JPH09231771A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH09231771A
JPH09231771A JP8041147A JP4114796A JPH09231771A JP H09231771 A JPH09231771 A JP H09231771A JP 8041147 A JP8041147 A JP 8041147A JP 4114796 A JP4114796 A JP 4114796A JP H09231771 A JPH09231771 A JP H09231771A
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level
circuit
potential
bit lines
sense amplifier
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Junichiro Oyama
純一郎 大山
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NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To speed up the read operation and reduce the power consumption. SOLUTION: The memory device is provided with a detecting circuit 14 which detects, at the read time, a minute potential difference of a pair of selected bit lines SBL1, SBL2 and generates potential difference detection signals BVD, BVD' of an activation level. A sense amplifier 13 is of a type of a flip- flop circuit directly controlled by the BVD. Moreover, the memory device has a selection row connection-controlling circuit 11 which separates the sense amplifier 13 from the pair of selected bit lines when the sense amplifier operates. A word line-driving circuit 7 is directly controlled by the BVD', thereby to speed up a changing timing for a non-selection level of a word line WL.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
し、特に同期信号に同期して内部回路の動作を制御する
同期型,スタティック型の半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a synchronous type or static type semiconductor memory device which controls the operation of an internal circuit in synchronization with a synchronizing signal.

【0002】[0002]

【従来の技術】同期信号に同期して内部回路の動作を制
御する同期型,スタティック型の半導体記憶装置には、
外部からのクロック信号を同期信号とするものや、外部
からのアドレス信号のアドレス値の変化を検出して同期
信号を発生し、この同期信号を用いて内部回路の動作を
制御するものなどがある。これらの半導体記憶装置にお
いては、メモリセルに記憶されているデータの読出し時
間を短縮し、また消費電力を低減するために、メモリセ
ルから読出されたデータをセンス増幅し、このセンス増
幅したデータが所定のレベルに到達すると、センス増幅
器を非活性化すると共にワード線を非選択レベルにする
技術が用いられるようになってきた。
2. Description of the Related Art A synchronous or static semiconductor memory device for controlling the operation of an internal circuit in synchronization with a sync signal is
There are those that use a clock signal from the outside as the synchronization signal, and those that detect changes in the address value of the address signal from the outside to generate a synchronization signal and use this synchronization signal to control the operation of internal circuits. . In these semiconductor memory devices, in order to shorten the read time of the data stored in the memory cell and reduce the power consumption, the data read from the memory cell is sense-amplified, and the sense-amplified data is When a predetermined level is reached, the technique of deactivating the sense amplifier and setting the word line to the non-selected level has been used.

【0003】このような技術を用いた外部クロック信号
による同期型,スタティック型の半導体記憶装置の代表
的な一例(第1の例)を図5に示す。
FIG. 5 shows a typical example (first example) of a synchronous or static semiconductor memory device using an external clock signal using such a technique.

【0004】この半導体記憶装置は、行方向,列方向に
マトリクス状に配置されたスタティック型の複数のメモ
リセル、これら複数のメモリセルの各行それぞれと対応
して設けられ選択レベルのとき対応する行のメモリセル
を選択状態とする複数のワード線WL、及び上記複数の
メモリセルの各列それぞれと対応して設けられ選択状態
のメモリセルのデータを伝達する複数対の第1,第2の
ビット線BL1,BL2を含むメモリセルアレイ1と、
プリチャージ信号PCに従って複数対の第1,第2のビ
ット線BL1,BL2を所定のレベルにプリチャージす
るビット線プリチャージ回路3と、データ読出し制御信
号RDCが活性化レベルのとき行アドレス信号ADrに
従って複数のワード線のうちの1本を選択レベルとする
行デコーダ6及びワード線駆動回路7と、列アドレス信
号ADcに従って複数対の第1,第2のビット線BL
1,BL2のうちの1対を選択する(選択ビット線SB
L1,SBL2)列デコーダ9及び列選択回路10と、
データ読出し制御信号RDCの活性化レベルに応答して
活性化し選択ビット線SBL1,SBL2に伝達された
データを増幅するセンス増幅器13xと、このセンス増
幅器13xの2つの出力端をデータ読出し制御信号RD
Cの非活性化レベルのとき所定のレベルにプリチャージ
するセンス増幅出力プリチャージ回路18と、センス増
幅器13xの出力信号のレベル(2つの出力端間の信号
レベル差)が所定の値より大きいときに活性化レベルと
なるセンス増幅電位差検出信号SVDxを出力するセン
ス増幅電位差検出回路19と、読出し信号RDが活性化
レベルのとき外部からのクロック信号CKの高レベルに
応答して活性化レベルとなりセンス増幅電位差検出信号
SVDxの非活性化レベルへの変化から所定時間後に非
活性化レベルとなるデータ読出し制御信号RDCを出力
するデータ読出し制御回路21と、データ読出し制御信
号RDCに従ってセンス増幅されたデータを取込んで保
持し出力するデータラッチ出力バッファ回路20と、ク
ロック信号CKに応答してプリチャージ信号PCを発生
するプリチャージ制御回路2と、クロック信号CKに従
って行アドレス信号ADrを取込み行デコーダ6に供給
する行アドレスバッファ回路4と、クロック信号CKに
従って行デコーダ6の動作を制御する行デコーダ制御回
路5と、クロック信号CKに従って列アドレス信号AD
cを取込み列デコーダ9に供給する列アドレスバッファ
回路8とを有する構成となっている。
This semiconductor memory device includes a plurality of static type memory cells arranged in a matrix in the row and column directions, and a row provided corresponding to each row of the plurality of memory cells and corresponding row at the selection level. A plurality of word lines WL which bring the memory cell of the selected state into a selected state, and a plurality of pairs of first and second bits which are provided corresponding to the respective columns of the plurality of memory cells and which transmit the data of the memory cell of the selected state A memory cell array 1 including lines BL1 and BL2;
A bit line precharge circuit 3 that precharges a plurality of pairs of first and second bit lines BL1 and BL2 to a predetermined level according to a precharge signal PC, and a row address signal ADr when the data read control signal RDC is at an activation level. According to the column address signal ADc, a row decoder 6 and a word line drive circuit 7 which set one of the plurality of word lines to a selection level, and a plurality of pairs of first and second bit lines BL
1, a pair of BL2 is selected (selected bit line SB
L1, SBL2) a column decoder 9 and a column selection circuit 10,
A sense amplifier 13x which is activated in response to the activation level of the data read control signal RDC and amplifies the data transmitted to the selected bit lines SBL1 and SBL2, and two output terminals of the sense amplifier 13x are connected to the data read control signal RD.
When the level of the output signal of the sense amplification output precharge circuit 18 which precharges to a predetermined level when the deactivation level of C and the level of the output signal of the sense amplifier 13x (signal level difference between two output terminals) is larger than a predetermined value. A sense amplification potential difference detection circuit 19 which outputs a sense amplification potential difference detection signal SVDx which becomes an activation level, and a sense signal which becomes an activation level in response to a high level of an external clock signal CK when the read signal RD is an activation level. The data read control circuit 21 that outputs the data read control signal RDC that becomes the inactive level after a predetermined time from the change of the amplified potential difference detection signal SVDx to the inactive level, and the data sense-amplified according to the data read control signal RDC. The data latch output buffer circuit 20 that captures, holds and outputs the clock signal CK In response, the precharge control circuit 2 for generating the precharge signal PC, the row address buffer circuit 4 for supplying the row address signal ADr to the row decoder 6 according to the clock signal CK, and the row decoder 6 according to the clock signal CK are operated. The row decoder control circuit 5 for controlling and the column address signal AD according to the clock signal CK
The column address buffer circuit 8 which takes in c and supplies it to the column decoder 9 is provided.

【0005】なお、図5には、データの読出し動作に必
要な回路ブロックのみが示されており、データの書込み
動作に必要な回路ブロックは省略されている。
Note that FIG. 5 shows only the circuit blocks necessary for the data read operation, and the circuit blocks necessary for the data write operation are omitted.

【0006】図6はこの半導体記憶装置のセンス増幅器
13x,センス増幅電位差検出回路19,センス増幅出
力プリチャージ回路18,データ読出し制御回路21及
びデータラッチ出力バッファ回路20の具体的な回路例
を示す回路図である(例えば、特開平5−274885
号公報参照)。
FIG. 6 shows a concrete circuit example of the sense amplifier 13x, the sense amplification potential difference detection circuit 19, the sense amplification output precharge circuit 18, the data read control circuit 21 and the data latch output buffer circuit 20 of this semiconductor memory device. It is a circuit diagram (for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. H5-274885).
Reference).

【0007】センス増幅器13xは、データ読出し制御
信号RDCをゲートに受ける活性化制御用のトランジス
タQ25を共用する2つのカレントミラー回路型の演算
増幅器A1,A2から成り、データ読出し制御信号RD
Cが活性化レベル(高レベル)のとき選択ビット線SB
L1,SBL2のデータのレベルを検出して電源電位レ
ベル,接地電位レベルへと増幅する。センス増幅出力プ
リチャージ回路18は、トランジスタQ36,Q37か
ら成り、データ読出し制御信号RDCが非活性化レベル
(低レベル)のときセンス増幅器13xの2つの出力端
を電源電位レベルにプリチャージする。
The sense amplifier 13x is composed of two current mirror circuit type operational amplifiers A1 and A2 which share a transistor Q25 for activation control which receives a data read control signal RDC at its gate.
Selected bit line SB when C is at the activation level (high level)
The data levels of L1 and SBL2 are detected and amplified to the power supply potential level and the ground potential level. The sense amplification output precharge circuit 18 includes transistors Q36 and Q37, and precharges the two output terminals of the sense amplifier 13x to the power supply potential level when the data read control signal RDC is at the inactivation level (low level).

【0008】センス増幅電位差検出回路19は、インバ
ータIV21,IV22及びNOR型の論理ゲートG2
1から成り、センス増幅器13xによる増幅出力SN
1,SN2(以下、センス増幅出力SN1,SN2とい
う)の電位差が所定のレベル(通常は高レベル,低レベ
ルの中間レベル、すなわち、電源電位の1/2のレベ
ル)になると活性化レベル(低レベル)のセンス増幅電
位差検出信号SVDxを出力する。従ってこの回路は、
2つの入力データのレベルが共に高レベル側又は共に低
レベル側のときは高レベル、一方が高レベルで他方が低
レベルのときは低レベルとなるEX−NOR回路であ
る。
The sense amplification potential difference detection circuit 19 includes inverters IV21 and IV22 and a NOR type logic gate G2.
1 and the amplified output SN by the sense amplifier 13x
When the potential difference between SN1 and SN2 (hereinafter referred to as sense amplification outputs SN1 and SN2) reaches a predetermined level (usually an intermediate level between high level and low level, that is, half the power supply potential), the activation level (low level) The level) sense amplified potential difference detection signal SVDx is output. So this circuit
It is an EX-NOR circuit that becomes high level when the levels of two input data are both high level side or both low level side, and becomes low level when one is high level and the other is low level.

【0009】データ読出し制御回路21は、遅延素子D
21,NAND型の論理ゲートG22,G23及びイン
バータIV27,IV28から成り、読出し信号RDが
活性化レベル(高レベル)のとき、クロック信号CKの
高レベルに応答して高レベル、センス増幅電位差検出信
号SVDxの低レベルへの変化から遅延素子D21の遅
延時間だけ遅れて低レベルとなるデータ読出し制御信号
RDCを発生する。
The data read control circuit 21 includes a delay element D.
21, NAND type logic gates G22 and G23 and inverters IV27 and IV28, and when the read signal RD is at the activation level (high level), in response to the high level of the clock signal CK, the high level and the sense amplification potential difference detection signal. The data read control signal RDC which becomes low level is generated with a delay of the delay time of the delay element D21 from the change of SVDx to low level.

【0010】次にこの半導体記憶装置の動作について、
図7に示されたタイミング図及び図5,図6を併せて参
照し説明する。
Next, regarding the operation of this semiconductor memory device,
Description will be made with reference to the timing chart shown in FIG. 7 and FIGS.

【0011】まず、時刻t0において、クロック信号C
Kが高レベルであり、行デコーダ制御信号XE,プリチ
ャージ信号PCは高レベル、ワード線WLは低レベル
(非選択レベル)、選択ビット線SBL1,SBL2は
前のサイクルで読出されたデータがそのまま残ってお
り、センス増幅出力SN1,SN2は電源電位(Vc
c)レベルにプリチャージされている。また、センス増
幅電位差検出信号SVDxはセンス増幅出力SN1,S
N2が共に高レベル(電源電位レベル)であるので高レ
ベル、データ読出し制御回路21の節点N1,N2は前
のサイクルによってそれぞれ低レベル,高レベルとなっ
ており、その出力のデータ読出し制御信号RDCは低レ
ベルとなっている。
First, at time t0, the clock signal C
K is at a high level, the row decoder control signal XE and the precharge signal PC are at a high level, the word line WL is at a low level (non-selection level), and the selected bit lines SBL1 and SBL2 are the same as the data read in the previous cycle. The sense amplification outputs SN1 and SN2 remain, and the power supply potential (Vc
c) Precharged to level. The sense amplification potential difference detection signal SVDx is the sense amplification outputs SN1 and S.
Since both N2 are at a high level (power supply potential level), a high level, the nodes N1 and N2 of the data read control circuit 21 are at a low level and a high level, respectively, in the previous cycle, and the output data read control signal RDC. Is at a low level.

【0012】時刻t1においてクロック信号CKが低レ
ベルへと変化すると、まず、プリチャージ信号PCが低
レベルの活性化レベルとなり、ビット線プリチャージ回
路3によって複数対のビット線BL1,BL2は全て電
源電位Vccレベルにプリチャージされ、列選択回路1
0による選択ビット線SBL1,SBL2も電源電位V
ccレベルにプリチャージされる。また、データ読出し
制御回路21の節点N2(以下単に節点N2という、N
1についても同様)は低レベルへと変化する。続いて行
デコーダ制御信号XEを非活性化レベル(低レベル)と
して行デコーダ6を非活性化しておく。また、この時点
になると、遅延素子D21の遅延時間tdを経てセンス
増幅電位差検出信号SVDxの立上りが現れ、節点N1
も高レベルとなる。
When the clock signal CK changes to the low level at the time t1, first, the precharge signal PC becomes the activation level of the low level, and the bit line precharge circuit 3 causes the plurality of pairs of bit lines BL1 and BL2 to be powered. The column selection circuit 1 is precharged to the potential Vcc level.
The bit line SBL1, SBL2 selected by 0 is also the power supply potential V
Precharged to cc level. Further, the node N2 of the data read control circuit 21 (hereinafter referred to simply as node N2, N2)
The same applies to 1) changes to a low level. Then, the row decoder 6 is inactivated by setting the row decoder control signal XE to the inactivation level (low level). Further, at this time point, the rising of the sense amplification potential difference detection signal SVDx appears after the delay time td of the delay element D21, and the node N1.
Will also be at a high level.

【0013】時刻t2においてクロック信号CKが高レ
ベルへと変化すると、まず、プリチャージ信号PCが高
レベル(非活性レベル)となって複数対のビット線BL
1,BL2全て(選択ビット線SBL1,SBL2を含
む)のプリチャージを停止し、また、節点N2は高レベ
ルとなる。節点N2が高レベルに変化すると、節点N1
は高レベルのままであるので、データ読出し制御信号R
DCが高レベルの活性化レベルとなる(時刻t3)。ま
たこの時点になると行デコーダ制御信号XEも活性化レ
ベルとなり行デコーダ6は活性化し、行アドレス信号A
Drをデコードしてワード線駆動回路7へ出力する。
When the clock signal CK changes to a high level at time t2, first, the precharge signal PC becomes a high level (inactive level) and a plurality of pairs of bit lines BL.
The precharge of all 1 and BL2 (including the selected bit lines SBL1 and SBL2) is stopped, and the node N2 becomes high level. When the node N2 changes to a high level, the node N1
Remains high, the data read control signal R
DC becomes a high level activation level (time t3). At this point, the row decoder control signal XE also becomes the active level, the row decoder 6 is activated, and the row address signal A
It decodes Dr and outputs it to the word line drive circuit 7.

【0014】データ読出し制御信号RDCの活性化レベ
ルに応答して、時刻t4において、ワード線駆動回路7
により1本のワード線WLが選択レベルとなり、このワ
ード線WLと接続するメモリセルが選択状態となってそ
の記憶データがビット線BL1,BL2に読出される。
また、列選択回路10によって選択されたビット線(選
択ビット線にもメモリセルからのデータが伝達される。
また、データ読出し制御信号RDCの活性化レベルに応
答してセンス増幅器13xも活性化し、選択ビット線S
BL1,SBL2のデータのレベルを増幅する。
In response to the activation level of data read control signal RDC, word line drive circuit 7 is activated at time t4.
As a result, one word line WL becomes the selected level, the memory cell connected to this word line WL is brought into the selected state, and the stored data is read to the bit lines BL1 and BL2.
In addition, the bit line selected by the column selection circuit 10 (data from the memory cell is also transmitted to the selected bit line.
Further, the sense amplifier 13x is also activated in response to the activation level of the data read control signal RDC, and the selected bit line S
The data level of BL1 and SBL2 is amplified.

【0015】時刻t5において、センス増幅出力SN
1,SN2のうちの一方が高レベル側から低レベル側へ
と変化すると、センス増幅電位差検出信号SVDxが低
レベルへと変化し、この変化が、遅延素子D21の遅延
時間tdだけ経過した時刻t6において節点N1に伝達
され、データ読出し制御信号RDCを低レベルの非活性
化レベルとする。
At time t5, the sense amplification output SN
When one of SN1 and SN2 changes from the high level side to the low level side, the sense amplification potential difference detection signal SVDx changes to the low level, and this change occurs at time t6 when the delay time td of the delay element D21 elapses. At the node N1, the data read control signal RDC is set to a low level inactivation level.

【0016】データ読出し制御信号RDCの非活性化レ
ベルに応答して、センス増幅出力SN1,SN2は電源
電位Vccレベルにプリチャージされ、その結果、時刻
t7においてセンス増幅電位差検出信号SVDxは高レ
ベルへと変化する。また、この時点で、データ読出し制
御信号RDCに応答してワード線駆動回路7はワード線
WLを非選択レベルとする。
In response to the inactive level of the data read control signal RDC, the sense amplification outputs SN1 and SN2 are precharged to the power supply potential Vcc level, and as a result, the sense amplification potential difference detection signal SVDx goes high at time t7. And changes. At this point, the word line drive circuit 7 sets the word line WL to the non-selection level in response to the data read control signal RDC.

【0017】そして時刻t8においてクロック信号CK
が低レベルとなり、前述の時刻t1からの動作をくり返
えすことになる。
Then, at time t8, the clock signal CK
Becomes a low level, and the operation from the time t1 described above is repeated.

【0018】この半導体記憶装置においては、クロック
信号CKの低レベルの期間にビット線BL1,BL2
(SBL1,SBL2を含む)をプリチャージし、クロ
ック信号CKの高レベルへの変化に応答してメモリセル
の選択,選択メモリセルからのデータのセンス増幅を行
い、センス増幅出力SN1,SN2の高レベル,低レベ
ルが確定したことを検出して所定時間後、センス増幅の
停止,メモリセルの選択停止を行うようになっているの
で、データの読出し時間を短縮することができ、また、
カレントミラー回路型で形成されているために生じるセ
ンス増幅器13xに流れる電流の、流れる期間を短縮し
消費電力を低減することができる。
In this semiconductor memory device, the bit lines BL1 and BL2 are provided during the low level period of the clock signal CK.
(Including SBL1 and SBL2) are precharged, and in response to the change of the clock signal CK to the high level, the memory cell is selected and the data from the selected memory cell is sense-amplified. Sense amplification is stopped and memory cell selection is stopped after a predetermined time after the level and low level are determined, so that the data read time can be shortened.
It is possible to shorten the period in which the current flowing in the sense amplifier 13x, which occurs because it is formed of the current mirror circuit type, and reduce the power consumption.

【0019】次に、外部からのアドレス信号のアドレス
値の変化を検出して同期信号を発生し、この同期信号に
より内部回路を制御する半導体記憶装置の一例(第2の
例)を図8に示す(例えば、特開平1−300493号
公報参照)。
Next, FIG. 8 shows an example (second example) of a semiconductor memory device in which a change in the address value of an address signal from the outside is detected to generate a synchronizing signal, and the synchronizing circuit controls the internal circuit. (See, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 1-300493).

【0020】この半導体記憶装置においては、行アドレ
ス信号ADrのアドレス値が変化したことを検出して同
期信号ATDを発生するアドレス変化検出回路22が設
けられ、この同期信号ATDに従ってプリチャージ信号
PCを発生してビット線BL1,BL2のプリチャージ
を行い、また、センス増幅出力S1,S2の電位差を検
出してセンス増幅電位差検出信号STDを発生し、この
センス増幅電位差検出信号STDと同期信号ATDとか
らイネーブル信号ENAを作り出して行デコーダ6y,
センス増幅器13yの動作を制御するようになってい
る。
This semiconductor memory device is provided with an address change detection circuit 22 which detects a change in the address value of the row address signal ADr and generates a synchronization signal ATD, and the precharge signal PC is supplied in accordance with the synchronization signal ATD. When the bit lines BL1 and BL2 are generated, the bit lines BL1 and BL2 are precharged, and the potential difference between the sense amplification outputs S1 and S2 is detected to generate the sense amplification potential difference detection signal STD. The sense amplification potential difference detection signal STD and the synchronization signal ATD are generated. To generate an enable signal ENA from the row decoder 6y,
The operation of the sense amplifier 13y is controlled.

【0021】この半導体記憶装置(第2の例)における
イネーブル信号発生部23は、図5,図6に示された第
1の例のデータ読出し制御回路21に相当するので、ア
ドレス変化検出回路22によって同期信号ATDを発生
しこの同期信号ATDを用いて内部回路を制御して点
や、細部において相違点はあるが、基本的な動作は類似
している。従って、この第2の例に対する詳細な動作説
明は省略する。
Since the enable signal generator 23 in this semiconductor memory device (second example) corresponds to the data read control circuit 21 of the first example shown in FIGS. 5 and 6, the address change detection circuit 22 is shown. The basic operation is similar, although there is a difference in that a synchronization signal ATD is generated by this and an internal circuit is controlled by using this synchronization signal ATD, and in details. Therefore, detailed description of the operation of the second example is omitted.

【0022】なお、この第2の例の半導体記憶装置のセ
ンス増幅器13yは、図9に示すように、カレントミラ
ー回路型の3つの演算増幅器A1〜A3を組合せた構成
となっている。
As shown in FIG. 9, the sense amplifier 13y of the semiconductor memory device of the second example has a structure in which three current mirror circuit type operational amplifiers A1 to A3 are combined.

【0023】[0023]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置は、第1,第2の例とも、センス増幅電位差検
出回路19,19yが、通常のデータの“1”レベル,
“0”レベルを検知してEX−NOR,EX−OR演算
を行う回路となっているので、センス増幅出力SN1,
SN2/S1,S2のレベルが確定しないとセンス増幅
電位差検出信号SVDx,STDのレベルが確定せず、
そのレベル確定までの時間が長くなるため動作速度を速
くすることが困難であるという問題点があり、また、セ
ンス増幅器13x,13yがカレントミラー回路型とな
っているので、その動作期間を短かくしたとはいえ、そ
の期間中は動作電流が連続して流れており、消費電力が
増大するという問題点があるほか、データ保持機能やデ
ータ帰還機能がないので、センス増幅出力のレベルが確
定するまで、センス増幅器13x,13yに入力データ
を供給し続ける必要があり、やはり動作速度を速くする
ことが困難であるという問題点があり、更に、センス増
幅出力のレベルが確定してからセンス増幅電位差検出信
号のレベルが確定し、これによってワード線を非選択レ
ベルとするので、この間にビット線の片方のレベルは接
地電位(0V)まで低下し、このビット線を電源電位ま
でプリチャージするため、やはり消費電力が増大すると
いう問題点がある。
In the conventional semiconductor memory device described above, in both the first and second examples, the sense amplification potential difference detection circuits 19 and 19y are set to the normal data "1" level,
Since it is a circuit that performs the EX-NOR and EX-OR operations by detecting the "0" level, the sense amplification output SN1,
If the levels of SN2 / S1 and S2 are not determined, the levels of the sense amplification potential difference detection signals SVDx and STD are not determined,
There is a problem that it is difficult to increase the operating speed because the time until the level is determined becomes long, and the sense amplifiers 13x and 13y are of the current mirror circuit type, so that the operating period is short. However, during that period, the operating current is continuously flowing, which causes the problem of increased power consumption. In addition, since there is no data retention function or data feedback function, the level of the sense amplification output is fixed. Until then, it is necessary to continue supplying the input data to the sense amplifiers 13x and 13y, and it is also difficult to increase the operation speed. Further, after the level of the sense amplification output is fixed, the sense amplification potential difference is increased. Since the level of the detection signal is determined and the word line is set to the non-selection level by this, one level of the bit line is kept at the ground potential (0 V) during this period. Reduced, for precharging the bit lines to the power supply potential, there is a problem that also the power consumption is increased.

【0024】本発明の目的は、動作速度を速くすること
ができ、かつ消費電力を低減することができる半導体記
憶装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of increasing the operating speed and reducing the power consumption.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、行方向,列方向にマトリクス状に配置されたスタテ
ィック型の複数のメモリセル、これら複数のメモリセル
の各行それぞれと対応して設けられ選択レベルのとき対
応する行のメモリセルを選択状態とする複数のワード
線、及び前記複数のメモリセルの各列それぞれと対応し
て設けられ所定のタイミングで所定の電位にプリチャー
ジされかつ選択状態のメモリセルのデータを伝達する複
数対の第1,第2のビット線を含むメモリセルアレイ
と、所定のタイミングで活性化し前記複数対の第1,第
2のビット線のうちの選択された第1,第2のビット線
の電位を検出して増幅するフリップフロップ回路型のセ
ンス増幅器と、前記選択された第1,第2のビット線の
うちの一方のプリチャージ電位に対し他方の電位が前記
プリチャージ電位より微小電位だけ変化したことを検出
して活性化レベルの検知信号を発生する排他的論理和回
路型の選択ビット線対電位差検出回路とを備え、クロッ
ク信号の第1のレベルに応答して前記複数対の第1,第
2のビット線並びに前記センス増幅器の入出力端及び選
択ビット線対電位差検出回路の入力端をプリチャージ
し、前記クロック信号の第2のレベルに応答して前記複
数のワード線のうちの1本を選択レベルにし、この選択
レベルのワード線によって選択状態となったメモリセル
から読出され選択された第1,第2のビット線に伝達さ
れたデータの電位差を検出して活性化レベルの前記検知
信号を発生し、この検知信号の活性化レベルに応答して
前記センス増幅器を活性化すると共にこのセンス増幅器
と前記選択された第1,第2のビット線との間を切り離
し、かつ前記選択レベルのワード線を非選択レベルとす
るようにして構成されている。
A semiconductor memory device of the present invention is provided with a plurality of static type memory cells arranged in a matrix in a row direction and a column direction, and corresponding to each row of the plurality of memory cells. A plurality of word lines that select the memory cells of the corresponding row at the selected level and the respective columns of the plurality of memory cells, and are precharged and selected at a predetermined potential at a predetermined timing. A memory cell array including a plurality of pairs of first and second bit lines for transmitting data of a memory cell in a state, and a selected one of the plurality of pairs of first and second bit lines activated at a predetermined timing. A flip-flop circuit type sense amplifier that detects and amplifies the potentials of the first and second bit lines, and one of the selected first and second bit lines An exclusive OR circuit type selection bit line pair potential difference detection circuit for generating a detection signal of an activation level by detecting that the other potential has changed by a minute potential from the precharge potential with respect to the dipotential, In response to the first level of the clock signal, the plurality of pairs of the first and second bit lines, the input / output terminals of the sense amplifier and the input terminal of the selected bit line pair potential difference detection circuit are precharged, and the clock signal In response to the second level, the one of the plurality of word lines is set to the selection level, and the first and second read and selected from the memory cell selected by the word line of the selection level are selected. The potential difference of the data transmitted to the bit line is detected to generate the detection signal of the activation level, and the sense amplifier is activated in response to the activation level of the detection signal. First, disconnecting between the second bit line, and is configured by a word line of the selected level to the non-selected level, which is the selection and Nsu amplifier.

【0026】また、メモリセルアレイと、このメモリセ
ルアレイの複数対の第1,第2のビット線をクロック信
号の第1のレベルに応答して所定の期間所定の電位にプ
リチャージするプリチャージ制御回路及びビット線プリ
チャージ回路と、前記クロック信号の第2のレベルに応
答して行アドレス信号の指定するアドレスのワード線を
選択レベルとし検知信号の活性化レベルに応答して非選
択レベルとする行デコーダ制御回路,行デコーダ及びワ
ード線駆動回路と、列アドレス信号の指定するアドレス
の第1,第2のビット線を選択する列デコーダ及び列選
択回路と、前記検知信号が活性化レベルのとき活性化し
前記列デコーダ及び列選択回路で選択された第1,第2
のビット線の電位を検知して増幅するセンス増幅器と、
前記検出信号を発生する選択ビット線対電位差検出回路
と、前記検出信号の活性化レベルに応答して前記センス
増幅器と前記選択された第1,第2のビット線との間を
切り離す選択列接続制御回路と、前記クロック信号の第
1のレベルに応答して前記センス増幅器の入出力端及び
選択ビット線対電位差検出回路の入力端を所定の期間所
定の電位にプリチャージするセンス増幅器プリチャージ
回路とを有して構成される。
A precharge control circuit for precharging a memory cell array and a plurality of pairs of first and second bit lines of the memory cell array to a predetermined potential for a predetermined period in response to a first level of a clock signal. And a bit line precharge circuit and a row in which a word line of an address designated by a row address signal is set to a selection level in response to a second level of the clock signal and a non-selection level is set in response to an activation level of a detection signal. A decoder control circuit, a row decoder and a word line drive circuit, a column decoder and a column selection circuit for selecting the first and second bit lines of an address designated by a column address signal, and activation when the detection signal is at an activation level. First and second selected by the column decoder and column selection circuit
A sense amplifier that detects and amplifies the potential of the bit line of
A selected bit line pair potential difference detection circuit that generates the detection signal, and a selected column connection that disconnects between the sense amplifier and the selected first and second bit lines in response to an activation level of the detection signal. A control circuit and a sense amplifier precharge circuit for precharging an input / output terminal of the sense amplifier and an input terminal of the selected bit line pair potential difference detection circuit to a predetermined potential for a predetermined period in response to a first level of the clock signal. And is configured.

【0027】また、選択ビット線対電位差検出回路を、
それぞれプリチャージ電位より微小電位だけ小さいしき
い値電圧をもち入力端に選択された第1,第2のビット
線からの電位を対応して受ける第1及び第2のインバー
タと、第1の入力端を前記第1のインバータの入力端と
接続し第2の入力端を前記第2のインバータの出力端と
接続する第1のNANDゲートと、第1の入力端を前記
第2のインバータの入力端と接続し第2の入力端を前記
第1のインバータの出力端と接続する第2のNANDゲ
ートと、第1及び第2の入力端を前記第1及び第2のN
ANDゲートの出力端と対応接続する第3のNANDゲ
ートとを備え、前記第3のNANDゲートの出力端から
検出信号を出力する回路として構成するか、選択ビット
線対電位差検出回路を、第1及び第2のインバータに代
えて、プリチャージ電位より微小電位だけ小さいしきい
値電圧をもち第1及び第2の入力端に選択された第1,
第2のビット線からの電位を対応して受け出力端を第1
のNANDゲートの第2の入力端及び第2のNANDゲ
ートの第2の入力端と接続する第4のNANDゲートを
設けて構成される。
Further, the selected bit line pair potential difference detection circuit is
First and second inverters, each having a threshold voltage smaller than the precharge potential by a minute potential and receiving corresponding potentials from the first and second bit lines selected at the input terminals, and a first input A first NAND gate having an end connected to the input end of the first inverter and a second input end connected to the output end of the second inverter; and a first input end connected to the input of the second inverter. A second NAND gate connected to a first input terminal and a second input terminal connected to an output terminal of the first inverter; and first and second input terminals connected to the first and second N gates.
An output terminal of the AND gate and a corresponding third NAND gate are connected and configured as a circuit for outputting a detection signal from the output terminal of the third NAND gate, or a selected bit line pair potential difference detection circuit is provided as a first circuit. In place of the second inverter, the first and second input terminals having a threshold voltage smaller than the precharge potential by a minute potential and selected as the first and second input terminals are provided.
Corresponding to the potential from the second bit line, the receiving output end is set to the first
And a fourth NAND gate connected to the second input end of the NAND gate and the second input end of the second NAND gate.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.

【0029】図1は本発明の第1の実施の形態を示すブ
ロック図、図2はその主要部分の具体的な回路例を示す
回路図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing a concrete circuit example of its main part.

【0030】この第1の実施の形態のメモリセルアレイ
1,プリチャージ制御回路2,ビット線プリチャージ回
路3,行アドレスバッファ回路4,行デコーダ6,ワー
ド線駆動回路7,列アドレスバッファ回路8,列デコー
ダ9及び列選択回路10は、ワード線駆動回路7に供給
される検出信号が相違している点(BVD*かRDCか
の違い)以外は、図5に示された従来の第1の例の半導
体記憶装置と同じである。以下、これらの構成以外の部
分を主体として説明する。
The memory cell array 1, precharge control circuit 2, bit line precharge circuit 3, row address buffer circuit 4, row decoder 6, word line drive circuit 7, column address buffer circuit 8, of the first embodiment, The column decoder 9 and the column selection circuit 10 are the same as the first conventional example shown in FIG. 5 except that the detection signals supplied to the word line drive circuit 7 are different (BVD * or RDC). This is the same as the example semiconductor memory device. In the following, description will be given with a focus on parts other than these configurations.

【0031】選択列接続制御回路11は、トランジスタ
Q4,Q5を備え、選択ビット線対電位差検出信号BV
Dのレベル反転信号BVD*に従って、選択ビット線対
電位差検出信号BVDが非活性化レベル(低レベル)の
とき列選択回路11で選択された第1,第2のビット線
(SBL1,SBL2)をセンス増幅器13の入出力端
及び選択ビット線対電位差検出回路の入力端に接続し、
活性化レベルのときその接続を切り離す。
The selected column connection control circuit 11 includes transistors Q4 and Q5, and a selected bit line pair potential difference detection signal BV.
According to the level inversion signal BVD * of D, when the selected bit line pair potential difference detection signal BVD is at the inactivation level (low level), the first and second bit lines (SBL1, SBL2) selected by the column selection circuit 11 are connected. Connected to the input / output terminal of the sense amplifier 13 and the input terminal of the selected bit line pair potential difference detection circuit,
Disconnect at the activation level.

【0032】センス増幅器13は、トランジスタQ9〜
Q14から成るフリップフロップ回路で構成され、プリ
チャージ信号PCが非活性レベル(高レベル)のときの
選択ビット線対電位差検出信号BVDが活性化レベル
(高レベル)のときに活性化し、伝達された選択ビット
線(SBL1,SBL2)の電位を検知し増幅する。
The sense amplifier 13 includes transistors Q9 ...
It is composed of a flip-flop circuit made up of Q14, and is activated and transmitted when the selected bit line pair potential difference detection signal BVD is at the activation level (high level) when the precharge signal PC is at the inactive level (high level). The potentials of the selected bit lines (SBL1, SBL2) are detected and amplified.

【0033】選択ビット線対電位差検出回路14は、そ
れぞれプリチャージ電位より微小電位だけ低いしきい値
電圧をもち入力端に選択された第1,第2のビット線S
BL1,SBL2からの電位を対応して受ける第1及び
第2のインバータIV3,IV4と、第1の入力端をイ
ンバータIV3の入力端と接続し第2の入力端をインバ
ータIV4の出力端と接続する第1のNANDゲートG
2と、第1の入力端をインバータIV4の入力端と接続
し第2の入力端をインバータIV3の出力端と接続する
第2のNANDゲートG3と、第1及び第2の入力端を
NANDゲートG2,G3の出力端と対応接続する第3
のNANDゲートG4と、このNANDゲートG4の出
力信号をレベル反転するインバータIV5とを備え、選
択された第1,第2のビット線からの電位が、一方のプ
リチャージ電位に対し他方の電位がプリチャージ電位よ
り微小電位だけ低下したことを検知して活性化レベルと
なる選択ビット線対電位差検出信号BVDをNANDゲ
ートG4の出力端から出力する、排他的論理和回路型
(EX−NOR)となっている。また、インバータIV
5の出力端からは選択ビット線対電位差検出信号BVD
のレベル反転信号BVD*が出力される。
The selected bit line pair potential difference detection circuit 14 has a threshold voltage lower by a minute potential than the precharge potential, and the first and second bit lines S selected at the input ends.
First and second inverters IV3, IV4 correspondingly receiving the potentials from BL1, SBL2, a first input terminal connected to the input terminal of the inverter IV3, and a second input terminal connected to the output terminal of the inverter IV4. First NAND gate G
2, a second NAND gate G3 having a first input end connected to the input end of the inverter IV4 and a second input end connected to the output end of the inverter IV3, and first and second input ends being a NAND gate Third connection corresponding to the output terminals of G2 and G3
Of the NAND gate G4 and an inverter IV5 for inverting the level of the output signal of the NAND gate G4. The potentials from the selected first and second bit lines are one precharge potential and the other potential. An exclusive OR circuit type (EX-NOR), which detects that the potential has dropped from the precharge potential by a minute potential and outputs a selected bit line pair potential difference detection signal BVD which becomes an activation level from the output end of the NAND gate G4. Has become. Also, the inverter IV
From the output terminal of 5, the selected bit line pair potential difference detection signal BVD
Level inversion signal BVD * is output.

【0034】センス増幅器プリチャージ回路12は、ト
ランジスタQ6〜Q8から成り、プリチャージ信号PC
が活性化レベル(低レベル)の期間、センス増幅器13
の2つの入出力端を電源電位(Vcc)レベルにプリチ
ャージする。
The sense amplifier precharge circuit 12 is composed of transistors Q6 to Q8 and has a precharge signal PC.
Is at the activation level (low level), the sense amplifier 13
Are precharged to the power supply potential (Vcc) level.

【0035】ラッチ回路15は、NANDゲートG5,
G6及びインバータIV6から成る一般的なフリップフ
ロップ回路となっており、センス増幅器13で増幅され
たデータをラッチし、データ出力制御回路16で制御さ
れるデータ出力バッファ回路17を介して、ラッチした
データを外部へ出力する。
The latch circuit 15 includes a NAND gate G5,
It is a general flip-flop circuit composed of G6 and an inverter IV6, which latches the data amplified by the sense amplifier 13 and latches the latched data via the data output buffer circuit 17 controlled by the data output control circuit 16. Is output to the outside.

【0036】ワード線駆動回路7は、各ワード線WLと
対応するNANDゲートG1及びインバータIV1を備
え、選択ビット線対電位差検出信号BVDのレベル反転
信号BVD*が高レベル(BVDが非活性化レベル)の
とき行デコーダ6からのデコード信号XDに従って所定
のワード線を選択レベルとし、BVD*の低レベル(B
VDが活性化レベル)に応答して選択ワード線も非選択
レベルとする。
The word line drive circuit 7 includes a NAND gate G1 corresponding to each word line WL and an inverter IV1, and the level inversion signal BVD * of the selected bit line pair potential difference detection signal BVD is at a high level (BVD is an inactive level). ), A predetermined word line is set to the selection level in accordance with the decode signal XD from the row decoder 6, and the low level of BVD * (B
The selected word line is also set to the non-selection level in response to VD (activation level).

【0037】次に、この第1の実施の形態の動作につい
て、図3に示されたタイミング図を併せて参照し説明す
る。
Next, the operation of the first embodiment will be described with reference to the timing chart shown in FIG.

【0038】まず、時刻t0において、クロック信号C
Kは高レベルであり、行デコーダ制御信号EX,プリチ
ャージ信号PCは高レベル、ワード線WLは低レベル、
第1,第2のビット線BL1,BL2及び選択ビット線
SBL1,SBL2並びにセンス増幅器13の2つの入
出力端SN1,SN2は前のサイクルのデータがそのま
ま残っており、選択ビット線対電位差検出信号BVDは
高レベル(活性化レベル)となっている。
First, at time t0, the clock signal C
K is at a high level, the row decoder control signal EX and the precharge signal PC are at a high level, the word line WL is at a low level,
The first and second bit lines BL1 and BL2, the selected bit lines SBL1 and SBL2, and the two input / output terminals SN1 and SN2 of the sense amplifier 13 retain the data of the previous cycle as they are, and the selected bit line pair potential difference detection signal. BVD is at a high level (activation level).

【0039】時刻t1においてクロック信号CKが低レ
ベルへと変化すると、まず、プリチャージ信号PCが低
レベルの活性化レベルとなり、ビット線プリチャージ回
路3によって複数対の第1,第2のビット線BL1,B
L2全てが電源電位Vccレベルにプリチャージされ、
列選択回路10による選択ビット線SBL1,SBL2
も当然、電源電位Vccレベルにプリチャージされる。
また、これと同時に、センス増幅器13の2つの入出力
端SN1,SN2も電源電位レベルにプリチャージされ
る。この結果、選択ビット線対電位差検出信号BVDは
低レベルの非活性化レベルとなる。また、行デコーダ制
御信号XEは非活性化レベルとなり行デコーダ6は行ア
ドレス信号ADrのデコード動作を停止する。
When the clock signal CK changes to the low level at the time t1, first, the precharge signal PC becomes the low level activation level, and the bit line precharge circuit 3 causes the plurality of pairs of the first and second bit lines. BL1, B
All L2 are precharged to the power supply potential Vcc level,
Selected bit lines SBL1, SBL2 by the column selection circuit 10
Is naturally precharged to the power supply potential Vcc level.
At the same time, the two input / output terminals SN1 and SN2 of the sense amplifier 13 are also precharged to the power supply potential level. As a result, the selected bit line pair potential difference detection signal BVD becomes a low level inactivation level. Further, row decoder control signal XE attains the inactive level, and row decoder 6 stops the decoding operation of row address signal ADr.

【0040】時刻t2においてクロック信号CKが高レ
ベルへと変化すると、まず、プリチャージ信号PCが高
レベル(非活性化レベル)となって複数対の第1,第2
のビット線BL1,BL2及び選択ビット線SBL1,
SBL2のプリチャージを停止し、またセンス増幅器1
3の入出力端SN1,SN2のプリチャージも停止す
る。続いて時刻t3には行デコーダ制御信号XEが活性
化レベルとなり、行デコーダ6は行アドレス信号ADr
のデコード動作を開始する。行デコーダ6によるデコー
ド信号XDが出力される時刻t4において、選択ビット
線電位差検出信号のレベル反転信号BVD*は高レベル
(BVDは低レベルの非活性化レベル)となっているの
で、行アドレス信号ADrが指定するアドレスの1本の
ワード線WLが選択レベルとなる。
When the clock signal CK changes to a high level at time t2, first, the precharge signal PC becomes a high level (inactivation level), and a plurality of pairs of first and second pairs are provided.
Bit lines BL1, BL2 and selected bit lines SBL1,
Stop precharging of SBL2, and also sense amplifier 1
The precharge of the input / output terminals SN1 and SN2 of 3 is also stopped. Then, at time t3, the row decoder control signal XE attains an activation level, and the row decoder 6 outputs the row address signal ADr.
The decoding operation of is started. At time t4 when the decode signal XD is output by the row decoder 6, the level inversion signal BVD * of the selected bit line potential difference detection signal is at a high level (BVD is a low level deactivation level), so that the row address signal. One word line WL at the address specified by ADr becomes the selection level.

【0041】1本のワード線WLが選択レベルになる
と、このワード線WLと接続する複数のメモリセルが選
択状態となってこれらメモリセルのデータが複数対の第
1,第2のビット線BL1,BL2に読出される。この
とき列選択回路10は列アドレス信号ADcによって複
数対の第1,第2のビット線BL1,BL2のうちの1
対を選択しており(選択ビット線SBL1,SBL
2)、この選択ビット線SBL1,SBL2は選択列接
続制御回路11によってセンス増幅器13及び選択ビッ
ト線対電位差検出回路14に接続されている。
When one word line WL attains a selection level, a plurality of memory cells connected to this word line WL are brought into a selected state, and the data of these memory cells have a plurality of pairs of first and second bit lines BL1. , BL2. At this time, the column selection circuit 10 receives one of the pairs of first and second bit lines BL1 and BL2 according to the column address signal ADc.
A pair is selected (selected bit lines SBL1, SBL
2) The selected bit lines SBL1 and SBL2 are connected to the sense amplifier 13 and the selected bit line pair potential difference detection circuit 14 by the selected column connection control circuit 11.

【0042】時刻t5になると、選択ビット線対電位差
検出回路14は、選択ビット線SBL1,SBL2のう
ちの一方の電位がインバータIV3,IV4のしきい値
電圧より低下したことを検出し、活性化レベル(高レベ
ル)の選択ビット線対電位差検出信号BVDを発生す
る。これに応答してセンス増幅器1は活性化し、その2
つの入出力端の電位を検知して増幅し、また選択列接続
制御回路11はセンス増幅器13等と選択ビット線SB
L1,SBL2との間の接続を切り離し、センス増幅器
13のセンス増幅動作の高速化をはかる。センス増幅器
13による増幅出力(SN1,SN2)は、片方が急速
に接地電位(0V)となる(時刻t6)。
At time t5, the selected bit line pair potential difference detection circuit 14 detects that the potential of one of the selected bit lines SBL1 and SBL2 has dropped below the threshold voltage of the inverters IV3 and IV4, and is activated. A level (high level) selected bit line pair potential difference detection signal BVD is generated. In response to this, the sense amplifier 1 is activated, and
The potential of one input / output terminal is detected and amplified, and the selected column connection control circuit 11 is connected to the sense amplifier 13 and the selected bit line SB.
The connection between L1 and SBL2 is disconnected to speed up the sense amplification operation of the sense amplifier 13. One of the amplified outputs (SN1, SN2) by the sense amplifier 13 rapidly becomes the ground potential (0 V) (time t6).

【0043】また、選択ビット線対電位差検出信号BV
Dの活性化レベル(高レベル、BVD*は低レベル)に
応答して、時刻t7においてワード線駆動回路7は選択
ビット線WLを非選択レベルとする。この結果、このワ
ード線WLと接続するメモリセルは第1,第2のビット
線BL1,BL2,から切り離され、これらメモリセル
の記憶データによるビット線BL1,BL2の電位変化
は停止する。
Further, the selected bit line pair potential difference detection signal BV
In response to the activation level of D (high level, BVD * is low level), the word line drive circuit 7 sets the selected bit line WL to the non-selected level at time t7. As a result, the memory cell connected to this word line WL is separated from the first and second bit lines BL1 and BL2, and the potential changes of the bit lines BL1 and BL2 due to the storage data of these memory cells are stopped.

【0044】時刻t8においてクロック信号CKが低レ
ベルと変化すると、前述の時刻t1の動作に戻り、以降
の動作がくり返えされる。
When the clock signal CK changes to the low level at time t8, the operation returns to the operation at time t1 and the subsequent operations are repeated.

【0045】この実施の形態においては、選択ビット線
対電位差検出回路14の入力しきい値電圧(インバータ
IV3,IV4のしきい値電圧)がビット線BL1,B
L2、選択ビットSBL1,SBL2、及びセンス増幅
器13の2つの入出力端SN1,SN2のプリチャージ
電位(電源電位Vcc)より微小電位だけ低い値となっ
ているので、選択状態のメモリセルの記憶データによっ
てビット線BL1,BL2,のうちの一方のレベルがプ
リチャージ電位よりわずかに低下するだけで、選択ビッ
ト線対電位差検出信号BVDが活性化レベルとなる。従
って、選択ビット線SBL1,SBL2の電位差検出時
間が、センス増幅出力の“1”レベル,“0”レベルが
確定しないと検出できない従来例に比べ、短縮される。
In this embodiment, the input threshold voltage of the selected bit line pair potential difference detecting circuit 14 (threshold voltage of the inverters IV3 and IV4) is the bit lines BL1 and B.
Since the value is lower than the precharge potential (power supply potential Vcc) of L2, the selected bits SBL1 and SBL2, and the two input / output terminals SN1 and SN2 of the sense amplifier 13, only the stored data of the memory cell in the selected state. As a result, the level of one of the bit lines BL1, BL2 is slightly lowered from the precharge potential, and the selected bit line pair potential difference detection signal BVD becomes the activation level. Therefore, the potential difference detection time of the selected bit lines SBL1 and SBL2 is shortened as compared with the conventional example that cannot be detected unless the "1" level and "0" level of the sense amplification output are determined.

【0046】また、選択ビット線対電位差検出信号BV
Dの活性化レベルに応答して活性化するセンス増幅器1
3はフリップフロップ回路型となっているので、データ
保持機能及びデータ帰還機能があり、高速センス増幅動
作が可能となり、また、センシュ増幅の際、入出力端
(SN1,SN2)を選択ビット線SBL1,SBL2
から切離しているので、これら選択ビット線の寄生容量
の影響を除くことができ、この点でも高速センス増幅動
作を助長することができる。更に、センス増幅器13に
電流が流れるのは、センス増幅出力のレベルが変化する
ときだけであるので、カレントミラー回路型に比べ、大
幅に消費電力を低減することができる。
Further, the selected bit line pair potential difference detection signal BV
Sense amplifier 1 activated in response to the activation level of D
Since 3 is a flip-flop circuit type, it has a data holding function and a data feedback function, which enables high-speed sense amplification operation. Further, at the time of the sense amplification, the input / output terminals (SN1, SN2) are selected bit line SBL1. , SBL2
Since they are separated from each other, the influence of the parasitic capacitance of these selected bit lines can be eliminated, and in this respect as well, the high speed sense amplification operation can be promoted. Further, the current flows through the sense amplifier 13 only when the level of the sense amplification output changes, so that the power consumption can be significantly reduced as compared with the current mirror circuit type.

【0047】また、選択ビット線対電位差検出信号BV
D及びそのレベル反転信号BVD*は直接センス増幅器
13,ワード線駆動回路7及び選択列接続制御回路11
に供給されているので、従来例のような中間の制御回路
(データ読出し制御回路21,イネーブル信号発生部2
3)による信号伝達時間がなく、所定のメモリセルが選
択状態になってから非選択状態になるまでの時間を短縮
することができる。更に、この時間の短縮により、選択
状態のメモリセルによる複数対の第1,第2のビット線
BL1,BL2のうちの片方の電位変化を、接地電位
(0V)レベルよりかなり高い電位で止めることがで
き、ビット線のプリチャージに要する電力を大幅に低減
することができる。
Further, the selected bit line pair potential difference detection signal BV
D and its level inversion signal BVD * are directly applied to the sense amplifier 13, the word line drive circuit 7, and the selected column connection control circuit 11.
Are supplied to the intermediate control circuit (the data read control circuit 21, the enable signal generation unit 2 as in the conventional example).
Since there is no signal transmission time due to 3), it is possible to shorten the time from a selected memory cell being in a selected state to a non-selected state. Further, by shortening this time, the potential change of one of the plurality of pairs of first and second bit lines BL1 and BL2 by the selected memory cell is stopped at a potential considerably higher than the ground potential (0V) level. Therefore, the power required for precharging the bit line can be significantly reduced.

【0048】図4は本発明の第2の実施の形態の選択ビ
ット線対電位差検出回路部分の回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a selected bit line pair potential difference detection circuit portion according to the second embodiment of the present invention.

【0049】この第2の実施の形態の選択ビット線対電
位差検出回路14aは、図2に示された第1の実施の形
態の選択ビット線対電位差検出回路14のインバータI
V3,IV4に代えて、プリチャージ電位より微小電位
だけ小さいしきい値電圧をもち第1及び第2の入力端に
選択された第1,第2のビット線SBL1,SBL2か
らの電位を対応して受け出力端をNANDゲートG2の
第2の入力端及びNANDゲートG3の第2の入力端と
接続するNANDゲートG7を設けた回路となってい
る。その他の部分は第1の実施の形態と同じである。ま
た、この選択ビット線対電位差検出回路14aの機能,
動作等は第1の実施の形態と同様であり、従ってこの第
2の実施の形態の動作及び作用効果も第1の実施例と同
様であるので、これ以上の説明は省略する。
The selected bit line pair potential difference detection circuit 14a of the second embodiment is the inverter I of the selected bit line pair potential difference detection circuit 14 of the first embodiment shown in FIG.
Instead of V3 and IV4, the potentials from the first and second bit lines SBL1 and SBL2 selected for the first and second input terminals that have a threshold voltage smaller than the precharge potential by a minute potential are used. And a NAND gate G7 for connecting the receiving output end to the second input end of the NAND gate G2 and the second input end of the NAND gate G3. Other parts are the same as those in the first embodiment. Further, the function of the selected bit line pair potential difference detection circuit 14a,
The operation and the like are the same as those in the first embodiment, and therefore, the operation and the effect of the second embodiment are also the same as those in the first embodiment, so that further description will be omitted.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、データ読
出し動作時、選択ビット線対の微小電位差を検出して直
接センス増幅器及びワード線駆動回路等を制御している
ので、動作の高速化をはかることができ、かつワード線
を非選択レベルとする時間が短縮されるので、ビット線
対のうちの一方の接地電位レベル側への変化を接地電位
より十分高い電位に止めることができてビット線プリチ
ャージ時の消費電力を低減すると共に動作の高速化をは
かることができ、センス増幅器をデータの保持機能,帰
還機能をもつフリップフロップ回路型とし、かつデータ
増幅時、選択ビット線を切り離す構成としたので、消費
電力の低減及び動作の高速化をはかることができる効果
がある。
As described above, according to the present invention, in the data read operation, the minute potential difference between the selected bit line pair is detected to directly control the sense amplifier, the word line drive circuit and the like, so that the operation speed is increased. Since the time required to set the word line to the non-selection level is shortened, the change to the ground potential level side of one of the bit line pairs can be stopped at a potential sufficiently higher than the ground potential. The power consumption during bit line precharging can be reduced and the operation speed can be increased. The sense amplifier is a flip-flop circuit type with data retention and feedback functions, and the selected bit line is disconnected during data amplification. Since the configuration is adopted, there is an effect that power consumption can be reduced and operation speed can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態を示すブロック図で
ある。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示された実施の形態の主要部分の具体的
な回路例を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific circuit example of a main part of the embodiment shown in FIG.

【図3】図1,図2に示された実施の形態の動作を説明
するための各部信号のタイミング図である。
FIG. 3 is a timing chart of signals of respective parts for explaining the operation of the embodiment shown in FIGS. 1 and 2.

【図4】本発明の第2の実施の形態の選択ビット線対電
位差検出回路部分の回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a selected bit line pair potential difference detection circuit portion according to a second embodiment of the present invention.

【図5】従来の半導体記憶装置の第1の例のブロック図
である。
FIG. 5 is a block diagram of a first example of a conventional semiconductor memory device.

【図6】図5に示された半導体記憶装置の主要部分の具
体的回路例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a specific circuit example of a main part of the semiconductor memory device shown in FIG.

【図7】図5,図6に示された半導体記憶装置の動作を
説明するための各部信号のタイミング図である。
FIG. 7 is a timing chart of signals of respective parts for explaining the operation of the semiconductor memory device shown in FIGS.

【図8】従来の半導体記憶装置の第2の例のブロック図
である。
FIG. 8 is a block diagram of a second example of a conventional semiconductor memory device.

【図9】図8に示された半導体記憶装置のセンス増幅器
部分の具体的回路例を示す回路図である。
9 is a circuit diagram showing a specific circuit example of a sense amplifier portion of the semiconductor memory device shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2,2y プリチャージ制御回路 3 ビット線プリチャージ回路 6,6y 行デコーダ 7 ワード線駆動回路 9 列デコーダ 10 列選択回路 11 選択列接続制御回路 12 センス増幅器プリチャージ回路 13,13x,13y センス増幅器 14,14a 選択ビット線対電位差検出回路 19,19y センス増幅電位差検出回路 21 データ読出し制御回路 22 アドレス変化検出回路 23 イネーブル信号発生部 BL1,BL2 ビット線 G1〜G6 NANDゲート IV1,IV3〜IV6 インバータ Q1〜Q14 トランジスタ SBL1,SBL2 選択ビット線 WL ワード線 1 memory cell array 2, 2y precharge control circuit 3 bit line precharge circuit 6, 6y row decoder 7 word line drive circuit 9 column decoder 10 column selection circuit 11 selected column connection control circuit 12 sense amplifier precharge circuit 13, 13x, 13y Sense amplifier 14, 14a Selected bit line pair potential difference detection circuit 19, 19y Sense amplification potential difference detection circuit 21 Data read control circuit 22 Address change detection circuit 23 Enable signal generator BL1, BL2 Bit line G1 to G6 NAND gate IV1, IV3 to IV6 Inverter Q1-Q14 Transistors SBL1, SBL2 Selected bit line WL Word line

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 行方向,列方向にマトリクス状に配置さ
れたスタティック型の複数のメモリセル、これら複数の
メモリセルの各行それぞれと対応して設けられ選択レベ
ルのとき対応する行のメモリセルを選択状態とする複数
のワード線、及び前記複数のメモリセルの各列それぞれ
と対応して設けられ所定のタイミングで所定の電位にプ
リチャージされかつ選択状態のメモリセルのデータを伝
達する複数対の第1,第2のビット線を含むメモリセル
アレイと、所定のタイミングで活性化し前記複数対の第
1,第2のビット線のうちの選択された第1,第2のビ
ット線の電位を検出して増幅するフリップフロップ回路
型のセンス増幅器と、前記選択された第1,第2のビッ
ト線のうちの一方のプリチャージ電位に対し他方の電位
が前記プリチャージ電位より微小電位だけ変化したこと
を検出して活性化レベルの検知信号を発生する排他的論
理和回路型の選択ビット線対電位差検出回路とを備え、
クロック信号の第1のレベルに応答して前記複数対の第
1,第2のビット線並びに前記センス増幅器の入出力端
及び選択ビット線対電位差検出回路の入力端をプリチャ
ージし、前記クロック信号の第2のレベルに応答して前
記複数のワード線のうちの1本を選択レベルにし、この
選択レベルのワード線によって選択状態となったメモリ
セルから読出され選択された第1,第2のビット線に伝
達されたデータの電位差を検出して活性化レベルの前記
検知信号を発生し、この検知信号の活性化レベルに応答
して前記センス増幅器を活性化すると共にこのセンス増
幅器と前記選択された第1,第2のビット線との間を切
り離し、かつ前記選択レベルのワード線を非選択レベル
とするようにしたことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A plurality of static type memory cells arranged in a matrix in a row direction and a column direction, and memory cells in a row corresponding to each row of the plurality of memory cells at a selection level. A plurality of pairs of word lines that are in a selected state, and a plurality of pairs that are provided corresponding to the respective columns of the plurality of memory cells and that are precharged to a predetermined potential at a predetermined timing and that transmit data of the memory cells in the selected state. The memory cell array including the first and second bit lines and the potential of the selected first and second bit lines of the plurality of pairs of the first and second bit lines which are activated at a predetermined timing are detected. And a flip-flop circuit type sense amplifier that amplifies the same, and one of the selected first and second bit lines has a precharge potential that is different from the precharge potential of the other. An exclusive-OR circuit type selection bit line pair potential difference detection circuit for detecting a change in a minute potential from the potential and generating an activation level detection signal;
In response to the first level of the clock signal, the plurality of pairs of the first and second bit lines, the input / output terminals of the sense amplifier and the input terminal of the selected bit line pair potential difference detection circuit are precharged, and the clock signal In response to the second level, the one of the plurality of word lines is set to the selection level, and the first and second read and selected from the memory cell selected by the word line of the selection level are selected. The potential difference of the data transmitted to the bit line is detected to generate the detection signal of the activation level, the sense amplifier is activated in response to the activation level of the detection signal, and the sense amplifier and the selected one are selected. A semiconductor memory device characterized in that the first and second bit lines are separated from each other and the word line of the selected level is set to a non-selected level.
【請求項2】 メモリセルアレイと、このメモリセルア
レイの複数対の第1,第2のビット線をクロック信号の
第1のレベルに応答して所定の期間所定の電位にプリチ
ャージするプリチャージ制御回路及びビット線プリチャ
ージ回路と、前記クロック信号の第2のレベルに応答し
て行アドレス信号の指定するアドレスのワード線を選択
レベルとし検知信号の活性化レベルに応答して非選択レ
ベルとする行デコーダ制御回路,行デコーダ及びワード
線駆動回路と、列アドレス信号の指定するアドレスの第
1,第2のビット線を選択する列デコーダ及び列選択回
路と、前記検知信号が活性化レベルのとき活性化し前記
列デコーダ及び列選択回路で選択された第1,第2のビ
ット線の電位を検知して増幅するセンス増幅器と、前記
検出信号を発生する選択ビット線対電位差検出回路と、
前記検出信号の活性化レベルに応答して前記センス増幅
器と前記選択された第1,第2のビット線との間を切り
離す選択列接続制御回路と、前記クロック信号の第1の
レベルに応答して前記センス増幅器の入出力端及び選択
ビット線対電位差検出回路の入力端を所定の期間所定の
電位にプリチャージするセンス増幅器プリチャージ回路
とを有する請求項1記載の半導体記憶装置。
2. A precharge control circuit for precharging a memory cell array and a plurality of pairs of first and second bit lines of the memory cell array to a predetermined potential for a predetermined period in response to a first level of a clock signal. And a bit line precharge circuit and a row in which a word line of an address designated by a row address signal is set to a selection level in response to a second level of the clock signal and a non-selection level is set in response to an activation level of a detection signal. A decoder control circuit, a row decoder and a word line drive circuit, a column decoder and a column selection circuit for selecting the first and second bit lines of an address designated by a column address signal, and activation when the detection signal is at an activation level. And a sense amplifier for detecting and amplifying the potentials of the first and second bit lines selected by the column decoder and column selection circuit, and generating the detection signal. A selected bit line pair potential difference detection circuit,
A selected column connection control circuit that disconnects the sense amplifier from the selected first and second bit lines in response to the activation level of the detection signal; and a selected column connection control circuit that responds to the first level of the clock signal. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a sense amplifier precharge circuit for precharging an input / output terminal of the sense amplifier and an input terminal of the selected bit line pair potential difference detection circuit to a predetermined potential for a predetermined period.
【請求項3】 選択ビット線対電位差検出回路を、それ
ぞれプリチャージ電位より微小電位だけ小さいしきい値
電圧をもち入力端に選択された第1,第2のビット線か
らの電位を対応して受ける第1及び第2のインバータ
と、第1の入力端を前記第1のインバータの入力端と接
続し第2の入力端を前記第2のインバータの出力端と接
続する第1のNANDゲートと、第1の入力端を前記第
2のインバータの入力端と接続し第2の入力端を前記第
1のインバータの出力端と接続する第2のNANDゲー
トと、第1及び第2の入力端を前記第1及び第2のNA
NDゲートの出力端と対応接続する第3のNANDゲー
トとを備え、前記第3のNANDゲートの出力端から検
出信号を出力する回路とした請求項1または請求項2記
載の半導体記憶装置。
3. A selected bit line pair potential difference detection circuit is provided with corresponding potentials from the first and second bit lines selected as input terminals, each having a threshold voltage smaller than the precharge potential by a minute potential. First and second inverters for receiving, and a first NAND gate having a first input terminal connected to an input terminal of the first inverter and a second input terminal connected to an output terminal of the second inverter A second NAND gate having a first input terminal connected to the input terminal of the second inverter and a second input terminal connected to the output terminal of the first inverter, and first and second input terminals The first and second NAs
3. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a third NAND gate connected to an output terminal of the ND gate, the circuit outputting a detection signal from the output terminal of the third NAND gate.
【請求項4】 選択ビット線対電位差検出回路を、第1
及び第2のインバータに代えて、プリチャージ電位より
微小電位だけ小さいしきい値電圧をもち第1及び第2の
入力端に選択された第1,第2のビット線からの電位を
対応して受け出力端を第1のNANDゲートの第2の入
力端及び第2のNANDゲートの第2の入力端と接続す
る第4のNANDゲートを設けた請求項3記載の半導体
記憶装置。
4. A selected bit line pair potential difference detection circuit comprising:
And instead of the second inverter, corresponding to the potentials from the first and second bit lines selected for the first and second input terminals, which have a threshold voltage smaller than the precharge potential by a minute potential. 4. The semiconductor memory device according to claim 3, further comprising a fourth NAND gate connecting the receiving output end to the second input end of the first NAND gate and the second input end of the second NAND gate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006523360A (en) * 2003-04-11 2006-10-12 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド Memory device with sense amplifier and self-timed latch
JP2010027133A (en) * 2008-07-17 2010-02-04 Nec Electronics Corp Semiconductor device
US8064241B2 (en) 2007-05-18 2011-11-22 Fujitsu Semiconductor Limited Semiconductor memory including voltage detection circuit for generating sense amplifier signal
JP2013175275A (en) * 2009-02-20 2013-09-05 Lynch John Memory architecture with current controller and reduced power consumption
FR3055735A1 (en) * 2016-09-07 2018-03-09 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives DETECTION AMPLIFIER CAPABLE OF CONTROLLING A READING OPERATION IN A MEMORY

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