JPH09252053A - Programming circuit, semiconductor device provided therewith, and redundancy relief method - Google Patents

Programming circuit, semiconductor device provided therewith, and redundancy relief method

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JPH09252053A
JPH09252053A JP8057988A JP5798896A JPH09252053A JP H09252053 A JPH09252053 A JP H09252053A JP 8057988 A JP8057988 A JP 8057988A JP 5798896 A JP5798896 A JP 5798896A JP H09252053 A JPH09252053 A JP H09252053A
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JP
Japan
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potential
fuse element
programming circuit
fuse
circuit
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Application number
JP8057988A
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Japanese (ja)
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Kazutomo Ogura
和智 小倉
Kunihiro Boute
郁宏 棒手
Noriyoshi Watabe
憲佳 渡部
Yoshito Fujimoto
義人 藤本
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Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the current consumption of a programming circuit in and the area exclusively occupied by it. SOLUTION: A programming circuit is equipped with a first fuse device FU1 to which a power supply potential Vcc is applied, a second fuse device FU2 to which a power supply potential Vcc or a grounding potential Vss can be selectively applied, and a common nodal point BR which is jointly owned by the first fuse device FU1 and the second fuse device FU2. When a normal area is actuated, the second fuse device FU2 is cut off or a potential equal to that of the first fuse device FU1 is applied to the second fuse device FU2 to keep the nodal point at the power supply potential Vcc, and when a redundant area is substituted for a defective area, either the first fuse device FU1 or the second fuse device FU2 is cut off, and the common nodal point BR is kept at a grounding potential Vss or a power supply potential Vcc through either the first fuse device FU2 or the second fuse device FU1 to form relief data.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置における
回路技術、特に、メモリアレイに形成された複数のメモ
リセル中に存在する不良メモリセルや不良ライン(行
線、列線)の救済に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is applied to circuit technology in a semiconductor device, and more particularly to repairing defective memory cells and defective lines (row lines, column lines) existing in a plurality of memory cells formed in a memory array. And effective technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置においては、メモリが大容量
化していくにつれて不良メモリセルを全く含まないメモ
リアレイを製造することがますます困難になってきてい
る。特に新たな製造技術を用いて開発されるメモリの場
合には初期の試作時の欠陥レベルが高くなり、何等の手
当もなければ歩留りが極めて低くなる場合がある。こう
した問題を解決する手段として、あらかじめ予備のつま
り冗長な行や列を数本加えて冗長メモリセルを構成し、
不良のメモリセルやライン(行線、列線)を入れ換える
冗長回路が用いられている。
2. Description of the Related Art In semiconductor devices, as memory capacity has increased, it has become more and more difficult to manufacture a memory array that does not include any defective memory cells. In particular, in the case of a memory developed by using a new manufacturing technique, the defect level at the time of initial trial production may be high, and the yield may be extremely low if no measures are taken. As a means to solve such a problem, a redundant memory cell is configured in advance by adding several spare or redundant rows and columns,
Redundant circuits that replace defective memory cells or lines (row lines, column lines) are used.

【0003】このような不良メモリセルの救済技術につ
いて詳しく記載している例としては、たとえば、株式会
社培風館発行、「アドバンスト エレクトロニクスI−
9超LSIメモリ」(1994年11月 5日発行)、P181〜P1
83がある。
As an example in which a technique for relieving such a defective memory cell is described in detail, for example, "Advanced Electronics I-" issued by Baifukan Co., Ltd.
9 Super LSI Memory "(issued November 5, 1994), P181-P1
There are 83.

【0004】救済情報を生成する救済回路の1つである
冗長デコーダ(冗長行デコーダ・冗長列デコーダ)にお
いて、不良ラインに特定の冗長ラインを具体的に割り当
てるための従来のプログラミング回路としては、たとえ
ば、不良ラインに対しては接地電位Vssで冗長ラインに
選択を切り換え、救済されるべく不良ラインの番地(以
下「救済番地」という。)をプログラミング回路を用い
て生成するものが考えられる。このとき、一方端が電源
電位の端子(以下「電源端子」という。)に接続された
フューズ素子と、一方端が接地電位の端子(以下「接地
端子」という。)に接続された導通抵抗素子と、フュー
ズ素子と導通抵抗素子の他方端が共有する節点と、この
節点を入力とするインバータとで回路を構成することが
できる。このとき、導通抵抗素子にはたとえば前段の出
力レベルがゲートに入力されるようにして複数のたとえ
ば3つのMOSFETを直列接続したものが用いられ
る。かかる回路においては、不良ラインを救済する場合
には、フューズを切断して節点が接地電位Vssにされ
る。また、救済番地はフューズを切断または未切断とす
ることによりプログラムされる。
In a redundant decoder (redundant row decoder / redundant column decoder) which is one of the repair circuits for generating repair information, a conventional programming circuit for specifically assigning a specific redundant line to a defective line is, for example, The defective line may be switched to the redundant line by the ground potential Vss, and the address of the defective line (hereinafter referred to as "relief address") may be generated by using a programming circuit to be relieved. At this time, a fuse element whose one end is connected to a power supply potential terminal (hereinafter referred to as “power supply terminal”) and a conduction resistance element whose one end is connected to a ground potential terminal (hereinafter referred to as “ground terminal”) And a node shared by the fuse element and the other end of the conduction resistance element, and an inverter having the node as an input. At this time, as the conduction resistance element, for example, a plurality of, for example, three MOSFETs connected in series so that the output level of the preceding stage is input to the gate is used. In such a circuit, when repairing a defective line, the fuse is blown and the node is set to the ground potential Vss. The relief address is programmed by cutting or uncutting the fuse.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のプログラミング回路では以下のような問題が
あることが本発明者により指摘された。その一つは、フ
ューズ素子を切断する必要のない場合には不可避的に貫
通電流が発生し、これにより装置全体としての消費電流
が増大するという問題である。他の一つは、プログラミ
ング回路の半導体装置に対する専有面積が増加するとい
う問題である。
However, the present inventor has pointed out that such a conventional programming circuit has the following problems. One of the problems is that a through current is unavoidably generated when it is not necessary to disconnect the fuse element, which increases the current consumption of the entire device. The other is a problem that the area occupied by the programming circuit for the semiconductor device increases.

【0006】前者の問題について詳細に説明すれば次の
ようなものである。
The former problem will be described in detail below.

【0007】フューズ素子を切断しない場合には節点が
電源電位Vccとなるように、節点と接地端子との間にあ
る導通抵抗素子の抵抗値はフューズ素子の導通抵抗値よ
り充分大きく設計されているほうが望ましい。つまり、
フューズ素子が切断されない場合には、導通抵抗素子の
抵抗値が小さいとインバータに対する節点の電源電位V
ccであるHighレベル電位が低下するため、誤動作を引き
起こす要因となるからであり、また、フューズ素子と導
通抵抗素子とを介して電源端子と接地端子との間に過大
な貫通電流が発生し、動作時の消費電流の増加の要因と
なるからである。
The resistance value of the conduction resistance element between the node and the ground terminal is designed to be sufficiently larger than the conduction resistance value of the fuse element so that the node becomes the power supply potential Vcc when the fuse element is not cut. Is better. That is,
When the fuse element is not blown, if the resistance value of the conduction resistance element is small, the power supply potential V of the node for the inverter is generated.
This is because the High level potential of cc decreases, which causes a malfunction, and an excessive through current is generated between the power supply terminal and the ground terminal via the fuse element and the conduction resistance element. This is because it causes an increase in current consumption during operation.

【0008】一方、フューズ素子を切断した場合には節
点は接地電位VssであるLow レベルを保持する必要があ
る。特に、節点が何らかの原因でHighレベルになってい
たとしても、電源が投入されると直ちに節点をLow レベ
ルとする必要があり、したがって、このような点からす
れば、節点と接地端子に挿入される導通抵抗素子の抵抗
値は小さいほうが望ましい。
On the other hand, when the fuse element is blown, the node must hold the ground potential Vss at the low level. In particular, even if the node is at the high level for some reason, it is necessary to bring the node to the low level as soon as the power is turned on. It is desirable that the resistance value of the conduction resistance element is small.

【0009】このように、プログラミング回路の節点と
接地端子間に配置する導通抵抗素子の抵抗値はフューズ
素子を切断した場合と切断しない場合とで相反する特性
が要求され、両者の特性を満たす様にある程度ゲート長
を長くする等の工夫を施した上でフューズ素子の導通抵
抗値に対し極力大きくすることが想定される。
As described above, the resistance value of the conductive resistance element arranged between the node of the programming circuit and the ground terminal is required to have characteristics which are contradictory when the fuse element is cut and when not cut. It is expected that the gate resistance will be increased to some extent and then the conduction resistance of the fuse element will be increased as much as possible.

【0010】しかし、必ず電源端子と接地端子とが導通
されていることが構造上必要とされるので、たとえ抵抗
値を大きくしたとしても、図6に示すような微弱な貫通
電流が流れてしまう。貫通電流をたとえば15μA程度
とし、このプログラミング回路が用いられているものが
4MビットSRAMとすると、1つの半導体装置当たり
の総消費電流が2.1mA程度であるから、前記の回路の消
費電流は装置全体の 5%〜10%にも達することになると
いうものである。
However, since it is necessary for the structure to electrically connect the power supply terminal and the ground terminal, even if the resistance value is increased, a weak through current as shown in FIG. 6 flows. . If the through current is, for example, about 15 μA, and the programming circuit using this is a 4 Mbit SRAM, the total current consumption per semiconductor device is about 2.1 mA. It will reach 5% to 10%.

【0011】後者の問題について詳細に説明すれば次の
ようなものである。
The latter problem will be described in detail below.

【0012】フューズ素子が切断されている場合に電源
投入時の節点を確実にLow レベルに保持したり、たとえ
ばチップセレクタがチップ非選択状態においてHighレベ
ルとなったときに節点をLow レベルに保持するために
は、たとえばコンデンサやトランジスタなどを構成して
回路に容量を持たせたり、フリップフロップを構成して
電位をコントロールすることが必要になり、プログラミ
ング回路の占有面積が増加することになるというもので
ある。
When the fuse element is cut off, the node when the power is turned on is reliably kept at the low level, or the node is kept at the low level when the chip selector becomes the high level when the chip is not selected. In order to do so, it is necessary to configure a capacitor or transistor to give the circuit capacity, or to configure a flip-flop to control the potential, which increases the occupied area of the programming circuit. Is.

【0013】本発明者のシミュレーションによれば、占
有面積は1つのプログラミング回路当たり約0.0038mm2
を必要とすることになる。1チップ内のプログラミング
回路数は、行アドレス本数に冗長行デコーダの個数を乗
じた数と列アドレス本数に冗長列デコーダの個数を乗じ
た数、さらにその他の回路構成上必要な数の合計で決定
されるが、たとえば前記した4MビットSRAMにおい
ては1チップ当たり百数十個でトータルの占有面積は
0.53mm2程度になる。
According to the simulation by the present inventor, the occupied area is about 0.0038 mm 2 per programming circuit.
Will be required. The number of programming circuits in one chip is determined by the sum of the number of row addresses multiplied by the number of redundant row decoders, the number of column addresses multiplied by the number of redundant column decoders, and the number required for other circuit configurations. However, for example, in the above-described 4 Mbit SRAM, the total occupied area is 100 tens per chip.
It will be about 0.53 mm 2 .

【0014】これらの問題は、揮発性の素子または電気
的なフューズ素子のいずれを使用したプログラミング回
路においても同様である。
These problems are the same in programming circuits using either volatile elements or electrical fuse elements.

【0015】そこで、本発明の目的は、プログラミング
回路における消費電流を低減することのできる技術を提
供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a technique capable of reducing current consumption in a programming circuit.

【0016】本発明の他の目的は、プログラミング回路
の半導体装置における専有面積を低減することのできる
技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique capable of reducing the area occupied by a programming circuit in a semiconductor device.

【0017】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば下
記の通りである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, typical ones are briefly described as follows.

【0019】すなわち、本発明によるプログラミング回
路は、第1の電位が印加された第1のフューズ素子と、
第1の電位と第2の電位とが選択的に印加可能とされた
第2のフューズ素子と、第1および第2のフューズ素子
が共有する共有節点とを有し、共有節点を第1の電位に
する場合には第2のフューズ素子を切断し、共有節点を
第2の電位にする場合には第1のフューズ素子を切断
し、第2のフューズ素子を介して共有節点とは別の節点
に第2の電位を印加するものである。また、本発明によ
る半導体装置は、このようなプログラミング回路が用い
られたものである。
That is, the programming circuit according to the present invention comprises: a first fuse element to which a first potential is applied;
It has a second fuse element to which the first potential and the second potential can be selectively applied, and a shared node shared by the first and second fuse elements, and the shared node is the first node. The second fuse element is cut to bring it to the potential, the first fuse element is cut to put the shared node to the second potential, and the shared node is separated from the shared node via the second fuse element. The second potential is applied to the node. Further, the semiconductor device according to the present invention uses such a programming circuit.

【0020】そして、本発明による冗長救済方法は、前
記したプログラミング回路を用いて不良エリアを救済す
るもので、第2のフューズ素子に第1の電位を印加して
共有節点を第1の電位にして正常エリアと不良エリアと
を判別し、救済回路を正常エリアに対応させる場合は第
2のフューズを切断して共有節点を第1の電位にするか
第2のフューズに第1の電位を印加し、不良エリアに冗
長エリアを割り当てる場合は第2のフューズ素子に第2
の電位を印加し、第1のフューズまたは第2のフューズ
の何れかを切断することにより共有節点を第1の電位ま
たは第2の電位にすることで救済情報を生成するもので
ある。なお、正常エリアを動作させる場合には、第2の
フューズに第1の電位を印加することができる。
The redundancy repairing method according to the present invention repairs a defective area by using the programming circuit described above. The first potential is applied to the second fuse element to set the shared node to the first potential. If the relief circuit is made to correspond to the normal area by distinguishing between the normal area and the defective area and disconnecting the second fuse, the shared node is set to the first potential or the first potential is applied to the second fuse. If the redundant area is assigned to the defective area, the second fuse element is set to the second area.
Is applied to cut the first fuse or the second fuse to set the shared node to the first potential or the second potential, thereby generating the relief information. When operating the normal area, the first potential can be applied to the second fuse.

【0021】これによれば、不良エリアの検出において
は第1および第2のフューズ素子が何れも同電位となる
ため貫通電流は発生しない。また、冗長救済回路を正常
エリアに対応させる場合は、第2のフューズを切断して
共有節点を第1の電位にするか、あるいは、第2のフュ
ーズに第1の電位を印加するため、貫通電流は発生しな
い。そして、不良エリアの冗長救済は、第2のフューズ
素子に第2の電位を印加して第1または第2のフューズ
素子の何れかを切断するようにしているので、この場合
にもやはり貫通電流は流れない。これにより、プログラ
ミング回路の動作時における消費電流を大幅にまで低減
することができる。
According to this, in the detection of the defective area, the first fuse element and the second fuse element have the same potential, so that no through current is generated. Further, when the redundant relief circuit is made to correspond to the normal area, the second fuse is blown to set the shared node to the first potential, or the first potential is applied to the second fuse. No current is generated. Then, in the redundant relief of the defective area, the second potential is applied to the second fuse element to disconnect either the first or the second fuse element. Does not flow. As a result, the current consumption during the operation of the programming circuit can be significantly reduced.

【0022】また、貫通電流の発生しないこのようなプ
ログラミング回路を2つのフューズ素子を用いた簡単な
構造で実現することが可能になるので、半導体装置にお
けるプログラミング回路の専有面積を大幅に低減するこ
とが可能になる。
Further, since such a programming circuit in which a through current does not occur can be realized with a simple structure using two fuse elements, the area occupied by the programming circuit in the semiconductor device can be greatly reduced. Will be possible.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において、同一の部材には同一の符号を付
し、その繰り返しの説明は省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments, the same members are denoted by the same reference numerals, and a repeated description thereof will be omitted.

【0024】(実施の形態1)図1は本発明の一実施の
形態であるプログラミング回路が用いられた半導体装置
を示す回路図、図2は図1の半導体装置における冗長行
デコーダを示す回路図、図3は図2の冗長行デコーダに
おけるプログラミング回路を示す回路図、図4は図3の
プログラミング回路の取り扱い方法を示す説明図であ
る。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a circuit diagram showing a semiconductor device in which a programming circuit according to an embodiment of the present invention is used, and FIG. 2 is a circuit diagram showing a redundant row decoder in the semiconductor device of FIG. 3 is a circuit diagram showing a programming circuit in the redundant row decoder of FIG. 2, and FIG. 4 is an explanatory diagram showing a method of handling the programming circuit of FIG.

【0025】本実施の形態の半導体装置は、たとえば0
〜kまでの(k+1)本の冗長行11および0〜nまで
の(n+1)本の冗長列12を有するSRAMとされて
いる。そして、メモリアレイ13の正常のメモリセルM
C、正常行または正常列(以下「正常エリア」というこ
ともある。)中に不良のメモリセルMC、不良行または
不良列(以下「不良エリア」ということもある。)があ
った場合、予備の冗長行11または冗長列12(以下
「冗長エリア」ということもある。)でこれを置き換え
るための冗長行デコーダ14および冗長列デコーダ15
が設けられている。そして、たとえばアクティブロウの
チップセレクタ16でこのSRAMが選択されて冗長行
デコーダ14および冗長列デコーダ15が活性化されて
いる状態において、これらのデコーダ14,15にそれ
ぞれ形成されたプログラミング回路RCT0 〜RCTi+
1,RCT(図2、図3)を不良エリアに対応するアドレ
ス信号に応答して選択動作が行なわれるようにプログラ
ミングし救済情報を生成することで、冗長行11および
冗長列12が割り当てられるようになっている。
The semiconductor device of this embodiment has, for example, 0
It is an SRAM having (k + 1) redundant rows 11 up to k and (n + 1) redundant columns 12 up to 0-n. Then, a normal memory cell M of the memory array 13
If there is a defective memory cell MC, a defective row or a defective column (hereinafter also referred to as a “defective area”) in a normal row or a normal column (hereinafter also referred to as a “normal area”), a spare. A redundant row decoder 14 and a redundant column decoder 15 for replacing the redundant row 11 or the redundant column 12 (hereinafter also referred to as “redundant area”) of
Is provided. Then, for example, when the SRAM is selected by the active row chip selector 16 and the redundant row decoder 14 and the redundant column decoder 15 are activated, the programming circuits RCT0 to RCTi + formed in the decoders 14 and 15 respectively.
The redundant row 11 and the redundant column 12 are allocated by programming the RCT (FIGS. 2 and 3) so that the selecting operation is performed in response to the address signal corresponding to the defective area and generating the relief information. It has become.

【0026】外部から入力パッドIX0 〜IXi,IY0
〜IYj に入力されたアドレスで行アドレスバッファ1
8および列アドレスバッファ19を介してメモリアレイ
13中の所定のメモリセルMCにアクセスし得るよう
に、これらのバッファ18,19とメモリアレイ13と
の間には正規の行デコーダ20および列デコーダ21が
設けられている。
External input pads IX0 to IXi, IY0
~ Row address buffer 1 with the address input to IYj
8 and column address buffer 19 so that a predetermined memory cell MC in memory array 13 can be accessed between these buffers 18, 19 and memory array 13 by a regular row decoder 20 and column decoder 21. Is provided.

【0027】したがって、不良エリアを含むアドレスが
入力パッドIX0 〜IXi,IY0 〜IYj に入力される
と、行アドレスバッファ18および列アドレスバッファ
19を介して内部行アドレス信号X0 〜Xi,BX0 〜B
Xi および内部列アドレス信号Y0 〜Yj,BY0 〜BY
j が冗長行デコーダ14または冗長列デコーダ15に入
力され、冗長ワード活性化信号RWD0 〜RWDk のい
ずれかまたは冗長列活性化信号RC0 〜RCn のいずれ
かが選択され、同時に、正規の行デコーダ20に対し選
択禁止信号iNHRが出力されて対応した正規ワード活
性化信号WD0〜WDj が非活性となり、あるいは正
規の列デコーダ21および正規の列選択スイッチ・読み
出し・書き込み回路22に対し選択禁止信号iNHCが
出力されて対応した正規列活性化信号C0 〜Cj が非活
性となる。これにより、正規の行または列の代わりに冗
長行11または冗長列12の何れかが選択されることに
なる。
Therefore, when an address including a defective area is input to input pads IX0 to IXi, IY0 to IYj, internal row address signals X0 to Xi, BX0 to B are passed through row address buffer 18 and column address buffer 19.
Xi and internal column address signals Y0 to Yj, BY0 to BY
j is input to the redundant row decoder 14 or the redundant column decoder 15 to select either the redundant word activation signal RWD0 to RWDk or the redundant column activation signal RC0 to RCn, and at the same time, to the normal row decoder 20. On the other hand, the selection prohibition signal iNHR is output and the corresponding normal word activation signals WD0 to WDj are deactivated, or the selection prohibition signal iNHC is output to the normal column decoder 21 and the normal column selection switch / read / write circuit 22. Then, the corresponding normal column activation signals C0 to Cj are deactivated. As a result, either the redundant row 11 or the redundant column 12 is selected instead of the regular row or column.

【0028】ここで冗長行デコーダ14の回路図を図2
に示す。なお、冗長列デコーダ15も冗長行デコーダ1
4とほぼ同様の構成を有するものであるため、冗長列デ
コーダ15の説明は省略する。
Here, a circuit diagram of the redundant row decoder 14 is shown in FIG.
Shown in The redundant column decoder 15 is also the redundant row decoder 1
The redundant column decoder 15 will not be described because it has a configuration similar to that of the redundant column decoder 15.

【0029】図示するように、冗長行デコーダ14には
内部アドレス信号X0 〜Xi ならびにBX0 〜BXi 、
およびチップ選択信号CSが入力されるようになってお
り、第1および第2のフューズ素子FU1,FU2 とを有
するプログラミング回路RCT0 〜RCTi+1 と、イン
バータINV0 〜INVi+1 と、N型MOSトランジス
タ(以下「NMOS」という。)とP型MOSトランジ
スタ(以下「PMOS」という。)とから構成され、プ
ログラミング回路RCT0 〜RCTi とインバータIN
V0 〜INVi からのHighレベルとLow レベルの出力信
号により内部アドレス信号X0 〜Xi またはBX0 〜B
Xi を選択的にナンド回路NAND0 〜NANDi に送
る転送ゲートトランジスタTr0 〜Tri ならびにTr
0B〜TriBと、プログラミング回路RCTi+1 の出力を
入力とするインバータINVi+1の出力およびチップ選
択信号CSを入力とするナンド回路NANDi+1 と、こ
のナンド回路NANDi+1 の出力を入力とするINVR
とを有している。そして、ナンド回路NAND0 〜NA
NDi の出力をそれぞれ入力とするインバータINV0
〜INVi 、インバータINVN0 〜INVNi の出力
を入力とするナンド回路NANDc 、ナンド回路NAN
Dc の出力を入力とするインバータINVcからなるデ
コード回路DECが設けられ、たとえば冗長ワード活性
化信号RWD0 が出力されるようになっている。
As shown in the figure, the redundant row decoder 14 has internal address signals X0 to Xi and BX0 to BXi,
And a chip selection signal CS are input, programming circuits RCT0 to RCTi + 1 having first and second fuse elements FU1 and FU2, inverters INV0 to INVi + 1, and N-type MOS transistors. (Hereinafter referred to as "NMOS") and a P-type MOS transistor (hereinafter referred to as "PMOS"). Programming circuits RCT0 to RCTi and an inverter IN.
Internal address signals X0 to Xi or BX0 to B depending on the high level and low level output signals from V0 to INVi.
Transfer gate transistors Tr0 to Tri and Tr for selectively sending Xi to NAND circuits NAND0 to NANDi
0B to TriB, the output of the inverter INVi + 1 that receives the output of the programming circuit RCTi + 1 and the NAND circuit NANDi + 1 that receives the chip selection signal CS, and the output of this NAND circuit NANDi + 1. INVR
And And the NAND circuits NAND0 to NA
Inverter INV0 with each output of NDi as input
-INVi, NAND circuit NANDc which receives the outputs of the inverters INVN0-INVNi, and NAND circuit NAN
A decode circuit DEC including an inverter INVc which receives the output of Dc is provided, and a redundant word activation signal RWD0 is output, for example.

【0030】図3に示すように、プログラミング回路R
CTは、電源電位(第1の電位)Vccの電源端子Tに接
続された第1のフューズ素子FU1 と、ボンディングパ
ッドBPに接続された第2のフューズ素子FU2 と、こ
れら第1および第2のフューズ素子FU1,FU2 が共有
する共有節点BRとで形成されている。そして、ボンデ
ィングパッドBPには電源電位Vccおよび接地電位(第
2の電位)Vssの電圧が選択的に印加されるようになっ
ている。なお、本実施の形態におけるフューズ素子FU
1,FU2 はポリSi配線により形成されてレーザで切断
されるようになっているが、電気的に切断される素子、
あるいは不揮発性の素子で形成してもよい。したがっ
て、本明細書でいうフューズ素子にはこれら全てが含ま
れる。
As shown in FIG. 3, the programming circuit R
CT is a first fuse element FU1 connected to a power supply terminal T of a power supply potential (first potential) Vcc, a second fuse element FU2 connected to a bonding pad BP, and these first and second fuse elements FU2. The fuse elements FU1 and FU2 are formed by a common node BR shared by the fuse elements FU1 and FU2. The power supply potential Vcc and the ground potential (second potential) Vss are selectively applied to the bonding pad BP. The fuse element FU in the present embodiment
1, FU2 is made of poly-Si wiring and is designed to be cut by a laser.
Alternatively, it may be formed of a non-volatile element. Therefore, the fuse element referred to in this specification includes all of them.

【0031】このような構成のプログラミング回路RC
Tでは、共有節点BRは、第2のフューズ素子FU2 を
切断すれば電源電位VccによるHighレベルに、また、第
1のフューズ素子FU1 を切断してボンディングパッド
BPを接地電位VssとすればLow レベルにそれぞれ保持
される。そこで、不良のメモリセルMC、不良行または
不良列を検出する第1回目のウエハプロービングテスト
ではボンディングパッドBPを電源電位Vccとしてテス
ティングを行ない、その結果、救済の必要がないときに
は第2のフューズ素子FU2 を切断し、冗長救済を行う
ときにはプログラミング回路RCTi+1 の第1のフュー
ズ素子FU1 を切断し、プログラミング回路RCT0 〜
RCTi のフューズ素子FU1 またはフューズ素子FU
2 の何れかを必ず切断し、不良エリアに対応した救済情
報を生成する。そして、第2回目のウエハプロービング
テストや製品組み立ての場合にボンディングパッドBP
を接地電位Vssとすることにより、共有節点BRをHigh
レベル(第2のフューズ素子FU2 を切断した場合)あ
るいはLow レベル(第1のフューズ素子FU1 を切断し
た場合)の所望の電位に設定することが可能である。
The programming circuit RC having such a configuration
At T, the shared node BR is at a high level by the power supply potential Vcc when the second fuse element FU2 is cut off, and is at a low level when the first fuse element FU1 is cut off and the bonding pad BP is at the ground potential Vss. Respectively held in. Therefore, in the first wafer probing test for detecting the defective memory cell MC, the defective row or the defective column, the bonding pad BP is tested with the power supply potential Vcc, and as a result, the second fuse is repaired when the repair is not required. When the element FU2 is cut off and the redundancy repair is performed, the first fuse element FU1 of the programming circuit RCTi + 1 is cut off, and the programming circuits RCT0 ...
Fuse element FU1 or fuse element FU of RCTi
Be sure to disconnect either of the two and generate the relief information corresponding to the defective area. Then, in the case of the second wafer probing test or product assembly, the bonding pad BP is used.
To the ground potential Vss, the shared node BR becomes High
It is possible to set a desired potential of level (when the second fuse element FU2 is cut off) or low level (when the first fuse element FU1 is cut off).

【0032】このような構成を有する半導体装置におけ
る不良エリアの冗長救済は次のようにして行われる。
Redundant relief of a defective area in the semiconductor device having such a configuration is performed as follows.

【0033】まず、第1回目のウエハプロービングテス
トにおいてボンディングパッドBPの電位を電源電位V
ccとしてテスティングを行ない、不良のメモリセルM
C、不良行または不良列を検出する。このときプログラ
ミング回路中RCTの第1および第2のフューズ素子F
U1,FU2 はボンディングパッドBPと電源電位Vccと
の間に直列接続されており、且つ、ボンディングパッド
BPの電位は電源電位Vccであるため電源端子Tからボ
ンディングパッドBPに向かう貫通電流は発生しない。
また、プログラミング回路RCTi+1 とインバータIN
Vi+1 によりこの回路の出力はLow レベルであり、した
がって、冗長ワード活性化信号RWD0 は非活性であ
る。
First, in the first wafer probing test, the potential of the bonding pad BP is set to the power source potential V.
Testing as cc, defective memory cell M
C, defective row or column is detected. At this time, the first and second fuse elements F of RCT in the programming circuit
Since U1 and FU2 are connected in series between the bonding pad BP and the power supply potential Vcc, and the potential of the bonding pad BP is the power supply potential Vcc, a through current flowing from the power supply terminal T to the bonding pad BP is not generated.
In addition, the programming circuit RCTi + 1 and the inverter IN
The output of this circuit is at a low level due to Vi + 1, and therefore the redundant word activation signal RWD0 is inactive.

【0034】ここで、第1回目のウエハプロービングテ
ストの結果、たとえば図1におけるメモリアレイ13に
ある不良のメモリセルMCの行アドレスが最上位番地で
あるとき、外部から行アドレスの最上位番地が入力され
た場合に冗長ワード活性化信号RWD0 がHighレベルと
なり選択状態になるようにプログラムする。
Here, as a result of the first wafer probing test, for example, when the row address of the defective memory cell MC in the memory array 13 in FIG. 1 is the highest address, the highest address of the row address is externally applied. When input, the redundant word activation signal RWD0 is set to a high level and programmed so as to be in a selected state.

【0035】つまり、図4に示すように、プログラミン
グ回路RCT0 〜RCTi では第2のフューズ素子FU
2 を切断し(図4(a))、プログラミング回路RCT
i+1では第1のフューズ素子FU1 を切断する(図4
(b))。そして、第2回目のウエハプロービングテス
トおよび製品として組み立てるときに、ボンディングパ
ッドBPを接地電位Vssレベルにする。なお、図4
(a)に示す第2のフューズ素子FU2 を切断した場合
には、ボンディングパッドBPを接地電位Vssに固定し
なくてもよい。
That is, as shown in FIG. 4, in the programming circuits RCT0 to RCTi, the second fuse element FU is used.
2 is cut off (Fig. 4 (a)), and the programming circuit RCT
At i + 1, the first fuse element FU1 is cut off (see FIG. 4).
(B)). Then, at the time of the second wafer probing test and assembling as a product, the bonding pad BP is set to the ground potential Vss level. FIG.
When the second fuse element FU2 shown in (a) is cut, the bonding pad BP does not have to be fixed to the ground potential Vss.

【0036】これによりプログラミング回路RCT0 〜
RCTi の共有節点BRの出力がHighレベル、インバー
タINV0 〜INVi からの出力がLow レベルとなって
転送ゲートトランジスタTr0 〜Tri が導通状態、T
r0B〜TriBが非導通状態となり、また、プログラミン
グ回路RCTi+1 の出力がLow レベル、インバータIN
Vi+1 の出力がHighレベルでチップ選択信号CSがHigh
レベルとなってナンド回路NANDi+1 がLow レベル、
インバータINVR がHighレベルとなり、デコード回路
DECのナンド回路NAND0 〜NANDi の出力はLo
w レベル、インバータINVN0 〜INVNi の出力は
Highレベル、ナンド回路NANDc の出力はLow レベル
となり、インバータINVc から出力される冗長ワード
活性化信号RWD0 はHighレベルとなって選択状態に移
行する。
As a result, the programming circuits RCT0 ...
The output of the common node BR of RCTi is at the high level, the outputs from the inverters INV0 to INVi are at the low level, and the transfer gate transistors Tr0 to Tri are in the conductive state, and T
r0B to TriB are turned off, the output of the programming circuit RCTi + 1 is low level, and the inverter IN
The output of Vi + 1 is High level and the chip select signal CS is High.
And the NAND circuit NANDi + 1 becomes Low level,
The inverter INVR goes high, and the outputs of the NAND circuits NAND0 to NANDi of the decoding circuit DEC are Lo.
w level, the output of inverters INVN0 to INVNi
High level, the output of the NAND circuit NANDc becomes Low level, and the redundant word activation signal RWD0 output from the inverter INVc becomes High level and shifts to the selected state.

【0037】このときプログラミング回路内RCTの2
つのフューズ素子FU1,FU2 の何れかが必ず切断され
ているため電源電位Vccの電源端子Tと接地電位Vssの
ボンディングパッドBPとの間には貫通電流は発生しな
い。また、インバータINV0 〜INVi+1 の入力レベ
ルも電源電位Vccまたは接地電位Vssのレベルであり貫
通電流は発生しない。したがって、回路内の消費電流を
低減することが可能になる。
At this time, 2 of RCT in the programming circuit
Since one of the two fuse elements FU1 and FU2 is always cut off, no through current is generated between the power supply terminal T having the power supply potential Vcc and the bonding pad BP having the ground potential Vss. Further, the input level of the inverters INV0 to INVi + 1 is also the level of the power supply potential Vcc or the ground potential Vss, and no through current is generated. Therefore, it becomes possible to reduce the current consumption in the circuit.

【0038】また、多くのトランジスタやコンデンサな
どの代わりに2つのフューズ素子FU1,FU2 を用いる
ことによって回路を構成することが可能になるので、半
導体装置におけるプログラミング回路RCTの専有面積
を大幅に低減することができる。
Further, since the circuit can be constructed by using the two fuse elements FU1 and FU2 instead of many transistors and capacitors, the area occupied by the programming circuit RCT in the semiconductor device is greatly reduced. be able to.

【0039】(実施の形態2)図5の本発明の他の実施
の形態であるプログラミング回路が用いられた半導体装
置の要部を示す回路図である。
(Second Embodiment) FIG. 6 is a circuit diagram showing a main part of a semiconductor device using a programming circuit according to another embodiment of the present invention in FIG.

【0040】図示するように、本実施の形態の半導体装
置では、プログラミング回路RCT0 〜RCTi+1 の第
2のフューズ素子の入力に従来のプログラミング回路R
CTV が接続されたものである。
As shown in the figure, in the semiconductor device of this embodiment, the conventional programming circuit R is applied to the input of the second fuse element of the programming circuits RCT0 to RCTi + 1.
CTV is connected.

【0041】この従来のプログラミング回路RCTV
は、一方端が電源電位Vccの電源端子Tに接続されたフ
ューズ素子FUと、たとえば3つのMOSFETを直列
接続したもので構成されて一方端が接地電位Vssとさ
れ、チップ選択信号CSでONされる導通抵抗素子R
と、フューズ素子と導通抵抗素子の他方端が共有する共
有節点Sと、この共有節点Sを入力とするインバータI
NVj 、およびインバータINVj の出力を入力とする
インバータINVk とで構成され、インバータINVk
の出力が第2のフューズ素子FU2 に接続されている。
したがって、従来のプログラミング回路RCTV から
は、フューズ素子FUを切断しない状態では電源電位V
ccが出力され、フューズ素子FUを切断すると接地電位
Vssが出力されるようになっている。
This conventional programming circuit RCTV
Is composed of a fuse element FU having one end connected to the power supply terminal T of the power supply potential Vcc and, for example, three MOSFETs connected in series, one end of which is set to the ground potential Vss and turned on by the chip selection signal CS. Conductive resistance element R
And a shared node S shared by the fuse element and the other end of the conduction resistance element, and an inverter I having the shared node S as an input.
And an inverter INVk which receives the output of the inverter INVj as an input.
Is connected to the second fuse element FU2.
Therefore, from the conventional programming circuit RCTV, when the fuse element FU is not cut off, the power supply potential V
When cc is output and the fuse element FU is cut off, the ground potential Vss is output.

【0042】このような構成を有する半導体装置におけ
る不良エリアの冗長救済は次のようにして行われる。
Redundant relief of a defective area in the semiconductor device having such a structure is performed as follows.

【0043】第1回目のウエハプロービングテストでは
従来のプログラミング回路RCTVのフューズ素子FU
を未切断として回路中の電源端子Tと共有節点Sとを導
通状態とし、共有節点Sの電位を電源電位Vccとしてテ
スティングを行ない、不良のメモリセルMC、不良行ま
たは不良列を検出する。ここで、本発明のプログラミン
グ回路RCTi+1 の出力はLow レベルなので冗長ワード
活性化信号RWD0 は非活性である。このとき、本発明
によるプログラミング回路RCT0 〜RCTi+1 中の第
1および第2のフューズ素子FU1,FU2 は電源端子T
と従来のプログラミング回路RCTV の出力との間に直
列接続されており、また、従来のプログラミング回路R
CTV の出力は電源電位Vccであるため、本発明のプロ
グラミング回路RCT0 〜RCTi+1 中において貫通電
流は発生しない。
In the first wafer probing test, the fuse element FU of the conventional programming circuit RCTV is used.
Is disconnected to bring the power supply terminal T and the common node S in the circuit into conduction, and the potential of the common node S is used as the power supply potential Vcc for testing to detect a defective memory cell MC, a defective row or a defective column. Here, since the output of the programming circuit RCTi + 1 of the present invention is at the Low level, the redundant word activation signal RWD0 is inactive. At this time, the first and second fuse elements FU1 and FU2 in the programming circuits RCT0 to RCTi + 1 according to the present invention are connected to the power supply terminal T.
Connected in series between the output of the conventional programming circuit RCTV and the conventional programming circuit RTV.
Since the output of CTV is the power supply potential Vcc, no through current is generated in the programming circuits RCT0 to RCTi + 1 of the present invention.

【0044】このウエハプロービングテストの結果発見
された不良のメモリセルMCの行アドレスが最上位アド
レスであった場合、外部から不良のメモリセルMCの存
在する行アドレスが入力され、たとえば冗長ワード活性
化信号RWD0 がHighレベルとなり選択状態になり不良
メモリセルMCを救済するためにプログラムを行い救済
情報を生成するのは次のような手順による。
When the row address of the defective memory cell MC found as a result of the wafer probing test is the highest address, the row address in which the defective memory cell MC exists is input from the outside, for example, redundant word activation. The signal RWD0 goes to the high level to bring it into the selected state, and the program is performed to relieve the defective memory cell MC and the relief information is generated by the following procedure.

【0045】まず、プログラミング回路RCT0 〜RC
Ti の第2のフューズ素子FU2 を切断し、プログラミ
ング回路RCTi+1 の第1のフューズ素子FU1 を切断
し、従来のプログラミング回路RCTV のフューズ素子
FUを切断する。
First, the programming circuits RCT0 to RC
The second fuse element FU2 of Ti is blown, the first fuse element FU1 of the programming circuit RCTi + 1 is blown, and the fuse element FU of the conventional programming circuit RCTV is blown.

【0046】これにより、前述の実施の形態1の場合と
同様、外部から不良メモリセルMCの存在する最上位行
アドレスが入力されるとデコード回路DEC中のナンド
回路NAND0 〜NANDi の出力は全てLow レベルと
なり、インバータINVc から出力される冗長ワード活
性化信号RWD0 はHighレベルとなって選択状態に移行
する。
As a result, as in the case of the first embodiment described above, when the highest row address in which the defective memory cell MC exists is input from the outside, the outputs of the NAND circuits NAND0 to NANDi in the decode circuit DEC are all Low. Then, the redundant word activation signal RWD0 output from the inverter INVc becomes High level and shifts to the selected state.

【0047】このとき、プログラミング回路RCT0 〜
RCTi+1 内の2つのフューズ素子FU1,FU2 の何れ
かが必ず切断されているため、プログラミング回路RC
T0〜RCTi+1 では貫通電流は発生しない。また、イ
ンバータINV0 〜INVi+1 の入力レベルも電源電位
Vccまたは接地電位Vssのレベルであり貫通電流は発生
しない。したがって、回路内の消費電流を低減すること
が可能になる。
At this time, the programming circuits RCT0 ...
Since one of the two fuse elements FU1 and FU2 in RCTi + 1 is always cut off, the programming circuit RC
No through current is generated from T0 to RCTi + 1. Further, the input level of the inverters INV0 to INVi + 1 is also the level of the power supply potential Vcc or the ground potential Vss, and no through current is generated. Therefore, it becomes possible to reduce the current consumption in the circuit.

【0048】そして、このような貫通電流の発生しない
構造をプログラミング回路RCT0〜RCTi+1 2つの
フューズ素子FU1,FU2 と従来のプログラミング回路
RCTV によって実現することが可能になるので、半導
体装置におけるプログラミング回路RCT0 〜RCTi+
1,RCTV の専有面積を大幅に低減することができる。
Since a structure in which such a through current does not occur can be realized by the programming circuits RCT0 to RCTi + 1 and the two fuse elements FU1 and FU2 and the conventional programming circuit RCTV, the programming circuit in the semiconductor device can be realized. RCT0 to RCTi +
1, The area occupied by RCTV can be greatly reduced.

【0049】以上、本発明者によってなされた発明を実
施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実
施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0050】たとえば、第1および第2のフューズFU
1,FU2 に印加される電位を本実施の形態と逆にし、第
1のフューズ素子FU1 を接地電位Vssとし、最初のプ
ロービングテストで第2のフューズ素子FU2 を接地電
位VssとしてメモリセルMCの検査を行い、次のプロー
ビングテストや組み立て時では第2のフューズ素子FU
2 を電源電位Vccとすることもできる。
For example, the first and second fuses FU
1, the potential applied to FU2 is reversed from that of this embodiment, the first fuse element FU1 is set to the ground potential Vss, and the second fuse element FU2 is set to the ground potential Vss in the first probing test to inspect the memory cell MC. And the second fuse element FU during the next probing test and assembly.
2 can also be used as the power supply potential Vcc.

【0051】[0051]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以
下のとおりである。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0052】(1).すなわち、本発明の冗長救済プログラ
ミング技術によれば、不良エリアの検出においては第2
のフューズ素子を第1の電位としてテスティングを行な
うので、第1および第2のフューズ素子が何れも同電位
となるため貫通電流は発生しない。そして、不良エリア
の冗長救済は、第2のフューズ素子に第2の電位を印加
して第1または第2のフューズ素子の何れかを切断して
救済情報を生成するようにしているので、この場合にも
やはり貫通電流は流れない。したがって、プログラミン
グ回路の動作時における消費電流をほぼ0にまで低減す
ることができる。
(1). That is, according to the redundancy repair programming technique of the present invention, the second method is used for detecting a defective area.
Since the testing is performed with the fuse element of No. 1 as the first potential, the first fuse element and the second fuse element have the same potential, so that no through current is generated. Then, for the redundant relief of the defective area, the second potential is applied to the second fuse element to disconnect either the first or the second fuse element to generate the relief information. In that case, no through current flows. Therefore, the current consumption during the operation of the programming circuit can be reduced to almost zero.

【0053】(2).また、このような貫通電流の発生しな
いプログラミング回路の構造を多くのトランジスタやコ
ンデンサなどを用いることなく2つのフューズ素子で実
現することが可能になるので、半導体装置におけるプロ
グラミング回路の専有面積を大幅に低減することができ
る。
(2) Further, since the structure of the programming circuit in which such a through current does not occur can be realized by the two fuse elements without using many transistors and capacitors, the programming in the semiconductor device can be performed. The area occupied by the circuit can be significantly reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1によるプログラミング回
路が用いられた半導体装置を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a semiconductor device in which a programming circuit according to a first embodiment of the present invention is used.

【図2】図1の半導体装置における冗長行デコーダを示
す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a redundant row decoder in the semiconductor device of FIG.

【図3】図2の冗長行デコーダにおけるプログラミング
回路を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a programming circuit in the redundant row decoder of FIG.

【図4】(a)、(b)は図3のプログラミング回路の
取り扱い方法を示す説明図である。
4A and 4B are explanatory views showing a method of handling the programming circuit of FIG.

【図5】本発明の実施の形態2によるプログラミング回
路が用いられた半導体装置の要部を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a main part of a semiconductor device using a programming circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明者が検討対象とした従来のプログラミン
グ回路において想定される貫通電流を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a shoot-through current assumed in a conventional programming circuit examined by the present inventor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 冗長行 12 冗長列 13 メモリアレイ 14 冗長行デコーダ 15 冗長列デコーダ 16 チップセレクタ 18 行アドレスバッファ 19 列アドレスバッファ 20 行デコーダ 21 列デコーダ 22 列選択スイッチ・読み出し・書き込み回路 BP ボンディングパッド BR 共有節点 DEC デコード回路 FU フューズ素子 FU1 第1のフューズ素子 FU2 第2のフューズ素子 INV0 〜INVi インバータ INVN0 〜INVNi インバータ INVR インバータ INVc インバータ INVj インバータ INVk インバータ IX0 〜IXi 入力パッド IY0 〜IYj 入力パッド MC メモリセル NAND0 〜NANDi+1 ナンド回路 NANDc ナンド回路 R 導通抵抗素子 RCT0 〜RCTi+1 プログラミング回路 RCTV 従来のプログラミング回路 RCT プログラミング回路 S 共有節点 T 電源端子 Tr0 〜Tri 転送ゲートトランジスタ Tr0B〜TriB 転送ゲートトランジスタ Vcc 電源電位 Vss 接地電位 11 redundant row 12 redundant column 13 memory array 14 redundant row decoder 15 redundant column decoder 16 chip selector 18 row address buffer 19 column address buffer 20 row decoder 21 column decoder 22 column selection switch / read / write circuit BP bonding pad BR shared node DEC Decode circuit FU Fuse element FU1 First fuse element FU2 Second fuse element INV0 to INVi inverter INVN0 to INVNi inverter INVR inverter INVc inverter INVj inverter INVk inverter IX0 to IXi input pad IJN NAND pad IY0 to IY0 memory cell 1 NAND circuit NANDc NAND circuit R Conductive resistance element RCT0 to RCTi + 1 Programming circuit RCTV Conventional programming circuit Path RCT programming circuit S shared node T power supply terminal Tr0 to Tri transfer gate transistor Tr0B to TriB transfer gate transistor Vcc power supply potential Vss ground potential

フロントページの続き (72)発明者 渡部 憲佳 北海道亀田郡七飯町字中島145番地 日立 北海セミコンダクタ株式会社内 (72)発明者 藤本 義人 北海道亀田郡七飯町字中島145番地 日立 北海セミコンダクタ株式会社内Front page continued (72) Inventor Kenka Watanabe, Nakajima, 145, Nanae-cho, Kameda-gun, Hokkaido Inside Hitachi Kitami Semiconductor Co., Ltd. (72) Yoshito Fujimoto, 145 Nakajima, Nanae-cho, Kameda-gun, Hokkaido Inside Hitachi North Sea Semiconductor Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の電位が印加された第1のフューズ
素子と、 第1の電位と第2の電位とが選択的に印加可能とされた
第2のフューズ素子と、 前記第1および第2のフューズ素子が共有する共有節点
とを有するプログラミング回路であって、 前記共有節点を第1の電位にする場合には前記第2のフ
ューズ素子を切断し、前記共有節点を第2の電位にする
場合には前記第1のフューズ素子を切断し、前記第2の
フューズ素子を介して前記共有節点とは別の節点に第2
の電位を印加することを特徴とするプログラミング回
路。
1. A first fuse element to which a first potential is applied, a second fuse element to which a first potential and a second potential can be selectively applied, and the first and second fuse elements. A programming circuit having a shared node shared by a second fuse element, wherein the second fuse element is cut off when the shared node is at a first potential, and the shared node is at a second potential. In the case of the above, the first fuse element is cut, and the second fuse element is connected to the second node at a node different from the shared node.
A programming circuit characterized by applying the electric potential of.
【請求項2】 請求項1記載のプログラミング回路が用
いられていることを特徴とする半導体装置。
2. A semiconductor device, wherein the programming circuit according to claim 1 is used.
【請求項3】 請求項1記載のプログラミング回路を備
え、不良エリアに代えて所定の冗長エリアを割り当てて
これを救済する救済回路を用いた冗長救済方法であっ
て、 前記第2のフューズ素子に第1の電位を印加して前記共
有節点を第1の電位にして正常エリアと不良エリアとを
判別し、 前記救済回路を正常エリアに対応させる場合は前記プロ
グラミング回路の前記第2のフューズを切断して前記共
有節点を第1の電位にし、不良エリアに冗長エリアを割
り当てる場合は前記第2のフューズ素子に第2の電位を
印加し、前記第1のフューズ素子または前記第2のフュ
ーズ素子の何れかを切断することにより前記共有節点を
第1の電位または第2の電位にすることで救済情報を生
成することを特徴とする冗長救済方法。
3. A redundancy relieving method comprising the programming circuit according to claim 1 and using a relieving circuit for allocating a predetermined redundant area in place of a defective area to relieve the defective area. A first potential is applied to set the shared node to the first potential to discriminate between a normal area and a defective area, and when the relief circuit corresponds to the normal area, the second fuse of the programming circuit is cut off. Then, when the shared node is set to the first potential and the redundant area is assigned to the defective area, the second potential is applied to the second fuse element, so that the first fuse element or the second fuse element A redundant relief method, wherein relief information is generated by cutting either of the shared nodes to a first potential or a second potential.
【請求項4】 請求項3記載の冗長救済方法の正常エリ
アを動作させる場合、前記第2のフューズに第1の電位
を印加することを特徴とする冗長救済方法。
4. The redundancy repair method according to claim 3, wherein when the normal area of the redundancy repair method is operated, a first potential is applied to the second fuse.
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