JPH09221670A - Production of compensator for liquid crystal display element - Google Patents

Production of compensator for liquid crystal display element

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Publication number
JPH09221670A
JPH09221670A JP3018796A JP3018796A JPH09221670A JP H09221670 A JPH09221670 A JP H09221670A JP 3018796 A JP3018796 A JP 3018796A JP 3018796 A JP3018796 A JP 3018796A JP H09221670 A JPH09221670 A JP H09221670A
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JP
Japan
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acid
liquid crystal
compensator
carboxylic acid
biphenyl
Prior art date
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Pending
Application number
JP3018796A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadahiro Kaminade
忠広 上撫
Hitoshi Mazaki
仁詩 真崎
Shinichi Komatsu
伸一 小松
Yoshihiro Kobori
良浩 小堀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Oil Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce the subject compensator, excellent in thermal stability, high-temperature reliability, etc., and useful as a visibility angle improving plate or a color compensator for liquid crystal displays by applying a specific discotic liquid crystal material onto an oriented substrate, then heat-treating the coated substrate and cooling the heat-treated substrate. SOLUTION: This compensator is obtained by applying (A) a discotic liquid crystal material composed of a reactional product prepared by carrying out the deacetylating reaction of (A1 ) a planar condensed cyclic compound having >=6 phenolic acetate groups of the formula (Ar is an aromatic group capable of forming the planar condensed cyclic compound) in the molecule (e.g. 2,3,6,7,10,11-hexaacetoxytriphenylene) with (A2 ) plural kinds of >=6C carboxylic acid compounds onto (B) an oriented substrate [e.g. a poly(ether) imide, a polyphenylene sulfide or polyethylene terephthalate], heat-treating the coated substrate and then cooling the heat-treated substrate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
の視野角改良板(視野角補償板)、色補償板として有用
な熱安定性、高温信頼性に優れた液晶表示素子用補償板
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a viewing angle improving plate (viewing angle compensating plate) for a liquid crystal display and a compensating plate useful for a color compensating plate, which is excellent in thermal stability and high temperature reliability. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】近来、液晶ディスプレイの薄型化・軽量
化に伴って高分子からなる補償素子が注目されている。
高分子から成る補償素子としては、ポリスルフォン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアルコールなどのフィルム
を延伸した位相差フィルムがあり、STNタイプの液晶
ディスプレイの色補償に広く利用されている。また一方
では主鎖型液晶ポリマーあるいは側鎖型液晶ポリマーか
らなる補償用液晶高分子フィルムがあり、中でも液晶性
ポリエステルなどの液晶高分子から成る補償素子は、そ
の液晶の配向形態を固定化することができ、該配向形態
の効果により位相差フィルムでは成し得なかった位相差
と旋光分散を同時に補償することができ、液晶ディスプ
レイの色補償あるいは視野角補償に大きく貢献した(た
とえば特開平3−87720号公報)。しかしながら液
晶ディスプレイの技術進歩に伴い、これら補償板に要求
される性能も多様化、複雑化しており、例えば液晶ディ
スプレイの主流になりつつあるTFTあるいはMIMな
どの素子でアクティブ駆動するTNモード液晶ディスプ
レイの視野角補償板、あるいはOCBモード液晶ディス
プレイの色および視野角補償板などに対する要求が強ま
っている。これらの要求に対しては上記した延伸フィル
ムを用いる従来タイプの位相差フィルムや液晶高分子を
用いた補償板では対応しきれなくなっているのが現状で
あった。これらの限界を打ち破るものとして、円盤状分
子でありその屈折率構造が負の一軸性であるディスコテ
ィック液晶を用いた補償板が最近提案された。例えば特
開平6−214116号、特開平7−146409号公
報では、置換基が同一のディスコティック液晶化合物ま
たは該化合物の混合物を用いた補償板が開示されてい
る。ディスコティック液晶化合物は、主にディスコティ
ック液晶相を発現するために必須の円盤状の中心部分
(ディスコゲン)と液晶相を安定化するために必要な置
換基とで構成されるが、フェノール性ヒドロキシル基を
持つディスコゲンとカルボン酸基(カルボキシル基)を
持つ置換基部分との間にエステル結合を形成させてなる
該化合物が光学材料として用いられている。従来該エス
テル結合の形成方法は、上記公報にも記載してあるよう
に、例えばディスコゲンとなりうる原料として2,3,
6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン
のような1分子中に複数のフェノール性ヒドロキシル基
を持つ化合物と置換基部分となりうる原料としてカルボ
ン酸の塩化物を用い、これらを縮合させて形成させるも
のであった。しかしながらこの方法では、カルボン酸を
塩化チオニルなど有害で取り扱い難い試薬を用いて塩化
物に変換する必要があり、また縮合反応時には溶媒およ
び塩基を必要とするため後処理が煩雑である、などの欠
点があり、この方法によるディスコティック液晶化合物
の工業的な大量合成には無理があった。また上記公報に
記載されている補償板は、ディスコティック液晶分子の
ダイレクター(分子の平均的な光軸の配向方向を指定す
る単位ベクトル)を一定方向に傾けて配向させ、補償板
としての光軸が傾いた、即ち屈折率構造が傾いた負の一
軸性とした補償板だが、この補償板においては、光軸が
傾いた配向を得るためにSiO斜め蒸着膜、特殊変成配
向膜を用いることなどの、コスト高の要因となる製造上
の不利があった。
2. Description of the Related Art Recently, a compensating element made of a polymer has been attracting attention as a liquid crystal display is made thinner and lighter.
As a compensating element made of a polymer, there is a retardation film obtained by stretching a film of polysulfone, polycarbonate, polyvinyl alcohol or the like, which is widely used for color compensation of STN type liquid crystal displays. On the other hand, there is a compensating liquid crystal polymer film made of a main chain type liquid crystal polymer or a side chain type liquid crystal polymer. Among them, a compensating element made of a liquid crystal polymer such as liquid crystalline polyester should fix the alignment form of the liquid crystal. It is possible to simultaneously compensate the retardation and the optical rotatory dispersion, which cannot be achieved by the retardation film, due to the effect of the orientation form, and greatly contributed to the color compensation or the viewing angle compensation of the liquid crystal display (for example, JP-A-3- 87720 publication). However, with the technical progress of liquid crystal displays, the performance required for these compensating plates has become diversified and complicated. There is an increasing demand for a viewing angle compensator, a color of OCB mode liquid crystal display, and a viewing angle compensator. In the present situation, the conventional type retardation film using the stretched film and the compensator using the liquid crystal polymer cannot meet the demands. To overcome these limitations, a compensation plate using a discotic liquid crystal, which is a disk-shaped molecule and has a negative uniaxial refractive index structure, has recently been proposed. For example, JP-A-6-214116 and JP-A-7-146409 disclose a compensating plate using a discotic liquid crystal compound having the same substituent or a mixture of the compounds. The discotic liquid crystal compound is mainly composed of a disc-shaped central portion (discogen) essential for expressing the discotic liquid crystal phase and a substituent necessary for stabilizing the liquid crystal phase, but The compound obtained by forming an ester bond between a discogen having a hydroxyl group and a substituent group having a carboxylic acid group (carboxyl group) is used as an optical material. Conventionally, the method for forming the ester bond is, as described in the above publication, for example, 2,3,4
A compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups in one molecule such as 6,7,10,11-hexahydroxytriphenylene and a carboxylic acid chloride as a raw material which can be a substituent part are formed by condensing these compounds. It was a thing. However, in this method, it is necessary to convert a carboxylic acid into a chloride using a reagent that is harmful and difficult to handle such as thionyl chloride, and a post-treatment is complicated because a solvent and a base are required during the condensation reaction. However, it has been impossible to mass-produce industrially a discotic liquid crystal compound by this method. In the compensator described in the above publication, the director of the discotic liquid crystal molecule (a unit vector that specifies the orientation direction of the average optical axis of the molecule) is tilted in a certain direction to be aligned, and It is a negative uniaxial compensator with a tilted axis, that is, a refractive index structure. In this compensator, an oblique SiO vapor deposition film or a special metamorphic alignment film is used to obtain an alignment with a tilted optical axis. However, there is a manufacturing disadvantage that causes a high cost.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記課題を解
決するものであり、簡単且つ効率的な反応で得られる反
応生成物自体が優れた特性をもつディスコティック液晶
材料となることを知見し、本発明に到達した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems and found that the reaction product itself obtained by a simple and efficient reaction becomes a discotic liquid crystal material having excellent characteristics. Has reached the present invention.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明の第1
は、1分子中に6個以上のフェノール性アセテート基を
有する少なくとも1種の平面状縮合環化合物と、炭素数
6以上の複数種のカルボン酸化合物との脱酢酸反応によ
って得られた反応生成物より実質上構成されるディスコ
ティック液晶材料を配向基板上に塗布し、次いで熱処理
し、冷却することを特徴とする液晶表示素子用補償板の
製造方法に関する。また本発明の第2は、副生した酢酸
が留出するための酢酸留出口が設けられた反応器に、1
分子中に6個以上のフェノール性アセテート基を有する
少なくとも1種の平面状縮合環化合物と、炭素数6以上
の複数種のカルボン酸化合物とを供して該酢酸留出口か
ら酢酸を留出させつつ脱酢酸反応を進行せしめ、該酢酸
留出口から留出する酢酸の量が、酢酸留出理論量の30
〜95%に相当する酢酸留出時点から、反応を減圧下ま
たは不活性ガス気流下において行って得られた反応生成
物より実質上構成されるディスコティック液晶材料を配
向基板上に塗布し、次いで熱処理し、冷却することを特
徴とする液晶表示素子用補償板の製造方法に関する。ま
た本発明の第3は、1分子中に6個以上のフェノール性
アセテート基を有する平面状縮合環化合物が、2,3,
6,7,10,11−ヘキサアセトキシトリフェニレン
であることを特徴とする上記第1または第2記載の液晶
表示素子用補償板の製造方法に関する。さらに本発明の
第4は、炭素数6以上の複数種のカルボン酸化合物が、
1分子中に1個のカルボキシル基を有する化合物および
/または1分子中に2個以上のカルボキシル基を有する
カルボン酸化合物から選ばれる複数種であることを特徴
とする上記第1乃至第3記載の液晶表示素子用補償板の
製造方法に関する。
Means for Solving the Problems That is, the first aspect of the present invention
Is a reaction product obtained by a deacetic acid reaction between at least one planar condensed ring compound having 6 or more phenolic acetate groups in one molecule and a plurality of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms. The present invention relates to a method of manufacturing a compensator for a liquid crystal display device, which comprises applying a discotic liquid crystal material, which is substantially constituted, onto an alignment substrate, followed by heat treatment and cooling. The second aspect of the present invention is that a reactor provided with an acetic acid distillation outlet for distilling acetic acid by-produced
While acetic acid is distilled from the acetic acid distillation outlet by providing at least one planar condensed ring compound having 6 or more phenolic acetate groups in the molecule and a plurality of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms The deacetic acid reaction is allowed to proceed, and the amount of acetic acid distilled from the acetic acid distillation outlet is 30% of the theoretical amount of acetic acid distillation.
From the point of acetic acid distillation corresponding to ˜95%, a discotic liquid crystal material consisting essentially of the reaction product obtained by carrying out the reaction under reduced pressure or under an inert gas stream is coated on the alignment substrate, The present invention relates to a method for manufacturing a compensating plate for a liquid crystal display element, which comprises performing heat treatment and cooling. The third aspect of the present invention is that the planar condensed ring compound having 6 or more phenolic acetate groups in one molecule is 2, 3,
6,7,10,11-Hexaacetoxytriphenylene The present invention relates to a method for producing a compensating plate for a liquid crystal display element according to the first or second aspect. Furthermore, a fourth aspect of the present invention is that a plurality of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms are
4. A plurality of kinds selected from a compound having one carboxyl group in one molecule and / or a carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups in one molecule. The present invention relates to a method for manufacturing a compensator for a liquid crystal display device.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の液晶表示素子用補償板の
製造方法に供されるディスコティック液晶材料は、1分
子中に6個以上のフェノール性アセテート基を有する平
面状縮合環化合物と炭素数6以上の複数種のカルボン酸
化合物との脱酢酸反応によって得られた反応生成物より
実質上構成される。この反応生成物には、本質的に少な
くとも1種のディスコティック液晶化合物から構成され
るものと、反応条件、原料の種類によっては少なくとも
1種のディスコティック液晶化合物とそれ以外の化合物
から構成されるものとがある。本発明の液晶表示素子用
補償板の製造方法に供されるディスコティック液晶材料
は、該反応生成物自体によって実質上構成され、該反応
生成物中にディスコティック液晶化合物以外の化合物が
生成し、混在していたとしても、それらを除去する必要
はない。すなわち反応生成物自体が、ディスコティック
液晶性を示し、本発明にいうディスコティック液晶材料
として次の操作に供される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The discotic liquid crystal material used in the method for producing a compensating plate for a liquid crystal display device of the present invention comprises a planar condensed ring compound having 6 or more phenolic acetate groups in one molecule and carbon. It is substantially composed of a reaction product obtained by a deacetic acid reaction with a plurality of carboxylic acid compounds of several 6 or more. The reaction product is essentially composed of at least one discotic liquid crystal compound, and is composed of at least one discotic liquid crystal compound and other compounds depending on reaction conditions and kinds of raw materials. There are things. The discotic liquid crystal material used in the method for producing a compensator for a liquid crystal display device of the present invention is substantially constituted by the reaction product itself, and a compound other than the discotic liquid crystal compound is generated in the reaction product, Even if they are mixed, it is not necessary to remove them. That is, the reaction product itself exhibits discotic liquid crystallinity and is subjected to the following operation as the discotic liquid crystal material according to the present invention.

【0006】以下、本発明についてさらに詳しく説明す
る。本発明の製造方法に供される1分子中に6個以上の
フェノール性アセテート基を有する平面状縮合環化合物
は、主にディスコティック液晶相を発現させるのに必須
の円盤状の中心部分(ディスコゲン)を構成する化合物
である。ここでフェノール性アセテート基とは、一般式
(I)で表される基を意味する。 一般式(I)
The present invention will be described in more detail below. The planar condensed ring compound having 6 or more phenolic acetate groups in one molecule, which is used in the production method of the present invention, is mainly a disc-shaped central portion (disco) essential for developing a discotic liquid crystal phase. (Gen) is a compound that constitutes. Here, the phenolic acetate group means a group represented by the general formula (I). General formula (I)

【0007】[0007]

【化1】 Embedded image

【0008】(ここでArは平面状縮合環化合物を構成
する芳香族基を意味する。) また平面状縮合環化合物とは、芳香族環が少なくとも3
個縮合し、分子構造上、平面状をとりうる化合物を意味
する。本発明におけるフェノール性アセテート基を有す
る平面縮合環化合物としては、例えばトリフェニレン骨
格、トルクセン骨格などを有する化合物が種々挙げられ
るが、本発明ではその中でも、2,3,6,7,10,
11−ヘキサアセトキシトリフェニレン(以後、HAT
Pと略す)を好適な例として挙げることができる。
(Here, Ar means an aromatic group constituting a planar condensed ring compound.) The planar condensed ring compound means that at least three aromatic rings are contained.
It means a compound that can be condensed to be planar in terms of molecular structure. Examples of the planar condensed ring compound having a phenolic acetate group in the present invention include various compounds having a triphenylene skeleton, a torqcene skeleton, and the like.
11-hexaacetoxytriphenylene (hereinafter referred to as HAT
(Abbreviated as P) can be given as a suitable example.

【0009】一方、ディスコティック液晶相を安定化す
るのに必要な置換基部分を構成する化合物としては、炭
素数6以上の複数種のカルボン酸化合物を用いる。本発
明では、該化合物のカルボキシル基と、上述した平面状
縮合環化合物のフェノール性アセテート基との脱酢酸反
応によって、平面状縮合環化合物にカルボン酸化合物よ
り形成される置換基を導入し、本発明の補償板材料とし
て有用な反応生成物、すなわちディスコティック液晶材
料を得る。
On the other hand, a plurality of kinds of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms are used as the compound constituting the substituent group necessary for stabilizing the discotic liquid crystal phase. In the present invention, a carboxyl group of the compound and a phenolic acetate group of the above-mentioned planar condensed ring compound are deacetic acid to introduce a substituent formed from a carboxylic acid compound into the planar condensed ring compound. A reaction product useful as a compensator material of the invention, a discotic liquid crystal material, is obtained.

【0010】上記カルボン酸化合物としては、1分子中
に1個のカルボキシル基を有する一官能性カルボン酸、
または1分子中に2個以上のカルボキシル基を有する多
官能性カルボン酸化合物のどちらもが好適に用いられ
る。
As the above-mentioned carboxylic acid compound, a monofunctional carboxylic acid having one carboxyl group in one molecule,
Alternatively, both of the polyfunctional carboxylic acid compounds having two or more carboxyl groups in one molecule are preferably used.

【0011】一官能性カルボン酸としては、ヘキサン
酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウ
ンデカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン
酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸、ヘプタデカン
酸、オクタデカン酸、ノナデカン酸、エイコサン酸、オ
レイン酸、リノレン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シ
クロペンタンカルボン酸などの炭素数6から40、好ま
しくは炭素数6から30のアルカン酸またはアルケン酸
を例示できる。
Examples of monofunctional carboxylic acids include hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, undecanoic acid, dodecanoic acid, tridecanoic acid, tetradecanoic acid, pentadecanoic acid, hexadecanoic acid, heptadecanoic acid, octadecanoic acid, Examples thereof include alkanoic acids or alkenoic acids having 6 to 40 carbon atoms, preferably 6 to 30 carbon atoms such as nonadecanoic acid, eicosanoic acid, oleic acid, linolenic acid, cyclohexanecarboxylic acid and cyclopentanecarboxylic acid.

【0012】また、炭素数7から37、好ましくは7か
ら27の安息香酸誘導体も好適に使用できる。以下にそ
の例を示すが、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、
アミノ基、ニトロ基などの置換基を有する安息香酸を用
いる場合には、その置換位置に特に制限はなく、2,
3,4位のいずれの置換位置でも好適に使用できる。ま
た複数の置換基を持つ化合物も使用できる。
Further, a benzoic acid derivative having 7 to 37 carbon atoms, preferably 7 to 27 carbon atoms can also be preferably used. Examples thereof are shown below, but an alkyl group, an alkoxy group, a halogen,
When using a benzoic acid having a substituent such as an amino group and a nitro group, the position of substitution is not particularly limited, and
It can be suitably used at any of the substitution positions at the 3 and 4 positions. A compound having a plurality of substituents can also be used.

【0013】それらの具体例としては、安息香酸、4−
メチル安息香酸、4−エチル安息香酸、4−プロピル安
息香酸、4−イソプロピル安息香酸、4−ブチル安息香
酸、4−sec−ブチル安息香酸、4−イソブチル安息
香酸、4−tert−ブチル安息香酸、4−ペンチル安
息香酸、4−ヘキシル安息香酸、4−ヘプチル安息香
酸、4−オクチル安息香酸、4−ノニル安息香酸、4−
デシル安息香酸、4−ウンデシル安息香酸、4−ドデシ
ル安息香酸、4−トリデシル安息香酸、4−テトラデシ
ル安息香酸、4−クロロ安息香酸、4−ブロモ安息香
酸、4−ニトロ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香
酸、4−ヒドロキシ安息香酸、4−メトキシ安息香酸、
4−エトキシ安息香酸、4−プロポキシ安息香酸、4−
イソプロポキシ安息香酸、4−ブトキシ安息香酸、4−
sec−ブトキシ安息香酸、4−イソブトキシ安息香
酸、4−tert−ブトキシ安息香酸、4−ペンチルオ
キシ安息香酸、4−ヘキシルオキシ安息香酸、4−ヘプ
チルオキシ安息香酸、4−オクチルオキシ安息香酸、4
−ノニルオキシ安息香酸、4−デシルオキシ安息香酸、
4−ウンデシルオキシ安息香酸、4−ドデシルオキシ安
息香酸、4−トリデシルオキシ安息香酸、4−テトラデ
シルオキシ安息香酸、3−メチル安息香酸、3−エチル
安息香酸、3−プロピル安息香酸、3−イソプロピル安
息香酸、3−ブチル安息香酸、3−sec−ブチル安息
香酸、3−イソブチル安息香酸、3−tert−ブチル
安息香酸、3−ペンチル安息香酸、3−ヘキシル安息香
酸、3−ヘプチル安息香酸、3−オクチル安息香酸、3
−ノニル安息香酸、3−デシル安息香酸、3−ウンデシ
ル安息香酸、3−ドデシル安息香酸、3−トリデシル安
息香酸、3−テトラデシル安息香酸、3−クロロ安息香
酸、3−ブロモ安息香酸、3−ニトロ安息香酸、3−ジ
メチルアミノ安息香酸、3−ヒドロキシ安息香酸、3−
メトキシ安息香酸、3−エトキシ安息香酸、3−プロポ
キシ安息香酸、3−イソプロポキシ安息香酸、3−ブト
キシ安息香酸、3−sec−ブトキシ安息香酸、3−イ
ソブトキシ安息香酸、3−tert−ブトキシ安息香
酸、3−ペンチルオキシ安息香酸、3−ヘキシルオキシ
安息香酸、3−ヘプチルオキシ安息香酸、3−オクチル
オキシ安息香酸、3−ノニルオキシ安息香酸、3−デシ
ルオキシ安息香酸、3−ウンデシルオキシ安息香酸、3
−ドデシルオキシ安息香酸、3−トリデシルオキシ安息
香酸、3−テトラデシルオキシ安息香酸、2−メチル安
息香酸、2−エチル安息香酸、2−プロピル安息香酸、
2−イソプロピル安息香酸、2−ブチル安息香酸、2−
sec−ブチル安息香酸、2−イソブチル安息香酸、2
−tert−ブチル安息香酸、2−ペンチル安息香酸、
2−ヘキシル安息香酸、2−ヘプチル安息香酸、2−オ
クチル安息香酸、2−ノニル安息香酸、2−デシル安息
香酸、2−ウンデシル安息香酸、2−ドデシル安息香
酸、2−トリデシル安息香酸、2−テトラデシル安息香
酸、2−クロロ安息香酸、2−ブロモ安息香酸、2−ニ
トロ安息香酸、2−ジメチルアミノ安息香酸、2−ヒド
ロキシ安息香酸、2−メトキシ安息香酸、2−エトキシ
安息香酸、2−プロポキシ安息香酸、2−イソプロポキ
シ安息香酸、2−ブトキシ安息香酸、2−sec−ブト
キシ安息香酸、2−イソブトキシ安息香酸、2−ter
t−ブトキシ安息香酸、2−ペンチルオキシ安息香酸、
2−ヘキシルオキシ安息香酸、2−ヘプチルオキシ安息
香酸、2−オクチルオキシ安息香酸、2−ノニルオキシ
安息香酸、2−デシルオキシ安息香酸、2−ウンデシル
オキシ安息香酸、2−ドデシルオキシ安息香酸、2−ト
リデシルオキシ安息香酸、2−テトラデシルオキシ安息
香酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、3,4−ジエトキ
シ安息香酸、3,4−ジプロポキシ安息香酸、3,4−
ジブトキシ安息香酸、3,4−ジペンチルオキシ安息香
酸、3,4−ジヘキシルオキシ安息香酸、3,4−ジヘ
プチルオキシ安息香酸、3,4−ジオクチルオキシ安息
香酸、3,4−ジノニルオキシ安息香酸、3,4−ジデ
シルオキシ安息香酸、3,4−ビス(2−メトキシエト
キシ)安息香酸、2,4−ジメトキシ安息香酸、2,4
−ジエトキシ安息香酸、2,4−ジプロポキシ安息香
酸、2,4−ジブトキシ安息香酸、2,4−ジペンチル
オキシ安息香酸、2,4−ジヘキシルオキシ安息香酸、
2,4−ジヘプチルオキシ安息香酸、2,4−ジオクチ
ルオキシ安息香酸、2,4−ジノニルオキシ安息香酸、
2,4−ジデシルオキシ安息香酸、2,4−ビス(2−
メトキシエトキシ)安息香酸、3,4,5−トリメトキ
シ安息香酸、3,4,5−トリエトキシ安息香酸、3,
4,5−トリプロポキシ安息香酸、3,4,5−トリブ
トキシ安息香酸、3,4,5−トリペンチルオキシ安息
香酸、3,4,5−トリヘキシルオキシ安息香酸、3,
4,5−トリヘプチルオキシ安息香酸、3,4,5−ト
リオクチルオキシ安息香酸、3,4,5−トリノニルオ
キシ安息香酸、3,4,5−トリデシルオキシ安息香
酸、4−メチル−3−メトキシ安息香酸、4−エチル−
3−メトキシ安息香酸、4−プロピル−3−メトキシ安
息香酸、4−ブチル−3−メトキシ安息香酸、4−ペン
チル−3−メトキシ安息香酸、4−ヘキシル−3−メト
キシ安息香酸、4−ヘプチル−3−メトキシ安息香酸、
4−オクチル−3−メトキシ安息香酸、4−ノニル−3
−メトキシ安息香酸、4−デシル−3−メトキシ安息香
酸、4−ウンデシル−3−メトキシ安息香酸、4−ドデ
シル−3−メトキシ安息香酸、3−メチル−4−メトキ
シ安息香酸、3−エチル−4−メトキシ安息香酸、3−
プロピル−4−メトキシ安息香酸、3−ブチル−4−メ
トキシ安息香酸、3−ペンチル−4−メトキシ安息香
酸、3−ヘキシル−4−メトキシ安息香酸、3−ヘプチ
ル−4−メトキシ安息香酸、3−オクチル−4−メトキ
シ安息香酸、3−ノニル−4−メトキシ安息香酸、3−
デシル−4−メトキシ安息香酸、3−ウンデシル−4−
メトキシ安息香酸、3−ドデシル−4−メトキシ安息香
酸などを例示できる。
Specific examples thereof include benzoic acid and 4-
Methylbenzoic acid, 4-ethylbenzoic acid, 4-propylbenzoic acid, 4-isopropylbenzoic acid, 4-butylbenzoic acid, 4-sec-butylbenzoic acid, 4-isobutylbenzoic acid, 4-tert-butylbenzoic acid, 4-pentylbenzoic acid, 4-hexylbenzoic acid, 4-heptylbenzoic acid, 4-octylbenzoic acid, 4-nonylbenzoic acid, 4-
Decylbenzoic acid, 4-undecylbenzoic acid, 4-dodecylbenzoic acid, 4-tridecylbenzoic acid, 4-tetradecylbenzoic acid, 4-chlorobenzoic acid, 4-bromobenzoic acid, 4-nitrobenzoic acid, 4-dimethylamino Benzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid, 4-methoxybenzoic acid,
4-ethoxybenzoic acid, 4-propoxybenzoic acid, 4-
Isopropoxybenzoic acid, 4-butoxybenzoic acid, 4-
sec-Butoxybenzoic acid, 4-isobutoxybenzoic acid, 4-tert-butoxybenzoic acid, 4-pentyloxybenzoic acid, 4-hexyloxybenzoic acid, 4-heptyloxybenzoic acid, 4-octyloxybenzoic acid, 4
-Nonyloxybenzoic acid, 4-decyloxybenzoic acid,
4-undecyloxybenzoic acid, 4-dodecyloxybenzoic acid, 4-tridecyloxybenzoic acid, 4-tetradecyloxybenzoic acid, 3-methylbenzoic acid, 3-ethylbenzoic acid, 3-propylbenzoic acid, 3 -Isopropylbenzoic acid, 3-butylbenzoic acid, 3-sec-butylbenzoic acid, 3-isobutylbenzoic acid, 3-tert-butylbenzoic acid, 3-pentylbenzoic acid, 3-hexylbenzoic acid, 3-heptylbenzoic acid , 3-octylbenzoic acid, 3
-Nonylbenzoic acid, 3-decylbenzoic acid, 3-undecylbenzoic acid, 3-dodecylbenzoic acid, 3-tridecylbenzoic acid, 3-tetradecylbenzoic acid, 3-chlorobenzoic acid, 3-bromobenzoic acid, 3-nitro Benzoic acid, 3-dimethylaminobenzoic acid, 3-hydroxybenzoic acid, 3-
Methoxybenzoic acid, 3-ethoxybenzoic acid, 3-propoxybenzoic acid, 3-isopropoxybenzoic acid, 3-butoxybenzoic acid, 3-sec-butoxybenzoic acid, 3-isobutoxybenzoic acid, 3-tert-butoxybenzoic acid , 3-pentyloxybenzoic acid, 3-hexyloxybenzoic acid, 3-heptyloxybenzoic acid, 3-octyloxybenzoic acid, 3-nonyloxybenzoic acid, 3-decyloxybenzoic acid, 3-undecyloxybenzoic acid, 3
-Dodecyloxybenzoic acid, 3-tridecyloxybenzoic acid, 3-tetradecyloxybenzoic acid, 2-methylbenzoic acid, 2-ethylbenzoic acid, 2-propylbenzoic acid,
2-Isopropylbenzoic acid, 2-butylbenzoic acid, 2-
sec-Butylbenzoic acid, 2-isobutylbenzoic acid, 2
-Tert-butylbenzoic acid, 2-pentylbenzoic acid,
2-hexylbenzoic acid, 2-heptylbenzoic acid, 2-octylbenzoic acid, 2-nonylbenzoic acid, 2-decylbenzoic acid, 2-undecylbenzoic acid, 2-dodecylbenzoic acid, 2-tridecylbenzoic acid, 2- Tetradecylbenzoic acid, 2-chlorobenzoic acid, 2-bromobenzoic acid, 2-nitrobenzoic acid, 2-dimethylaminobenzoic acid, 2-hydroxybenzoic acid, 2-methoxybenzoic acid, 2-ethoxybenzoic acid, 2-propoxy. Benzoic acid, 2-isopropoxybenzoic acid, 2-butoxybenzoic acid, 2-sec-butoxybenzoic acid, 2-isobutoxybenzoic acid, 2-ter.
t-butoxybenzoic acid, 2-pentyloxybenzoic acid,
2-hexyloxybenzoic acid, 2-heptyloxybenzoic acid, 2-octyloxybenzoic acid, 2-nonyloxybenzoic acid, 2-decyloxybenzoic acid, 2-undecyloxybenzoic acid, 2-dodecyloxybenzoic acid, 2- Tridecyloxybenzoic acid, 2-tetradecyloxybenzoic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, 3,4-diethoxybenzoic acid, 3,4-dipropoxybenzoic acid, 3,4-
Dibutoxybenzoic acid, 3,4-dipentyloxybenzoic acid, 3,4-dihexyloxybenzoic acid, 3,4-diheptyloxybenzoic acid, 3,4-dioctyloxybenzoic acid, 3,4-dinonyloxybenzoic acid, 3 , 4-didecyloxybenzoic acid, 3,4-bis (2-methoxyethoxy) benzoic acid, 2,4-dimethoxybenzoic acid, 2,4
-Diethoxybenzoic acid, 2,4-dipropoxybenzoic acid, 2,4-dibutoxybenzoic acid, 2,4-dipentyloxybenzoic acid, 2,4-dihexyloxybenzoic acid,
2,4-diheptyloxybenzoic acid, 2,4-dioctyloxybenzoic acid, 2,4-dinonyloxybenzoic acid,
2,4-didecyloxybenzoic acid, 2,4-bis (2-
(Methoxyethoxy) benzoic acid, 3,4,5-trimethoxybenzoic acid, 3,4,5-triethoxybenzoic acid, 3,
4,5-Tripropoxybenzoic acid, 3,4,5-Tributoxybenzoic acid, 3,4,5-Tripentyloxybenzoic acid, 3,4,5-Trihexyloxybenzoic acid, 3,
4,5-triheptyloxybenzoic acid, 3,4,5-trioctyloxybenzoic acid, 3,4,5-trinonyloxybenzoic acid, 3,4,5-tridecyloxybenzoic acid, 4-methyl- 3-Methoxybenzoic acid, 4-ethyl-
3-methoxybenzoic acid, 4-propyl-3-methoxybenzoic acid, 4-butyl-3-methoxybenzoic acid, 4-pentyl-3-methoxybenzoic acid, 4-hexyl-3-methoxybenzoic acid, 4-heptyl- 3-methoxybenzoic acid,
4-octyl-3-methoxybenzoic acid, 4-nonyl-3
-Methoxybenzoic acid, 4-decyl-3-methoxybenzoic acid, 4-undecyl-3-methoxybenzoic acid, 4-dodecyl-3-methoxybenzoic acid, 3-methyl-4-methoxybenzoic acid, 3-ethyl-4 -Methoxybenzoic acid, 3-
Propyl-4-methoxybenzoic acid, 3-butyl-4-methoxybenzoic acid, 3-pentyl-4-methoxybenzoic acid, 3-hexyl-4-methoxybenzoic acid, 3-heptyl-4-methoxybenzoic acid, 3- Octyl-4-methoxybenzoic acid, 3-nonyl-4-methoxybenzoic acid, 3-
Decyl-4-methoxybenzoic acid, 3-undecyl-4-
Examples thereof include methoxybenzoic acid and 3-dodecyl-4-methoxybenzoic acid.

【0014】また、炭素数9から39、好ましくは9か
ら29の桂皮酸誘導体も好適に使用できる。以下にその
例を示すが、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、ア
ミノ基、ニトロ基などの置換基を有する桂皮酸を用いる
場合にはその置換位置に特に制限はなく、2,3,4位
のいずれの置換位置も好適に使用できる。また複数の置
換基を持つ化合物も使用できる。
Further, a cinnamic acid derivative having 9 to 39 carbon atoms, preferably 9 to 29 carbon atoms can also be preferably used. Examples thereof will be shown below, but when cinnamic acid having a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, an amino group or a nitro group is used, the substitution position is not particularly limited, and the 2,3,4 position Any substitution position can be preferably used. A compound having a plurality of substituents can also be used.

【0015】それらの具体例としては、桂皮酸、4−メ
チル桂皮酸、4−エチル桂皮酸、4−プロピル桂皮酸、
4−イソプロピル桂皮酸、4−ブチル桂皮酸、4−se
c−ブチル桂皮酸、4−イソブチル桂皮酸、4−ter
t−ブチル桂皮酸、4−ペンチル桂皮酸、4−ヘキシル
桂皮酸、4−ヘプチル桂皮酸、4−オクチル桂皮酸、4
−ノニル桂皮酸、4−デシル桂皮酸、4−ウンデシル桂
皮酸、4−ドデシル桂皮酸、4−トリデシル桂皮酸、4
−テトラデシル桂皮酸、4−クロロ桂皮酸、4−ブロモ
桂皮酸、4−ニトロ桂皮酸、4−ジメチルアミノ桂皮
酸、4−ヒドロキシ桂皮酸、4−メトキシ桂皮酸、4−
エトキシ桂皮酸、4−プロポキシ桂皮酸、4−イソプロ
ポキシ桂皮酸、4−ブトキシ桂皮酸、4−sec−ブト
キシ桂皮酸、4−イソブトキシ桂皮酸、4−tert−
ブトキシ桂皮酸、4−ペンチルオキシ桂皮酸、4−ヘキ
シルオキシ桂皮酸、4−ヘプチルオキシ桂皮酸、4−オ
クチルオキシ桂皮酸、4−ノニルオキシ桂皮酸、4−デ
シルオキシ桂皮酸、4−ウンデシルオキシ桂皮酸、4−
ドデシルオキシ桂皮酸、4−トリデシルオキシ桂皮酸、
4−テトラデシルオキシ桂皮酸、3−メチル桂皮酸、3
−エチル桂皮酸、3−プロピル桂皮酸、3−イソプロピ
ル桂皮酸、3−ブチル桂皮酸、3−sec−ブチル桂皮
酸、3−イソブチル桂皮酸、3−tert−ブチル桂皮
酸、3−ペンチル桂皮酸、3−ヘキシル桂皮酸、3−ヘ
プチル桂皮酸、3−オクチル桂皮酸、3−ノニル桂皮
酸、3−デシル桂皮酸、3−ウンデシル桂皮酸、3−ド
デシル桂皮酸、3−トリデシル桂皮酸、3−テトラデシ
ル桂皮酸、3−クロロ桂皮酸、3−ブロモ桂皮酸、3−
ニトロ桂皮酸、3−ジメチルアミノ桂皮酸、3−ヒドロ
キシ桂皮酸、3−メトキシ桂皮酸、3−エトキシ桂皮
酸、3−プロポキシ桂皮酸、3−イソプロポキシ桂皮
酸、3−ブトキシ桂皮酸、3−sec−ブトキシ桂皮
酸、3−イソブトキシ桂皮酸、3−tert−ブトキシ
桂皮酸、3−ペンチルオキシ桂皮酸、3−ヘキシルオキ
シ桂皮酸、3−ヘプチルオキシ桂皮酸、3−オクチルオ
キシ桂皮酸、3−ノニルオキシ桂皮酸、3−デシルオキ
シ桂皮酸、3−ウンデシルオキシ桂皮酸、3−ドデシル
オキシ桂皮酸、3−トリデシルオキシ桂皮酸、3−テト
ラデシルオキシ桂皮酸、2−メチル桂皮酸、2−エチル
桂皮酸、2−プロピル桂皮酸、2−イソプロピル桂皮
酸、2−ブチル桂皮酸、2−sec−ブチル桂皮酸、2
−イソブチル桂皮酸、2−tert−ブチル桂皮酸、2
−ペンチル桂皮酸、2−ヘキシル桂皮酸、2−ヘプチル
桂皮酸、2−オクチル桂皮酸、2−ノニル桂皮酸、2−
デシル桂皮酸、2−ウンデシル桂皮酸、2−ドデシル桂
皮酸、2−トリデシル桂皮酸、2−テトラデシル桂皮
酸、2−クロロ桂皮酸、2−ブロモ桂皮酸、2−ニトロ
桂皮酸、2−ジメチルアミノ桂皮酸、2−ヒドロキシ桂
皮酸、2−メトキシ桂皮酸、2−エトキシ桂皮酸、2−
プロポキシ桂皮酸、2−イソプロポキシ桂皮酸、2−ブ
トキシ桂皮酸、2−sec−ブトキシ桂皮酸、2−イソ
ブトキシ桂皮酸、2−tert−ブトキシ桂皮酸、2−
ペンチルオキシ桂皮酸、2−ヘキシルオキシ桂皮酸、2
−ヘプチルオキシ桂皮酸、2−オクチルオキシ桂皮酸、
2−ノニルオキシ桂皮酸、2−デシルオキシ桂皮酸、2
−ウンデシルオキシ桂皮酸、2−ドデシルオキシ桂皮
酸、2−トリデシルオキシ桂皮酸、2−テトラデシルオ
キシ桂皮酸、3,4−ジメトキシ桂皮酸、3,4−ジエ
トキシ桂皮酸、3,4−ジプロポキシ桂皮酸、3,4−
ジブトキシ桂皮酸、3,4−ジペンチルオキシ桂皮酸、
3,4−ジヘキシルオキシ桂皮酸、3,4−ジヘプチル
オキシ桂皮酸、3,4−ジオクチルオキシ桂皮酸、3,
4−ジノニルオキシ桂皮酸、3,4−ジデシルオキシ桂
皮酸、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)桂皮酸、
2,4−ジメトキシ桂皮酸、2,4−ジエトキシ桂皮
酸、2,4−ジプロポキシ桂皮酸、2,4−ジブトキシ
桂皮酸、2,4−ジペンチルオキシ桂皮酸、2,4−ジ
ヘキシルオキシ桂皮酸、2,4−ジヘプチルオキシ桂皮
酸、2,4−ジオクチルオキシ桂皮酸、2,4−ジノニ
ルオキシ桂皮酸、2,4−ジデシルオキシ桂皮酸、2,
4−ビス(2−メトキシエトキシ)桂皮酸、3,4,5
−トリメトキシ桂皮酸、3,4,5−トリエトキシ桂皮
酸、3,4,5−トリプロポキシ桂皮酸、3,4,5−
トリブトキシ桂皮酸、3,4,5−トリペンチルオキシ
桂皮酸、3,4,5−トリヘキシルオキシ桂皮酸、3,
4,5−トリヘプチルオキシ桂皮酸、3,4,5−トリ
オクチルオキシ桂皮酸、3,4,5−トリノニルオキシ
桂皮酸、3,4,5−トリデシルオキシ桂皮酸、4−メ
チル−3−メトキシ桂皮酸、4−エチル−3−メトキシ
桂皮酸、4−プロピル−3−メトキシ桂皮酸、4−ブチ
ル−3−メトキシ桂皮酸、4−ペンチル−3−メトキシ
桂皮酸、4−ヘキシル−3−メトキシ桂皮酸、4−ヘプ
チル−3−メトキシ桂皮酸、4−オクチル−3−メトキ
シ桂皮酸、4−ノニル−3−メトキシ桂皮酸、4−デシ
ル−3−メトキシ桂皮酸、4−ウンデシル−3−メトキ
シ桂皮酸、4−ドデシル−3−メトキシ桂皮酸、3−メ
チル−4−メトキシ桂皮酸、3−エチル−4−メトキシ
桂皮酸、3−プロピル−4−メトキシ桂皮酸、3−ブチ
ル−4−メトキシ桂皮酸、3−ペンチル−4−メトキシ
桂皮酸、3−ヘキシル−4−メトキシ桂皮酸、3−ヘプ
チル−4−メトキシ桂皮酸、3−オクチル−4−メトキ
シ桂皮酸、3−ノニル−4−メトキシ桂皮酸、3−デシ
ル−4−メトキシ桂皮酸、3−ウンデシル−4−メトキ
シ桂皮酸、3−ドデシル−4−メトキシ桂皮酸などを例
示できる。
Specific examples thereof include cinnamic acid, 4-methylcinnamic acid, 4-ethylcinnamic acid, 4-propylcinnamic acid,
4-Isopropylcinnamic acid, 4-butylcinnamic acid, 4-se
c-Butylcinnamic acid, 4-isobutylcinnamic acid, 4-ter
t-Butyl cinnamic acid, 4-pentyl cinnamic acid, 4-hexyl cinnamic acid, 4-heptyl cinnamic acid, 4-octyl cinnamic acid, 4
-Nonylcinnamic acid, 4-decylcinnamic acid, 4-undecylcinnamic acid, 4-dodecylcinnamic acid, 4-tridecylcinnamic acid, 4
-Tetradecylcinnamic acid, 4-chlorocinnamic acid, 4-bromocinnamic acid, 4-nitrocinnamic acid, 4-dimethylaminocinnamic acid, 4-hydroxycinnamic acid, 4-methoxycinnamic acid, 4-
Ethoxycinnamic acid, 4-propoxycinnamic acid, 4-isopropoxycinnamic acid, 4-butoxycinnamic acid, 4-sec-butoxycinnamic acid, 4-isobutoxycinnamic acid, 4-tert-
Butoxycinnamic acid, 4-pentyloxycinnamic acid, 4-hexyloxycinnamic acid, 4-heptyloxycinnamic acid, 4-octyloxycinnamic acid, 4-nonyloxycinnamic acid, 4-decyloxycinnamic acid, 4-undecyloxycinnamic acid Acid, 4-
Dodecyloxycinnamic acid, 4-tridecyloxycinnamic acid,
4-tetradecyloxycinnamic acid, 3-methylcinnamic acid, 3
-Ethyl cinnamic acid, 3-propyl cinnamic acid, 3-isopropyl cinnamic acid, 3-butyl cinnamic acid, 3-sec-butyl cinnamic acid, 3-isobutyl cinnamic acid, 3-tert-butyl cinnamic acid, 3-pentyl cinnamic acid , 3-hexyl cinnamic acid, 3-heptyl cinnamic acid, 3-octyl cinnamic acid, 3-nonyl cinnamic acid, 3-decyl cinnamic acid, 3-undecyl cinnamic acid, 3-dodecyl cinnamic acid, 3-tridecyl cinnamic acid, 3 -Tetradecylcinnamic acid, 3-chlorocinnamic acid, 3-bromocinnamic acid, 3-
Nitrocinnamic acid, 3-dimethylaminocinnamic acid, 3-hydroxycinnamic acid, 3-methoxycinnamic acid, 3-ethoxycinnamic acid, 3-propoxycinnamic acid, 3-isopropoxycinnamic acid, 3-butoxycinnamic acid, 3- sec-Butoxycinnamic acid, 3-isobutoxycinnamic acid, 3-tert-butoxycinnamic acid, 3-pentyloxycinnamic acid, 3-hexyloxycinnamic acid, 3-heptyloxycinnamic acid, 3-octyloxycinnamic acid, 3- Nonyloxycinnamic acid, 3-decyloxycinnamic acid, 3-undecyloxycinnamic acid, 3-dodecyloxycinnamic acid, 3-tridecyloxycinnamic acid, 3-tetradecyloxycinnamic acid, 2-methylcinnamic acid, 2-ethyl Cinnamic acid, 2-propylcinnamic acid, 2-isopropylcinnamic acid, 2-butylcinnamic acid, 2-sec-butylcinnamic acid, 2
-Isobutyl cinnamic acid, 2-tert-butyl cinnamic acid, 2
-Pentyl cinnamic acid, 2-hexyl cinnamic acid, 2-heptyl cinnamic acid, 2-octyl cinnamic acid, 2-nonyl cinnamic acid, 2-
Decylcinnamic acid, 2-undecylcinnamic acid, 2-dodecylcinnamic acid, 2-tridecylcinnamic acid, 2-tetradecylcinnamic acid, 2-chlorocinnamic acid, 2-bromocinnamic acid, 2-nitrocinnamic acid, 2-dimethylamino Cinnamic acid, 2-hydroxycinnamic acid, 2-methoxycinnamic acid, 2-ethoxycinnamic acid, 2-
Propoxycinnamic acid, 2-isopropoxycinnamic acid, 2-butoxycinnamic acid, 2-sec-butoxycinnamic acid, 2-isobutoxycinnamic acid, 2-tert-butoxycinnamic acid, 2-
Pentyloxycinnamic acid, 2-hexyloxycinnamic acid, 2
-Heptyloxycinnamic acid, 2-octyloxycinnamic acid,
2-nonyloxycinnamic acid, 2-decyloxycinnamic acid, 2
-Undecyloxycinnamic acid, 2-dodecyloxycinnamic acid, 2-tridecyloxycinnamic acid, 2-tetradecyloxycinnamic acid, 3,4-dimethoxycinnamic acid, 3,4-diethoxycinnamic acid, 3,4- Dipropoxycinnamic acid, 3,4-
Dibutoxycinnamic acid, 3,4-dipentyloxycinnamic acid,
3,4-dihexyloxycinnamic acid, 3,4-diheptyloxycinnamic acid, 3,4-dioctyloxycinnamic acid, 3,
4-dinonyloxycinnamic acid, 3,4-didecyloxycinnamic acid, 3,4-bis (2-methoxyethoxy) cinnamic acid,
2,4-dimethoxycinnamic acid, 2,4-diethoxycinnamic acid, 2,4-dipropoxycinnamic acid, 2,4-dibutoxycinnamic acid, 2,4-dipentyloxycinnamic acid, 2,4-dihexyloxycinnamic acid, 2,4-diheptyloxycinnamic acid, 2,4-dioctyloxycinnamic acid, 2,4-dinonyloxycinnamic acid, 2,4-didecyloxycinnamic acid, 2,
4-bis (2-methoxyethoxy) cinnamic acid, 3,4,5
-Trimethoxycinnamic acid, 3,4,5-triethoxycinnamic acid, 3,4,5-tripropoxycinnamic acid, 3,4,5-
Tributoxycinnamic acid, 3,4,5-tripentyloxycinnamic acid, 3,4,5-trihexyloxycinnamic acid, 3,
4,5-Triheptyloxycinnamic acid, 3,4,5-trioctyloxycinnamic acid, 3,4,5-trinonyloxycinnamic acid, 3,4,5-tridecyloxycinnamic acid, 4-methyl- 3-methoxycinnamic acid, 4-ethyl-3-methoxycinnamic acid, 4-propyl-3-methoxycinnamic acid, 4-butyl-3-methoxycinnamic acid, 4-pentyl-3-methoxycinnamic acid, 4-hexyl- 3-methoxycinnamic acid, 4-heptyl-3-methoxycinnamic acid, 4-octyl-3-methoxycinnamic acid, 4-nonyl-3-methoxycinnamic acid, 4-decyl-3-methoxycinnamic acid, 4-undecyl- 3-methoxycinnamic acid, 4-dodecyl-3-methoxycinnamic acid, 3-methyl-4-methoxycinnamic acid, 3-ethyl-4-methoxycinnamic acid, 3-propyl-4-methoxycinnamic acid, 3-butyl- 4-methoxy Cinnamic acid, 3-pentyl-4-methoxycinnamic acid, 3-hexyl-4-methoxycinnamic acid, 3-heptyl-4-methoxycinnamic acid, 3-octyl-4-methoxycinnamic acid, 3-nonyl-4-methoxy. Examples include cinnamic acid, 3-decyl-4-methoxycinnamic acid, 3-undecyl-4-methoxycinnamic acid, and 3-dodecyl-4-methoxycinnamic acid.

【0016】また、カルボン酸化合物として炭素数11
から41ナフトエ酸誘導体も好適に使用できる。アルキ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン、アミノ基、ニトロ基な
どの置換基を有するナフトエ酸誘導体を用いる場合に
は、その置換位置に特に制限はなく、すべての異性体が
好適に使用できるが、特に2位の位置にカルボキシル
基、6位または7位、好ましくは6位の位置に置換基が
結合したものが入手しやすさなどの理由で好適に利用で
きる。
The carboxylic acid compound has 11 carbon atoms.
To 41 naphthoic acid derivatives can also be preferably used. When a naphthoic acid derivative having a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, an amino group or a nitro group is used, the substitution position is not particularly limited, and all isomers can be preferably used, but especially 2 A carboxyl group at the position of 6-position, a substituent at the 6-position or 7-position, and preferably a substituent at the 6-position can be preferably used for reasons such as easy availability.

【0017】それらの具体例としては、2−ナフトエ
酸、6−メチル−2−ナフトエ酸、6−エチル−2−ナ
フトエ酸、6−プロピル−2−ナフトエ酸、6−イソプ
ロピル−2−ナフトエ酸、6−ブチル−2−ナフトエ
酸、6−sec−ブチル−2−ナフトエ酸、6−イソブ
チル−2−ナフトエ酸、6−6−tert−ブチル−2
−ナフトエ酸、6−ペンチル−2−ナフトエ酸、6−ヘ
キシル−2−ナフトエ酸、6−ヘプチル−2−ナフトエ
酸、6−オクチル−2−ナフトエ酸、6−ノニル−2−
ナフトエ酸、6−デシル−2−ナフトエ酸、6−ウンデ
シル−2−ナフトエ酸、6−ドデシル−2−ナフトエ
酸、6−6−トリデシル−2−ナフトエ酸、6−テトラ
デシル−2−ナフトエ酸、6−クロロ−2−ナフトエ
酸、6−ブロモ−2−ナフトエ酸、6−ニトロ−2−ナ
フトエ酸、6−ジメチルアミノ−2−ナフトエ酸、6−
ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、6−メトキシナフトエ
酸、エトキシ−2−ナフトエ酸、6−プロポキシ−2−
ナフトエ酸、6−イソプロポキシ−2−ナフトエ酸、6
−ブトキシ−2−ナフトエ酸、6−sec−ブトキシ−
2−ナフトエ酸、6−イソブトキシ−2−ナフトエ酸、
6−tert−ブトキシ−2−ナフトエ酸、6−ペンチ
ルオキシ−2−ナフトエ酸、6−ヘキシルオキシ−2−
ナフトエ酸、6−ヘプチルオキシ−2−ナフトエ酸、6
−オクチルオキシ−2−ナフトエ酸、6−ノニルオキシ
−2−ナフトエ酸、6−デシルオキシ−2−ナフトエ
酸、6−ウンデシルオキシ−2−ナフトエ酸、6−ドデ
シルオキシ−2−ナフトエ酸、6−トリデシルオキシ−
2−ナフトエ酸、6−テトラデシルオキシ−2−ナフト
エ酸などを例示できる。
Specific examples thereof include 2-naphthoic acid, 6-methyl-2-naphthoic acid, 6-ethyl-2-naphthoic acid, 6-propyl-2-naphthoic acid and 6-isopropyl-2-naphthoic acid. , 6-butyl-2-naphthoic acid, 6-sec-butyl-2-naphthoic acid, 6-isobutyl-2-naphthoic acid, 6-6-tert-butyl-2
-Naphthoic acid, 6-pentyl-2-naphthoic acid, 6-hexyl-2-naphthoic acid, 6-heptyl-2-naphthoic acid, 6-octyl-2-naphthoic acid, 6-nonyl-2-
Naphthoic acid, 6-decyl-2-naphthoic acid, 6-undecyl-2-naphthoic acid, 6-dodecyl-2-naphthoic acid, 6-6-tridecyl-2-naphthoic acid, 6-tetradecyl-2-naphthoic acid, 6-chloro-2-naphthoic acid, 6-bromo-2-naphthoic acid, 6-nitro-2-naphthoic acid, 6-dimethylamino-2-naphthoic acid, 6-
Hydroxy-2-naphthoic acid, 6-methoxynaphthoic acid, ethoxy-2-naphthoic acid, 6-propoxy-2-
Naphthoic acid, 6-isopropoxy-2-naphthoic acid, 6
-Butoxy-2-naphthoic acid, 6-sec-butoxy-
2-naphthoic acid, 6-isobutoxy-2-naphthoic acid,
6-tert-butoxy-2-naphthoic acid, 6-pentyloxy-2-naphthoic acid, 6-hexyloxy-2-
Naphthoic acid, 6-heptyloxy-2-naphthoic acid, 6
-Octyloxy-2-naphthoic acid, 6-nonyloxy-2-naphthoic acid, 6-decyloxy-2-naphthoic acid, 6-undecyloxy-2-naphthoic acid, 6-dodecyloxy-2-naphthoic acid, 6- Tridecyloxy-
Examples thereof include 2-naphthoic acid and 6-tetradecyloxy-2-naphthoic acid.

【0018】さらに、カルボン酸化合物として[1,
1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体も好適に使用でき
る。アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、アミノ基、
ニトロ基などの置換基を有する[1,1’−ビフェニ
ル]カルボン酸誘導体を用いる場合には、その置換位置
に特に制限はなく、すべての異性体が好適に使用できる
が、特に4位の位置にカルボキシル基、4’位の位置に
置換基が結合したものが入手しやすさなどの理由から好
適に利用できる。
Further, as the carboxylic acid compound [1,
A 1'-biphenyl] carboxylic acid derivative can also be preferably used. Alkyl group, alkoxy group, halogen, amino group,
When a [1,1′-biphenyl] carboxylic acid derivative having a substituent such as a nitro group is used, the substitution position is not particularly limited, and all isomers can be preferably used, but especially at the 4-position. Those having a carboxyl group and a substituent bonded to the 4'-position can be preferably used because of availability.

【0019】それらの具体例としては、[1,1’−ビ
フェニル]−4−カルボン酸、4’−メチル[1,1’
−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−エチル[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−プロピル
[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−イ
ソプロピル[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン
酸、4’−ブチル[1,1’−ビフェニル]−4−カル
ボン酸、4’−sec−ブチル[1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸、4’−イソブチル[1,1’−
ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−tert−ブチ
ル[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−
ペンチル[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、
4’−ヘキシル[1,1’−ビフェニル]−4−カルボ
ン酸、4’−ヘプチル[1,1’−ビフェニル]−4−
カルボン酸、4’−オクチル[1,1’−ビフェニル]
−4−カルボン酸、4’−ノニル[1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸、4’−デシル[1,1’−ビフ
ェニル]−4−カルボン酸、4’−ウンデシル[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−ドデシル
[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−ト
リデシル[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、
4’−テトラデシル[1,1’−ビフェニル]−4−カ
ルボン酸、4’−クロロ[1,1’−ビフェニル]−4
−カルボン酸、4’−ブロモ[1,1’−ビフェニル]
−4−カルボン酸、4’−ニトロ[1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸、4’−ジメチルアミノ[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−ヒドロキ
シ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−
メトキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、
4’−エトキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボ
ン酸、4’−プロポキシ[1,1’−ビフェニル]−4
−カルボン酸、4’−イソプロポキシ[1,1’−ビフ
ェニル]−4−カルボン酸、4’−ブトキシ[1,1’
−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−sec−ブト
キシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’
−イソブトキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボ
ン酸、4’−tert−ブトキシ[1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸、4’−ペンチルオキシ[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−ヘキシル
オキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、
4’−ヘプチルオキシ[1,1’−ビフェニル]−4−
カルボン酸、4’−オクチルオキシ[1,1’−ビフェ
ニル]−4−カルボン酸、4’−ノニルオキシ[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−デシルオ
キシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’
−ウンデシルオキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カ
ルボン酸、4’−ドデシルオキシ[1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸、4’−トリデシルオキシ[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−テトラデ
シルオキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸
などを例示できる。
Specific examples thereof include [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-methyl [1,1 '.
-Biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-ethyl [1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-propyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-isopropyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'- Butyl [1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4′-sec-butyl [1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4′-isobutyl [1,1′-
Biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-tert-butyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-
Pentyl [1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid,
4'-hexyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-heptyl [1,1'-biphenyl] -4-
Carboxylic acid, 4'-octyl [1,1'-biphenyl]
-4-carboxylic acid, 4'-nonyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-decyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-undecyl [1,
1′-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4′-dodecyl [1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4′-tridecyl [1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid,
4'-tetradecyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-chloro [1,1'-biphenyl] -4
-Carboxylic acid, 4'-bromo [1,1'-biphenyl]
-4-carboxylic acid, 4'-nitro [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-dimethylamino [1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-hydroxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-
Methoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid,
4'-ethoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-propoxy [1,1'-biphenyl] -4
-Carboxylic acid, 4'-isopropoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-butoxy [1,1 '
-Biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-sec-butoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4 '
-Isobutoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-tert-butoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-pentyloxy [1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-hexyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid,
4'-heptyloxy [1,1'-biphenyl] -4-
Carboxylic acid, 4'-octyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-nonyloxy [1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-decyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4 '
-Undecyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-dodecyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-tridecyloxy [1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid and 4'-tetradecyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid can be exemplified.

【0020】次に、多官能性カルボン酸化合物として、
好ましくは二官能性カルボン酸化合物が用いられる。こ
の例としてまず、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン
酸、ドデカンジカルボン酸、トリデカンジカルボン酸、
テトラデカンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジ
カルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,5−ナフタレン
ジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,
5−ナフタレンジカルボン酸、[1,1’−ビフェニ
ル]−4,4’−ジカルボン酸、フマール酸、マレイン
酸、スチルベン−4,4’−ジカルボン酸、[1,1’
−ジシクロヘキサン]−4,4’−ジカルボン酸、4,
4’−イソプロピリデンビス(フェノキシ酢酸)、ベン
ゼン−1,4−ジイルビス(3−プロペニル酸)など炭
素数6から30、好ましくは6から20のジカルボン酸
誘導体を挙げることができる。
Next, as a polyfunctional carboxylic acid compound,
A difunctional carboxylic acid compound is preferably used. As this example, first, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedicarboxylic acid, dodecanedicarboxylic acid, tridecanedicarboxylic acid,
Tetradecanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid,
2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,
5-naphthalenedicarboxylic acid, [1,1′-biphenyl] -4,4′-dicarboxylic acid, fumaric acid, maleic acid, stilbene-4,4′-dicarboxylic acid, [1,1 ′
-Dicyclohexane] -4,4'-dicarboxylic acid, 4,
Examples thereof include dicarboxylic acid derivatives having 6 to 30 carbon atoms, preferably 6 to 20 carbon atoms such as 4'-isopropylidene bis (phenoxyacetic acid) and benzene-1,4-diyl bis (3-propenyl acid).

【0021】また安息香酸基、ナフトエ酸基、[1,
1’−ビフェニル]カルボン酸基から選ばれる基2個に
より、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン
酸も好適に用いることができ、以下にその例を示す。な
おここでいうジカルボン酸誘導体とは、上記の炭素数6
から30のジカルボン酸誘導体には含まない。ここでは
置換位置を示していないが、安息香酸誘導体を用いる場
合一般に2、3、4位のいずれの位置が置換されたもの
も用いることができるが、製造の容易さなどから4置換
体が最も好ましく用いることができる。また、ナフトエ
酸誘導体を用いる場合には、一般に置換ナフトエ酸のど
の異性体も好適に使用できるが、好ましくはカルボキシ
ル基はナフタレンの2位の位置にあるものが用いられ、
置換基は6位または7位、好ましくは6位の位置にある
ものが用いられる。さらに、[1,1’−ビフェニル]
カルボン酸誘導体についても、どの異性体も好適に使用
できるが、好ましくはカルボキシル基は[1,1’−ビ
フェニル]基の4位の位置にあるものが用いられ、置換
基は4’位の位置にあるものが用いられる。
Further, a benzoic acid group, a naphthoic acid group, [1,
A dicarboxylic acid having a C2 to C20 organic group sandwiched between two groups selected from 1′-biphenyl] carboxylic acid groups can also be preferably used, and examples thereof are shown below. The dicarboxylic acid derivative referred to herein has the above-mentioned carbon number of 6
To 30 dicarboxylic acid derivatives are not included. Although the substitution position is not shown here, in the case of using a benzoic acid derivative, it is generally possible to use a compound in which any of the 2, 3 and 4 positions are substituted, but the 4-substituted product is most preferred because of ease of production and the like. It can be preferably used. Further, when using a naphthoic acid derivative, generally any isomer of a substituted naphthoic acid can be preferably used, but preferably, a carboxyl group at the 2-position of naphthalene is used.
The substituent is used at the 6-position or 7-position, preferably at the 6-position. Furthermore, [1,1'-biphenyl]
Regarding the carboxylic acid derivative, any isomer can be preferably used, but preferably, the carboxyl group is used at the 4-position of the [1,1′-biphenyl] group, and the substituent is at the 4′-position. The ones in are used.

【0022】それらの具体例としては、4,4’−(エ
タン−1,2−ジイルビスオキシ)ビス安息香酸、4,
4’−(プロパン−1,3−ジイルビスオキシ)ビス安
息香酸、4,4’−(ブタン−1,4−ジイルビスオキ
シ)ビス安息香酸、4,4’−(ペンタン−1,5−ジ
イルビスオキシ)ビス安息香酸、4,4’−(ヘキサン
−1,6−ジイルビスオキシ)ビス安息香酸、4,4’
−(ヘプタン−1,7−ジイルビスオキシ)ビス安息香
酸、4,4’−(オクタン−1,8−ジイルビスオキ
シ)ビス安息香酸、4,4’−(ノナン−1,9−ジイ
ルビスオキシ)ビス安息香酸、4,4’−(デカン−
1,10−ジイルビスオキシ)ビス安息香酸、4,4’
−(ウンデカン−1,11−ジイルビスオキシ)ビス安
息香酸、4,4’−(ドデカン−1,12−ジイルビス
オキシ)ビス安息香酸、4,4’−(ベンゼン−1,4
−ジイルビスオキシ)ビス安息香酸、4,4’−(ベン
ゼン−1,4−ジメチル−α,α’−ジイルビスオキ
シ)ビス安息香酸、4,4’−(シクロヘキサン−1,
4−ジメチル−α,α’−ジイルビスオキシ)ビス安息
香酸、6,6’−(エタン−1,2−ジイルビスオキ
シ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’−(プロパン−
1,3−ジイルビスオキシ)ビス(2−ナフトエ酸)、
6,6’−(ブタン−1,4−ジイルビスオキシ)ビス
(2−ナフトエ酸)、6,6’−(ペンタン−1,5−
ジイルビスオキシ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’
−(ヘキサン−1,6−ジイルビスオキシ)ビス(2−
ナフトエ酸)、6,6’−(ヘプタン−1,7−ジイル
ビスオキシ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’−(オ
クタン−1,8−ジイルビスオキシ)ビス(2−ナフト
エ酸)、6,6’−(ノナン−1,9−ジイルビスオキ
シ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’−(デカン−
1,10−ジイルビスオキシ)ビス(2−ナフトエ
酸)、6,6’−(ウンデカン−1,11−ジイルビス
オキシ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’−(ドデカ
ン−1,12−ジイルビスオキシ)ビス(2−ナフトエ
酸)、6,6’−(ベンゼン−1,4−ジイルビスオキ
シ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’−(ベンゼン−
1,4−ジメチル−α,α’−ジイルビスオキシ)ビス
(2−ナフトエ酸)、6,6’−(シクロヘキサン−
1,4−ジメチル−α,α’−ジイルビスオキシ)ビス
(2−ナフトエ酸)、4’,4''' −(エタン−1,2
−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−ビフェニル]
−4−カルボン酸)、4’,4''' −(プロパン−1,
3−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −(ブタン−
1,4−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−ビフェ
ニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −(ペンタン
−1,5−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−ビフ
ェニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −(ヘキサ
ン−1,6−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−ビ
フェニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −(ヘプ
タン−1,7−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−
ビフェニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −(オ
クタン−1,8−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’
−ビフェニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −
(ノナン−1,9−ジイルビスオキシ)ビス([1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸)、4’,4'''
−(デカン−1,10−ジイルビスオキシ)ビス
([1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸)、
4’,4''' −(ウンデカン−1,11−ジイルビスオ
キシ)ビス([1,1’−ビフェニル]−4−カルボン
酸)、4’,4''' −(ドデカン−1,12−ジイルビ
スオキシ)ビス([1,1’−ビフェニル]−4−カル
ボン酸)、4’,4''' −(ベンゼン−1,4−ジイル
ビスオキシ)ビス([1,1’−ビフェニル]−4−カ
ルボン酸)、4’,4''' −(ベンゼン−1,4−ジメ
チル−α.α’−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’
−ビフェニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −
(シクロヘキサン−1,4−ジメチル−α,α’−ジイ
ルビスオキシ)ビス([1,1’−ビフェニル]−4−
カルボン酸)などを挙げることができる。
Specific examples thereof include 4,4 '-(ethane-1,2-diylbisoxy) bisbenzoic acid and 4,4'-(ethane-1,2-diylbisoxy) bisbenzoic acid.
4 '-(propane-1,3-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4'-(butane-1,4-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 '-(pentane-1,5- Diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 ′-(hexane-1,6-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 ′
-(Heptane-1,7-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 '-(octane-1,8-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4'-(nonane-1,9-diylbis Oxy) bisbenzoic acid, 4,4 ′-(decane-
1,10-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 ′
-(Undecane-1,11-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 '-(dodecane-1,12-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4'-(benzene-1,4)
-Diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 '-(benzene-1,4-dimethyl-α, α'-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4'-(cyclohexane-1,
4-Dimethyl-α, α′-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 6,6 ′-(ethane-1,2-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 ′-(propane-
1,3-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid),
6,6 '-(butane-1,4-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6'-(pentane-1,5-
Diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 '
-(Hexane-1,6-diylbisoxy) bis (2-
Naphthoic acid), 6,6 ′-(heptane-1,7-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 ′-(octane-1,8-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid) ), 6,6 ′-(nonane-1,9-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 ′-(decane-)
1,10-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 '-(undecane-1,11-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6'-(dodecane-1, 12-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 '-(benzene-1,4-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6'-(benzene-
1,4-dimethyl-α, α′-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 ′-(cyclohexane-
1,4-dimethyl-α, α′-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 4 ′, 4 ″ ′-(ethane-1,2)
-Diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl]
-4-carboxylic acid), 4 ', 4'''-(propane-1,
3-diylbisoxy) bis ([1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ′, 4 ′ ″-(butane-
1,4-diylbisoxy) bis ([1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ′, 4 ′ ″-(pentane-1,5-diylbisoxy) bis ([1,1 '-Biphenyl] -4-carboxylic acid), 4', 4 '''-(hexane-1,6-diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4', 4 '''-(heptane-1,7-diylbisoxy) bis ([1,1'-
Biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ′, 4 ′ ″-(octane-1,8-diylbisoxy) bis ([1,1 ′
-Biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ', 4'''-
(Nonane-1,9-diylbisoxy) bis ([1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ', 4'''
-(Decane-1,10-diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid),
4 ′, 4 ′ ″-(undecane-1,11-diylbisoxy) bis ([1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ′, 4 ″ ′-(dodecane-1,12 -Diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ', 4'"-(benzene-1,4-diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl ] -4-Carboxylic acid), 4 ′, 4 ′ ″-(benzene-1,4-dimethyl-α.α′-diylbisoxy) bis ([1,1 ′
-Biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ', 4'''-
(Cyclohexane-1,4-dimethyl-α, α′-diylbisoxy) bis ([1,1′-biphenyl] -4-
Carboxylic acid) and the like.

【0023】また、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコールなどの2個の
末端ヒドロキシ基をヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシナ
フトエ酸、ヒドロキシ[1,1’−ビフェニル]カルボ
ン酸などのヒドロキシ基とエーテル結合を形成させて得
られる化合物も使用できる。さらにこれら安息香酸、ナ
フトエ酸、[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基を含
む二官能性カルボン酸では、両側が、例えば片方が安息
香酸基、もう片方がナフトエ酸基のように異なった化合
物も使用できる。
Further, two terminal hydroxy groups such as diethylene glycol, triethylene glycol and tetraethylene glycol are combined with a hydroxy group such as hydroxybenzoic acid, hydroxynaphthoic acid and hydroxy [1,1'-biphenyl] carboxylic acid to form an ether bond. Compounds obtained by forming can also be used. Furthermore, in these bifunctional carboxylic acids containing benzoic acid, naphthoic acid and [1,1′-biphenyl] carboxylic acid group, different compounds such as benzoic acid group on one side and naphthoic acid group on the other side are used. Can also be used.

【0024】さらに一分子中に3個以上のカルボン酸基
を持つ化合物も用いることができる。それらの例として
は、ベンゼン−1,3,5−トリカルボン酸、4,
4’,4''−(プロパン−1,2,3−トリイルトリス
オキシ)トリス(安息香酸)などを挙げることができ
る。
Further, a compound having three or more carboxylic acid groups in one molecule can also be used. Examples of these are benzene-1,3,5-tricarboxylic acid, 4,
4 ′, 4 ″-(propane-1,2,3-triyltrisoxy) tris (benzoic acid) and the like can be mentioned.

【0025】本発明では上記の如きカルボン酸化合物を
複数種用いて、例えばHATPと脱酢酸反応を行うこと
により補償板材料として好適な反応生成物を得ることが
できる。一官能性カルボン酸化合物を複数種用いる際の
組み合わせの例としては、 (1) 安息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (2) 安息香酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]カ
ルボン酸誘導体 (3) 安息香酸誘導体 + 桂皮酸誘導体 (4) ナフトエ酸誘導体 + 桂皮酸誘導体 (5) ナフトエ酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]
カルボン酸誘導体 (6) 桂皮酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]カル
ボン酸誘導体 (7) 安息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 + 桂皮
酸誘導体 (8) 安息香酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]カ
ルボン酸誘導体 + 桂皮酸誘導体 (9) 安息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 (10)安息香酸誘導体 + アルカン酸 (11)安息香酸誘導体 + アルケン酸 (12)アルカン酸 + ナフトエ酸誘導体 (13)アルケン酸 + ナフトエ酸誘導体 (14)複数種の安息香酸誘導体 (15)複数種のナフトエ酸誘導体 (16)複数種の[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導
体 (17)複数種の桂皮酸誘導体 などを挙げることができる。
In the present invention, a reaction product suitable as a compensating plate material can be obtained by performing deacetic acid reaction with, for example, HATP by using plural kinds of carboxylic acid compounds as described above. Examples of combinations when using plural kinds of monofunctional carboxylic acid compounds include (1) benzoic acid derivative + naphthoic acid derivative (2) benzoic acid derivative + [1,1′-biphenyl] carboxylic acid derivative (3) benzoic acid Acid derivative + cinnamic acid derivative (4) Naphthoic acid derivative + cinnamic acid derivative (5) Naphthoic acid derivative + [1,1'-biphenyl]
Carboxylic acid derivative (6) Cinnamic acid derivative + [1,1'-biphenyl] Carboxylic acid derivative (7) Benzoic acid derivative + Naphthoic acid derivative + Cinnamic acid derivative (8) Benzoic acid derivative + [1,1'-Biphenyl] Carboxylic acid derivatives + Cinnamic acid derivatives (9) Benzoic acid derivatives + Naphthoic acid derivatives +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative (10) Benzoic acid derivative + alkanoic acid (11) Benzoic acid derivative + Alkenic acid (12) Alkanoic acid + Naphthoic acid derivative (13) Alkenic acid + Naphthoic acid derivative (14) There may be mentioned plural kinds of benzoic acid derivatives (15) plural kinds of naphthoic acid derivatives (16) plural kinds of [1,1′-biphenyl] carboxylic acid derivatives (17) plural kinds of cinnamic acid derivatives.

【0026】また一官能性カルボン酸化合物と多官能性
カルボン酸化合物との組み合わせとしては、 (1) 炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + 安息
香酸誘導体 (2) 炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + ナフ
トエ酸誘導体 (3) 炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + 安息
香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (4) 炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + 桂皮
酸誘導体 (5) 炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + 桂皮
酸誘導体 + 安息香酸誘導体 (6) 炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + 桂皮
酸誘導体 + 安息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (7) 炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 (8) 炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 + 安息
香酸誘導体 (9) 炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 + ナフ
トエ酸誘導体 (10)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 + 安息
香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (11)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 + 桂皮
酸誘導体 (12)安息香酸基2個により、C2〜C20の有機基が挟
まれた形のジカルボン酸誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 (13)安息香酸基2個により、C2〜C20の有機基が挟
まれた形のジカルボン酸誘導体 + 安息香酸誘導体
+ [1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 (14)安息香酸基2個により、C2〜C20の有機基が挟
まれた形のジカルボン酸誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]
カルボン酸誘導体 (15)安息香酸基2個により、C2〜C20の有機基が挟
まれた形のジカルボン酸誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]
カルボン酸誘導体 (16)安息香酸基2個により、C2〜C20の有機基が挟
まれた形のジカルボン酸誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]
カルボン酸誘導体 + アルカン酸 (17)ナフトエ酸基2個により、C2〜C20の有機基が
挟まれた形のジカルボン誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 (18)ナフトエ酸基2個により、C2〜C20の有機基が
挟まれた形のジカルボン誘導体 + 安息香酸誘導体
+ [1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 (19)ナフトエ酸基2個により、C2〜C20の有機基が
挟まれた形のジカルボン誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]
カルボン酸誘導体 (20)[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基2個によ
り、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン酸
誘導体 + 安息香酸誘導体 (21)[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基2個によ
り、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン酸
誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (22)[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基2個によ
り、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン酸
誘導体 + 安息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (23)[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基2個によ
り、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン酸
誘導体 + 桂皮酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (24)[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基2個によ
り、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン酸
誘導体 + 桂皮酸誘導体 + 安息香酸誘導体 などを挙げることができる。
Further, the combination of the monofunctional carboxylic acid compound and the polyfunctional carboxylic acid compound includes (1) a dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms + a benzoic acid derivative (2) a dicarboxylic acid having 6 to 30 carbon atoms Derivatives + naphthoic acid derivatives (3) Dicarboxylic acid derivatives with 6 to 30 carbon atoms + Benzoic acid derivatives + Naphthoic acid derivatives (4) Dicarboxylic acid derivatives with 6 to 30 carbon atoms + Cinnamic acid derivatives (5) 6 to 30 carbon atoms Dicarboxylic acid derivative + cinnamic acid derivative + benzoic acid derivative (6) Dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms + cinnamic acid derivative + benzoic acid derivative + naphthoic acid derivative (7) Dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative (8) Dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative + benzoic acid derivative (9) Dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative + naphthoic acid derivative (10) Dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative + benzoic acid derivative + naphthoic acid derivative (11) Dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative + cinnamic acid derivative (12) Dicarboxylic acid derivative in which C2-C20 organic group is sandwiched by two benzoic acid groups + benzoic acid derivative
+ Naphthoic acid derivative (13) Dicarboxylic acid derivative in which a C2-C20 organic group is sandwiched by two benzoic acid groups + Benzoic acid derivative
+ [1,1'-biphenyl] carboxylic acid derivative (14) Dicarboxylic acid derivative in which C2 to C20 organic groups are sandwiched by two benzoic acid groups + Benzoic acid derivative
+ Naphthoic acid derivative + [1,1'-biphenyl]
Carboxylic acid derivative (15) Dicarboxylic acid derivative in which C2-C20 organic group is sandwiched by two benzoic acid groups + Benzoic acid derivative
+ Naphthoic acid derivative + [1,1'-biphenyl]
Carboxylic acid derivative (16) Dicarboxylic acid derivative in which C2-C20 organic group is sandwiched by two benzoic acid groups + Benzoic acid derivative
+ Naphthoic acid derivative + [1,1'-biphenyl]
Carboxylic acid derivative + alkanoic acid (17) Dicarboxylic derivative in which C2-C20 organic group is sandwiched by two naphthoic acid groups + Benzoic acid derivative
+ Naphthoic acid derivative (18) Dicarboxylic derivative in which C2-C20 organic group is sandwiched by two naphthoic acid groups + Benzoic acid derivative
+ [1,1'-biphenyl] carboxylic acid derivative (19) Dicarboxylic derivative in which C2-C20 organic group is sandwiched by two naphthoic acid groups + Benzoic acid derivative
+ Naphthoic acid derivative + [1,1'-biphenyl]
Carboxylic acid derivative (20) [1,1'-biphenyl] Dicarboxylic acid derivative in which C2 to C20 organic groups are sandwiched by two carboxylic acid groups + Benzoic acid derivative (21) [1,1'-biphenyl] ] A dicarboxylic acid derivative in which a C2-C20 organic group is sandwiched by two carboxylic acid groups + a naphthoic acid derivative (22) [1,1'-biphenyl] C2-C20 organic group by two carboxylic acid groups Dicarboxylic acid derivative in which group is sandwiched + Benzoic acid derivative + Naphthoic acid derivative (23) [1,1′-Biphenyl] dicarboxylic acid in which organic group of C2 to C20 is sandwiched by two carboxylic acid groups Derivative + cinnamic acid derivative + naphthoic acid derivative (24) [1,1'-biphenyl] dicarboxylic acid derivative in which C2-C20 organic group is sandwiched by two carboxylic acid groups + cinnamic acid derivative + benzoic acid derivative And so on.

【0027】本発明の製造方法によれば、以上に説明し
た平面状縮合環化合物とカルボン酸化合物とを混合し、
脱酢酸反応を進行させ、目的とする上記の如き反応生成
物を得る。該反応生成物は、本発明の脱酢酸反応を実施
することにより結果として得られる反応生成物自体が好
ましいディスコティックネマティック相を示すものであ
る。該反応生成物としては例えば、 (1) ディスコティック液晶化合物単独 (2) 2種以上のディスコティック液晶化合物よりなる組
成物 (3) 少なくとも1種のディスコティック液晶化合物とデ
ィスコティック液晶相を示さない化合物よりなる組成物 などが挙げられる。
According to the production method of the present invention, the planar condensed ring compound described above and the carboxylic acid compound are mixed,
The deacetic acid reaction is allowed to proceed to obtain the desired reaction product as described above. The reaction product obtained by carrying out the deacetic acid reaction of the present invention is itself a preferable discotic nematic phase. Examples of the reaction product include (1) a discotic liquid crystal compound alone (2) a composition composed of two or more discotic liquid crystal compounds (3) at least one discotic liquid crystal compound and a discotic liquid crystal phase Examples thereof include compositions composed of compounds.

【0028】本発明において次工程に供される反応生成
物とは、上記の如き反応生成物または少なくとも2種の
異なる上記の如き反応生成物より成る組成物である。上
記からも理解されるように、本発明のディスコティック
液晶材料が組成物となっている際に、該材料中に含まれ
ている化合物は全てディスコティック液晶化合物である
必要はない。本発明の製造方法によっては、1反応系内
に置換基分布が異なる多種のディスコティック液晶化合
物または該液晶相を示さない化合物などが、反応生成物
中に含まれてくる場合もあるが、該反応生成物中にどう
いった化合物が存在しているのかについても特に解析す
る必要はなく、その反応生成物全体すなわち該化合物の
組成物自体がディスコティックネマティック相を示すも
のである。
In the present invention, the reaction product used in the next step is a reaction product as described above or a composition comprising at least two different reaction products as described above. As will be understood from the above, when the discotic liquid crystal material of the present invention is a composition, all the compounds contained in the material need not be discotic liquid crystal compounds. Depending on the production method of the present invention, a reaction product may contain various discotic liquid crystal compounds having different distributions of substituents or compounds not exhibiting the liquid crystal phase in one reaction system. It is not necessary to analyze what kind of compound is present in the reaction product, and the whole reaction product, that is, the composition of the compound itself shows a discotic nematic phase.

【0029】本発明の反応生成物の諸物性、例えば相転
移温度、液晶状態における分子の配向形態などは、平面
状縮合環化合物またはカルボン酸化合物を種々選択する
ことによって調節することができる。また後に説明する
反応条件によっても、所望の相転移温度を有する反応生
成物を得ることが可能である。
The physical properties of the reaction product of the present invention, such as the phase transition temperature and the molecular orientation in the liquid crystal state, can be adjusted by selecting various planar condensed ring compounds or carboxylic acid compounds. It is also possible to obtain a reaction product having a desired phase transition temperature by the reaction conditions described later.

【0030】次に、反応条件について説明する。本発明
においては、理論的には、使用する平面状縮合環化合物
に含まれるフェノール性アセテート基のモル数とカルボ
ン酸化合物に含まれるカルボキシル基のモル数との比が
1となるように仕込みモル比を設定する。しかしなが
ら、現実の操作では必ずしも正確にモル比を1にする必
要はなく、通常0.80〜1.20、好ましくは0.9
5〜1.05の比となるように設定する。例えば、反応
中に置換基成分の原料、すなわちカルボン酸化合物が昇
華などにより、反応系外に飛散する恐れのある場合には
カルボン酸化合物を若干多めにしても何ら差し支えな
い。HATPを例にとって具体的に説明すると、HAT
P1モルに対し、置換基となるカルボン酸化合物を通常
6.01モル〜6.15モル、好ましくは6.03モル
〜6.10モルを用いれば十分である。カルボン酸化合
物の量が多すぎると、未反応カルボン酸化合物が反応生
成物中に残存することになり、液晶性に悪影響を及ぼす
恐れがある。一方、平面状縮合環化合物のフェノール性
アセテート基を、すべてカルボン酸化合物で置換する必
要のない場合には、置換基部分、すなわちカルボン酸化
合物を少なめに用いることができるということは言うま
でもない。以上のことから、本発明の製造方法では、平
面状縮合環化合物に対して過剰の置換基となるカルボン
酸化合物を必要としないので、例えば未反応のカルボン
酸化合物を除去するなどの精製工程は必ずしも必要とし
ない。
Next, the reaction conditions will be described. In the present invention, theoretically, the charged moles are adjusted so that the ratio of the number of moles of the phenolic acetate group contained in the planar condensed ring compound used to the number of moles of the carboxyl group contained in the carboxylic acid compound is 1. Set the ratio. However, in actual operation, it is not always necessary to accurately set the molar ratio to 1, and it is usually 0.80 to 1.20, preferably 0.9.
The ratio is set to 5 to 1.05. For example, when the raw material of the substituent group, that is, the carboxylic acid compound may be scattered out of the reaction system due to sublimation during the reaction, the carboxylic acid compound may be increased a little. Taking HATP as an example, it will be explained specifically.
It is sufficient to use 6.01 moles to 6.15 moles, preferably 6.03 moles to 6.10 moles of the carboxylic acid compound serving as a substituent with respect to 1 mole of P. If the amount of the carboxylic acid compound is too large, the unreacted carboxylic acid compound will remain in the reaction product, which may adversely affect the liquid crystallinity. On the other hand, needless to say, when it is not necessary to replace all the phenolic acetate groups of the planar condensed ring compound with the carboxylic acid compound, the substituent moiety, that is, the carboxylic acid compound can be used in a small amount. From the above, the production method of the present invention does not require an excess carboxylic acid compound as a substituent with respect to the planar condensed ring compound, and therefore a purification step such as removal of unreacted carboxylic acid compound can be performed. Not necessarily required.

【0031】該平面状縮合環化合物とカルボン酸化合物
との反応中は攪拌を行うことが望ましいが、攪拌の方
法、攪拌速度、攪拌器および攪拌翼の形態について特に
制限はない。反応温度は、通常200℃〜300℃、好
ましくは220℃〜280℃に設定される。反応温度が
低すぎると反応速度が著しく遅くなり好ましくない。一
方温度が高すぎると分解が進行し、液晶性あるいは色相
を悪化させる恐れがあり望ましくない。
It is desirable to carry out stirring during the reaction between the planar condensed ring compound and the carboxylic acid compound, but there are no particular restrictions on the stirring method, stirring speed, stirrer and stirrer blade form. The reaction temperature is usually set to 200 ° C to 300 ° C, preferably 220 ° C to 280 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction rate becomes extremely slow, which is not preferable. On the other hand, if the temperature is too high, the decomposition proceeds, which may deteriorate the liquid crystallinity or the hue, which is not desirable.

【0032】また通常、反応中に圧力を調節する必要は
ないが原料の留出あるいは昇華が著しい場合など、必要
であれば1気圧以上の圧力雰囲気下で実施することもで
きる。一方、該反応生成物を得る際、該反応は脱酢酸反
応であるが故、当然のことながら酢酸が副生成物として
得られる。該酢酸などの留出を促進する必要がある場合
には、減圧下に実施することもできる。さらに、副生す
る酢酸の留出を促進するため窒素などの不活性ガスを流
しながら反応を行うことも可能である。一般に縮合反応
の初期には、低分子量で留出または昇華しやすい成分が
多く存在する。従ってこの時間帯においては、減圧条件
下または不活性ガス気流下などの操作は避けるべきであ
る。一方、反応後期、具体的には副生する酢酸の留出量
(生成量)が、原料の仕込みモル比によっても異なる
が、脱酢酸留出理論量(総酢酸生成量)の30〜95質
量%の留出、好ましくは50〜90質量%留出した時点
から、反応系外へ副生した酢酸の留出を促進させると共
に、所望の液晶転移点を有するディスコティック液晶材
料を得る目的で、減圧または不活性ガス気流下で反応を
行うことが好ましい。この操作を行うことにより、液晶
転移点を上昇させることができる。この際不活性ガスと
しては、得られる液晶材料に悪影響を及ぼさないもので
あれば特に限定されない。不活性ガスとしては、例えば
ヘリウム、アルゴン、メタン、窒素、二酸化炭素などを
挙げることができるが、この中でも窒素が好ましく使用
される。本発明では、この操作によってディスコティッ
ク液晶材料の相転移温度を調節することができる。不活
性ガスの流速は、脱酢酸反応を阻害しない範囲であれば
特に範囲を制限する必要を認めないが、通常〔流速(m
l/分)/反応器容量(リットル)〕の値として、10
〜1000、好ましくは30〜300である。また副生
した酢酸の留出量を測定する手段は、特に制限はない。
通常留出する酢酸の定量方法としては、例えば反応容器
から留出する酢酸を水冷管を通すことにより凝集させ、
受け器に集め、受け器の重量の増加量を留出酢酸量とす
る、などの方法がある。なお、脱酢酸留出理論量は、脱
酢酸反応系に供される原料、すなわちフェノール性アセ
テート基を有する平面状縮合環化合物およびカルボン酸
化合物の仕込みモル比より、理論的に計算することによ
って求められる。
Usually, it is not necessary to adjust the pressure during the reaction, but it can be carried out under a pressure atmosphere of 1 atm or more, if necessary, such as when the distillation or sublimation of the raw materials is remarkable. On the other hand, when the reaction product is obtained, since the reaction is a deacetic acid reaction, acetic acid is naturally obtained as a by-product. When it is necessary to accelerate the distillation of the acetic acid or the like, it can be carried out under reduced pressure. Furthermore, it is possible to carry out the reaction while flowing an inert gas such as nitrogen in order to accelerate the distillation of by-product acetic acid. Generally, in the initial stage of the condensation reaction, there are many components having a low molecular weight and easily distilled or sublimated. Therefore, during this time period, operations under reduced pressure or under an inert gas stream should be avoided. On the other hand, in the latter stage of the reaction, specifically, the amount of acetic acid by-produced (production amount) varies depending on the charged molar ratio of the raw materials, but is 30 to 95 mass of the theoretical deacetic acid distillation amount (total acetic acid production amount). % Distillation, preferably from the time of 50 to 90% by mass distillation, for the purpose of promoting the distillation of acetic acid by-produced to the outside of the reaction system and obtaining a discotic liquid crystal material having a desired liquid crystal transition point, It is preferable to carry out the reaction under reduced pressure or an inert gas stream. By performing this operation, the liquid crystal transition point can be raised. At this time, the inert gas is not particularly limited as long as it does not adversely affect the obtained liquid crystal material. Examples of the inert gas include helium, argon, methane, nitrogen, carbon dioxide, and the like, and among these, nitrogen is preferably used. In the present invention, this operation can adjust the phase transition temperature of the discotic liquid crystal material. It is not necessary to limit the flow rate of the inert gas as long as it does not inhibit the deacetic acid reaction, but it is usually [flow rate (m
1 / min) / reactor capacity (liter)]
˜1000, preferably 30 to 300. The means for measuring the amount of acetic acid by-produced is not particularly limited.
As a method for quantifying acetic acid that is usually distilled, for example, acetic acid that is distilled from the reaction vessel is aggregated by passing it through a water cooling tube,
There is a method such as collecting in a receiver and setting the amount of increase in the weight of the receiver as the amount of distilling acetic acid. The deacetic acid distillation theoretical amount is obtained by theoretically calculating from the raw materials used for the deacetic acid reaction system, that is, the charged molar ratio of the planar condensed ring compound having a phenolic acetate group and the carboxylic acid compound. To be

【0033】反応時間は、通常1時間〜48時間、好ま
しくは3時間〜24時間である。反応時間が短いと十分
な液晶性が得られない恐れがある。一方反応時間が長す
ぎると生成物の分解が進行し、色相などに悪影響を及ぼ
す恐れがあるので望ましくない。
The reaction time is usually 1 hour to 48 hours, preferably 3 hours to 24 hours. If the reaction time is short, sufficient liquid crystallinity may not be obtained. On the other hand, if the reaction time is too long, the decomposition of the product proceeds, which may adversely affect the hue and the like, which is not desirable.

【0034】本発明の製造方法において、使用される反
応器の材質に特に制限はないが、副生する酢酸により腐
食を受けないことが必要であり、一般にはガラス製反応
器、ステンレス製反応器、ハステロイ製反応器、ガラ
ス、チタン、金、銀、テフロンなどによりライニングし
た反応器などが好適に用いられる。また反応器の形態に
も特に制限はないが、副生する酢酸が留出するための留
出口を備えたものが望ましい。留出口には、例えば冷却
管などを設け、副生した酢酸を凝集し、上記にて説明し
た脱酢酸留出量を測ればよい。
In the production method of the present invention, the material of the reactor used is not particularly limited, but it is necessary that it is not corroded by acetic acid produced as a by-product, and is generally a glass reactor or a stainless reactor. A Hastelloy reactor, a reactor lined with glass, titanium, gold, silver, Teflon, or the like is preferably used. The form of the reactor is not particularly limited, but a reactor equipped with a distilling outlet for distilling acetic acid as a by-product is desirable. The distillation outlet may be provided with, for example, a cooling pipe, the acetic acid by-produced may be aggregated, and the deacetic acid distillation amount described above may be measured.

【0035】本発明のディスコティック液晶材料を得る
には、ある一個のディスコゲンの特定の位置に特定の置
換基を導入するというような高度な選択性制御を行う必
要は全くない。本発明の製造方法では、ディスコゲン部
分を与える平面状縮合環化合物と側鎖部分を与える複数
のカルボン酸化合物とを一つの反応容器内で反応を進行
させ、光学素子材料、具体的には補償板材料に適したデ
ィスコティック液晶材料を得る。この際、複数のディス
コゲン部分を与える該化合物と、複数種のカルボン酸化
合物を混合して反応系に供しても何ら問題ない。もちろ
んこの場合得られるディスコティック液晶材料は、多様
な置換基分布のディスコティック液晶化合物の組成物が
反応生成物として得られるが、補償板などの光学材料と
して用いる場合、液晶相からの結晶相への転移が起こっ
ては望ましくない。その点で、例えば分子の対称性を低
下させるなど、上記のごとき多種類の置換基を用いるこ
とは非常に好ましい。さらに、異なった組成のディスコ
ティック液晶化合物(反応生成物)を複数種混合して組
成物とし、該組成物を光学材料として用いることも全く
差し支えない。
In order to obtain the discotic liquid crystal material of the present invention, it is not necessary to carry out a high degree of selectivity control such as introducing a specific substituent at a specific position of one discogen. In the production method of the present invention, a planar fused ring compound that gives a discogen moiety and a plurality of carboxylic acid compounds that give side chain moieties are allowed to react in a single reaction vessel to give an optical element material, specifically, compensation. A discotic liquid crystal material suitable for a plate material is obtained. At this time, there is no problem even if the compound that gives a plurality of discogen moieties and a plurality of kinds of carboxylic acid compounds are mixed and supplied to the reaction system. Of course, the discotic liquid crystal material obtained in this case is a composition of discotic liquid crystal compounds having various distributions of substituents obtained as a reaction product, but when it is used as an optical material such as a compensator, it changes from a liquid crystal phase to a crystalline phase. It is not desirable that the metastasis occurs. In that respect, it is highly preferable to use a large variety of substituents as described above, for example, to reduce the symmetry of the molecule. Furthermore, it is perfectly acceptable to mix a plurality of discotic liquid crystal compounds (reaction products) having different compositions to form a composition and use the composition as an optical material.

【0036】以上、本発明に供されるディスコティック
液晶材料について詳細に述べたが、該ディスコティック
液晶材料を補償板などの光学素子材料に使用する場合、
さらに精製する必要はないが、必要であれば再沈あるい
はクロマトグラフィーなどの方法で精製することもでき
る。
The discotic liquid crystal material used in the present invention has been described above in detail. When the discotic liquid crystal material is used as an optical element material such as a compensating plate,
Further purification is not necessary, but if necessary, it can be purified by a method such as reprecipitation or chromatography.

【0037】本発明の液晶表示素子用補償板は、上述の
如くして得られたディスコティック液晶材料を配向基板
上に塗布し、次いで熱処理、冷却することにより製造さ
れる。配向基板としては、配向能、要求される耐熱性、
耐溶剤性、用いるディスコティック液晶材料の種類と性
質によって異なるため一概には言えないが、用いられる
配向基板の代表例としては、アルミニウム、鉄、鋼など
の金属板、陶磁器製の板、ほうろう板、ガラスなどのシ
ート状あるいは板状の基板の上に、公知の処方により得
られる例えばラビング処理したポリイミド膜、ポリビニ
ルアルコール膜、または酸化珪素の斜め蒸着膜などの配
向能を付与した配向膜を有するものが挙げられる。また
他の例としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
エーテルイミド、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、
ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニ
レンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、
ポリアセタール、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポ
リビニルアルコール、セルロース系プラスチックス、エ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂などのプラスチックスフィ
ルムまたはシート表面に、ラビング処理したポリイミド
膜、ポリビニルアルコール膜、または酸化珪素の斜め蒸
着膜などの配向能を付与した配向膜を有する基板があげ
られる。また、これらのプラスチックフィルム表面を直
接ラビング処理した配向基板などを挙げることができ
る。またこれらのプラスチックスフィルムまたはシート
のうち、結晶性の高いものについては1軸延伸するだけ
で低分子液晶の配向能を持つものもあり、それらについ
ては直接ラビング処理またはラビングポリイミド膜など
の配向膜が必要なく、そのまま配向基板として用いるこ
とができる。具体的にはポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケト
ン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンテレフ
タレートなどを挙げることができる。
The compensating plate for a liquid crystal display device of the present invention is manufactured by applying the discotic liquid crystal material obtained as described above on an alignment substrate, followed by heat treatment and cooling. As an alignment substrate, alignment ability, required heat resistance,
Although it cannot be generally stated because it depends on solvent resistance and the type and properties of the discotic liquid crystal material used, typical examples of the alignment substrate used are metal plates of aluminum, iron, steel, etc., ceramic plates, and enamel plates. A sheet-like or plate-like substrate made of glass or the like, and having an orientation film imparted with an orientation ability such as a rubbing-treated polyimide film, a polyvinyl alcohol film, or a silicon dioxide oblique vapor deposition film obtained by a known formulation There are things. Further, as other examples, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyamide, polyetheretherketone, polyetherketone, polyketone sulfide,
Polyether sulfone, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate,
Polyacetal, polycarbonate, acrylic resin, polyvinyl alcohol, cellulosic plastics, epoxy resin, phenol resin and other plastics film or sheet surface, rubbing-treated polyimide film, polyvinyl alcohol film, or silicon dioxide oblique vapor deposition film orientation An example of the substrate is a substrate having an orientation film having a function. In addition, an oriented substrate in which the surface of these plastic films is directly rubbed may be used. Of these plastics films or sheets, those with high crystallinity may have the ability to orientate low molecular weight liquid crystals only by uniaxially stretching, and for those, direct rubbing treatment or orientation film such as rubbing polyimide film. Can be used as it is as an alignment substrate. Specific examples include polyimide, polyetherimide, polyetheretherketone, polyetherketone, polyphenylene sulfide, polyethylene terephthalate, and the like.

【0038】これらの配向基板上にディスコティック液
晶材料を塗布、熱処理、冷却することにより、液晶状態
における配向形態を損なうことなく固定化された薄膜
(補償板)を配向基板上に形成する。
By coating, heat-treating and cooling a discotic liquid crystal material on these alignment substrates, a fixed thin film (compensation plate) is formed on the alignment substrates without impairing the alignment form in the liquid crystal state.

【0039】ディスコティック液晶材料を配向基板上に
塗布するには、該材料を溶融させて塗布する溶融塗布、
および溶媒に該材料を溶解して塗布する溶液塗布とがあ
る。本発明では製造プロセス上溶液塗布が望ましい。
To apply the discotic liquid crystal material onto the alignment substrate, the material is melted and applied by melt coating,
And solution coating in which the material is dissolved and applied in a solvent. In the present invention, solution coating is desirable in the manufacturing process.

【0040】溶液塗布の際の溶媒としては、ディスコテ
ィック液晶材料の種類にもよるが、通常、クロロホル
ム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テ
トラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロ
エチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンな
どのハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフ
ェノールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、エチルベンゼン、メトキシベンゼン、1,2−
ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類、アセト
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、tert−ブチ
ルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、エチルセルソルブ、ブチルセルソル
ブ、γ−ブチロラクトン、2−ピロリドン、N−メチル
−2−ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニト
リル、ブチロニトリル、ジメチルスルホキサイド、二硫
化炭素など、およびこれらの混合溶媒などが用いられ
る。
The solvent used for applying the solution depends on the type of discotic liquid crystal material, but is usually a halogenated substance such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene, orthodichlorobenzene. Hydrocarbons, phenols, phenols such as parachlorophenol, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, methoxybenzene, 1,2-
Aromatic hydrocarbons such as dimethoxybenzene, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, tert-butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycol, hexylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethyl cellosolve, butyl cellosolve , Γ-butyrolactone, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, triethylamine, dimethylformamide, dimethylacetamide, acetonitrile, butyronitrile, dimethyl sulfoxide, carbon disulfide, etc., and mixed solvents thereof are used. .

【0041】溶液の濃度は、ディスコティック液晶材料
の溶解性や薄膜の膜厚に依存するため一概には言えない
が、通常1〜60重量%の範囲で使用され、好ましくは
3〜40重量%の範囲で用いる。
The concentration of the solution depends on the solubility of the discotic liquid crystal material and the thickness of the thin film, and therefore cannot be generally stated, but it is usually used in the range of 1 to 60% by weight, preferably 3 to 40% by weight. Used in the range of.

【0042】塗布方法としては、例えばスピンコート
法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カ
ーテンコート法(ダイコート法)などによって、ディス
コティック液晶材料を溶解した溶液を配向基板上に均一
に塗布する。なお本発明の製造方法では、1枚または2
枚の配向基板を利用することができるが、通常、配向基
板と空気界面とを利用して、ディスコティック液晶材料
を塗布する方がコスト面、製造ラインの簡略化において
望ましい。
As a coating method, for example, a spin coating method, a roll coating method, a printing method, a dipping and pulling method, a curtain coating method (die coating method) or the like is used to uniformly apply a solution in which a discotic liquid crystal material is dissolved onto an alignment substrate. To do. In the manufacturing method of the present invention, one sheet or two sheets are used.
Although one alignment substrate can be used, it is usually preferable to apply the discotic liquid crystal material using the alignment substrate and the air interface in terms of cost and simplification of the manufacturing line.

【0043】塗布した後、溶媒を除去し、配向基板上に
膜厚の均一なディスコティック液晶材料の塗布膜層を形
成する。溶媒除去条件は特に限定されず、溶媒が概ね除
去でき、該液晶材料の塗布膜層が流動したり流れ落ちた
りしなければ良い。通常、室温での風乾、ホットプレー
トでの乾燥、乾燥炉での乾燥、温風や熱風の吹き付けな
どを利用して溶媒を除去する。
After coating, the solvent is removed and a coating film layer of a discotic liquid crystal material having a uniform film thickness is formed on the alignment substrate. The conditions for removing the solvent are not particularly limited, as long as the solvent can be almost removed and the coating film layer of the liquid crystal material does not flow or flow down. Usually, the solvent is removed by air drying at room temperature, drying on a hot plate, drying in a drying furnace, or blowing hot or hot air.

【0044】溶媒を除去した後、熱処理することによ
り、好ましくは均一でモノドメインな薄膜を配向基板上
に形成する。熱処理は、ディスコティック液晶材料の液
晶状態で配向させるか、または一旦液晶相を呈する温度
範囲よりもさらに高温の等方性流体状態にした後、液晶
相を呈する温度範囲にまで温度を下げることにより行
う。通常、熱処理温度は、50〜300℃の範囲で行わ
れ、特に100〜270℃の範囲が好適である。さらに
150〜250℃の温度が好適である。配向膜上で液晶
状態において十分な配向を得るために必要な時間は、デ
ィスコティック液晶材料の種類、分子量などによって異
なり、一概には言えないが通常5秒〜2時間の範囲、好
ましくは10秒〜40分の範囲、特に好ましくは20秒
〜20分の範囲で行う。5秒より短い場合、ディスコテ
ィック液晶材料層の温度が所定温度まで上がりきらず配
向不十分となる恐れがある。また、2時間より長い場合
には生産性が低下するのであまり好ましくない。
After removing the solvent, a heat treatment is performed to form a preferably uniform and monodomain thin film on the alignment substrate. The heat treatment is performed by aligning in the liquid crystal state of the discotic liquid crystal material, or by bringing the liquid crystal phase into an isotropic fluid state at a temperature higher than the temperature range in which the liquid crystal phase is exhibited, and then lowering the temperature to the temperature range in which the liquid crystal phase is exhibited. To do. Usually, the heat treatment temperature is in the range of 50 to 300 ° C, and particularly preferably in the range of 100 to 270 ° C. Further, a temperature of 150 to 250 ° C. is suitable. The time required to obtain sufficient alignment in the liquid crystal state on the alignment film varies depending on the type and molecular weight of the discotic liquid crystal material and cannot be generally stated, but is usually in the range of 5 seconds to 2 hours, preferably 10 seconds. To 40 minutes, particularly preferably 20 seconds to 20 minutes. If the time is shorter than 5 seconds, the temperature of the discotic liquid crystal material layer may not reach the predetermined temperature and the orientation may be insufficient. Further, if it is longer than 2 hours, the productivity is lowered, which is not preferable.

【0045】なお、ディスコティック液晶材料を溶融状
態で、配向基板上に塗布した後、熱処理をすることによ
っても、同様の配向形態を得ることができる。また、熱
処理を行いつつ、ディスコティック液晶材料層に電場や
磁場を印加しながら配向させても特に構わない。
A similar alignment form can be obtained by applying a heat treatment after applying the discotic liquid crystal material in a molten state onto the alignment substrate. It is also possible to perform the alignment while applying an electric field or a magnetic field to the discotic liquid crystal material layer while performing heat treatment.

【0046】こうして得られた配向形態を、次に該液晶
材料のガラス転移点以下の温度に冷却することによっ
て、液晶状態における配向形態を損なわずに固定化でき
る。一般的に、冷却の過程で結晶相が出現する場合に
は、液晶状態における配向は結晶化にともない破壊され
てしまうが、本発明に用いられるディスコティック液晶
材料は、結晶相を全く有しないか、潜在的に結晶相を有
していても冷却時には結晶相が現れない性質を持ったも
の、あるいは明瞭な結晶転移点および液晶転移点は確認
されないものの補償素子としての使用温度範囲内におい
ては流動性がなく、かつ外場や外力を加えても配向形態
が変化しない、というような性質のものであるがため結
晶化による配向形態の破壊は起こらない。
By cooling the alignment form thus obtained to a temperature below the glass transition point of the liquid crystal material, the alignment form in the liquid crystal state can be fixed without impairing the alignment form. Generally, when a crystal phase appears in the cooling process, the orientation in the liquid crystal state is destroyed along with crystallization, but the discotic liquid crystal material used in the present invention has no crystal phase at all. , Even if it has a potential crystalline phase, it has the property that the crystalline phase does not appear during cooling, or no clear crystal transition point or liquid crystal transition point is confirmed, but it does not flow within the temperature range used as a compensating element. Since it has the property that the orientation form does not change even when an external field or an external force is applied, the orientation form is not destroyed by crystallization.

【0047】冷却の条件は、熱処理雰囲気中から室温中
に取り出すだけで均一に固定化することができる。また
空冷、水冷などの強制冷却、徐冷などを行っても何ら差
し支えなく、さらに冷却速度にも特に制限はない。
The cooling condition can be fixed uniformly by only taking out from the heat treatment atmosphere to room temperature. In addition, forced cooling such as air cooling or water cooling or slow cooling may be performed without any limitation, and the cooling rate is not particularly limited.

【0048】熱処理後、冷却することによって得られる
本発明の補償板は、その配向条件、ディスコティック液
晶材料の種類、性質などによってその配向形態が異な
る。配向形態としては、ディスコティック液晶のダイレ
クターが配向基板の法線方向にあるホメオトロピック配
向(図1のa)、該ダイレクターが配向基板の法線方向
から一定角度傾いたチルト配向などの負の一軸性構造
(図1のb)、または該ダイレクターがディスコティッ
ク液晶から成る層の一方の界面付近とそれとは逆の他方
の界面付近とでその角度が異なったハイブリッド配向
(図1のc)などが挙げられる。
The orientation of the compensator of the present invention obtained by cooling after the heat treatment varies depending on the orientation conditions, the type and properties of the discotic liquid crystal material, and the like. As for the alignment form, the director of the discotic liquid crystal has a homeotropic alignment in the normal direction of the alignment substrate (a in FIG. 1), and the director has a negative alignment such as a tilt alignment inclined at a certain angle from the normal direction of the alignment substrate. Uniaxial structure (b in FIG. 1), or a hybrid orientation in which the director has different angles in the vicinity of one interface of the discotic liquid crystal layer and in the vicinity of the other opposite interface (c of FIG. 1). ) And the like.

【0049】本発明におけるディスコティック液晶材料
より成る補償板は、上記のいずれの配向形態を有したも
のでもよく、好ましくは均一でモノドメインなディスコ
ティックネマティック相を示し、かつ液晶状態において
形成した配向形態を該配向形態が損なわれることなく容
易に固定化した補償板であり、さらに好ましくは、均一
でモノドメインなディスコティックネマティック相を示
すとともに液晶状態において補償板の上界面付近と下界
面付近との膜厚方向におけるディスコティック液晶のダ
イレクターが、該補償板の上界面付近と下界面付近とで
は該補償板法線と該ダイレクターとのなす角度が異なっ
たハイブリッド配向を形成した補償板である。ここでハ
イブリッド配向とは、単層の薄膜において、該薄膜の両
界面、すなわち配向基板側の薄膜界面付近とそれとは逆
の薄膜界面付近に存在するディスコティック液晶のダイ
レクターが、薄膜平面での投影ベクトルが同一方向であ
りながら膜厚方向に於ける角度が異なった配向形態を意
味する。その膜厚方向における角度範囲は、補償板界面
付近に存在するディスコティック液晶のダイレクターと
補償板平面法線とのなす最小の角度の絶対値、すなわち
該液晶のダイレクターと補償板平面における法線とがな
す鈍角側ではない角度(0度以上90度以下の範囲とな
る角度)をa度とした際に、[90度−a度]により求
められる角度が、該補償板の上面または下面の一方にお
いては、通常60度以上90度以下の角度をなし、当該
面の反対面においては、通常0度以上50度以下であ
る。より好ましくは一方の角度の絶対値が80度以上9
0度以下、他方の角度の絶対値が0度以上30度以下で
ある。
The compensator made of the discotic liquid crystal material according to the present invention may have any of the above-mentioned alignment forms, preferably shows a uniform and monodomain discotic nematic phase, and is formed in the liquid crystal state. A compensator whose morphology is easily fixed without impairing the alignment morphology, and more preferably shows a uniform and monodomain discotic nematic phase, and in the liquid crystal state, near the upper interface and near the lower interface of the compensator. The director of the discotic liquid crystal in the film thickness direction is a compensator having a hybrid orientation in which the angle between the compensator normal and the director is different between the upper interface and the lower interface of the compensator. is there. Here, the hybrid orientation means that in a single-layer thin film, the directors of the discotic liquid crystal present at both interfaces of the thin film, that is, near the thin film interface on the alignment substrate side and the opposite thin film interface are It means an orientation mode in which the projection vectors have the same direction but different angles in the film thickness direction. The angle range in the film thickness direction is the absolute value of the minimum angle formed by the director of the discotic liquid crystal existing near the interface of the compensator and the normal to the compensator plane, that is, the normal between the director of the liquid crystal and the compensator plane. When the angle which is not on the obtuse side formed by the line (the angle within the range of 0 degree to 90 degrees) is a degree, the angle obtained by [90 degree-a degree] is the upper surface or the lower surface of the compensating plate. One side usually forms an angle of 60 degrees or more and 90 degrees or less, and the other side is usually 0 degrees or more and 50 degrees or less. More preferably, the absolute value of one angle is 80 degrees or more 9
It is 0 degrees or less, and the absolute value of the other angle is 0 degrees or more and 30 degrees or less.

【0050】本発明の液晶表示素子用補償板は、好まし
くはハイブリッド配向を形成しているためにダイレクタ
ーが厚み方向で異なる方向を向いており、補償板という
構造体として見た場合、もはや光軸は存在せず一軸性は
失われている。このような、液晶の配向形態中を光が通
過する際、従来得られなかった複雑な複屈折挙動を観察
することができる。
In the compensating plate for a liquid crystal display element of the present invention, since the directors are preferably oriented in different directions in the thickness direction because they form a hybrid alignment, when viewed as a structure called a compensating plate, it is no longer a light source. There is no axis and uniaxiality is lost. When light passes through such an alignment form of the liquid crystal, it is possible to observe a complicated birefringence behavior that has not been obtained conventionally.

【0051】上記ハイブリッド配向において、補償板法
線と該補償板界面付近に存在するディスコティック液晶
のダイレクターと補償板平面とのなす角度の絶対値が、
補償板の上面付近または下面付近の一方においては、0
度以上90度以下の範囲内、また当該面の反対面におい
ては、0度以上50度以下の範囲内において、使用する
ディスコティック液晶材料、配向基板などを適宜選択す
ることにより所望の角度にそれぞれ調整することができ
る。また、いったん薄膜を形成した後でも、例えば、薄
膜表面を均一に削る、溶剤に浸して薄膜の表面を均一に
溶かす、などといった方法を用いることにより所望の角
度に調節することができる。尚この際に用いられる溶剤
は、ディスコティック液晶材料、配向基板の種類によっ
て適宜選択する。
In the above hybrid orientation, the absolute value of the angle between the compensator normal and the director of the discotic liquid crystal existing near the compensator interface and the compensator plane is:
0 near either the upper surface or the lower surface of the compensator
In the range of 90 degrees or more and 90 degrees or less, and on the opposite side of the surface, in the range of 0 degrees or more and 50 degrees or less, the discotic liquid crystal material to be used, the alignment substrate, and the like are appropriately selected to obtain desired angles. Can be adjusted. Further, even after the thin film is once formed, it can be adjusted to a desired angle by using a method of, for example, uniformly scraping the surface of the thin film or dipping it in a solvent to uniformly dissolve the surface of the thin film. The solvent used at this time is appropriately selected depending on the type of discotic liquid crystal material and alignment substrate.

【0052】本発明に用いられるディスコティック液晶
材料は、液晶状態から固定化する際に、液晶相から結晶
相への転移が起こることがない。そのために、該液晶材
料が液晶状態において形成した配向形態を損なうことな
く固定化することができる。また補償板を形成した後、
使用条件下で配向形態が保たれ、かつ固体と同様に取扱
いができる。なおここで固定化された状態とは、液晶構
造がアモルファスなガラス状態で凍結された状態が最も
典型的、かつ好ましい態様ではあるが、それだけには限
定されず、液晶表示素子用補償板の使用条件下、具体的
に通常0℃から50℃、より過酷な条件下では−30℃
から70℃の温度範囲において、補償板に流動性が無
く、また外力や外場によって配向形態に変化を生じさせ
ることなく、液晶状態において形成した配向形態を安定
に保ち続けることができる状態を意味する。
The discotic liquid crystal material used in the present invention does not cause a transition from a liquid crystal phase to a crystalline phase when it is fixed from a liquid crystal state. Therefore, the liquid crystal material can be fixed without impairing the alignment form formed in the liquid crystal state. After forming the compensator,
The orientation form is maintained under the conditions of use and it can be handled like a solid. Note that the fixed state here is a state in which the liquid crystal structure is frozen in an amorphous glass state, which is the most typical and preferable mode, but is not limited thereto, and the use condition of the compensating plate for the liquid crystal display element is not limited thereto. Below, usually 0 ℃ to 50 ℃, -30 ℃ under more severe conditions
In the temperature range from 70 ° C to 70 ° C, it means that the compensator has no fluidity and that the alignment form formed in the liquid crystal state can be kept stable without changing the alignment form due to external force or external field. To do.

【0053】以上説明したように、ディスコティック液
晶材料を配向基板上に塗布し、熱処理後、冷却すること
によって液晶表示素子用補償板を製造することができ
る。本発明の製造方法によって得られた補償板を実際に
液晶セルに配置する場合、上述の配向基板から補償板、
すなわちディスコティック液晶材料より形成された薄膜
を剥離して、補償板単体で用いる、配向基板上に形成し
たそのままの状態で使用する、ということが考えられ
る。
As described above, a compensator for a liquid crystal display device can be manufactured by applying a discotic liquid crystal material on an alignment substrate, heat-treating it, and then cooling it. When actually disposing the compensator obtained by the manufacturing method of the present invention in a liquid crystal cell, the compensator from the above-mentioned alignment substrate,
That is, it is conceivable that the thin film formed of the discotic liquid crystal material is peeled off and used as the compensator alone, or used as it is formed on the alignment substrate.

【0054】補償板単体として用いる場合には、配向基
板を補償板との界面で、ロールなどを用いて機械的に剥
離する方法、構造材料すべてに対する貧溶媒に浸漬した
のち機械的に剥離する方法、貧溶媒中で超音波をあてて
剥離する方法、配向基板と補償板との熱膨張係数の差を
利用して温度変化を与えて剥離する方法、配向基板その
もの、または配向基板上の配向膜を溶解除去する方法な
どを例示することができる。剥離性は、用いるディスコ
ティック液晶材料と配向基板の密着性によって異なるた
め、その系に最も適した方法を採用すべきである。
When the compensating plate is used alone, the alignment substrate is mechanically peeled off at the interface with the compensating plate using a roll or the like, or it is immersed in a poor solvent for all structural materials and then mechanically peeled off. , A method of peeling by applying ultrasonic waves in a poor solvent, a method of peeling by giving a temperature change by utilizing a difference in thermal expansion coefficient between the alignment substrate and the compensator, the alignment substrate itself, or an alignment film on the alignment substrate A method of dissolving and removing the can be exemplified. The releasability depends on the adhesiveness between the discotic liquid crystal material used and the alignment substrate, and therefore the method most suitable for the system should be adopted.

【0055】次に、配向基板上に形成した状態で補償板
を用いる場合、配向基板が透明で光学的に等方である
か、あるいは配向基板が液晶表示素子にとって必要な部
材である場合には、そのまま目的とする光学補償素子と
して使用することができる。さらに、配向基板上で補償
板を形成した場合、該基板から補償板を剥離して、光学
用途により適した別の基板上に移しかえて使用すること
もできる。
Next, when the compensating plate is used on the alignment substrate, if the alignment substrate is transparent and optically isotropic, or if the alignment substrate is a member necessary for a liquid crystal display element. It can be used as it is as an intended optical compensation element. Further, when the compensating plate is formed on the oriented substrate, the compensating plate can be peeled from the substrate and transferred to another substrate more suitable for optical use.

【0056】例えば、使用する配向基板が、例えばハイ
ブリッド配向形態を得るために必要なものではあるが、
補償素子として使用する場合の性質には、好ましくない
影響を与えるような該基板を用いた場合、その基板を補
償板から除去して用いることができる。具体的には次の
ような方法を採ることができる。
For example, although the alignment substrate used is necessary to obtain a hybrid alignment form, for example,
When the substrate is used, which has an unfavorable effect on the properties when used as a compensating element, the substrate can be removed from the compensating plate before use. Specifically, the following method can be adopted.

【0057】目的とする補償素子に適した基板(以下、
第2の基板と言う)と配向基板上の補償板とを、接着剤
または粘着剤を用いて貼りつける。次に、配向基板と補
償板の界面で、配向基板を剥離し、補償板を補償素子に
適した第2の基板側に転写して目的とする補償素子を製
造することが可能である。
A substrate suitable for the target compensating element (hereinafter,
The second substrate) and the compensator on the alignment substrate are attached using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. Next, it is possible to peel off the alignment substrate at the interface between the alignment substrate and the compensating plate and transfer the compensating plate to the second substrate side suitable for the compensating element to manufacture the target compensating element.

【0058】転写に用いられる第2の基板としては、適
度な平面性を有するものであれば特に限定されないが、
ガラスや透明で光学的等方性を有するプラスチックフィ
ルムなどが好ましい。かかるプラスチックフィルムの例
としては、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリカ
ーボネート、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレン
サルファイド、ポリアリレート、アモルファスポリオレ
フィン、トリアセチルセルロースあるいはエポキシ樹脂
などをあげることができる。なかでもポリメチルメタク
リレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、トリア
セチルセルロース、ポリエーテルスルフォンなどが好ま
しく用いられる。また、光学的に異方性であっても、液
晶表示素子にとって必要な部材である場合には使用する
ことができる。このような例としては、ポリカーボネー
トやポリスチレンなどのプラスチックフィルムを延伸し
て得られる位相差フィルム、偏光フィルムなどがあげら
れる。
The second substrate used for transfer is not particularly limited as long as it has appropriate flatness,
Glass or a transparent plastic film having optical isotropy is preferable. Examples of such plastic film include polymethacrylate, polystyrene, polycarbonate, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, amorphous polyolefin, triacetyl cellulose, epoxy resin and the like. Among them, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyarylate, triacetyl cellulose, polyether sulfone and the like are preferably used. Further, even if it is optically anisotropic, it can be used when it is a member necessary for a liquid crystal display element. Examples of such materials include retardation films and polarizing films obtained by stretching a plastic film such as polycarbonate and polystyrene.

【0059】さらに用いられる第2の基板の例として、
液晶表示セルそのものをあげることができる。液晶表示
セルは、上下2枚の電極付きのガラスまたはプラスチッ
ク基板を用いており、この上下いずれかあるいは両面の
ガラス上に本発明の補償板を転写すれば、本補償板の組
み込みがすでに達成されていることになる。また表示セ
ルを形成するガラスまたはプラスチック基板そのものを
配向基板として本発明の補償板を製造することももちろ
ん可能である。
As an example of the second substrate used further,
The liquid crystal display cell itself can be mentioned. The liquid crystal display cell uses a glass or plastic substrate with two upper and lower electrodes, and if the compensating plate of the present invention is transferred onto either the upper or lower glass or both sides of the glass, the incorporation of the compensating plate has already been achieved. Will be. Further, it is of course possible to manufacture the compensating plate of the present invention by using the glass or plastic substrate itself forming the display cell as an alignment substrate.

【0060】転写に用いられる第2の基板と補償板とを
貼りつける接着剤または粘着剤は、光学グレードのもの
であれば特に制限はないが、アクリル系、エポキシ系、
エチレン−酢ビ共重合体系、ゴム系、ウレタン系、およ
びこれらの混合系などを用いることができる。また接着
剤としては、熱硬化型、光硬化型、電子線硬化型などの
いずれの接着剤でも光学的等方性を有していれば問題な
く使用することができる。
The adhesive or pressure-sensitive adhesive for sticking the second substrate and the compensating plate used for transfer is not particularly limited as long as it is an optical grade, but acrylic type, epoxy type,
An ethylene-vinyl acetate copolymer system, a rubber system, a urethane system, a mixture system thereof, or the like can be used. As the adhesive, any adhesive such as a thermosetting type, a photocuring type, and an electron beam curing type can be used without any problem as long as it has optical isotropy.

【0061】本発明の補償板を補償素子に適した第2の
基板への転写は、接着後配向基板を補償板との界面で剥
離することにより行える。剥離方法は、上述でも説明し
たが、ロールなどを用いて機械的に剥離する方法、構造
材料すべてに対する貧溶媒に浸漬したのち機械的に剥離
する方法、貧溶媒中で超音波をあてて剥離する方法、配
向基板と該補償板との熱膨張係数の差を利用して温度変
化を与えて剥離する方法、配向基板そのもの、または配
向基板上の配向膜を溶解除去する方法、などを例示する
ことができる。剥離性は、用いるディスコティック液晶
材料と配向基板の密着性によって異なるため、その系に
最も適した方法を採用すべきである。
The transfer of the compensating plate of the present invention to the second substrate suitable for the compensating element can be carried out by peeling the oriented substrate after adhesion at the interface with the compensating plate. As for the peeling method, as described above, a method of mechanically peeling using a roll or the like, a method of mechanically peeling after dipping in a poor solvent for all structural materials, and a method of peeling by applying ultrasonic waves in a poor solvent Examples include a method, a method in which a difference in thermal expansion coefficient between the alignment substrate and the compensating plate is used to perform peeling by applying a temperature change, an alignment substrate itself, or a method in which an alignment film on the alignment substrate is removed by dissolution. You can The releasability depends on the adhesiveness between the discotic liquid crystal material used and the alignment substrate, and therefore the method most suitable for the system should be adopted.

【0062】本発明の補償板は、さらにこれらの光学的
に重要な配向固定化したディスコティック液晶材料薄膜
を保護する目的で、該薄膜の片面または両面をアクリル
系あるいはエポキシ系などのオーバーコート層を設ける
こともできる。これらは本発明の補償板にとって本質的
なものではないが、光学的には等方的であることが好ま
しく、これらにより光学素子としての強度を増すことが
でき、製品としての耐久性を増すことができる。
The compensator of the present invention further has an acrylic or epoxy-based overcoat layer on one or both sides of the thin film for the purpose of protecting these optically important alignment-fixed discotic liquid crystal material thin films. Can be provided. These are not essential for the compensator of the present invention, but are preferably optically isotropic, and these can increase the strength as an optical element and increase the durability as a product. You can

【0063】このようにして得られた本発明の補償板
は、前述の通り液晶ディスプレイに対して色・視野角補
償効果をもつ。なかでもTN液晶セルをノーマリホワイ
トモードで駆動するディスプレイに対しては視野角改良
(視野角補償)効果、OCBモードの液晶ディスプレイ
に対しては色・視野角補償効果を発現する。本発明の補
償板の膜厚は、対象とする液晶ディスプレイの方式やパ
ラメーターに依存するので一概には言えないが、通常
0.1μm以上40μm以下の範囲であり、より好まし
くは0.2μm以上20μm以下の範囲、特に好ましく
は0.4μm以上10μm以下の範囲である。膜厚が
0.1μmより薄い場合、補償効果が十分得られない恐
れがある。膜厚が40μmを越える場合は、ディスプレ
イの表示が不必要に色づく恐れがあり好ましくない。
The compensation plate of the present invention thus obtained has a color / viewing angle compensation effect for a liquid crystal display as described above. Above all, a viewing angle improving (viewing angle compensation) effect is exhibited for a display in which a TN liquid crystal cell is driven in a normally white mode, and a color / viewing angle compensation effect is exhibited for an OCB mode liquid crystal display. The thickness of the compensator of the present invention depends on the method and parameters of the target liquid crystal display and cannot be generally stated, but it is usually in the range of 0.1 μm or more and 40 μm or less, more preferably 0.2 μm or more and 20 μm or less. The range is as follows, particularly preferably in the range of 0.4 μm or more and 10 μm or less. If the film thickness is less than 0.1 μm, the compensation effect may not be sufficiently obtained. If the film thickness exceeds 40 μm, the display may unnecessarily be colored, which is not preferable.

【0064】ただし本発明の補償板の性能をより高く引
き出すためには、補償板のパラメーターや軸配置をさら
に詳細に考慮することが好ましい。一般に、補償板の構
造を特徴づける光学パラメーターや物性値としては、ダ
イレクターの角度、補償層の膜厚、見かけの面内リター
デーション、平均チルト角を挙げることができ、それら
について以下に説明する。
However, in order to bring out the performance of the compensator of the present invention to a higher level, it is preferable to consider the parameters of the compensator and the axial arrangement in more detail. In general, the optical parameters and physical property values that characterize the structure of the compensator include director angle, compensation layer thickness, apparent in-plane retardation, and average tilt angle, which will be described below. .

【0065】先ず補償板界面近傍のディスコティック液
晶のダイレクターが、補償板平面となす角は、該補償板
の上面付近もしくは下面付近の一方においては60度以
上90度以下、好ましくは70度以上90度以下の角度
をなし、当該面の反対面においては0度以上50度以
下、好ましくは0度以上30度以下であることが好まし
い。この条件を満たさない場合、液晶セルの選択表示時
における屈折率構造の特徴である基板界面付近で液晶の
ダイレクターが基板に略平行、膜厚方向の中央部で略垂
直という屈折率の変化に対し、補償を十分に行えなくな
る恐れがある。したがって、ハイブリッド配向を形成し
ていない、例えばチルト配向を形成した補償板などを用
いる際には、少なくとも2枚の該補償板を積層して用い
る。具体的には図1の(a)と(b)とを積層するなど
の方法によって擬似的にハイブリッド配向を形成する。
ハイブリッド配向を形成した補償板を用いない場合に
は、このような方法によって上記の条件を満たさなけれ
ば補償効果を改善することができない。
First, the angle formed by the director of the discotic liquid crystal near the interface of the compensating plate with the plane of the compensating plate is 60 degrees or more and 90 degrees or less, preferably 70 degrees or more, either near the upper surface or the lower surface of the compensating plate. It is preferable that an angle of 90 degrees or less is formed, and 0 degrees or more and 50 degrees or less, and preferably 0 degrees or more and 30 degrees or less on the opposite surface. If this condition is not satisfied, the director of the liquid crystal is almost parallel to the substrate interface near the substrate interface, which is a feature of the refractive index structure at the time of selective display of the liquid crystal cell, and the vertical direction at the central portion in the film thickness direction causes a change in the refractive index. On the other hand, there is a risk that compensation will not be fully achieved. Therefore, when using a compensator that does not form a hybrid alignment, for example, a compensator that forms a tilt alignment, at least two compensating plates are laminated and used. Specifically, a pseudo hybrid orientation is formed by a method of stacking (a) and (b) of FIG.
If a compensator having a hybrid orientation is not used, the compensating effect cannot be improved unless the above conditions are satisfied by such a method.

【0066】次に補償板の膜厚は、液晶のもつ固有の複
屈折値との関連において制御する必要がある。ここでい
う固有の複屈折値(以下△nとも呼ぶ)とは、本発明の
製造方法により得られる補償板が極微小領域において持
つ、ディスコティック液晶のダイレクターに垂直な方向
の屈折率(以下noとも呼ぶ)と、ダイレクターに平行
な方向の屈折率(以下neとも呼ぶ)の差のことであ
る。このような屈折率はアッベ屈折計を用いることによ
って、連続的に屈折率が変化する構造であっても、界面
近傍の情報を提供する性質があることを利用して求める
こともできる。
Next, the film thickness of the compensator needs to be controlled in relation to the intrinsic birefringence value of the liquid crystal. The peculiar birefringence value (hereinafter also referred to as Δn) referred to herein is the refractive index (hereinafter, referred to as Δn) of the compensator obtained by the manufacturing method of the present invention in a very small region in a direction perpendicular to the director of the discotic liquid crystal. No.) and the refractive index in the direction parallel to the director (hereinafter also referred to as ne). By using an Abbe refractometer, such a refractive index can be obtained by utilizing the property of providing information in the vicinity of the interface even in a structure in which the refractive index continuously changes.

【0067】また、ディスコティック液晶材料を2枚の
同じ界面の基板に挟んでハイブリッド配向形態を抑制
し、ダイレクターが一方向に向くように配向せしめた試
料を測定することに依っても求めることができる。この
ようにして得られた固有の複屈折値と補償板の絶対膜厚
との積の絶対値は、TNモードのディスプレイを補償す
る場合、20nm以上1000nm以下の範囲であり、
好ましくは50nm以上600nm以下であり、特に好
ましくは100nmから400nm以下の範囲である。
この範囲にある場合、本発明の製造方法によって得られ
た補償板は、十分な補償効果を発現する。20nm未満
の時は、液晶ディスプレイの視野角特性をほとんど変化
させることができない恐れがある。また1000nmを
超える時は、液晶表示に不必要な色付きが生じる恐れが
ある。尚、本発明の製造方法によって得られた補償板
は、補償板単体を複数枚または該製造方法によって得ら
れた配向基板または第2の基板付きの補償板を複数枚で
使用することもできるが、その場合、それぞれの補償板
について固有の複屈折値と絶対膜厚との積の値の絶対値
が、これらの範囲内にあることが好ましい。OCBモー
ドのディスプレイを補償する場合は、上記の値は通常5
0nm以上200nm以下が好ましい。
Further, the discotic liquid crystal material may be sandwiched between two substrates having the same interface to suppress the hybrid alignment form, and the measurement may be performed by measuring a sample in which the director is oriented in one direction. You can The absolute value of the product of the intrinsic birefringence value thus obtained and the absolute film thickness of the compensator is in the range of 20 nm or more and 1000 nm or less when compensating for a TN mode display.
It is preferably 50 nm or more and 600 nm or less, particularly preferably 100 nm to 400 nm or less.
Within this range, the compensator obtained by the manufacturing method of the present invention exhibits a sufficient compensating effect. When it is less than 20 nm, there is a possibility that the viewing angle characteristics of the liquid crystal display can hardly be changed. On the other hand, when it exceeds 1000 nm, unnecessary coloring may occur in the liquid crystal display. The compensating plate obtained by the manufacturing method of the present invention may use a plurality of compensating plates alone or a plurality of compensating plates with an oriented substrate or a second substrate obtained by the manufacturing method. In that case, it is preferable that the absolute value of the product of the unique birefringence value and the absolute film thickness of each compensating plate is within these ranges. When compensating for OCB mode displays, the above values are usually 5
It is preferably 0 nm or more and 200 nm or less.

【0068】次に正面における、面内の見かけのリター
デーション値について説明する。ハイブリッド配向で
は、ダイレクターが一般に補償板平面に対して垂直な方
向にないために、補償板平面に垂直な方向から観察した
とき、見かけ上複屈折が生じることになる。ダイレクタ
ーを補償板面内に投影したとき得られる方向が、見かけ
上進相軸で、それと垂直な面内の方向が遅相軸となる。
この正面における、見かけのリターデーション値は、エ
リプソメトリー等の偏光光学測定により容易に求めるこ
とができる。本発明の補償板の見かけのリターデーショ
ン値は、TNモードの液晶ディスプレイを補償する場
合、550nmの単色光に対し、通常5nmから500
nmの範囲、より好ましくは10nmから300nmの
範囲、特に好ましくは15nmから150nmの範囲で
ある。見かけのリターデーション値が、5nm未満の場
合には、補償効果があまり期待できない恐れがある。ま
た500nmより大きい場合には、斜めからみたときに
TNモードの液晶ディスプレイに不必要な色付きが生じ
る恐れがある。本発明の補償板を複数枚で使用する場合
は、それぞれの補償板の見かけのリターデーション値の
絶対値がこれらの範囲内にあることが好ましい。またO
CBモードのディスプレイを補償する場合、上記の値は
通常10nmから800nmの範囲が好ましい。
Next, the apparent in-plane retardation value on the front surface will be described. In the hybrid orientation, since the director is not generally in the direction perpendicular to the compensator plane, apparent birefringence occurs when observed from the direction perpendicular to the compensator plane. The direction obtained when the director is projected in the compensator plane is apparently the fast axis, and the direction in the plane perpendicular to it is the slow axis.
The apparent retardation value on the front side can be easily obtained by polarization optical measurement such as ellipsometry. The apparent retardation value of the compensator of the present invention is usually 5 nm to 500 for monochromatic light of 550 nm when compensating for a TN mode liquid crystal display.
nm range, more preferably 10 nm to 300 nm range, particularly preferably 15 nm to 150 nm range. If the apparent retardation value is less than 5 nm, the compensation effect may not be expected so much. On the other hand, if the thickness is larger than 500 nm, unnecessary coloring may occur in the TN mode liquid crystal display when viewed obliquely. When a plurality of compensating plates of the present invention are used, the absolute value of the apparent retardation value of each compensating plate is preferably within these ranges. Also O
When compensating for a CB mode display, the above values are preferably in the range of 10 nm to 800 nm.

【0069】次にパラメーターとして、見かけの平均チ
ルト角が挙げられる。これは、ディスコティック液晶の
ダイレクターが基板法線となす角度の平均的な値であ
る。これは、結晶構造の解析に有効な、クリスタルロー
テーション法を応用して求めることができる。測定方法
は以下の通りである。 (1) まず直交した偏光子の間に、本発明の補償板を挟
む。但し、その配置の仕方は、配向固定化されたディス
コティック液晶のダイレクターの投影ベクトルと、偏光
子の透過軸が45度の角度を成すようにする。 (2) 次に、基板上の補償板を、基板面におけるディスコ
ティック液晶のダイレクターの投影ベクトル方向に沿っ
て、該補償板を基板ごと傾け、透過率を測定する。 (3) 補償板の傾き角と透過率の関係から、平均チルト角
を計算により求める。
Next, an apparent average tilt angle is given as a parameter. This is the average value of the angle formed by the director of the discotic liquid crystal with the substrate normal. This can be obtained by applying the crystal rotation method, which is effective for analyzing the crystal structure. The measuring method is as follows. (1) First, the compensating plate of the present invention is sandwiched between orthogonal polarizers. However, the arrangement is such that the projection vector of the director of the discotic liquid crystal whose orientation is fixed and the transmission axis of the polarizer make an angle of 45 degrees. (2) Next, the compensator on the substrate is tilted together with the substrate along the projection vector direction of the director of the discotic liquid crystal on the substrate surface, and the transmittance is measured. (3) Calculate the average tilt angle from the relationship between the tilt angle of the compensator and the transmittance.

【0070】尚、偏光子を補償板より光源に近い側に1
枚だけ置き、出射光を偏光解析して見かけのリターデー
ション値を求める方法も同様に採用することができる。
但しハイブリッド配向を形成した補償板は、光軸が一定
方向にある負の一軸性構造とは完全に等価ではない。す
なわち負の一軸性構造では、一般に透過率がほぼゼロに
落ちつく傾き角度が存在し、これは試料の光軸に沿って
入射光が進んだことに対応している(但し、補償板界面
での光の屈折を考慮する)。それに対しハイブリッド配
向では、光軸が存在しないため完全に透過率がゼロにな
る傾き角度は存在しない。そのため、透過率の極小値あ
るいは透過率と傾き角の関係を示す曲線の曲率が最も近
い、均一チルト配向のチルト角を、ハイブリッド配向を
形成した補償板の平均チルト角とすることにする。この
ようにして求められた平均チルト角は、通常2度から6
0度の範囲であり、好ましくは5度から50度の範囲、
さらに好ましくは10度から45度の範囲である。平均
チルト角が2度未満の時は、補償効果があまり発現され
ない恐れがある。また、平均チルト角が60度を超える
場合には、厚み方向の平均屈折率が、面内のそれに比べ
て大きくなりすぎ、補償効果が十分に得られなくなる恐
れがある。
The polarizer is placed on the side closer to the light source than the compensator.
A method in which only one sheet is placed and the apparent retardation value is obtained by polarization analysis of the emitted light can be similarly adopted.
However, the compensator having the hybrid orientation is not completely equivalent to the negative uniaxial structure in which the optical axis is in a fixed direction. That is, in the negative uniaxial structure, there is generally a tilt angle at which the transmittance falls to almost zero, which corresponds to the incident light traveling along the optical axis of the sample (however, at the compensator interface Consider the refraction of light). On the other hand, in the hybrid orientation, since there is no optical axis, there is no tilt angle at which the transmittance becomes zero. Therefore, the tilt angle of the uniform tilt orientation in which the curvature of the curve showing the relationship between the minimum value of the transmittance or the transmittance and the tilt angle is the closest is the average tilt angle of the compensating plate in which the hybrid orientation is formed. The average tilt angle obtained in this way is usually 2 degrees to 6 degrees.
0 degree range, preferably 5 degree to 50 degree range,
More preferably, it is in the range of 10 degrees to 45 degrees. When the average tilt angle is less than 2 degrees, there is a possibility that the compensation effect may not be exhibited so much. Further, when the average tilt angle exceeds 60 degrees, the average refractive index in the thickness direction becomes too large as compared with that in the plane, and the compensation effect may not be sufficiently obtained.

【0071】以上、本発明の製造方法によって得られる
ハイブリッド配向を形成した補償板の構造を詳述できる
光学パラメーターや物性値として、ダイレクターの角
度、補償板の膜厚、面内の見かけのリターデーション
値、平均チルト角について説明した。上記の値は、全て
測定可能であり、それぞれについて好ましい範囲内にあ
ることが当然望ましい。しかしながら、例えば配向基板
付き、第2の基板付きまたはオーバーコート層付きな
ど、補償板の形態によっては全てについて測定が困難な
場合がある。このような場合、これらの値は互いに相関
があるため、これらのうち少なくとも2つを測定し、そ
れぞれについて上述の好ましい範囲内にあれば実用上差
し支えない。例えば同じ液晶材料を用い、同様な方法で
配向させた場合、本発明の製造方法では、一般に補償板
界面付近でのダイレクターの角度や、平均チルト角は膜
厚によらず一定であり、またリターデーション値は膜厚
に比例する。
As described above, the director angle, the film thickness of the compensator, and the in-plane apparent retarder are used as optical parameters and physical properties that can describe the structure of the compensator having hybrid orientation obtained by the manufacturing method of the present invention. A description has been given of the foundation value and the average tilt angle. All of the above values are measurable and it is naturally desirable to be within the preferred range for each. However, depending on the form of the compensator, for example, with an alignment substrate, with a second substrate, or with an overcoat layer, it may be difficult to measure all. In such a case, since these values are correlated with each other, it is practically acceptable if at least two of them are measured and are within the above-described preferable ranges. For example, when the same liquid crystal material is used and aligned by the same method, in the manufacturing method of the present invention, in general, the angle of the director in the vicinity of the compensator interface and the average tilt angle are constant regardless of the film thickness. The retardation value is proportional to the film thickness.

【0072】以上説明したように本補償板を、1枚また
は複数枚で使用することによりノーマリーホワイトモー
ドのTN液晶ディスプレイ、OCBモードの液晶ディス
プレイを始めとする種々の液晶ディスプレイに対して特
に視野角改善に絶大な効果を発揮する。また従来の液晶
高分子から成る補償板(補償素子)、例えば負の一軸性
屈折率構造を持つ光学フィルム、正の一軸性屈折率構造
をもつ光学フィルム、または二軸性の屈折率構造を持つ
光学フィルムなどと組み合わせて使用することも可能で
ある。さらに偏光板として、視野角依存性が改良された
偏光板と併せて使用することも可能である。ただし、補
償に対して決定的な役割を果たすのは本発明の製造方法
によって得られた補償板であり、従来の液晶高分子から
なる補償板(補償素子)のみを如何様に組み合わせて用
いたとしても、本発明の製造方法によって得られた液晶
表示素子用補償板の如き優れた補償効果を発現させるこ
とは不可能である。
As described above, the use of one or more compensators of the present invention makes it possible to view various liquid crystal displays such as normally white mode TN liquid crystal display and OCB mode liquid crystal display. Greatly effective in improving corners. A conventional compensator (compensation element) made of liquid crystal polymer, for example, an optical film having a negative uniaxial refractive index structure, an optical film having a positive uniaxial refractive index structure, or a biaxial refractive index structure It is also possible to use it in combination with an optical film or the like. Further, it can be used as a polarizing plate in combination with a polarizing plate having improved viewing angle dependency. However, the compensating plate obtained by the manufacturing method of the present invention plays a decisive role for the compensation, and only the compensating plate (compensating element) made of the conventional liquid crystal polymer is used in any combination. Even in this case, it is impossible to exhibit an excellent compensating effect like the compensating plate for a liquid crystal display element obtained by the manufacturing method of the present invention.

【0073】以上のように、本発明の製造方法によって
得られる補償板を種々の液晶ディスプレイに備えること
によって、視角による僅かな色の変化や、明暗の変化も
殆ど感じることがない。また、ディスプレイを大面積化
した際にも、画面中央部と周辺部とで同一の表示を行う
ことも可能である。
As described above, by providing various liquid crystal displays with the compensating plate obtained by the manufacturing method of the present invention, little change in color or change in light and dark depending on the viewing angle is hardly felt. Further, even when the area of the display is enlarged, it is possible to display the same in the central portion and the peripheral portion of the screen.

【0074】なお本発明の製造方法によって得られる補
償板は、ハイブリッド配向を形成している場合には、ハ
イブリッド配向であるがゆえに、補償板の上下は等価で
なく、どちらの面を駆動用液晶セルに近い方にするかに
よって補償効果に多少の違いが見られる。さらに該補償
板においては、界面近傍の液晶のダイレクターが補償板
平面となす角は、補償板の上面もしくは下面の一方にお
いては60度以上90度以下の角度をなし、当該面の反
対面においては0度以上50度以下であり、どちらの面
を液晶セルに近い側にしてもよいが、ダイレクターと補
償板平面となす角度が大きい面(該角度が60度から9
0度である面)を駆動用液晶セルに近く、偏光板から遠
くなるように設置する方が望ましい。
When the compensating plate obtained by the manufacturing method of the present invention has a hybrid orientation, the compensating plate does not have the upper and lower sides of the compensating plate because they have the hybrid orientation. There is a slight difference in the compensation effect depending on whether the cell is closer to the cell. Further, in the compensating plate, the angle formed by the director of the liquid crystal near the interface with the compensating plate plane is 60 degrees or more and 90 degrees or less on one of the upper surface and the lower surface of the compensating plate, and on the opposite surface of the surface. Is 0 ° or more and 50 ° or less, and either face may be closer to the liquid crystal cell, but a face having a large angle between the director and the compensator plane (the angle is 60 ° to 9 °).
It is preferable that the surface (0 degree) is close to the driving liquid crystal cell and far from the polarizing plate.

【0075】[0075]

【実施例】以下に実施例を挙げ本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに制限されるものではない。
ディスコティック液晶材料の調整例・実施例で用いた各
分析法は以下の通りである。 (化学構造決定)400MHzの 1H−NMR(日本電
子製 JNM−GX400)で測定した。 (光学顕微鏡観察)オリンパス製の偏光顕微鏡 BX−
50を用いて、オルソスコープ観察およびコノスコープ
観察を行った。また、液晶相の同定はメトラーホットス
テージ(FP−80)上で加熱しながらテクスチャー観
察することにより行った。 (偏光解析)溝尻光学工業所製エリプソメーター DV
A−36VWLDを用いて行った。 (屈折率測定)アタゴ製 アッベ屈折計 Type−4
Tを用いて行った。 (膜厚測定)小坂研究所製 高精度薄膜段差測定器 E
T−10を主に用いた。また、干渉波測定(日本分光製
紫外・可視・近赤外分光光度計 V−570)と屈折
率のデーターから膜厚を求める方法も併用した。 (留出する酢酸の定量方法)反応器から留出する酢酸は
水冷管を通すことにより凝集させ、受け器に集めた。受
け器の重量の増加量を脱酢酸留出量とした。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, which should not be construed as limiting the invention thereto.
Examples of preparation of discotic liquid crystal materials and the analytical methods used in the examples are as follows. (Chemical structure determination) It was measured by 400 MHz 1 H-NMR (JNM-GX400 manufactured by JEOL Ltd.). (Optical microscope observation) Polarizing microscope BX- manufactured by Olympus
50 was used for orthoscopic observation and conoscopic observation. The liquid crystal phase was identified by observing the texture while heating it on a METTLER HOT stage (FP-80). (Polarization analysis) Ellipsometer DV manufactured by Mizojiri Optical Industry Co., Ltd.
It was performed using A-36VWLD. (Measurement of Refractive Index) Atago Abbe Refractometer Type-4
Performed using T. (Film thickness measurement) Kosaka Laboratory's high-precision thin film level difference measuring device E
T-10 was mainly used. Further, an interference wave measurement (UV-visible / near-infrared spectrophotometer V-570 manufactured by JASCO) and a method of obtaining the film thickness from the data of the refractive index were also used. (Method of quantifying distilling acetic acid) Acetic acid distilling from the reactor was aggregated by passing through a water cooling tube and collected in a receiver. The amount of increase in the weight of the receiver was defined as the deacetic acid distillation amount.

【0076】ディスコティック液晶材料の調製 (調製例1)ヘキサアセトキシトリフェニレン 50m
mol、4−ブトキシ安息香酸 100mmol、4−
ヘキシルオキシ安息香酸 100mmolおよび4−オ
クチルオキシ安息香酸 100mmolの混合物を、メ
カニカルスターラーおよび酢酸が留出するための水冷管
を備えた留出口を設けた、容量300mlのガラスフラ
スコに仕込み、窒素雰囲気下で攪拌しながら260℃で
2時間反応させた。この時点での酢酸留出量は、14.
2g(理論量の79%)であった。続いて50ml/分
の窒素気流下、280℃で8時間反応を行ないディスコ
ティック液晶材料(材料1)を得た。材料1のアイソト
ロピック転移温度は284℃であった。
Preparation of Discotic Liquid Crystal Material (Preparation Example 1) Hexaacetoxytriphenylene 50 m
mol, 4-butoxybenzoic acid 100 mmol, 4-
A mixture of 100 mmol of hexyloxybenzoic acid and 100 mmol of 4-octyloxybenzoic acid was charged into a glass flask with a capacity of 300 ml provided with a mechanical stirrer and a distilling outlet equipped with a water cooling tube for distilling acetic acid, and under a nitrogen atmosphere. The mixture was reacted at 260 ° C. for 2 hours while stirring. The amount of acetic acid distilled at this point was 14.
It was 2 g (79% of theory). Then, the reaction was performed at 280 ° C. for 8 hours under a nitrogen stream of 50 ml / min to obtain a discotic liquid crystal material (Material 1). Material 1 had an isotropic transition temperature of 284 ° C.

【0077】(調製例2)ヘキサアセトキシトリフェニ
レン 50mmol、4−tert−ブチル安息香酸
145mmol、4−ヘプチルオキシ安息香酸 145
mmolの混合物を、メカニカルスターラーを備えた調
製例1と同様な容量300mlのガラスフラスコに仕込
み、窒素雰囲気下で攪拌しながら、250℃で3時間反
応させた。この時点での酢酸留出量は12.3g(理論
量の68%)であった。続いて50ml/分の窒素気流
下、250℃で7時間反応を行いディスコティック液晶
材料(材料2)を得た。材料2のアイソトロピック転移
温度は265℃であった。
(Preparation Example 2) Hexaacetoxytriphenylene 50 mmol, 4-tert-butylbenzoic acid
145 mmol, 4-heptyloxybenzoic acid 145
The mmol mixture was placed in a glass flask having a capacity of 300 ml, which was equipped with a mechanical stirrer and was the same as in Preparation Example 1, and reacted at 250 ° C. for 3 hours while stirring under a nitrogen atmosphere. The amount of acetic acid distilled at this point was 12.3 g (68% of theory). Then, the reaction was performed at 250 ° C. for 7 hours under a nitrogen stream of 50 ml / min to obtain a discotic liquid crystal material (material 2). Material 2 had an isotropic transition temperature of 265 ° C.

【0078】(調製例3)ヘキサアセトキシトリフェニ
レン 50mmol、4−tert−ブチル安息香酸
112mmol、ステアリン酸 112mmol、セバ
シン酸 40mmolの混合物を、メカニカルスターラ
ーおよび酢酸留出口を備えた容量500mlのガラスフ
ラスコに仕込み、窒素雰囲気下で攪拌しながら、280
℃で8時間反応させた。この時点で酢酸留出量は16.
6g(理論量の92%)であった。次いで1mmHgの
減圧下290℃で1時間加熱することによりディスコテ
ィック液晶材料(材料3)を得た。材料3のアイソトロ
ピック転移温度は278℃であった。
(Preparation Example 3) Hexaacetoxytriphenylene 50 mmol, 4-tert-butylbenzoic acid
A mixture of 112 mmol, stearic acid 112 mmol and sebacic acid 40 mmol was placed in a glass flask having a capacity of 500 ml equipped with a mechanical stirrer and an acetic acid distillation outlet, and stirred under a nitrogen atmosphere at 280.
The reaction was performed at 8 ° C. for 8 hours. At this point, the acetic acid distillate was 16.
It was 6 g (92% of theory). Then, the discotic liquid crystal material (material 3) was obtained by heating at 290 ° C. for 1 hour under a reduced pressure of 1 mmHg. Material 3 had an isotropic transition temperature of 278 ° C.

【0079】(調製例4)ヘキサアセトキシトリフェニ
レン 50mmol、4−tert−ブチル安息香酸
75mmol、4−ペンチル安息香酸 75mmol、
4−ヘキシルオキシ安息香酸 75mmol、4−ヘプ
チルオキシ安息香酸 80mmolの混合物を、メカニ
カルスターラーを備えた容量300mlのガラスフラス
コに仕込み、窒素雰囲気下で攪拌しながら、280℃で
8時間反応させディスコティック液晶材料(材料4)を
得た。材料4のアイソトロピック転移温度は252℃で
あった。
Preparation Example 4 Hexaacetoxytriphenylene 50 mmol, 4-tert-butylbenzoic acid
75 mmol, 4-pentylbenzoic acid 75 mmol,
A mixture of 75 mmol of 4-hexyloxybenzoic acid and 80 mmol of 4-heptyloxybenzoic acid was charged into a glass flask having a capacity of 300 ml equipped with a mechanical stirrer and reacted at 280 ° C. for 8 hours while stirring under a nitrogen atmosphere to cause a discotic liquid crystal. A material (material 4) was obtained. Material 4 had an isotropic transition temperature of 252 ° C.

【0080】(調製例5)ヘキサアセトキシトリフェニ
レン 50mmol、6−ヘキシルオキシ−2−ナフト
エ酸 150mmol、4−ペンチルオキシ安息香酸
150mmolの混合物を、メカニカルスターラー、酢
酸留出口を備えた容量300mlのガラスフラスコに仕
込み、窒素雰囲気下で攪拌しながら、250℃で3時間
反応させた。この時点での酢酸留出量は、14.4g
(理論量の80%)であった。次いで窒素気流下、25
0℃で6時間反応を行いディスコティック液晶材料(材
料5)を得た。材料5のアイソトロピック転移温度は2
84℃であった。
Preparation Example 5 Hexaacetoxytriphenylene 50 mmol, 6-hexyloxy-2-naphthoic acid 150 mmol, 4-pentyloxybenzoic acid
A 150 mmol mixture was placed in a glass flask having a capacity of 300 ml equipped with a mechanical stirrer and an acetic acid distillation outlet, and reacted at 250 ° C. for 3 hours while stirring under a nitrogen atmosphere. The amount of acetic acid distilled at this point was 14.4 g.
(80% of the theoretical amount). Then, under a nitrogen stream, 25
The reaction was performed at 0 ° C. for 6 hours to obtain a discotic liquid crystal material (Material 5). Material 5 has an isotropic transition temperature of 2
It was 84 ° C.

【0081】(調製例6)ヘキサアセトキシトリフェニ
レン 50mmol、4−ヘプチルオキシ安息香酸 2
80mmol、テレフタル酸 10mmolの混合物
を、メカニカルスターラーを備えた容量300mlのガ
ラスフラスコに仕込み、窒素雰囲気下で攪拌しながら、
260℃で2時間、続いて280℃に昇温して6時間反
応を行い、ディスコティック液晶材料(材料6)を得
た。材料6のアイソトロピック転移温度は235℃であ
った。
Preparation Example 6 Hexaacetoxytriphenylene 50 mmol, 4-heptyloxybenzoic acid 2
A mixture of 80 mmol and 10 mmol of terephthalic acid was charged into a glass flask having a capacity of 300 ml equipped with a mechanical stirrer, and stirred under a nitrogen atmosphere while
A discotic liquid crystal material (material 6) was obtained by conducting a reaction at 260 ° C. for 2 hours and then at 280 ° C. for 6 hours. Material 6 had an isotropic transition temperature of 235 ° C.

【0082】(調製例7)ヘキサアセトキシトリフェニ
レン 5mmol、4’−ヘプチルオキシ[1,1’−
ビフェニル]−4−カルボン酸 7mmol、4−ヘキ
シルオキシ安息香酸 19mmol、4,4’−(エタ
ン−1,2−ジイルビスオキシ)ビス安息香酸 2mm
olの混合物を、メカニカルスターラーおよび酢酸留出
口を備えた容量100mlのガラスフラスコに仕込み、
窒素雰囲気下で攪拌しながら、250℃で3時間反応さ
せた。この時点での酢酸は、1.5g(理論量の83
%)留出していた。次いで20ml/分の窒素気流下、
250℃で6時間反応を行いディスコティック液晶材料
(材料7)を得た。材料7のアイソトロピック転移温度
は278℃であった。
Preparation Example 7 Hexaacetoxytriphenylene 5 mmol, 4'-heptyloxy [1,1'-
Biphenyl] -4-carboxylic acid 7 mmol, 4-hexyloxybenzoic acid 19 mmol, 4,4 ′-(ethane-1,2-diylbisoxy) bisbenzoic acid 2 mm
The ol mixture was charged into a 100 ml capacity glass flask equipped with a mechanical stirrer and an acetic acid distillation outlet,
The mixture was reacted at 250 ° C. for 3 hours while stirring under a nitrogen atmosphere. At this point, acetic acid was 1.5 g (theoretical amount of 83
%) Distilled. Then under a nitrogen stream of 20 ml / min,
The reaction was carried out at 250 ° C. for 6 hours to obtain a discotic liquid crystal material (Material 7). Material 7 had an isotropic transition temperature of 278 ° C.

【0083】(調製例8)ヘキサアセトキシトリフェニ
レン 50mmol、4−オクチルオキシ安息香酸 1
20mmol、6−ペンチルオキシ−2−ナフトエ酸
180mmolの混合物を用い、調製例5と同様の方法
で反応を行いディスコティック液晶材料(材料8)を得
た。材料8のアイソトロピック転移温度は283℃であ
った。
Preparation Example 8 Hexaacetoxytriphenylene 50 mmol, 4-octyloxybenzoic acid 1
20 mmol, 6-pentyloxy-2-naphthoic acid
Using a 180 mmol mixture, a reaction was carried out in the same manner as in Preparation Example 5 to obtain a discotic liquid crystal material (Material 8). Material 8 had an isotropic transition temperature of 283 ° C.

【0084】(調製例9)ヘキサアセトキシトリフェニ
レン 50mmol、4−ヘキシル安息香酸 220m
mol、4−ヘプチル安息香酸 75mmol、アジピ
ン酸 5mmolを用い、調製例5と同様の方法で反応
を行いディスコティック液晶材料(材料9)を得た。材
料9のアイソトロピック転移温度は277℃であった。
Preparation Example 9 Hexaacetoxytriphenylene 50 mmol, 4-hexylbenzoic acid 220 m
mol, 4-heptylbenzoic acid 75 mmol, and adipic acid 5 mmol were used to carry out a reaction in the same manner as in Preparation Example 5 to obtain a discotic liquid crystal material (material 9). Material 9 had an isotropic transition temperature of 277 ° C.

【0085】(調製例10)ヘキサアセトキシトリフェ
ニレン 50mmol、3−ヘプチルオキシ安息香酸
200mmol、6−ヘプチルオキシ−2−ナフトエ酸
100mmolをメカニカルスターラーおよび酢酸留
出口を備えたガラス製容器に仕込み、窒素雰囲気下で攪
拌しながら、245℃で2時間反応させた。この時点で
酢酸留出量は、11.7g(理論量の65%)であっ
た。続いて50ml/分の窒素気流下、245℃で8時
間反応を行い、ディスコティック液晶材料(材料10)
を得た。材料10のアイソトロピック転移温度は258
℃であった。
Preparation Example 10 Hexaacetoxytriphenylene 50 mmol, 3-heptyloxybenzoic acid
200 mmol and 6-heptyloxy-2-naphthoic acid 100 mmol were charged into a glass container equipped with a mechanical stirrer and an acetic acid distillation outlet, and reacted at 245 ° C. for 2 hours while stirring under a nitrogen atmosphere. At this point, the amount of acetic acid distilled was 11.7 g (65% of theory). Then, the reaction was carried out at 245 ° C. for 8 hours under a nitrogen stream of 50 ml / min to prepare a discotic liquid crystal material (material 10).
I got Material 10 has an isotropic transition temperature of 258
° C.

【0086】(調製例11)ヘキサアセトキシトリフェ
ニレン 50mmol、6−ヘキシルオキシ−2−ナフ
トエ酸 250mmol、4−ヘプチルオキシ桂皮酸
50mmolを用い、調製例5と同様の方法で反応を行
いディスコティック液晶材料(材料11)を得た。材料
11のアイソトロピック転移温度は265℃であった。
Preparation Example 11 Hexaacetoxytriphenylene 50 mmol, 6-hexyloxy-2-naphthoic acid 250 mmol, 4-heptyloxycinnamic acid
Using 50 mmol, a reaction was performed in the same manner as in Preparation Example 5 to obtain a discotic liquid crystal material (Material 11). Material 11 had an isotropic transition temperature of 265 ° C.

【0087】(調製例12)ヘキサアセトキシトリフェ
ニレン 500mmol、6−ヘキシルオキシ−2−ナ
フトエ酸 480mmol、4−オクチルオキシ安息香
酸 2485mmol、テレフタル酸 20mmolを
メカニカルスターラーおよび酢酸留出口を備えた内容積
5リットルのステンレス(SUS316)製オートクレ
ーブ中に仕込み、窒素雰囲気下で攪拌しながら、260
℃で3時間反応させた。この時点での酢酸留出量は、1
48ml(理論量の82%)であった。続いて300m
l/分の窒素気流中、260℃で10時間反応させ、デ
ィスコティック液晶材料(材料12)を得た。材料12
のアイソトロピック転移温度は273℃であった。
Preparation Example 12 Hexaacetoxytriphenylene (500 mmol), 6-hexyloxy-2-naphthoic acid (480 mmol), 4-octyloxybenzoic acid (2485 mmol), and terephthalic acid (20 mmol) were added to a mechanical stirrer and an acetic acid distillation outlet in an internal volume of 5 liters. It was charged in a stainless steel (SUS316) autoclave and stirred under a nitrogen atmosphere while stirring 260
The reaction was carried out at 3 ° C. for 3 hours. The amount of acetic acid distilled at this point is 1
It was 48 ml (82% of theory). Then 300m
A discotic liquid crystal material (material 12) was obtained by reacting at 260 ° C. for 10 hours in a nitrogen stream of 1 / min. Material 12
Has an isotropic transition temperature of 273 ° C.

【0088】(ディスコティック液晶であることの証
明)ディスコティック液晶材料は、ホットプレート上、
偏光顕微鏡下の観察の結果、Mol.Cryst.Li
q.Cryst.,106,121−146,1984
(C.Destradeら)に写真で示されているもの
と同様なシュリーレンテクスチャーを観察し、ディスコ
ティックネマティック相の存在を確認した。調製例1〜
12で得られた全ての該液晶材料は、ディスコティック
ネマティック相の状態からさらに昇温したところで等方
相となった。この温度をアイソトロピック転移温度とし
た。
(Proof that discotic liquid crystal is used) The discotic liquid crystal material is
As a result of observation under a polarizing microscope, Mol. Cryst. Li
q. Cryst. , 106 , 121-146, 1984.
(C. Destrade et al.) A schlieren texture similar to that shown in the photograph was observed to confirm the presence of a discotic nematic phase. Preparation Example 1
All the liquid crystal materials obtained in Example 12 became an isotropic phase when the temperature was further raised from the state of the discotic nematic phase. This temperature was defined as the isotropic transition temperature.

【0089】(実施例1)材料1(5g)を45gのク
ロロホルムに溶解させ10重量%の溶液を調製した。こ
の溶液を30cm角のラビング処理をしたポリイミドフ
ィルムに印刷法により塗布した。次いで80℃のホット
プレート上で乾燥し、オーブンで230℃で20分間熱
処理した後、室温中に取り出して冷却して、まずポリイ
ミドフィルム上に材料1を配向固定化し補償板1を得
た。次いで紫外線硬化型の接着剤を補償板1の上に塗布
した後、透光性フィルムであるトリアセチルセルロース
フィルムでラミネートし、高圧水銀灯の光を照射して接
着剤を硬化させた。次にポリイミドフィルムを剥がして
除去した。補償板1は接着剤を介してトリアセチルセル
ロースフィルム上にあり、補償板1/接着剤/トリアセ
チルセルロースよりなる無色透明な積層体1を得た。エ
リプソメーターを用いて積層体1の偏光解析を行ったと
ころ、まず正面での見かけのリターデーション値は48
nmであった。見かけ上の進相軸は剥離前のポリイミド
フィルムのラビング方向と平行な補償板面内の方向にあ
った。次に直交した偏光子の間に積層体1を挟み、補償
板中の液晶のダイレクターの補償板面への投影ベクトル
と、偏光子の透過軸が45度の角度をなすように配置
し、積層体1をダイレクターの補償板面への投影ベクト
ル方向(ラビング方向に対応する方向と一致)にそって
傾け、みかけのリターデーション値を測定した。図4の
ようにリターデーション変化は左右で非対称であり、ま
た、極小値に於いてリターデーション値はゼロにはなっ
ておらず、これらのことから補償板中のディスコティッ
ク液晶は、図1の(c)のモデルで示したような、厚み
方向で配向方向の異なるハイブリッド配向をとっている
ことがわかった。また図4のリターデーション変化を計
算機によりシミュレーションし、平均チルト角52度と
いう結果を得た。なお、ディスコティック液晶の屈折率
は、no=1.64 ne=1.53であった。
Example 1 Material 1 (5 g) was dissolved in 45 g of chloroform to prepare a 10 wt% solution. This solution was applied to a 30 cm square rubbed polyimide film by a printing method. Then, it was dried on a hot plate at 80 ° C., heat-treated at 230 ° C. for 20 minutes in an oven, taken out at room temperature and cooled, and the material 1 was first orientation-fixed on the polyimide film to obtain a compensating plate 1. Next, an ultraviolet curable adhesive was applied on the compensator 1, laminated with a triacetyl cellulose film which is a translucent film, and irradiated with light from a high pressure mercury lamp to cure the adhesive. Next, the polyimide film was peeled off and removed. The compensator 1 was on the triacetyl cellulose film via an adhesive, and a colorless and transparent laminate 1 consisting of compensator 1 / adhesive / triacetyl cellulose was obtained. When the polarization analysis of the laminate 1 was performed using an ellipsometer, the apparent retardation value in the front was 48.
was nm. The apparent fast axis was in the in-plane direction of the compensation plate parallel to the rubbing direction of the polyimide film before peeling. Next, the laminated body 1 is sandwiched between the orthogonal polarizers, and the projection vector of the liquid crystal in the compensating plate on the compensating plate surface and the transmission axis of the polarizer are arranged at an angle of 45 degrees. The laminate 1 was tilted along the direction of the projection vector of the director on the compensating plate surface (corresponding to the direction corresponding to the rubbing direction), and the apparent retardation value was measured. As shown in FIG. 4, the change in retardation is asymmetrical to the left and right, and the retardation value does not become zero at the minimum value. From these facts, the discotic liquid crystal in the compensator is shown in FIG. It was found that a hybrid orientation in which the orientation direction differs in the thickness direction, as shown in the model (c), was adopted. Further, the change in retardation in FIG. 4 was simulated by a computer, and the result was that the average tilt angle was 52 degrees. The refractive index of the discotic liquid crystal was no = 1.64 ne = 1.53.

【0090】(実施例2)材料2(500g)を4.5
kgのフェノール/テトラクロロエタン混合溶媒(重量
比6/4)に溶解させ10重量%の溶液を調製した。配
向基板としては幅40cm、長さ500mのポリエーテ
ルエーテルケトンフィルムを選び、このフィルムをフィ
ルム長手方向に沿ってラビングした。材料2の溶液をロ
ールコート法により、ラビング処理したポリエーテルエ
ーテルケトンフィルム上に連続的に塗布した。次いで8
0℃の温風で大部分の溶媒を除去した後、長さ10mの
220℃に設定された熱処理炉に1m/分の搬送速度で
送り出し(処理時間10分)、液晶を配向させ、室温中
で冷却して液晶配向を固定化させた。補償板2の厚みは
1.5μmであった。次いで熱硬化型の接着剤を補償板
の上に塗布した後、透光性フィルムであるトリアセチル
セルロースフィルムでラミネートし、90℃で1時間加
温し接着剤を硬化させた。次にポリエーテルエーテルケ
トンを剥がして除去した。補償板2は接着剤を介してト
リアセチルセルロースフィルム上にあり、補償板2/接
着剤/トリアセチルセルロースよりなる無色透明な積層
体2を得た。エリプソメーターを用いて補償板2の偏光
解析を行ったところ、まず正面での見かけのリターデー
ション値は54nmであった。見かけ上の進相軸はフィ
ルムの長手方向にあった。次に直交した偏光子の間に積
層体2を挟み、補償板中の液晶のダイレクターの補償板
面への投影ベクトルと、偏光子の透過軸が45度の角度
をなすように配置し、積層体2をダイレクターの補償板
面への投影ベクトル方向(ラビング方向に対応する方向
と一致)にそって傾け、みかけのリターデーション値を
測定した。図5の結果が得られ、ディスコティック液晶
はハイブリッド配向をとっており、平均チルト角は23
度であった。次に積層体2を2枚用い、TNセル(90
度ねじれ、リターデーション480nm)に対する視野
角改良効果を調べた。図6に示した配置でTNセルの上
下偏光板間に積層体2を1枚ずつ挟みコントラストを測
定した。その結果図7に示したように、積層体2を用い
た液晶表示装置は、積層体2が無い場合に比べ、コント
ラスト比100以上の領域が大きく広がることがわかっ
た。
Example 2 Material 2 (500 g) was added to 4.5
A 10 wt% solution was prepared by dissolving it in kg of a phenol / tetrachloroethane mixed solvent (weight ratio 6/4). As the orientation substrate, a polyether ether ketone film having a width of 40 cm and a length of 500 m was selected, and this film was rubbed along the longitudinal direction of the film. The solution of the material 2 was continuously coated on the rubbing-treated polyether ether ketone film by the roll coating method. Then 8
After removing most of the solvent with hot air at 0 ° C, the liquid crystal was aligned at a conveying speed of 1 m / min (processing time 10 minutes) into a heat treatment furnace having a length of 10 m and set at 220 ° C, and the liquid crystal was aligned at room temperature. The liquid crystal alignment was fixed by cooling with. The thickness of the compensation plate 2 was 1.5 μm. Then, a thermosetting adhesive was applied on the compensator, and then laminated with a transacetylation film, triacetyl cellulose film, and heated at 90 ° C. for 1 hour to cure the adhesive. Next, the polyether ether ketone was peeled off and removed. The compensator 2 was on the triacetyl cellulose film via an adhesive, and a colorless and transparent laminate 2 composed of compensator 2 / adhesive / triacetyl cellulose was obtained. When polarization analysis of the compensator 2 was performed using an ellipsometer, first, the apparent retardation value in the front was 54 nm. The apparent fast axis was in the longitudinal direction of the film. Next, the laminated body 2 is sandwiched between orthogonal polarizers, and the liquid crystal in the compensator is arranged so that the projection vector of the director on the compensator surface and the polarizer transmission axis form an angle of 45 degrees. The laminate 2 was tilted along the direction of the projection vector of the director on the compensating plate surface (corresponding to the direction corresponding to the rubbing direction), and the apparent retardation value was measured. The results shown in FIG. 5 are obtained, the discotic liquid crystal has a hybrid orientation, and the average tilt angle is 23.
Degree. Next, using two sheets of the laminate 2, the TN cell (90
The effect of improving the viewing angle with respect to the degree of twist and the retardation of 480 nm was examined. The laminate 2 was sandwiched between the upper and lower polarizing plates of the TN cell in the arrangement shown in FIG. 6 to measure the contrast. As a result, as shown in FIG. 7, it was found that in the liquid crystal display device using the laminated body 2, the region having a contrast ratio of 100 or more spreads widely compared to the case where the laminated body 2 is not provided.

【0091】(実施例3)材料3を10重量%含むキシ
レン溶液を調製し、ラビングポリイミド膜を有するガラ
ス基板(30cm角、厚み1.1mm)上に印刷法によ
り塗布した。次いで風乾し、200℃で30分熱処理し
た後、室温中で冷却・固定化させた。得られた補償板3
は透明で配向欠陥はなく、補償板の膜厚は3.2μmで
あった。屈折率測定により、液晶のダイレクターは配向
基板界面においては基板にほぼ垂直、空気界面側では基
板にほぼ平行であり、ne=1.65 no=1.55
であった。これよりnoとneの屈折率差は0.10で
あり、これと膜厚との積は320nmとなった。また面
内の見かけのリターデーション値は180nmで、遅相
軸はラビング方向と垂直な面内の方向にあった。また補
償板3を実施例1と同様にラビング方向に沿って傾けて
見かけのリターデーション値を測定し、平均チルト角が
41度という結果を得た。補償板3は、実施例1および
2と同様に、TNセルに対し良好な視野角改良効果を発
現した。
Example 3 A xylene solution containing 10% by weight of Material 3 was prepared and applied on a glass substrate (30 cm square, thickness 1.1 mm) having a rubbing polyimide film by a printing method. Then, it was air-dried, heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes, and then cooled and fixed at room temperature. Compensation plate 3 obtained
Was transparent and had no alignment defects, and the film thickness of the compensator was 3.2 μm. According to the refractive index measurement, the director of the liquid crystal is almost perpendicular to the substrate at the interface of the alignment substrate and substantially parallel to the substrate at the air interface side, and ne = 1.65 no = 1.55.
Met. From this, the refractive index difference between no and ne was 0.10, and the product of this and the film thickness was 320 nm. The in-plane apparent retardation value was 180 nm, and the slow axis was in the in-plane direction perpendicular to the rubbing direction. Further, the compensator 3 was tilted along the rubbing direction in the same manner as in Example 1 to measure the apparent retardation value, and the average tilt angle was 41 degrees. The compensator 3 exhibited a good effect of improving the viewing angle with respect to the TN cell, as in Examples 1 and 2.

【0092】(実施例4)材料4(8g)を92gのク
ロロホルムに溶かし8重量%の溶液を調製し、ラビング
ポリイミド膜を有する15cm角のガラス基板上にスピ
ンコート法により塗布し、次いで50℃のホットプレー
ト上で乾燥し、オーブンで250℃で15分間熱処理し
た後、室温中に取り出して冷却し、補償板4を得た。該
補償板4の膜厚は2.0μmであった。また屈折率測定
により複屈折は0.11であり、これと膜厚との積は2
20nmとなった。またエリプソメーターを用いて偏光
解析を行ったところ、まず正面での見かけのリターデー
ションは95nmであった。進相軸はラビング方向と8
°ずれたフィルム面内の方向にあった。補償板4は、実
施例1および2と同様に、TNセルに対し良好な視野角
改良効果を発現した。
Example 4 Material 4 (8 g) was dissolved in 92 g of chloroform to prepare an 8 wt% solution, which was applied on a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating, and then at 50 ° C. After being dried on a hot plate of No. 1 and heat-treated in an oven at 250 ° C. for 15 minutes, it was taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 4. The film thickness of the compensator 4 was 2.0 μm. The birefringence was 0.11 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 2
It became 20 nm. When ellipsometer was used for ellipsometry, the apparent retardation in the front was 95 nm. The fast axis is the rubbing direction and 8
There was an in-plane direction of the film deviated. The compensator 4 exhibited a good effect of improving the viewing angle with respect to the TN cell as in Examples 1 and 2.

【0093】(実施例5)材料5(18g)を182g
のクロロホルムに溶かし9重量%の溶液を調製し、ラビ
ングポリイミド膜を有する15cm角のガラス基板上に
材料5溶液をスピンコート法により塗布した。次いで5
5℃のホットプレート上で乾燥し、オーブンで230℃
で20分間熱処理した後、室温中に取り出して冷却し、
補償板5を得た。補償板5の膜厚は、4.0μmであっ
た。また屈折率測定により複屈折は0.13であり、こ
れと膜厚との積は520nmとなった。またエリプソメ
ーターを用いて偏光解析を行ったところ、まず正面での
見かけのリターデーションは185nmであった。進相
軸はラビング方向と3°ずれた層面内の方向にあった。
また実施例1と同様にラビング方向に沿って傾けて見か
けのリターデーション値を測定し、平均チルト角が35
度という結果を得た。補償板5は、実施例1および2と
同様に、TNセルに対し良好な視野角改良効果を発現し
た。
(Example 5) 182 g of the material 5 (18 g)
Was dissolved in chloroform to prepare a 9% by weight solution, and the material 5 solution was applied onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating. Then 5
Dry on a hot plate at 5 ℃ and 230 ℃ in an oven.
After heat-treating for 20 minutes at room temperature, remove to room temperature and cool,
The compensator 5 was obtained. The film thickness of the compensator 5 was 4.0 μm. The birefringence was 0.13 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 520 nm. When ellipsometer was used for ellipsometry, the apparent retardation in the front was 185 nm. The fast axis was in the in-plane direction deviated by 3 ° from the rubbing direction.
Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured by tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 35.
I got the result. The compensator 5 exhibited a good effect of improving the viewing angle with respect to the TN cell as in Examples 1 and 2.

【0094】(実施例6)材料6(20g)を180g
のクロロホルムに溶かし、10重量%の溶液を調製し
た。次いで、ラビングポリイミド膜を有する15cm角
のガラス基板上に材料6溶液をスピンコート法により塗
布し、次いで65℃のホットプレート上で乾燥した。次
いでオーブンで226℃で25分間熱処理した後、室温
中に取り出して冷却し、透明な基板上に補償板6を得
た。該補償板6の膜厚は5.5μmであった。また屈折
率測定により複屈折は0.08であり、これと膜厚との
積は440nmとなった。またエリプソメーターを用い
て偏光解析を行ったところ、まず正面での見かけのリタ
ーデーションは35nmであった。進相軸はラビング方
向と2°ずれたフィルム面内の方向にあった。また実施
例1と同様にラビング方向に沿って傾けて見かけのリタ
ーデーション値を測定し、平均チルト角が15度という
結果を得た。補償板6は、実施例1および2と同様に、
TNセルに対し良好な視野角改良効果を発現した。
Example 6 180 g of Material 6 (20 g)
Was dissolved in chloroform to prepare a 10% by weight solution. Then, the material 6 solution was applied on a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by a spin coating method, and then dried on a hot plate at 65 ° C. Then, after heat-treating at 226 ° C. for 25 minutes in an oven, it was taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 6 on a transparent substrate. The film thickness of the compensator 6 was 5.5 μm. The birefringence was 0.08 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 440 nm. When ellipsometer was used for ellipsometry, the apparent retardation in the front was 35 nm. The fast axis was in the in-plane direction deviated from the rubbing direction by 2 °. Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the result was that the average tilt angle was 15 degrees. The compensating plate 6 is the same as in the first and second embodiments.
A good viewing angle improving effect was exhibited for the TN cell.

【0095】(実施例7)材料7(2.5g)を17.
5gのジメチルホルムアミドに溶かし12.5重量%の
溶液を調製した。次いで、ラビングポリイミド膜を有す
る15cm角のガラス基板上に材料7溶液をスピンコー
ト法により塗布し、次いで70℃のホットプレート上で
乾燥した。乾燥後、オーブンで235℃で18分間熱処
理した後、室温中に取り出して冷却し、補償板7を得
た。該補償板7の膜厚は3.8μmであった。また屈折
率測定により複屈折は0.11であり、これと膜厚との
積は420nmとなった。またエリプソメーターを用い
て偏光解析を行ったところ、まず正面での見かけのリタ
ーデーションは180nmであった。進相軸はラビング
方向と4°ずれたフィルム面内の方向にあった。また実
施例1と同様にラビング方向に沿って傾けて見かけのリ
ターデーション値を測定し、平均チルト角が40度とい
う結果を得た。補償板7は、実施例1および2と同様
に、TNセルに対し良好な視野角改良効果を発現した。
Example 7 Material 7 (2.5 g) was added to 17.
The solution was dissolved in 5 g of dimethylformamide to prepare a 12.5% by weight solution. Then, the material 7 solution was applied onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating, and then dried on a hot plate at 70 ° C. After drying, it was heat-treated in an oven at 235 ° C. for 18 minutes, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 7. The film thickness of the compensator 7 was 3.8 μm. The birefringence was 0.11 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 420 nm. When ellipsometer was used to perform ellipsometry, the apparent retardation in the front was 180 nm. The fast axis was in the in-plane direction, which was offset by 4 ° from the rubbing direction. Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 40 degrees. The compensating plate 7 exhibited a good viewing angle improving effect on the TN cell, as in Examples 1 and 2.

【0096】(実施例8)材料8(5g)を95gのト
ルエンに溶かし5重量%の溶液を調製した。次いで、ラ
ビングポリイミド膜を有する15cm角のガラス基板上
に材料8溶液をスピンコート法により塗布し、次いで6
3℃のホットプレート上で乾燥した。乾燥後、オーブン
で215℃で15分間熱処理した後、室温中に取り出し
て冷却し、補償板8を得た。該補償板8の膜厚は0.8
μmであった。また屈折率測定により複屈折は0.10
であり、これと膜厚との積は80nmとなった。またエ
リプソメーターを用いて偏光解析を行ったところ、まず
正面での見かけのリターデーションは60nmであっ
た。進相軸とラビング方向は同一方向でフィルム面内の
方向にあった。また実施例1と同様にラビング方向に沿
って傾けて見かけのリターデーション値を測定し、平均
チルト角が60度という結果を得た。補償板8は、実施
例1および2と同様に、TNセルに対し良好な視野角改
良効果を発現した。
Example 8 Material 8 (5 g) was dissolved in 95 g of toluene to prepare a 5% by weight solution. Then, the material 8 solution was applied by a spin coating method onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film, and then 6
It was dried on a hot plate at 3 ° C. After drying, it was heat-treated in an oven at 215 ° C. for 15 minutes, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 8. The thickness of the compensator 8 is 0.8
μm. The birefringence is 0.10 according to the refractive index measurement.
And the product of this and the film thickness was 80 nm. When ellipsometer was used for ellipsometry, the apparent retardation on the front was 60 nm. The fast axis and the rubbing direction were the same direction and were in the in-plane direction of the film. Further, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the result was that the average tilt angle was 60 degrees. The compensator 8 exhibited a good effect of improving the viewing angle with respect to the TN cell as in Examples 1 and 2.

【0097】(実施例9)材料9(20g)を80gの
クロロホルムに溶かし、20重量%の溶液を調製した。
次いで、ラビングポリイミド膜を有する15cm角のガ
ラス基板上に材料9溶液をスピンコート法により塗布
し、次いで55℃のホットプレート上で乾燥した。乾燥
後、オーブンで226℃で35分間熱処理した後、室温
中に取り出して冷却し、補償板9を得た。該補償板9の
膜厚は11.0μmであった。また屈折率測定により複
屈折は0.09であり、これと膜厚との積は990nm
となった。次いでエリプソメーターを用いて補償板9の
偏光解析を行ったところ、まず正面での見かけのリター
デーションは35nmであった。進相軸はラビング方向
と1°ずれたフィルム面内の方向にあった。また実施例
1と同様にラビング方向に沿って傾けて見かけのリター
デーション値を測定し、平均チルト角が10度という結
果を得た。補償板9は、実施例1および2と同様に、T
Nセルに対し良好な視野角改良効果を発現した。
Example 9 Material 9 (20 g) was dissolved in 80 g of chloroform to prepare a 20% by weight solution.
Then, the material 9 solution was applied onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by a spin coating method, and then dried on a hot plate at 55 ° C. After drying, it was heat-treated in an oven at 226 ° C. for 35 minutes, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 9. The film thickness of the compensator 9 was 11.0 μm. The birefringence was 0.09 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 990 nm.
It became. Next, when polarization analysis of the compensator 9 was performed using an ellipsometer, first, the apparent retardation on the front side was 35 nm. The fast axis was in the in-plane direction deviated from the rubbing direction by 1 °. Further, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 10 degrees. The compensating plate 9 has the same T as in the first and second embodiments.
A good viewing angle improving effect was exhibited for the N cell.

【0098】(実施例10)材料10(4g)を96g
のクロロホルムに溶かし4重量%の溶液を調製した。次
いで、ラビングポリイミド膜を有する15cm角のガラ
ス基板上に材料10溶液をスピンコート法により塗布
し、次いで65℃のホットプレート上で乾燥した。乾燥
後、オーブンで210℃で10分間熱処理した後、室温
中に取り出して冷却し、補償板10を得た。該補償板1
0の膜厚は0.5μmであった。また屈折率測定により
複屈折は0.07であり、これと膜厚との積は35nm
となった。またエリプソメーターを用いて偏光解析を行
ったところ、まず正面での見かけのリターデーションは
20nmであった。進相軸はラビング方向と8°ずれた
フィルム面内の方向にあった。また実施例1と同様にラ
ビング方向に沿って傾けて見かけのリターデーション値
を測定し、平均チルト角が48度という結果を得た。補
償板10は、実施例1および2と同様に、TNセルに対
し良好な視野角改良効果を発現した。
(Example 10) 96 g of the material 10 (4 g)
Was dissolved in chloroform to prepare a 4% by weight solution. Then, the material 10 solution was applied onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating, and then dried on a hot plate at 65 ° C. After drying, it was heat-treated in an oven at 210 ° C. for 10 minutes, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 10. Compensation plate 1
The film thickness of 0 was 0.5 μm. The birefringence was 0.07 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 35 nm.
It became. Further, when polarization analysis was performed using an ellipsometer, the apparent retardation on the front side was 20 nm. The fast axis was in the in-plane direction, which was offset by 8 ° from the rubbing direction. Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 48 degrees. The compensating plate 10 exhibited a good effect of improving the viewing angle with respect to the TN cell as in Examples 1 and 2.

【0099】(実施例11)材料11(7g)を93g
のクロロホルムに溶かし7重量%の溶液を調製した。次
いで、ラビングポリイミド膜を有する15cm角のガラ
ス基板上に材料11溶液をスピンコート法により塗布
し、次いで63℃のホットプレート上で乾燥した。乾燥
後、オーブンで235℃で15分間熱処理した後、室温
中に取り出して冷却し、補償板11を得た。該補償板1
1の膜厚は2.3μmであった。また屈折率測定により
複屈折は0.10であり、これと膜厚との積は230n
mとなった。またエリプソメーターを用いて偏光解析を
行ったところ、まず正面での見かけのリターデーション
は55nmであった。進相軸はラビング方向と5°ずれ
たフィルム面内の方向にあった。また実施例1と同様に
ラビング方向に沿って傾けて見かけのリターデーション
値を測定し、平均チルト角が28度という結果を得た。
補償板11は、実施例1および2と同様に、TNセルに
対し良好な視野角改良効果を発現した。
(Example 11) 93 g of the material 11 (7 g)
Was dissolved in chloroform to prepare a 7% by weight solution. Next, the material 11 solution was applied on a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating, and then dried on a hot plate at 63 ° C. After drying, it was heat-treated in an oven at 235 ° C. for 15 minutes, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 11. Compensation plate 1
The film thickness of 1 was 2.3 μm. Further, the birefringence was 0.10 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 230 n.
m. When ellipsometer was used for ellipsometry, the apparent retardation on the front was 55 nm. The fast axis was in the in-plane direction, which was offset by 5 ° from the rubbing direction. Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 28 degrees.
The compensator 11 exhibited a good effect of improving the viewing angle with respect to the TN cell as in Examples 1 and 2.

【0100】(実施例12)材料12(140g)を1
860gのクロロホルムに溶かし7重量%の溶液を調製
した。次いでラビングポリイミド膜を有する15cm角
のガラス基板上に材料12溶液をスピンコート法により
塗布し、次いで60℃のホットプレート上で乾燥した。
乾燥後、オーブンで218℃で15分間熱処理した後、
室温中に取り出して冷却し、補償板12を得た。該補償
板12の膜厚は3.1μmであった。また屈折率測定に
より複屈折は0.10であり、これと膜厚との積は31
0nmとなった。またエリプソメーターを用いて偏光解
析を行ったところ、まず正面での見かけのリターデーシ
ョンは103nmであった。進相軸はラビング方向と3
°ずれたフィルム面内の方向にあった。また実施例1と
同様にラビング方向に沿って傾けて見かけのリターデー
ション値を測定し、平均チルト角が34度という結果を
得た。補償板12は、実施例1および2と同様に、TN
セルに対し良好な視野角改良効果を発現した。
(Example 12) 1 material 12 (140 g) was added.
It was dissolved in 860 g of chloroform to prepare a 7% by weight solution. Next, the material 12 solution was applied onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating, and then dried on a hot plate at 60 ° C.
After drying, heat-treat at 218 ° C for 15 minutes in the oven,
It was taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 12. The thickness of the compensator 12 was 3.1 μm. Further, the birefringence was 0.10 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 31.
It became 0 nm. Further, when polarization analysis was performed using an ellipsometer, the apparent retardation on the front side was 103 nm. Fast axis is 3 with rubbing direction
There was an in-plane direction of the film deviated. Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 34 degrees. The compensating plate 12 has the same TN as in the first and second embodiments.
A good viewing angle improving effect was exhibited for the cell.

【0101】[0101]

【発明の効果】本発明の液晶表示素子補償板は、所望の
物性、例えば液晶転移点を任意に調整して得ることがで
きるディスコティック液晶材料を利用しているため、液
晶ディスプレイ分野において要求される、例えば熱安定
性、高温信頼性などの温度特性に優れた補償板を得るこ
とができる。また、所望の液晶材料を得ることができる
ことから、液晶ディスプレイの高性能化などに応じて、
その要求に応じた補償板を得ることができる、など技術
的価値が高い。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The liquid crystal display element compensating plate of the present invention uses a discotic liquid crystal material which can be obtained by arbitrarily adjusting desired physical properties, for example, a liquid crystal transition point, and is therefore required in the field of liquid crystal displays. It is possible to obtain a compensator having excellent temperature characteristics such as thermal stability and high temperature reliability. In addition, since it is possible to obtain a desired liquid crystal material, according to the high performance of the liquid crystal display,
It has a high technical value, such as the ability to obtain a compensator that meets the requirements.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ディスコティック液晶材料がとり得る配向形態
の模式図。図中の矢印がダイレクターを意味する。
(a)は、ダイレクターが補償板平面に垂直な負の一軸
性構造(ホメオトロピック配向)。(b)は、ダイレク
ターが補償板平面に対して一定角度チルトした負の一軸
性構造(チルト配向)。(c)は、ダイレクターが補償
板の厚み方向で変化したハイブリッド配向。
FIG. 1 is a schematic view of an alignment form that a discotic liquid crystal material can have. The arrow in the figure means the director.
(A) is a negative uniaxial structure in which the director is perpendicular to the plane of the compensator (homeotropic alignment). (B) is a negative uniaxial structure (tilt orientation) in which the director is tilted at a constant angle with respect to the compensator plane. (C) is a hybrid orientation in which the director changes in the thickness direction of the compensator.

【図2】実施例1で得られた、見かけのリターデーショ
ン値の測定結果。
FIG. 2 is a measurement result of an apparent retardation value obtained in Example 1.

【図3】実施例2で得られた、見かけのリターデーショ
ン値の測定結果。
FIG. 3 is a measurement result of an apparent retardation value obtained in Example 2.

【図4】実施例2で用いた液晶表示装置の斜視図。 1.偏光板 2.積層体2 3.配向固定化したディスコティック液晶材料層 4.接着層を有するトリアセチルセルロースフィルム 5.TN液晶セル 6.偏向板の透過軸 7.ポリエーテルエーテルケトンフィルムのラビング方
向に対応する方向 8.TN液晶セル基板のラビング方向
FIG. 4 is a perspective view of a liquid crystal display device used in Example 2. 1. Polarizing plate 2. Laminated body 2 3. Alignment-fixed discotic liquid crystal material layer 4. 4. Triacetyl cellulose film having an adhesive layer 5. TN liquid crystal cell 6. Transmission axis of deflector 7. Direction corresponding to rubbing direction of polyetheretherketone film 8. Rubbing direction of TN liquid crystal cell substrate

【図5】実施例2で得られた視野角特性。図中の曲線が
コントラスト100の等コントラスト曲線を示す。3つ
の同心円は、それぞれ視角θ=20度、40度および6
0度を表し、点線で示した十字は、方位角φ=0度、9
0度、180度および270度を表す。 (a)補償板を用いない場合 (b)補償板を用いた場合
5 is a view angle characteristic obtained in Example 2. FIG. The curves in the figure show isocontrast curves with a contrast of 100. The three concentric circles have viewing angles θ = 20 degrees, 40 degrees, and 6 degrees, respectively.
A cross that represents 0 degree and is indicated by a dotted line is an azimuth angle φ = 0 degree, 9
Represents 0 degrees, 180 degrees and 270 degrees. (A) When the compensator is not used (b) When the compensator is used

フロントページの続き (72)発明者 小堀 良浩 神奈川県横浜市中区千鳥町8番地 日本石 油株式会社中央技術研究所内Front page continuation (72) Inventor Yoshihiro Kobori 8 Chidori-cho, Naka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Nippon Petroleum Co., Ltd. Central Technology Research Institute

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1分子中に6個以上のフェノール性アセ
テート基を有する少なくとも1種の平面状縮合環化合物
と、炭素数6以上の複数種のカルボン酸化合物との脱酢
酸反応を行って得られた反応生成物より実質上構成され
るディスコティック液晶材料を配向基板上に塗布し、次
いで熱処理し、冷却することを特徴とする液晶表示素子
用補償板の製造方法。
1. Obtained by performing a deacetic acid reaction between at least one planar condensed ring compound having at least 6 phenolic acetate groups in one molecule and a plurality of carboxylic acid compounds having at least 6 carbon atoms. A method for producing a compensator for a liquid crystal display device, which comprises applying a discotic liquid crystal material substantially composed of the obtained reaction product onto an alignment substrate, followed by heat treatment and cooling.
【請求項2】 ディスコティック液晶材料が、副生した
酢酸が留出するための酢酸留出口が設けられた反応器
に、1分子中に6個以上のフェノール性アセテート基を
有する少なくとも1種の平面状縮合環化合物と、炭素数
6以上の複数種のカルボン酸化合物とを供して該酢酸留
出口から酢酸を留出させつつ脱酢酸反応を進行せしめ、
該酢酸留出口から留出する酢酸の量が、酢酸留出理論量
の30〜95質量%に相当する酢酸留出時点から、反応
を減圧下または不活性ガス気流下において行って得られ
た反応生成物より実質上構成される請求項1記載の液晶
表示素子用補償板の製造方法。
2. A discotic liquid crystal material comprising at least one phenolic acetate group having 6 or more phenolic acetate groups per molecule in a reactor provided with an acetic acid distillation outlet for distilling acetic acid by-produced. A planar fused ring compound and a plurality of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms are provided to promote the deacetic acid reaction while distilling acetic acid from the acetic acid distillation outlet,
Reaction obtained by carrying out the reaction under reduced pressure or an inert gas stream from the time of acetic acid distillation at which the amount of acetic acid distilled from the acetic acid distillation outlet corresponds to 30 to 95 mass% of the theoretical amount of acetic acid distillation. The method for producing a compensating plate for a liquid crystal display device according to claim 1, which is substantially composed of a product.
【請求項3】 1分子中に6個以上のフェノール性アセ
テート基を有する平面状縮合環化合物が、2,3,6,
7,10,11−ヘキサアセトキシトリフェニレンであ
ることを特徴とする請求項1または2記載の液晶表示素
子用補償板の製造方法。
3. A planar condensed ring compound having 6 or more phenolic acetate groups in one molecule is 2, 3, 6,
7. The method for producing a compensator for a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the compensator is 7,10,11-hexaacetoxytriphenylene.
【請求項4】 炭素数6以上の複数種のカルボン酸化合
物が、1分子中に1個のカルボキシル基を有する化合物
および/または1分子中に2個以上のカルボキシル基を
有するカルボン酸化合物から選ばれる複数種であること
を特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の液晶
表示素子用補償板の製造方法。
4. A plurality of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms are selected from compounds having one carboxyl group in one molecule and / or carboxylic acid compounds having two or more carboxyl groups in one molecule. 4. The method for manufacturing a compensating plate for a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the compensating plate is a plurality of kinds.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009223350A (en) * 2009-07-10 2009-10-01 Casio Comput Co Ltd Liquid crystal display device
KR100967324B1 (en) * 2003-05-02 2010-07-05 후지필름 가부시키가이샤 Optical compensation sheet, polarizing plate, and liquid crystal display device using thereof

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