JPH09288351A - Original plate of waterless planographic printing plate - Google Patents

Original plate of waterless planographic printing plate

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JPH09288351A
JPH09288351A JP3594397A JP3594397A JPH09288351A JP H09288351 A JPH09288351 A JP H09288351A JP 3594397 A JP3594397 A JP 3594397A JP 3594397 A JP3594397 A JP 3594397A JP H09288351 A JPH09288351 A JP H09288351A
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compound
resin
acid
printing plate
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Yutaka Ishida
豊 石田
Kazuoki Goto
一起 後藤
Norimasa Ikeda
憲正 池田
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Toray Industries Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure aging stability and superior productivity as well as superior image reproducibility and ink repellency by incorporating hydrophobic epoxy compd. and a hydrophilic epoxy compd. into a primer layer. SOLUTION: A primer layer, a photosensitive layer and a silicone rubber layer are successively laminated on a substrate to obtain the objective original plate. The primer layer contains a hydrophobic epoxy compd. and a hydrophilic epoxy compd. preferably in a ratio of 1:(0.1-10), especially 1:(0.2-6), more especially 1:(0.3-5). When the epoxy compds. are blended in a ratio of 1:(0.1-10), only satisfactory properties of hydrophobic and hydrophilic epoxy resins are ensured.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は水なし平版印刷版原
版に関するものであり、更に詳しくは、基板上に接着性
向上や検版性向上などを目的としたプライマー層、イン
キを受容しうる感光層、インキを反発しうるシリコ−ン
ゴム層を、この順に設けてなる水なし平版印刷用原版に
関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a waterless planographic printing plate precursor, and more specifically, a primer layer for the purpose of improving adhesiveness and plate inspection property on a substrate, and a photosensitive material capable of receiving an ink. The present invention relates to a waterless planographic printing plate precursor in which a layer and a silicone rubber layer capable of repelling ink are provided in this order.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、シリコーンゴム層をインキ反
発層とする水なし平版印刷版原版が知られており、代表
的な例として感光層、及びシリコーンゴム層をこの順に
設けた水なし平版印刷版原版が知られている。水なし平
版印刷とは、画線部と非画線部とを基本的にほぼ同一平
面に存在させ、画線部をインキ受容性、非画線部をイン
キ反撥性として、インキの付着性の差異を利用して、画
線部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にイ
ンキを転写して印刷をする平版印刷方法において、非画
線部がシリコーンゴム、含フッ素化合物などのインキ反
撥性を有する物質からなり、湿し水を用いずに印刷可能
であるような印刷方法を意味する。
2. Description of the Related Art Conventionally, waterless lithographic printing plate precursors having a silicone rubber layer as an ink repellent layer have been known, and as a typical example, a waterless lithographic printing plate provided with a photosensitive layer and a silicone rubber layer in this order. The original version is known. Waterless lithographic printing means that the image area and the non-image area are basically on the same plane, the image area is ink-receptive, the non-image area is ink repellent, and ink adhesion In the lithographic printing method, in which ink is applied only to the image area by utilizing the difference, and then the ink is transferred to the printing medium such as paper to perform printing, the non-image area is silicone rubber or a fluorine-containing compound. It means a printing method which can be printed without using fountain solution and is made of a substance having ink repellency.

【0003】ポジティブワーキング用に用いられるポジ
型の水なし平版印刷版原版としては、例えば感光層に光
重合型感光層を用いるタイプとして特公昭54−269
23号、特公昭56−23150号公報等が提案されて
いる。又、特開平5−281714号公報では特定のア
ミノ基含有モノマを用いることによって高感度の水なし
平版印刷版原版が提案されている。光二量化型感光層を
用いるタイプとしては特公昭55−2278版原版が開
示されている。ネガティブワーキング用に用いられるネ
ガ型水なし平版印刷版原版としては、例えば支持体であ
るアルミ基板を画線部とした特公昭46−16044号
公報、露光部のシリコーン層のみが選択的に除去され、
感光層が画線部となる特公昭61−54222号公報等
が知られている。これらの水なし平版印刷版原版は、通
常ポジティブフィルムもしくはネガティブフィルムを通
して、活性光線により露光される。その後、現像処理さ
れることにより、画線部に対応したシリコーンゴム層の
みが剥ぎ取られ、感光層が露出し、インキ着肉性の画線
部となる。該シリコーンゴム層の架橋硬化方法としては
通常下記の2通りの架橋方法が用いられる。
As a positive type waterless planographic printing plate precursor used for positive working, for example, a type using a photopolymerizable photosensitive layer as a photosensitive layer is disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 54-269.
No. 23, Japanese Patent Publication No. 56-23150, etc. are proposed. Further, JP-A-5-281714 proposes a highly sensitive waterless planographic printing plate precursor by using a specific amino group-containing monomer. As a type using a photodimerization type photosensitive layer, Japanese Patent Publication No. 55-2278 plate is disclosed. As a negative type waterless planographic printing plate precursor used for negative working, for example, JP-B-46-16044 in which an aluminum substrate as a support is used as an image area, only the silicone layer in the exposed area is selectively removed. ,
Japanese Patent Publication No. 61-54222, in which the photosensitive layer serves as the image area, is known. These waterless planographic printing plate precursors are usually exposed to actinic rays through a positive film or a negative film. After that, by performing development processing, only the silicone rubber layer corresponding to the image area is peeled off, and the photosensitive layer is exposed to form an ink-imprinted image area. As the method of crosslinking and curing the silicone rubber layer, the following two methods of crosslinking are usually used.

【0004】(1)縮合反応架橋型:両末端水酸基のポ
リオルガノシロキサンを、ケイ素原子に直接結合した加
水分解性官能基を有するシランまたはシロキサンによっ
て縮合架橋し、シリコーンゴムとする方法。
(1) Condensation reaction cross-linking type: A method in which a polyorganosiloxane having hydroxyl groups at both ends is condensed and cross-linked with a silane or siloxane having a hydrolyzable functional group directly bonded to a silicon atom to form a silicone rubber.

【0005】(2)付加反応架橋型:−Si−H基を有
するポリシロキサンと−CH=CH−基を有するポリシ
ロキサンを付加反応させることにより架橋し、シリコー
ンゴムとする方法。
(2) Addition reaction crosslinking type: a method in which a polysiloxane having a -Si-H group and a polysiloxane having a -CH = CH- group are subjected to an addition reaction to form a crosslinkable silicone rubber.

【0006】特に(1)の縮合反応架橋性のシリコーン
ゴムはインキ反撥性に優れ、感光層との接着力を発現し
やすい実用上優れた性能を示すシリコーンゴムとして水
なし平版印刷版原版に好ましく用いられてきた。縮合反
応架橋性のシリコーンガム組成物は一般的にポリオルガ
ノシロキサン、縮合反応架橋剤、縮合触媒、溶剤、充填
剤から構成される。
In particular, the condensation reaction-crosslinking silicone rubber (1) is preferable for a waterless lithographic printing plate precursor as a silicone rubber which is excellent in ink repulsion and easily exhibits adhesiveness with a photosensitive layer and has practically excellent performance. Has been used. The condensation-crosslinkable silicone gum composition generally comprises a polyorganosiloxane, a condensation-crosslinking agent, a condensation catalyst, a solvent, and a filler.

【0007】これらのかかる代表的な水なし平版印刷版
原版にはプライマー層が設けられており、プライマー層
が具備すべき機能としては、基板材の保護はもとより、
基板及び感光層への接着性を有していること、耐溶剤性
を有していること、プライマー層組成自身が版性能に悪
影響を及ばさないこと、基板表面の物理的凹凸を除去す
ること、基板からの感光層への化学的悪影響を遮断する
こと等が挙げられる。水なし平版印刷版原版におけるプ
ライマー層においては、従来から種々様々な提案がなさ
れている。例えば、プライマー層にゼラチン、カゼイン
等の天然タンパク質を用いるものとして、特開昭63−
133153号公報、特開昭63−305360号公
報、特開平1−172834号公報、特開平2−242
255号公報、特開平2−34857号公報、特開平2
−34857号公報、特開平3−180848号公報等
の提案がなされている。しかしながら、これらのプライ
マーは硬膜に時間がかかり、プライマ層塗布後のポット
ライフが極端に短い等の問題を有していた。
[0007] These typical waterless planographic printing plate precursors are provided with a primer layer, and the function that the primer layer should have is to protect the substrate material as well as
Adhesion to the substrate and photosensitive layer, solvent resistance, the primer layer composition itself does not adversely affect the plate performance, and the removal of physical irregularities on the substrate surface. , Blocking the chemical adverse effect of the substrate on the photosensitive layer. Various proposals have hitherto been made for the primer layer in the waterless planographic printing plate precursor. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 63-
133153, JP-A-63-305360, JP-A-1-172834, and JP-A-2-242.
255, JP-A-2-34857, JP-A-2
Proposals such as JP-A-34857 and JP-A-3-180848 are made. However, these primers have a problem that it takes a long time to harden the film and the pot life after coating the primer layer is extremely short.

【0008】又、特開平1−172834号公報はプラ
イマー層塗設後、プライマー層に硬膜剤を浸透させる方
法が、特開平3−271743号公報ではプライマ層組
成物を基板に塗布する直前にインラインミキシングする
方法が提案されているが、いずれの提案も生産性が劣
り、投資コストも高いといった問題を有していた。
Further, JP-A-1-172834 discloses a method of coating a primer layer with a hardener after coating the primer layer. In-line mixing methods have been proposed, but each of them has problems of low productivity and high investment cost.

【0009】これら種々なプライマーの提案の中でも、
特に実用的な提案として特公平4−2941号公報、特
開平5−127368号公報等でプライマにポリウレタ
ンを用いる方法が開示されている。これらを用いると耐
スクラッチ性は向上するが、基板との接着性が不十分で
あり、それに由来するハガレが発生するといった問題を
有していた。この問題を解決するため、特開平3−20
0965号公報、特開平3−27043号公報、特開平
3−296752号公報、特開平3−182754号公
報、特開平3−286899号公報等でシランカップリ
ング剤や活性シリル基を有する化合物等を添加する方法
が提案されているが、満足できる接着性は得られていな
い。
Among the proposals of these various primers,
In particular, as a practical proposal, Japanese Patent Publication No. 4-2941 and Japanese Patent Laid-Open No. 5-127368 disclose methods of using polyurethane for the primer. When these are used, the scratch resistance is improved, but the adhesion to the substrate is insufficient, and there has been a problem that peeling occurs due to this. To solve this problem, Japanese Patent Laid-Open No. 3-20
No. 0965, JP-A-3-27043, JP-A-3-296752, JP-A-3-182754, JP-A-3-286899, etc., a silane coupling agent and a compound having an active silyl group are disclosed. Although a method of adding is proposed, satisfactory adhesiveness has not been obtained.

【0010】又、基板との接着性を向上させる試みとし
て、特開昭55−161244号公報、特開昭62−5
0760号公報、特公昭61−54219号公報、特開
昭62−194255号公報等でプライマー層にエポキ
シ樹脂を含む方法が開示されている。特に特公平3−3
6208号公報では、ブロック型イソシアネートとエポ
キシ樹脂とを熱架橋することによって、該プライマー層
の耐溶剤性を向上させるといった方法が提案され又、特
公平6−82214では接着性改良のため水酸基を1分
子中に少なくとも1個含有する脂肪族エポキシ樹脂を用
いるプライマーが提案され、実用化に至っている。しか
しながら、これらのプライマー層は、版面上からの強い
引掻力によるハガレ、すなわち製版や印刷作業時のトン
ボ入れ等の作業においての版面上の強い引掻力のみを想
定してるため、現像時において、プライマー層と基板と
の界面に水や有機溶剤が浸入してなるハガレに関して
は、対策が講じられていない。従って、かかる従来技術
からなるプライマー層は、未だ接着性が不十分であり、
現像時に基板からプライマー層が剥離する問題や経時に
より画像再現性が悪くなるといった問題を有していた。
そこで、上記問題を解決すべく検討を行った結果、プラ
イマ層に疎水性エポキシ樹脂を用いる方法を見出した。
この方法により上記問題はほぼ解決したものの、経時に
よって、若干接着性が低下することが判明した。
As an attempt to improve the adhesion to a substrate, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 55-161244 and 62-5
No. 0760, Japanese Patent Publication No. 61-54219, Japanese Patent Laid-Open No. 62-194255 and the like disclose a method of containing an epoxy resin in a primer layer. Especially 3-3-3
No. 6208 proposes a method of improving the solvent resistance of the primer layer by thermally crosslinking a block type isocyanate and an epoxy resin, and in Japanese Patent Publication No. 6-82214, a hydroxyl group is added to improve the adhesiveness. A primer using an aliphatic epoxy resin containing at least one in the molecule has been proposed and put to practical use. However, these primer layers assume peeling due to a strong scratching force from the plate surface, that is, only a strong scratching force on the plate surface in work such as registering marks at the time of plate making or printing work, and therefore, at the time of development. No measures have been taken to prevent peeling due to water or an organic solvent penetrating the interface between the primer layer and the substrate. Therefore, the primer layer made of such a conventional technique still has insufficient adhesiveness,
There was a problem that the primer layer was peeled off from the substrate during development and that the image reproducibility was deteriorated over time.
Therefore, as a result of studies to solve the above problems, a method of using a hydrophobic epoxy resin for the primer layer was found.
Although this method almost solved the above-mentioned problems, it was found that the adhesiveness slightly deteriorates with the passage of time.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の諸欠点に鑑み創案されたもので、その目的は上記
問題の解決を図る ともに、従来の水なし平版印刷版原
版の長所を損なうことなく、優れた画像再現性とインキ
反発性を有すると同時に経時的にも安定で且つ生産性に
も優れた水なし平版印刷版原版を提供することである。
The present invention was devised in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art. The object is to solve the above problems and to impair the advantages of conventional waterless lithographic printing plate precursors. It is an object of the present invention to provide a waterless lithographic printing plate precursor which has excellent image reproducibility and ink repulsion property, is stable over time, and is excellent in productivity.

【0012】本発明者らは、上述の従来技術における問
題点の解決策について鋭意研究を進めた結果、プライマ
ー層に疎水性エポキシ化合物と親水性エポキシ化合物を
ブレンドして用いることで、プライマー層の具備すべき
機能を損なうことなく、上述の欠点のない画期的なプラ
イマー層を得ることを見出し、本発明に到達した。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies on solutions to the above-mentioned problems in the prior art, and as a result, by blending and using a hydrophobic epoxy compound and a hydrophilic epoxy compound in the primer layer, the primer layer The present invention has been accomplished by finding that an epoch-making primer layer having the above-mentioned drawbacks can be obtained without impairing the function to be provided.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
基板上にプライマー層、感光層及びシリコーンゴム層を
この順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、
該プライマー層が疎水性エポキシ化合物および親水性エ
ポキシ化合物を含有することを特徴とする水なし平版印
刷版原版により達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is as follows.
In a waterless planographic printing plate precursor obtained by laminating a primer layer, a photosensitive layer and a silicone rubber layer in this order on a substrate,
This is achieved by a waterless lithographic printing plate precursor characterized in that the primer layer contains a hydrophobic epoxy compound and a hydrophilic epoxy compound.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.

【0015】本発明の水なし平版印刷版原版の基板とし
ては、通常の平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印
刷時に加わる荷重に耐えうるものである必要がある。代
表的なものとしては、アルミ、銅、鉄、等の金属板、及
びクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、及び鉄
等が蒸着された金属板、ポリエチレンテレフタレート、
ポリスチレン、ポリプロピレン等のフィルムないしはシ
ート、クロロプレンゴム、NBR等のゴム弾性を有する
支持体や紙、樹脂コート紙、金属箔が張られた紙等が挙
げられる。又、該基板は上記の素材が複合されたもので
あってもよい。これらの基板上には、更にハレーション
防止あるいは画像の染色や印刷特性向上のために他の物
質を積層することも可能である。本発明において、基板
として好ましく用いられるのがアルミニウム板である。
アルミニウム板は純アルミニウムやアルミニウムを主成
分とし、微量の異原子を含むアルミニウム合金等の板状
体である。この異原子としては、珪素、鉄、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等があ
り、含有量は高々10重量%以下である。本発明に好適
なアルミニウムは純アルミニウムであるが、完全に純粋
なアルミニウムは精錬技術上、製造が困難であるため、
できるだけ低異原子含有量のものがよい。又、本発明に
おいては上述した程度の含有率のアルミニウム合金であ
れば用いることが可能であり、その組成が特定させるも
のではなく、従来からの公知、公用の素材を適宜利用す
ることができる。
The substrate of the waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention needs to be able to withstand the flexibility attached to an ordinary lithographic printing machine and the load applied during printing. Typical examples include metal plates made of aluminum, copper, iron, etc., and metal plates deposited with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, etc., polyethylene terephthalate,
Examples thereof include films or sheets of polystyrene, polypropylene, etc., supports having rubber elasticity such as chloroprene rubber, NBR and the like, paper, resin coated paper, paper covered with metal foil and the like. The substrate may be a composite of the above materials. On these substrates, other substances can be further laminated for preventing halation, dyeing an image, or improving printing characteristics. In the present invention, an aluminum plate is preferably used as the substrate.
The aluminum plate is a plate-like body made of pure aluminum or aluminum alloy containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign atoms. The foreign atoms include silicon, iron, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like, and the content is at most 10% by weight or less. Aluminum suitable for the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to manufacture because of refining technology.
It is preferable that the content of foreign atoms is as low as possible. In the present invention, any aluminum alloy having the above-mentioned content can be used. The composition of the aluminum alloy is not specified, and conventionally known and publicly available materials can be appropriately used.

【0016】このようなアルミニウム基板は、所望によ
り表面の圧延油を除去するための処理、例えば界面活性
剤やアルカリ性水溶液等で脱脂処理する。更に所望によ
り陽極酸化処理及び/または親水化処理を施してもよ
い。親水化処理としてはアルカリ金属珪酸塩水溶液処
理、コロイドシリカゾルの塗布が望ましい。又、支持体
とプライマ層との接着を更に向上させるため、版性能に
悪影響を与えない範囲で公知のシランカップリング剤や
有機チタネート等での処理も可能である。
If desired, such an aluminum substrate is subjected to a treatment for removing rolling oil on the surface, for example, a degreasing treatment with a surfactant or an alkaline aqueous solution. Further, if desired, an anodic oxidation treatment and / or a hydrophilic treatment may be performed. As the hydrophilization treatment, an alkali metal silicate aqueous solution treatment and application of a colloidal silica sol are desirable. Further, in order to further improve the adhesion between the support and the primer layer, treatment with a known silane coupling agent, organic titanate or the like is possible within a range that does not adversely affect the plate performance.

【0017】プライマー層について説明する。The primer layer will be described.

【0018】本発明においては疎水性のエポキシ化合物
および親水性エポキシ化合物を用いることが特徴であ
る。比率的には疎水性エポキシ化合物1に対して親水性
エポキシ化合物0.1〜10の範囲が好ましい。この範
囲においてブレンドした場合、疎水性及び親水性エポキ
シ樹脂のそれぞれ良好な性質のみが得られる。より好ま
しくは疎水性エポキシ化合物1に対して親水性エポキシ
化合物0.2〜6、更に好ましくは1に対して0.3〜
5である。例えば疎水性エポキシ樹脂が多くなると経時
により接着性が低下が起こる。又、親水性エポキシ樹脂
が多くなると、初期の接着性が悪く、画像再現性におい
ては経時による影響を受けるようになる。すなわち、い
ずれの場合も結果的に水なし平版印刷版原版の性能に影
響を及ぼす。
The present invention is characterized in that a hydrophobic epoxy compound and a hydrophilic epoxy compound are used. In terms of ratio, the hydrophilic epoxy compound is preferably in the range of 0.1 to 10 with respect to the hydrophobic epoxy compound 1. When blended in this range, only good properties of the hydrophobic and hydrophilic epoxy resins are obtained. More preferably, the hydrophilic epoxy compound is 0.2 to 6 with respect to the hydrophobic epoxy compound 1, and more preferably 0.3 to 1 with respect to 1.
5 For example, if the amount of the hydrophobic epoxy resin increases, the adhesiveness will decrease with time. Further, when the hydrophilic epoxy resin is increased, the initial adhesiveness is poor and the image reproducibility is affected by the passage of time. That is, in any case, as a result, the performance of the waterless planographic printing plate precursor is affected.

【0019】本発明に用いられるエポキシ化合物は、疎
水性エポキシ化合物、親水性エポキシ化合物ともエポキ
シ当量としては300以下が好ましい。より好ましくは
250以下、更に好ましくは150以下である。ここで
いうエポキシ当量とは、1g当量のエポキシ基を含むエ
ポキシ化合物のグラム数である。エポキシ当量が300
より大きくなると反応性が乏しくなり、プライマー層塗
設時の熱硬化反応に長時間を有してしまう。すなわち、
大きく生産性に欠け、実用性が乏しい。又、プライマー
層の反応が完結されていないため、アフターキュアによ
り未反応のエポキシ化合物の反応が進み、安定したプラ
イマー層が得られない。従って、経時的に基板との接着
性が劣ったり、感光層中のモノマーやイソシアネート等
の含浸によって画像再現性が劣ったりする等のトラブル
の原因となり、結果的には水なし平版印刷版原版の保存
安定性に悪影響を及ぼすことになる。
The epoxy compound used in the present invention preferably has an epoxy equivalent of 300 or less for both the hydrophobic epoxy compound and the hydrophilic epoxy compound. It is more preferably 250 or less, still more preferably 150 or less. The epoxy equivalent here is the number of grams of an epoxy compound containing 1 g equivalent of an epoxy group. Epoxy equivalent is 300
If it becomes larger, the reactivity becomes poor and the thermosetting reaction at the time of coating the primer layer takes a long time. That is,
Large lack of productivity, poor practicality. In addition, since the reaction of the primer layer is not completed, the reaction of the unreacted epoxy compound proceeds by after-curing, and a stable primer layer cannot be obtained. Therefore, over time, the adhesiveness to the substrate is inferior, or the image reproducibility is deteriorated due to the impregnation of the monomer or isocyanate in the photosensitive layer, and the like. This will adversely affect storage stability.

【0020】本発明におけるエポキシ化合物の代表的な
例は、下記の様な化合物であるが、本発明はこれらに限
定されない。
Typical examples of the epoxy compound in the present invention are the following compounds, but the present invention is not limited thereto.

【0021】(1)ビスフェノ−ルAとエピクロルヒド
リンとの反応生成物。
(1) Reaction product of bisphenol A and epichlorohydrin.

【0022】(2)ノボラック樹脂とエピクロルヒドリ
ンとの反応生成物。
(2) A reaction product of a novolak resin and epichlorohydrin.

【0023】(3)ビスフェノ−ルFとエピクロルヒド
リンとの反応生成物。
(3) Reaction product of bisphenol F and epichlorohydrin.

【0024】(4)テトラブロモビスフェノ−ルAとエ
ピクロルヒドリンとの反応生成物。
(4) Reaction product of tetrabromobisphenol A and epichlorohydrin.

【0025】(5)環式脂肪族エポキシ樹脂(シクロヘ
キサノキサイド基、トリシクロデセノキサイド基、シク
ロペンテノキサイド基を有する化合物)。
(5) Cyclic aliphatic epoxy resin (compound having cyclohexanoxide group, tricyclodecenoxide group, cyclopentenoxide group).

【0026】(6)グリシジルエステル系エポキシ樹脂
(多価カルボン酸とエピクロルヒドリンとの反応生成
物) (7)グリシジルアミン系エポキシ樹脂(アミンとエピ
クロルヒドリンとの反応生成物。
(6) Glycidyl ester-based epoxy resin (reaction product of polycarboxylic acid and epichlorohydrin) (7) Glycidylamine-based epoxy resin (reaction product of amine and epichlorohydrin)

【0027】(8)複素環式エポキシ樹脂(ヒダントイ
ン環をグリシジル化したヒダントイン型エポキシ樹脂及
びトリアジン環を有するトリグリシジルイソシアヌレ−
ト) (9)多価アルコールとエピクロルヒドリンとの縮合
物。
(8) Heterocyclic epoxy resin (hydantoin type epoxy resin obtained by glycidylating hydantoin ring and triglycidyl isocyanurate having triazine ring)
G) (9) Condensates of polyhydric alcohols and epichlorohydrin.

【0028】本発明に用いられるエポキシ化合物のう
ち、疎水性のエポキシ化合物としては特に(1)、〜
(4)等の方法から得られる芳香基を有する化合物が好
ましく用いられ、特にビスフェノール型エポキシ化合物
が好ましい。また親水性エポキシ化合物としては
(6)、(7)、(9)等の方法から得られる化合物が
好ましく用いられ、特にグリセロール型のエポキシ化合
物が好ましい。
Among the epoxy compounds used in the present invention, as the hydrophobic epoxy compound, (1),
A compound having an aromatic group obtained by the method (4) or the like is preferably used, and a bisphenol type epoxy compound is particularly preferable. As the hydrophilic epoxy compound, compounds obtained by the methods (6), (7) and (9) are preferably used, and glycerol type epoxy compounds are particularly preferable.

【0029】又、本発明に用いられる疎水性、親水性エ
ポキシ化合物は、それら単独でのプライマ層形成も可能
であり、他の成分との混合によって三次元化して用いて
もよい。又、場合によっては他の成分で変性して用いて
もよい。かかる他の成分としては、例えば次のようなも
のが挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
The hydrophobic and hydrophilic epoxy compounds used in the present invention can be used alone to form a primer layer, and may be used in three-dimensional form by mixing with other components. Further, depending on the case, it may be used after being modified with other components. Examples of such other components include the following, but the present invention is not limited thereto.

【0030】(1)ウレタン樹脂、ビニル樹脂、アクリ
ル樹脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹
脂、尿素樹脂やメラミン樹脂及びベンゾグアナミン樹脂
等のアミノ樹脂等一種又は2種以上。
(1) One or more of urethane resins, vinyl resins, acrylic resins, acrylic resins, alkyd resins, phenol resins, amino resins such as urea resins, melamine resins and benzoguanamine resins.

【0031】(2)多官能イソシアネート、例えば、パ
ラフェニレンジイソシアネート、2,4−又は2,6−
トルエンジイソシアネート、4,4´−ジフェニルメタ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ポリメチレンポリフ
ェニルイソシアネートもしくはこれらの重合体、もしく
はこれらのアダクト体、あるいはブロック型イソシアネ
ート等。
(2) Polyfunctional isocyanates such as paraphenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-
Toluene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate or polymers thereof, adducts thereof, or block type isocyanate.

【0032】特に他の成分と混合して用いる場合、代表
的な例を下記に示す。なお本発明はこれらに限定されな
い。
Typical examples are shown below, especially when used by mixing with other components. The present invention is not limited to these.

【0033】(1)エポキシ樹脂と基体樹脂(担体樹
脂)の組み合わせ (2)エポキシ樹脂と基体樹脂(担体樹脂)とブロック
型イソシアネートの組み合わせ 基体樹脂(担体樹脂)について詳細に説明する。本発明
のプライマー層においては、バインダーの目的として
又、他の目的として基体樹脂(担体樹脂)に種々の樹脂
を用いることが可能であり、これらの樹脂は単独あるい
は2種類以上混合して用いられる。代表的な樹脂の例を
下記に示すが、これらに限定されない。
(1) Combination of Epoxy Resin and Base Resin (Carrier Resin) (2) Combination of Epoxy Resin, Base Resin (Carrier Resin) and Block Isocyanate The base resin (carrier resin) will be described in detail. In the primer layer of the present invention, various resins can be used as the base resin (carrier resin) for the purpose of the binder and for other purposes, and these resins can be used alone or in combination of two or more kinds. . Examples of representative resins are shown below, but are not limited thereto.

【0034】ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシポ
リエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、アクリレート系共重合体、アクリル樹
脂、塩化ビニル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂、ポリ酢酸ビニル−ポリカーボネート樹脂、
エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリアクリロニトリル
−ブタジエン共重合体等のジエン系ゴム、カルボキシ変
性スチレン/ブタジエンゴム、アクリロニトリル/ブタ
ジエンゴム、カルボキシ変性アクリロニトリル/ブタジ
エンゴム、ポリイソプレンゴム、アクリレートゴム、セ
ルロース及びその誘導体、キチン、キトサン、ミルクカ
ゼイン、ゼラチン、大豆タンパク質、アルブミン、ポリ
エチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン
等。
Urethane resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, epoxy polyester resin, polyamide resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, acrylate copolymer, acrylic resin, vinyl chloride resin, phenoxy resin, Polyvinyl butyral resin, polyvinyl acetate-polycarbonate resin,
Diene rubbers such as ethylene-vinyl acetate copolymer and polyacrylonitrile-butadiene copolymer, carboxy-modified styrene / butadiene rubber, acrylonitrile / butadiene rubber, carboxy-modified acrylonitrile / butadiene rubber, polyisoprene rubber, acrylate rubber, cellulose and the like Derivatives, chitin, chitosan, milk casein, gelatin, soy protein, albumin, polyethylene, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, etc.

【0035】(1)の代表的な使用例を下記に示すが、
これらに限定されない。
Typical examples of the use of (1) are shown below.
It is not limited to these.

【0036】(a)エポキシ樹脂とアミノ樹脂 (b)エポキシ樹脂とアミノ樹脂とフェノ−ル樹脂の組
み合わせ (c)エポキシ樹脂とフェノール樹脂の組み合わせ (d)エポキシ樹脂とウレタン樹脂の組み合わせ (e)エポキシ樹脂とアミン類、ポリアミド、酸無水物
等の硬化剤の組み合わせ 又、(2)の代表的な使用例を下記に示すが、これらに
限定されない。
(A) Epoxy resin and amino resin (b) Combination of epoxy resin, amino resin and phenol resin (c) Combination of epoxy resin and phenol resin (d) Combination of epoxy resin and urethane resin (e) Epoxy Combination of Resin and Curing Agent such as Amine, Polyamide, Acid Anhydride, etc. Further, typical use examples of (2) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0037】(f)エポキシ樹脂とウレタン樹脂とブロ
ック型イソシアネートの組み合わせ (g)エポキシ樹脂とウレタン樹脂とアミノ樹脂とブロ
ック型イソシアネートの組み合わせ 本発明においては、上記使用例のどの場合においても良
好な結果を示すが、好ましく(a)が良好であり、より
好ましい組み合わせとしては(b)、(g)が挙げら
れ、基体樹脂中にアミノ樹脂を含有しているものが良好
である。特に本発明においては使用例(g)の様に、基
体樹脂中にウレタン樹脂、ブロック型イソシアネートを
含有しているものが非常に良好である。
(F) Combination of Epoxy Resin, Urethane Resin and Block Isocyanate (g) Combination of Epoxy Resin, Urethane Resin, Amino Resin and Block Isocyanate In the present invention, good results are obtained in any of the above use examples. Although (a) is preferable, more preferable combinations include (b) and (g), and those containing an amino resin in the base resin are preferable. Particularly in the present invention, it is very preferable that the base resin contains a urethane resin and a block type isocyanate as in the use example (g).

【0038】アミノ樹脂は、エポキシ樹脂の硬化剤とし
て極めて良好であり、組み合わせて用いることで、エポ
キシ樹脂の架橋反応が促進される。また、ウレタン樹脂
及びブロック型イソシアネートを含有していることで3
次元架橋反応により、更に接着性が向上する。
The amino resin is extremely good as a curing agent for the epoxy resin, and when used in combination, the crosslinking reaction of the epoxy resin is promoted. In addition, by containing urethane resin and block type isocyanate, 3
The dimensional cross-linking reaction further improves the adhesiveness.

【0039】アミノ樹脂としては、尿素樹脂、メラミン
樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素メラミン樹脂等が挙
げられる。取り扱いやすくするためn−ブチル化やis
o−ブチル化されていても良い。
Examples of the amino resin include urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin and urea melamine resin. N-butylation and is for easy handling
It may be o-butylated.

【0040】(b)の混合割合としては、フェノール樹
脂80〜200部に対しアミノ樹脂1〜50部、エポキ
シ樹脂は1〜30部が最適である。
The optimum mixing ratio of (b) is 1 to 50 parts of amino resin and 1 to 30 parts of epoxy resin to 80 to 200 parts of phenol resin.

【0041】また、(g)の混合割合としては、ウレタ
ン樹脂70〜200部に対しブロック型イソシアネート
は1〜50部、アミノ樹脂は1〜60部、エポキシ樹脂
は1〜40部が最適である。
The optimum mixing ratio of (g) is 70 to 200 parts of the urethane resin, 1 to 50 parts of the block isocyanate, 1 to 60 parts of the amino resin, and 1 to 40 parts of the epoxy resin. .

【0042】特に本発明においては、使用例(g)の様
に基体樹脂(担体樹脂)中にウレタン樹脂を含有したも
のが良好である。本発明に用いられるウレタン樹脂は、
いかなるものであってもよく、特にポリオール成分、イ
ソシアネート成分、鎖伸長剤等から構成されるポリウレ
タン樹脂が好ましく用いられる。代表的なポリオール成
分として、例えば低分子ジオールとしては、エチレング
リコール、プロピレングリコール、1,4ブタンジオー
ル、1,6ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、
ネオペンルグリコール、ビス(ヒドロキシメチル)シク
ロヘキサン、ビス(ヒドロキシエチル)ベンゼン、トリ
メチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエ
リトリット、ジペンタエリトリット、トリスヒドロキシ
メチルアミノメタン、ソルビトール等が挙げられる。
又、高分子ジオールとしては、ポリプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、ポリテトラエチレングリ
コール、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド共
重合体、テトラヒドロフラン−エチレンオキサイド共重
合体、テトラヒドロフラン−プロピレンオキサイド共重
合体やコハク酸、グルタル酸、アジピン酸等の飽和脂肪
族カルボン酸あるいはフタル酸等の芳香族ジカルボン酸
と低分子ジオールとの重縮合反応から得られるポリエス
テルジオール、又はポリエチレンアジペート、ポリヘキ
サメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、
ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチ
レンヘキサメチレンアジペート等のポリエーテルジオー
ル、他にもポリエーテルエステルジオール、ポリブタジ
エンジオール、ポリカーボネートジオール、ポリカプロ
ラクトンジオール等が挙げられる。また、種々の含燐ポ
リオール、ハロゲン含有ポリオール等もポリオールとし
て用いることが可能である。
Particularly in the present invention, it is preferable that the base resin (carrier resin) contains a urethane resin as in the use example (g). The urethane resin used in the present invention is
Any material may be used, and a polyurethane resin composed of a polyol component, an isocyanate component, a chain extender and the like is particularly preferably used. As typical polyol components, for example, as low molecular weight diols, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4 butane diol, 1,6 hexane diol, diethylene glycol,
Examples include neopentyl glycol, bis (hydroxymethyl) cyclohexane, bis (hydroxyethyl) benzene, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, trishydroxymethylaminomethane and sorbitol.
Further, as the polymer diol, polypropylene glycol, polyethylene glycol, polytetraethylene glycol, ethylene oxide-propylene oxide copolymer, tetrahydrofuran-ethylene oxide copolymer, tetrahydrofuran-propylene oxide copolymer and succinic acid, glutaric acid, Polyester diol obtained from polycondensation reaction of saturated aliphatic carboxylic acid such as adipic acid or aromatic dicarboxylic acid such as phthalic acid and low molecular weight diol, or polyethylene adipate, polyhexamethylene adipate, polyneopentyl adipate,
Examples thereof include polyether diols such as polyhexamethylene neopentyl adipate and polyethylene hexamethylene adipate, and also polyether ester diol, polybutadiene diol, polycarbonate diol, polycaprolactone diol, and the like. Further, various phosphorus-containing polyols, halogen-containing polyols and the like can be used as the polyol.

【0043】代表的なイソアネート成分としては、pー
フェニレンジイソシアネート、2,4ー又は2,6ート
ルエンジイソシアネート(TDI)、4,4ージフェニ
ルメタンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイソ
シアンネート(TODI)、キシリエンジイソシアネー
ト(XDI)、水素化キシリレンジイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、メタキシレンジイソシ
アネート(MXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト(HDIあるいはHMDI)、リジンジイソシアネー
ト(LDI)(別名2,6ージイソシアネートメチルカ
プロエート)、水素化MDI(H12MDI)(別名4,
4´ーメチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト))、水素化XDI(H6XDI)(別名1,3ー
(イソシアナートメチル)シクロヘキサン)、イソホロ
ンジイソシアネート(IPDI)、ジフェニルエーテル
イソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシア
ネート(TMDI)、テトラメチルキシレンジイソシア
ネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、ダ
イマー酸シイソシアネート(DDI)、トリフェニルメ
タントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェ
ニル)チオフェスフェイト、テトラメチルキシレンジイ
ソシアネート、1,8ージイソシアネート−4−イソシ
アネートメチルオクタン、1,3,6ーヘキサメチレン
トリイソシアネート、ビスクロヘプタントリイソシアネ
ート等やポリイソシアネート類等の単量体もしくは変性
体等が挙げられる。又、これらイソシアネート化合物と
上記ポリオールとをイソシアネート基が残存するような
比率で反応させた化合物もイソシアネート化合物として
用いることが可能である。
Typical isocyanate components include p-phenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-toluene diisocyanate (TDI), 4,4-diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolidine diisocyanate (TODI) and chitosan. Siliene diisocyanate (XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, metaxylene diisocyanate (MXDI), hexamethylene diisocyanate (HDI or HMDI), lysine diisocyanate (LDI) (also known as 2,6-diisocyanate methylcaproate), hydrogen MDI (H12MDI) (alias 4,
4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate)), hydrogenated XDI (H6XDI) (also known as 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane), isophorone diisocyanate (IPDI), diphenyl ether isocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), tetramethyl xylene diisocyanate , Polymethylene polyphenyl isocyanate, dimer acid cyisocyanate (DDI), triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanatophenyl) thiofesphate, tetramethyl xylene diisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyl octane, 1,3 , 6-hexamethylene triisocyanate, biscloheptane triisocyanate and polyisocyanate Monomeric or modified products such as class and the like. Further, compounds obtained by reacting these isocyanate compounds with the above-mentioned polyol in such a ratio that the isocyanate groups remain can also be used as the isocyanate compound.

【0044】代表的な鎖伸長剤としては、pーキシレン
ジアミン、1,4ージアミノシクロヘキサン、pーフェ
ニレンジアミン、ビス(4ーアミノシクロヘキシル)メ
タン、1,2ージアミノプロパン、2,3ージアミノブ
タン、ピペラジン、4,4´ージアミノージフェニルメ
タン、トリメチレングリコールージーpーアミノベンゾ
エート、4,4´ー3,3´ージアミノジクロロージフ
ェニルメタン等が挙げられる。
Typical chain extenders include p-xylenediamine, 1,4-diaminocyclohexane, p-phenylenediamine, bis (4-aminocyclohexyl) methane, 1,2-diaminopropane, 2,3-diaminobutane, Examples thereof include piperazine, 4,4'-diamino-diphenylmethane, trimethylene glycol-di-p-aminobenzoate, 4,4'-3,3'-diaminodichloro-diphenylmethane.

【0045】又、本発明に用いられるブロック型イソシ
アネートの代表的な例を下記に示すが、本発明はこれら
に限定されない。又、これらは単独あるいは二種類以上
混合して用いることが可能である。
Typical examples of the block type isocyanate used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. These can be used alone or in combination of two or more.

【0046】pーフェニレンジイソシアネート、2,4
ー又は2,6ートルエンジイソシアネート(TDI)、
4,4ージフェニルメタンジイソシアネート(MD
I)、トリジンジイソシアンネート(TODI)、キシ
リエンジイソシアネート(XDI)、水素化キシリレン
ジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、
メタキシレンジイソシアネート(MXDI)、ヘキサメ
チレンジイソシアネート(HDIあるいはHMDI)、
リジンジイソシアネート(LDI)(別名2,6ージイ
ソシアネートメチルカプロエート)、水素化MDI(H
12MDI)(別名4,4´ーメチレンビス(シクロヘキ
シルイソシアネート))、水素化XDI(H6XDI)
(別名1,3ー(イソシアナートメチル)シクロヘキサ
ン)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジフ
ェニルエーテルイソシアネート、トリメチルヘキサメチ
レンジイソシアネート(TMDI)、テトラメチルキシ
レンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソ
シアネート、ダイマー酸シイソシアネート(DDI)、
トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソ
シアネートフェニル)チオフェスフェイト、テトラメチ
ルキシレンジイソシアネート、1,8ージイソシアネー
ト−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6ー
ヘキサメチレントリイソシアネート、ビスクロヘプタン
トリイソシアネート等やポリイソシアネート類をブロッ
クしたもの 各基体樹脂とエポキシ化合物(エポキシ樹脂)との反応
は、橋本著、「プラスチック材料講座 エポキシ樹脂」
(日刊工業新聞社、1969年発刊)、清野著、「合成
樹脂工業技術エポキシ樹脂」(誠文堂新光社、1962
年発刊)等に記載されたところに従うことができる。
P-Phenylene diisocyanate, 2,4
-Or 2,6-toluene diisocyanate (TDI),
4,4-diphenylmethane diisocyanate (MD
I), tolidine diisocyanate (TODI), xylene diisocyanate (XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate,
Meta-xylene diisocyanate (MXDI), hexamethylene diisocyanate (HDI or HMDI),
Lysine diisocyanate (LDI) (also known as 2,6-diisocyanate methyl caproate), hydrogenated MDI (H
12MDI) (also known as 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate)), hydrogenated XDI (H6XDI)
(Also known as 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane), isophorone diisocyanate (IPDI), diphenyl ether isocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), tetramethyl xylene diisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, dimer acid cyisocyanate (DDI),
Triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanate phenyl) thiofesphate, tetramethyl xylene diisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyl octane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, biscloheptane triisocyanate, etc. Blocked polyisocyanates The reaction between each base resin and epoxy compound (epoxy resin) is described by Hashimoto, “Plastic Materials Lecture Epoxy Resin”.
(Published in Nikkan Kogyo Shimbun, 1969), Seino, “Synthetic Resin Industrial Technology Epoxy Resin” (Seibundo Shinkosha, 1962)
Annual publication) etc. can be followed.

【0047】又、本発明のプライマー層には基板からの
ハレーション防止や検版性向上のため酸化チタンや炭酸
カルシウム等のような白色顔料や黄色顔料の添加が可能
であり、他にも目的に沿って染料、pH指示薬、露光焼
出し剤、フォトクロ化合物、光重合開始剤、熱重合開始
剤、接着助剤(例えば、重合性モノマ、ジアゾ樹脂、シ
ランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アル
ミニウムカップリング剤、ジルコニアカップリング剤、
ボロンカップリング剤等)、含燐モノマー、各種触媒、
シリカ粒子等、添加剤を添加することもできる。
Further, in the primer layer of the present invention, a white pigment or a yellow pigment such as titanium oxide or calcium carbonate can be added to prevent halation from the substrate and improve plate inspection. Along with dyes, pH indicators, exposure bakeout agents, photochromic compounds, photopolymerization initiators, thermal polymerization initiators, adhesion aids (eg, polymerizable monomers, diazo resins, silane coupling agents, titanate coupling agents, aluminum). Coupling agent, zirconia coupling agent,
Boron coupling agents, etc.), phosphorus-containing monomers, various catalysts,
Additives such as silica particles can also be added.

【0048】特に本発明のエポキシ化合物と有機錫化合
物及び下記一般式(I)で示されるモノマーとを組み合
わせることによって、より経時的にも安定で生産性に優
れた水なし平版印刷版原版を得ることが可能となる。
In particular, by combining the epoxy compound of the present invention with the organotin compound and the monomer represented by the following general formula (I), a waterless planographic printing plate precursor which is more stable over time and has excellent productivity is obtained. It becomes possible.

【0049】[0049]

【化2】 (ただし、R1、R2は水素原子またはメチル基を表
し、a、bは1以上の整数でa+b=3、nは0〜20
の整数を表す。) 代表的な有機錫化合物の具体例を下記に示すが本発明は
これらに限定されない。
Embedded image (However, R1 and R2 represent a hydrogen atom or a methyl group, a and b are integers of 1 or more, a + b = 3, and n is 0 to 20.
Represents an integer. ) Specific examples of typical organotin compounds are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0050】###[*****]は、慣用名称[組成
式]を表わす。
## [*****] represents the common name [composition formula].

【0051】アリルトリ−n−ブチル錫[C15H32S
n]、アリルトリメチル錫[C6 H14Sn]、アリルト
リフェニル錫[C21H20Sn]、ビス(2−エチルヘキ
サノエート)錫[C16H30O4 Sn]、ビス(2,4−
ペンタンジオネート)ジクロロ錫[C10H14O4 Cl2
Sn]、ビス(トリフェニル錫)オキサイド[C36H30
OSn2 ]、ビス(トリフェニル錫)サルファイド[C
36H30SSn2 ]、ポリ(n−ブチル錫ヒドキサイド)
オキサイド[(C4 H10O2 Sn)n ]、n−ブチルト
リクロロ錫[C4 H9 Cl3 Sn]、n−ブチルトリス
(2−エチルヘキサノエート)錫[C28H54O6 S
n]、シクロペンタジエニルトリ−n−ブチル錫[C17
H32Sn]、1,3−ジアセトキシ−1,1,3,3−
テトラブチル錫オキサイド[C20H42O5 Sn2 ]、酢
酸錫(II)[C4 H6 O4 Sn]、ジ−n−ブチル錫ジ
ラウリルメルカプタイド[C32H68S2 Sn]、ジ−n
−ブチル錫ジオクトエート[C28H48O4 Sn]、ジ−
n−ブチルビス(2,4−ペンタンジオネート)錫[C
18H32O4 Sn]、ジ−n−ブチル錫ジアセテート[C
12H24O4 Sn]、ジ−n−ブチルジクロロ錫[C8 H
18Cl2 Sn]、ジ−t−ブチルジクロロ錫[C8 H18
Cl2 Sn]、ジ−n−ブチルジフルオロ錫[C8H18
F2 Sn]、ジ−n−ブチルジラウリル錫[C32H64O
4 Sn]、ジ−n−ブチルジメトキシ錫[C10H24O2
Sn]、ポリ(ジ−n−ブチル(アレエート)錫)
[(C12H20O4 Sn)n ]、ジ−n−ブチル−S,S
´−ビス(イソオクチルメルカプトアセテート)錫[C
28H56O4 S2 Sn]、ポリ(ジ−n−ブチル錫オキサ
イド)[(C8 H18OSn)n ]、ポリ(ジ−n−ブチ
ル錫サルファイド)[(C8 H18SSn)n ]、ジメチ
ルアミノトリ−n−ブチル錫[C14H33NSn]、ジメ
チル−S,S´−ビス(イソオクチルメルカプトアセテ
ート)錫[C22H44O4 S2 Sn]、ジメチルジクロロ
錫[C2 H6 Cl2 Sn]、ジメチルジネオデカノエー
ト錫[C22H44O4 Sn]、ジメチルヒドロキシ(オレ
エート)錫[C20H40O3 Sn]、ジオクチルクロロ錫
[C16H34Cl2 Sn]、ジオクチル錫ジラウレート
[C40H80O4 Sn]、ポリ(ジオクチル錫オキサイ
ド)[(C16H34OSn)n ]、ジフェニルジクロロ錫
[C12H10Cl2 Sn]、エチニルトリ−n−ブチル錫
[C14H28Sn]、ヘキサ−n−ブチルジ錫[C24H54
Sn2 ]、ヘキサメチルジ錫[C6 H18Sn2 ]、メタ
クリルオキシトリ−n−ブチル錫[C17H32O2 S
n]、メチルトリクロロ錫[CH3 Cl3Sn]、オク
チルトリクロロ錫[C8 H17Cl3 Sn]、フェニルト
リ−n−ブチル錫[C18H32Sn]、フェニルトリクロ
ロ錫[C6 H5 Cl3 Sn]、ナトリウム錫エトキサイ
ド[C18H45O9 NaSn2 ]、テトラアリル錫[C12
H20Sn]、テトラ−t−ブトキシ錫[C16H36O4 S
n]、テトラ−n−ブチル錫[C16H36Sn]、テトラ
エチル錫[C8 H20Sn]、テトライソプロピル錫[C
12H28Sn]、テトラメチル錫[C4 H12Sn]、テト
ラ−n−オクチル錫[C32H68Sn]、テトラフェニル
錫[C24H20Sn]、錫(II)エトキサイド[C4 H10
O2 Sn]、錫(II)メトキサイド[C2 H6 O2 S
n]、シュウ酸錫(II)[C2 O4 Sn]、錫(II)
2,4−ペンタンジオネート[C10H14O4Sn]、ト
リ−n−ブチルアセトキシ錫[C14H30O2 Sn]、ト
リ−n−ブチルベンゾイルオキシ錫[C19H32O2 S
n]、トリ−n−ブチルブロモ錫[C12H27BrS
n]、トリ−n−ブチルクロロ錫[C12H27ClS
n]、トリ−n−ブチルエトキシ錫[C14H32OS
n]、トリ−n−ブチルフルオロ錫[C12H27FS
n]、トリ−n−ブチルヨウド錫[C12H27ISn]、
トリ−n−ブチルメトキソ錫[C13H30OSn]、トリ
−n−ブチル錫ハライド[C12H28Sn]、トリ−n−
ブチル(トリフルオロメタンスルフォネート)錫[C13
H27F3 O3SSn]、トリエチルブロモ錫[C6 H15
BrSn]、(トリイソプロポキシチタノキシ)トリ−
n−ブチル錫[C21H48O4 TiSn]、トリメチルク
ロロ錫[C3 H9 ClSn]、トリメチルシリルトリ−
n−ブチル錫[C15H36SiSn]、トリフェニルアセ
トキシ錫[C20H18O2 Sn]、トリフェニルクロロ錫
[C18H15ClSn]、トリフェニルフルオロ錫[C18
H15FSn]、トリフェニルヒドキシ錫[C18H16OS
n]、トリフェニル錫ハライド[C18H16Sn]、ビニ
ルトリ−n−ブチル錫[C14H30Sn]、アクリルオキ
シドトリ−n−ブチル錫[C15H30O2 Sn]、アクリ
ルオキシドトリフェニル錫[C21H18O2Sn]、ジア
リルジブロモ錫[C6 H10Br2 Sn]、ジアリルジ−
n−ブチル錫[C14H28Sn]、ジ−n−ブチルビス
(2−エチルヘキシルマレエート)錫[C32H56O8 S
n]、ジ−n−ブチルビス(メチルマレエート)錫[C
18H28O8 Sn]、ジ−n−ブチルアクリル酸錫[C14
H24O4 Sn]、ジ−n−ブチルメタクリル酸錫[C16
H28O4 Sn]、ポリ(ジオクチル(マレエート)錫)
[(C20H36O4 Sn)n ]、ジビニルジ−n−ブチル
錫[C12H24Sn]、1−エトキシビニルトリ−n−ブ
チル錫[C16H34OSn]、テトラビニル錫[C8 H
12Sn]等。
Allyltri-n-butyltin [C15H32S
n], allyltrimethyltin [C6 H14 Sn], allyltriphenyl tin [C21 H20 Sn], bis (2-ethylhexanoate) tin [C16 H30 O4 Sn], bis (2,4-
Pentanedionate) Dichlorotin [C10H14O4 Cl2
Sn], bis (triphenyltin) oxide [C36H30
OSn2], bis (triphenyltin) sulfide [C
36H30SSn2], poly (n-butyltin hydroxide)
Oxide [(C4 H10 O2 Sn) n], n-Butyltrichlorotin [C4 H9 Cl3 Sn], n-Butyl tris (2-ethylhexanoate) tin [C28 H54 O6 S
n], cyclopentadienyltri-n-butyltin [C17
H32Sn], 1,3-diacetoxy-1,1,3,3-
Tetrabutyltin oxide [C20 H42 O5 Sn2], tin (II) acetate [C4 H6 O4 Sn], di-n-butyltin dilauryl mercaptide [C32 H68 S2 Sn], di-n
-Butyltin dioctoate [C28H48O4Sn], di-
n-butylbis (2,4-pentanedionate) tin [C
18H32O4 Sn], di-n-butyltin diacetate [C
12H24O4 Sn], di-n-butyldichlorotin [C8 H
18Cl2 Sn], di-t-butyldichlorotin [C8 H18
Cl2 Sn], di-n-butyldifluorotin [C8H18
F2 Sn], di-n-butyldilauryl tin [C32 H64 O
4 Sn], di-n-butyldimethoxytin [C10H24O2
Sn], poly (di-n-butyl (aleate) tin)
[(C12H20O4Sn) n], di-n-butyl-S, S
'-Bis (isooctylmercaptoacetate) tin [C
28H56O4 S2 Sn], poly (di-n-butyltin oxide) [(C8 H18OSn) n], poly (di-n-butyltin sulfide) [(C8 H18SSn) n], dimethylaminotri-n-butyltin []. C14H33NSn], dimethyl-S, S'-bis (isooctylmercaptoacetate) tin [C22H44O4S2Sn], dimethyldichlorotin [C2H6Cl2Sn], dimethyldineodecanoate tin [C22H44O4Sn], dimethylhydroxy (oleate). ) Tin [C20H40O3 Sn], dioctylchlorotin [C16H34Cl2 Sn], dioctyltin dilaurate [C40H80O4 Sn], poly (dioctyltin oxide) [(C16H34OSn) n], diphenyldichlorotin [C12H10Cl2Sn], ethynyltri-n-butyl-ethynyltri-n-n. [C14H28Sn], hexa-n-butylditin [C24H 54
Sn2], hexamethylditin [C6 H18 Sn2], methacryloxytri-n-butyl tin [C17 H32 O2 S
n], methyltrichlorotin [CH3Cl3Sn], octyltrichlorotin [C8H17Cl3Sn], phenyltri-n-butyltin [C18H32Sn], phenyltrichlorotin [C6H5Cl3Sn], sodium tin ethoxide [C18H45O9NaSn2], tetraallyl. Tin [C12
H20Sn], tetra-t-butoxytin [C16H36O4S
n], tetra-n-butyltin [C16H36Sn], tetraethyltin [C8H20Sn], tetraisopropyltin [C]
12H28Sn], tetramethyltin [C4H12Sn], tetra-n-octyltin [C32H68Sn], tetraphenyltin [C24H20Sn], tin (II) ethoxide [C4H10].
O2 Sn], tin (II) methoxide [C2 H6 O2 S
n], tin (II) oxalate [C2 O4 Sn], tin (II)
2,4-Pentanedionate [C10H14O4Sn], Tri-n-butylacetoxytin [C14H30O2Sn], Tri-n-butylbenzoyloxytin [C19H32O2S]
n], tri-n-butylbromotin [C12H27BrS
n], tri-n-butylchlorotin [C12H27ClS
n], tri-n-butylethoxytin [C14H32OS
n], tri-n-butylfluorotin [C12H27FS
n], tri-n-butyliodotin [C12H27ISn],
Tri-n-butylmethoxotin [C13H30OSn], tri-n-butyltin halide [C12H28Sn], tri-n-
Butyl (trifluoromethanesulfonate) tin [C13
H27F3 O3SSn], triethylbromotin [C6 H15
BrSn], (triisopropoxy titanoxy) tri-
n-Butyltin [C21H48O4TiSn], Trimethylchlorotin [C3H9ClSn], Trimethylsilyltri-
n-Butyltin [C15H36SiSn], Triphenylacetoxytin [C20H18O2Sn], Triphenylchlorotin [C18H15ClSn], Triphenylfluorotin [C18]
H15FSn], triphenylhydroxytin [C18H16OS
n], triphenyltin halide [C18H16Sn], vinyltri-n-butyltin [C14H30Sn], acrylic oxide tri-n-butyltin [C15H30O2Sn], acrylic oxide triphenyltin [C21H18O2Sn], diallyldibromotin [C6H10Br2Sn]. ], Diallyldi-
n-Butyltin [C14H28Sn], Di-n-butylbis (2-ethylhexylmaleate) tin [C32H56O8S
n], di-n-butyl bis (methyl maleate) tin [C
18H28O8Sn], tin di-n-butyl acrylate [C14
H24O4 Sn], di-n-butyl tin methacrylate [C16
H28O4 Sn], poly (dioctyl (maleate) tin)
[(C20H36O4Sn) n], divinyldi-n-butyltin [C12H24Sn], 1-ethoxyvinyltri-n-butyltin [C16H34OSn], tetravinyltin [C8H]
12Sn] etc.

【0052】これらの中で特に好ましいのは、ジ−n−
ブチル錫ジアセテート[C12H24O4 Sn]、ジ−n−
ブチルジラウリル錫[C32H64O4 Sn]、ジ−n−ブ
チル錫ジオクトエート[C28H48O4 Sn]であり、こ
れらの有機錫化合物は基体樹脂(担体樹脂)とブロック
型イソシアネートとの反応を促進し、低温での反応の完
結を可能にする。更に本発明のエポキシ化合物と組み合
わせることにより、更なる反応促進が計れる。添加量と
しては、全プライマ組成物に対して、好ましくは0.0
05〜5重量%、より好ましくは0.01〜1重量%で
ある。添加量が0.005重量%より少ない場合は上記
効果に乏しく、5重量%より多い場合は、感光層に悪影
響を及ぼし、現像不能の発生等トラブルが生じる。
Particularly preferred among these are di-n-
Butyltin diacetate [C12 H24 O4 Sn], di-n-
Butyldilauryltin [C32H64O4Sn] and di-n-butyltin dioctoate [C28H48O4Sn]. These organotin compounds accelerate the reaction between the base resin (carrier resin) and the block type isocyanate, and the reaction at a low temperature. Enables the completion of. Further reaction can be promoted by combining with the epoxy compound of the present invention. The amount added is preferably 0.0 based on the total primer composition.
The amount is 05 to 5% by weight, and more preferably 0.01 to 1% by weight. If the addition amount is less than 0.005% by weight, the above effect is poor, and if the addition amount is more than 5% by weight, the photosensitive layer is adversely affected and troubles such as development failure occur.

【0053】本発明で用いられる一般式(I)で示され
るモノマーとしては、リン酸の一部が(メタ)アクリル
酸エステル化された化合物が用いられる。ここでいう
(メタ)アクリル酸エステルとは、例えば2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコール
(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、ジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、
トリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリ
プロピレングリコール(メタ)アクリレート等の末端に
水酸基を含有する(メタ)アクリル酸エステルである。
これらの中で好ましいのは、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレートであり、特に好ましいのは2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレートである。これらの
(メタ)アクリル酸エステルをリン酸と反応させ、リン
酸エステルとする場合、リン酸の水酸基1個あるいは2
個がエステル化されていることが望ましい。すべての水
酸基がエステル化されていると支持体との接着性に悪影
響を及ぼし、ハガレ発生の原因となる。これらのリン酸
エステル系モノマーは感光性を有するものであるが、熱
硬化反応のプライマー層中において有機錫化合物と併用
した場合に接着性の向上をもたらす。又、本発明のエポ
キシ化合物と組み合わせることによってエポキシ化合物
の反応を促進させ、短時間で反応を完結させると共に更
なる接着性の向上が計れる。リン酸エステル系モノマー
の添加量は、プライマー層を構成する基体樹脂(担体樹
脂)の組み合わせにより多少効果が異なるが、全プライ
マー組成物に対して好ましくは0.05〜10重量%、
更に好ましくは0.1〜7重量部%である。添加量が
0.05重量%より少ないと上記効果に乏しく、10重
量%より大きい場合感光層に悪影響を及ぼし現像不能等
トラブルの原因となる。
As the monomer represented by the general formula (I) used in the present invention, a compound in which a part of phosphoric acid is (meth) acrylic acid esterified is used. Examples of the (meth) acrylic acid ester used herein include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, diethylene glycol (meth) acrylate, triethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, and 2-hydroxypropyl (meth). Acrylate, dipropylene glycol (meth) acrylate,
It is a (meth) acrylic acid ester containing a hydroxyl group at the terminal such as tripropylene glycol (meth) acrylate and polypropylene glycol (meth) acrylate.
Among these, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate is preferable, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is particularly preferable. When these (meth) acrylic acid esters are reacted with phosphoric acid to form phosphoric acid esters, one or two hydroxyl groups of phosphoric acid are used.
It is desirable that the individual be esterified. If all the hydroxyl groups are esterified, the adhesiveness to the support is adversely affected, causing peeling. These phosphoric acid ester-based monomers have photosensitivity, but when used in combination with an organic tin compound in the primer layer for thermosetting reaction, they bring about improvement in adhesiveness. Further, by combining with the epoxy compound of the present invention, the reaction of the epoxy compound is promoted, the reaction is completed in a short time, and the adhesiveness can be further improved. The amount of the phosphoric acid ester-based monomer added varies somewhat depending on the combination of the base resin (carrier resin) forming the primer layer, but is preferably 0.05 to 10% by weight with respect to the total primer composition.
More preferably, it is 0.1 to 7 parts by weight. If the addition amount is less than 0.05% by weight, the above effect is poor, and if it is more than 10% by weight, the photosensitive layer is adversely affected and troubles such as development failure occur.

【0054】又、塗液安定性のため熱重合抑制剤として
ハイドロキノン、フェノチアジン等の重合禁止剤を添加
することも可能である。更に塗工性改良のため、エチル
セルロース、メチルセルロース等のアルキルエーテル
類、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ
ニオン系界面活性剤等を添加することも任意であり、塗
膜の柔軟性、耐磨耗性を付与するため、可塑剤を添加し
てもよい。代表的な可塑剤を下記に示すが、これらに限
定されない。
For the stability of the coating solution, it is possible to add a polymerization inhibitor such as hydroquinone or phenothiazine as a thermal polymerization inhibitor. In order to further improve coating properties, it is optional to add alkyl ethers such as ethyl cellulose and methyl cellulose, a fluorine-based surfactant, a silicone-based surfactant, a nonionic surfactant, and the like. A plasticizer may be added to impart abrasion resistance. Representative plasticizers are shown below, but are not limited thereto.

【0055】ブチルフタリル、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、オレイン酸
テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸
のオリゴマー、ポリビニルブチルエーテル、エポキシト
リグルセリド、ポリビニルホルマール等。
Butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate,
Tricresyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid, polyvinyl butyl ether, epoxy triglyceride, polyvinyl formal, and the like.

【0056】本発明に用いられるプライマー層を形成す
るための組成物は、DMF、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、ジオキサン、乳酸メチル、乳酸エ
チル等の適当な有機溶媒に溶解させることにより、組成
物溶液として調製される。顔料等が含有されている場合
には、必要に応じてSGI、ホモジナイザーといった公
知の分散方法を用い分散させてやることが好ましい。
The composition for forming the primer layer used in the present invention is dissolved in a suitable organic solvent such as DMF, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane, methyl lactate and ethyl lactate to give a composition solution. Is prepared. When a pigment or the like is contained, it is preferable to disperse it by using a known dispersing method such as SGI or a homogenizer as needed.

【0057】本発明に用いられるプライマー層の膜厚は
乾燥重量で0.1〜20g/m2 の範囲が好ましく、1
〜10g/m2 の範囲が更に好ましい。薄すぎるとプラ
イマとしての具備すべき機能を果たさなくなり、厚すぎ
ると経済性に欠ける。
The film thickness of the primer layer used in the present invention is preferably in the range of 0.1 to 20 g / m 2 in terms of dry weight.
More preferably, the range is from 10 to 10 g / m2. If it is too thin, it will not function as a primer, and if it is too thick, it will not be economical.

【0058】次に本発明に用いられる感光層について説
明する。本発明で用いられる感光層は露光の前後で現像
液に対する溶解性に変化を生じるものであればいかなる
ものであってもよい。具体的にはエチレン性不飽和化合
物、ジアゾ化合物、キノンジアジド化合物、アジド化合
物、o−ニトロベンジルカルビノールエステル化合物等
が挙げられる。これらの化合物の光硬化反応を利用する
ことによりポジ型水なし平版印刷版原版が、光分解反応
を利用することによりネガ型水なし平版印刷版原版が得
られる。本発明における画像形成はポジ型でもネガ型で
もよい。
Next, the photosensitive layer used in the present invention will be described. The photosensitive layer used in the present invention may be any as long as it changes the solubility in a developer before and after exposure. Specific examples include an ethylenically unsaturated compound, a diazo compound, a quinonediazide compound, an azide compound, an o-nitrobenzylcarbinol ester compound, and the like. A positive waterless planographic printing plate precursor is obtained by utilizing the photocuring reaction of these compounds, and a negative waterless planographic printing plate precursor is obtained by utilizing the photolysis reaction. The image formation in the present invention may be either a positive type or a negative type.

【0059】最初にポジ型について詳細に説明する。ポ
ジティブワーキング用の感光層としては、主に光硬化性
層が用いられ、光重合性層と光架橋性層とが挙げられ
る。
First, the positive type will be described in detail. As the photosensitive layer for positive working, a photocurable layer is mainly used, and a photopolymerizable layer and a photocrosslinkable layer are exemplified.

【0060】まず、光重合性層について説明する。光重
合性層としては以下に示すような組成の光重合性接着層
が挙げられる。
First, the photopolymerizable layer will be described. Examples of the photopolymerizable layer include a photopolymerizable adhesive layer having the following composition.

【0061】 (1)光重合性不飽和モノマーあるいはオリゴマー 1.0〜100重量部 (2)光重合開始剤 0.1〜 20重量部 (3)必要に応じて添加される光重合性層の形態保持用充填剤 (ポリマ−あるいは無機粉末) 0.01〜100重量部 (1)に言うモノマーまたはオリゴマーの具体例を下記
に示す。
(1) Photopolymerizable unsaturated monomer or oligomer 1.0 to 100 parts by weight (2) Photopolymerization initiator 0.1 to 20 parts by weight (3) Photopolymerizable layer added as necessary Shape-maintaining filler (polymer or inorganic powder) 0.01 to 100 parts by weight Specific examples of the monomer or oligomer mentioned in (1) are shown below.

【0062】本発明に好ましく用いられるモノマーとし
ては、下記一般式(II)で表わされるモノマーが挙げ
られる。
Examples of the monomers preferably used in the present invention include the monomers represented by the following general formula (II).

【0063】 R1 R2 N−(X1 )p −(X2 )q −NR3 R4 (II) (式中X1 は、炭素数1〜20の置換または無置換の環
式または非環式のアルキレン、置換または無置換のフェ
ニレン、置換または無置換のアラルキレンで置換基とし
ては、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、水酸
基、アリール基、から選ばれる2価の連結基を表わす。
X2 は、-OE 1 - 、-S-E2 - 、-NH-E 3 -、-CO-O-E 4 -
、-SO2-NH-E 5 - で、E1 、E2 、E3 、E4 、E5
は、上記のアルキレン、フェニレン、アラルキレンと同
一、から選ばれる2価の連結基を表わす。pは1以上の
整数、qは0または1以上の整数を表わす。R1 、R2
、R3 、R4 は、水素原子、炭素数1〜20の置換ま
たは無置換のアルキル基、置換又は無置換のフェニル
基、置換または無置換のアラルキル基、下式(II
I)、(IV)、(V)から選ばれる官能基を意味し、
同一でも異なってもよい。置換基としては、炭素数1〜
6のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アリール基を
表わす。ただし化合物(II)の1分子中に少なくとも
1個以上のエチレン性不飽和基を含む。R5 、R6 、R
7 は、水素原子、炭素数1〜20の置換または無置換の
アルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換また
は無置換のアラルキル基、CH2 =CH-基、CH2 =CCH3 - 基
を表わす。Yは-CO-O-、-CO-NH- 、置換または無置換フ
ェニレン基を表わす。X3 、X4 、X5 は上記X1 、X
2 と同義を意味する。m、nは0または1を表わす。)
R 1 R 2 N- (X 1) p-(X 2) q -NR 3 R 4 (II) (wherein X 1 is a substituted or unsubstituted cyclic or acyclic alkylene having 1 to 20 carbon atoms, substituted or The substituent of unsubstituted phenylene or substituted or unsubstituted aralkylene is a divalent linking group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyl group and an aryl group.
X2 is -OE 1-, -S-E2-, -NH-E3-, -CO-OE4-.
, -SO2-NH-E 5-, E1, E2, E3, E4, E5
Represents a divalent linking group selected from the same as the above alkylene, phenylene and aralkylene. p represents an integer of 1 or more, q represents 0 or an integer of 1 or more. R1 and R2
, R3 and R4 are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, and a compound represented by the following formula (II
I), (IV), (V) means a functional group selected from
They may be the same or different. The substituent has 1 to 1 carbon atoms.
6 represents an alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group and an aryl group. However, at least one ethylenically unsaturated group is contained in one molecule of the compound (II). R5, R6, R
7 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a CH2 = CH- group, or a CH2 = CCH3-group. Y represents -CO-O-, -CO-NH-, or a substituted or unsubstituted phenylene group. X3, X4 and X5 are the above X1 and X
Synonymous with 2. m and n represent 0 or 1. )

【化3】 特に、下記ジアミン化合物に光重合可能な基を有するグ
リシジル(メタ)アクリレ−ト及び、光重合可能な基を
もたないモノグリシジルエーテル化合物を付加反応させ
たものが好ましく用いられる。
Embedded image In particular, a glycidyl (meth) acrylate having a photopolymerizable group and a monoglycidyl ether compound having no photopolymerizable group are subjected to an addition reaction with the following diamine compound are preferably used.

【0064】(a)ジアミン化合物(モノオキシエチレ
ンジアミン、ジオキシエチレンジアミン、トリオキシエ
チレンジアミン、テトラオキシエチレンジアミン、ペン
タオキシエチレンジアミン、ヘキサオキシエチレンジア
ミン、ヘプタオキシエチレンジアミン、オクタオキシエ
チレンジアミン、ノナオキシエチレンジアミン、デカオ
キシエチレンジアミン、トリトリアコンタオキシエチレ
ンジアミン、モノオキシプロピレンジアミン、ジオキシ
プロピレンジアミン、トリオキシプロピレンジアミン、
テトラオキシプロピレンジアミン、ペンタオキシプロピ
レンジアミン、ヘキサオキシプロピレンジアミン、ヘプ
タオキシプロピレンジアミン、オクタオキシプロピレン
ジアミン、ノナオキシプロピレンジアミン、デカオキシ
プロピレンジアミン、トリトリアコンタオキシプロピレ
ンジアミン、N−ヒドロキシエチルヘキサプロピレンジ
アミン、N−ヒドロキシイソプロピルヘキサプロピレン
ジアミン、N,N´−ジヒドロキシエチルヘキサプロピ
レンジアミン、N,N´−ジヒドロキシイソプロピルヘ
キサプロピレンジアミン、トリメチレンビス(4−アミ
ノベンゾエート)、(テトラメチレングリコールビス
(4−アミノベンゾエート)、ジブチレングリコールビ
ス(4−アミノベンゾエート)、o−キシリレンジアミ
ン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミ
ン、N−ヒドロキシエチル−m−キシリレンジアミン、
N−ヒドロキシイソプロピル−m−キシリレンジアミ
ン、N,N´−ジヒドロキシエチル−m−キシリレンジ
アミン、N,Nージヒドロキシイソプロピル−m−キシ
リレンジアミン等)1 mol (b)グリシジル(メタ)アクリレ−ト
4−n mol (c)モノグリシジルエ−テル化合物(メチルグリシジ
ルエ−テル、エチルグリシジルエ−テル、n−プロピル
グリシジルエ−テル、イソプロピルグリシジルエ−テ
ル、n−ブチルグリシジルエ−テル、イソブチルグリシ
ジルエ−テル、n−ヘキシルグリシジルエ−テル、2エ
チルヘキシルグリシジルエ−テル、n−デシルグリシジ
ルエ−テル、アリルグリシジルエ−テル、フエニ−ルグ
リシジルエ−テル、グリシド−ル等)n mol (nは0≦n≦4の整数)の付加反応物が有用である。
(A) Diamine compound (monooxyethylene diamine, dioxyethylene diamine, trioxyethylene diamine, tetraoxyethylene diamine, pentaoxyethylene diamine, hexaoxyethylene diamine, heptaoxyethylene diamine, octaoxyethylene diamine, nonaoxyethylene diamine, decaoxyethylene diamine, trioxyethylene diamine Triacontaoxyethylenediamine, monooxypropylenediamine, dioxypropylenediamine, trioxypropylenediamine,
Tetraoxypropylenediamine, pentaoxypropylenediamine, hexaoxypropylenediamine, heptaoxypropylenediamine, octaoxypropylenediamine, nonaoxypropylenediamine, decaoxypropylenediamine, tritriacontaoxypropylenediamine, N-hydroxyethylhexapropylenediamine, N-hydroxyisopropylhexapropylenediamine, N, N'-dihydroxyethylhexapropylenediamine, N, N'-dihydroxyisopropylhexapropylenediamine, trimethylenebis (4-aminobenzoate), (tetramethyleneglycolbis (4-aminobenzoate ), Dibutylene glycol bis (4-aminobenzoate), o-xylylenediamine, m-xylylenediene Amine, p-xylylenediamine, N-hydroxyethyl-m-xylylenediamine,
N-hydroxyisopropyl-m-xylylenediamine, N, N'-dihydroxyethyl-m-xylylenediamine, N, N-dihydroxyisopropyl-m-xylylenediamine, etc.) 1 mol (b) glycidyl (meth) acryle- To
4-n mol (c) monoglycidyl ether compound (methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, n-propyl glycidyl ether, isopropyl glycidyl ether, n-butyl glycidyl ether, isobutyl glycidyl Ether, n-hexyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, n-decyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, glycidyl, etc. nmol (n is 0) ≦ n ≦ 4) addition reaction products are useful.

【0065】又、上記に説明したアミノ基を有するエチ
レン性不飽和化合物の他にも、公知のモノマー、オリゴ
マーや、少量のポリジメチルシロキサン、シリコーンレ
ジン、公知の各種変性ポリジメチルシロキサン、ポリエ
ーテル変性ポリジメチルシロキサン、シリコーン(メ
タ)アクリレートなどのシリコーン化合物を添加するこ
とも可能である。公知のモノマー、オリゴマーの具体例
を下記に示す。
In addition to the ethylenically unsaturated compound having an amino group described above, known monomers and oligomers, small amounts of polydimethylsiloxane, silicone resins, known various modified polydimethylsiloxanes, and polyether modified polyethers. It is also possible to add a silicone compound such as polydimethylsiloxane or silicone (meth) acrylate. Specific examples of known monomers and oligomers are shown below.

【0066】アルコール類(エタノール、プロパノー
ル、ヘキサノール、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、イソアミルアルコール、ラウリルアルコー
ル、ステアリルアルコール、ブトキシエチルアルコー
ル、エトキシエチレングリコール、メトキシエチレング
リコール、メチキシプロピレングリコールフェノキシエ
タノール、フェノキシジエチレングリコール、テトラヒ
ドロフルフリルアルコールなど)の(メタ)アクリル酸
エステル等。
Alcohols (ethanol, propanol, hexanol, octanol, cyclohexanol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, isoamyl alcohol, lauryl alcohol, stearyl alcohol, butoxyethyl alcohol, ethoxyethylene glycol, methoxyethylene glycol, methoxypropylene) (Meth) acrylic acid ester of glycolphenoxyethanol, phenoxydiethylene glycol, tetrahydrofurfuryl alcohol, etc.

【0067】カルボン酸類(酢酸、プロピオン酸、安息
香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク酸、マレイン
酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸等)と(メタ)アクリ
ル酸グリシジルまたはテトラグリシジル−m−キシリレ
ンジアミンまたはテトラグリシジル−m−テトラヒドロ
キシリレンジアミンとの付加反応物。アミド誘導体(ア
クリルアミド、メタクリルアミド、n−メチロールアク
リルアミド、メチレンビスアクリルアミド等)。エポキ
シ化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応物等を挙げ
ることができる。更に具体的には、特公昭48−417
08号公報、特公昭50−6034号公報、特開昭51
−37193号公報に記載されているウレタンアクリレ
ート、特開昭48−64183号公報、特公昭49−4
3191号公報、特公昭52−30490号公報に記載
されているポリエステルアクリレート、エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸を反応させた多官能エポキシ(メ
タ)アクリレート、米国特許4540649号公報に記
載されているN−メチロールアクリルアミド誘導体など
を挙げることができる。更に日本接着協会誌VOL.20,No.
7,p300〜308 に紹介されている光硬化性モノマー及びオ
リゴマーも用いることができる。なお、エチレン性飽和
モノマ合成の原料として遊離の酸が用いられた場合に
は、その反応混合物が未反応の遊離酸を有する場合があ
るが、その場合にはこれを本発明にしようする酸の一部
または全部として機能せしめることができる。
Carboxylic acids (acetic acid, propionic acid, benzoic acid, acrylic acid, methacrylic acid, succinic acid, maleic acid, phthalic acid, tartaric acid, citric acid, etc.) and glycidyl (meth) acrylate or tetraglycidyl-m-xylylenediene Addition reaction product with amine or tetraglycidyl-m-tetrahydroxylylenediamine. Amide derivatives (acrylamide, methacrylamide, n-methylolacrylamide, methylenebisacrylamide, etc.). An addition reaction product of an epoxy compound and (meth) acrylic acid can be used. More specifically, Japanese Patent Publication No. 48-417
08, JP-B-50-6034, JP-A-51
Urethane acrylate described in JP-A-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-4
No. 3191, Japanese Patent Publication No. 52-30490, polyester acrylate, polyfunctional epoxy (meth) acrylate obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid, and N described in US Pat. No. 4,540,649. -A methylol acrylamide derivative. Furthermore, Japan Adhesion Association magazine VOL.20, No.
Photocurable monomers and oligomers described in 7, pages 300 to 308 can also be used. When a free acid is used as a raw material for the synthesis of ethylenically saturated monomer, the reaction mixture may have unreacted free acid. It can function as part or all.

【0068】又、本発明の感光層には、アミノ基構造を
有しない下記一般式(VI)で示される構造をとる重合
可能な化合物を用いることも可能である。
It is also possible to use a polymerizable compound having a structure represented by the following general formula (VI) having no amino group structure in the photosensitive layer of the present invention.

【0069】[0069]

【化4】 (式中R3は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10
0の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、
アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル
基、カルボキシル基、炭素数2〜100の置換あるいは
非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4
〜100の置換あるいは非置換のアリール基、アリール
オキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。R4
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜100の置換あ
るいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、
アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボ
キシル基、炭素数2〜100の置換あるいは非置換のア
ルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4〜100の
置換あるいは非置換のアリール基、アリールオキシ基の
群から選ばれる少なくとも一種である。L1、及びL2
は連結基である。a及びbは連結基の有無を示し、0ま
たは1であり、同一でも異なっていてもよい。) とりわけ、下記一般式下記一般式(VII)で示される
構造を少なくとも一つ有し、且つアミノ基構造を有しな
い重合可能な化合物を含んでいることが好ましい。
Embedded image (In the formula, R3 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon number of 1-10.
0 substituted or unsubstituted alkyl group, alkoxy group,
Amide group, acyloxy group, alkanoyl group, formyl group, carboxyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 100 carbon atoms, alkenyloxy group, 4 carbon atoms
It is at least one selected from the group consisting of 100100 substituted or unsubstituted aryl groups and aryloxy groups. R4
Is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, an alkoxy group, an amide group,
Acyloxy group, alkanoyl group, formyl group, carboxyl group, C2-C100 substituted or unsubstituted alkenyl group, alkenyloxy group, C4-C100 substituted or unsubstituted aryl group, aryloxy group At least one selected. L1 and L2
Is a linking group. a and b indicate the presence or absence of a linking group, and are 0 or 1, which may be the same or different. In particular, it is preferable to include a polymerizable compound having at least one structure represented by the following general formula (VII) and having no amino group structure.

【0070】[0070]

【化5】 (式中、R3、R4、L2及びbは一般式(VI)と同
じである。L3は連結基であり、エステル結合、アミド
結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合、
エーテル結合、ネオエーテル結合、置換あるいは非置換
のホウ素原子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あ
るいは非置換のリン原子、置換あるいは非置換のケイ素
原子の群から選ばれる少なくとも一種である。L4は連
結基である。cは連結基の有無を示しており、0または
1である。) 一般式(VI)及び一般式(VII)中の連結基は、分
子骨格内にアミノ基が存在しなければ、どのような連結
基でもよい。a、b、cは0または1であることから、
場合によってはこれらの連結基の一部は存在しなくても
よい。L1、L2、L3の具体例としては、置換あるい
は非置換のホウ素、酸素原子、ハロゲン原子、アルカリ
土類金属、置換、非置換のアルミニウム原子、置換ある
いは非置換のケイ素原子、置換あるいは非置換のリン原
子、イオウ原子、遷移金属の群から選ばれる少なくとも
一種、あるいはアルキル基、アルケニル基、アリール基
等が、挙げられ、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。又、これらの基はエステル結合、ウレタン結合、ウ
レア結合、アミド結合、カーボネート結合などの各種結
合を持っていてもよい。例えば、エステル結合を含んだ
アルキル基、エステル結合と芳香環を含んだアルキル
基、エーテル結合と芳香環を含んだアルキル基、アミド
結合と芳香環を含んだアルキル基、ウレタン結合と芳香
環を含んだアルキル基などが挙げられるが、これらに限
定されない。より具体的な例を挙げると、例えばエーテ
ル結合を含んだアルキル基としては、エチレンオキシド
鎖やプロピレンオキシド鎖等が挙げられ、エーテル結合
と芳香環を含んだアルキル基としては、フェニレンオキ
シド鎖等が挙げられる。
Embedded image (In the formula, R3, R4, L2 and b are the same as those in the general formula (VI). L3 is a linking group, and is an ester bond, an amide bond, a urethane bond, a urea bond, a carbonate bond,
It is at least one selected from the group consisting of an ether bond, a neoether bond, a substituted or unsubstituted boron atom, a substituted or unsubstituted carbon atom, a substituted or unsubstituted phosphorus atom, and a substituted or unsubstituted silicon atom. L4 is a linking group. c represents the presence or absence of a linking group, and is 0 or 1. The linking group in the general formulas (VI) and (VII) may be any linking group as long as there is no amino group in the molecular skeleton. Since a, b, and c are 0 or 1,
In some cases, some of these linking groups may not be present. Specific examples of L1, L2 and L3 include substituted or unsubstituted boron, oxygen atom, halogen atom, alkaline earth metal, substituted or unsubstituted aluminum atom, substituted or unsubstituted silicon atom, substituted or unsubstituted At least one selected from the group consisting of a phosphorus atom, a sulfur atom and a transition metal, or an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group and the like can be mentioned, and they may be the same or different. Further, these groups may have various bonds such as ester bond, urethane bond, urea bond, amide bond and carbonate bond. For example, an alkyl group containing an ester bond, an alkyl group containing an ester bond and an aromatic ring, an alkyl group containing an ether bond and an aromatic ring, an alkyl group containing an amide bond and an aromatic ring, and containing an urethane bond and an aromatic ring. But not limited thereto. More specifically, for example, an alkyl group containing an ether bond includes an ethylene oxide chain and a propylene oxide chain, and an alkyl group containing an ether bond and an aromatic ring includes a phenylene oxide chain. It is.

【0071】シリコーン(メタ)アクリレートの具体例
としては、1,3−ビス(3−メタクリロキシプロピ
ル)−1,1,3,3,−テトラメチルジシロキサン、
3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
1−(3−メタクリロキシプロピル)1,1,3,3,
3−ペンタメチルジシロキサン、3−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピ
ルトリス(トリメチルシロキシ)シラン、α,ω−メタ
クリロキシプロピルポリジメチルシロキサン、ポリ(メ
タクリロキシプロピルメチル−co−ジメチル)シロキ
サン等が挙げられる。また下記ジアミンシリコーン化合
物に光重合可能な基を有するグリシジル(メタ)アクリ
レ−トまたは、(メタ)アクリル酸クロライド及び光重
合可能な基をもたないモノグリシジルエ−テル化合物、
酸クロライド等を付加反応させたものも挙げられる。
Specific examples of the silicone (meth) acrylate include 1,3-bis (3-methacryloxypropyl) -1,1,3,3, -tetramethyldisiloxane,
3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane,
1- (3-methacryloxypropyl) 1,1,3,3
3-pentamethyldisiloxane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltris (trimethylsiloxy) silane, α, ω-methacryloxypropylpolydimethylsiloxane, poly (methacryloxypropylmethyl-co-dimethyl) Siloxane and the like. Further, glycidyl (meth) acrylate having a photopolymerizable group in the following diamine silicone compound or (meth) acrylic acid chloride and a monoglycidyl ether compound having no photopolymerizable group,
The thing which added-reacted acid chloride etc. is also mentioned.

【0072】(a)ジアミンシリコーン化合物 α,ω−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロ
キサン、α,ω−ビス(3−アミノプロピル)ポリメチ
ルビニルシロキサン、α,ω−ビス(3−アミノプロピ
ル)ポリジフェニルシロキサン等。
(A) Diamine silicone compound α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane, α, ω-bis (3-aminopropyl) polymethylvinylsiloxane, α, ω-bis (3-aminopropyl) ) Polydiphenylsiloxane and the like.

【0073】1 mol (b)グリシジル(メタ)アクリレ−ト、(メタ)アク
リル酸クロライド等。
1 mol (b) Glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid chloride and the like.

【0074】4−n mol (c)モノグリシジルエ−テル化合物(メチルグリシジ
ルエ−テル、エチルグリシジルエ−テル、n−プロピル
グリシジルエ−テル、イソプロピルグリシジルエ−テ
ル、n−ブチルグリシジルエ−テル、イソブチルグリシ
ジルエ−テル、n−ヘキシルグリシジルエ−テル、2エ
チルヘキシルグリシジルエ−テル、n−デシルグリシジ
ルエ−テル、アリルグリシジルエ−テル、フエニ−ルグ
リシジルエ−テル、グリシド−ル等)、酢酸クロライ
ド、2−エチル酪酸クロライド、カプロン酸クロライ
ド、カプリル酸クロライド、2−エチルヘキサン酸クロ
ライド、カプリン酸クロライド、オレイン酸クロライ
ド、ラウリル酸クロライド、プロピオン酸クロライド、
安息香酸クロライド、コハク酸クロライド、マレイン酸
クロライド、フタル酸クロライド、酒石酸クロライド、
クエン酸クロライド等)n mol (nは0≦n≦4の整数)の付加反応物が有用である。
4-n mol (c) monoglycidyl ether compound (methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, n-propyl glycidyl ether, isopropyl glycidyl ether, n-butyl glycidyl ether , Isobutyl glycidyl ether, n-hexyl glycidyl ether, 2 ethylhexyl glycidyl ether, n-decyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, glycidyl, etc.), acetic acid chloride , 2-ethylbutyric acid chloride, caproic acid chloride, caprylic acid chloride, 2-ethylhexanoic acid chloride, capric acid chloride, oleic acid chloride, lauric acid chloride, propionic acid chloride,
Benzoic acid chloride, succinic acid chloride, maleic acid chloride, phthalic acid chloride, tartaric acid chloride,
An addition reactant of n mol (n is an integer of 0 ≦ n ≦ 4) such as citric acid chloride is useful.

【0075】本発明に用いられる有機シリル基を有する
エチレン性不飽和化合物としては、光重合性層の場合に
は光重合性のエチレン性不飽和化合物を、光架橋性層の
場合には光架橋性のエチレン性不飽和化合物を用いるこ
とが好ましい。本発明にいう有機シリル基は、大別して
加水分解性の活性シリル基と非加水分解性のシリル基の
二つに分類できる。
As the ethylenically unsaturated compound having an organic silyl group used in the present invention, a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound is used in the case of a photopolymerizable layer, and a photocrosslinkable compound is used in the case of a photocrosslinkable layer. It is preferable to use a polar ethylenically unsaturated compound. The organic silyl group referred to in the present invention can be roughly classified into two groups: a hydrolyzable active silyl group and a non-hydrolyzable silyl group.

【0076】加水分解性の活性シリル基としては、加水
分解によりシラノール基などの高反応性基が再生するア
ルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキシムシリ
ル基などのシリル基とトリメチルシロキシ基、トリエチ
ルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基等のように加水
分解によってアルコール性水酸基が再生するものが挙げ
られる。
Examples of the hydrolyzable active silyl group include an alkoxysilyl group which regenerates a highly reactive group such as a silanol group by hydrolysis, an acetoxysilyl group, a silyl group such as an oximesilyl group, and a trimethylsiloxy group or a triethylsiloxy group. , Triphenylsiloxy groups and the like, in which alcoholic hydroxyl groups are regenerated by hydrolysis.

【0077】アルコキシシリル基の具体例としてはトリ
メトキシシリル基、トリエトキシシリル基メチルジメト
キシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ビニルジメ
トキシシリル基、ビニルエトキシシリル基、アリルジメ
トキシシリル基、アリルジエトキシシリル基、3−メタ
クリロキシプロピルジメトキシシリル基、3−メタクリ
ロキシプロピルジエトキシシリル基、ジメチルメトキシ
シリル基、ジメチルエトキシシリル基、ジビニルメトキ
シシリル基、ジビニルエトキシシリル基、ジアニルメト
キシシリル基、ジアニルエトキシシリル基、3−メタク
リロキシプロピルメトキシシリル基、3−メタクリロキ
シプロピルメチルエトキシシリル基等が挙げられる。
Specific examples of the alkoxysilyl group include trimethoxysilyl group, triethoxysilyl group, methyldimethoxysilyl group, methyldiethoxysilyl group, vinyldimethoxysilyl group, vinylethoxysilyl group, allyldimethoxysilyl group and allyldiethoxysilyl group. Group, 3-methacryloxypropyldimethoxysilyl group, 3-methacryloxypropyldiethoxysilyl group, dimethylmethoxysilyl group, dimethylethoxysilyl group, divinylmethoxysilyl group, divinylethoxysilyl group, dianylmethoxysilyl group, dianylethoxy Examples thereof include a silyl group, a 3-methacryloxypropylmethoxysilyl group, and a 3-methacryloxypropylmethylethoxysilyl group.

【0078】又、アセトキシシリル基の具体例として
は、トリアセトキシシリル基、メチルジアセトキシシリ
ル基、エチルジアセトキシシリル基、ジメチルジアセト
キシシリル基、ジエチルアセトキシシリル基等が挙げら
れる。
Specific examples of the acetoxysilyl group include a triacetoxysilyl group, a methyldiacetoxysilyl group, an ethyldiacetoxysilyl group, a dimethyldiacetoxysilyl group and a diethylacetoxysilyl group.

【0079】更にオキシムシリル基の具体例としては、
トリオキシムシリル基、メチルジケトオキシムシリル
基、エチルケトオキシムシリル基等が挙げられる。
Further, specific examples of the oxime silyl group include:
Examples thereof include trioxime silyl group, methyldiketoxime silyl group, ethyl ketoxime silyl group and the like.

【0080】これらの加水分解性の活性シリル基を有す
るエチレン性不飽和化合物としては、上記の活性シリル
基及び光重合性または光架橋性のエチレン性不飽和基と
が同一分子内に存在すれば、その分子構造にはなんら制
限を受けないが、合成や入手の容易さから下記の様な化
合物が一般的である。
As these ethylenically unsaturated compounds having a hydrolyzable active silyl group, the above-mentioned active silyl group and photopolymerizable or photocrosslinkable ethylenically unsaturated group are present in the same molecule. Although its molecular structure is not limited, the following compounds are common because of their ease of synthesis and availability.

【0081】すなわち、光重合性のものとしては、炭素
数30以下の多価アルコール、多価酸や酸無水物あるい
は多価アミンから誘導される(メタ)アクリルアミドな
ど、またエポキシエステルやアリルエステル、(メタ)
アクリルアミド等、またエポキシエステルの付加反応物
等のエチレン性不飽和化合物等で、これらを合成する段
階の途中もしくは最後において、上記に定義された有機
シリル基を有する化合物を反応させて同一分子内に有機
シリル基を取り込む方法が一般的である。
That is, as the photopolymerizable one, polyhydric alcohol having 30 or less carbon atoms, (meth) acrylamide derived from polyhydric acid or acid anhydride or polyhydric amine, epoxy ester or allyl ester, (Meta)
In the middle or at the end of the step of synthesizing an ethylenically unsaturated compound such as an acrylamide or an addition reaction product of an epoxy ester, a compound having an organic silyl group as defined above is reacted into the same molecule. A method of incorporating an organic silyl group is generally used.

【0082】反応に用いる上記の有機シリル基化合物と
しては、クロロシリル化合物、エポキシアルキルシリル
基、アミノアルキルシリル化合物、メルカプトアルキル
シリル化合物、イソシアナートアルキルシリル化合物等
があり、これらのクロロシリル基、エポキシ基、アミノ
基、メルカプト基、イソシアナート基等を利用して反応
させる。
Examples of the above-mentioned organic silyl group compound used in the reaction include a chlorosilyl compound, an epoxyalkylsilyl group, an aminoalkylsilyl compound, a mercaptoalkylsilyl compound and an isocyanate alkylsilyl compound. These chlorosilyl group, epoxy group, The reaction is carried out using an amino group, a mercapto group, an isocyanate group or the like.

【0083】下記に具体例を示すが、これらに限定され
るものではない。
Specific examples are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0084】 (a)3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン (b)2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート 1 mol トリエトキシクロロシラン 1 mol (c)ペンタエリスリトールトリアクリレート 1 mol トリメトキシクロロシラン 1 mol (d)エチレングリコールジグリシジルエーテル/メタクリル酸付加反応物 1 mol 3−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン n mol (nは1≦n≦2の整数) (e)ジエチレントリアミン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 4−n mol 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン n mol (nは1≦n≦3の整数) (f)トリエチレンテトラアミン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 4−n mol 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン n mol (nは1≦n≦4の整数) (g)ジアミノジフェニルメタン 1 mol グリシジル(メタ)クリレート 4−n mol 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン n mol (nは1≦n≦4の整数) (h)m−キシレンジアミン 1 mol グリシジル(メタ)クリレート 4−n mol 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン n mol (nは1≦n≦4の整数) (i)3−アミノプロピルトリメトキシシラン 1 mol グリシジルメタクリレート 2 mol 光架橋性のものも有機シリル基の導入方法は光重合性の
ものに準ずる。具体例としては、ポリビニルアルコー
ル、デンプン、セルロースなどのような水酸基含有ポリ
マのケイ皮酸エステルなどにおいて、水酸基の一部をト
リメトキシクロロシランなどで有機シリル化したものな
どがある。
(A) 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (b) 2-hydroxypropyl (meth) acrylate 1 mol triethoxychlorosilane 1 mol (c) pentaerythritol triacrylate 1 mol trimethoxychlorosilane 1 mol (d) ethylene Glycol diglycidyl ether / methacrylic acid addition reaction product 1 mol 3-isocyanatopropyltriethoxysilane nmol (n is an integer of 1 ≦ n ≦ 2) (e) diethylenetriamine 1 mol glycidyl (meth) acrylate 4-nmol 3- Glycidoxypropyltrimethoxysilane nmol (n is an integer of 1 ≦ n ≦ 3) (f) Triethylenetetraamine 1 mol Glycidyl (meth) acrylate 4-nmol 3-glycidoxypropyltri Methoxysilane nmol (n is an integer of 1 ≦ n ≦ 4) (g) Diaminodiphenylmethane 1 mol Glycidyl (meth) acrylate 4-nmol 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane nmol (n is 1 ≦ n ≦ 4) (H) m-xylylenediamine 1 mol glycidyl (meth) acrylate 4-n mol 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane nmol (n is an integer of 1 ≦ n ≦ 4) (i) 3-aminopropyl Trimethoxysilane 1 mol Glycidyl Methacrylate 2 mol The photocrosslinkable one is also similar to the photopolymerizable one in the method of introducing the organic silyl group. Specific examples include cinnamic acid esters of hydroxyl group-containing polymers such as polyvinyl alcohol, starch, and cellulose, in which some of the hydroxyl groups are organically silylated with trimethoxychlorosilane.

【0085】非加水分解性のシリル基としては非反応性
のシリル基を意味し、アルキルシリル基やアリルシリル
基などが挙げられる。これらの非加水分解性のシリル基
を有するエチレン性不飽和基化合物としては、上記の非
反応性シリル基及び光重合性又は光架橋性のエチレン性
不飽和基とが同一分子内に存在すれば、その分子構造に
はなんら制限を受けないが、合成や入手の容易さから下
記の様な化合物が一般的である。下記に具体例を示す
が、これらに限定されない。
The non-hydrolyzable silyl group means a non-reactive silyl group, and examples thereof include an alkylsilyl group and an allylsilyl group. As these ethylenically unsaturated group compounds having a non-hydrolyzable silyl group, if the above-mentioned non-reactive silyl group and the photopolymerizable or photocrosslinkable ethylenically unsaturated group are present in the same molecule, The molecular structure is not limited at all, but the following compounds are generally used because of their ease of synthesis and availability. Specific examples are shown below, but are not limited thereto.

【0086】 (a)m−キシレンジアミン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 4−n mol アリルグリシジルエーテル n mol (nは1≦n≦4の整数) 以上の付加反応物と トリメトキシシラン n mol (b)2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート 3 mol メチルトリアセトキシシラン 1 mol 特に本発明においては、有機シリル基として加水分解性
の活性シリル基を用いたエチレン性不飽和化合物を用い
ることが好ましい。
(A) m-Xylenediamine 1 mol Glycidyl (meth) acrylate 4-n mol Allyl glycidyl ether n mol (n is an integer of 1 ≦ n ≦ 4) The above addition reaction product and trimethoxysilane n mol (b ) 2-Hydroxypropyl (meth) acrylate 3 mol Methyltriacetoxysilane 1 mol Especially in the present invention, it is preferable to use an ethylenically unsaturated compound using a hydrolyzable active silyl group as the organic silyl group.

【0087】(2)に言う光重合開始剤の具体例を下記
に示す。各種のベンゾフェノン系化合物、置換チオキサ
ントン系化合物、置換アクリドン系化合物、米国特許2
367660号公報に提案されているビシナールポリケ
タルドニル化合物、米国特許2367661号公報およ
び米国特許2367670号公報に提案されているα−
カルボニル化合物、米国特許2448828号公報に提
案されているアシロインエーテル、米国特許27225
12号公報に提案されているα位が炭化水素で置換され
芳香族アシロイン化合物、米国特許3046127号公
報及び米国特許2951758号公報に提案されている
多核キノン化合物、米国特許3549367号公報に提
案されているトリアリールイミダゾールダイマー/p−
アミノフェニルケトンの組合わせ、米国特許38705
24号公報に提案されているベンゾチアゾール系化合
物、米国特許4239850号公報に提案されているベ
ンゾチアゾール/トリハロメチル−s−トリアジン系化
合物、米国特許3751259号公報に提案されている
アクリジン及びフェナジン化合物、米国特許42197
0号公報に提案されているオキサジアゾール化合物、米
国特許3954475号公報、米国特許4189323
号公報、特開昭53−133428号公報、特開昭60
−105667号公報、特開昭62−58241号公
報、特開昭63−153542号公報に提案されている
発色団基を有するトリハロメチル−s−トリアジン系化
合物、特開昭59−197401号公報、特開昭60−
76503号公報に提案されているベンゾフェノン基含
有ペルオキシエステル化合物などを挙げることができ
る。特に本発明において好ましく用いられる光重合開始
剤としては、ミヒラーケトンに代表されるベンゾフェノ
ン系化合物、2,4−ジエチルチオキサントンに代表さ
れる置換チオキサントン系化合物の組合わせがある。
又、更にN−アルキルアクリドンに代表される置換アク
リドン系化合物を組合わせることが感度および画像再現
性特にハイライト再現性向上の観点から好ましい。
Specific examples of the photopolymerization initiator referred to in (2) are shown below. Various benzophenone compounds, substituted thioxanthone compounds, substituted acridone compounds, US Pat.
Bicinal polyketaldonyl compounds proposed in US Pat. No. 3,676,660, α-types proposed in U.S. Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670.
Carbonyl compounds, acyloin ethers proposed in US Pat. No. 2,448,828, US Pat.
Aromatic acyloin compounds in which the α-position is substituted with a hydrocarbon proposed in JP-A-12, polynuclear quinone compounds proposed in US Pat. No. 3,046,127 and US Pat. No. 2,951,758, and proposed in US Pat. No. 3,549,367. Triaryl imidazole dimer / p-
A combination of aminophenyl ketones, US Patent 38705
No. 24, benzothiazole compounds, US Pat. No. 4,239,850, benzothiazole / trihalomethyl-s-triazine compounds, US Pat. No. 3,751,259, acridine and phenazine compounds, US Patent 42197
Oxadiazole compounds proposed in US Pat. No. 0,394,475, US Pat. No. 4,189,323.
JP, JP-A-53-133428, JP-A-60-133
-105667, JP-A-62-58241, and trihalomethyl-s-triazine-based compounds having a chromophore group proposed in JP-A-63-153542, JP-A-59-197401, JP-A-60-
And benzophenone group-containing peroxyester compounds proposed in Japanese Patent No. 76503. In particular, the photopolymerization initiator preferably used in the present invention includes a combination of a benzophenone compound represented by Michler's ketone and a substituted thioxanthone compound represented by 2,4-diethylthioxanthone.
Further, it is preferable to combine a substituted acridone compound represented by N-alkylacridone from the viewpoint of improving sensitivity and image reproducibility, particularly highlight reproducibility.

【0088】又、本発明に用いられる感光層には、染料
や顔料、pH指示薬、ロイコ染料、界面活性剤、重合禁
止剤、光酸発生剤等の各種添加剤を加えることも可能で
ある。
It is also possible to add various additives such as dyes and pigments, pH indicators, leuco dyes, surfactants, polymerization inhibitors and photoacid generators to the photosensitive layer used in the present invention.

【0089】又、経時変化による染料の退色防止や感光
層とシリコーンゴム層の接着性保持剤として有機酸を添
加することも可能である。例えば代表的な酸として遊離
のカルボキシル基を有する飽和または不飽和の脂肪酸又
は芳香族の一価または多価カルボン酸が挙げられる。特
に20℃の水に対する溶解度が1g以下である遊離のカ
ルボキシル基を有する飽和又は不飽和の脂肪酸又は芳香
族の一価又は多価カルボン酸が有効であり、この様な有
機カルボン酸の具体例としては、カプロン酸、カプリル
酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミスチリン酸、パルミチ
ン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレ
イン酸、シクロヘキサンカルボン酸等の脂肪族モノカル
ボン酸、フマル酸等の脂肪族ジカルボン酸、オルトフタ
ルアルデヒド酸、フタルアミド酸、タンニン酸、o−ト
ロイル酸、m−トロイル酸、p−トロイル酸、安息香
酸、p−ヒドロキシ安息香酸、o−ブロモ安息香酸、m
−ブロモ安息香酸、p−ブロモ安息香酸、o−ニトロ安
息香酸、m−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、ア
ントラニル酸、m−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香
酸、o−メトキシ安息香酸、m−メトキシ安息香酸、p
−メトキシ安息香酸サリチル酸等の芳香族モノカルボン
酸、o−フタル酸、m−フタル酸、p−フタル酸等の芳
香族ジカルボン酸等が挙げられる。
It is also possible to add an organic acid as an agent for preventing discoloration of the dye due to a change with time and as an adhesive retainer for the photosensitive layer and the silicone rubber layer. For example, typical acids include saturated or unsaturated fatty acids having free carboxyl groups or aromatic mono- or polycarboxylic acids. Particularly, a saturated or unsaturated fatty acid having a free carboxyl group or an aromatic monovalent or polyvalent carboxylic acid having a solubility in water at 20 ° C. of 1 g or less is effective. As a specific example of such an organic carboxylic acid, Is an aliphatic dicarboxylic acid such as caproic acid, caprylic acid, capric acid, lauric acid, mistyric acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, linoleic acid, linoleic acid, cyclohexanecarboxylic acid, and fumaric acid. Acid, orthophthalaldehyde acid, phthalamic acid, tannic acid, o-troylic acid, m-troylic acid, p-troylic acid, benzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, o-bromobenzoic acid, m
-Bromobenzoic acid, p-bromobenzoic acid, o-nitrobenzoic acid, m-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, anthranilic acid, m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, o-methoxybenzoic acid, m-methoxybenzoic acid, p
-Aromatic monocarboxylic acids such as methoxybenzoic acid salicylic acid and aromatic dicarboxylic acids such as o-phthalic acid, m-phthalic acid and p-phthalic acid.

【0090】これらの酸の中でも有機ジカルボン酸類が
有効であり、特に芳香族ジカルボン酸類が有効である。
本発明における有機カルボン酸は、感光層組成物中の酸
濃度が0.01〜1.0ミリグラム当量/g、特に好ま
しくは0.02〜0.5ミリグラム当量/gになるよう
に単独、もしくは混合して添加することができる。酸濃
度が0.01ミリグラム当量/g以下だと保存安定性に
対する効果が薄く、1.0ミリグラム当量/g以上だと
光重合を阻害してしまう。
Among these acids, organic dicarboxylic acids are effective, and aromatic dicarboxylic acids are particularly effective.
The organic carboxylic acid in the present invention is used alone or in such a manner that the acid concentration in the photosensitive layer composition becomes 0.01 to 1.0 milligram equivalent / g, particularly preferably 0.02 to 0.5 milligram equivalent / g. It can be mixed and added. When the acid concentration is 0.01 mg / g or less, the effect on storage stability is weak, and when the acid concentration is 1.0 mg / g or more, photopolymerization is inhibited.

【0091】又、感光層とシリコーンゴム層との反応を
制御する点から、感光層にジブチル錫ジアセテート、ジ
ブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート等に
代表される公知の有機金属触媒などを微量添加すること
も可能である。重合禁止剤としては、例えばハイドロキ
ノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチルクレゾ
ール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキ
ノン、4,4´−チオビス(3−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)、2,2´−メチレンビス(4−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾ
イミダゾール、フェノチアジン、テンポール等が有用で
ある。又、感光層組成物の塗工性を向上させる目的か
ら、フッ素系界面活性剤を添加することも好ましい。
From the viewpoint of controlling the reaction between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, a small amount of a known organic metal catalyst represented by dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin dioctoate or the like is added to the photosensitive layer. It is also possible. Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butylcresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2, 2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, phenothiazine, tempol and the like are useful. It is also preferable to add a fluorine-based surfactant for the purpose of improving the coating properties of the photosensitive layer composition.

【0092】(3)に言う形態保持用充填剤(ポリマ−
あるいは無機粉末)は有機溶媒可溶で且つフィルム形成
能のあるものであれば、いずれも使用可能であるが、好
ましくはそのガラス転移温度(Tg)が0℃以下のポリ
マー、コポリマーを挙げることができる。代表的な例を
下記に示すがこれらに限定されない。(メタ)アクリル
酸系化合物共重合体、クロトン酸化合物共重合体、マレ
イン酸系化合物共重合体、ロジン変性等の部分エステル
化マレイン酸系化合物共重合体、酸性セルロース誘導
体、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、
アルコール可溶性ナイロン、ポリエステル樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリ塩化ビニル、ポリビ
ニルアルコール、部分アセタール化ポリビニルアルコー
ル、水溶性ナイロン、水溶性ウレタン、ゼラチン、水溶
性セルロース誘導体等を単体もしくは二種類以上混合し
て用いることが可能である。更に側鎖に光重合可能また
は光架橋可能なオレフィン性不飽和二重結合基を有する
高分子化合物も単体もしくは上記のポリマに加えて二種
類以上混合して用いることが可能である。具体的には、
特開昭59−53836号公報に提案されているアリル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマ共重合体、及びそ
のアルカリ金属塩またはアミン塩、特公昭59−459
79号公報に提案されているヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート/(メタ)アクリル酸/アルキル(メタ)
アクリレート共重合体、及びそのアルカリ金属塩または
アミン塩に(メタ)アクリル酸クロライドを反応させた
もの、特開昭59−71048号公報に提案されている
無水マレイン酸共重合体にペンタエリスリトールトリア
クリレートをハーフエステル化で付加させたもの、及び
そのアルカリ金属塩またはアミン塩、スチレン/無水マ
レイン酸共重合体にモノヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレー及びまたはポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート及びまたはポリプロピレングリコール
モノ(メタ)アクリレートをハーフエステル化で付加さ
せたもの、及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、
(メタ)アクリル酸共重合体やクロトン酸共重合体のカ
ルボン酸の一部にグリシジル(メタ)アクリレートを反
応させたもの、及びそのアルカリ金属塩またはアミン
塩、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート共重合
体、ポリビニルホルマール及びまたはポリビニルブチラ
ールに無水マレイン酸や無水イタコン酸を反応させたも
の、及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ヒドロキ
シアルキル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸
共重合体に2,4−トリレンジイソシアネート/ヒドロ
キシアルキル(メタ)アクリレート=1:1付加反応物
をさらに反応させたもの、及びそのアルカリ金属塩また
はアミン塩、特開昭59−53836号公報に提案され
ている(メタ)アクリル酸共重合体の一部をアリルグリ
シジルエーテルで反応させたもの及びそのアルカリ金属
塩又はアミン塩、(メタ)アリルアクリレート/スチレ
ンスルホン酸ナトリウム共重合体、(メタ)アクリル酸
ビニル/スチレンスルフォン酸ナトリウム共重合体、
(メタ)アリルアクリレート/アクリルアミド/1,1
−ジメチルエチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、
(メタ)アクリル酸ビニル/アクリルアミド/1,1−
ジメチルエチレンンスルフォン酸ナトリウム共重合体、
2−アリロキシエチル(メタ)アクリレート/メタクリ
ル酸共重合体、2−アリロキシエチル(メタ)アクリレ
ート/2−メタクリロキシエチル水素サクシネート共重
合体等を挙げることができる。本発明においてはポリウ
レタン樹脂が好ましく用いられる。特にプライマー層に
用いられているポリウレタン樹脂と同じ樹脂を感光層に
用いると、プライマー層と感光層との界面の接着性が良
好になり、感光層とプライマー層間のハガレを防止す
る。従って、このハガレから起因してなるプライマー層
と基板とのハガレも発生しにくくなり、本発明のエポキ
シ樹脂との併用することで、各層間での接着性不良とい
った問題を解決することができる。
The shape-retaining filler (polymer) referred to in (3)
Alternatively, any of inorganic powders) can be used as long as it is soluble in an organic solvent and has a film-forming ability, but preferably includes polymers and copolymers having a glass transition temperature (Tg) of 0 ° C. or lower. it can. Representative examples are shown below, but are not limited thereto. (Meth) acrylic acid compound copolymer, crotonic acid compound copolymer, maleic acid compound copolymer, partially esterified maleic acid compound copolymer such as rosin modification, acidic cellulose derivative, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide ,
Alcohol-soluble nylon, polyester resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, polystyrene resin, epoxy resin, phenoxy resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, partially acetalized polyvinyl alcohol, water-soluble nylon, water-soluble urethane , Gelatin, water-soluble cellulose derivatives and the like can be used alone or as a mixture of two or more. Further, a polymer compound having a photopolymerizable or photocrosslinkable olefinic unsaturated double bond group in its side chain can be used alone or in combination with two or more kinds in addition to the above polymers. In particular,
Allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomer copolymers proposed in JP-A-59-53836, and alkali metal salts or amine salts thereof, Japanese Patent Publication 59-459
Hydroxyethyl (meth) proposed in Japanese Patent No. 79
Acrylate / (meth) acrylic acid / alkyl (meth)
Acrylate copolymer and its alkali metal salt or amine salt reacted with (meth) acrylic acid chloride, maleic anhydride copolymer proposed in JP-A-59-71048 and pentaerythritol triacrylate. Added by half-esterification, its alkali metal salt or amine salt, styrene / maleic anhydride copolymer to monohydroxyalkyl (meth) acrylate and / or polyethylene glycol mono (meth) acrylate and / or polypropylene glycol mono ( (Meth) acrylate added by half-esterification, and its alkali metal salt or amine salt,
(Meth) acrylic acid copolymer or crotonic acid copolymer partially reacted with glycidyl (meth) acrylate, its alkali metal salt or amine salt, hydroxyalkyl (meth) acrylate copolymer , Polyvinyl formal and / or polyvinyl butyral with maleic anhydride or itaconic anhydride, its alkali metal salt or amine salt, hydroxyalkyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, 2,4- Tolylene diisocyanate / hydroxyalkyl (meth) acrylate = 1: 1 addition reaction product further reacted, and its alkali metal salt or amine salt, (meth) acryl proposed in JP-A-59-53836. Part of acid copolymer reacted with allyl glycidyl ether Allowed ones and their alkali metal salts or amine salts, (meth) allyl acrylate / styrene sulfonate sodium copolymers, (meth) vinyl acrylate / styrene sulfonate sodium copolymers,
(Meth) allyl acrylate / acrylamide / 1,1
-Sodium dimethylethylene sulfonate copolymer,
(Meth) vinyl acrylate / acrylamide / 1,1-
Sodium dimethylethylene sulfonate copolymer,
Examples thereof include 2-allyloxyethyl (meth) acrylate / methacrylic acid copolymer, 2-allyloxyethyl (meth) acrylate / 2-methacryloxyethyl hydrogen succinate copolymer, and the like. In the present invention, a polyurethane resin is preferably used. In particular, when the same resin as the polyurethane resin used for the primer layer is used for the photosensitive layer, the adhesiveness at the interface between the primer layer and the photosensitive layer is improved, and peeling between the photosensitive layer and the primer layer is prevented. Therefore, the peeling between the primer layer and the substrate due to the peeling hardly occurs, and by using the epoxy resin of the present invention together, it is possible to solve the problem of poor adhesion between the layers.

【0093】次に、光架橋性感光層について説明する。
光架橋性感光層に用いられる物質としては以下に示すよ
うな化合物を挙げることができる。
Next, the photocrosslinkable photosensitive layer will be described.
Examples of the substance used for the photocrosslinkable photosensitive layer include the following compounds.

【0094】光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮
酸ビニルなどを含む感光層や重合体の主鎖や側鎖に、下
記の構造を含むポリエステル類、ポリカ−ボネ−ト類、
ポリアミド類、ポリ(メタ)アクリル酸エステル類、ポ
リビニルアルコ−ル誘導体、エポキシ樹脂誘導体、ジア
ゾ化合物、アジド化合物等。
Polyesters and polycarbonates having the following structure in the main chain or side chain of a photosensitive layer or polymer containing a photodimerization type photosensitive resin, such as polyvinyl cinnamate,
Polyamides, poly (meth) acrylates, polyvinyl alcohol derivatives, epoxy resin derivatives, diazo compounds, azide compounds and the like.

【0095】例えば、P-フェニレンジアクリル酸と1,4-
ジヒドロキシエチルオキシシクロヘキサンの1:1重縮
合不飽和ポリエステルやシンナミリデンマロン酸と2官
能性グリコ−ル類とから誘導される感光性ポリエステ
ル、ポリビニルアルコ−ル、デンプン、セルロ−スなど
のような水酸基含有ポリマのケイ皮酸エステル等。
For example, P-phenylenediacrylic acid and 1,4-
Such as 1: 1 polycondensation unsaturated polyester of dihydroxyethyloxycyclohexane, photosensitive polyester derived from cinnamylidenemalonic acid and bifunctional glycols, polyvinyl alcohol, starch, cellulose and the like. Cinnamate esters of hydroxyl-containing polymers.

【0096】光架橋性感光層も、前述の光硬化性感光層
と同様、光架橋性化合物の他に、分子内に1個以上の有
機シリル基を有する化合物、光増感剤、必要に応じて添
加される熱重合禁止剤、形態保持用充填剤等から主とし
て構成される。
The photocrosslinkable photosensitive layer is also the same as the above-mentioned photocurable photosensitive layer, in addition to the photocrosslinkable compound, a compound having one or more organic silyl groups in the molecule, a photosensitizer, and if necessary. It is mainly composed of a thermal polymerization inhibitor and a shape-retaining filler added.

【0097】光架橋性層に用いられる分子内に少なくと
も一個以上の有機シリル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、光架橋性のエチレン性不飽和化合物が好
ましい。
The ethylenically unsaturated compound having at least one organic silyl group in the molecule used for the photocrosslinkable layer is preferably a photocrosslinkable ethylenically unsaturated compound.

【0098】それら有機シリル基の導入方法も光重合性
のものに準ずる。具体例としてはポリビニルアルコ−
ル、デンプン、セルロ−スなどのような水酸基含有ポリ
マのケイ皮酸エステルなどにおいて、水酸基の一部をト
リメトキシクロロシランなどで有機シリル化したもの等
がある。
The method of introducing these organic silyl groups is also based on the photopolymerizable method. As a specific example, polyvinyl alcohol
Examples of cinnamic acid esters of hydroxyl group-containing polymers such as starch, starch, cellulose and the like, in which some of the hydroxyl groups are organically silylated with trimethoxychlorosilane and the like.

【0099】上記の諸成分に加え、必要に応じて染料、
顔料、光発色剤、触媒、光吸収剤等の添加剤を加えるこ
とも光硬化性感光層の場合と同様任意である。
In addition to the above components, if necessary, a dye,
Addition of additives such as a pigment, a photochromic agent, a catalyst, and a light absorber is optional as in the case of the photocurable photosensitive layer.

【0100】次に、ジアゾ化合物について詳しく説明す
る。本発明に用いられるジアゾ化合物としては、p−ジ
アゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物で
代表される水不溶で有機溶媒可溶性のジアゾ樹脂などが
挙げられる。具体的には特公昭47-1167および特公昭57-
43890に記載されているようなものがある。一般的には
下記一般式(VIII)で示されるジアゾ樹脂が好まし
く用いられる。
Next, the diazo compound will be described in detail. Examples of the diazo compound used in the present invention include a water-insoluble organic solvent-soluble diazo resin represented by a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde. Specifically, Japanese Patent Publications 47-1167 and 57-
There is something like that described in 43890. Generally, a diazo resin represented by the following general formula (VIII) is preferably used.

【0101】[0101]

【化6】 (式中、R6、R7、およびR8は水素原子、アルキル
基、アルコキシ基を意味し、R9は水素原子、アルキル
基またはフェニル基を意味する。また、XはPF6、B
F4を意味する。Yは−NH−、−S−、−O−を意味
する。) 本発明に用いられるジアゾ樹脂におけるジアゾモノマー
としては、例えば4−ジアゾ−ジフェニルアミン、1−
ジアゾ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジ
アゾ−4−N,N−ジエチルアミノベンゼン、1−ジア
ゾ−4−N−エチル−N−ヒドロキシエチルアミノベン
ゼン、1−ジアゾ−4−N−メチル−N−ヒドロキシエ
チルアミノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエトキシ
−4−ベンゾイルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N
−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N,N−
ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−モルフォリ
ノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−p
−トリルメルカプトベンゼン、1−ジアゾ−2−エトキ
シ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼン、p−ジアゾ
−ジメチルアニリン、1−ジアゾ−2,5−ジブトキシ
−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジ
エトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−
2,5−ジメトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−
ジアゾ−2,5−ジエトキシ−4−p−トリルメルカプ
トベンゼン、1−ジアゾ−4−N−エチル−N−ヒドロ
キシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−エトキシ
−4−N−メチル−N−ベンジルアミノベンゼン、1−
ジアゾ−3−クロロ−4−ジエチルアミノベンゼン、1
−ジアゾ−3−メチル−4−ピロリジノベンゼン、1−
ジアゾ−2−クロロ−4−N,N−ジメチルアミノ−5
−メトキシベンゼン、1−ジアゾ−3−メトキシ−4−
ピロリジノベンゼン、3−メトキシ−4−ジアゾジフェ
ニルアミン、3−エトキシ−4−ジアゾジフェニルアミ
ン、3−(n−プロポキシ)−4−ジアゾジフェニルア
ミン、3−(イソプロポキシ)−4−ジアゾジフェニル
アミン等が挙げられる。
[Chemical 6] (In the formula, R6, R7, and R8 represent a hydrogen atom, an alkyl group, and an alkoxy group, and R9 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a phenyl group. X represents PF6, B.
It means F4. Y means -NH-, -S-, -O-. ) Examples of the diazo monomer in the diazo resin used in the present invention include 4-diazo-diphenylamine, 1-
Diazo-4-N, N-dimethylaminobenzene, 1-diazo-4-N, N-diethylaminobenzene, 1-diazo-4-N-ethyl-N-hydroxyethylaminobenzene, 1-diazo-4-N- Methyl-N-hydroxyethylaminobenzene, 1-diazo-2,5-diethoxy-4-benzoylaminobenzene, 1-diazo-4-N
-Benzylaminobenzene, 1-diazo-4-N, N-
Dimethylaminobenzene, 1-diazo-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2,5-dimethoxy-4-p
-Tolylmercaptobenzene, 1-diazo-2-ethoxy-4-N, N-dimethylaminobenzene, p-diazo-dimethylaniline, 1-diazo-2,5-dibutoxy-4-morpholinobenzene, 1-diazo- 2,5-diethoxy-4-morpholinobenzene, 1-diazo-
2,5-dimethoxy-4-morpholinobenzene, 1-
Diazo-2,5-diethoxy-4-p-tolylmercaptobenzene, 1-diazo-4-N-ethyl-N-hydroxyethylaminobenzene, 1-diazo-3-ethoxy-4-N-methyl-N-benzyl Aminobenzene, 1-
Diazo-3-chloro-4-diethylaminobenzene, 1
-Diazo-3-methyl-4-pyrrolidinobenzene, 1-
Diazo-2-chloro-4-N, N-dimethylamino-5
-Methoxybenzene, 1-diazo-3-methoxy-4-
Pyrrolidinobenzene, 3-methoxy-4-diazodiphenylamine, 3-ethoxy-4-diazodiphenylamine, 3- (n-propoxy) -4-diazodiphenylamine, 3- (isopropoxy) -4-diazodiphenylamine and the like can be mentioned. .

【0102】又、これらのジアゾモノマーとの縮合剤と
して用いられるアルデヒドとしては、例えば、ホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、
ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ベンズアル
デヒド等が挙げられる。
Examples of the aldehyde used as a condensing agent with these diazo monomers include formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde,
Butyraldehyde, isobutyraldehyde, benzaldehyde and the like can be mentioned.

【0103】更に陰イオンとしては、塩素イオンやトリ
クロロ亜鉛酸などを用いることにより水溶性のジアゾ樹
脂を得ることができ、また四フッ化ホウ素、六フッ化燐
酸、トリイソプロピルナフタレンスルフォン酸、4,
4’−ビフェニルスルフォン酸、2、5−ジメチルベン
ゼンスルフォン酸、2−ニトロベンゼンスルフォン酸、
2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベン
ゼンスルフォン酸等を用いることにより、有機溶剤可溶
性のジアゾ樹脂を得ることができる。
Further, as the anion, a water-soluble diazo resin can be obtained by using chlorine ion or trichlorozinc acid, and boron tetrafluoride, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalene sulfonic acid, 4,
4'-biphenyl sulfonic acid, 2,5-dimethylbenzene sulfonic acid, 2-nitrobenzene sulfonic acid,
By using 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid or the like, an organic solvent-soluble diazo resin can be obtained.

【0104】又、これらのジアゾ樹脂は下記に説明する
ような水酸基を有する高分子化合物とともに混合して使
用することが好ましい。すなわち、水酸基を有する高分
子化合物としては、アルコール性水酸基を有するモノマ
ー、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2、
3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、トリエチレン
グリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレン
グリコールモノ(メタ)アクリレート、1、3−プロパ
ンジオールモノ(メタ)アクリレート、1、4−ブタン
ジオールモノ(メタ)アクリレート、ジ(2−ヒドロキ
シエチル)マレエートなどの中から選ばれる少なくとも
1種類以上のモノマーと他の水酸基を有さないモノマー
との間での共重合体や、フェノール性水酸基を有するモ
ノマー、例えば N−(4−ヒドロキシフェニル)(メ
タ)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)
マレイミド、o−、m−、p−ヒドロキシスチレン、o
−、m−、p−ヒドロキフェニル(メタ)アクリレー
ト、等との共重合体、又、p−ヒドロキシ安息香酸とグ
リシジル(メタ)アクリレートとの開環反応生成物、サ
リチル酸と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
との反応生成物などの水酸基含有モノマー等との共重合
体が挙げられる。また、ポリビニルアルコール、セルロ
ース、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、グリセリン、ペンタエリスリトール等やこれらの
エポキシ付加反応物、その他の水酸基含有天然高分子化
合物等も用いることができる。
Further, these diazo resins are preferably used as a mixture with a polymer compound having a hydroxyl group as described below. That is, as the polymer compound having a hydroxyl group, a monomer having an alcoholic hydroxyl group, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2,
3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, 1,3-propanediol mono (meth) acrylate, 1, Copolymer between at least one kind of monomer selected from 4-butanediol mono (meth) acrylate, di (2-hydroxyethyl) maleate, etc. and another monomer having no hydroxyl group, and phenol. Monomers having a hydroxyl group, for example N- (4-hydroxyphenyl) (meth) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl)
Maleimide, o-, m-, p-hydroxystyrene, o
-, M-, p-hydroxyphenyl (meth) acrylate, etc., copolymers, ring-opening reaction products of p-hydroxybenzoic acid and glycidyl (meth) acrylate, salicylic acid and 2-hydroxyethyl (meth). ) A copolymer with a hydroxyl group-containing monomer or the like such as a reaction product with an acrylate. Further, polyvinyl alcohol, cellulose, polyethylene glycol, polypropylene glycol, glycerin, pentaerythritol and the like, epoxy addition reaction products thereof, and other hydroxyl group-containing natural polymer compounds can also be used.

【0105】又、これらのジアゾ化合物は上記に説明し
た有機シリル基を有していても、有していなくてもよい
が、有機シリル基とジアゾ基とが同一分子内にそれぞれ
少なくとも1個以上存在することが好ましい。これらの
ジアゾ化合物は単独又は2種類以上を混合して使用する
こともできる。有機シリル基とジアゾ基が同一分子内に
存在する場合、、有機シリル基含有率が0.01〜50
モル%の範囲にあることが好ましい。
These diazo compounds may or may not have the above-mentioned organic silyl group, but at least one organic silyl group and at least one diazo group are contained in the same molecule. Preferably present. These diazo compounds may be used alone or in admixture of two or more. When the organic silyl group and the diazo group are present in the same molecule, the organic silyl group content is 0.01 to 50.
It is preferably in the range of mol%.

【0106】有機シリル基を有する化合物とジアゾ化合
物とを混合して使用する場合、有機シリル基を有する化
合物とジアゾ化合物やその他の成分との混合比率は、用
いる高分子化合物やジアゾ化合物等の種類によって異な
るが、一般的には有機シリル基を有する化合物が感光層
全体に対して90〜0.1重量%の範囲にあることが好
ましく、更には50〜1重量%の範囲にあることが好ま
しい。
When the compound having an organic silyl group and the diazo compound are mixed and used, the mixing ratio of the compound having an organic silyl group to the diazo compound and other components is determined by the kind of the polymer compound or diazo compound to be used. Generally, the compound having an organic silyl group is preferably in the range of 90 to 0.1% by weight, and more preferably in the range of 50 to 1% by weight. .

【0107】次にネガ型について詳細に説明する。ネガ
ティブワーキング用の感光層としては、光溶解性感光層
あるいは光剥離性感光層としてキノンジアジド化合物が
好ましく用いられる。光溶解性感光層とは露光・現像に
より光が照射された部分の感光層が溶解し、プライマ層
が露出するタイプの感光層であり又、光剥離性感光層と
は、現像により、露光部感光層が実質的に除去されるこ
となく、その上のシリコ−ンゴム層が除去されるものを
いう。公知のキノンジアジド化合物を多官能化合物で架
橋せしめるか、あるいはキノンジアジド化合物中の活性
基を単官能化合物と結合させるなどして変性し、現像液
に難溶もしくは不溶とすること等により得られるもので
ある。本発明においては、感光液の塗布の問題やインキ
マイレージの問題等から光剥離性感光層が好ましく用い
られる。
Next, the negative type will be described in detail. As the photosensitive layer for negative working, a quinonediazide compound is preferably used as a photo-soluble photosensitive layer or a photo-peelable photosensitive layer. The photo-soluble photosensitive layer is a type of photosensitive layer in which the exposed portion of the photosensitive layer is dissolved by exposure and development, and the primer layer is exposed. This means that the silicone rubber layer thereon is removed without substantially removing the photosensitive layer. It is obtained by cross-linking a known quinonediazide compound with a polyfunctional compound or by modifying the active group in the quinonediazide compound with a monofunctional compound so as to make it insoluble or insoluble in a developing solution. . In the present invention, a photo-peelable photosensitive layer is preferably used from the viewpoint of problems such as application of a photosensitive solution and ink mileage.

【0108】ここでいうキノンジアジド化合物として
は、ポジ型PS版、ワイポン版、フォトレジストなどに
用いられているキノンジアジド類等を言う。具体的には
例えば、1,2−ベンゾキノンジアジドー4ースルホン
酸クロライド、1,2−ナフトキノンジアジドー4ース
ルホン酸クロライド、1,2−ナフトキノンジアジドー
5ースルホン酸クロライド、1,2−ナフトキノンジア
ジドー6ースルホン酸クロライドと水酸基及び/又はア
ミノ基含有化合物の縮合物が好適に用いられる。
Examples of the quinonediazide compound used herein include quinonediazide compounds used in positive PS plates, Wipon plates, photoresists and the like. Specifically, for example, 1,2-benzoquinone diazide 4-sulfonic acid chloride, 1,2-naphthoquinone diazide 4-sulfonic acid chloride, 1,2-naphthoquinone diazide 5-sulfonic acid chloride, 1,2-naphthoquinone diazide 6 A condensate of sulfonic acid chloride and a compound containing a hydroxyl group and / or an amino group is preferably used.

【0109】水酸基含有化合物としては、例えばジヒド
ロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノ
ン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ジヒドロキシア
ントラキノン、ビスフェノールA、フェノールホルムア
ルデヒドノボラック樹脂(フェノ−ル、p−タ−シャリ
−ブチルフェノ−ル、p−オクチルフェノ−ル、p−ノ
ニルフェノ−ル、カルダノ−ル、クレゾ−ル、キシレノ
−ル、カテコ−ルおよびピロガロ−ルなどのフェノ−ル
類とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存在化に縮合させ
て得られる可溶可融性樹脂)、レゾ−ル樹脂(例えば、
上記フェノ−ル類とホルムアルデヒド類とをアルカリ触
媒存在化に縮合させて得られる樹脂)、レゾルシンベン
ズアルデヒド縮合樹脂、ピロガロールアセトン樹脂、p
−ヒドロキシスチレン共重合体樹脂、ポリー4ービニル
フェノール、ポリー4ーオキシメタクリルアニリド、ポ
リビニルアルコール、セルロース及びその誘導体、キチ
ン、キトサン、水酸基を有するポリウレタン等がある。
Examples of the hydroxyl group-containing compound include dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, dihydroxyanthraquinone, bisphenol A, phenol formaldehyde novolac resin (phenol, p-tert-butylphenol, p-octylphenone). -, P-nonylphenol, cardanol, cresol, xylenol, catechol and pyrogallol, and phenols and formaldehydes are condensed in the presence of an acidic catalyst. Soluble fusible resin), Resole resin (for example,
Resin obtained by condensing the above-mentioned phenols and formaldehyde in the presence of an alkali catalyst), resorcinbenzaldehyde condensation resin, pyrogallolacetone resin, p
-Hydroxystyrene copolymer resin, poly-4-vinylphenol, poly-4-oxymethacrylanilide, polyvinyl alcohol, cellulose and its derivatives, chitin, chitosan, polyurethane having a hydroxyl group and the like.

【0110】又、アミノ基含有化合物としては、例えば
アニリン、p−アミノジフェニルアミン、p−アミノベ
ンゾフェノン、4,4’−ジアミノジフェニルアミン、
4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ポリー4ーアミノ
スチレン等がある。
Examples of the amino group-containing compound include aniline, p-aminodiphenylamine, p-aminobenzophenone, 4,4'-diaminodiphenylamine,
4,4'-diaminobenzophenone, poly-4-aminostyrene and the like.

【0111】更に、特願平6ー183757、特願平6
ー183758、特願平6−143276、特願平6ー
143277に記載された化合物等もキノンジアジド化
合物として使用できる。
Further, Japanese Patent Application Nos. 6-183757 and 6
The compounds described in Japanese Patent Application No. 183758, Japanese Patent Application No. 6-143276, Japanese Patent Application No. 6-143277 can also be used as the quinonediazide compound.

【0112】ここに記載したことを含めてキノンジアジ
ド化合物に関しては永松、乾共著「感光性高分子」(講
談社、1977年発刊)、角田著「新・感光性樹脂」
(印刷学会出版部、1981年発刊)、山田、森田共
著、高分子学会編「感光性樹脂」(共立出版、1988
年発刊)および津田著、日本表面科学会編「超LSIレ
ジストの分子設計」(共立出版、1990年発刊)に記
載されたところに従うことができる。
Regarding the quinonediazide compounds including those described here, Nagamatsu and Inui jointly published “Photosensitive Polymer” (Kodansha, published in 1977) and Tsunoda “New photosensitive resin”.
(Published by Printing Society of Japan, published in 1981), jointly written by Yamada and Morita, "Photosensitive Resin" edited by The Polymer Society of Japan (Kyoritsu Shuppan, 1988).
And published by Tsuda, edited by the Surface Science Society of Japan, "Molecular Design of Ultra LSI Resist" (Kyoritsu Shuppan, 1990).

【0113】これらのキノンジアジド化合物の中では、
1,2−ナフトキノンー2ージアジドー5ースルホン酸
クロライドとフェノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹
脂の組み合わせが好ましく、更に好ましいのはフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂の水酸基の5%〜65%がエス
テル化されたフェノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹
脂の1,2−ナフトキノンー2ージアジドー5ースルホ
ン酸エステルである。
Among these quinonediazide compounds,
A combination of 1,2-naphthoquinone-2-diazido-5-sulfonic acid chloride and a phenol formaldehyde novolac resin is preferable, and more preferable is a phenol formaldehyde novolak resin in which 5% to 65% of the hydroxyl groups of the phenol formaldehyde resin are esterified. 1,2-naphthoquinone-2-diazide 5-sulfonic acid ester.

【0114】架橋構造を導入せしめるために用いられる
多官能化合物としては、プライマ層の項で述べた多官能
性イソシアネ−ト類あるいは以下に示す多官能エポキシ
化合物等を挙げることができる。
Examples of the polyfunctional compound used for introducing the crosslinked structure include the polyfunctional isocyanates described in the section of the primer layer and the polyfunctional epoxy compounds shown below.

【0115】多官能エポキシ化合物としては、ポリエチ
レングリコ−ルジグリシジルエ−テル類、ポリプロピレ
ングリコ−ルジグリシジルエ−テル類、ビスフェノ−ル
Aジグリシジルエ−テル、トリメチロ−ルプロパントリ
グリシジルエ−テルなどが挙げられる。これらの中で好
ましいものは、多官能イソシアネ−ト化合物である。
Examples of polyfunctional epoxy compounds include polyethylene glycol diglycidyl ethers, polypropylene glycol diglycidyl ethers, bisphenol A diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and the like. To be Preferred among these are polyfunctional isocyanate compounds.

【0116】又、これら多官能化合物の使用量は、感光
性化合物100重量部に対して1〜150重量部が好ま
しく、より好ましくは5〜100重量部、さらに好まし
くは10〜80重量部である。
The amount of these polyfunctional compounds used is preferably 1 to 150 parts by weight, more preferably 5 to 100 parts by weight, and even more preferably 10 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photosensitive compound. ..

【0117】これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失
わせない範囲、通常150℃以下で行う必要があり、こ
のために触媒を併用することが好ましい。
It is necessary to carry out the thermal curing at a temperature which does not lose the photosensitivity of the photosensitive material, usually at 150 ° C. or lower. For this reason, it is preferable to use a catalyst in combination.

【0118】又、キノンジアジド化合物に単官能化合物
を反応させて変性して現像液に難溶もしくは不溶にする
方法としては、同様に該感光性化合物の活性な基を例え
ばエステル化、アミド化、ウレタン化すること等が挙げ
られる。感光性化合物の活性な基と反応させる化合物と
しては、低分子であっても比較的高分子であってもよい
し、感光性化合物にモノマをグラフト重合させてもよ
い。
As a method of modifying a quinonediazide compound with a monofunctional compound to make it slightly soluble or insoluble in a developing solution, similarly, the active group of the photosensitive compound may be esterified, amidated or urethane. It can be mentioned that The compound that reacts with the active group of the photosensitive compound may be a low molecular weight compound or a relatively high molecular weight compound, or a monomer may be graft-polymerized to the photosensitive compound.

【0119】光可溶化型感光層のバインダポリマもプラ
イマ層および光硬化型感光層で述べた種々のポリマ、コ
ポリマを使用することができる。
As the binder polymer of the photosolubilizing type photosensitive layer, various polymers and copolymers described for the primer layer and the photocurable type photosensitive layer can be used.

【0120】バインダポリマと成りうるポリマは単独で
用いても良いし、また数種のポリマを混合して用いても
良い。
The polymers which can be used as the binder polymer may be used alone or in combination of several kinds.

【0121】バインダポリマの中ではポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、ビニル系ポリマ樹脂、未加硫ゴ
ムが好ましい。バインダポリマの好ましい使用量は、感
光層成分に対して0.5〜80wt%であり、更に好まし
い使用量は10〜65wt%、最も好ましいのは15〜5
5wt%である。バインダポリマが0.5wt%未満である
場合には、満足な感光層物性を発現させることが困難で
あり、一方、80wt%より多い場合は結果的にキノンジ
アジド化合物の減量を意味するため、画像再現性、現像
性、SK接着力などに問題を生じさせる。
Among the binder polymers, polyurethane resin, polyester resin, vinyl polymer resin and unvulcanized rubber are preferable. The binder polymer is preferably used in an amount of 0.5 to 80% by weight, more preferably 10 to 65% by weight, most preferably 15 to 5% by weight based on the components of the photosensitive layer.
5 wt%. When the binder polymer content is less than 0.5 wt%, it is difficult to develop satisfactory physical properties of the photosensitive layer. On the other hand, when the binder polymer content is more than 80 wt%, the amount of the quinonediazide compound is decreased, resulting in image reproduction. Causes problems with respect to developability, developability, SK adhesion, and the like.

【0122】又、感光層成分に対し0.5〜80wt%の
バインダポリマと、キノンジアジド化合物としてエステ
ル化率5〜65%のフェノ−ルホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂の1,2−ナフトキノンー2ージアジドー5ー
スルホン酸エステルの組み合わせは、特に好ましい組成
となる。フェノールホルムアルデヒド樹脂の水酸基のキ
ノンジアジドスルホン酸エステル化率が5%未満である
場合は、感光性基の数が少ないため画像再現性、現像性
の低下という問題が生じる。一方、エステル化率が65
%より高い場合は残存水酸基、すなわち架橋点の減少を
意味するため、感光層の耐溶剤性、SK接着力に問題を
引き起こす。
Further, a binder polymer of 0.5 to 80 wt% with respect to the components of the photosensitive layer, and a 1,2-naphthoquinone-2-diazide 5-sulfonic acid ester of a phenol formaldehyde novolac resin having an esterification rate of 5 to 65% as a quinonediazide compound. The combination of is a particularly preferable composition. When the quinonediazide sulfonic acid esterification rate of the hydroxyl groups of the phenol formaldehyde resin is less than 5%, the number of photosensitive groups is small, which causes a problem that image reproducibility and developability are deteriorated. On the other hand, the esterification rate is 65
When it is higher than%, it means that the residual hydroxyl group, that is, the number of cross-linking points is reduced, and thus causes a problem in solvent resistance and SK adhesive strength of the photosensitive layer.

【0123】上記の諸成分に加え、必要に応じて酸、染
料、顔料、光発色剤、触媒、光吸収剤などの添加剤を加
えることは任意である。
In addition to the above components, it is optional to add additives such as acids, dyes, pigments, photocolor formers, catalysts and light absorbers as required.

【0124】以上述べたような種々の感光層の厚さは
0.1〜100μm、好ましくは0.5〜10μmが適
当でる。薄すぎると塗工時にピンホ−ル等の欠陥が生じ
易くなり、一方、厚すぎると経済的見地から不利であ
る。
The thickness of the various photosensitive layers described above is 0.1 to 100 μm, preferably 0.5 to 10 μm. If the thickness is too thin, defects such as pinholes are likely to occur during coating, while if it is too thick, it is disadvantageous from an economic viewpoint.

【0125】本発明に用いられるシリコーンゴム層とし
ては次の(1)縮合架橋型、(2)付加架橋型のような
構成のものが挙げられるが、これらに限定されない。
Examples of the silicone rubber layer used in the present invention include, but are not limited to, those having the following (1) condensation crosslinking type and (2) addition crosslinking type.

【0126】(2)縮合架橋型シリコーンゴム層は線状
ポリオルガノシロキサンを縮合することから得られるシ
リコーンゴム層であり、本発明で言うポリオルガノシロ
キサンとは、下記の一般式(IX)で示される線状ポリ
オルガノシロキサンを意味する。又、本発明に言うシリ
コ−ンガム組成物とは、該ポリオルガノシロキサンを適
当な溶媒に溶かして溶液としたのち、架橋剤や触媒など
とともに混合した未硬化(未ゴム化)の溶液組成物を意
味し、一方、シリコ−ンゴムとは該シリコ−ンガム組成
物を適当な硬化条件の下で架橋反応させ、ゴム化した硬
化生成物を意味する。
(2) The condensation-crosslinking type silicone rubber layer is a silicone rubber layer obtained by condensing a linear polyorganosiloxane, and the polyorganosiloxane referred to in the present invention is represented by the following general formula (IX). Means linear polyorganosiloxane. The silicone gum composition according to the present invention refers to an uncured (non-rubberized) solution composition obtained by dissolving the polyorganosiloxane in an appropriate solvent to form a solution and then mixing the solution with a crosslinking agent, a catalyst, and the like. On the other hand, the term "silicone rubber" means a cured product obtained by subjecting the silicone gum composition to a cross-linking reaction under appropriate curing conditions and rubberized.

【0127】[0127]

【化7】 (ここでnは1以上の整数、R10、R11は炭素数1
〜10のアルキル基、アルコキシ基、アミノアルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数2
〜10のカルボキシアルキル基、シアノアルキル基また
は炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、
アリロキシ基、アラルキル基、または水素原子、水酸基
の内から選ばれる基であり、同一であっても異なっても
よい。また、鎖末端もしくは側鎖のかたちで分子鎖中に
少なくとも一つ以上の水酸基を有する。) 縮合反応架橋性シリコ−ンガム組成物としては、上記の
一般式(IX)で示される線状ポリオルガノシロキサン
の有機溶剤溶液に、架橋剤及び必要に応じて触媒が添加
された、いわゆる室温(低温)湿気硬化型の形態をと
る。該シリコーンガム組成物を構成する上で用いられる
縮合反応架橋剤としては、下記の一般式(X)で示され
るような、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン等が好ま
しく用いられ、通常、分子鎖中に少なくとも一つ以上の
水酸基を有する線状ポリオルガノシロキサンと反応し
て、それぞれ脱酢酸、脱オキシム、脱アルコール、脱ア
ミン、脱アミドなどの形式で縮合反応で架橋する架橋剤
が、単一または混合された形、もしくは縮合体の形で用
いられる。特に本発明においては、アセトキシシラン、
ケトオキシムシラン、アルコキシシラン等が好ましく用
いられる。
Embedded image (Here, n is an integer of 1 or more, R10 and R11 are carbon atoms 1
-10 alkyl group, alkoxy group, aminoalkyl group, haloalkyl group, hydroxyalkyl group, carbon number 2
A carboxyalkyl group having 10 to 10, a cyanoalkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms,
An aryloxy group, an aralkyl group, or a group selected from a hydrogen atom and a hydroxyl group, which may be the same or different. Further, it has at least one or more hydroxyl group in the molecular chain at the chain end or in the form of a side chain. As the condensation reaction crosslinkable silicone gum composition, a so-called room temperature (wherein a crosslinker and, if necessary, a catalyst are added to an organic solvent solution of the linear polyorganosiloxane represented by the above general formula (IX)). Low temperature) Moisture-curing type. As the condensation reaction cross-linking agent used for constituting the silicone gum composition, acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxy silane, amino silane, amido silane and the like as shown by the following general formula (X) are preferably used. Generally, a cross-link which is reacted with a linear polyorganosiloxane having at least one hydroxyl group in the molecular chain and cross-linked by a condensation reaction in the form of deacetic acid, deoxime, dealcohol, deamine, deamide, etc., respectively. The agents are used in single or mixed form or in the form of condensates. Particularly in the present invention, acetoxysilane,
Ketoxime silane, alkoxysilane and the like are preferably used.

【0128】 Rm ・Si・Xn (X) (ただし、m、nはm≧0、n≧1でm+n=4を満足
する整数を意味する。Rは置換もしくは非置換の炭素数
1〜20のアルキル基、アミノアルキル基、アミノアル
キレンアミノアルキル基、アミノアルキレンアミノメチ
ルフェネチル基、置換もしくは非置換の炭素数6〜20
のアリール基を示し、Xは−OR1 、−OCOR2 、−
O−N=CR3 −R4 、−O−C=CR5 Hである。R
1 〜R5 は炭素数1〜4の置換もしくは非置換のアルキ
ル基を意味する) 縮合反応架橋剤の単体もしくはその縮合物の具体例とし
ては、次のようなものがある。
Rm · Si · Xn (X) (where m and n are integers satisfying m ≧ 0 and n ≧ 1 and m + n = 4. R is a substituted or unsubstituted C 1 to C 20 Alkyl group, aminoalkyl group, aminoalkyleneaminoalkyl group, aminoalkyleneaminomethylphenethyl group, substituted or unsubstituted carbon number 6 to 20
X represents -OR1, -OCOR2,-.
ON-CR = CR3-R4, -OC-CR5H. R
1 to R5 mean a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) Specific examples of the condensation reaction crosslinking agent or its condensate are as follows.

【0129】テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシ
シラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセ
トキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ジメチル
ジアセトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、N−(βアミノエチル)−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−(βアミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシ
シラン、N−(βアミノエチル)アミノメチルフェネチ
ルトリメトキシシラン、N−(βアミノエチル)アミノ
メチルフェネチルトリエトキシシラン、トリス(メチル
エチルケトオキシム)メチルシラン、トリス(メチルエ
チルケトオキシム)エチルシラン、トリス(メチルエチ
ルケトオキシム)ビニルシラン、テトラキス(メチルエ
チルケトオキシム)シラン等。
Tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldiethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, tetraacetoxysilane, methyltriacetoxysilane, Ethyltriacetoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (βaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (βaminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, N- (βaminoethyl) aminomethylphenethyltrimethoxysilane, - (beta-aminoethyl) aminomethyl phenethyl triethoxysilane, tris (methyl ethyl ketoxime) methylsilane, tris (methyl ethyl ketoxime) ethylsilane, tris (methyl ethyl ketoxime) vinylsilane, tetrakis (methyl ethyl ketoxime) silane and the like.

【0130】縮合触媒としては有機錫化合物、有機チタ
ン化合物、有機アルミニウム化合物、有機鉛化合物、有
機硼素化合物、有機ジルコニウム化合物群から選ばれる
化合物等を用いることができる。特に有機錫化合物、有
機チタン化合物、有機アルミニウム化合物の群から選ば
れる化合物は縮合触媒効果を効率良く発現する上で好ま
しく、更に好ましくは有機錫化合物の群から選ばれる化
合物である。有機錫化合物の具体例としては次のような
ものが挙げられる。
As the condensation catalyst, a compound selected from the group consisting of organic tin compounds, organic titanium compounds, organic aluminum compounds, organic lead compounds, organic boron compounds and organic zirconium compounds can be used. In particular, a compound selected from the group consisting of an organotin compound, an organic titanium compound and an organic aluminum compound is preferable in terms of efficiently exhibiting a condensation catalyst effect, and more preferably a compound selected from the group consisting of an organic tin compound. Specific examples of the organotin compound include the following.

【0131】###[*****]は、慣用名称[組成
式]を表わす。
#### [*****] represents the common name [compositional formula].

【0132】アリルトリ−n−ブチル錫[C15H32S
n]、アリルトリメチル錫[C6 H14Sn]、アリルト
リフェニル錫[C21H20Sn]、ビス(2−エチルヘキ
サノエート)錫[C16H30O4 Sn]、ビス(2,4−
ペンタンジオネート)ジクロロ錫[C10H14O4 Cl2
Sn]、ビス(トリフェニル錫)オキサイド[C36H30
OSn2 ]、ビス(トリフェニル錫)サルファイド[C
36H30SSn2 ]、ポリ(n−ブチル錫ヒドキサイド)
オキサイド[(C4 H10O2 Sn)n ]、n−ブチルト
リクロロ錫[C4 H9 Cl3 Sn]、n−ブチルトリス
(2−エチルヘキサノエート)錫[C28H54O6 S
n]、シクロペンタジエニルトリ−n−ブチル錫[C17
H32Sn]、1,3−ジアセトキシ−1,1,3,3−
テトラブチル錫オキサイド[C20H42O5 Sn2 ]、酢
酸錫(II)[C4 H6 O4 Sn]、ジ−n−ブチル錫ジ
ラウリルメルカプタイド[C32H68S2 Sn]、ジ−n
−ブチル錫ジオクトエート[C28H48O4 Sn]、ジ−
n−ブチルビス(2,4−ペンタンジオネート)錫[C
18H32O4 Sn]、ジ−n−ブチル錫ジアセテート[C
12H24O4 Sn]、ジ−n−ブチルジクロロ錫[C8 H
18Cl2 Sn]、ジ−t−ブチルジクロロ錫[C8 H18
Cl2 Sn]、ジ−n−ブチルジフルオロ錫[C8H18
F2 Sn]、ジ−n−ブチルジラウリル錫[C32H64O
4 Sn]、ジ−n−ブチルジメトキシ錫[C10H24O2
Sn]、ポリ(ジ−n−ブチル(アレエート)錫)
[(C12H20O4 Sn)n ]、ジ−n−ブチル−S,S
´−ビス(イソオクチルメルカプトアセテート)錫[C
28H56O4 S2 Sn]、ポリ(ジ−n−ブチル錫オキサ
イド)[(C8 H18OSn)n ]、ポリ(ジ−n−ブチ
ル錫サルファイド)[(C8 H18SSn)n ]、ジメチ
ルアミノトリ−n−ブチル錫[C14H33NSn]、ジメ
チル−S,S´−ビス(イソオクチルメルカプトアセテ
ート)錫[C22H44O4 S2 Sn]、ジメチルジクロロ
錫[C2 H6 Cl2 Sn]、ジメチルジネオデカノエー
ト錫[C22H44O4 Sn]、ジメチルヒドロキシ(オレ
エート)錫[C20H40O3 Sn]、ジオクチルクロロ錫
[C16H34Cl2 Sn]、ジオクチル錫ジラウレート
[C40H80O4 Sn]、ポリ(ジオクチル錫オキサイ
ド)[(C16H34OSn)n ]、ジフェニルジクロロ錫
[C12H10Cl2 Sn]、エチニルトリ−n−ブチル錫
[C14H28Sn]、ヘキサ−n−ブチルジ錫[C24H54
Sn2 ]、ヘキサメチルジ錫[C6 H18Sn2 ]、メタ
クリルオキシトリ−n−ブチル錫[C17H32O2 S
n]、メチルトリクロロ錫[CH3 Cl3Sn]、オク
チルトリクロロ錫[C8 H17Cl3 Sn]、フェニルト
リ−n−ブチル錫[C18H32Sn]、フェニルトリクロ
ロ錫[C6 H5 Cl3 Sn]、ナトリウム錫エトキサイ
ド[C18H45O9 NaSn2 ]、テトラアリル錫[C12
H20Sn]、テトラ−t−ブトキシ錫[C16H36O4 S
n]、テトラ−n−ブチル錫[C16H36Sn]、テトラ
エチル錫[C8 H20Sn]、テトライソプロピル錫[C
12H28Sn]、テトラメチル錫[C4 H12Sn]、テト
ラ−n−オクチル錫[C32H68Sn]、テトラフェニル
錫[C24H20Sn]、錫(II)エトキサイド[C4 H10
O2 Sn]、錫(II)メトキサイド[C2 H6 O2 S
n]、シュウ酸錫(II)[C2 O4 Sn]、錫(II)
2,4−ペンタンジオネート[C10H14O4Sn]、ト
リ−n−ブチルアセトキシ錫[C14H30O2 Sn]、ト
リ−n−ブチルベンゾイルオキシ錫[C19H32O2 S
n]、トリ−n−ブチルブロモ錫[C12H27BrS
n]、トリ−n−ブチルクロロ錫[C12H27ClS
n]、トリ−n−ブチルエトキシ錫[C14H32OS
n]、トリ−n−ブチルフルオロ錫[C12H27FS
n]、トリ−n−ブチルヨウド錫[C12H27ISn]、
トリ−n−ブチルメトキソ錫[C13H30OSn]、トリ
−n−ブチル錫ハライド[C12H28Sn]、トリ−n−
ブチル(トリフルオロメタンスルフォネート)錫[C13
H27F3 O3SSn]、トリエチルブロモ錫[C6 H15
BrSn]、(トリイソプロポキシチタノキシ)トリ−
n−ブチル錫[C21H48O4 TiSn]、トリメチルク
ロロ錫[C3 H9 ClSn]、トリメチルシリルトリ−
n−ブチル錫[C15H36SiSn]、トリフェニルアセ
トキシ錫[C20H18O2 Sn]、トリフェニルクロロ錫
[C18H15ClSn]、トリフェニルフルオロ錫[C18
H15FSn]、トリフェニルヒドキシ錫[C18H16OS
n]、トリフェニル錫ハライド[C18H16Sn]、ビニ
ルトリ−n−ブチル錫[C14H30Sn]、アクリルオキ
シドトリ−n−ブチル錫[C15H30O2 Sn]、アクリ
ルオキシドトリフェニル錫[C21H18O2Sn]、ジア
リルジブロモ錫[C6 H10Br2 Sn]、ジアリルジ−
n−ブチル錫[C14H28Sn]、ジ−n−ブチルビス
(2−エチルヘキシルマレエート)錫[C32H56O8 S
n]、ジ−n−ブチルビス(メチルマレエート)錫[C
18H28O8 Sn]、ジ−n−ブチルアクリル酸錫[C14
H24O4 Sn]、ジ−n−ブチルメタクリル酸錫[C16
H28O4 Sn]、ポリ(ジオクチル(マレエート)錫)
[(C20H36O4 Sn)n ]、ジビニルジ−n−ブチル
錫[C12H24Sn]、1−エトキシビニルトリ−n−ブ
チル錫[C16H34OSn]、テトラビニル錫[C8 H12
Sn]等。
Allyltri-n-butyltin [C15H32S
n], allyltrimethyltin [C6 H14 Sn], allyltriphenyl tin [C21 H20 Sn], bis (2-ethylhexanoate) tin [C16 H30 O4 Sn], bis (2,4-
Pentanedionate) Dichlorotin [C10H14O4 Cl2
Sn], bis (triphenyltin) oxide [C36H30
OSn2], bis (triphenyltin) sulfide [C
36H30SSn2], poly (n-butyltin hydroxide)
Oxide [(C4 H10 O2 Sn) n], n-Butyltrichlorotin [C4 H9 Cl3 Sn], n-Butyl tris (2-ethylhexanoate) tin [C28 H54 O6 S
n], cyclopentadienyltri-n-butyltin [C17
H32Sn], 1,3-diacetoxy-1,1,3,3-
Tetrabutyltin oxide [C20 H42 O5 Sn2], tin (II) acetate [C4 H6 O4 Sn], di-n-butyltin dilauryl mercaptide [C32 H68 S2 Sn], di-n
-Butyltin dioctoate [C28H48O4Sn], di-
n-butylbis (2,4-pentanedionate) tin [C
18H32O4 Sn], di-n-butyltin diacetate [C
12H24O4 Sn], di-n-butyldichlorotin [C8 H
18Cl2 Sn], di-t-butyldichlorotin [C8 H18
Cl2 Sn], di-n-butyldifluorotin [C8H18
F2 Sn], di-n-butyldilauryl tin [C32 H64 O
4 Sn], di-n-butyldimethoxytin [C10H24O2
Sn], poly (di-n-butyl (aleate) tin)
[(C12H20O4Sn) n], di-n-butyl-S, S
'-Bis (isooctylmercaptoacetate) tin [C
28H56O4 S2 Sn], poly (di-n-butyltin oxide) [(C8 H18OSn) n], poly (di-n-butyltin sulfide) [(C8 H18SSn) n], dimethylaminotri-n-butyltin []. C14H33NSn], dimethyl-S, S'-bis (isooctylmercaptoacetate) tin [C22H44O4S2Sn], dimethyldichlorotin [C2H6Cl2Sn], dimethyldineodecanoate tin [C22H44O4Sn], dimethylhydroxy (oleate). ) Tin [C20H40O3 Sn], dioctylchlorotin [C16H34Cl2 Sn], dioctyltin dilaurate [C40H80O4 Sn], poly (dioctyltin oxide) [(C16H34OSn) n], diphenyldichlorotin [C12H10Cl2Sn], ethynyltri-n-butyl-ethynyltri-n-n. [C14H28Sn], hexa-n-butylditin [C24H 54
Sn2], hexamethylditin [C6 H18 Sn2], methacryloxytri-n-butyl tin [C17 H32 O2 S
n], methyltrichlorotin [CH3Cl3Sn], octyltrichlorotin [C8H17Cl3Sn], phenyltri-n-butyltin [C18H32Sn], phenyltrichlorotin [C6H5Cl3Sn], sodium tin ethoxide [C18H45O9NaSn2], tetraallyl. Tin [C12
H20Sn], tetra-t-butoxytin [C16H36O4S
n], tetra-n-butyltin [C16H36Sn], tetraethyltin [C8H20Sn], tetraisopropyltin [C]
12H28Sn], tetramethyltin [C4H12Sn], tetra-n-octyltin [C32H68Sn], tetraphenyltin [C24H20Sn], tin (II) ethoxide [C4H10].
O2 Sn], tin (II) methoxide [C2 H6 O2 S
n], tin (II) oxalate [C2 O4 Sn], tin (II)
2,4-Pentanedionate [C10H14O4Sn], Tri-n-butylacetoxytin [C14H30O2Sn], Tri-n-butylbenzoyloxytin [C19H32O2S]
n], tri-n-butylbromotin [C12H27BrS
n], tri-n-butylchlorotin [C12H27ClS
n], tri-n-butylethoxytin [C14H32OS
n], tri-n-butylfluorotin [C12H27FS
n], tri-n-butyliodotin [C12H27ISn],
Tri-n-butylmethoxotin [C13H30OSn], tri-n-butyltin halide [C12H28Sn], tri-n-
Butyl (trifluoromethanesulfonate) tin [C13
H27F3 O3SSn], triethylbromotin [C6 H15
BrSn], (triisopropoxy titanoxy) tri-
n-Butyltin [C21H48O4TiSn], Trimethylchlorotin [C3H9ClSn], Trimethylsilyltri-
n-Butyltin [C15H36SiSn], Triphenylacetoxytin [C20H18O2Sn], Triphenylchlorotin [C18H15ClSn], Triphenylfluorotin [C18]
H15FSn], triphenylhydroxytin [C18H16OS
n], triphenyltin halide [C18H16Sn], vinyltri-n-butyltin [C14H30Sn], acrylic oxide tri-n-butyltin [C15H30O2Sn], acrylic oxide triphenyltin [C21H18O2Sn], diallyldibromotin [C6H10Br2Sn]. ], Diallyldi-
n-Butyltin [C14H28Sn], Di-n-butylbis (2-ethylhexylmaleate) tin [C32H56O8S
n], di-n-butyl bis (methyl maleate) tin [C
18H28O8Sn], tin di-n-butyl acrylate [C14
H24O4 Sn], di-n-butyl tin methacrylate [C16
H28O4 Sn], poly (dioctyl (maleate) tin)
[(C20H36O4Sn) n], divinyldi-n-butyltin [C12H24Sn], 1-ethoxyvinyltri-n-butyltin [C16H34OSn], tetravinyltin [C8H12].
Sn] and the like.

【0133】シリコーンゴム層の組成としては特に限定
されないが、ポリオルガノシロキサン100重量部に対
して上記の縮合反応架橋剤を3〜20重量部、縮合触媒
を0.001〜0.05重量部加えた組成が好ましい。
The composition of the silicone rubber layer is not particularly limited, but 3 to 20 parts by weight of the condensation reaction crosslinking agent and 0.001 to 0.05 parts by weight of the condensation catalyst are added to 100 parts by weight of the polyorganosiloxane. Different compositions are preferred.

【0134】(2)付加架橋型シリコーンゴム層は多価
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンと、1分子に2
個以上の−CH=CH−結合を有するポリシロキサン化
合物との反応によって得られるもので、望ましくは以下
の成分 (1)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基(望ましくはビニル基 )を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン 100重量部 (2)1分子中に少なくともSiH結合2個有するオルガノポリシロキサン 0.1〜1000重量部 (3)付加触媒 0.00001〜10重量部 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分(1)
のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よい。アルケニル基以外の有機基としては、置換もしく
は非置換のアルキル基、アリール基である。成分(1)
には水酸基を微量含有させてもよい。成分(2)は成分
(1)と反応してシリコーンゴム層を形成するが、感光
層に対する接着性の付与の役割を果たす。成分(2)の
水酸基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても良い。水
素以外の有機基としては成分(1)と同様のものから選
ばれる。成分(1)と成分(2)の有機基はインキ反発
性向上の点で、総じて基数の60%以上がメチル基であ
ることが好ましい。成分(1)及び成分(2)の分子構
造は直鎖状、環状、分岐状いずれでもよく、どちらか少
なくとも一方の分子量が1,000を越えることがゴム
物性の面で好ましく、更に成分(1)の分子量が1,0
00を越えることが好ましい。
(2) The addition-crosslinking type silicone rubber layer comprises a polyvalent hydrogenorganopolysiloxane and 2 molecules per molecule.
It is obtained by a reaction with a polysiloxane compound having one or more —CH═CH— bonds, and preferably the following component (1) has an alkenyl group (preferably vinyl group) directly bonded to a silicon atom in one molecule. 100 parts by weight of organopolysiloxane having at least 2 (2) 0.1 to 1000 parts by weight of organopolysiloxane having at least 2 SiH bonds in one molecule (3) Addition catalyst 0.00001 to 10 parts by weight Crosslinked and cured. Ingredient (1)
The alkenyl group may be at either the terminal or the middle of the molecular chain. Examples of the organic group other than the alkenyl group include a substituted or unsubstituted alkyl group and an aryl group. Ingredient (1)
May contain a trace amount of a hydroxyl group. The component (2) reacts with the component (1) to form a silicone rubber layer, and plays a role of imparting adhesiveness to the photosensitive layer. The hydroxyl group of the component (2) may be at the terminal of the molecular chain or at the middle thereof. The organic group other than hydrogen is selected from the same groups as the component (1). From the viewpoint of improving the ink resilience, it is preferable that the organic groups of the components (1) and (2) are methyl groups in a total number of 60% or more. The molecular structure of the component (1) and the component (2) may be any of linear, cyclic and branched, and it is preferable that at least one of the molecular weights exceeds 1,000 in view of rubber physical properties. ) Has a molecular weight of 1,0
Preferably, it exceeds 00.

【0135】成分(1)としては、α,ω−ジビニルポ
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の(メチルシロ
キサン)(ジメチルシロキサン)共重合体などが例示さ
れ、成分(2)としては、両末端水酸基のポリジメチル
シロキサン、α,ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基(メチルポリメチルハイ
ドロジェンシロキサン)(ジメチルシロキサン)の共重
合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサン等が例
示される。
Examples of the component (1) include α, ω-divinylpolydimethylsiloxane and a (methylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both ends, and the component (2) includes hydroxyl groups at both ends. Examples of the polydimethylsiloxane, α, ω-dimethylpolymethylhydrogensiloxane, copolymers of methyl groups at both ends (methylpolymethylhydrogensiloxane) (dimethylsiloxane), cyclic polymethylhydrogensiloxane, and the like.

【0136】成分(3)の付加触媒は公知のものの中か
ら任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、
白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金等が例示され
る。これらの組成物の硬化速度を制御する目的で、テト
ラシクロ(メチルビニル)シロキサンなどのビニル基含
有オルガノポリシロキサン、炭素ー炭素三重結合のアル
コール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル
等の架橋抑制剤を添加することも可能である。
The addition catalyst of the component (3) is arbitrarily selected from known ones, but a platinum-based compound is particularly desirable,
Platinum alone, platinum chloride, olefin-coordinated platinum and the like are exemplified. In order to control the curing rate of these compositions, a vinyl group-containing organopolysiloxane such as tetracyclo (methylvinyl) siloxane, a carbon-carbon triple bond alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methanol,
It is also possible to add a crosslinking inhibitor such as ethanol or propylene glycol monomethyl ether.

【0137】これらの組成物の他に、アルケニルトリア
ルコキシシラン等の公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン(もしくはシロキ
サン)を添加してもよい。又、ゴム強度を向上させるた
めに、シリカ等の公知の充填剤を添加してもよい。
In addition to these compositions, a known adhesion-imparting agent such as alkenyltrialkoxysilane may be added, a hydroxyl group-containing organopolysiloxane which is a composition of a condensation type silicone rubber layer, and a trimethylsilyl group at the end. Silicone oil made of dimethylpolysiloxane, dimethylpolysiloxane having a trimethylsilyl group at the end, and hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane) may be added. Further, a known filler such as silica may be added to improve the rubber strength.

【0138】このようなシリコ−ンゴム層の引張特性と
しては、初期弾性率が0.008kgf/mm2 以上0.
09kgf/mm2 未満、好ましくは0.012kgf/
mm2以上0.07kgf/mm2 未満、又50%応力値
は、0.005kgf/mm2 以上0.04kgf/mm2
未満、好ましくは0.007kgf/mm2 以上0.02
5kgf/mm2 未満にすることが重要である。
The tensile properties of such a silicone rubber layer are such that the initial modulus of elasticity is 0.008 kgf / mm 2 or more and 0.1.
Less than 09 kgf / mm 2, preferably 0.012 kgf /
mm2 or more and less than 0.07 kgf / mm2, and 50% stress value is 0.005 kgf / mm2 or more and 0.04 kgf / mm2
Less than 0.007 kgf / mm2 and more than 0.02
It is important to make it less than 5 kgf / mm2.

【0139】上記の初期弾性率が0.008kgf/mm
2 未満、50%応力値が0.005kgf/mm2 未満の
場合は耐刷性が悪くなる。一方、初期弾性率が0.09
kgf/mm2 以上、50%応力値が0.04kgf/mm
2 以上の場合は、例えば特公昭56−23150号の実
施例1に記載のシリコ−ンゴム層の引張り初期弾性率は
0.15kgf/mm2 、50%応力値が0.06kgf
/mm2 で、シリコ−ンゴム層としては硬いためにインキ
反撥性および耐スクラッチ性が低下する。更にシリコ−
ンゴム層の引張特性の伸度は、100%以上、好ましく
は150%以上1200%未満にすることが重要であ
る。伸度が100%以下の場合は耐刷性が悪くなる。
The above initial elastic modulus is 0.008 kgf / mm
If it is less than 2 and the 50% stress value is less than 0.005 kgf / mm @ 2, printing durability becomes poor. On the other hand, the initial elastic modulus is 0.09
More than kgf / mm2, 50% stress value is 0.04kgf / mm
In the case of 2 or more, for example, the initial tensile elastic modulus of the silicone rubber layer described in Example 1 of JP-B-56-23150 is 0.15 kgf / mm @ 2 and the 50% stress value is 0.06 kgf.
/ Mm2, the silicone rubber layer is hard and the ink repulsion and scratch resistance are reduced. Further silicon
It is important that the elongation of tensile properties of the rubber layer is 100% or more, preferably 150% or more and less than 1200%. When the elongation is 100% or less, the printing durability deteriorates.

【0140】又、該シリコーンガム組成物には、インキ
反撥性層を適度に補強する目的で、公知のフィラーや無
機粒子、ケイ酸ゾルなどを添加したり、架橋性官能基を
有さない公知の変性シリコーンオイルを少量添加するこ
とも可能である。これらのシリコーンガム組成物を希
釈、溶解する溶媒としては、パラフィン系炭化水素、イ
ソパラフィン系炭化水素、シクロパラフィン系炭化水素
および芳香族炭化水素が単一または混合された形で用い
られる。これらの炭化水素系溶媒の代表的なものとして
は、石油の分留品およびその改質品などがある。本発明
のインキ反撥性層として用いられるシリコーンゴム層の
膜厚は耐刷性およびインキ反撥性を保ち、且つ良好な画
像再現性を維持する点から、乾燥重量で、0.5〜10
g/m2 の範囲が好ましく、1〜3g/m2 の範囲が更
に好ましい。薄すぎる場合は耐刷力及びインキ反発性の
点で問題を生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済
的に不利であるばかりでなく、現像時シリコ−ンゴム層
を除去しにくくなり、画像再現性の低下をもたらす。
Known fillers, inorganic particles, silicic acid sol, etc. are added to the silicone gum composition for the purpose of appropriately reinforcing the ink repellent layer, and no known crosslinkable functional group is added. It is also possible to add a small amount of the modified silicone oil of. As a solvent for diluting and dissolving these silicone gum compositions, paraffinic hydrocarbons, isoparaffinic hydrocarbons, cycloparaffinic hydrocarbons and aromatic hydrocarbons are used in a single or mixed form. Representative examples of these hydrocarbon solvents include petroleum fractionated products and reformed products thereof. The thickness of the silicone rubber layer used as the ink repellent layer of the present invention is 0.5 to 10 in terms of dry weight from the viewpoint of maintaining printing durability and ink repellent property and maintaining good image reproducibility.
The range of g / m2 is preferable, and the range of 1 to 3 g / m2 is more preferable. If it is too thin, problems may occur in terms of printing durability and ink repellency, while if it is too thick, it is not only economically disadvantageous, but also it becomes difficult to remove the silicone rubber layer during development, and image reproduction Causes a decrease in sex.

【0141】以上に説明された構成の水なし平版印刷版
のインキ反発性層の表面には、該インキ反発性層を保護
する目的で適当な保護層をコーティングにより該インキ
反発性層上に形成したり、保護フィルムをラミネートす
ることも可能である。又、該保護層中には感光層を曝光
(露光光源以外の光で、本来非照射部分に光が照射され
ることを意味する)から保護する目的で、光退色性物質
を含有させることもできる。保護フィルムの具体例とし
ては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリ
エチレンテレフタレート、セロファンなどが挙げられ
る。又、これらの保護フィルムは画像露光時の焼枠にお
ける真空密着性を改良するために、表面をマット処理し
たり、シリカ粒子などを含むプラスチック層を上記保護
フィルムの表面に塗布積層することも好ましく行なわれ
る。
On the surface of the ink-repellent layer of the waterless planographic printing plate having the above-described constitution, a suitable protective layer is formed on the ink-repellent layer by coating for the purpose of protecting the ink-repellent layer. It is also possible to laminate a protective film. The protective layer may also contain a photobleachable substance for the purpose of protecting the photosensitive layer from exposure to light (meaning that light other than the exposure light source is originally irradiated to the non-irradiated portion). it can. Specific examples of the protective film include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, cellophane, and the like. In addition, these protective films are preferably subjected to a matte treatment or a plastic layer containing silica particles or the like on the surface of the protective film to improve the vacuum adhesion in a printing frame during image exposure. Done.

【0142】次に本発明における水なし平版印刷版の製
造方法について説明する。基板上にリバースロールコー
ター、エアーナイフコーター、メーヤバーコーター等の
通常のコータ、あるいはホエラーのような回転塗布装置
を用い、必要に応じてプライマ層組成物を塗布し100
〜300℃数分間硬化した後、感光層組成物塗液を塗
布、50〜150℃で数分間乾燥および必要に応じて熱
キュアし、その上にシリコーンガム組成物を塗布し、5
0〜150℃で数分間熱処理してゴム硬化させて形成す
る。しかる後に、必要に応じて保護フィルムをラミネー
トする。
Next, the method for producing a waterless planographic printing plate in the present invention will be described. An ordinary coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, and a Mayer bar coater, or a spin coater such as a whaler is used to coat the substrate with the primer layer composition, if necessary.
After curing at ˜300 ° C. for several minutes, the photosensitive layer composition coating liquid is applied, dried at 50 to 150 ° C. for several minutes and thermally cured if necessary, and the silicone gum composition is applied thereon.
It is formed by heat treating rubber at 0 to 150 ° C. for several minutes to cure the rubber. After that, a protective film is laminated if necessary.

【0143】次に本発明で言う水なし平版印刷版の露光
現像工程について説明する。本発明で言う水なし平版印
刷版は、該版材は真空密着されたポジフィルム又はネガ
フィルムを通じて、通常の露光光源により画像露光す
る。この露光工程で用いられる光源としては、例えば高
圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハラ
イド灯、蛍光灯などが挙げられる。このような通常の露
光を行なった後、版面を下記に説明する現像液を含んだ
現像パッドやブラシでこすると、ポジティブワーキング
用の場合、未露光部のシリコーンゴム層が除去されて感
光層が露出し、インキ受容部(画線部)が露出しポジ刷
版となる。ネガティブワーイング用の場合、露光部のシ
リコーンゴム層が除去されて感光層が露出し、インキ受
容部(画線部)が露出しネガ刷版となる。
Next, the exposure and development step of the waterless planographic printing plate referred to in the present invention will be described. In the waterless lithographic printing plate as referred to in the present invention, the plate material is image-exposed by a usual exposure light source through a vacuum-contacted positive film or negative film. Examples of the light source used in the exposure step include a high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, and the like. After such a normal exposure, the plate surface is rubbed with a developing pad or a brush containing a developing solution described below, and in the case of positive working, the silicone rubber layer in the unexposed portion is removed and the photosensitive layer is removed. When exposed, the ink receiving portion (image portion) is exposed to form a positive printing plate. In the case of negative working, the silicone rubber layer in the exposed portion is removed to expose the photosensitive layer, and the ink receiving portion (image area) is exposed to form a negative printing plate.

【0144】本発明で用いられる現像液としては、公知
のものが使用でき、感光層を適当に溶解もしくは膨潤さ
せるものが好ましい。例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキ
サン、ヘプタン、「アイソパーE、H、G」(ESSO
製イソパラフィン系炭化水素の商品名)、ガソリン、灯
油など)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン
等)、ハロゲン化炭化水素類(トリクレン等)等の少な
くとも1種類以上の混合溶媒に下記の極性溶媒を少なく
とも1種類添加したものが好ましく用いられる。
As the developing solution used in the present invention, a known developing solution can be used, and a developing solution capable of appropriately dissolving or swelling the photosensitive layer is preferable. For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “isopar E, H, G” (ESSO
Product name of isoparaffin hydrocarbons, gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (tricrene, etc.), etc. A solvent containing at least one type of solvent is preferably used.

【0145】アルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、1、3−ブチレングリコール、2、3−ブチレング
リコール、ヘキシレングリコール、2−エチル−1、3
−ヘキサンジオール等) エーテル類(エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコール、モノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−
2−エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコール
モノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリ
プロピレングリールモノメチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ジアセトンアルコール等) エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアエテート等) カルボン酸(2−エチル酪酸、カプロン酸、カプリル
酸、2−エチルヘキサン酸、カプリン酸、オレイン酸、
ラウリル酸等) 又、上記の有機溶剤系現像液組成には水を添加したり、
公知の界面活性剤を添加することも自由に行なわれる。
又、更にアルカリ剤、例えば炭酸ナトリウム、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カリ
ウム、ホウ酸ナトリウム等を添加することもできる。
Alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol,
Tripropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene glycol, 2,3-butylene glycol, hexylene glycol, 2-ethyl-1,3
Ethers (ethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol, monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol mono-
2-ethylhexyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, tetraethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, dioxane,
Tetrahydrofuran, etc. Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, etc.) Esters (ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, Diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether ethate, etc.) Carboxylic acid (2-ethylbutyric acid, caproic acid, caprylic acid, 2-ethylhexanoic acid, capric acid, oleic acid,
Water is added to the above organic solvent-based developer composition,
A known surfactant can be freely added.
Further, an alkaline agent such as sodium carbonate, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium borate and the like can be added.

【0146】又、これらの現像液にはクリスタルバイオ
レット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッド
等の公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加し
て現像と同時に画像部の染色化を行なうことができる。
To these developing solutions, known basic dyes such as crystal violet, Victoria pure blue, and Astrazone red, acid dyes, and oil-soluble dyes may be added to dye the image area simultaneously with development. You can

【0147】又、本研究に用いられる水なし平版印刷版
を現像する際には、例えば東レ(株)にて市販されている
ような自動現像機を用い、上記の現像液で版面を前処理
した後に水道水などでシャワーしながら回転ブラシで版
面を擦ることによって、好適に現像することができる。
又、上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版面に噴霧
することによっても現像が可能である。
When developing the waterless planographic printing plate used in this study, an automatic developing machine commercially available from Toray Co., Ltd. is used, and the plate surface is pretreated with the above developing solution. After that, the plate surface is rubbed with a rotating brush while showering with tap water or the like, so that suitable development can be performed.
Further, development can be carried out by spraying hot water or steam onto the plate surface instead of the above-mentioned developer.

【0148】[0148]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが本発明はこれらに限定されない。なお、実施例で用
いられるエポキシ化合物を表1に示す。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The epoxy compounds used in the examples are shown in Table 1.

【0149】[0149]

【表1】 実施例1 厚さ0.3mmの脱脂処理されたアルミ板(住友金属
(株)製)上に、下記の組成に対し表2記載のエポキシ
化合物を5重量部添加したプライマー液をバーコーター
を用いて塗布し、230℃、1分間加熱乾燥して膜厚3
g/m2 のプライマー層を塗設した。
[Table 1] Example 1 Using a bar coater, a primer solution prepared by adding 5 parts by weight of the epoxy compound shown in Table 2 to the following composition on a degreased aluminum plate (manufactured by Sumitomo Metal Industries, Ltd.) having a thickness of 0.3 mm was used. Applied, and dried by heating at 230 ° C for 1 minute, film thickness 3
A primer layer of g / m 2 was applied.

【0150】 基体樹脂(担体樹脂) (a)ポリウレタン樹脂(サンプレンLQ−SZ18、三洋化成工業(株) 製) 115重量部 (b)ブロック型イソシアネート(タケネートB830、武田薬品(株)製) 20重量部 (c)ブチル化尿素樹脂 15重量部 その他 (d)酸化チタン 10重量部 (e)ジメチルホルムアミド 750重量部 続いてこのプライマ層上に下記組成を有する感光層組成
物をバ−コ−タを用いて塗布し、115℃、1分間乾燥
して膜厚1.5g/m2 の感光層を塗設した。
Base resin (carrier resin) (a) Polyurethane resin (Samprene LQ-SZ18, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 115 parts by weight (b) Blocked isocyanate (Takenate B830, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) 20 parts by weight Parts (c) Butylated urea resin 15 parts by weight Others (d) Titanium oxide 10 parts by weight (e) Dimethylformamide 750 parts by weight Subsequently, a photosensitive layer composition having the following composition was coated on the primer layer with a bar coater. It was applied and dried at 115 ° C. for 1 minute to form a photosensitive layer having a film thickness of 1.5 g / m 2 .

【0151】 (a)1,2−ナフトキノンー2ージアジド−5−スルホン酸クロライドとフェ ノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂(スミライトレジンPR50622、住 友デュレズ社(株)製)の部分エステル化物(元素分析法によるエステル化度3 6%) 70重量部 (b)4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト 21重量部 (c)ポリウレタン樹脂(ミラクトランP22S 日本ミラクトラン(株)製) 30重量部 (d)ジブチル錫ジアセテ−ト 0.2重量部 (e)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (f)テトラヒドロフラン 800重量部 次いでこの感光層の上に下記組成を有するシリコ−ンガ
ム組成物をバーコータを用いて塗布し、115℃、露点
30℃、3.5分間湿熱硬化させて膜厚2g/m2 のシ
リコ−ンゴム層を塗設した。
(A) 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolac resin (Sumilite Resin PR50622, manufactured by Sumitomo Dures Co., Ltd.) (elemental analysis method) Degree of esterification by 36%) 70 parts by weight (b) 4,4'-diphenylmethane diisocyanate 21 parts by weight (c) Polyurethane resin (Miractran P22S manufactured by Nippon Miractolane Co., Ltd.) 30 parts by weight (d) Dibutyl Tin diacetate 0.2 parts by weight (e) P-toluene sulfonic acid 0.8 parts by weight (f) Tetrahydrofuran 800 parts by weight Next, a silicone gum composition having the following composition was formed on this photosensitive layer using a bar coater. coated, 115 ° C., dew point 30 ° C., 3.5 minutes wet heat-cured in a thickness of 2 g / m 2 silicone - down It was coated with a beam layer.

【0152】 (a)ポリジメチルシロキサン(分子量約25,000、末端水酸基) 100重量部 (b)ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン 10重量部 (c)“アイソパ−E”(エクソン化学(株)製) 800重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μmのポ
リプロピレンフィルム“トレファン”(東レ(株)製)
をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トし、水なし平
版印刷版原版を得た。
(A) Polydimethylsiloxane (molecular weight of about 25,000, terminal hydroxyl group) 100 parts by weight (b) Vinyltri (methylethylketoxime) silane 10 parts by weight (c) "Isopa-E" (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) 800 parts by weight To the laminated plate obtained as described above, a polypropylene film “Trefan” having a thickness of 10 μm (manufactured by Toray Industries, Inc.)
Was laminated using a calendar roller to obtain a waterless planographic printing plate precursor.

【0153】かかる印刷原版にメタルハライドランプ
(岩崎電気(株)製アイドルフィン2000)を用い、
UVメ−タ−(オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
UV−402A)で11mW/cm2 の照度で6秒間全
面露光を施した。
A metal halide lamp (Idlefin 2000 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) was used as the printing original plate.
The entire surface was exposed with a UV meter (Light Measure Type UV-402A, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) at an illuminance of 11 mW / cm 2 for 6 seconds.

【0154】上記のようにして得られた印刷用原版に1
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
1 is added to the printing original plate obtained as described above.
A negative film having a halftone dot image of 50 lines / inch was vacuum-contacted and exposed for 60 seconds from a distance of 1 m using the above metal halide lamp.

【0155】次いで上記の露光済版の“トレファン”を
剥離し、未露光部に鉄筆を用いて、版面上にアルミ板に
達するように碁盤目上の傷をつけた。室温32℃、湿度
80%の条件で、“アイソパ−H”/ジエチレングリコ
−ルジメチルエ−テル/エチルセロソルブ/N−メチル
ジエタノ−ルアミン=87/7/3/3(重量比)から
なる処理液をブラシを用いて版面に塗布した。1分間処
理後、ゴムスキ−ジで版面に付着した処理液を除去し、
次いで版面と現像パッドに現像液(水/ブチルカルビト
−ル/2−エチル酪酸/クリスタルバイオレット=70
/30/2/0.2(重量比)を注ぎ、現像パッドで版
面を軽くこすると、画像露光された部分のシリコ−ンゴ
ム層が除去され、感光層表面が露出した。一方、全面露
光のみがなされた非画像部分はシリコ−ンゴム層が強固
に残存しており、ネガフィルムを忠実に再現した画像が
得られた。
Then, the "trephan" of the above-mentioned exposed plate was peeled off, and a non-exposed portion was scratched on the plate surface using a writing brush so as to reach the aluminum plate. Brush the treatment liquid consisting of "isopa-H" / diethylene glycol dimethyl ether / ethyl cellosolve / N-methyldiethanolamine = 87/7/3/3 (weight ratio) under the conditions of room temperature 32 ° C. and humidity 80%. It was applied to the plate surface. After processing for 1 minute, the processing liquid attached to the plate surface is removed with a rubber squeegee,
Next, a developing solution (water / butyl carbitol / 2-ethylbutyric acid / crystal violet = 70) is applied to the plate surface and the developing pad.
When the plate surface was lightly rubbed with a developing pad, the silicone rubber layer at the image-exposed portion was removed, exposing the surface of the photosensitive layer. On the other hand, in the non-image portion where only the entire surface was exposed, the silicone rubber layer remained firmly, and an image faithfully reproducing the negative film was obtained.

【0156】得られた印刷版を、オフセット印刷機(小
森スプリント4色機)に取り付け、大日本インキ化学工
業(株)製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、黄インキを
用いて、上質紙(62.5g/菊)にて印刷をおこない
耐刷テストを行った。印刷物の汚れおよび印刷終了後の
版面のシリコーンゴム層の損傷状態を目視観察すること
によって評価した。このサンプルにおいては、13万枚
印刷を行ったところ、良好な印刷物が刷れ、印刷終了後
の印刷版を検査したが印刷版の損傷は軽微であった。
The obtained printing plate was attached to an offset printing machine (Komori Sprint 4-color machine), and fine paper was prepared using "Dry Okara" ink, indigo, red, and yellow ink manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. (62.5 g / Chrysanthemum) was printed to perform a printing durability test. It was evaluated by visually observing the stains on the printed matter and the damage state of the silicone rubber layer on the plate surface after printing. When 130,000 sheets were printed on this sample, good printed matter was printed, and the printing plate after the printing was inspected, but the printing plate was found to be slightly damaged.

【0157】接着性の評価に関しては、先に未露光部に
つけた碁盤目上の傷を現像パッドを用いて、更に版面を
強く擦り、何回で剥離が生じるか目視観察することで評
価したが、初期も経時後も同様な接着性を有しているこ
とが確認できた。又、印刷版原版を作製した後、60
℃、相対湿度80%の雰囲気下で2週間保存したもの
を、経時後の平版印刷版原版とし同様の評価を行ったと
ころ、初期性能と変わらない画像再現性、耐刷性、接着
性を示し、経時的にも安定な水なし平版印刷版原版を得
ることできた。
Regarding the evaluation of the adhesiveness, the scratches on the cross-cut previously attached to the unexposed area were evaluated by rubbing the plate surface with a developing pad, and visually observing how many times the peeling occurred. It was confirmed that the adhesiveness was similar at the initial stage and after the passage of time. After preparing the printing plate precursor, 60
When stored for 2 weeks in an atmosphere of ℃ and relative humidity of 80%, the same evaluation was carried out as a lithographic printing plate precursor after a lapse of time. It was possible to obtain a waterless planographic printing plate precursor that was stable over time.

【0158】実施例2〜10 実施例1において、表2に示すエポキシ化合物に変更し
た他は実施例1と同様な方法で、水なし平版印刷版原版
を作製し露光、現像処理した後、各評価を行った。結果
は表2に示す。
Examples 2 to 10 In the same manner as in Example 1 except that the epoxy compounds shown in Table 2 were used, a waterless planographic printing plate precursor was prepared, exposed and developed, and then each An evaluation was made. The results are shown in Table 2.

【0159】実施例11〜14 実施例1において、表2に示すブレンド比率に変更した
他は実施例1と同様な方法で、水なし平版印刷版原版を
作製し露光、現像処理した後、各評価を行った。結果は
表2に示す。
Examples 11 to 14 Water-free lithographic printing plate precursors were prepared in the same manner as in Example 1 except that the blending ratios shown in Table 2 were changed. An evaluation was made. The results are shown in Table 2.

【0160】実施例15 実施例1において、感光層組成を下記組成に変更して感
光層を設け、表2に示すエポキシ化合物に変更した他は
実施例1と同様な方法で、水なし平版印刷版原版を作製
し露光、現像処理した後、各評価を行った。結果は表2
に示す。
Example 15 Waterless lithographic printing was carried out in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive layer composition was changed to the following composition to provide a photosensitive layer and the epoxy compound shown in Table 2 was used. Each plate was prepared, exposed and developed, and then evaluated. Table 2 shows the results
Shown in

【0161】プライマー層上に下記の組成を有する感光
液を塗布した後100℃、1分間加熱乾燥し、厚さ4g
/m2 の感光層を設けた。
A photosensitive solution having the following composition was coated on the primer layer, and then dried by heating at 100 ° C. for 1 minute to give a thickness of 4 g.
A photosensitive layer of / m 2 was provided.

【0162】 (1)アジピン酸とポリエチレングリコ−ルからなるポリエステルポリオ−ルと イソホロンジイソシアネ−トとからなるポリウレタン 60重量部 (2)N,N,N´−トリ−(2−ヒドロキシ−3−メタアクリロイルオキシプ ロピル)−N´−モノ−(2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル)ペンタオキ シプロピレンジアミン 10重量部 (3)テトラエチレングリコールジアクリレート 10重量部 (4)N,N´−ジ−(2−ヒドロキシ−3−メタアクリロイルオキシプロピル )−N,N´−ジ−(2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル)m−キシレンジ アミン 10重量部 (5)4,4´−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン 4重量部 (6)N−メチルアクリドン 5重量部 (7)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルホン酸塩 0.5重量部 (8)エチルセルソルブ 580重量部 (9)マレイン酸 1重量部 実施例16 実施例1において、モノ(2−メタクロイルオキシエチ
ル)アシッドホスフェイト1重量部とジブチル錫アセテ
ート0.5重量部を添加した他は実施例1と同様な方法
で水なし平版印刷版原版を作製し露光、現像処理した
後、各評価を行った。結果は表2に示す。
(1) Polyurethane consisting of adipic acid and polyethylene glycol Polyol and isophorone diisocyanate 60 parts by weight (2) N, N, N′-tri- (2-hydroxy-) 3-methacryloyloxypropyl) -N'-mono- (2-hydroxy-3-methoxypropyl) pentaoxypropylenediamine 10 parts by weight (3) tetraethylene glycol diacrylate 10 parts by weight (4) N, N'- Di- (2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl) -N, N'-di- (2-hydroxy-3-methoxypropyl) m-xylenediamine 10 parts by weight (5) 4,4'-bis (dimethyl) Amino) benzophenone 4 parts by weight (6) N-methylacridone 5 parts by weight (7) Victoria Pure Blue BOH Naphthalene sulfonate 0.5 part by weight (8) Ethyl cellosolve 580 parts by weight (9) Maleic acid 1 part by weight Example 16 In Example 1, 1 part by weight of mono (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate and A waterless lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.5 part by weight of dibutyltin acetate was added, exposed and developed, and then evaluated. The results are shown in Table 2.

【0163】実施例17 実施例1において、1,2−ナフトキノンー2ージアジ
ド−5−スルホン酸クロライドとフェノ−ルホルムアル
デヒドノボラック樹脂(スミライトレジンPR5062
2、住友デュレズ社(株)製)の部分エステル化物のエ
ステル化度を8%(元素分析法による分析)にした他は
実施例1と同様な方法で水なし平版印刷版原版を作製し
露光、現像処理した後、各評価を行った。結果は表2に
示す。
Example 17 In Example 1, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolac resin (Sumilite resin PR5062) were used.
2. A waterless planographic printing plate precursor was prepared and exposed in the same manner as in Example 1 except that the degree of esterification of the partially esterified product of Sumitomo Durez Co., Ltd. was set to 8% (analyzed by elemental analysis). After development, each evaluation was performed. The results are shown in Table 2.

【0164】実施例18 実施例1において、1,2−ナフトキノンー2ージアジ
ド−5−スルホン酸クロライドとフェノ−ルホルムアル
デヒドノボラック樹脂(スミライトレジンPR5062
2、住友デュレズ社(株)製)の部分エステル化物のエ
ステル化度を19%(元素分析法による分析)にした他
は実施例1と同様な方法で水なし平版印刷版原版を作製
し露光、現像処理した後、各評価を行った。結果は表2
に示す。
Example 18 In Example 1, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolac resin (Sumilite resin PR5062) were used.
2. A waterless planographic printing plate precursor was prepared and exposed in the same manner as in Example 1 except that the esterification degree of the partially esterified product of Sumitomo Durez Co., Ltd. was set to 19% (analyzed by elemental analysis). After development, each evaluation was performed. Table 2 shows the results
Shown in

【0165】実施例19 実施例1において、1,2−ナフトキノンー2ージアジ
ド−5−スルホン酸クロライドとフェノ−ルホルムアル
デヒドノボラック樹脂(スミライトレジンPR5062
2、住友デュレズ社(株)製)の部分エステル化物のエ
ステル化度を60%(元素分析法による分析)にした他
は実施例1と同様な方法で水なし平版印刷版原版を作製
し露光、現像処理した後、各評価を行った。結果は表2
に示す。
Example 19 In Example 1, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolac resin (Sumilite resin PR5062) were used.
2. A waterless lithographic printing plate precursor was prepared and exposed in the same manner as in Example 1 except that the esterification degree of the partially esterified product of Sumitomo Durez Co., Ltd. was set to 60% (analysis by elemental analysis). After development, each evaluation was performed. Table 2 shows the results
Shown in

【0166】比較例1〜8 実施例1において、表2に示すエポキシ化合物に変更し
た他は実施例1と同様な方法で、水なし平版印刷版原版
を作製し露光、現像処理した後、各評価を行った。結果
は表2に示す。
Comparative Examples 1 to 8 In the same manner as in Example 1 except that the epoxy compounds shown in Table 2 were used, waterless planographic printing plate precursors were prepared, exposed and developed. An evaluation was made. The results are shown in Table 2.

【0167】[0167]

【表2】 表2に示す通り、エポキシ化合物をブレンドして用いる
ことによって、実施例1と同様に接着性、画像再現性、
耐刷性に優れた水なし平版印刷版原版が得られた。又、
本発明を用いることで、プライマー層の反応が完結され
ることから、経時的にも極めて安定な水なし平版印刷版
原版を得ることができた(実施例2〜11)。特に疎水
性エポキシ化合物が芳香基を有し、且つ親水性エポキシ
化合物がグリセロール型エポキシ化合物であるものが良
好であることが判る(実施例3)。
[Table 2] As shown in Table 2, by blending and using the epoxy compound, adhesiveness, image reproducibility,
A waterless planographic printing plate precursor having excellent printing durability was obtained. or,
Since the reaction of the primer layer is completed by using the present invention, a waterless planographic printing plate precursor that is extremely stable over time could be obtained (Examples 2 to 11). In particular, it is found that the hydrophobic epoxy compound having an aromatic group and the hydrophilic epoxy compound being a glycerol type epoxy compound are preferable (Example 3).

【0168】更に両エポキシ化合物のエポキシ当量が3
00以下のものが極めて良好である(実施例1、2、
4、7)。
Furthermore, the epoxy equivalent of both epoxy compounds is 3
Those of 00 or less are extremely good (Examples 1, 2,
4, 7).

【0169】又、上記効果は本発明の範囲内においては
ブレンド比率に影響されず、疎水性エポキシ1に対して
親水性エポキシ0.6から3まで変化させても同様な効
果が得られた(実施例11〜14)。これらの効果は、
感光層を光重合型に変更した場合においても同様に得ら
れることが確認できる(実施例15)。又、本発明とモ
ノ(2−メタクロイルオキシエチル)アシッドホスフェ
イトとジブチル錫アセテートを組み合わせたものは、更
に反応が促進されるため良好な結果が得られた(実施例
16)。また、実施例1において、1,2−ナフトキノ
ンー2ージアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノ
−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂(スミライトレジ
ンPR50622、住友デュレズ社(株)製)の部分エ
ステル化物のエステル化度を8〜60%変化させても初
期、経時共良好な性能を有する版材を得ることができ
た。
Further, the above effect is not affected by the blending ratio within the scope of the present invention, and the same effect can be obtained by changing the hydrophilic epoxy from 0.6 to 3 with respect to the hydrophobic epoxy 1 ( Examples 11-14). These effects are
It can be confirmed that the same is obtained when the photosensitive layer is changed to the photopolymerizable type (Example 15). In addition, the combination of the present invention with mono (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate and dibutyltin acetate gave good results because the reaction was further promoted (Example 16). In Example 1, the degree of esterification of the partially esterified product of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolac resin (Sumilite Resin PR50622, manufactured by Sumitomo Dures Co., Ltd.) was determined. Even with a change of 8 to 60%, it was possible to obtain a plate material having good performance both initially and over time.

【0170】しかしながら、プライマー層にエポキシ化
合物を含まない場合、水なし平版の性能は実施例と比較
して初期、経時後、共に劣る結果が得られた(比較例
1)。又、エポキシ化合物をブレンドして用いない場合
も実施例と比較して良好な性能は得られない(比較例2
〜8)。例えば、疎水性エポキシ化合物を単独で用いた
場合、初期の接着性は良好であるが、経時により低下が
起こる(比較例2〜5)。同様に親水性のエポキシ化合
物を単独で用いると初期の接着性が悪く、経時による接
着性の低下は見られないが、画像再現性が低下する(比
較例6〜8)。
However, when the primer layer did not contain an epoxy compound, the performance of the waterless lithographic plate was inferior to that of the Examples both initially and after aging (Comparative Example 1). Even when the epoxy compound is not blended and used, good performance cannot be obtained as compared with the examples (Comparative Example 2).
To 8). For example, when the hydrophobic epoxy compound is used alone, the initial adhesiveness is good, but the adhesiveness decreases with time (Comparative Examples 2 to 5). Similarly, when a hydrophilic epoxy compound is used alone, the initial adhesiveness is poor and the adhesiveness does not decrease with time, but the image reproducibility decreases (Comparative Examples 6 to 8).

【0171】実施例20〜22 実施例1において、表3に示す基体樹脂(担体樹脂)に
変更した他は実施例1と同様な方法で水なし平版印刷版
原版を作製し露光、現像処理した後、各評価を行った。
結果は表3に示す。
Examples 20 to 22 Waterless planographic printing plate precursors were prepared, exposed and developed in the same manner as in Example 1 except that the base resin (carrier resin) shown in Table 3 was used. After that, each evaluation was performed.
The results are shown in Table 3.

【0172】実施例23〜25 実施例6において、表3に示す基体樹脂(担体樹脂)に
変更した他は実施例4と同様な方法で水なし平版印刷版
原版を作製し露光、現像処理した後、各評価を行った。
結果は表3に示す。
Examples 23 to 25 Waterless planographic printing plate precursors were prepared, exposed and developed in the same manner as in Example 4 except that the base resin (carrier resin) shown in Table 3 was used. After that, each evaluation was performed.
The results are shown in Table 3.

【0173】比較例9〜11 比較例2において、表3に示す基体樹脂(担体樹脂)に
変更した他は実施例1と同様な方法で水なし平版印刷版
原版を作製し露光、現像処理した後、各評価を行った。
結果は表3に示す。
Comparative Examples 9 to 11 Waterless lithographic printing plate precursors were prepared, exposed and developed in the same manner as in Example 1 except that the base resin (carrier resin) shown in Table 3 was changed. After that, each evaluation was performed.
The results are shown in Table 3.

【0174】比較例12〜14 比較例6において、表3に示す基体樹脂(担体樹脂)に
変更した他は実施例1と同様な方法で水なし平版印刷版
原版を作製し露光、現像処理した後、各評価を行った。
結果は表3に示す。
Comparative Examples 12 to 14 In Comparative Example 6, a waterless planographic printing plate precursor was prepared and exposed and developed in the same manner as in Example 1 except that the base resin (carrier resin) shown in Table 3 was changed. After that, each evaluation was performed.
The results are shown in Table 3.

【0175】[0175]

【表3】 表3に示す通り、基体樹脂(担体樹脂)を変更した場合
においても、本発明を用いることによって良好な初期性
能を示し、経時的にも安定な水なし平版印刷版原版を得
ることができた(実施例18〜23)。特に、プライマ
ー層に含まれる疎水性エポキシ化合物が芳香基を有し、
且つ親水性性エポキシ化合物がグリセロール型エポキシ
化合物であり、更に両エポキシ化合物のエポキシ当量が
300以下のものが極めて良好であることが確認できる
(実施例18〜20)。
[Table 3] As shown in Table 3, even when the base resin (carrier resin) was changed, by using the present invention, good initial performance was exhibited, and a waterless planographic printing plate precursor that was stable over time could be obtained. (Examples 18-23). In particular, the hydrophobic epoxy compound contained in the primer layer has an aromatic group,
Moreover, it can be confirmed that the hydrophilic epoxy compound is a glycerol type epoxy compound, and that the epoxy equivalent of both epoxy compounds is 300 or less is extremely good (Examples 18 to 20).

【0176】又、基体樹脂中にポリウレタン、ブロック
型イソシアネート及びアミノ樹脂を含有している場合と
比較すると若干効果は劣るが、本発明においては基体樹
脂中にアミノ樹脂を含有しているもの(実施例19、2
0、22、23)が良好である。
Although the effect is slightly inferior to the case where the base resin contains polyurethane, a block type isocyanate and an amino resin, in the present invention, the base resin containing an amino resin (implementation) Examples 19, 2
0, 22, 23) is good.

【0177】しかしながら基体樹脂(担体樹脂)を変更
した場合においても、エポキシ樹脂をブレンドして用い
ない場合、実施例に比較して初期、経時後共に劣る結果
が得られた。例えば、例えば、疎水性エポキシ化合物を
単独で用いた場合、初期の接着性は良好であるが、経時
により低下が起こる(比較例9〜11)。同様に親水性
のエポキシ化合物を単独で用いると初期の接着性が悪
く、経時による接着性の低下は見られないが、画像再現
性が低下する(比較例12〜14)。
However, even when the base resin (carrier resin) was changed, when the epoxy resin was not blended and used, inferior results were obtained both in the initial stage and after aging as compared with the examples. For example, when the hydrophobic epoxy compound is used alone, the initial adhesiveness is good, but the adhesiveness decreases with time (Comparative Examples 9 to 11). Similarly, when a hydrophilic epoxy compound is used alone, the initial adhesiveness is poor and the adhesiveness does not decrease with time, but the image reproducibility decreases (Comparative Examples 12 to 14).

【0178】[0178]

【発明の効果】本発明によると、プライマー層の具備す
べき機能を損なうことなく、基板との接着性が良好で経
時的にも安定である画期的なプライマー層を得ることが
でき、このプライマーを使用することで優れた画像再現
性とインキ反発層を有し、且つ生産性にも優れた水なし
平版印刷版原版を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to obtain an epoch-making primer layer which has good adhesiveness to a substrate and is stable over time without impairing the function of the primer layer. By using a primer, it is possible to provide a waterless planographic printing plate precursor that has excellent image reproducibility and an ink repellent layer and is also excellent in productivity.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上にプライマー層、感光層及びシリコ
ーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原
版において、該プライマー層が疎水性エポキシ化合物お
よび親水性エポキシ化合物を含有することを特徴とする
水なし平版印刷版原版。
1. A waterless planographic printing plate precursor obtained by laminating a primer layer, a photosensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate in this order, wherein the primer layer contains a hydrophobic epoxy compound and a hydrophilic epoxy compound. A waterless planographic printing plate precursor featuring.
【請求項2】該プライマ層中の疎水性エポキシ化合物が
芳香基を有するエポキシ化合物であり、親水性エポキシ
化合物がグリセロール型エポキシ化合物である請求項1
記載の水なし平版印刷版原版。
2. The hydrophobic epoxy compound in the primer layer is an epoxy compound having an aromatic group, and the hydrophilic epoxy compound is a glycerol type epoxy compound.
The waterless planographic printing plate precursor described.
【請求項3】該プライマー層中の疎水性エポキシ化合物
および/または親水性エポキシ化合物のエポキシ当量が
300以下である請求項1または2記載の水なし平版印
刷版原版。
3. The waterless planographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the epoxy equivalent of the hydrophobic epoxy compound and / or the hydrophilic epoxy compound in the primer layer is 300 or less.
【請求項4】該プライマー層が有機錫化合物及び下記一
般式(I)で示されるモノマーを含有することを特徴と
する請求項1〜3のいずれかに記載の水なし平版印刷版
原版。 【化1】 (ただし、R1、R2は水素原子またはメチル基を表
し、a、bは1以上の整数でa+b=3、nは0〜20
の整数を表す。)
4. The waterless lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the primer layer contains an organic tin compound and a monomer represented by the following general formula (I). Embedded image (However, R1 and R2 represent a hydrogen atom or a methyl group, a and b are integers of 1 or more, a + b = 3, and n is 0 to 20.
Represents an integer. )
【請求項5】該プライマー層がアミノ樹脂を含有するこ
とを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の水なし
平版印刷版原版。
5. The waterless lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the primer layer contains an amino resin.
【請求項6】該プライマー層がポリウレタンおよびブロ
ック型イソシアネートを含有することを特徴とする請求
項1〜5のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
6. The waterless lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the primer layer contains polyurethane and a block type isocyanate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN111234132A (en) * 2020-01-20 2020-06-05 北京林业大学 Water-based epoxy resin cross-linking agent, modified protein adhesive and application

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