JPH0926596A - Liquid crystal display device and its production - Google Patents

Liquid crystal display device and its production

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JPH0926596A
JPH0926596A JP7177675A JP17767595A JPH0926596A JP H0926596 A JPH0926596 A JP H0926596A JP 7177675 A JP7177675 A JP 7177675A JP 17767595 A JP17767595 A JP 17767595A JP H0926596 A JPH0926596 A JP H0926596A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
electrode
film
crystal cell
Prior art date
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Application number
JP7177675A
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Japanese (ja)
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Atsushi Tanaka
淳 田中
Seiichi Mitsui
精一 三ツ井
Shigeru Aomori
繁 青森
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the occurrence of a parallax when a display is observed from diagonal by making it possible to form panels sufficiently thinner than the size of pixels without the need for forming substrates of a large thickness between respective liquid crystal cells as the respective independent driving of three layers of the liquid crystal cells is possible and there is no need for forming active elements respectively at these liquid crystal cells. SOLUTION: This liquid crystal display device consists of a substrate 7 formed with the plural active elements 4, 5, 6 for driving liquid crystals, the first, second and third liquid crystal cells 11, 12, 13 laminated in this order via interlayer films 15 on this substrate 7 and a substrate 10 laminated via a flattening film 26 on the third liquid crystal cell 13. The respective liquid crystal cells 11, 12, 13 consist of counter electrodes 17, 19, 25 formed on each of the respective liquid crystal cells, driving electrodes 14, 18, 20 connected to the active elements 4, 5, 6 and liquid crystal layers 1, 2, 3. At least one layers of the liquid crystal layers 1, 2, 3 are formed of high polymer dispersed liquid crystals.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及び
その製造方法に関し、さらに詳しくはワードプロセッ
サ、ノート型パソコンなどのOA(オフィスオートメー
ション)機器や、各種映像機器およびゲーム機器などに
好適に実施される減法混色法を利用した液晶表示装置及
びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, and more particularly, it is preferably applied to OA (office automation) equipment such as word processors and notebook computers, and various video equipment and game equipment. The present invention relates to a liquid crystal display device using a subtractive color mixing method and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近
年、ワードプロセッサ、ラップトップ型パソコン又はポ
ケットテレビと称される携帯型テレビジョン受信機など
への液晶表示装置の応用が急速に進展している。従来か
ら、液晶表示装置にはTN方式(ツイステッドネマティ
ック)並びにSTN(スーパーツイステッドネマティッ
ク)方式が用いられている。このTNモードは、一組の
偏光板の間に液晶表示素子を配置し、この液晶表示素子
の光学的性質、すなわち電圧無印加時の旋光特性と、電
圧印加時の旋光解消特性とを利用してモノクロ(白黒)
表示を行うものである。
2. Description of the Related Art In recent years, the application of liquid crystal display devices to word processors, laptop personal computers, portable television receivers called pocket televisions and the like has been rapidly developing. Conventionally, a TN method (twisted nematic) and an STN (super twisted nematic) method have been used for liquid crystal display devices. In this TN mode, a liquid crystal display element is arranged between a pair of polarizing plates, and the optical characteristics of the liquid crystal display element, that is, the optical rotation characteristic when no voltage is applied and the optical rotation elimination characteristic when a voltage is applied, are used for monochrome. (Black and white)
The display is performed.

【0003】また、カラー化については、表示画素毎
に、例えば赤、青、緑の微小寸法のカラーフィルターを
設け、TNモードの上記スイッチング特性を利用し、加
法混合によりマルチカラー表示やフルカラー表示を行う
方式が一般的である。カラー表示法には加法混色と減法
混色の二つの方式があるが、ここで述べた原理は加法混
色法とよばれ、現在アクティブマトリックス駆動や単純
マトリックス駆動を利用したカラー液晶表示装置に広く
使用されている。
For colorization, a color filter having a small size of, for example, red, blue, and green is provided for each display pixel, and the switching characteristics of the TN mode are used to perform multi-color display or full-color display by additive mixing. The method is generally used. There are two types of color display methods, additive color mixing and subtractive color mixing.The principle described here is called the additive color mixing method and is currently widely used in color liquid crystal display devices using active matrix driving or simple matrix driving. ing.

【0004】ところで、これらの液晶表示装置のシステ
ムの問題点の一つとして、光透過率が数%しかないこと
が挙げられる。光透過率は次のように表すことができ
る。 光透過率= TFTアレイ の開口率×液晶透過率×偏光板透過
率×カラーフィルタ 透過率 現在使用されている液晶表示装置における各値は、一般
にTFTアレイの開口率(60〜70%)、液晶透過率
(90〜95%)、偏光板透過率(40%)、カラーフ
ィルター透過率(30%)であり、これに基づいて光透
過率を計算すると6.5〜8%となり、バックライト光
のほとんどが有効利用されていないことになる。そのた
め消費電力の大きなバックライトを用いずにカラー表示
を行うことは困難となり、液晶表示素子の利点である低
消費電力性が失われてしまう。
By the way, one of the problems of these liquid crystal display system is that the light transmittance is only a few percent. The light transmittance can be expressed as follows. Light transmittance = Aperture ratio of TFT array × Transmittance of liquid crystal × Transmittance of polarizing plate × Transmittance of color filter The values in the liquid crystal display currently used are generally the aperture ratio of the TFT array (60 to 70%), the liquid crystal. The transmittance (90 to 95%), the polarizing plate transmittance (40%), and the color filter transmittance (30%) are calculated, and the light transmittance is calculated to be 6.5 to 8%. Most of these are not being used effectively. Therefore, it is difficult to perform color display without using a backlight with high power consumption, and the low power consumption, which is an advantage of the liquid crystal display element, is lost.

【0005】これに対し、減法混色法を用いたカラー表
示を行う場合には、3層構造の液晶セルを用いて発色さ
せるため、上記のカラーフィルターを使用する必要がな
くなる。よって、上記式において、カラーフィルター透
過率に相当する部分が削除されることとなり、原理的に
は加法混色法よりも明るくすることができ、期待されて
いる。
On the other hand, when performing color display using the subtractive color mixture method, since the liquid crystal cell having a three-layer structure is used for color development, it is not necessary to use the above color filter. Therefore, in the above equation, the portion corresponding to the color filter transmittance is deleted, and in principle, it can be brighter than the additive color mixture method and is expected.

【0006】減法混色法を用いた液晶表示装置の一例を
図17に示す。この液晶表示装置90は、第1基板7上
に、層間膜15を介して第1液晶セル94a、第2液晶
セル95a、第3液晶セル96a、平坦化膜26、ブラ
ックマトリクス28及び第2基板10が積層されて構成
されている。なお、第1液晶セル94aは、層間膜15
上に形成された液晶駆動用素子91、液晶駆動用素子9
1と接続された駆動電極84、液晶層94及び対向電極
85がこの順で積層されて構成されている。また、第2
液晶セル95aは、基板97、基板97上に形成された
液晶駆動用素子92、液晶駆動用素子92と接続された
駆動電極86、液晶層95及び対向電極87がこの順で
積層されて構成されている。第3液晶セル96aは、基
板98、基板98上に形成された液晶駆動用素子93、
液晶駆動用素子93と接続された駆動電極88、液晶層
96及び対向電極89がこの順で積層されて構成されて
いる。このように形成された液晶表示装置90において
は、例えば液晶材料としてゲスト・ホスト(GH)方式
を採用し、シアン、マゼンタ、イエローを発色する三層
の液晶が積層されており、マルチカラーやフルカラーの
表示が可能であることが既に実証されている(参考資
料:内田龍男 編著『次世代液晶ディスプレイ技術』工
業調査会pl72)。
FIG. 17 shows an example of a liquid crystal display device using the subtractive color mixture method. The liquid crystal display device 90 includes a first liquid crystal cell 94 a, a second liquid crystal cell 95 a, a third liquid crystal cell 96 a, a flattening film 26, a black matrix 28, and a second substrate on the first substrate 7 with an interlayer film 15 interposed therebetween. 10 are stacked and configured. The first liquid crystal cell 94a includes the interlayer film 15
Liquid crystal driving element 91 and liquid crystal driving element 9 formed above
The drive electrode 84, the liquid crystal layer 94, and the counter electrode 85 connected to 1 are laminated in this order. Also, the second
The liquid crystal cell 95a is configured by laminating a substrate 97, a liquid crystal driving element 92 formed on the substrate 97, a driving electrode 86 connected to the liquid crystal driving element 92, a liquid crystal layer 95, and a counter electrode 87 in this order. ing. The third liquid crystal cell 96a includes a substrate 98, a liquid crystal driving element 93 formed on the substrate 98,
A drive electrode 88 connected to the liquid crystal drive element 93, a liquid crystal layer 96, and a counter electrode 89 are laminated in this order. In the liquid crystal display device 90 formed in this way, for example, a guest-host (GH) system is adopted as the liquid crystal material, and three layers of liquid crystal that emit cyan, magenta, and yellow are laminated, and multi-color or full-color It has already been proved that it is possible to display (Reference: Tatsuo Uchida, "Next Generation Liquid Crystal Display Technology" Industrial Research Council pl72).

【0007】しかしこの方式では液晶セルを3層重ねた
構造であるため、各液晶層の間にガラス基板等が挿入さ
れ、その厚みによって、斜めからディスプレイを観察し
た場合に三色の色ずれが生じることが問題となる。これ
を解決するためには基板の厚さを画素の大きさに比べて
十分に薄くする必要がある。例えば、プラスチックフィ
ルム基板を用いて作製したセルを三層積層する方法など
が考えられるが、耐熱性に乏しいプラスチックフィルム
上に薄膜トランジスタ(TFT)等の素子を形成するこ
とはプロセス温度の制約上困難である。また、このよう
な3層構造で各液晶層毎にTFT等の液晶駆動用能動素
子を作製する場合、液晶セルの工程数が現状のほぼ三倍
となって、製造コストや歩留まりの面からも非常に不利
である。
However, in this system, three layers of liquid crystal cells are stacked, so that a glass substrate or the like is inserted between the liquid crystal layers, and the thickness thereof causes a color shift of three colors when the display is observed obliquely. The problem is that it occurs. In order to solve this, it is necessary to make the thickness of the substrate sufficiently smaller than the size of the pixel. For example, a method of stacking three layers of cells manufactured by using a plastic film substrate can be considered, but it is difficult to form an element such as a thin film transistor (TFT) on a plastic film having poor heat resistance due to process temperature restrictions. is there. Further, in the case of manufacturing a liquid crystal driving active element such as a TFT for each liquid crystal layer with such a three-layer structure, the number of steps of the liquid crystal cell is almost three times the current number, and the manufacturing cost and the yield are also increased. Very disadvantageous.

【0008】そこで、特開平6−337643号公報
は、図18に示したような液晶表示パネル100を提案
している。この液晶表示パネル100は、第1基板10
8上に形成された複数の液晶駆動用素子110上に、複
数の液晶セル101、102、103が積層されて構成
されている。各液晶セル101、102、103は、そ
れぞれ駆動電極105、106、107と液晶層11
1、112、113とをそれぞれ有し、さらに、第2基
板109上にのみ形成された対向電極104を共通電極
として構成されている。つまり、各液晶層111、11
2、113間は駆動電極106、107でのみ仕切られ
た構造となっている。このような構造の場合には、各液
晶セル101、102、103の間にはガラス基板等が
挿入されていないため、その厚みに起因する視差の発生
を防止することができる。しかし、この液晶表示パネル
100においては、各液晶層111、112、113が
直列接続されているために、それぞれ独立に電界をかけ
ることが困難となり、例えば、各駆動電極105、10
6、107の電位をそれぞれに接続された液晶駆動用素
子110により設定し、必要な液晶層に相当する部分に
のみ電界を生じさせる等、複雑な駆動方法を導入する必
要がある。よって、各液晶駆動用素子110を独立に制
御するという必要性から駆動電圧が全体として高くな
り、該電圧に耐え得る駆動回路が必要となるなど、液晶
表示装置全体として製造コストの上昇を招くこととな
る。
Therefore, Japanese Patent Laid-Open No. 6-337643 proposes a liquid crystal display panel 100 as shown in FIG. The liquid crystal display panel 100 includes a first substrate 10
A plurality of liquid crystal cells 101, 102, 103 are laminated on a plurality of liquid crystal driving elements 110 formed on the display panel 8. Each of the liquid crystal cells 101, 102 and 103 includes a drive electrode 105, 106 and 107 and a liquid crystal layer 11 respectively.
1, 112, and 113 respectively, and the counter electrode 104 formed only on the second substrate 109 is configured as a common electrode. That is, each liquid crystal layer 111, 11
The space between 2 and 113 is partitioned only by the drive electrodes 106 and 107. In the case of such a structure, since no glass substrate or the like is inserted between the liquid crystal cells 101, 102, 103, it is possible to prevent the occurrence of parallax due to the thickness thereof. However, in the liquid crystal display panel 100, since the liquid crystal layers 111, 112, and 113 are connected in series, it is difficult to apply an electric field independently to each other.
It is necessary to introduce a complicated driving method such as setting the potentials of 6 and 107 by the liquid crystal driving element 110 connected to each of them and generating an electric field only in a portion corresponding to a necessary liquid crystal layer. Therefore, the driving voltage as a whole becomes high due to the necessity of controlling each liquid crystal driving element 110 independently, and a driving circuit capable of withstanding the voltage is required, which causes an increase in the manufacturing cost of the liquid crystal display device as a whole. Becomes

【0009】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、光の利用効率を改善し、液晶表示装置の消費電力を
低減するとともに、画像の表示の色のずれを防止してフ
ルカラー表示が可能で、しかも製造コストの上昇を低減
することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供
することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and improves the utilization efficiency of light, reduces the power consumption of the liquid crystal display device, and prevents the color shift of the image display to enable full-color display. In addition, it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which can reduce an increase in manufacturing cost.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、複数の
液晶駆動用能動素子が形成された第1基板と、該第1基
板上に層間膜を介してこの順で積層された第1、第2及
び第3液晶セルと、該第3液晶セル上に平坦化膜を介し
て積層された第2基板とから構成され、前記第1、第2
及び第3液晶セルは、各液晶セルごとに形成された対向
電極、液晶層及び前記第1基板上の液晶駆動用能動素子
に接続された駆動電極からなるとともに、隣接する液晶
セルの対向電極及び駆動電極から絶縁層によりそれぞれ
電気的に分離されており、前記第1、第2及び第3液晶
セルを構成する液晶層の少なくとも1層は、高分子分散
液晶により形成されている液晶表示装置が提供される。
According to the present invention, a first substrate having a plurality of liquid crystal driving active elements formed thereon, and a first substrate laminated in this order on the first substrate with an interlayer film interposed therebetween are provided. The second and third liquid crystal cells, and the second substrate laminated on the third liquid crystal cell with a planarization film interposed therebetween.
The third liquid crystal cell includes a counter electrode formed for each liquid crystal cell, a liquid crystal layer, and a drive electrode connected to a liquid crystal driving active element on the first substrate. In the liquid crystal display device, the driving electrodes are electrically separated from each other by an insulating layer, and at least one of the liquid crystal layers constituting the first, second and third liquid crystal cells is formed of polymer dispersed liquid crystal. Provided.

【0011】また別の観点から、本発明の製造方法によ
れば、(i) 第1基板上に複数の液晶駆動用能動素子を形
成し、該液晶駆動用能動素子上全面に、層間膜を形成
し、(ii)該層間膜上に、第1の液晶駆動用能動素子に接
続された駆動電極と、液晶層と、対向電極をこの順で積
層して第1液晶セルを形成し、(iii) 該第1液晶セル上
に絶縁層を介して第2の液晶駆動用能動素子に接続され
た駆動電極と、液晶層と、対向電極とをこの順で積層し
て第2液晶セルを形成し、(iv)該第2液晶セル上に絶縁
層を介して第3の液晶駆動用能動素子に接続された駆動
電極と、液晶層と、対向電極とをこの順で積層して第3
液晶セルを形成するとともに、第3液晶セル上に平坦化
膜を介して第2基板を積層することからなる液晶表示装
置の製造方法を提供することができる。
From another point of view, according to the manufacturing method of the present invention, (i) a plurality of liquid crystal driving active elements are formed on the first substrate, and an interlayer film is formed on the entire surface of the liquid crystal driving active elements. And (ii) forming a first liquid crystal cell by laminating a drive electrode connected to the first active element for driving a liquid crystal, a liquid crystal layer, and a counter electrode on the interlayer film in this order, iii) A second liquid crystal cell is formed by stacking a drive electrode connected to a second liquid crystal drive active element through an insulating layer on the first liquid crystal cell, a liquid crystal layer, and a counter electrode in this order. And (iv) a drive electrode connected to a third liquid crystal drive active element via an insulating layer on the second liquid crystal cell, a liquid crystal layer, and a counter electrode are laminated in this order to form a third liquid crystal layer.
It is possible to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device, which comprises forming a liquid crystal cell and laminating a second substrate on a third liquid crystal cell with a planarizing film interposed therebetween.

【0012】さらに、本発明の別の製造方法によれば、
(I) 第1基板上に複数の液晶駆動用能動素子を形成し、
該液晶駆動用能動素子上全面に、層間膜を形成し、(II)
第2基板上に平坦化膜を介して対向電極、液晶層及び駆
動電極をこの順で積層して第3液晶セルを形成し、(II
I) 該第3液晶セル上に絶縁層を介して対向電極、液晶
層及び駆動電極をこの順で積層して第2液晶セルを形成
し、(IV)該第2液晶セル上に絶縁層を介して対向電極、
液晶層及び駆動電極をこの順で積層して第1液晶セルを
形成し、(V) 得られた第1基板と第2基板とを、各液晶
駆動用能動素子と駆動電極とが接続するように張り合わ
せることからなる液晶表示装置の製造方法が提供され
る。
Further, according to another manufacturing method of the present invention,
(I) Forming a plurality of liquid crystal driving active elements on the first substrate,
An interlayer film is formed on the entire surface of the liquid crystal driving active element, and (II)
A counter electrode, a liquid crystal layer and a drive electrode are laminated in this order on a second substrate with a planarizing film interposed therebetween to form a third liquid crystal cell, and (II
I) a second liquid crystal cell is formed by laminating a counter electrode, a liquid crystal layer and a driving electrode in this order on the third liquid crystal cell with an insulating layer interposed therebetween, and (IV) forming an insulating layer on the second liquid crystal cell. Counter electrode through,
A liquid crystal layer and a drive electrode are laminated in this order to form a first liquid crystal cell, and (V) the obtained first substrate and second substrate are connected to each active element for driving liquid crystal and the drive electrode. There is provided a method for manufacturing a liquid crystal display device, which comprises laminating the liquid crystal display device.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明における第1基板として
は、反射型液晶表示装置の場合には特に限定されるもの
ではなく、シリコン基板等の公知の不透明絶縁性基板又
は透光性の絶縁性基板、例えばガラス、石英、プラスチ
ック等を用いることができ、これら基板表面に、酸化シ
リコン、SiN等によるアンダーコート膜を設けたもの
等を用いることもできる。透過型液晶表示装置の場合に
は、透光性の絶縁性基板を用いることが好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The first substrate in the present invention is not particularly limited in the case of a reflection type liquid crystal display device, and a known opaque insulating substrate such as a silicon substrate or a translucent insulating substrate is used. A substrate such as glass, quartz, or plastic can be used, and a substrate provided with an undercoat film of silicon oxide, SiN, or the like can also be used. In the case of a transmissive liquid crystal display device, it is preferable to use a translucent insulating substrate.

【0014】また、第1基板には複数の液晶駆動用能動
素子が形成されている。液晶駆動用能動素子としては、
特に限定されるものではなく、例えば薄膜トランジスタ
(TFT)又はMIM(Metal Insulator Metal)素子等
の非線形抵抗素子を挙げることができ、反射型液晶表示
装置の場合には、さらにMOSトランジスタ等を用いて
もよい。これら素子の材料又は大きさ等は、所望の液晶
表示装置の機能又は大きさ等により適宜調整することが
できる。
A plurality of liquid crystal driving active elements are formed on the first substrate. As an active element for driving liquid crystal,
There is no particular limitation, and a non-linear resistance element such as a thin film transistor (TFT) or MIM (Metal Insulator Metal) element can be used. In the case of a reflective liquid crystal display device, a MOS transistor or the like may be used. Good. The materials, sizes, etc. of these elements can be appropriately adjusted according to the desired functions, sizes, etc. of the liquid crystal display device.

【0015】また、これら液晶駆動用能動素子が形成さ
れた第1基板上には、層間膜を介して第1、第2及び第
3液晶セルがこの順で積層されている。第1、第2及び
第3液晶セルの間にはそれぞれ絶縁層が形成されて、電
気的に分離されている。層間膜の材料としてはSi
2 、SiN等の単一又は複数の積層膜が膜厚0.1〜
3μm程度で形成されていることが好ましい。絶縁層と
しては、各液晶セル間の容量を小さく抑えることができ
るものであれば特に限定されるものではなく、比誘電率
のできるだけ小さい材料を用いることが好ましい。具体
的には、メタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン等
の透明性高分子材料又は絶縁性基板として用いることが
できる材料が挙げられる。この際の膜厚は、例えば10
〜200μm程度が好ましい。
Further, the first, second and third liquid crystal cells are laminated in this order on the first substrate on which the liquid crystal driving active elements are formed, with an interlayer film interposed therebetween. An insulating layer is formed between each of the first, second and third liquid crystal cells and electrically isolated. Si as the material for the interlayer film
A single or a plurality of laminated films such as O 2 and SiN have a film thickness of 0.1.
The thickness is preferably about 3 μm. The insulating layer is not particularly limited as long as it can reduce the capacitance between the liquid crystal cells, and it is preferable to use a material having a relative dielectric constant as small as possible. Specific examples thereof include transparent polymer materials such as methyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polystyrene, polyvinyl chloride, and polyethylene, or materials that can be used as an insulating substrate. The film thickness at this time is, for example, 10
About 200 μm is preferred.

【0016】各液晶セルは、各液晶セルごとに形成され
た一対の駆動電極及び対向電極と液晶層とからなり、該
駆動電極は、隣接する液晶セルの駆動電極及び対向電極
から電気的に絶縁されている。各液晶セルを構成する駆
動電極は、第1液晶セルの場合には層間膜上に、第2及
び第3液晶セルの場合には絶縁層上に、第1基板上の液
晶駆動用能動素子に接続されて形成されており、InO
3 、SnO2 、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明な導
電性材料を、膜厚30〜500nm程度、より好ましく
は50〜200nm程度で用いることができる。反射型
液晶表示装置の場合には、第1液晶セルを構成する駆動
電極として、反射板の機能を有する導電材料を用いるこ
とが好ましい。具体的には、アルミニウム、銀、白金、
ニッケル、クロム等を膜厚10nm〜1μm程度、より
好ましくは50〜500nm程度で用いることができ
る。なお、反射型液晶表示装置においても第1液晶セル
を構成する駆動電極として透明な導電性材料を用いるこ
とができるが、この場合には、駆動電極とは別に、上述
した反射板として用いることができる導電材料等を第1
基板と第1液晶セルとの間、第1基板の外側、あるいは
第1液晶セルにおける駆動電極と液晶層との間等のいず
れかに形成することが必要である。
Each liquid crystal cell comprises a pair of drive electrodes and counter electrodes formed for each liquid crystal cell and a liquid crystal layer, and the drive electrodes are electrically insulated from the drive electrodes and counter electrodes of adjacent liquid crystal cells. Has been done. The drive electrodes forming each liquid crystal cell are formed on the interlayer film in the case of the first liquid crystal cell, on the insulating layer in the case of the second and third liquid crystal cells, and in the liquid crystal driving active element on the first substrate. InO is connected and formed.
A transparent conductive material such as 3 , SnO 2 , ITO (Indium Tin Oxide) or the like can be used in a film thickness of about 30 to 500 nm, more preferably about 50 to 200 nm. In the case of a reflection type liquid crystal display device, it is preferable to use a conductive material having a function of a reflection plate as the drive electrode forming the first liquid crystal cell. Specifically, aluminum, silver, platinum,
Nickel, chromium or the like can be used in a film thickness of about 10 nm to 1 μm, more preferably about 50 to 500 nm. In the reflective liquid crystal display device as well, a transparent conductive material can be used as the drive electrode forming the first liquid crystal cell, but in this case, it can be used as the above-described reflector besides the drive electrode. First possible conductive material
It is necessary to form it either between the substrate and the first liquid crystal cell, outside the first substrate, between the drive electrode in the first liquid crystal cell and the liquid crystal layer, or the like.

【0017】また、対向電極は、駆動用電極に対して直
交しているとともに、駆動電極及び基板表面に対して平
行に配設されている。対向電極の材料は、上述の透明な
導電性材料を同程度の膜厚で形成することが好ましい。
液晶層は、それぞれ異なる色素、例えばアゾ系、アント
ラキノン系、ジアゾ系、アゾメチン系、ナフトキノン系
又はペリレン系等の色素、さらに具体的にはマゼンタ、
シアン、イエロー等の2色性色素等を含んで構成されて
いることが好ましい。この際の液晶セルは、3〜30μ
m程度の間隔を有していることが好ましい。各液晶層に
使用される液晶は、異なる色素を含む以外は、異なって
いてもよいし、同一のものでもよい。但し、そのうちの
少なくとも1層、好ましくは全ての層にゲストホスト液
晶を用いた高分子分散液晶が使用されていることが好ま
しい。高分子分散液晶は、液晶が0.1〜20μm程度
の小滴の状態で高分子マトリクス中に存在して構成され
ているものであり、液晶が、高分子分散液晶に対して2
0〜80w/w%(又はv/v%)程度含有されている
ことが好ましい。液晶としては、特に限定されるもので
はなく、例えば、シッフ塩基系、アゾ系、アゾキシ系、
安息香酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、
シクロヘキシカルボン酸エステル系、フェニルシクロヘ
キサン系、ピリミジン系及びジオキサン系又はこれらの
混合物等のネマチック液晶、フェニルピリミジン系等の
強誘電性液晶等が挙げられる。また、高分子マトリクス
を形成する材料としては、例えば、アクリル系、メタク
リル系、エポキシ系又は紫外線硬化アリル系樹脂等、具
体的には、2−エチルヘキシルアクリレート、ウレタン
アクリレート、アクリル酸ブチル、ビニルアルコール、
メチルメタクリレート、もしくはこれらのオリゴマー等
を重合して得られるポリマー等を挙げることができる。
これら液晶層中には、光硬化開始剤、カイラル剤、表面
活性剤等の添加剤を任意に添加してもよい。また、上記
液晶層中に含有される色素を配向させる方法としては、
例えば、液晶材料が等方性をとる温度(例えば80〜1
20℃程度)に保持しながら、二色性色素が配向するよ
うに電界を印加し、このような電界を保持したまま紫外
線を照射することにより高分子マトリクスを形成する材
料を硬化させる方法があげられる。この際の電界は10
0〜1000kV/cm程度、10〜60分間印加する
ことが好ましい。
The counter electrode is orthogonal to the driving electrode and is arranged parallel to the driving electrode and the substrate surface. As the material of the counter electrode, it is preferable to form the above-mentioned transparent conductive material in the same film thickness.
The liquid crystal layers are different dyes, for example, azo-based, anthraquinone-based, diazo-based, azomethine-based, naphthoquinone-based or perylene-based dyes, more specifically magenta,
It is preferably configured to include a dichroic dye such as cyan and yellow. The liquid crystal cell at this time is 3 to 30 μm.
It is preferable to have an interval of about m. The liquid crystals used in each liquid crystal layer may be different or the same except that they contain different dyes. However, it is preferable that a polymer-dispersed liquid crystal using a guest-host liquid crystal is used in at least one layer, and preferably in all the layers. The polymer-dispersed liquid crystal is one in which the liquid crystal is present in a polymer matrix in the form of small droplets of about 0.1 to 20 μm, and the liquid crystal is 2 times as large as the polymer-dispersed liquid crystal.
It is preferably contained in an amount of about 0 to 80 w / w% (or v / v%). The liquid crystal is not particularly limited, and for example, a Schiff base type, an azo type, an azoxy type,
Benzoic acid ester type, biphenyl type, terphenyl type,
Examples thereof include nematic liquid crystals such as cyclohexycarboxylic acid ester-based, phenylcyclohexane-based, pyrimidine-based and dioxane-based or a mixture thereof, and ferroelectric liquid crystals such as phenylpyrimidine-based. Further, as the material for forming the polymer matrix, for example, acrylic, methacrylic, epoxy or UV-curable allyl resin, specifically, 2-ethylhexyl acrylate, urethane acrylate, butyl acrylate, vinyl alcohol,
Examples thereof include methyl methacrylate, and polymers obtained by polymerizing these oligomers.
Additives such as a photocuring initiator, a chiral agent, and a surface active agent may be optionally added to these liquid crystal layers. Further, as a method for orienting the dye contained in the liquid crystal layer,
For example, the temperature at which the liquid crystal material is isotropic (for example, 80 to 1).
While maintaining the temperature at about 20 ° C.), an electric field is applied so that the dichroic dye is oriented, and ultraviolet rays are irradiated while maintaining such an electric field to cure the material forming the polymer matrix. To be The electric field at this time is 10
It is preferable to apply the voltage for about 0 to 1000 kV / cm for 10 to 60 minutes.

【0018】また、本発明の液晶表示装置においては、
高分子分散液晶を用いた場合には特に配向膜は必要ない
が、用いる液晶の種類、性質等に応じて適宜配向膜を形
成してもよく、さらに、任意に駆動電極又は対向電極の
上もしくは下側に、保護膜又は絶縁膜等の単一膜又は積
層膜を形成してもよい。これら配向膜、保護膜又は絶縁
膜としては、例えば、SiO2 、SiN、Al23、エ
ポキシ、シリコーン、ポリイミド、フォトレジスト樹脂
等を、蒸着法、スパッタ法、CVD法、LPCVD法、
溶液塗布法、有機物質を溶かした溶液またはその前駆体
溶液を用いたスピンナー塗布法、浸漬塗布法、スクリー
ン印刷法、ロール塗布法などで塗布し、所定の硬化条件
(加熱、光照射など)で硬化させる方法等で形成するこ
とができる。その際の膜厚は特に限定されるものではな
く、液晶表示装置の大きさ、形成する液晶層、駆動電極
及び対向電極等の厚さ等により適宜調整することができ
る。
In the liquid crystal display of the present invention,
When the polymer-dispersed liquid crystal is used, an alignment film is not particularly necessary, but an alignment film may be appropriately formed depending on the type and properties of the liquid crystal used, and further, optionally on the drive electrode or the counter electrode or A single film or a laminated film such as a protective film or an insulating film may be formed on the lower side. Examples of the alignment film, the protective film, or the insulating film include SiO 2 , SiN, Al 2 O 3 , epoxy, silicone, polyimide, photoresist resin, and the like, which are deposited, sputtered, CVD, LPCVD,
Solution coating method, spinner coating method using a solution in which an organic substance is dissolved or a precursor solution thereof, dip coating method, screen printing method, roll coating method, etc., and under predetermined curing conditions (heating, light irradiation, etc.) It can be formed by a method of curing. The film thickness at that time is not particularly limited, and can be appropriately adjusted depending on the size of the liquid crystal display device, the thickness of the liquid crystal layer to be formed, the drive electrodes and the counter electrodes, and the like.

【0019】なお、上記第1、第2及び第3液晶セルを
構成する対向電極は、第1基板上の液晶駆動用能動素子
にそれぞれ接続されている。その接続は、例えば層間
膜、絶縁層及び各液晶セルを貫通する立体配線によって
行うことができる。具体的には、第1液晶セルの対向電
極は、液晶駆動用能動素子上に形成された層間膜を貫通
する立体配線によって、第2液晶セルの対向電極は、液
晶駆動用能動素子上に形成された層間膜、第1液晶セル
及び絶縁層を貫通する立体配線によって、第3液晶セル
の対向電極は、液晶駆動用能動素子上に形成された層間
膜、第1液晶セル、絶縁層、第2液晶セル及び絶縁層を
貫通する立体配線によって、それぞれ第1基板上の液晶
駆動用能動素子に接続されている。この際の立体配線
は、例えば駆動電極及び透明電極と同様の材料、Al、
Ni、Ti、Ta、Ag等の導電材によって形成するこ
とができる。
The counter electrodes forming the first, second and third liquid crystal cells are respectively connected to the liquid crystal driving active elements on the first substrate. The connection can be made by, for example, an interlayer film, an insulating layer, and a three-dimensional wiring penetrating each liquid crystal cell. Specifically, the counter electrode of the first liquid crystal cell is formed by three-dimensional wiring that penetrates the interlayer film formed on the liquid crystal driving active element, and the counter electrode of the second liquid crystal cell is formed on the liquid crystal driving active element. The counter electrode of the third liquid crystal cell is connected to the interlayer film, the first liquid crystal cell, the insulating layer, and the Two three-dimensional wirings penetrating the liquid crystal cell and the insulating layer are connected to the liquid crystal driving active elements on the first substrate, respectively. The three-dimensional wiring at this time is made of, for example, the same material as the drive electrode and the transparent electrode, Al,
It can be formed of a conductive material such as Ni, Ti, Ta, or Ag.

【0020】上記の液晶表示装置は以下の方法により製
造することができる。まず、工程(i) において、(a)
第1基板上に複数の液晶駆動用能動素子を形成する。液
晶駆動用能動素子は公知の方法、例えば薄膜トランジス
タの場合には、水素化アモルファスシリコンを活性層と
して形成し、その上にゲート絶縁膜、ゲート電極を形成
するとともに、イオン注入によりソース/ドレイン領域
を形成することにより作製することができる。(b)こ
れら液晶駆動用能動素子の上に、公知の方法、例えばC
VD法、蒸着法等により、層間膜を形成する。(c)層
間膜であって液晶駆動用能動素子上に、後の工程で第1
基板上の液晶駆動用能動素子と各液晶セルの駆動電極と
を接続する立体配線の形成に利用するためにコンタクト
ホールを形成することが好ましい。コンタクトホール
は、公知の方法、例えばフォトリソグラフィ及びエッチ
ング工程により所望の大きさで形成することができる。
The above liquid crystal display device can be manufactured by the following method. First, in step (i), (a)
A plurality of active elements for driving liquid crystal are formed on the first substrate. A liquid crystal driving active element is formed by a known method, for example, in the case of a thin film transistor, hydrogenated amorphous silicon is formed as an active layer, a gate insulating film and a gate electrode are formed thereon, and a source / drain region is formed by ion implantation. It can be manufactured by forming. (B) A known method such as C
An interlayer film is formed by the VD method, the vapor deposition method, or the like. (C) On the active layer for driving the liquid crystal, which is the interlayer film, the first layer is formed in a later step.
It is preferable to form a contact hole for use in forming a three-dimensional wiring connecting the liquid crystal driving active element on the substrate and the driving electrode of each liquid crystal cell. The contact hole can be formed in a desired size by a known method such as photolithography and etching.

【0021】工程(ii)において、層間膜上に第1液晶セ
ルを形成する。(a)まず、層間膜上に駆動電極となる
材料を、例えばスパッタ法又は蒸着法により積層し、フ
ォトリソグラフィ及びエッチング法により所望の形状に
パターニングして、駆動電極を形成する。この際、先の
工程でコンタクトホールが形成されている場合には、駆
動電極はコンタクトホール内に埋設された駆動電極とな
る材料による立体配線を介して液晶駆動用能動素子と接
続されることとなる。(b)また、他の液晶駆動用能動
素子と接続する立体配線として電極パッドを少なくとも
2つ形成することが好ましい。この電極パッドは駆動電
極と同じ材料で同時に形成してもよいし、公知の方法、
例えばスパッタリング、無電解メッキ法等により他の材
料を用いて、駆動電極を形成した後に形成してもよい。
無電界メッキ法としては、例えばAl上にNiSO4
液からNiを成膜する方法等があるが、Al、Niに限
定されるものではなく、Ti、Ta、Ag等を使用して
もよい。(c)駆動電極上には任意に絶縁膜、保護膜等
を形成してもよく、次いで、液晶層を形成する。液晶層
の形成方法は特に限定されるものではなく、公知の方
法、例えば、液晶層分離、液晶エマルジョン塗布、液晶
含浸等で行うことができる。具体的には、水溶性ポリマ
ー中に液晶を分散し、そのポリマーをバーコーター等に
より駆動電極上に塗布し、必要ならば熱、紫外線又は電
子ビーム等によりポリマーを重合させ、その後乾燥する
方法があげられる。(d)さらに、得られた液晶層上に
任意に保護膜又は絶縁膜を形成し、対向電極を形成す
る。対向電極は、上記駆動電極と同様に形成することが
できる。(e)この工程においては、第1基板上の液晶
駆動用素子と第2及び第3液晶セルの駆動電極とを接続
するために利用され、対向電極とは接続されず、第1液
晶セルを貫通する立体配線として少なくとも2つの電極
パッドを形成しておくことが好ましい。電極パッドは、
対向電極を形成した後、液晶層を公知の方法、例えばウ
ェットエッチング、ドライエッチング、ポリシラン又は
ジシラニレン−π−電子系ポリマー等の耐酸素プラズマ
性の高い材料をレジスト等として用いた酸素アッシング
によりエッチングし、スルーホールを形成し、このスル
ーホールに導電性材料を埋設することにより形成するこ
とができる。また、対向電極を形成する前にスルーホー
ルを形成し、そのスルーホールに対向電極材料を成膜す
ることにより形成してもよい。
In step (ii), a first liquid crystal cell is formed on the interlayer film. (A) First, a material to be a drive electrode is laminated on the interlayer film by, for example, a sputtering method or an evaporation method, and is patterned into a desired shape by a photolithography and etching method to form a drive electrode. At this time, when the contact hole is formed in the previous step, the drive electrode is connected to the liquid crystal drive active element through the three-dimensional wiring made of the material to be the drive electrode buried in the contact hole. Become. (B) Further, it is preferable that at least two electrode pads are formed as a three-dimensional wiring connected to another active element for driving liquid crystal. This electrode pad may be formed of the same material as the driving electrode at the same time, or a known method,
For example, it may be formed after forming the drive electrode using another material by sputtering, electroless plating, or the like.
As the electroless plating method, for example, there is a method of forming a Ni film from a NiSO 4 solution on Al, but it is not limited to Al and Ni, and Ti, Ta, Ag or the like may be used. (C) An insulating film, a protective film or the like may be optionally formed on the drive electrode, and then a liquid crystal layer is formed. The method for forming the liquid crystal layer is not particularly limited, and known methods such as liquid crystal layer separation, liquid crystal emulsion coating, and liquid crystal impregnation can be used. Specifically, a method in which a liquid crystal is dispersed in a water-soluble polymer, the polymer is applied onto a driving electrode by a bar coater or the like, and if necessary, the polymer is polymerized by heat, ultraviolet rays or an electron beam, and then dried. can give. (D) Further, a protective film or an insulating film is optionally formed on the obtained liquid crystal layer to form a counter electrode. The counter electrode can be formed similarly to the drive electrode. (E) In this step, the first liquid crystal cell is used to connect the liquid crystal driving element on the first substrate to the driving electrodes of the second and third liquid crystal cells, and not to connect to the counter electrode. It is preferable to form at least two electrode pads as the three-dimensional wiring that penetrates. The electrode pad is
After forming the counter electrode, the liquid crystal layer is etched by a known method such as wet etching, dry etching, or oxygen ashing using a material having high oxygen plasma resistance such as polysilane or disilanylene-π-electron polymer as a resist. , A through hole is formed, and a conductive material is embedded in the through hole. Alternatively, a through hole may be formed before forming the counter electrode, and the counter electrode material may be deposited in the through hole.

【0022】工程(iii) において、第1液晶セル上に絶
縁層を介して第2液晶セルを形成する。(a)絶縁層は
上述したように、透明性高分子材料で形成することが好
ましく、これらの材料を、例えば、クロロホルム等に溶
解し、バーコーター等により塗布して50〜200℃、
好ましくは100℃前後の温度で1〜60分間程度乾燥
させることにより形成することができる。(b)この絶
縁層上に駆動電極を、工程(ii)における方法と同様に形
成する。(c)この際、第1基板上の液晶駆動用素子と
第2及び第3液晶セルの駆動電極とを接続するために利
用する立体配線として少なくとも2つの電極パッドを形
成しておくことが好ましい。この電極パッドは、駆動電
極を形成する前に、絶縁層を公知の方法、例えばウェッ
トエッチング、ドライエッチング、酸素アッシング等に
よりエッチングしてスルーホールを形成し、このスルー
ホールに駆動電極材料を埋設することにより、駆動電極
と同じ材料で同時に形成することができるし、駆動電極
を形成した後に、他の導電材料を用いて形成してもよ
い。これら電極パッドのうち、少なくとも1つは第2液
晶セルの駆動電極と接続され、先に形成した複数の電極
パッドを介して第1基板上の液晶駆動用能動素子に接続
されている。一方、他の電極パッドは、第2液晶セルの
駆動電極とは電気的に絶縁されている。(d)駆動電極
上には、任意に絶縁膜、保護膜等を形成してもよく、次
いで、液晶層を形成する。液晶層は上記と同様に形成す
る。(e)さらに、得られた液晶層上に任意に保護膜又
は絶縁膜を形成し、対向電極を形成する。対向電極は、
上記駆動電極と同様に形成することができる。(f)こ
の工程においては、第1基板上の液晶駆動用素子と第3
液晶セルの駆動電極とを接続するために利用する、第1
及び第2液晶セルを貫通する電極パッドを形成しておく
ことが好ましい。工程(ii)における方法と同様に、第2
液晶セルの対向電極とは接続されずに形成することがで
きる。
In the step (iii), a second liquid crystal cell is formed on the first liquid crystal cell via an insulating layer. (A) As described above, the insulating layer is preferably formed of a transparent polymer material, and these materials are dissolved in, for example, chloroform or the like and applied by a bar coater or the like to 50 to 200 ° C.
Preferably, it can be formed by drying at a temperature of around 100 ° C. for about 1 to 60 minutes. (B) A drive electrode is formed on this insulating layer in the same manner as in the method in step (ii). (C) At this time, it is preferable that at least two electrode pads are formed as a three-dimensional wiring used to connect the liquid crystal driving element on the first substrate and the driving electrodes of the second and third liquid crystal cells. . In this electrode pad, before forming the drive electrode, the insulating layer is etched by a known method such as wet etching, dry etching or oxygen ashing to form a through hole, and the drive electrode material is embedded in the through hole. Thus, the same material as that of the drive electrode can be formed at the same time, or the drive electrode can be formed and then another conductive material can be used. At least one of these electrode pads is connected to the drive electrode of the second liquid crystal cell, and is connected to the liquid crystal drive active element on the first substrate via the plurality of electrode pads formed previously. On the other hand, the other electrode pads are electrically insulated from the drive electrodes of the second liquid crystal cell. (D) An insulating film, a protective film, or the like may be optionally formed on the drive electrode, and then a liquid crystal layer is formed. The liquid crystal layer is formed as described above. (E) Further, a protective film or an insulating film is optionally formed on the obtained liquid crystal layer to form a counter electrode. The counter electrode is
It can be formed in the same manner as the drive electrode. (F) In this step, the liquid crystal driving element on the first substrate and the third
Used to connect to a driving electrode of a liquid crystal cell, first
Also, it is preferable to form an electrode pad penetrating the second liquid crystal cell. Similar to the method in step (ii), the second
It can be formed without being connected to the counter electrode of the liquid crystal cell.

【0023】工程(iv)においては、(a)工程(iii) と
同様の方法により、第2液晶セル上に絶縁層を介して駆
動電極と液晶層とを形成する。またこの際に、工程(ii
i) と同様に駆動電極と接続する立体配線として電極パ
ッドを形成することが好ましい。これにより、駆動電極
は、先に形成された複数の電極パッドを介して第1基板
上の液晶駆動用能動素子に接続される。(b)次いで、
対向電極を、工程(iii)と同様の方法により形成して第
3液晶セルを形成し、さらにその上に平坦化膜を介して
第2基板を積層してもよいし、(b′)別に第2基板上
に平坦化膜を介して、対向電極を形成し、得られた第2
基板を、第3液晶セルの液晶層上に張り合わせることに
より形成してもよい。この際、第2基板と平坦化膜との
間に、任意にブラックマトリックスを公知の方法により
形成してもよい。また、この際の平坦化膜は、エポキシ
系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂等により、
膜厚0.5〜10μm程度に形成することが好ましい。
In step (iv), the drive electrode and the liquid crystal layer are formed on the second liquid crystal cell via the insulating layer by the same method as in step (a) (iii). At this time, the process (ii
It is preferable to form an electrode pad as a three-dimensional wiring connected to the drive electrode similarly to i). As a result, the drive electrode is connected to the liquid crystal drive active element on the first substrate via the plurality of electrode pads previously formed. (B) Then,
The counter electrode may be formed in the same manner as in step (iii) to form a third liquid crystal cell, and a second substrate may be laminated on the third liquid crystal cell via a flattening film, or (b ′) separately. The counter electrode was formed on the second substrate via the planarization film, and the second electrode was obtained.
It may be formed by laminating the substrate on the liquid crystal layer of the third liquid crystal cell. At this time, a black matrix may be optionally formed between the second substrate and the flattening film by a known method. In addition, the flattening film at this time is made of epoxy resin, acrylic resin, polyimide resin, or the like.
It is preferable to form the film having a thickness of about 0.5 to 10 μm.

【0024】なお、上記工程の後、各液晶セルの対向電
極に対して所望の配線を行い、液晶駆動用能動素子を実
装回路に装備するなどして液晶表示装置が完成する。さ
らに、本発明の別の製造方法において、工程(I) は、上
記の工程(i) と同様に第1基板上に複数の液晶駆動用能
動素子を形成し、該液晶駆動用能動素子上全面に、層間
膜を形成することができる。この際、上記の工程(i) と
同様にコンタクトホールを形成することが好ましく、こ
のコンタクトホールに導電材料を埋設し、各液晶駆動用
能動素子に接続する立体配線として利用可能なバンプを
形成することが好ましい。
After the above steps, a desired wiring is provided to the counter electrode of each liquid crystal cell, and a liquid crystal driving active element is mounted on a mounting circuit to complete a liquid crystal display device. Further, in another manufacturing method of the present invention, in the step (I), a plurality of liquid crystal driving active elements are formed on the first substrate as in the above step (i), and the entire liquid crystal driving active element is formed. In addition, an interlayer film can be formed. At this time, it is preferable to form a contact hole as in the above step (i), and a conductive material is embedded in the contact hole to form a bump that can be used as a three-dimensional wiring connected to each liquid crystal driving active element. It is preferable.

【0025】この製造方法においては、液晶表示装置の
上面の基板から、上記の製造方法とは逆の工程によって
形成する。つまり、工程(II)において、第2基板上に平
坦化膜を介して第3液晶セルを形成する。平坦化膜は、
上記工程(iv)(b′)と同様の方法で形成することがで
き、この平坦化膜上に対向電極、液晶層及び駆動電極を
この順で積層する。対向電極、液晶層及び駆動電極の形
成方法は、上述した方法と同様の方法で形成することが
できる。なお、この場合においても、対向電極及び駆動
電極の上又は下側、あるいはそれらの一方に、任意に保
護膜及び絶縁膜の単層又は積層層を形成してもよい。
In this manufacturing method, the substrate on the upper surface of the liquid crystal display device is formed by the reverse process of the above manufacturing method. That is, in the step (II), the third liquid crystal cell is formed on the second substrate via the flattening film. The flattening film is
It can be formed by a method similar to the above steps (iv) and (b '), and a counter electrode, a liquid crystal layer and a drive electrode are laminated in this order on this flattening film. The counter electrode, the liquid crystal layer, and the drive electrode can be formed by the same method as described above. Even in this case, a single layer or a laminated layer of the protective film and the insulating film may be optionally formed on the upper side or the lower side of the counter electrode and the drive electrode, or on one of them.

【0026】工程(III) において、第3液晶セルの駆動
電極上に絶縁層を介して対向電極、液晶層及び駆動電極
をこの順で積層して第2液晶セルを形成する。この工程
における絶縁膜、対向電極、液晶層及び駆動電極は、い
ずれも上述と同様の方法により形成することができる。
さらに、工程(IV)において、第2液晶セルの駆動電極上
に絶縁層を介して対向電極、液晶層及び駆動電極をこの
順で、上記と同様の方法により積層して第1液晶セルを
形成する。反射型液晶表示装置の場合には、液晶層と駆
動電極との間には、駆動電極の一面に凹凸を形成するこ
とができるように、駆動電極に接する面に凹凸を有する
絶縁膜をさらに形成することが好ましい。絶縁膜表面の
凹凸は、公知のエッチング方法等により形成することが
できる。この際の凹凸は、不規則なパターンにより配置
し、回折あるいは干渉により反射光に波長特性が生じな
いように形成することが好ましい。
In step (III), a counter electrode, a liquid crystal layer and a drive electrode are laminated in this order on the drive electrode of the third liquid crystal cell with an insulating layer interposed therebetween to form a second liquid crystal cell. The insulating film, the counter electrode, the liquid crystal layer and the drive electrode in this step can all be formed by the same method as described above.
Further, in the step (IV), the counter electrode, the liquid crystal layer and the drive electrode are laminated in this order on the drive electrode of the second liquid crystal cell through an insulating layer to form a first liquid crystal cell. To do. In the case of a reflective liquid crystal display device, an insulating film having unevenness is further formed between the liquid crystal layer and the driving electrode so that unevenness can be formed on one surface of the driving electrode so as to form unevenness on the one surface of the driving electrode. Preferably. The unevenness on the surface of the insulating film can be formed by a known etching method or the like. At this time, the irregularities are preferably arranged in an irregular pattern so that the reflected light does not have wavelength characteristics due to diffraction or interference.

【0027】なお、上記工程(II)、(III) 及び(IV)にお
いては、上記の製造方法における工程(ii) 、(iii) 、
(iv)と同様に立体配線として電極パッドを形成すること
が好ましい。工程(V) において、得られた第1基板と第
2基板とを、各液晶駆動用能動素子と各駆動電極とが接
続するように張り合わせる。この際、先の工程で第1基
板の各液晶駆動用能動素子に対応するバンプを形成して
いる場合には、このバンプを、先の工程で形成した電極
パッドに異方性導電膜を用いることにより接続すること
が好ましい。これにより、各液晶駆動用能動素子を、第
1、第2及び第3液晶セルを構成する駆動電極と、電極
パッド及びバンプを介して接続させることができる。こ
の際に用いる異方性導電膜は、例えば、直径3〜10μ
m程度のほぼ球形状をした微細導電性粒子を混在させた
エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコ
ーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂等の熱硬
化性樹脂を用いることができ、100〜200℃程度の
温度で、10〜50g/パッド程度の圧力をかけること
により、電極パッド又は駆動電極とバンプとを電気的に
接続することができる。
In the above steps (II), (III) and (IV), the steps (ii), (iii) and
Similar to (iv), it is preferable to form electrode pads as three-dimensional wiring. In step (V), the obtained first substrate and second substrate are laminated so that each liquid crystal driving active element and each driving electrode are connected. At this time, when the bumps corresponding to the respective liquid crystal driving active elements of the first substrate are formed in the previous step, the anisotropic conductive film is used for the bumps and the electrode pads formed in the previous step. Therefore, it is preferable to connect them. Accordingly, each liquid crystal driving active element can be connected to the drive electrodes forming the first, second and third liquid crystal cells via the electrode pads and the bumps. The anisotropic conductive film used at this time has, for example, a diameter of 3 to 10 μm.
It is possible to use a thermosetting resin such as an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, a silicone resin, a polyester resin, or a polyimide resin in which approximately spherical fine conductive particles of about m are mixed, and the temperature is about 100 to 200 ° C. By applying a pressure of about 10 to 50 g / pad at the temperature of 1, the electrode pad or the drive electrode and the bump can be electrically connected.

【0028】なお、本発明の液晶表示装置においては、
透過型液晶表示装置として用いる場合には、第1基板の
液晶セルとは反対側の表面に、任意にバックライト、反
射膜等を配設することができる。以下、本発明の液晶表
示装置及びその製造方法の具体的な実施例を説明する。 実施例1 本発明におけるカラー表示に減法混色法を用いたアクテ
ィブマトリクス駆動の透過型液晶表示装置の一画素分を
図1に、また、この装置の縦配線を図2に示す。
In the liquid crystal display device of the present invention,
When used as a transmissive liquid crystal display device, a backlight, a reflective film, or the like can be optionally disposed on the surface of the first substrate opposite to the liquid crystal cell. Hereinafter, specific examples of the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described. Embodiment 1 FIG. 1 shows one pixel of a transmissive liquid crystal display device of an active matrix drive using a subtractive color mixture method for color display in the present invention, and FIG. 2 shows vertical wiring of this device.

【0029】この液晶表示装置47は、以下のように構
成されている。ガラスからなる第1基板7上に、後述す
る各液晶層の駆動電極に対応した薄膜トランジスタ等の
液晶駆動用TFT4、5、6がそれぞれ形成されてい
る。第1液晶セル11には、液晶駆動用TFT4、5、
6上に被覆された層間膜15上に形成され、液晶駆動用
TFT4と接続された駆動電極14が形成されており、
駆動電極14の上部に第1の液晶層1が形成されてい
る。第1の液晶層1上には、保護膜41、SiO2 膜4
2及び対向電極17が形成されている。
The liquid crystal display device 47 is constructed as follows. Liquid crystal driving TFTs 4, 5 and 6 such as thin film transistors corresponding to drive electrodes of each liquid crystal layer described later are formed on a first substrate 7 made of glass. In the first liquid crystal cell 11, the liquid crystal driving TFTs 4, 5,
Drive electrodes 14 formed on the interlayer film 15 coated on 6 and connected to the liquid crystal drive TFT 4 are formed,
The first liquid crystal layer 1 is formed on the drive electrodes 14. The protective film 41 and the SiO 2 film 4 are formed on the first liquid crystal layer 1.
2 and the counter electrode 17 are formed.

【0030】第2液晶セル12には、対向電極17上
に、絶縁層8及びSiO2 膜43を介して液晶駆動用T
FT5と接続された駆動電極18が形成されており、駆
動電極18の上に第2の液晶層2が形成されている。第
2の液晶層2上には保護膜44、SiO2 膜45及び対
向電極19が形成されている。第3液晶セル13には、
対向電極19上に、絶縁層9及びSiO2 膜46を介し
て液晶駆動用TFT6と接続された駆動電極20が形成
されており、駆動電極20の上に第3の液晶層3が形成
されている。第3の液晶層3上には対向電極25が形成
されている。
In the second liquid crystal cell 12, a liquid crystal driving T is provided on the counter electrode 17 via the insulating layer 8 and the SiO 2 film 43.
The drive electrode 18 connected to the FT 5 is formed, and the second liquid crystal layer 2 is formed on the drive electrode 18. A protective film 44, a SiO 2 film 45 and a counter electrode 19 are formed on the second liquid crystal layer 2. In the third liquid crystal cell 13,
The drive electrode 20 connected to the liquid crystal drive TFT 6 via the insulating layer 9 and the SiO 2 film 46 is formed on the counter electrode 19, and the third liquid crystal layer 3 is formed on the drive electrode 20. There is. A counter electrode 25 is formed on the third liquid crystal layer 3.

【0031】対向電極25の上には平坦化膜26及びブ
ラックマトリクス28を介して透明の第2基板10が配
設されている。第1、第2及び第3の液晶層1、2、3
は、マイクロカプセル化したゲスト−ホスト型液晶を高
分子マトリクス中に分散することにより構成されている
とともに、それぞれイエロー、マゼンタ及びシアンの二
色性色素が混入されている。
A transparent second substrate 10 is disposed on the counter electrode 25 with a flattening film 26 and a black matrix 28 interposed therebetween. First, second and third liquid crystal layers 1, 2, 3
Is formed by dispersing microcapsule guest-host type liquid crystal in a polymer matrix, and contains dichroic dyes of yellow, magenta and cyan, respectively.

【0032】また、第1基板7の液晶セル13、12、
11と反対側には導光板22及び反射膜23が配設され
ており、バックライト光源21が利用される構成になっ
ている。縦配線について、図2に基づいてさらに詳細に
説明する。第1基板7上に作製された液晶駆動用TFT
4には、直接駆動電極14が接続されている。液晶駆動
用TFT5には、電極パッド14a、33a及び35a
を介して駆動電極18が接続されている。さらに、液晶
駆動用TFT6には、電極パッド14b、33b、35
b、34b、36bを介して駆動電極20が接続されて
いる。
Further, the liquid crystal cells 13, 12 of the first substrate 7,
A light guide plate 22 and a reflective film 23 are provided on the side opposite to 11, and the backlight light source 21 is used. The vertical wiring will be described in more detail with reference to FIG. Liquid crystal driving TFT formed on the first substrate 7.
The drive electrode 14 is directly connected to the switch 4. The liquid crystal driving TFT 5 has electrode pads 14a, 33a and 35a.
The drive electrode 18 is connected via. Further, the liquid crystal driving TFT 6 includes electrode pads 14b, 33b, 35.
The drive electrode 20 is connected via b, 34b, and 36b.

【0033】なお、図1及び図2においては、液晶駆動
用TFT4、5、6の構成が図示されていないが、これ
ら液晶駆動用TFT4、5、6は、第1基板7上にゲー
ト電極がそれぞれ形成され、その上にゲート絶縁膜を介
して活性層が形成され、活性層の両端にそれぞれソース
/ドレイン電極が接続されて構成されている。上記液晶
表示装置47は、以下のようにして作製される。
Although the structure of the liquid crystal driving TFTs 4, 5 and 6 is not shown in FIGS. 1 and 2, these liquid crystal driving TFTs 4, 5 and 6 have a gate electrode on the first substrate 7. Each is formed, an active layer is formed on it via a gate insulating film, and source / drain electrodes are connected to both ends of the active layer, respectively. The liquid crystal display device 47 is manufactured as follows.

【0034】まず、図3に示したように、コーニング♯
7059等のソーダガラスの表面に酸化シリコンによる
アンダーコート膜を設けた透明の第1基板7上に、能動
素子として公知の技術により、水素化アモルファスシリ
コン(a−Si:H)を活性層として用いたTFT4、
5、6を作製した。その後、これらTFT4、5、6上
に、層間膜15として膜厚500nm程度のSiO2
を形成する。この層間膜15の所望の領域にコンタクト
ホールを形成し、コンタクトホールを含む層間膜15上
全面に、膜厚100nm程度のITOをスパッタ法によ
り成膜し、フォトリソグラフィ及びエッチング工程によ
りコンタクトホールを通してTFT4に接続する透明な
駆動電極14を作製するとともに、TFT5、6にそれ
ぞれ接続する電極パッド14a、14bを形成した。
First, as shown in FIG. 3, Corning #
Hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) is used as an active layer on a transparent first substrate 7 having an undercoat film made of silicon oxide on the surface of soda glass such as 7059 by a technique known as an active element. TFT4,
5 and 6 were produced. After that, an SiO 2 film having a film thickness of about 500 nm is formed as an interlayer film 15 on the TFTs 4, 5, and 6. A contact hole is formed in a desired region of the interlayer film 15, and ITO having a film thickness of about 100 nm is formed on the entire surface of the interlayer film 15 including the contact hole by a sputtering method, and the TFT 4 is formed through the contact hole by a photolithography and etching process. The transparent drive electrode 14 connected to the TFTs 5 and 6 was formed, and the electrode pads 14a and 14b connected to the TFTs 5 and 6 were formed.

【0035】次いで、重合度500程度のポリビニルア
ルコール(PVA)の12%水溶液15グラムに表面活
性剤としてTWEEN20(ICIアメリカ社製)1グ
ラムを添加したものと、ネマチック液晶ZLI−356
1−000(メルク社製)に二色性色素(シアン、マゼ
ンタ、イエローの内いずれか一つ。例えばイエローG2
32(日本感光色素研究所製))を3wt%添加したも
の9グラムを混合し、5000rpmで10分程度攪拌
して乳化させる。次に、メタクリル酸メチル、アクリル
酸ブチルとアクリロニトリルとの共重合体ラテックス4
0グラム(樹脂成分25%含有)を加え、混合物が均質
なものとなるように1000rpm以下でゆっくりと攪
拌した。
Next, a nematic liquid crystal ZLI-356 was prepared by adding 1 gram of TWEEN 20 (manufactured by ICI America) as a surfactant to 15 grams of a 12% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA) having a polymerization degree of about 500.
1-000 (manufactured by Merck & Co.) in dichroic dye (any one of cyan, magenta and yellow. For example, yellow G2
32 (manufactured by Japan Photosensitive Dye Laboratories) was added, and 9 g of the mixture was mixed and stirred at 5000 rpm for about 10 minutes to emulsify. Next, copolymer latex 4 of methyl methacrylate, butyl acrylate and acrylonitrile
0 g (containing 25% of resin component) was added, and the mixture was slowly stirred at 1000 rpm or less so that the mixture became homogeneous.

【0036】この混合物をしばらく静置し、その後、図
4に示したように、駆動電極14が形成された第1基板
7上にバーコーターにより膜厚30μmで塗布し、60
℃で約1時間乾燥させた。乾燥後の膜厚は約10μmで
あった。このようにして得た第1の液晶層1上に、膜厚
1μm程度の保護膜41をエポキシ、シリコーンもしく
はポリミイド系の樹脂を用いてスピンコーターもしくは
バーコーター等により形成し、さらにFSi(OC
253(フルオロトリエトキシシラン)を用いて室温
で成膜するLPCVD法(例えば月刊 Semiconductor W
orld 1992.4 p41に記載の方法)により、膜厚100n
m程度のSiO2 膜42を形成した。
This mixture was allowed to stand for a while, and thereafter, as shown in FIG. 4, it was applied on the first substrate 7 on which the drive electrodes 14 were formed by a bar coater to a film thickness of 30 μm, and then 60
It was dried at ℃ for about 1 hour. The film thickness after drying was about 10 μm. On the first liquid crystal layer 1 thus obtained, a protective film 41 having a film thickness of about 1 μm is formed by a spin coater, a bar coater or the like using epoxy, silicone or polymide resin, and further FSi (OC
2 H 5) 3 (LPCVD method of forming a film at room temperature using a fluorotriethoxysilane) (e.g. monthly Semiconductor W
orld 1992.4 p41), film thickness 100n
A SiO 2 film 42 of about m was formed.

【0037】続いて、図5に示したように、スパッタ法
により膜厚200nmのITOを成膜し、通常のフォト
リソグラフィ及びエッチング工程によりパターニングし
て透明な対向電極17を形成した。SiO2 膜42を通
常のフォトリソグラフィ及びエッチング工程により所望
の形状にパターニングし、続いてこのSiO2膜42を
マスクとして酸素アッシングにより保護膜41及び液晶
層3に、電極パッド14a、14bに至るスルーホール
を形成した。
Subsequently, as shown in FIG. 5, an ITO film having a thickness of 200 nm was formed by a sputtering method and patterned by a usual photolithography and etching process to form a transparent counter electrode 17. The SiO 2 film 42 is patterned into a desired shape by a normal photolithography and etching process, and then the SiO 2 film 42 is used as a mask to perform oxygen ashing to pass through the protective film 41 and the liquid crystal layer 3 to the electrode pads 14a and 14b. A hole was formed.

【0038】次いで、図6に示したように、スルーホー
ルを含むSiO2 膜42上の所望の領域に、例えばAl
膜を形成し、このAl膜上にNiSO4溶液を用いてN
i膜を成膜する無電解メッキ法(例えば、1989 SYMPOSI
UM ON VLSI TECHNOLOGY 12-2に記載の方法)により電極
パッド33a、33bをそれぞれ形成した。これによ
り、電極パッド33a、33bは、それぞれ電極パッド
14a、14bを介してTFT5、6に接続されること
になる。
Next, as shown in FIG. 6, a desired region on the SiO 2 film 42 including the through holes is filled with, for example, Al.
A film is formed, and a NiSO 4 solution is used to form N on the Al film.
Electroless plating method for forming i-film (eg 1989 SYMPOSI
The electrode pads 33a and 33b were formed by the method described in UM ON VLSI TECHNOLOGY 12-2). As a result, the electrode pads 33a and 33b are connected to the TFTs 5 and 6 via the electrode pads 14a and 14b, respectively.

【0039】次に、対向電極17及び電極パッド33
a、33b上に、ポリメタクリル酸メチルのクロロホル
ム溶液をバーコーターにより塗布し、100℃で2分間
乾燥させることにより膜厚50μm程度の絶縁層8を形
成した。さらに、絶縁層8上にスパッタ法、LPCVD
法等の手段により膜厚100nmのSiO2 膜43を形
成した。
Next, the counter electrode 17 and the electrode pad 33.
A chloroform solution of polymethylmethacrylate was applied onto a and 33b by a bar coater and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form an insulating layer 8 having a film thickness of about 50 μm. Furthermore, sputtering method, LPCVD is performed on the insulating layer 8.
A SiO 2 film 43 having a film thickness of 100 nm was formed by a method such as a method.

【0040】その後、図7に示したように、SiO2
43上全面に、さらにスパッタ法により膜厚200nm
程度のITOを成膜し、通常のフォトリソグラフィ及び
エッチング工程によりパターニングして駆動電極18を
形成した。続いて、SiO2膜43を通常のフォトリソ
グラフィ及びエッチング工程により所望の形状にパター
ニングし、このSiO2 膜43をマスクとして酸素アッ
シングにより絶縁層8に電極パッド33a、33bに至
るスルーホールをそれぞれ形成した。次いで、スルーホ
ールを含む透明電極18上の所望の領域に、上記と同様
に無電解メッキ法により電極パッド35a、35bを形
成した。これにより、駆動電極18は、電極パッド35
a、33a及び14aを介してTFT5に接続されるこ
とになる。
Then, as shown in FIG. 7, a film having a thickness of 200 nm is formed on the entire surface of the SiO 2 film 43 by the sputtering method.
A film of ITO was formed, and the drive electrode 18 was formed by patterning by a normal photolithography and etching process. Subsequently, the SiO 2 film 43 is patterned into a desired shape by a usual photolithography and etching process, and through holes reaching the electrode pads 33a and 33b are formed in the insulating layer 8 by oxygen ashing using the SiO 2 film 43 as a mask. did. Then, electrode pads 35a and 35b were formed in desired regions on the transparent electrode 18 including the through holes by the electroless plating method as described above. As a result, the drive electrode 18 becomes the electrode pad 35.
It is connected to the TFT 5 via a, 33a and 14a.

【0041】図8に示したように、上述と同様の方法に
より、例えばマゼンタを含む第2の液晶層2を形成し、
保護膜44及びSiO2 膜45、対向電極19、電極パ
ッド34bを形成した。さらに、上述と同様の方法によ
り絶縁層9、SiO2 膜46、駆動電極20及び電極パ
ッド36bを形成した。これにより、駆動電極20は、
電極パッド36b、34b、35b、33b及び14b
を介してTFT6に接続されることになる。その後、上
述と同様の方法によりシアンを含む第3の液晶層3を形
成する。
As shown in FIG. 8, the second liquid crystal layer 2 containing magenta, for example, is formed by the same method as described above,
The protective film 44, the SiO 2 film 45, the counter electrode 19, and the electrode pad 34b were formed. Further, the insulating layer 9, the SiO 2 film 46, the drive electrode 20 and the electrode pad 36b were formed by the same method as described above. Thereby, the drive electrode 20 is
Electrode pads 36b, 34b, 35b, 33b and 14b
Will be connected to the TFT 6 via. After that, the third liquid crystal layer 3 containing cyan is formed by the same method as described above.

【0042】これとは別に、第1基板7に対向する基板
として、第1基板7と同様の第2基板10上にブラック
マトリクス28を形成し、さらにこの上にエポキシ系樹
脂を用いて平坦化膜26を形成し、さらに平坦化膜26
上に透明電極25を形成した。その後、得られた第2基
板10を、第1、第2及び第3液晶層1、2、3が形成
された第1基板7に張り合わせ、図1に示す液晶表示装
置47を完成する。なお、この液晶表示装置47におい
ては、TFT4、5、6をそれぞれドライバ回路に実装
し、対向電極17、19、25を共通配線(図示せず)
に接続した。また、第1基板7の液晶層が形成された側
とは反対側に導光板22及び反射膜23とバックライト
光源21を配設した。
Separately from this, a black matrix 28 is formed as a substrate facing the first substrate 7 on a second substrate 10 similar to the first substrate 7, and is further planarized by using an epoxy resin. The film 26 is formed, and the planarization film 26 is further formed.
A transparent electrode 25 was formed on top. Then, the obtained second substrate 10 is bonded to the first substrate 7 on which the first, second and third liquid crystal layers 1, 2, 3 are formed, and the liquid crystal display device 47 shown in FIG. 1 is completed. In the liquid crystal display device 47, the TFTs 4, 5 and 6 are mounted in driver circuits, respectively, and the counter electrodes 17, 19 and 25 are connected by common wiring (not shown).
Connected to. Further, the light guide plate 22, the reflection film 23, and the backlight light source 21 are arranged on the side of the first substrate 7 opposite to the side on which the liquid crystal layer is formed.

【0043】このようにして得られた液晶表示装置にお
いては、液晶層1、2、3がそれぞれイエロー、マゼン
タ、シアンに対応しており、各液晶層1、2、3がそれ
ぞれTFT4、5、6によって独立に駆動できるためフ
ルカラー表示が可能である。つまり、TFT6から出た
信号は、電極パッド14b、33b、35b、34b及
び36bを介して駆動電極20に達し、液晶層3のみを
駆動し、同様にしてTFT5からの信号は電極パッド1
4a、33a及び35aを介して駆動電極18に達し、
液晶層2のみを駆動し、TFT4からの信号は直接駆動
電極14に達し、液晶層1のみを駆動する。
In the liquid crystal display device thus obtained, the liquid crystal layers 1, 2, and 3 correspond to yellow, magenta, and cyan, respectively, and the liquid crystal layers 1, 2, and 3 are TFTs 4, 5, and respectively. Since it can be driven independently by 6, the full color display is possible. That is, the signal output from the TFT 6 reaches the drive electrode 20 via the electrode pads 14b, 33b, 35b, 34b and 36b, drives only the liquid crystal layer 3, and similarly the signal output from the TFT 5 is transmitted to the electrode pad 1.
Reach the drive electrode 18 via 4a, 33a and 35a,
Only the liquid crystal layer 2 is driven, and the signal from the TFT 4 directly reaches the drive electrode 14 to drive only the liquid crystal layer 1.

【0044】また、各液晶層1、2、3中にはGH液晶
がマイクロカプセル化された状態で分散されているた
め、各液晶層1、2、3に電界をかけない状態ではそれ
ぞれ赤、緑、青の各光の成分が吸収され、一方電界をか
けると透過状態となる。この結果、例えば、TFT6の
みをオン状態とし、TFT4、5はオフ状態とすること
で液晶層3のみが透過状態となり、液晶層2、1におい
てはそれぞれ緑、赤の光の成分が吸収されて青色の成分
のみを取り出すことができ、青色を表示することができ
る。 実施例2 本発明におけるカラー表示に減法混色法を用いたアクテ
ィブマトリクス駆動の反射型液晶表示装置の一画素分を
図9に、また、この装置の縦配線を図10に示す。
Since the GH liquid crystal is dispersed in the liquid crystal layers 1, 2 and 3 in a micro-encapsulated state, the liquid crystal layers 1, 2, and 3 are red and red, respectively, when no electric field is applied. The green and blue light components are absorbed, and when an electric field is applied, they become transparent. As a result, for example, by turning on only the TFT 6 and turning off the TFTs 4 and 5, only the liquid crystal layer 3 is in the transmissive state, and the liquid crystal layers 2 and 1 absorb the green and red light components, respectively. Only the blue component can be taken out and the blue color can be displayed. Embodiment 2 FIG. 9 shows one pixel of a reflection type liquid crystal display device of an active matrix drive using a subtractive color mixture method for color display in the present invention, and FIG. 10 shows vertical wiring of this device.

【0045】この液晶表示装置50は、以下のように構
成されている。実施例1と同様に、第1基板7上に液晶
駆動用TFT4、5、6が形成されている第1液晶セル
71には、液晶駆動用TFT4、5、6上に被覆された
層間膜15及び異方性導電膜56上に形成され、液晶駆
動用TFT4と接続された駆動電極57が形成されてい
る。この駆動電極57は散乱性反射板の機能を有し、第
1基板7とは反対側の表面に凹凸を有している。液晶駆
動電極57の上部には絶縁膜58、保護膜55、第1の
液晶層59及び対向電極60がこの順で形成されてい
る。
The liquid crystal display device 50 is constructed as follows. Similar to the first embodiment, in the first liquid crystal cell 71 in which the liquid crystal driving TFTs 4, 5, 6 are formed on the first substrate 7, the interlayer film 15 coated on the liquid crystal driving TFTs 4, 5, 6 is provided. And a drive electrode 57 formed on the anisotropic conductive film 56 and connected to the liquid crystal drive TFT 4. The drive electrode 57 has the function of a diffusive reflector and has irregularities on the surface opposite to the first substrate 7. An insulating film 58, a protective film 55, a first liquid crystal layer 59, and a counter electrode 60 are formed in this order on the liquid crystal drive electrode 57.

【0046】第2液晶セル72には、対向電極60上
に、SiO2 膜54及び絶縁層8を介して液晶駆動用T
FT5と接続された駆動電極61が形成されており、駆
動電極61の上部には保護膜53、第2の液晶層62及
び対向電極63がこの順で形成されている。第3液晶セ
ル73には、対向電極63上に、SiO2 膜52及び絶
縁層9を介して液晶駆動用TFT6と接続された駆動電
極64が形成されており、駆動電極64の上部には保護
膜51、第3の液晶層65及び対向電極66がこの順で
形成されている。
In the second liquid crystal cell 72, a liquid crystal driving T is provided on the counter electrode 60 via the SiO 2 film 54 and the insulating layer 8.
A drive electrode 61 connected to the FT 5 is formed, and a protective film 53, a second liquid crystal layer 62, and a counter electrode 63 are formed in this order on the drive electrode 61. In the third liquid crystal cell 73, a drive electrode 64 connected to the liquid crystal drive TFT 6 via the SiO 2 film 52 and the insulating layer 9 is formed on the counter electrode 63, and the drive electrode 64 is protected above the drive electrode 64. The film 51, the third liquid crystal layer 65, and the counter electrode 66 are formed in this order.

【0047】対向電極66の上には平坦化膜26及びブ
ラックマトリクス28を介して透明の第2基板10が配
設されている。第1、第2及び第3の液晶層59、6
2、65は、実施例1と同様にマイクロカプセル化した
ゲスト−ホスト型液晶を高分子マトリクス中に分散する
ことにより構成されているとともに、それぞれイエロ
ー、マゼンタ及びシアンの二色性色素が混入されてい
る。
A transparent second substrate 10 is provided on the counter electrode 66 with a flattening film 26 and a black matrix 28 interposed therebetween. First, second and third liquid crystal layers 59, 6
Nos. 2 and 65 are constituted by dispersing a guest-host type liquid crystal microencapsulated in a polymer matrix in the same manner as in Example 1, and mixed with dichroic dyes of yellow, magenta and cyan, respectively. ing.

【0048】縦配線について、図10に基づいてさらに
詳細に説明する。第1基板7上に作製された液晶駆動用
TFT4、5、6には、それぞれバンプ67c、67
a、67bが接続されている。液晶駆動用TFT4は、
バンプ67cを介して駆動電極57に接続されている。
液晶駆動用TFT5は、バンプ67a、電極パッド68
a、69a及び70aを介して駆動電極61に接続され
ている。さらに、液晶駆動用TFT6は、バンプ67
b、電極パッド68b、69b、70b及び80bを介
して駆動電極64が接続されている。
The vertical wiring will be described in more detail with reference to FIG. The liquid crystal driving TFTs 4, 5 and 6 formed on the first substrate 7 have bumps 67c and 67, respectively.
a and 67b are connected. The liquid crystal driving TFT 4 is
It is connected to the drive electrode 57 via the bump 67c.
The liquid crystal driving TFT 5 includes bumps 67a and electrode pads 68.
It is connected to the drive electrode 61 via a, 69a and 70a. Further, the liquid crystal driving TFT 6 has bumps 67.
The drive electrode 64 is connected via the electrode b, the electrode pads 68b, 69b, 70b and 80b.

【0049】なお、図9及び図10における液晶駆動用
TFT4、5、6は、実施例1と同様の構造で形成され
ている。上記液晶表示装置50は、以下のようにして作
製することができる。まず、実施例1と同様の第1基板
7上に能動素子としてTFT4、5、6を作製した。こ
れらTFT4、5、6上に、層間膜15を被覆し、この
層間膜15にコンタクトホールを形成し、コンタクトホ
ールを含む層間膜15上全面に、膜厚1μm程度のAl
もしくはAuをスパッタ法もしくは真空蒸着法等の手段
により成膜し、フォトリングラフィ及びエッチング工程
もしくはリフトオフ等によりTFT4、5、6とそれぞ
れ接続されたバンプ67c、67a、67bを形成し
た。
The liquid crystal driving TFTs 4, 5 and 6 shown in FIGS. 9 and 10 have the same structure as that of the first embodiment. The liquid crystal display device 50 can be manufactured as follows. First, TFTs 4, 5 and 6 were manufactured as active elements on the same first substrate 7 as in Example 1. An interlayer film 15 is covered on these TFTs 4, 5 and 6, a contact hole is formed in this interlayer film 15, and an Al film having a thickness of about 1 μm is formed on the entire surface of the interlayer film 15 including the contact hole.
Alternatively, Au was formed into a film by a method such as a sputtering method or a vacuum evaporation method, and bumps 67c, 67a and 67b connected to the TFTs 4, 5 and 6 were formed by a photolinography and etching step or lift-off.

【0050】次いで、上記第1基板7とは別に、図11
に示したように、実施例1と同様に第1基板7と同様の
第2基板10上に、公知の方法によりブラックマトリク
ス28を作製した後、この上にエポキシ系樹脂を用いて
平坦化膜26を形成した。さらに平坦化膜26上全面に
スパッタ法により膜厚200nmのITOを成膜し、所
望の形状にパターニングして対向電極66を形成した。
Next, in addition to the first substrate 7, FIG.
As shown in, the black matrix 28 is formed on the second substrate 10 similar to the first substrate 7 by a known method as in the first embodiment, and then a flattening film is formed thereon by using an epoxy resin. 26 was formed. Further, a 200 nm-thick ITO film was formed on the entire surface of the flattening film 26 by a sputtering method, and patterned into a desired shape to form a counter electrode 66.

【0051】次いで、対向電極66の上に第3の液晶層
65を形成する。本実施例における液晶層は高分子中に
GH液晶を分散させた形態を用いた。高分子マトリクス
としては紫外線硬化樹脂を用い、液晶層は層分離されて
微小粒として分散されている。このとき、液晶滴中に含
まれずに高分子マトリクス中に残された二色性色素は硬
化時に配向させる手法(特開平05−002194)に
より光透過時には吸収が起こらないようにしている。
Next, the third liquid crystal layer 65 is formed on the counter electrode 66. The liquid crystal layer in this example used a form in which GH liquid crystal was dispersed in a polymer. An ultraviolet curable resin is used as the polymer matrix, and the liquid crystal layer is separated into layers and dispersed as fine particles. At this time, the dichroic dye, which is not contained in the liquid crystal droplets and remains in the polymer matrix, is aligned during curing (Japanese Patent Laid-Open No. 05-002194) so that absorption does not occur during light transmission.

【0052】まず、アクリル酸ブチルとアクリルオリゴ
マー(東亜合成化学社製、M−1200)を重量比3:
2に混合したものに液晶材料(BDH製E8)に2wt
%のp型二色性色素(シアン、マゼンタ、イエローの内
のいずれか一つ、例えばイエローなら日本感光色素研究
所製G232)を添加したものを加え、これに光硬化開
始剤(メルク社製ダロキュアー1116)を加えて十分に撹
拌し分散させる。この混合物を透明電極66を形成した
第2基板10上にバーコーターを用いて膜厚10μmに
塗布した。
First, butyl acrylate and an acrylic oligomer (M-1200, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) in a weight ratio of 3:
2 wt% for liquid crystal material (E8 made by BDH)
% P-type dichroic dye (any one of cyan, magenta, and yellow, for example, G232 made by Japan Photosensitive Dye Laboratory if yellow is added) is added, and a photocuring initiator (made by Merck Co., Ltd. is added. Add Darocur 1116) and stir well to disperse. This mixture was applied on the second substrate 10 on which the transparent electrode 66 was formed to a film thickness of 10 μm using a bar coater.

【0053】次に、液晶分子の配向が起こらないよう温
度を85℃に保ち、液晶材料が等方相をとる状態として
300kV/cmの電界を30分間印加して、p型二色
性色素の配向を行った。この電界を保った状態で高圧水
銀ランプを用いて20mW/cm2の照度で2分間、紫
外線を照射し、高分子分散型の液晶層65を形成した。
Next, the temperature is kept at 85 ° C. so that the liquid crystal molecules are not aligned, and an electric field of 300 kV / cm is applied for 30 minutes so that the liquid crystal material is in an isotropic phase. Orientation was performed. While maintaining this electric field, ultraviolet rays were irradiated for 2 minutes with an illuminance of 20 mW / cm 2 using a high pressure mercury lamp to form a polymer dispersion type liquid crystal layer 65.

【0054】さらに、液晶層65上にエポキシ、シリコ
ーンもしくはポリイミド系の樹脂により保護膜51を形
成し、続いて保護膜51上にスパッタ法により膜厚20
0nmのITOを成膜し、通常のフォトリソグラフィ及
びエッチング工程によりパターニングして駆動電極64
を形成した。駆動電極64上全面に、実施例1と同様の
方法で厚さ約50μmの絶縁層9を形成した。
Further, a protective film 51 is formed on the liquid crystal layer 65 with an epoxy, silicone or polyimide resin, and then a film thickness of 20 is formed on the protective film 51 by a sputtering method.
A drive electrode 64 is formed by forming a 0 nm ITO film and patterning it by a normal photolithography and etching process.
Was formed. The insulating layer 9 having a thickness of about 50 μm was formed on the entire surface of the drive electrode 64 by the same method as in Example 1.

【0055】続いて、図12に示したように、絶縁層9
上にスパッタ法、LPCVD法等の手段により膜厚10
0nmのSiO2 膜52を形成した。このSiO2 膜5
2上に、実施例1と同様にITOによる対向電極63を
形成した。さらにSiO2 52をパターニングし、これ
をマスクとして絶縁層9のエッチングを行い、駆動電極
64に至るスルーホールを形成した。次いで、スルーホ
ールを含むSiO2 膜52上の一部に、実施例1と同様
の方法により電極パッド81bを形成した。
Then, as shown in FIG. 12, the insulating layer 9 is formed.
A film thickness of 10 is formed by a method such as sputtering or LPCVD
A 0 nm SiO 2 film 52 was formed. This SiO 2 film 5
The counter electrode 63 made of ITO was formed on the second electrode 2 in the same manner as in the first embodiment. Further, the SiO 2 52 was patterned, and the insulating layer 9 was etched using this as a mask to form a through hole reaching the drive electrode 64. Then, an electrode pad 81b was formed on a part of the SiO 2 film 52 including the through hole by the same method as in Example 1.

【0056】次に、図13に示したように、駆動電極6
3及び電極パッド81b上に、上述と同様の方法によ
り、例えばマゼンタを含む第2の液晶層62を形成し、
その液晶層62上に保護膜53を形成した。次いで、図
14に示したように、保護膜53上に、実施例1と同様
に透明電極61を形成した。その後、感光性のポリシラ
ンもしくはジシラニレン−π−電子系ポリマー等の耐酸
素プラズマ性の高い材料をフォトレジストとして用い、
酸素アッシングにより液晶層65及び保護膜53のエッ
チングを行い、電極パッド81bに至るスルーホールを
形成した。このスルーホール内に、実施例1と同様の方
法により電極パッド80bを形成した。次に実施例1と
同様の方法により絶縁層8を形成した。
Next, as shown in FIG. 13, the drive electrode 6
The second liquid crystal layer 62 containing magenta, for example, is formed on the electrode 3 and the electrode pad 81b by the same method as described above.
A protective film 53 was formed on the liquid crystal layer 62. Next, as shown in FIG. 14, the transparent electrode 61 was formed on the protective film 53 in the same manner as in Example 1. Then, a material having high oxygen plasma resistance such as photosensitive polysilane or disiranylene-π-electron polymer is used as a photoresist,
The liquid crystal layer 65 and the protective film 53 were etched by oxygen ashing to form a through hole reaching the electrode pad 81b. Electrode pads 80b were formed in the through holes by the same method as in Example 1. Next, the insulating layer 8 was formed by the same method as in Example 1.

【0057】そして、図15に示したように、絶縁層8
上に実施例1と同様にSiO2 膜54を形成し、続いて
絶縁膜54上に対向電極60を形成した。さらにSiO
2 膜54を、実施例1と同様の方法によりパターニング
し、これをマスクとして絶縁層8のエッチングを行い、
電極パッド80b及び駆動電極61に至るスルーホール
をそれぞれ形成した。これらスルーホール内に、実施例
1と同様の方法により電極パッド70b、70aを形成
した。
Then, as shown in FIG.
A SiO 2 film 54 was formed on the insulating film 54 in the same manner as in Example 1, and then a counter electrode 60 was formed on the insulating film 54. Furthermore, SiO
The 2 film 54 is patterned by the same method as in Example 1, and the insulating layer 8 is etched using this as a mask.
Through holes were formed to reach the electrode pad 80b and the drive electrode 61, respectively. Electrode pads 70b and 70a were formed in these through holes by the same method as in Example 1.

【0058】次に、図16に示したように、第1の液晶
層59を第3及び第2の液晶層65、62と同様の方法
によって形成した。その後、第1の液晶層59上に保護
膜55を形成し、第1の液晶層59及び保護膜55にス
ルーホールを形成した。次いで、そのスルーホール内
に、電極パッド69a、69bをそれぞれ形成した。こ
れら電極パッド69a、69bを含む保護膜55上全面
に、透明アクリル樹脂により絶縁膜58を形成し、フォ
トリソグラフィ及びエッチング工程により所望の形状に
パターニングし、駆動電極であるAl膜を形成する部分
に、さらにフォトリソグラフィ及びエッチング工程によ
り絶縁膜58表面全面に凹凸構造を形成した。絶縁膜5
8及び電極パッド69a、69bを含む保護膜55上全
面にスパッタ法によりAl膜を成膜し、通常のフォトリ
ソグラフィ及びエッチング工程によりパターニングし、
散乱性反射板の機能を有する駆動電極57を形成すると
ともに、電極パッド69a、69b上にさらに導電層6
8a、68bを形成した。駆動電極57の凹凸部は一画
素内では不規則なパターンにより配置されており、回折
あるいは干渉により反射光に波長特性が生じないようし
ている。
Next, as shown in FIG. 16, the first liquid crystal layer 59 was formed by the same method as the third and second liquid crystal layers 65 and 62. After that, a protective film 55 was formed on the first liquid crystal layer 59, and through holes were formed in the first liquid crystal layer 59 and the protective film 55. Then, electrode pads 69a and 69b were formed in the through holes, respectively. An insulating film 58 is formed of a transparent acrylic resin on the entire surface of the protective film 55 including the electrode pads 69a and 69b, and is patterned into a desired shape by a photolithography and etching process. Further, a concavo-convex structure was formed on the entire surface of the insulating film 58 by photolithography and etching steps. Insulating film 5
8 and electrode pads 69a and 69b, an Al film is formed on the entire surface by a sputtering method, and patterned by a normal photolithography and etching process.
The drive electrode 57 having the function of the scattering reflector is formed, and the conductive layer 6 is further formed on the electrode pads 69a and 69b.
8a and 68b were formed. The concavo-convex portion of the drive electrode 57 is arranged in an irregular pattern within one pixel so that the reflected light does not have wavelength characteristics due to diffraction or interference.

【0059】このようにして第3、第2及び第1液晶層
65、62、59を形成した第2基板10と、先の工程
で形成した能動素子を有する第1基板7とを、図10に
示したようにバンプ13が所定の位置にくるように位置
合わせを行い、異方性導電膜(図9中、56)を用いて
貼り合わせ、図9に示す液晶表示装置50を完成した。
The second substrate 10 on which the third, second and first liquid crystal layers 65, 62 and 59 are formed in this way and the first substrate 7 having the active element formed in the previous step are shown in FIG. Positioning was performed so that the bumps 13 were at predetermined positions as shown in, and they were bonded using an anisotropic conductive film (56 in FIG. 9) to complete the liquid crystal display device 50 shown in FIG.

【0060】本実施例においても、実施例1と同様に液
晶層59、62、65をそれぞれイエロー、マゼンタ、
シアンに対応させており、各液晶層をTFT4、5、6
によって独立に駆動できるためフルカラー表示が可能で
ある。また、各液晶層中にはGH液晶が小液滴の状態で
分散されているため、電界をかけない状態では液晶層5
9、62、65でそれぞれ赤、緑、青の各光の成分が吸
収され、また、吸収されきらずに散乱された光も高分子
マトリクス内に存在する二色性色素により吸収される。
電界をかけると液晶部分は透過状態となり、高分子マト
リクス内の二色性色素も吸収が生じないよう配向されて
いるため、この液晶層は透過状態となる。この結果、例
えば、TFT6のみをオン状態とし、TFT4、5はオ
フ状態とすることで液晶層65のみが透過状態となり、
液晶層62、59においてはそれぞれ緑、赤の光の成分
が吸収されて青色の成分のみを取り出すことができ、青
色を表示することができる。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the liquid crystal layers 59, 62, and 65 are respectively composed of yellow, magenta, and
It corresponds to cyan, and each liquid crystal layer is connected to TFT4, 5, 6
Since they can be driven independently, full-color display is possible. Further, since GH liquid crystal is dispersed in each liquid crystal layer in the form of small liquid droplets, the liquid crystal layer 5 is in a state where no electric field is applied.
The light components of red, green, and blue are respectively absorbed at 9, 62, and 65, and the light scattered without being absorbed is also absorbed by the dichroic dye existing in the polymer matrix.
When an electric field is applied, the liquid crystal portion is in a transmissive state, and the dichroic dye in the polymer matrix is oriented so as not to be absorbed, so that the liquid crystal layer is in a transmissive state. As a result, for example, by turning on only the TFT 6 and turning off the TFTs 4 and 5, only the liquid crystal layer 65 is in the transmissive state,
In the liquid crystal layers 62 and 59, the green and red light components are absorbed, respectively, and only the blue component can be taken out, so that blue color can be displayed.

【0061】[0061]

【発明の効果】本発明の液晶表示装置によれば、第1基
板上に複数の液晶駆動用能動素子が形成され、その上に
3層の液晶セルが積層され、各液晶セルはいわば並列に
接続されているとともに、それぞれ第1基板上の液晶駆
動用能動素子に接続されているため、減法混色法による
カラー表示を従来から使用されているアクティブマトリ
クス方式での駆動回路を用いながら、3層の液晶セルを
それぞれ独立に駆動することができる。また、各液晶セ
ルに能動素子がそれぞれ形成されていないためにガラス
基板等の強度を有する厚膜の絶縁層を形成する必要がな
くなる。しかも、液晶層の少なくとも1層に高分子分散
型液晶を用いるため、液晶層間を基板ではなく薄膜で隔
てることが可能である。よって、パネルの厚さを画素の
大きさに比べて十分に薄くでき、斜めからディスプレイ
を観察した場合の視差の発生を防止することが可能とな
るとともに、上述のような駆動を実現するための特別な
駆動回路を新たに設ける必要がなく、製造コストの上昇
を抑制することができる。また、各液晶セルにおける液
晶層にそれぞれ異なる色素を含む液晶組成物を使用する
ことにより、従来から用いられているカラーフィルター
を用いることなく、フルカラー表示を行うことができ
る。
According to the liquid crystal display device of the present invention, a plurality of liquid crystal driving active elements are formed on the first substrate, and three layers of liquid crystal cells are stacked on top of each other. In addition to being connected to the active elements for driving the liquid crystal on the first substrate, the three layers are formed by using the driving circuit in the active matrix system which is conventionally used for the color display by the subtractive color mixture method. The liquid crystal cells can be independently driven. Further, since no active element is formed in each liquid crystal cell, it is not necessary to form a thick insulating layer having strength such as a glass substrate. Moreover, since the polymer-dispersed liquid crystal is used for at least one of the liquid crystal layers, it is possible to separate the liquid crystal layers with a thin film instead of the substrate. Therefore, the thickness of the panel can be made sufficiently smaller than the size of the pixel, it is possible to prevent the occurrence of parallax when the display is obliquely observed, and to realize the above-described driving. There is no need to newly provide a special drive circuit, and an increase in manufacturing cost can be suppressed. Further, by using a liquid crystal composition containing different dyes in the liquid crystal layer in each liquid crystal cell, full-color display can be performed without using a conventionally used color filter.

【0062】さらに、各液晶セルと液晶駆動用能動素子
との接続が、各液晶セルを貫通する立体配線によって行
われている場合には、画素に占める配線の面積を削減す
ることができ、高い開口率を有する液晶表示装置を得る
ことが可能となる。また、本発明の液晶表示装置におい
ては、反射板として機能する液晶駆動用電極を用いるこ
とにより、そのまま反射型液晶表示装置として、一方、
透明の液晶駆動用電極を用い、第1基板の下方にバック
ライトを配設することにより透過型液晶表示装置として
使用することが可能となる。よって、光の利用効率を落
とす最も大きな要因であるカラーフィルターでの光損失
相当分を改善でき、バックライトの消費電力を大幅に低
減して、低消費電力の新規構造の透過型液晶表示装置を
提供することが可能となる。
Further, when the connection between each liquid crystal cell and the liquid crystal driving active element is made by a three-dimensional wiring penetrating each liquid crystal cell, the area of the wiring occupied in the pixel can be reduced, which is high. A liquid crystal display device having an aperture ratio can be obtained. Further, in the liquid crystal display device of the present invention, by using the liquid crystal driving electrode functioning as a reflection plate, as it is as a reflection type liquid crystal display device,
By using a transparent liquid crystal driving electrode and arranging a backlight below the first substrate, it becomes possible to use as a transmissive liquid crystal display device. Therefore, it is possible to improve the amount of light loss in the color filter, which is the biggest factor in reducing the light use efficiency, and to significantly reduce the power consumption of the backlight, and to reduce the power consumption of the new type of transmissive liquid crystal display device. It becomes possible to provide.

【0063】さらに、本発明のフルカラー液晶表示装置
の製造方法によれば、第1基板上にのみ液晶駆動用能動
素子を形成するため、各液晶セルの基板上にそれぞれ液
晶駆動用能動素子を形成するという煩雑な製造工程を省
略することができる。また、上述のように、液晶駆動用
能動素子が第1基板上のみに配置しているため、これら
を駆動するための実装回路を同一平面で装備することが
できるため、製造工程を削減し、製造コストの低減を実
現することができる。
Further, according to the method of manufacturing a full-color liquid crystal display device of the present invention, since the liquid crystal driving active element is formed only on the first substrate, the liquid crystal driving active element is formed on the substrate of each liquid crystal cell. It is possible to omit the complicated manufacturing process. Further, as described above, since the liquid crystal driving active elements are arranged only on the first substrate, mounting circuits for driving these can be mounted on the same plane, which reduces the manufacturing process, A reduction in manufacturing cost can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の液晶表示装置の実施例を示す要部の概
略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a main part showing an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention.

【図2】図1の液晶表示装置の縦配線を説明するための
要部の拡大概略断面図である。
FIG. 2 is an enlarged schematic cross-sectional view of a main part for explaining vertical wiring of the liquid crystal display device of FIG.

【図3】図1の液晶表示装置の製造工程を説明するため
の要部の概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図4】図1の液晶表示装置の製造工程を説明するため
の要部の概略断面図である。
4 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図5】図1の液晶表示装置の製造工程を説明するため
の要部の概略断面図である。
5 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図6】図1の液晶表示装置の製造工程を説明するため
の要部の概略断面図である。
6 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図7】図1の液晶表示装置の製造工程を説明するため
の要部の概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図8】図1の液晶表示装置の製造工程を説明するため
の要部の概略断面図である。
8 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図9】本発明の液晶表示装置の別の実施例を示す要部
の概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a main part showing another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.

【図10】図9の液晶表示装置の縦配線を説明するため
の要部の拡大概略断面図である。
10 is an enlarged schematic cross-sectional view of a main part for explaining vertical wiring of the liquid crystal display device of FIG.

【図11】図9の液晶表示装置の製造工程を説明するた
めの要部の概略断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図12】図9の液晶表示装置の製造工程を説明するた
めの要部の概略断面図である。
12 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図13】図9の液晶表示装置の製造工程を説明するた
めの要部の概略断面図である。
13 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図14】図9の液晶表示装置の製造工程を説明するた
めの要部の概略断面図である。
14 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図15】図9の液晶表示装置の製造工程を説明するた
めの要部の概略断面図である。
15 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図16】図9の液晶表示装置の製造工程を説明するた
めの要部の概略断面図である。
16 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG.

【図17】従来技術による減法混色法を用いた液晶表示
装置の一例を示す概略断面図である。
FIG. 17 is a schematic cross-sectional view showing an example of a liquid crystal display device using a subtractive color mixing method according to a conventional technique.

【図18】従来技術における別の液晶表示装置を示す概
略断面図である。
FIG. 18 is a schematic cross-sectional view showing another liquid crystal display device in the related art.

【符号の簡単な説明】[Brief description of reference numerals]

1、2、3、59、62、65 液晶層 4、5、6 能動素子 7、10 基板 8、9 絶縁層 11、71 第1液晶セル 12、72 第2液晶セル 13、73 第3液晶セル 14、18、20、57、61、64 駆動電極 15 層間膜 17、19、25、60、63、66 対向電極 21 バックライト光源 22 導光板 23 反射膜 26 平坦化膜 28 ブラックマトリクス 47、50 液晶表示装置 14a、14b、33a、33b、34b、35a、3
5b、36b、68a、68b、69a、69b、70
a、70b、80b、81b 電極パッド 56 異方性導電膜 67a、67b、67c バンプ 68a、68b 導電層 42、43、45、46、52、54 SiO2 膜 41、44、51、53、55 保護膜 58 絶縁膜
1, 2, 3, 59, 62, 65 Liquid crystal layer 4, 5, 6 Active element 7, 10 Substrate 8, 9 Insulating layer 11, 71 First liquid crystal cell 12, 72 Second liquid crystal cell 13, 73 Third liquid crystal cell 14, 18, 20, 57, 61, 64 Drive electrode 15 Interlayer film 17, 19, 25, 60, 63, 66 Counter electrode 21 Backlight light source 22 Light guide plate 23 Reflective film 26 Flattening film 28 Black matrix 47, 50 Liquid crystal Display devices 14a, 14b, 33a, 33b, 34b, 35a, 3
5b, 36b, 68a, 68b, 69a, 69b, 70
a, 70b, 80b, 81b Electrode pad 56 Anisotropic conductive film 67a, 67b, 67c Bump 68a, 68b Conductive layer 42, 43, 45, 46, 52, 54 SiO 2 film 41, 44, 51, 53, 55 Protection Film 58 insulating film

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の液晶駆動用能動素子が形成された
第1基板と、 該第1基板上に層間膜を介してこの順で積層された第
1、第2及び第3液晶セルと、 該第3液晶セル上に平坦化膜を介して積層された第2基
板とから構成され、 前記第1、第2及び第3液晶セルは、各液晶セルごとに
形成された対向電極、液晶層及び前記第1基板上の液晶
駆動用能動素子に接続された駆動電極からなるととも
に、隣接する液晶セルの対向電極及び駆動電極から絶縁
層によりそれぞれ電気的に分離されており、 前記第1、第2及び第3液晶セルを構成する液晶層の少
なくとも1層は、高分子分散液晶により形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
1. A first substrate on which a plurality of liquid crystal driving active elements are formed, and first, second and third liquid crystal cells stacked in this order on the first substrate with an interlayer film interposed therebetween. A second substrate laminated on the third liquid crystal cell via a flattening film, wherein the first, second and third liquid crystal cells are a counter electrode and a liquid crystal layer formed for each liquid crystal cell. And a driving electrode connected to the liquid crystal driving active element on the first substrate, and electrically separated from the opposing electrode and the driving electrode of the adjacent liquid crystal cell by an insulating layer, respectively. A liquid crystal display device, wherein at least one of the liquid crystal layers constituting the second and third liquid crystal cells is formed of polymer dispersed liquid crystal.
【請求項2】 各液晶層が、それぞれ異なる色素を含む
請求項1記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein each liquid crystal layer contains a different dye.
【請求項3】 第2液晶セルの駆動電極が、第1液晶セ
ルを貫通する立体配線により、第3液晶セルの駆動電極
が、第1及び第2液晶セルを貫通する立体配線により、
それぞれ液晶駆動用能動素子に接続される請求項1又は
2に記載の液晶表示装置。
3. The drive electrode of the second liquid crystal cell is formed by three-dimensional wiring penetrating the first liquid crystal cell, and the drive electrode of the third liquid crystal cell is formed by three-dimensional wiring penetrating the first and second liquid crystal cells.
The liquid crystal display device according to claim 1 or 2, wherein the liquid crystal display device is connected to each of the liquid crystal driving active elements.
【請求項4】 第1液晶セルの駆動電極が反射型の電極
である請求項1〜3のいずれか1つに記載の液晶表示装
置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the drive electrode of the first liquid crystal cell is a reflective electrode.
【請求項5】 駆動電極及び対向電極が透明電極であ
り、第1基板の液晶セルとは反対の面にさらに導光板を
有する請求項1〜3のいずれか1つに記載の液晶表示装
置。
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the drive electrode and the counter electrode are transparent electrodes, and a light guide plate is further provided on a surface of the first substrate opposite to the liquid crystal cell.
【請求項6】 (i) 第1基板上に複数の液晶駆動用能動
素子を形成し、該液晶駆動用能動素子上全面に、層間膜
を形成し、 (ii)該層間膜上に、第1の液晶駆動用能動素子に接続さ
れた駆動電極と、液晶層と、対向電極をこの順で積層し
て第1液晶セルを形成し、 (iii) 該第1液晶セル上に絶縁層を介して第2の液晶駆
動用能動素子に接続された駆動電極と、液晶層と、対向
電極とをこの順で積層して第2液晶セルを形成し、 (iv)該第2液晶セル上に絶縁層を介して第3の液晶駆動
用能動素子に接続された駆動電極と、液晶層と、対向電
極とをこの順で積層して第3液晶セルを形成するととも
に、第3液晶セル上に平坦化膜を介して第2基板を積層
することを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置の製
造方法。
6. (i) A plurality of liquid crystal driving active elements are formed on a first substrate, an interlayer film is formed on the entire surface of the liquid crystal driving active elements, and (ii) a second interlayer insulating film is formed on the interlayer film. A drive electrode connected to the first liquid crystal drive active element, a liquid crystal layer, and a counter electrode are laminated in this order to form a first liquid crystal cell, and (iii) an insulating layer is provided on the first liquid crystal cell. A drive electrode connected to the second liquid crystal drive active element, a liquid crystal layer, and a counter electrode in this order to form a second liquid crystal cell, and (iv) insulation on the second liquid crystal cell. A drive electrode connected to a third liquid crystal drive active element via a layer, a liquid crystal layer, and a counter electrode are laminated in this order to form a third liquid crystal cell, and a flat surface is formed on the third liquid crystal cell. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second substrate is laminated with a chemical film interposed therebetween.
【請求項7】 (I) 第1基板上に複数の液晶駆動用能動
素子を形成し、該液晶駆動用能動素子上全面に、層間膜
を形成し、 (II)第2基板上に平坦化膜を介して対向電極、液晶層及
び駆動電極をこの順で積層して第3液晶セルを形成し、 (III) 該第3液晶セル上に絶縁層を介して対向電極、液
晶層及び駆動電極をこの順で積層して第2液晶セルを形
成し、 (IV)該第2液晶セル上に絶縁層を介して対向電極、液晶
層及び駆動電極をこの順で積層して第1液晶セルを形成
し、 (V) 得られた第1基板と第2基板とを、各液晶駆動用能
動素子と駆動電極とが接続するように張り合わせること
を特徴とする請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。
7. (I) Forming a plurality of liquid crystal driving active elements on a first substrate, forming an interlayer film on the entire surface of the liquid crystal driving active elements, and (II) planarizing on a second substrate. A counter electrode, a liquid crystal layer and a drive electrode are laminated in this order via a film to form a third liquid crystal cell, and (III) a counter electrode, a liquid crystal layer and a drive electrode on the third liquid crystal cell via an insulating layer. Are laminated in this order to form a second liquid crystal cell, and (IV) a counter electrode, a liquid crystal layer, and a drive electrode are laminated in this order on the second liquid crystal cell to form a first liquid crystal cell. 2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate obtained by (V) are bonded so that each active element for driving liquid crystal and the drive electrode are connected. Production method.
【請求項8】 第1液晶セルの駆動電極を反射型の導電
材料で形成する請求項6又は7に記載の液晶表示装置の
製造方法。
8. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the drive electrode of the first liquid crystal cell is formed of a reflective conductive material.
【請求項9】 駆動電極及び対向電極を透明導電材料で
形成し、第1基板の液晶セルとは反対の面にさらに導光
板を形成する請求項6又は7に記載の液晶表示装置の製
造方法。
9. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the drive electrode and the counter electrode are formed of a transparent conductive material, and a light guide plate is further formed on the surface of the first substrate opposite to the liquid crystal cell. .
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