JPH09269481A - Production of color liquid crystal display element - Google Patents

Production of color liquid crystal display element

Info

Publication number
JPH09269481A
JPH09269481A JP8103246A JP10324696A JPH09269481A JP H09269481 A JPH09269481 A JP H09269481A JP 8103246 A JP8103246 A JP 8103246A JP 10324696 A JP10324696 A JP 10324696A JP H09269481 A JPH09269481 A JP H09269481A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
liquid crystal
coating
crystal display
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP8103246A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Hoshino
博史 星野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Display Corp
Original Assignee
Kyocera Display Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Display Corp filed Critical Kyocera Display Corp
Priority to JP8103246A priority Critical patent/JPH09269481A/en
Publication of JPH09269481A publication Critical patent/JPH09269481A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance the adhesion property of an inorg. film and org. film when a protective film for protecting a color filter layer or its flattening layer from plasma is formed at the time of forming the film of ITO(indium tin oxide) by sputtering on this color filter layer or its flattening film by coating and firing type ceramics. SOLUTION: The coating and firing type ceramic film is formed between the color filter layer or the flattening film and a transparent driving electrode at the time of obtaining the transparent substrate constituted by forming the transparent driving electrode on the flattening film after the color filter layer and the flattening film consisting of the org. material are successively formed on a glass substrate. The ceramic precursors of the coating and firing type ceramic film are partly acted on the org. material of the flattening film at the time of forming the ceramic film described above, by which the inorg.-org. composite layer is formed at the boundary part.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はカラー液晶表示素子
の製造方法に関し、さらに詳しく言えば、カラーフィル
ター層と透明駆動電極との間に塗布焼成型セラミックか
らなる保護膜を有するカラー液晶表示素子の製造方法に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color liquid crystal display device, and more particularly, to a color liquid crystal display device having a protective film made of a coating and firing type ceramic between a color filter layer and a transparent driving electrode. The present invention relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラー液晶表示素子は、カラーフィルタ
ー層を有する第1基板と、カラーフィルター層がない以
外は第1基板と同じ工程を経て得られる第2基板とをス
ペーサやシール材を介して対向的に組み合わせたものよ
りなるが、図3にはそのカラーフィルター層を有する第
1基板側の層構成が図解されている。
2. Description of the Related Art In a color liquid crystal display device, a first substrate having a color filter layer and a second substrate obtained through the same steps as the first substrate except that the color filter layer is not provided are provided with a spacer or a sealing material. Although it is composed of two elements facing each other, FIG. 3 illustrates the layer structure on the side of the first substrate having the color filter layer.

【0003】すなわち、第1基板側においては、まず、
透明ガラス基板上にカラーフィルター層が設けられる
が、例えばSTN(Super Twisted Ne
matic)カラー表示用に用いられるカラーフィルタ
ー層は、そのほとんどが製法にかかわらず、RGBの各
画素およびブラックマトリックス部の凹凸が0.05ミ
クロンまたはそれ以上であるため、大抵の場合、そのカ
ラーフィルター層上に平坦化膜(層)を形成するように
している。
That is, on the side of the first substrate, first,
A color filter layer is provided on a transparent glass substrate, for example, STN (Super Twisted Ne).
Most of the color filter layers used for color display have irregularities of each pixel of RGB and the black matrix portion of 0.05 μm or more, regardless of the manufacturing method. A flattening film (layer) is formed on the layer.

【0004】この平坦化膜は、通常有機高分子材からな
るため、この上に直接駆動電極形成用の透明導電膜(I
TO;インジウムスズ酸化物)を形成しようとすると、
その成膜時に平坦化膜の劣化などの問題が生ずる。そこ
で、従来では平坦化膜上にスパッタ法でシリカ膜を形成
した上で、透明導電膜を形成するようにしている。
Since this flattening film is usually made of an organic polymer material, a transparent conductive film (I) for forming drive electrodes is directly formed on the flattening film.
TO: indium tin oxide)
Problems such as deterioration of the flattening film occur during the film formation. Therefore, conventionally, a transparent conductive film is formed after forming a silica film on the flattening film by a sputtering method.

【0005】このシリカ膜の存在により、ITOスパッ
タ成膜時に平坦化膜がそのプラズマに晒されて劣化する
のが防止されることに加えて、ITO膜のパターニング
精度の向上が図られる。すなわち、シリカ膜がない場合
には、そのパターニング時にレジストと平坦化膜との密
着性が良くないためにサイドエッチが生ずるが、シリカ
膜の存在によりそのサイドエッチが減少する。
The presence of the silica film prevents the flattening film from being exposed to the plasma and deteriorating during the ITO sputtering film formation, and also improves the patterning accuracy of the ITO film. That is, when there is no silica film, side etching occurs due to poor adhesion between the resist and the flattening film during patterning, but the presence of the silica film reduces the side etching.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、シリカの成
膜速度はスパッタ出力に比例するが、シリカのスパッタ
速度はきわめて遅いため、生産性を高めるにはスパッタ
出力を上げなければならない。しかしながら、スパッタ
出力を上げるとその際のプラズマによって平坦化膜が甚
だしく劣化され、パネルとしての信頼性が損なわれる。
もっとも、これを防止するにはスパッタ出力を下げれば
良いのであるが、他方において生産性の低下は否めな
い。
By the way, although the film formation rate of silica is proportional to the sputter output, the sputter rate of silica is extremely slow, and therefore the sputter output must be increased in order to improve productivity. However, when the sputter output is increased, the flattening film is extremely deteriorated by the plasma at that time, and the reliability of the panel is impaired.
Of course, in order to prevent this, the sputter output can be reduced, but on the other hand, the productivity cannot be reduced.

【0007】そこで、本発明者は鋭意研究した結果、平
坦化膜の保護手段としてスパッタによるシリカ膜に代え
て、塗布焼成型のセラミック膜を用いることにより、上
記従来の問題を解決し、生産性の向上を達成するに至っ
たが、なおも次のような懸念が残されている。
Therefore, as a result of earnest studies, the present inventor has solved the above-mentioned conventional problems by using a coating and firing type ceramic film instead of the silica film by sputtering as a means for protecting the flattening film, thereby improving the productivity. However, the following concerns still remain.

【0008】すなわち、セラミック膜(無機高分子膜)
は往々にして熱膨張率が小さく、架橋密度がきわめて大
で柔軟性に欠けるきらいがあるため、ともするとその下
地の有機質からなる平坦化膜との密着性が十分でない場
合が予想され、クラックや剥離が生ずるおそれがある。
That is, a ceramic film (inorganic polymer film)
Often has a small coefficient of thermal expansion, has a very high crosslink density, and tends to lack flexibility, so it is expected that the adhesion to the underlying planarizing film made of an organic material may not be sufficient, and cracks and Peeling may occur.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明はさらにこの点を
解決するためになされたもので、請求項1においては、
図1に示されているように、ガラス基板上にともに有機
質からなるカラーフィルター層および平坦化膜を順次形
成した後、その平坦化膜上に透明駆動電極を形成してな
る透明基板を一方の基板として有するカラー液晶表示素
子の製造方法において、上記平坦化膜と上記透明駆動電
極との間に塗布焼成型セラミック膜を形成するととも
に、同塗布焼成型セラミック膜形成時にそのセラミック
前駆体の一部を上記平坦化膜の有機質に作用させて、無
機−有機複合層を形成することを特徴としている。
The present invention has been made to further solve this problem. In Claim 1,
As shown in FIG. 1, a transparent substrate formed by sequentially forming a color filter layer and a planarizing film both made of an organic material on a glass substrate and then forming a transparent drive electrode on the planarizing film is used. In the method for manufacturing a color liquid crystal display device as a substrate, a coating and firing type ceramic film is formed between the flattening film and the transparent drive electrode, and a part of the ceramic precursor is formed during the formation of the coating and firing type ceramic film. To act on the organic substance of the planarizing film to form an inorganic-organic composite layer.

【0010】また、請求項2では、図2に示されている
ように、ガラス基板上にカラーフィルター層と透明駆動
電極とを順次形成してなる透明基板を一方の基板として
有するカラー液晶表示素子の製造方法において、上記カ
ラーフィルター層と上記透明駆動電極との間に塗布焼成
型セラミック膜を形成するとともに、同塗布焼成型セラ
ミック膜形成時にそのセラミック前駆体の一部を上記カ
ラーフィルター層の有機質に作用させて、無機−有機複
合層を形成することを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, as shown in FIG. 2, a color liquid crystal display device having a transparent substrate formed by sequentially forming a color filter layer and a transparent drive electrode on a glass substrate as one substrate. In the method for producing, a coating and firing type ceramic film is formed between the color filter layer and the transparent drive electrode, and at the time of forming the coating and firing type ceramic film, a part of the ceramic precursor is made into an organic substance of the color filter layer. To form an inorganic-organic composite layer.

【0011】なお、請求項1における平坦化膜は例えば
エポキシアクリル型など、一般的に使用されている有機
高分子であってよい。また、請求項2のように、塗布焼
成型セラミック膜を直接カラーフィルター層上に形成す
ることもできるが、この場合カラーフィルター層として
は、通常、STNカラー液晶表示素子に使用されてい
る、例えば電着方式や顔料分散型などにより形成される
ものであってよい。
The flattening film in claim 1 may be a commonly used organic polymer such as an epoxy acrylic type. Further, as in claim 2, the coating and firing type ceramic film can be directly formed on the color filter layer. In this case, the color filter layer is usually used in STN color liquid crystal display elements, for example, It may be formed by an electrodeposition method or a pigment dispersion type.

【0012】いずれにしても、塗布焼成型セラミック膜
とその下地の有機質である平坦化膜もしくはカラーフィ
ルター層との間に無機−有機複合層が形成されるため、
両者の間に十分な密着性が得られることになる。
In any case, since the inorganic-organic composite layer is formed between the coating and firing type ceramic film and the underlying flattening film or color filter layer,
Sufficient adhesion is obtained between the two.

【0013】そして、請求項3に記載されているよう
に、この場合の無機−有機複合層は有機質の深部に至る
にしたがってその無機成分の含有濃度が低くなる濃度勾
配を備えていることが好ましい。換言すれば、この無機
−有機複合層は有機質の表面側ほど無機成分の含有率が
高い濃度勾配をもったいわゆる傾斜した材質であるとよ
い。
Further, as described in claim 3, it is preferable that the inorganic-organic composite layer in this case has a concentration gradient in which the content concentration of the inorganic component decreases as the depth of the organic substance increases. . In other words, the inorganic-organic composite layer is preferably a so-called inclined material having a concentration gradient in which the content of the inorganic component is higher on the organic surface side.

【0014】このような濃度勾配を有する無機−有機複
合層を形成するには、次の3つの方法が効果的である。
その第1の方法としては、請求項4に記載されているよ
うに、有機質の薄膜に塗布焼成型セラミック前駆体を含
浸させてそれらを同時に焼成する。これによれば、セラ
ミックの前駆体が有機質膜の深部にまで達するが、有機
質膜の表面側ほどその無機成分の濃度が高い濃度勾配を
有する複合層が得られる。
The following three methods are effective for forming an inorganic-organic composite layer having such a concentration gradient.
As a first method, as described in claim 4, an organic thin film is impregnated with a coating / firing type ceramic precursor, and they are simultaneously fired. According to this, although the ceramic precursor reaches the deep part of the organic film, a composite layer having a concentration gradient in which the concentration of the inorganic component is higher on the surface side of the organic film can be obtained.

【0015】第2の方法としては、請求項5に記載され
ているように、有機質の薄膜を塗布乾燥した後、その上
にセラミック前駆体を塗布し、それらを同時に焼成して
硬化させる。これによれば、有機質が硬化前の緻密でな
い状態でセラミック前駆体が有機質の深部にまで浸透す
るため、上記と同じく有機質膜の表面側ほどその無機成
分の濃度が高い濃度勾配を有する複合層が得られる。
As a second method, as described in claim 5, after coating and drying an organic thin film, a ceramic precursor is coated thereon and simultaneously baked and cured. According to this, since the ceramic precursor permeates deep into the organic matter in a state where the organic matter is not dense before curing, a composite layer having a concentration gradient in which the concentration of the inorganic component is higher on the surface side of the organic film is similar to the above. can get.

【0016】第3の方法としては、請求項6に記載され
ているように、有機質を多孔質の薄膜とし、塗布焼成型
セラミック前駆体を塗布してその多孔質内に含浸させて
焼成する方法である。この場合、有機質膜を多孔質にす
るには、例えば溶剤を乾燥させないで硬化させ、硬化後
に脱溶剤する方法がある。その場合、溶剤を加熱により
除去してもよいが、低沸点の溶剤で一旦置換し、それを
乾燥揮発させてもよい。
As a third method, as described in claim 6, a method of forming a porous thin film of an organic substance, applying a coating and firing type ceramic precursor, impregnating the inside of the porous substance and firing. Is. In this case, in order to make the organic film porous, for example, there is a method of curing the solvent without drying and removing the solvent after curing. In that case, the solvent may be removed by heating, but the solvent may be once replaced with a solvent having a low boiling point and then dried and volatilized.

【0017】その他、無機−有機複合層に濃度勾配を効
率的に付ける工夫としては、セラミック前駆体の拡散速
度を適宜上げる方法を選択することができ、例えばその
前駆体の分子量を下げる、有機質の極性に近い溶剤を使
用する、含浸の温度や圧力を調整する、などの種々の方
法が例示できる。
In addition, as a device for efficiently providing a concentration gradient to the inorganic-organic composite layer, a method of appropriately increasing the diffusion rate of the ceramic precursor can be selected. For example, the molecular weight of the precursor can be reduced to reduce the organic substance. Various methods such as using a solvent having a polarity close to that of controlling the impregnation temperature and pressure can be exemplified.

【0018】また、塗布焼成型セラミック前駆体として
は必ずしも特殊なものである必要はなく、好ましくは請
求項7に記載されているように、ペルヒドロシラザン、
もしくは金属アルコキシドまたはその部分加水分解物を
挙げることができる。
Further, the coating and firing type ceramic precursor does not necessarily have to be a special one, and preferably, as described in claim 7, perhydrosilazane,
Alternatively, a metal alkoxide or a partial hydrolyzate thereof can be mentioned.

【0019】すなわち、金属アルコキシド類は一般式と
して、 MR(OR)4−n で表されるもの(ここでMは金属原子、Rはアルキル
基、nは0または1〜3の整数をそれぞれ示す)や、そ
れらの部分加水分解物が使用可能である。
That is, the metal alkoxides are represented by the general formula: MR n (OR) 4-n (where M is a metal atom, R is an alkyl group, and n is an integer of 0 or 1 to 3, respectively). And the partial hydrolyzate thereof can be used.

【0020】要するに、本発明で必要とされる条件は、
低温焼成で緻密な膜が形成されることであり、その低温
焼成の温度としては、有機高分子からなる平坦化膜もし
くはカラーフィルター層を熱分解しない程度の温度、3
00℃以下好ましくは270℃以下である。このような
温度で成膜を実現し得る材料としては、ペルヒドロポリ
シラザン、シリコンテトラメトキシドあるいはこれらの
誘導体が好適である。
In summary, the conditions required in the present invention are:
A dense film is formed by low-temperature baking, and the low-temperature baking temperature is a temperature at which the planarizing film made of an organic polymer or the color filter layer is not thermally decomposed.
The temperature is 00 ° C or lower, preferably 270 ° C or lower. Perhydropolysilazane, silicon tetramethoxide, or a derivative thereof is suitable as a material capable of realizing film formation at such a temperature.

【0021】なお、セラミック前駆体としては、有機変
性が部分的に行なわれていてもよい。しかしながら、有
機変性の程度が大きすぎると、ITOスパッタ時に劣化
が生ずるおそれがあるが、適量であると有機質との良好
な馴染みが期待できる。その有機変性の方法としては、
金属アルコキシドに一般にシランカップリング剤として
知られる一連の有機シラン化合物を作用させる方法が例
示できる。
The ceramic precursor may be partially organically modified. However, if the degree of organic modification is too large, deterioration may occur during ITO sputtering, but if it is an appropriate amount, good compatibility with organic matter can be expected. As the method of organic modification,
A method of reacting a metal alkoxide with a series of organic silane compounds generally known as a silane coupling agent can be exemplified.

【0022】上記のようにして形成したセラミック膜の
上にスパッタ法により透明導電膜(ITO膜)を形成し
パターニングして駆動電極を形成する(図1および図2
参照)。そして、カラー液晶表示素子とするには、配向
処理を行なった駆動電極付きの基板を2枚(もっとも、
その内の1の枚はカラーフィルター層を有しない)を用
意し、その一方にスペーサーを散布するとともに、他方
の基板にシール材を設けて両基板を対向させて圧着し、
空セルを作成する。
A transparent conductive film (ITO film) is formed on the ceramic film formed as described above by a sputtering method and patterned to form a drive electrode (FIGS. 1 and 2).
reference). In order to obtain a color liquid crystal display device, two substrates with drive electrodes that have been subjected to an alignment treatment (though,
One of them does not have a color filter layer) is prepared, spacers are sprinkled on one of them, a sealing material is provided on the other substrate, and both substrates are opposed to each other and pressure-bonded,
Create an empty cell.

【0023】そして、その空セル内に液晶を注入して液
晶セルとした後、必要に応じて偏光板、反射板、位相差
板、タッチパネル、光源などを組み合わせることによ
り、所望とするカラー液晶表示素子が得られる。
After injecting liquid crystal into the empty cell to form a liquid crystal cell, a polarizing plate, a reflection plate, a retardation plate, a touch panel, a light source and the like are combined as necessary to obtain a desired color liquid crystal display. The device is obtained.

【0024】[0024]

【実施例】【Example】

《実施例1》ガラス基板上の電着型カラーフィルター層
の上に、アクリルエポキシ系の平坦化剤JSS−715
(日本合成ゴム社製)を焼成後の厚さで2μmとなるよ
うにスピンコーティング法で塗布し、100℃で10分
間乾燥した。次に、ペルヒドロキシシラザンNL−11
0(固形分10%溶液のキシレン溶液、東燃社製)をス
ピンコーティングし、250℃で1時間焼成した。この
ときの膜厚は0.12μmであった。続いて、ITO膜
を通常の方法でパターニングして透明駆動電極を形成し
た。このときのサイドエッチの大きさは0.8〜1.2
ミクロンでスパッタ法による従来のシリカ膜と遜色はな
く、サイドエッチ防止の効果が確認された。このように
して得られた基板と、カラーフィルター層を有しない対
向基板とを通常の方法によって組み合わせてカラー液晶
表示パネルを作製したところ、各種の信頼性試験後でも
不良現象は見られなかった。
<< Example 1 >> An acrylic epoxy-based planarizing agent JSS-715 is formed on the electrodeposition type color filter layer on the glass substrate.
(Manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) was applied by a spin coating method so that the thickness after firing was 2 μm, and dried at 100 ° C. for 10 minutes. Next, perhydroxysilazane NL-11
0 (xylene solution containing 10% solid content, manufactured by Tonensha Co., Ltd.) was spin-coated and baked at 250 ° C. for 1 hour. The film thickness at this time was 0.12 μm. Subsequently, the ITO film was patterned by a usual method to form a transparent drive electrode. The size of the side etch at this time is 0.8 to 1.2.
At the micron level, it was comparable to the conventional silica film produced by the sputtering method, and the effect of preventing side etching was confirmed. When a color liquid crystal display panel was produced by combining the substrate thus obtained and a counter substrate having no color filter layer by a usual method, no defective phenomenon was observed even after various reliability tests.

【0025】《実施例2》ガラス基板上に顔料分散型の
カラーフィルター層を約1.6μmの厚さで形成し、本
焼成するに先だってMS51SG1(メチルシリケート
加水分解物、メタノール溶液、三菱化学社製)の15%
溶液に10分間浸漬し、静かにそのガラス基板を引き上
げた。そして、100℃で5分間乾燥した後、270℃
の炉内で硬化させたところ、厚さ約1.2μmのセラミ
ック膜が得られ、その平坦性は±0.07μmであっ
た。以下、実施例1と同様にカラー液晶表示パネルを作
製し、各種の信頼性試験を行なったが不良現象は見られ
ず、無機−有機複合層(傾斜材料)の効果が認められ
た。
Example 2 A pigment-dispersed color filter layer having a thickness of about 1.6 μm was formed on a glass substrate, and MS51SG1 (methyl silicate hydrolyzate, methanol solution, Mitsubishi Chemical Co. Made) 15%
The glass substrate was dipped in the solution for 10 minutes and gently pulled up. Then, after drying at 100 ° C for 5 minutes, 270 ° C
When it was cured in the furnace, a ceramic film having a thickness of about 1.2 μm was obtained, and its flatness was ± 0.07 μm. Hereinafter, a color liquid crystal display panel was prepared in the same manner as in Example 1 and various reliability tests were conducted, but no defective phenomenon was observed, and the effect of the inorganic-organic composite layer (gradient material) was recognized.

【0026】〈比較例1〉ガラス基板上に顔料分散型の
カラーフィルター層を形成し、同カラーフィルター層の
上にアクリルエポキシ樹脂系の平坦化剤JSS−715
(日本合成ゴム社製)をスピンコーティング法で塗布し
250℃で焼成して、約2μmの平坦化膜を形成した。
次に、ペルヒドロキシシラザンNL−110(固形分1
0%溶液のキシレン溶液、東燃社製)をスピンコーティ
ング法で塗布し、250℃で1時間焼成した。このとき
の膜厚は0.12μmであった。以下、実施例1と同様
にカラー液晶表示パネルを作製したが、高温高湿放置試
験(60℃、相対湿度90%、放置時間1000時間)
終了後、ITO上に密着力不足によると見られるクラッ
クが生じていることが認められた。
Comparative Example 1 A pigment-dispersed color filter layer is formed on a glass substrate, and an acrylic epoxy resin-based leveling agent JSS-715 is formed on the color filter layer.
(Manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) was applied by a spin coating method and baked at 250 ° C. to form a flattening film of about 2 μm.
Next, perhydroxysilazane NL-110 (solid content 1
A 0% solution of xylene, manufactured by Tonensha Co., Ltd.) was applied by spin coating and baked at 250 ° C. for 1 hour. The film thickness at this time was 0.12 μm. Hereinafter, a color liquid crystal display panel was produced in the same manner as in Example 1, but a high temperature and high humidity standing test (60 ° C., relative humidity 90%, standing time 1000 hours)
After the completion, it was confirmed that cracks were formed on the ITO, which are thought to be due to insufficient adhesion.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
カラーフィルター層上もしくはその平坦化膜上に、それ
らをITOのスパッタ成膜時のプラズマから保護するた
めの塗布焼成型のセラミック膜を形成するにあたって、
そのセラミック前駆体の一部をカラーフィルター層もし
くは平坦化膜の有機質に作用させて、無機−有機複合層
を形成するようにしたことにより、無機質膜と有機質膜
の間に十分な密着性が得られ、したがって生産性の向上
とともに、信頼性の高いカラー液晶表示素子を提供する
ことができる。
As described above, according to the present invention,
To form a coating and firing type ceramic film on the color filter layer or its flattening film to protect them from plasma during sputtering of ITO,
By allowing a part of the ceramic precursor to act on the organic material of the color filter layer or the flattening film to form the inorganic-organic composite layer, sufficient adhesion can be obtained between the inorganic film and the organic film. Therefore, it is possible to provide a highly reliable color liquid crystal display device with improved productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例によるカラー液晶表示素子
の層構成を説明するための模式図。
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a layer structure of a color liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例によるカラー液晶表示素子
の層構成を説明するための模式図。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a layer structure of a color liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】従来例としてのカラー液晶表示素子の層構成を
説明するための図1および図2と同様な模式図。
FIG. 3 is a schematic view similar to FIGS. 1 and 2 for explaining a layer structure of a color liquid crystal display element as a conventional example.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス基板上にカラーフィルター層およ
び有機質からなる平坦化膜を順次形成した後、その平坦
化膜上に透明駆動電極を形成してなる透明基板を一方の
基板として有するカラー液晶表示素子の製造方法におい
て、上記平坦化膜と上記透明駆動電極との間に塗布焼成
型セラミック膜を形成するとともに、同塗布焼成型セラ
ミック膜形成時にそのセラミック前駆体の一部を上記平
坦化膜の有機質に作用させて、無機−有機複合層を形成
することを特徴とするカラー液晶表示素子の製造方法。
1. A color liquid crystal display having a transparent substrate formed by sequentially forming a color filter layer and an organic planarizing film on a glass substrate and then forming a transparent drive electrode on the planarizing film as one substrate. In the device manufacturing method, a coating and firing type ceramic film is formed between the flattening film and the transparent drive electrode, and at the time of forming the coating and firing type ceramic film, a part of the ceramic precursor is formed into the flattening film. A method for producing a color liquid crystal display device, which comprises reacting an organic substance to form an inorganic-organic composite layer.
【請求項2】 ガラス基板上にカラーフィルター層と透
明駆動電極とを順次形成してなる透明基板を一方の基板
として有するカラー液晶表示素子の製造方法において、
上記カラーフィルター層と上記透明駆動電極との間に塗
布焼成型セラミック膜を形成するとともに、同塗布焼成
型セラミック膜形成時にそのセラミック前駆体の一部を
上記カラーフィルター層の有機質に作用させて、無機−
有機複合層を形成することを特徴とするカラー液晶表示
素子の製造方法。
2. A method of manufacturing a color liquid crystal display device, comprising a transparent substrate, which is formed by sequentially forming a color filter layer and a transparent drive electrode on a glass substrate, as one substrate.
A coating and firing type ceramic film is formed between the color filter layer and the transparent drive electrode, and at the time of forming the coating and firing type ceramic film, a part of the ceramic precursor is allowed to act on the organic substance of the color filter layer, Inorganic-
A method for manufacturing a color liquid crystal display device, which comprises forming an organic composite layer.
【請求項3】 上記無機−有機複合層は上記有機質の深
部に至るにしたがってその無機成分の含有濃度が低くな
る濃度勾配を備えていることを特徴とする請求項1また
は2に記載のカラー液晶表示素子の製造方法。
3. The color liquid crystal according to claim 1, wherein the inorganic-organic composite layer has a concentration gradient in which the concentration of the inorganic component decreases as the depth of the organic substance increases. Display element manufacturing method.
【請求項4】 上記無機−有機複合層を形成するにあた
って、上記有機質の薄膜に上記塗布焼成型セラミック前
駆体の一部を含浸させて、それらを同時に焼成すること
を特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の
カラー液晶表示素子の製造方法。
4. In forming the inorganic-organic composite layer, the organic thin film is impregnated with a part of the coating and firing type ceramic precursor, and they are fired at the same time. 4. The method for manufacturing a color liquid crystal display element according to any one of 3 above.
【請求項5】 上記無機−有機複合層を形成するにあた
って、上記有機質の薄膜を塗布乾燥した後、その上に上
記塗布焼成型セラミック前駆体を塗布し、それらを同時
に焼成することを特徴とする請求項1ないし3のいずれ
か1項に記載のカラー液晶表示素子の製造方法。
5. In forming the inorganic-organic composite layer, the organic thin film is coated and dried, and then the coating and firing type ceramic precursor is coated thereon, and they are simultaneously fired. A method for manufacturing a color liquid crystal display device according to claim 1.
【請求項6】 上記無機−有機複合層を形成するにあた
って、上記有機質を多孔質の薄膜とし、上記塗布焼成型
セラミック前駆体を塗布してその一部を多孔質内に含浸
させて焼成することを特徴とする請求項1ないし3のい
ずれか1項に記載のカラー液晶表示素子の製造方法。
6. In forming the inorganic-organic composite layer, the organic substance is formed into a porous thin film, the coating and firing type ceramic precursor is applied, and a part thereof is impregnated into the porous body and fired. 4. The method for manufacturing a color liquid crystal display element according to claim 1, wherein
【請求項7】 上記塗布焼成型セラミック前駆体がペル
ヒドロシラザン、もしくは金属アルコキシドまたはその
部分加水分解物であることを特徴とする請求項1ないし
6のいずれか1項に記載のカラー液晶表示素子の製造方
法。
7. The color liquid crystal display device according to claim 1, wherein the coating / firing type ceramic precursor is perhydrosilazane, a metal alkoxide, or a partial hydrolyzate thereof. Manufacturing method.
JP8103246A 1996-03-29 1996-03-29 Production of color liquid crystal display element Withdrawn JPH09269481A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8103246A JPH09269481A (en) 1996-03-29 1996-03-29 Production of color liquid crystal display element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8103246A JPH09269481A (en) 1996-03-29 1996-03-29 Production of color liquid crystal display element

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09269481A true JPH09269481A (en) 1997-10-14

Family

ID=14349091

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8103246A Withdrawn JPH09269481A (en) 1996-03-29 1996-03-29 Production of color liquid crystal display element

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09269481A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001028240A (en) Manufacture of component glass substrate which should be sealed, such as plasma panel type flat display screen
JP2011059692A (en) Liquid crystal display cell
RU2226293C2 (en) Display panel and multilayer plate for its manufacture
JP2000143985A (en) Black coating composition, resin black matrix, color filter and liquid crystal display
JPH09269481A (en) Production of color liquid crystal display element
JPS63131103A (en) Color filter
JP3914011B2 (en) Liquid crystal display cell and coating liquid for liquid crystal display cell
JPS61198131A (en) Color liquid crystal display device
JPH0470803A (en) Color filter for liquid crystal display device and its manufacture
JPH0713147A (en) Color filter substrate and liquid crystal display element
JPH09230314A (en) Color liquid crystal display element
JPS6143727A (en) Color liquid crystal panel
CN108628034A (en) A kind of preparation method of color membrane substrates, liquid crystal display panel and color membrane substrates
JP2000284278A (en) Electrode substrate for reflection type liquid crystal display device and its production
JP3027622B2 (en) Manufacturing method of color filter
JPH11160514A (en) Color filter and its production
JPH06265720A (en) Color filter substrate and production of liquid crystal display element
JPH10104402A (en) Antireflecting antistatic film and display device using it
JPH01108523A (en) Color filter
JPS6048742B2 (en) Liquid crystal cell substrate and its manufacturing method
JPS6227719A (en) Liquid crystal display element
KR100291266B1 (en) Color filter for liquid crystal display panel and method for making color filter
JPS61223826A (en) Liquid crystal display element
JPH01248128A (en) Color filter
JP2845559B2 (en) Liquid crystal display

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20030603