JPH09288851A - Device for manufacturing optical disk - Google Patents

Device for manufacturing optical disk

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JPH09288851A
JPH09288851A JP12222296A JP12222296A JPH09288851A JP H09288851 A JPH09288851 A JP H09288851A JP 12222296 A JP12222296 A JP 12222296A JP 12222296 A JP12222296 A JP 12222296A JP H09288851 A JPH09288851 A JP H09288851A
Authority
JP
Japan
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optical disk
laser light
disk substrate
laser beam
optical disc
Prior art date
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Pending
Application number
JP12222296A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Takeda
実 武田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP12222296A priority Critical patent/JPH09288851A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for manufacturing an optical disk capable of manufacturing the optical disk with high signal recording accuracy by a simple equipment. SOLUTION: The device is provided with a laser beam source 151 emitting UV laser beam, modulation means 152, 153 modulating the intensity of the UV laser beam emitted from the laser beam source 151 and optical means 154, 155, 156 irradiating an optical disk substrate 1 with the UV laser beam from the modulation means 152, 153 for processing and forming signal pits on the rotating optical disk substrate 1. Further, the device is provided with a supplying nozzle 13 which is arranged near a processing region on the optical disk substrate 1 and flows gas from a rotation center side of the optical disk substrate 1 toward the processing region and a suction nozzle 14 which is arranged at a position facing to the supplying nozzle 13 with the processing region and sucks gas flowed from the supplying nozzle 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、光ディスクを製
造する装置に関し、特に光ディスク基板上に信号ピット
を加工形成するための装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing an optical disk, and more particularly to an apparatus for processing and forming signal pits on an optical disk substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】光を利用して情報を再生又は記録するデ
ィスク状の媒体である再生専用形光ディスク、追記形光
ディスク、書換形光ディスクとしては、コンパクトディ
スク、相変化ディスク、光磁気ディスク等がある。この
ような光ディスクは、例えば次のようにして製造され
る。先づ、供給されるガラス基板が加工及び研磨された
後に洗浄及び乾燥される。続いて、記録膜となるべきフ
ォトレジストが膜厚約0.1μmでガラス基板の表面に
コーティングされた後、ガラス基板がオーブン等にてベ
ーキング(熱処理)される。
2. Description of the Related Art A read-only optical disc, a write-once optical disc, and a rewritable optical disc, which are disc-shaped media for reproducing or recording information by using light, include compact discs, phase change discs, and magneto-optical discs. . Such an optical disc is manufactured as follows, for example. First, the supplied glass substrate is processed and polished, and then washed and dried. Subsequently, after a photoresist to be a recording film is coated on the surface of the glass substrate to a film thickness of about 0.1 μm, the glass substrate is baked (heat treatment) in an oven or the like.

【0003】その後、カッティングマシンによりレーザ
光がフォトレジストに対して照射され、フォトレジスト
が露光される。ここで、レーザ光は、例えば波長が44
1nmのHe:Cdレーザが使用され、集光レンズであ
る対物レンズで回折限界のスポットサイズまで絞られて
フォトレジストに対して照射される。そして、フォトレ
ジストが現像され、感光したフォトレジストの部分が除
去され、トラッキング用案内パターンであるグルーブ及
び記録信号溝である信号ピットが形成される。さらに、
フォトレジストの表面が導体化処理された後、無電解メ
ッキ及び電気鋳造によってニッケル膜がフォトレジスト
の表面に形成される。そして、このニッケル膜が剥離・
洗浄され、後述するスタンパと同じ形状のニッケルマス
タが形成される。
Then, a laser beam is applied to the photoresist by a cutting machine to expose the photoresist. Here, the laser light has, for example, a wavelength of 44.
A 1 nm He: Cd laser is used, and a photoresist is irradiated after being focused to a diffraction limit spot size by an objective lens which is a condenser lens. Then, the photoresist is developed, the exposed portion of the photoresist is removed, and a groove serving as a tracking guide pattern and a signal pit serving as a recording signal groove are formed. further,
After the surface of the photoresist is made conductive, a nickel film is formed on the surface of the photoresist by electroless plating and electroforming. And this nickel film peels off
After cleaning, a nickel master having the same shape as the stamper described later is formed.

【0004】次に、このニッケルマスタの表面が剥離処
理(パッシベーション)された後、再び無電解メッキ及
び電気鋳造によって第2のニッケル膜がニッケルマスタ
の表面に形成される。そして、この第2のニッケル膜が
剥離・洗浄され、マザーが形成される。続いて、このマ
ザーの表面が剥離処理(パッシベーション)された後、
更に無電解メッキ及び電気鋳造によって第3のニッケル
膜がマザーの表面に形成される。そして、この第3のニ
ッケル膜が剥離・洗浄され、スタンパが製造される。こ
のように形成されたスタンパを使用して、溶融樹脂の射
出成形により樹脂製のディスクが複製される。そして、
金属膜がそのディスクの信号記録面に真空蒸着され、保
護層としての樹脂がコーティングされて最終的な光ディ
スクとされる。
Next, after the surface of the nickel master is stripped (passivated), a second nickel film is formed again on the surface of the nickel master by electroless plating and electroforming. Then, the second nickel film is peeled off and washed to form a mother. Then, after the surface of this mother is stripped (passivation),
Further, a third nickel film is formed on the surface of the mother by electroless plating and electroforming. Then, the third nickel film is peeled off and washed to manufacture the stamper. Using the stamper thus formed, a resin disk is duplicated by injection molding a molten resin. And
A metal film is vacuum-deposited on the signal recording surface of the disc and coated with a resin as a protective layer to form a final optical disc.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の光ディスク製造
装置に用いられるガラス基板は高価であるため、再生処
理されて再利用されているが、ガラス基板の汚れ等は光
ディスクの信号記録に悪影響を与えるので、ガラス基板
の再生処理工程には高いクリーン度が必要である。ま
た、ガラス基板の再生処理工程やフォトレジストの現像
処理工程等は薬液を用いるウェットプロセスであるた
め、これらの化学処理工程に対処できる複数の大掛かり
な装置が必要となる。従って、クリーン度が高く、スペ
ースが広いクリーンルームが必要となるので、設備コス
トが高くなるという問題があった。
Since the glass substrate used in the conventional optical disk manufacturing apparatus is expensive, it is recycled and reused. However, dirt on the glass substrate adversely affects signal recording on the optical disk. Therefore, a high degree of cleanliness is required in the glass substrate recycling process. Further, since the glass substrate recycling process, the photoresist developing process, and the like are wet processes using a chemical solution, a plurality of large-scale devices capable of coping with these chemical processing processes are required. Therefore, a clean room having a high degree of cleanliness and a large space is required, and there is a problem that the equipment cost increases.

【0006】また、光ディスクの信号記録の精度を高め
るには、信号ピットの長さの変動やバラツキを最小限に
抑える必要がある。ところが、信号ピットは化学的な現
像処理により形成されるため、現像液の濃度や現像時間
等の品質管理や工程管理を厳格に行わないと、信号ピッ
トの長さが不安定になり易く、信号ピットの長さの変動
やバラツキを小さくすることに限界があるという問題が
あった。同様に、フォトレジストの膜厚も光ディスクの
信号記録の精度に影響を与えるので、原料や成膜等の品
質管理や工程管理を厳格に行わないと、フォトレジスト
の膜厚が不安定になり易く、フォトレジストの膜厚の変
動やバラツキを小さくすることに限界があるという問題
があった。
Further, in order to improve the accuracy of signal recording on the optical disk, it is necessary to minimize fluctuations and variations in the length of signal pits. However, since the signal pits are formed by a chemical development process, unless the quality control and process control such as the concentration of the developing solution and the development time are strictly performed, the length of the signal pits tends to be unstable, and There is a problem that there is a limit to reducing fluctuations and variations in pit length. Similarly, the film thickness of the photoresist also affects the signal recording accuracy of the optical disc, so the film thickness of the photoresist tends to become unstable unless quality control and process control of raw materials and film formation are strictly performed. However, there is a problem that there is a limit in reducing fluctuations and variations in the film thickness of the photoresist.

【0007】この発明は、以上の点に鑑み、簡略な設備
で信号記録精度の高い光ディスクを製造することができ
る光ディスク製造装置を提供することを目的としてい
る。
In view of the above points, an object of the present invention is to provide an optical disk manufacturing apparatus capable of manufacturing an optical disk having high signal recording accuracy with simple equipment.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的は、この発明に
よれば、紫外線レーザ光を射出するレーザ光源と、前記
レーザ光源からの紫外線レーザ光の強度を変調する変調
手段と、回転する光ディスク基板上に信号ピットを加工
形成するために、前記変調手段からの紫外線レーザ光を
照射する光学手段と、前記光ディスク基板上の加工領域
の近傍に配置され、前記光ディスク基板の回転中心側か
ら前記加工領域に向けて気体を流す供給ノズルと、前記
加工領域に対して前記供給ノズルと対向する位置に配置
され、前記供給ノズルから流した気体を吸引する吸引ノ
ズルとを備えることにより達成される。
According to the present invention, the above object is to provide a laser light source for emitting an ultraviolet laser beam, a modulating means for modulating the intensity of the ultraviolet laser beam from the laser light source, and a rotating optical disk substrate. Optical means for irradiating the ultraviolet laser beam from the modulating means for processing and forming signal pits thereon, and the processing area on the optical disk substrate in the vicinity of the processing area, and the processing area from the rotation center side of the optical disk substrate. This is achieved by providing a supply nozzle that allows gas to flow toward, and a suction nozzle that is disposed at a position facing the supply nozzle with respect to the processing region and that suctions the gas that has flowed from the supply nozzle.

【0009】上記構成によれば、紫外線レーザ光を用い
て光ディスク基板に信号ピットを直接加工するように
し、かつ、加工領域に気流を生じさせ、その気流と共に
加工屑を吸い取るようにしているので、従来のようにク
リーン度が高く、スペースが広いクリーンルーム内で製
造作業を行う必要が無くなり、再生信号のC/Nが高い
光ディスクを製造することができる。
According to the above structure, the signal pits are directly processed on the optical disk substrate by using the ultraviolet laser light, and the air flow is generated in the processing area so that the processing waste is sucked together with the air flow. It is not necessary to perform the manufacturing work in a clean room having a high cleanness and a large space as in the conventional case, and it is possible to manufacture an optical disc having a high C / N of a reproduction signal.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を添付図を参照しながら詳細に説明する。尚、以下に述
べる実施形態は、この発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、この発
明の範囲は、以下の説明において特にこの発明を限定す
る旨の記載がない限り、これらの形態に限られるもので
はない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below are preferred specific examples of the present invention,
Although various technically preferred limitations are given, the scope of the present invention is not limited to these forms unless otherwise specified in the following description.

【0011】図1は、この発明による光ディスク製造装
置の実施形態の構成を示す側面図である。この光ディス
ク製造装置10は、スピンドルモータ11により回転可
能に支持されているテーブル12が配置され、このテー
ブル12の上部にヘリウムを供給するHe供給ノズル1
3、ヘリウムを吸引する真空吸引ノズル14及び紫外線
レーザ光を照射するレーザ発振装置15が配置されてい
る。レーザ発振装置15は、紫外線レーザ光源151、
記録信号変調光学系152、信号パルス発生回路15
3、反射ミラー154及びフォーカスアクチュエータ1
55を備えた対物レンズ156から構成されている。レ
ーザ発振装置15は、紫外線レーザ光をテーブル12上
に載置される光ディスク基板1の表面へ照射可能なよう
に配置されている。
FIG. 1 is a side view showing the configuration of an embodiment of an optical disk manufacturing apparatus according to the present invention. In this optical disk manufacturing apparatus 10, a table 12 rotatably supported by a spindle motor 11 is arranged, and a He supply nozzle 1 for supplying helium to the upper portion of the table 12.
3. A vacuum suction nozzle 14 for sucking helium and a laser oscillator 15 for irradiating an ultraviolet laser beam are arranged. The laser oscillator 15 includes an ultraviolet laser light source 151,
Recording signal modulation optical system 152, signal pulse generation circuit 15
3, reflection mirror 154 and focus actuator 1
The objective lens 156 is provided with 55. The laser oscillating device 15 is arranged so that it can irradiate the surface of the optical disc substrate 1 mounted on the table 12 with ultraviolet laser light.

【0012】ここで、紫外線レーザ光源151として
は、例えば波長が280nm以下の高エネルギ密度レー
ザ光を射出するUVレーザ光源が用いられる。具体的な
UVレーザ光源としては、例えば波長が1064nmの
ネオジウム・ヤグ(Nd:YAG)レーザ光の第4高調
波発生を用いた波長が266nmの紫外線レーザ光を射
出する光源、即ち半導体励起Nd:YAGレーザ光を1
/4の波長に変換する2段のSHG素子がある。また、
波長が1064nmのNd:YVO4レーザ光の第4高
調波発生を用いた波長が266nmの紫外線レーザ光を
射出する光源、波長が1047nmのNd:YLFレー
ザ光の第4高調波発生を用いた波長が262nmの紫外
線レーザ光を射出する光源、波長が1079nmのN
d:YAPレーザ光の第4高調波発生を用いた波長が2
70nmの紫外線レーザ光を射出する光源等がある。そ
して、この第4高調波レーザ光は、シングルモードの連
続発振レーザ光である。また、記録信号変調光学系15
2は、音響光学素子及びレンズから成り、紫外線レーザ
光源151からの紫外線レーザ光の強度が、信号パルス
発生回路153から音響光学素子に入力されるパルス信
号に基づいて変調されるようになっている。
Here, as the ultraviolet laser light source 151, for example, a UV laser light source which emits a high energy density laser light having a wavelength of 280 nm or less is used. As a specific UV laser light source, for example, a light source that emits an ultraviolet laser light having a wavelength of 266 nm using the fourth harmonic generation of neodymium-yag (Nd: YAG) laser light having a wavelength of 1064 nm, that is, semiconductor excitation Nd: 1 YAG laser beam
There is a two-stage SHG element that converts to a / 4 wavelength. Also,
A light source that emits ultraviolet laser light having a wavelength of 266 nm using the fourth harmonic generation of Nd: YVO4 laser light having a wavelength of 1064 nm and a wavelength using the fourth harmonic generation of Nd: YLF laser light having a wavelength of 1047 nm are A light source that emits a 262 nm ultraviolet laser beam, the wavelength of which is 1079 nm N
d: The wavelength using the fourth harmonic generation of YAP laser light is 2
There is a light source that emits a 70 nm ultraviolet laser beam. The fourth harmonic laser light is single mode continuous wave laser light. In addition, the recording signal modulation optical system 15
Reference numeral 2 includes an acousto-optic element and a lens, and the intensity of the ultraviolet laser light from the ultraviolet laser light source 151 is modulated based on the pulse signal input from the signal pulse generation circuit 153 to the acousto-optic element. .

【0013】He供給ノズル13及び真空吸引ノズル1
4は、図2の側面図及び図3の下方から見た平面図に示
すように、レーザ発振装置15の対物レンズ156を挟
んで対向する位置、即ち光ディスク基板1上の加工領域
を挟んで対向する位置で、加工領域に向かって斜めに差
し込まれて配置されている。このように各ノズル13、
14を所定角度を付けて配置した理由は、各ノズル1
3、14の先端部を加工領域に近接させた方が紫外線レ
ーザ光の揺らぎを防止し、かつ、ヘリウムの供給及び吸
引が有効となるからであり、また、対物レンズ156の
ワーキングディスタンスが1mm〜2mmとかなり短く
て狭い場所となるからである。さらに、ヘリウムが水平
方向に拡散してヘリウム雰囲気が作り難くなるからであ
る。従って、所定角度は例えば45°以上とすることが
望ましい。そして、He供給ノズル13は、光ディスク
基板1の回転中心側に配置され、真空吸引ノズル14
は、光ディスク基板1の外周側に配置されている。この
ような配置とした理由は、光ディスク基板1の高速回転
による遠心力によりヘリウムが光ディスク基板1の中心
から外周に向けて流れるからである。
He supply nozzle 13 and vacuum suction nozzle 1
As shown in the side view of FIG. 2 and the plan view seen from below in FIG. 3, 4 is a position facing the objective lens 156 of the laser oscillating device 15, that is, facing a processing area on the optical disc substrate 1. At a position to be inserted, it is arranged so as to be inserted obliquely toward the processing region. In this way, each nozzle 13,
The reason for arranging 14 at a predetermined angle is that each nozzle 1
This is because it is possible to prevent the fluctuation of the ultraviolet laser light and to supply and suck helium more effectively when the tip ends of 3 and 14 are closer to the processing area, and the working distance of the objective lens 156 is 1 mm to This is because it is a very short and narrow area of 2 mm. Furthermore, helium diffuses in the horizontal direction, making it difficult to create a helium atmosphere. Therefore, it is desirable that the predetermined angle is, for example, 45 ° or more. The He supply nozzle 13 is arranged on the rotation center side of the optical disc substrate 1, and the vacuum suction nozzle 14 is provided.
Are arranged on the outer peripheral side of the optical disc substrate 1. The reason for this arrangement is that helium flows from the center of the optical disc substrate 1 toward the outer periphery due to the centrifugal force generated by the high-speed rotation of the optical disc substrate 1.

【0014】また、He供給ノズル13のHe吹き出し
口131及び真空吸引ノズル14の吸引口141が光デ
ィスク基板1の表面と平行になるように、各ノズル1
3、14の先端部が斜めにカットされており、また、ヘ
リウムの供給と吸引のバランスを考慮して、He吹き出
し口131よりも吸引口141の方が光ディスク基板1
の表面よりやや離れた位置に配置されている。このよう
な形状とした理由は、対物レンズ156のワーキングデ
ィスタンスが1mm〜2mmとかなり短くて狭い場所と
なるからであり、また、ヘリウムが水平方向に拡散して
ヘリウム雰囲気が作り難くなるからである。He吹き出
し口131の形状は楕円形であり、吸引口141の形状
は対物レンズ156を囲むような円弧形となっている。
吸引口141の形状はHe吹き出し口131の形状と同
様に楕円形としても良いが、円弧形とすることによりヘ
リウムを広角で吸引することができる。
The nozzles 1 of the He supply nozzle 13 and the He suction port 131 of the He suction nozzle 14 and the suction port 141 of the vacuum suction nozzle 14 are arranged parallel to the surface of the optical disk substrate 1.
The tip portions of 3 and 14 are obliquely cut, and in consideration of the balance between the supply and the suction of helium, the suction port 141 is closer to the optical disc substrate 1 than the He blow port 131.
It is located slightly away from the surface of the. The reason for adopting such a shape is that the working distance of the objective lens 156 is a relatively short and narrow place of 1 mm to 2 mm, and that helium is diffused in the horizontal direction to make it difficult to create a helium atmosphere. . The He outlet 131 has an elliptical shape, and the suction opening 141 has an arc shape surrounding the objective lens 156.
The shape of the suction port 141 may be an elliptical shape like the shape of the He blowout port 131, but the arc shape makes it possible to suck helium at a wide angle.

【0015】このような構成において、その動作例を説
明する。オペレータは、光ディスク基板1をテーブル1
2上に載置し、スピンドルモータ11を駆動してテーブ
ル12と共に光ディスク基板1を回転させ、レーザ発振
装置15を起動する。ここで、光ディスク基板1として
は、例えばポリカーボネート樹脂等の合成樹脂材料で成
る基板が用いられる。紫外線レーザ光源151から射出
される紫外線レーザ光の光束は、記録信号変調光学系1
52に入射され、信号パルス発生回路153から入力さ
れるパルス信号に基づいて光変調パルスに強度変調され
る。この後、記録信号変調光学系152から出射される
光ビームは、反射ミラー154で反射されて対物レンズ
156に入射される。そして、フォーカスアクチュエー
タ155により焦点が適切に調節され、回折限界のスポ
ットサイズで光ディスク基板1上に集光される。
An operation example of such a configuration will be described. The operator mounts the optical disk substrate 1 on the table 1
Then, the spindle motor 11 is driven to rotate the optical disk substrate 1 together with the table 12, and the laser oscillator 15 is activated. Here, as the optical disk substrate 1, for example, a substrate made of a synthetic resin material such as a polycarbonate resin is used. The light flux of the ultraviolet laser light emitted from the ultraviolet laser light source 151 is recorded by the recording signal modulation optical system 1.
The intensity of the light is modulated into a light modulation pulse based on the pulse signal which is incident on the beam 52 and is input from the signal pulse generation circuit 153. After that, the light beam emitted from the recording signal modulation optical system 152 is reflected by the reflection mirror 154 and enters the objective lens 156. Then, the focus is adjusted appropriately by the focus actuator 155, and the light is focused on the optical disc substrate 1 with a diffraction-limited spot size.

【0016】ここで、対物レンズ156を含む光学系
は、テーブル12の回転に同期して、光ディスク基板1
との距離を一定に保ったまま光ディスク基板1の径方向
に外周から中心に向かって移動するので、光ディスク基
板1上に照射されるビームスポットはスパイラル状に走
査される。そして、この照射により光ディスク基板1が
溶発、即ちアブレーションされてトラッキング用案内パ
ターンであるグルーブ及び記録信号溝である信号ピット
が形成される。そして、金属膜がその光ディスク基板1
の信号記録面に真空蒸着され、保護層としての樹脂がコ
ーティングされて最終的な光ディスクとされる。
Here, the optical system including the objective lens 156 is synchronized with the rotation of the table 12 in synchronization with the optical disc substrate 1.
While the distance between the optical disc substrate 1 and the optical disc substrate 1 is kept constant, the optical disc substrate 1 moves in the radial direction from the outer periphery toward the center, so that the beam spot irradiated on the optical disc substrate 1 is spirally scanned. Then, by this irradiation, the optical disk substrate 1 is ablated, that is, ablated to form a groove which is a tracking guide pattern and a signal pit which is a recording signal groove. The metal film is the optical disk substrate 1
Is vacuum-deposited on the signal recording surface of and is coated with resin as a protective layer to obtain a final optical disc.

【0017】このレーザアブレーション加工とは、レー
ザ光の高密度な光子を利用し、材料表面の化学結合を切
って蒸発させる加工をいう。アブレーションを生じさせ
るための紫外線レーザ光の出力は、0.1MW/cm2
以上必要であるが、実用上は1MW/cm2以上が好ま
しく、合成樹脂材料やフォトレジスト材料の種類にも依
存するが、光ディスク基板1の回転数及び紫外線レーザ
光の照射位置等を考慮すると、紫外線レーザ光のエネル
ギ密度は1J/cm2もあれば十分である。例えば、出
力500mWの第4高調波の紫外線レーザ光が対物レン
ズ156を透過した後の紫外線レーザ光の強度は、光学
系効率を考慮しても、100mW以上となる。従って、
光ディスク基板1の回転による線速度を5m/sec、
紫外線レーザ光のスポット径を0.35μmとすると、
光ディスク基板1を露光するときの紫外線レーザ光のエ
ネルギ密度は約6J/cm2となり、アブレーションを
生じさせるのに十分な値となる。また、アブレーション
により形成される信号ピットの大きさは、紫外線レーザ
光の強度、紫外線レーザ光のスポット径、変調信号波形
及び光ディスク基板1の回転数等により決定されるの
で、これらの値を制御することにより例えば幅0.4μ
m、長さ0.8μm〜3.2μm、深さ0.1μmの大
きさの信号ピットを光ディスク基板1上に直接加工する
ことができる。
The laser ablation process is a process in which high-density photons of laser light are used to break chemical bonds on the material surface and evaporate. The output of the ultraviolet laser light for causing ablation is 0.1 MW / cm2
Although the above is required, 1 MW / cm 2 or more is preferable for practical use, and it depends on the types of the synthetic resin material and the photoresist material, but considering the rotation speed of the optical disk substrate 1 and the irradiation position of the ultraviolet laser light, etc. An energy density of 1 J / cm 2 is sufficient for the laser light. For example, the intensity of the ultraviolet laser light of the fourth harmonic having an output of 500 mW after passing through the objective lens 156 is 100 mW or more even when the optical system efficiency is taken into consideration. Therefore,
The linear velocity due to the rotation of the optical disk substrate 1 is 5 m / sec,
If the spot diameter of the ultraviolet laser light is 0.35 μm,
The energy density of the ultraviolet laser light when exposing the optical disk substrate 1 is about 6 J / cm 2, which is a sufficient value for causing ablation. Further, the size of the signal pit formed by ablation is determined by the intensity of the ultraviolet laser light, the spot diameter of the ultraviolet laser light, the modulation signal waveform, the rotation speed of the optical disc substrate 1, etc., so these values are controlled. Therefore, for example, the width is 0.4μ
Signal pits having a size of m, a length of 0.8 μm to 3.2 μm, and a depth of 0.1 μm can be directly processed on the optical disk substrate 1.

【0018】ここで、上述したレーザアブレーション加
工では、微細加工屑(デブリ)が多量に発生する。従っ
て、レーザアブレーション加工を大気雰囲気中で行う
と、光ディスク基板1からデブリが多量に発生して光デ
ィスク基板1上に付着してしまう。このデブリは1nm
〜100nmと様々なサイズの塊であるが、このような
デブリが付着したままの光ディスクを再生すると、その
影響により再生信号のC/Nが極めて劣化し、正常なデ
ータ検出が困難になる。そこで、レーザアブレーション
加工中は、ヘリウムがHe供給ノズル13に供給され、
供給されたヘリウムがHe吹き出し口131から噴出さ
れると共に、噴出されたヘリウムが真空吸引ノズル14
に吸引される。これにより、光ディスク基板1上の加工
領域近傍はヘリウム雰囲気となり、加工領域で発生した
デブリは大気雰囲気におけるよりも広い領域に拡散、希
薄化されるので、デブリは光ディスク基板1上に落下し
て付着する前にヘリウムの流れに乗って真空吸引ノズル
14に広角で吸引される。このようにデブリは拡散、希
薄化により大粒子に成長しないので、空中に浮遊して光
ディスク基板1上への付着を抑制することができる。
Here, in the above-mentioned laser ablation process, a large amount of fine processing debris (debris) is generated. Therefore, when the laser ablation process is performed in the air atmosphere, a large amount of debris is generated from the optical disc substrate 1 and adheres onto the optical disc substrate 1. This debris is 1 nm
Although the lumps have various sizes of ˜100 nm, when an optical disc with such debris attached is reproduced, the C / N of the reproduction signal is extremely deteriorated due to the influence, and normal data detection becomes difficult. Therefore, during the laser ablation process, helium is supplied to the He supply nozzle 13,
The supplied helium is ejected from the He outlet 131, and the ejected helium is ejected from the vacuum suction nozzle 14
Is sucked. As a result, a helium atmosphere is created in the vicinity of the processed area on the optical disk substrate 1, and debris generated in the processed area is diffused and diluted in a wider area than in the atmosphere, so that the debris drops and adheres to the optical disk substrate 1. Before it is carried, it is sucked into the vacuum suction nozzle 14 at a wide angle by riding on the flow of helium. As described above, since the debris does not grow into large particles due to diffusion and thinning, it is possible to prevent the debris from floating in the air and being attached to the optical disc substrate 1.

【0019】図4は、この発明の光ディスク製造装置の
別の実施形態を示す側面図である。このようにヘリウム
を供給するHe供給ノズル13、ヘリウムを真空吸引す
る真空吸引ノズル14及び紫外線レーザ光を照射するレ
ーザ発振装置15を光ディスク基板1の下方に配置して
も、上述した効果と同様の効果を奏する。尚、この場合
もHe供給ノズル13及び真空吸引ノズル14は、レー
ザ発振装置15の対物レンズ156を挟んで対向する位
置、即ち光ディスク基板1上の加工領域を挟んで対向す
る位置で、加工領域に向かって斜めに差し込まれて配置
されている。そして、He供給ノズル13は、光ディス
ク基板1の回転中心側に配置され、真空吸引ノズル14
は、光ディスク基板1の外周側に配置されている。ま
た、He供給ノズル13のHe吹き出し口131及び真
空吸引ノズル14の吸引口141が光ディスク基板1の
表面と平行になるように、各ノズル13、14の先端部
が斜めにカットされており、また、ヘリウムの供給と吸
引のバランスを考慮して、He吹き出し口131よりも
吸引口141の方が光ディスク基板1の表面よりやや離
れた位置に配置されている。尚、上述した各実施形態で
は、ヘリウムガスを用いるようにしたが、大気(窒素、
酸素等)分子よりも軽く不活性な元素(分子)であれば
良く、例えば水素ガス、ネオンガス等を用いることがで
きる。
FIG. 4 is a side view showing another embodiment of the optical disk manufacturing apparatus of the present invention. Even if the He supply nozzle 13 for supplying helium, the vacuum suction nozzle 14 for vacuum sucking helium, and the laser oscillating device 15 for irradiating the ultraviolet laser light are arranged below the optical disk substrate 1, the same effect as described above is obtained. Produce an effect. Also in this case, the He supply nozzle 13 and the vacuum suction nozzle 14 are located in the processing area at positions facing each other with the objective lens 156 of the laser oscillator 15 interposed therebetween, that is, at positions facing the processing area on the optical disk substrate 1. It is placed diagonally toward you. The He supply nozzle 13 is arranged on the rotation center side of the optical disc substrate 1, and the vacuum suction nozzle 14 is provided.
Are arranged on the outer peripheral side of the optical disc substrate 1. Further, the tips of the nozzles 13 and 14 are obliquely cut so that the He outlet 131 of the He supply nozzle 13 and the suction port 141 of the vacuum suction nozzle 14 are parallel to the surface of the optical disc substrate 1. In consideration of the balance between supply of helium and suction, the suction port 141 is arranged at a position slightly distant from the surface of the optical disc substrate 1 rather than the He outlet 131. Although helium gas is used in each of the above-described embodiments, the atmosphere (nitrogen,
Any element (molecule) that is lighter and more inert than oxygen (e.g. oxygen) molecules may be used, and for example, hydrogen gas, neon gas, or the like can be used.

【0020】以上のように、露光のみで信号ピットを形
成することができるので、従来の再生処理工程や現像処
理工程等が不要となり、また信号ピットの長さの変動や
バラツキを最小限に抑えることができる。また、信号ピ
ット形成時のデブリの光ディスク基板1への付着を大幅
に低減することができるので、再生信号のC/Nの劣化
を抑え、正常なデータ再生が可能となる。従って、簡略
な設備で信号記録精度の高い光ディスクを製造すること
ができる。さらに、既に所定のプログラム用信号ピット
が射出成形により形成され、未だアルミ膜等の反射膜が
成膜される前の光ディスク基板に対し、製造シリアル番
号等の付加情報をレーザアブレーション加工により刻印
し、これを光ディスク毎の識別IDとすれば、海賊版の
発生防止に有効となる。
As described above, since the signal pits can be formed only by exposure, the conventional reproduction processing step, development processing step, etc. are unnecessary, and fluctuations and variations in the length of the signal pits are minimized. be able to. Further, since the adherence of debris to the optical disc substrate 1 at the time of forming signal pits can be significantly reduced, the deterioration of the C / N of the reproduced signal can be suppressed and the normal data reproduction can be performed. Therefore, it is possible to manufacture an optical disc having high signal recording accuracy with simple equipment. Furthermore, a predetermined program signal pit is already formed by injection molding, and additional information such as a manufacturing serial number is stamped by laser ablation processing on the optical disc substrate before the reflection film such as an aluminum film is formed. Using this as an identification ID for each optical disc is effective in preventing the occurrence of pirated copies.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば、
簡略な設備で信号記録精度の高い光ディスクを製造する
ことができるので、工数低減を図って付加価値の高い光
ディスクを安価で提供することが可能となる。
As described above, according to the present invention,
Since an optical disc with high signal recording accuracy can be manufactured with simple equipment, it is possible to reduce the number of steps and provide an optical disc with high added value at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の光ディスク製造装置の実施形態を示
す側面図。
FIG. 1 is a side view showing an embodiment of an optical disc manufacturing apparatus of the present invention.

【図2】図1に示す光ディスク製造装置の要部の詳細を
示す側面図。
FIG. 2 is a side view showing details of main parts of the optical disc manufacturing apparatus shown in FIG.

【図3】図2に示す光ディスク製造装置の要部を下方か
ら見た平面図。
FIG. 3 is a plan view of a main part of the optical disc manufacturing apparatus shown in FIG. 2, viewed from below.

【図4】この発明の光ディスク製造装置の別の実施形態
の要部の詳細を示す側面図。
FIG. 4 is a side view showing details of essential parts of another embodiment of the optical disk manufacturing apparatus of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10・・・光ディスク製造装置、11・・・スピンドル
モータ、12・・・テーブル、13・・・He供給ノズ
ル、14・・・真空吸引ノズル、15・・・レーザ発振
装置、131・・・He吹き出し口、141・・・吸引
口、151・・・紫外線レーザ光源、152・・・記録
信号変調光学系、153・・・信号パルス発生回路、1
54・・・反射ミラー、155・・・フォーカスアクチ
ュエータ、156・・・対物レンズ
10 ... Optical disk manufacturing apparatus, 11 ... Spindle motor, 12 ... Table, 13 ... He supply nozzle, 14 ... Vacuum suction nozzle, 15 ... Laser oscillation device, 131 ... He Blow-off port, 141 ... Suction port, 151 ... Ultraviolet laser light source, 152 ... Recording signal modulation optical system, 153 ... Signal pulse generation circuit, 1
54 ... Reflective mirror, 155 ... Focus actuator, 156 ... Objective lens

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 紫外線レーザ光を射出するレーザ光源
と、 前記レーザ光源からの紫外線レーザ光の強度を変調する
変調手段と、 回転する光ディスク基板上に信号ピットを加工形成する
ために、前記変調手段からの紫外線レーザ光を照射する
光学手段と、 前記光ディスク基板上の加工領域の近傍に配置され、前
記光ディスク基板の回転中心側から前記加工領域に向け
て気体を流す供給ノズルと、 前記加工領域に対して前記供給ノズルと対向する位置に
配置され、前記供給ノズルから流した気体を吸引する吸
引ノズルとを備えたことを特徴とする光ディスク製造装
置。
1. A laser light source for emitting an ultraviolet laser beam, a modulating means for modulating the intensity of the ultraviolet laser light from the laser light source, and the modulating means for processing and forming signal pits on a rotating optical disk substrate. Means for irradiating the ultraviolet laser beam from the optical disk substrate, a supply nozzle disposed in the vicinity of the processing area on the optical disk substrate, for supplying gas from the rotation center side of the optical disk substrate toward the processing area, and the processing area On the other hand, an optical disk manufacturing apparatus, comprising: a suction nozzle that is disposed at a position facing the supply nozzle, and that suctions gas flowing from the supply nozzle.
【請求項2】 前記気体が、ヘリウムである請求項1に
記載の光ディスク製造装置。
2. The optical disk manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the gas is helium.
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