JPH095233A - Spectroscopic analysis apparatus for gas - Google Patents

Spectroscopic analysis apparatus for gas

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Publication number
JPH095233A
JPH095233A JP14927995A JP14927995A JPH095233A JP H095233 A JPH095233 A JP H095233A JP 14927995 A JP14927995 A JP 14927995A JP 14927995 A JP14927995 A JP 14927995A JP H095233 A JPH095233 A JP H095233A
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JP
Japan
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chamber
gas
measured
light
purging
Prior art date
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Pending
Application number
JP14927995A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takayuki Sato
貴之 佐藤
Hiroshi Masuzaki
宏 増崎
Takanori Go
尚謙 呉
Junichi Morishita
淳一 森下
Yoshio Ishihara
良夫 石原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Oxygen Co Ltd
Nippon Sanso Corp
Original Assignee
Japan Oxygen Co Ltd
Nippon Sanso Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Japan Oxygen Co Ltd, Nippon Sanso Corp filed Critical Japan Oxygen Co Ltd
Priority to JP14927995A priority Critical patent/JPH095233A/en
Publication of JPH095233A publication Critical patent/JPH095233A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To provide a versatile and practical gas spectroscopic analysis apparatus which can analyze many kinds of gases and efficiently reduce a background thereby to achieve highly accurate analyses. CONSTITUTION: In the apparatus, a light from a light source 35 is passed through a gas to be measured, and a wavelength and the amount of light absorbed by a gas component to be measured of the gas are measured by a photodetector 40. A first and a second chambers 32, 33 respectively partitioned airtightly are provided at both sides of a measuring cell 31 via a window 34 formed of a light permeable material. The light source 35 is arranged in the first chamber 32 and the photodetector 40 is arranged in the second chamber 33. Other optical parts are also accommodated in the first or second chamber 32, 33. The apparatus is provided with a means 44 for vacuumizing the first and second chambers 32, 33 and a means 45 for filling the gas into the first and second chambers 32, 33.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、被測定ガス中の測定対
象ガス成分を、該測定対象ガス成分の光吸収特性を利用
して分光分析する装置に係り、特にバックグランドの低
減を効率的に行えるようにした装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for spectroscopically analyzing a gas component to be measured in a gas to be measured by utilizing the light absorption characteristics of the gas component to be measured, and particularly to efficiently reduce the background. The present invention relates to a device that can be performed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ガス中の不純物を測定する方法と
しては、被測定ガスに赤外線領域の光を透過させて吸収
スペクトルを測定し、不純物による赤外線の吸収量を測
定する赤外吸収分光法などが知られている。本出願人
は、光源として室温で発振する半導体レーザーを用い、
ガス中の微量水分を測定する分析装置として図4に示し
た装置を既に提案した(特開平5−99845号公
報)。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for measuring impurities in a gas, an infrared absorption spectroscopy method in which light in the infrared region is transmitted through a gas to be measured to measure an absorption spectrum and the amount of absorption of infrared rays by the impurities is measured. Are known. The applicant uses a semiconductor laser that oscillates at room temperature as a light source,
An apparatus shown in FIG. 4 has already been proposed as an analyzer for measuring a trace amount of water in gas (Japanese Patent Laid-Open No. 5-99845).

【0003】この水分分析装置は、測定部(I)、光学系
部(II)、制御演算部(III)とから概略構成されている。
測定部(I)は試料ガスを導入する測定セル1からなり、
この測定セル1としては、セル内に光路長を長くするた
めの反射面を備えた多重光路セルが好適に用いられる。
光学系部(II)は、光源である半導体レーザー4(L
D)、光検出器P,R,M、およびレンズ7やハーフミ
ラー9,12等の各種光学部品等から概略構成されてい
る。これらからなる光学系部はチャンバー18内に収容
されており、チャンバー18内は窒素によりパージされ
ている。半導体レーザー4としては、室温で1.3〜
1.55μm波長帯のレーザー光を発振するものが用い
られる。制御演算部(III)は半導体レーザ4(LD)の
制御と光検出器P,R,Mからの信号を処理するように
構成されている。
This moisture analyzer is roughly composed of a measuring section (I), an optical system section (II) and a control calculating section (III).
The measuring section (I) comprises a measuring cell 1 for introducing a sample gas,
As the measuring cell 1, a multi-optical path cell having a reflecting surface for increasing the optical path length is preferably used in the cell.
The optical system (II) is a semiconductor laser 4 (L
D), the photodetectors P, R, and M, and various optical components such as the lens 7 and the half mirrors 9 and 12, and the like. The optical system part including these is housed in the chamber 18, and the inside of the chamber 18 is purged with nitrogen. As the semiconductor laser 4, 1.3-
A device that oscillates a laser beam in the 1.55 μm wavelength band is used. The control calculation unit (III) is configured to control the semiconductor laser 4 (LD) and process the signals from the photodetectors P, R and M.

【0004】この装置を用いて測定ガス中の水分を測定
する方法の一例を概略説明する。まず測定セル1に測定
ガスを導入し、半導体レーザー4を発振させる。発振さ
れたレーザー光(図中、破線で示す)はハーフミラー1
2,12で分岐され、測定セル1に導かれた後に測定用
光検知器Mに送り込まれる測定ライン16と、リファレ
ンスセル15に導かれた後にリファレンス用光検知器R
に送り込まれるリファレンスライン14と、パワーモニ
ター用光検知器Pに送り込まれるパワーモニターライン
13とに分配される。そして半導体レーザー4への注入
電流とペルチェ素子5の温度を制御することによってレ
ーザー光の発振波長を掃引し、吸収スペクトルを測定す
る。この後、例えば1.38μm帯にあるH2Oの吸収
ピークを選択して、その吸収強度と予め作成しておいた
検量線とによりガス中の水分を測定することができる。
An example of a method of measuring the water content in the measurement gas using this apparatus will be briefly described. First, a measuring gas is introduced into the measuring cell 1 to oscillate the semiconductor laser 4. The oscillated laser light (indicated by a broken line in the figure) is the half mirror 1.
A measurement line 16 branched at 2, 12 and guided to the measurement cell 1 and then sent to the measurement photodetector M, and a reference photodetector R after being guided to the reference cell 15.
Is distributed to the reference line 14 sent to the power monitor line 13 and the power monitor line 13 sent to the power monitor photodetector P. Then, by controlling the injection current to the semiconductor laser 4 and the temperature of the Peltier element 5, the oscillation wavelength of the laser light is swept and the absorption spectrum is measured. After that, for example, the absorption peak of H 2 O in the 1.38 μm band can be selected, and the water content in the gas can be measured by the absorption intensity and a calibration curve prepared in advance.

【0005】本出願人は更に考究を重ねて、室温で発振
する半導体レーザを光源として用いたガス状物の分光分
析方法は、その発振波長を適宜選択することによって、
分析対象ガス成分として水分以外にも、例えば、二酸化
炭素、一酸化炭素、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、
よう化水素、モノシラン、メタン、及び−OH基を有す
る化合物などへも適用可能であることが解った。そこ
で、多種ガスを分析対象ガスとする汎用の実用的分光分
析装置を開発すべく、さらに研究を重ねた。
The Applicant has conducted further studies, and a spectroscopic analysis method for a gaseous substance using a semiconductor laser oscillating at room temperature as a light source is obtained by appropriately selecting the oscillation wavelength.
In addition to water as the gas component to be analyzed, for example, carbon dioxide, carbon monoxide, hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide,
It was found that the present invention can also be applied to hydrogen iodide, monosilane, methane, compounds having an —OH group, and the like. Therefore, further research was conducted to develop a general-purpose practical spectroscopic analyzer using various gases as analysis target gases.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ガスの分光分析装置に
おいては、高精度の分析を行なうためにバックグランド
の低減が問題となる。そこで、従来は、上述したように
光学系部(II)を1つのチャンバー18内に収容し、この
チャンバー18内に窒素をパージすることで、バックグ
ランドの低減を図っていた。しかしながら、このような
方法では、チャンバー18の内部全体に対して窒素をパ
ージしなければならなかったので、多大な時間および過
剰のパージガスが必要となり効率が悪かった。また、チ
ャンバー18内の光学部品を調整したり修理したりする
際には、チャンバー18全体を大気開放にしなければな
らず、調整あるいは修理後に新たにチャンバー18内を
パージするのに多大な時間を要するという不都合もあっ
た。
In a gas spectroscopic analyzer, reduction of background is a problem in order to perform highly accurate analysis. Therefore, conventionally, as described above, the optical system part (II) is housed in one chamber 18 and nitrogen is purged in the chamber 18, thereby reducing the background. However, in such a method, since it was necessary to purge the entire interior of the chamber 18 with nitrogen, a large amount of time and an excessive amount of purge gas were required, which was inefficient. Further, when adjusting or repairing the optical components in the chamber 18, the entire chamber 18 must be opened to the atmosphere, and it takes a lot of time to newly purge the chamber 18 after the adjustment or the repair. There was also the inconvenience of requiring it.

【0007】さらに、従来の装置において、測定セル1
として用いられている多重光路セルは、セル内に光路長
を長くするための反射面を備えている内部反射であるの
で、測定対象ガス成分が、例えばフッ化水素などのハロ
ゲン化物ガスといった腐食性が強いガスである場合に
は、反射面が腐食されて反射率が低下してしまうという
不都合があった。
Furthermore, in the conventional device, the measuring cell 1
Since the multi-path cell used as is an internal reflection that has a reflective surface for increasing the optical path length in the cell, the gas component to be measured is corrosive such as a halide gas such as hydrogen fluoride. In the case of a strong gas, there is a disadvantage that the reflection surface is corroded and the reflectance is lowered.

【0008】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、多種ガスを分析できる汎用性、実用性に富む分光分
析装置であって、バックグランドを効率的に低減させて
高精度な分析を行なえるようにしたガスの分光分析装置
の提供を目的としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a versatile and practical spectroscopic analyzer capable of analyzing various gases, which can efficiently reduce the background and perform highly accurate analysis. An object of the present invention is to provide a spectroscopic analyzer for gas.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のガスの分光分析
装置は、光源からの光を被測定ガスに透過させ、該被測
定ガス中の測定対象ガス成分によって吸収された光の吸
収量を光検出器で測定するガスの分光分析装置であっ
て、被測定ガスが導入される測定用セルの両端部に、少
なくとも一部が光透過性材料からなる仕切り壁を介し
て、それぞれ気密に区画された第一室および第二室が連
設され、前記光源が前記第一室または第二室のいずれか
一方に収容され、かつ前記光検出器が前記第一室または
第二室のいずれか一方に収容されてなるとともに、前記
第一室および第二室の少なくとも一方を真空排気する真
空排気手段と、前記第一室および第二室の少なくとも一
方へガスをパージするガスパージ手段との一方または両
方を備えてなることを特徴とするものである。前記第一
室および第二室の少なくとも一方に、測定用セルを透過
した光を再び該測定用セルに入射させる光反射部材を好
ましく設けることができる。前記ガスパージ手段は、第
一室および第二室の両方へガスをパージするものであ
り、かつ第一室および第二室におけるガスパージ速度を
別個に制御する手段を備えてなることが好ましい。前記
真空排気手段は、第一室および第二室の両方を真空排気
するものであり、かつ第一室および第二室における排気
速度を別個に制御する手段を備えてなることが好まし
い。
A gas spectroscopic analyzer according to the present invention transmits light from a light source to a gas to be measured, and measures the absorption amount of light absorbed by a gas component to be measured in the gas to be measured. A spectroscopic analyzer for gas to be measured by a photodetector, in which both ends of a measuring cell into which a gas to be measured is introduced are airtightly divided through partition walls at least a part of which is made of a light transmissive material. The first chamber and the second chamber are connected in series, the light source is housed in either the first chamber or the second chamber, and the photodetector is in the first chamber or the second chamber. One of a vacuum evacuation unit that is housed in one side and that evacuates at least one of the first chamber and the second chamber, and a gas purge unit that purges gas into at least one of the first chamber and the second chamber, or To have both It is an butterfly. At least one of the first chamber and the second chamber can be preferably provided with a light reflecting member that re-enters the light transmitted through the measurement cell into the measurement cell. The gas purging means is for purging gas into both the first chamber and the second chamber, and preferably comprises means for separately controlling the gas purging rate in the first chamber and the second chamber. It is preferable that the evacuation means evacuates both the first chamber and the second chamber, and that the evacuation means is provided with means for separately controlling the evacuation speeds in the first chamber and the second chamber.

【0010】[0010]

【作用】本発明のガスの分光分析装置によれば、測定用
セルの両端部に気密な第一室および第二室が連設されて
いるので、光源をはじめ、被測定ガスの光吸収特性を測
定するに必要な光学部品を、この第一室および第二室内
に適宜収容して配することができる。そして光学部品が
収容された第一室および/または第二室を真空排気およ
び/または適宜のガスパージを行なうことによって、各
室の内壁や、各室内に収容されている光学部品等から脱
離する水分やその他のガス成分を室外へ放出することが
できるので、バックグランドを低減させることができ、
高精度な分析を行うことができる。しかも測定用セルの
両端部に設けた室内に各光学部品を収容する構成となっ
ているので、光源からセルを通って光検出器に至る光路
のうちセル外(すなわち室内)を通る部分を短くするこ
とができ、より低いバックグラウンドを達成することが
できる。
According to the gas spectroscopic analyzer of the present invention, since the airtight first chamber and the second chamber are connected to both ends of the measuring cell, the light absorption characteristics of the gas to be measured including the light source are measured. The optical components necessary for measuring the above can be appropriately accommodated and arranged in the first chamber and the second chamber. Then, the first chamber and / or the second chamber in which the optical components are housed are evacuated and / or appropriately purged to separate them from the inner wall of each chamber and the optical components housed in each chamber. Since water and other gas components can be released to the outside of the room, the background can be reduced,
Highly accurate analysis can be performed. Moreover, since the optical components are housed in the chambers provided at both ends of the measurement cell, the portion of the optical path from the light source through the cell to the photodetector that passes outside the cell (that is, indoors) is shortened. And a lower background can be achieved.

【0011】また従来のように、測定用セルおよび光学
系部全体を一括して収容していたチャンバーに比べて、
第一室および第二室は容積が小さいので、装置全体がコ
ンパクトとなる。また真空排気やガスパージを行なう際
には、排気量またはパージガス量が少なくて済むので、
効率よくバックグラウンドを低減させることができる。
さらに、光学部品を調整したり修理したりする際には、
調整または修理の対象箇所が収容されている室のみを大
気開放にすればよく、従来のように光学系全体を1つの
チャンバーに収容する構成に比べて、調整または修理後
の真空排気やガスパージが短時間で済み、経済的にも有
利である。
Further, as compared with the conventional chamber in which the measuring cell and the entire optical system section are collectively housed,
Since the volumes of the first chamber and the second chamber are small, the entire device becomes compact. Also, when performing vacuum exhaust or gas purging, the amount of exhaust gas or purge gas can be small,
The background can be efficiently reduced.
In addition, when adjusting or repairing optical components,
Only the chamber containing the target part for adjustment or repair needs to be opened to the atmosphere. Compared to the conventional configuration in which the entire optical system is housed in one chamber, vacuum exhaust or gas purging after adjustment or repair is not required. It requires only a short time and is economically advantageous.

【0012】前記第一室および第二室の少なくとも一方
に、測定用セルを透過した光を再び該測定用セルに入射
させる光反射部材を設けることにより光路長を長くする
ことができる。このような構成とすれば、測定用セルに
腐食性が強いガスを導入しても光反射部材が腐食される
恐れがなく、ハロゲン化物ガスを含めて多種のガスを測
定に供することができる。
At least one of the first chamber and the second chamber is provided with a light reflecting member for making the light transmitted through the measuring cell incident on the measuring cell again, whereby the optical path length can be lengthened. With such a configuration, even if a gas having strong corrosiveness is introduced into the measurement cell, the light reflecting member is not likely to be corroded, and various gases including a halide gas can be used for measurement.

【0013】前記ガスパージ手段を第一室および第二室
の両方へガスをパージするものとし、かつ第一室および
第二室におけるガスパージ速度を別個に制御する手段を
備えたものとすれば、2つの室に対して1つのガスパー
ジ手段を用いた簡単な構成とすることができる。また両
方の室に同時にガスパージを行えば、パージ時間を大幅
に短縮することができ、効率がよい。さらに各室の大き
さ、表面積および容積等に応じて、あるいは所望のバッ
クグラウンドを得るのに必要なガス濃度に応じて、ガス
パージ量を効率よく調節することが可能であり、パージ
ガス量を節約することもできる。
If the gas purging means is one for purging gas into both the first chamber and the second chamber, and is provided with means for separately controlling the gas purging rates in the first chamber and the second chamber, 2 A simple structure using one gas purging means for one chamber can be adopted. If both chambers are simultaneously purged with gas, the purging time can be greatly shortened and efficiency is improved. Furthermore, it is possible to efficiently adjust the gas purge amount according to the size, surface area, volume, etc. of each chamber, or according to the gas concentration required to obtain the desired background, and to save the purge gas amount. You can also

【0014】前記真空排気手段を第一室および第二室の
両方を真空排気するものとし、かつ第一室および第二室
における排気速度を別個に制御する手段を備えたものと
すれば、2つの室に対して1つの真空排気手段を用いた
簡単な構成とすることができる。また両方の室を同時に
真空排気すれば、排気時間を大幅に短縮することがで
き、効率がよい。さらに各室の大きさ、表面積および容
積等に応じて、あるいは所望のバックグラウンドを得る
のに必要な真空度に応じて、排気量を効率よく調節する
ことが可能である。
If the evacuation means is to evacuate both the first chamber and the second chamber, and is provided with a means for separately controlling the evacuation speed in the first chamber and the second chamber, 2 A simple structure using one evacuation means for one chamber can be adopted. Further, if both chambers are evacuated at the same time, the evacuation time can be greatly shortened, which is efficient. Further, it is possible to efficiently adjust the exhaust amount according to the size, surface area, volume, etc. of each chamber, or according to the degree of vacuum required to obtain a desired background.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明を図1および2に示す第1の実
施例に基づいてさらに詳細に説明する。図1は本発明の
ガスの分光分析装置の一実施例を示すものである。この
装置は、光学系部Aと制御演算部Bとから概略構成され
ている。図1中、実線は電気信号、破線はレーザー光を
示す。図2は、測定用セル31の一端部とそこに連設さ
れた第二室を拡大して示した説明図である。光学系部A
は、測定ガスを導入する測定用セル31、測定用セル3
1の両端部に連設された第一室32、および第二室3
3、第一室32および第二室33を真空排気する排気ラ
イン44、および第一室32および第二室33にガスを
パージするガスパージライン45とから概略構成されて
いる。尚、本発明において「ガスをパージする」とは、
室内にガスを通気させてそのガス成分で室内を充満させ
ることをいう。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in more detail below with reference to the first embodiment shown in FIGS. FIG. 1 shows an embodiment of a gas spectral analyzer of the present invention. This apparatus is roughly composed of an optical system section A and a control calculation section B. In FIG. 1, a solid line shows an electric signal and a broken line shows a laser beam. FIG. 2 is an enlarged view showing one end of the measuring cell 31 and the second chamber connected to the one end. Optical system part A
Is a measurement cell 31 for introducing a measurement gas, a measurement cell 3
First chamber 32 and second chamber 3 that are connected to both ends of
3, an exhaust line 44 for evacuating the first chamber 32 and the second chamber 33, and a gas purge line 45 for purging gas into the first chamber 32 and the second chamber 33. In the present invention, "purging gas" means
Aeration of gas in a room to fill the room with the gas components.

【0016】測定用セル31は好ましくは筒状で、その
両端部は第一室32および第二室33内に挿入されてお
り、両端面は気密に封止されている。測定用セル31は
電解研磨を施したステンレス鋼等、表面における水分の
吸着が少ない材料で好ましく形成され、例えばSUS3
16が好適に用いられる。また、測定用セル31と第一
室32および第二室33の仕切り壁となる測定用セル3
1の両端面には、レーザー光を入射及び出射するための
窓34が設けられている。この窓34は光透過性材料か
らなり、一般の可視域用光学ガラスが好適に使用され
る。例えば、石英もしくはサファイヤを好適に用いるこ
とができる。さらに、測定用セル31には被測定ガスを
導入し排出させるための導入口および排出口(図示せ
ず)が適宜設けられている。
The measuring cell 31 is preferably cylindrical, and both ends thereof are inserted into the first chamber 32 and the second chamber 33, and both end faces are hermetically sealed. The measurement cell 31 is preferably made of a material such as electrolytically-polished stainless steel that has a small amount of water adsorption on its surface. For example, SUS3
16 is preferably used. In addition, the measurement cell 31 and the measurement cell 3 serving as a partition wall of the first chamber 32 and the second chamber 33
On both end faces of the window 1, windows 34 are provided for entering and emitting laser light. The window 34 is made of a light transmissive material, and general visible range optical glass is preferably used. For example, quartz or sapphire can be preferably used. Further, the measurement cell 31 is appropriately provided with an inlet and an outlet (not shown) for introducing and discharging the gas to be measured.

【0017】第一室32および第二室33は、例えば鉄
製で形成され表面処理されたものや、アルミ製のものに
硫酸アルマイト処理したものが好適に用いられる。第一
室32および第二室33の形状は特に限定されず、必要
な光学部品を収納可能であればよく、容積が小さいこと
が好ましい。また図2に示すように、第一室32および
第二室33のそれぞれと測定用セル31の接続部におい
ては、一面側にシールパッキン52等の封止部材を備え
たフランジ43がねじ53によって、第一室32および
第二室33の端面に強固に取り付けられている。これに
より、この接続部から第一室32および第二室33内の
ガスが漏洩したり外部の空気が室内に侵入することがな
いように構成され、第一室32、第二室33にガスをパ
ージした状態や真空排気された状態が維持されるように
なっている。
As the first chamber 32 and the second chamber 33, for example, those made of iron and surface-treated, or those made of aluminum and treated with alumite sulfate are preferably used. The shapes of the first chamber 32 and the second chamber 33 are not particularly limited, as long as necessary optical components can be stored therein, and the volumes are preferably small. Further, as shown in FIG. 2, at the connecting portion between each of the first chamber 32 and the second chamber 33 and the measuring cell 31, a flange 43 provided with a sealing member such as a seal packing 52 on one surface side is attached by a screw 53. , Are firmly attached to the end faces of the first chamber 32 and the second chamber 33. Thereby, the gas in the first chamber 32 and the second chamber 33 is prevented from leaking from this connecting portion, and the outside air is prevented from entering the room, and the gas is discharged into the first chamber 32 and the second chamber 33. The state of being purged and being evacuated is maintained.

【0018】第一室32および第二室33にはそれぞれ
ガスの排気口46が設けられており、ここに接続された
管体が弁49を介して真空排気装置48に接続され、排
気ライン44を構成している。また第一室32および第
二室33にはそれぞれガスの供給口47が設けられてお
り、ここに接続された管体が弁51を介してガス供給部
50に接続され、ガスパージライン45を構成してい
る。そして、排気口46およびガスの供給口47と、排
気ライン44およびガスパージライン45を構成する管
体との接続部は、図2に示すようにコーキング41等の
封止部材を用いて気密に構成されている。排気ライン4
4は、第一室32および第二室33をそれぞれ真空排気
するもので、第一室32における排気速度と第二室33
における排気速度をそれぞれ別個に制御できるようにな
っている。またガスパージライン45は、第一室32お
よび第二室33へそれぞれガスをパージするもので、第
一室32におけるガスパージ速度と第二室33における
ガスパージ速度をそれぞれ別個に制御できるようになっ
ている。
A gas exhaust port 46 is provided in each of the first chamber 32 and the second chamber 33, and a pipe connected to the gas exhaust port 46 is connected to a vacuum exhaust device 48 via a valve 49, and an exhaust line 44 is provided. Are configured. A gas supply port 47 is provided in each of the first chamber 32 and the second chamber 33, and a pipe body connected to the gas supply port 47 is connected to a gas supply unit 50 via a valve 51 to form a gas purge line 45. are doing. The connecting portion between the exhaust port 46 and the gas supply port 47 and the pipes forming the exhaust line 44 and the gas purge line 45 is hermetically configured by using a sealing member such as caulking 41 as shown in FIG. Has been done. Exhaust line 4
Reference numeral 4 is for evacuating the first chamber 32 and the second chamber 33, respectively.
It is possible to control the exhaust speed in each of them separately. The gas purge line 45 purges gas into the first chamber 32 and the second chamber 33, respectively, and the gas purge rate in the first chamber 32 and the gas purge rate in the second chamber 33 can be controlled separately. .

【0019】ここで、本発明の装置においては、第一室
32および第二室33それぞれについて、真空排気手段
とガスパージ手段の少なくとも一方を備えていればよい
ものである。すなわち、第一室32および第二室33が
いずれも真空排気および/またはガスパージされるよう
に構成されていればよく、真空排気手段およびガスパー
ジ手段の構成は本実施例のものに限らず、各種の構成と
することができる。本実施例においては第一室32およ
び第二室33がいずれも真空排気手段とガスパージ手段
の両方を備えた構成となっているので、まず排気ライン
44により第一室32内および第二室33内をそれぞれ
真空排気した後、例えば窒素ガスなどのパージガスをガ
スパージライン45によりそれぞれの室32,33へパ
ージすることによって、バックグランドの低減を図るこ
とができる。このように、真空排気後にガスをパージす
る場合はパージガスの流量が小さくて済むので、パージ
ガスを節約したい場合に有効である。また排気速度およ
びガスパージ速度は、第一室32および第二室33に対
してそれぞれ別個に制御できるようになっているので、
各室の大きさ、表面積、容積に応じて、あるいは所望の
バックグラウンドを得るのに必要な真空度あるいはガス
濃度に応じて、排気量およびガスパージ量を効率よく調
節することが可能である。また各室に応じてパージガス
量を必要最低量に抑えて節約することもできる。
Here, in the apparatus of the present invention, each of the first chamber 32 and the second chamber 33 may be provided with at least one of vacuum evacuation means and gas purging means. That is, it is sufficient that both the first chamber 32 and the second chamber 33 are configured to be evacuated and / or purged with gas, and the configurations of the vacuum evacuation means and the gas purging means are not limited to those of this embodiment, and various types are applicable. Can be configured. In the present embodiment, both the first chamber 32 and the second chamber 33 are provided with both vacuum evacuation means and gas purging means. The background can be reduced by evacuating the interior of each chamber and then purging a purge gas such as nitrogen gas into the chambers 32 and 33 through the gas purge line 45. As described above, when purging gas after evacuation, the flow rate of the purge gas can be small, which is effective when it is desired to save the purge gas. Further, since the exhaust speed and the gas purge speed can be controlled separately for the first chamber 32 and the second chamber 33,
The exhaust amount and the gas purge amount can be efficiently adjusted according to the size, surface area, and volume of each chamber, or according to the degree of vacuum or the gas concentration required to obtain a desired background. In addition, the amount of purge gas can be suppressed to the required minimum amount according to each chamber to save the amount.

【0020】本実施例では、第一室32にはペルチェ素
子36を備えた半導体レーザー35、レンズ37、およ
びミラー38が配され、第二室33にはミラー39、お
よび光検出器40が収容されている。すなわち、第一室
32内に設けられた半導体レーザー35から発振された
レーザー光は、レンズ37を介して測定用セル31内に
入射され、測定用セル31を透過した後、第二室33内
に設けられたミラー39によって反射され再び測定用セ
ル31に入射される。そして測定用セル31を透過した
後、第一室32内に設けられたミラー38によって反射
され、さらに測定用セル31を透過する。このようにし
てレーザー光が測定用セル31を1往復半した後、第二
室33内に設けられた光検出器40に導かれるようにな
っている。
In this embodiment, a semiconductor laser 35 having a Peltier element 36, a lens 37, and a mirror 38 are arranged in the first chamber 32, and a mirror 39 and a photodetector 40 are accommodated in the second chamber 33. Has been done. That is, the laser light oscillated from the semiconductor laser 35 provided in the first chamber 32 enters the measuring cell 31 through the lens 37, passes through the measuring cell 31, and then enters the second chamber 33. The light is reflected by the mirror 39 provided at and is incident on the measuring cell 31 again. Then, after passing through the measuring cell 31, it is reflected by the mirror 38 provided in the first chamber 32, and further passes through the measuring cell 31. In this way, the laser light makes one round trip in the measuring cell 31 and then is guided to the photodetector 40 provided in the second chamber 33.

【0021】尚、本実施例では光源として半導体レーザ
ー35を用いたが、これに限定されるものではない。ま
た、本実施例では光源を第一室32内に配したが、光源
は第一室32および第二室33のどちらに配してもよ
い。また光路長は、レーザー光をミラーで反射させて往
復させる回数とセル長によって調節することができ、し
たがってミラーの数およびセル長は、所望の光路長によ
って適宜設定される。尚、ミラーを設けない構成とする
ことも可能であるが、そのために光路長が短くなると測
定感度が悪くなり、また光路長を長くするためにセル長
を長くすることは装置が巨大になってしまうので、ミラ
ーを設けて良好な感度が得られる光路長を確保するのが
好ましい。さらに、光学系部Aに用いられる光学部品
は、本実施例のものに限らず各種の構成とすることがで
きる。
In this embodiment, the semiconductor laser 35 is used as the light source, but the light source is not limited to this. Although the light source is arranged in the first chamber 32 in this embodiment, the light source may be arranged in either the first chamber 32 or the second chamber 33. Further, the optical path length can be adjusted by the number of times the laser light is reflected by the mirror and reciprocated and the cell length. Therefore, the number of the mirrors and the cell length are appropriately set according to the desired optical path length. It is also possible to adopt a configuration in which a mirror is not provided, but for that reason, the measurement sensitivity deteriorates if the optical path length becomes short, and if the cell length is made long in order to increase the optical path length, the device becomes huge. Therefore, it is preferable to provide a mirror to secure an optical path length with which good sensitivity is obtained. Further, the optical components used in the optical system section A are not limited to those of the present embodiment, and various configurations can be adopted.

【0022】制御演算部Bは、光検出器40からの電気
信号をロックイン増幅器19で増幅し、これらの増幅信
号および波長計からの信号をコンピューターシステム2
0で演算処理し、LD電流調整器21に波長設定信号を
送ることによってこれを制御するとともに、ペルチエ温
度調整器22を制御するように構成されている。また、
コンピューターシステム20にはディスプレー23、お
よびキーボード24が接続されている。
The control operation unit B amplifies the electric signal from the photodetector 40 with the lock-in amplifier 19, and the amplified signal and the signal from the wavelength meter are supplied to the computer system 2.
The Peltier temperature adjuster 22 is controlled by performing a calculation process at 0 and controlling this by sending a wavelength setting signal to the LD current adjuster 21. Also,
A display 23 and a keyboard 24 are connected to the computer system 20.

【0023】このガスの分析装置を用いて被測定ガス中
の測定対象ガス成分を分光分析する際には、予め、第一
室32および第二室33を真空排気し、続いて窒素ガス
をパージしておく。まず、被測定ガスを測定用セル31
に導入するとともに、半導体レーザー35からレーザー
光を発振させる。そして被測定ガスを透過した光の吸収
強度を光検出器40で測定する。さらに被測定ガスに透
過させる光の波長を適宜の範囲で掃引して吸収スペクト
ルを得ることにより、被測定ガス中の測定対象ガス成分
の同定および定量を行なうことができる。尚、本実施例
では第一室32および第二室33にパージするガスとし
て窒素ガスを用いたが、これに限らず、被測定ガスと同
じ吸収波長をもたないものであればよい。好適には窒素
ガス(N2)、アルゴンガス(Ar)等が用いられる。
When the gas component to be measured in the gas to be measured is spectroscopically analyzed using this gas analyzer, the first chamber 32 and the second chamber 33 are evacuated in advance, and then the nitrogen gas is purged. I'll do it. First, the gas to be measured is supplied to the measurement cell 31.
Laser light is emitted from the semiconductor laser 35. Then, the photodetector 40 measures the absorption intensity of light transmitted through the gas to be measured. Further, by sweeping the wavelength of the light transmitted through the gas to be measured in an appropriate range to obtain an absorption spectrum, the gas component to be measured in the gas to be measured can be identified and quantified. Although nitrogen gas is used as the gas for purging the first chamber 32 and the second chamber 33 in the present embodiment, the present invention is not limited to this and may be any gas that does not have the same absorption wavelength as the gas to be measured. Nitrogen gas (N 2 ) and argon gas (Ar) are preferably used.

【0024】図3は本発明のガスの分析装置の第2の実
施例を示したもので、光学系部Aの概略構成図である。
本実施例が上記第1の実施例と異なる点は、第一室32
に、半導体レーザー35、検出器40、レンズ37、ミ
ラー38を収容し、第二室33に2つのミラー39を配
した点、および排気ライン44を備えておらず、ガスパ
ージライン45のみを備えている点である。
FIG. 3 shows a second embodiment of the gas analyzer of the present invention, and is a schematic diagram of the optical system section A.
This embodiment is different from the first embodiment in that the first chamber 32
In addition, the semiconductor laser 35, the detector 40, the lens 37, and the mirror 38 are housed, the two mirrors 39 are arranged in the second chamber 33, and the exhaust line 44 is not provided, but only the gas purge line 45 is provided. That is the point.

【0025】本実施例において、第一室32内に設けら
れた半導体レーザー35から発振されたレーザー光は、
レンズ37を介して測定用セル31内に入射され、測定
用セル31を透過した後、第二室33内に設けられた2
つのミラー39,39および第一室32内に設けられた
ミラー38で反射されることによって、測定用セル31
を2往復した後、第一室32内に設けられた光検出器4
0に導かれるようになっている。本実施例の装置に構成
によっても、有効にバックグランドの低減を行うことが
でき、上記第1の実施例と同様に高精度の測定を行なう
ことができる。また本実施例によれば、レーザー光をミ
ラーで反射させて2往復させるのでセル長に対して光路
長を長くすることができる。よって測定用セル31の長
さを短く設定して装置全体のコンパクト化を図ることが
できる。
In this embodiment, the laser light emitted from the semiconductor laser 35 provided in the first chamber 32 is
The light is incident on the measuring cell 31 through the lens 37, passes through the measuring cell 31, and then is provided in the second chamber 33.
The measuring cell 31 is reflected by the three mirrors 39, 39 and the mirror 38 provided in the first chamber 32.
After reciprocating two times, the photodetector 4 provided in the first chamber 32
It is designed to be guided to zero. Even with the configuration of the apparatus of this embodiment, the background can be effectively reduced, and high-accuracy measurement can be performed as in the case of the first embodiment. Further, according to the present embodiment, since the laser light is reflected by the mirror and reciprocated twice, the optical path length can be made longer than the cell length. Therefore, the length of the measuring cell 31 can be set short to make the entire apparatus compact.

【0026】(実施例1)図1に示す構成のガスの分光
分析装置を製造した。光源(ペルチエ素子36を備えた
半導体レーザー35)としてInGaAsP系波長可変
型半導体レーザーを用い、これを大きさが200×20
0×200(mm)の第一室32内に配した。一方、光
検出器40としてGeフォトダイオードを用い、これを
大きさが200×200×200(mm)の第二室33
内に配した。また第一室32内にはレンズ37およびミ
ラー39を、第二室33内にはミラー39を適宜配し
た。本実施例における第一室32および第二室33の容
積の合計は、図4に示した従来の水分分析装置で用いら
れているチャンバー18の容積の1/17であった。本
実施例の装置を用いて水分を不純物として含有する塩化
水素を被測定ガスとし、光源光の発振波長を1.35〜
1.42μmの範囲で掃引して光吸収強度を測定したと
ころ、精度よく吸収スペクトルを得ることができた。ま
た、塩化水素による測定用セル等の腐食もなかった。
Example 1 A gas spectroscopic analyzer having the structure shown in FIG. 1 was manufactured. An InGaAsP-based wavelength tunable semiconductor laser is used as a light source (semiconductor laser 35 provided with a Peltier element 36) and has a size of 200 × 20.
It was placed in the first chamber 32 of 0 × 200 (mm). On the other hand, a Ge photodiode is used as the photodetector 40, and the Ge photodiode is used as the second chamber 33 having a size of 200 × 200 × 200 (mm).
I placed it inside. A lens 37 and a mirror 39 are arranged in the first chamber 32, and a mirror 39 is arranged in the second chamber 33. The total volume of the first chamber 32 and the second chamber 33 in this example was 1/17 of the volume of the chamber 18 used in the conventional moisture analyzer shown in FIG. Using the apparatus of the present embodiment, hydrogen chloride containing water as an impurity is used as the gas to be measured, and the oscillation wavelength of the light source light is 1.35.
When the light absorption intensity was measured by sweeping in the range of 1.42 μm, the absorption spectrum could be obtained with high accuracy. Further, there was no corrosion of the measuring cell or the like due to hydrogen chloride.

【0027】尚、上記実施例1においては水分を不純物
として含有する塩化水素についての測定を行なったが、
本発明はこの例に限られるものではなく、被測定ガスと
これに含まれる不純物との吸収スペクトルが一致しない
ものであれば、各種の被測定ガス中の各種不純物の測定
に適用可能である。例えば、フッ化水素中の水分やハロ
ゲン化物中の水分、その他の各種ガス成分中の水分をは
じめ、塩化水素ガス中のフッ化水素、ハロゲン化物中の
その他のガス成分等を測定することができるものであ
る。
In Example 1, the measurement was carried out for hydrogen chloride containing water as an impurity.
The present invention is not limited to this example, and can be applied to the measurement of various impurities in various measured gases as long as the measured gas and the impurities contained therein do not have the same absorption spectra. For example, it is possible to measure water in hydrogen fluoride, water in halide, water in various other gas components, hydrogen fluoride in hydrogen chloride gas, and other gas components in halide. It is a thing.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように本発明のガスの分光
分析装置は、光源からの光を被測定ガスに透過させ、該
被測定ガス中の測定対象ガス成分によって吸収された光
の吸収量を光検出器で測定するガスの分光分析装置であ
って、被測定ガスが導入される測定用セルの両端部に、
少なくとも一部が光透過性材料からなる仕切り壁を介し
て、それぞれ気密に区画された第一室および第二室が連
設され、前記光源が前記第一室または第二室のいずれか
一方に収容され、かつ前記光検出器が前記第一室または
第二室のいずれか一方に収容されてなるとともに、前記
第一室および第二室の少なくとも一方を真空排気する真
空排気手段と、前記第一室および第二室の少なくとも一
方へガスをパージするガスパージ手段との一方または両
方を備えてなることを特徴とするものである。
As described above, the gas spectroscopic analyzer of the present invention allows the light from the light source to pass through the gas to be measured, and the absorption amount of the light absorbed by the gas component to be measured in the gas to be measured. Is a gas spectroscopic analyzer for measuring with a photodetector, at both ends of a measuring cell into which a gas to be measured is introduced,
At least a part of the partition wall made of a light-transmissive material, the first chamber and the second chamber, which are airtightly divided, are continuously provided, and the light source is provided in either the first chamber or the second chamber. A vacuum evacuation means for accommodating and accommodating the photodetector in either the first chamber or the second chamber, and evacuating at least one of the first chamber and the second chamber; One or both of a gas purging means for purging gas into at least one of the first chamber and the second chamber is provided.

【0029】したがって、光学部品を第一室および第二
室内に収容して配することができる。そして、これら第
一室および第二室に対して真空排気および/またはガス
パージを行なうことによって、バックグランドを効率的
に低減させることができ、高精度な分析を行うことがで
きる。また、装置全体をコンパクト化することができ、
実用性に富む装置が得られる。しかも測定用セルの両端
部に設けた室内に各光学部品を収容できるので、光源か
らセルを通って光検出器に至る光路のうちセル外(すな
わち室内)を通る部分を短くすることができ、より低い
バックグラウンドを達成することができる。また、光学
部品を調整したり修理したりする際には、調整または修
理の対象箇所が収容されている室のみを大気開放にすれ
ばよく、従来のように光学系全体を1つのチャンバーに
収容する構成に比べて、調整または修理後の真空排気や
ガスパージが短時間で済み、経済的にも有利である。
Therefore, the optical components can be housed and arranged in the first chamber and the second chamber. Then, by performing vacuum evacuation and / or gas purging to the first chamber and the second chamber, the background can be efficiently reduced, and highly accurate analysis can be performed. Also, the entire device can be made compact,
A highly practical device can be obtained. Moreover, since each optical component can be housed in the chambers provided at both ends of the measuring cell, it is possible to shorten the portion of the optical path from the light source through the cell to the photodetector that passes outside the cell (that is, indoors), A lower background can be achieved. In addition, when adjusting or repairing optical parts, only the chamber that contains the target part for adjustment or repair needs to be open to the atmosphere. Compared with the configuration described above, vacuum evacuation or gas purging after adjustment or repair is required in a short time, which is economically advantageous.

【0030】前記第一室および第二室の少なくとも一方
に、測定用セルを透過した光を再び該測定用セルに入射
させる光反射部材を設けることにより光路長を長くする
ことができる。このような構成とすれば、測定用セルに
腐食性が強いガスを導入しても光反射部材が腐食される
恐れがなく、したがってハロゲン化物ガスを含めて多種
のガスを測定対象とすることができ、汎用性に富んだ装
置が得られる。
At least one of the first chamber and the second chamber is provided with a light reflecting member for making the light transmitted through the measuring cell incident on the measuring cell again, whereby the optical path length can be lengthened. With such a configuration, even if a gas having strong corrosiveness is introduced into the measuring cell, the light reflecting member is not likely to be corroded, and therefore various gases including a halide gas can be measured. It is possible to obtain a versatile device.

【0031】前記ガスパージ手段を第一室および第二室
の両方へガスをパージするものとし、かつ第一室および
第二室におけるガスパージ速度を別個に制御する手段を
備えたものとすれば、2つの室に対して1つのガスパー
ジ手段を用いた簡単な構成とすることができる。また両
方の室に同時にガスパージを行えば、パージ時間を大幅
に短縮することができ、効率がよい。さらに各室の大き
さ、表面積および容積等に応じて、あるいは所望のバッ
クグラウンドを得るのに必要なガス濃度に応じて、ガス
パージ量を効率よく調節することが可能であり、パージ
ガス量を節約することもできる。
If the gas purging means is one for purging gas into both the first chamber and the second chamber, and is provided with means for separately controlling the gas purging rate in the first chamber and the second chamber, 2 A simple structure using one gas purging means for one chamber can be adopted. If both chambers are simultaneously purged with gas, the purging time can be greatly shortened and efficiency is improved. Furthermore, it is possible to efficiently adjust the gas purge amount according to the size, surface area, volume, etc. of each chamber, or according to the gas concentration required to obtain the desired background, and to save the purge gas amount. You can also

【0032】前記真空排気手段を第一室および第二室の
両方を真空排気するものとし、かつ第一室および第二室
における排気速度を別個に制御する手段を備えたものと
すれば、2つの室に対して1つの真空排気手段を用いた
簡単な構成とすることができる。また両方の室に同時に
真空排気を行えば、排気時間を大幅に短縮することがで
き、効率がよい。さらに各室の大きさ、表面積および容
積等に応じて、あるいは所望のバックグラウンドを得る
のに必要な真空度に応じて、排気量を効率よく調節する
ことが可能である。
If the vacuum evacuation means is configured to evacuate both the first chamber and the second chamber, and is provided with means for separately controlling the evacuation speed in the first chamber and the second chamber, 2 A simple structure using one evacuation means for one chamber can be adopted. Further, if both chambers are evacuated at the same time, the evacuation time can be significantly shortened and efficiency is improved. Further, it is possible to efficiently adjust the exhaust amount according to the size, surface area, volume, etc. of each chamber, or according to the degree of vacuum required to obtain a desired background.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明のガスの分光分析装置の実施例を示す
概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of a gas spectral analyzer of the present invention.

【図2】 図1における第二室を拡大して示した説明図
である。
FIG. 2 is an explanatory view showing an enlarged second chamber in FIG.

【図3】 本発明のガスの分光分析装置の他の実施例に
おける光学系部を示す概略構成図である
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing an optical system section in another embodiment of the gas spectral analyzer of the present invention.

【図4】 従来の水分分析装置の例を示す概略構成図で
ある。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing an example of a conventional moisture analyzer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

31…測定用セル、32…第一室、33…第二室、34
…窓(仕切り壁)、35…半導体レーザー(光源)、4
0…光検出器、44…真空排気ライン、45…ガスパー
ジライン。
31 ... Measuring cell, 32 ... First chamber, 33 ... Second chamber, 34
... window (partition wall), 35 ... semiconductor laser (light source), 4
0 ... Photodetector, 44 ... Vacuum exhaust line, 45 ... Gas purge line

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森下 淳一 茨城県つくば市大久保10 日本酸素株式会 社つくば研究所内 (72)発明者 石原 良夫 茨城県つくば市大久保10 日本酸素株式会 社つくば研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Junichi Morishita 10 Okubo, Tsukuba City, Ibaraki, Japan Oxygen Stock Company Tsukuba Research Institute (72) Inventor Yoshio Ishihara 10 Okubo, Tsukuba City, Ibaraki Tsukuba Research Center, Japan Oxygen Stock Company

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光源からの光を被測定ガスに透過させ、
該被測定ガス中の測定対象ガス成分によって吸収された
光の吸収量を光検出器で測定するガスの分光分析装置で
あって、 被測定ガスが導入される測定用セルの両端部に、少なく
とも一部が光透過性材料からなる仕切り壁を介して、そ
れぞれ気密に区画された第一室および第二室が連設さ
れ、前記光源が前記第一室または第二室のいずれか一方
に収容され、かつ前記光検出器が前記第一室または第二
室のいずれか一方に収容されてなるとともに、前記第一
室および第二室の少なくとも一方を真空排気する真空排
気手段と、前記第一室および第二室の少なくとも一方へ
ガスをパージするガスパージ手段との一方または両方を
備えてなることを特徴とするガスの分光分析装置。
1. The light from the light source is transmitted through the gas to be measured,
A gas spectroscopic analyzer for measuring an absorption amount of light absorbed by a gas component to be measured in the gas to be measured with a photodetector, wherein at least both ends of a measuring cell into which the gas to be measured is introduced, A first chamber and a second chamber, which are airtightly divided, are connected to each other through a partition wall partially made of a light-transmitting material, and the light source is housed in either the first chamber or the second chamber. And the photodetector is housed in either one of the first chamber or the second chamber, and a vacuum exhaust means for vacuum exhausting at least one of the first chamber and the second chamber; A gas spectroscopic analysis apparatus comprising one or both of a gas purging means for purging gas into at least one of the chamber and the second chamber.
【請求項2】 前記第一室および第二室の少なくとも一
方に、測定用セルを透過した光を再び該測定用セルに入
射させる光反射部材を備えてなることを特徴とする請求
項1記載のガスの分光分析装置。
2. The light reflecting member for causing the light transmitted through the measuring cell to enter the measuring cell again in at least one of the first chamber and the second chamber. Gas spectroscopic analyzer.
【請求項3】 前記ガスパージ手段が第一室および第二
室の両方へガスをパージするものであり、かつ第一室お
よび第二室におけるガスパージ速度を別個に制御する手
段を備えてなることを特徴とする請求項1記載のガスの
分光分析装置。
3. The gas purging means is for purging gas into both the first chamber and the second chamber, and comprises means for separately controlling the gas purging rate in the first chamber and the second chamber. The gas spectroscopic analyzer according to claim 1.
【請求項4】 前記真空排気手段が第一室および第二室
の両方を真空排気するものであり、かつ第一室および第
二室における排気速度を別個に制御する手段を備えてな
ることを特徴とする請求項1記載のガスの分光分析装
置。
4. The vacuum evacuation means evacuates both the first chamber and the second chamber, and comprises means for separately controlling the evacuation speed in the first chamber and the second chamber. The gas spectroscopic analyzer according to claim 1.
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