JPH09304474A - Semiconductor element-measuring apparatus - Google Patents

Semiconductor element-measuring apparatus

Info

Publication number
JPH09304474A
JPH09304474A JP8118928A JP11892896A JPH09304474A JP H09304474 A JPH09304474 A JP H09304474A JP 8118928 A JP8118928 A JP 8118928A JP 11892896 A JP11892896 A JP 11892896A JP H09304474 A JPH09304474 A JP H09304474A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measuring
semiconductor element
semiconductor device
measurement
arm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8118928A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyokazu Aoki
清和 青木
Yasushi Miura
靖 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Microsystems Co Ltd
Asahi Kasei Microdevices Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Microsystems Co Ltd
Asahi Kasei Microdevices Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Microsystems Co Ltd, Asahi Kasei Microdevices Corp filed Critical Asahi Kasei Microsystems Co Ltd
Priority to JP8118928A priority Critical patent/JPH09304474A/en
Publication of JPH09304474A publication Critical patent/JPH09304474A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten the measurement index time by supplying a semiconductor element with the use of a measuring arm that can vacuum chuck any of an SOP(small outline package) type and a QFP(quad flat package) type semiconductor elements, and setting a measuring part at a position 90 deg. rotated in the vertical direction. SOLUTION: A storing part unit can store any of an SOP type and a QFP type elements. A measuring part unit consists of a measuring part, a supplying part and a transferring part. When a semiconductor element 3 not yet measured is sent out from a feed position of a horizontal movement mechanism to a measurement position 15, a rotary measuring arm 19 rotates and moves to above the element 3 at a position 15 and a front block 20 of the arm 19 vacuum chucks the element 3. When the element 3 is away from a first stage 16, the arm 19 rotates 90 deg. in a vertical direction and transfers the element 3 chucked by the block 20 to a measuring device 14. The element 3 is moved from the block 20 to a measuring socket 21, where the element 3 is measured.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子の電気
的特性試験を行う際に使用する半導体素子測定装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device measuring apparatus used when conducting an electrical characteristic test of a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体素子の外形形状は代表的にはSO
P(small outline package) 型とQFP(quad flat pac
kage) 型とに分けられ、半導体素子測定装置では、この
形状の相異により測定する半導体素子を測定装置へ供給
する方式は異なっていた。
2. Description of the Related Art The outer shape of a semiconductor element is typically SO
P (small outline package) type and QFP (quad flat pac)
kage) type, and in the semiconductor element measuring apparatus, the method of supplying the semiconductor element to be measured to the measuring apparatus was different due to the difference in shape.

【0003】つまり、SOP型の形状はリード端子が対
応する2面より突出している形状となっており(図
7)、SOP型の半導体素子を測定装置に供給する場
合、自重による自由落下方式で半導体素子を適当な角度
に設定されたガイドレールに沿って1個毎上方の供給部
から落下させて供給している。自由落下方式は半導体素
子の供給時間が早く、しかもスペースが狭くなるため自
由落下が可能な外形形状の半導体素子の供給の主流とな
っている。
That is, the SOP type has a shape in which the lead terminals project from the corresponding two surfaces (FIG. 7), and when supplying the SOP type semiconductor element to the measuring apparatus, the free fall method by its own weight is used. The semiconductor elements are supplied by dropping one by one from an upper supply section along a guide rail set at an appropriate angle. The free-fall method is a mainstream supply of semiconductor elements having an outer shape that allows free-fall because the supply time of semiconductor elements is short and the space is narrow.

【0004】一方、QFP型の形状はリード端子が4面
すべてより突出している形状となっており(図8)、Q
FP型の半導体素子を測定装置に供給する場合、SOP
型と異なって4面からリードが出ている為に自由落下方
式が採用出来ない。そのために、QFP型の外形を測定
アーム等でチャックして、測定アームをX軸,Y軸,Z
軸方向のそれぞれに移動して供給していた。この測定ア
ーム方式は、SOP型,QFP型いずれの外形形状の半
導体素子でも供給可能であるが、測定アームがX軸,Y
軸,Z軸と3方向移動するために供給時間が遅い為に測
定インデックスタイムが長いという欠点があった。
On the other hand, the QFP type has a shape in which the lead terminals project from all four sides (FIG. 8).
When supplying an FP type semiconductor device to a measuring device, SOP
Unlike the mold, the free fall method cannot be adopted because the leads come out from four sides. For that purpose, the outer shape of the QFP type is chucked with a measuring arm or the like, and the measuring arm is moved along the X axis, Y axis, and Z axis.
It was supplied by moving in each of the axial directions. This measuring arm method can be used for semiconductor devices of any external shape such as SOP type and QFP type.
There is a drawback in that the measurement index time is long because the supply time is long because it moves in three directions, the axis and the Z axis.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記の様にSOP型と
QFP型の半導体素子の測定方法が異なっており、SO
P型半導体素子に採用される自由落下方式には、QFP
型の半導体素子はその形状のため適用不能であり、QF
P型の測定アーム方式は、SOP型とQFP型の半導体
素子を共有的に測定可能であるが、SOP型の半導体素
子にとっては測定インデックスタイムが長い為に測定効
率が犠牲となっていた。そのため、測定装置の共有化が
出来ず、SOP型とQFP型の測定専用機として別々に
スペースと費用を要していた。本発明は、以上の課題を
解決する半導体素子測定装置を提供することを目的とし
ている。
As described above, the measuring methods for SOP type and QFP type semiconductor devices are different from each other.
The free fall method adopted for P-type semiconductor devices is QFP.
Type semiconductor device is not applicable because of its shape.
The P-type measuring arm method can commonly measure SOP-type and QFP-type semiconductor elements, but the measurement efficiency is sacrificed for SOP-type semiconductor elements because the measurement index time is long. Therefore, the measuring device cannot be shared, and the SOP-type and QFP-type dedicated measuring machines require separate space and cost. An object of the present invention is to provide a semiconductor device measuring device that solves the above problems.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、半導体素子
と半導体素子測定装置で測定する際、上記課題を解決す
るためにSOP型、QFP型のいずれの半導体素子も真
空チャック可能な測定アームを用いて、半導体素子を測
定部に供給し、測定アームの移動位置つまり測定部の位
置を90°垂直回転した位置に設置することにより、従
来測定アームの場合では長かった測定インデックスタイ
ムの短縮を図った。
In order to solve the above problems, the present inventor has made a measurement arm capable of vacuum chucking both SOP type semiconductor devices and QFP type semiconductor devices in order to solve the above problems. The semiconductor element is supplied to the measurement unit by using, and the measurement index time, which was long in the case of the conventional measurement arm, is shortened by setting the moving position of the measurement arm, that is, the position of the measurement unit vertically rotated by 90 °. planned.

【0007】すなわち、本発明の目的は、半導体素子の
測定装置において、被測定半導体素子を真空チャック
し、および90°垂直回転して前記被測定半導体素子を
測定手段へ移送し、かつ固定するための垂直回転手段を
備え、前記垂直回転手段が、半導体素子を測定手段へ移
送するための回転測定アームを少なくとも1個備えるこ
とを特徴とする半導体素子測定装置を提供することであ
る。
That is, an object of the present invention is to vacuum-chuck a semiconductor element to be measured in a semiconductor device measuring apparatus and to rotate the sample by 90 ° to transfer and fix the semiconductor element to be measured to a measuring means. The present invention provides a semiconductor device measuring apparatus characterized in that the vertical rotating device comprises at least one rotation measuring arm for transferring the semiconductor device to the measuring device.

【0008】本発明のさらなる目的は、上記の半導体素
子測定装置において、前記半導体素子の形状がSOP
型、およびQFP型のいずれの形状でも測定が可能であ
ることを特徴とする半導体素子測定装置を提供すること
である。
A further object of the present invention is to provide a semiconductor device measuring apparatus as described above, wherein the shape of the semiconductor device is SOP.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor element measuring device characterized by being capable of measuring any shape of a mold and a QFP type.

【0009】本発明のさらなる目的は、上記の半導体素
子測定装置において、前記被測定半導体素子が、前記垂
直回転手段により真空チャックされてから測定手段へ移
動するのに要する時間が0.7秒以下であることを特徴
とする半導体素子測定装置を提供することである。
A further object of the present invention is to provide a semiconductor device measuring apparatus as described above, wherein the time required for the semiconductor device to be measured to move to the measuring device after being vacuum chucked by the vertical rotating device is 0.7 seconds or less. The present invention is to provide a semiconductor device measuring apparatus characterized by:

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の半導体素子測定装置全体
の概念図を図2に示す。図2に示すように半導体素子測
定装置は、半導体素子が収納されている収納部ユニット
(1)と、半導体素子を測定する測定部ユニット(2)
に二分される。収納部ユニット(1)と測定部ユニット
(2)とは分離されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 2 shows a conceptual diagram of the whole semiconductor device measuring apparatus of the present invention. As shown in FIG. 2, the semiconductor device measuring apparatus includes a housing unit (1) housing a semiconductor device and a measuring unit (2) for measuring the semiconductor device.
Divided into two. The storage unit (1) and the measuring unit (2) are separated.

【0011】収納部ユニット(1)はSOP型、QFP
型いずれも収納可能である。例えば、図3に示すよう
に、それぞれの形状の半導体素子(3)は、収納部ユニ
ット(1)内の半導体素子収納用トレー(4)に収納さ
れる。収納用トレー(4)に収納されている半導体素子
(3)は、この収納用トレー(4)から1個ずつ測定部
ユニット(2)へと運ばれて測定され、再度、この収納
部ユニット(1)に収められる。この収納部ユニット
(1)において、半導体素子(3)は、収納用トレー
(4)の代わりに収納用スティック(図示せず)に収め
られてもよい。
The storage unit (1) is an SOP type, QFP
Both molds can be stored. For example, as shown in FIG. 3, the semiconductor elements (3) having respective shapes are stored in the semiconductor element storage tray (4) in the storage unit (1). The semiconductor elements (3) stored in the storage tray (4) are conveyed one by one from the storage tray (4) to the measurement unit unit (2) and are measured. It is stored in 1). In this storage unit (1), the semiconductor element (3) may be stored in a storage stick (not shown) instead of the storage tray (4).

【0012】本発明の測定部ユニット(2)を図4に概
略的に示す。
The measuring unit (2) of the present invention is shown schematically in FIG.

【0013】測定部ユニット(2)は測定部(5)、供
給部(6)および搬出部(7)より成る。測定部(5)
は半導体素子を測定する部分である。供給部(6)は、
未測定の半導体素子(3)を収納部ユニット(1)から
供給ロボット(8)で取り出し、測定部(5)内の水平
移動機構(12)の供給位置(9)に供給する。逆に、
搬出部(7)は、測定部(5)において、水平移動機構
(12)の搬出位置(11)に移動した測定済みの半導
体素子(3)を、搬出ロボット(10)により、収納部
ユニット(1)へ搬出する。また、この供給部(6)
は、収納部ユニット(1)から未測定の半導体素子
(3)を直接測定部(5)へ供給する場合と、未測定の
半導体素子(3)を一旦、加熱ステージ(22)へ移送
し、ここで加熱、冷却等の熱処理を施した後で、測定部
(5)に供給する場合もある。
The measuring section unit (2) comprises a measuring section (5), a supply section (6) and an unloading section (7). Measuring unit (5)
Is a part for measuring a semiconductor device. The supply section (6)
The unmeasured semiconductor device (3) is taken out from the storage unit (1) by the supply robot (8) and supplied to the supply position (9) of the horizontal movement mechanism (12) in the measurement unit (5). vice versa,
The carry-out section (7) uses the carry-out robot (10) to store the measured semiconductor element (3) moved to the carry-out position (11) of the horizontal movement mechanism (12) in the measuring section (5) by the carry-out robot (10). Carry out to 1). Also, this supply unit (6)
Is a case where the unmeasured semiconductor element (3) is directly supplied from the storage unit (1) to the measuring section (5), and the unmeasured semiconductor element (3) is once transferred to the heating stage (22), Here, it may be supplied to the measuring section (5) after being subjected to heat treatment such as heating and cooling.

【0014】本発明の特徴的な点は、未測定の半導体素
子(3)を収納部ユニット(1)から水平移動機構(1
2)の供給位置(9)へ供給ロボット(8)で供給する
際、SOP型半導体素子またはQFP型半導体素子のい
ずれでも供給可能な点である。同様に、測定済みの半導
体素子(3)を水平移動機構(12)の搬出位置(1
1)から収納部ユニット(1)へ搬出ロボット(10)
で搬出する際も同じである。
A characteristic point of the present invention is that the unmeasured semiconductor element (3) is moved horizontally from the housing unit (1) to the horizontal movement mechanism (1).
When supplying to the supply position (9) of 2) by the supply robot (8), it is possible to supply either the SOP type semiconductor element or the QFP type semiconductor element. Similarly, the measured semiconductor device (3) is moved to the carry-out position (1) of the horizontal movement mechanism (12).
Carry-out robot (10) from 1) to storage unit (1)
It is the same when carrying out with.

【0015】本発明の測定装置に備えられる測定部
(5)を、図1、図5および図6を参照しながら具体的
に説明する。
The measuring unit (5) provided in the measuring apparatus of the present invention will be specifically described with reference to FIGS. 1, 5 and 6.

【0016】測定部(5)は、被測定半導体素子(3)
を水平移動するための水平移動機構(12)と、垂直回
転機構(13)と、測定器(14)とを備える。
The measuring section (5) is a semiconductor device (3) to be measured.
A horizontal moving mechanism (12) for horizontally moving the vehicle, a vertical rotating mechanism (13), and a measuring device (14).

【0017】図5に示すように、水平移動機構(12)
は、未測定半導体素子用の第1ステージ(16)と測定
済み半導体素子用の第2ステージ(17)とを備える水
平移動ステージ(18)、およびその水平移動ステージ
(18)を水平移動運動させるためのアクチュエータ
(図示せず)を備える。
As shown in FIG. 5, a horizontal movement mechanism (12)
Is a horizontal moving stage (18) including a first stage (16) for an unmeasured semiconductor device and a second stage (17) for a measured semiconductor device, and horizontally moving the horizontal moving stage (18). An actuator (not shown) for

【0018】垂直回転機構(13)は、先端部に先端ブ
ロック(20)を有する回転測定アーム(19)を備え
る。
The vertical rotation mechanism (13) comprises a rotation measuring arm (19) having a tip block (20) at its tip.

【0019】測定器(14)は、測定ソケット(21)
と、および測定ソケット(21)に電気的に連結された
測定プローブ(図示せず)とを備える。
The measuring device (14) has a measuring socket (21).
And a measuring probe (not shown) electrically connected to the measuring socket (21).

【0020】未測定の半導体素子(3)は、図5に示す
ように、測定部(5)において、供給ロボット(8)に
より、水平移動機構(12)の供給位置(9)に位置す
る第1ステージ(16)上に供給される。この半導体素
子(3)を載せた第1ステージ(16)は、水平移動ス
テージ(18)の矢印C方向への水平移動運動により測
定位置(15)へ送り出される。測定位置(15)は、
移動してきた半導体素子(3)が、回転測定アーム(1
9)の先端ブロック(20)の真下で、先端ブロック
(20)と相対するように設けられる。(すなわち、垂
直回転機構(13)は、測定位置(15)の上方に設け
られている。) 未測定の半導体素子(3)が水平移動機構(12)の供
給位置(9)から測定位置(15)に送り出されると、
図1に示すように、回転測定アーム(19)は測定位置
(15)にある半導体素子(3)の上に回転移動し、回
転測定アーム(19)の先端にある先端ブロック(2
0)がその半導体素子(3)を真空チャックする。この
ようにして、半導体素子(3)が第1ステージ(16)
から外れたら、回転測定アーム(19)は矢印A方向に
90°垂直回転して、先端ブロック(20)にチャック
されている半導体素子(3)を測定器(14)へと移送
する。ここで、半導体素子(3)は、先端ブロック(2
0)から測定ソケット(21)へと移動し、測定を行
う。
As shown in FIG. 5, the unmeasured semiconductor element (3) is positioned at the supply position (9) of the horizontal movement mechanism (12) by the supply robot (8) in the measuring section (5). It is supplied on one stage (16). The first stage (16) on which the semiconductor element (3) is placed is sent to the measurement position (15) by the horizontal movement motion of the horizontal movement stage (18) in the direction of arrow C. The measurement position (15) is
The semiconductor element (3) that has moved moves to the rotation measurement arm (1
It is provided directly below the tip block (20) of 9) so as to face the tip block (20). (That is, the vertical rotation mechanism (13) is provided above the measurement position (15).) The unmeasured semiconductor element (3) moves from the supply position (9) of the horizontal movement mechanism (12) to the measurement position ( When sent to 15),
As shown in FIG. 1, the rotation measuring arm (19) moves rotationally onto the semiconductor element (3) at the measurement position (15), and the tip block (2) at the tip of the rotation measuring arm (19) is moved.
0) vacuum chucks the semiconductor element (3). In this way, the semiconductor device (3) becomes the first stage (16).
When removed, the rotation measuring arm (19) vertically rotates 90 ° in the direction of arrow A to transfer the semiconductor element (3) chucked by the tip block (20) to the measuring instrument (14). Here, the semiconductor element (3) has a tip block (2
0) to the measuring socket (21) for measurement.

【0021】回転測定アームが複数個装備している場
合、それらの回転測定アームは互いに独立して回転運動
してもよく、あるいは、互いに一定の角度となるように
固定された状態で回転運動してもよい。
When a plurality of rotation measuring arms are provided, the rotation measuring arms may rotate independently of each other, or may rotate while being fixed to each other at a constant angle. May be.

【0022】一方、未測定の半導体素子(3)が第1ス
テージ(16)から外れたら、水平移動ステージ(1
8)は、矢印C方向とは逆方向へと再度水平移動して、
図5に示すように元の位置に戻り、次の半導体素子
(3)の供給に使用される。あるいは、この水平移動ス
テージ(18)は、半導体素子(3)が外れた後、元の
位置に戻らずに、または戻った後で、後記するようにし
て、測定済みの半導体素子(3)の受け取り、および搬
出のために使用される。
On the other hand, when the unmeasured semiconductor device (3) is removed from the first stage (16), the horizontal movement stage (1
8) moves horizontally again in the direction opposite to the arrow C direction,
As shown in FIG. 5, it returns to its original position and is used for supplying the next semiconductor element (3). Alternatively, the horizontal movement stage (18) does not return to the original position after the semiconductor element (3) is disengaged, or after the semiconductor element (3) is returned to the horizontal movement stage (18) as described below, and the measured semiconductor element (3) is Used for receiving and unloading.

【0023】ここにおいて、本発明のさらに特徴的な点
は、この回転測定アーム(19)が少なくとも1個以上
備わり、これ(これら)が矢印A方向へ90°垂直回転
し、この垂直回転運動により先端ブロック(20)に真
空チャックされた半導体素子(3)が測定ソケット(2
1)へセットされ、同様に測定済みの半導体素子を測定
ソケット(21)からリセットする際も回転測定アーム
(19)を矢印A方向へ270°回転して再度測定位置
(15)に戻す機構になっている点である。この際、回
転測定アーム(19)が1個のみ装備されている場合に
は、回転測定アーム(19)は、矢印B方向に90°逆
回転して測定位置(15)に戻ってもよい。そして、回
転測定アーム(19)の回転スピードは、回転測定アー
ム(19)をドライブするモーターのスピードを上げる
ことにより速くなり、測定インデックスタイムを短縮す
ることができる。
Here, a further characteristic feature of the present invention is that at least one rotation measuring arm (19) is provided, and these (these) rotate 90 ° vertically in the direction of arrow A. The semiconductor element (3) vacuum-chucked to the tip block (20) is attached to the measuring socket (2
Similarly, when the semiconductor element that has been set to 1) and has already been measured is reset from the measurement socket (21), the rotation measurement arm (19) is rotated by 270 ° in the direction of arrow A and returned to the measurement position (15) again. That is the point. At this time, when only one rotation measuring arm (19) is equipped, the rotation measuring arm (19) may be rotated by 90 ° in the direction of arrow B and returned to the measurement position (15). The rotation speed of the rotation measuring arm (19) is increased by increasing the speed of the motor that drives the rotation measuring arm (19), and the measurement index time can be shortened.

【0024】上記のようにして測定の終了した半導体素
子(3)は、上記した回転測定アーム(19)の矢印A
方向への回転により測定位置(15)へ戻される。ここ
で、前記した水平移動ステージ(18)は、第2ステー
ジ(17)が測定位置(15)[つまり、先端ブロック
(20)の真下]に位置するように水平移動して、先端
ブロック(20)から真空チャック解除により測定済み
の半導体素子(3)を受け取り、図6に示すように矢印
D方向へ水平移動して搬出位置(11)へ搬出される。
このようにして搬出位置(11)へと移送された測定済
みの半導体素子(3)は、搬出部(7)の搬出ロボット
(10)により、収納部ユニット(1)内の半導体素子
収納用トレー(4)に収められ、測定が終了する。
The semiconductor element (3) for which the measurement has been completed as described above is indicated by the arrow A of the rotation measuring arm (19).
Rotation in the direction returns to the measuring position (15). Here, the above-mentioned horizontal movement stage (18) horizontally moves so that the second stage (17) is located at the measurement position (15) [that is, immediately below the tip block (20)], and the tip block (20) is moved. ), The semiconductor element (3) which has been measured is received by releasing the vacuum chuck, and horizontally moved in the direction of arrow D as shown in FIG. 6 to be carried out to the carry-out position (11).
The measured semiconductor elements (3) transferred to the unloading position (11) in this way are moved by the unloading robot (10) of the unloading section (7) to the semiconductor element storage tray in the storage section unit (1). It is stored in (4) and the measurement is completed.

【0025】したがって、本発明の半導体素子測定装置
では、SOP型半導体素子でもQFP型半導体素子でも
チャッキング可能な供給ロボット(8)及び搬出ロボッ
ト(10)で供給と搬出を行い、回転測定アーム(1
9)の回転スピードを速くすることで測定インデックス
タイムを短縮する。このようにして、SOP型半導体素
子とQFP型半導体素子が同一の装置で測定でき、測定
インデックスタイムが長くならず測定効率が低下しない
ことが達成できる。
Therefore, in the semiconductor device measuring apparatus of the present invention, the feeding robot (8) and the carry-out robot (10) capable of chucking both the SOP semiconductor device and the QFP semiconductor device supply and carry out the rotation measuring arm ( 1
The measurement index time is shortened by increasing the rotation speed in 9). In this way, the SOP semiconductor element and the QFP semiconductor element can be measured by the same device, and it is possible to achieve that the measurement index time does not become long and the measurement efficiency does not decrease.

【0026】さらに、本発明の半導体素子測定装置で
は、垂直回転機構(13)が複数個の回転測定アーム
(19)を備えることにより、1個の半導体素子に対す
る測定インデックスタイムのみならず、測定能率も向上
する。
Further, in the semiconductor device measuring apparatus of the present invention, since the vertical rotation mechanism (13) is provided with a plurality of rotation measuring arms (19), not only the measurement index time for one semiconductor device but also the measurement efficiency can be improved. Also improves.

【0027】[0027]

【実施例】本実施例では、回転測定アームが2個装備し
ている半導体素子測定装置を例として挙げ、その測定手
順および測定方法を図1〜図6により更に具体的に説明
する。
EXAMPLE In this example, a semiconductor device measuring apparatus equipped with two rotation measuring arms is taken as an example, and its measuring procedure and measuring method will be described more specifically with reference to FIGS.

【0028】まず、未測定のSOP型半導体素子または
QFP型半導体素子(3)は、図3に示すように、収納
部ユニット(1)のそれぞれ専用のトレー(4)に収納
されている。
First, the unmeasured SOP type semiconductor element or QFP type semiconductor element (3) is stored in a dedicated tray (4) of the storage unit (1) as shown in FIG.

【0029】図4に示すように、供給ロボット(8)は
アクチュエータ(図示せず)によりX軸、Y軸を移動し
てトレーの特定位置に移動して、エアシリンダ(図示せ
ず)によりZ軸移動して、供給ロボット(8)の先端部
でトレー(4)の特定位置の未測定半導体素子(3)を
真空チャックする。未測定半導体素子(3)が加熱処理
が不用の場合、供給ロボット(8)は未測定半導体素子
(3)を真空チャックしたまま、加熱ステージ(22)
を経由せずに、供給位置(9)にある第1ステージ(1
6)に直接供給する。
As shown in FIG. 4, the supply robot (8) moves X-axis and Y-axis by an actuator (not shown) to a specific position of the tray, and Z by an air cylinder (not shown). The shaft is moved, and the unmeasured semiconductor element (3) at a specific position of the tray (4) is vacuum-chucked by the tip of the supply robot (8). When the unmeasured semiconductor element (3) does not need to be heat-treated, the supply robot (8) holds the unmeasured semiconductor element (3) in a vacuum chuck while heating the heating stage (22).
Without passing through the first stage (1
Supply directly to 6).

【0030】未測定の半導体素子(3)は、図5に示す
ように、供給位置(9)に位置する第1ステージ(1
6)上に再び真空チャックされ、アクチュエータ(図示
せず)によって測定位置(15)へ搬送される。
The unmeasured semiconductor device (3) is, as shown in FIG. 5, the first stage (1) located at the supply position (9).
6) It is again vacuum-chucked and conveyed to the measuring position (15) by an actuator (not shown).

【0031】本実施例の半導体素子測定装置の垂直回転
機構(13)は、図1に示すように、2個の回転測定ア
ーム[すなわち、第1の回転測定アーム(19)および
第2の回転測定アーム(19′)]を備えている。この
2個の回転測定アーム(19および19′)は、それぞ
れ独立して回転運動できるように設けられる。
As shown in FIG. 1, the vertical rotation mechanism (13) of the semiconductor device measuring apparatus according to this embodiment has two rotation measuring arms [that is, a first rotation measuring arm (19) and a second rotation measuring arm (19)). Measuring arm (19 ')]. The two rotary measuring arms (19 and 19 ') are provided so that they can rotate independently of each other.

【0032】未測定の半導体素子(3)が水平移動機構
(12)の測定位置(15)に矢印C方向へ移送される
と、第1の回転測定アーム(19)は、測定位置(1
5)にある第1ステージ(16)までまで下降する。そ
して、図1に示すように、その先端に設けられている先
端ブロック(20)が半導体素子(3)を真空チャック
し、そのまま再度上昇して矢印A方向へ90°垂直回転
する。90°回転した位置は、未測定の半導体素子
(3)が測定ソケット(21)の真上になるように予め
位置調整しておくことにより位置決め出来る。回転測定
アーム(19)が測定ソケット(21)の真上まで回転
した後、先端ブロック(20)が未測定半導体素子を測
定ソケット(21)にセットする。
When the unmeasured semiconductor element (3) is transferred to the measuring position (15) of the horizontal moving mechanism (12) in the direction of arrow C, the first rotation measuring arm (19) moves to the measuring position (1).
It descends to the first stage (16) in 5). Then, as shown in FIG. 1, a tip block (20) provided at the tip of the tip chucks the semiconductor element (3) in a vacuum and raises it again to rotate 90 ° vertically in the direction of arrow A. The position rotated by 90 ° can be positioned by preliminarily adjusting the position so that the unmeasured semiconductor element (3) is directly above the measurement socket (21). After the rotation measuring arm (19) has rotated right above the measuring socket (21), the tip block (20) sets the unmeasured semiconductor element in the measuring socket (21).

【0033】一方、未測定の半導体素子(3)が第1ス
テージ(16)から外れた水平移動ステージ(18)
は、矢印C方向とは逆方向に水平移動して元の位置に戻
り、空になった第1ステージ(16)の上には第2の未
測定半導体素子(図示せず)が上記と同様にして供給さ
れる。この第2の未測定半導体素子は、上記と同様にし
て、水平移動機構(12)の供給位置(9)から測定位
置(15)へと移送される。ここで、第2の回転測定ア
ーム(19′)およびその先先端にある先端ブロック
(20′)は、上記の第1の回転測定アーム(19)お
よび先端ブロック(20)と同様にして、第2の未測定
半導体素子を真空チャックし、垂直回転により測定ソケ
ット(21)へと搬送して測定に供する。
On the other hand, the horizontal movement stage (18) in which the unmeasured semiconductor device (3) is separated from the first stage (16)
Shows a second unmeasured semiconductor device (not shown) on the emptied first stage (16) after moving horizontally in the direction opposite to the arrow C direction and returning to the original position. Will be supplied. This second unmeasured semiconductor element is transferred from the supply position (9) of the horizontal movement mechanism (12) to the measurement position (15) in the same manner as above. Here, the second rotation measuring arm (19 ′) and the tip block (20 ′) at the tip end thereof have the same structure as the first rotation measuring arm (19) and the tip block (20). The second unmeasured semiconductor element is vacuum-chucked and conveyed to the measurement socket (21) by vertical rotation for measurement.

【0034】このようにして第2の半導体素子の測定が
行われる間に、測定の終了した第1の半導体素子(3)
がチャックされたままの第1の回転測定アーム(19)
は、さらに矢印A方向へ270°回転して、測定位置
(15)に戻る。ここで、先端ブロック(20)の真空
チャックは解除され、測定済みの半導体素子(3)が、
測定位置(15)であり、かつ先端ブロック(20)の
真下に位置するように水平移動してきた水平移動ステー
ジ(18)の第2ステージ(17)上に載せられ、第1
の回転測定アーム(19)の先端ブロック(20)は空
になる。この水平移動ステージ(18)は、この第2ス
テージ(17)が搬出位置(11)に位置するように矢
印D方向へ水平移動し、この位置において、測定済みの
半導体素子(3)は、搬出ロボット(10)により収納
ユニット(1)へと搬出される。この際、水平移動機構
(12)は、測定済みの半導体素子(3)を載せた第2
ステージ(17)が搬出位置に移動した時に、第3の未
測定半導体素子(3)を載せた第1ステージ(16)が
丁度測定位置(15)に位置するように設計する。した
がって、測定済みの半導体素子(3)が搬出位置(1
1)に移動した時に、第3の未測定半導体素子は、測定
位置(15)であり、かつ上記の空になった第1の回転
測定アーム(19)の真下に位置し、上記と同様にして
垂直回転移送されて測定が行われる。このように、回転
測定アームを複数備え、それら回転アームの運動と、水
平移動ステージの運動とを同期化させることによって、
測定能率を大幅に向上させることができる。
While the measurement of the second semiconductor element is performed in this manner, the measurement of the first semiconductor element (3) is completed.
First rotation measuring arm (19) with the chuck being chucked
Further rotates 270 ° in the direction of arrow A and returns to the measurement position (15). Here, the vacuum chuck of the tip block (20) is released, and the measured semiconductor element (3) is
The measurement position (15) is placed on the second stage (17) of the horizontal movement stage (18) that has moved horizontally so as to be located directly below the tip block (20).
The tip block (20) of the rotary measuring arm (19) is empty. The horizontal movement stage (18) horizontally moves in the direction of arrow D so that the second stage (17) is located at the carry-out position (11), and at this position, the measured semiconductor element (3) is carried out. It is carried out by the robot (10) to the storage unit (1). At this time, the horizontal movement mechanism (12) is provided with the second device on which the measured semiconductor element (3) is placed.
The first stage (16) on which the third unmeasured semiconductor element (3) is placed is designed to be located at the measurement position (15) when the stage (17) moves to the carry-out position. Therefore, the measured semiconductor element (3) is not moved to the carry-out position (1
When moved to 1), the third unmeasured semiconductor element is in the measuring position (15) and is located directly below the emptied first rotary measuring arm (19) as described above. Then, it is vertically transferred and measured. In this way, by providing a plurality of rotation measuring arms and synchronizing the movements of the rotation arms with the movement of the horizontal movement stage,
The measurement efficiency can be significantly improved.

【0035】測定器(14)の測定ソケット(21)に
おいて、未測定の半導体素子(3)のリードが測定プロ
ーブ(図示せず)と電気的に接続して測定が行われる。
In the measuring socket (21) of the measuring instrument (14), the lead of the unmeasured semiconductor element (3) is electrically connected to the measuring probe (not shown) for the measurement.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明によって、従来の測定アーム方式
を90°垂直の回転測定アーム方式にすることにより、
測定インデックスタイムを短縮できた。従来の測定アー
ム方式の時の1.0秒が、同じ測定条件で0.6秒の測
定インデックスタイムに短縮できた。
According to the present invention, by changing the conventional measuring arm system to the 90 ° vertical rotating measuring arm system,
The measurement index time was shortened. It was possible to reduce the measurement index time of 0.6 seconds under the same measurement conditions from 1.0 second in the conventional measurement arm method.

【0037】同時に、SOP型半導体素子の従来の自由
落下方式による測定インデックスタイムと比較してもさ
ほど遅くないので、SOP型半導体素子とQFP型半導
体素子の測定を共有した測定装置が可能となった。
At the same time, the measurement index time of the SOP type semiconductor device by the conventional free fall method is not so slow, so that a measuring device sharing the measurement of the SOP type semiconductor device and the QFP type semiconductor device has become possible. .

【0038】さらに、本発明では、半導体素子測定装置
の垂直回転機構において、複数個の回転測定アームを備
えることにより、次の半導体素子の測定が行われるまで
の時間が短縮され、したがって、測定能率が向上でき
た。
Further, according to the present invention, in the vertical rotation mechanism of the semiconductor device measuring apparatus, by providing a plurality of rotation measuring arms, the time until the next semiconductor device is measured is shortened, and therefore the measurement efficiency is improved. Was improved.

【0039】さらに、測定装置におけるSOP型および
QFP型半導体素子の共有化によって、スペースや費用
の節約のみならず、SOP型半導体素子とQFP型半導
体素子との切り換え時間や手間を省くことが可能となっ
た。
Further, by sharing the SOP type and QFP type semiconductor elements in the measuring apparatus, not only space and cost can be saved, but also time and labor for switching between the SOP type semiconductor element and the QFP type semiconductor element can be saved. became.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の半導体素子測定装置において、測定部
ユニットに使用される典型的な垂直回転機構の例を説明
するための部分概略図である。
FIG. 1 is a partial schematic view for explaining an example of a typical vertical rotation mechanism used in a measuring unit in a semiconductor device measuring apparatus of the present invention.

【図2】本発明の半導体素子測定装置の概略的な全体図
である。
FIG. 2 is a schematic overall view of a semiconductor device measuring apparatus of the present invention.

【図3】本発明の半導体素子測定装置の収納部ユニット
を説明する概略図である。
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a storage unit of the semiconductor device measuring apparatus of the present invention.

【図4】本発明の半導体素子測定装置の測定部ユニット
を説明する概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a measuring unit of the semiconductor device measuring apparatus according to the present invention.

【図5】本発明の半導体素子測定装置の測定部ユニット
において、未測定半導体素子用の第1ステージ上に供給
された半導体素子の、水平移動機構における供給位置か
ら測定位置への移動を説明するための部分概略図であ
る。
FIG. 5 illustrates movement of a semiconductor element supplied on the first stage for an unmeasured semiconductor element from a supply position to a measurement position in a horizontal movement mechanism in the measuring unit of the semiconductor element measuring apparatus of the present invention. FIG.

【図6】本発明の半導体素子測定装置の測定部ユニット
において、測定済み半導体素子用の第2ステージ上に搬
送された半導体素子の、水平移動機構における測定位置
から搬出位置への移動を説明するための部分概略図であ
る。
FIG. 6 illustrates movement of a semiconductor element carried on a second stage for a measured semiconductor element from a measurement position to a carry-out position in a horizontal movement mechanism in a measuring section unit of the semiconductor element measuring apparatus of the present invention. FIG.

【図7】本発明の半導体素子測定装置において用いられ
るSOP半導体素子の概略図である。
FIG. 7 is a schematic diagram of an SOP semiconductor element used in the semiconductor element measuring apparatus of the present invention.

【図8】本発明の半導体素子測定装置において用いられ
るQFP半導体素子の概略図である。
FIG. 8 is a schematic view of a QFP semiconductor element used in the semiconductor element measuring apparatus of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 収納部ユニット 2 測定部ユニット 3 半導体素子 4 半導体素子収納用トレー 5 測定部 6 供給部 7 搬出部 8 供給ロボット 9 供給位置 10 搬出ロボット 11 搬出位置 12 水平移動機構 13 垂直回転機構 14 測定器 15 測定位置 16 未測定半導体素子用の第1ステージ 17 測定済み半導体素子用の第2ステージ 18 水平移動ステージ 19,19′ 回転測定アーム 20,20′ 先端ブロック 21 測定ソケット 22 加熱ステージ 1 Storage Section Unit 2 Measuring Section Unit 3 Semiconductor Element 4 Semiconductor Element Storage Tray 5 Measuring Section 6 Supply Section 7 Unloading Section 8 Supply Robot 9 Supply Position 10 Unloading Robot 11 Unloading Position 12 Horizontal Movement Mechanism 13 Vertical Rotation Mechanism 14 Measuring Instrument 15 Measurement position 16 First stage for unmeasured semiconductor element 17 Second stage for measured semiconductor element 18 Horizontal movement stage 19, 19 'Rotation measuring arm 20, 20' Tip block 21 Measuring socket 22 Heating stage

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体素子の測定装置において、被測定
半導体素子を真空チャックし、および90°垂直回転し
て前記被測定半導体素子を測定手段へ移送し、かつ固定
するための垂直回転手段を備え、前記垂直回転手段が、
半導体素子を測定手段へ移送するための回転測定アーム
を少なくとも1個備えることを特徴とする半導体素子測
定装置。
1. A semiconductor device measuring apparatus comprising vertical rotating means for vacuum chucking a semiconductor element to be measured and vertically rotating it by 90 ° to transfer and fix the semiconductor element to be measured to a measuring means. , The vertical rotation means,
A semiconductor device measuring apparatus comprising at least one rotation measuring arm for transferring a semiconductor device to a measuring means.
【請求項2】 前記半導体素子の形状がSOP型、およ
びQFP型のいずれの形状でも測定が可能であることを
特徴とする請求項1に記載の半導体素子測定装置。
2. The semiconductor device measuring apparatus according to claim 1, wherein the semiconductor device can be measured in any of a SOP type and a QFP type.
【請求項3】 前記被測定半導体素子が、前記垂直回転
手段により真空チャックされてから測定手段へ移動する
のに要する時間が0.7秒以下であることを特徴とする
請求項1に記載の半導体素子測定装置。
3. The time required for moving the semiconductor device to be measured to the measuring device after being vacuum-chucked by the vertical rotating device is 0.7 seconds or less. Semiconductor device measuring device.
JP8118928A 1996-05-14 1996-05-14 Semiconductor element-measuring apparatus Pending JPH09304474A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8118928A JPH09304474A (en) 1996-05-14 1996-05-14 Semiconductor element-measuring apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8118928A JPH09304474A (en) 1996-05-14 1996-05-14 Semiconductor element-measuring apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09304474A true JPH09304474A (en) 1997-11-28

Family

ID=14748684

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8118928A Pending JPH09304474A (en) 1996-05-14 1996-05-14 Semiconductor element-measuring apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09304474A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008008658A (en) * 2006-06-27 2008-01-17 Wajima Electronics Engineering Co Ltd Handler
WO2009128790A3 (en) * 2008-04-17 2009-12-23 Semiconductor Technologies & Instruments Pte Ltd Component handler
JP2010540944A (en) * 2007-10-05 2010-12-24 ムルティテスト・エレクトロニッシェ・ジステーメ・ゲーエムベーハー Electronic parts having a plurality of rotary carriages guided along a circulation track, in particular IC handling devices
JP2022539304A (en) * 2019-11-29 2022-09-08 エイエムティ カンパニー リミテッド Test equipment for devices with fine pitch

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008008658A (en) * 2006-06-27 2008-01-17 Wajima Electronics Engineering Co Ltd Handler
JP2010540944A (en) * 2007-10-05 2010-12-24 ムルティテスト・エレクトロニッシェ・ジステーメ・ゲーエムベーハー Electronic parts having a plurality of rotary carriages guided along a circulation track, in particular IC handling devices
US8297433B2 (en) 2007-10-05 2012-10-30 Multitest Elektronische Systeme Gmbh Handler for electronic components, in particular ICs, comprising a plurality of circulating carriages that are guided along a circulating track
WO2009128790A3 (en) * 2008-04-17 2009-12-23 Semiconductor Technologies & Instruments Pte Ltd Component handler
JP2022539304A (en) * 2019-11-29 2022-09-08 エイエムティ カンパニー リミテッド Test equipment for devices with fine pitch

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3563108B2 (en) Device transport mechanism for IC test handler
US5148100A (en) Handler used in testing system for semiconductor devices
CN106959410B (en) For handling the component and method of component
JPS636857A (en) Wafer transfer device
US5773951A (en) Wafer prober having sub-micron alignment accuracy
JPS5928269B2 (en) Integrated circuit high-speed processing equipment
KR101120938B1 (en) Handling system for inspecting and sorting electronic components
JPH09304474A (en) Semiconductor element-measuring apparatus
JP2952331B2 (en) Probe device
JPH0577565B2 (en)
JP2001298000A (en) Cutting device
JPH04340248A (en) Wafer prober
CN209773408U (en) Auxiliary equipment for producing semi-solid metal slurry
JPS63217636A (en) Wafer prober
JP2732300B2 (en) Semiconductor inspection apparatus and inspection method
JP2003197712A (en) Substrate carrying equipment, and substrate housing cassette carrying equipment
JPH0341468Y2 (en)
JP2519041B2 (en) Method and apparatus for marking semiconductor wafer
JPH05144924A (en) Method and device of centering wafer
JPS63237429A (en) Wafer prober
JPH08236596A (en) Substrate carrier
JPH0930641A (en) Ic test system
JPS63244637A (en) Probing system
JP2000088689A (en) Balancing machine and placement method for object, to be tested, in balancing machine
JPH02276261A (en) Semiconductor wafer transfer device

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050223

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050930

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051117

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060303

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060427

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060704