JPH09297943A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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Publication number
JPH09297943A
JPH09297943A JP11360696A JP11360696A JPH09297943A JP H09297943 A JPH09297943 A JP H09297943A JP 11360696 A JP11360696 A JP 11360696A JP 11360696 A JP11360696 A JP 11360696A JP H09297943 A JPH09297943 A JP H09297943A
Authority
JP
Japan
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layer
dielectric layer
magneto
recording
recording medium
Prior art date
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Pending
Application number
JP11360696A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koyata Takahashi
小弥太 高橋
Koji Katayama
晃治 片山
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Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH09297943A publication Critical patent/JPH09297943A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To decrease to widening of a recording magnetic domain during writing and deformation of recording domains in the adjacent tracks and to improve the track density by forming a nitride thin film as a first dielectric layer and specifying the material and coefft. of thermal conductivity of a second dielectric layer. SOLUTION: This magneto-optical recording medium is produced by successively forming a first dielectric layer 2, a recording layer 3, a second dielectric layer 4 and a reflecting layer 5 on a transparent substrate 1. Here, the substrate 1, the interval of tracks for recording is specified to <=1.0μm. The first dielectric layer 2 is composed of a nitride thin film. The coefft. of thermal conductivity of the second dielectric layer 4 is specified to <=1.0W/(m.K). Therefore, crosstalk due to thermal diffusion from the recording layer to the reflecting layer during recording and erasing can be decreased, and the margin for cross-erasing can be increased. Further, (ZnS)1-x (SiO2 ), wherein (x) ranges 0.1<=x<=0.4, for the second dielectric layer 4, widening of the recording domain during writing and deformation of recording domain in the adjacent tracks can be decreased, which improves the track density.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光学的手段により情
報を再生し、光と磁気を用いて情報を記録する光磁気記
録媒体に関し、特に記録トラック密度を高密度化した光
磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium for reproducing information by optical means and recording information using light and magnetism, and more particularly to a magneto-optical recording medium having a higher recording track density.

【0002】[0002]

【従来の技術】光磁気記録媒体は大容量化のために記録
線密度の向上とトラック密度の向上が考えられている。
2. Description of the Related Art For a magneto-optical recording medium, an increase in recording linear density and an increase in track density have been considered in order to increase the capacity.

【0003】トラック密度の向上技術としては、従来ト
ラックの案内溝としてしか用いなかったグルーブも記録
データ領域として使用するランド&グルーブ記録が検討
されている。このランド&グルーブ記録を始め、狭トラ
ックピッチの光磁気記録媒体を実現するためには隣接ト
ラックからの記録信号の漏れ込みの防止と、記録時の熱
伝導による隣接トラックの記録磁区の消去による信号レ
ベルの劣化防止技術が必要である。隣接トラックの書き
込みによる目的トラックの信号レベルの劣化防止は記録
媒体に照射するレーザ光のビームスポット径をより小さ
くすることにより解決することが可能ではあるが、短波
長半導体レーザの量産化ができていないのが現状であ
る。
As a technique for improving the track density, land-and-groove recording, which uses a groove, which has been used only as a guide groove of a conventional track, as a recording data area, is under study. Starting from this land & groove recording, in order to realize a magneto-optical recording medium with a narrow track pitch, the leakage of the recording signal from the adjacent track is prevented, and the signal by erasing the recording magnetic domain of the adjacent track by heat conduction at the time of recording. Level deterioration prevention technology is required. Although it is possible to prevent the deterioration of the signal level of the target track due to the writing of the adjacent track by making the beam spot diameter of the laser beam irradiated on the recording medium smaller, it is possible to mass-produce the short wavelength semiconductor laser. The current situation is that there are none.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光磁
気記録媒体における情報の記録過程で、記録マークの隣
接トラックへの漏れ込みを防止し、更に記録及び消去過
程における隣接トラックの記録磁区の変形を防ぐこと
で、光磁気記録媒体のトラック密度の向上を図るもので
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to prevent a recording mark from leaking to an adjacent track in the process of recording information on a magneto-optical recording medium, and further to record a magnetic domain of the adjacent track in the process of recording and erasing. By preventing such deformation, the track density of the magneto-optical recording medium is improved.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討を行なった結果、光磁気多層膜
の第二誘電体層に熱伝導率が所定量以下の物質を用いる
ことにより上記課題を解決できることを見出し本発明を
完成するに至った。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have used a substance having a thermal conductivity of not more than a predetermined amount for the second dielectric layer of the magneto-optical multilayer film. As a result, they have found that the above problems can be solved, and completed the present invention.

【0006】すなわち本発明の光磁気記録媒体は、光学
的に透明な基板上に第一誘電体層、記録層、第二誘電体
層及び反射層をこの順に積層して成る光磁気記録媒体に
おいて、前記基板の記録可能なトラックの間隔が1.0
μm以下であり、前記第一誘電体層が窒化物薄膜からな
り、かつ前記第二誘電体層の熱伝導率が1.0W/(m
・K)以下であることを特徴とするものである。
That is, the magneto-optical recording medium of the present invention is a magneto-optical recording medium in which a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer and a reflective layer are laminated in this order on an optically transparent substrate. , The distance between recordable tracks on the substrate is 1.0
μm or less, the first dielectric layer is made of a nitride thin film, and the thermal conductivity of the second dielectric layer is 1.0 W / (m
・ K) or less.

【0007】以下に、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0008】光磁気記録媒体には、図1に示すように光
学的に透明な基板1の上に形成された第一誘電体層2、
記録層3、第二誘電体層4及び反射層5から成る積層構
造が主に用いられてきた。この構造は記録層が光を透過
する程度に薄く構成され、反射層で反射された光との光
干渉を用いることでより高い信号強度が得られるもので
あり、反射型構造と呼ばれている。なお、第一誘電体層
及び第二誘電体層は、磁気光学効果の増大あるいは熱伝
導を制御する効果も有している。また、これらの薄膜を
保護するために、必要に応じて、反射層5の上に更に紫
外線硬化樹脂層等を形成することも行われている。
In the magneto-optical recording medium, as shown in FIG. 1, a first dielectric layer 2 formed on an optically transparent substrate 1,
A laminated structure composed of the recording layer 3, the second dielectric layer 4 and the reflective layer 5 has been mainly used. This structure is so thin that the recording layer transmits light, and higher signal intensity can be obtained by using optical interference with the light reflected by the reflective layer, and is called a reflective structure. . The first dielectric layer and the second dielectric layer also have an effect of increasing the magneto-optical effect or controlling heat conduction. Further, in order to protect these thin films, an ultraviolet curable resin layer or the like may be further formed on the reflective layer 5 if necessary.

【0009】このような光磁気記録媒体に用いられる誘
電体層としては、従来から、SiN、AlN、SiAl
N、SiN:H、Tb−SiO2 、Ta2 5 などが提
案され、特に耐食性の観点からSiN、AlN、SiA
lNなどが主に用いられてきた。
As a dielectric layer used in such a magneto-optical recording medium, SiN, AlN, SiAl have been conventionally used.
N, SiN: H, such as Tb-SiO 2, Ta 2 O 5 have been proposed, in particular SiN in view of corrosion resistance, AlN, SiA
In and the like have been mainly used.

【0010】本発明では第一誘電体層は耐食性を考慮し
てSiN、AlN、SiAlNなどの窒化物薄膜を用
い、第二誘電体層のみ熱伝導率が1.0W/(m・K)
以下である膜を用いることにより、記録膜の耐候性を犠
牲にすることなく、隣接トラックへの信号の漏れ込み
(クロストーク)を低減し、更に記録及び消去過程にお
ける隣接トラックの記録磁区の変形(クロスイレース)
を防ぐことが可能になった。
In the present invention, the first dielectric layer is made of a nitride thin film such as SiN, AlN, SiAlN in consideration of corrosion resistance, and only the second dielectric layer has a thermal conductivity of 1.0 W / (mK).
By using the following films, signal leakage (crosstalk) to adjacent tracks is reduced without sacrificing the weather resistance of the recording film, and the recording magnetic domains of adjacent tracks are deformed during recording and erasing. (Cross erase)
It became possible to prevent.

【0011】本発明の構造によりクロストーク、クロス
イレースが減少する原因としては、記録・消去時に光磁
気記録層から金属反射膜への熱の拡散を減らすことによ
り光磁気記録層の面内の温度分布が急峻になり、磁区反
転を生じる温度領域が狭くなることによると考えられ
る。第二誘電体層の熱伝導率を1.0W/(m・K)以
下とすることにより、トラックの間隔が1.0μm以下
となる高密度記録においてクロストーク、クロスイレー
スが顕著に改善される。
The reason why crosstalk and cross erase are reduced by the structure of the present invention is that the temperature in the plane of the magneto-optical recording layer is reduced by reducing heat diffusion from the magneto-optical recording layer to the metal reflection film at the time of recording / erasing. It is considered that this is because the distribution becomes steep and the temperature region in which magnetic domain inversion occurs is narrowed. By setting the thermal conductivity of the second dielectric layer to 1.0 W / (m · K) or less, crosstalk and cross erase are remarkably improved in high-density recording in which the track interval is 1.0 μm or less. .

【0012】このような効果は、従来のSiNを使った
第二誘電体層でも、その膜厚を90nm以上とすること
によっても期待されるが、本発明では第二誘電体層の膜
厚が20nm程度で十分な効果がある。
Such an effect can be expected even in the conventional second dielectric layer using SiN and by setting the film thickness to 90 nm or more. However, in the present invention, the film thickness of the second dielectric layer is About 20 nm has a sufficient effect.

【0013】本発明の第二誘電体層の材料としては第1
に(ZnS)1-x (SiO2 x があげられ、xの範囲
としては0.1≦x≦0.4が好ましい。ここでxが
0.1未満では熱伝導率が1.0W/(m・K)を越え
る可能性があり、さらに、ZnSの結晶としての性質が
現れ膜に粒界が生じて緻密でなくなり、粒界によるノイ
ズによりC/Nが低下する可能性がある。また、xが
0.4より大きいと記録層が酸化されやすくなる。
The first material for the second dielectric layer of the present invention is the first
Is (ZnS) 1-x (SiO 2 ) x , and the range of x is preferably 0.1 ≦ x ≦ 0.4. When x is less than 0.1, the thermal conductivity may exceed 1.0 W / (m · K), and further, ZnS has a crystalline property and grain boundaries are formed in the film, resulting in incompatibility. C / N may decrease due to noise due to grain boundaries. If x is larger than 0.4, the recording layer will be easily oxidized.

【0014】本発明の第二誘電体層の材料としては第2
に(ZrO2 1-x (SiO2 x あげられ、xの範
囲が0.1≦x≦0.4であることが好ましい。ここで
xが0.1未満ではZrO2 の結晶としての性質が現れ
膜が緻密でなくなり、粒界によるノイズによりC/Nが
低下する可能性があり、xが0.4より大きいと記録層
が酸化されやすくなる。
The second dielectric layer material of the present invention is the second
Is (ZrO 2 ) 1-x (SiO 2 ) x , and the range of x is preferably 0.1 ≦ x ≦ 0.4. Here, when x is less than 0.1, the property of ZrO 2 as a crystal appears, the film becomes less dense, and C / N may decrease due to noise due to grain boundaries, and when x is greater than 0.4, the recording layer Are easily oxidized.

【0015】本発明の第二誘電体層の材料としては第3
に水素の含有率が10原子%以上30原子%以下のSi
N:Hがあげられる。ここでSiとNの比は約3:4で
ある。また、水素の含有率が10原子%未満では熱伝導
率が1.0W/(m・K)を越え、30原子%より大き
いと膜が不安定になる。
The third material of the second dielectric layer of the present invention is the third
Si with a hydrogen content of 10 atomic% or more and 30 atomic% or less
N: H can be given. Here, the ratio of Si and N is about 3: 4. Further, when the hydrogen content is less than 10 atomic%, the thermal conductivity exceeds 1.0 W / (m · K), and when it is more than 30 atomic%, the film becomes unstable.

【0016】光磁気記録層の材料としては、Tb−Fe
−Co、Dy−Fe−Co、Tb−Dy−Fe−Co、
Nd−Dy−Fe−Co、Nd−Gd−Fe−Coなど
が例示される。
The material for the magneto-optical recording layer is Tb-Fe.
-Co, Dy-Fe-Co, Tb-Dy-Fe-Co,
Nd-Dy-Fe-Co, Nd-Gd-Fe-Co, etc. are illustrated.

【0017】この光磁気記録層は単層でもよいが、保磁
力が小さいGd−Fe−Co膜と保磁力が大きいTb−
Fe−Co膜の積層膜であることがさらに好ましい。こ
のような積層膜にすることで記録マークの形成が温度分
布により忠実になり精度の良い記録、消去が可能となる
のでクロストーク、クロスイレースをさらに小さくでき
る。特に、Gd−Fe−Co膜及びTb−Fe−Co膜
の組成が各々Gdx (Fe1-y Coy 1-x 及びTbu
(Fe1-v Cov 1-u で表され、x、y、u、vの値
が、 0.22≦x≦0.27、0.20≦y≦0.35、 0.20≦u≦0.24、0.06≦v≦0.15 を満たし、かつGd−Fe−Co膜とTb−Fe−Co
膜の膜厚比(Gd−Fe−Co層膜厚/Tb−Fe−C
o層膜厚)が0.1以上0.7以下を満たすことで特に
良好な光磁気記録層が得られる。
The magneto-optical recording layer may be a single layer, but a Gd-Fe-Co film having a small coercive force and a Tb- having a large coercive force.
More preferably, it is a laminated film of Fe—Co films. By using such a laminated film, the formation of recording marks becomes more faithful to the temperature distribution and recording and erasing can be performed with high accuracy, so that crosstalk and cross erase can be further reduced. In particular, Gd-Fe-Co film and Tb-Fe-Co each Gd x (Fe 1-y Co y) the composition of the film 1-x and Tb u
(Fe 1-v Co v ) 1-u , and the values of x, y, u, v are 0.22 ≦ x ≦ 0.27, 0.20 ≦ y ≦ 0.35, 0.20 ≦ u ≦ 0.24 and 0.06 ≦ v ≦ 0.15 are satisfied, and the Gd-Fe-Co film and the Tb-Fe-Co film are satisfied.
Film thickness ratio (Gd-Fe-Co layer thickness / Tb-Fe-C
A particularly good magneto-optical recording layer can be obtained when the o layer thickness) satisfies 0.1 or more and 0.7 or less.

【0018】本発明におけるクロストーク及びクロスイ
レースを減少させる効果は図1のような反射型構造であ
れば特に膜厚に関係なく得られるが、第一誘電体層及び
第二誘電体層の光学膜厚、並びに記録層及び反射層の膜
厚を以下に示す範囲に設定することが良好な信号レベル
を確保するために好ましい。なお、光学膜厚とは屈折率
と膜厚の積を光の波長で除したもの、すなわち、n・d
/λを意味する。
The effect of reducing crosstalk and cross erase in the present invention can be obtained irrespective of the film thickness in the reflection type structure as shown in FIG. 1, but the optical properties of the first dielectric layer and the second dielectric layer are It is preferable to set the film thickness and the film thickness of the recording layer and the reflective layer within the ranges shown below in order to secure a good signal level. The optical film thickness is obtained by dividing the product of the refractive index and the film thickness by the wavelength of light, that is, n · d
Means / λ.

【0019】 0.23 ≦ n1 ・d1 /λ ≦ 0.30 0.04 ≦ n3 ・d3 /λ ≦ 0.12 13 ≦ d2 ≦ 30 35 ≦ d4 ここで、λ :記録・再生に使用する光の波長[n
m]、n1 :第一誘電体層の屈折率、 d1 :第一誘電
体層の膜厚[nm]、n3 :第二誘電体層の屈折率、
3 :第二誘電体層の膜厚[nm]、d2 :記録層の膜
厚[nm]、 d4 :反射層の膜厚[nm]。
0.23 ≤ n 1 · d 1 / λ ≤ 0.30 0.04 ≤ n 3 · d 3 / λ ≤ 0.12 13 ≤ d 2 ≤ 30 35 ≤ d 4 where λ: recording Wavelength of light used for reproduction [n
m], n 1 : refractive index of the first dielectric layer, d 1 : film thickness [nm] of the first dielectric layer, n 3 : refractive index of the second dielectric layer,
d 3 : thickness of second dielectric layer [nm], d 2 : thickness of recording layer [nm], d 4 : thickness of reflective layer [nm].

【0020】また、本発明は狭トラックピッチ基板にお
いて効果がある。特に上述の反射型構造の光磁気記録媒
体の場合、図2に示すランド&グルーブ基板においてグ
ルーブの深さ13の範囲を以下の様にすることが好まし
い。
The present invention is also effective in a narrow track pitch substrate. Particularly, in the case of the above-mentioned magneto-optical recording medium of the reflection type structure, it is preferable that the range of the groove depth 13 in the land & groove substrate shown in FIG.

【0021】λ/(8×Ns) ≦ グルーブ深さ[n
m] ≦ λ/(5×Ns) ここで、Nsは基板の屈折率、λは記録・再生に使用す
る光の波長[nm]である。グルーブの深さ13をこの
ような範囲に設定することでさらにクロストークを減少
させることが可能である。
Λ / (8 × Ns) ≦ groove depth [n
m] ≦ λ / (5 × Ns) Here, Ns is the refractive index of the substrate, and λ is the wavelength [nm] of light used for recording / reproducing. By setting the groove depth 13 in such a range, it is possible to further reduce crosstalk.

【0022】[0022]

【実施例】【Example】

(実施例1、比較例1及び比較例2)図2に示すような
グルーブ深さ13が70nm、ランドとグルーブのピッ
チ14が0.7μmのランド&グルーブ基板を使用し、
図3に示すように、この基板21上に第一誘電体層22
としてSiNをRFマグネトロンスパッタ法で形成し、
記録層23としてTb0.19Fe0.63Co0.08を、第二誘
電体層24として熱伝導率が0.6W/(m・K)の
(ZnS)0.8 (SiO2 0.2 を、反射層25として
Al0.98Cr0.02を、各々DCマグネトロンスパッタ法
により形成した。各層の膜厚及び波長680nmの光に
対する光学膜厚を表1に示す。さらに、反射層25の上
に紫外線硬化樹脂からなる保護コート26を施して光磁
気ディスクを作製した。
(Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 2) Using a land & groove substrate having a groove depth 13 of 70 nm and a land-to-groove pitch 14 of 0.7 μm as shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the first dielectric layer 22 is formed on the substrate 21.
As SiN by RF magnetron sputtering method,
The recording layer 23 is Tb 0.19 Fe 0.63 Co 0.08 , the second dielectric layer 24 is (ZnS) 0.8 (SiO 2 ) 0.2 having a thermal conductivity of 0.6 W / (m · K), and the reflective layer 25 is Al 0.98. Cr 0.02 was formed by the DC magnetron sputtering method. Table 1 shows the film thickness of each layer and the optical film thickness with respect to light having a wavelength of 680 nm. Further, a protective coat 26 made of an ultraviolet curable resin was applied on the reflective layer 25 to manufacture a magneto-optical disk.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】また、比較例1として、第二誘電体層24
を熱伝導率が3.0W/(m・K)のSiN(膜厚20
nm、光学膜厚0.076)としたほかは実施例1と同
じ構造の光磁気ディスクを作製した。さらに比較例2と
して、第二誘電体層24を熱伝導率が2.5W/(m・
K)のZnS(膜厚20nm、光学膜厚0.084)と
したほかは実施例1と同じ構造の光磁気ディスクを作製
した。
As Comparative Example 1, the second dielectric layer 24
With a thermal conductivity of 3.0 W / (mK) SiN (film thickness 20
nm, optical film thickness 0.076), and a magneto-optical disk having the same structure as in Example 1 was prepared. Furthermore, as Comparative Example 2, the second dielectric layer 24 has a thermal conductivity of 2.5 W / (m ·
A magneto-optical disk having the same structure as in Example 1 except that ZnS (K) of ZnS (film thickness 20 nm, optical film thickness 0.084) was used.

【0025】上記の光磁気ディスクを波長680nm、
NA=0.55の光磁気記録再生装置において記録・再
生特性を測定した。表2に測定項目及びその測定条件を
示す。
A wavelength of 680 nm was used for the above magneto-optical disk,
Recording / reproducing characteristics were measured in a magneto-optical recording / reproducing apparatus with NA = 0.55. Table 2 shows the measurement items and the measurement conditions.

【0026】[0026]

【表2】 [Table 2]

【0027】なお、クロストークの測定は以下のように
して行った。ランド部に記録した信号強度C0 [dB]
に対する隣接グルーブ(−1、+1トラック)での再生
信号強度C-1、C+1[dB]を測定し下記の式によりク
ロストーク(CT)値とした。
The crosstalk was measured as follows. Signal strength C 0 [dB] recorded on the land portion
The reproduction signal intensities C −1 and C +1 [dB] in the adjacent groove (−1, +1 track) with respect to were measured and taken as the crosstalk (CT) value by the following formula.

【0028】 CT=((C-1−C0 )+(C+1−C0 ))/2 また、クロスイレースの測定は下記により行った。CT = ((C −1 −C 0 ) + (C +1 −C 0 )) / 2 The cross erase was measured as follows.

【0029】ランド部のトラック(Tr0 )にキャリ
アレベルが最大となる書き込みレーザパワーで信号の書
き込みを行い、消去パワーを変化させてC/Nが零とな
る消去パワーP0 を測定する。消去する際はその都度書
き込みを行う。
A signal is written on the land track (Tr 0 ) with a writing laser power that maximizes the carrier level, and the erasing power is changed to measure the erasing power P 0 at which C / N becomes zero. When erasing, writing is performed each time.

【0030】Tr0 にキャリアレベルが最大となる書
き込みレーザパワーで書き込み、その信号強度Corg
測定する。
Writing is performed on Tr 0 with a writing laser power that maximizes the carrier level, and the signal intensity C org is measured.

【0031】隣接トラック(グルーブ部)Tr+1に対
して消去パワーPerase で1500回イレースを行った
後、Tr0 の信号強度Cafter1を測定する。
After erasing 1500 times with the erasing power P erase for the adjacent track (groove portion) Tr + 1 , the signal strength C after1 of Tr 0 is measured.

【0032】上記の作業を繰り返した後、隣接トラ
ック(グルーブ部)Tr-1に対して消去パワーPerase
で1500回イレースを行った後、Tr0 の信号強度C
after2を測定する。
After repeating the above operation, the erase power P erase is performed on the adjacent track (groove portion) Tr -1 .
After erasing 1500 times with, signal strength C of Tr 0
Measure after2 .

【0033】上記〜の作業をPerase をパラメー
タとして繰り返しCorg に対し2dB低下する消去パワ
ーP1 を求める。
The above steps ( 1 ) to (3) are repeated using P erase as a parameter to find the erasing power P 1 which is 2 dB lower than C org .

【0034】上記の測定によりクロスイレースマージン
(CEM)は次式により求めた。
The cross erase margin (CEM) was determined by the following equation by the above measurement.

【0035】 CEM=(P1 −P0 )/((P1 +P0 )/2) これらの測定結果を表3に示す。表3で示されるよう
に、実施例1を比較例1と比較するとC/Nはほとんど
変わらないが、クロストークで約4dB、クロスイレー
スマージンで4割程度、実施例1で良好な結果が得られ
た。また、比較例2ではクロストーク、クロスイレース
マージンが比較例1と同程度に悪く、さらにZnSの粒
界によるノイズによりC/Nが実施例1より2dB程度
下がった。
CEM = (P 1 −P 0 ) / ((P 1 + P 0 ) / 2) These measurement results are shown in Table 3. As shown in Table 3, when comparing Example 1 with Comparative Example 1, the C / N is almost the same, but the crosstalk is about 4 dB, the cross erase margin is about 40%, and good results are obtained in Example 1. Was given. Further, in Comparative Example 2, the crosstalk and the cross erase margin were as bad as those of Comparative Example 1, and the C / N was lowered by about 2 dB as compared with Example 1 due to noise due to the grain boundary of ZnS.

【0036】[0036]

【表3】 [Table 3]

【0037】(実施例2)実施例2として、第二誘電体
層24を熱伝導率が0.8W/(m・K)の(Zr
2 0.8 (SiO2 0.2 (膜厚20nm、光学膜厚
0.074)としたほかは実施例1と同じ構造の光磁気
ディスクを作製した。この光磁気ディスクを実施例1と
同様の光磁気記録再生装置において、実施例1と同様の
記録・再生特性を測定した。測定結果を表3に示す。
(Example 2) As Example 2, the second dielectric layer 24 is made of (Zr) having a thermal conductivity of 0.8 W / (mK).
A magneto-optical disk having the same structure as in Example 1 was prepared except that O 2 ) 0.8 (SiO 2 ) 0.2 (film thickness 20 nm, optical film thickness 0.074) was used. Using this magneto-optical disk in the same magneto-optical recording / reproducing apparatus as in Example 1, the same recording / reproducing characteristics as in Example 1 were measured. The measurement results are shown in Table 3.

【0038】表3で示されるように、実施例2と比較例
1ではC/Nはほとんど変わらないが、クロストークで
約3dB、クロスイレースマージンで4割程度、実施例
2で良好な結果が得られた。なお、第二誘電体層24を
SiO2 を含まないZrO2 した場合には、クロスト
ーク、クロスイレースマージンは実施例2とほとんど同
程度であるが、ZrO2 の粒界によるノイズによりC/
Nが2.5dB程度低下した。
As shown in Table 3, the C / N ratios of Example 2 and Comparative Example 1 are almost the same, but the crosstalk is about 3 dB, the cross erase margin is about 40%, and the good results are obtained in Example 2. Was obtained. In the case where the second dielectric layer 24 and ZrO 2 containing no SiO 2 is a cross-talk, but the cross-erase margin is almost the same level as in Example 2, the noise due to ZrO 2 grain boundary C /
N decreased by about 2.5 dB.

【0039】(実施例3)実施例3として、第二誘電体
層24を熱伝導率が0.7W/(m・K)のSiN:H
(膜厚25nm、光学膜厚0.076)としたほかは実
施例1と同じ構造の光磁気ディスクを作製した。ここで
SiN:HはSiターゲットを用いてアルゴン、アンモ
ニア雰囲気中でスパッタすることで成膜した。SiN:
H中の水素の含有率は水素前方散乱法(HFS法)で測
定して約20原子%、SiとNの比はオージェ電子分光
法で測定して約3:4であった。このディスクを実施例
1と同様の光磁気記録再生装置において、実施例1と同
様の記録・再生特性を測定した。測定結果を表3に示
す。
Example 3 As Example 3, the second dielectric layer 24 is made of SiN: H having a thermal conductivity of 0.7 W / (m · K).
A magneto-optical disk having the same structure as in Example 1 was prepared except that the film thickness was 25 nm and the optical film thickness was 0.076. Here, SiN: H was deposited by sputtering using a Si target in an atmosphere of argon and ammonia. SiN:
The hydrogen content in H was about 20 atom% as measured by the hydrogen forward scattering method (HFS method), and the ratio of Si and N was about 3: 4 as measured by Auger electron spectroscopy. The same recording / reproducing characteristics as in Example 1 were measured for this disk in the same magneto-optical recording / reproducing apparatus as in Example 1. The measurement results are shown in Table 3.

【0040】表3で示されるように、実施例3と比較例
1ではC/Nはほとんど変わらないが、クロストークで
約5dB、クロスイレースマージンで4割以上、実施例
3で良好な結果が得られた。
As shown in Table 3, the C / N ratios of Example 3 and Comparative Example 1 are almost the same, but the crosstalk is about 5 dB, the cross erase margin is 40% or more, and the good results are obtained in Example 3. Was obtained.

【0041】(実施例4、実施例5及び比較例3)実施
例4として、記録層23を膜厚5nmのGd0.25(Fe
0.75Co0.250.75と膜厚15nmのTb0.22(Fe
0.90Co0.100.78の積層としたほかは実施例1と同じ
構造の光磁気ディスクを作製した。また、実施例5とし
て、記録層23を膜厚10nmのGd0.25(Fe0.75
0.250.75と膜厚10nmのTb0.22(Fe0.90Co
0.100.78の積層としたほかは実施例4と同じ構造の光
磁気ディスクを作製した。さらに、比較例3として、第
二誘電体層24を熱伝導率が3.0W/(m・K)のS
iN(膜厚20nm、光学膜厚0.076)としたほか
は実施例5と同じ構造の光磁気ディスクを作製した。こ
れらのディスクを実施例1と同様の光磁気記録再生装置
において、実施例1と同様の記録・再生特性を測定し
た。測定結果を表3に示す。
(Example 4, Example 5 and Comparative Example 3) As Example 4, the recording layer 23 was made of Gd 0.25 (Fe) with a thickness of 5 nm.
0.75 Co 0.25 ) 0.75 and Tb 0.22 (Fe with a film thickness of 15 nm
A magneto-optical disk having the same structure as that of Example 1 was prepared except that the laminated structure was 0.90 Co 0.10 ) 0.78 . In addition, as Example 5, the recording layer 23 is formed of Gd 0.25 (Fe 0.75 C with a thickness of 10 nm).
o 0.25 ) 0.75 and Tb 0.22 (Fe 0.90 Co with a film thickness of 10 nm)
A magneto-optical disk having the same structure as that of Example 4 was prepared except that the laminated structure was 0.10 ) 0.78 . Further, as Comparative Example 3, the second dielectric layer 24 is made of S having a thermal conductivity of 3.0 W / (m · K).
A magneto-optical disk having the same structure as in Example 5 was prepared except that iN (film thickness 20 nm, optical film thickness 0.076) was used. The recording / reproducing characteristics of these discs were measured in the same magneto-optical recording / reproducing apparatus as in Example 1 as in Example 1. The measurement results are shown in Table 3.

【0042】表3で示されるように、実施例4は実施例
1と比較して、C/Nがわずかに高く、クロストークで
約2dB、クロスイレースマージンで1割程良好な結果
が得られた。また、実施例5ではノイズが高くなったた
めに実施例4に比べてC/Nが低下し、クロストーク、
クロスイレースマージンも実施例4より悪くなっている
が、第二誘電体層24を熱伝導率が3.0W/(m・
K)のSiNとした比較例3との比較では、クロストー
ク、クロスイレースマージンとも、実施例5のほうが良
好な結果が得られた。
As shown in Table 3, in Example 4, the C / N is slightly higher than in Example 1, and the crosstalk is about 2 dB, and the cross erase margin is about 10%. It was Further, in the fifth embodiment, the noise is high, so that the C / N is lower than that in the fourth embodiment.
The cross erase margin is also worse than in Example 4, but the second dielectric layer 24 has a thermal conductivity of 3.0 W / (m ·
In comparison with Comparative Example 3 in which K) of SiN was used, the crosstalk and cross erase margin of Example 5 were better.

【0043】なお、実施例4と実施例5の媒体を比較す
ると室温での保磁力はいずれも20kOe以上と十分大
きな値となっているがTb−Fe−Coのキュリー温度
付近では実施例5の媒体では実施例4の半分以下となっ
ていた。このため実施例5では高温で磁区が不安定とな
りクロストーク、クロスイレースマージンが悪くなった
と考えられる。
When the media of Examples 4 and 5 are compared, the coercive force at room temperature is 20 kOe or more, which is a sufficiently large value, but near the Curie temperature of Tb-Fe-Co. In the medium, it was less than half that of Example 4. For this reason, it is considered that in Example 5, the magnetic domains became unstable at high temperatures and the crosstalk and cross erase margin deteriorated.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明の光磁気記録媒体は、従来の薄膜
構成の光磁気記録媒体に比べて、書き込み時の記録磁区
の広がり及び隣接トラックの記録磁区の変形が少なく、
結果として、クロストークを低減し、クロスイレースの
マージンを拡大することが可能であり、トラック密度を
向上させることが可能である。また、第2誘電体層の膜
厚が20nm程度の薄さで十分な効果が得られるので生
産性の点でも優れる。
The magneto-optical recording medium of the present invention causes less expansion of the recording magnetic domain at the time of writing and deformation of the recording magnetic domain of the adjacent track, as compared with the conventional magneto-optical recording medium of the thin film structure.
As a result, it is possible to reduce crosstalk, increase the cross erase margin, and improve the track density. Further, a sufficient effect can be obtained when the thickness of the second dielectric layer is as thin as about 20 nm, which is also excellent in productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】光磁気記録媒体の構造の一例を示す部分断面図
である。
FIG. 1 is a partial sectional view showing an example of the structure of a magneto-optical recording medium.

【図2】ランド&グルーブ基板の構造を示す概念図であ
る。
FIG. 2 is a conceptual diagram showing a structure of a land & groove substrate.

【図3】本発明の実施例の光磁気ディスクの構造を示す
部分断面図である。
FIG. 3 is a partial sectional view showing the structure of a magneto-optical disk according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、21…透明基板 2、22…第一誘電体層 3、23…記録層 4、24…第二誘電体層 5、25…反射層 26…紫外線硬化樹脂層 11…グルーブ 12…ランド 13…グルーブ深さ 14…ランドとグルーブのピッチ 1, 21 ... Transparent substrate 2, 22 ... First dielectric layer 3, 23 ... Recording layer 4, 24 ... Second dielectric layer 5, 25 ... Reflective layer 26 ... UV curable resin layer 11 ... Groove 12 ... Land 13 ... Groove depth 14 ... Pitch of land and groove

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光学的に透明な基板上に第一誘電体層、
記録層、第二誘電体層及び反射層をこの順に積層して成
る光磁気記録媒体において、前記基板の記録可能なトラ
ックの間隔が1.0μm以下であり、前記第一誘電体層
が窒化物薄膜からなり、かつ前記第二誘電体層の熱伝導
率が1.0W/(m・K)以下であることを特徴とする
光磁気記録媒体。
1. A first dielectric layer on an optically transparent substrate,
In a magneto-optical recording medium having a recording layer, a second dielectric layer and a reflective layer laminated in this order, the recordable track spacing of the substrate is 1.0 μm or less, and the first dielectric layer is a nitride. A magneto-optical recording medium comprising a thin film, wherein the second dielectric layer has a thermal conductivity of 1.0 W / (m · K) or less.
【請求項2】 第二誘電体層が(ZnS)1-x (SiO
2 x で構成され、xの範囲が0.1≦x≦0.4であ
ることを特徴とする請求項1記載の光磁気記録媒体。
2. The second dielectric layer is (ZnS) 1-x (SiO 2
2) is composed of x, the magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the range of x is equal to or is 0.1 ≦ x ≦ 0.4.
【請求項3】 第二誘電体層が(ZrO2 1-x (Si
2 x で構成され、xの範囲が0.1≦x≦0.4で
あることを特徴とする請求項1記載の光磁気記録媒体。
3. The second dielectric layer is (ZrO 2 ) 1-x (Si
2. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magneto-optical recording medium is composed of O 2 ) x , and the range of x is 0.1 ≦ x ≦ 0.4.
【請求項4】 第二誘電体層が水素の含有率が10原子
%以上30原子%以下のSiN:Hで構成されているこ
とを特徴とする請求項1記載の光磁気記録媒体。
4. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the second dielectric layer is made of SiN: H having a hydrogen content of 10 atomic% or more and 30 atomic% or less.
【請求項5】 記録層がGd−Fe−Co層とTb−F
e−Co層の2層で構成されていることを特徴とする請
求項1〜4いずれか1項に記載の光磁気記録媒体。
5. The recording layer is a Gd-Fe-Co layer and Tb-F.
The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magneto-optical recording medium is composed of two layers of an e-Co layer.
【請求項6】 Gd−Fe−Co層の組成がGdx (F
1-y Coy 1-x (0.22≦x≦0.27、0.20
≦y≦0.35)であり、Tb−Fe−Co層の組成が
Tbu (Fe1-v Cov 1-u (0.20≦u≦0.2
4、0.06≦v≦0.15)であり、かつ前記Gd−
Fe−Co層とTb−Fe−Co層の膜厚比(Gd−F
e−Co層膜厚/Tb−Fe−Co層膜厚)が0.1以
上0.7以下であることを特徴とする請求項5記載の光
磁気記録媒体。
6. The composition of the Gd—Fe—Co layer is Gd x (F
e 1-y Co y ) 1-x ( 0.22 ≦ x ≦ 0.27, 0.20
≦ y ≦ 0.35), and the composition of the Tb-Fe-Co layer is Tb u (Fe 1-v Co v ) 1-u (0.20 ≦ u ≦ 0.2).
4, 0.06 ≦ v ≦ 0.15), and the above Gd−
The film thickness ratio of the Fe-Co layer and the Tb-Fe-Co layer (Gd-F
The magneto-optical recording medium according to claim 5, wherein the ratio of (e-Co layer thickness / Tb-Fe-Co layer thickness) is 0.1 or more and 0.7 or less.
【請求項7】 第一誘電体層及び第二誘電体層の光学膜
厚、並びに記録層及び反射層の膜厚が下記の範囲である
ことを特徴とする請求項1記載の光磁気記録媒体。 0.23 ≦ n1 ・d1 /λ ≦ 0.30 0.04 ≦ n3 ・d3 /λ ≦ 0.12 13 ≦ d2 ≦ 30 35 ≦ d4 λ :記録・再生に使用する光の波長[nm]、n1
第一誘電体層の屈折率、 d1 :第一誘電体層の膜厚
[nm]、n3 :第二誘電体層の屈折率、 d3 :第二
誘電体層の膜厚[nm]、d2 :記録層の膜厚[n
m]、 d4 :反射層の膜厚[nm]
7. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the optical thicknesses of the first dielectric layer and the second dielectric layer, and the thicknesses of the recording layer and the reflective layer are in the following ranges. . 0.23 ≤ n 1 · d 1 / λ ≤ 0.30 0.04 ≤ n 3 · d 3 / λ ≤ 0.12 13 ≤ d 2 ≤ 30 35 ≤ d 4 λ: of the light used for recording / reproducing Wavelength [nm], n 1 :
Refractive index of first dielectric layer, d 1 : thickness of first dielectric layer [nm], n 3 : refractive index of second dielectric layer, d 3 : thickness of second dielectric layer [nm] , D 2 : the thickness of the recording layer [n
m], d 4 : film thickness of the reflective layer [nm]
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6802073B1 (en) * 1999-06-11 2004-10-05 Tosoh Corporation Magneto-optical recording medium

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