JPH0929150A - Hard substrate coater - Google Patents

Hard substrate coater

Info

Publication number
JPH0929150A
JPH0929150A JP20187595A JP20187595A JPH0929150A JP H0929150 A JPH0929150 A JP H0929150A JP 20187595 A JP20187595 A JP 20187595A JP 20187595 A JP20187595 A JP 20187595A JP H0929150 A JPH0929150 A JP H0929150A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nip roller
hard substrate
bar
substrate
microrod
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20187595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuyoshi Yao
泰敬 八尾
Tatsuya Emoto
辰弥 江本
Masao Otsu
政夫 大津
Masafumi Ozaki
政文 尾崎
Shinya Yamazaki
信哉 山崎
Hirofumi Kumagai
広文 熊谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP20187595A priority Critical patent/JPH0929150A/en
Publication of JPH0929150A publication Critical patent/JPH0929150A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the accumulation of static electricity and excessive contact pressure by forming a nip roller for nipping and sending a hard substrate along with a microrod bar into the multistage structure consisting of the core bar, elastic layer and surface layer and forming the surface layer from a rubber material with the volume resistivity specified. SOLUTION: A microrod bar 14 is placed on a backup material provided in a coating soln. tank 12 and driven by a motor. Meanwhile, both left and right edges of a glass substrate 10 are placed on a conveyor roller 22, and the front edge is allowed to intrude into the space between the microrod bar 14 and nip roller 20. The substrate 10 is conveyed at a fixed speed, and the lower face of the substrate 10 is coated with the soln. by the microrod bar 14. In such a hard substrate coater, the nip roller 20 is formed into the multilayer structure consisting of a metallic columnar core bar 20A, an elastic layer 20B on the surface and a surface layer 20C covering the surface. At this time, the elastic layer 20C is formed from a rubber material having <=10<5> Ωcm volume resistivity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板を用い
た液晶表示板などの製造に用いられ、フォトレジストな
どの塗布液を硬基板に薄く均一に塗布するための硬基板
塗布装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hard substrate coating apparatus used for manufacturing a liquid crystal display panel and the like using a glass substrate and for applying a coating liquid such as a photoresist to a hard substrate in a thin and uniform manner. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶板の製造工程の中には、ガラス基板
などの硬基板にフォトレジストなどの塗布液を薄く均一
な厚さに塗布する工程がある。例えばカラー液晶板の製
造においては、透明電極を予め形成したガラス基板に、
フォトレジストの機能を有する赤のカラ−モザイク液を
均一に塗布した後、露光して赤に対応するカラ−モザイ
クを硬化させ、余分の液を除去することにより赤のカラ
ーモザイクを形成している。そしてこれと同様な処理を
緑、青などの他の色について繰り返している。このよう
にフォトレジストとなる塗布液を塗布する場合、この液
は均一な厚さ(例えば2μ±5%程度)に厳密に管理し
て薄く塗布する必要がある。この塗布の厚さが不均一で
あると、光の透過率のむらが生じ、品質の低下を招くこ
とになるからである。
2. Description of the Related Art In a manufacturing process of a liquid crystal plate, there is a process of applying a coating liquid such as a photoresist to a thin and uniform thickness on a hard substrate such as a glass substrate. For example, in the production of a color liquid crystal plate, a transparent electrode is formed on a glass substrate in advance,
After uniformly applying a red color mosaic liquid having the function of a photoresist, the color mosaic corresponding to the red color is cured by exposure, and an excess liquid is removed to form a red color mosaic. . The same processing is repeated for other colors such as green and blue. When a coating liquid to be a photoresist is applied as described above, it is necessary to strictly control this liquid to a uniform thickness (for example, about 2 μ ± 5%) and to apply the thin liquid. This is because if the thickness of the coating is non-uniform, the light transmittance becomes uneven, which leads to a deterioration in quality.

【0003】従来はこの塗布のためにスピンコータが用
いられていた。このスピンコータは回転させた基板の回
転中心付近に塗布液を滴下し、この液を遠心力を利用し
て飛散させることにより塗布するものである。しかしこ
のスピンコータを用いる方法では基板の交換に手間取り
作業能率が悪くなるばかりでなく、飛散して捨てられる
液の量が増えることになる。このためコストアップにな
るという問題があった。
Conventionally, a spin coater has been used for this coating. This spin coater is one in which a coating liquid is dropped near the center of rotation of a rotated substrate and the liquid is scattered by utilizing centrifugal force to apply the liquid. However, in the method using this spin coater, not only the labor efficiency for replacing the substrate is deteriorated but also the amount of the liquid scattered and discarded increases. Therefore, there is a problem that the cost is increased.

【0004】そこで水平に配設された上下一対のローラ
間に基板を挟んで塗布する装置を用いることが考えられ
ている。この装置は下のローラとなるマイクロロッドバ
ーの下部を塗布液に浸漬し、このマイクロロッドバーと
この上方に位置するニップローラとの間に基板を挟んで
送りながら、マイクロロッドバーにより基板の下面に塗
布するものである。
In view of this, it has been considered to use an apparatus for coating a substrate between a pair of upper and lower rollers disposed horizontally. In this device, the lower part of the micro rod bar, which is the lower roller, is immersed in the coating solution, and the substrate is sandwiched between the micro rod bar and the nip roller located above the micro rod bar. It is to be applied.

【0005】ここに従来の装置ではニップローラとマイ
クロロッドバーとの間隔を一定に保ち、両者の間に一定
厚さの硬基板が進入した時に硬基板に所定の挾圧力(ニ
ップ圧という)が加わるようにしていた。なお硬基板を
挾んでいない時には両者の間に僅かな間隔ができるよう
にして、塗布液がニップローラに付着するのを防止する
必要があるのは勿論である。
Here, in the conventional apparatus, the gap between the nip roller and the micro rod bar is kept constant, and when a hard substrate having a constant thickness enters between them, a predetermined sandwiching pressure (referred to as nip pressure) is applied to the hard substrate. Was doing. Needless to say, it is necessary to prevent the coating liquid from adhering to the nip roller by providing a slight gap between the two when the hard substrate is not sandwiched.

【0006】[0006]

【従来技術の問題点】ここにニップローラは円柱状の芯
金の表面をゴム層で被覆したものであるが、硬基板の塗
布時に静電気が蓄積する。この静電気はニップローラが
硬基板から剥離する際に発生する帯電(剥離帯電とい
う)によるものであると考えられる。
2. Description of the Related Art Here, the nip roller has a cylindrical cored bar whose surface is covered with a rubber layer. However, static electricity accumulates when a hard substrate is applied. It is considered that this static electricity is due to charging (referred to as peeling charging) that occurs when the nip roller separates from the hard substrate.

【0007】この剥離帯電によりニップローラが帯電す
ると、マイクロロッドバーから塗布液の小滴あるいは飛
沫がニップローラに付着する。このため硬基板の裏面
(非塗布面)が汚れるという問題が生じる。また硬基板
の終端がマイクロロッドバーとニップローラとの間から
脱出する際に、ニップローラの静電気によって塗布液が
硬基板の終端から裏面(上面)に廻り込み硬基板の終端
付近が汚れるという問題もあった。
When the nip roller is charged by the peeling charging, small droplets or splashes of the coating liquid adhere to the nip roller from the micro rod bar. Therefore, there arises a problem that the back surface (non-coated surface) of the hard substrate becomes dirty. Further, when the end of the hard substrate escapes from between the microrod bar and the nip roller, the static electricity of the nip roller causes the coating liquid to flow around from the end of the hard substrate to the back surface (top surface) and contaminate the vicinity of the end of the hard substrate. It was

【0008】そこでニップローラの導電性を良くして静
電気を速やかに芯金に逃がすようにすることが考えられ
る。例えば表面のゴム層を導電性の良いゴムで作ること
が考えられる。しかし一般に導電性の良いゴムはカーボ
ンを多く含ませる必要があるため、硬くなる性質があ
る。このゴム層のゴムが硬いと硬基板に対する接触圧
(ニップ力)が増大し、マイクロロッドバーが硬基板に
傷を付け易くなるという問題が生じる。
Therefore, it is considered that the conductivity of the nip roller is improved so that the static electricity can be quickly released to the core metal. For example, it is conceivable that the rubber layer on the surface is made of highly conductive rubber. However, rubber having good conductivity generally needs to contain a large amount of carbon, and therefore has a property of becoming hard. If the rubber of the rubber layer is hard, the contact pressure (nip force) on the hard substrate increases, and the microrod bar easily scratches the hard substrate.

【0009】[0009]

【発明の目的】本発明はこのような事情に鑑みなされた
ものであり、ニップローラに静電気が蓄積するのを防ぐ
一方、硬基板に対する接触圧(ニップ力)が過大になら
ずマイクロロッドバーが硬基板を傷付けるおそれがない
硬基板塗布装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and prevents static electricity from accumulating on the nip roller, while the contact pressure (nip force) against the hard substrate does not become excessive and the microrod bar is hardened. An object of the present invention is to provide a hard substrate coating device that does not damage the substrate.

【0010】[0010]

【発明の構成】本発明によればこの目的は、下部が塗布
液槽に浸漬されたマイクロロッドバーと、このマイクロ
ロッドバーの上方に対向配置されたニップローラとの間
に硬基板を挟んで送ることにより、前記硬基板の下面に
塗布液を塗布する硬基板塗布装置において、前記ニップ
ローラを芯金と弾性層と表面層とからなる多層構造と
し、前記表面層を体積抵抗率105 Ωcm以下のゴム材
で形成したことを特徴とする硬基板塗布装置、により達
成される。
According to the present invention, for this purpose, a hard substrate is sandwiched between a microrod bar whose lower portion is immersed in a coating liquid tank and a nip roller which is arranged above the microrod bar so as to be fed. As a result, in the hard substrate coating apparatus for coating the coating liquid on the lower surface of the hard substrate, the nip roller has a multilayer structure including a core metal, an elastic layer and a surface layer, and the surface layer has a volume resistivity of 10 5 Ωcm or less. And a hard substrate coating device characterized by being formed of a rubber material.

【0011】すなわちゴム層自身の導電性を良くする一
方、この結果ゴム層が硬くなってもその下層を弾性層と
して柔かくすることにより接触圧が過大にならないよう
にするものである。
That is, while the conductivity of the rubber layer itself is improved, even if the rubber layer is hardened as a result, the contact pressure is prevented from becoming excessive by making the underlying layer soft as an elastic layer.

【0012】またこの目的は、ニップローラのゴム層の
導電性を良くすることに代え、ニップローラの表面にイ
オン風を供給するイオン風発生器を設け、イオン風によ
りニップローラ表面の帯電電荷を除去するようにしても
よい。この場合ニップローラの表面層の下に弾性層を介
在させた多層構造とし、表面層のゴムを体積抵抗率10
5 Ωcm以下とすれば、帯電電荷の除去は一層確実にな
る。
Another object of the present invention is to improve the conductivity of the rubber layer of the nip roller by providing an ion wind generator for supplying ion wind on the surface of the nip roller so that the charged electric charge on the surface of the nip roller is removed by the ion wind. You may In this case, the nip roller has a multilayer structure in which an elastic layer is interposed below the surface layer, and the surface layer rubber has a volume resistivity of 10%.
If it is 5 Ωcm or less, the removal of the charged electric charge becomes more reliable.

【0013】[0013]

【発明の実施の態様】図1は本発明の一実施例の全体配
置図、図2はその塗布部の斜視図、図3はニップローラ
の断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an overall layout view of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of its coating portion, and FIG. 3 is a sectional view of a nip roller.

【0014】図1、3において、符号10は液晶板のカ
ラーフィルタに用いるガラス基板であり、硬基板となる
ものである。このガラス基板10は例えば幅300〜5
00mm、長さ400〜600mm、厚さ0.7〜1.
1mmのものである。
1 and 3, reference numeral 10 denotes a glass substrate used for a color filter of a liquid crystal plate, which is a hard substrate. The glass substrate 10 has a width of, for example, 300 to 5
00 mm, length 400-600 mm, thickness 0.7-1.
It is 1 mm.

【0015】12は塗布液槽、14はマイクロロッドバ
ーである。マイクロロッドバー14は断面円形のステン
レス製ロッドの表面に細い金属線例えばステンレス製ワ
イヤを密着するように巻き付けたものであり、金属線間
の溝による毛細管現象を利用して液を塗布するものであ
る。マイクロロッドバー14は塗布液槽12の中に設け
たバックアップ材(図示せず)に載った状態でモータ駆
動される。
Reference numeral 12 is a coating liquid tank, and 14 is a microrod bar. The micro rod bar 14 is formed by winding a thin metal wire, for example, a stainless wire, on the surface of a stainless steel rod having a circular cross section so as to be in close contact with the rod, and applying a liquid by utilizing a capillary phenomenon due to a groove between the metal wires. is there. The micro rod bar 14 is driven by a motor while being mounted on a backup material (not shown) provided in the coating liquid tank 12.

【0016】塗布液はマイクロロッドバー14の下部が
十分に浸るようにその液面が一定に管理されている。な
おマイクロロッドバーバー14の外径(直径)は約12
mmである。20はニップローラであり、マイクロロッ
ドバー14の上方に保持されている。このニップローラ
20の直径はこの実施例では約150mmである。なお
この直径は約60〜200mmの範囲で選択可能であ
る。
The liquid level of the coating liquid is controlled so that the lower part of the microrod bar 14 is sufficiently immersed. The outer diameter (diameter) of the micro rod bar bar 14 is about 12
mm. A nip roller 20 is held above the micro rod bar 14. The diameter of the nip roller 20 is about 150 mm in this embodiment. The diameter can be selected within the range of about 60 to 200 mm.

【0017】ガラス基板10はその左右両縁を搬送ロー
ラ22に載せた状態で図2、3の左側から一定速度で搬
送され、その前縁がマイクロロッドバー14とニップロ
ーラ20の間に進入する。図2で24はこの搬送ローラ
22の駆動機構を収容するケースである。
The glass substrate 10 is conveyed at a constant speed from the left side of FIGS. 2 and 3 with its left and right edges placed on the conveying roller 22, and its front edge enters between the microrod bar 14 and the nip roller 20. In FIG. 2, reference numeral 24 is a case for accommodating the drive mechanism of the transport roller 22.

【0018】このガラス基板10はそれ以後はマイクロ
ロッドバー14およびニップローラ20の回転により右
側へ一定速度で送られ、その間にマイクロロッドバー1
4よってガラス基板10の下面に液が塗布されるもので
ある。そして塗布が終ったガラス基板10はその左右両
縁を搬送ローラ22に載せてさらに送られ塗布液が乾燥
される。
Thereafter, the glass substrate 10 is fed to the right side at a constant speed by the rotation of the microrod bar 14 and the nip roller 20, and the microrod bar 1 is fed between them.
Therefore, the liquid is applied to the lower surface of the glass substrate 10. Then, the left and right edges of the glass substrate 10 on which the coating has been completed are placed on the transport rollers 22 and further fed to dry the coating liquid.

【0019】次にニップローラ20を図3により説明す
る。ニップローラ20は金属製の円柱状の芯金20A
と、この芯金20の表面に重ねた弾性層20Bと、この
弾性層20Bの表面を覆う表面層20Cとを持った多層
構造である。ここに芯金20Aは例えば錆びにくいSU
S(ステンレス)材などで作られ、その半径は約60m
mである。弾性層20Bは例えば表面層20Cと同一材
質で硬度が低く十分に柔らかいゴムなどの材料で作ら
れ、その厚さは約12mmである。
Next, the nip roller 20 will be described with reference to FIG. The nip roller 20 is a cylindrical metal core 20A made of metal.
And a surface layer 20C that covers the surface of the elastic layer 20B and an elastic layer 20B that is stacked on the surface of the cored bar 20. Here, the core metal 20A is, for example, SU that is hard to rust.
It is made of S (stainless) material, and its radius is about 60m.
m. The elastic layer 20B is made of, for example, the same material as the surface layer 20C, such as rubber, which has low hardness and is sufficiently soft, and has a thickness of about 12 mm.

【0020】表面層20Cは導電性の良い材料、例えば
EPDM、ブチルゴムなどの耐溶剤性に優れた合成ゴム
で作られ、約3mmの厚さである。この表面層のゴムは
体積抵抗率Ρが105 Ωcm以下とする。ここに体積抵
抗率Ρ(Ωcm)次のように定義される。[Ρ=(πd
2 /4t)Rv ]ここにdは主電極の直径(cm)、t
は試験片の厚さ(cm)、Rv は体積抵抗(Ω)であ
る。
The surface layer 20C is made of a material having good conductivity, for example, synthetic rubber having excellent solvent resistance such as EPDM and butyl rubber, and has a thickness of about 3 mm. The rubber of this surface layer has a volume resistivity Ρ of 10 5 Ωcm or less. Here, the volume resistivity Ρ (Ωcm) is defined as follows. [Ρ = (πd
2 / 4t) Rv ] where d is the diameter (cm) of the main electrode, t
Is the thickness of the test piece (cm), and R v is the volume resistance (Ω).

【0021】このように導電性の良いゴムはカーボンの
含有量が多いため硬くなるが、その下の弾性層20Bの
作用によりニップローラ20の表面に十分な弾性を持た
せることができる。このためガラス基板10に対する接
触圧(ニップ力)を小さくできる。この接触圧は2kg
f/cm2 以下になるようにするのが望ましい。このよ
うにニップローラ20の接触圧を小さくできる結果、マ
イクロロッドバー14のワイヤがガラス基板10に傷を
付けるおそれがなくなる。
As described above, the rubber having good conductivity is hard because it contains a large amount of carbon, but the surface of the nip roller 20 can have sufficient elasticity by the action of the elastic layer 20B thereunder. Therefore, the contact pressure (nip force) on the glass substrate 10 can be reduced. This contact pressure is 2 kg
It is desirable to set it to f / cm 2 or less. As a result of reducing the contact pressure of the nip roller 20 in this way, there is no possibility that the wire of the microrod bar 14 will scratch the glass substrate 10.

【0022】図4は他の実施例の概念図である。この実
施例はニップローラの表面の帯電電荷をイオン風により
除去するものである。この図において30は高電圧電
源、32はイオン化エアーバーであり、これらによりイ
オン風発生器34が形成される。このイオン化エアーバ
ー32は、ニップローラ20の幅方向に長くニップロー
ラ20に対向する面が開口した箱状であり、その長さ方
向に一定間隔で多数の放電針が配列されている。
FIG. 4 is a conceptual diagram of another embodiment. In this embodiment, the charged charges on the surface of the nip roller are removed by ion wind. In this figure, 30 is a high voltage power source and 32 is an ionizing air bar, which forms an ion wind generator 34. The ionized air bar 32 is in the shape of a box that is long in the width direction of the nip roller 20 and has an opening on the surface facing the nip roller 20, and a large number of discharge needles are arranged at regular intervals in the length direction.

【0023】そして高電圧電源30から供給される交流
の高電圧が隣接する放電針間に印加され、放電針間にコ
ロナ放電を発生させる。この放電に伴って発生するイオ
ンが気体分子と衝突して全体として気体はある速度で移
動し、いわゆるイオン風または電気風を生ずる。このイ
オン風をニップローラ20の表面に導き、ニップローラ
20の表面の電荷を除去するものである。この実施例で
は高電圧電源30は4個の出力端子を持ち、4本のイオ
ン化エアーバー32がニップローラ20の外周に沿って
配設されている。
An alternating high voltage supplied from the high-voltage power supply 30 is applied between the adjacent discharge needles to generate corona discharge between the discharge needles. The ions generated by this discharge collide with gas molecules and the gas moves as a whole at a certain velocity to generate so-called ionic wind or electric wind. This ionic wind is introduced to the surface of the nip roller 20 to remove the charge on the surface of the nip roller 20. In this embodiment, the high voltage power supply 30 has four output terminals, and four ionized air bars 32 are arranged along the outer circumference of the nip roller 20.

【0024】なおこの図4の実施例に用いるニップロー
ラ20は、前記図3に示した弾性層20Bを持つ多層構
造のものとすれば、イオン風の作用の付加によりニップ
ローラ20の除電効果は一層増大する。しかしニップロ
ーラは従来構造のもの、すなわち弾性層20Bを持たな
いものとしても、このイオン風を用いることにより帯電
電荷を除去することができる。本発明はこのようなもの
を含包する。
If the nip roller 20 used in the embodiment of FIG. 4 has a multi-layered structure having the elastic layer 20B shown in FIG. 3, the effect of the ion wind is added to further increase the static elimination effect of the nip roller 20. To do. However, even if the nip roller has a conventional structure, that is, without the elastic layer 20B, the charged electric charge can be removed by using the ionic wind. The present invention includes such things.

【0025】[0025]

【発明の効果】請求項1の発明は以上のように、ニップ
ローラを芯金と弾性層と表面層とからなる多層構造と
し、表面層は体積抵抗率が105 Ωcm以下の導電性の
良いゴム材で形成したものであるから、静電気によりニ
ップローラに帯電する電荷はこの表面層により速やかに
ニップローラの表面全体に拡散し、弾性層を通して芯金
に放電される。このためニップローラ表面に静電気が蓄
積せず、塗布液の小滴や飛沫がニップローラに付着しな
い。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the nip roller has a multi-layer structure composed of a cored bar, an elastic layer and a surface layer, and the surface layer has a volume resistivity of 10 5 Ωcm or less and good conductivity. Since it is formed of a material, the electric charge that is charged on the nip roller by static electricity is quickly diffused by the surface layer over the entire surface of the nip roller and discharged to the cored bar through the elastic layer. For this reason, static electricity does not accumulate on the surface of the nip roller, and small droplets or splashes of the coating liquid do not adhere to the nip roller.

【0026】また硬基板の終端がニップローラとマイク
ロロッドバーとの間から脱出する際に、マイクロロッド
バーの塗布液が硬基板終端からニップローラに吸い上げ
られて硬基板の裏面(非塗布面)に廻り込むこともなく
なる。このため硬基板の裏面や終端面が塗布液で汚れる
おそれがなくなる。
When the end of the hard substrate escapes from between the nip roller and the microrod bar, the coating liquid of the microrod bar is sucked up by the nip roller from the end of the hard substrate and spreads to the back surface (non-coated surface) of the hard substrate. It will not be crowded. Therefore, there is no possibility that the back surface or the terminal surface of the hard substrate is contaminated with the coating liquid.

【0027】ここにニップローラの表面にイオン風を供
給するイオン風発生器を設ければ、イオン風によってニ
ップローラ表面の電荷を除去することができる(請求項
2)。この結果請求項1と同様な効果が得られる。ニッ
プローラは従来構造のもの、すなわち弾性層を持たず表
面ゴム層の導電性が悪いものであってもよい。しかし請
求項1の構造をもったニップローラを用いれば、ニップ
ローラの除電効果は一層向上する(請求項3)。
If an ion wind generator for supplying ion wind to the surface of the nip roller is provided here, the electric charge on the surface of the nip roller can be removed by the ion wind (claim 2). As a result, the same effect as in claim 1 can be obtained. The nip roller may have a conventional structure, that is, it may have no elastic layer and the surface rubber layer may have poor conductivity. However, if the nip roller having the structure of claim 1 is used, the charge removal effect of the nip roller is further improved (claim 3).

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施態様の全体配置図FIG. 1 is an overall layout diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】その塗布部の斜視図FIG. 2 is a perspective view of the coating section.

【図3】ニップローラの断面図FIG. 3 is a sectional view of a nip roller.

【図4】他の実施態様を示す図FIG. 4 is a diagram showing another embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 硬基板としてのガラス基板 12 塗布液槽 14 マイクロロッドバー 20 ニップローラ 20A 芯金 20B 弾性層 20C 表面層 30 高電圧電源 32 イオン化エアーバー 34 イオン風発生器 10 Glass Substrate as Hard Substrate 12 Coating Liquid Tank 14 Micro Rod Bar 20 Nip Roller 20A Core Bar 20B Elastic Layer 20C Surface Layer 30 High Voltage Power Supply 32 Ionization Air Bar 34 Ion Wind Generator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 尾崎 政文 神奈川県綾瀬市小園1005番地 富士マイク ログラフイックス株式会社内 (72)発明者 山崎 信哉 神奈川県綾瀬市小園1005番地 富士マイク ログラフイックス株式会社内 (72)発明者 熊谷 広文 神奈川県綾瀬市小園1005番地 富士マイク ログラフイックス株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Masafumi Ozaki 1005 Kozoen, Ayase City, Kanagawa Prefecture, Fuji Micrographix Co., Ltd. (72) Shinya Yamazaki, 1005 Koen, Ayase City, Kanagawa Prefecture, Fuji Micrologix Co., Ltd. (72) Inventor Hirofumi Kumagai 1005 Kozono, Ayase City, Kanagawa Prefecture Fuji Micrographix Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下部が塗布液槽に浸漬されたマイクロロ
ッドバーと、このマイクロロッドバーの上方に対向配置
されたニップローラとの間に硬基板を挟んで送ることに
より、前記硬基板の下面に塗布液を塗布する硬基板塗布
装置において、前記ニップローラを芯金と弾性層と表面
層とからなる多層構造とし、前記表面層を体積抵抗率1
5 Ωcm以下のゴム材で形成したことを特徴とする硬
基板塗布装置。
1. A hard substrate is sandwiched between a microrod bar whose lower portion is immersed in a coating liquid tank and a nip roller which is arranged above the microrod bar to face the lower surface of the hard substrate. In a hard substrate coating apparatus for coating a coating liquid, the nip roller has a multilayer structure including a core metal, an elastic layer and a surface layer, and the surface layer has a volume resistivity of 1
A hard substrate coating device formed of a rubber material having a resistance of 0 5 Ωcm or less.
【請求項2】 下部が塗布液槽に浸漬されたマイクロロ
ッドバーと、このマイクロロッドバーの上方に対向配置
されたニップローラとの間に硬基板を挟んで送ることに
より、前記硬基板の下面に塗布液を塗布する硬基板塗布
装置において、前記ニップローラの表面にイオン風を供
給するイオン風発生器を備えることを特徴とする硬基板
塗布装置。
2. A hard substrate is sandwiched between a microrod bar whose lower portion is immersed in a coating liquid tank and a nip roller which is arranged above the microrod bar so as to feed it to the lower surface of the hard substrate. A hard substrate coating apparatus for applying a coating liquid, comprising an ion wind generator for supplying ion wind to the surface of the nip roller.
【請求項3】 請求項1において、前記ニップローラの
表面にイオン風を供給するイオン風発生器を備えること
を特徴とする硬基板塗布装置。
3. The hard substrate coating apparatus according to claim 1, further comprising an ion wind generator that supplies ion wind to the surface of the nip roller.
JP20187595A 1995-07-17 1995-07-17 Hard substrate coater Pending JPH0929150A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20187595A JPH0929150A (en) 1995-07-17 1995-07-17 Hard substrate coater

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20187595A JPH0929150A (en) 1995-07-17 1995-07-17 Hard substrate coater

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0929150A true JPH0929150A (en) 1997-02-04

Family

ID=16448325

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20187595A Pending JPH0929150A (en) 1995-07-17 1995-07-17 Hard substrate coater

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0929150A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102016109044B3 (en) Device for surface treatment of a substrate
JPH10113606A (en) Atmospheric pressure glow discharge treatment of base material for photographic application
TW201540382A (en) Cleaning device
CN107851585B (en) System and method for removing foreign matter using electric field adsorption method
CN114030929A (en) Pole piece strip-shaped interval pre-lithiation device
JPH0929150A (en) Hard substrate coater
JPH11347504A (en) Method and apparatus for cleaning belt-shaped member
KR20170098178A (en) Expander device, porous film producing device, and porous film producing method
US4256249A (en) Photographing film conveying device
US6471846B1 (en) Electric feeding method and apparatus for a continuous plating apparatus
JP2020064732A (en) Static elimination method and device
CN114361397B (en) Strip-shaped interval prelithiation method and device for dual-purpose pole piece of lithium film
EP1483806A2 (en) A grounding electrode and a method in which it is utilized
JPH09248503A (en) Coating device for hard substrate
JPH11180020A (en) Printer
JP2003243198A (en) Static charge eliminator
JPH06297753A (en) Image forming apparatus
JPS62102271A (en) Shielding blade for copying machine
JPH04201378A (en) Recorder of electrothermal recording system
DE2653771A1 (en) Material on which electrophotographic images can be formed - comprises two plies, one of insulating plastic and the other of electroconductive plastic, esp. graphite-contg. PTFE
JP2002270334A (en) Corona discharge device
JPH0938567A (en) Method and apparatus for coating rigid substrate
JP4701756B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display device
KR20020093243A (en) An apparatus for manufacturing electret filter
JPH08211622A (en) Resist coating device

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050121

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050322

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050715

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050909

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20050914

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Effective date: 20051126

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061206