JPH0922590A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

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Publication number
JPH0922590A
JPH0922590A JP17061595A JP17061595A JPH0922590A JP H0922590 A JPH0922590 A JP H0922590A JP 17061595 A JP17061595 A JP 17061595A JP 17061595 A JP17061595 A JP 17061595A JP H0922590 A JPH0922590 A JP H0922590A
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JP
Japan
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circuit
data
memory cell
cell array
output
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP17061595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuichi Kurata
勝一 倉田
Kazuhiko Shimakawa
一彦 島川
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Filing date
Publication date
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Priority to JP17061595A priority Critical patent/JPH0922590A/en
Publication of JPH0922590A publication Critical patent/JPH0922590A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage capable of rapid data read-out operation. SOLUTION: A second memory cell array 11 is composed of the memory cell of the same structure as a first memory cell array 10 written with the ROM data, and is written with '1' in one line and with '0' in the other line. A first output control signal generation circuit 12 and a second output control signal generation circuit 13 are the circuits equivalent to a sense amplifier circuit 55, and when the sense amplifier circuit 55 starts to read out the data from the first memory cell array 10, the circuits 12, 13 read out the data in the memory cells of respective lines of the second memory cell array 11. A control circuit 14 instructs to a data latch circuit 56 and an output buffer circuit 57 by a control signal VC1 so as to output the data VS read out by the sense amplifier circuit to the outside when the '1' is read out by the first output control signal generation circuit 12 and the '1' is read out by the second output control signal generation circuit 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関するものであり、特にマスクプログラマブルROM
(以下、マスクROMという)やフラッシュ型EEPR
OM、紫外線消去型EPROM等の不揮発性半導体記憶
装置のデータ読み出しに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a mask programmable ROM.
(Hereinafter referred to as mask ROM) and flash type EEPR
The present invention relates to data reading of a non-volatile semiconductor memory device such as an OM and an ultraviolet erasable EPROM.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体記憶装置は、微細加工技術
の進歩による大容量化と共に、回路技術の進歩による高
速化、低消費電力化、及び多ビット出力構成化が進んで
いる。具体的には、一般的によく知られているアドレス
遷移検出回路(Address Transition Detector 、以下、
ATD回路という)等で作られるクロックを用いてセン
スアンプ回路や出力バッファ回路等を制御することによ
り、回路動作の高速化や安定化、及び低消費電力化を実
現している。
2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor memory devices have been made larger in capacity as a result of advances in fine processing technology, and at the same time have been improved in speed, power consumption and multi-bit output due to advances in circuit technology. Specifically, a generally well-known address transition detection circuit (Address Transition Detector, hereinafter,
By controlling a sense amplifier circuit, an output buffer circuit, and the like using a clock generated by an ATD circuit or the like), high-speed and stable circuit operation and low power consumption are realized.

【0003】図5は、従来の半導体記憶装置の回路図で
ある。ここでは、メモリセルトランジスタのスレシュホ
ールド電圧の高低によりROMデータの書き込みが行わ
れるマスクROMを例にとっている。
FIG. 5 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory device. Here, a mask ROM in which ROM data is written depending on the level of the threshold voltage of the memory cell transistor is taken as an example.

【0004】図5において、51はメモリセルアレーで
あり、n型MOSトランジスタにより形成されたメモリ
セルM(i,j)(i=1〜m、j=1〜n)が、m行
n列のマトリックス状にアレー配列されることにより構
成されている。各メモリセルM(i,j)のゲートはワ
ード線Wi (i=1〜m)に各々接続されており、ドレ
インはビット線BLj (j=1〜n)に各々接続されて
いる。QCj (j=1〜n)はビット線選択用トランジ
スタであり、ソースはビット線BLj に各々接続されて
おり、ゲートはビット線選択信号線Cj (j=1〜n)
に各々接続されている。また、トランジスタQCj のド
レインはデータ出力用の接点54で共通に接続されてい
る。各ワード線Wi は行デコーダ52に接続されてお
り、各ビット線選択信号線Cj は列デコーダ53に接続
されている。
In FIG. 5, reference numeral 51 denotes a memory cell array in which memory cells M (i, j) (i = 1 to m, j = 1 to n) formed by n-type MOS transistors are arranged in m rows and n columns. Are arranged in an array. The gate of each memory cell M (i, j) is connected to a word line W i (i = 1 to m), and the drain is connected to a bit line BL j (j = 1 to n). QC j (j = 1 to n) is a bit line selection transistor, its source is connected to each bit line BL j , and its gate is a bit line selection signal line C j (j = 1 to n).
Connected to each. Further, the drains of the transistors QC j are commonly connected to the data output contact 54. Each word line W i is connected to the row decoder 52, and each bit line selection signal line C j is connected to the column decoder 53.

【0005】各メモリセルM(i,j)のROMデータ
は、n型MOSトランジスタのスレシュホールド電圧V
t の高低により書き込まれる。例えば、ROMデータが
“1”の場合は0V<Vt <1V、ROMデータが
“0”の場合はVt >電源電圧のように電圧Vt を設定
する。ワード線Wi の電位が“H”レベル(電源電圧)
となると、ROMデータが“1”のメモリセルM(i,
j)は導通し、ROMデータが“0”のメモリセルM
(i,j)は非導通状態のままとなる。
The ROM data of each memory cell M (i, j) is the threshold voltage V of the n-type MOS transistor.
Written according to the height of t . For example, the voltage V t is set such that 0 V <V t <1 V when the ROM data is “1”, and V t > power supply voltage when the ROM data is “0”. The potential of the word line W i is “H” level (power supply voltage)
Then the memory cell M (i,
j) is conductive, and the memory cell M whose ROM data is "0"
(I, j) remains non-conducting.

【0006】55はセンスアンプ回路であり、半導体記
憶装置のデータ読み出し回路として従来よく用いられて
いるものである。電位保持用の負荷トランジスタQLと
所定時間ビット線BLj の充電を補助するプリチャージ
用トランジスタQPとを組み合わせた電流検知型センス
アンプ回路構成となっている。センスアンプ回路55は
メモリセルアレー51の接点54と接続されており、行
デコーダ52及び列デコーダ53により選択されたメモ
リセルM(i,j)のデータを読み出し、データVSと
して出力する。
Reference numeral 55 is a sense amplifier circuit, which is conventionally well used as a data read circuit of a semiconductor memory device. It has a current detection type sense amplifier circuit configuration in which a load transistor QL for holding a potential and a precharge transistor QP for assisting charging of the bit line BL j for a predetermined time are combined. The sense amplifier circuit 55 is connected to the contact 54 of the memory cell array 51, reads the data of the memory cell M (i, j) selected by the row decoder 52 and the column decoder 53, and outputs it as the data VS.

【0007】56はデータラッチ回路であり、前記セン
スアンプ回路55から出力されるデータVSを入力と
し、データVLを出力する。後述する出力制御信号発生
回路59から入力される制御信号VC2 が“L”レベル
から“H”レベルに変化するときデータVSはラッチさ
れ、制御信号VC2 が“H”レベルを保つ間、ラッチさ
れたデータVSと同位相のデータがデータVLとして出
力される。制御信号VC2 が“L”レベルのときはラッ
チが解除され、入力されるデータVSと同位相のデータ
がそのままデータVLとして出力される。
A data latch circuit 56 receives the data VS output from the sense amplifier circuit 55 as an input and outputs the data VL. The data VS is latched when the control signal VC 2 input from the output control signal generating circuit 59 described later changes from the “L” level to the “H” level, and latched while the control signal VC 2 maintains the “H” level. Data having the same phase as the generated data VS is output as the data VL. When the control signal VC 2 is at “L” level, the latch is released and the data having the same phase as the input data VS is output as it is as the data VL.

【0008】57は3ステート型の出力バッファ回路で
あり、前記データラッチ回路56から出力されるデータ
VLを入力とし、データVOを出力する。制御信号VC
2 が“H”レベルのとき、データVLと同位相のデータ
がそのままデータVOとして出力され、制御信号VC2
が“L”レベルのとき出力バッファ回路57の出力端子
はハイインピーダンス状態となる。
Reference numeral 57 is a 3-state type output buffer circuit, which receives the data VL output from the data latch circuit 56 as an input and outputs the data VO. Control signal VC
When 2 is at "H" level, the data having the same phase as the data VL is output as it is as the data VO, and the control signal VC 2
Is at the "L" level, the output terminal of the output buffer circuit 57 is in a high impedance state.

【0009】58はATD回路により構成されたプリチ
ャージ信号発生回路であり、メモリセルアレー51に書
き込まれているデータの読み出し開始から所定時間
“L”レベルとなるプリチャージ信号VPを発生する。
プリチャージ信号VPはセンスアンプ回路55のプリチ
ャージ用トランジスタQPのゲート入力となる。
Reference numeral 58 denotes a precharge signal generation circuit composed of an ATD circuit, which generates a precharge signal VP which is at "L" level for a predetermined time from the start of reading the data written in the memory cell array 51.
The precharge signal VP becomes the gate input of the precharge transistor QP of the sense amplifier circuit 55.

【0010】59は出力制御信号発生回路であり、2k
(kは自然数)個のインバータ(I1 ,I2 ,・・・,
2k)が直列に接続されたインバータ列及び論理積回路
により構成されている。インバータ列はプリチャージ信
号VPを入力とし、論理積回路はインバータ列の出力信
号とプリチャージ信号VPとの論理積をとり制御信号V
2 を出力する。この制御信号VC2 により前記データ
ラッチ回路56及び出力バッファ回路57は制御され
る。
Reference numeral 59 is an output control signal generating circuit, which is 2k.
(K is a natural number) Inverters (I 1 , I 2 , ...,
I 2k ) is composed of an inverter string and a logical product circuit connected in series. The inverter array receives the precharge signal VP as an input, and the AND circuit takes the logical product of the output signal of the inverter array and the precharge signal VP to obtain the control signal V.
Output C 2 . The control signal VC 2 controls the data latch circuit 56 and the output buffer circuit 57.

【0011】以上のように構成された半導体記憶装置に
ついて、i行j列目のメモリセルM(i,j)のデータ
を読み出す動作を図6のタイミング図を用いて説明す
る。
The operation of reading data from the memory cell M (i, j) in the i-th row and the j-th column of the semiconductor memory device configured as described above will be described with reference to the timing chart of FIG.

【0012】まず、行デコーダ52によりi行目に対応
するワード線Wi を“H”レベルにすると共に、列デコ
ーダ53によりj列目に対応するビット線選択信号線C
j を“H”レベルにしてビット線選択用トランジスタQ
j を導通させる。また同時に、センスアンプ活性化信
号VSEは“L”レベルになり、センスアンプ回路55
はスタンバイ状態から動作状態になる。
[0012] First, as to the "H" level of the word line W i corresponding to the i-th row by the row decoder 52, the bit line select signal line corresponding to the j-th column by column decoder 53 C
Bit line selection transistor Q with j set to "H" level
Conduct C j . At the same time, the sense amplifier activation signal VSE becomes "L" level, and the sense amplifier circuit 55
Goes from standby to active.

【0013】さらに、プリチャージ信号VPは時間t2
の間“L”レベルとなるので、導通したトランジスタQ
j に接続されたビット線BLj はトランジスタQPを
介して所定電位まで充電される。このとき、センスアン
プ回路55から出力されるデータVSの電位は、プリチ
ャージ開始時のビット線BLj の電位やプリチャージ時
間t2 の長短に依存するため“H”レベルか“L”レベ
ルかは不確定の状態になっている。
Further, the precharge signal VP has the time t 2
Since it goes to "L" level during
The bit line BL j connected to C j is charged to a predetermined potential via the transistor QP. At this time, since the potential of the data VS output from the sense amplifier circuit 55 depends on the potential of the bit line BL j at the start of precharge and the length of the precharge time t 2 , it is “H” level or “L” level. Is in an indeterminate state.

【0014】プリチャージ終了後、選択されたメモリセ
ルM(i,j)のROMデータが“1”のとき、該メモ
リセルM(i,j)は導通するのでビット線BLj の電
荷はメモリセルM(i,j)を介して放電され、センス
アンプ回路55の出力データVSは時間t1 後“H”レ
ベルに確定する。また選択されたメモリセルM(i,
j)のデータが“0”のとき、該メモリセルM(i,
j)は非導通状態のままなのでビット線BLj に対して
負荷トランジスタQLによる充電が引続き行われ、セン
スアンプ回路55の出力データVSは時間t0 後“L”
レベルに確定する。このため、読み出し動作開始からセ
ンスアンプ回路55の出力確定までに要する出力確定時
間tACは、tAC=t2 +(t0 またはt1 のうち大きい
方)となる。
After the completion of precharge, when the ROM data of the selected memory cell M (i, j) is "1", the memory cell M (i, j) becomes conductive and the charge of the bit line BL j is stored in the memory. cell M (i, j) is discharged via the output data VS of the sense amplifier circuit 55 is determined in time after t 1 "H" level. In addition, the selected memory cell M (i,
When the data of j) is “0”, the memory cell M (i,
Since j) remains in the non-conducting state, the bit line BL j is continuously charged by the load transistor QL, and the output data VS of the sense amplifier circuit 55 becomes “L” after time t 0.
Confirm the level. Therefore, the output confirmation time t AC required from the start of the read operation to the output confirmation of the sense amplifier circuit 55 is t AC = t 2 + (the larger one of t 0 or t 1 ).

【0015】一方、出力制御信号発生回路59では、プ
リチャージ信号VPを2k個のインバータ列により時間
3 だけ遅延した信号とプリチャージ信号VPとの論理
積をとることにより、制御信号VC2 は時間(t2 +t
3 )の間“L”レベルとなる。制御信号VC2 が“L”
レベルの間は出力バッファ回路57の出力端子はハイイ
ンピーダンスに保たれる。制御信号VC2 が“H”レベ
ルに変化するとセンスアンプ回路55の出力データVS
はデータラッチ回路56によりラッチされ、出力バッフ
ァ回路57からデータVOとして出力される。このた
め、読み出し動作開始から出力バッファ回路57のデー
タ出力までに要する出力オン時間tONは、tON=t2
3 になる。
On the other hand, in the output control signal generation circuit 59, the control signal VC 2 is obtained by taking the logical product of the signal obtained by delaying the precharge signal VP by the time t 3 by the 2k inverter array and the precharge signal VP. Time (t 2 + t
It becomes "L" level during 3 ). Control signal VC 2 is "L"
The output terminal of the output buffer circuit 57 is kept at high impedance during the level. When the control signal VC 2 changes to “H” level, the output data VS of the sense amplifier circuit 55
Is latched by the data latch circuit 56 and output from the output buffer circuit 57 as data VO. Therefore, the output on time t ON required from the start of the read operation to the data output of the output buffer circuit 57 is t ON = t 2 +
It becomes t 3 .

【0016】図5に示す半導体記憶装置では、出力オン
時間tONと出力確定時間tACとがレーシングを起こさな
い条件、即ちtON≧tACとなるよう設計されている。し
たがって、メモリセルからの読み出しデータが確定した
後にデータラッチ及び外部へのデータ出力が行われる。
The semiconductor memory device shown in FIG. 5 is designed so that the output on-time t ON and the output confirmation time t AC do not cause racing, that is, t ON ≧ t AC . Therefore, the data latch and the data output to the outside are performed after the read data from the memory cell is determined.

【0017】半導体記憶装置の多くは8〜16ビットの
多ビット出力構成であり読み出し回路が8〜16個並列
に動作するので、出力バッファ回路57の動作時は通常
数十pF〜数百pFの外部負荷容量が一斉に駆動される
ことになる。このため、メモリセルからの読み出しデー
タが確定した後にデータラッチ及び外部へのデータ出力
を行うことにより、データ出力時に発生するノイズ等を
回避しセンスアンプ回路55を安定に動作させることが
できる。また、プリチャージ動作期間に出力バッファ回
路57から不確定データが出力されることを避けること
により、無駄な消費電流を低減することができる。
Most of the semiconductor memory devices have a multi-bit output structure of 8 to 16 bits, and 8 to 16 read circuits operate in parallel. Therefore, when the output buffer circuit 57 operates, the output buffer circuit 57 normally operates at tens to hundreds of pF. The external load capacities will be driven all at once. Therefore, by performing the data latch and the data output to the outside after the read data from the memory cell is determined, it is possible to avoid the noise generated at the time of the data output and to operate the sense amplifier circuit 55 stably. Further, by avoiding the output of the uncertain data from the output buffer circuit 57 during the precharge operation period, useless current consumption can be reduced.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体記憶装置には以下のような問題がある。
However, the conventional semiconductor memory device has the following problems.

【0019】図5に示す従来の半導体記憶装置では、出
力オン時間tONが出力確定時間tACよりも常に大きくな
るよう設計する必要がある。
In the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 5, it is necessary to design so that the output on time t ON is always longer than the output fixed time t AC .

【0020】ここで、出力オン時間tONは、出力制御信
号発生回路59におけるインバータ列の遅延時間t3
より設定することができる。一方、出力確定時間t
ACは、センスアンプ回路55のROMデータに対する感
度や動作速度、メモリセルM(i,j)の電流駆動能
力、ビット線BLj の寄生容量(ビット線と半導体基板
間等で形成される静電容量とメモリセルのドレイン部等
の拡散領域と半導体基板との接合領域で形成されるpn
接合容量との総和)及びワード線Wi での遅延時間等、
異なる複数の要因で決定される。また、製造工程に起因
する特性のばらつきにより装置間で差が生じると共に、
電源電圧又は温度に対する依存性等により時間的にも変
動する。
Here, the output on time t ON can be set by the delay time t 3 of the inverter train in the output control signal generating circuit 59. On the other hand, the output confirmation time t
AC is the sensitivity and operating speed of the sense amplifier circuit 55 with respect to ROM data, the current drive capability of the memory cell M (i, j), the parasitic capacitance of the bit line BL j (electrostatic formed between the bit line and the semiconductor substrate, etc. A pn formed in a junction region between a capacitor and a diffusion region such as a drain portion of a memory cell and a semiconductor substrate
Sum of junction capacitance) and the delay time at the word line W i , etc.
It is determined by several different factors. In addition, there are differences between the devices due to variations in characteristics due to the manufacturing process,
It also varies with time due to the dependency on the power supply voltage or temperature.

【0021】このため、出力オン時間tONは出力確定時
間tACに対して十分余裕をもって設定する必要があっ
た。ところが、このために、データ読み出し動作の更な
る高速化の実現が困難になるという問題があった。
Therefore, it is necessary to set the output on time t ON with a sufficient margin with respect to the output fixed time t AC . However, for this reason, there is a problem that it is difficult to realize a higher speed data read operation.

【0022】また、同一の回路構成でメモリ容量を拡張
又は縮小する設計を行う場合、従来の半導体記憶装置で
は、出力確定時間tACを決める様々な要因を考慮した上
で出力制御信号発生回路59のインバータ列の遅延時間
3 を調整することにより、その都度出力オン時間tON
を最適化する必要があった。このため、最適な回路設計
が容易にできないという問題もあった。
Further, in the case of designing to expand or reduce the memory capacity with the same circuit configuration, in the conventional semiconductor memory device, the output control signal generation circuit 59 is considered in consideration of various factors that determine the output determination time t AC. By adjusting the delay time t 3 of the inverter array of the output ON time t ON
Had to be optimized. Therefore, there is also a problem that the optimum circuit design cannot be easily performed.

【0023】本発明は従来の半導体記憶装置における問
題を解決するものであり、従来よりも高速なデータ読み
出し動作が可能であり、且つ最適な回路設計が容易にで
きる半導体記憶装置を提供することを目的とする。
The present invention solves a problem in a conventional semiconductor memory device, and provides a semiconductor memory device capable of performing a data read operation at a higher speed than the conventional one and facilitating optimum circuit design. To aim.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明は、メモリセルアレー及びデータ読み出し回
路を備えた半導体記憶装置に、前記メモリセルアレーを
構成するメモリセルと同じ形状のメモリセルからなるメ
モリセルアレー及び該メモリアレーのデータを読み出す
前記データ読み出し回路と等価な回路をさらに追加し、
該回路から出力される制御信号によってメモリセルアレ
ーから読み出されるデータが不要な待ち時間なく外部へ
出力されるよう制御するものである。
To achieve the above object, the present invention provides a semiconductor memory device having a memory cell array and a data read circuit, and a memory having the same shape as the memory cells forming the memory cell array. A memory cell array including cells and a circuit equivalent to the data read circuit for reading data from the memory array are further added,
The control signal output from the circuit controls so that the data read from the memory cell array is output to the outside without unnecessary waiting time.

【0025】請求項1の発明が講じた解決手段は、
“1”又は“0”のうちいずれか1つのデータを記憶す
る複数のメモリセルが所望の記憶容量分マトリックス状
に配列された第1のメモリセルアレーと、前記第1のメ
モリセルアレーの各行にそれぞれ接続されておりデータ
読み出し対象のメモリセルが配列されている行を指示す
る行デコーダと、前記第1のメモリセルアレーの各列に
それぞれ接続されておりデータ読み出し対象のメモリセ
ルが配列されている列を指示する列デコーダと、前記第
1のメモリセルアレーにおいて前記行デコーダにより指
示される行及び前記列デコーダにより指示される列に配
列されているメモリセルのデータを読み出すデータ読み
出し回路と、前記データ読み出し回路により読み出され
たデータを外部へ出力する出力バッファ回路とを備えた
半導体記憶装置を前提とし、第1のメモリセルアレーを
構成するメモリセルと同じ構造の複数のメモリセルが2
列に配列されており、第1の列のメモリセルは全て
“1”を記憶している一方第2の列のメモリセルは全て
“0”を記憶している第2のメモリセルアレーと、前記
データ読み出し回路と等価な回路であり、前記データ読
み出し回路が前記第1のメモリセルアレーの一のメモリ
セルのデータを読み出すとき、前記第2のメモリセルア
レーの第1の列に配列された一のメモリセルのデータを
読み出す第1の回路と、前記データ読み出し回路と等価
な回路であり、前記データ読み出し回路が前記第1のメ
モリセルアレーの一のメモリセルのデータを読み出すと
き、前記第2のメモリセルアレーの第2の列に配列され
た一のメモリセルのデータを読み出す第2の回路と、前
記第1の回路及び第2の回路により読み出されたデータ
を入力とし、前記第1の回路により読み出されたデータ
が“1”になり且つ前記第2の回路により読み出された
データが“0”になったとき、前記出力バッファ回路に
前記データ読み出し回路により読み出されたデータを外
部へ出力するよう指示する制御回路とをさらに備えてい
る構成とするものである。
The solving means taken by the invention of claim 1 is
A first memory cell array in which a plurality of memory cells storing any one data of "1" or "0" are arranged in a matrix for a desired storage capacity, and each row of the first memory cell array. And a row decoder connected to each of the first memory cell arrays to indicate the row in which the memory cells to be read out are arranged, and memory cells to be read out from each row are connected to each column of the first memory cell array. A column decoder for instructing a certain column, and a data read circuit for reading out data of memory cells arranged in a row instructed by the row decoder and in a column instructed by the column decoder in the first memory cell array. A semiconductor memory device having an output buffer circuit for outputting the data read by the data reading circuit to the outside. Hisage a plurality of memory cells having the same structure as a memory cell constituting the first memory cell array is 2
A second memory cell array arranged in columns, wherein the memory cells in the first column all store "1" while the memory cells in the second column all store "0"; The circuit is equivalent to the data read circuit, and when the data read circuit reads data of one memory cell of the first memory cell array, the data read circuit is arranged in the first column of the second memory cell array. A first circuit for reading data of one memory cell and a circuit equivalent to the data reading circuit, wherein when the data reading circuit reads data of one memory cell of the first memory cell array, A second circuit for reading the data of one memory cell arranged in the second column of the second memory cell array; and the data read by the first circuit and the second circuit as input, 1 When the data read by the circuit becomes "1" and the data read by the second circuit becomes "0", the data read by the data read circuit is transferred to the output buffer circuit. The control circuit for instructing output to the outside is further provided.

【0026】請求項2の発明は、請求項1の発明の構成
に、前記制御回路は、前記出力バッファ回路に前記デー
タ読み出し回路により読み出されたデータを外部へ出力
するよう指示した後、前記データ読み出し回路に待機状
態になるよう指示する構成を付加するものである。
According to a second aspect of the invention, in the configuration of the first aspect of the invention, the control circuit instructs the output buffer circuit to output the data read by the data read circuit to the outside, and then the control circuit outputs the data to the outside. A configuration for instructing the data read circuit to enter the standby state is added.

【0027】請求項3の発明が講じた解決手段は、
“1”又は“0”のうちいずれか1つのデータを記憶す
る複数のメモリセルが所望の記憶容量分マトリックス状
に配列された第1のメモリセルアレーと、前記第1のメ
モリセルアレーの各行にそれぞれ接続されておりデータ
読み出し対象のメモリセルが配列されている行を指示す
る行デコーダと、前記第1のメモリセルアレーの各列に
それぞれ接続されておりデータ読み出し対象のメモリセ
ルが配列されている列を指示する列デコーダと、前記第
1のメモリセルアレーにおいて前記行デコーダにより指
示される行及び前記列デコーダにより指示される列に配
列されているメモリセルのデータを読み出すデータ読み
出し回路と、前記データ読み出し回路により読み出され
たデータを保持して出力するラッチ回路と、前記ラッチ
回路から出力されるデータを外部へ出力する出力バッフ
ァ回路とを備えた半導体記憶装置を前提とし、第1のメ
モリセルアレーを構成するメモリセルと同じ構造の複数
のメモリセルが2列に配列されており、第1の列のメモ
リセルは全て“1”を記憶している一方第2の列のメモ
リセルは全て“0”を記憶している第2のメモリセルア
レーと、前記データ読み出し回路と等価な回路であり、
前記データ読み出し回路が前記第1のメモリセルアレー
の一のメモリセルのデータを読み出すとき、前記第2の
メモリセルアレーの第1の列に配列された一のメモリセ
ルのデータを読み出す第1の回路と、前記データ読み出
し回路と等価な回路であり、前記データ読み出し回路が
前記第1のメモリセルアレーの一のメモリセルのデータ
を読み出すとき、前記第2のメモリセルアレーの第2の
列に配列された一のメモリセルのデータを読み出す第2
の回路と、前記第1の回路及び第2の回路により読み出
されたデータを入力とし、前記第1の回路により読み出
されたデータが“1”になり且つ前記第2の回路により
読み出されたデータが“0”になったとき、前記ラッチ
回路に前記データ読み出し回路により読み出されたデー
タを保持して出力するよう指示すると共に、前記出力バ
ッファ回路に前記ラッチ回路から出力されるデータを外
部へ出力するよう指示する制御手段とをさらに備えてい
る構成とするものである。
The solution means taken by the invention of claim 3 is
A first memory cell array in which a plurality of memory cells storing any one data of "1" or "0" are arranged in a matrix for a desired storage capacity, and each row of the first memory cell array. And a row decoder connected to each of the first memory cell arrays to indicate the row in which the memory cells to be read out are arranged, and memory cells to be read out from each row are connected to each column of the first memory cell array. A column decoder for instructing a certain column, and a data read circuit for reading out data of memory cells arranged in a row instructed by the row decoder and in a column instructed by the column decoder in the first memory cell array. A latch circuit that holds and outputs the data read by the data read circuit, and a latch circuit that outputs the data. Assuming a semiconductor memory device including an output buffer circuit for outputting data to the outside, a plurality of memory cells having the same structure as the memory cells forming the first memory cell array are arranged in two columns. The memory cells in the column of "1" store all "1", while the memory cells in the second column store "0", and a circuit equivalent to the data read circuit. Yes,
When the data read circuit reads the data of one memory cell of the first memory cell array, the first data of the one memory cell arranged in the first column of the second memory cell array is read. And a circuit equivalent to the data read circuit, wherein when the data read circuit reads data of one memory cell of the first memory cell array, a second column of the second memory cell array is read. Second reading data of one arranged memory cell
And the data read by the first circuit and the second circuit as input, the data read by the first circuit becomes “1” and read by the second circuit. When the stored data becomes “0”, the latch circuit is instructed to hold and output the data read by the data read circuit, and the output buffer circuit outputs the data output from the latch circuit. And a control means for instructing to output the output to the outside.

【0028】請求項4の発明は、請求項3の発明の構成
に、前記制御回路は、前記出力バッファ回路に前記ラッ
チ回路から出力されるデータを外部へ出力するよう指示
した後、前記データ読み出し回路及びラッチ回路に待機
状態になるよう指示する構成を付加するものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the configuration of the third aspect, the control circuit instructs the output buffer circuit to output the data output from the latch circuit to the outside, and then reads the data. A configuration for instructing the circuit and the latch circuit to enter the standby state is added.

【0029】請求項5の発明が講じた解決手段は、
“1”又は“0”のうちいずれか1つのデータを記憶す
る複数のメモリセルが所望の記憶容量分マトリックス状
に配列された第1のメモリセルアレーと、前記第1のメ
モリセルアレーの各行にそれぞれ接続されておりデータ
読み出し対象のメモリセルが配列されている行を指示す
る行デコーダと、前記第1のメモリセルアレーの各列に
それぞれ接続されておりデータ読み出し対象のメモリセ
ルが配列されている列を指示する列デコーダと、前記第
1のメモリセルアレーにおいて前記行デコーダにより指
示される行及び前記列デコーダにより指示される列に配
列されているメモリセルのデータを読み出すデータ読み
出し回路と、前記データ読み出し回路により読み出され
たデータを外部へ出力する出力バッファ回路とを備えた
半導体記憶装置を前提とし、第1のメモリセルアレーを
構成するメモリセルと同じ構造の複数のメモリセルが1
列に配列されており、前記複数のメモリセルは全て同じ
データを記憶している第2のメモリセルアレーと、前記
データ読み出し回路と等価な回路であり、前記データ読
み出し回路が前記第1のメモリセルアレーの一のメモリ
セルのデータを読み出すとき、前記第2のメモリセルア
レーの一のメモリセルのデータを読み出し、読み出され
たデータが前記第2のメモリセルアレーのメモリセルが
記憶しているデータと一致したときに前記出力バッファ
回路に前記データ読み出し回路により読み出されたデー
タを外部へ出力するよう指示する制御回路とをさらに備
えている構成とするものである。
The solution means taken by the invention of claim 5 is as follows.
A first memory cell array in which a plurality of memory cells storing any one data of "1" or "0" are arranged in a matrix for a desired storage capacity, and each row of the first memory cell array. And a row decoder connected to each of the first memory cell arrays to indicate the row in which the memory cells to be read out are arranged, and memory cells to be read out from each row are connected to each column of the first memory cell array. A column decoder for instructing a certain column, and a data read circuit for reading out data of memory cells arranged in a row instructed by the row decoder and in a column instructed by the column decoder in the first memory cell array. A semiconductor memory device having an output buffer circuit for outputting the data read by the data reading circuit to the outside. Hisage a plurality of memory cells having the same structure as a memory cell constituting the first memory cell array 1
The plurality of memory cells is a circuit equivalent to the second memory cell array in which all of the plurality of memory cells store the same data and the data read circuit, and the data read circuit is the first memory. When reading data of one memory cell of the cell array, the data of one memory cell of the second memory cell array is read, and the read data is stored in the memory cell of the second memory cell array. And a control circuit for instructing the output buffer circuit to output the data read by the data reading circuit to the outside when the data matches the existing data.

【0030】請求項6の発明は、請求項5の発明の構成
に、前記制御回路は、前記出力バッファ回路に前記デー
タ読み出し回路により読み出されたデータを外部へ出力
するよう指示した後、前記データ読み出し回路に待機状
態になるよう指示する構成を付加するものである。
According to a sixth aspect of the present invention, in the configuration of the fifth aspect, the control circuit instructs the output buffer circuit to output the data read by the data read circuit to the outside, and A configuration for instructing the data read circuit to enter the standby state is added.

【0031】請求項7の発明が講じた解決手段は、
“1”又は“0”のうちいずれか1つのデータを記憶す
る複数のメモリセルが所望の記憶容量分マトリックス状
に配列された第1のメモリセルアレーと、前記第1のメ
モリセルアレーの各行にそれぞれ接続されておりデータ
読み出し対象のメモリセルが配列されている行を指示す
る行デコーダと、前記第1のメモリセルアレーの各列に
それぞれ接続されておりデータ読み出し対象のメモリセ
ルが配列されている列を指示する列デコーダと、前記第
1のメモリセルアレーにおいて前記行デコーダにより指
示される行及び前記列デコーダにより指示される列に配
列されているメモリセルのデータを読み出すデータ読み
出し回路と、前記データ読み出し回路により読み出され
たデータを保持して出力するラッチ回路と、前記ラッチ
回路から出力されるデータを外部へ出力する出力バッフ
ァ回路とを備えた半導体記憶装置を前提とし、第1のメ
モリセルアレーを構成するメモリセルと同じ構造の複数
のメモリセルが1列に配列されており、前記複数のメモ
リセルは全て同じデータを記憶している第2のメモリセ
ルアレーと、前記データ読み出し回路と等価な回路であ
り、前記データ読み出し回路が前記第1のメモリセルア
レーの一のメモリセルのデータを読み出すとき、前記第
2のメモリセルアレーのメモリセルのデータを読み出
し、読み出されたデータが前記第2のメモリセルアレー
のメモリセルが記憶しているデータと一致したとき、前
記ラッチ回路に前記データ読み出し回路により読み出さ
れたデータを保持して出力するよう指示すると共に、前
記出力バッファ回路に前記ラッチ回路から出力されたデ
ータを外部へ出力するよう指示する制御回路とをさらに
備えている構成とするものである。
The solution means taken by the invention of claim 7 is as follows:
A first memory cell array in which a plurality of memory cells storing any one data of "1" or "0" are arranged in a matrix for a desired storage capacity, and each row of the first memory cell array. And a row decoder connected to each of the first memory cell arrays to indicate the row in which the memory cells to be read out are arranged, and memory cells to be read out from each row are connected to each column of the first memory cell array. A column decoder for instructing a certain column, and a data read circuit for reading out data of memory cells arranged in a row instructed by the row decoder and in a column instructed by the column decoder in the first memory cell array. A latch circuit that holds and outputs the data read by the data read circuit, and a latch circuit that outputs the data. Assuming a semiconductor memory device including an output buffer circuit for outputting data to the outside, a plurality of memory cells having the same structure as the memory cells forming the first memory cell array are arranged in one column. Is a circuit equivalent to the second memory cell array storing all the same data and the data read circuit, and the data read circuit outputs data of one memory cell of the first memory cell array. Is read, the data in the memory cell of the second memory cell array is read, and when the read data matches the data stored in the memory cell of the second memory cell array, The output buffer circuit is instructed to hold and output the data read by the data read circuit, and the output buffer circuit is provided with the latch circuit. It is an arrangement further comprising a control circuit for instructing to output a et output data to the outside.

【0032】請求項8の発明は、請求項7の発明の構成
に、前記制御回路は、前記出力バッファ回路に前記ラッ
チ回路から出力されるデータを外部へ出力するよう指示
した後、前記データ読み出し回路及びラッチ回路に待機
状態になるよう指示する構成を付加するものである。
According to an eighth aspect of the present invention, in the configuration of the seventh aspect, the control circuit instructs the output buffer circuit to output the data output from the latch circuit to the outside, and then reads the data. A configuration for instructing the circuit and the latch circuit to enter the standby state is added.

【0033】請求項1の発明の構成によると、第1のメ
モリセルアレーの一のメモリセルのデータがデータ読み
出し回路により読み出されるとき、第1の回路により第
2のメモリセルアレーの第1の列に配列された一のメモ
リセルのデータが読み出される共に第2の回路により第
2のメモリセルアレーの第2の列に配列された一のメモ
リセルのデータが読み出される。第2のメモリセルアレ
ーの第1の列のメモリセルは全て“1”を記憶している
一方、第2の列のメモリセルは全て“0”を記憶してお
り、制御回路は、第1の回路により読み出されたデータ
が“1”となり且つ第2の回路により読み出されたデー
タが“0”となったとき、出力バッファ回路にデータ読
み出し回路により読み出されたデータを外部へ出力する
よう指示する。ここで、第2のメモリセルアレーを構成
するメモリセルは第1のメモリセルアレーを構成するメ
モリセルと同じ構造であり、しかも第1の回路及び第2
の回路はデータ読み出し回路と等価な回路である。この
ため、第1の回路により読み出されたデータが“1”に
なるのに要する時間及び第2の回路により読み出された
データが“0”になるのに要する時間は、データ読み出
し回路がデータを読み出すのに要する時間とほぼ等しく
なる。したがって、第1のメモリセルアレーから読み出
されたデータは、不要な待ち時間なく出力バッファ回路
から出力されることになる。
According to the structure of the first aspect of the present invention, when the data of the one memory cell of the first memory cell array is read by the data read circuit, the first circuit of the second memory cell array is read by the first circuit. The data of one memory cell arranged in a column is read out and the data of one memory cell arranged in a second column of the second memory cell array is read out by the second circuit. All the memory cells in the first column of the second memory cell array store "1", while all the memory cells in the second column store "0". When the data read by the second circuit becomes "1" and the data read by the second circuit becomes "0", the data read by the data reading circuit is output to the output buffer circuit to the outside. Instruct them to do so. Here, the memory cells forming the second memory cell array have the same structure as the memory cells forming the first memory cell array, and moreover, the first circuit and the second circuit
Is a circuit equivalent to the data read circuit. Therefore, the time required for the data read by the first circuit to become "1" and the time required for the data read by the second circuit to become "0" are It is almost equal to the time required to read the data. Therefore, the data read from the first memory cell array is output from the output buffer circuit without unnecessary waiting time.

【0034】請求項2の発明の構成によると、データが
出力バッファ回路から出力された後データ読み出し回路
は待機状態になる。
According to the second aspect of the invention, after the data is output from the output buffer circuit, the data read circuit goes into a standby state.

【0035】請求項3の発明の構成によると、第1のメ
モリセルアレーの一のメモリセルのデータがデータ読み
出し回路により読み出されるとき、第1の回路により第
2のメモリセルアレーの第1の列に配列された一のメモ
リセルのデータが読み出される共に第2の回路により第
2のメモリセルアレーの第2の列に配列された一のメモ
リセルのデータが読み出される。第2のメモリセルアレ
ーの第1の列のメモリセルは全て“1”を記憶している
一方、第2の列のメモリセルは全て“0”を記憶してい
る。制御回路は、第1の回路により読み出されたデータ
が“1”となり且つ第2の回路により読み出されたデー
タが“0”となったとき、ラッチ回路にデータ読み出し
回路により読み出されたデータを保持して出力するよう
指示すると共に、出力バッファ回路にラッチ回路から出
力されるデータを外部へ出力するよう指示する。ここ
で、第2のメモリセルアレーを構成するメモリセルは第
1のメモリセルアレーを構成するメモリセルと同じ構造
であり、しかも第1の回路及び第2の回路はデータ読み
出し回路と等価な回路である。このため、第1の回路に
より読み出されたデータが“1”になるのに要する時間
及び第2の回路により読み出されたデータが“0”にな
るのに要する時間は、データ読み出し回路がデータを読
み出すのに要する時間とほぼ等しくなる。したがって、
第1のメモリセルアレーから読み出されたデータは、不
要な待ち時間なくラッチ回路を介して出力バッファ回路
から出力されることになる。
According to the structure of the third aspect of the invention, when the data of the one memory cell of the first memory cell array is read by the data read circuit, the first circuit of the second memory cell array is read by the first circuit. The data of one memory cell arranged in a column is read out and the data of one memory cell arranged in a second column of the second memory cell array is read out by the second circuit. The memory cells in the first column of the second memory cell array all store "1", while the memory cells in the second column all store "0". The control circuit reads the data read by the latch circuit when the data read by the first circuit becomes "1" and the data read by the second circuit becomes "0". It instructs to hold and output the data, and instructs the output buffer circuit to output the data output from the latch circuit to the outside. Here, the memory cells forming the second memory cell array have the same structure as the memory cells forming the first memory cell array, and the first circuit and the second circuit are equivalent to the data read circuit. Is. Therefore, the time required for the data read by the first circuit to become "1" and the time required for the data read by the second circuit to become "0" are It is almost equal to the time required to read the data. Therefore,
The data read from the first memory cell array will be output from the output buffer circuit via the latch circuit without unnecessary waiting time.

【0036】請求項4の発明の構成によると、データが
出力バッファ回路から出力された後データ読み出し回路
及びラッチ回路は待機状態になる。
According to the fourth aspect of the invention, after the data is output from the output buffer circuit, the data read circuit and the latch circuit are in a standby state.

【0037】請求項5の発明の構成によると、第1のメ
モリセルアレーの一のメモリセルのデータがデータ読み
出し回路により読み出されるとき、制御回路により第2
のメモリセルアレーの一のメモリセルのデータが読み出
される。第2のメモリセルアレーのメモリセルは全て同
じデータを記憶している。制御回路は、読み出したデー
タが第2のメモリセルアレーのメモリセルが記憶してい
るデータと一致したときに、出力バッファ回路にラッチ
回路から出力されるデータを外部へ出力するよう指示す
る。ここで、第2のメモリセルアレーを構成するメモリ
セルは第1のメモリセルアレーを構成するメモリセルと
同じ構造であり、しかも制御回路はデータ読み出し回路
と等価な回路である。このため、制御回路により読み出
されたデータが第2のメモリセルアレーのメモリセルが
記憶しているデータと一致するのに要する時間は、デー
タ読み出し回路がデータを読み出すのに要する時間とほ
ぼ等しくなる。したがって、第1のメモリセルアレーか
ら読み出されたデータは、不要な待ち時間なく出力バッ
ファ回路から出力されることになる。
According to the structure of the invention of claim 5, when the data of the one memory cell of the first memory cell array is read by the data read circuit, the second data is read by the control circuit.
The data in one memory cell of the memory cell array is read. The memory cells of the second memory cell array all store the same data. When the read data matches the data stored in the memory cells of the second memory cell array, the control circuit instructs the output buffer circuit to output the data output from the latch circuit to the outside. Here, the memory cells forming the second memory cell array have the same structure as the memory cells forming the first memory cell array, and the control circuit is a circuit equivalent to the data read circuit. Therefore, the time required for the data read by the control circuit to match the data stored in the memory cells of the second memory cell array is substantially equal to the time required for the data read circuit to read the data. Become. Therefore, the data read from the first memory cell array is output from the output buffer circuit without unnecessary waiting time.

【0038】請求項6の発明の構成によると、データが
出力バッファ回路から出力された後データ読み出し回路
は待機状態になる。
According to the sixth aspect of the invention, after the data is output from the output buffer circuit, the data read circuit goes into a standby state.

【0039】請求項7の発明の構成によると、第1のメ
モリセルアレーの一のメモリセルのデータがデータ読み
出し回路により読み出されるとき、制御回路により第2
のメモリセルアレーの一のメモリセルのデータが読み出
される。第2のメモリセルアレーのメモリセルは全て同
じデータを記憶している。制御回路は、読み出したデー
タが第2のメモリセルアレーのメモリセルが記憶してい
るデータと一致したときに、ラッチ回路にデータ読み出
し回路により読み出されたデータを保持して出力するよ
う指示すると共に、出力バッファ回路にラッチ回路から
出力されるデータを外部へ出力するよう指示する。ここ
で、第2のメモリセルアレーを構成するメモリセルは第
1のメモリセルアレーを構成するメモリセルと同じ構造
であり、しかも制御回路はデータ読み出し回路と等価な
回路である。このため、制御回路により読み出されたデ
ータが第2のメモリセルアレーのメモリセルが記憶して
いるデータと一致するのに要する時間は、データ読み出
し回路がデータを読み出すのに要する時間とほぼ等しく
なる。したがって、第1のメモリセルアレーから読み出
されたデータは、不要な待ち時間なくラッチ回路を介し
て出力バッファ回路から出力されることになる。
According to the configuration of the invention of claim 7, when the data of the one memory cell of the first memory cell array is read by the data read circuit, the second data is read by the control circuit.
The data in one memory cell of the memory cell array is read. The memory cells of the second memory cell array all store the same data. The control circuit instructs the latch circuit to hold and output the data read by the data read circuit when the read data matches the data stored in the memory cell of the second memory cell array. At the same time, it instructs the output buffer circuit to output the data output from the latch circuit to the outside. Here, the memory cells forming the second memory cell array have the same structure as the memory cells forming the first memory cell array, and the control circuit is a circuit equivalent to the data read circuit. Therefore, the time required for the data read by the control circuit to match the data stored in the memory cells of the second memory cell array is substantially equal to the time required for the data read circuit to read the data. Become. Therefore, the data read from the first memory cell array is output from the output buffer circuit via the latch circuit without unnecessary waiting time.

【0040】請求項8の発明の構成によると、データが
出力バッファ回路から出力された後データ読み出し回路
及びラッチ回路は待機状態になる。
According to the eighth aspect of the invention, after the data is output from the output buffer circuit, the data read circuit and the latch circuit are in a standby state.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(第1の実施例)図1は、第1の実施例に係る半導体記
憶装置の回路図である。ここでは、従来例と同様に、メ
モリセルトランジスタのスレシュホールド電圧の高低に
よりROMデータの書き込みが行われるマスクROMを
例にとっている。図1において、図5と同一部分には同
一符号を付し、異なる部分についてのみ構成を説明す
る。
(First Embodiment) FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to the first embodiment. Here, as in the conventional example, a mask ROM in which ROM data is written depending on whether the threshold voltage of the memory cell transistor is high or low is taken as an example. In FIG. 1, the same parts as those in FIG. 5 are designated by the same reference numerals, and only the different parts will be described.

【0042】10は第1のメモリセルアレーであり、図
5に示した従来例におけるメモリセルアレー51と同様
に、n型MOSトランジスタで形成されたメモリセルM
(i,j)がm行n列のマトリックス状にアレー配列さ
れることにより構成される。本実施例ではさらに、メモ
リセルがm行2列のマトリックス状にアレー配列された
第2のメモリセルアレー11を備えている。すなわち、
(n+1)列目にメモリセルM(i,n+1)(i=1
〜m)が追加されると共に(n+2)列目にメモリセル
M(i,n+2)(i=1〜m)が追加された形のm行
(n+2)列のマトリックス状のアレー構成になってい
る。メモリセルM(i,n+1)及びM(i,n+2)
も、従来例のメモリセルを形成するのと同じ形状のn型
MOSトランジスタで形成されている。また、第2のメ
モリセルアレー11は、行デコーダ52Aからみて第1
のメモリセルアレー10よりも遠い位置に配置されてい
る。
Reference numeral 10 denotes a first memory cell array, which is similar to the memory cell array 51 in the conventional example shown in FIG. 5 and is formed by an n-type MOS transistor.
(I, j) are arrayed in a matrix of m rows and n columns. The present embodiment further includes a second memory cell array 11 in which memory cells are arranged in a matrix of m rows and 2 columns. That is,
The memory cell M (i, n + 1) (i = 1) in the (n + 1) th column
.About.m) are added and memory cells M (i, n + 2) (i = 1 to m) are added to the (n + 2) th column to form a matrix array configuration of m rows (n + 2) columns. There is. Memory cells M (i, n + 1) and M (i, n + 2)
Is also formed by an n-type MOS transistor having the same shape as that of the conventional memory cell. Further, the second memory cell array 11 has a first memory cell array when viewed from the row decoder 52A.
Of the memory cell array 10 of FIG.

【0043】メモリセルM(i,n+1)及びM(i,
n+2)のゲートは、従来例と同様にワード線Wi (i
=1〜m)に各々接続されている。また、(n+1)列
目のメモリセルM(i,n+1)のドレインはビット線
BLn+1 に接続され、(n+2)列目のメモリセルM
(i,n+2)のドレインはビット線BLn+2 に接続さ
れている。ビット線BLn+1 はn型MOSトランジスタ
QCn+1 のソースに接続されており、ビット線BLn+2
はn型MOSトランジスタQCn+2 のソースに接続され
ている。トランジスタQCn+1 及びQCn+2 はビット線
選択用トランジスタQCj (j=1〜n)と同じ形状で
形成されており、ゲートはビット線選択信号線C0 に各
々接続されている。ビット線選択信号線C0 は他のビッ
ト線選択信号線Cj (j=1〜n)と同様に列デコーダ
53Aに接続されている。
Memory cells M (i, n + 1) and M (i,
The gate of (n + 2) is the word line W i (i
= 1 to m), respectively. The drain of the memory cell M (i, n + 1) in the (n + 1) th column is connected to the bit line BL n + 1, and the memory cell M in the (n + 2) th column is
The drain of (i, n + 2) is connected to the bit line BL n + 2 . The bit line BL n + 1 is connected to the source of the n-type MOS transistor QC n + 1 , and the bit line BL n + 2
Is connected to the source of the n-type MOS transistor QC n + 2 . The transistors QC n + 1 and QC n + 2 are formed in the same shape as the bit line selection transistor QC j (j = 1 to n), and their gates are connected to the bit line selection signal line C 0 , respectively. The bit line selection signal line C 0 is connected to the column decoder 53A like other bit line selection signal lines C j (j = 1 to n).

【0044】(n+1)列目のメモリセルM(i,n+
1)には全て“1”が書き込まれており、(n+2)列
目のメモリセルM(i,n+2)には全て“0”が書き
込まれている。また、ビット線選択信号線C0 の電位
は、データが読み出されるメモリセルM(i,j)(i
=1〜m,j=1〜n)の位置にかかわらず、読み出し
動作時は“H”レベルになる。
Memory cell M (i, n +) in the (n + 1) th column
"1" is written in all of 1), and "0" is written in all of the memory cells M (i, n + 2) in the (n + 2) th column. Further, the potential of the bit line selection signal line C 0 is set to the memory cell M (i, j) (i) from which data is read.
= 1 to m, j = 1 to n), the level becomes "H" during the read operation.

【0045】QR1 及びQR2 はビット線初期電位設定
用のトランジスタであり、トランジスタQR1 のドレイ
ンはビット線BLn+1 に接続されている一方トランジス
タQR2 のドレインはビット線BLn+2 に接続されてお
り、ソースは各々接地されている。また、トランジスタ
QR1 及びQR2 のゲートはビット線リセット信号線R
に接続され、このビット線リセット信号線Rは行デコー
ダ52Aに接続されている。ビット線リセット信号線R
の電位は、メモリセルのデータ読み出し動作が完了した
後“H”レベルに変化してビット線BLn+1 及びBL
n+2 の電位を0Vに設定し、次のデータ読み出し動作開
始と共に“L”レベルに変化する。
QR 1 and QR 2 are transistors for setting the bit line initial potential. The drain of the transistor QR 1 is connected to the bit line BL n + 1 , while the drain of the transistor QR 2 is the bit line BL n + 2. And the sources are each grounded. The gates of the transistors QR 1 and QR 2 are bit line reset signal lines R
The bit line reset signal line R is connected to the row decoder 52A. Bit line reset signal line R
Potential changes to "H" level after the data read operation of the memory cell is completed, and the bit lines BL n + 1 and BL
The potential of n + 2 is set to 0V, and changes to "L" level at the start of the next data read operation.

【0046】12は第1の回路としての第1の出力制御
信号発生回路であり、データ読み出し回路としてのセン
スアンプ回路55と同一の回路構成からなる。第1の出
力制御信号発生回路12は、第2のメモリセルアレー1
1の(n+1)列目のメモリセル列とトランジスタQC
n+1 を介して接続されており、プリチャージ信号VP及
びセンスアンプ活性化信号VSEにより制御される。接
続されているメモリセルにはROMデータ“1”が書き
込まれており、データ読み出し動作が完了した時点で第
1の出力制御信号発生回路12の出力信号VS1
“H”レベルとなる。
Reference numeral 12 is a first output control signal generating circuit as a first circuit, which has the same circuit configuration as the sense amplifier circuit 55 as a data reading circuit. The first output control signal generation circuit 12 includes a second memory cell array 1
1 (n + 1) th memory cell column and transistor QC
They are connected via n + 1 and are controlled by the precharge signal VP and the sense amplifier activation signal VSE. ROM data “1” is written in the connected memory cells, and the output signal VS 1 of the first output control signal generation circuit 12 becomes “H” level when the data read operation is completed.

【0047】13は第2の回路としての第2の出力制御
信号発生回路であり、第1の出力制御信号発生回路12
と同様にセンスアンプ回路55と同一の回路構成からな
る。第2の出力制御信号発生回路13は、第2のメモリ
セルアレー11の(n+2)列目のメモリセル列とトラ
ンジスタQCn+2 を介して接続されており、プリチャー
ジ信号VP及びセンスアンプ活性化信号VSEにより制
御される。接続されているメモリセルにはROMデータ
“0”が書き込まれており、データ読み出し動作が完了
した時点で第2の出力制御信号発生回路13の出力信号
は“L”レベルとなる。
Reference numeral 13 is a second output control signal generation circuit as a second circuit, and the first output control signal generation circuit 12
The same circuit configuration as the sense amplifier circuit 55. The second output control signal generation circuit 13 is connected to the (n + 2) th memory cell column of the second memory cell array 11 via the transistor QC n + 2, and is connected to the precharge signal VP and the sense amplifier activation. It is controlled by the signal VSE. ROM data "0" is written in the connected memory cells, and the output signal of the second output control signal generation circuit 13 becomes "L" level when the data read operation is completed.

【0048】14は制御回路であり、論理積回路14a
及び位相反転用インバータIV1 により構成されてい
る。位相反転用インバータIV1 は第2の出力制御信号
発生回路13の出力信号を反転して信号VS0 を出力す
る。論理積回路14aは、第1の出力制御信号発生回路
12の出力信号VS1 及び位相反転用インバータIV1
の出力VS0 の論理積をとり、制御信号VC1 として出
力する。すなわち、(n+1)列目のメモリセルのRO
Mデータ“1”及び(n+2)列目のメモリセルのRO
Mデータ“0”の読み出し動作が共に完了したとき、制
御信号VC1 は“H”レベルとなる。この制御信号VC
1 により、データラッチ回路56及び出力バッファ回路
57は制御される。
Reference numeral 14 is a control circuit, which is a logical product circuit 14a.
And a phase inversion inverter IV 1 . The phase inversion inverter IV 1 inverts the output signal of the second output control signal generation circuit 13 and outputs the signal VS 0 . The AND circuit 14a includes the output signal VS 1 of the first output control signal generation circuit 12 and the phase inversion inverter IV 1.
Output VS 0 of the above is obtained and output as a control signal VC 1 . That is, the RO of the memory cell in the (n + 1) th column
RO of the memory cell of the M data “1” and the (n + 2) th column
When the reading operation of the M data “0” is completed, the control signal VC 1 becomes “H” level. This control signal VC
By 1 , the data latch circuit 56 and the output buffer circuit 57 are controlled.

【0049】以上のように構成された半導体記憶装置に
ついて、その動作を図2のタイミング図を用いて説明す
る。
The operation of the semiconductor memory device configured as described above will be described with reference to the timing chart of FIG.

【0050】初期状態では、ビット線リセット信号Rは
“H”レベルであるのでビット線初期電位設定用トラン
ジスタQR1 及びQR2 は導通している。したがって、
ビット線BLn+1 及びBLn+2 は初期状態ではグランド
電位に設定される。
In the initial state, since the bit line reset signal R is at "H" level, the bit line initial potential setting transistors QR 1 and QR 2 are conducting. Therefore,
The bit lines BL n + 1 and BL n + 2 are set to the ground potential in the initial state.

【0051】データ読み出し動作に入ると、従来例と同
様に、行デコーダ52A及び列デコーダ53Aにより選
択されたメモリセルM(i,j)のデータがセンスアン
プ回路55を介して読み出される。
When the data read operation is started, the data of the memory cell M (i, j) selected by the row decoder 52A and the column decoder 53A is read through the sense amplifier circuit 55, as in the conventional example.

【0052】また、データ読み出し動作開始と同時にビ
ット線リセット信号Rは“L”レベルに変化し、ビット
線初期電位設定用トランジスタQR1 及びQR2 は非導
通状態となる。また同時に、ワード線Wi が“H”レベ
ルになると共にビット線選択信号C0 も“H”レベルに
なりトランジスタQCn+1 及びQCn+2 が導通するの
で、メモリセルM(i,j)と同じ行のメモリセルM
(i,n+1)及びM(i,n+2)が選択されること
になる。さらに、プリチャージ信号VP及びセンスアン
プ活性化信号VSEにより、センスアンプ回路55が動
作を開始すると共に第1の出力制御信号発生回路12及
び第2の出力制御信号発生回路13が動作を開始し、メ
モリセルM(i,n+1)及びM(i,n+2)のデー
タ読み出しが開始される。
Simultaneously with the start of the data read operation, the bit line reset signal R changes to the "L" level, and the bit line initial potential setting transistors QR 1 and QR 2 are turned off. At the same time, the word line W i becomes "H" level, the bit line selection signal C 0 becomes "H" level, and the transistors QC n + 1 and QC n + 2 become conductive, so that the memory cell M (i, j). ) And memory cell M in the same row
(I, n + 1) and M (i, n + 2) will be selected. Further, the precharge signal VP and the sense amplifier activation signal VSE cause the sense amplifier circuit 55 to start operating, and the first output control signal generating circuit 12 and the second output control signal generating circuit 13 also start operating. Data reading of the memory cells M (i, n + 1) and M (i, n + 2) is started.

【0053】プリチャージ動作終了後、時間t1 後に
(n+1)列目のメモリセルのデータ“1”の読み出し
動作が完了し、VS1 が“H”レベルになる。また、プ
リチャージ動作終了後、時間t0 後に(n+2)列目の
メモリセルのデータ“0”の読み出し動作が完了し、V
0 が“H”レベルになる。したがって、両方のデータ
の読み出しが完了した時点で出力信号制御信号VC1
“H”レベルとなり、データラッチ回路56がセンスア
ンプ回路55の出力データVSをラッチすると共に出力
バッファ回路57がデータラッチ回路56の出力データ
VLをデータVOとして出力する。
After the end of the precharge operation, the read operation of the data "1" of the memory cell in the (n + 1) th column is completed at time t 1 , and VS 1 becomes "H" level. After the end of the precharge operation, at time t 0 , the read operation of the data “0” of the memory cell in the (n + 2) th column is completed, and V
S 0 becomes “H” level. Therefore, when the reading of both data is completed, the output signal control signal VC 1 becomes “H” level, the data latch circuit 56 latches the output data VS of the sense amplifier circuit 55, and the output buffer circuit 57 outputs the data latch circuit 57. The output data VL of 56 is output as data VO.

【0054】ここで、第2のメモリセルアレー11は第
1のメモリセルアレー51よりも行デコーダ52Aから
みて遠い位置に配置されているので、出力信号制御信号
VC1 が“H”レベルとなるタイミングはセンスアンプ
回路55によるデータ読み出しが完了するタイミングよ
りもわずかに遅くなる。このため、無駄な待ち時間を必
要とせずに読み出したデータを外部に出力することがで
きる。したがって、データ読み出し動作の高速化が実現
できる。
Here, since the second memory cell array 11 is located farther from the row decoder 52A than the first memory cell array 51, the output signal control signal VC 1 becomes "H" level. The timing is slightly later than the timing when the data reading by the sense amplifier circuit 55 is completed. Therefore, the read data can be output to the outside without needing a useless waiting time. Therefore, speeding up of the data read operation can be realized.

【0055】なお、例えば行1024ビット×列102
4ビットの1Mビットの容量を持つROMに本実施例を
適用する場合、出力ビット構成に関係なくメモリセルを
2列追加するだけでよいので、追加されるメモリセルに
よるメモリセルアレー面積の増分は0.2%程度であ
り、メモリセル以外に追加される回路を含めても面積の
増分は0.5%以内となる。したがって、本実施例によ
るチップサイズの面積の増加はごくわずかである。
Note that, for example, row 1024 bits × column 102
When the present embodiment is applied to a ROM having a capacity of 1 Mbit of 4 bits, it suffices to add two columns of memory cells regardless of the output bit configuration. Therefore, the increment of the memory cell array area due to the added memory cells is It is about 0.2%, and the area increment is within 0.5% even if circuits other than the memory cells are included. Therefore, the increase in the chip size area according to the present embodiment is negligible.

【0056】なお、ここではNOR型マスクROMの一
例を示したが、NAND型マスクROM、フラッシュ型
EEPROM、紫外線消去型EEPROM等、不揮発性
メモリ全般の読み出し回路に適用できることは言うまで
もない。また本実施例では、データラッチ回路56及び
出力バッファ回路を制御信号VC1 により制御する構成
としたが、センスアンプ回路55の出力を出力バッファ
回路57のみを介して外部へ出力する構成とし、出力バ
ッファ回路57を制御信号VC1 により制御してもよ
い。また、本実施例の構成において、センスアンプ活性
化信号VSEも制御信号VC1 により制御し、出力バッ
ファ回路57からデータを出力した後データラッチ回路
56と共にセンスアンプ回路55を待機状態にすること
により、低電力化を実現することもできる。
Although an example of the NOR type mask ROM is shown here, it goes without saying that it can be applied to a read circuit of general nonvolatile memory such as a NAND type mask ROM, a flash type EEPROM, an ultraviolet erasing type EEPROM and the like. In the present embodiment, the data latch circuit 56 and the output buffer circuit are controlled by the control signal VC 1 , but the output of the sense amplifier circuit 55 is output to the outside only through the output buffer circuit 57, and the output is performed. The buffer circuit 57 may be controlled by the control signal VC 1 . Further, in the configuration of this embodiment, the sense amplifier activation signal VSE is also controlled by the control signal VC 1 , and after the data is output from the output buffer circuit 57, the data latch circuit 56 and the sense amplifier circuit 55 are placed in a standby state. It is also possible to realize low power consumption.

【0057】(第2の実施例)図3は、第2の実施例に
係る半導体記憶装置の回路図である。ここでは、コンタ
クト方式マスクROMを例にとっている。
(Second Embodiment) FIG. 3 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to the second embodiment. Here, a contact-type mask ROM is taken as an example.

【0058】コンタクト方式マスクROMは、メモリセ
ルトランジスタのドレインとビット線との接続の有無を
ROMデータの“1”及び”0”に対応させるものであ
る。一般に、ROMデータのアクセスタイムはビット線
の寄生容量の大きさに依存する。この寄生容量は、ビッ
ト線と半導体基板との間等の静電容量とメモリセルのド
レイン領域と半導体基板との間で形成されるpn接合容
量とに分けられる。コンタクト方式マスクROMは、記
憶するROMデータによりビット線と接続されているメ
モリセルの数が異なるためビット線毎に寄生容量が異な
るので、アクセスタイムがROMデータの内容に依存す
るという特徴がある。
In the contact-type mask ROM, whether or not the drain of the memory cell transistor and the bit line are connected corresponds to "1" and "0" of the ROM data. Generally, the access time of ROM data depends on the size of the parasitic capacitance of the bit line. This parasitic capacitance is divided into an electrostatic capacitance between the bit line and the semiconductor substrate, and a pn junction capacitance formed between the drain region of the memory cell and the semiconductor substrate. The contact-type mask ROM has a feature that the access time depends on the content of the ROM data because the number of memory cells connected to the bit line is different depending on the ROM data to be stored and therefore the parasitic capacitance is different for each bit line.

【0059】図3において、図1及び図5と同一部分に
は同一符号を付し、異なる部分についてのみ構成を説明
する。
In FIG. 3, the same parts as those in FIGS. 1 and 5 are designated by the same reference numerals, and only the different parts will be described.

【0060】20は第1のメモリセルアレーであり、コ
ンタクト方式のメモリセルがm行n列のマトリックス状
にアレー配列されることにより構成される。ここで、●
はメモリセルのドレインがビット線に接続されているこ
とを表し、○はメモリセルのドレインがビット線に接続
されていないことを表す。●がROMデータ“1”に対
応する一方、○がROMデータ“0”に対応する。
Reference numeral 20 denotes a first memory cell array, which is constituted by arranging contact type memory cells in a matrix of m rows and n columns. Where ●
Indicates that the drain of the memory cell is connected to the bit line, and ○ indicates that the drain of the memory cell is not connected to the bit line. ● corresponds to ROM data “1”, while ◯ corresponds to ROM data “0”.

【0061】本実施例ではさらに、メモリセルM(i,
n+1)が1列に配置された第2のメモリセルアレー2
1を備えている。メモリセルM(i,n+1)の各ゲー
トは、ワード線W(i=1〜m)に各々接続されてい
る。また、メモリセルM(i,n+1)のドレインは全
てコンタクトを介してビット線BLn+1 に接続されてお
り、ビット線BLn+1 の寄生容量が他のビット線BLj
(j=1〜n)の寄生容量よりも大きくなるように設定
されている。ビット線BLn+1 はトランジスタQCn+1
のソースに接続されている。トランジスタQCn+1 はビ
ット線選択用トランジスタQC(j=1〜n)と同じ
形状で形成されており、ゲートはビット線選択信号線C
0 に接続されている。ビット線選択信号線C0 は他のビ
ット線選択信号線Cj (j=1〜n)と同様に列デコー
ダ53Bに接続されている。
Further, in this embodiment, the memory cell M (i,
second memory cell array 2 in which (n + 1) are arranged in one column
1 is provided. Each gate of the memory cell M (i, n + 1) is connected to a word line W i (i = 1 to m). Further, the drains of the memory cells M (i, n + 1) are all connected to the bit line BL n + 1 via contacts, and the parasitic capacitance of the bit line BL n + 1 is different from that of the other bit line BL j
It is set to be larger than the parasitic capacitance of (j = 1 to n). The bit line BL n + 1 is a transistor QC n + 1
Connected to the source. The transistor QC n + 1 is formed in the same shape as the bit line selection transistor QC j (j = 1 to n), and the gate thereof is the bit line selection signal line C.
Connected to 0 . The bit line selection signal line C 0 is connected to the column decoder 53B like the other bit line selection signal lines C j (j = 1 to n).

【0062】QR1 はビット線初期電位設定用のトラン
ジスタであり、ドレインがビット線BLn+1 に接続され
ていると共にソースが接地されている。また、ゲートは
ビット線リセット信号線Rに接続されており、このビッ
ト線リセット信号線Rは行デコーダ52Bに接続されて
いる。ビット線リセット信号線Rの電位は、メモリセル
のデータ読み出し動作が完了した後“H”レベルに変化
してビット線BLn+1の電位を0Vに設定し、次のデー
タ読み出し動作開始と共に“L”レベルに変化する。
QR 1 is a transistor for setting a bit line initial potential, the drain of which is connected to the bit line BL n + 1 and the source of which is grounded. The gate is connected to the bit line reset signal line R, and the bit line reset signal line R is connected to the row decoder 52B. The potential of the bit line reset signal line R changes to the “H” level after the data read operation of the memory cell is completed, sets the potential of the bit line BL n + 1 to 0 V, and becomes “V” at the start of the next data read operation. Change to L "level.

【0063】22はデータ読み出し回路としてのセンス
アンプ回路であり、小容量のROMでよく使われている
プリチャージ方式センスアンプ回路である。センスアン
プ回路22は、プリチャージ用トランジスタQP1 、非
読み出し動作時の電位固定用n型MOSトランジスタQ
1 、及びインバータIV2 により構成されている。ま
た、接点22aにはビット線選択用トランジスタQCi
のドレインが共通に接続されている。トランジスタQP
1 のゲートにはプリチャージ信号VPが入力され、ドレ
インは接点22aと接続されている。トランジスタQN
1 のゲートにはセンスアンプ活性化信号VSEが入力さ
れ、ソースは接点22aと接続されている。インバータ
IV2 の入力端子も接点22aと接続されており、出力
端子からデータVSが出力される。
Reference numeral 22 denotes a sense amplifier circuit as a data read circuit, which is a precharge type sense amplifier circuit often used in a small capacity ROM. The sense amplifier circuit 22 includes a precharging transistor QP 1 and a potential fixing n-type MOS transistor Q during non-reading operation.
It is composed of N 1 and an inverter IV 2 . The contact 22a has a bit line selection transistor QC i.
The drains of are commonly connected. Transistor QP
The precharge signal VP is input to the gate of 1 , and the drain is connected to the contact 22a. Transistor QN
The sense amplifier activation signal VSE is input to the gate of 1 , and the source is connected to the contact 22a. The input terminal of the inverter IV 2 is also connected to the contact 22a, and the data VS is output from the output terminal.

【0064】23は制御回路としての出力制御信号発生
回路であり、センスアンプ回路22と同一の回路構成か
らなる。出力制御信号発生回路23は、第2のメモリセ
ルアレー21のメモリセル列とトランジスタQCn+1
介して接続されており、プリチャージ信号VP及びセン
スアンプ活性化信号VSEにより制御される。出力制御
信号発生回路23から出力される制御信号VC1 はデー
タ読み出し動作開始と同時に“L”レベルになり、接続
されているメモリセルにはROMデータ“1”が書き込
まれているのでデータ読み出し動作が完了した時点で
“H”レベルとなる。この制御信号VC1 により、デー
タラッチ回路56及び出力バッファ回路57は制御され
る。
An output control signal generating circuit 23 as a control circuit has the same circuit configuration as the sense amplifier circuit 22. The output control signal generation circuit 23 is connected to the memory cell column of the second memory cell array 21 via the transistor QC n + 1 and is controlled by the precharge signal VP and the sense amplifier activation signal VSE. The control signal VC 1 output from the output control signal generation circuit 23 becomes “L” level at the same time when the data read operation is started, and the ROM data “1” is written in the connected memory cell. When it is completed, it goes to "H" level. The data latch circuit 56 and the output buffer circuit 57 are controlled by the control signal VC 1 .

【0065】以上のように構成された半導体記憶装置に
ついて、その動作を図4のタイミング図を用いて説明す
る。
The operation of the semiconductor memory device configured as described above will be described with reference to the timing chart of FIG.

【0066】初期状態では、ビット線リセット信号Rは
“H”レベルであるのでビット線初期電位設定用トラン
ジスタQR1 は導通状態である。したがって、第1の実
施例と同様に、ビット線BLn+1 は初期状態ではグラン
ド電位に設定される。
In the initial state, since the bit line reset signal R is at "H" level, the bit line initial potential setting transistor QR 1 is conductive. Therefore, as in the first embodiment, the bit line BL n + 1 is set to the ground potential in the initial state.

【0067】データ読み出し動作に入ると、行デコーダ
52B及び列デコーダ53Bにより読み出し対象のメモ
リセルM(i,j)が選択される。プリチャージ信号V
Pが“L”レベルとなることによりトランジスタQP1
が導通状態となるので、センスアンプ回路22の接点2
2aは所定電位までプリチャージされる。選択されたメ
モリセルM(i,j)がROMデータ“1”を保持する
(ドレインがビット線とのコンタクトを有する)場合、
プリチャージ動作終了と同時にメモリセルM(i,j)
を介してビット線電荷は放電され、VSは“H”レベル
となる。また、選択されたメモリセルM(i,j)がR
OMデータ“0”を保持する(ドレインがビット線との
コンタクトを有しない)場合、プリチャージ動作終了時
点でVSは“L”レベルが出力される。したがって、デ
ータ読み出し動作が最も遅くなるのは、読み出すデータ
が“1”であり且つデータを保持するメモリセルが寄生
容量が最大であるビット線に接続されている場合であ
る。
In the data read operation, the memory cell M (i, j) to be read is selected by the row decoder 52B and the column decoder 53B. Precharge signal V
When P goes to "L" level, the transistor QP 1
Becomes conductive, the contact 2 of the sense amplifier circuit 22
2a is precharged to a predetermined potential. When the selected memory cell M (i, j) holds the ROM data “1” (the drain has a contact with the bit line),
Simultaneously with the end of the precharge operation, the memory cell M (i, j)
The bit line charge is discharged via the V.sub.S and VS becomes "H" level. In addition, the selected memory cell M (i, j) is R
When the OM data “0” is held (the drain has no contact with the bit line), VS is output at the “L” level at the end of the precharge operation. Therefore, the data read operation becomes slowest when the read data is “1” and the memory cell holding the data is connected to the bit line having the maximum parasitic capacitance.

【0068】また、データ読み出し動作開始と同時にビ
ット線リセット信号Rは“L”レベルに変化し、ビット
線初期電位設定用トランジスタQR1 は非導通状態とな
る。また同時に、ワード線Wi が“H”レベルになると
共に、ビット線選択信号C0が“H”レベルになりトラ
ンジスタQCn+1 が導通状態になるので、メモリセルM
(i,j)と同じ行のメモリセルM(i,n+1)が選
択されることになる。さらに、プリチャージ信号VP及
びセンスアンプ活性化信号VSEにより、センスアンプ
回路22が動作を開始すると共に出力制御信号発生回路
11が動作を開始し、メモリセルM(i,n+1)のデ
ータ読み出しが開始される。
Simultaneously with the start of the data read operation, the bit line reset signal R changes to "L" level, and the bit line initial potential setting transistor QR 1 becomes non-conductive. At the same time, since the word line W i becomes "H" level, the bit line selection signal C 0 becomes "H" level, and the transistor QC n + 1 becomes conductive, the memory cell M
The memory cell M (i, n + 1) in the same row as (i, j) is selected. Further, by the precharge signal VP and the sense amplifier activation signal VSE, the sense amplifier circuit 22 starts operating, the output control signal generating circuit 11 starts operating, and data reading of the memory cell M (i, n + 1) starts. To be done.

【0069】プリチャージ動作終了後、時間t1 後にメ
モリセルM(i,n+1)のデータ読み出し動作が完了
し、出力制御信号発生回路11の出力すなわち制御信号
VC1 は“H”レベルになる。制御信号VC1 が“H”
レベルになると、データラッチ回路56がセンスアンプ
回路22の出力データVSをラッチすると共に出力バッ
ファ回路57がデータラッチ回路56の出力データVL
を出力する。
After the end of the precharge operation, the data read operation of the memory cell M (i, n + 1) is completed after the time t 1 , and the output of the output control signal generating circuit 11, that is, the control signal VC 1 becomes the “H” level. Control signal VC 1 is "H"
At the level, the data latch circuit 56 latches the output data VS of the sense amplifier circuit 22 and the output buffer circuit 57 outputs the output data VL of the data latch circuit 56.
Is output.

【0070】ここで、第2のメモリセルアレー11のビ
ット線BLn+1 は他のビット線BLj よりも寄生容量が
大きいので、出力信号制御信号VC1 が“H”レベルと
なるタイミングはセンスアンプ回路22によるデータ読
み出しが完了するタイミングよりもわずかに遅くなる。
このため、無駄な待ち時間を必要とせずに読み出したデ
ータを外部に出力することができる。したがって、デー
タ読み出し動作の高速化が実現できる。
Since the bit line BL n + 1 of the second memory cell array 11 has a larger parasitic capacitance than the other bit lines BL j, the timing when the output signal control signal VC 1 becomes "H" level is set. It is slightly later than the timing when the data reading by the sense amplifier circuit 22 is completed.
Therefore, the read data can be output to the outside without needing a useless waiting time. Therefore, speeding up of the data read operation can be realized.

【0071】なお、ここではコンタクト方式マスクRO
Mのデータ読み出しにプリチャージ型センスアンプ回路
を用いた一例を示したが、NAND型マスクROM、フ
ラッシュ型EEPROM、紫外線消去型EEPROM等
不揮発性メモリ全般のデータ読み出しに同様のセンスア
ンプ回路を用いた場合にも、本実施例が適用できること
は言うまでもない。また本実施例では、データラッチ回
路56及び出力バッファ回路57を制御信号VC1 によ
り制御する構成としたが、センスアンプ回路22の出力
を出力バッファ回路57のみを介して外部へ出力する構
成とし、出力バッファ回路57を制御信号VC1 により
制御してもよい。また、本実施例の構成において、セン
スアンプ活性化信号VSEも制御信号VC1 により制御
し、出力バッファ回路57からデータを出力した後デー
タラッチ回路と共にセンスアンプ回路55を待機状態に
することにより、低電力化を実現することもできる。さ
らに、ここではメモリセルがビット線と接続されている
とデータ“1”、接続されていないとデータ“0”とし
たが、センスアンプの出力の極性を反対ににすることに
より、ビット線と接続されているとデータ“0”、接続
されていないとデータ“1”としても、本実施例が適用
できることは言うまでもない。
The contact type mask RO is used here.
An example of using the precharge type sense amplifier circuit for reading data of M is shown, but the same sense amplifier circuit is used for reading data of all nonvolatile memories such as NAND type mask ROM, flash type EEPROM, and ultraviolet erasing type EEPROM. It goes without saying that the present embodiment can also be applied in this case. Further, in the present embodiment, the data latch circuit 56 and the output buffer circuit 57 are controlled by the control signal VC 1 , but the output of the sense amplifier circuit 22 is output to the outside through only the output buffer circuit 57, The output buffer circuit 57 may be controlled by the control signal VC 1 . Further, in the configuration of the present embodiment, the sense amplifier activation signal VSE is also controlled by the control signal VC 1 , and after the data is output from the output buffer circuit 57, the sense amplifier circuit 55 together with the data latch circuit is set to the standby state. It is also possible to realize low power consumption. Further, here, the data “1” is set when the memory cell is connected to the bit line and the data “0” is set when the memory cell is not connected. It goes without saying that the present embodiment can be applied even if the data is "0" if connected and the data "1" if not connected.

【0072】[0072]

【発明の効果】請求項1又は5の発明に係る半導体記憶
装置によると、第1のメモリセルアレーから読み出され
たデータは不要な待ち時間なく出力バッファ回路から出
力されるので、従来よりも高速なデータ読み出し動作が
可能となる。また、同一の回路構成でメモリ容量を拡張
又は縮小する設計を行うような場合にもデータ読み出し
に要する時間を決める様々な要因を考慮する必要がなく
なるので、最適な回路設計が容易にできる。
According to the semiconductor memory device of the first or fifth aspect of the present invention, the data read from the first memory cell array is output from the output buffer circuit without unnecessary waiting time. High-speed data read operation becomes possible. Further, even in the case of designing to expand or reduce the memory capacity with the same circuit configuration, it is not necessary to consider various factors that determine the time required for reading data, so that the optimum circuit design can be facilitated.

【0073】請求項2又は6の発明に係る半導体記憶装
置によると、データが出力バッファ回路から出力された
後データ読み出し回路は待機状態になるので、消費電力
を低減することができる。
According to the semiconductor memory device of the second or sixth aspect of the present invention, since the data read circuit is in the standby state after the data is output from the output buffer circuit, the power consumption can be reduced.

【0074】請求項3又は7の発明に係る半導体記憶装
置によると、第1のメモリセルアレーから読み出された
データは不要な待ち時間なくラッチ回路を介して出力バ
ッファ回路から出力されるので、従来よりも高速なデー
タ読み出し動作が可能となる。また、同一の回路構成で
メモリ容量を拡張又は縮小する設計を行うような場合に
もデータ読み出しに要する時間を決める様々な要因を考
慮する必要がなくなるので、最適な回路設計が容易にで
きる。
According to the semiconductor memory device of the third or seventh aspect of the present invention, the data read from the first memory cell array is output from the output buffer circuit via the latch circuit without unnecessary waiting time. The data read operation can be performed faster than in the past. Further, even in the case of designing to expand or reduce the memory capacity with the same circuit configuration, it is not necessary to consider various factors that determine the time required for reading data, so that the optimum circuit design can be facilitated.

【0075】請求項4又は8の発明に係る半導体記憶装
置によると、データが出力バッファ回路から出力された
後データ読み出し回路及びラッチ回路は待機状態になる
ので、消費電力を低減することができる。
According to the semiconductor memory device of the fourth or eighth aspect of the invention, since the data read circuit and the latch circuit are in the standby state after the data is output from the output buffer circuit, the power consumption can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例に係る半導体記憶装置の
構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1に実施例に係る半導体記憶装置の
動作を示すタイミング図である。
FIG. 2 is a timing diagram showing an operation of the semiconductor memory device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施例に係る半導体記憶装置の
構成を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second example of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施例に係る半導体記憶装置の
動作を示すタイミング図である。
FIG. 4 is a timing diagram showing an operation of the semiconductor memory device according to the second exemplary embodiment of the present invention.

【図5】従来の半導体記憶装置の構成を示す回路図であ
る。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional semiconductor memory device.

【図6】従来の半導体記憶装置の動作を示すタイミング
チャート図である。
FIG. 6 is a timing chart showing the operation of the conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 第1のメモリセルアレー 11 第2のメモリセルアレー 12 第1の出力制御信号発生回路(第1の回路) 13 第2の出力制御信号発生回路(第2の回路) 14 制御回路 20 第1のメモリセルアレー 21 第2のメモリセルアレー 22 センスアンプ回路(データ読み出し回路) 23 出力制御信号発生回路(制御回路) 51 メモリセルアレー 52,52A,52B 行デコーダ 53,53A,53B 列デコーダ 54 接点 55 センスアンプ回路(データ読み出し回路) 56 データラッチ回路 57 出力バッファ回路 58 プリチャージ信号発生回路 59 出力制御発生回路 10 First Memory Cell Array 11 Second Memory Cell Array 12 First Output Control Signal Generating Circuit (First Circuit) 13 Second Output Control Signal Generating Circuit (Second Circuit) 14 Control Circuit 20 First Memory cell array 21 second memory cell array 22 sense amplifier circuit (data read circuit) 23 output control signal generation circuit (control circuit) 51 memory cell array 52, 52A, 52B row decoder 53, 53A, 53B column decoder 54 contact 55 sense amplifier circuit (data read circuit) 56 data latch circuit 57 output buffer circuit 58 precharge signal generation circuit 59 output control generation circuit

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 “1”又は“0”のうちいずれか1つの
データを記憶する複数のメモリセルが所望の記憶容量分
マトリックス状に配列された第1のメモリセルアレー
と、前記第1のメモリセルアレーの各行にそれぞれ接続
されておりデータ読み出し対象のメモリセルが配列され
ている行を指示する行デコーダと、前記第1のメモリセ
ルアレーの各列にそれぞれ接続されておりデータ読み出
し対象のメモリセルが配列されている列を指示する列デ
コーダと、前記第1のメモリセルアレーにおいて前記行
デコーダにより指示される行及び前記列デコーダにより
指示される列に配列されているメモリセルのデータを読
み出すデータ読み出し回路と、前記データ読み出し回路
により読み出されたデータを外部へ出力する出力バッフ
ァ回路とを備えた半導体記憶装置において、 第1のメモリセルアレーを構成するメモリセルと同じ構
造の複数のメモリセルが2列に配列されており、第1の
列のメモリセルは全て“1”を記憶している一方第2の
列のメモリセルは全て“0”を記憶している第2のメモ
リセルアレーと、 前記データ読み出し回路と等価な回路であり、前記デー
タ読み出し回路が前記第1のメモリセルアレーの一のメ
モリセルのデータを読み出すとき、前記第2のメモリセ
ルアレーの第1の列に配列された一のメモリセルのデー
タを読み出す第1の回路と、 前記データ読み出し回路と等価な回路であり、前記デー
タ読み出し回路が前記第1のメモリセルアレーの一のメ
モリセルのデータを読み出すとき、前記第2のメモリセ
ルアレーの第2の列に配列された一のメモリセルのデー
タを読み出す第2の回路と、 前記第1の回路及び第2の回路により読み出されたデー
タを入力とし、前記第1の回路により読み出されたデー
タが“1”になり且つ前記第2の回路により読み出され
たデータが“0”になったとき、前記出力バッファ回路
に前記データ読み出し回路により読み出されたデータを
外部へ出力するよう指示する制御回路とをさらに備えて
いることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A first memory cell array in which a plurality of memory cells for storing one data of "1" or "0" are arranged in a matrix for a desired storage capacity, and the first memory cell array. A row decoder that is connected to each row of the memory cell array and indicates a row in which memory cells to be read data are arranged; and a row decoder that is connected to each column of the first memory cell array to read data A column decoder for designating a column in which memory cells are arranged, and data of memory cells arranged in a row designated by the row decoder and a column designated by the column decoder in the first memory cell array. A semiconductor having a data read circuit for reading and an output buffer circuit for outputting the data read by the data read circuit to the outside. In the body storage device, a plurality of memory cells having the same structure as the memory cells forming the first memory cell array are arranged in two columns, and all the memory cells in the first column store "1". On the other hand, the memory cells in the second column are a circuit equivalent to the second memory cell array storing all “0” and the data reading circuit, and the data reading circuit is the same as the first memory cell array. A first circuit for reading data of one memory cell arranged in a first column of the second memory cell array when reading data of one memory cell; and a circuit equivalent to the data read circuit. , When the data read circuit reads the data of one memory cell of the first memory cell array, the data of one memory cell arranged in the second column of the second memory cell array A second circuit for reading and data read by the first circuit and the second circuit as inputs, the data read by the first circuit becomes "1", and the second circuit And a control circuit for instructing the output buffer circuit to output the data read by the data read circuit to the outside when the data read by the data becomes "0". Semiconductor memory device.
【請求項2】 前記制御回路は、前記出力バッファ回路
に前記データ読み出し回路により読み出されたデータを
外部へ出力するよう指示した後、前記データ読み出し回
路に待機状態になるよう指示することを特徴とする請求
項1に記載の半導体記憶装置。
2. The control circuit instructs the output buffer circuit to output the data read by the data read circuit to the outside, and then instructs the data read circuit to enter a standby state. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項3】 “1”又は“0”のうちいずれか1つの
データを記憶する複数のメモリセルが所望の記憶容量分
マトリックス状に配列された第1のメモリセルアレー
と、前記第1のメモリセルアレーの各行にそれぞれ接続
されておりデータ読み出し対象のメモリセルが配列され
ている行を指示する行デコーダと、前記第1のメモリセ
ルアレーの各列にそれぞれ接続されておりデータ読み出
し対象のメモリセルが配列されている列を指示する列デ
コーダと、前記第1のメモリセルアレーにおいて前記行
デコーダにより指示される行及び前記列デコーダにより
指示される列に配列されているメモリセルのデータを読
み出すデータ読み出し回路と、前記データ読み出し回路
により読み出されたデータを保持して出力するラッチ回
路と、前記ラッチ回路から出力されるデータを外部へ出
力する出力バッファ回路とを備えた半導体記憶装置にお
いて、 第1のメモリセルアレーを構成するメモリセルと同じ構
造の複数のメモリセルが2列に配列されており、第1の
列のメモリセルは全て“1”を記憶している一方第2の
列のメモリセルは全て“0”を記憶している第2のメモ
リセルアレーと、 前記データ読み出し回路と等価な回路であり、前記デー
タ読み出し回路が前記第1のメモリセルアレーの一のメ
モリセルのデータを読み出すとき、前記第2のメモリセ
ルアレーの第1の列に配列された一のメモリセルのデー
タを読み出す第1の回路と、 前記データ読み出し回路と等価な回路であり、前記デー
タ読み出し回路が前記第1のメモリセルアレーの一のメ
モリセルのデータを読み出すとき、前記第2のメモリセ
ルアレーの第2の列に配列された一のメモリセルのデー
タを読み出す第2の回路と、 前記第1の回路及び第2の回路により読み出されたデー
タを入力とし、前記第1の回路により読み出されたデー
タが“1”になり且つ前記第2の回路により読み出され
たデータが“0”になったとき、前記ラッチ回路に前記
データ読み出し回路により読み出されたデータを保持し
て出力するよう指示すると共に、前記出力バッファ回路
に前記ラッチ回路から出力されるデータを外部へ出力す
るよう指示する制御回路とをさらに備えていることを特
徴とする半導体記憶装置。
3. A first memory cell array in which a plurality of memory cells for storing one data of "1" or "0" are arranged in a matrix for a desired storage capacity, and the first memory cell array. A row decoder that is connected to each row of the memory cell array and indicates a row in which memory cells to be read data are arranged; and a row decoder that is connected to each column of the first memory cell array to read data A column decoder for designating a column in which memory cells are arranged, and data of memory cells arranged in a row designated by the row decoder and a column designated by the column decoder in the first memory cell array. A data read circuit for reading, a latch circuit for holding and outputting the data read by the data read circuit, and the latch circuit In a semiconductor memory device including an output buffer circuit that outputs data output from the outside, a plurality of memory cells having the same structure as the memory cells forming the first memory cell array are arranged in two columns. A second memory cell array in which all the memory cells in the first column store "1" while all the memory cells in the second column store "0" is equivalent to the data read circuit. A circuit for reading the data of one memory cell of the first memory cell array when the data read circuit reads the data of one memory cell arranged in the first column of the second memory cell array. A first circuit for reading and a circuit equivalent to the data reading circuit, wherein when the data reading circuit reads data of one memory cell of the first memory cell array, A second circuit for reading the data of one memory cell arranged in the second column of the two memory cell array; and a second circuit for inputting the data read by the first circuit and the second circuit, When the data read by the first circuit becomes "1" and the data read by the second circuit becomes "0", the data read by the data reading circuit is read by the latch circuit. And a control circuit for instructing the output buffer circuit to output the data output from the latch circuit to the outside.
【請求項4】 前記制御回路は、前記出力バッファ回路
に前記ラッチ回路から出力されるデータを外部へ出力す
るよう指示した後、前記データ読み出し回路及びラッチ
回路に待機状態になるよう指示することを特徴とする請
求項3に記載の半導体記憶装置。
4. The control circuit, after instructing the output buffer circuit to output the data output from the latch circuit to the outside, instructing the data read circuit and the latch circuit to enter a standby state. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the semiconductor memory device is a semiconductor memory device.
【請求項5】 “1”又は“0”のうちいずれか1つの
データを記憶する複数のメモリセルが所望の記憶容量分
マトリックス状に配列された第1のメモリセルアレー
と、前記第1のメモリセルアレーの各行にそれぞれ接続
されておりデータ読み出し対象のメモリセルが配列され
ている行を指示する行デコーダと、前記第1のメモリセ
ルアレーの各列にそれぞれ接続されておりデータ読み出
し対象のメモリセルが配列されている列を指示する列デ
コーダと、前記第1のメモリセルアレーにおいて前記行
デコーダにより指示される行及び前記列デコーダにより
指示される列に配列されているメモリセルのデータを読
み出すデータ読み出し回路と、前記データ読み出し回路
により読み出されたデータを外部へ出力する出力バッフ
ァ回路とを備えた半導体記憶装置において、 第1のメモリセルアレーを構成するメモリセルと同じ構
造の複数のメモリセルが1列に配列されており、前記複
数のメモリセルは全て同じデータを記憶している第2の
メモリセルアレーと、 前記データ読み出し回路と等価な回路であり、前記デー
タ読み出し回路が前記第1のメモリセルアレーの一のメ
モリセルのデータを読み出すとき、前記第2のメモリセ
ルアレーの一のメモリセルのデータを読み出し、読み出
されたデータが前記第2のメモリセルアレーのメモリセ
ルが記憶しているデータと一致したときに前記出力バッ
ファ回路に前記データ読み出し回路により読み出された
データを外部へ出力するよう指示する制御回路とをさら
に備えていることを特徴とする半導体記憶装置。
5. A first memory cell array in which a plurality of memory cells for storing one data of "1" or "0" are arranged in a matrix for a desired storage capacity, and the first memory cell array. A row decoder that is connected to each row of the memory cell array and indicates a row in which memory cells to be read data are arranged; and a row decoder that is connected to each column of the first memory cell array to read data A column decoder for designating a column in which memory cells are arranged, and data of memory cells arranged in a row designated by the row decoder and a column designated by the column decoder in the first memory cell array. A semiconductor having a data read circuit for reading and an output buffer circuit for outputting the data read by the data read circuit to the outside. In the body storage device, a plurality of memory cells having the same structure as the memory cells forming the first memory cell array are arranged in one column, and the plurality of memory cells all store the same data. A memory cell array and a circuit equivalent to the data read circuit, wherein when the data read circuit reads data of one memory cell of the first memory cell array, one memory of the second memory cell array The data of the cell is read, and when the read data matches the data stored in the memory cell of the second memory cell array, the data read by the data read circuit is externally output to the output buffer circuit. A semiconductor memory device further comprising a control circuit for instructing to output the data to the semiconductor memory device.
【請求項6】 前記制御回路は、前記出力バッファ回路
に前記データ読み出し回路により読み出されたデータを
外部へ出力するよう指示した後、前記データ読み出し回
路に待機状態になるよう指示することを特徴とする請求
項5に記載の半導体記憶装置。
6. The control circuit instructs the output buffer circuit to output the data read by the data reading circuit to the outside, and then instructs the data reading circuit to enter a standby state. The semiconductor memory device according to claim 5.
【請求項7】 “1”又は“0”のうちいずれか1つの
データを記憶する複数のメモリセルが所望の記憶容量分
マトリックス状に配列された第1のメモリセルアレー
と、前記第1のメモリセルアレーの各行にそれぞれ接続
されておりデータ読み出し対象のメモリセルが配列され
ている行を指示する行デコーダと、前記第1のメモリセ
ルアレーの各列にそれぞれ接続されておりデータ読み出
し対象のメモリセルが配列されている列を指示する列デ
コーダと、前記第1のメモリセルアレーにおいて前記行
デコーダにより指示される行及び前記列デコーダにより
指示される列に配列されているメモリセルのデータを読
み出すデータ読み出し回路と、前記データ読み出し回路
により読み出されたデータを保持して出力するラッチ回
路と、前記ラッチ回路から出力されるデータを外部へ出
力する出力バッファ回路とを備えた半導体記憶装置にお
いて、 第1のメモリセルアレーを構成するメモリセルと同じ構
造の複数のメモリセルが1列に配列されており、前記複
数のメモリセルは全て同じデータを記憶している第2の
メモリセルアレーと、 前記データ読み出し回路と等価な回路であり、前記デー
タ読み出し回路が前記第1のメモリセルアレーの一のメ
モリセルのデータを読み出すとき、前記第2のメモリセ
ルアレーのメモリセルのデータを読み出し、読み出され
たデータが前記第2のメモリセルアレーのメモリセルが
記憶しているデータと一致したとき、前記ラッチ回路に
前記データ読み出し回路により読み出されたデータを保
持して出力するよう指示すると共に、前記出力バッファ
回路に前記ラッチ回路から出力されたデータを外部へ出
力するよう指示する制御回路とをさらに備えていること
を特徴とする半導体記憶装置。
7. A first memory cell array in which a plurality of memory cells for storing one data of "1" or "0" are arranged in a matrix for a desired storage capacity, and the first memory cell array. A row decoder that is connected to each row of the memory cell array and indicates a row in which memory cells to be read data are arranged; and a row decoder that is connected to each column of the first memory cell array to read data A column decoder for designating a column in which memory cells are arranged, and data of memory cells arranged in a row designated by the row decoder and a column designated by the column decoder in the first memory cell array. A data read circuit for reading, a latch circuit for holding and outputting the data read by the data read circuit, and the latch circuit In a semiconductor memory device having an output buffer circuit for outputting data output from the outside, a plurality of memory cells having the same structure as the memory cells forming the first memory cell array are arranged in one column, The plurality of memory cells are a second memory cell array that stores the same data, and a circuit equivalent to the data read circuit, wherein the data read circuit is one memory cell of the first memory cell array. The data in the memory cell of the second memory cell array is read, and when the read data matches the data stored in the memory cell of the second memory cell array, the latch A circuit to hold and output the data read by the data read circuit, and The semiconductor memory device characterized by further comprising a control circuit for instructing to output the data output from the latch circuit to the outside.
【請求項8】 前記制御回路は、前記出力バッファ回路
に前記ラッチ回路から出力されるデータを外部へ出力す
るよう指示した後、前記データ読み出し回路及びラッチ
回路に待機状態になるよう指示することを特徴とする請
求項7に記載の半導体記憶装置。
8. The control circuit, after instructing the output buffer circuit to output the data output from the latch circuit to the outside, instructs the data read circuit and the latch circuit to enter a standby state. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein the semiconductor memory device is a semiconductor memory device.
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