JPH09283916A - Reflow furnace and soldering method using reflow furnace - Google Patents

Reflow furnace and soldering method using reflow furnace

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JPH09283916A
JPH09283916A JP11312296A JP11312296A JPH09283916A JP H09283916 A JPH09283916 A JP H09283916A JP 11312296 A JP11312296 A JP 11312296A JP 11312296 A JP11312296 A JP 11312296A JP H09283916 A JPH09283916 A JP H09283916A
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JP
Japan
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heating
temperature
reflow furnace
gas
mounting substrate
Prior art date
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Application number
JP11312296A
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Japanese (ja)
Inventor
Sukeyuki Tsunematsu
祐之 常松
Masanobu Tanigami
昌伸 谷上
Kiyofumi Bessho
聖文 別所
Taizo Kawamura
泰三 川村
Yoshitaka Uchibori
義隆 内堀
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Omron Corp
Seta Giken KK
Original Assignee
Omron Corp
Seta Giken KK
Omron Tateisi Electronics Co
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a reflow furnace by which a temperature is regulated freely and which can be heated according to a mounting board by installing a heating part by which a heating gas is blown selectively at a part to be soldered of a mounting board. SOLUTION: A conveyor 22 at a formal heating chamber 3 sets a mounting board 5 from a preliminary heating chamber 11 to a horizontal state so as to be conveyed to an exit chamber 4. During its conveyance, the mounting board 5 is stopped by a stopper 23, a heating gas from a heating part 24 is blown, and a soldering operation is performed. Nozzles 27 are attached to tip parts of respective electromagnetic induction heating devices 24a,... and the heating gas in a hot wind state from the six nozzles 27 is blown toward the mounting board 5. The temperature of the electromagnetic induction heating devices 24a,... can be regulated individually, and the heating gas can be turned on and off individually by switches which are installed at respective subducts 26. The exit chamber 4 carries out the soldered mounting board 5 into a box body 31 by a conveyor 32.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板に供給された
電子部品等をプリント基板に形成されたパターンに半田
付けするための実装基板用リフロー炉及びリフロー炉に
よる半田付け方法に関し、特に加熱気体の温度制御がし
易いものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflow furnace for a mounting board and a soldering method using a reflow furnace for soldering electronic parts and the like supplied to a board to a pattern formed on a printed board, and particularly to heated gas. Related to those whose temperature control is easy.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のリフロー炉としては、例えば特開
平6−164130号公報に開示されるものが知られて
いる。昇温室、第1均熱室、第2均熱室、本加熱室の4
室を直列に配設し、各室毎に一つの加熱部を有してお
り、各室毎の温度調整が行われる構造になっている。ま
た、各室共通又は各室毎にコンベアが設けられ、コンベ
アで搬送される実装基板が各室を通って加熱されてい
く。加熱部の構造は、電気ヒータや遠赤外線ヒータと熱
風ファンの組み合わせであって、各室毎に熱風を循環さ
せて所定の温度に調整する構造になっている。
2. Description of the Related Art As a conventional reflow furnace, for example, one disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-164130 is known. 4 of heating chamber, first soaking chamber, second soaking chamber, main heating chamber
The chambers are arranged in series, one heating unit is provided for each chamber, and the temperature of each chamber is adjusted. Further, a conveyor is provided in common in each room or in each room, and the mounting board conveyed by the conveyor is heated through each room. The heating unit is a combination of an electric heater, a far infrared heater and a hot air fan, and has a structure in which hot air is circulated in each room to adjust the temperature to a predetermined temperature.

【0003】このような構造のリフロー炉では、所定の
温度プロファイルを得るために、室の数を増やし、各室
毎に温度調整することになる。各室の温度を調整するた
めに、ヒータの容量を代えたりている。
In the reflow furnace having such a structure, the number of chambers is increased and the temperature is adjusted for each chamber in order to obtain a predetermined temperature profile. To adjust the temperature of each room, the capacity of the heater is changed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たリフロー炉では、各室毎の温度調整によって所定温度
プロファイルを得るため、室内での温度分布を変えるよ
うな自由な温度調整ができないという問題点があった。
また、実装基板の上の部品の大きさや実装基板の厚さが
変わったときに、きめ細かく温度調整ができないという
問題点があった。さらに、実装基板が大きくても小さく
ても、所定の温度分布で処理するため、炉全体が大きな
実装基板用に設定されたままになり、小さな実装基板に
対してはエネルギーロスが大きいという問題点があっ
た。
However, in the above-described reflow furnace, since a predetermined temperature profile is obtained by adjusting the temperature of each room, there is a problem that it is not possible to freely adjust the temperature to change the temperature distribution inside the room. there were.
Further, there is a problem that the temperature cannot be finely adjusted when the size of the component on the mounting board or the thickness of the mounting board changes. Furthermore, even if the mounting board is large or small, since the processing is performed with a predetermined temperature distribution, the entire furnace remains set for the large mounting board, and the energy loss is large for the small mounting board. was there.

【0005】本発明は上述した問題点を解決するために
なされたものであり、その目的とするところは、温度調
整が自在であり、実装基板に応じた加熱が可能なリフロ
ー炉およびリフローによる半田付け方法を提案すること
にある。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a reflow furnace in which the temperature can be freely adjusted and which can be heated according to the mounting board and a solder by the reflow. It is to propose the attachment method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明のうちで請求項1記載の発明は、コンベ
アで搬送される実装基板に加熱気体を吹きつけて半田付
けするリフロー炉であって、前記実装基板の半田付けす
べき部分に対して選択的に加熱気体を吹きつける加熱部
が設けられたことを特徴とするものである。選択的に加
熱気体を吹きつける加熱部の数を増やすか、その加熱部
を実装基板と同じ平面で移動させると、部分的な吹きつ
けとなる。
In order to achieve the above-mentioned object, the invention according to claim 1 of the present invention is a reflow furnace for blowing a heating gas to a mounting substrate conveyed by a conveyor for soldering. A heating unit for selectively blowing heated gas to a portion of the mounting board to be soldered is provided. If the number of heating units for selectively blowing the heated gas is increased or the heating units are moved in the same plane as the mounting substrate, partial blowing is performed.

【0007】また請求項2記載の発明は、請求項1にお
いて、前記加熱部は、電磁誘導で発熱する発熱体で気体
を加熱するものである。電磁誘導加熱は、気体に接する
発熱体を直接コイルの電磁誘導で加熱するため、熱伝達
効率が高く、応答性も高い。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the heating section heats the gas with a heating element that generates heat by electromagnetic induction. In the electromagnetic induction heating, the heating element in contact with the gas is directly heated by the electromagnetic induction of the coil, so that the heat transfer efficiency is high and the response is also high.

【0008】また請求項3記載の発明は、請求項1又は
2において、前記加熱部は、前記実装基板に対して複数
設けられ、この複数の加熱部の各々が温度調整可能なも
のである。複数の加熱部の個別のオンオフ又は個別の温
度調整によって、実装基板に対する加熱パターンが適切
になる。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, a plurality of the heating portions are provided on the mounting board, and the temperature of each of the plurality of heating portions can be adjusted. The heating pattern for the mounting board becomes appropriate by individually turning on / off the heating units or individually adjusting the temperature.

【0009】また請求項4記載の発明は、請求項1又は
2において、前記加熱部は、前記実装基板と平行な面内
で移動自在に設けられ、その移動速度が調前可能なもの
である。加熱部を平面内で移動させる移動速度と移動経
路の調整によって、実装基板に対する加熱パターンが適
切になる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first or second aspect, the heating section is provided so as to be movable in a plane parallel to the mounting board, and the moving speed can be adjusted. . The heating pattern for the mounting board becomes appropriate by adjusting the moving speed and the moving path for moving the heating unit in the plane.

【0010】また請求項5記載の発明は、コンベアで搬
送される実装基板に加熱気体を吹きつけて半田付けする
リフロー炉であって、前記実装基板に対して加熱気体を
吹きつける加熱部と、実装基板の半田付けすべき部分を
認識する視覚認識手段と、前記視覚認識手段で認識され
た前記部分に対して、前記加熱部からの加熱気体の吹き
つけ位置、又は前記加熱部からの加熱気体の温度の少な
くとも一つを制御する制御部と、を備えてなることを特
徴とするものである。温度が上がりにくい部分又は温度
が上がりやすい部分を形から認識し、認識した部分に積
極的又は消極的に加熱するように吹きつけ位置を制御す
る。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a reflow furnace which blows heated gas to a mounting substrate conveyed by a conveyor for soldering, and a heating unit which blows the heating gas onto the mounting substrate. Visual recognition means for recognizing a portion of the mounting board to be soldered, and a position at which heated gas is blown from the heating section or heated gas from the heating section with respect to the portion recognized by the visual recognition means. And a control unit for controlling at least one of the temperatures. The part where the temperature hardly rises or the part where the temperature rises easily is recognized from the shape, and the blowing position is controlled so that the recognized part is heated positively or passively.

【0011】また請求項6記載の発明は、コンベアで搬
送される実装基板に加熱気体を吹きつけて半田付けする
リフロー炉であって、前記実装基板に加熱気体を吹きつ
ける加熱部と、前記実装基板の温度を測定するセンサ手
段と、前記センサ手段で測定された前記実測基板の温度
に応じて、前記加熱部からの加熱気体の吹きつけ位置、
又は前記加熱部からの加熱気体の温度の少なくとも一つ
を制御する制御部と、を備えてなることを特徴とするも
のである。実装基板の温度を測定し、実装基板の温度が
均一になるように加熱する。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a reflow furnace for blowing heated solder to a mounting substrate conveyed by a conveyor to solder the mounting substrate, the heating unit blowing the heating gas to the mounting substrate, and the mounting. A sensor unit for measuring the temperature of the substrate, and a blowing position of the heated gas from the heating unit according to the temperature of the actually measured substrate measured by the sensor unit,
Or a control unit for controlling at least one of the temperatures of the heated gas from the heating unit. The temperature of the mounting board is measured, and the mounting board is heated so that the temperature becomes uniform.

【0012】また請求項7記載の発明は、請求項6にお
いて、前記温度制御部は、前記実装基板の表面の全体を
均一にするように制御するものである実装基板の表面温
度を均一にすると、ハンダが溶ける時間のバラツキがな
くなる。
According to a seventh aspect of the present invention, in the sixth aspect, the temperature control unit controls the surface of the mounting board to be uniform so that the surface temperature of the mounting board becomes uniform. , There is no variation in the time when the solder melts.

【0013】また請求項8記載の発明は、コンベアで搬
送される実装基板に加熱気体を吹きつけるリフロー炉に
よる半田付け方法であって、前記実装基板の半田付けす
べき部分に対して選択的に加熱気体を吹きつける加熱工
程を含んでなることを特徴とするものである。選択的に
加熱気体を吹きつける加熱工程の調整によって、実装基
板の粗密に応じた加熱パターンを採用できる。
The invention according to claim 8 is a soldering method by a reflow furnace for blowing a heating gas to a mounting board conveyed by a conveyor, wherein the mounting board is selectively soldered to a portion to be soldered. It is characterized by including a heating step of blowing heated gas. By adjusting the heating step of selectively blowing heated gas, a heating pattern according to the density of the mounting substrate can be adopted.

【0014】また請求項9記載の発明は、請求項8にお
いて、前記加熱工程は、電磁誘導で発熱する発熱体で気
体を加熱する工程を有しているものである。電磁誘導加
熱は、気体に接する発熱体を直接コイルの電磁誘導で加
熱するため、均一な加熱気体を作りだせる。
According to a ninth aspect of the present invention, in the eighth aspect, the heating step includes a step of heating the gas with a heating element that generates heat by electromagnetic induction. In electromagnetic induction heating, a heating element that is in contact with gas is heated directly by electromagnetic induction of a coil, so that a uniform heated gas can be created.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図1は、本発明のリフロー炉の機
器構成図であり、図2は、複数からなる加熱部による半
田付け方法を示す図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a device configuration diagram of a reflow furnace according to the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing a soldering method using a plurality of heating units.

【0016】図1において、リフロー炉1は、予備加熱
室2と、本加熱室3と、出口室4とを上流から下流に向
かって順に直列配置してなるものである。
In FIG. 1, a reflow furnace 1 comprises a preheating chamber 2, a main heating chamber 3, and an outlet chamber 4 which are arranged in series in this order from upstream to downstream.

【0017】予備加熱室2は、箱体11内に、コンベア
12と、ストッパー13と、加熱部14とを配設したも
のである。コンベア12は、チップマウント後の実装基
板5を水平状態にして図示されない外気遮断用の入口室
から本加熱室3へと搬送する。この搬送途中にストッパ
ー13で実装基板5が停止させられ、加熱部14からの
熱風が基板全体に吹きつけられて予備加熱される。
The preheating chamber 2 comprises a box body 11 in which a conveyor 12, a stopper 13, and a heating unit 14 are arranged. The conveyor 12 makes the mounting substrate 5 after the chip mounting in a horizontal state and conveys it from an inlet chamber (not shown) for blocking outside air to the main heating chamber 3. The mounting substrate 5 is stopped by the stopper 13 during the transportation, and hot air from the heating unit 14 is blown to the entire substrate to preheat it.

【0018】加熱部14は、空気、窒素ガス、水素ガス
等の気体供給装置6に対して電磁誘導加熱装置15に接
続し、電磁誘導加熱装置15に対して下向きダクト16
と分岐ダクト17を接続してなる。下向きダクト16の
吹き出し口16aから、電磁誘導加熱装置15によって
予備加熱温度まで昇温した温風18が実装基板5の上面
全体に対して吹き出す。電磁誘導加熱装置15は、セラ
ミック等の非導電性筒体15aの外周にコイル15bを
巻き、内側に強磁性体の発熱体15cを配設したもので
ある。温度センサ15dからのフィードバック制御によ
って、コイル15bに接続された高周波電流発生器15
dからの投入電力を調整し、所定温度の温風18にす
る。なお、室内に吹き出された温風18は再び電磁誘導
加熱装置15に戻す循環式とすることもできる。また、
電磁誘導加熱装置15に代わり、ヒータとファンによる
通常の循環加熱装置を採用することもできる。
The heating unit 14 is connected to an electromagnetic induction heating device 15 for a gas supply device 6 such as air, nitrogen gas, hydrogen gas, etc., and a downward duct 16 for the electromagnetic induction heating device 15.
And the branch duct 17 are connected. From the outlet 16a of the downward duct 16, the hot air 18 heated to the preheating temperature by the electromagnetic induction heating device 15 is blown to the entire upper surface of the mounting substrate 5. The electromagnetic induction heating device 15 is configured by winding a coil 15b around an outer circumference of a non-conductive cylindrical body 15a made of ceramic or the like and disposing a heating element 15c made of a ferromagnetic material inside. By the feedback control from the temperature sensor 15d, the high frequency current generator 15 connected to the coil 15b
The supplied electric power from d is adjusted to obtain warm air 18 having a predetermined temperature. The warm air 18 blown into the room may be returned to the electromagnetic induction heating device 15 again in a circulation system. Also,
Instead of the electromagnetic induction heating device 15, a normal circulation heating device using a heater and a fan can be adopted.

【0019】本加熱室3は、箱体21内に、コンベア2
2と、ストッパー23と、加熱部24とを配設したもの
である。コンベア22は、予備加熱室11からの実装基
板5を水平状態にして出口室4へと搬送する。この搬送
途中にストッパー23で実装基板5が停止させられ、加
熱部24からの加熱気体が吹きつけられて本加熱されて
半田付けが行われる。
The main heating chamber 3 is provided with a conveyer 2 in a box 21.
2, a stopper 23, and a heating unit 24 are arranged. The conveyor 22 makes the mounting substrate 5 from the preheating chamber 11 horizontal and conveys it to the outlet chamber 4. During this transportation, the mounting substrate 5 is stopped by the stopper 23, and the heating gas is blown from the heating unit 24 to perform main heating and soldering is performed.

【0020】加熱部24は、合計9台の第1電磁誘導加
熱装置24a〜第9電磁誘導加熱装置24fを進行方向
3台×幅方向3台に配設したものである(図2の(a)
参照)。予備加熱室2の分岐ダクト17にフランジ接続
されるメインダクト25から温風を受け入れ、サブダク
ト26を介して各電磁誘導加熱装置24a,24fに所
定量の予備加熱された気体を供給する。おな、気体の供
給手段として機能する分流ダクト17に代わり、室内の
ブロアを用いることもできる。各電磁誘導加熱装置24
a〜24fの先端にはノズル27が取り付けられ、実装
基板5に向かって6個のノズル27からの熱風状態の加
熱気体が吹き出すようになっている。
The heating unit 24 is composed of a total of nine first electromagnetic induction heating devices 24a to ninth electromagnetic induction heating device 24f arranged in three units in the traveling direction × three units in the width direction ((a in FIG. 2). )
reference). Hot air is received from a main duct 25 flanged to the branch duct 17 of the preheating chamber 2, and a predetermined amount of preheated gas is supplied to each of the electromagnetic induction heating devices 24a and 24f via the sub duct 26. A blower in the room may be used instead of the diversion duct 17 that functions as a gas supply means. Each electromagnetic induction heating device 24
Nozzles 27 are attached to the tips of a to 24 f, and heated gas in the hot air state is blown from the six nozzles 27 toward the mounting substrate 5.

【0021】電磁誘導加熱装置24a〜24fの各々が
別個に温度調整可能になっており、サブダクト26の各
々に設けられた図示されない開閉器によって別個に加熱
気体のオンオフもできるようになっている。この電磁誘
導加熱装置24a〜24fの構造は、予備加熱室2の電
磁誘導加熱装置15と同様の構造になっているが、その
詳細構造は図3により後述する。
The temperature of each of the electromagnetic induction heating devices 24a to 24f can be adjusted individually, and the heating gas can be turned on / off individually by a switch (not shown) provided in each of the sub-ducts 26. The structure of the electromagnetic induction heating devices 24a to 24f is similar to that of the electromagnetic induction heating device 15 in the preheating chamber 2, but the detailed structure will be described later with reference to FIG.

【0022】出口室4は、半田付けが完了した実装基板
5を外気と遮断しつつ排出するためのものであり、本加
熱室3から出口室4に漏れ出る加熱気体を室外に排出し
たり回収したりする。実装基板5は箱体31内にコンベ
ア32で運び出される。
The outlet chamber 4 is for exhausting the soldered mounting substrate 5 while blocking it from the outside air. The heating gas leaking from the main heating chamber 3 to the outlet chamber 4 is exhausted or collected outside the chamber. To do The mounting board 5 is carried into the box 31 by the conveyor 32.

【0023】なお、予備加熱室2の箱体11と、本加熱
室3の箱体21と、出口室4の箱体31の各箱体は別個
に切り離し可能であり、車輪33によって移動自在であ
る。従って、予備加熱室2を二段にしたり、本加熱室3
を二段にする等の組み替えが容易にできるようになって
いる。なお、箱体11,21,31同志の接続は、例え
ばマグネットチャキングと機械式チャッキングの併用で
ワンタッチ動作になると便利である。
The box body 11 of the preheating chamber 2, the box body 21 of the main heating chamber 3, and the box body 31 of the outlet chamber 4 can be separately separated and can be moved by wheels 33. is there. Therefore, the preheating chamber 2 is divided into two stages, and the main heating chamber 3
It is designed to be easily rearranged, such as by making it into a two-tier. It should be noted that it is convenient to connect the boxes 11, 21, 31 to each other by one-touch operation by using, for example, magnet chucking and mechanical chucking together.

【0024】つぎに、上述したリフロー炉1による半田
付け方法を図2により説明する。図2(a)は電磁誘導
加熱装置24a〜24fの先に取り付けられたノズルの
配列状態を示す上面図であり、図2(b)と図2(c)
は加熱パターンの一例を示す上面図である。
Next, a soldering method using the above-described reflow furnace 1 will be described with reference to FIG. FIG. 2A is a top view showing an arrangement state of nozzles attached to the ends of the electromagnetic induction heating devices 24a to 24f, and FIGS. 2B and 2C.
[Fig. 3] is a top view showing an example of a heating pattern.

【0025】図2(b)において、実装基板5の実装密
度が図示のような粗密を有しており、加熱部がカバーで
きる一杯の大きさになっているとする。このとき、電磁
誘導加熱装置24fの出力を「高」にし、電磁誘導加熱
装置24c,24d,24e,24iの出力を「中」に
し、電磁誘導加熱装置24a,24b,24g,24h
の出力を「低」にして実装基板5の実装密度に合った加
熱パターンに設定する。
In FIG. 2B, it is assumed that the mounting density of the mounting substrate 5 has a density as shown in the drawing, and is a size that the heating portion can cover. At this time, the output of the electromagnetic induction heating device 24f is set to "high", the outputs of the electromagnetic induction heating devices 24c, 24d, 24e, and 24i are set to "medium", and the electromagnetic induction heating devices 24a, 24b, 24g, and 24h are set.
Is set to "low" and a heating pattern is set to match the mounting density of the mounting board 5.

【0026】図2(c)において、実装基板5の実装密
度が図示のような粗密を有しており、加熱部がカバーで
きる広さより狭い大きさになっているとする。このと
き、電磁誘導加熱装置24g,24h,24iをオフに
して吹き出しそのものを停止させ、電磁誘導加熱装置2
4cの出力を「高」にし、電磁誘導加熱装置24a,2
4b,24fの出力を「中」にし、電磁誘導加熱装置2
4d,24eの出力を「低」にして実装基板5の実装密
度のみならず実装基板5の 大きさにも合った加熱パタ
ーンに設定する。このように、本加熱室3の加熱部24
が複数の電磁誘導加熱装置24a〜24fからなり、し
かも各電磁誘導加熱装置24a〜24fが別個にオンオ
フと出力調整による温度調整が可能になっているため、
半田付けすべき部分に対して選択的に加熱気体を吹きつ
けることができる。
In FIG. 2C, it is assumed that the mounting density of the mounting board 5 has a density as shown in the drawing, and is smaller than the area that can be covered by the heating portion. At this time, the electromagnetic induction heating devices 24g, 24h, and 24i are turned off to stop the blowing itself, and the electromagnetic induction heating device 2
The output of 4c is set to "high" and the electromagnetic induction heating devices 24a, 24
The outputs of 4b and 24f are set to "medium", and the electromagnetic induction heating device 2
The outputs of 4d and 24e are set to "low", and the heating pattern is set not only for the mounting density of the mounting board 5 but also for the size of the mounting board 5. In this way, the heating unit 24 of the main heating chamber 3
Is composed of a plurality of electromagnetic induction heating devices 24a to 24f, and each of the electromagnetic induction heating devices 24a to 24f is capable of temperature control by turning on and off and output adjustment separately.
The heated gas can be selectively blown to the portion to be soldered.

【0027】図3は、電磁誘導加熱装置24a〜24f
の詳細構造を示す。各装置24a〜24fは、コラム5
1と、このコラム51内に収納された発熱体52と、前
記コラム51の外周に巻かれたコイル53と、コイル5
3に対する高周波電流発生器54とからなっている。な
お、符号27はノズルであり、符号55は温度センサで
あり、符号56は風量の調整とオンオフを行うためのダ
ンパ、符号57は気体供給装置としてのブロアである。
FIG. 3 shows electromagnetic induction heating devices 24a to 24f.
Shows the detailed structure of. Each device 24a to 24f has a column 5
1, a heating element 52 housed in the column 51, a coil 53 wound around the column 51, and a coil 5
3 for high frequency current generator 54. Reference numeral 27 is a nozzle, reference numeral 55 is a temperature sensor, reference numeral 56 is a damper for adjusting and turning on / off the air volume, and reference numeral 57 is a blower as a gas supply device.

【0028】発熱体52は、ジグザグの山型に折り曲げ
られた第1金属板61と平たい第2金属板62とを交互
に積層し、全体として円筒状の積層体63に形成したも
のである。この第1金属板61や第2金属板62の材質
としては、SUS447J1の如きマルテンサイト系ス
テンレスの耐蝕性に優れた強磁性材料が用いられる。そ
して、第1金属板61の山(又は谷)は中心軸64に対
して角度αだけ傾くように配設され、第2金属板62を
挟んで隣り合う第1金属板61の山(又は谷)は交差す
るように配設されている。そして、隣り合う第1金属板
61における山(又は谷)の交差点において、第1金属
板61と第2金属板62がスポット溶接で溶着され、電
気的に導通可能になっている。
The heating element 52 is formed by alternately stacking a first metal plate 61 and a flat second metal plate 62 that are bent in a zigzag chevron shape to form a cylindrical laminate 63 as a whole. As the material of the first metal plate 61 and the second metal plate 62, a ferromagnetic material such as SUS447J1 having excellent corrosion resistance of martensitic stainless steel is used. The ridges (or valleys) of the first metal plate 61 are arranged so as to be inclined by an angle α with respect to the central axis 64, and the ridges (or valleys) of the first metal plates 61 adjacent to each other with the second metal plate 62 interposed therebetween. ) Are arranged to intersect. Then, the first metal plate 61 and the second metal plate 62 are welded by spot welding at the intersections of the peaks (or valleys) in the adjacent first metal plates 61 so that they can be electrically conducted.

【0029】結局、手前側の第1金属板61と第2金属
板62との間には、角度αだけ傾いた第1小流路65が
形成され、第2金属板62と奥側の第1金属板61との
間には、角度−αだけ傾いた第2小流路66が形成さ
れ、この第1小流路65と第2小流路66は角度2×α
で交差している。また、第1金属板61や第2金属板6
2の表面には、流体の乱流を生じさせるための第3小流
路としての多数の孔67が設けられている。さらに、第
1金属板61や第2金属板62の表面は平滑ではなく、
梨地加工又はエンボス加工によって微小な凹凸68が全
面に施されている。この凹凸68は山(又は谷)の高さ
に比較して無視できる程度に小さい。
After all, a first small channel 65 inclined by an angle α is formed between the first metal plate 61 on the front side and the second metal plate 62, and the second metal plate 62 and the second metal plate on the back side are formed. A second small channel 66 inclined by an angle -α is formed between the first metal plate 61 and the first small channel 65 and the second small channel 66 have an angle of 2 × α.
Intersect at In addition, the first metal plate 61 and the second metal plate 6
The surface of 2 is provided with a large number of holes 67 as third small flow paths for causing turbulent flow of the fluid. Furthermore, the surfaces of the first metal plate 61 and the second metal plate 62 are not smooth,
The fine irregularities 68 are formed on the entire surface by satin processing or embossing. The unevenness 68 is so small that it can be ignored as compared with the height of the peak (or valley).

【0030】コイル53に図示されない高周波電流発生
器からの高周波電流を流して、積層体63に高周波磁界
を作用させると、第1金属板61と第2金属板62の全
体に渦電流が生じ、積層体63が発熱する。このときの
温度分布は、第1金属板61と第2金属板62の長手方
向に延びた目玉型となり、周辺部より中心部の方が発熱
し、中央部を流れようとする流体の加熱に有利になって
いる。
When a high-frequency current from a high-frequency current generator (not shown) is applied to the coil 53 to apply a high-frequency magnetic field to the laminated body 63, an eddy current is generated in the entire first metal plate 61 and the second metal plate 62, The laminated body 63 generates heat. At this time, the temperature distribution is an eyeball shape extending in the longitudinal direction of the first metal plate 61 and the second metal plate 62, and the central portion generates heat rather than the peripheral portion, and the fluid that tends to flow in the central portion is heated. It has an advantage.

【0031】また、積層体63内には交差する第1小流
路65と第2小流路66が形成され、周辺と中央との拡
散が行われ、加えて第3小通路を形成する孔67の存在
によって、第1小流路65と第2小流路66間の厚み方
向の拡散も行われる。したがって、これらの小流路6
5,66,67によって積層体63の全体にわたる流体
のマクロ的な分散、放散、揮散が生じる。加えて、表面
の微小な凹凸68によってミクロ的な拡散、放散、揮散
も生じる。その結果、積層体62を通過する流体は略均
一な流れになって、第1金属板61及び第2金属板62
と流体との均一な接触機会が得られる。その結果均一な
熱伝達が確保される。
In addition, a first small channel 65 and a second small channel 66 intersecting each other are formed in the laminated body 63 to diffuse the periphery and the center, and in addition, to form a third small channel. Due to the presence of 67, diffusion in the thickness direction between the first small channel 65 and the second small channel 66 is also performed. Therefore, these small channels 6
5, 66 and 67 cause macroscopic dispersion, diffusion, and volatilization of the fluid over the entire laminated body 63. In addition, microscopic unevenness 68 on the surface causes microscopic diffusion, diffusion, and volatilization. As a result, the fluid passing through the laminated body 62 becomes a substantially uniform flow, and the first metal plate 61 and the second metal plate 62.
And an even contact opportunity with the fluid. As a result, uniform heat transfer is ensured.

【0032】なお、コイル53はリッツ線を撚り合わせ
たものであり、コラム51の外周に巻回されるか、又は
コラム51の肉厚内に巻回して埋設される。コラム51
はコイル53を保持し、流体通路を区画し、その通路内
に発熱体52を収納するものであるため、耐蝕性、耐熱
性、耐圧性があって非磁性体の材質で形成される。具体
的には、セラミック等の無機質材料、FRP(繊維強化
プラスチック)、フッ素樹脂等の樹脂材料、ステンレス
等の非磁性金属等が用いられるが、セラミックが最も好
ましい。
The coil 53 is formed by twisting litz wires together, and is wound around the outer periphery of the column 51 or is wound and embedded in the thickness of the column 51. Column 51
Since it holds the coil 53, defines a fluid passage, and accommodates the heating element 52 in the passage, it is made of a non-magnetic material having corrosion resistance, heat resistance, and pressure resistance. Specifically, an inorganic material such as ceramic, a resin material such as FRP (fiber reinforced plastic), a fluororesin, a non-magnetic metal such as stainless steel, or the like is used, but ceramic is most preferable.

【0033】ノズル27から吹き出される熱風の温度は
温度センサ55で検出されており、所望の加熱気体28
が得られるように、高周波電流発生器54の出力が調整
される。通常は、ブロア57からの気体の風量は一定で
あり、ダンパ56で風量のオンオフがなされる。風量の
調整による加熱気体の温度調整は応答性が悪いため行わ
れず、所定量の気体量にした後、高周波電流発生器54
で出力調整による温度調整が行われる。
The temperature of the hot air blown from the nozzle 27 is detected by the temperature sensor 55, and the desired heated gas 28
The output of the high frequency current generator 54 is adjusted so that Normally, the air volume of the gas from the blower 57 is constant, and the damper 56 turns the air volume on and off. The temperature of the heated gas is not adjusted by adjusting the air volume because the response is poor, and the high-frequency current generator 54 is used after the gas has a predetermined amount.
The temperature is adjusted by adjusting the output.

【0034】このような構造の電磁誘導加熱装置24a
〜24fは小型であるにもかかわらず、高出力であり、
応答性に優れ、温度むらのない均一な加熱流体を所定温
度で吹き出せるという特性を有している。例えば50m
m径の発熱体52であっても10kw近くまで出力可能
であり、加熱気体の温度は±1°まで制御可能である。
そのために、半田付けすべき部分に対して選択的に加熱
気体を吹きつけるものとして最適である。
The electromagnetic induction heating device 24a having such a structure
~ 24f has a high output in spite of its small size,
It has the characteristics of excellent responsiveness and being able to blow out a uniform heating fluid without temperature unevenness at a predetermined temperature. For example, 50m
Even the heating element 52 having a diameter of m can output up to about 10 kW, and the temperature of the heated gas can be controlled up to ± 1 °.
Therefore, it is most suitable for selectively blowing heated gas to the portion to be soldered.

【0035】図4は他の加熱部41の構造と作動を示す
図である。一つの電磁誘導加熱装置42が、X軸駆動部
43とY軸駆動部44とZ軸駆動部45によって、X−
Y−Zの空間の任意の所定位置に加熱部41を所定速度
で移動させることができる構造になっている。すなわ
ち、X軸駆動部43のモータ43aとY軸駆動部44の
モータ44aの回転数を制御することによって、加熱部
41は任意の移動パターンを任意の移動速度で移動する
ことができる。さらに、Z軸駆動部45の図示されない
モータの回転数を制御することによって、実装基板から
電磁誘導加熱装置42の吹き出し口までの高さを任意に
変更することができる。なお、電磁誘導加熱装置42へ
の空気、窒素ガス、水素ガスの供給はフレキシブルチュ
ーブ46を介して行われる。
FIG. 4 is a diagram showing the structure and operation of another heating unit 41. One electromagnetic induction heating device 42 is operated by the X-axis driving unit 43, the Y-axis driving unit 44, and the Z-axis driving unit 45, and
The heating unit 41 can be moved to a predetermined position in the YZ space at a predetermined speed. That is, by controlling the number of rotations of the motor 43a of the X-axis drive unit 43 and the motor 44a of the Y-axis drive unit 44, the heating unit 41 can move an arbitrary movement pattern at an arbitrary movement speed. Furthermore, the height from the mounting substrate to the outlet of the electromagnetic induction heating device 42 can be arbitrarily changed by controlling the rotation speed of the motor (not shown) of the Z-axis drive unit 45. The air, the nitrogen gas, and the hydrogen gas are supplied to the electromagnetic induction heating device 42 through the flexible tube 46.

【0036】実装基板5が図示のような粗密を有してい
るとすると、電磁誘導加熱装置42が粗の部分は粗に移
動し、密な部分は密に移動し、加熱パターンを変更する
ことができる。また電磁誘導加熱装置42の移動速度を
粗の部分では速く、密の部分では遅くすることもでき
る。また、粗の部分に対しては電磁誘導加熱装置42を
高くして離し、密の部分に対しては電磁誘導加熱装置4
2を低くして近づけるようにすると、加熱パターンの変
更が一層容易になる。このように、X−Y−Z軸の駆動
手段を用いると、電磁誘導加熱装置42を実装基板の任
意の部分に対して位置させることができる。更に、X−
Y−Z軸の駆動手段によって、実装がない部分は速く移
動し、実装の部分で一時的に停止して集中的に加熱する
ということも自在にできる。
Assuming that the mounting substrate 5 has a rough density as shown in the drawing, the electromagnetic induction heating device 42 moves a rough portion roughly and a dense portion densely, and changes the heating pattern. You can Further, the moving speed of the electromagnetic induction heating device 42 can be increased in the rough portion and decreased in the dense portion. Further, the electromagnetic induction heating device 42 is raised and separated for the rough portion, and the electromagnetic induction heating device 4 for the dense portion.
When 2 is lowered and brought closer to each other, it becomes easier to change the heating pattern. Thus, by using the XYZ axis drive means, the electromagnetic induction heating device 42 can be positioned with respect to an arbitrary portion of the mounting board. Furthermore, X-
It is also possible to freely move the portion without mounting by the driving means of the YZ axes and temporarily stop at the mounting portion to heat intensively.

【0037】つぎに、図4のような実装基板に合った加
熱をよりきめ細かくすることができる制御部を備えたリ
フロー炉を図5により説明する。
Next, a reflow furnace equipped with a control unit as shown in FIG. 4 capable of finely adjusting the heating suitable for the mounting substrate will be described with reference to FIG.

【0038】本加熱室3の機器配置は、図1のものと異
なり、コンベア22の上を搬送される実装基板5の下側
に加熱部24が配設され、実装基板5の上側には、CC
Dカメラ71とライト72と赤外線温度センサ73とが
配設されている。
The equipment arrangement of the main heating chamber 3 is different from that shown in FIG. 1, and the heating unit 24 is arranged below the mounting substrate 5 conveyed on the conveyor 22 and above the mounting substrate 5. CC
A D camera 71, a light 72, and an infrared temperature sensor 73 are arranged.

【0039】CCDカメラ71とライト72は、CCD
カメラ用コントローラ74に接続され、コントローラ7
4はパソコン75に接続されている。CCDカメラ71
は多数の画素を二次元に配設したものであり、実装基板
5の表面を画像として取り込むことができるものであ
る。コントローラ74は設定条件に従った画像処理を行
い、判定/認識とその結果の出力をする部分である。パ
ソコン75は、判定/認識の結果に基づき、以下に述べ
るように加熱部の位置、温度の少なくとも一つの制御を
行うためのものである。なお、コントローラ74が行う
画像処理には、2値化画像処理があり、正規化相関演算
などで部分の形態を判定/認識できるようになってい
る。したがって、CCDカメラ71、コントローラ74
が半田付けすべき部分を認識する視覚認識手段を構成
し、パソコン75などが実装基板の認識された部分に対
する加熱部の選択的な吹きつけを行うための位置、温度
の少なくとも一つの制御を行う制御部を構成している。
特に、パソコン75と後述する加熱部24のX−Y−Z
−θzステージが実装基板の認識された部分に対する加
熱部の位置を調整する位置制御部を構成している。
The CCD camera 71 and the light 72 are CCD
The controller 7 is connected to the camera controller 74.
4 is connected to the personal computer 75. CCD camera 71
Has a large number of pixels arranged two-dimensionally, and the surface of the mounting substrate 5 can be captured as an image. The controller 74 is a part that performs image processing according to the setting conditions, performs determination / recognition, and outputs the result. The personal computer 75 is for controlling at least one of the position and the temperature of the heating unit based on the result of the judgment / recognition, as described below. Note that the image processing performed by the controller 74 includes binarized image processing, and the form of a part can be determined / recognized by a normalized correlation operation or the like. Therefore, the CCD camera 71 and the controller 74
Constitutes a visual recognition means for recognizing a portion to be soldered, and controls at least one of a position and a temperature for the personal computer 75 or the like to selectively spray the heating portion to the recognized portion of the mounting board. It constitutes the control unit.
In particular, the XYZ of the personal computer 75 and the heating unit 24 described later
The −θz stage constitutes a position control unit that adjusts the position of the heating unit with respect to the recognized portion of the mounting board.

【0040】赤外線温度センサ78は、赤外線温度セン
サ用コントローラ79に接続され、コントローラ79は
パソコン75に接続されている。この赤外線温度センサ
78として、赤外線放射温度計を用いた場合の機器構成
を図6に示す。垂直走査鏡78aと水平走査鏡78bと
光学系78cとによって、実装基板5の表面を走査しつ
つ集光することによって、実装基板5の表面から放射さ
れている赤外線を検出器78dによって電気信号に変換
する。この電気信号が増幅器78eを経てコントローラ
79を構成する信号処理部79aに出力され、実装基板
5の表面の温度分布をバッファメモリに記憶する。そし
て、図5のパソコン75は、実装基板5の表面の温度分
布に基づき、以下に述べるように加熱部の位置又は温度
の少なくとも一つの制御を行う。また、加熱部24を構
成する各電磁誘導加熱装置24a〜24nの各々に対し
て温度調整部80a〜80nが取り付けられており、各
電磁誘導加熱装置24a〜24nから吹きつけられる加
熱気体の吹きつけ温度パターンを変化させることができ
る。したがって、実装基板5の表面の温度パターンの均
一化を行うための加熱部24の吹きつけパターンの適正
なものをパソコン75が演算し、温度調整部80a〜8
0nに必要な指令を与える。この温度調整部80a〜8
0nはPID制御方式などによって、指示値に対する相
対誤差が少なくなるように加熱部24の各電磁誘導加熱
装置24a〜24nを制御する。したがって、赤外線温
度センサ78、コントローラ79などが実装基板の表面
の温度分布を測定するセンサ手段を構成し、パソコン7
5などが実装基板の表面に対する加熱部の選択的な吹き
つけを行うための位置、温度の少なくとも一つの制御を
行う制御部を構成している。特に、パソコン75と温度
制御部80a〜80nなどが実装基板の表面の温度分布
に応じて加熱部24から吹きつけられる加熱気体の温度
を調整する温度制御部を構成している。
The infrared temperature sensor 78 is connected to the infrared temperature sensor controller 79, and the controller 79 is connected to the personal computer 75. FIG. 6 shows a device configuration when an infrared radiation thermometer is used as the infrared temperature sensor 78. The vertical scanning mirror 78a, the horizontal scanning mirror 78b, and the optical system 78c scan the surface of the mounting substrate 5 to collect the infrared light emitted from the surface of the mounting substrate 5 into an electric signal by the detector 78d. Convert. This electric signal is output to the signal processing unit 79a forming the controller 79 via the amplifier 78e, and the temperature distribution on the surface of the mounting substrate 5 is stored in the buffer memory. Then, the personal computer 75 in FIG. 5 controls at least one of the position or the temperature of the heating unit based on the temperature distribution on the surface of the mounting substrate 5, as described below. Moreover, the temperature adjusting units 80a to 80n are attached to the respective electromagnetic induction heating devices 24a to 24n constituting the heating unit 24, and the heating gas blown from the respective electromagnetic induction heating devices 24a to 24n is blown. The temperature pattern can be changed. Therefore, the personal computer 75 calculates an appropriate spray pattern of the heating unit 24 for uniformizing the temperature pattern on the surface of the mounting substrate 5, and the temperature adjusting units 80a to 8a-8.
Give the required command to 0n. This temperature adjusting unit 80a-8
0n controls each of the electromagnetic induction heating devices 24a to 24n of the heating unit 24 by the PID control method or the like so that the relative error with respect to the indicated value is reduced. Therefore, the infrared temperature sensor 78, the controller 79, and the like constitute sensor means for measuring the temperature distribution on the surface of the mounting board, and the personal computer 7
5 and the like constitute a control unit that controls at least one of the position and temperature for selectively spraying the heating unit onto the surface of the mounting substrate. In particular, the personal computer 75, the temperature control units 80a to 80n, and the like constitute a temperature control unit that adjusts the temperature of the heated gas blown from the heating unit 24 according to the temperature distribution on the surface of the mounting substrate.

【0041】さらに、加熱部24は吹きつける加熱気体
の温度パターンを変化させることができるだけではな
く、加熱部24自体の位置を変化させることができる。
すなわち加熱部24は、X−Y−Z−θzステージ81
又はアームロボットで加熱部24の実装基板5に対する
位置をX−Y−Z−θzの4自由度で制御することがで
きる。このX−Y−Z−θzステージ81は、図示のよ
うにθz角モータ81a、X軸モータ81b、Y軸モー
タ81c、Z軸モータ81dを有しており、これらモー
タ81a〜81dを駆動するためのドライバ82と、こ
のドライバ82に座標変換された必要な信号を送るため
の多軸ポジショナ83とが備えられている。この多軸ポ
ジショナ83はパソコン75に接続されている。
Further, the heating unit 24 can change not only the temperature pattern of the heated gas to be blown, but also the position of the heating unit 24 itself.
That is, the heating unit 24 uses the XYZ-θz stage 81.
Alternatively, the arm robot can control the position of the heating unit 24 with respect to the mounting substrate 5 with four degrees of freedom of XYZ-θz. The XYZ-θz stage 81 has a θz angle motor 81a, an X-axis motor 81b, a Y-axis motor 81c, and a Z-axis motor 81d as shown in the drawing in order to drive these motors 81a to 81d. Driver 82, and a multi-axis positioner 83 for sending the coordinate-converted necessary signal to the driver 82. The multi-axis positioner 83 is connected to the personal computer 75.

【0042】なお、パソコン75はキーボード76とモ
ニタ77を有し、例えば赤外線温度センサ78によって
測定された実装基板5の表面の温度パターンをモニタ7
7に表示したり、CCDカメラ71で認識された実装基
板5の部品の半田付けすべき部分の映像をモニタ77に
表示したりすることができる。また、キーボード76に
よって、位置制御部と温度制御部とを含む制御部の設定
を自在に変えることもできる。また、図5のように、C
CDカメラ71と赤外線温度センサ78とを並列に設け
る場合に限らず、赤外線温度センサ78に画像認識機能
を持たせて視覚認識手段兼用とすることもできる。
The personal computer 75 has a keyboard 76 and a monitor 77, and monitors the temperature pattern on the surface of the mounting substrate 5 measured by an infrared temperature sensor 78, for example.
7 or the image of the portion of the mounting board 5 to be soldered, which is recognized by the CCD camera 71, can be displayed on the monitor 77. Further, the keyboard 76 can freely change the settings of the control unit including the position control unit and the temperature control unit. Also, as shown in FIG.
Not only the case where the CD camera 71 and the infrared temperature sensor 78 are provided in parallel, but the infrared temperature sensor 78 may be provided with an image recognition function to serve also as a visual recognition means.

【0043】つぎに図5のリフロー炉の作動を説明す
る。実装基板5の上には大きさが異なったり材料が異な
る種々の部品が搭載されている。従って、ある部品に対
する特定部分では温度が上がりにくく、他のある部分対
する他の特定部分では温度が上がりやすくなっている。
このような特定部分をCCDカメラ71で判定/識別
し、温度が上がりにくい部分に対しては加熱部24全体
の移動速度を遅くしたり近づけたりする位置の制御を行
う。実装基板5に対して加熱部24から吹きつけられる
加熱気体の分布パターンを変化させて温度が上がりにく
い部分に対してはより高温の加熱気体を吹きつける制御
を行うこともできる。実装基板5の半田付けが完成する
ためには、温度が上がりにくい部分で半田の融点以上に
なっている必要があるが、そのために温度が上がりやす
い部分では必要以上の温度になって部品の熱損傷を起こ
す可能性があったが、温度の上がりにくい部分を識別し
て積極的且つ集中的に加熱すると、実装基板5の上の温
度のバラツキが生じにくくなり、部品の熱損傷を防止す
ることができる。
Next, the operation of the reflow furnace shown in FIG. 5 will be described. Various parts having different sizes and different materials are mounted on the mounting board 5. Therefore, it is difficult for the temperature of the specific portion for a certain component to rise, and the temperature of the other specific portion for the other portion tends to rise.
Such a specific portion is determined / identified by the CCD camera 71, and the position where the moving speed of the entire heating unit 24 is slowed or approached is controlled for the portion where the temperature is hard to rise. It is also possible to change the distribution pattern of the heated gas blown from the heating unit 24 to the mounting substrate 5 and control to blow the heated gas at a higher temperature to the portion where the temperature is hard to rise. In order to complete the soldering of the mounting substrate 5, it is necessary that the temperature of the part where the temperature is hard to rise is equal to or higher than the melting point of the solder. If there is a possibility of causing damage, but if a portion where the temperature is unlikely to rise is identified and heated positively and intensively, variation in the temperature on the mounting substrate 5 is less likely to occur, and thermal damage to the components should be prevented. You can

【0044】この実装基板5の部分の認識に加えて、実
装基板5の表面の温度パターンを測定することができる
赤外線温度センサ78を併用することによって、実際の
表面の温度パターンを検出することができる。この表面
の温度パターンに応じて、加熱部24全体の移動速度や
高さを変化させたりづけたりする位置の制御を行った
り、加熱部24から吹きつけられる加熱気体の分布パタ
ーンを変化させる温度の制御を行う。すると、半田付け
する部分のみならず、実装基板5の表面の全体の温度が
均一になる。実装基板5の表面の温度にバラツキがある
と、半田が溶ける時間にズレを生じ、半田が溶けた瞬間
に生じる表面張力によって、両側の電極のうち一方が表
面張力でランドから離れてしまうチップ浮きやチップ立
ちという現象が生じることがあるが、実装基板5の表面
の温度を均一にすることで、半田が溶ける時間を一致さ
せることができ、チップ浮きやチップ立ちを防止するこ
とができる。
In addition to recognizing the portion of the mounting board 5, an infrared temperature sensor 78 capable of measuring the temperature pattern of the surface of the mounting board 5 is used in combination to detect the actual surface temperature pattern. it can. Depending on the temperature pattern of the surface, the moving speed and the height of the entire heating unit 24 are controlled or the position is controlled, or the distribution pattern of the heated gas blown from the heating unit 24 is changed. Take control. Then, the temperature of the entire surface of the mounting substrate 5 becomes uniform, not only the portion to be soldered. If the temperature of the surface of the mounting substrate 5 varies, the solder melts at a different time, and the surface tension generated at the moment when the solder melts causes one of the electrodes on both sides to separate from the land due to the surface tension. Although the phenomenon of chipping or chipping may occur, by making the temperature of the surface of the mounting substrate 5 uniform, it is possible to match the melting time of solder and prevent chipping or chipping.

【0045】なお、図5の実施形態では、実装基板5の
部分の認識を行う視覚認識手段のみならず、実装基板5
の表面の温度を測定するセンサ手段を併用する場合を説
明したが、実装基板5の部分の認識を行う視覚認識手段
だけ、又は実装基板5の表面の温度を測定するセンサ手
段だけを使用することによっても、部品の熱損傷やチッ
プ浮き等をある程度防止できる。
In the embodiment of FIG. 5, not only the visual recognition means for recognizing the portion of the mounting board 5 but also the mounting board 5 is used.
Although the case where the sensor means for measuring the surface temperature of the mounting board 5 is used together is explained, only the visual recognition means for recognizing the portion of the mounting board 5 or only the sensor means for measuring the surface temperature of the mounting board 5 is used. According to the above, it is possible to prevent the heat damage to the components and the floating of the chips to some extent.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のうち請求
項1記載の発明は、選択的に加熱気体を吹きつける加熱
部が設けられているため、フレキシブルな温度制御が可
能になり、低エネルギー化を実現することができるとい
う効果を奏する。
As described above, according to the first aspect of the present invention, since the heating portion for selectively blowing the heated gas is provided, the flexible temperature control can be performed, and the low temperature can be achieved. An effect that energy can be realized is achieved.

【0047】請求項2記載の発明は、請求項1の発明の
効果に加えて、電磁誘導加熱によって小型で高精度の温
度制御を可能にするという効果を奏する。
In addition to the effect of the invention of claim 1, the invention of claim 2 has an effect of enabling temperature control with small size and high accuracy by electromagnetic induction heating.

【0048】請求項3記載の発明は、請求項1又は2の
発明の効果に加えて、複数の加熱部の各々の温度制御に
よって実装基板の密度に応じた加熱ができるという効果
を奏する。
In addition to the effect of the invention of claim 1 or 2, the invention of claim 3 has an effect that heating can be performed according to the density of the mounting substrate by controlling the temperature of each of the plurality of heating parts.

【0049】請求項4記載の発明は、請求項1又は2の
発明の効果に加えて、移動可能な加熱部によって実装基
板の密度に応じた加熱ができるという効果を奏する。
In addition to the effect of the invention of claim 1 or 2, the invention of claim 4 has an effect that heating can be performed according to the density of the mounting substrate by the movable heating part.

【0050】請求項5記載の発明は、視覚認識手段で認
識された前記部分に対する前記加熱部の選択的な吹きつ
けを可能にする制御部を有し、実装基板上の部品のうち
温度が上がりやすいものであるか、又は温度が上がりに
くいものであるかを判別し、例えば温度が上がりにくい
ものに対してはその位置に積極的に吹きつけるというよ
うなきめ細かい制御が可能になり、部品の熱損傷を防止
できるという効果を奏する。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a control unit that enables the heating unit to be selectively blown onto the portion recognized by the visual recognition means, and the temperature of the components on the mounting board rises. It is possible to determine whether the temperature is easy or the temperature is hard to rise. This has the effect of preventing damage.

【0051】請求項6記載の発明は、センサ手段で測定
された前記実測基板の温度に応じて前記加熱部の選択的
な吹きつけを可能にする制御部を有し、実装基板をベー
スにしたきめ細かい温度制御を可能にするという効果を
奏する。
According to a sixth aspect of the present invention, the mounting board is used as a base, which has a control section that enables selective blowing of the heating section according to the temperature of the actually measured board measured by the sensor means. It has the effect of enabling fine temperature control.

【0052】請求項7記載の発明は、請求項6の発明の
効果に加えて、実装基板の表面全体の温度を均一にする
ことで、電極がランドから離れてしますチップ浮きやチ
ップ立ちというような異常現象を少なくすることができ
るいう効果を奏する。
According to the invention of claim 7, in addition to the effect of the invention of claim 6, the electrode is separated from the land by making the temperature of the entire surface of the mounting substrate uniform. This has the effect of reducing such abnormal phenomena.

【0053】請求項8記載の方法に関する発明は、請求
項1の発明と同様に、フレキシブルな温度制御を可能
し、低エネルギー化を実現することができるという効果
を奏する。
The invention relating to the method described in claim 8 has the effect that, like the invention of claim 1, flexible temperature control is possible and low energy can be realized.

【0054】請求項9記載の発明は、請求項8の発明の
効果に加えて、電磁誘導加熱によって高精度の温度制御
を可能にするという効果を奏する。
In addition to the effect of the invention of claim 8, the invention of claim 9 has the effect of enabling highly accurate temperature control by electromagnetic induction heating.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のリフロー炉の機器構成図である。FIG. 1 is a device configuration diagram of a reflow furnace of the present invention.

【図2】複数の加熱部による半田付け方法を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing a soldering method using a plurality of heating units.

【図3】加熱部の構造図である。FIG. 3 is a structural diagram of a heating unit.

【図4】移動可能な加熱部による半田付け方法を示す図
である。
FIG. 4 is a diagram showing a soldering method using a movable heating unit.

【図5】本発明の他のリフロー炉の機器構成図である。FIG. 5 is a device configuration diagram of another reflow furnace of the present invention.

【図6】赤外線温度センサとそのコントローラの機器構
成図である。
FIG. 6 is a device configuration diagram of an infrared temperature sensor and its controller.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リフロー炉 2 予備加熱室 3 本加熱室 24 加熱部(複数) 24a〜24i 電磁誘導加熱装置 27 ノズル 51 コラム 52 発熱体 53 コイル 61 第1金属板 62 第2金属板 71 CCDカメラ(視覚認識手段) 74 CCDカメラ用コントローラ(視覚認識手段) 75 パソコン(制御部、位置制御部、温度制御部) 78 赤外線温度センサ(センサ手段) 79 赤外線オンドセンサ用コントローラ(センサ手
段) 80a〜80n 温度調整部(温度制御手段) 81 X−Y−Z−θzステージ(位置制御手段)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reflow furnace 2 Pre-heating chamber 3 Main heating chamber 24 Heating part (plurality) 24a-24i Electromagnetic induction heating device 27 Nozzle 51 Column 52 Heat generating element 53 Coil 61 First metal plate 62 Second metal plate 71 CCD camera (visual recognition means) ) 74 CCD camera controller (visual recognition unit) 75 Personal computer (control unit, position control unit, temperature control unit) 78 Infrared temperature sensor (sensor unit) 79 Infrared ond sensor controller (sensor unit) 80a to 80n Temperature adjusting unit (temperature) Control means) 81 XYZ-θz stage (position control means)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 別所 聖文 京都府京都市右京区花園土堂町10番地 オ ムロン株式会社内 (72)発明者 川村 泰三 大阪府茨木市美沢町19番21号 株式会社瀬 田技研内 (72)発明者 内堀 義隆 大阪府茨木市美沢町19番21号 株式会社瀬 田技研内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Bessho Seibun, Omron Co., Ltd. 10 Hanazono Todo-cho, Ukyo-ku, Kyoto City, Kyoto Prefecture (72) Inventor Taizo Kawamura 19-21 Misawa-cho, Ibaraki-shi, Osaka Seta Giken (72) Inventor Yoshitaka Uchibori 19-21 Misawa-cho, Ibaraki-shi, Osaka Seta Giken Co., Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 コンベアで搬送される実装基板に加熱気
体を吹きつけて半田付けするリフロー炉であって、 前記実装基板の半田付けすべき部分に対して選択的に加
熱気体を吹きつける加熱部が設けられたことを特徴とす
るリフロー炉。
1. A reflow furnace for blowing heated gas to a mounting substrate conveyed by a conveyor for soldering, wherein a heating unit selectively blows the heating gas to a portion of the mounting substrate to be soldered. A reflow furnace characterized by being provided with.
【請求項2】 前記加熱部は、電磁誘導で発熱する発熱
体で気体を加熱するものである請求項1記載のリフロー
炉。
2. The reflow furnace according to claim 1, wherein the heating unit heats the gas with a heating element that generates heat by electromagnetic induction.
【請求項3】 前記加熱部は、前記実装基板に対して複
数設けられ、複数の加熱部の各々が温度調整可能である
請求項1又は2記載のリフロー炉。
3. The reflow furnace according to claim 1, wherein a plurality of the heating units are provided on the mounting substrate, and the temperature of each of the plurality of heating units can be adjusted.
【請求項4】 前記加熱部は、前記実装基板と平行な面
内で移動自在に設けられ、移動速度が調整可能である請
求項1又は2記載のリフロー炉。
4. The reflow furnace according to claim 1, wherein the heating unit is provided so as to be movable in a plane parallel to the mounting substrate, and the moving speed can be adjusted.
【請求項5】 コンベアで搬送される実装基板に加熱気
体を吹きつけて半田付けするリフロー炉であって、 前記実装基板に対して加熱気体を吹きつける加熱部と、 実装基板の半田付けすべき部分を認識する視覚認識手段
と、 前記視覚認識手段で認識された前記部分に対して、前記
加熱部からの加熱気体の吹きつけ位置、又は前記加熱部
からの加熱気体の温度の少なくとも一つを制御する制御
部と、 を備えてなることを特徴とするリフロー炉。
5. A reflow furnace for blowing heated solder to a mounting board conveyed by a conveyor for soldering, wherein a heating unit for blowing heated gas to the mounting board and soldering the mounting board Visual recognition means for recognizing a portion, with respect to the portion recognized by the visual recognition means, at least one of the blowing position of the heating gas from the heating portion, or the temperature of the heating gas from the heating portion. A reflow furnace comprising: a control unit for controlling.
【請求項6】 コンベアで搬送される実装基板に加熱気
体を吹きつけて半田付けするリフロー炉であって、 前記実装基板に加熱気体を吹きつける加熱部と、 前記実装基板の温度を測定するセンサ手段と、 前記センサ手段で測定された前記実測基板の温度に応じ
て、前記加熱部からの加熱気体の吹きつけ位置、又は前
記加熱部からの加熱気体の温度の少なくとも一つを制御
する制御部と、 を備えてなることを特徴とするリフロー炉。
6. A reflow furnace for blowing heated solder to a mounting substrate conveyed by a conveyor for soldering, and a heating unit for blowing the heating gas to the mounting substrate, and a sensor for measuring the temperature of the mounting substrate. And a control unit that controls at least one of a blowing position of the heated gas from the heating unit or a temperature of the heated gas from the heating unit according to the temperature of the actually measured substrate measured by the sensor unit. And a reflow furnace comprising:
【請求項7】 前記温度制御部は、前記実装基板の表面
の全体を均一にするように制御するものである請求項6
記載のリフロー炉。
7. The temperature control unit controls to make the entire surface of the mounting substrate uniform.
Reflow oven as described.
【請求項8】 コンベアで搬送される実装基板に加熱気
体を吹きつけるリフロー炉による半田付け方法であっ
て、 前記実装基板の半田付けすべき部分に対して選択的に加
熱気体を吹きつける加熱工程を含んでなることを特徴と
するリフロー炉における半田付け方法。
8. A soldering method using a reflow furnace for blowing heated gas to a mounting substrate conveyed by a conveyor, the heating step of selectively blowing heated gas to a portion of the mounting substrate to be soldered. A soldering method in a reflow furnace, comprising:
【請求項9】 前記加熱工程は、電磁誘導で発熱する発
熱体で気体を加熱する工程を有している請求項5記載の
半田付け装置。
9. The soldering apparatus according to claim 5, wherein the heating step includes a step of heating the gas with a heating element that generates heat by electromagnetic induction.
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