
Publication of JPH0955205A publication Critical patent/JPH0955205A/en
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make the slurry applying thickness of the central part and the end part of a substrate uniform by letting slurry scrapped off with a slit flow down without joining to slurry introduced into the slit together with the substrate. SOLUTION: A porous substrate 4 is introduced from the bottom of a slurry bath 8 in which slurry 8 is filled to apply slurry 3a to both surfaces of the substrate 4. The substrate 4 is introduced into a pair of slits 2 closely faced each other, and the applying thickness of the slurry 3 is adjusted with an applying thickness adjusting part 5 formed between the vertical surfaces 7 of the slit 2. The excess slurry 3b scraped off in the applying thickness adjusting part 5 is circulated along a circulating part 6 having an inclined angle of 30-50 deg. to the width direction of the substrate 4, then flows in the slurry bath 8.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スラリー塗布装置
に関し、特に、基板の中央部と端部のスラリー塗布厚を
均一にすることができるスラリー塗布装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a slurry coating device, and more particularly to a slurry coating device capable of making the slurry coating thickness uniform at the central portion and the end portion of a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、アルカリ蓄電池等に用いられる
電極板は、スポンジ状のニッケルやパンチングメタル等
の多数の孔を有する基板に電極材料粉末のスラリーを塗
着して製造される。そのスラリー塗布工程において、基
板に塗着されるスラリーの厚さが均一でないと、電池の
内部抵抗や容量の特性にばらつきが生じるおそれがあ
る。従来、スラリー塗布厚を均一に調整するため、例え
ば、特開平3−43958号公報に示されているような
スリットが用いられていた。
2. Description of the Related Art Generally, an electrode plate used in an alkaline storage battery or the like is manufactured by coating a slurry of electrode material powder on a substrate having a large number of holes such as sponge-like nickel or punching metal. In the slurry application step, if the thickness of the slurry applied to the substrate is not uniform, the characteristics of the internal resistance and capacity of the battery may vary. Conventionally, in order to uniformly adjust the slurry coating thickness, for example, a slit as disclosed in JP-A-3-43958 has been used.

【0003】図7に示すように、従来のスリット50は
一対のスリット部材51、51からなる。各スリット部
材51は、断面略台形であり、かつ長手方向に延びて形
成されている。スリット50は、一対のスリット部材5
1、51を互いに近接させて対向して配置され、スラリ
ー52が塗着された長尺状の基板53を導入し、基板5
3に塗着されたスラリー52の塗布厚を調整する塗布厚
調整部54と、塗布厚調整部54によって削ぎ落とされ
たスラリー52を回流させる回流部55を有する。塗布
厚調整部54の幅は、所望のスラリー塗布厚を得るよう
に調整できるように構成されている。回流部55は、基
板の長手方向に対して所定角度(30°〜75°)に傾
斜している傾斜面からなり、スリット50の下面部にス
ラリー52が滞留するのを防止する。基板53は、長尺
帯状に形成されており、図示しない駆動装置及び巻取ロ
ールにより垂直方向に引き上げられる。
As shown in FIG. 7, the conventional slit 50 comprises a pair of slit members 51, 51. Each slit member 51 has a substantially trapezoidal cross section and is formed to extend in the longitudinal direction. The slit 50 is a pair of slit members 5
1, a long substrate 53, in which the slurry 52 is applied, is introduced so that the first substrate 51 and the first substrate 51 face each other in close proximity to each other.
3 has a coating thickness adjusting section 54 for adjusting the coating thickness of the slurry 52 applied to the No. 3 and a circulation section 55 for circulating the slurry 52 scraped off by the coating thickness adjusting section 54. The width of the coating thickness adjusting portion 54 is configured so that it can be adjusted to obtain a desired slurry coating thickness. The circulation portion 55 is formed of an inclined surface inclined at a predetermined angle (30 ° to 75 °) with respect to the longitudinal direction of the substrate, and prevents the slurry 52 from staying on the lower surface of the slit 50. The substrate 53 is formed in a long strip shape and is vertically pulled up by a driving device and a winding roll (not shown).

【0004】図8に示すように、基板53は、スラリー
52を収納したスラリー槽56の底部から導入され、ス
ラリー槽56内を通って両面にスラリー52を付着させ
る。次いで、基板53はスリット50の塗布厚調整部5
4を通り、所定のスラリー塗布厚を得る。スリット50
のスラリー塗布厚調整部54の入口で削り落とされた余
分なスラリー52bは、回流部55に沿って回流され、
さらに、自重によって、下から上に流れるスラリー52
aの表面に沿いながらスラリー槽56まで流れ落ちる。
As shown in FIG. 8, the substrate 53 is introduced from the bottom of a slurry tank 56 containing the slurry 52, passes through the slurry tank 56, and deposits the slurry 52 on both surfaces. Next, the substrate 53 is the coating thickness adjusting portion 5 of the slit 50.
A desired slurry coating thickness is obtained through 4. Slit 50
The excess slurry 52b scraped off at the entrance of the slurry coating thickness adjusting unit 54 is circulated along the circulation unit 55,
Furthermore, due to its own weight, the slurry 52 flowing from bottom to top
It flows down to the slurry tank 56 along the surface of a.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来のスリット50
は、スリットの回流部55が基板53の幅方向に対して
水平であるため、スリット50によって削ぎ落とされた
スラリー52bは、スリットの中央部に集まる傾向があ
る。そのため、基板53に接して上がろうとするスラリ
ー52aの一部が、削り落とされたスラリー52bと一
緒に引き落とされてしまうため、基板53の中央部のス
ラリー塗布厚が端部のスラリー塗布厚よりも薄くなり、
均一なスラリー塗布厚が得られないという問題点があっ
た。
Conventional slit 50
Since the circulation portion 55 of the slit is horizontal with respect to the width direction of the substrate 53, the slurry 52b scraped off by the slit 50 tends to gather in the central portion of the slit. Therefore, a part of the slurry 52a that tries to rise in contact with the substrate 53 is withdrawn along with the scraped slurry 52b, so that the slurry coating thickness at the center of the substrate 53 is smaller than the slurry coating thickness at the end. Becomes thinner,
There is a problem that a uniform slurry coating thickness cannot be obtained.

【0006】本発明は、上記問題点を鑑みてなされたも
のであり、基板に塗着されたスラリーの塗布厚を調整す
るとき、基板の中央部と端部のスラリー塗布厚を均一に
することができるスラリー塗布装置を提供することを目
的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and when adjusting the coating thickness of the slurry applied to the substrate, it is necessary to make the slurry coating thickness of the central portion and the end portion of the substrate uniform. It is an object of the present invention to provide a slurry coating device capable of performing the above.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
スラリー塗布装置は、上記課題を解決するために、スラ
リー槽と、そのスラリー槽内を上方向に移動する基板
と、その基板に余分に付着したスラリーの厚さを調整す
るスリットと、を有するスラリー塗布装置において、前
記スリットは、スリットによって削がれるスラリーが、
基板とともにスリットに導入されるスラリーと合流する
ことなく流れ落ちるように、基板の幅方向に対して所定
角度に傾斜していることを特徴とするものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a slurry coating apparatus according to a first aspect of the present invention includes a slurry tank, a substrate which moves upward in the slurry tank, and a substrate for the substrate. In a slurry coating device having a slit for adjusting the thickness of the excessively attached slurry, the slit is a slurry scraped by the slit,
It is characterized in that it is inclined at a predetermined angle with respect to the width direction of the substrate so that it will flow down without flowing together with the slurry introduced into the slit together with the substrate.

【0008】また、本発明の請求項2記載のスラリー塗
布装置は、長尺状の基板に塗着されたスラリーを削ぎ落
とし、所定の塗布厚に調整するスリットと、そのスリッ
トによって削ぎ落とされたスラリーを溜めるスラリー受
けと、そのスラリー受けに溜められたスラリーを吸引す
る吸引ポンプと、を備えたことを特徴とするものであ
る。
Further, in the slurry coating apparatus according to the second aspect of the present invention, the slurry coated on the long substrate is scraped off to adjust the coating thickness to a predetermined value, and the slit is scraped off. The present invention is characterized in that a slurry receiver for accumulating the slurry and a suction pump for sucking the slurry accumulated in the slurry receiver are provided.

【0009】[0009]

【作用】本発明の請求項1記載のスラリー塗布装置によ
れば、スリットが基板の幅方向に対して所定角度に傾斜
しているので、スリットによって削がれたスラリーは、
基板とともにスラリーに導入されるスラリーと合流する
ことなく流れ落ちる。
According to the slurry coating apparatus of the first aspect of the present invention, since the slit is inclined at a predetermined angle with respect to the width direction of the substrate, the slurry scraped by the slit is
It flows down without joining the slurry introduced into the slurry together with the substrate.

【0010】本発明の請求項2記載のスラリー塗布装置
によれば、スリットで削ぎ落とされたスラリーは、スラ
リー受けに溜められ、次いで、スラリー受けに溜められ
たスラリーは、吸引ポンプにより吸引される。そのた
め、スリットによって削ぎ落とされたスラリーは、基板
とともにスリットに導入されるスラリーと合流すること
はない。
According to the slurry applying apparatus of the second aspect of the present invention, the slurry scraped off by the slit is stored in the slurry receiver, and then the slurry stored in the slurry receiver is sucked by the suction pump. . Therefore, the slurry scraped off by the slit does not merge with the slurry introduced into the slit together with the substrate.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1(A)は、本発明に係るスラリー塗布
装置を示す斜視図である。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1A is a perspective view showing a slurry coating apparatus according to the present invention.

【0012】本発明のスラリー塗布装置1は、互いに近
接させて対向して配置された一対のスリット2を有す
る。スリット2は、スラリー3が塗着された基板4を導
入し、基板4に塗着されたスラリー3の塗布厚を調整す
る塗布厚調整部5と、塗布厚調整部5によって削がれた
スラリー3を回流させて流れ落とす回流部6を有する。
塗布厚調整部5は、各スリット2の垂直面7の間に形成
され、各垂直面7の幅は、所望のスラリー塗布厚を得る
ように調整できるように構成されている。回流部6は、
基板4の長手方向、すなわち垂直方向に対して所定角度
傾斜しているとともに、基板4の幅方向、すなわち水平
方向に対しても所定角度傾斜して形成されている傾斜面
からなる。基板4の幅方向にに対する回流部6の傾斜角
度は、スラリー3の粘性や種類等の諸条件によって異な
るが、通常は、30°〜50°の範囲内が好ましい。
The slurry coating apparatus 1 of the present invention has a pair of slits 2 which are arranged close to each other and face each other. The slit 2 introduces the substrate 4 coated with the slurry 3 and adjusts the coating thickness of the slurry 3 coated on the substrate 4, and the slurry scraped by the coating thickness adjusting unit 5. It has a circulation part 6 that causes 3 to flow and falls.
The coating thickness adjusting portion 5 is formed between the vertical surfaces 7 of the respective slits 2, and the width of each vertical surface 7 can be adjusted so as to obtain a desired slurry coating thickness. The circulation unit 6 is
The substrate 4 has an inclined surface that is inclined at a predetermined angle with respect to the longitudinal direction, that is, the vertical direction, and is also inclined at a predetermined angle with respect to the width direction of the substrate 4, that is, the horizontal direction. The inclination angle of the circulation portion 6 with respect to the width direction of the substrate 4 varies depending on various conditions such as the viscosity and type of the slurry 3, but is usually preferably in the range of 30 ° to 50 °.

【0013】基板4は、アルカリ蓄電池等の電極板用に
用いられる多孔性の基材(スポンジ状のニッケル)であ
り、長尺帯状に形成されている。この基板4は、図示し
ない駆動装置及び巻取ロールにより垂直方向に引き上げ
られる。
The substrate 4 is a porous base material (sponge-like nickel) used for an electrode plate of an alkaline storage battery or the like, and is formed in a long strip shape. The substrate 4 is pulled up in the vertical direction by a driving device and a winding roll (not shown).

【0014】図1(B)に示すように、基板4は、スラ
リー3を収納したスラリー槽8の底部から導入され、ス
ラリー槽8内を通って両面にスラリー3aを付着させ
る。次いで、基板4はスリット2内に導入され、塗布厚
調整部5を通り、所定のスラリー塗布厚を得る。スリッ
ト2の塗布厚調整部5の入口で削がれた余分なスラリー
3bは、回流部6に沿って回流される。その際、回流部
6は、基板4の幅方向に対して所定角度傾斜して形成さ
れているので、塗布厚調整部5によって削がれたスラリ
ー3bは、基板4とともに塗布厚調整部5に導入される
スラリー3aと合流することなくスラリー槽8内に流れ
落ちる。本発明のスラリー塗布装置1によれば、基板4
の中央部のスラリー塗布厚が端部のスラリー塗布厚より
も薄くなることはなく、基板4の中央部と端部のスラリ
ー塗布厚を均一にすることができる。
As shown in FIG. 1B, the substrate 4 is introduced from the bottom of a slurry tank 8 containing the slurry 3 and passes through the slurry tank 8 to adhere the slurry 3a to both surfaces. Next, the substrate 4 is introduced into the slit 2 and passes through the coating thickness adjusting section 5 to obtain a predetermined slurry coating thickness. The extra slurry 3b scraped at the entrance of the coating thickness adjusting unit 5 of the slit 2 is swirled along the swirling unit 6. At that time, since the circulation portion 6 is formed to be inclined at a predetermined angle with respect to the widthwise direction of the substrate 4, the slurry 3b scraped by the coating thickness adjusting portion 5 is stored in the coating thickness adjusting portion 5 together with the substrate 4. It flows down into the slurry tank 8 without joining the introduced slurry 3a. According to the slurry coating apparatus 1 of the present invention, the substrate 4
The slurry coating thickness at the central portion of the substrate does not become thinner than the slurry coating thickness at the end portion, and the slurry coating thickness at the central portion and the end portion of the substrate 4 can be made uniform.

【0015】図2(A)は、本発明に係る他の形態のス
リットを示す斜視図である。このスリット11は、従来
のスリットと同様に板状に形成されており、基板4の幅
方向に対して所定角度傾斜して配置される。図2(B)
に示すように、回流部16が、基板4の幅方向に対して
所定角度傾斜しているので、塗布厚調整部15によって
削がれたスラリー3bは、基板4とともに塗布厚調整部
15に導入されるスラリー3aと合流することなくスラ
リー槽8内に流れ落ちる。
FIG. 2A is a perspective view showing a slit according to another embodiment of the present invention. The slit 11 is formed in a plate shape like the conventional slit, and is arranged at a predetermined angle with respect to the width direction of the substrate 4. FIG. 2 (B)
As shown in FIG. 3, since the circulation portion 16 is inclined at a predetermined angle with respect to the width direction of the substrate 4, the slurry 3b scraped by the coating thickness adjusting portion 15 is introduced into the coating thickness adjusting portion 15 together with the substrate 4. The slurry 3a flows down into the slurry tank 8 without joining.

【0016】図3に示すように、本発明に係るスリット
11の基端部が支軸11aによって回動自在に支持され
るのが好ましい。このように構成することにより、スリ
ット11の回流部16と基板4の幅方向との角度θを調
整でき、スラリーの流れを最適にすることができる。
As shown in FIG. 3, it is preferable that the base end portion of the slit 11 according to the present invention is rotatably supported by the support shaft 11a. With such a configuration, the angle θ between the circulation portion 16 of the slit 11 and the width direction of the substrate 4 can be adjusted, and the slurry flow can be optimized.

【0017】図4は、図3に示すスリットを回動させる
回動手段の一例を示す側面図である。図4に示すよう
に、回動手段20は、スラリー塗布装置1の先端部に取
り付けられたピン11bが挿入される長孔21aを有す
る移動部材21と、その移動部材21を垂直方向に移動
自在に支持したボールネジ2と、そのボールネジ2を回
転させるモータ23と、ボールネジ2と平行に配置され
移動部材21を支持する回り止め棒24と、からなる。
この回動手段20によれば、モータ23を駆動させてボ
ールネジ2を回転させることにより、移動部材21が上
下動するので、それに伴い、ピン11bを介して移動部
材21に支持されたスリット11を、支軸11aを支点
として所望の角度まで回動させることができる。
FIG. 4 is a side view showing an example of a rotating means for rotating the slit shown in FIG. As shown in FIG. 4, the rotating means 20 includes a moving member 21 having a long hole 21a into which the pin 11b attached to the tip of the slurry coating apparatus 1 is inserted, and the moving member 21 is vertically movable. The ball screw 2 supported by the ball screw 2, a motor 23 for rotating the ball screw 2, and a detent rod 24 arranged in parallel with the ball screw 2 and supporting the moving member 21.
According to the rotating means 20, the moving member 21 moves up and down by driving the motor 23 to rotate the ball screw 2, and accordingly, the slit 11 supported by the moving member 21 via the pin 11b is moved. , Can be rotated to a desired angle with the support shaft 11a as a fulcrum.

【0018】なお、スリット11の回動手段は、上記の
ものに限らず、例えば、ピストン装置のロッドの先端部
をスラリー塗布装置1の先端部に回動自在に取り付け、
ロッドの伸縮によりスラリー塗布装置1を回動させるよ
うに構成してもよい。
The rotating means of the slit 11 is not limited to the above-mentioned one, and for example, the tip of the rod of the piston device is rotatably attached to the tip of the slurry coating apparatus 1,
The slurry coating device 1 may be rotated by the expansion and contraction of the rod.

【0019】図5(A)は、本発明に係るさらに他の形
態のスリットを示す斜視図である。このスリット30
は、回流部36の下端部を山形に切り欠いて形成されて
いる。スリット30によれば、回流部36が、基板4の
幅方向に対して所定角度両端に向かって傾斜して形成さ
れているので、図5(B)に示すように、塗布厚調整部
35によって削がれたスラリー3bは、基板4とともに
塗布厚調整部35に導入されるスラリー3aと合流する
ことなく、スリット30の両端部からスラリー槽8内に
流れ落ちる。
FIG. 5A is a perspective view showing a slit according to still another embodiment of the present invention. This slit 30
Is formed by notching the lower end of the diverting portion 36 in a mountain shape. According to the slit 30, the diverted portion 36 is formed so as to be inclined toward the both ends at a predetermined angle with respect to the width direction of the substrate 4, so that as shown in FIG. The scraped slurry 3b flows down into the slurry tank 8 from both ends of the slit 30 without joining the slurry 3a introduced into the coating thickness adjusting unit 35 together with the substrate 4.

【0020】本発明のスリットの形状は、上記の実施例
のものに限らず、例えば一対のスリットを一体に形成し
ているものでもよい。
The shape of the slit of the present invention is not limited to that of the above-mentioned embodiment, and for example, a pair of slits may be integrally formed.

【0021】図6は、本発明に係る他のスラリー塗布装
置を示す概略説明図である。図6に示すように、このス
ラリー塗布装置40は、スラリー3が塗着された長尺状
の基板4を導入し、基板4に塗着されたスラリー3の塗
布厚を調整するスリット41と、スリット41によって
削ぎ落とされたスラリー3bを溜めるスラリー受け42
と、スラリー受け42に溜められたスラリー3bを吸引
する吸引ポンプ43とを備えている。
FIG. 6 is a schematic explanatory view showing another slurry coating apparatus according to the present invention. As shown in FIG. 6, the slurry coating device 40 includes a slit 41 for introducing a long substrate 4 coated with the slurry 3 and adjusting a coating thickness of the slurry 3 coated on the substrate 4. Slurry receiver 42 for storing the slurry 3b scraped off by the slit 41
And a suction pump 43 for sucking the slurry 3b stored in the slurry receiver 42.

【0022】スラリー受け42は、スリット41の回流
部のすぐ下の位置に配置される。また、スラリー受け4
2・吸引ポンプ43間及び吸引ポンプ43・スラリー槽
8間は、それぞれフレキシブルチューブ44によって連
結されている。
The slurry receiver 42 is arranged immediately below the circulation portion of the slit 41. Also, the slurry receiver 4
2 and the suction pump 43, and the suction pump 43 and the slurry tank 8 are connected by flexible tubes 44, respectively.

【0023】このスラリー塗布装置40によれば、スリ
ット41によって削ぎ落とされたスラリー3bは、スリ
ット41の回流部に沿って流れ落ち、スラリー受け42
に溜められる。次いで、スラリー受け42に溜められた
スラリー3bは、吸引ポンプ43により吸引される。そ
のため、スリット41によって削ぎ落とされたスラリー
3bは、基板4とともにスリット41に導入されるスラ
リー3aと合流することなく流れ落ちるので、基板4の
中央部と端部のスラリー塗布厚を均一にすることができ
る。吸引されたスラリー3bは、スラリー3を収納して
いるスラリー槽8に戻され、基板4への塗布に再度利用
される。
According to this slurry coating device 40, the slurry 3b scraped off by the slit 41 flows down along the circulation portion of the slit 41, and the slurry receiver 42
Stored in. Next, the slurry 3b stored in the slurry receiver 42 is sucked by the suction pump 43. Therefore, the slurry 3b scraped off by the slit 41 flows down without joining with the slurry 3a introduced into the slit 41 together with the substrate 4, so that the slurry coating thickness of the central portion and the end portion of the substrate 4 can be made uniform. it can. The sucked slurry 3b is returned to the slurry tank 8 containing the slurry 3 and is reused for coating the substrate 4.

【0024】本発明は、上記実施例に限定されることは
なく、特許請求の範囲に記載された技術的範囲内におい
て、種々の変更が可能である。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made within the technical scope described in the claims.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明のスラリー塗布装置によれば、ス
リットによって削がれたスラリーが、基板とともにスリ
ットに導入されるスラリーと合流することなく流れ落ち
るので、スラリー塗布厚を調整するとき、基板の中央部
と端部のスラリー塗布厚を均一にすることができる。
According to the slurry coating apparatus of the present invention, the slurry scraped by the slit flows down without flowing together with the slurry introduced into the slit together with the substrate. Therefore, when adjusting the slurry coating thickness, It is possible to make the slurry coating thickness uniform in the central portion and the end portion.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(A)は、本発明のスラリー塗布装置を示す斜
視図であり、(B)は、そのスリットによって削ぎ落と
されたスラリーがスラリー槽に流れ落ちる状態を示す側
面図である。
FIG. 1A is a perspective view showing a slurry coating apparatus of the present invention, and FIG. 1B is a side view showing a state in which a slurry scraped off by a slit thereof flows down into a slurry tank.

【図2】(A)は、本発明に係る他の形態のスリットを
示す斜視図であり、(B)は、そのスリットによって削
ぎ落とされたスラリーがスラリー槽に流れ落ちる状態を
示す側面図である。
FIG. 2A is a perspective view showing a slit of another embodiment according to the present invention, and FIG. 2B is a side view showing a state in which the slurry scraped off by the slit flows down into the slurry tank. .

【図3】基板の幅方向に対する傾斜角度を調節すること
が可能な、本発明に係る他の形態のスリットを示す側面
図である。
FIG. 3 is a side view showing a slit according to another embodiment of the present invention, which is capable of adjusting a tilt angle with respect to a width direction of a substrate.

【図4】図3に示すスリットを回動させる回動手段を示
す側面図である。
FIG. 4 is a side view showing a rotating means for rotating the slit shown in FIG.

【図5】(A)は、本発明に係るさらに他の形態のスリ
ットを示す斜視図であり、(B)は、そのスリットによ
って削ぎ落とされたスラリーがスラリー槽に流れ落ちる
状態を示す側面図である。
5A is a perspective view showing a slit of still another embodiment according to the present invention, and FIG. 5B is a side view showing a state in which the slurry scraped off by the slit flows down into the slurry tank. is there.

【図6】本発明に係る他のスラリー塗布装置を示す概略
説明図である。
FIG. 6 is a schematic explanatory view showing another slurry coating device according to the present invention.

【図7】従来のスリットを示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing a conventional slit.

【図8】従来のスリットによって削ぎ落とされたスラリ
ーがスラリー槽に流れ落ちる状態を示す側面図である。
FIG. 8 is a side view showing a state in which the slurry scraped off by a conventional slit flows down into a slurry tank.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:スラリー塗布装置 2:スリット 3:スラリー 4:基板 5:塗布厚調整部 6:回流部 7:垂直面 8:スラリー槽 40:スラリー塗布装置 41:スリット 42:スラリー受け 43:吸引ポンプ 44:フレキシブルチューブ 1: Slurry coating device 2: Slit 3: Slurry 4: Substrate 5: Coating thickness adjusting part 6: Flowing part 7: Vertical surface 8: Slurry tank 40: Slurry coating device 41: Slit 42: Slurry receiving 43: Suction pump 44: Flexible Tube

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スラリー槽と、そのスラリー槽内を上方
向に移動する基板と、その基板に余分に付着したスラリ
ーの厚さを調整するスリットと、を有するスラリー塗布
装置において、前記スリットは、スリットによって削が
れるスラリーが、基板とともにスリットに導入されるス
ラリーと合流することなく流れ落ちるように、基板の幅
方向に対して所定角度に傾斜していることを特徴とする
スラリー塗布装置。
1. A slurry coating apparatus comprising: a slurry tank; a substrate that moves upward in the slurry tank; and a slit that adjusts the thickness of the slurry excessively attached to the substrate. A slurry coating apparatus, which is inclined at a predetermined angle with respect to a width direction of a substrate so that the slurry scraped by the slit flows down together with the slurry introduced into the slit together with the substrate.
【請求項2】 長尺状の基板に塗着されたスラリーを削
ぎ落とし、所定の塗布厚に調整するスリットと、そのス
リットによって削ぎ落とされたスラリーを溜めるスラリ
ー受けと、そのスラリー受けに溜められたスラリーを吸
引する吸引ポンプと、を備えたことを特徴とするスラリ
ー塗布装置。
2. A slit for scraping off the slurry coated on a long substrate to adjust the coating thickness to a predetermined value, a slurry receiver for storing the slurry scraped off by the slit, and a slurry receiver for collecting the slurry. And a suction pump for sucking the slurry.
JP7203712A 1995-08-10 1995-08-10 Slurry applying device Pending JPH0955205A (en)

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