JPH09298444A - High frequency integrated circuit component, the device and communication system using it - Google Patents

High frequency integrated circuit component, the device and communication system using it

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JPH09298444A
JPH09298444A JP8109347A JP10934796A JPH09298444A JP H09298444 A JPH09298444 A JP H09298444A JP 8109347 A JP8109347 A JP 8109347A JP 10934796 A JP10934796 A JP 10934796A JP H09298444 A JPH09298444 A JP H09298444A
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JP
Japan
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cap
integrated circuit
acoustic wave
surface acoustic
frequency integrated
Prior art date
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Application number
JP8109347A
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Japanese (ja)
Inventor
Kouichi Egara
光一 江柄
Tadashi Eguchi
正 江口
Akane Yokota
あかね 横田
Akihiro Koyama
晃広 小山
Takahiro Hachisu
高弘 蜂巣
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simplify and facilitate the electric connection inside and outside a glass cap by doping impurity to a semiconductor substrate inside and outside the cap glass in a high frequency integrated circuit where a surface acoustic wave element and a semiconductor substrate with an electric circuit formed thereon are covered by the cap glass board. SOLUTION: In a high frequency integrated circuit 10 where a glass cap 40 is connected to an upper part of a surface acoustic wave element 20 formed on a semiconductor substrate 11 with anode connection, an n-channel region is formed to a region of a p-channel silicon substrate to which the element 20 and a circuit at the outside of the cap are desired electrically to be connected, conductive bonding pads 41, 42 are formed on the surface and they are connected to the element 20 through wire bonding 51, 52. Moreover, conductive parts 61, 62 are provided to an n-channel region at the outside of the glass cap 40 so as to connect the element 20 to the outside circuit electrically. Thus, the surface acoustic wave element in the glass cap and the circuit at the outside are simply connected.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、弾性表面波素子を
含むハイブリッド高周波集積回路素子及び該高周波集積
回路素子を含む高周波集積回路装置、さらに当該高周波
集積回路装置を組み込んだ通信受信機と通信システムに
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hybrid high frequency integrated circuit device including a surface acoustic wave device, a high frequency integrated circuit device including the high frequency integrated circuit device, and a communication receiver and a communication system incorporating the high frequency integrated circuit device. Regarding

【0002】[0002]

【従来技術】近年、移動体通信、無線LANの普及に伴
い数百MHzから数GHzの高周波領域の信号を扱う高
周波デバイスの小型化、低コスト化が必要とされてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, along with the spread of mobile communication and wireless LAN, it is required to reduce the size and cost of a high frequency device that handles signals in a high frequency region of several hundred MHz to several GHz.

【0003】その中で、弾性表面波素子はフィルタ、共
振子、コンボルバ、マッチドフィルタなど、移動体通
信、無線LAN分野などで用いる高周波回路として広く
応用されてきている。また、弾性表面波素子単体で用い
るのではなく、シリコンなどの半導体基板上に高周波増
幅回路などの電子回路と弾性表面波素子が形成された高
周波集積回路化が要求されている。これらの高周波集積
回路はたとえば、『Tsubouchi ,IEEE Trans.Sonics.Ul
tarason. Vol.32,No.5,p634(1985)』などに述べられて
いる。
Among them, the surface acoustic wave device has been widely applied as a high frequency circuit used in the fields of mobile communication, wireless LAN, etc., such as filters, resonators, convolvers, matched filters and the like. Further, instead of using the surface acoustic wave element alone, there is a demand for a high frequency integrated circuit in which an electronic circuit such as a high frequency amplifier circuit and a surface acoustic wave element are formed on a semiconductor substrate such as silicon. These high frequency integrated circuits are, for example, "Tsubouchi, IEEE Trans.Sonics.Ul".
tarason. Vol.32, No.5, p634 (1985) ”and the like.

【0004】しかしながら、弾性表面波素子は、(1)
素子表面の弾性表面波が伝搬する領域に空間を形成する
必要がある、(2)信頼性を保つために気密封止する必
要がある、ため、通常の集積回路のように樹脂モールド
ができず、缶やセラミックタイプのパッケージに入れる
必要があり、サイズおよびコストの増大につながってい
た。
However, the surface acoustic wave device is (1)
Since it is necessary to form a space in the area where the surface acoustic wave propagates on the element surface, and (2) it is necessary to hermetically seal in order to maintain reliability, so resin molding cannot be performed like ordinary integrated circuits. , Had to be placed in cans and ceramic type packages, which led to an increase in size and cost.

【0005】この問題を解決するために、高周波集積回
路上の弾性表面波素子が作成された誘電体薄膜上部に空
間を有するガラス基板を陽極接合法などで接合する方法
が、特開平6−268473号公報に開示されている。
該公報には、弾性表面波素子が作製された誘電体薄膜
と、高周波増幅素子が作製された半導体薄膜とが形成さ
れたシリコン基板上に、前記誘電体薄膜と半導体薄膜の
内少なくとも誘電体薄膜の上部に空間を有するガラス基
板が陽極接合を用いて接合することが記載されている。
In order to solve this problem, a method of joining a glass substrate having a space above a dielectric thin film on which a surface acoustic wave device on a high frequency integrated circuit is formed by an anodic bonding method or the like is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-268473. It is disclosed in the publication.
In this publication, a dielectric thin film on which a surface acoustic wave device is formed and a semiconductor thin film on which a high frequency amplification device is formed are formed on a silicon substrate, and at least the dielectric thin film among the dielectric thin film and the semiconductor thin film is formed. It is described that a glass substrate having a space above is bonded using anodic bonding.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
キャップを陽極接合法などで接合する場合、キャップ内
の弾性表面波素子などとキャップ外部の回路とを電気的
に接続する手段に問題があった。また、ガラスキャップ
に対して金属性のキャップの場合には、基板外部の回路
と内部回路素子との接続のために、基板の下部にスルー
ホールを設けて容易に内部と外部とを接続できるが、本
弾性表面波素子を内部に有する場合には、シリコン基板
そのものにホールを設けるという製作工程が複雑であ
り、キャップの外部と内部との接続が容易ではなかっ
た。
However, when the glass cap is bonded by the anodic bonding method or the like, there is a problem in the means for electrically connecting the surface acoustic wave element in the cap and the circuit outside the cap. Further, in the case of a metal cap with respect to the glass cap, a through hole is provided in the lower portion of the substrate to easily connect the inside and the outside in order to connect the circuit outside the substrate and the internal circuit element. When the surface acoustic wave device is provided inside, the manufacturing process of forming a hole in the silicon substrate itself is complicated, and it is not easy to connect the outside and the inside of the cap.

【0007】また、キャップ内の弾性表面波素子などと
キャップ外部との電気的に接続する手段として、空間を
形成したキャップ状ガラス基板とを陽極接合によって接
着し、キャップ状ガラス基板にスルーホールを形成して
内部に導線を通して弾性表面波素子と外部とを電気的に
接合する方法もあるが、この場合にも製作工程が複雑で
あり、製品の歩留まりの低下にもつながる。
As a means for electrically connecting the surface acoustic wave element in the cap to the outside of the cap, a cap-shaped glass substrate having a space is bonded by anodic bonding, and a through hole is formed in the cap-shaped glass substrate. There is also a method of forming and electrically connecting the surface acoustic wave element to the outside through a conducting wire inside, but in this case as well, the manufacturing process is complicated and this leads to a reduction in product yield.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、シリコンなど
の半導体基板上に高周波回路などの電子回路と弾性表面
波素子が形成され、弾性表面波素子上部に空間を有する
ガラスキャップを陽極接合法などで直接接合した高周波
集積回路において、キャップ内の弾性表面波素子などと
キャップ外部の回路とを電気的に接続する手段の簡易化
を図ることを特徴とする。
According to the present invention, an electronic circuit such as a high frequency circuit and a surface acoustic wave element are formed on a semiconductor substrate such as silicon, and a glass cap having a space above the surface acoustic wave element is anodically bonded. In a high-frequency integrated circuit that is directly bonded by means such as, the means for electrically connecting the surface acoustic wave element in the cap and the circuit outside the cap is simplified.

【0009】また、本発明は、キャップ状ガラス基板内
部の弾性表面波素子とキャップ外部の回路とを電気的に
接続したい部分において、シリコン基板のシリコン基板
がキャップ状ガラス基板と接合される部分を、キャップ
の内側から外側にまたがった領域で、表面から基板厚さ
方向に向かって基板とは異なる導電型のn型(またはp
型)領域を形成することを特徴とする。
Further, according to the present invention, in a portion where it is desired to electrically connect the surface acoustic wave element inside the cap-shaped glass substrate to a circuit outside the cap, a portion where the silicon substrate of the silicon substrate is joined to the cap-shaped glass substrate is provided. , N-type (or p-type) of a conductivity type different from that of the substrate from the surface toward the substrate thickness direction in the region extending from the inside to the outside of the cap.
(Type) region is formed.

【0010】さらに本発明は、キャップ状ガラス基板内
部のn型(またはp型)領域表面に導電性のボンディン
グパッドを形成し、さらに弾性表面波素子と上記パッド
とをワイヤボンディングで接続し、キャップ状ガラス基
板外部のn型(またはp型)領域にも所望の導電性部を
設けることで、表面弾性表面波素子と外部とを電気的に
接合することを特徴とする。
Further, according to the present invention, a conductive bonding pad is formed on the surface of the n-type (or p-type) region inside the cap-shaped glass substrate, and the surface acoustic wave element and the pad are connected by wire bonding to form a cap. The surface acoustic wave device is electrically connected to the outside by providing a desired conductive portion also in the n-type (or p-type) region outside the glass substrate.

【0011】本発明の上記手段によれば、キャップ内の
弾性表面波素子などとキャップ外部の回路とを電気的に
接続する手段の簡易化を図ることが可能である。
According to the above means of the present invention, it is possible to simplify the means for electrically connecting the surface acoustic wave element in the cap and the circuit outside the cap.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

[第1実施形態]以下、本発明の実施形態について説明
する。第1図は本発明における弾性表面波装置の第1の
実施形態の一部を示す上面図、第2図は本発明の断面を
示すA−A`断面図である。図中、10は集積回路素
子、11はn型シリコン半導体基板、12、13はn型
シリコン半導体基板11の一部に形成されたp型シリコ
ン領域、20は弾性表面波素子、21はニオブ酸リチウ
ムなどの圧電体基板、22、23は弾性表面波素子20
に電気信号を入力および出力するために圧電体基板21
上にAlなどの導電性薄膜で形成された入力および出力
電極用ボンディングパッド、30は電子回路、40は弾
性表面波素子20を覆い、シリコン半導体基板11に直
接接合されたキャップ状ガラス基板、41、42はキャ
ップ状ガラス40の内側のシリコン基板上にAlなどの
導電性薄膜で形成されたボンディングパッド、51、5
2はボンディングワイヤ、61、62は弾性表面波素子
20と集積回路素子10または外部とを電気的に接続す
るためにシリコン基板11上に形成された入力端子およ
び出力端子である。
[First Embodiment] An embodiment of the present invention will be described below. FIG. 1 is a top view showing a part of a first embodiment of a surface acoustic wave device according to the present invention, and FIG. 2 is an AA 'cross-sectional view showing a cross section of the present invention. In the figure, 10 is an integrated circuit element, 11 is an n-type silicon semiconductor substrate, 12 and 13 are p-type silicon regions formed in a part of the n-type silicon semiconductor substrate 11, 20 is a surface acoustic wave element, and 21 is niobate. A piezoelectric substrate such as lithium, 22 and 23 are surface acoustic wave devices 20.
The piezoelectric substrate 21 for inputting and outputting electric signals to and from
Input and output electrode bonding pads formed of a conductive thin film such as Al, 30 is an electronic circuit, 40 is a cap-shaped glass substrate that covers the surface acoustic wave device 20 and is directly bonded to the silicon semiconductor substrate 11, 41 , 42 are bonding pads formed of a conductive thin film such as Al on the silicon substrate inside the cap-shaped glass 40, 51, 5
Reference numeral 2 is a bonding wire, and 61 and 62 are input terminals and output terminals formed on the silicon substrate 11 for electrically connecting the surface acoustic wave element 20 and the integrated circuit element 10 or the outside.

【0013】ここで、弾性表面波素子20としては、フ
ィルタ、共振子、コンボルバ、マッチドフィルタなどが
あり、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウムや水晶等
の材料からなり、弾性表面波を励振、受信するための櫛
形電極などの構成要素(図示せず)や、外部から弾性表
面波素子20に電気信号を入力および出力するためのボ
ンディング用パッド22、23などから構成されてい
る。これらのパッド22、23は通常、Alなどの導電
性材料からなり、蒸着法やスパッタ法やCVD法などに
より形成された薄膜を通常フォトリソグラフィ−技術を
用いて圧電基板21の表面上に直接形成される。
Here, the surface acoustic wave element 20 includes a filter, a resonator, a convolver, a matched filter, and the like, and is made of a material such as lithium niobate, lithium tantalate, or crystal, and excites or receives the surface acoustic wave. Components (not shown) such as comb-shaped electrodes for bonding, and bonding pads 22 and 23 for inputting and outputting electric signals to and from the surface acoustic wave element 20 from the outside. These pads 22 and 23 are usually made of a conductive material such as Al, and a thin film formed by a vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method, or the like is directly formed on the surface of the piezoelectric substrate 21 by using a normal photolithography technique. To be done.

【0014】本実施形態の高周波集積回路10において
は、弾性表面波素子20としてフィルタの例を示してい
る。
In the high frequency integrated circuit 10 of this embodiment, an example of a filter is shown as the surface acoustic wave element 20.

【0015】また、弾性表面波素子20はn型シリコン
基板11上に導電性接着剤などによって、または直接接
着されている。
The surface acoustic wave element 20 is bonded to the n-type silicon substrate 11 with a conductive adhesive or the like or directly.

【0016】弾性表面波素子20を覆うキャップ状ガラ
ス40は、パイレックス(HOYA社製コーニング #
7740)などのガラス基板を、エッチング法などによ
って、内部に空間を形成した逆凹型の形状をしている。
The cap-shaped glass 40 covering the surface acoustic wave element 20 is made of Pyrex (Honing Co. Corning #
A glass substrate such as 7740) has an inverted concave shape with a space formed therein by an etching method or the like.

【0017】ここで、キャップ状ガラス40は、弾性表
面波素子20の表面の弾性表面波の伝搬領域上に空間を
形成するように、さらに弾性表面波素子20のボンディ
ングワイヤ51、52に触れないような形状を有してお
り、さらに気密を保つためにシリコン基板11と陽極接
合などによって直接化学結合によって、接合されてい
る。
Here, the cap-shaped glass 40 does not touch the bonding wires 51 and 52 of the surface acoustic wave element 20 so as to form a space above the surface acoustic wave propagation region of the surface of the surface acoustic wave element 20. It has such a shape, and is further bonded to the silicon substrate 11 by direct chemical bonding such as anodic bonding in order to maintain airtightness.

【0018】陽極接合法は、熱膨張係数の比較的近いガ
ラスと半導体材料、導電体材料、導電体薄膜を200〜
400℃と比較的低温で、数十〜数kV程度の電圧を印
加することで接合する方法である。
In the anodic bonding method, glass, which has a relatively close coefficient of thermal expansion, and a semiconductor material, a conductor material, or a conductor thin film are used.
This is a method of joining by applying a voltage of about several tens to several kV at a relatively low temperature of 400 ° C.

【0019】これらは、「G.wallis et al. Field assi
sted Glass-Metal Sealing, J.Appl.Phys.,Vol.40, No.
10, pp3946-3949,1969」や、「須田ほか:マロリー接着
法による気密シール技術、東北大学科学計測研究報告、
第33巻、第1号、pp.165−175,1984」
に述べられている。
These are "G. wallis et al. Field assi
sted Glass-Metal Sealing, J.Appl.Phys., Vol.40, No.
10, pp3946-3949, 1969 ”and“ Suda et al .: Airtight sealing technology by Mallory bonding method, Tohoku University Scientific Measurement Research Report,
Vol. 33, No. 1, pp. 165-175, 1984 "
It is described in.

【0020】シリコンとガラス基板を陽極接合する場
合、ガラス基板としては、シリコンと熱膨張係数の近い
パイレックス(HOYA 社製コーニング#7740)
などが好適である。
In the case of anodic bonding between silicon and a glass substrate, the glass substrate should be Pyrex (Corning # 7740 manufactured by HOYA) having a thermal expansion coefficient close to that of silicon.
And the like are preferred.

【0021】また、キャップ状ガラス40がシリコン基
板11と接する領域は、陽極接合を容易にするために、
Al,Tiなど導電性薄膜が形成されていてもよい。
The region where the cap-shaped glass 40 is in contact with the silicon substrate 11 is for facilitating anodic bonding.
A conductive thin film such as Al or Ti may be formed.

【0022】また、本実施形態においては、図2の断面
図に示すように、キャップ状ガラス基板40に覆われた
弾性表面波素子20とキャップ状ガラス基板40の外側
の端子61、62とを電気的に接続するために、弾性表
面波素子20を覆うキャップ状ガラス基板40がシリコ
ン基板11に接する凸部部分の下側のシリコン基板11
をガラス基板40の凸部をほぼ中心にキャップ状ガラス
基板40の内側(弾性表面波素子側)と外側(端子6
1、および62側)にわたってp型シリコン領域が形成
されている。
In this embodiment, as shown in the sectional view of FIG. 2, the surface acoustic wave element 20 covered with the cap-shaped glass substrate 40 and the terminals 61 and 62 outside the cap-shaped glass substrate 40 are provided. The silicon substrate 11 below the convex portion where the cap-shaped glass substrate 40 covering the surface acoustic wave element 20 contacts the silicon substrate 11 for electrical connection.
The inside of the cap-shaped glass substrate 40 (on the surface acoustic wave element side) and the outside (the terminal 6) with the convex portion of the glass substrate 40 substantially at the center.
The p-type silicon region is formed over the 1 and 62 sides).

【0023】そして、p型シリコン領域が形成されたシ
リコン基板11上のキャップ状ガラス40の内側には弾
性表面波素子20に電気信号を入力および出力するため
のボンディングパッド41、42が、そしてp型シリコ
ン領域が形成されたキャップ状ガラス40の外側のシリ
コン基板11上には、高周波集積回路素子10のほかの
電気回路と弾性表面波素子とを電気的に接続するための
端子61、62が形成されている。
Then, inside the cap-shaped glass 40 on the silicon substrate 11 in which the p-type silicon region is formed, bonding pads 41 and 42 for inputting and outputting an electric signal to and from the surface acoustic wave element 20, and p. On the silicon substrate 11 outside the cap-shaped glass 40 in which the type silicon region is formed, terminals 61 and 62 for electrically connecting the electric circuit other than the high frequency integrated circuit element 10 and the surface acoustic wave element are provided. Has been formed.

【0024】これらのパッド41、42および端子6
1、62は導電性薄膜をシリコン基板上に形成すること
で作成されている。
These pads 41 and 42 and the terminal 6
1, 62 are formed by forming a conductive thin film on a silicon substrate.

【0025】そして、弾性表面波素子20に電気信号を
入力および出力するためのボンディングパッド41、4
2と、弾性表面波素子21上の入力用ボンディングパッ
ド22、および出力用ボンディングパッド23とはボン
デイングワイヤ51、52で電気的に接続されている。
Then, the bonding pads 41 and 4 for inputting and outputting electric signals to the surface acoustic wave element 20.
2, the input bonding pad 22 and the output bonding pad 23 on the surface acoustic wave element 21 are electrically connected by bonding wires 51 and 52.

【0026】このような構成とすることで、弾性表面波
素子20への入力信号は、入力信号用端子61からドー
ピングによってp型シリコンが形成された領域12を通
り、キャップ状ガラス基板40内部のパッド41に達
し、ワイヤ51を介して弾性表面波素子20上のパッド
22より、弾性表面波素子20に入力される。
With such a structure, an input signal to the surface acoustic wave element 20 passes from the input signal terminal 61 through the region 12 where p-type silicon is formed by doping, and the inside of the cap-shaped glass substrate 40. It reaches the pad 41, and is input to the surface acoustic wave element 20 from the pad 22 on the surface acoustic wave element 20 via the wire 51.

【0027】また、弾性表面波素子20からの電気信号
も同様に、弾性表面波素子20上のパッド23よりワイ
ヤ52、キャップ状ガラス基板40内部のパッド42、
p型シリコンが形成された領域13を通してキャップ状
ガラス基板40外部の端子62に電気的に接続される。
Similarly, the electric signal from the surface acoustic wave element 20 is also connected to the wire 52 from the pad 23 on the surface acoustic wave element 20, the pad 42 inside the cap-shaped glass substrate 40,
It is electrically connected to the terminal 62 outside the cap-shaped glass substrate 40 through the region 13 in which the p-type silicon is formed.

【0028】したがって、弾性表面波素子20とキャッ
プ状ガラス40外部の入出力信号用端子とを気密を破る
ことなく電気的に接続することができる。
Therefore, the surface acoustic wave element 20 and the input / output signal terminal outside the cap-shaped glass 40 can be electrically connected without breaking the airtightness.

【0029】なお、本実施形態では、n型シリコン基板
にp型領域を設けた構成を示したが、p型シリコン基板
にn型領域を設けた構成としても同様な効果が得られ
る。
In this embodiment, the structure in which the p-type region is provided on the n-type silicon substrate is shown, but the same effect can be obtained even when the n-type region is formed on the p-type silicon substrate.

【0030】また、シリコン基板にドープする方法は通
常の半導体プロセスで用いられている方法を流用でき
る。例えば、イオン注入法や選択拡散法などがある。
As a method for doping the silicon substrate, a method used in a normal semiconductor process can be applied. For example, there are an ion implantation method and a selective diffusion method.

【0031】また、本実施形態の弾性表面波素子とし
て、入力信号、出力信号が各1つの例を示したが、この
ほかにアース用端子なども同様な方法で作成できる。ま
た、ガラス基板40内には弾性表面波素子20ばかりで
なく、半導体素子を含んだり、整合回路を含んでいても
良い。
Further, as the surface acoustic wave device of the present embodiment, an example in which each of the input signal and the output signal is one is shown, but in addition to this, a grounding terminal or the like can be produced by the same method. Further, the glass substrate 40 may include not only the surface acoustic wave element 20 but also a semiconductor element or a matching circuit.

【0032】また、弾性表面波コンボルバの様に、入
力、出力端子合わせて3つ以上ある場合にも本発明が適
応できることは自明である。
Further, it is obvious that the present invention can be applied to the case where the total number of input and output terminals is three or more like the surface acoustic wave convolver.

【0033】また、本発明において、キャップ状ガラス
をシリコン基板に直接接合する方法として、陽極接合法
を用いたが、親水処理後に熱処理することで接合する方
法などを用いてもよい。
In the present invention, the anodic bonding method is used as a method for directly bonding the cap-shaped glass to the silicon substrate, but a method of bonding by heat treatment after hydrophilic treatment may be used.

【0034】本実施形態においては、ガラス基板の側に
配置した電子回路として、半導体薄膜素子またはチップ
素子からなるVCO、高周波送受信回路、発振回路、増
幅回路などがあり、n型シリコン基板11にp型ウェル
を埋め込んで集積回路を形成してもよい。
In the present embodiment, as the electronic circuit arranged on the glass substrate side, there are a VCO composed of a semiconductor thin film element or a chip element, a high frequency transmitting / receiving circuit, an oscillating circuit, an amplifying circuit, and the like. The mold well may be embedded to form an integrated circuit.

【0035】本実施形態においては弾性表面波素子は、
ニオブ酸リチウムなどの圧電基板をシリコン基板上に接
合した例を示したが、窒化アルミニウムや酸化亜鉛など
の圧電薄膜をシリコン基板上に形成して、弾性表面波素
子を形成してもよい。
In this embodiment, the surface acoustic wave element is
Although an example in which a piezoelectric substrate made of lithium niobate or the like is bonded to a silicon substrate is shown, a piezoelectric thin film made of aluminum nitride or zinc oxide may be formed on the silicon substrate to form a surface acoustic wave element.

【0036】また、キャップ状ガラス基板40は、モノ
リシックなガラス基板を化学的エッチングや機械的にく
りぬいて形成してもよく、また、複数枚のガラス基板を
張合せて形成してもよい。
The cap-shaped glass substrate 40 may be formed by chemically etching or mechanically hollowing out a monolithic glass substrate, or may be formed by laminating a plurality of glass substrates.

【0037】なお、本実施形態において、ガラス基板4
0はパイレックス(HOYA社製コーニング#774
0)の例を示したが、これ以外でもよく、可動イオンを
含むガラス基板であればよい。
In the present embodiment, the glass substrate 4
0 is Pyrex (Honing Corning # 774
Although the example of 0) is shown, other than this, any glass substrate containing mobile ions may be used.

【0038】本実施形態においては、陽極接合された高
周波集積回路を樹脂などでモールドすることで信頼性を
向上させることができる。
In this embodiment, reliability can be improved by molding the anodic-bonded high-frequency integrated circuit with a resin or the like.

【0039】本実施形態においては、キャップ状ガラス
基板40の内側をメタライズすることで電磁波を抑圧で
きる。
In this embodiment, electromagnetic waves can be suppressed by metallizing the inside of the cap-shaped glass substrate 40.

【0040】[第2実施形態]図3は、以上説明したよ
うな弾性表面波装置を用いた通信システムの一例を示す
ブロック図である。図において、405は送信装置を示
す。この送信装置405は送信すべき信号を拡散符号を
用いてスペクトラム拡散変調し、アンテナ401より送
信する。送信された信号は、受信装置410で受信さ
れ、復調される。受信装置410は、アンテナ411、
高周波信号処理部412、同期回路413、符号発生器
414、拡散復調回路415、復調回路416より構成
される。アンテナ411において受信された受信信号
は、高周波信号処理部412でフィルタリング及び増幅
され、送信周波数帯信号のまま、もしくは適当な中間周
波数帯信号に変換され出力される。該信号は同期回路4
13に入力される。
[Second Embodiment] FIG. 3 is a block diagram showing an example of a communication system using the surface acoustic wave device as described above. In the figure, 405 indicates a transmitting device. The transmitter 405 spread-spectrum modulates the signal to be transmitted using a spread code and transmits the signal from the antenna 401. The transmitted signal is received by the receiving device 410 and demodulated. The receiving device 410 includes an antenna 411,
The high frequency signal processing unit 412, the synchronization circuit 413, the code generator 414, the spread demodulation circuit 415, and the demodulation circuit 416 are included. The reception signal received by the antenna 411 is filtered and amplified by the high-frequency signal processing unit 412, and is output as it is as the transmission frequency band signal or as an appropriate intermediate frequency band signal. The signal is a synchronization circuit 4
13 is input.

【0041】ここで、上述の第1実施形態で説明した高
周波集積回路素子は高周波信号処理部412の中間周波
数段と同期回路413に適用することが可能であり、機
器の小型化に効果的である。
Here, the high frequency integrated circuit device described in the first embodiment can be applied to the intermediate frequency stage of the high frequency signal processing section 412 and the synchronizing circuit 413, and is effective for downsizing the equipment. is there.

【0042】同期回路413は、本発明の実施形態にて
示した弾性表面波装置4131と、符号発生器414よ
り入力される参照用拡散符号を変調する変調回路413
2と、弾性表面波装置4131から出力された信号を処
理し、送信信号に対する拡散符号同期信号およびクロッ
ク同期信号を符号発生器414に出力する信号処理回路
4133からなる。弾性表面波装置4131には高周波
信号処理部412からの出力信号と変調回路4132か
らの出力信号がそれぞれ例えばフィルタ、アンプ、イン
ピーダンス整合回路等の入力側外部回路を介して弾性表
面波素子に入力され、2つの入力信号のコンボリューシ
ョン演算が行われる。ここで符号発生器414より変調
回路4132に入力される参照用拡散符号が送信側から
送信される拡散符号を時間反転させた符号とすると、弾
性表面波コンボルバ素子を用いた弾性表面波装置413
1では、受信信号に含まれる同期専用拡散符号成分と参
照用拡散符号とが、弾性表面波装置4131の導波路の
出力電極上にて一致した時に相関ピークが出力される。
The synchronizing circuit 413 is a surface acoustic wave device 4131 shown in the embodiment of the present invention, and a modulating circuit 413 for modulating the reference spread code input from the code generator 414.
2 and a signal processing circuit 4133 that processes the signal output from the surface acoustic wave device 4131 and outputs a spread code synchronization signal and a clock synchronization signal for the transmission signal to the code generator 414. An output signal from the high frequency signal processing unit 412 and an output signal from the modulation circuit 4132 are input to the surface acoustic wave device 4131 to the surface acoustic wave device via an input side external circuit such as a filter, an amplifier or an impedance matching circuit. The convolution operation of the two input signals is performed. Here, when the reference spreading code input from the code generator 414 to the modulation circuit 4132 is a code obtained by time-reversing the spreading code transmitted from the transmitting side, a surface acoustic wave device 413 using a surface acoustic wave convolver element.
In No. 1, the correlation peak is output when the synchronization-specific spreading code component and the reference spreading code included in the received signal match on the output electrode of the waveguide of the surface acoustic wave device 4131.

【0043】次に、信号処理回路4133では、弾性表
面波装置4131から入力される信号から、相関ピーク
を検出し、参照用拡散符号の符号開始から相関ピーク出
力までの時間から、符号同期のずれ量を割り出し、符号
同期信号及びクロック信号が符号発生器414に出力さ
れる。
Next, the signal processing circuit 4133 detects the correlation peak from the signal input from the surface acoustic wave device 4131, and shifts the code synchronization from the time from the code start of the reference spread code to the correlation peak output. The amount is calculated, and the code synchronization signal and the clock signal are output to the code generator 414.

【0044】同期確立後、符号発生器414は送信側の
拡散符号に対し、クロック及び拡散符号位相が一致した
拡散符号を発生する。この拡散符号は拡散復調回路41
5に入力され、拡散変調される前の信号が復元される。
拡散変復調回路415から出力される信号は、いわゆる
周波数変調、位相変調などの変調方式により変調されて
いる信号なので、適応する復調回路416により、デー
タ復調がなされる。
After the synchronization is established, the code generator 414 generates a spreading code having the same clock and spreading code phase as the spreading code on the transmitting side. This spreading code is a spreading demodulation circuit 41.
The signal before being input to the signal 5 and subjected to spread modulation is restored.
Since the signal output from the spread modulation / demodulation circuit 415 is a signal that has been modulated by a modulation method such as so-called frequency modulation or phase modulation, data demodulation is performed by the applicable demodulation circuit 416.

【0045】本構成に用いた弾性表面波装置4131
は、高周波集積回路素子の一部として他の電子部品とハ
イブリッド的に集積され、装置全体の小型化に効果的で
ある。
Surface acoustic wave device 4131 used in this configuration
Is hybrid-integrated with other electronic components as a part of the high-frequency integrated circuit element, and is effective for downsizing the entire device.

【0046】[第3実施形態]図4、図5は、以上説明
したような弾性表面波装置を用いた通信システムの送信
装置及び受信装置の一例を示すブロック図である。送信
装置のブロック図を示す図4において、501は直列に
入力されるデータをn個の並列データに変換する直並列
変換器、502−1〜nは並列化された各データと拡散
符号発生器503から出力されるn個の拡散符号とを乗
算する乗算器群、503はn個のそれぞれ異なる拡散符
号PN1〜PNnと同期専用の拡散符号PN0を発生する
拡散符号発生器、504は拡散符号発生器503から出
力される同期専用拡散符号PN0と乗算器群502−1
〜nのn個の出力を加算する加算器、505は加算器5
04の出力を送信周波数信号に変換するための高周波
段、506は送信アンテナである。
[Third Embodiment] FIGS. 4 and 5 are block diagrams showing an example of a transmitter and a receiver of a communication system using the surface acoustic wave device as described above. In FIG. 4, which shows a block diagram of the transmission device, 501 is a serial-parallel converter that converts serially input data into n parallel data, and 502-1 to 50-n are parallelized data and spread code generator. A multiplier group for multiplying n spread codes output from 503, 503 is a spread code generator that generates n different spread codes PN1 to PNn and a spread code PN0 dedicated to synchronization, and 504 is a spread code generator. Synchronization dedicated spreading code PN0 output from the device 503 and the multiplier group 502-1
Adder 505 for adding n outputs of n
A high frequency stage for converting the output of 04 into a transmission frequency signal, and 506 is a transmission antenna.

【0047】また、受信装置のブロック図を示す図5に
おいて、601は受信アンテナ、602は高周波信号処
理部、603は送信側の拡散符号とクロックに対する同
期を捕捉し同期追跡を維持する同期回路、604は同期
回路603より入力される符号同期信号及びクロック信
号により、送信側の拡散符号群と同一のn+1個の拡散
符号及び参照用拡散符号を発生する拡散符号発生器、6
05は拡散符号発生器604より出力されるキャリア再
生用拡散符号PN0と高周波信号処理部602の出力か
ら搬送波信号を再生するキャリア再生回路、606はキ
ャリア再生回路605の出力と高周波信号処理部602
の出力と拡散符号発生器604の出力であるn個の拡散
符号PN1〜PNnを用いてベースバンドの復調を行うベ
ースバンド復調回路、607はベースバンド復調回路6
06の出力であるn個の並列復調データを並直列変換す
る並直列変換器である。
Further, in FIG. 5 showing a block diagram of the receiving apparatus, 601 is a receiving antenna, 602 is a high frequency signal processing section, 603 is a synchronization circuit which captures synchronization with the spreading code and clock on the transmission side and maintains synchronization tracking, Reference numeral 604 is a spread code generator for generating n + 1 spread codes and reference spread codes, which are the same as the spread code group on the transmission side, in response to the code synchronization signal and the clock signal input from the synchronization circuit 603.
Reference numeral 05 is a carrier reproduction circuit for reproducing a carrier signal from the carrier reproduction spread code PN0 output from the spread code generator 604 and the output of the high frequency signal processing unit 602, and 606 is the output of the carrier reproduction circuit 605 and the high frequency signal processing unit 602.
Of the baseband demodulation circuit 6 and the output of the spreading code generator 604 using the n spreading codes PN1 to PNn.
It is a parallel-to-serial converter that performs parallel-to-serial conversion of n pieces of parallel demodulated data output from 06.

【0048】上記構成において、送信側では、まず入力
されたデータが直並列変換器501によって符号分割多
重数に等しいn個の並列データに変換される。一方、拡
散符号発生器503は符号周期が同一で、n+1個のそ
れぞれ異なる拡散符号PN0〜PNnを発生している。こ
のうちPN0は同期及びキャリア再生専用であり、上記
並列データによって変調されず、直接加算器504に入
力される。残りのn個の拡散符号PN1〜PNnは乗算器
群502−1〜nにてn個の並列データにより変調さ
れ、加算器504に入力される。加算器504は入力さ
れたn+1個の信号を線形に加算し、高周波段505に
加算されたベースバンド信号を出力する。該ベースバン
ド信号は続いて高周波段505にて適当な中心周波数を
持つ高周波信号に変換され、送信アンテナ506より送
信される。
In the above configuration, on the transmission side, first, the input data is converted by the serial-parallel converter 501 into n pieces of parallel data equal to the number of code division multiplexes. On the other hand, the spreading code generator 503 has the same code period and generates n + 1 different spreading codes PN0 to PNn. Of these, PN0 is dedicated to synchronization and carrier reproduction, is not modulated by the parallel data, and is directly input to the adder 504. The remaining n spread codes PN1 to PNn are modulated by n parallel data in the multiplier groups 502-1 to 50n and input to the adder 504. The adder 504 linearly adds the n + 1 input signals and outputs the added baseband signal to the high frequency stage 505. Subsequently, the baseband signal is converted into a high-frequency signal having an appropriate center frequency in the high-frequency stage 505 and transmitted from the transmission antenna 506.

【0049】次に、受信側では、受信アンテナ601で
受信された信号は高周波信号処理部602で適当にフィ
ルタリング及び増幅され、送信周波数帯信号のまま若し
くは適当な中間周波数帯信号に変換され出力される。該
信号は同期回路603に入力される。同期回路603は
本発明の実施形態に記載の弾性表面波装置6031と符
号発生器604より入力される参照用拡散符号を変調す
る変調回路6032と弾性表面波装置6031から出力
された信号を処理し、送信信号に対する拡散符号同期信
号およびクロック同期信号を、拡散符号発生器604に
出力する信号処理回路6033からなる。
Next, on the receiving side, the signal received by the receiving antenna 601 is appropriately filtered and amplified by the high frequency signal processing section 602, and is output as it is as a transmission frequency band signal or as an appropriate intermediate frequency band signal. It The signal is input to the synchronization circuit 603. The synchronization circuit 603 processes the signals output from the surface acoustic wave device 6031 and the modulation circuit 6032 for modulating the reference spread code input from the code generator 604 and the surface acoustic wave device 6031 described in the embodiment of the present invention. , A signal processing circuit 6033 for outputting a spread code synchronization signal and a clock synchronization signal for the transmission signal to a spread code generator 604.

【0050】ここで、上述の第1実施形態で説明した高
周波集積回路素子として、高周波信号処理部602のフ
ィルタを含む一部と同期回路603に適用できる。
Here, the high frequency integrated circuit device described in the first embodiment can be applied to a part including the filter of the high frequency signal processing unit 602 and the synchronizing circuit 603.

【0051】弾性表面波装置6031には、上記第1乃
至第3の実施形態で示したいずれかの弾性表面波装置を
用い、高周波信号処理部602からの信号と変調回路6
032からの信号が入力され、2つの入力信号のコンボ
リューション演算が行われる。ここで、符号発生器60
4から変調回路6032に入力される参照用拡散符号の
符号列が送信側から送信される同期専用拡散符号を時間
反転させた符号列とすると、弾性表面波装置6031で
は、受信信号に含まれる同期専用拡散符号成分の符号列
と参照用拡散符号の符号列とが、弾性表面波装置603
1の出力電極上にて一致した時に相関ピークが出力され
る。
As the surface acoustic wave device 6031, any one of the surface acoustic wave devices shown in the first to third embodiments is used, and the signal from the high frequency signal processing section 602 and the modulation circuit 6 are used.
The signal from 032 is input, and the convolution operation of two input signals is performed. Here, the code generator 60
When the code sequence of the reference spreading code input to the modulation circuit 6032 from No. 4 is a code sequence obtained by time-reversing the synchronization-dedicated spreading code transmitted from the transmission side, the surface acoustic wave device 6031 synchronizes the synchronization signal included in the reception signal. The code sequence of the dedicated spread code component and the code sequence of the reference spread code are the surface acoustic wave device 603.
The correlation peak is output when there is a match on one output electrode.

【0052】次に、信号処理回路6033では、弾性表
面波装置6031から出力される信号により、相関ピー
クを検出し、参照用拡散符号の符号開始から相関ピーク
出力までの時間から、符号同期のずれ量を割り出し、符
号同期信号及びクロック信号を発生し、拡散符号発生器
604に出力される。
Next, the signal processing circuit 6033 detects the correlation peak from the signal output from the surface acoustic wave device 6031, and shifts the code synchronization from the time from the code start of the reference spread code to the correlation peak output. The amount is calculated, a code synchronization signal and a clock signal are generated, and output to the spread code generator 604.

【0053】同期確立後、拡散符号発生器604は送信
側の拡散符号群に対し、クロック及び拡散符号位相が一
致した拡散符号群を発生する。これらの符号群のうち同
期専用の拡散符号PN0はキャリア再生回路605に入
力される。キャリア再生回路605では同期専用拡散符
号PN0により高周波信号処理部602の出力である送
信周波数帯若しくは中間周波数帯に変換された受信信号
を逆拡散し、送信周波数帯若しくは中間周波数帯の搬送
波を再生する。
After the synchronization is established, the spreading code generator 604 generates a spreading code group in which the clock and the spreading code phase match with the spreading code group on the transmitting side. Of these code groups, the spread code PN0 dedicated to synchronization is input to the carrier reproduction circuit 605. The carrier reproduction circuit 605 despreads the reception signal converted to the transmission frequency band or the intermediate frequency band which is the output of the high frequency signal processing unit 602 by the synchronization-dedicated spreading code PN0, and reproduces the carrier wave in the transmission frequency band or the intermediate frequency band. .

【0054】キャリア再生回路605の構成は、たとえ
ば位相ロックループを利用した回路が用いられる。受信
信号と同期専用拡散符号PN0は乗算器にて乗算され
る。同期確立後は受信信号中の同期専用拡散符号と参照
用の同期専用拡散符号PN0のクロック及び符号位相は
一致しており、送信側の同期専用拡散符号はデータで変
調されていないため、乗算器で逆拡散され、その出力に
は搬送波の成分が現れる。該出力は続いて帯域通過フィ
ルタに入力され搬送波成分のみが取り出され出力され
る。該出力は次に位相検出器、ループ・フィルタ及び電
圧制御発振器にて構成されるよく知られた位相ロックル
ープに入力され、該電圧制御発振器より帯域通過フィル
タを介して出力される搬送波成分に位相のロックした信
号が再生搬送波として出力される。
The carrier reproducing circuit 605 has a structure using, for example, a phase locked loop. The received signal and the synchronization-dedicated spreading code PN0 are multiplied by the multiplier. After the synchronization is established, the clock and code phase of the synchronization-specific spreading code in the received signal and the reference-specific synchronization-specific spreading code PN0 match, and the transmission-side synchronization-specific spreading code is not modulated with data. Is despread at, and a carrier component appears at the output. The output is then input to a bandpass filter, and only the carrier component is extracted and output. The output is then input to a well-known phase-locked loop consisting of a phase detector, a loop filter and a voltage controlled oscillator, and a phase is applied to a carrier component output from the voltage controlled oscillator through a bandpass filter. The locked signal is output as a reproduced carrier wave.

【0055】再生された搬送波はベースバンド復調回路
606に入力される。ベースバンド復調回路606では
該再生搬送波と高周波信号処理部602の出力よりベー
スバンド信号が生成される。該ベースバンド信号はn個
に分配され拡散符号発生器604の出力である拡散符号
群PN1〜PNnにより各符号分割チャネル毎に逆拡散さ
れ、続いてデータ復調がなされる。復調されたn個の並
列復調データは並直列変換器607にて直列データに変
換され、送信装置に入力された信号を出力される。
The reproduced carrier wave is input to the baseband demodulation circuit 606. The baseband demodulation circuit 606 generates a baseband signal from the reproduced carrier wave and the output of the high frequency signal processing unit 602. The baseband signal is divided into n pieces and despreaded for each code division channel by the spreading code groups PN1 to PNn output from the spreading code generator 604, and subsequently data demodulation is performed. The parallel demodulated n demodulated data is converted into serial data by the parallel-serial converter 607, and the signal input to the transmission device is output.

【0056】本実施形態で用いた弾性表面波装置は上述
の高周波集積回路素子の一部として用いられ、装置全体
の小型化に有効であり、小型化されることで、各部の信
号処理を的確に行うことができる。
The surface acoustic wave device used in this embodiment is used as a part of the above-mentioned high frequency integrated circuit element and is effective for downsizing the entire device. By downsizing, the signal processing of each part can be accurately performed. Can be done.

【0057】本実施形態は2値変調の場合であるが、直
交変調など、他の変調方式でも良い。
Although the present embodiment is a case of binary modulation, other modulation methods such as quadrature modulation may be used.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、シ
リコンなどの半導体基板上に高周波回路などの電子回路
と弾性表面波素子が形成された高周波集積回路におい
て、弾性表面波素子が作成された誘電体薄膜上部に空間
を有するガラスキャップを陽極接合法などで接合した高
周波集積回路において、p型(またはn型)シリコン基
板の、キャップ内の弾性表面波素子とキャップ外部の回
路とを電気的に接続したい領域にn型(またはp型)領
域を形成し、さらに、キャップ状ガラス基板内部のn型
(またはp型)領域表面に導電性のボンディングパッド
を形成し、さらに弾性表面波素子と上記パッドとをワイ
ヤボンディングで接続し、キャップ状ガラス基板外部の
n型(またはp型)領域にも所望の導電性部を設け、表
面弾性表面波素子と外部とを電気的に接合することでキ
ャップ内の弾性表面波素子などとキャップ外部の回路と
を電気的に接続する手段の簡易化を図ることが可能であ
る。
As described above, according to the present invention, a surface acoustic wave element is produced in a high frequency integrated circuit in which an electronic circuit such as a high frequency circuit and a surface acoustic wave element are formed on a semiconductor substrate such as silicon. In a high-frequency integrated circuit in which a glass cap having a space above the dielectric thin film is bonded by an anodic bonding method or the like, a surface acoustic wave element inside the cap and a circuit outside the cap on a p-type (or n-type) silicon substrate are connected. An n-type (or p-type) region is formed in a region to be electrically connected, and a conductive bonding pad is formed on the surface of the n-type (or p-type) region inside the cap-shaped glass substrate. The element and the pad are connected by wire bonding, and a desired conductive portion is also provided in the n-type (or p-type) region outside the cap-shaped glass substrate to form a surface acoustic wave element. It is possible to achieve simplification of the means for electrically connecting such a surface acoustic wave device in the cap and the circuit of the cap outside for electrically joining the parts.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明における第1の実施形態の高周波集積素
子の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a high frequency integrated device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明における第1の実施形態の高周波集積素
子の断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of the high-frequency integrated device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明における高周波集積回路素子を用いた通
信システムのブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram of a communication system using the high frequency integrated circuit device according to the present invention.

【図4】本発明における高周波集積回路素子を用いた通
信システムの送信装置のブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram of a transmitter of a communication system using a high frequency integrated circuit element according to the present invention.

【図5】本発明における高周波集積回路素子を用いた通
信システムの受信装置のブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram of a receiver of a communication system using a high frequency integrated circuit device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 集積回路素子 11 n型シリコン半導体基板 12、13 n型シリコン半導体基板11の一部に形成
されたp型シリコン領域 20 弾性表面波素子、 21 ニオブ酸リチウムなどの圧電体基板 22、23 入力および出力電極用ポンディングパッド 30 電子回路 40 キャップ状ガラス基板 41、42 ポンディング用パッドボンディングパッド 51、52 ボンディングワイヤ 61、62 入力信号用および出力信号用端子 405 送信装置 410 受信装置 4131、6031 弾性表面波装置
10 integrated circuit element 11 n-type silicon semiconductor substrate 12, 13 p-type silicon region formed on a part of n-type silicon semiconductor substrate 20 surface acoustic wave element, 21 piezoelectric substrate such as lithium niobate 22, 23 input and Output electrode bonding pad 30 Electronic circuit 40 Cap-shaped glass substrate 41, 42 Bonding pad Bonding pad 51, 52 Bonding wire 61, 62 Input signal and output signal terminal 405 Transmitter 410 Receiver 4131, 6031 Elastic surface Wave device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小山 晃広 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 蜂巣 高弘 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Akihiro Koyama 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Takahiro Hachisu 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Within the corporation

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板上に、少なくとも弾性表面波
素子と電子回路が形成され、前記半導体基板上の前記該
弾性表面波素子の主面に対向して内部に凹部の空間が形
成されたキャップ状ガラス基板が少なくとも前記弾性表
面波素子を覆うように、前記半導体基板表面と該キャッ
プ状ガラス基板の凸部とで直接接合されている高周波集
積回路素子において、 前記半導体基板の前記キャップ状ガラスの凸部が接して
いる領域周辺の少なくとも一部が前記キャップ状ガラス
の凸部をはさんで前記キャップ状ガラス内側と外側にま
たがって、前記半導体基板の深さ方向に向かって、不純
物がドープされていることを特徴とする高周波集積回路
素子。
1. A cap in which at least a surface acoustic wave element and an electronic circuit are formed on a semiconductor substrate, and a space of a concave portion is formed inside so as to face a main surface of the surface acoustic wave element on the semiconductor substrate. In a high-frequency integrated circuit element in which the glass substrate is directly bonded to the surface of the semiconductor substrate and the convex portion of the cap-shaped glass substrate so as to cover at least the surface acoustic wave device, the cap-shaped glass of the semiconductor substrate At least a part of the periphery of the region where the convex portion is in contact with the convex portion of the cap-shaped glass across the inner side and the outer side of the cap-shaped glass toward the depth direction of the semiconductor substrate is doped with impurities. A high-frequency integrated circuit device characterized in that
【請求項2】 前記キャップ状ガラス基板と前記半導体
基板を直接接合する手段は陽極接合であることを特徴と
する請求項1に記載の高周波集積回路素子。
2. The high frequency integrated circuit device according to claim 1, wherein the means for directly bonding the cap-shaped glass substrate and the semiconductor substrate is anodic bonding.
【請求項3】 前記半導体基板はシリコンからなること
を特徴とする請求項1又は2に記載の高周波集積回路素
子。
3. The high frequency integrated circuit device according to claim 1, wherein the semiconductor substrate is made of silicon.
【請求項4】 前記半導体基板はn型シリコンからな
り、前記不純物がドープされた領域はp型シリコンであ
ることを特徴とする請求項3に記載の高周波集積回路素
子。
4. The high frequency integrated circuit device according to claim 3, wherein the semiconductor substrate is made of n-type silicon, and the region doped with the impurity is p-type silicon.
【請求項5】 前記半導体基板はp型シリコンからな
り、前記不純物がドープされた領域はn型シリコンであ
ることを特徴とする請求項3に記載の高周波集積回路素
子。
5. The high frequency integrated circuit device according to claim 3, wherein the semiconductor substrate is made of p-type silicon, and the region doped with the impurity is n-type silicon.
【請求項6】 前記キャップ状ガラス基板の内側に配置
された前記弾性表面波素子上の信号入出力端子と前記キ
ャップ状ガラス基板の内側の前記不純物がドープされた
領域とは電気的に接続されていることを特徴とする請求
項1乃至5のいずれか1項に記載の高周波集積回路素
子。
6. The signal input / output terminal on the surface acoustic wave element arranged inside the cap-shaped glass substrate and the impurity-doped region inside the cap-shaped glass substrate are electrically connected. 6. The high frequency integrated circuit device according to claim 1, wherein
【請求項7】 前記弾性表面波素子上の信号入出力端子
と前記不純物がドープされた領域とを電気的に接続する
手段は、前記弾性表面波素子上の入出力端子と前記キャ
ップ状ガラス基板の内側の前記不純物がドープされた領
域に導電性物質を形成し、導電性ワイヤで接続したこと
を特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の高
周波集積回路素子。
7. The means for electrically connecting a signal input / output terminal on the surface acoustic wave device and the impurity-doped region is a means for electrically connecting the input / output terminal on the surface acoustic wave device and the cap-shaped glass substrate. 7. A high-frequency integrated circuit device according to claim 1, wherein a conductive material is formed in the impurity-doped region inside and is connected by a conductive wire.
【請求項8】 前記弾性表面波素子は圧電単結晶基板又
は圧電性薄膜のいずれかからなることを特徴とする請求
項1乃至7のいずれか1項に記載の高周波集積回路素
子。
8. The high frequency integrated circuit element according to claim 1, wherein the surface acoustic wave element is made of either a piezoelectric single crystal substrate or a piezoelectric thin film.
【請求項9】 前記半導体基板と前記ガラス基板とを陽
極接合するために、前記半導体基板と前記ガラス基板と
の接合面間に、導電性薄膜が形成されたことを特徴とす
る請求項1乃至8のいずれか1項に記載の高周波集積回
路素子。
9. A conductive thin film is formed between the bonding surfaces of the semiconductor substrate and the glass substrate in order to anodic bond the semiconductor substrate and the glass substrate. 9. The high frequency integrated circuit device according to any one of items 8.
【請求項10】 前記導電性薄膜は、アルミニウム、チ
タン、シリコンのうちの少なくともひとつであることを
特徴とする請求項9に記載の高周波集積回路素子。
10. The high frequency integrated circuit element according to claim 9, wherein the conductive thin film is at least one of aluminum, titanium, and silicon.
【請求項11】 請求項1乃至10のいずれか1項に記
載の前記高周波集積回路素子を樹脂モールドしたことを
特徴とする高周波集積回路装置。
11. A high-frequency integrated circuit device, characterized in that the high-frequency integrated circuit element according to any one of claims 1 to 10 is resin-molded.
【請求項12】 請求項1乃至10のいずれか1項に記
載の前記高周波集積回路素子を用いたことを特徴とする
通信システム。
12. A communication system comprising the high frequency integrated circuit device according to claim 1. Description:
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007013628A (en) * 2005-06-30 2007-01-18 Kyocera Kinseki Corp Manufacturing method of piezoelectric vibrator and piezoelectric vibrator

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