JPH09283603A - Semiconductor wafer detecting device - Google Patents

Semiconductor wafer detecting device

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JPH09283603A
JPH09283603A JP8838196A JP8838196A JPH09283603A JP H09283603 A JPH09283603 A JP H09283603A JP 8838196 A JP8838196 A JP 8838196A JP 8838196 A JP8838196 A JP 8838196A JP H09283603 A JPH09283603 A JP H09283603A
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JP
Japan
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semiconductor wafer
light
light emitting
wafer
ccd line
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8838196A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Katsura
寛 桂
Terunori Moriyama
照規 森山
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Mex KK
Original Assignee
Mex KK
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor wafer detecting device with which the presence/absence of a semiconductor wafer housed in a casette, its height and inclination can be detected accurately. SOLUTION: A vertically moving arm, having a light emitting part and a light receiving part 5, is arranged in a vertically movable manner on both sides of a casette 1 where a semiconductor wafer W is housed. An LED 14, as a light emitting means, and a lens 15, with which the light emitted from the LED 14 is converted to a parallel light, are arranged on the light emitting part 4, and a lens 16, with which the parallel light is condensed, and a CCD line senser 17, as an image input device, are arranged on the light receiving part 5. The lenses 15 and 16, a semiconductor wafer W and the CCD line senser 17 are arranged on the optical axis of the light emitted from the LED 14, and the picture of the semiconductor wafer W is displayed on the CCD line senser 17 by the light emitted from the LED 14. The whole picture of the semiconductor wafer W is image inputted, and the position, etc., of the entire semiconductor wafer W is accurately detected by the vertically moving arm which performs a reciprocating movement from the lower end to the top end of the casette 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、カセットに収納
された半導体ウェハの有無や、半導体ウェハがカセット
内の所定の位置に正確に格納されているかどうかを検出
する半導体ウェハ検出装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor wafer detecting device for detecting the presence / absence of a semiconductor wafer stored in a cassette and detecting whether or not the semiconductor wafer is accurately stored at a predetermined position in the cassette.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体ウェハが製造される過程
においては、ウェハに製版、エッチング、清浄等の各種
の工程を経なければならない。そのために、ウェハは、
各工程間を搬送装置(特にロボット等)によって搬送さ
れることになる。ウェハを搬送する際には、ウェハをま
とめて収納する収納カセットが用意され、収納されてい
るウェハの有無を検出装置により検出するようにしてい
た。従来、この検出装置としては、図5もしくは図6
(特開平4−44246号参照)に示されるような検出
装置が提案されていた。
2. Description of the Related Art Generally, in the process of manufacturing a semiconductor wafer, various steps such as plate making, etching and cleaning must be performed on the wafer. Therefore, the wafer is
Each process is transported by a transport device (particularly a robot or the like). When the wafers are transferred, a storage cassette for storing the wafers together is prepared, and the presence / absence of the stored wafers is detected by the detection device. Conventionally, as this detection device, as shown in FIG.
A detection device as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 4-44246 has been proposed.

【0003】図5に示される半導体ウェハ検出装置M1
は、キャリアケース31の前後に一組の発光部32と受
光部33を有する透過型光センサを配置し、そのセンサ
もしくはキャリアケース31を昇降機構により昇降動作
し、センサのON/OFFにより、キャリアケース内3
1の各溝に収納されているのウェハWの有無を検出して
いる。この装置M1では、ウェハWの有無を検出するに
は、検出対象のウェハWの厚さが薄いことから、ウェハ
Wに対し、光軸を傾けて光の斜光範囲を広げるように構
成されていた。
A semiconductor wafer detecting device M1 shown in FIG.
Is a transmission type optical sensor having a set of a light emitting section 32 and a light receiving section 33 arranged in front of and behind the carrier case 31, and the sensor or the carrier case 31 is moved up and down by an elevating mechanism. In case 3
The presence or absence of the wafer W stored in each groove 1 is detected. In order to detect the presence / absence of the wafer W, the apparatus M1 is configured to widen the oblique light range of the light by inclining the optical axis with respect to the wafer W because the thickness of the wafer W to be detected is small. .

【0004】また、図6に示される半導体ウェハ検出装
置M2は、半導体ウェハWが収納されたカセット41が
上下移動するエレベータ42上に載置されている。セン
サ固定台43に配設された2個の発光素子44が並設さ
れ、2個の発光素子44に対応する2個の受光素子45
が、カセット41を挟んで搬送装置の搬送アーム46上
に並設されている。そして、エレベータ42を徐々に下
降して1枚のウェハWの高さの位置に合わせて発光素子
44が出力され、光が遮断されるかどうかで半導体ウェ
ハWの有無が確認される。1枚の半導体ウェハWが確認
されると搬送アーム45が作動してウェハWを搬送す
る。そして順次、上方の半導体ウェハWの確認と搬送を
行なう。
The semiconductor wafer detection device M2 shown in FIG. 6 is mounted on an elevator 42 in which a cassette 41 containing a semiconductor wafer W moves up and down. Two light emitting elements 44 arranged on the sensor fixing base 43 are arranged side by side, and two light receiving elements 45 corresponding to the two light emitting elements 44 are provided.
Are arranged in parallel on the transfer arm 46 of the transfer device with the cassette 41 interposed therebetween. Then, the elevator 42 is gradually lowered to output the light emitting element 44 in accordance with the height position of one wafer W, and the presence or absence of the semiconductor wafer W is confirmed by whether or not the light is blocked. When one semiconductor wafer W is confirmed, the transfer arm 45 operates to transfer the wafer W. Then, the upper semiconductor wafer W is sequentially confirmed and transported.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、図5に示され
る半導体ウェハ検出装置M1は、発光部32と受光部3
3に対する前後方向にずれが生じると、上下方向に配列
されるウェハWの配列ピッチP′1、P′2、…に対
し、検出されるウェハWの配列ピッチp′1、p′2、
…は等しくならず、誤差が発生する。そのため、ウェハ
Wの高さ位置が正確に検出されない。また、1組の透過
型センサにおいては、ウェハWの左右段ずれがあると、
その傾きを正確に検出することができない。
However, in the semiconductor wafer detection apparatus M1 shown in FIG. 5, the light emitting section 32 and the light receiving section 3 are provided.
3 is displaced in the front-back direction, the arrangement pitches P′1, p′2, ... Of the wafers W to be detected are arranged with respect to the arrangement pitches P′1, P′2 ,.
... are not equal and an error occurs. Therefore, the height position of the wafer W is not accurately detected. Further, in the case of one set of transmissive sensors, if there is a lateral shift of the wafer W,
The tilt cannot be detected accurately.

【0006】また、図6に示される半導体ウェハ検出装
置M2は、発射される光を遮断するかどうかで半導体ウ
ェハWの有無を検出するため、発光素子44と受光素子
45に対する前後方向の位置や、半導体ウェハWの高さ
位置あるいは傾きに対する位置は正確には検出されな
い。
Further, the semiconductor wafer detection device M2 shown in FIG. 6 detects the presence or absence of the semiconductor wafer W depending on whether or not the emitted light is blocked. Therefore, the position in the front-back direction with respect to the light emitting element 44 and the light receiving element 45 and , The height position of the semiconductor wafer W or the position with respect to the inclination is not accurately detected.

【0007】この発明は、上述の課題を解決するもので
あり、カセットに収納されている半導体ウェハの有無、
あるいは高さ位置、傾きを正確に検出できる半導体ウェ
ハ検出装置を提供することを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned problems, and the presence or absence of semiconductor wafers stored in a cassette,
Alternatively, it is another object of the present invention to provide a semiconductor wafer detection device capable of accurately detecting the height position and the inclination.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明にかかわる半導
体ウェハ検出装置では、上記課題を解決するために、画
像入力装置を採用し、そのために平行光を発生する光源
手段を配設するようにするものであり、具体的には少な
くともカセットに収納される半導体ウェハの有無あるい
はその位置を検出するために、発光手段と受光手段を備
えてなる半導体ウェハ検出装置であって、前記受光手段
に画像入力装置が配設され、前記発光手段から発光され
る光が、前記受光手段に投射され、前記半導体ウェハを
前記画像入力装置に写し出すように構成されることを特
徴とするものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the semiconductor wafer detecting apparatus according to the present invention employs an image input device, and for that purpose, a light source means for generating parallel light is arranged. Specifically, there is provided a semiconductor wafer detection device comprising a light emitting means and a light receiving means for detecting at least the presence or the position of a semiconductor wafer housed in a cassette, and an image input to the light receiving means. A device is provided, and the light emitted from the light emitting means is projected onto the light receiving means to project the semiconductor wafer onto the image input device.

【0009】また、前記発光手段が発光源と前記発光源
から発射される光を平行光に変換する光学素子とを備え
て構成され、前記受光手段が前記平行光を集光する光学
素子と前記画像入力装置とを備えて構成されることを特
徴とするものであれば好ましい。
Further, the light emitting means comprises a light emitting source and an optical element for converting light emitted from the light emitting source into parallel light, and the light receiving means includes an optical element for converging the parallel light. An image input device is preferably used as long as it is configured.

【0010】さらに、前記画像入力装置がCCDライン
センサであることを特徴とするものであればなお好まし
い。
Further, it is more preferable that the image input device is a CCD line sensor.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面に基づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】図1は、半導体ウェハ検出装置Mの全体図
を示すものであり、カセット1は前後方向が解放されて
いて、両側内壁には、上下方向に複数の段部2が形成さ
れている。それぞれの段部2に配列検出対象の半導体ウ
ェハ(以下、ウェハという)Wが収納されている。カセ
ット1はステージ3上に載置され、カセット1の解放さ
れている側の方向に対して、発光部4と受光部5をそれ
ぞれ両側に配設する昇降アーム7が、上下方向に移動可
能に配設されている。昇降アーム7の中央部は駆動ねじ
6が螺合され、駆動ねじ6は昇降アーム7の下部に配設
される昇降駆動モータ9によってベルト8を介して駆動
される。
FIG. 1 shows an overall view of the semiconductor wafer detecting apparatus M. The cassette 1 is open in the front-rear direction, and a plurality of step portions 2 are formed in the up-down direction on both inner walls. . A semiconductor wafer (hereinafter, referred to as a wafer) W to be array-detected is housed in each step 2. The cassette 1 is placed on the stage 3, and an elevating arm 7 having a light emitting unit 4 and a light receiving unit 5 on both sides is movable in the vertical direction with respect to the direction in which the cassette 1 is released. It is arranged. A drive screw 6 is screwed into the central portion of the lifting arm 7, and the driving screw 6 is driven by a lifting drive motor 9 arranged below the lifting arm 7 via a belt 8.

【0013】昇降駆動モータ9の下部には、昇降位置検
出エンコーダー10が取り付けられ、検出されるデータ
を記憶し解析する制御装置11に接続される。制御装置
11には通信ポート12が配設され、外部機器に情報を
送るようになっている。
An elevation position detection encoder 10 is attached to the lower part of the elevation drive motor 9 and is connected to a control device 11 which stores and analyzes the detected data. The control device 11 is provided with a communication port 12 to send information to an external device.

【0014】図2は、本発明の主要部をなす部分であ
り、発光部4と受光部5の詳細が示されている。発光部
4は、光源手段としてのLED14と、LED14の前
方(図中左側)に配設され、LED14から発射される
光Rを平行光に変換するレンズ15とを備えて構成され
ている。また、受光部5は、発光部4側に平行光を集光
するレンズ16とレンズ16との前方に配設される画像
入力装置としてのCCDラインセンサ17とを備えて構
成されている。発光部4と受光部5との間に、カセット
1内に収納されるウェハWが配置され、レンズ15、ウ
ェハW、レンズ16、CCDラインセンサ17の中心線
がLED14から発射される光軸と一致するように配置
されている。従って、発光部4から発射される光Rは、
レンズ15を介してCCDラインセンサ17に入光す
る。光軸上にウェハWがあればCCDラインセンサ17
への光が遮断される。よって、CCDラインセンサ17
を上下方向に走査しながらCCDラインセンサ17の信
号を記憶装置に貯え、その記憶装置の内容からカセット
1に納められている各ウェハWの位置と傾きが検出でき
る。
FIG. 2 shows the details of the light emitting section 4 and the light receiving section 5 which are the main parts of the present invention. The light emitting section 4 is provided with an LED 14 as a light source means, and a lens 15 which is disposed in front of the LED 14 (on the left side in the drawing) and which converts the light R emitted from the LED 14 into parallel light. Further, the light receiving section 5 is configured to include a lens 16 for converging parallel light on the light emitting section 4 side and a CCD line sensor 17 as an image input device arranged in front of the lens 16. A wafer W housed in the cassette 1 is arranged between the light emitting unit 4 and the light receiving unit 5, and the center lines of the lens 15, the wafer W, the lens 16, and the CCD line sensor 17 are the optical axes emitted from the LEDs 14. It is arranged to match. Therefore, the light R emitted from the light emitting unit 4 is
Light enters the CCD line sensor 17 through the lens 15. If there is a wafer W on the optical axis, CCD line sensor 17
Light is blocked. Therefore, the CCD line sensor 17
The signal of the CCD line sensor 17 is stored in the storage device while scanning the vertical direction, and the position and inclination of each wafer W stored in the cassette 1 can be detected from the contents of the storage device.

【0015】このように構成される半導体ウェハ検出装
置Mは、ステージ3上に配置されるカセット1を挟むよ
うに昇降アーム7が昇降駆動モータ9によって上方に移
動される。昇降アーム7の発光部4と受光部5が、カセ
ット1内の最下段に収納されるウェハW1の高さの位置
に到達すると、発光部4のLED14から発射されてい
る光はウェハW1に遮られ、CCDラインセンサ17に
ウェハW1の画像が取り込まれる。昇降アーム7は連続
的に上昇されているので、上昇しながらウェハW1、す
ぐ上段のウェハW2を画像に取り込み、順次ウェハWを
CCDラインセンサ17に画像を取り込む。そして、最
上段の位置に達すると、昇降アーム7はカセット1の下
方に復帰される。
In the semiconductor wafer detection apparatus M having the above structure, the elevating arm 7 is moved upward by the elevating drive motor 9 so as to sandwich the cassette 1 placed on the stage 3. When the light emitting part 4 and the light receiving part 5 of the lifting arm 7 reach the position of the height of the wafer W1 housed in the lowermost stage of the cassette 1, the light emitted from the LED 14 of the light emitting part 4 is blocked by the wafer W1. Then, the image of the wafer W1 is captured by the CCD line sensor 17. Since the elevating arm 7 is continuously raised, the wafer W1 and the wafer W2 immediately above are captured in the image while being raised, and the images of the wafer W are sequentially captured in the CCD line sensor 17. When the uppermost position is reached, the elevating arm 7 is returned below the cassette 1.

【0016】次に、図3のブロック図に従いさらに具体
的な動作原理を説明する。
Next, a more specific operation principle will be described with reference to the block diagram of FIG.

【0017】RS−232Cの通信により外部機器から
の動作開始指令をドライバ29を開始UART28で受
信し、CPU22へ伝達する。CPU22ではその動作
開始指令を受け、I/O21へ昇降動作開始指令を送
り、その指令はパルス生成、ドライバ27を介して昇降
駆動モータ9を駆動し、昇降アーム7の上昇動作を開始
する。
The driver 29 starts the UART 28 to receive an operation start command from an external device through the communication of RS-232C, and transmits it to the CPU 22. Upon receiving the operation start command, the CPU 22 sends a lifting / lowering operation start command to the I / O 21, and the command generates a pulse and drives the lifting / lowering drive motor 9 via the driver 27 to start the lifting / lowering operation of the lifting / lowering arm 7.

【0018】昇降アーム7の上昇動作により昇降位置検
出エンコーダ10は、移動量に応じたパルスを出力し、
アップダウンカウンタ20でそのパルスをカウントする
ことにより昇降アーム7の位置を検出する。一方、昇降
位置検出エンコーダー10のパルスは割込発生ロジック
23に接続されていて、割込発生ロジック23では、予
め決められた移動量毎に割込信号をCPU22に送ると
ともに、CCD駆動パルス発生手段に受光データ取り込
み指令を送る。
The ascending / descending operation of the ascending / descending arm 7 causes the ascending / descending position detection encoder 10 to output a pulse corresponding to the amount of movement,
The position of the lifting arm 7 is detected by counting the pulses with the up / down counter 20. On the other hand, the pulse of the ascending / descending position detection encoder 10 is connected to the interrupt generating logic 23. The interrupt generating logic 23 sends an interrupt signal to the CPU 22 for each predetermined movement amount, and at the same time, a CCD drive pulse generating means. Send the received light data acquisition command to.

【0019】CCD駆動パルス発生手段では、受光デー
タ取り込み指令を受け、CCDラインセンサ17を駆動
し、CCDラインセンサ17は受光データをサンプル&
ホールド24を介してA/D変換器25に1画素づつ受
光データを送る。A/D変換器25ではアナログ電圧の
受光データをディジタル値に変換する。
The CCD drive pulse generating means receives the received light data fetching command, drives the CCD line sensor 17, and the CCD line sensor 17 samples the received light data.
The received light data is sent to the A / D converter 25 pixel by pixel via the hold 24. The A / D converter 25 converts the received light data of analog voltage into a digital value.

【0020】割込信号を受けたCPU22はディジタル
値に変換された受光データをCCDラインセンサ17の
画素数分読み込みながら、メモり26へ格納する。メモ
り26に格納されたデータは図4(a)に示される画像
イメージとして取り込まれる。
Upon receiving the interrupt signal, the CPU 22 stores the received light data converted into a digital value in the memory 26 while reading the number of pixels of the CCD line sensor 17. The data stored in the memory 26 is taken in as the image shown in FIG.

【0021】この画像イメージのデータから、ウェハW
の高さ位置、傾きを求めることができる。1画素Gのサ
イズは予め、決められているので、上下に配列されるウ
ェハWのピッチはP1、P2、…で表される。また、ウ
ェハの傾きθは、データイメージの幅をTとし、対象ウ
ェハWの左側の高さをH1、右側の高さをH2とする
と、θ=atan(H1−H2)/Tで求めることがで
きる。
From the image data, the wafer W
The height position and inclination of can be calculated. Since the size of one pixel G is predetermined, the pitch of the wafers W arranged vertically is represented by P1, P2, .... Further, the inclination θ of the wafer can be obtained by θ = atan (H1−H2) / T, where T is the width of the data image, H1 is the height on the left side of the target wafer W, and H2 is the height on the right side. it can.

【0022】このようにして、それぞれのウェハWの高
さ位置、傾き、また、有無をCPU内で演算した後、U
ART28に出力され、ドライバ29から通信ポート1
2を介して、外部機器に伝達される。
In this way, after the height position, inclination, and presence / absence of each wafer W are calculated in the CPU, U
It is output to the ART 28, and the communication port 1 is output from the driver 29.
2 is transmitted to an external device.

【0023】また、昇降アーム7の高さ位置はCPU2
2で演算された後、I/O21を介してパルス生成ドラ
イバ27に送られ、駆動モータ9に指令される。そし
て、再び昇降アーム7を上方に駆動させ、順次、ウェハ
Wの高さ位置、傾き、有無を検出する。
The height position of the elevating arm 7 is the CPU 2
After being calculated by 2, it is sent to the pulse generation driver 27 via the I / O 21 and is instructed to the drive motor 9. Then, the elevating arm 7 is driven upward again, and the height position, inclination, and presence / absence of the wafer W are sequentially detected.

【0024】従って、カセット1に収納されているウェ
ハWの高さ位置、傾き、及び有無に関する情報を次工程
で行われる作業に対し、予め、伝えることができ、次工
程に配置されるロボットに指令準備することができる。
例えば、次工程の作業内容がウェハのオリフラ位置を修
正するために、ウェハWを取り出してオリフラ位置合わ
せ装置に搬送するものであれば、すでに、カセット2内
に収納されている全てのウェハWの位置が検出されてい
るので、ロボットはその指令に従って、無駄なくその作
業をすることができる。
Therefore, information about the height position, inclination, and presence / absence of the wafer W stored in the cassette 1 can be transmitted to the work performed in the next step in advance, and the information can be transmitted to the robot arranged in the next step. Orders can be prepared.
For example, if the work content of the next step is to take out the wafer W and carry it to the orientation flat alignment device in order to correct the orientation flat position of the wafer, all the wafers W already stored in the cassette 2 will be stored. Since the position is detected, the robot can perform its work efficiently according to the command.

【0025】なお、本実施の形態においては、昇降アー
ム7を上下移動するようにしているが、これに限られる
ものではなく、ウェハWが収納されるカセット1を上下
移動するようにしてもよい。
In the present embodiment, the elevating arm 7 is moved up and down, but the present invention is not limited to this, and the cassette 1 in which the wafer W is stored may be moved up and down. .

【0026】また、画像入力装置はCCDラインセンサ
でなくても、画像入力できるものであればどれでもよ
い。さらに、光学素子は発散光を平行光に変換できるも
のであればどれでもよい。
Further, the image input device is not limited to the CCD line sensor, but may be any device capable of inputting an image. Further, the optical element may be any one capable of converting divergent light into parallel light.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明によれば、半導体ウェハ検出装置
は、少なくともカセットに収納される半導体ウェハの有
無あるいはその位置を検出するために、発光手段と受光
手段を備え、前記受光手段に画像入力装置が配設され、
前記発光手段から発光される光が、前記半導体ウェハの
厚みより広い範囲で前記受光手段に投射される。そし
て、前記半導体ウェハを前記画像入力装置に写し出すこ
とによってその画像が検出される。そのため、半導体ウ
ェハの有無や半導体ウェハの高さの位置、あるいは傾き
状態を正確に検出することができる。
According to the present invention, the semiconductor wafer detecting apparatus is provided with the light emitting means and the light receiving means for detecting at least the presence or the position of the semiconductor wafer housed in the cassette, and the image receiving means receives the image. The device is installed,
The light emitted from the light emitting means is projected onto the light receiving means in a range wider than the thickness of the semiconductor wafer. Then, the image is detected by projecting the semiconductor wafer onto the image input device. Therefore, the presence or absence of the semiconductor wafer, the position of the height of the semiconductor wafer, or the tilted state can be accurately detected.

【0028】また、前記発光手段が発光源と前記発光源
から発射される光を平行光に変換する光学素子とを備え
て構成され、前記受光手段が前記平行光を集光する光学
素子と前記画像入力装置としてのCCDラインセンサを
備えて構成されている。そのため、厚みの薄い半導体ウ
ェハを従来のように発光部からの光を斜めに投射する必
要がなく、半導体ウェハの有無・高さ方向の位置・傾き
を正確に検出することができる。
Further, the light emitting means comprises a light emitting source and an optical element for converting light emitted from the light emitting source into parallel light, and the light receiving means includes an optical element for converging the parallel light and the optical element. A CCD line sensor as an image input device is provided. Therefore, unlike the conventional case, it is not necessary to obliquely project the light from the light emitting portion on the thin semiconductor wafer, and the presence / absence of the semiconductor wafer, the position in the height direction, and the inclination can be accurately detected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態による半導体ウェハ検出
装置を示す全体図
FIG. 1 is an overall view showing a semiconductor wafer detection device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1における発光部と受光部と半導体ウェハの
位置関係を示す図
FIG. 2 is a diagram showing a positional relationship among a light emitting portion, a light receiving portion, and a semiconductor wafer in FIG.

【図3】図1における制御装置のブロック図FIG. 3 is a block diagram of a control device in FIG.

【図4】半導体ウェハのデータイメージを示す図FIG. 4 is a diagram showing a data image of a semiconductor wafer.

【図5】従来の半導体ウェハ検出装置における発光部と
受光部と半導体ウェハの位置関係を示す図
FIG. 5 is a diagram showing a positional relationship between a light emitting portion, a light receiving portion, and a semiconductor wafer in a conventional semiconductor wafer detection device.

【図6】従来の別の半導体ウェハ検出装置を示す図FIG. 6 is a view showing another conventional semiconductor wafer detection device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…カセット 4…発光部 5…受光部 7…昇降アーム 14…LED(発光源) 15、16…レンズ(光学素子) 17…CCDラインセンサ(画像入力装置) M…半導体ウェハ検出装置 W…半導体ウェハ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cassette 4 ... Light emitting part 5 ... Light receiving part 7 ... Elevating arm 14 ... LED (light emitting source) 15, 16 ... Lens (optical element) 17 ... CCD line sensor (image input device) M ... Semiconductor wafer detection device W ... Semiconductor Wafer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくともカセットに収納される半導体
ウェハの有無あるいはその位置を検出するために、発光
手段と受光手段を備えてなる半導体ウェハ検出装置であ
って、 前記受光手段に画像入力装置が配設され、前記発光手段
から発射される光が、前記受光手段に投射され、前記半
導体ウェハを前記画像入力装置に写し出すように構成さ
れることを特徴とする半導体ウェハ検出装置。
1. A semiconductor wafer detecting device comprising a light emitting means and a light receiving means for detecting the presence or absence of a semiconductor wafer or its position contained in at least a cassette, wherein an image input device is arranged in the light receiving means. A semiconductor wafer detecting device, which is arranged so that light emitted from the light emitting means is projected onto the light receiving means to project the semiconductor wafer onto the image input device.
【請求項2】 前記発光手段が発光源と前記発光源から
発射される光を平行光に変換する光学素子とを備えて構
成され、前記受光手段が前記平行光を集光する光学素子
と前記画像入力装置とを備えて構成されることを特徴と
する請求項1記載の半導体ウェハ検出装置。
2. The light emitting means comprises a light emitting source and an optical element for converting light emitted from the light emitting source into parallel light, and the light receiving means collects the parallel light and the optical element. 2. The semiconductor wafer detecting device according to claim 1, wherein the semiconductor wafer detecting device comprises an image input device.
【請求項3】 前記画像入力装置がCCDラインセンサ
であることを特徴とする請求項1もしくは請求項2記載
の半導体ウェハ検出装置。
3. The semiconductor wafer detection device according to claim 1, wherein the image input device is a CCD line sensor.
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