JPH0954435A - Photosensitive composition, photosensitive planographic printing plate and its plate making method - Google Patents

Photosensitive composition, photosensitive planographic printing plate and its plate making method

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JPH0954435A
JPH0954435A JP23205495A JP23205495A JPH0954435A JP H0954435 A JPH0954435 A JP H0954435A JP 23205495 A JP23205495 A JP 23205495A JP 23205495 A JP23205495 A JP 23205495A JP H0954435 A JPH0954435 A JP H0954435A
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JP
Japan
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acid
photosensitive
photosensitive composition
group
printing plate
Prior art date
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Application number
JP23205495A
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Japanese (ja)
Inventor
Noriyuki Kizu
紀幸 木津
Nobuyuki Ishii
信行 石井
Tomoyuki Matsumura
智之 松村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a photosensitive compsn. and a photosensitive planographic printing plate having excellent blocking resistance, chemical resistance, especially durability against a washing oil for UV ink, which show excellent developing property even for development with an alkali soln. substantially containing no org. solvent, and moreover, which hardly produce an insoluble component in a developer and can be developed in a large amt. with a specified amt. of a developer. SOLUTION: This photosensitive compsn. consists of a compd. having addition polymerizable unsatd. bonds in the molecule, a photopolymn. initiator, a copolymerized diazo resin and an alkali-soluble or swellable binder polymer. The alkali-soluble or swellable binder polymer is such a polymer that >50 mol% of the repeating units which constitute the main chain of the polymer are the repeating units produced from a methacrylate deriv.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、感光性組成物、感光性
平版印刷版及びその製版方法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a photosensitive composition, a photosensitive lithographic printing plate and a plate-making method thereof.

【0002】[0002]

【発明の背景】感光性平版印刷版は、親水性支持体上に
感光層を設けたもので、例えば、ネガ型感光性平版印刷
版においては、親水性支持体上に、紫外線等の活性光線
による露光により不可溶化してインク受容性となる感光
層が形成されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION A photosensitive lithographic printing plate is one in which a photosensitive layer is provided on a hydrophilic support. For example, in a negative photosensitive lithographic printing plate, actinic rays such as ultraviolet rays are formed on the hydrophilic support. To form a photosensitive layer which becomes insoluble by exposure to light and becomes ink-receptive.

【0003】このようなネガ型感光性平版印刷版は、感
光層に画像露光を施し、次いで現像すると、露光されな
い部分の感光層は除去されて親水性支持体の表面が露出
する一方、露光部の感光層は支持体に残留してインキ受
容層を形成する。平版印刷においては、上記露光部が親
油性で、露光されない部分が親水性であるという性質の
差が利用される。
In such a negative photosensitive lithographic printing plate, when the photosensitive layer is subjected to image exposure and then developed, the unexposed portion of the photosensitive layer is removed to expose the surface of the hydrophilic support while the exposed portion is exposed. The photosensitive layer remains on the support to form an ink receiving layer. In lithographic printing, the difference in the properties that the exposed portions are lipophilic and the unexposed portions are hydrophilic is used.

【0004】上記ネガ型感光性平版印刷版の感光層に
は、分子内に重合性不飽和結合を有する化合物(光重合
モノマー)と光重合開始剤を含有する光重合性組成物が
用いられている。
A photopolymerizable composition containing a compound having a polymerizable unsaturated bond in the molecule (photopolymerizable monomer) and a photopolymerization initiator is used in the photosensitive layer of the above negative type photosensitive lithographic printing plate. There is.

【0005】これら分子内に重合性不飽和結合を有する
化合物(光重合モノマー)と光重合開始剤を含有する光
重合性組成物に関しては多くの研究がなされ、親水性表
面を有する支持体上に光重合性組成物を塗設した感光性
平版印刷版に関する報告もなされている。
Many studies have been conducted on photopolymerizable compositions containing a compound having a polymerizable unsaturated bond (photopolymerizable monomer) and a photopolymerization initiator in these molecules, and a photopolymerizable composition on a support having a hydrophilic surface has been studied. There have also been reports on photosensitive lithographic printing plates coated with a photopolymerizable composition.

【0006】しかしながら、これら感光性組成物に用い
られている重合性不飽和結合を有する化合物は常温で粘
性の液体の化合物が多く、そのため、これら感光性組成
物を塗設することによって形成した感光層を有する感光
性平版印刷版は、感光層表面がべとつき、高温条件下
で、積層して保存した場合には、部分的にブロッキング
を起こすので、感光層の上に保護層を設けるなどの措置
を取らねばならなかった。
However, many of the compounds having a polymerizable unsaturated bond used in these photosensitive compositions are liquid compounds which are viscous liquids at room temperature. Therefore, the photosensitive compositions formed by coating these photosensitive compositions are used. In the case of a photosensitive lithographic printing plate having a layer, the surface of the photosensitive layer is sticky, and if the layers are stored under high temperature conditions, blocking may occur partially, so measures such as providing a protective layer on the photosensitive layer should be taken. I had to get it.

【0007】また、感光性平版印刷版は、露光後の現像
処理において、有機溶剤、または、有機溶剤を含有する
アルカリ水溶液で未露光部の感光層を溶出し画像を形成
する方法が一般的であった。アルカリ水溶液において用
いられる有機溶剤は十分な現像性を得るために使用され
ている。しかしながら、有機溶剤は、臭気を有してお
り、また、毒性を有するものも多く、火災に対する危険
性を持っており、製版工程の作業環境を劣化させ、か
つ、作業者の健康に悪影響与えることになり、さらに、
有機溶剤を使用した現像液を廃棄する場合にはBOD規
制を受けるなどの多くの欠点を有しているばかりでな
く、有機溶剤の使用はコストを高くすることになるの
で、感光性平版印刷版には、有機溶剤を使用しないでも
十分な現像性が得られることが望ましい。また、現像は
長期にわたって安定に行なえることが望まれている。
Further, in a photosensitive lithographic printing plate, in a development process after exposure, a method is generally used in which an unexposed portion of the photosensitive layer is eluted with an organic solvent or an alkaline aqueous solution containing an organic solvent to form an image. there were. The organic solvent used in the alkaline aqueous solution is used to obtain sufficient developability. However, organic solvents have an odor, and many of them are toxic, which poses a risk of fire, deteriorates the working environment of the plate making process, and adversely affects the health of workers. And further,
When the developer containing the organic solvent is discarded, it has many drawbacks such as being subject to BOD regulations, and the use of the organic solvent increases the cost. Therefore, the photosensitive lithographic printing plate In particular, it is desirable that sufficient developability be obtained without using an organic solvent. Further, it is desired that development can be stably performed for a long period of time.

【0008】また、製版された感光性平版印刷版は、印
刷時に洗い油によって洗浄されるが、これら洗い油に対
して感光層が耐性を有していることが望まれている。
The photosensitive lithographic printing plate thus prepared is washed with washing oil during printing, and it is desired that the photosensitive layer has resistance to these washing oils.

【0009】[0009]

【発明の目的】従って、本発明の第1の目的は、耐ブロ
ッキング性に優れる感光性組成物を提供することにあ
る。
OBJECTS OF THE INVENTION Therefore, the first object of the present invention is to provide a photosensitive composition having excellent blocking resistance.

【0010】本発明の第2の目的は、耐薬品性、特に、
UVインキ洗い油に対する耐性が優れた感光性組成物を
提供することにある。
A second object of the invention is chemical resistance, especially
It is to provide a photosensitive composition having excellent resistance to UV ink washing oil.

【0011】本発明の第3の目的は、実質的に有機溶媒
を含有しないアルカリ水溶液での現像ででも優れた現像
性が得られ、しかも、現像液中に不溶解分を生成し難
く、一定量の現像液で大量に現像処理することができる
感光性平版印刷版を提供することにある。
The third object of the present invention is to obtain excellent developability even in the development with an alkaline aqueous solution containing substantially no organic solvent, and moreover, it is difficult to form an insoluble component in the developing solution, and it is uniform. An object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate that can be developed in a large amount with a developing solution.

【0012】[0012]

【発明の構成】上記本発明の目的は、 (1)(A)分子内に付加重合性不飽和結合を有する化
合物、(B)光重合開始剤、(C)共縮合ジアゾ樹脂及
び(D)アルカリ可溶性または膨潤性のバインダーポリ
マーからなる感光性組成物において、(D)アルカリ可
溶性または膨潤性のバインダーポリマーが、該バインダ
ーポリマーの主鎖を構成する繰り返し単位の50モル%以
上がメタクリル酸誘導体からの繰り返し単位で構成され
ているバインダーポリマーであることを特徴とする感光
性組成物。 (2)メタクリル酸誘導体が、メタクリル酸のアルキル
エステルであることを特徴とする上記(1)記載の感光
性組成物。 (3)(D)アルカリ可溶性または膨潤性のバインダー
ポリマーが、更に芳香族水酸基を有する付加重合性モノ
マーからの繰り返し単位を有するバインダーポリマーで
あることを特徴とする上記(1)または(2)記載の感
光性組成物。 (4)芳香族水酸基を有する付加重合性モノマーが下記
一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする
上記(3)記載の感光性組成物。
The above-mentioned objects of the present invention are: (1) (A) a compound having an addition-polymerizable unsaturated bond in the molecule, (B) a photopolymerization initiator, (C) a co-condensed diazo resin and (D). In a photosensitive composition comprising an alkali-soluble or swellable binder polymer, (D) the alkali-soluble or swellable binder polymer comprises a methacrylic acid derivative in which 50 mol% or more of the repeating units constituting the main chain of the binder polymer are A photosensitive composition, which is a binder polymer composed of repeating units of (2) The photosensitive composition as described in (1) above, wherein the methacrylic acid derivative is an alkyl ester of methacrylic acid. (3) The above (1) or (2), wherein the alkali-soluble or swellable binder polymer (D) is a binder polymer having a repeating unit from an addition polymerizable monomer having an aromatic hydroxyl group. The photosensitive composition of. (4) The photosensitive composition as described in (3) above, wherein the addition-polymerizable monomer having an aromatic hydroxyl group is a compound represented by the following general formula (1).

【0013】[0013]

【化2】 [式中、R1は水素原子、メチル基を、R2は−COO
−、−CONH−を表す。nは0または1を表す。] (5)(C)共縮合ジアゾ樹脂が、ジアゾジフェニルア
ミンと、分子内にカルボニル基及びスルホニル基から選
ばれた少なくとも1つの基を有する芳香族化合物との共
縮合物であることを特徴とする上記(1)〜(4)記載
の感光性組成物。 (6)(C)共縮合ジアゾ樹脂が、ジアゾジフェニルア
ミンとp−ヒドロキシ安息香酸との共縮合物であること
を特徴とする上記(1)〜(5)記載の感光性組成物。 (7)親水性を有する支持体上に、上記(1)〜(6)
記載の感光性組成物の層を設けたことを特徴とする感光
性平版印刷版。 (8)感光性組成物の層の上に、保護層が設けられてい
ないことを特徴とする上記(7)記載の感光性平版印刷
版。 (9)上記(8)記載の感光性平版印刷版を、実質的に
有機溶剤を含まないpH12以上のアルカリ水溶液で現像
することを特徴とする感光性平版印刷版の製版方法。 によって達成される。
Embedded image [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents —COO
-, -CONH-. n represents 0 or 1. (5) The (C) co-condensation diazo resin is a co-condensation product of diazodiphenylamine and an aromatic compound having at least one group selected from a carbonyl group and a sulfonyl group in the molecule. The photosensitive composition as described in (1) to (4) above. (6) The photosensitive composition according to the above (1) to (5), wherein the (C) co-condensed diazo resin is a co-condensed product of diazodiphenylamine and p-hydroxybenzoic acid. (7) Above (1) to (6) on a hydrophilic support.
A photosensitive lithographic printing plate comprising a layer of the photosensitive composition described. (8) The photosensitive lithographic printing plate as described in (7) above, wherein a protective layer is not provided on the layer of the photosensitive composition. (9) A method for making a photosensitive lithographic printing plate, which comprises developing the photosensitive lithographic printing plate described in (8) above with an alkaline aqueous solution having a pH of 12 or more and substantially containing no organic solvent. Achieved by

【0014】以下、本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【0015】本発明において用いられる分子内に付加重
合性不飽和結合を有する化合物は公知であり、本発明の
感光性組成物においては、光重合性組成物に用いられる
公知の重合性不飽和化合物を用いることができ、どのよ
うな化学構造を有するものであってもよいが、分子中に
2またはそれ以上の付加重合性不飽和結合を有する化合
物が好ましい。また、2以上の付加重合性不飽和結合を
有する重合可能な化合物を併用しても構わない。
The compound having an addition polymerizable unsaturated bond in the molecule used in the present invention is known, and in the photosensitive composition of the present invention, the known polymerizable unsaturated compound used in the photopolymerizable composition is used. Can be used and may have any chemical structure, but compounds having 2 or more addition-polymerizable unsaturated bonds in the molecule are preferable. Further, a polymerizable compound having two or more addition-polymerizable unsaturated bonds may be used in combination.

【0016】分子内に付加重合性不飽和結合を有する化
合物としては、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和カル
ボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物とのエステル、不
飽和カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化合物とのエス
テル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸および前述の
脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化
合物等の多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応によ
り得られるエステル等が挙げられ、具体的には、特開昭
59-71048号公報に記載されているジエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ヒドロキノンジ(メタ)アクリレート、グリ
セロールジ(メタ)アクリレート、ピロガロールトリア
クリレート、2,2−ビス(4−アクリロキシジエトキ
シフェニル)プロパン等が挙げられる。その他、エチレ
ンビス(メタ)アクリルアミド、ヘキサメチレンビス
(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド
類、あるいは、ビニルウレタン化合物やエポキシ(メ
タ)アクリレート等を挙げることができる。
Examples of the compound having an addition-polymerizable unsaturated bond in the molecule include unsaturated carboxylic acids, esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydroxy compounds, unsaturated carboxylic acids and aromatic polyhydroxy compounds. And the esters obtained by the esterification reaction of the unsaturated carboxylic acid and polyvalent carboxylic acid and the above-mentioned aliphatic polyhydroxy compound, polyvalent hydroxy compound such as aromatic polyhydroxy compound, and the like. , JP Sho
59-71048, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, hydroquinone di (meth) acrylate, glycerol di ( Examples thereof include (meth) acrylate, pyrogallol triacrylate, and 2,2-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) propane. Other examples include (meth) acrylamides such as ethylene bis (meth) acrylamide and hexamethylene bis (meth) acrylamide, vinyl urethane compounds and epoxy (meth) acrylates.

【0017】本発明の光重合性組成物における分子内に
付加重合性不飽和結合を有する化合物の使用量は、光重
合性組成物の全固形分中に、通常5〜70重量%、好まし
くは、10〜50重量%である。
The amount of the compound having an addition-polymerizable unsaturated bond in the molecule used in the photopolymerizable composition of the present invention is usually 5 to 70% by weight, preferably 5 to 70% by weight based on the total solid content of the photopolymerizable composition. , 10 to 50% by weight.

【0018】本発明に用いることができる光重合開始剤
は特に限定はなく、光重合性組成物に用いられる従来公
知のものが使用でき、例えば、ベンゾイン、ベンゾイン
アルキルエーテル、ベンゾフェノン、アントラキノン、
ミヒラーズケトン、トリハロメチル−s−トリアジン系
化合物、オキサジアゾール系化合物、ビイミダゾールと
ミヒラーズケトンの複合体系、チオキサントンと芳香族
第3アミンの複合体系等をいずれも好適に用いることが
できる。
The photopolymerization initiator that can be used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known ones used in photopolymerizable compositions can be used. Examples thereof include benzoin, benzoin alkyl ether, benzophenone, anthraquinone, and the like.
Michler's ketone, a trihalomethyl-s-triazine-based compound, an oxadiazole-based compound, a complex system of biimidazole and Michler's ketone, a complex system of thioxanthone and an aromatic tertiary amine, and the like can all be suitably used.

【0019】これら光重合開始剤は、通常、感光性平版
印刷版の露光に用いられる光源波長に吸収を有する化合
物が用いられる。
As the photopolymerization initiator, a compound having absorption at the wavelength of the light source used for exposing the photosensitive lithographic printing plate is usually used.

【0020】本発明において、光重合開始剤としては下
記のものが好ましい。
In the present invention, the following are preferable as the photopolymerization initiator.

【0021】[0021]

【化3】 [R1は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブ
チル基、ハロゲンを表す。a及びbは、0≦a+b≦4
となる整数を表す。] 具体的には、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメ
チルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサント
ン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロ
ピルチオキサントン等を挙げることができる。
Embedded image [R 1 represents a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, or a halogen. a and b are 0 ≦ a + b ≦ 4
Represents an integer. Specific examples include 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and isopropylthioxanthone.

【0022】[0022]

【化4】 [R2、R3、R4は、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル
基、tert−ブチル基を表す。Arは、置換または無置換
のフェニレン基、ナフチレン基または複素環式芳香族基
を表す。] 具体的には、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等を挙げることがで
きる。
Embedded image [R 2 , R 3 , and R 4 represent a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Ar represents a substituted or unsubstituted phenylene group, naphthylene group or heterocyclic aromatic group. Specifically, ethyl p-dimethylaminobenzoate, p-
Isoamyl dimethylaminobenzoate and the like can be mentioned.

【0023】[0023]

【化5】 [Arは、置換または無置換のフェニレン基、ナフチレ
ン基、または複素環式芳香族基を表す。R5は、水素原
子、アルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、
アルキルチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン、COO
6、−O−(CH 2f−COOR6、−O−(CH2
H(R7)O)g−R6、−R8−COOR6、−R8−CO
NHR6、−NHCOR9(R6は、水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表
す。R7は、水素原子またはメチル基、R8は、アルキレ
ン基、R9は、アルキル基、置換アルキル基、アルコキ
シ基、アリール基、置換アリール基を表す。f、gは、
1〜10の整数を表す。)を表す。cは、0〜2の整数
を表す。Xは、ハロゲンを表す。d、eは、0〜3の整
数を表すがd+e≦5の範囲内である。] 具体的には、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−
(p−メトキシスチリル)−s−トリアジン、2,4−
ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メチルスチリ
ル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチ
ル)−6−(o,p−ジメチルスチリル)−s−トリア
ジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(o,
p−ジメトキシスチリル)−s−トリアジン等を挙げる
ことができる。
Embedded image[Ar is a substituted or unsubstituted phenylene group, naphthyl
A heterocyclic group or a heterocyclic aromatic group. RFiveIs a hydrogen source
Child, alkyl group, alkoxy group, dialkylamino group,
Alkylthio group, hydroxy group, halogen, COO
R6, -O- (CH 2)f-COOR6, -O- (CH2C
H (R7) O)g-R6, -R8-COOR6, -R8-CO
NHR6, -NHCOR9(R6Is a hydrogen atom, alkyl
Group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group
You. R7Is a hydrogen atom or a methyl group, R8Is an archille
Group, R9Represents an alkyl group, a substituted alkyl group,
Represents a silyl group, an aryl group or a substituted aryl group. f and g are
Represents an integer of 1 to 10. ). c is an integer from 0 to 2
Represents X represents a halogen. d and e are integers from 0 to 3
It represents a number, but is in the range of d + e ≦ 5. Specifically, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-
(P-methoxystyryl) -s-triazine, 2,4-
Bis (trichloromethyl) -6- (p-methylstyrene
L) -s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl
) -6- (o, p-dimethylstyryl) -s-tria
Gin, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (o,
(p-dimethoxystyryl) -s-triazine and the like.
be able to.

【0024】光重合開始剤の使用量は、感光層の全固形
分中に、通常0.5〜30重量%であり、より好ましくは2
〜10重量%である。
The amount of the photopolymerization initiator used is usually 0.5 to 30% by weight, more preferably 2% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer.
~ 10% by weight.

【0025】次に、共縮合ジアゾ樹脂について説明す
る。
Next, the co-condensed diazo resin will be described.

【0026】本発明で用いるられる共縮合ジアゾ樹脂と
しては、例えば、芳香族ジアゾニウム化合物とカルボニ
ル化合物との縮合樹脂及びそれら縮合樹脂の塩が挙げら
れる。これら縮合樹脂は、その分子内にカルボニル基、
スルホニル基等の基を導入したものが好ましい。
The co-condensed diazo resin used in the present invention includes, for example, a condensed resin of an aromatic diazonium compound and a carbonyl compound and salts of these condensed resins. These condensation resins have a carbonyl group in the molecule,
Those into which a group such as a sulfonyl group is introduced are preferred.

【0027】本発明において用いるに好ましい共縮合ジ
アゾ樹脂は、カルボニル基(例えば、カルボキシル
基)、スルホニル基(例えば、スルホン酸基)を有する
芳香族化合物と芳香族ジアゾニウム化合物、好ましく
は、ジアゾジフェニルアミンとを構成単位として分子中
に有する共縮合化合物である。
The co-condensed diazo resin preferably used in the present invention is an aromatic compound having a carbonyl group (eg, carboxyl group) or a sulfonyl group (eg, sulfonic acid group) and an aromatic diazonium compound, preferably diazodiphenylamine. It is a cocondensation compound having as a structural unit in the molecule.

【0028】前記のカルボニル基、スルホニル基を有す
る芳香族化合物は、少なくとも1つのカルボニル基を有
する芳香族環および/または少なくとも1つのスルホニ
ル基を有する芳香族環を分子中に含むものであって、こ
の場合、上記カルボニル基とスルホニル基とを同一の芳
香族環に有するものでもよい。
The above-mentioned aromatic compound having a carbonyl group or a sulfonyl group contains an aromatic ring having at least one carbonyl group and / or an aromatic ring having at least one sulfonyl group in the molecule, In this case, the carbonyl group and the sulfonyl group may have the same aromatic ring.

【0029】そして上記の芳香族環としては、好ましく
はアリール基、例えば、フェニル基、ナフチル基を挙げ
ることができる。
The above aromatic ring is preferably an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group.

【0030】また、前記のカルボニル基、スルホニル基
は芳香族環に直接結合してもよく、何らかの結合基(以
下、単にジョイントという。)を介して結合していても
よい。
The above-mentioned carbonyl group and sulfonyl group may be directly bonded to the aromatic ring, or may be bonded via some bonding group (hereinafter, simply referred to as a joint).

【0031】上記の場合において、1つの芳香族環に結
合するカルボニル基、スルホニル基の数としては1また
は2が好ましい。さらにジョイントとしては、例えば、
炭素数1〜4のアルキレン基を挙げることができる。
In the above case, the number of carbonyl groups or sulfonyl groups bonded to one aromatic ring is preferably 1 or 2. Furthermore, as a joint, for example,
Examples thereof include an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.

【0032】前述のカルボニル基を有する芳香族化合物
の具体例としては、安息香酸、(o,m,p)−クロロ
安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、ジフェニル酢酸、
フェノキシ酢酸、p−メトキシフェニル酢酸、p−メト
キシ安息香酸、2,4−ジメトキシ安息香酸、2,4−
ジメチル安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニ
リノ安息香酸、4−(m−メトキシアニリノ)安息香
酸、4−(p−メトキシベンゾイル)安息香酸、4−
(p−メチルアニリノ)安息香酸、4−フェニルスルホ
ニル安息香酸、サリチル酸、4−メチルサリチル酸、6
−メチルサリチル酸、4−エチルサリチル酸、6−プロ
ピルサリチル酸、6−ラウリルサリチル酸、6−ステア
リルサリチル酸、4,6−ジメチルサリチル酸、p−ヒ
ドロキシ安息香酸、2−メチル−4−ヒドロキシ安息香
酸、6−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,6−ジ
メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキ
シ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香
酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ−4−メチル安息香酸、4−クロロ−2,6−ジヒ
ドロキシ安息香酸、4−メトキシ−2,6−ジオキシ安
息香酸、没食子酸、フロログルシンカルボン酸、2,
4,5−トリヒドロキシ安息香酸、m−ガロイル没食子
酸、タンニン酸、m−ベンゾイル没食子酸、m−(p−
トルイル)没食子酸、プロトカテクオイル−没食子酸、
4,6−ジヒドロキシフタル酸、(2,4−ジヒドロキ
シフェニル)酢酸、(2,4−ジヒドロキシフェニル)
酢酸、(3,4,5−トリヒドロキシフェニル)酢酸、
p−ヒドロキシメチル安息香酸、p−ヒドロキシエチル
安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェニル)メチル安息
香酸、4−(o−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4
−(2,4−ジヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4−
(p−ヒドロキシフェノキシ)安息香酸、4−(p−ヒ
ドロキシアニリノ)安息香酸、ビス(3−カルボキシ−
4−ヒドロキシフェニル)アミン、4−(p−ヒドロキ
シフェニルスルホニル)安息香酸、4−(p−ヒドロキ
シフェニルチオ)安息香酸等が挙げられ、このうち特に
好ましいものは、サリチル酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、p−メトキシ安息香酸、メタクロロ安息香酸であ
る。
Specific examples of the above-mentioned aromatic compound having a carbonyl group include benzoic acid, (o, m, p) -chlorobenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, diphenylacetic acid,
Phenoxyacetic acid, p-methoxyphenylacetic acid, p-methoxybenzoic acid, 2,4-dimethoxybenzoic acid, 2,4-
Dimethylbenzoic acid, p-phenoxybenzoic acid, 4-anilinobenzoic acid, 4- (m-methoxyanilino) benzoic acid, 4- (p-methoxybenzoyl) benzoic acid, 4-
(P-methylanilino) benzoic acid, 4-phenylsulfonylbenzoic acid, salicylic acid, 4-methylsalicylic acid, 6
-Methylsalicylic acid, 4-ethylsalicylic acid, 6-propylsalicylic acid, 6-laurylsalicylic acid, 6-stearylsalicylic acid, 4,6-dimethylsalicylic acid, p-hydroxybenzoic acid, 2-methyl-4-hydroxybenzoic acid, 6-methyl -4-hydroxybenzoic acid, 2,6-dimethyl-4-hydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxy-6-methylbenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,6 -Dihydroxy-4-methylbenzoic acid, 4-chloro-2,6-dihydroxybenzoic acid, 4-methoxy-2,6-dioxybenzoic acid, gallic acid, phloroglucin carboxylic acid, 2,
4,5-trihydroxybenzoic acid, m-galloyl gallic acid, tannic acid, m-benzoyl gallic acid, m- (p-
Toluyl) gallic acid, protocatechu oil-gallic acid,
4,6-dihydroxyphthalic acid, (2,4-dihydroxyphenyl) acetic acid, (2,4-dihydroxyphenyl)
Acetic acid, (3,4,5-trihydroxyphenyl) acetic acid,
p-hydroxymethylbenzoic acid, p-hydroxyethylbenzoic acid, 4- (p-hydroxyphenyl) methylbenzoic acid, 4- (o-hydroxybenzoyl) benzoic acid, 4
-(2,4-dihydroxybenzoyl) benzoic acid, 4-
(P-hydroxyphenoxy) benzoic acid, 4- (p-hydroxyanilino) benzoic acid, bis (3-carboxy-
4-hydroxyphenyl) amine, 4- (p-hydroxyphenylsulfonyl) benzoic acid, 4- (p-hydroxyphenylthio) benzoic acid, and the like. Of these, salicylic acid, p-hydroxybenzoic acid, p-methoxybenzoic acid and metachlorobenzoic acid.

【0033】また、スルホニル基を有する芳香族化合物
の具体例としては、ベンゼンスルホン酸、(o,m,
p)−クロロベンゼンスルホン酸、p−メトキシベンゼ
ンスルホン酸、2,4−ジメトキシベンゼンスルホン
酸、2,4−ジメチルベンゼンスルホン酸、p−フェノ
キシベンゼンスルホン酸、4−アニリノベンゼンスルホ
ン酸、4−(m−メトキシアニリノ)ベンゼンスルホン
酸、4−(p−メトキシベンゾイル)ベンゼンスルホン
酸、4−(p−メチルアニリノ)ベンゼンスルホン酸、
4−フェニルスルホニルベンゼンスルホン酸、p−ヒド
ロキシベンゼンスルホン酸、2−メチル−4−ヒドロキ
シベンゼンスルホン酸、6−メチル−4−ヒドロキシベ
ンゼンスルホン酸、2,6−ジメチル−4−ヒドロキシ
ベンゼンスルホン酸、2,4−ジヒドロキシベンゼンス
ルホン酸、2,4−ジヒドロキシ−6−メチルベンゼン
スルホン酸、2,6−ジヒドロキシベンゼンスルホン
酸、2,6−ジヒドロキシ−4−メチルベンゼンスルホ
ン酸、4−クロロ−2,6−ジヒドロキシベンゼンスル
ホン酸、4−メトキシ−2,6−ジオキシベンゼンスル
ホン酸、2,4,5−トリヒドロキシベンゼンスルホン
酸、p−ヒドロキシメチルベンゼンスルホン酸、p−ヒ
ドロキシエチルベンゼンスルホン酸、4−(p−ヒドロ
キシフェニル)メチルベンゼンスルホン酸、4−(o−
ヒドロキシベンゾイル)ベンゼンスルホン酸、4−
(2,4−ジヒドロキシベンゾイル)ベンゼンスルホン
酸、4−(p−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼンスルホ
ン酸、4−(p−ヒドロキシアニリノ)ベンゼンスルホ
ン酸、ビス(3−カルボキシ−4−ヒドロキシフェニ
ル)アミン、4−(p−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)ベンゼンスルホン酸、4−(p−ヒドロキシフェニ
ルチオ)ベンゼンスルホン酸等が挙げられ、このうち特
に好ましいものは、ベンゼンスルホン酸、p−ヒドロキ
シベンゼンスルホン酸、p−メトキシベンゼンスルホン
酸、メタクロロベンゼンスルホン酸である。
Further, specific examples of the aromatic compound having a sulfonyl group include benzenesulfonic acid, (o, m,
p) -chlorobenzenesulfonic acid, p-methoxybenzenesulfonic acid, 2,4-dimethoxybenzenesulfonic acid, 2,4-dimethylbenzenesulfonic acid, p-phenoxybenzenesulfonic acid, 4-anilinobenzenesulfonic acid, 4- ( m-methoxyanilino) benzenesulfonic acid, 4- (p-methoxybenzoyl) benzenesulfonic acid, 4- (p-methylanilino) benzenesulfonic acid,
4-phenylsulfonylbenzenesulfonic acid, p-hydroxybenzenesulfonic acid, 2-methyl-4-hydroxybenzenesulfonic acid, 6-methyl-4-hydroxybenzenesulfonic acid, 2,6-dimethyl-4-hydroxybenzenesulfonic acid, 2,4-dihydroxybenzenesulfonic acid, 2,4-dihydroxy-6-methylbenzenesulfonic acid, 2,6-dihydroxybenzenesulfonic acid, 2,6-dihydroxy-4-methylbenzenesulfonic acid, 4-chloro-2, 6-dihydroxybenzenesulfonic acid, 4-methoxy-2,6-dioxybenzenesulfonic acid, 2,4,5-trihydroxybenzenesulfonic acid, p-hydroxymethylbenzenesulfonic acid, p-hydroxyethylbenzenesulfonic acid, 4- (P-hydroxyphenyl) meth Benzenesulfonic acid, 4-(o-
(Hydroxybenzoyl) benzenesulfonic acid, 4-
(2,4-dihydroxybenzoyl) benzenesulfonic acid, 4- (p-hydroxyphenoxy) benzenesulfonic acid, 4- (p-hydroxyanilino) benzenesulfonic acid, bis (3-carboxy-4-hydroxyphenyl) amine, Examples thereof include 4- (p-hydroxyphenylsulfonyl) benzenesulfonic acid and 4- (p-hydroxyphenylthio) benzenesulfonic acid, and particularly preferred are benzenesulfonic acid, p-hydroxybenzenesulfonic acid, and p-hydroxybenzenesulfonic acid. Methoxybenzenesulfonic acid and metachlorobenzenesulfonic acid.

【0034】前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす
芳香族ジアゾニウム化合物は、塩として用いられ、例え
ば、特公昭49-48001号公報に挙げられているようなジア
ゾニウム塩を用いることができるが、特に、ジフェニル
アミン−4−ジアゾニウム塩類が好ましい。
The aromatic diazonium compound forming the constitutional unit of the above-mentioned co-condensed diazo resin is used as a salt, for example, a diazonium salt as described in JP-B-49-48001 can be used. Particularly, diphenylamine-4-diazonium salts are preferable.

【0035】ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類
は、4−アミノ−ジフェニルアミン類から誘導される
が、このような4−アミノ−ジフェニルアミン類として
は、4−アミノ−ジフェニルアミン、4−アミノ−3−
メトキシ−ジフェニルアミン、4−アミノ−2−メトキ
シ−ジフェニルアミン、4−アミノ−2′−メトキシ−
ジフェニルアミン、4−アミノ−4′−メトキシ−ジフ
ェニルアミン、4−アミノ−3−メチルジフェニルアミ
ン、4−アミノ−3−エトキシ−ジフェニルアミン、4
−アミノ−3−β−ヒドロキシ−エトキシジフェニルア
ミン、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−スルホン
酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−カルボン酸、
4−アミノ−ジフェニルアミン−2′−カルボン酸等が
あげられ、特に好ましくは、4−アミノ−4′−メトキ
シ−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン
である。
The diphenylamine-4-diazonium salts are derived from 4-amino-diphenylamines, and such 4-amino-diphenylamines include 4-amino-diphenylamine and 4-amino-3-.
Methoxy-diphenylamine, 4-amino-2-methoxy-diphenylamine, 4-amino-2'-methoxy-
Diphenylamine, 4-amino-4'-methoxy-diphenylamine, 4-amino-3-methyldiphenylamine, 4-amino-3-ethoxy-diphenylamine, 4
-Amino-3-β-hydroxy-ethoxydiphenylamine, 4-amino-diphenylamine-2-sulfonic acid, 4-amino-diphenylamine-2-carboxylic acid,
4-amino-diphenylamine-2'-carboxylic acid and the like can be mentioned, and 4-amino-4'-methoxy-diphenylamine and 4-amino-diphenylamine are particularly preferable.

【0036】上記共縮合ジアゾ樹脂は、公知の方法、例
えば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エン
ジニアリング(Photo.Sci.Eng.)第17巻、第33頁(197
3)、米国特許第2,063,631号明細書、同第2,679,498号
明細書に記載の方法に従い、硫酸やリン酸あるいは塩酸
中でジアゾニウム塩、カルボキシル基および/またはヒ
ドロキシル基を有する芳香族化合物およびアルデヒド
類、例えば、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、ベンズアルデヒドあるいはケトン類、例えば、アセ
トン、アセトフェノンとを重縮合させることによって得
られる。
The above-mentioned co-condensed diazo resin can be obtained by a known method, for example, Photographic Science and Engineering (Photo.Sci.Eng.) Vol. 17, page 33 (197).
3), US Pat. Nos. 2,063,631 and 2,679,498, a diazonium salt, an aromatic compound having a carboxyl group and / or a hydroxyl group, and aldehydes in sulfuric acid, phosphoric acid or hydrochloric acid, For example, it can be obtained by polycondensing paraformaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde or ketones such as acetone and acetophenone.

【0037】また、これら分子中にカルボニル基、スル
ホニル基を有する芳香族化合物、芳香族ジアゾ化合物お
よびアルデヒド類またはケトン類は相互に組合せ自由で
あり、さらに各々2種以上を混ぜて共縮合することも可
能であるが、好ましくは、ジアゾジフェニルアミンと分
子内にカルボニル基、スルホニル基を有する芳香族化合
物との共縮合樹脂であり、よリ好ましくは、ジアゾジフ
ェニルアミンと安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、フェニ
ル酢酸との共縮合物、さらに好ましくは、ジアゾジフェ
ニルアミンとp−ヒドロキシ安息香酸との共縮合物であ
る。
The aromatic compound having a carbonyl group or sulfonyl group in the molecule, the aromatic diazo compound and the aldehydes or ketones may be freely combined with each other, and two or more kinds of them may be mixed and co-condensed. Although it is also possible, it is preferably a co-condensation resin of diazodiphenylamine and an aromatic compound having a carbonyl group or a sulfonyl group in the molecule, and more preferably diazodiphenylamine and benzoic acid, hydroxybenzoic acid or phenylacetic acid. Is a cocondensation product with a diazodiphenylamine and p-hydroxybenzoic acid.

【0038】カルボニル基およびスルホニル基のうち少
なくとも一方を有する芳香族化合物と芳香族ジアゾ化合
物の仕込みモル比は、通常1:0.1〜0.1:1、好ましく
は1:0.5〜0.2:1、より好ましくは1:1〜0.2:1
である。また、この場合、カルボニル基、スルホニル基
のうち少なくとも一方を有する芳香族化合物および芳香
族ジアゾ化合物の合計とアルデヒド類またはケトン類と
をモル比で通常1:0.6〜1.5、好ましくは1:0.7〜1.2
で仕込み、低温で短時間、例えば、3時間程度反応させ
ることにより共縮合ジアゾ樹脂が得られる。
The molar ratio of the aromatic compound having at least one of the carbonyl group and the sulfonyl group to the aromatic diazo compound is usually 1: 0.1 to 0.1: 1, preferably 1: 0.5 to 0.2: 1, more preferably 1: 1 to 0.2: 1
It is. Further, in this case, the molar ratio of the total amount of the aromatic compound and the aromatic diazo compound having at least one of a carbonyl group and a sulfonyl group to the aldehydes or ketones is usually 1: 0.6 to 1.5, preferably 1: 0.7 to 1.2
Then, the co-condensed diazo resin is obtained by reacting at low temperature for a short time, for example, for about 3 hours.

【0039】本発明において使用される共縮合ジアゾ樹
脂の対アニオンは、該共縮合ジアゾ樹脂と安定に塩を形
成し、かつ該樹脂を有機溶媒に可溶となすアニオンを含
む。これらは、デカン酸および安息香酸等の有機カルボ
ン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸およびスルホン酸
を含み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、クロ
ロエタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン
酸、およびアントラキノンスルホン酸、2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、ヒド
ロキシスルホン酸、4−アセチルベンゼンスルホン酸、
ジメチル−5−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに
芳香族スルホン酸、2,2′,4,4′−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、1,2,3−トリヒドロキシベン
ゾフェノン、2,2′,4−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン
酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、C
lO4、IO4等の過ハロゲン酸等が挙げられるが、これ
らに限られるものではない。これらの中で、特に好まし
いものは、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ
酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5
−スルホン酸である。
The counter anion of the co-condensed diazo resin used in the present invention includes an anion which forms a salt with the co-condensed diazo resin in a stable manner and makes the resin soluble in an organic solvent. These include organic carboxylic acids such as decanoic acid and benzoic acid, and organic phosphoric acids and sulfonic acids such as phenylphosphoric acid. Typical examples include methanesulfonic acid, chloroethanesulfonic acid, dodecanesulfonic acid, and benzenesulfonic acid. , Toluenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, and anthraquinonesulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, hydroxysulfonic acid, 4-acetylbenzenesulfonic acid,
Aliphatic and aromatic sulfonic acids such as dimethyl-5-sulfoisophthalate, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 1,2,3-trihydroxybenzophenone, 2,2', 4-trihydroxy Hydroxyl-containing aromatic compounds such as benzophenone, halogenated Lewis acids such as hexafluorophosphoric acid and tetrafluoroboric acid, C
lO 4, IO 4 perhalogen acids such as including but not limited to these. Among these, particularly preferred are hexafluorophosphoric acid, tetrafluoroboric acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5.
-Sulfonic acid.

【0040】上記共縮合ジアゾ樹脂は、各単量体のモル
比および縮合条件を種々変えることにより、その分子量
は任意の値として得ることができるが、本発明の目的と
する使途に有効に供するためには分子量約400〜10,000
の範囲から選択されることが一般的であるが、好ましく
は約800〜5,000である。
The molecular weight of the above co-condensed diazo resin can be obtained as an arbitrary value by variously changing the molar ratio of each monomer and the condensation conditions, but it is effectively used for the intended purpose of the present invention. In order to have a molecular weight of about 400-10,000
It is generally selected from the range of, but preferably about 800 to 5,000.

【0041】上記共縮合ジアゾ樹脂は光重合性組成物中
に1〜12重量%含有させるのが好ましい。
The co-condensed diazo resin is preferably contained in the photopolymerizable composition in an amount of 1 to 12% by weight.

【0042】次に、本発明に用いられる主鎖を構成する
繰り返し単位の50モル%以上がメタクリル酸誘導体から
の繰り返し単位で構成されているアルカリ可溶性または
膨潤性のバインダーポリマー(以下、本発明のバインダ
ーポリマーという。)について説明する。
Next, an alkali-soluble or swellable binder polymer (hereinafter referred to as "the present invention") in which 50 mol% or more of the repeating units constituting the main chain used in the present invention are constituted of repeating units derived from a methacrylic acid derivative. This is referred to as a binder polymer).

【0043】本発明のバインダーポリマーは、主鎖を構
成する繰り返し単位の50モル%以上がメタクリル酸誘導
体からの繰り返し単位で構成されているアルカリ可溶性
または膨潤性のバインダーポリマーであれば、特に限定
はなく用いることができるが、ビニル系モノマーの共重
合体であることが好ましい。
The binder polymer of the present invention is not particularly limited as long as it is an alkali-soluble or swellable binder polymer in which 50 mol% or more of the repeating units constituting the main chain are constituted by repeating units derived from a methacrylic acid derivative. However, it is preferably a copolymer of vinyl monomers.

【0044】本発明のバインダーポリマーの繰り返し単
位を構成するメタクリル酸誘導体としては、例えば、下
記のモノマーを用いることが好ましい。 (1)メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルア
クリレート、N−ジエチルアミノエチルメタクリレート
などの(置換)アルキルメタクリレート (2)メタクリル酸、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、4−ヒドロキシブチルメタクリレートなどの脂肪
族水酸基を有するメタクリル酸エステル類、o,m,p
−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド、o,m,p−
ヒドロキシフェニルメタクリレートなど芳香族水酸基を
側鎖に有するビニル単量体 上記のメタクリル酸誘導体の内でも、本発明に用いるの
に好ましいメタクリル酸誘導体は、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、メタクリル酸、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタ
クリレート、o,m,p−ヒドロキシフェニルメタクリ
ルアミド、o,m,p−ヒドロキシフェニルメタクリレ
ートである。
As the methacrylic acid derivative constituting the repeating unit of the binder polymer of the present invention, for example, the following monomers are preferably used. (1) methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(Substituted) alkyl methacrylates such as propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, N-diethylaminoethyl methacrylate (2) Methacrylic acid, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl Methacrylic acid esters having aliphatic hydroxyl groups such as methacrylate, o, m, p
-Hydroxyphenylmethacrylamide, o, m, p-
Vinyl monomers having an aromatic hydroxyl group in the side chain such as hydroxyphenyl methacrylate Among the above methacrylic acid derivatives, preferred methacrylic acid derivatives for use in the present invention are methyl methacrylate, ethyl methacrylate, methacrylic acid, and 2-hydroxyethyl. Methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, o, m, p-hydroxyphenyl methacrylamide, o, m, p-hydroxyphenyl methacrylate.

【0045】また、本発明のバインダーポリマーは、分
子内に、芳香族水酸基を有する付加重合性モノマーから
の繰り返し単位を有することが好ましい。
Further, the binder polymer of the present invention preferably has a repeating unit from an addition polymerizable monomer having an aromatic hydroxyl group in the molecule.

【0046】分子内に、芳香族水酸基を有する付加重合
性モノマーからの繰り返し単位を導入するのに用いるモ
ノマーは、芳香族水酸基を有する付加重合性モノマーで
あれば特に限定されるものではないが、下記一般式
(1)で表されるモノマーが好ましい。
The monomer used for introducing the repeating unit from the addition polymerizable monomer having an aromatic hydroxyl group into the molecule is not particularly limited as long as it is an addition polymerizable monomer having an aromatic hydroxyl group. A monomer represented by the following general formula (1) is preferable.

【0047】[0047]

【化6】 [式中、R1は水素原子、メチル基を、R2は−COO
−、−CONH−を表す。nは0または1を表す。] 本発明のバインダーポリマーを構成する他のモノマーと
しては、 (a)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、例
えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート (b)アクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の
α,β−不飽和カルボン酸 (c)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−
2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメ
チルアミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルア
クリレート (d)アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリル
アミド、N−シクロへキシルアクリルアミド、N−ヒド
ロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルア
ミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル
−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド類 (e)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類 (f)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類 (g)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類 (h)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類 (i)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類 (j)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン等が挙げられる。
[Chemical 6] [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents —COO
-, -CONH-. n represents 0 or 1. Examples of the other monomer constituting the binder polymer of the present invention include (a) acrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group, for example, 2-hydroxyethyl acrylate (b) α such as acrylic acid, maleic anhydride, and itaconic acid. , Β-unsaturated carboxylic acid (c) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic acid-
(Substituted) alkyl acrylates such as 2-chloroethyl, glycidyl acrylate and N-dimethylaminoethyl acrylate (d) acrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl acrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxy Acrylamides such as ethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide (e) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether , Vinyl ethers such as phenyl vinyl ether (f) Vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl Vinyl esters such as stylate and vinyl benzoate (g) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene and chloromethylstyrene (h) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, etc. Vinyl ketones (i) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene (j) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine and the like.

【0048】本発明のバインダーポリマーは、優れたア
ルカリ可溶性を得るために下記のモノマーを用いたもの
が好ましい。 (1)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸などのα、β−不飽和カルボン酸 (2)2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどの脂肪族
水酸基を有するアクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類 (3)o,m,p−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリ
ル酸アミド、o,m,p−ヒドロキシスチレン、o,
m,p−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート、
o,m,p−ヒドロキシフェニルマレイミドなど芳香族
水酸基を側鎖に有するビニル単量体 本発明のバインダーポリマーは、上記のモノマーを周知
の手段によって重合させることによって得ることができ
る。
The binder polymer of the present invention preferably uses the following monomers in order to obtain excellent alkali solubility. (1) α, β-unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, itaconic acid, etc. (2) 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4
Acrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as -hydroxybutyl (meth) acrylate, methacrylic acid esters (3) o, m, p-hydroxyphenyl (meth) acrylamide, o, m, p-hydroxystyrene, o,
m, p-hydroxyphenyl (meth) acrylate;
Vinyl monomer having aromatic hydroxyl group in side chain such as o, m, p-hydroxyphenylmaleimide The binder polymer of the present invention can be obtained by polymerizing the above-mentioned monomer by a known means.

【0049】また、これらビニル系共重合体は、光に対
する硬化性を向上する目的で、分子内に光による架橋の
可能な不飽和結合を有せしめてもよい。このような不飽
和結合を有する基としては、例えば、アクリル基、メタ
クリル基、マレイミド基、シンナミル基、シンナモイル
基が挙げられる。
Further, these vinyl type copolymers may have an unsaturated bond capable of being cross-linked by light in the molecule for the purpose of improving the curability with respect to light. Examples of the group having such an unsaturated bond include an acryl group, a methacryl group, a maleimide group, a cinnamyl group, and a cinnamoyl group.

【0050】本発明のバインダーポリマーの分子量は、
重量平均分子量で5,000〜200,000であることが好まし
く、更には、20,000〜12,000であるのが好ましい。
The molecular weight of the binder polymer of the present invention is
The weight average molecular weight is preferably 5,000 to 200,000, and more preferably 20,000 to 12,000.

【0051】本発明のバインダーポリマーは、分子内に
付加重合性不飽和結合を有する化合物/本発明のバイン
ダーポリマーが重量比で5/95〜70/30になるように用
いるのが好ましく、更には、10/90〜50/50になるよう
に用いるのが好ましい。
The binder polymer of the present invention is preferably used so that the weight ratio of the compound having an addition-polymerizable unsaturated bond in the molecule / the binder polymer of the present invention is from 5/95 to 70/30. , 10/90 to 50/50 are preferably used.

【0052】本発明の感光性組成物には、さらに色素を
含有させることができる。該色素は、露光による可視画
像(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目
的として使用される。
The photosensitive composition of the present invention may further contain a dye. The dye is used for the purpose of obtaining a visible image by exposure (exposed visible image) and a visible image after development.

【0053】該色素としては、フリーラジカルまたは酸
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調へのい
ずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成して色
調を変化するものである。
As the dye, those which change color tone by reacting with free radicals or acids can be preferably used.
Here, the term “color tone changes” includes both a change from colorless to a color tone and a change from color to colorless or a different color tone. Preferred dyes are those which form a salt with an acid to change the color tone.

【0054】有色から無色へあるいは異なる有色の色調
へ変化する色素の例としては、例えば、ビクトリアピュ
アブルーBOH〔保土ヶ谷化学社製〕、オイルブルー♯
603〔オリエント化学工業社製〕、パテントピュアブ
ルー〔住友三国化学社製〕、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ベイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、ローダミンB、オーラミン、4
−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が挙げ
られる。
Examples of dyes that change from colored to colorless or to different colored tones include Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) and Oil Blue #.
603 [manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.], patent pure blue [manufactured by Sumitomo Sangoku Chemical Co., Ltd.], crystal violet,
Brilliant Green, Ethyl Violet, Methyl Violet, Methyl Green, Erythrosin B, Basic Fuchsin, Malachite Green, Oil Red, m
-Cresol purple, rhodamine B, auramine, 4
Examples thereof include triphenylmethane dyes, diphenylmethane dyes, oxazine dyes, xanthene dyes, iminonaphthoquinone dyes, azomethine dyes, and anthraquinone dyes represented by -p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone and cyano-p-diethylaminophenylacetanilide.

【0055】一方、無色から有色に変化する色素の例と
しては、例えば、ロイコ色素及び、例えば、トリフェニ
ルアミン、ジフェニルアミン、o−クロロアニリン、
1,2,3−トリフェニルグアニジン、ナフチルアミ
ン、ジアミノジフェニルメタン、p,p′−ビス−ジメ
チルアミノジフェニルアミン、1,2−ジアニリノエチ
レン、p,p′,p″−トリス−ジメチルアミノトリフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルメチルイミン、p,p′,p″−トリアミノ−o−
メチルトリフェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチル
アミノジフェニル−4−アニリノナフチルメタン、p,
p′,p″−トリアミノトリフェニルメタンに代表され
る第1級または第2級アリールアミン系色素が挙げられ
る。
On the other hand, examples of dyes that change from colorless to colored include, for example, leuco dyes and triphenylamine, diphenylamine, o-chloroaniline,
1,2,3-triphenylguanidine, naphthylamine, diaminodiphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenylamine, 1,2-dianilinoethylene, p, p ', p "-tris-dimethylaminotriphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenylmethylimine, p, p ', p "-triamino-o-
Methyltriphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenyl-4-anilinonaphthylmethane, p,
Examples thereof include primary or secondary arylamine dyes represented by p ′, p ″ -triaminotriphenylmethane.

【0056】これらの色素のうち、トリフェニルメタン
系、ジフェニルメタン系色素が好ましく、さらに好まし
くはトリフェニルメタン系色素であり、特に、ビクトリ
アピュアブルーBOHが好ましい。
Among these dyes, triphenylmethane type dyes and diphenylmethane type dyes are preferable, triphenylmethane type dyes are more preferable, and Victoria Pure Blue BOH is particularly preferable.

【0057】上記色素は、感光性組成物の全固形分中に
通常0.5〜10重量%含有され、好ましくは約1〜5重量
%含有させる。
The above dye is usually contained in the solid content of the photosensitive composition in an amount of 0.5 to 10% by weight, preferably about 1 to 5% by weight.

【0058】本発明の感光性組成物には、更に種々の添
加物を加えることができる。
Various additives can be further added to the photosensitive composition of the present invention.

【0059】例えば、塗布性を改良するためのアルキル
エーテル類(例えば、エチルセルロース、メチルセルロ
ース)、フッ素系界面活性剤類や、ノニオン系界面活性
剤〔例えば、プルロニックL−64(旭電化(株)
製)〕、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑
剤(例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸又はメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー)、画
像部の感脂性を向上させるための感脂化剤(例えば、特
開昭55-527号公報記載のスチレン−無水マレイン酸共重
合体のアルコールによるハーフエステル化物等)、安定
剤〔例えば、リン酸、亜リン酸、有機酸(クエン酸、シ
ュウ酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸、
4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5−ス
ルホン酸、酒石酸等)〕、現像促進剤(例えば高級アル
コール、酸無水化物等)等が挙げられる。これらの添加
剤の添加量はその使用対象目的によって異なるが、一般
に感光層の全固形分に対して、0.01〜30重量%である。
For example, alkyl ethers (eg, ethyl cellulose, methyl cellulose) for improving coating properties, fluorochemical surfactants, and nonionic surfactants (eg, Pluronic L-64 (Asahi Denka Co., Ltd.)
Plasticizer (for example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate,
Tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers and polymers of acrylic acid or methacrylic acid), and a sensitizing agent for improving the lipophilicity of an image area (for example, JP-A-55 / 55) No. 527, a half-esterified product of a styrene-maleic anhydride copolymer with an alcohol), a stabilizer [for example, phosphoric acid, phosphorous acid, organic acids (citric acid, oxalic acid, benzenesulfonic acid, naphthalene sulfone) acid,
4-methoxy-2-hydroxybenzophenone-5-sulfonic acid, tartaric acid, etc.)] and development accelerators (eg, higher alcohols, acid anhydrides, etc.). The amount of these additives varies depending on the purpose of use, but is generally 0.01 to 30% by weight based on the total solid content of the photosensitive layer.

【0060】本発明の感光性平版印刷版は、本発明の感
光性組成物を適当な溶媒(例えば、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、アセ
トン、メチルエチルケトン、メタノール、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、乳酸メチル、4−ヒ
ドロキシ−2−ブタノン、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、水又は
これらの混合物等)中に溶解させて感光性組成物の塗布
液を調製し、これを支持体上に塗布、乾燥し、感光層を
形成することにより得ることができる。
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention is prepared by using the photosensitive composition of the present invention in a suitable solvent (for example, methyl cellosolve,
Ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methyl lactate, 4-hydroxy-2-butanone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, water or a mixture thereof Etc.) to prepare a coating solution of the photosensitive composition, apply the solution on a support, and dry to form a photosensitive layer.

【0061】溶剤としては、乳酸メチル等の乳酸エステ
ルを用いることが好ましい。乳酸メチル等の乳酸エステ
ルは、環境適性が優れ、安全性に問題がない、沸点が適
当であって乾燥し易いこと等の理由によって好ましい。
As the solvent, it is preferable to use lactic acid ester such as methyl lactate. Lactic acid esters such as methyl lactate are preferred because they are excellent in environmental suitability, have no problem in safety, have a suitable boiling point and are easy to dry.

【0062】塗布液における感光性組成物の濃度は1〜
50重量%の範囲とすることが望ましい。
The concentration of the photosensitive composition in the coating liquid is 1 to
It is desirable to set it in the range of 50% by weight.

【0063】塗布には、従来公知の方法、例えば、回転
塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等を
用いることができる。
For coating, conventionally known methods such as spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating and curtain coating can be used.

【0064】この場合、塗布量は、乾燥重量で、おおむ
ね、0.2〜10g/m2程度とすればよい。
In this case, the coating amount may be about 0.2 to 10 g / m 2 in dry weight.

【0065】支持体としては、紙、プラスチック(例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンな
ど)ラミネート紙、アルミニウム(アルミニウム合金も
含む)、亜鉛、銅などのような金属の板、二酢酸セルロ
ース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネートポリビニルアセタールなどのよ
うなプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネ
ートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィル
ム、アルミニウムもしくはクロームメッキが施された鋼
板などがあげられ、これらのうち特に、アルミニウム及
びアルミニウム被覆された複合支持体が好ましい。
As the support, paper, plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, aluminum (including aluminum alloy), metal plate such as zinc, copper, cellulose diacetate, cellulose triacetate, etc. , Plastic films such as cellulose propionate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, and polycarbonate polyvinyl acetal, paper or plastic films laminated or vapor-deposited with the above metals, steel plates plated with aluminum or chrome. Of these, aluminum and aluminum-coated composite supports are particularly preferred.

【0066】また、アルミニウム材の表面は、保水性を
高め、感光層との密着性を向上させる目的で粗面化処理
されていることが望ましい。
Further, it is desirable that the surface of the aluminum material is roughened for the purpose of enhancing water retention and improving adhesion to the photosensitive layer.

【0067】粗面化方法としては、一般に公知のブラシ
研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、化学的エッチ
ング、液体ホーニング、サンドブラスト等の方法および
これらの組合せがあげられ、好ましくはブラシ研磨法、
電解エッチング、化学的エッチングおよび液体ホーニン
グがあげられ、これらのうちで、特に電解エッチングの
使用を含む粗面化方法が好ましい。また、電解エッチン
グの際に用いられる電解浴としては、酸、アルカリまた
はそれらの塩を含む水溶液あるいは有機溶剤を含む水性
溶液が用いられ、これらのうちで特に塩酸、硝酸または
それらの塩を含む電解液が好ましい。さらに、粗面化処
理の施されたアルミニウム板は、必要に応じて酸または
アルカリの水溶液にてデスマット処理される。こうして
得られたアルミニウム板は、陽極酸化処理されることが
望ましく、特に好ましくは、硫酸またはリン酸を含む浴
で処理する方法があげられる。また、さらに必要に応じ
て、ケイ酸アルカリや熱水による処理、その他水溶性高
分子化合物や弗化ジルコニウム酸カリウム水溶液への浸
漬などによる表面処理を行うことができる。
Examples of the surface roughening method include generally known brush polishing method, ball polishing method, electrolytic etching, chemical etching, liquid honing, sand blasting and the like and combinations thereof, preferably brush polishing method,
Examples include electrolytic etching, chemical etching, and liquid honing, of which a surface roughening method including the use of electrolytic etching is particularly preferable. Further, as an electrolytic bath used in the electrolytic etching, an aqueous solution containing an acid, an alkali or a salt thereof or an aqueous solution containing an organic solvent is used, and among these, an electrolytic solution containing hydrochloric acid, nitric acid or a salt thereof is used. Liquids are preferred. Further, the roughened aluminum plate is desmutted with an acid or alkali aqueous solution as required. The aluminum plate thus obtained is desirably subjected to anodic oxidation treatment, and particularly preferably a method of treating the aluminum plate with a bath containing sulfuric acid or phosphoric acid. Further, if necessary, surface treatment such as treatment with an alkali silicate or hot water, or immersion in a water-soluble polymer compound or an aqueous solution of potassium fluorozirconate can be performed.

【0068】本発明のバインダーポリマーは、分子内に
付加重合性不飽和結合を有する化合物との相溶性が優
れ、感光層表面に分子内に付加重合性不飽和結合を有す
る化合物が析出することがないので、本発明の感光性組
成物は、保護層などを設けなくてもブロッキング性に優
れる感光性平版印刷版を得ることができる。また、相溶
性が向上する結果、露光部の架橋構造がより密となり耐
薬品性、特にUVインキ洗い油に対する耐性を改良する
ことができる。
The binder polymer of the present invention has excellent compatibility with a compound having an addition polymerizable unsaturated bond in the molecule, and a compound having an addition polymerizable unsaturated bond in the molecule may be deposited on the surface of the photosensitive layer. Therefore, the photosensitive composition of the present invention can provide a photosensitive lithographic printing plate excellent in blocking property without providing a protective layer or the like. Further, as a result of the improved compatibility, the crosslinked structure of the exposed portion becomes denser and chemical resistance, particularly resistance to UV ink washing oil, can be improved.

【0069】本発明の感光性組成物は、保護層などを設
けなくてもブロッキング性に優れる感光性平版印刷版を
得ることができるが、本発明の感光性組成物が、空気中
の酸素による重合禁止作用を有する場合には、空気中の
酸素による重合禁止作用を防止する為、支持体上に設け
られた感光性組成物の層の上に、例えば、ポリビニルア
ルコール、酸性セルロース類などのような酸素遮断性に
優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい。
The photosensitive composition of the present invention can provide a photosensitive lithographic printing plate excellent in blocking property without providing a protective layer or the like, but the photosensitive composition of the present invention can be produced by oxygen in the air. In the case of having a polymerization inhibiting action, in order to prevent the polymerization inhibiting action due to oxygen in the air, for example, polyvinyl alcohol, acidic celluloses, etc. are formed on the layer of the photosensitive composition provided on the support. A protective layer made of a polymer having an excellent oxygen barrier property may be provided.

【0070】本発明の感光性平版印刷版は、常法により
処理することができる。
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention can be processed by a conventional method.

【0071】すなわち、線画像、網点画像等を有する透
明原画を通して感光し、次いで、水性現像液で現像する
ことにより、原画に対してネガのレリーフ像が得られ
る。露光に好適な活性光の光源としては、カーボンアー
ク灯、水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、ストロボ等が挙げられる。
That is, by exposing through a transparent original image having a line image, a halftone image and the like, and then developing with an aqueous developer, a negative relief image is obtained with respect to the original image. Examples of the active light source suitable for exposure include a carbon arc lamp, a mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, and a strobe.

【0072】本発明の感光性平版印刷版の現像液は特に
限定されないが、特に好ましいのは実質的に有機溶媒を
含まないアルカリ性の水性溶液である。
The developing solution for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is not particularly limited, but particularly preferred is an alkaline aqueous solution containing substantially no organic solvent.

【0073】「実質的に有機溶剤を含まない」とは、衛
生上、安全性上等において問題を起こす程には有機溶剤
を含有しないとの意であり、有機溶剤を全く含まないと
の意ではない。一般的に、現像液組成物中に含まれる有
機溶剤が1重量%以下であればこれらの問題は生じな
い。
The term "substantially free of organic solvent" means that the organic solvent is not contained to the extent that it causes problems in hygiene and safety, and that it does not contain any organic solvent. is not. Generally, when the organic solvent contained in the developer composition is 1% by weight or less, these problems do not occur.

【0074】衛生上、安全性上等からすると、現像液組
成物中に含まれる有機溶剤の含有量は少ない方が好まし
く、有機溶剤含有量は0.5重量%以下、より好ましくは
有機溶剤含有量を全く含有しないことである。
From the viewpoint of hygiene and safety, the content of the organic solvent contained in the developer composition is preferably small, and the content of the organic solvent is 0.5% by weight or less, more preferably the content of the organic solvent. It is not to contain at all.

【0075】現像液に用いる好ましいアルカリ剤として
は、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第
三リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等が挙げられる。これらの中でもケイ
酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム等のケ
イ酸アルカリを含有する現像液は現像階調性が良好なた
め最も好ましい。
Preferred alkaline agents used in the developer include potassium silicate, lithium silicate, sodium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium triphosphate, dibasic sodium phosphate, and dibasic sodium phosphate. Examples thereof include potassium triphosphate, dibasic potassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like. Among these, a developer containing an alkali silicate such as potassium silicate, lithium silicate, or sodium silicate has the best development gradation and is most preferable.

【0076】本発明において、ケイ酸アルカリの組成が
モル比で〔SiO2〕/〔M〕=0.5〜1.5(ここに〔S
iO2〕、〔M〕はそれぞれSiO2のモル濃度と総アル
カリ金属のモル濃度を示す。)であり、かつ、SiO2
を0.8〜8重量%含有する現像液が好ましく用いられ
る。
In the present invention, the composition of alkali silicate is [SiO 2 ] / [M] = 0.5 to 1.5 (where [S
i0 2 ] and [M] represent the molar concentration of SiO 2 and the total alkaline metal concentration, respectively. ) And SiO 2
A developer containing 0.8 to 8% by weight is preferably used.

【0077】更に、ケイ酸アルカリの組成がモル比で
〔SiO2〕/〔M〕=0.5〜0.75であり、かつ、SiO
2が0.8〜4重量%である現像液は、低濃度のため現像廃
液の中和が容易であるという点で好ましく、また、〔S
iO2〕/〔M〕=0.75〜1.3、かつ、SiO2が1〜8
重量%である現像液は、緩衝力が高く、処理能力が高い
という点で好ましい。
Further, the composition of alkali silicate is [SiO 2 ] / [M] = 0.5 to 0.75 in molar ratio, and SiO 2
A developer in which 2 is 0.8 to 4% by weight is preferable in that the waste developer is easily neutralized due to its low concentration.
i0 2 ] / [M] = 0.75 to 1.3, and SiO 2 is 1 to 8
A developer having a weight percent is preferable because it has a high buffering power and a high processing capacity.

【0078】現像液のpH(25℃)は12以上であること
が好ましく、さらに好ましくは、12.5〜14である。ま
た、現像液中には、例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸
カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウムなどの
水溶性亜硫酸塩を添加することができる。亜硫酸塩の現
像液組成物における好ましい含有量は、0.05〜4重量%
で、より好ましくは0.1〜1重量%である。
The pH (25 ° C.) of the developing solution is preferably 12 or more, more preferably 12.5 to 14. Further, water-soluble sulfites such as sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, and magnesium sulfite can be added to the developer. The preferred content of sulfite in the developer composition is 0.05 to 4% by weight.
And more preferably 0.1 to 1% by weight.

【0079】また、現像液中に、特開昭50-51324号公報
に記載されているようなアニオン性界面活性剤、両性界
面活性剤、特開昭59-75255号公報、同60-111246号公報
に記載されているような非イオン性界面活性剤のうち少
なくとも一つを含有させることにより、また、特開昭55
-95946号公報、同56-142528号公報に記載されているよ
うに高分子電解質を含有させることにより、感光層への
濡れ性を高めたり、また、階調性をさらに高めることが
できる。かかる界面活性剤の添加量は特に制限はない
が、0.003〜3重量%が好ましく、特に0.006〜1重量%
の濃度が好ましい。
In the developer, anionic surfactants and amphoteric surfactants as described in JP-A-50-51324, JP-A-59-75255 and JP-A-60-111246 are also included. By incorporating at least one of the nonionic surfactants as described in JP-A No.
By incorporating a polymer electrolyte as described in JP-A-95946 and JP-A-56-142528, the wettability to the photosensitive layer can be enhanced and the gradation can be further enhanced. The amount of the surfactant added is not particularly limited, but is preferably 0.003 to 3% by weight, and particularly 0.006 to 1% by weight.
Is preferred.

【0080】さらに、現像液に、カリウムを全アルカリ
金属の20モル%以上含むケイ酸アルカリを用いると現像
液中の不溶物の発生が少なくなるので好ましく、より好
ましくはカリウムを90モル%以上含むことであり、最も
好ましくはカリウムが100モル%の場合である。
Further, it is preferable to use an alkali silicate containing 20 mol% or more of all alkali metals in the developer because the generation of insoluble matter in the developer is reduced, and more preferably 90 mol% or more of potassium is used. That is the most preferable case is 100 mol% of potassium.

【0081】さらに、本発明に使用される現像液には消
泡剤を含有させることができる。好適な消泡剤には有機
シラン化合物が挙げられる。
Further, the developer used in the present invention may contain an antifoaming agent. Suitable defoamers include organosilane compounds.

【0082】[0082]

【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。 実施例 《砂目の作製》厚さ0.3mmのアルミニウム板を塩酸水溶
液中で電解粗面化し、次いで、塩酸水溶液中でで陽極酸
化処理を行ない、珪酸ソーダー水溶液を用いて親水化処
理を行なってアルミニウム支持体を得た。 《感光性平版印刷版試料1〜10の作製》得られた支持
体に、下記に示す組成を有する感光性組成物塗布液をワ
イヤーバーを用いて塗布、乾燥し、感光性平版印刷版試
料1〜10を得た。このとき、感光性組成物塗布液の塗
布量は、乾燥重量として1.5mg/m2となるようにした。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example << Preparation of sand grain >> An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm is electrolytically surface-roughened in an aqueous hydrochloric acid solution, then anodized in an aqueous hydrochloric acid solution, and hydrophilized using an aqueous sodium silicate solution. An aluminum support was obtained. << Preparation of Photosensitive Planographic Printing Plate Samples 1 to 10 >> A photosensitive composition coating liquid having the composition shown below was applied to the obtained support using a wire bar and dried to obtain a photosensitive lithographic printing plate sample 1 Got 10. At this time, the coating amount of the photosensitive composition coating liquid was set to be 1.5 mg / m 2 as a dry weight.

【0083】 〈感光性組成物塗布液組成〉 試料1〜4 アクリル系高分子化合物(表1に記載) 5.0g グリセロールジメタクリレート 5.0g 2,4−ジエチルチオキサントン 0.5g p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル 0.5g p−ジアゾジフェニルアミンPF6塩とp−ヒドロキシ安息香酸との共縮合物 (モル比60/40、Mw.2,500) 1.0g ジュリマーAC10L(ポリアクリル酸40wt%水溶液、日本純薬(株)製) 0.5g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.1g 乳酸メチル 180g 1−エトキシプロパノール 20g<Photosensitive composition coating liquid composition> Samples 1 to 4 Acrylic polymer compound (described in Table 1) 5.0 g Glycerol dimethacrylate 5.0 g 2,4-Diethylthioxanthone 0.5 g p-Dimethylaminobenzoic acid ethyl ester 0.5g Co-condensation product of p-diazodiphenylamine PF6 salt and p-hydroxybenzoic acid (molar ratio 60/40, Mw.2,500) 1.0g Julimer AC10L (40% by weight polyacrylic acid aqueous solution, manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 0.5g Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.1g Methyl lactate 180g 1-Ethoxypropanol 20g

【0084】 試料5、6 アクリル系高分子化合物(表1に記載) 6.0g グリセロールジメタクリレート 4.0g 2,4−ジエチルチオキサントン 0.5g p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル 0.5g p−ジアゾジフェニルアミンPF6塩とp−ヒドロキシ安息香酸との共縮合物 (モル比60/40、Mw.3,000) 0.5g ジュリマーAC10L(ポリアクリル酸40wt%水溶液、日本純薬(株)製) 0.5g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.1g 乳酸メチル 180g 1−エトキシプロパノール 20gSamples 5 and 6 Acrylic polymer compound (described in Table 1) 6.0 g Glycerol dimethacrylate 4.0 g 2,4-Diethylthioxanthone 0.5 g p-Dimethylaminobenzoic acid ethyl ester 0.5 g p-diazodiphenylamine PF6 salt Co-condensate with p-hydroxybenzoic acid (molar ratio 60/40, Mw.3,000) 0.5 g Julimer AC10L (40 wt% polyacrylic acid aqueous solution, manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 0.5 g Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd.) 0.1 g Methyl lactate 180 g 1-Ethoxypropanol 20 g

【0085】 試料7〜10 アクリル系高分子化合物(表1に記載) 6.0g グリセロールジメタクリレート 4.0g 2,4−ジエチルチオキサントン 0.2g p−ジアゾジフェニルアミンPF6塩とp−ヒドロキシ安息香酸との共縮合物 (モル比60/40、Mw.2,500) 0.5g ジュリマーAC10L(ポリアクリル酸40wt%水溶液、日本純薬(株)製) 0.5g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.1g 乳酸メチル 180g 1−エトキシプロパノール 20gSamples 7 to 10 Acrylic polymer compound (described in Table 1) 6.0 g Glycerol dimethacrylate 4.0 g 2,4-Diethylthioxanthone 0.2 g p-diazodiphenylamine PF6 salt and p-hydroxybenzoic acid co-condensate (Mole ratio 60/40, Mw.2,500) 0.5 g Julimer AC10L (40 wt% polyacrylic acid aqueous solution, manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 0.5 g Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.1 g Methyl lactate 180 g 1-Ethoxypropanol 20g

【0086】[0086]

【表1】 [Table 1]

【0087】上記感光性組成物塗布液において用いたア
クリル系高分子化合物1〜10は下記により合成された
ものである。 (アクリル系高分子化合物1の合成)温度計、還流冷却
管、撹拌装置、窒素気流導入管を備えた500ミリリット
ルの4首フラスコ中に、アセトン85ミリリットル、メタ
ノール85ミリリットルの混合溶媒を入れ、エチルアクリ
レート25.0g(0.25モル)、エチルメタクリレート33.1
g(0.29モル)、アクリロニトリル12.7g(0.24モ
ル)、メタクリル酸3.3g(0.0385モル、全メタクリル
酸の55%)及び4−ヒドロキシフェニルメタクリルアミ
ド14.6g(0.0825モル、全4−ヒドロキシフェニルメタ
クリルアミドの55%)を溶解した。更に、重合開始剤と
してアゾビスイソブチロニトリル3.28g(0.02モル)を
溶解し、窒素気流下で撹拌しながら還流した。
The acrylic polymer compounds 1 to 10 used in the photosensitive composition coating liquid are synthesized as follows. (Synthesis of Acrylic Polymer Compound 1) A 500 ml 4-necked flask equipped with a thermometer, a reflux condenser, a stirrer, and a nitrogen gas inlet tube was charged with a mixed solvent of 85 ml of acetone and 85 ml of methanol, and ethyl acetate. Acrylate 25.0 g (0.25 mol), ethyl methacrylate 33.1
g (0.29 mol), acrylonitrile 12.7 g (0.24 mol), methacrylic acid 3.3 g (0.0385 mol, 55% of total methacrylic acid) and 4-hydroxyphenylmethacrylamide 14.6 g (0.0825 mol, total 4-hydroxyphenylmethacrylamide) 55%) was dissolved. Further, 3.28 g (0.02 mol) of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was dissolved and refluxed with stirring under a nitrogen stream.

【0088】還流開始1.5時間後、メタクリル酸1.8g
(0.021モル、全メタクリル酸の30%)、4−ヒドロキ
シフェニルメタクリルアミド8.0g(0.045モル、全4−
ヒドロキシフェニルメタクリルアミドの30%)をアセト
ン10ミリリットル、メタノール10ミリリットルの混合溶
媒に溶解した溶液を、反応溶液中に10分間で滴下した。
還流開始から3時間後にまた、メタクリル酸0.9g(0.0
105モル、全メタクリル酸の15%)、4−ヒドロキシフ
ェニルメタクリルアミド4.0g(0.0225モル、全4−ヒ
ドロキシフェニルメタクリルアミドの15%)をアセトン
5ミリリットル、メタノール5ミリリットルの混合溶媒
に溶解した溶液を、反応液中に10分間で滴下した。
1.5 hours after the start of reflux, 1.8 g of methacrylic acid
(0.021 mol, 30% of total methacrylic acid), 4-hydroxyphenylmethacrylamide 8.0 g (0.045 mol, total 4-
A solution prepared by dissolving 30% of hydroxyphenylmethacrylamide) in a mixed solvent of 10 ml of acetone and 10 ml of methanol was added dropwise to the reaction solution over 10 minutes.
Methacrylic acid 0.9 g (0.0
105 mol, 15% of total methacrylic acid), 4.0 g of 4-hydroxyphenylmethacrylamide (0.0225 mol, 15% of total 4-hydroxyphenylmethacrylamide) dissolved in a mixed solvent of 5 ml of acetone and 5 ml of methanol. , Was added dropwise to the reaction solution over 10 minutes.

【0089】さらに、3時間還流したのち、反応液を室
温まで冷却し、水中に投じて高分子化合物を沈澱させ
た。これをろ取し、50℃で24時間真空乾燥させ、アクリ
ル系高分子化合物1を得た。
After refluxing for 3 hours, the reaction solution was cooled to room temperature and poured into water to precipitate a polymer compound. This was collected by filtration and vacuum dried at 50 ° C. for 24 hours to obtain an acrylic polymer compound 1.

【0090】得られたアクリル系高分子化合物1の平均
分子量は、ゲルパーミェーションクロマトグラフィー
(GPC)によりプルラン標準、N,N−ジメチルホル
ムアミド(DMF)溶媒で測定したところ、75,000であ
った。
The acrylic polymer compound 1 thus obtained had an average molecular weight of 75,000 as measured by gel permeation chromatography (GPC) with pullulan standard and N, N-dimethylformamide (DMF) solvent. .

【0091】(アクリル系高分子化合物2〜6の合成)
全モノマーの使用量を表2に示す通りに変更した以外は
アクリル系高分子化合物1の合成と同様の合成条件にて
アクリル系高分子化合物2〜6を合成した。ただし、反
応初期において、メタクリル酸及び4−ヒドロキシフェ
ニルメタクリルアミド以外のモノマーはその全量を仕込
んだ。また、メタクリル酸及び4−ヒドロキシフェニル
メタクリルアミドは、全メタクリル酸及び全4−ヒドロ
キシフェニルメタクリルアミドの55モル%を反応初期
に、全メタクリル酸及び全4−ヒドロキシフェニルメタ
クリルアミドの30モル%を還流開始1.5時間後に、全メ
タクリル酸及び全4−ヒドロキシフェニルメタクリルア
ミドの15モル%を還流開始3時間後に仕込んだ。
(Synthesis of acrylic polymer compounds 2 to 6)
Acrylic polymer compounds 2 to 6 were synthesized under the same synthetic conditions as in the synthesis of acrylic polymer compound 1, except that the amounts of all monomers used were changed as shown in Table 2. However, at the initial stage of the reaction, all the monomers other than methacrylic acid and 4-hydroxyphenylmethacrylamide were charged. Further, methacrylic acid and 4-hydroxyphenylmethacrylamide are 55 mol% of total methacrylic acid and 4-hydroxyphenylmethacrylamide at the initial stage of the reaction, and 30 mol% of total methacrylic acid and 4-hydroxyphenylmethacrylamide are refluxed. 1.5 hours after the start, 15 mol% of all methacrylic acid and all 4-hydroxyphenylmethacrylamide were charged 3 hours after the start of reflux.

【0092】アクリル系高分子化合物1と同様の方法
で、得られたアクリル系高分子化合物2〜6の平均分子
量を測定した。得られた結果を表2に示す。
The average molecular weights of the obtained acrylic polymer compounds 2 to 6 were measured in the same manner as in the acrylic polymer compound 1. Table 2 shows the obtained results.

【0093】(アクリル系高分子化合物7の合成)温度
計、還流冷却管、撹拌装置、窒素気流導入管を備えた50
0ミリリットルの4首フラスコ中に、アセトン100ミリリ
ットル、メタノール100ミリリットルの混合溶媒を入
れ、エチルアクリレート9.09(0.09モル)、エチルメタ
クリレート34.2g(0.30モル)、アクロニトリル15.9g
(0.30モル)、メタクリル酸0.86g(0.01モル)、及
び、4−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド51.6g
(0.30モル)を溶解した。更に、重合開始剤としてアゾ
ビスイソブチロニトリル3.28g(0.02モル)を溶解し、
窒素気流下で撹拌しながら加熱し、6時間還流させた。
(Synthesis of Acrylic Polymer 7) 50 equipped with a thermometer, a reflux condenser, a stirrer, and a nitrogen gas inlet tube
A mixed solvent of 100 ml of acetone and 100 ml of methanol was placed in a 0 ml four-necked flask, and ethyl acrylate 9.09 (0.09 mol), ethyl methacrylate 34.2 g (0.30 mol), acronitrile 15.9 g.
(0.30 mol), methacrylic acid 0.86 g (0.01 mol), and 4-hydroxyphenylmethacrylamide 51.6 g
(0.30 mol) was dissolved. Furthermore, 3.28 g (0.02 mol) of azobisisobutyronitrile was dissolved as a polymerization initiator,
The mixture was heated under a nitrogen stream with stirring and refluxed for 6 hours.

【0094】反応終了後、反応液を室温まで冷却し、水
中に投じて高分子化合物を沈澱させた。これをろ取し、
50℃で24時間真空乾燥させ、アクリル系高分子化合物7
を得た。
After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature and poured into water to precipitate the polymer compound. I collected this by filtration,
Acrylic polymer compound 7 after vacuum drying at 50 ℃ for 24 hours
I got

【0095】アクリル系高分子化合物1と同様の方法で
平均分子量を測定したところ、35,000であった。
The average molecular weight was 35,000 as measured by the same method as for the acrylic polymer compound 1.

【0096】(アクリル系高分子化合物8〜10の合
成)全モノマーの使用量を表2に示す通りに変更した以
外はアクリル系高分子化合物7の合成と同様の合成条件
にてアクリル系高分子化合物8〜10を合成した。
(Synthesis of Acrylic Polymer 8-10) Acrylic polymer under the same synthetic conditions as the synthesis of Acrylic Polymer 7 except that the amounts of all monomers used were changed as shown in Table 2. Compounds 8-10 were synthesized.

【0097】アクリル系高分子化合物1と同様の方法
で、得られたアクリル系高分子化合物8〜10の平均分
子量を測定した。得られた結果を表2に示す。
By the same method as for the acrylic polymer compound 1, the average molecular weights of the obtained acrylic polymer compounds 8 to 10 were measured. Table 2 shows the obtained results.

【0098】また、アクリル系高分子化合物1〜10に
おけるメタクリル酸誘導体の占める割合を表2に示し
た。
Table 2 shows the proportion of the methacrylic acid derivative in the acrylic polymer compounds 1 to 10.

【0099】[0099]

【表2】 得られた感光性平版印刷版試料1〜10について、下記
により、UV洗い油耐性、耐ブロッキング性、疲労現像
液現像適性及び疲労現像液沈殿物量を評価した。得られ
た結果を表3に示す。
[Table 2] With respect to the obtained photosensitive lithographic printing plate samples 1 to 10, UV washing oil resistance, blocking resistance, fatigue developing solution development suitability and fatigue developing solution precipitate amount were evaluated as follows. Table 3 shows the obtained results.

【0100】《UV洗い油耐性の評価》感光性平版印刷
版試料を、2kwメタルハライドランプを使用して8mW/
cm2で30秒間露光した後、下記組成の現像液で現像(30
℃、30秒)した。
<< Evaluation of UV Washing Oil Resistance >> A photosensitive lithographic printing plate sample was used at 8 mW / using a 2 kw metal halide lamp.
After exposing at cm 2 for 30 seconds, develop with the following developing solution (30
℃, 30 seconds).

【0101】この現像済み試料をUV洗い油(3−メト
キシ−3−メチル−1−ブタノール)に5分間浸漬し
た。浸漬前の試料及び浸漬後の試料の色濃度をサクラデ
ンシトメーターでREDフィルターを用いて測定した。
また、砂目の色濃度を同様にして測定し、下記により感
光層残存率(%)を求め、UV洗い油耐性を評価した。
The developed sample was immersed in UV wash oil (3-methoxy-3-methyl-1-butanol) for 5 minutes. The color densities of the sample before immersion and the sample after immersion were measured with a Sakura densitometer using a RED filter.
In addition, the color density of the sand was measured in the same manner, and the residual ratio (%) of the photosensitive layer was determined by the following to evaluate the UV washing oil resistance.

【0102】[0102]

【数1】 [Equation 1]

【0103】〈現像液組成〉 Aケイ酸カリ(日本化学製) 1160g 苛性カリ: 133g 純水: 5133g (pH≒12.7)<Developer composition> A potassium silicate (manufactured by Nippon Kagaku) 1160 g caustic potash: 133 g pure water: 5133 g (pH≈12.7)

【0104】《耐ブロッキング性の評価》感光性平版印
刷版試料を、感光層面上に合紙をはさんで重ね、40kg/
m2の荷重をかけて、55℃で3日間保存した後、試料のブ
ロッキングの有無を目視により観察し、下記評価基準
で、耐ブロッキング性を評価した。 〈評価基準〉 ○;ブロッキングがない △;わずかにブロッキングがある ×;ブロッキングしている
<< Evaluation of Blocking Resistance >> A photosensitive lithographic printing plate sample was superposed on the surface of the photosensitive layer with interleaving paper, and 40 kg /
After applying a load of m 2 and storing at 55 ° C. for 3 days, the presence or absence of blocking of the sample was visually observed, and the blocking resistance was evaluated according to the following evaluation criteria. <Evaluation criteria> ○: No blocking △: Slight blocking ×: Blocking

【0105】《疲労現像液現像適性の評価》感光性平版
印刷版にイーストマンコダック社製ステップタブレット
とネガ像フィルム原稿を重ね、2kwメタルハライドラン
プを使用して、8mW/cm2で30秒間露光した。
<< Evaluation of Fatigue Developer Development Suitability >> A photosensitive lithographic printing plate was overlaid with an Eastman Kodak step tablet and a negative image film original, and exposed at 8 mW / cm 2 for 30 seconds using a 2 kw metal halide lamp. .

【0106】上記組成の現像液1リットルで5m2の末露
光の感光性平版印刷版試料を処理した後の現像液(現像
疲労液)を用いて、上記露光した試料を現像し(30℃、
30秒)、得られた平版印刷版試料を用いて、ハイデルベ
ルグGTO印刷機で印刷し、印刷紙面の汚れ具合を目視
により観察し、下記の評価基準で、現像性を評価した。 〈評価基準〉 ○;印刷紙面に汚れがない △;印刷紙面にわずかに汚れがある △×;印刷紙面に汚れがある ×;印刷紙面の汚れが多い
The exposed sample was developed (30 ° C., at 30 ° C.) with a developer (development fatigue solution) obtained by treating a photosensitive lithographic printing plate sample having a final exposure of 5 m 2 with 1 liter of the above composition.
For 30 seconds), the obtained lithographic printing plate sample was used for printing with a Heidelberg GTO printing machine, and the degree of stain on the printing paper surface was visually observed, and the developability was evaluated according to the following evaluation criteria. <Evaluation Criteria> ○: No stain on the printing paper surface △: Slight stain on the printing paper surface △ ×: Staining on the printing paper surface ×: Many stains on the printing paper surface

【0107】《疲労現像液沈殿量の評価》5m2の末露光
の感光性平版印刷版試料を上記組成の現像液1リットル
で処理した後、現像液中に生成した沈澱をろ取、乾燥
し、得られた沈澱物量を測定し、疲労現像液沈殿量を評
価した。
<< Evaluation of Fatigue Developer Precipitation Amount >> A photosensitive lithographic printing plate sample after 5 m 2 of end-exposure was treated with 1 liter of the developer having the above composition, and the precipitate produced in the developer was collected by filtration and dried. Then, the amount of the obtained precipitate was measured to evaluate the amount of precipitation of the fatigue developer.

【0108】[0108]

【表3】 [Table 3]

【0109】[0109]

【発明の効果】本発明の感光性組成物及び感光性平版印
刷版は、耐ブロッキング性、耐薬品性、特に、UVイン
キ洗い油に対する耐性が優れ手織り、また、実質的に有
機溶媒を含有しないアルカリ水溶液での現像ででも優れ
た現像性が得られ、しかも、現像液中に不溶解分を生成
し難く、一定量の現像液で大量に現像処理することがで
きる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The photosensitive composition and the photosensitive lithographic printing plate of the present invention are excellent in blocking resistance, chemical resistance, particularly resistance to UV ink washing oil, and are hand-woven, and substantially free of organic solvent. Excellent developability can be obtained even by the development with an alkaline aqueous solution, moreover, it is difficult to generate insoluble components in the developing solution, and a large amount of developing treatment can be carried out with a fixed amount of the developing solution.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松村 智之 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tomoyuki Matsumura No. 1 Sakuramachi, Hino City, Tokyo Konica Stock Company

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)分子内に付加重合性不飽和結合を
有する化合物、(B)光重合開始剤、(C)共縮合ジア
ゾ樹脂及び(D)アルカリ可溶性または膨潤性のバイン
ダーポリマーからなる感光性組成物において、(D)ア
ルカリ可溶性または膨潤性のバインダーポリマーが、該
バインダーポリマーの主鎖を構成する繰り返し単位の50
モル%以上がメタクリル酸誘導体からの繰り返し単位で
構成されているバインダーポリマーであることを特徴と
する感光性組成物。
1. A compound comprising (A) a compound having an addition-polymerizable unsaturated bond in the molecule, (B) a photopolymerization initiator, (C) a co-condensed diazo resin, and (D) an alkali-soluble or swellable binder polymer. In the photosensitive composition, the (D) alkali-soluble or swellable binder polymer is a repeating unit of 50 units of the main chain of the binder polymer.
A photosensitive composition, characterized in that a mol% or more is a binder polymer composed of repeating units derived from a methacrylic acid derivative.
【請求項2】 メタクリル酸誘導体が、メタクリル酸の
アルキルエステルであることを特徴とする請求項1記載
の感光性組成物。
2. The photosensitive composition according to claim 1, wherein the methacrylic acid derivative is an alkyl ester of methacrylic acid.
【請求項3】 (D)アルカリ可溶性または膨潤性のバ
インダーポリマーが、更に芳香族水酸基を有する付加重
合性モノマーからの繰り返し単位を有するバインダーポ
リマーであることを特徴とする請求項1または2記載の
感光性組成物。
3. The alkali-soluble or swellable binder polymer (D) is a binder polymer having a repeating unit derived from an addition polymerizable monomer having an aromatic hydroxyl group, according to claim 1 or 2. Photosensitive composition.
【請求項4】 芳香族水酸基を有する付加重合性モノマ
ーが下記一般式(1)で表される化合物であることを特
徴とする請求項3記載の感光性組成物。 【化1】 [式中、R1は水素原子、メチル基を、R2は−COO
−、−CONH−を表す。nは0または1を表す。]
4. The photosensitive composition according to claim 3, wherein the addition-polymerizable monomer having an aromatic hydroxyl group is a compound represented by the following general formula (1). Embedded image [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents —COO
-, -CONH-. n represents 0 or 1. ]
【請求項5】 (C)共縮合ジアゾ樹脂が、ジアゾジフ
ェニルアミンと、分子内にカルボニル基及びスルホニル
基から選ばれた少なくとも1つの基を有する芳香族化合
物との共縮合物であることを特徴とする請求項1〜4記
載の感光性組成物。
5. The (C) co-condensed diazo resin is a co-condensed product of diazodiphenylamine and an aromatic compound having at least one group selected from a carbonyl group and a sulfonyl group in the molecule. The photosensitive composition according to claim 1.
【請求項6】 (C)共縮合ジアゾ樹脂が、ジアゾジフ
ェニルアミンとp−ヒドロキシ安息香酸との共縮合物で
あることを特徴とする請求項1〜5記載の感光性組成
物。
6. The photosensitive composition according to claim 1, wherein the co-condensed diazo resin (C) is a co-condensed product of diazodiphenylamine and p-hydroxybenzoic acid.
【請求項7】 親水性を有する支持体上に、請求項1〜
6記載の感光性組成物の層を設けたことを特徴とする感
光性平版印刷版。
7. The method according to claim 1 on a hydrophilic support.
A photosensitive lithographic printing plate comprising a layer of the photosensitive composition according to item 6.
【請求項8】 感光性組成物の層の上に、保護層が設け
られていないことを特徴とする請求項7記載の感光性平
版印刷版。
8. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 7, wherein a protective layer is not provided on the layer of the photosensitive composition.
【請求項9】 請求項8記載の感光性平版印刷版を、実
質的に有機溶剤を含まないpH12以上のアルカリ水溶液
で現像することを特徴とする感光性平版印刷版の製版方
法。
9. A plate-making method for a photosensitive lithographic printing plate, which comprises developing the photosensitive lithographic printing plate according to claim 8 with an alkaline aqueous solution having a pH of 12 or more substantially containing no organic solvent.
JP23205495A 1995-08-18 1995-08-18 Photosensitive composition, photosensitive planographic printing plate and its plate making method Pending JPH0954435A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000039709A (en) * 1998-07-24 2000-02-08 Jsr Corp Radiation sensitive resin composition, material for forming bump and for forming wiring and dry film resist

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JP2000039709A (en) * 1998-07-24 2000-02-08 Jsr Corp Radiation sensitive resin composition, material for forming bump and for forming wiring and dry film resist

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