JPH0935308A - Information recorder - Google Patents

Information recorder

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JPH0935308A
JPH0935308A JP7176987A JP17698795A JPH0935308A JP H0935308 A JPH0935308 A JP H0935308A JP 7176987 A JP7176987 A JP 7176987A JP 17698795 A JP17698795 A JP 17698795A JP H0935308 A JPH0935308 A JP H0935308A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
information recording
light source
laser light
adjusting
Prior art date
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Pending
Application number
JP7176987A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Osamu Mizuta
治 水田
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
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Publication of JPH0935308A publication Critical patent/JPH0935308A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simplify assembling adjustment when a laser light source is exchanged and to improve excellently reproducibility in an optical axis and a beam shape of an outgoing beam. SOLUTION: An outgoing beam A from the laser light source 1 is led to a beam adjustment optical system 10 arranged on the prestage of an irradiation optical system 2 and capable of adjusting the beam shape and the optical axis. Thus, the shaping of the beam shape and the optical axis adjustment of the outgoing angle/outgoing position of the outgoing beam A are performed precisely without performing the assembling adjustment in the laser light source 1 and the irradiation optical system 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤露
光機等として用いられる情報記録装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording device used as an optical disk master exposure device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】図10(a)は、従来における一般的な
情報記録装置の構成をブロック化して示す。レーザ光源
1から出射された出射ビームAは、照射光学系2を介し
て、対物レンズ3により集光され、微小な光スポットの
状態で光ディスク(光情報記録媒体)4の面上に照射さ
れ、これにより所望とする記録位置に情報の記録が行わ
れる。この場合、情報記録装置として光ディスク原盤露
光機を例に挙げると、レーザ光源1からの出射ビームA
は、露光光学系(照射光学系2)によりデジタル変調化
され、光ディスク原盤(光ディスク4)の面上に照射さ
れ、所望とする形状のピット(約1μm)や溝が作成さ
れ、これにより情報の記録が行われる。
2. Description of the Related Art FIG. 10 (a) is a block diagram showing the structure of a conventional general information recording apparatus. The emission beam A emitted from the laser light source 1 is condensed by the objective lens 3 via the irradiation optical system 2 and is irradiated onto the surface of the optical disc (optical information recording medium) 4 in the form of a minute light spot. As a result, information is recorded at the desired recording position. In this case, when an optical disk master exposure device is taken as an example of the information recording device, a beam A emitted from the laser light source 1
Is digitally modulated by the exposure optical system (irradiation optical system 2) and is irradiated onto the surface of the optical disk master (optical disk 4) to create pits (about 1 μm) or grooves having a desired shape, and thereby information of Recording is done.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このような情報の記録
用光源として用いられるレーザ光源1(Ar,Krレー
ザ、He−Cdレーザ等)の寿命は一般的に2000〜
3000時間であり、定期的な交換が行われる。しか
し、レーザ光源1の光特性(出射ビームの拡散角、ビー
ム径、ガウス分布形状等)は各光源によって異なる場合
が多いため、その定期的な交換毎に、レーザ光源1の出
射位置・出射角度の光軸調整や、照射光学系2の組付け
調整を行わなければならず、作業効率が悪い。特に、光
ディスク原盤露光機の場合、レーザ光源1は大型な重量
物(40kg前後)である場合が多いため、その移動調
整に時間がかかり、照射光学系2の組付け調整において
も同一のビーム状態を再現するのは非常に難しい。ま
た、照射光学系2の内部で自動的に光軸調整を行おうと
すると、部品点数が増加し、これにより光学系が大型化
してコスト高となる。
The life of the laser light source 1 (Ar, Kr laser, He-Cd laser, etc.) used as a light source for recording such information is generally 2000-.
It is 3000 hours, and regular replacement is performed. However, since the optical characteristics of the laser light source 1 (divergence angle of emitted beam, beam diameter, Gaussian distribution shape, etc.) are often different depending on each light source, the emission position and the emission angle of the laser light source 1 are changed at each periodical replacement. The optical axis adjustment and the assembly adjustment of the irradiation optical system 2 have to be performed, resulting in poor work efficiency. In particular, in the case of an optical disk master exposure device, since the laser light source 1 is often a large heavy object (around 40 kg), it takes time to adjust its movement, and the same beam state is applied even in the assembly adjustment of the irradiation optical system 2. Is very difficult to reproduce. In addition, if the optical axis is automatically adjusted inside the irradiation optical system 2, the number of parts increases, which increases the size of the optical system and increases the cost.

【0004】また、そのような光軸調整の簡略化を図る
ために、図10(b)に示すような、レーザ光源1と照
射光学系2との間に光軸補正ユニット5が設けられてい
るものがある(特公平6−95174号公報参照)。図
11は、その光軸補正ユニット5の構成例を示すもので
あり、サーボミラー6,7を用いて光軸調整が行われ
る。すなわち、出射ビームAの一部を4分割受光素子8
により検出し、モータ9によりサーボミラー6,7を回
転制御することによって、出射ビームAの光軸調整(出
射位置・出射角度の補正等)を行っている。
In order to simplify such optical axis adjustment, an optical axis correction unit 5 is provided between the laser light source 1 and the irradiation optical system 2 as shown in FIG. 10 (b). There are some (see Japanese Patent Publication No. 6-95174). FIG. 11 shows a configuration example of the optical axis correction unit 5, in which the optical axes are adjusted using the servo mirrors 6 and 7. That is, a part of the outgoing beam A is divided into four light receiving elements 8
And the rotation of the servo mirrors 6 and 7 is controlled by the motor 9 to adjust the optical axis of the outgoing beam A (correct the outgoing position and outgoing angle, etc.).

【0005】しかし、その光軸補正ユニット5は、出射
ビームAの光軸調整を行うものであり、ビーム形状のビ
ーム整形(非点収差等の補正等)を行うものではない。
このため、そのような光軸調整の機能した持たない光軸
補正ユニット5を、特に微小なピット(例えば1μm以
下の径)を作成することが要求される光ディスク原盤露
光機に用いたのでは、レーザ光源1の交換毎に所望とす
るビーム形状を良好に再現することは困難であり、溝形
状を安定して作り込むことができない。
However, the optical axis correction unit 5 adjusts the optical axis of the outgoing beam A and does not perform beam shaping of the beam shape (correction of astigmatism etc.).
Therefore, if the optical axis correction unit 5 that does not have such a function of adjusting the optical axis is used for an optical disk master exposure device that requires particularly fine pits (for example, a diameter of 1 μm or less), It is difficult to satisfactorily reproduce the desired beam shape every time the laser light source 1 is replaced, and the groove shape cannot be stably formed.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明にお
いては、レーザ光源からの出射ビームをビーム調整光学
系に導くことによって、その出射ビームの出射位置・出
射角度の調整のみならず、ビーム形状の整形がなされ
る。このようにして調整された出射ビームは、照射光学
系に導かれて変調制御された後、対物レンズにより集光
されて所望とする微小な光スポットとなり、この光スポ
ットが光情報記録媒体に照射され情報の記録が行われ
る。
According to the first aspect of the invention, the beam emitted from the laser light source is guided to the beam adjusting optical system to adjust not only the emission position and the emission angle of the emitted beam, but also the beam. The shape is shaped. The emission beam adjusted in this way is guided to the irradiation optical system and subjected to modulation control, and then is condensed by the objective lens to become a desired minute light spot, and this light spot is irradiated to the optical information recording medium. The information is recorded.

【0007】請求項2記載の発明においては、レーザ光
源からの出射ビームを、ビーム径規制部材に導くことに
よって、ビーム径が常に一定な出射ビームが作られる。
このビーム径が一定とされた出射ビームは、ビーム調整
光学系を介して光情報記録媒体に照射される。
According to the second aspect of the present invention, the outgoing beam from the laser light source is guided to the beam diameter regulating member, whereby an outgoing beam having a constant beam diameter is created.
The outgoing beam having a constant beam diameter is applied to the optical information recording medium via the beam adjusting optical system.

【0008】請求項3記載の発明においては、レーザ光
源からの出射ビームを、一対のシリンドリカルレンズに
導き、レンズ曲率の形成された方向に移動させることに
よって、一方向のビーム整形を行うことが可能となる。
According to the third aspect of the invention, the beam emitted from the laser light source is guided to the pair of cylindrical lenses and moved in the direction in which the lens curvature is formed, whereby the beam can be shaped in one direction. Becomes

【0009】請求項4記載の発明においては、レーザ光
源からの出射ビームを、各組のレンズ曲率の形成された
方向が互いに直交するシリンドリカルレンズに導くこと
によって、二方向の異なるビーム整形を同時に行うこと
が可能となる。
According to another aspect of the present invention, the beams emitted from the laser light source are guided to the cylindrical lenses in which the directions in which the lens curvatures of each set are formed are orthogonal to each other, so that different beam shaping in two directions is performed simultaneously. It becomes possible.

【0010】請求項5記載の発明においては、レーザ光
源からの出射ビームをビームエキスパンダに導くことに
よって、光量変動の量を1/mに低減させることができ
る。
According to the fifth aspect of the present invention, the amount of fluctuation of the light quantity can be reduced to 1 / m by guiding the beam emitted from the laser light source to the beam expander.

【0011】請求項6記載の発明においては、シリンド
リカルレンズにより調整された後の出射ビームを、ビー
ム抽出手段に導いてサンプル光として抽出することによ
って、一方向ずつのビーム調整のモニタが可能となる。
また、ビーム抽出手段として例えばダイクロイックミラ
ーを用いることによって、抽出されない記録用のメイン
ビームの偏光方向を維持することができる。
According to the sixth aspect of the present invention, it is possible to monitor the beam adjustment in each direction by guiding the outgoing beam adjusted by the cylindrical lens to the beam extraction means and extracting it as sample light. .
Further, by using, for example, a dichroic mirror as the beam extracting means, it is possible to maintain the polarization direction of the main beam for recording which is not extracted.

【0012】請求項7記載の発明においては、抽出され
たサンプル光を偏光分離手段に導くことによって、その
1本のサンプル光からP偏光とS偏光との2本のビーム
を作ることが可能となる。
In the invention described in claim 7, by guiding the extracted sample light to the polarization separation means, it is possible to form two beams of P-polarized light and S-polarized light from the one sample light. Become.

【0013】請求項8記載の発明においては、位置調整
用受光手段を用いて出射ビームの光軸位置をモニタする
ことができ、角度・ビーム形状調整用受光手段を用いて
出射ビームの出射角度又はビーム形状をモニタすること
ができる。
According to the present invention, the position adjusting light receiving means can be used to monitor the optical axis position of the outgoing beam, and the angle / beam shape adjusting light receiving means can be used to output the outgoing angle of the outgoing beam or The beam shape can be monitored.

【0014】請求項9記載の発明においては、ビーム抽
出手段により抽出された複数のサンプル光を1個の角度
・ビーム形状調整用受光手段に導くことによって、異な
るビームスポットを同一のモニタ面上で同時に位置調整
することができる。
In the ninth aspect of the invention, a plurality of sample lights extracted by the beam extracting means are guided to one light receiving means for adjusting the angle / beam shape so that different beam spots are formed on the same monitor surface. The position can be adjusted at the same time.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態を図1〜図
9に基づいて説明する。なお、ここでは、情報記録装置
として、前述した光ディスク原盤露光機(図10参照)
を例に挙げ、その同一部分については同一符号を用い
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Incidentally, here, as the information recording apparatus, the above-mentioned optical disk master exposure device (see FIG. 10) is used.
The same reference numerals are used for the same portions.

【0016】図1は、光ディスク原盤露光機の構成を示
す。この原盤露光機は、レーザ光源1と、ビーム調整光
学系としてのビーム整形ユニット10と、照射光学系と
しての露光光学系2とに大別される。この場合、レーザ
光源1と、露光光学系2とは、周知の部材により構成さ
れる。例えば、レーザ光源1はイオンレーザ(Arレー
ザ,He−Cdレーザ等)により構成される。照射光学
系2は、アナログ変調器11と、デジタル変調器12
と、偏向器13と、一対のビームエキスパンダ14a,
14bとにより構成される。
FIG. 1 shows the structure of an optical disk master exposure device. This master exposure apparatus is roughly divided into a laser light source 1, a beam shaping unit 10 as a beam adjusting optical system, and an exposure optical system 2 as an irradiation optical system. In this case, the laser light source 1 and the exposure optical system 2 are composed of known members. For example, the laser light source 1 is composed of an ion laser (Ar laser, He-Cd laser, etc.). The irradiation optical system 2 includes an analog modulator 11 and a digital modulator 12
, A deflector 13, and a pair of beam expanders 14a,
14b and.

【0017】ここで、ビーム整形ユニット10の構成に
ついて述べる。図2に示すように、レーザ光源1の出射
光路上には、ビーム径規制部材としてのピンホール板1
5が配置されている。このピンホール板15の中心に
は、出射ビームAのビーム径よりも小さな径をもつピン
ホール15aが形成されている。このピンホール板15
によりビーム径が規制された光路上には、一対のシリン
ドリカルレンズ16a,16bが配置されている。この
シリンドリカルレンズ16a,16bの曲率が変化する
方向は、光軸方向Yに直交するX方向(水平方向)に設
定されている。
The configuration of the beam shaping unit 10 will be described here. As shown in FIG. 2, a pinhole plate 1 as a beam diameter regulating member is provided on the emission optical path of the laser light source 1.
5 are arranged. At the center of the pinhole plate 15, a pinhole 15a having a diameter smaller than the beam diameter of the outgoing beam A is formed. This pinhole plate 15
A pair of cylindrical lenses 16a and 16b are arranged on the optical path whose beam diameter is restricted by. The direction in which the curvatures of the cylindrical lenses 16a and 16b change is set in the X direction (horizontal direction) orthogonal to the optical axis direction Y.

【0018】また、シリンドリカルレンズ16a,16
bの後段には、出射ビームAの一部を分離してサンプル
光Bを作るために、ビーム抽出手段としてのダイクロイ
ックミラー17が配置されている。このダイクロイック
ミラー17の後段には、一対のシリンドリカルレンズ1
8a,18bが配置されている。このシリンドリカルレ
ンズ18a,18bの曲率が変化する方向は、光軸方向
Yに直交する垂直面内の鉛直方向Zに設定されている。
これにより、シリンドリカルレンズ18a,18bと、
その前段に配置されたシリンドリカルレンズ16a,1
6bとは、曲率が形成された方向が互いに直交して配置
されている。この場合、図3に示すように、シリンドリ
カルレンズ16a,18aに対して、シリンドリカルレ
ンズ16b,18bは、ビームエキスパンダ比がm倍
(m>1)のビームエキスパンダとしてそれぞれ構成さ
れている。また、このようなシリンドリカルレンズ18
a,18bの後段には、前記ダイクロイックミラー17
と同様な分離機能をもつビーム抽出手段としてのダイク
ロイックミラー19が配置されている。
Further, the cylindrical lenses 16a, 16
A dichroic mirror 17 as a beam extraction means is arranged in the subsequent stage of b in order to separate a part of the outgoing beam A to produce the sample light B. A pair of cylindrical lenses 1 is provided at the rear stage of the dichroic mirror 17.
8a and 18b are arranged. The direction in which the curvatures of the cylindrical lenses 18a and 18b change is set to the vertical direction Z in the vertical plane orthogonal to the optical axis direction Y.
Thereby, the cylindrical lenses 18a and 18b,
Cylindrical lenses 16a, 1 arranged in the preceding stage
6b is arranged such that the directions in which the curvature is formed are orthogonal to each other. In this case, as shown in FIG. 3, the cylindrical lenses 16b and 18b are respectively configured as beam expanders having a beam expander ratio of m times (m> 1) with respect to the cylindrical lenses 16a and 18a. In addition, such a cylindrical lens 18
The dichroic mirror 17 is provided after the a and 18b.
A dichroic mirror 19 is disposed as a beam extraction means having a separation function similar to.

【0019】また、ダイクロイックミラー17により分
離されたサンプル光Bの光路上には、λ/2板20と、
偏光ビームスプリッタ21とが配置されている。これら
λ/2板20と偏光ビームスプリッタ21とは、サンプ
ル光Bを2方向(S偏光,P偏光)に分離するための偏
光分離手段を構成している。また、その偏光ビームスプ
リッタ21により反射された光路上には、CCD22が
配置され、このCCD22はモニタ23と接続されてい
る。一方、偏光ビームスプリッタ21を透過した光路上
には、2分割受光素子(又はPSD:Position Sensi
tive Device)24が配置されている。この2分割受光
素子24は表示器25と接続されている。なお、CCD
22とモニタ23とは角度・ビーム形状調整用受光手段
を構成し、また、2分割受光素子24と表示器25とは
位置調整用受光手段を構成している。
On the optical path of the sample light B separated by the dichroic mirror 17, a λ / 2 plate 20 and
A polarization beam splitter 21 is arranged. The λ / 2 plate 20 and the polarization beam splitter 21 constitute a polarization separation means for separating the sample light B into two directions (S polarization and P polarization). A CCD 22 is arranged on the optical path reflected by the polarization beam splitter 21, and the CCD 22 is connected to a monitor 23. On the other hand, a two-divided light receiving element (or PSD: Position Sensi) is provided on the optical path that has passed through the polarization beam splitter 21.
A tive device 24 is arranged. The two-divided light receiving element 24 is connected to the display 25. In addition, CCD
The monitor 22 and the monitor 23 constitute a light receiving means for adjusting the angle / beam shape, and the two-divided light receiving element 24 and the display 25 constitute a light receiving means for position adjustment.

【0020】また、ダイクロイックミラー19により分
離されたサンプル光Bの光路上にも、ダイクロイックミ
ラー17により分離された光路上と同様な光学系、すな
わち、λ/2板26、偏光ビームスプリッタ27、2分
割受光素子28が順次配置されている。ただし、ここで
は、偏光ビームスプリッタ27により反射された光は、
λ/2板29及び前段の偏光ビームスプリッタ21を介
して、CCD22に導かれ、また、2分割受光素子24
は前述した表示器25に接続されている。
Also, on the optical path of the sample light B separated by the dichroic mirror 19, the same optical system as on the optical path separated by the dichroic mirror 17, that is, the λ / 2 plate 26, the polarization beam splitters 27, 2 is used. The divided light receiving elements 28 are sequentially arranged. However, here, the light reflected by the polarization beam splitter 27 is
The light is guided to the CCD 22 via the λ / 2 plate 29 and the polarization beam splitter 21 in the preceding stage, and also the two-divided light receiving element 24.
Is connected to the above-mentioned display 25.

【0021】このような構成において、本装置の動作に
ついて述べる。レーザ光源1からの出射ビームAは、図
2のビーム整形ユニット10を介して、露光光学系2に
導かれる。この露光光学系2では、出射ビームAは、ア
ナログ変調器11により最適な光量に変換され、デジタ
ル変調器12により情報信号に応じたパルス光に変換さ
れ、さらに偏向器13を介して、ビームエキスパンダ1
4a,14bにより所定のビーム径に変換される。この
ようにして変換された出射ビームAは、対物レンズ3に
より集光され微小な光スポットとなり、スライドターン
テーブル4aにより回転制御される光ディスク原盤4の
面上に露光され、これにより所望とする形状のピットや
溝が作成されて情報の記録が行われる。
The operation of the present apparatus having such a configuration will be described. The outgoing beam A from the laser light source 1 is guided to the exposure optical system 2 via the beam shaping unit 10 in FIG. In the exposure optical system 2, the outgoing beam A is converted into an optimum light amount by the analog modulator 11, converted into pulsed light according to the information signal by the digital modulator 12, and further, via the deflector 13, the beam extractor. Panda 1
It is converted into a predetermined beam diameter by 4a and 14b. The outgoing beam A thus converted is condensed by the objective lens 3 to form a minute light spot, which is exposed on the surface of the optical disc master 4 which is rotationally controlled by the slide turntable 4a, whereby a desired shape is obtained. Information is recorded by forming pits and grooves.

【0022】このとき、レーザ光源1が寿命等により交
換されたものとすると、ビーム整形ユニット10を用い
て以下のような調整が行われる。まず、レーザ光源1か
ら出射した出射ビームAは、ピンホール15aに導かれ
る。これによって、図4に示すように、X−Y面、Y−
Z面に対してそれぞれ一定なビーム径に整形することが
でき、しかも、レーザ光源1の設置位置を容易に確認す
ることができる。そして、このようにしてビーム径が一
定に整形された出射ビームAは、図5に示すように、シ
リンドリカルレンズ16a,16bに入射する。このシ
リンドリカルレンズ16a,16bを、曲率方向Xにそ
れぞれ移動させることによって、その曲率方向Xに対す
る出射ビームAの出射角度や出射位置の光軸調整を行う
ことができる。また、シリンドリカルレンズ16a,1
6bを、光軸方向Yにそれぞれ移動させることによっ
て、ビーム平行化の整形を行うことができる。このよう
にシリンドリカルレンズ16a,16bを曲率方向X、
光軸方向Yへ移動させることによって、出射ビームAの
光軸調整やビーム形状のビーム整形を簡単に行うことが
できる。なお、ここでは鉛直方向Zに対する整形は行わ
れない。
At this time, if it is assumed that the laser light source 1 has been replaced due to its service life, the following adjustment is performed using the beam shaping unit 10. First, the emission beam A emitted from the laser light source 1 is guided to the pinhole 15a. As a result, as shown in FIG. 4, the XY plane and the Y-
The beam diameter can be shaped to be constant with respect to the Z plane, and the installation position of the laser light source 1 can be easily confirmed. Then, the outgoing beam A whose beam diameter is shaped in this manner enters the cylindrical lenses 16a and 16b as shown in FIG. By moving each of the cylindrical lenses 16a and 16b in the curvature direction X, it is possible to adjust the emission angle and the emission axis of the emission beam A with respect to the curvature direction X. Also, the cylindrical lenses 16a, 1
By moving 6b in the optical axis direction Y, the beam parallelization can be shaped. In this way, the cylindrical lenses 16a and 16b are moved in the curvature direction X,
By moving in the optical axis direction Y, the optical axis of the outgoing beam A and the beam shaping of the beam shape can be easily performed. Note that the shaping in the vertical direction Z is not performed here.

【0023】このようにしてシリンドリカルレンズ16
a,16bにより一方向のみがビーム整形された出射ビ
ームAは、ダイクロイックミラー17を介して、後段の
シリンドリカルレンズ18a,18bに導かれる。この
シリンドリカルレンズ18a,18bにおいては、図6
に示すように、X方向に直交する鉛直方向Zの曲率に対
する出射角度、出射位置の調整が行われる。これによ
り、X,Z方向へのビーム広がり角を等しくして非点収
差のないビーム形状の出射ビームAを作ることができ
る。このように曲率方向が互いに直交するシリンドリカ
ルレンズ16a,16bとシリンドリカルレンズ18
a,18bとを組み合わせて構成したことによって、ビ
ーム整形の精度を高めることができる。また、このよう
に出射ビームAをX,Z方向に独立して調整することが
可能となるため、一方のビーム整形が他方のビーム整形
に影響を及ぼすようなことがなく、調整を正確にかつ簡
単に行うことができる。
In this way, the cylindrical lens 16
The outgoing beam A, which has been beam-shaped in only one direction by a and 16b, is guided through the dichroic mirror 17 to the cylindrical lenses 18a and 18b in the subsequent stage. In the cylindrical lenses 18a and 18b, as shown in FIG.
As shown in, the emission angle and the emission position are adjusted with respect to the curvature in the vertical direction Z orthogonal to the X direction. Thereby, the beam divergence angles in the X and Z directions can be equalized to form the outgoing beam A having a beam shape without astigmatism. Thus, the cylindrical lenses 16a and 16b and the cylindrical lens 18 whose curvature directions are orthogonal to each other.
The combination of a and 18b can improve the accuracy of beam shaping. In addition, since the outgoing beam A can be adjusted independently in the X and Z directions in this way, one beam shaping does not affect the other beam shaping, and the adjustment can be performed accurately and accurately. Easy to do.

【0024】また、前段のシリンドリカルレンズ16
a,16b及び後段のシリンドリカルレンズ18a,1
8bは、図3のようにビームエキスパンダ比がそれぞれ
m倍とされている。これにより、出射ビームAの光軸変
動量が例えばθ0 のときは、シリンドリカルレンズ16
a,16bを通過後の光軸変動量はθ1 =θ0 /mとな
る。さらに、その光軸変動量がθ1 とされた出射ビーム
Aは、シリンドリカルレンズ18a,18bを通過する
ことにより、光軸変動量がθ2 =θ1 /mとなる。この
ようにレーザ光源1自体に光軸変動が生じても、各ビー
ムエキスパンダにおいて光軸変動量を1/mに低減させ
ることができ、ここでは2組の構成としていることか
ら、ビーム整形ユニット10を通過後の光軸変動量を1
/m2 に大幅に低減させることができる。これにより、
後段の露光光学系2でのビーム形状の変化を防止するこ
とができ、光ディスク原盤4に作られる溝形状を正確に
作り込むことができる。
In addition, the cylindrical lens 16 in the previous stage
a, 16b and the subsequent cylindrical lenses 18a, 1
8b, the beam expander ratio is m times as shown in FIG. As a result, when the optical axis variation of the outgoing beam A is, for example, θ 0 , the cylindrical lens 16
The optical axis fluctuation amount after passing through a and 16b is θ 1 = θ 0 / m. Further, the outgoing beam A whose optical axis fluctuation amount is set to θ 1 passes through the cylindrical lenses 18a and 18b, so that the optical axis fluctuation amount becomes θ 2 = θ 1 / m. Even if the optical axis of the laser light source 1 itself fluctuates in this way, the amount of optical axis fluctuation can be reduced to 1 / m in each beam expander. Since there are two sets here, the beam shaping unit The optical axis variation after passing 10 is 1
It can be significantly reduced to / m 2 . This allows
It is possible to prevent the beam shape from changing in the exposure optical system 2 in the subsequent stage, and it is possible to accurately form the groove shape formed in the optical disc master 4.

【0025】また、出射ビームA(メインビーム)はダ
イクロイックミラー17,19により分離され、これに
よりモニタ用のサンプル光Bが作られる。すなわち、図
7に示すように、出射ビームAは前段のダイクロイック
ミラー17により分離され、その1%が反射されサンプ
ル光Bとなる。このダイクロイックミラー17を光路上
に配置したことにより、透過したメインビーム(出射ビ
ームA)の偏光方向をその配置前と同じビーム状態に維
持することができ、これにより後段の露光光学系2にお
いて偏光方向がずれて光量損失を起こすようなことがな
くなる。
The outgoing beam A (main beam) is separated by the dichroic mirrors 17 and 19, whereby sample light B for monitoring is produced. That is, as shown in FIG. 7, the outgoing beam A is separated by the dichroic mirror 17 in the preceding stage, and 1% thereof is reflected to become the sample light B. By disposing this dichroic mirror 17 on the optical path, it is possible to maintain the polarization direction of the transmitted main beam (exit beam A) in the same beam state as before the disposition, so that in the exposure optical system 2 in the subsequent stage. It is possible to prevent the light amount from being lost due to the deviation of the direction.

【0026】このようにしてダイクロイックミラー17
により分離された直線偏光のサンプル光Bは、図8に示
すように、λ/2板20を介して、偏光ビームスプリッ
タ21に入射することによって、P偏光とS偏光とに分
離される。ここでは、透過光をP偏光とし、反射光をS
偏光とすると、その一方のP偏光からなるサンプル光B
は2分割受光素子24に受光される。この受光された信
号を表示器25に表示することにより、出射ビームAの
所定位置からの光軸ずれを容易に知ることができる。こ
の表示された数値がレーザ光源1の交換前と同じ値にな
るようにシリンドリカルレンズ16a,16bを調整す
ることによって、交換前と同一の光軸位置を再現するこ
とができる。他方、偏光ビームスプリッタ21により反
射されたS偏光からなるサンプル光Bは、CCD22に
受光され、モニタ23にビームスポットが映し出され
る。この場合、そのモニタ像がレーザ光源1の交換前と
同じ位置、同一のスポットの大きさとなるようにシリン
ドリカルレンズ16a,16bを調整することによっ
て、交換前と同一の出射角度、ビーム形状を再現するこ
とができる。
In this way, the dichroic mirror 17
As shown in FIG. 8, the linearly polarized sample light B separated by is incident on the polarization beam splitter 21 via the λ / 2 plate 20, and is thus separated into P-polarized light and S-polarized light. Here, the transmitted light is P-polarized light and the reflected light is S-polarized light.
If it is polarized light, the sample light B composed of one of the P-polarized light
Is received by the two-divided light receiving element 24. By displaying the received signal on the display 25, the deviation of the optical axis of the outgoing beam A from the predetermined position can be easily known. By adjusting the cylindrical lenses 16a and 16b so that the displayed numerical value becomes the same value as before the replacement of the laser light source 1, the same optical axis position as before the replacement can be reproduced. On the other hand, the sample light B composed of S-polarized light reflected by the polarization beam splitter 21 is received by the CCD 22, and a beam spot is projected on the monitor 23. In this case, by adjusting the cylindrical lenses 16a and 16b so that the monitor image has the same position and the same spot size as before the replacement of the laser light source 1, the same emission angle and beam shape as before replacement can be reproduced. be able to.

【0027】また、後段のダイクロイックミラー19に
より分離されたサンプル光Bは、図9に示すように、λ
/2板26を介して、偏光ビームスプリッタ27に導か
れ2つのビームに分離される。ここでは、その分離によ
り反射されたS偏光はλ/2板29を介してP偏光とな
り、前段の偏光ビームスプリッタ21を透過してCCD
22に受光される。これにより、モニタ23には、2個
のビームスポットが映し出される。従って、これら2個
のビームスポットを一致させることによって、ビーム整
形時に生じた角度ずれをなくすことができる。また、2
個のビームスポットの大きさを一致させることによっ
て、X,Z方向のビーム形状を等しくすることができ
る。さらに、このように合致したビームスポットが、レ
ーザ光源1の交換前と同一位置、同一の大きさになるよ
うに調整することによって、交換前と同一位置、出射角
度とされた同一のビーム形状を再現することができる。
Further, the sample light B separated by the dichroic mirror 19 in the subsequent stage is, as shown in FIG.
It is guided to the polarization beam splitter 27 via the / 2 plate 26 and split into two beams. Here, the S-polarized light reflected by the separation becomes P-polarized light via the λ / 2 plate 29, passes through the polarization beam splitter 21 in the preceding stage, and is CCD.
Light is received at 22. As a result, two beam spots are projected on the monitor 23. Therefore, by making these two beam spots coincide with each other, it is possible to eliminate the angular deviation generated during beam shaping. Also, 2
By matching the sizes of the individual beam spots, the beam shapes in the X and Z directions can be made equal. Further, by adjusting so that the matched beam spots have the same position and the same size as before the replacement of the laser light source 1, the same beam shape with the same position and emission angle as before the replacement is obtained. It can be reproduced.

【0028】上述したように、ビーム整形ユニット10
を設けたことによって、従来のようにレーザ光源1や露
光光学系2による光軸調整を行わずに、出射ビームAの
出射位置・出射角度の調整のみならず、ビーム整形を正
確に行いビーム形状を良好に再現することができ、これ
により、レーザ光源1を寿命等により交換したような場
合においても、組付け調整の作業効率を図ることができ
る。
As described above, the beam shaping unit 10
With the provision of the beam shape, not only the optical axis adjustment by the laser light source 1 and the exposure optical system 2 as in the conventional case but also the adjustment of the emission position and the emission angle of the emission beam A, and the accurate beam shaping are performed. Can be reproduced satisfactorily, and as a result, even when the laser light source 1 is replaced due to its service life, the work efficiency of the assembly adjustment can be improved.

【0029】なお、情報記録装置として、光ディスク原
盤露光機を例に挙げたが、これに限るものではなく、光
ディスクのような媒体に対して記録を行う記録装置であ
ればよく、このような記録装置にビーム調整光学系を組
込むことができる。
Although the optical disk master exposure device is taken as an example of the information recording apparatus, the information recording apparatus is not limited to this, and any recording apparatus that records on a medium such as an optical disk may be used. Beam conditioning optics may be incorporated into the device.

【0030】[0030]

【発明の効果】請求項1記載の発明では、レーザ光源と
照射光学系との間の光路上にビーム形状及び光軸の調整
を行うビーム調整光学系を設けたので、寿命等によりレ
ーザ光源を交換したような場合においても、従来のよう
にレーザ光源や照射光学系による光軸調整を行わずに、
ビーム形状、及び、出射ビームの出射位置・出射角度を
良好に再現することができ、これにより、レーザ光源交
換時における組付け調整の作業時間を大幅に短縮するこ
とができると共に、簡単な構成で低コストなビーム調整
機構を備えた情報記録装置を提供することができる。
According to the first aspect of the present invention, since the beam adjusting optical system for adjusting the beam shape and the optical axis is provided on the optical path between the laser light source and the irradiation optical system, the laser light source is selected depending on the life. Even in the case of replacement, without adjusting the optical axis by the laser light source and irradiation optical system as in the past,
The beam shape and the emission position and the emission angle of the emission beam can be reproduced well, which can significantly reduce the work time for assembly adjustment when replacing the laser light source, and with a simple configuration. It is possible to provide an information recording device equipped with a low-cost beam adjusting mechanism.

【0031】請求項2記載の発明では、レーザ光源から
の出射ビームをビーム径規制部材に導くようにしたの
で、レーザ光源の交換により生じるビーム径の違いを一
定にすることができ、これにより、常に一定の条件下で
ビーム調整を行うことが可能となる。
According to the second aspect of the invention, since the beam emitted from the laser light source is guided to the beam diameter regulating member, the difference in beam diameter caused by replacement of the laser light source can be made constant. It is possible to perform beam adjustment under constant conditions.

【0032】請求項3記載の発明では、レーザ光源から
の出射ビームをレンズ曲率の形成された方向及び光軸方
向に移動自在な一対のシリンドリカルレンズに導くよう
にしたので、ビーム形状の整形と、出射角度・出射位置
の光軸調整とを独立して行うことができる。
According to the third aspect of the present invention, the beam emitted from the laser light source is guided to a pair of cylindrical lenses that are movable in the direction in which the lens curvature is formed and in the optical axis direction. It is possible to perform the optical axis adjustment of the emission angle and the emission position independently.

【0033】請求項4記載の発明では、各組のレンズ曲
率の形成された方向が互いに直交するように2組のシリ
ンドリカルレンズを設置したので、ビーム整形を二方向
に対して各々独立に行うことができ、これにより、出射
ビームをレーザ光源の交換前と同様なビーム形状にする
ことが可能となる。
According to the invention described in claim 4, since two sets of cylindrical lenses are installed so that the directions in which the lens curvatures of each set are formed are orthogonal to each other, the beam shaping is performed independently in each of the two directions. As a result, the emitted beam can have the same beam shape as that before the replacement of the laser light source.

【0034】請求項5記載の発明では、レーザ光源から
の出射ビームをビームエキスパンダ比がm倍(m>1)
のビームエキスパンダに導くようにしたので、レーザ光
源の出射ビームに光量変動が発生しても、光量変動の量
を一対のビームエキスパンダ当たり1/mに低減させる
ことができる。従って、このようなビームエキスパンダ
を例えば光ディスク原盤露光機に用いたような場合、光
ディスク原盤に溝形状を常に安定して作り込むことがで
きる。
According to a fifth aspect of the invention, the beam emitted from the laser light source has a beam expander ratio of m times (m> 1).
Since the beam expander is guided to the beam expander, even if the light amount variation occurs in the emitted beam of the laser light source, the amount of the light amount variation can be reduced to 1 / m per pair of beam expanders. Therefore, when such a beam expander is used in, for example, an optical disk master exposure device, it is possible to always stably form the groove shape in the optical disk master.

【0035】請求項6記載の発明では、ビーム抽出手段
を用いて整形後の出射ビームをサンプル光として抽出す
るようにしたので、出射ビームの偏光方向を変えること
なく、サンプル光をモニタして一段と正確な調整を行う
ことができる。
According to the sixth aspect of the invention, since the output beam after shaping is extracted as the sample light by using the beam extraction means, the sample light is monitored further without changing the polarization direction of the output beam. You can make precise adjustments.

【0036】請求項7記載の発明では、抽出されたサン
プル光を偏光分離手段に導くようにしたので、1本のサ
ンプル光を2本のビームに分離することができ、これに
より、出射ビームの2種類の状態のモニタが可能とな
る。
In the invention described in claim 7, since the extracted sample light is guided to the polarization separating means, one sample light can be separated into two beams, whereby the outgoing beam It is possible to monitor two types of states.

【0037】請求項8記載の発明では、偏光分離手段に
より分離された一方の光路上に位置調整用受光手段を配
設し、他方の光路上に角度・ビーム形状調整用受光手段
を配設したので、出射ビームの光軸位置と、出射角度又
はビーム形状の2種類の状態を同時にモニタすることが
でき、これにより、出射ビームの調整作業を効率良く行
うことができる。
According to the present invention, the position adjusting light receiving means is arranged on one optical path separated by the polarization separating means, and the angle / beam shape adjusting light receiving means is arranged on the other optical path. Therefore, it is possible to simultaneously monitor the optical axis position of the outgoing beam and the two types of states of the outgoing angle or the beam shape, which allows the outgoing beam adjustment work to be performed efficiently.

【0038】請求項9記載の発明では、ビーム抽出手段
により抽出された複数のサンプル光を、角度・ビーム形
状調整用受光手段に導くようにしたので、異なるビーム
スポットの位置合わせを容易に行うことができ、これに
より、出射ビームの出射角度の調整を一段と正確に行う
ことができる。
According to the ninth aspect of the invention, since the plurality of sample lights extracted by the beam extracting means are guided to the light receiving means for adjusting the angle / beam shape, it is possible to easily align the different beam spots. This makes it possible to more accurately adjust the emission angle of the emitted beam.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の一形態である光ディスク原盤露
光機の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an optical disk master exposure device that is an embodiment of the present invention.

【図2】ビーム整形ユニットの全体構成を示す斜視図で
ある。
FIG. 2 is a perspective view showing the overall configuration of a beam shaping unit.

【図3】ビームエキスパンダによる光軸変動低減の様子
を示す光路図である。
FIG. 3 is an optical path diagram showing how an optical axis variation is reduced by a beam expander.

【図4】シリンドリカルレンズの前段にピンホールを配
設した場合の様子を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a state in which a pinhole is arranged in front of a cylindrical lens.

【図5】1組のシリンドリカルレンズを用いてビーム整
形を行う様子を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing how beam shaping is performed using a set of cylindrical lenses.

【図6】2組のシリンドリカルレンズを用いてビーム整
形を行う様子を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing how beam shaping is performed using two sets of cylindrical lenses.

【図7】サンプル光を抽出する部分の光学系を示す平面
図である。
FIG. 7 is a plan view showing an optical system of a portion for extracting sample light.

【図8】サンプル光の位置及び角度・ビーム形状をモニ
タする光学系を示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing an optical system for monitoring the position, angle, and beam shape of sample light.

【図9】サンプル光の角度・ビーム形状をモニタする前
・後段に配置された光学系を示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing an optical system arranged before and after monitoring an angle and a beam shape of sample light.

【図10】(a)は従来の情報記録装置の構成を示すブ
ロック図、(b)は(a)に光軸補正ユニットを備えた
場合の構成を示すブロック図である。
10A is a block diagram showing a configuration of a conventional information recording apparatus, and FIG. 10B is a block diagram showing a configuration when an optical axis correction unit is provided in FIG.

【図11】従来の光軸補正ユニットの構成例を示す斜視
図である。
FIG. 11 is a perspective view showing a configuration example of a conventional optical axis correction unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ光源 2 照射光学系 3 対物レンズ 4 光情報記録媒体 10 ビーム調整光学系 15 ビーム径規制部材 16a,16b シリンドリカルレンズ 17 ビーム抽出手段 18a,18b シリンドリカルレンズ 19 ビーム抽出手段 20,21 偏光分離手段 22,23 角度・ビーム形状調整用受光手
段 24,25 位置調整用受光手段 26,27 偏光分離手段 28 位置調整用受光手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 laser light source 2 irradiation optical system 3 objective lens 4 optical information recording medium 10 beam adjusting optical system 15 beam diameter regulating members 16a, 16b cylindrical lens 17 beam extracting means 18a, 18b cylindrical lens 19 beam extracting means 20, 21 polarization separating means 22 , 23 Angle / beam shape adjusting light receiving means 24, 25 Position adjusting light receiving means 26, 27 Polarization separating means 28 Position adjusting light receiving means

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ光源からの出射ビームを照射光学
系を介して対物レンズに導き、これにより集光された前
記出射ビームを光情報記録媒体の面上に照射して情報の
記録を行う情報記録装置において、前記レーザ光源と前
記照射光学系との間の光路上に、前記出射ビームのビー
ム形状及び光軸の調整を行うビーム調整光学系を設けた
ことを特徴とする情報記録装置。
1. Information for recording information by guiding a beam emitted from a laser light source to an objective lens through an irradiation optical system, and irradiating the beam condensed by the beam onto a surface of an optical information recording medium. In the recording apparatus, a beam adjusting optical system for adjusting a beam shape and an optical axis of the emitted beam is provided on an optical path between the laser light source and the irradiation optical system.
【請求項2】 ビーム調整光学系に、出射ビームのビー
ム径を規制するビーム径規制部材を設けたことを特徴と
する請求項1記載の情報記録装置。
2. The information recording apparatus according to claim 1, wherein the beam adjusting optical system is provided with a beam diameter regulating member for regulating the beam diameter of the outgoing beam.
【請求項3】 ビーム調整光学系は、レンズ曲率の形成
された方向及び光軸方向に移動自在な一対のシリンドリ
カルレンズを有することを特徴とする請求項1又は2記
載の情報記録装置。
3. The information recording apparatus according to claim 1, wherein the beam adjusting optical system has a pair of cylindrical lenses that are movable in the direction in which the lens curvature is formed and in the optical axis direction.
【請求項4】 一対のシリンドリカルレンズを2組設
け、これら各組のレンズ曲率の形成された方向が互いに
直交するように前記一対のシリンドリカルレンズを設置
したことを特徴とする請求項3記載の情報記録装置。
4. The pair of cylindrical lenses is provided in two sets, and the pair of cylindrical lenses is installed such that the directions in which the lens curvatures of these sets are formed are orthogonal to each other. Recording device.
【請求項5】 一対のシリンドリカルレンズを、ビーム
エキスパンダ比がm倍(ただしm>1)のビームエキス
パンダとして構成したことを特徴とする請求項3又は4
記載の情報記録装置。
5. The pair of cylindrical lenses is configured as a beam expander having a beam expander ratio of m times (m> 1).
Information recording device described.
【請求項6】 シリンドリカルレンズの後段に、調整後
の出射ビームをサンプル光として抽出するビーム抽出手
段を設けたことを特徴とする請求項4又は5記載の情報
記録装置。
6. The information recording apparatus according to claim 4, further comprising a beam extraction unit for extracting the adjusted outgoing beam as sample light after the cylindrical lens.
【請求項7】 ビーム抽出手段により抽出されたサンプ
ル光を2方向に偏光分離する偏光分離手段を設けたこと
を特徴とする請求項6記載の情報記録装置。
7. The information recording apparatus according to claim 6, further comprising polarization splitting means for splitting the sample light extracted by the beam extracting means into two directions.
【請求項8】 偏光分離手段により分離された一方の光
路上に位置調整用受光手段を配設し、他方の光路上に角
度・ビーム形状調整用受光手段を配設したことを特徴と
する請求項7記載の情報記録装置。
8. A light receiving means for position adjustment is arranged on one optical path separated by the polarization separating means, and a light receiving means for angle / beam shape adjustment is arranged on the other optical path. Item 7. The information recording device according to item 7.
【請求項9】 角度・ビーム形状調整用受光手段に、ビ
ーム抽出手段により抽出された複数のサンプル光を導く
ようにしたことを特徴とする請求項8記載の情報記録装
置。
9. The information recording apparatus according to claim 8, wherein a plurality of sample lights extracted by the beam extracting means are guided to the light receiving means for adjusting the angle / beam shape.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7236434B2 (en) 2001-06-29 2007-06-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master, and wavefront fluctuation correction mechanism

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7236434B2 (en) 2001-06-29 2007-06-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master, and wavefront fluctuation correction mechanism
US7272099B2 (en) 2001-06-29 2007-09-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master and pinhole mechanism

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