JPH09244174A - Silver halide photographic sensitive material and image forming method - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material and image forming method

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Publication number
JPH09244174A
JPH09244174A JP8331796A JP8331796A JPH09244174A JP H09244174 A JPH09244174 A JP H09244174A JP 8331796 A JP8331796 A JP 8331796A JP 8331796 A JP8331796 A JP 8331796A JP H09244174 A JPH09244174 A JP H09244174A
Authority
JP
Japan
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group
atom
embedded image
formula
silver halide
Prior art date
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Pending
Application number
JP8331796A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masao Suzuki
雅雄 鈴木
Junichi Komiyama
順一 小宮山
Tetsuya Higuchi
徹也 樋口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oriental Photo Industrial Co Ltd
Original Assignee
Oriental Photo Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Oriental Photo Industrial Co Ltd filed Critical Oriental Photo Industrial Co Ltd
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Publication of JPH09244174A publication Critical patent/JPH09244174A/en
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a sensitive material having high γ and high sensitivity and capable of forming an ultrahigh contrast image by incorporating two kinds of specified compds. into a silver halide emulsion layer and/or other hydrophilic colloidal layer. SOLUTION: This sensitive material contains at least one kind of compd. represented by formula I and at least one of compds. represented by formulae II-VII in a silver halide emulsion layer and/or another hydrophilic colloidal layer. It is processed with an aq. alkali developer. In the formula I, R1 is optionally a substd. aryl or an optionally substd. heterocyclic group, M1 is an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom, n1 =1 when M1 is a monovalent atom and n1 =2 when M1 is a divalent atom. In the formula II, Y1 is a group adsorbed on silver halide, X1 is an atom selected from among H, C, etc., or a divalent combining group consisting of a group of such atoms and A1 is a divalent combining group.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料及び画像形成方法に関し、特に写真製版用に用
いられる超硬調ハロゲン化銀写真感光材料及び超硬調画
像形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material and an image forming method, and more particularly to a super-high contrast silver halide photographic light-sensitive material and a super-high contrast image forming method used for photolithography.

【従来の技術】グラフィックアーツ分野における超硬調
写真特性達成のために、従来、リス型感光材料が多年使
用されてきた。リス現像液は、亜硫酸イオンの濃度が極
めて低いため、空気酸化を受け易く、連続使用の際、現
像品質を保つために種々の工夫、努力が必要であった。
リス現像による画像形成の不安定さを解消し、超硬調の
写真特性を得る方法として、リサーチ・ディスクロージ
ャー、No.235、346〜351頁(1983
年)、米国特許第4,269,929号明細書等に示さ
れるように、ヒドラジン化合物の存在下、pH10〜1
2の現像液で処理する方法が提案された。しかし、pH
11.0以上の現像液は、空気酸化され易く、不安定
で、長時間の使用や保存に耐えない。ヒドラジン化合物
を含むハロゲン化銀写真感光材料を、より低いpHの現
像液で処理する方法としては、米国特許第4,994,
365号、同第4,998,604号の各明細書に示さ
れるように、高活性のヒドラジン化合物を用い、低pH
の現像液で高コントラストのネガ画像を得る方法が提案
されている。しかし、この方法は、特開平6−2304
96号公報等の指摘にも見られるごとく、硬調性が充分
でなく、実用的な要件を満足していない。
2. Description of the Related Art Lith-type photosensitive materials have been used for many years to achieve ultra-high contrast photographic characteristics in the graphic arts field. Since the squirrel developer has a very low concentration of sulfite ions, it is susceptible to air oxidation, and requires various measures and efforts to maintain development quality during continuous use.
As a method of eliminating the instability of image formation by lith development and obtaining photographic characteristics of ultra-high contrast, Research Disclosure, 235, 346-351 (1983)
As disclosed in U.S. Pat. No. 4,269,929, pH 10 to 1 in the presence of a hydrazine compound.
A method of processing with a developing solution of No. 2 has been proposed. However, pH
A developer of 11.0 or more is easily oxidized by air, is unstable, and does not withstand long-term use or storage. A method of processing a silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine compound with a developer having a lower pH is disclosed in U.S. Pat.
As disclosed in the specifications of US Pat. No. 365 and 4,998,604, a highly active hydrazine compound is used,
A method for obtaining a high-contrast negative image with the above developer has been proposed. However, this method is disclosed in JP-A-6-2304.
As can be seen from Japanese Patent Application Publication No. 96-96, etc., the high contrast is not sufficient and the practical requirements are not satisfied.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、ヒドラジン化合物を含むハロゲン化銀写真感光材料
の前記の問題点を解決し、極めてコントラストが高く、
かつ、感度が高いハロゲン化銀写真感光材料及び画像形
成方法を提供するものである。本発明の第二の目的は、
写真特性の現像液pH依存性の小さいハロゲン化銀写真
感光材料を提供するものである。本発明の第三の目的
は、pHが10.0から12.0の範囲の現像液で処理
しても硬調化することができるハロゲン化銀写真感光材
料を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION A first object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of a silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine compound.
Another object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material having high sensitivity and an image forming method. A second object of the present invention is to
It is an object of the present invention to provide a silver halide photographic light-sensitive material having small photographic properties and pH dependence of a developer. A third object of the present invention is to provide a silver halide photographic material which can be hardened even when processed with a developer having a pH in the range of 10.0 to 12.0.

【0003】[0003]

【課題を解決するための手段】本発明の課題は、支持体
上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層及び少なくと
も一層のその他の親水性コロイド層を有するハロゲン化
銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層及び/
又は該その他の親水性コロイド層が、下記一般式(I)
で示される化合物の少なくとも一種と一般式(II)、
(III)、(IV)、(V)、(VI)及び(VI
I)で表される化合物の少なくとも一種を含むを含むハ
ロゲン化銀写真感光材料、そして、上記ハロゲン化銀写
真感光材料を水性アルカリ現像液で処理する画像形成方
法により達成することができた。
The object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer and at least one other hydrophilic colloid layer on a support. Silver emulsion layer and / or
Or the other hydrophilic colloid layer has the following general formula (I)
At least one compound represented by the general formula (II),
(III), (IV), (V), (VI) and (VI)
This was achieved by a silver halide photographic material containing at least one of the compounds represented by I) and an image forming method of processing the silver halide photographic material with an aqueous alkaline developer.

【0004】[0004]

【化15】 Embedded image

【0005】式中、R1は置換又は無置換のアリール基
又は置換又は無置換ヘテロ環基を表し、M1はアルカリ
金属原子又はアルカリ土類金属原子を表す。n1は1又
は2の整数を表し、M1が1価の原子の時は1、M1が2
価の原子の時は2を表す。
In the formula, R 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and M 1 represents an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom. n 1 represents an integer of 1 or 2, 1 when M 1 is a monovalent atom, and M 1 is 2
When it is a valence atom, it represents 2.

【0006】[0006]

【化16】 Embedded image

【0007】式中、Y1はハロゲン化銀に吸着する基を
表す。X1は水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原
子、硫黄原子から選ばれた原子又は原子群よりなる2価
の連結基を表す。A1は2価の連結基を表す。B1はアミ
ノ基、アンモニウム基又は含窒素ヘテロ環を表し、アミ
ノ基は置換されていてもよい。m1は1、2又は3を表
し、n2は0又は1を表す。
In the formula, Y 1 represents a group adsorbed on silver halide. X 1 represents a divalent linking group composed of an atom or a group of atoms selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. A 1 represents a divalent linking group. B 1 represents an amino group, an ammonium group or a nitrogen-containing heterocycle, and the amino group may be substituted. m 1 represents 1 , 2 or 3 and n 2 represents 0 or 1.

【0008】[0008]

【化17】 Embedded image

【0009】式中、R2、R3は各々水素原子又は脂肪族
残基を表す。R2、R3は互いに結合して環を形成しても
よい。R4は2価の脂肪族基を表す。X2は窒素原子、酸
素原子又は硫黄原子を含む2価のヘテロ環を表す。n3
は0又は1を表す。M2は水素原子、アルカリ金属、ア
ルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウ
ム塩又はアミジノ基を表す。
In the formula, R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom or an aliphatic residue. R 2 and R 3 may combine with each other to form a ring. R 4 represents a divalent aliphatic group. X 2 represents a divalent heterocycle containing a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom. n 3
Represents 0 or 1. M 2 represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt or an amidino group.

【0010】[0010]

【化18】 Embedded image

【0011】式中、R5、R6は各々水素原子、炭素数1
〜30のアルキル基、炭素数3〜30のアルケニル基又
は炭素数の7〜30アラルキル基を表す。又、R5とR6
は同時に水素原子を表すことはなく、互いに結合して環
を形成してもよい。n4は2〜50の整数を表す。R7
8、R9及びR10は各々水素原子又は炭素数1〜4のア
ルキル基を表す。
In the formula, R 5 and R 6 are each a hydrogen atom and have 1 carbon atom.
Represents an alkyl group having from 30 to 30, an alkenyl group having from 3 to 30 carbon atoms, or an aralkyl group having from 7 to 30 carbon atoms. Also, R 5 and R 6
Do not represent a hydrogen atom at the same time, and may combine with each other to form a ring. n 4 represents an integer of 2 to 50. R 7 ,
R 8 , R 9 and R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

【0012】[0012]

【化19】 Embedded image

【0013】式中、R5とR6は一般式(IV)における
と同じであり、R11とR12はR5とR6と同じである。n
5は2〜50の整数を表す。
In the formula, R 5 and R 6 are the same as in the general formula (IV), and R 11 and R 12 are the same as R 5 and R 6 . n
5 represents an integer of 2 to 50.

【0014】[0014]

【化20】 Embedded image

【0015】式中、X1、Y1、B1は一般式(II)に
おけると同じであり、A2は少なくとも2つのアルキレ
ンオキシユニットを有する2価の連結基を表す。m2
1、2又は3を表し、n6は0又は1を表す。
In the formula, X 1 , Y 1 and B 1 are the same as in formula (II), and A 2 represents a divalent linking group having at least two alkyleneoxy units. m 2 represents 1, 2 or 3, and n 6 represents 0 or 1.

【0016】[0016]

【化21】 [Chemical 21]

【0017】式中、R13、R14、R15はアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、ヘテロ環残基を表し、これらはさらに置換
基を有していてもよい。m3は整数を表し、LはP原子
とその炭素原子で結合するm3価の有機基を表し、n7
1ないし3の整数を表し、X3はn7価の陰イオンを表
し、X3はLと連結していてもよい。
In the formula, R 13 , R 14 and R 15 each represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group or a heterocyclic residue, which may have a substituent. Good. m 3 represents an integer, L represents an m 3 -valent organic group bonded to a P atom and its carbon atom, n 7 represents an integer of 1 to 3, X 3 represents an n 7 -valent anion, X 3 may be linked to L.

【0018】以下、一般式(I)について具体的に説明
する。式中、R1は置換又は無置換のアリール基又は置
換又は無置換のヘテロ環基を表し、M1はアルカリ金属
原子又はアルカリ土類金属原子を表す。n1は1又は2
の整数を表す。R1で表されるアリール基としては、フ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。ヘテロ環基として
は、ピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基等が
挙げられる。R1は好ましくはアリール基である。R1
表されるアリール基又はヘテロ環基は、種々の置換基を
有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン
原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、ス
ルホニルアミノ基、ウレア基、ヒドロキシ基、アミノ
基、アルキルアミノ基、カルボキシ基、アルコキシカル
ボニル基、カルバモイル基、スルホ基等を挙げることが
できる。又、R1で表されるアリール基又はヘテロ環基
の好ましい置換基として、チオウレア基、チオウレタン
基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリア
ゾール基等のハロゲン化銀吸着促進基を挙げることがで
きる。更に、R1で表されるアリール基又はヘテロ環基
の置換基として、4級アンモニウムカチオンを有する
基、少なくとも3個以上の反復エチレンオキシ単位を有
する基を挙げることができる。M1は、アルカリ金属原
子、アルカリ土類金属原子であれば特に制限はないが、
好ましくは、ナトリウム、カリウム、リチウム、カルシ
ウム、マグネシウムを挙げることができる。以下に、本
発明に用いられる一般式(I)で表される化合物の具体
例を示す。しかし、本発明はこれらの具体例のみに限定
されるものではない。
The general formula (I) will be specifically described below. In the formula, R 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and M 1 represents an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom. n 1 is 1 or 2
Represents an integer. Examples of the aryl group represented by R 1 include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, a benzothiazolyl group, and a quinolyl group. R 1 is preferably an aryl group. The aryl group or heterocyclic group represented by R 1 may have various substituents. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an acylamino group, a sulfonylamino group, a urea group, a hydroxy group, an amino group, an alkylamino group, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group and a sulfo group. Can be mentioned. Preferred substituents of the aryl group or heterocyclic group represented by R 1 include silver halide adsorption promoting groups such as a thiourea group, a thiourethane group, a heterocyclic thioamide group, a mercapto heterocyclic group, and a triazole group. Can be. Furthermore, examples of the substituent of the aryl group or heterocyclic group represented by R 1 include a group having a quaternary ammonium cation and a group having at least 3 or more repeating ethyleneoxy units. M 1 is not particularly limited as long as it is an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom,
Preferable examples include sodium, potassium, lithium, calcium and magnesium. Hereinafter, specific examples of the compound represented by Formula (I) used in the present invention will be shown. However, the invention is not limited to only these specific examples.

【0019】[0019]

【化22】 Embedded image

【0020】[0020]

【化23】 Embedded image

【0021】[0021]

【化24】 Embedded image

【0022】[0022]

【化25】 Embedded image

【0023】[0023]

【化26】 Embedded image

【0024】[0024]

【化27】 Embedded image

【0025】[0025]

【化28】 Embedded image

【0026】[0026]

【化29】 Embedded image

【0027】[0027]

【化30】 Embedded image

【0028】本発明の化合物(1)の合成法について述
べる。 (A)シュウ酸エチルエステルフェニルヒドラジドの合
成 シュウ酸ジエチル29.2g(0.2モル)を70°C
前後に加熱しながら、撹拌下、フェニルヒドラジン2
2.5g(0.2モル)を、約1時間30分かけて滴下
した。次いで、80°Cで30分撹拌した後、n−ヘキ
サン150mlを加え、撹拌冷却した。析出した沈殿を
ろ過し、n−ヘキサンで洗浄し、乾燥した。融点117
〜119°Cの目的物33g(収率79.3%)を得
た。 (B)例示化合物(1)の合成(フェニルヒドラジノシ
ュウ酸カリウム塩) (A)で合成したシュウ酸エチルエステルフェニルヒド
ラジド10.4g(0.05モル)、85%水酸化カリ
ウム水溶液3.3g(0.05モル)及びエタノール1
50mを混合し15時間還流した。この反応液を熱いう
ちにろ過して、沈殿をろ取し、エタノールで洗浄後、乾
燥した。融点241〜246°Cの薄黄色の粉末結晶1
0.3g(収率94.5%)を得た。他の例示化合物も
上記と同様に合成することができる。次に一般式(I
I)で表される化合物についてに説明する。Y1が表す
ハロゲン化銀に吸着する基としては、含窒素複素環化合
物が挙げられる。Y1が含窒素複素環化合物を表す場合
は、一般式(II)の化合物は下記一般式(II−a)
で表される。
The method for synthesizing the compound (1) of the present invention will be described. (A) Synthesis of ethyl oxalate phenylhydrazide 29.2 g (0.2 mol) of diethyl oxalate was added at 70 ° C.
While stirring back and forth, phenylhydrazine 2
2.5 g (0.2 mol) was added dropwise over about 1 hour and 30 minutes. Next, after stirring at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ml of n-hexane was added, and the mixture was stirred and cooled. The deposited precipitate was filtered, washed with n-hexane, and dried. Melting point 117
33 g (yield: 79.3%) of the target product having a temperature of ~ 119 ° C was obtained. (B) Synthesis of exemplary compound (1) (potassium phenylhydrazinooxalate) 10.4 g (0.05 mol) of oxalic acid ethyl ester phenylhydrazide synthesized in (A), 3.3 g of 85% aqueous potassium hydroxide solution (0.05 mol) and ethanol 1
50m were mixed and refluxed for 15 hours. The reaction solution was filtered while hot, and the precipitate was collected by filtration, washed with ethanol, and dried. Light yellow powder crystal 1 having a melting point of 241 to 246 ° C
0.3 g (yield 94.5%) was obtained. Other exemplified compounds can be synthesized in the same manner as described above. Next, the general formula (I
The compound represented by I) will be described. The group adsorbed on the silver halide represented by Y 1 includes a nitrogen-containing heterocyclic compound. When Y 1 represents a nitrogen-containing heterocyclic compound, the compound of the general formula (II) is represented by the following general formula (II-a).
It is represented by

【0029】[0029]

【化31】 Embedded image

【0030】式中、m1は1、2又は3を表し、m4は0
又は1を表し、n2は0又は1を表す。[(X1)n2
1−B1]m1は前記一般式(II)におけるそれと同
義であり、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原
子の少なくとも一種の原子から構成される5又は6員の
複素環を形成するのに必要な原子群を表す。又、この複
素環は炭素芳香環又は複素芳香環と縮合していてもよ
い。Qによって形成される複素環としては、例えば、そ
れぞれ置換又は無置換のインダゾール類、ベンズイミダ
ゾール類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサゾール
類、ベンズチアゾール類、イミダゾール類、チアゾール
類、オキサゾール類、トリアゾール類、テトラゾール
類、アザインデン類、ピラゾール類、インドール類、ト
リアジン類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリン類等
が挙げられる。
In the formula, m 1 represents 1 , 2 or 3, and m 4 is 0
Or 1, and n 2 represents 0 or 1. [(X 1 ) n 2
A 1 -B 1 ] m 1 has the same meaning as that in the general formula (II), and Q is a 5- or 6-membered heterocyclic ring composed of at least one atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. Represents an atomic group necessary for forming. Further, this heterocycle may be condensed with a carbon aromatic ring or a heteroaromatic ring. The heterocycle formed by Q includes, for example, substituted or unsubstituted indazoles, benzimidazoles, benzotriazoles, benzoxazoles, benzthiazoles, imidazoles, thiazoles, oxazoles, triazoles and tetrazoles. And azaindenes, pyrazoles, indoles, triazines, pyrimidines, pyridines, quinolines and the like.

【0031】又、これらの複素環は、ニトロ基、ハロゲ
ン原子(例えば、塩素原子、臭素原子等)、メルカプト
基、シアノ基、それぞれ置換又は無置換のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、t−ブチ
ル基、シアノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオ
エチル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、4−
メタンスルホニルアミドフェニル基、4−メチルフェニ
ル基、3,4−ジクロルフェニル基、ナフチル基等)、
アルケニル基(例えば、アリル基等)、アラルキル基
(例えば、ベンジル基、4−メチルベンジル基、フェネ
チル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エト
キシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ
基、4−メトキシフェノキシ基等)、アルキルチオ基
(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、メトキシエチ
ルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ
基等)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、
エタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基等)、
カルバモイル基(例えば、無置換カルバモイル基、メチ
ルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等)、スル
ファモイル基(例えば、無置換スルファモイル基、メチ
ルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基等)、
カルボンアミド基(例えば、アセトアミド基、ベンズア
ミド基等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホ
ンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、p−トルエン
スルホンアミド基等)、アシルオキシ基(例えば、アセ
チルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、スルホニルオ
キシ基(例えば、メタンスルホニルオキシ基等)、ウレ
イド基(例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド
基、エチルウレイド基、フェニルウレイド基等)、チオ
ウレイド基(例えば、無置換のチオウレイド基、メチル
ウレイド基等)、アシル基(例えば、アセチル基、ベン
ゾイル基等)、ヘテロ環基(例えば、1−モルホリノ
基、1−ピペリジノ基、2−ピリジル基、4−ピリジル
基、2−チエニル基、1−ピラゾリル基、1−イミダゾ
リル基、2−テトラハイドロフリル基、テトラヒドロチ
エニル基等)、オキシカルボニル基(例えば、メトキシ
カルボニル基、フェノキシカルボニル基等)、オキシカ
ルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノ
基、フェノキシカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシ
ルオキシカルボニルアミノ基等)、アミノ基(例えば、
無置換アミノ基、ジメチルアミノ基、メトキシエチルア
ミノ基、アニリノ基等)、カルボン酸又はその塩、スル
ホン酸又はその塩、ヒドロキシ基等で置換されていても
よい。
These heterocycles include a nitro group, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), a mercapto group, a cyano group, and a substituted or unsubstituted alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, Propyl group, t-butyl group, cyanoethyl group, methoxyethyl group, methylthioethyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, 4-
Methanesulfonylamidophenyl group, 4-methylphenyl group, 3,4-dichlorophenyl group, naphthyl group, etc.),
Alkenyl group (eg, allyl group), aralkyl group (eg, benzyl group, 4-methylbenzyl group, phenethyl group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.), aryloxy group (eg, phenoxy group) , 4-methoxyphenoxy group etc.), alkylthio group (eg methylthio group, ethylthio group, methoxyethylthio group etc.), arylthio group (eg phenylthio group etc.), sulfonyl group (eg methanesulfonyl group,
Ethanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, etc.),
Carbamoyl group (eg, unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, unsubstituted sulfamoyl group, methylsulfamoyl group, phenylsulfamoyl group, etc.),
Carbonamide group (eg, acetamide group, benzamide group, etc.), Sulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, p-toluenesulfonamide group, etc.), Acyloxy group (eg, acetyloxy group, benzoyloxy group) Group, etc.), sulfonyloxy group (eg, methanesulfonyloxy group, etc.), ureido group (eg, unsubstituted ureido group, methylureido group, ethylureido group, phenylureido group, etc.), thioureido group (eg, unsubstituted Thioureido group, methylureido group etc.), acyl group (eg acetyl group, benzoyl group etc.), heterocyclic group (eg 1-morpholino group, 1-piperidino group, 2-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2- Thienyl group, 1-pyrazolyl group, 1-imidazolyl group, 2-tetra Idrofuryl group, tetrahydrothienyl group etc.), oxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group etc.), oxycarbonylamino group (eg methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group, 2-ethylhexyloxycarbonylamino group etc.) ), An amino group (for example,
Unsubstituted amino group, dimethylamino group, methoxyethylamino group, anilino group, etc.), carboxylic acid or its salt, sulfonic acid or its salt, hydroxy group and the like.

【0032】M3は、水素原子、アルカリ金属原子(例
えば、ナトリウム原子、カリウム原子等)、アンモニウ
ム基(例えば、トリメチルアンモニウム基、ジメチルベ
ンジルアンモニウム基等)、アルカリ条件下で水素原子
又はアルカリ金属原子となりうる基(例えば、アセチル
基、シアノエチル基、メタンスルホニルエチル基等)を
表す。X1が表す2価の連結基としては、例えば、−S
−、−O−、−N(R16)−、−C(O)O−、−OC
(O)−、−C(O)N(R17)−、−N(R18)C
(O)−、−SO2N(R19)−、−N(R20)SO
2−、−N(R21)C(O)N(R22)−、−N
(R23)C(S)N(R24)−、−N(R25)C(O)
O−、−SO2−、−C(O)−、−SO2−O−、−O
−SO2−、等が挙げられるが、これらの連結基はQと
の間に直鎖又は分岐のアルキレン基(例えば、メチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレ
ン基、1−メチルエチレン基等)を介して結合されてい
てもよい。R16、R17、R18、R19、R20、R21
22、R23、R24及びR25は、水素原子、それぞれ置換
又は無置換のアルキル基(例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、n−ブチル基等)、置換又は無置換の
アリール基(例えば、フェニル基、2−メチルフェニル
基等)、置換又は無置換のアルケニル基(例えば、プロ
ペニル基、1−メチルビニル基等)、又は、置換もしく
は無置換のアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネ
チル基等)を表す。
M 3 is a hydrogen atom, an alkali metal atom (eg, sodium atom, potassium atom, etc.), an ammonium group (eg, trimethylammonium group, dimethylbenzylammonium group, etc.), a hydrogen atom or an alkali metal atom under alkaline conditions. Represents a group that can be (for example, an acetyl group, a cyanoethyl group, a methanesulfonylethyl group, etc.). The divalent linking group represented by X 1 is, for example, —S
-, - O -, - N (R 16) -, - C (O) O -, - OC
(O) -, - C ( O) N (R 17) -, - N (R 18) C
(O) -, - SO 2 N (R 19) -, - N (R 20) SO
2 -, - N (R 21 ) C (O) N (R 22) -, - N
(R 23) C (S) N (R 24) -, - N (R 25) C (O)
O -, - SO 2 -, - C (O) -, - SO 2 -O -, - O
--SO 2- , etc., and these linking groups are linear or branched alkylene groups between Q and (for example, methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, hexylene group, 1-methylethylene). Group, etc.). R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 ,
R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, etc.), a substituted or unsubstituted aryl group. (Eg, phenyl group, 2-methylphenyl group, etc.), substituted or unsubstituted alkenyl group (eg, propenyl group, 1-methylvinyl group, etc.), or substituted or unsubstituted aralkyl group (eg, benzyl group, Phenethyl group).

【0033】A1は2価の連結基を表し、2価の連結基
としては直鎖又は分岐のアルキレン基(例えば、メチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシ
レン基、1−メチルエチレン基等)、直鎖又は分岐のア
ルケニレン基(例えば、ビニレン基、1−メチルビニレ
ン基等)、直鎖又は分岐のアラルキレン基(例えば、ベ
ンジリデン基等)、アリーレン基(例えば、フェニレン
基、ナフチレン基等)が挙げられる。B1の置換又は無
置換のアミノ基は一般式(II−b)で表されるもので
ある。
A 1 represents a divalent linking group, and as the divalent linking group, a linear or branched alkylene group (eg, methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, hexylene group, 1-methylethylene group). Group), a linear or branched alkenylene group (eg, vinylene group, 1-methylvinylene group, etc.), a linear or branched aralkylene group (eg, benzylidene group, etc.), an arylene group (eg, phenylene group, naphthylene group) Etc.) can be mentioned. The substituted or unsubstituted amino group of B 1 is represented by formula (II-b).

【0034】[0034]

【化32】 Embedded image

【0035】式中、R26、R27は同一であっても異なっ
ていてもよく、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭
素数1〜30のアルキル基、アルケニル基、又はアラル
キル基を表し、これらの基は直鎖(例えば、メチル基、
エチル基、n−プロピル基、アリル基、3−ブテニル
基、ベンジル基、1−ナフトメチル基等)、分岐(例え
ば、イソプロピル基、t−オクチル基等)又は環状(例
えば、シクロヘキシル基等)でもよい。又、R26、R27
は連結して環を形成してもよく、その中に1つ又はそれ
以上のヘテロ原子(例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄
原子等)を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化
されていてもよく、例えば、ピロリジル基、ピペリジル
基、モルホリノ基等を挙げることができる。又、R26
27の置換基としては、例えば、カルボキシル基、スル
ホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子)、ヒドロキシ基、炭素数20以下
のアルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基等)、炭素数20以下
のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベ
ンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等)、炭素数20
以下の単環式のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ
基、p−トリルオキシ基等)、炭素数20以下のアシル
オキシ基(例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオ
キシ基等)、炭素数20以下のアシル基(例えば、アセ
チル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等)、カルバモ
イル基(例えば、カルバモイル基、N,N−ジメチルカ
ルバモイル基、モルホリノカルバモイル基、ピペリジノ
カルバモイル基等)、スルファモイル基(例えば、スル
ファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モ
ルホリノスルファモイル基、ピペリジノスルファモイル
基等)、炭素数20以下のアシルアミノ基(例えば、ア
セチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルア
ミノ基等)、スルホンアミド基(例えば、エチルスルホ
ンアミド基、P−トルエンスルホンアミド基等)、炭素
数20以下のカルボンアミド基(例えば、メチルカルボ
ンアミド基、フェニルカルボンアミド基等)、炭素数2
0以下のウレイド基(例えば、メチルウレイド基、フェ
ニルウレイド基等)又はアミノ基等が挙げられる。B1
のアンモニウム基は一般式(II−c)で表されるもの
である。
In the formula, R 26 and R 27 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group or an aralkyl group, These groups are straight chain (eg, methyl,
It may be ethyl group, n-propyl group, allyl group, 3-butenyl group, benzyl group, 1-naphthomethyl group, etc.), branched (for example, isopropyl group, t-octyl group, etc.) or cyclic (for example, cyclohexyl group, etc.). . Also, R 26 and R 27
May combine to form a ring, which is cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms (eg, oxygen, nitrogen, sulfur, etc.). It may be included, and examples thereof include a pyrrolidyl group, a piperidyl group, and a morpholino group. Also, R 26 ,
Examples of the substituent of R 27 include a carboxyl group, a sulfo group, a cyano group, a halogen atom (for example, a fluorine atom,
Chlorine atom, bromine atom), hydroxy group, alkoxycarbonyl group having 20 or less carbon atoms (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, etc.), alkoxy group having 20 or less carbon atoms (eg, Methoxy group, ethoxy group, benzyloxy group, phenethyloxy group, etc.), carbon number 20
The following monocyclic aryloxy groups (eg, phenoxy group, p-tolyloxy group, etc.), acyloxy groups having 20 or less carbon atoms (eg, acetyloxy group, propionyloxy group, etc.), acyl groups having 20 or less carbon atoms ( For example, acetyl group, propionyl group, benzoyl group, etc., carbamoyl group (eg, carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, morpholinocarbamoyl group, piperidinocarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, sulfamoyl group, N , N-dimethylsulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group, piperidinosulfamoyl group, etc.), acylamino group having 20 or less carbon atoms (eg, acetylamino group, propionylamino group, benzoylamino group, etc.), sulfonamide Group (eg, ethylsulfonamide group, P- Toluene sulfonamide group, etc.), of 20 or less carbonamido group having a carbon (e.g., methyl carbonamido group, a phenyl carbonamido group, etc.), 2 carbon atoms
Examples thereof include ureido groups of 0 or less (eg, methylureido group, phenylureido group, etc.), amino groups, and the like. B 1
The ammonium group of is represented by the general formula (II-c).

【0036】[0036]

【化33】 Embedded image

【0037】式中、R28、R29、R30は上述の一般式
(II−b)のR26、R27と同様の基であり、Z-はア
ニオンを表し、例えばハライドイオン(例えば、C
-、Br-、I-等)、スルホナートイオン(例えば、
トリフルオロメタンスルホナート、p−トルエンスルホ
ナート、ベンゼンスルホナート、p−クロロベンゼンス
ルホナート等)、スルファトイオン(例えば、エチルス
ルファート、メチルスルファート等)、パークロラー
ト、テトラフルオロボラート等が挙げられる。pは0又
は1を表し、化合物が分子内塩を形成する場合は0であ
る。B1の含窒素複素環は、少なくとも1つ以上の窒素
原子を含んだ5又は6員環であり、それらの環は置換基
を有していてもよく、又、他の環と縮合していてもよ
い。含窒素複素環としては、例えば、イミダゾリル基、
ピリジル基、チアゾリル基等が挙げられる。一般式(I
I)のうち好ましいものとしては、下記一般式(II−
d)、(II−e)、(II−f)又は(II−g)で
表される化合物が挙げられる。
In the formula, R 28 , R 29 and R 30 are the same groups as R 26 and R 27 in the above-mentioned general formula (II-b), Z represents an anion, for example, a halide ion (eg, C
l , Br , I −, etc.), a sulfonate ion (eg,
Trifluoromethane sulfonate, p-toluene sulfonate, benzene sulfonate, p-chlorobenzene sulfonate, etc.), sulfato ion (eg, ethyl sulfate, methyl sulfate, etc.), perchlorate, tetrafluoroborate and the like can be mentioned. p represents 0 or 1, and is 0 when the compound forms an intramolecular salt. The nitrogen-containing heterocycle represented by B 1 is a 5- or 6-membered ring containing at least one nitrogen atom, and these rings may have a substituent or are condensed with another ring. May be. As the nitrogen-containing heterocycle, for example, an imidazolyl group,
Examples thereof include a pyridyl group and a thiazolyl group. The general formula (I
Preferred among I) is the following general formula (II-
Examples thereof include compounds represented by d), (II-e), (II-f) or (II-g).

【0038】[0038]

【化34】 Embedded image

【0039】[0039]

【化35】 Embedded image

【0040】式中、−(X1)n2−A1−B1、M3、m1
は前記一般式(II−a)のそれと同義である。Z2
3及びZ4は前記一般式(II−a)における−
(X1)n2−A1−B1と同義であるか、又は、ハロゲン
原子、炭素数20以上のアルコキシ基(例えば、メトキ
シ基等)、ヒドロキシ基、ヒドロキシアミノ基、置換及
び無置換のアミノ基を表し、その置換基としては前記
(II−b)のR26、R27の置換基の中から選ぶことが
できる。ただし、Z2、Z3及びZ4のうち少なくとも1
つは−(X1)n2−A1−B1と同義である。又、これら
の複素環は一般式(II)の複素環に適用される置換基
で置換されていてもよい。次に一般式(II)で表され
る化合物を示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
In the formula,-(X 1 ) n 2 -A 1 -B 1 , M 3 , m 1
Is the same as that of the general formula (II-a). Z 2 ,
Z 3 and Z 4 are the same as in the general formula (II-a).
(X 1 ) n 2- A 1 -B 1 has the same meaning, or a halogen atom, an alkoxy group having 20 or more carbon atoms (eg, a methoxy group), a hydroxy group, a hydroxyamino group, a substituted or unsubstituted group. It represents an amino group, and the substituent thereof can be selected from the substituents of R 26 and R 27 in the above (II-b). However, at least one of Z 2 , Z 3 and Z 4
One is - (X 1) is synonymous with n 2 -A 1 -B 1. Further, these heterocycles may be substituted with a substituent applied to the heterocycle of the general formula (II). Next, the compounds represented by the general formula (II) are shown, but the present invention is not limited thereto.

【0041】[0041]

【化36】 Embedded image

【0042】[0042]

【化37】 Embedded image

【0043】[0043]

【化38】 Embedded image

【0044】[0044]

【化39】 Embedded image

【0045】[0045]

【化40】 Embedded image

【0046】[0046]

【化41】 Embedded image

【0047】[0047]

【化42】 Embedded image

【0048】次に一般式(III)で表される化合物に
ついて説明する。式中、R2、R3は各々水素原子又は脂
肪族残基を表す。R2、R3は互いに結合して環を形成し
てもよい。R4は2価の脂肪族基を表す。X2は窒素原
子、酸素原子もしくは硫黄原子を含む2価のヘテロ環を
表す。n3は0又は1を表す。M2は水素原子、アルカリ
金属、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホ
スホニウム塩又はアミジノ基を表す。R2、R3の脂肪族
残基としては、各々炭素数1〜12のアルキル基、アル
ケニル基及びアルキニル基が好ましく、それぞれ適当な
基で置換されていてもよい。アルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、デシル基、ドデシル基、イソプロピル基、se
c−ブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができ
る。アルケニル基としては、例えば、アリル基、2−ブ
テニル基、2−ヘキセニル基、2−オクテニル基等を挙
げることができる。アルキニル基としては、例えば、プ
ロパルギル基、2−ペンチニル基等を挙げることができ
る。置換基としては、フェニル基、置換フェニル基、ア
ルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、カルボキ
シル基、スルホ基、アルキルアミノ基、アミド基等を挙
げることができる。
Next, the compound represented by formula (III) will be described. In the formula, R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom or an aliphatic residue. R 2 and R 3 may combine with each other to form a ring. R 4 represents a divalent aliphatic group. X 2 represents a divalent heterocycle containing a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom. n 3 represents 0 or 1. M 2 represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt or an amidino group. As the aliphatic residue of R 2 and R 3 , an alkyl group, an alkenyl group and an alkynyl group each having 1 to 12 carbon atoms are preferable, and each of them may be substituted with an appropriate group. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, decyl group, dodecyl group, isopropyl group, se
Examples thereof include c-butyl group and cyclohexyl group. Examples of the alkenyl group include an allyl group, a 2-butenyl group, a 2-hexenyl group, a 2-octenyl group and the like. Examples of the alkynyl group include a propargyl group and a 2-pentynyl group. Examples of the substituent include a phenyl group, a substituted phenyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkylamino group and an amide group.

【0049】R2とR3とで環を形成する場合としては、
炭素原子又は窒素原子・酸素原子の組合せからなる5員
又は6員の炭素環又はヘテロ環で、特に飽和の環が好ま
しく、例えば、ピロリジル、ピペリジル、モルホリル、
ピペラジル、4−メチルピペラジル等が挙げられる。R
2とR3として特に好ましいものは、炭素原子数1〜3の
アルキル基で、更に好ましくはエチル基である。R4
2価の脂肪族基としては、−R31−又は−R31S−が好
ましい。ここで、R31は2価の脂肪族残基で、好ましく
は炭素数1〜6の飽和及び不飽和のもので、例えば、−
CH2−、−CH2CH2−、−(CH23−、−(C
24−、−(CH26−、−CH2CH=CHCH
2−、−CH2CH(CH3)CH2−等である。R31の好
ましい炭素数としては2〜4のもので、更に好ましく
は、−CH2CH2−及び−(CH23−である。なお、
(X2)n3のn3が0のときR4は−R31−だけを表す。
2のヘテロ環としては、窒素原子、酸素原子又は硫黄
原子を含む5員又は6員のヘテロ環でベンゼン環に縮合
していてもよい。ヘテロ環として好ましいものは芳香族
のもので、例えば、テトラゾール、トリアゾール、チア
ジアゾール、オキサジアゾール、イミダゾール、チアゾ
ール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチア
ゾール、ベンゾオキサゾール等である。このうち特にテ
トラゾールとチアジアゾールが好ましい。
When R 2 and R 3 form a ring,
A 5- or 6-membered carbon ring or hetero ring consisting of a carbon atom or a combination of a nitrogen atom and an oxygen atom, particularly preferably a saturated ring, for example, pyrrolidyl, piperidyl, morpholyl,
Examples thereof include piperazil and 4-methylpiperazyl. R
Particularly preferred as 2 and R 3 are alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably ethyl groups. As the divalent aliphatic group for R 4 , —R 31 — or —R 31 S— is preferable. Here, R 31 is a divalent aliphatic residue, preferably a saturated or unsaturated one having 1 to 6 carbon atoms, for example,-
CH 2 -, - CH 2 CH 2 -, - (CH 2) 3 -, - (C
H 2) 4 -, - ( CH 2) 6 -, - CH 2 CH = CHCH
2 -, - CH 2 CH ( CH 3) CH 2 - , and the like. R 31 preferably has 2 to 4 carbon atoms, more preferably —CH 2 CH 2 — and — (CH 2 ) 3 —. In addition,
(X 2) R 4 when n 3 of n 3 is 0, -R 31 - represents only.
The hetero ring of X 2 may be a 5- or 6-membered hetero ring containing a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom, which may be condensed with the benzene ring. Preferred heterocycles are aromatic ones, such as tetrazole, triazole, thiadiazole, oxadiazole, imidazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzothiazole and benzoxazole. Of these, tetrazole and thiadiazole are particularly preferred.

【0050】M2のアルカリ金属としては、Na+
+、Li+等である。アルカリ土類金属としては、Ca
++、Mg++等がある。四級アンモニウム塩としては、炭
素数4〜30からなるもので、例えば、(CH3
4+、(C254+、(C494 +、C65CH2
+(CH33、C1633+(CH33等である。四級
ホスホニウム塩としては、(C494+、C1633
+(CH33、C65CH2+(CH33等である。一
般式(III)で表される化合物の無機酸塩としては、
例えば、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩等があり、有機酸塩
としては、例えば、酢酸塩、プロピオン酸塩、メタンス
ルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、P−トルエンスル
ホン酸塩等がある。以下に一般式(III)で表される
化合物の具体例を挙げる。
MTwoAs the alkali metal of+,
K+, Li+And so on. As the alkaline earth metal, Ca
++, Mg++Etc. As a quaternary ammonium salt, charcoal
It is composed of 4 to 30 prime numbers and is, for example, (CHThree)
FourN+, (CTwoHFive)FourN+, (CFourH9)FourN +, C6HFiveCHTwo
N+(CHThree)Three, C16H33N+(CHThree)ThreeAnd so on. Fourth grade
As the phosphonium salt, (CFourH9)FourP+, C16H33P
+(CHThree)Three, C6HFiveCHTwoP+(CHThree)ThreeAnd so on. one
As the inorganic acid salt of the compound represented by the general formula (III),
For example, there are hydrochlorides, sulfates, phosphates, etc.
As, for example, acetate, propionate, methane
Ruphonate, benzene sulfonate, P-toluene sulphate
There are phonates, etc. Represented by general formula (III) below
Specific examples of the compounds will be given.

【0051】[0051]

【化43】 Embedded image

【0052】[0052]

【化44】 Embedded image

【0053】[0053]

【化45】 Embedded image

【0054】[0054]

【化46】 Embedded image

【0055】[0055]

【化47】 Embedded image

【0056】[0056]

【化48】 Embedded image

【0057】[0057]

【化49】 Embedded image

【0058】次に一般式(IV)、(V)で表される化
合物について説明する。R5及びR6は同じであっても異
なっていてもよく、各々水素原子、炭素数1〜30の置
換基を有していてもよいアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オ
クチル基、2−エチルヘキシル基、メトキシエチル基、
エチルチオエチル基、ジメチルアミノエチル基、n−デ
シル基、n−ドデシル基、フェノキシエチル基、2,4
−ジ−t−アミルフェノキシエチル基、n−オクタデシ
ル基等)、炭素数3〜30の置換基を有していてもよい
アルケニル基(例えば、アリル基、ブテニル基、ベンテ
ニル基等)、又は炭素数7〜30の置換基を有していて
もよいアラルキル基(例えば、フェネチル基、ベンジル
基、4−メトキシベンジル基、4−t−ブチルベンジル
基、2,4−ジ−t−アミルフェネチル基等)を表す。
又、R5とR6は一体化して置換されていてもよいアルキ
レンとなり、窒素原子とともに環を形成してもよい。例
えば、ピロリジン環、ピペリジン環、2−メチルピペリ
ジン環、ヘキサメチレンイミン環等である。R7、R8
9、R10は同じであっても異なっていてもよく、各々
水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基(好ましくは
置換基を有さない低級アルキル基、例えば、メチル基、
エチル基、n−ブチル基等)を表す。
Next, the compounds represented by formulas (IV) and (V) will be described. R 5 and R 6 may be the same or different and each is a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent having 1 to 30 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, n-butyl group). Group, n-hexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, methoxyethyl group,
Ethylthioethyl group, dimethylaminoethyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, phenoxyethyl group, 2,4
-Di-t-amylphenoxyethyl group, n-octadecyl group, etc.), an alkenyl group having 3 to 30 carbon atoms and optionally having a substituent (for example, an allyl group, butenyl group, pentenyl group, etc.), or carbon Aralkyl group optionally having a substituent of formula 7 to 30 (for example, phenethyl group, benzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-t-butylbenzyl group, 2,4-di-t-amylphenethyl group Etc.).
Further, R 5 and R 6 are integrated and become an optionally substituted alkylene, and may form a ring together with a nitrogen atom. For example, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a 2-methylpiperidine ring, a hexamethyleneimine ring and the like. R 7 , R 8 ,
R 9 and R 10 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (preferably a lower alkyl group having no substituent, for example, a methyl group,
(Ethyl group, n-butyl group, etc.).

【0059】ここでR5及びR6が置換基を有する場合、
その置換基としては、例えば、ハロゲン原子(例えば、
塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロ
キシ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基等)、アリ
ールオキシ基(例えば、フェノキシ基、2,4−ジーt
−アミルフェノキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、
メチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニル
チオ基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ
基、ベンゾイルオキシ基等)、アミノ基(例えば、無置
換アミノ基、ジメチルアミノ基等)、カルボンアミド基
(例えば、アセトアミド基等)、スルホンアミド基(例
えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミ
ド基等)、オキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキ
シカルボニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば、無置
換ウレイド基、3,3−ジメチルウレイド基等)、チオ
ウレイド基(例えば、無置換チオウレイド基、3−フェ
ニルチオウレイド基等)、アシル基(例えば、アセチル
基、ベンゾイル基等)、オキシカルボニル基(例えば、
メトキシカルボニル基等)、カルバモイル基(例えば、
メチルカルバモイル基、4−メチルフェニルカルバモイ
ル基等)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基
等)、スルファモイル基(例えば、メチルスルファモイ
ル基、4−メトキシフェニルスルファモイル基等)、カ
ルボン酸又はその塩、スルホン酸又はその塩等が挙げら
れる。
Here, when R 5 and R 6 have a substituent,
As the substituent, for example, a halogen atom (for example,
Chlorine atom, bromine atom, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, alkoxy group (eg, methoxy group), aryloxy group (eg, phenoxy group, 2,4-di-t)
-Amylphenoxy group, etc.), alkylthio group (eg,
Methylthio group etc.), arylthio group (eg phenylthio group etc.), acyloxy group (eg acetyloxy group, benzoyloxy group etc.), amino group (eg unsubstituted amino group, dimethylamino group etc.), carbonamide group ( For example, acetamide group etc.), sulfonamide group (eg methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group etc.), oxycarbonylamino group (eg methoxycarbonylamino group etc.), ureido group (eg unsubstituted ureido group, 3 , 3-dimethylureido group etc.), thioureido group (eg unsubstituted thioureido group, 3-phenylthioureido group etc.), acyl group (eg acetyl group, benzoyl group etc.), oxycarbonyl group (eg,
Methoxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group (eg,
Methylcarbamoyl group, 4-methylphenylcarbamoyl group etc.), sulfonyl group (eg methanesulfonyl group etc.), sulfamoyl group (eg methylsulfamoyl group, 4-methoxyphenylsulfamoyl group etc.), carboxylic acid or its Examples thereof include salts, sulfonic acids and salts thereof.

【0060】一般式(IV)、(V)中、好ましいR5
とR6は、各々炭素数1〜30のアルキル基又は炭素数
7〜30のアラルキル基を表し、R7、R8、R9及びR
10は水素原子を表し、n4は3〜20の整数を表す。一
般式(IV)、(V)中、より好ましくはR5とR6は各
々炭素数5〜20のアルキル基を表す。R11とR12はR
5とR6と同じである。n5は2〜50の整数を表す。以
下に一般式(IV)、(V)で表される化合物の具体例
を示すが、本発明の化合物はこれに限定されるものでは
ない。
In the general formulas (IV) and (V), preferred R 5
And R 6 each represent an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 7 , R 8 , R 9 and R
10 represents a hydrogen atom, and n 4 represents an integer of 3 to 20. In formulas (IV) and (V), more preferably R 5 and R 6 each represent an alkyl group having 5 to 20 carbon atoms. R 11 and R 12 are R
Same as 5 and R 6 . n 5 represents an integer of 2 to 50. Specific examples of the compounds represented by formulas (IV) and (V) are shown below, but the compounds of the present invention are not limited thereto.

【0061】[0061]

【化50】 Embedded image

【0062】[0062]

【化51】 Embedded image

【0063】[0063]

【化52】 Embedded image

【0064】[0064]

【化53】 Embedded image

【0065】[0065]

【化54】 Embedded image

【0066】[0066]

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【0067】[0067]

【化56】 Embedded image

【0068】[0068]

【化57】 Embedded image

【0069】[0069]

【化58】 Embedded image

【0070】[0070]

【化59】 Embedded image

【0071】[0071]

【化60】 Embedded image

【0072】[0072]

【化61】 Embedded image

【0073】次に一般式(VI)の化合物について説明
する。式中、X1、Y1、B1は一般式(II)と同じで
あり、m2は1、2又は3を表し、n6は0又は1を表
す。。A2は少なくとも2つのアルキレンオキシユニッ
トを有する2価の連結基を表すが、好ましくは
Next, the compound of the general formula (VI) will be described. In the formula, X 1 , Y 1 and B 1 are the same as those in the general formula (II), m 2 represents 1, 2 or 3 and n 6 represents 0 or 1. . A 2 represents a divalent linking group having at least two alkyleneoxy units, preferably

【0074】[0074]

【化62】 Embedded image

【0075】を表す。式中、R32、R33、R34及びR35
は、各々水素原子、炭素数1〜4のアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル
基等)を表し、qは2〜50の整数を表す。以下に一般
式(VI)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発
明はこれに限定されるものではない。
Represents In the formula, R 32 , R 33 , R 34 and R 35
Each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, etc.), and q represents an integer of 2 to 50. Specific examples of the compound represented by formula (VI) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0076】[0076]

【化63】 Embedded image

【0077】[0077]

【化64】 Embedded image

【0078】[0078]

【化65】 Embedded image

【0079】[0079]

【化66】 Embedded image

【0080】[0080]

【化67】 Embedded image

【0081】[0081]

【化68】 Embedded image

【0082】[0082]

【化69】 Embedded image

【0083】[0083]

【化70】 Embedded image

【0084】[0084]

【化71】 Embedded image

【0085】[0085]

【化72】 Embedded image

【0086】[0086]

【化73】 Embedded image

【0087】[0087]

【化74】 Embedded image

【0088】[0088]

【化75】 Embedded image

【0089】[0089]

【化76】 Embedded image

【0090】[0090]

【化77】 Embedded image

【0091】[0091]

【化78】 Embedded image

【0092】次に一般式(VII)について説明する。
13、R14、R15で表される基の具体例としては、直鎖
又は分岐のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル
基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、オクチル
基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、
シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、フェナントリル基等)、アルケニル基(例えば、ア
リル基、ビニル基、5−ヘキセニル基等)、シクロアル
ケニル基(例えば、シクロペンテニル基、シクロヘキセ
ニル基等)、ヘテロ環残基(例えば、ピリジル基、キノ
リル基、フリル基、イミダゾリル基、チアベンゾリル
基、チアゾジアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベン
ゾチアゾリル基、モルホリノ基、ピリミジル基、ピロリ
ジル基等)を挙げることができる。これらの基に置換し
た置換基の例としては、R13、R14、R15で表される基
の他に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
等のハロゲン原子、ニトロ基、1、2、3級アミノ基、
アルキル又はアリールエーテル基、アルキル又はアリー
ルチオエーテル基、カルボンアミド基、カルバモイル
基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキシ
基、スルホキシ基、スルホニル基、カルボキシル基、ス
ルホン酸基、シアノ基又はカルボニル基をあげることが
できる。Lで表される基の例としては、R13、R14、R
15と同義の基の他に、トリメチレン基、テトラメチレン
基、ヘキサメチレン基、ペンタメチレン基、オクタメチ
レン基、ドデカメチレン基等のポリメチレン基、フェニ
レン基、ビフェニレン基、ナフチレン基等の2価芳香族
基、トリメチレンメチル基、テトラメチレメチル基等の
多価脂肪族基、フェニレン−1,3,5−トルイル基、
フェニレン−1,2,4,5−テトライル基等の多価芳
香族残基等をあげることができる。
Next, the general formula (VII) will be described.
Specific examples of the groups represented by R 13 , R 14 and R 15 include linear or branched alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group,
Propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, etc.), cycloalkyl group (for example,
Cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group etc.), aryl group (eg phenyl group, naphthyl group, phenanthryl group etc.), alkenyl group (eg allyl group, vinyl group, 5-hexenyl group etc.), cycloalkenyl group ( For example, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, etc., heterocyclic residue (for example, pyridyl group, quinolyl group, furyl group, imidazolyl group, thiabenzolyl group, thiazodiazolyl group, benzotriazolyl group, benzothiazolyl group, morpholino group, pyrimidyl) Group, pyrrolidyl group, etc.). Examples of the substituents substituted with these groups include, in addition to the groups represented by R 13 , R 14 and R 15 , halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, nitro group, 1 2, a tertiary amino group,
Alkyl or aryl ether group, alkyl or aryl thioether group, carbonamido group, carbamoyl group, sulfonamide group, sulfamoyl group, hydroxy group, sulfoxy group, sulfonyl group, carboxyl group, sulfonic acid group, cyano group or carbonyl group. You can Examples of the group represented by L include R 13 , R 14 and R
In addition to the groups synonymous with 15 , polymethylene groups such as trimethylene group, tetramethylene group, hexamethylene group, pentamethylene group, octamethylene group and dodecamethylene group, divalent aromatic compounds such as phenylene group, biphenylene group and naphthylene group. Group, trimethylenemethyl group, polyvalent aliphatic group such as tetramethylmethyl group, phenylene-1,3,5-toluyl group,
Examples thereof include polyvalent aromatic residues such as phenylene-1,2,4,5-tetrayl group.

【0093】X3で表される陰イオンの例としては、塩
素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオ
ン、アセテートイオン、オギザレートイオン、フマレー
トイオン、ベンゾエートイオン等のカルボキシレートイ
オン、p−トルエンスルホネートイオン、メタンスルホ
ネートイオン、ブタンスルホネートイオン、ベンゼンス
ルホネートイオン等のスルホネートイオン、硫酸イオ
ン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン等が挙げ
られる。一般式(VII)において、R13、R14、R15
は、好ましくは炭素数20以下の基であり、炭素数15
以下のアリール基が特に好ましい。m3は1又は2が好
ましく、mが1を表すとき、Lは好ましくは炭素数20
以下の基であり、総炭素数15以下のアルキル基又はア
リール基が特に好ましい。m3が2を表すとき、Lで表
される2価の有機基は好ましくはアルキレン基、アリー
レン基、又はこれらの基を結合して形成される2価の
基、さらにはこれらの基と−CO−基、−O−基、−N
36−基(R36は水素原子又はR13、R14、R15と同義
の基を表し、分子内に複数のR36が存在するとき、これ
らは同じであっても異なっていてもよく、さらには互い
に結合していてもよい)、−S−基、−SO2−基を組
み合せて形成される2価の基である。m3が2を表すと
き、Lはその炭素原子でP原子と結合する総炭素数20
以下の2価基であることが特に好ましい。m3が2以上
の整数を表すとき、分子内にR13、R14、R15はそれぞ
れ複数存在するが、その複数のR13、R14、R15はそれ
ぞれ同じであっても異なっていてもよい。n7は1又は
2が好ましく、X3はR13、R14、R15、又はLと結合
して分子内塩を形成してもよい。本発明の一般式(VI
I)で表される化合物の多くのものは公知であり、試薬
として市販のものである。一般的合成法としては、ホス
フィン酸類をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エステ
ル等のアルキル化剤と反応させる方法、あるいはホスホ
ニウム塩類の対陰イオンを常法により変換する方法があ
る。一般式(VII)で表される化合物の具体例を以下
に示す。但し、本発明の化合物は、これらに限られるも
のではない。
Examples of the anion represented by X 3 include halogen ions such as chlorine ion, bromine ion and iodine ion, carboxylate ions such as acetate ion, oxalate ion, fumarate ion and benzoate ion, p -Sulfonate ions such as toluene sulfonate ion, methane sulfonate ion, butane sulfonate ion, benzene sulfonate ion, sulfate ion, perchlorate ion, carbonate ion, nitrate ion and the like. In the general formula (VII), R 13 , R 14 , and R 15
Is preferably a group having 20 or less carbon atoms, and having 15 carbon atoms.
The following aryl groups are particularly preferred. m 3 is preferably 1 or 2, and when m represents 1, L preferably has 20 carbon atoms.
Of the following groups, an alkyl group or an aryl group having a total carbon number of 15 or less is particularly preferable. When m 3 represents 2, the divalent organic group represented by L is preferably an alkylene group, an arylene group, or a divalent group formed by bonding these groups, and further, CO- group, -O- group, -N
R 36 - group (R 36 represents a hydrogen atom or R 13, R 14, R 15 group having the same meaning as, when a plurality of R 36 are present, it may be different even in the same , And may be bonded to each other), an —S— group, and a —SO 2 — group. When m 3 represents 2, L is the total number of carbon atoms bonded to P atoms at that carbon atom is 20
The following divalent groups are particularly preferable. When m 3 is an integer of 2 or more, but R 13, R 14, R 15 are present in plural in the molecule, the plurality of R 13, R 14, R 15 is optionally substituted by one or more identical respectively Good. n 7 is preferably 1 or 2, and X 3 may combine with R 13 , R 14 , R 15 or L to form an inner salt. The general formula (VI
Many of the compounds represented by I) are known and commercially available as reagents. As a general synthesis method, there is a method of reacting a phosphinic acid with an alkylating agent such as an alkyl halide or a sulfonate, or a method of converting a counter anion of a phosphonium salt by a conventional method. Specific examples of the compound represented by the general formula (VII) are shown below. However, the compound of the present invention is not limited to these.

【0094】[0094]

【化79】 Embedded image

【0095】[0095]

【化80】 Embedded image

【0096】[0096]

【化81】 Embedded image

【0097】[0097]

【化82】 Embedded image

【0098】[0098]

【化83】 Embedded image

【0099】[0099]

【化84】 Embedded image

【0100】[0100]

【化85】 Embedded image

【0101】[0101]

【化86】 Embedded image

【0102】[0102]

【化87】 Embedded image

【0103】[0103]

【化88】 Embedded image

【0104】本発明の一般式(I)の化合物の添加量と
しては、ハロゲン化銀1モル当たり1×10-6モル乃至
1×10-1モルの範囲で含有させるのが好ましく、特
に、1×10-5モル乃至3×10-2モルの範囲が好まし
い添加量である。本発明の一般式(I)の化合物は、適
当な水混和性有機溶媒、例えば、アルコール類、ケトン
類、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ等に溶解
して用いることができる。一般式(II)、(II
I)、(IV)、(V)、(VI)及び(VII)の化
合物の添加量は、化合物の種類によって最適の添加量は
異なるが、1.0×10-3〜0.5g/m2、好ましく
は5.0×10-3〜0.3g/m2の範囲である。これ
らの促進剤は適当な溶媒、例えば、水、メタノールやエ
タノール等のアルコール類、アセトン、ジメチルホルム
アミド、メチルセロソルブ等に溶解して塗布液に添加さ
れる。これらの添加剤の複数の種類を併用してもよい。
The addition amount of the compound of the formula (I) of the present invention is preferably 1 × 10 -6 mol to 1 × 10 -1 mol per mol of silver halide, particularly 1 × 10 -5 mol to 3 × 10 -2 mol per mol of silver is the preferred amount. The compound of the formula (I) of the present invention can be used by dissolving it in a suitable water-miscible organic solvent, for example, alcohols, ketones, dimethylformamide, methyl cellosolve and the like. Formulas (II) and (II
The optimum addition amount of the compounds I), (IV), (V), (VI) and (VII) varies depending on the kind of the compound, but is 1.0 × 10 −3 to 0.5 g / m 2. 2 , preferably 5.0 × 10 −3 to 0.3 g / m 2 . These accelerators are dissolved in a suitable solvent, for example, water, alcohols such as methanol and ethanol, acetone, dimethylformamide, methyl cellosolve and the like, and added to the coating solution. A plurality of these additives may be used in combination.

【0105】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、
塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等ど
の組成でも使用することができる。本発明に用いられる
ハロゲン化銀乳剤の調製方法は、公知の種々の手法が用
いられる。例えば、ピー・グラフキデス著「シミー・エ
・フィジク・フォトグラフィック」ポール・モンテル社
刊、1967年、ジー・エフ・ダフィン著「フォトグラ
フィック・エマルジョン・ケミストリー」ザ・フォーカ
ル・プレス社刊、1966年等に記載されている方法を
用いて調製することができる。ハロゲン化銀粒子の形
態、晶癖、サイズ分布等には特に制限はないが、粒子径
0.5μm以下のものが好ましい。又、粒子径分布は狭
いものが好ましく、いわゆる単分散乳剤が好ましい。水
溶性銀塩(例えば、硝酸銀水溶液)と水溶性ハロゲン塩
(例えば、塩化ナトリウム、臭化カリウム)を反応させ
る方法としては、同時混合法、特に、pAgをコントロ
ールしたダブルジェット法、トリプルジェット法が好ま
しい。本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、イリジ
ウム塩、又は、ロジウム塩を含有する乳剤が好ましい。
特に、両者の併用が好ましい。ロジウム塩としては、三
塩化ロジウム、六塩化ロジウム(III)酸アンモニウ
ム等を挙げることができる。イリジウム塩としては、三
塩化イリジウム、四塩化イリジウム、六塩化イリジウム
(III)酸カリウム、六塩化イリジウム(IV)酸カ
リウム等を挙げることができる。
The silver halide emulsion used in the present invention is
Any composition such as silver chloride, silver bromide, silver chlorobromide, silver iodobromide and silver iodochlorobromide can be used. Various known techniques are used for preparing the silver halide emulsion used in the present invention. For example, P. Grafkiddes, "Simmy e Physique Photographic", published by Paul Montell, 1967, GFF Duffin, "Photographic Emulsion Chemistry", published by The Focal Press, 1966, etc. Can be prepared using the method described in The form, crystal habit, size distribution and the like of silver halide grains are not particularly limited, but those having a grain size of 0.5 μm or less are preferred. Further, those having a narrow particle size distribution are preferred, and so-called monodispersed emulsions are preferred. As a method for reacting a water-soluble silver salt (for example, an aqueous solution of silver nitrate) with a water-soluble halogen salt (for example, sodium chloride or potassium bromide), a simultaneous mixing method, in particular, a double jet method or a triple jet method in which pAg is controlled is used. preferable. The silver halide emulsion used in the present invention is preferably an emulsion containing an iridium salt or a rhodium salt.
In particular, a combination of both is preferred. Examples of the rhodium salt include rhodium trichloride and ammonium hexachloride (III). Examples of the iridium salt include iridium trichloride, iridium tetrachloride, potassium hexachloride iridate (III), potassium hexachloride iridium (IV), and the like.

【0106】本発明のハロゲン化銀乳剤は、金増感及び
硫黄増感を施してもよい。金増感剤としては、カリウム
クロロオーライト、カリウムオーリチオシアネート、オ
ーリッククロライド等を挙げることができる。硫黄増感
剤としては、ゼラチン中の硫黄化合物の他に、チオ硫酸
塩、チオ尿素類、ローダニン類等を挙げることができ
る。本発明のハロゲン化銀乳剤には、分光増感色素を添
加することができる。用いられる色素は、シアニン色
素、メロシアニン色素、複合シアニン色素、複合メロシ
アニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素、オキソ
ノール色素等がある。特に有用な色素は、シアニン色
素、メロシアニン色素系に属する色素である。これらの
増感色素は、単独で用いてもよいが、目的に応じた分光
感度を得るため、或るいは強色増感の目的で組み合せて
用いることもできる。本発明のハロゲン化銀乳剤層又は
その他の親水性コロイド層には、ハレーション防止、イ
ラジエーション防止等の目的として、各種染料、紫外線
吸収剤染料を添加することができる。
The silver halide emulsion of the present invention may be subjected to gold sensitization and sulfur sensitization. Examples of the gold sensitizer include potassium chloroaulite, potassium aurithiocyanate, and auric chloride. Examples of the sulfur sensitizer include thiosulfates, thioureas, rhodanines and the like, in addition to sulfur compounds in gelatin. A spectral sensitizing dye can be added to the silver halide emulsion of the present invention. Dyes used include cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, hemicyanine dyes, styryl dyes, oxonol dyes, and the like. Particularly useful dyes are those belonging to the cyanine dye and merocyanine dye systems. These sensitizing dyes may be used alone, but may also be used in combination for the purpose of supersensitization in order to obtain spectral sensitivity according to the purpose. Various dyes and ultraviolet absorber dyes can be added to the silver halide emulsion layer or other hydrophilic colloid layer of the present invention for the purpose of preventing halation and irradiation.

【0107】本発明の写真感光材料の乳剤層やその他の
親水性コロイド層に用いることができる結合剤又は保護
コロイドとしては、主にゼラチンが使用されるが、それ
以外に、例えば、ゼラチン誘導体、アルブミン、カゼイ
ン等の蛋白質、エチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース等のセルロース誘導体、澱粉誘導体等の糖誘導
体、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリメタクリル酸等の単一或るいは共重合
体の如き親水性ポリマーを用いることができる。本発明
の写真感光材料の乳剤層及びその他の親水性コロイド層
には、製造工程、保存中或るいは現像処理中のカブリを
防止し、或るいは写真性能を安定化する目的で、種々の
化合物を添加することができる。この化合物としては、
例えば、ベンゾチアゾリニウム塩、ニトロインダゾール
類、ニトロベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾー
ル類、メルカプトチアジアゾール類、ベンゾトリアゾー
ル類、メルカプトテトラゾール類等のアゾール類、アザ
インデン類等の、従来よりカブリ防止剤又は安定剤とし
て知られた多くの化合物を挙げることができる。これら
の中で特に好ましいものは、ベンゾトリアゾール類、ニ
トロインダゾール類である。これらの化合物は、現像処
理に使用する処理液に含有させてもよい。
Gelatin is mainly used as the binder or protective colloid that can be used in the emulsion layer and other hydrophilic colloid layers of the photographic light-sensitive material of the present invention, but other than that, for example, gelatin derivatives, Proteins such as albumin and casein, cellulose derivatives such as ethyl cellulose and carboxymethyl cellulose, sugar derivatives such as starch derivatives, hydrophilicity such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide and polymethacrylic acid such as single or copolymer Polymers can be used. The emulsion layer and the other hydrophilic colloid layer of the photographic light-sensitive material of the present invention may have various types of materials for the purpose of preventing fogging during the production process, storage or development processing, or stabilizing photographic performance. Compounds can be added. As this compound,
For example, benzothiazolinium salts, nitroindazoles, nitrobenzimidazoles, mercaptothiazoles, mercaptothiadiazoles, benzotriazoles, azoles such as mercaptotetrazole, azaindene and the like, conventionally antifoggants or stabilizers Can be mentioned. Of these, particularly preferred are benzotriazoles and nitroindazoles. These compounds may be contained in a processing solution used for the development processing.

【0108】本発明の写真感光材料の乳剤層及びその他
の親水性コロイド層は、無機又は有機硬膜剤を含有する
ことができる。硬膜剤としては、例えば、クロム塩(ク
ロムミョウバン等)、アルデヒド類(ホルムアルデヒ
ド、グリオギザール等)、N−メチロール化合物、ジオ
キサン誘導体、活性ビニル化合物等を挙げることがで
き、これらの硬膜剤を単独又は組み合せて使用すること
ができる。本発明の写真感光材料の乳剤層及びその他の
親水性コロイド層は、塗布助剤、帯電防止、スベリ性改
良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、現
像促進、硬調化、増感等)等の種々の目的で界面活性剤
を含有することができる。界面活性剤としては、例え
ば、サポニン、アルキレンオキサイド誘導体(ポリエチ
レングリコール、ポリエチレングリコールアルキルエー
テル類等)、グリシドール誘導体(アルケニルコハク酸
ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグリセリド
等)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖のアルキ
ルエステル類等のノニオン性界面活性剤、アルキルカル
ボン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エ
ステル類のようなカルボキシ基、スルホ基、硫酸エステ
ル基、リン酸エステル基等の酸性基を有するアニオン性
界面活性剤、アミノ酸類、アミノアルキルスルホン酸
類、アミノアルキル硫酸又はリン酸エステル類等の両性
活性剤、脂肪族或るいは芳香族第4級アンモニウム塩
類、或るいは複素環第4級アンモニウム塩類等のカチオ
ン性界面活性剤を挙げることができる。
The emulsion layer and other hydrophilic colloid layers of the photographic light-sensitive material of the present invention can contain an inorganic or organic hardener. Examples of the hardener include chromium salts (such as chrome alum), aldehydes (such as formaldehyde and glyoxal), N-methylol compounds, dioxane derivatives, and active vinyl compounds. They can be used alone or in combination. The emulsion layer and other hydrophilic colloid layers of the photographic light-sensitive material of the present invention include coating aids, antistatic agents, slipperiness improvement, emulsion dispersion, adhesion prevention and photographic property improvement (for example, development acceleration, contrast enhancement, sensitization, etc.). ) Etc. can be contained for various purposes. Examples of the surfactant include saponins, alkylene oxide derivatives (polyethylene glycol, polyethylene glycol alkyl ethers, etc.), glycidol derivatives (alkenyl succinic acid polyglycerides, alkylphenol polyglycerides, etc.), fatty acid esters of polyhydric alcohols, and sugars. Nonionic surfactants such as alkyl esters, anions having an acidic group such as carboxy group, sulfo group, sulfate group, phosphate group such as alkyl carboxylate, alkyl sulfate, alkyl phosphate, etc. Amphoteric surfactants, amino acids, aminoalkylsulfonic acids, amphoteric surfactants such as aminoalkylsulfuric acid or phosphate esters, aliphatic or aromatic quaternary ammonium salts, or heterocyclic quaternary ammonium salts Etc. It can be exemplified emissions surfactant.

【0109】本発明の写真感光材料の乳剤層及びその他
の親水性コロイド層には、寸度安定性の改良等の目的
で、水溶性又は難溶性合成ポリマーの分散物を含むこと
ができる。例えば、アルキル(メタ)アクリレート、ア
ルコキシアルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アク
リルアミド、ビニルエステル、グリシジン(メタ)アク
リレート、アクリロニトリル、スチレン等の単独若しく
は組合せ、或るいはこれらとアクリル酸、メタアクリル
酸、α,βー不飽和ジカルボン酸、スチレンスルホン酸
等の組合せを単量体成分とするポリマーとを組み合せて
用いることができる。本発明におけるハロゲン化銀乳剤
層以外の、その他の親水性コロイド層としては、表面保
護層、中間層、フィルター層、ハレーション防止層、帯
電防止層等を挙げることができる。表面保護層等の親水
性コロイド層には、接着防止等の目的でマット剤を含有
させることができる。マット剤としては、米国特許第
2,701,245号、同第2,992,101号、同
第4,142,894号、同第4,396,706号の
各明細書に記載のポリメチルメタクリレートのホモポリ
マー、メチルメタクリレートとメタクリル酸とのコポリ
マー、澱粉、シリカ、酸化マグネシウム等の微粒子を用
いることができる。又、表面保護層には、米国特許第
3,489,576号、同第4,047,958号の各
明細書に記載されたシリコーン化合物、特公昭56−2
3139号公報に記載されたコロイダルシリカ、その他
パラフィンワックス、高級脂肪酸エステル等を添加する
ことができる。
The emulsion layer and other hydrophilic colloid layers of the photographic light-sensitive material of the present invention may contain a dispersion of a water-soluble or sparingly soluble synthetic polymer for the purpose of improving dimensional stability. For example, alkyl (meth) acrylate, alkoxyalkyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, vinyl ester, glycidin (meth) acrylate, acrylonitrile, styrene, etc., alone or in combination, or acrylic acid, methacrylic acid, It can be used in combination with a polymer having a combination of α, β-unsaturated dicarboxylic acid, styrenesulfonic acid and the like as a monomer component. Other hydrophilic colloid layers other than the silver halide emulsion layer in the present invention include a surface protective layer, an intermediate layer, a filter layer, an antihalation layer, and an antistatic layer. A matting agent can be contained in a hydrophilic colloid layer such as a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion and the like. Examples of the matting agent include polymethyl compounds described in U.S. Pat. Nos. 2,701,245, 2,992,101, 4,142,894, and 4,396,706. A methacrylate homopolymer, a copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid, and fine particles of starch, silica, magnesium oxide and the like can be used. The surface protective layer may be formed of a silicone compound described in the specifications of U.S. Pat. Nos. 3,489,576 and 4,047,958.
No. 3,139, colloidal silica, other paraffin waxes, higher fatty acid esters and the like can be added.

【0110】本発明の写真感光材料の乳剤層及びその他
の親水性コロイド層には、可塑剤としてトリメチロール
プロパン、ペンタンジオール、ブタンジオール、エチレ
ングリコール、グリセリン等のポリオール類を用いるこ
とができる。更に、乳剤層及びその他の親水性コロイド
層には、蛍光増白剤、現像促進剤、pH調整剤、増粘
剤、帯電防止剤等を添加することができる。本発明の写
真感光材料の支持体としては、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、ニトロセルロース、ポリ
スチレン、ポリエチレンテレフタレート等を用いること
ができる。特に好ましいのは、ポリエチレンテレフタレ
ートフイルムである。これらの支持体は、公知の方法で
コロナ処理されていてもよく、又、必要に応じて公知の
方法で下引き加工処理されていてもよい。又、温度や湿
度の変化によって寸度が変化する、いわゆる寸度安定性
を高めるために、ポリ塩化ビニリデン系ポリマーを含む
防水層を設けてもよい。
Polyols such as trimethylolpropane, pentanediol, butanediol, ethylene glycol and glycerin can be used as plasticizers in the emulsion layer and other hydrophilic colloid layers of the photographic light-sensitive material of the present invention. Further, a fluorescent whitening agent, a development accelerator, a pH adjuster, a thickener, an antistatic agent and the like can be added to the emulsion layer and other hydrophilic colloid layers. As a support of the photographic light-sensitive material of the present invention, cellulose triacetate, cellulose diacetate, nitrocellulose, polystyrene, polyethylene terephthalate and the like can be used. Particularly preferred is a polyethylene terephthalate film. These supports may be subjected to a corona treatment by a known method, or may be subjected to a subbing treatment by a known method as necessary. In addition, a waterproof layer containing a polyvinylidene chloride-based polymer may be provided in order to increase the so-called dimensional stability, in which dimensions change due to changes in temperature or humidity.

【0111】本発明のハロゲン化銀写真感光材料を用い
て超硬調の写真特性を得るには、従来のリス現像液や米
国特許第2,419,975号明細書に記載されたpH
13に近い高アルカリ現像液を用いる必要はなく、安定
な現像液を用いることができる。即ち、本発明のハロゲ
ン化銀写真感光材料は、保恒剤として亜硫酸イオンを充
分に(特に0.15モル/l以上)含んだ現像液を用い
ることができ、又、pHが10.0〜12.0の範囲の
現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることがで
きる。本発明の写真感光材料の処理において使用する現
像主薬としては、ジヒドロキシベンゼン類、3−ピラゾ
リドン類、アミノフェノール類等を単独或るいは組み合
せて用いることができる。現像液にはその他、アルカリ
金属の亜硫酸塩、炭酸塩、ホウ酸塩、及びリン酸塩等の
pH緩衝剤、臭化物、沃化物、及び有機カブリ防止剤
(好ましくは、ニトロインダゾール類又はベンゾトリア
ゾール類)等を含む事ができる。又、必要に応じて、硬
水軟化剤、溶解助剤、色調剤、現像促進剤、界面活性
剤、消泡剤、硬膜剤、フイルムの銀汚れ防止剤(例え
ば、2−メルカプトベンズイミダゾール類)等を含んで
いてもよい。定着液としては、一般に用いられている組
成のものを用いることができる。定着剤としては、チオ
硫酸塩、チオシアン酸塩の他、定着剤としての効果が知
られている有機硫黄化合物を用いることができる。又、
定着液は硬膜剤として水溶性アルミニウム塩等を含んで
いてもよい。
In order to obtain ultrahigh contrast photographic characteristics using the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention, the conventional lith developer or the pH described in US Pat. No. 2,419,975 is used.
It is not necessary to use a high alkali developer close to 13, and a stable developer can be used. That is, for the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention, a developer containing a sufficient amount of sulfite ions (particularly 0.15 mol / l or more) can be used as a preservative, and the pH is 10.0 to 10. A developer in the range of 12.0 can sufficiently obtain a super-high contrast negative image. As the developing agent used in the processing of the photographic light-sensitive material of the present invention, dihydroxybenzenes, 3-pyrazolidones, aminophenols and the like can be used alone or in combination. In addition to the above, the developing solution also includes pH buffers such as alkali metal sulfites, carbonates, borates, and phosphates, bromides, iodides, and organic antifoggants (preferably nitroindazoles or benzotriazoles). ) Etc. can be included. Also, if necessary, a water softener, a dissolution aid, a color tone agent, a development accelerator, a surfactant, a defoaming agent, a film hardener, a film silver stain inhibitor (for example, 2-mercaptobenzimidazoles). Etc. may be included. As the fixing solution, those having a commonly used composition can be used. As the fixing agent, in addition to thiosulfates and thiocyanates, organic sulfur compounds known to be effective as a fixing agent can be used. or,
The fixer may contain a water-soluble aluminum salt or the like as a hardening agent.

【0112】[0112]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を説明する。 実施例1 55°Cに保ったゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液と、
塩化ナトリウム・臭化カリウムの混合溶液(銀1モル当
たり5×10-7モルの六塩化イリジウム(III)酸カ
リウムと2×10-7モルの六塩化ロジウム(III)酸
アンモニウムを含む)をダブルジェット法により60分
かけて添加混合し、平均粒子サイズ0.3μmの単分散
立方体からなる塩臭化銀乳剤(臭化銀含有率30モル
%)を調製した。粒子形成後、常法により水洗し、可溶
性塩類を除去した。次いで、ゼラチンを加え、更に、塩
化ナトリウム、臭化カリウム、水酸化ナトリウムを添加
して、pAgを7.6、pHを6.0となるように調整
した後、銀1モル当たりチオ硫酸ナトリウムを2×10
-5モル、カリウムクロロオーライトを3×10-5モル添
加し、60°Cで40分間化学増感を施した。安定剤と
して、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7
−テトラザインデンを銀1モル当たり5×10-3モル加
えた。更に、本発明の化合物を表1に示すように加え
た。
EXAMPLES The present invention will be described below based on examples. Example 1 An aqueous solution of silver nitrate in an aqueous solution of gelatin maintained at 55 ° C.
Double mixed solution of sodium chloride and potassium bromide (containing 5 × 10 -7 mole of potassium hexachloride iridate (III) and 2 × 10 -7 mole of ammonium hexachloride rhodium (III) per mole of silver) The mixture was added and mixed by a jet method over 60 minutes to prepare a silver chlorobromide emulsion (silver bromide content: 30 mol%) composed of a monodisperse cube having an average particle size of 0.3 μm. After the particles were formed, the particles were washed with water by a conventional method to remove soluble salts. Next, gelatin was added, and further, sodium chloride, potassium bromide, and sodium hydroxide were added to adjust the pAg to 7.6 and the pH to 6.0, and then sodium thiosulfate was added per mole of silver. 2 × 10
-5 mol, 3 × 10 -5 mol of potassium chloroaulite was added, and the mixture was subjected to chemical sensitization at 60 ° C. for 40 minutes. 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7 as a stabilizer
-5 × 10 -3 mole per mole of silver of tetrazaindene was added. Further, the compounds of the present invention were added as shown in Table 1.

【0113】更に、5−メチルベンゾトリアゾールを銀
1モル当たり3×10-3モル、1−フェニルー5−メル
カプトテトラゾールを銀1モル当たり4×10-4モル、
ポリマーラテックスとして特公昭45−5331号公報
の製造処方3に記載のポリエチルアクリレート化合物を
1m2当たり0.8g、塗布助剤としてp−ドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウムを1m2当たり40mg、
硬膜剤として1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパ
ノールを1m2当たり100mgとなるように添加し
た。調製された乳剤はポリエチレンテレフタレート支持
体上に1m2当たり3.2gの銀量になるように、下記
保護層と2層同時塗布した。ハロゲン化銀乳剤層の上層
の保護層は、ゼラチンを1m2当たり1.2gとなるよ
うにし、保護層中にはマット剤として平均粒子径3.4
μmのポリメチルメタアクリレート、シリコンオイル、
p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等を含有さ
せた。この様にして表1に示す試料1〜7を作製した。
Further, 5-methylbenzotriazole is 3 × 10 -3 mol per mol of silver, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole is 4 × 10 -4 mol per mol of silver,
The polyethyl acrylate compounds 1 m 2 per 0.8g described in Preparation Formulation 3 of Japanese Patent Publication 45-5331 discloses a polymer latex, a p- sodium dodecylbenzenesulfonate as a coating aid 1 m 2 per 40 mg,
As a hardening agent, 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol was added so as to be 100 mg / m 2 . The prepared emulsion was coated on a polyethylene terephthalate support simultaneously with the following protective layer so that the amount of silver was 3.2 g per 1 m 2 . The protective layer overlying the silver halide emulsion layer had a gelatin content of 1.2 g / m 2 , and the protective layer had a mean particle size of 3.4 as a matting agent.
μm polymethyl methacrylate, silicone oil,
Sodium p-dodecylbenzenesulfonate and the like were contained. Thus, Samples 1 to 7 shown in Table 1 were produced.

【0114】[0114]

【表1】 [Table 1]

【0115】これらの試料を光楔下で露光し、下記組成
の現像液で、35°C、30秒間現像し、定着、水洗、
乾燥を行った。 水 700ml EDTA・2Na塩 0.6g フェニドン 1.2g 亜硫酸カリウム(55%水溶液) 120ml ハイドロキノン 18g ベンゾトリアゾール 0.3g 臭化カリウム 2.5g 炭酸カリウム 7.0g 水酸化カリウム 35.0g 水を加えて1000mlとする。pH=11.75 得られた結果を表2に示す。画像のコントラストを示す
指標として、特性曲線のカブリ+0.3の濃度の点か
ら、カブリ+3.0の濃度の点を直線で結び、この直線
の傾きをγ値として表した。相対感度は、濃度1.5を
与える露光量の逆数の相対値を試料1を100として表
した。
These samples were exposed under a light wedge, developed with a developer having the following composition at 35 ° C. for 30 seconds, fixed, washed with water,
Drying was performed. Water 700 ml EDTA · 2Na salt 0.6 g Phenidone 1.2 g Potassium sulfite (55% aqueous solution) 120 ml Hydroquinone 18 g Benzotriazole 0.3 g Potassium bromide 2.5 g Potassium carbonate 7.0 g Potassium hydroxide 35.0 g Add water to 1000 ml And pH = 11.75 The results obtained are shown in Table 2. As an index indicating the contrast of the image, a point at a density of fog + 3.0 was connected to a point at a density of fog + 3.0 by a straight line from a point at a density of fog + 0.3 on the characteristic curve, and the slope of this straight line was represented as a γ value. As for the relative sensitivity, the relative value of the reciprocal of the exposure amount giving a density of 1.5 was represented by setting Sample 1 to 100.

【0116】[0116]

【表2】 [Table 2]

【0117】表2の結果より、本発明の試料4〜7は、
相対感度及びγ値が高いことがわかる。 実施例2 実施例1において、表3に示すように本発明の化合物を
添加し、試料8〜13を作製した。
From the results of Table 2, Samples 4 to 7 of the present invention are
It can be seen that the relative sensitivity and the γ value are high. Example 2 In Example 1, the compounds of the present invention were added as shown in Table 3 to prepare Samples 8 to 13.

【0118】[0118]

【表3】 [Table 3]

【0119】これらの試料を光楔下で露光し、下記組成
の現像液で、35°C、30秒間現像し、定着、水洗、
乾燥を行った。 水 700ml 亜硫酸カリウム(55%水溶液) 125ml EDTA・4Na塩 1.2g 水酸化カリウム(48%水溶液) 9.2ml 臭化カリウム 3.3g ジエチレングリコール 50ml ハイドロキノン 20g 無水炭酸カリウム 23g ハイドロキノンスルホン酸カリウム 1.7g ジメゾンS 1.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.15g スラッジ防止剤(化合物A) 2.7g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g 水を加えて1000mlとする。pH=10.50
These samples were exposed under an optical wedge to obtain the following composition.
Develop at 35 ° C for 30 seconds with a developing solution, fix, wash with water,
Drying was performed. Water 700 ml potassium sulfite (55% aqueous solution) 125 ml EDTA / 4Na salt 1.2 g potassium hydroxide (48% aqueous solution) 9.2 ml potassium bromide 3.3 g diethylene glycol 50 ml hydroquinone 20 g anhydrous potassium carbonate 23 g potassium hydroquinone sulfonate 1.7 g dimesone S 1.0 g 5-methylbenzotriazole 0.15 g Sludge inhibitor (Compound A)   2.7 g 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 0.02 g Add water to make 1000 ml. pH = 10.50

【0120】[0120]

【化89】 Embedded image

【0121】得られた結果を表4に示す。The results obtained are shown in Table 4.

【0122】[0122]

【表4】 [Table 4]

【0123】表4の結果より、本発明の試料10〜13
は、相対感度及びγ値が高いことがわかる。
From the results of Table 4, Samples 10 to 13 of the present invention
Indicates that the relative sensitivity and the γ value are high.

【0124】[0124]

【発明の効果】本発明の一般式(I)の化合物と一般式
(II)、(III)、(IV)、(V)、(VI)及
び(VII)の化合物から選ばれる化合物とを含有する
ハロゲン化銀写真感光材料は、高いγ値及び高い感度を
有し、本発明のハロゲン化銀写真感光材料を使用するこ
とにより、超硬調の画像を形成することができる。
EFFECT OF THE INVENTION Containing a compound of the general formula (I) of the present invention and a compound selected from compounds of the general formulas (II), (III), (IV), (V), (VI) and (VII) The silver halide photographic light-sensitive material has a high γ value and high sensitivity, and a super-high contrast image can be formed by using the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層及び少なくとも一層のその他の親水性コロイド
層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロ
ゲン化銀乳剤層及び/又は該その他の親水性コロイド層
が、下記一般式(I)で示される化合物の少なくとも一
種と一般式(II)、(III)、(IV)、(V)、
(VI)及び(VII)で表される化合物の少なくとも
一種を含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料。 【化1】 式中、R1は置換又は無置換のアリール基又は置換又は
無置換ヘテロ環基を表し、M1はアルカリ金属原子又は
アルカリ土類金属原子を表す。n1は1又は2の整数を
表し、M1が1価の原子の時は1、M1が2価の原子の時
は2を表す。 【化2】 式中、Y1はハロゲン化銀に吸着する基を表す。X1は水
素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から
選ばれた原子又は原子群よりなる2価の連結基を表す。
1は2価の連結基を表す。B1はアミノ基、アンモニウ
ム基又は含窒素ヘテロ環を表し、アミノ基は置換されて
いてもよい。m1は1、2又は3を表し、n2は0又は1
を表す。 【化3】 式中、R2、R3は各々水素原子又は脂肪族残基を表す。
2、R3は互いに結合して環を形成してもよい。R4
2価の脂肪族基を表す。X2は窒素原子、酸素原子又は
硫黄原子を含む2価のヘテロ環を表す。n3は0又は1
を表す。M2は水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類
金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又はア
ミジノ基を表す。 【化4】 式中、R5、R6は各々水素原子、炭素数1〜30のアル
キル基、炭素数3〜30のアルケニル基又は炭素数7〜
30のアラルキル基を表す。又、R5とR6は同時に水素
原子を表すことはなく、互いに結合して環を形成しても
よい。n4は2〜50の整数を表す。R7、R8、R9及び
10は各々水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表
す。 【化5】 式中、R5とR6は一般式(IV)におけると同じであ
り、R11とR12はR5とR6と同じである。n5は2〜5
0の整数を表す。 【化6】 式中、X1、Y1、B1は一般式(II)におけると同じ
であり、A2は少なくとも2つのアルキレンオキシユニ
ットを有する2価の連結基を表す。m2は1、2又は3
を表し、n6は0又は1を表す。 【化7】 式中、R13、R14、R15はアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基、
ヘテロ環残基を表し、これらはさらに置換基を有してい
てもよい。m3は整数を表し、LはP原子とその炭素原
子で結合するm3価の有機基を表し、n7は1ないし3の
整数を表し、X3はn7価の陰イオンを表し、X3はLと
連結していてもよい。
1. A silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer and at least one other hydrophilic colloid layer on a support, the silver halide emulsion layer and / or the other hydrophilic layer. The colloidal layer comprises at least one compound represented by the following general formula (I) and general formulas (II), (III), (IV), (V),
A silver halide photographic material comprising at least one of the compounds represented by (VI) and (VII). Embedded image In the formula, R 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and M 1 represents an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom. n 1 represents an integer of 1 or 2, when when M 1 is a monovalent atom 1, M 1 is a divalent atom represents 2. Embedded image In the formula, Y 1 represents a group adsorbed on silver halide. X 1 represents a divalent linking group composed of an atom or a group of atoms selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
A 1 represents a divalent linking group. B 1 represents an amino group, an ammonium group or a nitrogen-containing heterocycle, and the amino group may be substituted. m 1 represents 1 , 2 or 3, and n 2 is 0 or 1
Represents Embedded image In the formula, R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom or an aliphatic residue.
R 2 and R 3 may combine with each other to form a ring. R 4 represents a divalent aliphatic group. X 2 represents a divalent heterocycle containing a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom. n 3 is 0 or 1
Represents M 2 represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt or an amidino group. Embedded image In the formula, R 5 and R 6 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 30 carbon atoms or 7 to 7 carbon atoms.
Represents 30 aralkyl groups. Further, R 5 and R 6 do not represent hydrogen atoms at the same time, and may be bonded to each other to form a ring. n 4 represents an integer of 2 to 50. R 7 , R 8 , R 9 and R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Embedded image In the formula, R 5 and R 6 are the same as in the general formula (IV), and R 11 and R 12 are the same as R 5 and R 6 . n 5 is 2-5
Represents an integer of 0. [Chemical 6] In the formula, X 1 , Y 1 and B 1 are the same as in the general formula (II), and A 2 represents a divalent linking group having at least two alkyleneoxy units. m 2 is 1, 2 or 3
And n 6 represents 0 or 1. Embedded image In the formula, R 13 , R 14 and R 15 are an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group,
It represents a heterocyclic residue, which may further have a substituent. m 3 represents an integer, L represents an m 3 -valent organic group bonded to a P atom and its carbon atom, n 7 represents an integer of 1 to 3, X 3 represents an n 7 -valent anion, X 3 may be linked to L.
【請求項2】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層及び少なくとも一層のその他の親水性コロイド
層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層及び/又は該その他の
親水性コロイド層が、下記一般式(I)で示される化合
物の少なくとも一種と一般式(II)、(III)、
(IV)、(V)、(VI)及び(VII)で表される
化合物の少なくとも一種を含むハロゲン化銀写真感光材
料を、水性アルカリ現像液で処理することを特徴とする
画像形成方法。 【化8】 式中、R1は置換又は無置換のアリール基又は置換又は
無置換ヘテロ環基を表し、M1はアルカリ金属原子又は
アルカリ土類金属原子を表す。n1は1又は2の整数を
表し、M1が1価の原子の時は1、M1が2価の原子の時
は2を表す。 【化9】 式中、Y1はハロゲン化銀に吸着する基を表す。X1は水
素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から
選ばれた原子又は原子群よりなる2価の連結基を表す。
1は2価の連結基を表す。B1はアミノ基、アンモニウ
ム基又は含窒素ヘテロ環を表し、アミノ基は置換されて
いてもよい。m1は1、2又は3を表し、n2は0又は1
を表す。 【化10】 式中、R2、R3は各々水素原子又は脂肪族残基を表す。
2、R3は互いに結合して環を形成してもよい。R4
2価の脂肪族基を表す。X2は窒素原子、酸素原子又は
硫黄原子を含む2価のヘテロ環を表す。n3は0又は1
を表す。M2は水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類
金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又はア
ミジノ基を表す。 【化11】 式中、R5、R6は各々水素原子、炭素数1〜30のアル
キル基、炭素数3〜30のアルケニル基又は炭素数7〜
30のアラルキル基を表す。又、R5とR6は同時に水素
原子を表すことはなく、互いに結合して環を形成しても
よい。n4は2〜50の整数を表す。R7、R8、R9及び
10は各々水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表
す。 【化12】 式中、R5とR6は一般式(IV)におけると同じであ
り、R11とR12はR5とR6と同じである。n5は2〜5
0の整数を表す。 【化13】 式中、X1、Y1、B1は一般式(II)におけると同じ
であり、A2は少なくとも2つのアルキレンオキシユニ
ットを有する2価の連結基を表す。m2は1、2又は3
を表し、n6は0又は1を表す。 【化14】 式中、R13、R14、R15はアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基、
ヘテロ環残基を表し、これらはさらに置換基を有してい
てもよい。m3は整数を表し、LはP原子とその炭素原
子で結合するm3価の有機基を表し、n7は1ないし3の
整数を表し、X3はn7価の陰イオンを表し、X3はLと
連結していてもよい。
2. A support having at least one silver halide emulsion layer and at least one other hydrophilic colloid layer, wherein the silver halide emulsion layer and / or the other hydrophilic colloid layer are as follows: At least one compound represented by general formula (I) and general formulas (II), (III),
An image forming method comprising processing a silver halide photographic material containing at least one of the compounds represented by (IV), (V), (VI) and (VII) with an aqueous alkaline developer. Embedded image In the formula, R 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and M 1 represents an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom. n 1 represents an integer of 1 or 2, when when M 1 is a monovalent atom 1, M 1 is a divalent atom represents 2. Embedded image In the formula, Y 1 represents a group adsorbed on silver halide. X 1 represents a divalent linking group composed of an atom or a group of atoms selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
A 1 represents a divalent linking group. B 1 represents an amino group, an ammonium group or a nitrogen-containing heterocycle, and the amino group may be substituted. m 1 represents 1 , 2 or 3, and n 2 is 0 or 1
Represents Embedded image In the formula, R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom or an aliphatic residue.
R 2 and R 3 may combine with each other to form a ring. R 4 represents a divalent aliphatic group. X 2 represents a divalent heterocycle containing a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom. n 3 is 0 or 1
Represents M 2 represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt or an amidino group. Embedded image In the formula, R 5 and R 6 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 30 carbon atoms or 7 to 7 carbon atoms.
Represents 30 aralkyl groups. Further, R 5 and R 6 do not represent hydrogen atoms at the same time, and may be bonded to each other to form a ring. n 4 represents an integer of 2 to 50. R 7 , R 8 , R 9 and R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Embedded image In the formula, R 5 and R 6 are the same as in the general formula (IV), and R 11 and R 12 are the same as R 5 and R 6 . n 5 is 2-5
Represents an integer of 0. Embedded image In the formula, X 1 , Y 1 and B 1 are the same as in the general formula (II), and A 2 represents a divalent linking group having at least two alkyleneoxy units. m 2 is 1, 2 or 3
And n 6 represents 0 or 1. Embedded image In the formula, R 13 , R 14 and R 15 are an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group,
It represents a heterocyclic residue, which may further have a substituent. m 3 represents an integer, L represents an m 3 -valent organic group bonded to a P atom and its carbon atom, n 7 represents an integer of 1 to 3, X 3 represents an n 7 -valent anion, X 3 may be linked to L.
【請求項3】 水性アルカリ現像液のpHが10.0か
ら12.0の範囲であることを特徴とする請求項2記載
の画像形成方法。
3. The image forming method according to claim 2, wherein the pH of the aqueous alkaline developer is in the range of 10.0 to 12.0.
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