JPH09221444A - Stereoselective production of cis-substituted bicycloheptanedione derivative - Google Patents

Stereoselective production of cis-substituted bicycloheptanedione derivative

Info

Publication number
JPH09221444A
JPH09221444A JP5091296A JP5091296A JPH09221444A JP H09221444 A JPH09221444 A JP H09221444A JP 5091296 A JP5091296 A JP 5091296A JP 5091296 A JP5091296 A JP 5091296A JP H09221444 A JPH09221444 A JP H09221444A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
bicycloheptane
alkyl
dione derivative
reacting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5091296A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Sakae
隆浩 寒河江
Hiroyuki Adachi
弘之 阿達
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Soda Co Ltd filed Critical Nippon Soda Co Ltd
Priority to JP5091296A priority Critical patent/JPH09221444A/en
Publication of JPH09221444A publication Critical patent/JPH09221444A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stereoselectively, economically advantageously produce only a cis isomer of a bicycloheptane-2,4-dione derivative useful as an intermediate raw material of a herbicide. SOLUTION: This derivative of formula I (R<1> and R<2> are each a 1-6C alkyl) is obtained by reacting an α-alkoxy-α-alkyl acetate of formula II (R<3> is a 1-6C alkyl) with lithium amides of formula III (R<4> and R<5> are each a 1-6C alkyl or trimethylsilyl) and reacting with a trialkylsilyl halide of the formula XSiR<a> R<b> R<c> (R<a> -R<c> are each a 1-4C alkyl; X is halogen) to obtain ketene silyl acetal of the formula R<1> (R<2> O)C=C(OR<3> )OSiR<a> R<b> R<c> , then reacting with 1- halogeno-2-pentene-4-one of formula IV (Y is a halogen) in the presence of a Lewis acid (e.g. aluminum chloride), and further reacting with a base (e.g. sodium methoxide). The compound of the formula I can be introduced to 3- substituted benzoyl-bicycloheptane-2,4-dione derivative useful as a herbicide.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、除草剤として有用
な式(VI)
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a compound of formula (VI) useful as a herbicide.

【0002】[0002]

【化7】 Embedded image

【0003】で表される3−ベンゾイル−ビシクロヘプ
タン−2,4−ジオン誘導体の製造中間体である、式
(I)
A compound of formula (I) which is an intermediate for the production of a 3-benzoyl-bicycloheptane-2,4-dione derivative represented by

【0004】[0004]

【化8】 Embedded image

【0005】で表されるビシクロヘプタン−2,4−ジ
オン誘導体のシス異性体を、立体選択的に製造する技術
に関する。
The present invention relates to a technique for stereoselectively producing a cis isomer of a bicycloheptane-2,4-dione derivative represented by

【0006】[0006]

【従来の技術】本出願人らにより開示されたWO91/
00260号に記載されている3−ベンゾイルビシクロ
ヘプタン−2,4−ジオン誘導体は、優れた除草活性を
有する化合物である。そして、その明細書中には、ビシ
クロヘプタンジオン環の5位の置換基とビシクロ環との
間にはシスおよびトランス異性体が存在し、異性体の種
類によって、除草活性や作物選択性に差がある場合があ
ることが開示されている。また、本発明者らは、WO9
2/00084号において、ビシクロヘプタンジオン環
の5位にアルキル基またはアルコキシカルボニル基が置
換したビシクロヘプタン−2,4−ジオン誘導体の立体
選択的製造法を開示している。さらに、本発明者らは、
先の出願(国際出願JP95/02259号)におい
て、ビシクロヘプタンジオン環の5位にメチル基および
アルコキシ基が置換した化合物が、特に優れた除草活性
および化合物安定性を与える旨を開示している。しかし
ながら、このビシクロヘプタンジオン環の5位にアルキ
ル基およびアルコキシ基が置換した化合物を立体選択的
に製造する方法については、いまだ知られていない。
2. Description of the Related Art WO91 / disclosed by the present applicants
The 3-benzoylbicycloheptane-2,4-dione derivative described in No. 00260 is a compound having excellent herbicidal activity. And in the specification, there are cis and trans isomers between the substituent at the 5-position of the bicycloheptanedione ring and the bicyclo ring, and the herbicidal activity and crop selectivity differ depending on the type of isomer. It is disclosed that there may be. In addition, the present inventors
No. 2/00084 discloses a stereoselective method for producing a bicycloheptane-2,4-dione derivative in which the 5-position of the bicycloheptanedione ring is substituted with an alkyl group or an alkoxycarbonyl group. In addition, we have:
In the previous application (International Application JP 95/02259), it is disclosed that a compound in which a methyl group and an alkoxy group are substituted at the 5-position of the bicycloheptanedione ring gives particularly excellent herbicidal activity and compound stability. However, a method for stereoselectively producing a compound in which an alkyl group and an alkoxy group are substituted at the 5-position of the bicycloheptanedione ring has not yet been known.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のビシク
ロヘプタン−2,4−ジオン誘導体のシス異性体のみを
立体選択的に製造する技術を提供することを目的とす
る。
An object of the present invention is to provide a technique for stereoselectively producing only the cis isomer of the above bicycloheptane-2,4-dione derivative.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、出発原料としてα−
アルコキシ−α−アルキル酢酸エステルを用い、リチウ
ムアミド類を作用させることによってシリルエノールエ
ーテルとしたのち、ルイス酸の存在下、γ−ハロゲノ−
α,β−不飽和ケトンを付加させ、その後、塩基による
閉環反応させることによって、目的とするビシクロヘプ
タン−2,4−ジオン誘導体のシス異性体(I)を効率
よく製造することができることを見い出し、本発明を完
成した。以下、本発明を詳細に説明する。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that α-
Alkoxy-α-alkyl acetic acid ester was used to form a silyl enol ether by reacting lithium amides with γ-halogeno-ether in the presence of Lewis acid.
It was found that the desired cis isomer (I) of the bicycloheptane-2,4-dione derivative can be efficiently produced by adding an α, β-unsaturated ketone and then performing a ring closure reaction with a base. The present invention has been completed. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明は、以下の(1)、(2)
および(3)の工程からなることを特徴とする、式
(I)で表されるビシクロヘプタン−2,4−ジオン誘
導体の立体選択的製造法である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention includes the following (1) and (2).
And a step (3), which is a stereoselective method for producing a bicycloheptane-2,4-dione derivative represented by the formula (I).

【0010】[0010]

【化9】 Embedded image

【0011】(式中、R1 、R2 は、それぞれ独立し
て、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、t−ブチル基などの直鎖若しくは分枝のC1-6 アル
キル基を表す。)
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a linear or branched C 1-6 alkyl group such as a methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl or t-butyl group. )

【0012】(1)式(II)(1) Formula (II)

【0013】[0013]

【化10】 Embedded image

【0014】(式中、R1 、R2 は、前記と同じ意味を
表し、R3 はメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、t−ブチル基などの直鎖若しくは分枝のC
1-6 アルキル基を表す。)で表されるα−アルコキシ−
α−アルキル酢酸エステルに、式(III)
(In the formula, R 1 and R 2 have the same meanings as described above, and R 3 is a linear or branched C such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl or t-butyl group.
Represents a 1-6 alkyl group. ) Α-alkoxy-
The α-alkyl acetic acid ester has the formula (III)

【0015】[0015]

【化11】 Embedded image

【0016】(式中、R4 、R5 は、それぞれ独立し
て、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、t−ブチル基などの直鎖または分岐のC1-6 アルキ
ル基またはトリメチルシリル基を表す。)で表されるリ
チウムアミド類を反応させ、さらにトリメチルシリルク
ロライド、t−ブチル−ジメチルシリルクロリドなどの
一般式XSiRa b c (Ra 、Rb 、Rc は、それ
ぞれ、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、t−ブチル基などの直鎖または分枝のC1-4 アルキ
ルを表し、Xは塩素原子などのハロゲン原子を表す。)
で表されるトリアルキルシリルハライドを加えて、一般
式(IV)
(Wherein R 4 and R 5 are each independently a linear or branched C 1-6 alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl group or a trimethylsilyl group. Represented by the general formula XSiR a R b R c (R a , R b , and R c are methyl, respectively), such as trimethylsilyl chloride and t-butyl-dimethylsilyl chloride. (A linear or branched C 1-4 alkyl such as ethyl, propyl, isopropyl, butyl or t-butyl group is represented, and X represents a halogen atom such as chlorine atom.)
In addition to the trialkylsilyl halide represented by the general formula (IV)

【0017】[0017]

【化12】 Embedded image

【0018】(式中、R1 、R2 、R3 、Ra 、Rb
c は前記と同じ意味を表す。)で表されるケテンシリ
ルアセタールを単離する工程、および、 (2)(1)の工程の反応物に、ルイス酸の存在下、式
(V)
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R a , R b ,
R c has the same meaning as described above. ) In the step of isolating the ketene silyl acetal, and (2) in the reaction product of the step (1) in the presence of a Lewis acid, the compound of formula (V)

【0019】[0019]

【化13】 Embedded image

【0020】(式中、Yは塩素、臭素などのハロゲン原
子を表す。)で表される1−ハロゲノ−2−ペンテン−
4−オンを反応させる工程。 (3)(2)の工程の反応物に塩基を作用させて一般式
(I)
(In the formula, Y represents a halogen atom such as chlorine and bromine.) 1-halogeno-2-pentene-
Reacting 4-one. (3) By reacting the reaction product of the step (2) with a base, the compound of the general formula (I)

【0021】[0021]

【化14】 Embedded image

【0022】で表されるビシクロヘプタン−2,4−ジ
オン誘導体のシス異性体を立体選択的に製造するもので
ある。
The cis isomer of the bicycloheptane-2,4-dione derivative represented by the formula (3) is stereoselectively produced.

【0023】上記工程(1)において、使用することの
できるα−アルコキシ−α−アルキル酢酸エステルとし
ては、α−メトキシプロピオン酸メチル、α−メトキシ
プロピオン酸エチル、α−エトキシプロピオン酸メチ
ル、α−エトキシプロピオン酸エチル、α−プロポキシ
プロピオン酸メチル、α−プロポキシプロピオン酸エチ
ル、α−イソプロポキシプロピオン酸メチル、α−イソ
プロポキシプロピオン酸エチル、α−ブトキシプロピオ
ン酸メチル、α−ブトキシプロピオン酸エチルなどを例
示することができる。通常、用いらるエステルは、エス
テルのエステル残基と工程(3)で使用されるアルコキ
シドのアルコキシ部とが一致するように選択される。
As the α-alkoxy-α-alkyl acetic acid ester which can be used in the step (1), methyl α-methoxypropionate, ethyl α-methoxypropionate, methyl α-ethoxypropionate, α- Ethyl ethoxypropionate, methyl α-propoxypropionate, ethyl α-propoxypropionate, methyl α-isopropoxypropionate, ethyl α-isopropoxypropionate, methyl α-butoxypropionate, ethyl α-butoxypropionate, etc. It can be illustrated. Usually, the ester used is selected so that the ester residue of the ester matches the alkoxy part of the alkoxide used in step (3).

【0024】上記工程(1)において、使用することの
できるリチウムアミド類としては、一般式(III)で
表される化合物を例示することができる。リチウムアミ
ド類は、一般的にはアルキルリチウムとアミン類とから
製造されるが、反応に使用する直前に調製する場合、す
でに調製しされたものを使用する場合がある。より好ま
しいリチウムアミド類として、リチウムジイソプロピル
アミド(例えば、n−ブチルリチウムとジイソプロピル
アミンから得られる。)やリチウムビス(トリメチルシ
リル)アミドなどを例示することができる。
Examples of the lithium amides that can be used in the above step (1) include compounds represented by the general formula (III). Lithium amides are generally produced from alkyllithium and amines, but when they are prepared immediately before use in the reaction, those already prepared may be used. Examples of more preferable lithium amides include lithium diisopropylamide (for example, obtained from n-butyllithium and diisopropylamine) and lithium bis (trimethylsilyl) amide.

【0025】また、この工程において、リチウムアミド
類の使用量は、通常、α−アルコキシ−α−アルキル酢
酸エステル1.0モルに対し、1.0〜2.0モルが好
ましい。
In this step, the amount of lithium amides used is usually preferably 1.0 to 2.0 mol per 1.0 mol of α-alkoxy-α-alkyl acetic acid ester.

【0026】上記工程(1)において、使用することの
できる反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類、トルエン、キシレンなど
の炭化水素類を例示することができる。反応は、−78
℃から室温の範囲で円滑に進行する。
In the above step (1), examples of the reaction solvent that can be used include ethers such as tetrahydrofuran and diethyl ether, and hydrocarbons such as toluene and xylene. The reaction is -78
It progresses smoothly in the range of ℃ to room temperature.

【0027】上記工程(2)において、使用することの
できるルイス酸としては、四塩化チタン、塩化第2鉄、
塩化第2スズ、塩化アルミニウム、塩化亜鉛等を例示す
ることができる。
In the above step (2), Lewis acids that can be used include titanium tetrachloride, ferric chloride,
Examples include stannic chloride, aluminum chloride, zinc chloride and the like.

【0028】また、この工程において、使用されるルイ
ス酸および反応させる1−ハロゲノ−2−ペンテン−4
−オン(V)の使用量は、通常、α−アルコキシ−α−
アルキル酢酸エステル1.0モルに対し、それぞれ0.
1〜3.0モル、および0.5モル〜2.0モルが好ま
しい。
Also, in this step, the Lewis acid used and 1-halogeno-2-pentene-4 to be reacted are used.
The amount of -one (V) used is usually α-alkoxy-α-
For each 1.0 mol of alkyl acetate ester, 0.
1-3.0 mol and 0.5 mol-2.0 mol are preferable.

【0029】上記工程(2)において、使用することの
できる反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類、トルエン、キシレンなど
の炭化水素類を例示することができる。反応は、−78
℃から用いる溶媒の沸点の温度範囲で行うことができ
る。
In the above step (2), examples of the reaction solvent that can be used include ethers such as tetrahydrofuran and diethyl ether, and hydrocarbons such as toluene and xylene. The reaction is -78
It can be carried out in the temperature range of 0 ° C to the boiling point of the solvent used.

【0030】上記工程(3)において、使用することの
できる塩基としては、ナトリウムメチラート、ナトリウ
ムエチラート、カリウムメチラート、カリウムエチラー
ト、カリウム t−ブチラート、マグネシウムメチラー
ト、マグネシウムエチラートなどのアルカリ金属アルコ
キシドやアルカリ土類金属アルコキシドを例示すること
ができる。
In the above step (3), as a base which can be used, an alkali such as sodium methylate, sodium ethylate, potassium methylate, potassium ethylate, potassium t-butyrate, magnesium methylate or magnesium ethylate can be used. Examples include metal alkoxides and alkaline earth metal alkoxides.

【0031】上記工程(3)において、使用することの
できる反応溶媒としては、例えば、メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなど
の炭化水素類やDMFなどのアミド類が挙げられる。
In the step (3), reaction solvents that can be used include, for example, alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran, hydrocarbons such as benzene and toluene, and DMF. The amides of

【0032】また、この工程において、使用される塩基
の使用量は、通常、工程(2)の生成物1.0モルに対
し、2.0〜4.0モルであり、反応は、−78℃から
用いる溶媒の沸点の温度範囲で行うことができる。
In this step, the amount of the base used is usually 2.0 to 4.0 mol, based on 1.0 mol of the product of the step (2), and the reaction is -78. It can be carried out in the temperature range of 0 ° C to the boiling point of the solvent used.

【0033】上記各工程とも反応終了後は通常の合成化
学的手法による後処理操作により、分離・精製を行い目
的物を得ることができる。また、反応生成物の同定は、
NMR、MASSおよびIRスペクトルの測定により行
った。なお、本明細書において示されるビシクロヘプタ
ンジオン誘導体の化学構造式は、シクロプロピル環と5
位置換基との相対的配置を便宜上表したものであり、絶
対配置を表すものではない。また、原料化合物、製造中
間体および本発明化合物には、光学活性化合物、立体異
性体および互変異性体も存在し得る。かかる化合物はす
べて本発明の範囲に含まれる。
After the completion of the reaction in each of the above steps, the target product can be obtained by separating and purifying by a post-treatment operation by a usual synthetic chemical method. In addition, the identification of the reaction product
The measurement was carried out by NMR, MASS and IR spectra. The chemical structural formula of the bicycloheptanedione derivative shown in this specification is 5
The relative configuration with respect to the position substituent is shown for convenience, not the absolute configuration. Further, the raw material compound, the production intermediate and the compound of the present invention may have an optically active compound, a stereoisomer and a tautomer. All such compounds are included within the scope of this invention.

【0034】[0034]

【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。 (実施例1)メトキシケテンメチルトリメチルシリルア
セタールの製造
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. (Example 1) Production of methoxyketene methyltrimethylsilyl acetal

【0035】[0035]

【化15】 Embedded image

【0036】無水ジエチルエーテル300mlにジイソ
プロピルアミン42ml(0.54mol)を加え、−
70℃に冷却し、n−ブチルリチウム1.6Mヘキサン
溶液を325ml(0.52mol)を加え、30分間
攪拌し、リチウムジイソプロピルアミドを調製した。得
られたリチウムジイソプロピルアミド溶液(LDA)中
に、2−メトキシプロピオン酸メチル59g(0.5m
ol)をゆっくりと滴下し、30分間攪拌した。さら
に、トリメチルシリルクロリド(TMSCl)82.5
ml(0.89mol)をゆっくり滴下し、滴下終了後
さらに0℃で1時間攪拌した。反応液に水、ついで飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を終了させたの
ち、ジエチルエーテルで抽出した。硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧留去して、90gの目的物たる油状
物質を得た(収率95%)。
To 300 ml of anhydrous diethyl ether was added 42 ml (0.54 mol) of diisopropylamine,
After cooling to 70 ° C., 325 ml (0.52 mol) of n-butyllithium 1.6M hexane solution was added and stirred for 30 minutes to prepare lithium diisopropylamide. In the obtained lithium diisopropylamide solution (LDA), 59 g of methyl 2-methoxypropionate (0.5 m
ol) was slowly added dropwise and stirred for 30 minutes. Furthermore, trimethylsilyl chloride (TMSCl) 82.5
ml (0.89 mol) was slowly added dropwise, and after completion of the addition, the mixture was further stirred at 0 ° C. for 1 hour. Water and then saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution were added to the reaction solution to terminate the reaction, and the mixture was extracted with diethyl ether. The organic layer was dried over magnesium sulfate and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 90 g of an oily substance as a target substance (yield 95%).

【0037】1 H−NMRデータ(CDCl3 ,δpp
m):3.48(s,3H,OCH3)、3.43
(s,3H,OCH3 )、1.76(s,3H,C
3 )、0.23(s,9H,Si(CH3 3
1 H-NMR data (CDCl 3 , δpp
m): 3.48 (s, 3H, OCH 3 ), 3.43
(S, 3H, OCH 3 ), 1.76 (s, 3H, C
H 3), 0.23 (s, 9H, Si (CH 3) 3)

【0038】(2)5─エトキシ−5−メチルビシクロ
[4,1,0] ヘプタン−2,4−ジオン(cis )の製造
(2) 5-ethoxy-5-methylbicyclo
Production of [4,1,0] heptane-2,4-dione (cis)

【0039】[0039]

【化16】 Embedded image

【0040】塩化メチレン500mlに無水塩化アルミ
ニウム66.2g(0.5mol)を加え、1−クロロ
−2−ペンテン−4−オン53,5g(0.45mo
l)を加え、10分間加熱還流した。そこへ、(1)で
得たメトキシケテンメチルトリメチルシリルアセタール
90g(0.47mol)を滴下し、さらに1時間還流
したのち、反応液に氷水を加え、塩化メチレンで抽出し
た。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧
留去した。得られた粗付加生成物にナトリウムメトキシ
ド28%メタノール溶液95g(0.49mol)及び
メタノール300mlを加え、室温で3時間攪拌した。
反応液に水及び希塩酸を加えて酸性とし、塩化メチレン
で抽出した。水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して粗環化粗生成物
を得た。得られた粗環化生成物にナトリウムメトキシド
28%メタノール溶液173.5g(0.9mol)を
加え、24時間還流した。反応液に水及び希塩酸を加え
てpHを11に調整し、塩化メチレンで抽出した。水層
に希薄塩酸を加え、pHを3に調整し、塩化メチレンで
抽出した。得られた有機層を合わせて水及び飽和食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去
して28g(収率38%)の白色粉末を得た。融点10
8−109℃ (1 H−NMR:δppm )3.45(s,3H,O
CH3 )、3.19(m,2H,CH2 )、2.22
(m,1H)、1.47(s,3H,CH3 )、1.2
3(m,1H)
To 500 ml of methylene chloride, 66.2 g (0.5 mol) of anhydrous aluminum chloride was added, and 53.5 g (0.45 mo) of 1-chloro-2-penten-4-one was added.
1) was added and the mixture was heated under reflux for 10 minutes. 90 g (0.47 mol) of methoxyketenemethyltrimethylsilyl acetal obtained in (1) was added dropwise thereto, and the mixture was refluxed for 1 hour, ice water was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with methylene chloride. The extract was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. To the obtained crude addition product, 95 g (0.49 mol) of sodium methoxide 28% methanol solution and 300 ml of methanol were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours.
Water and diluted hydrochloric acid were added to the reaction solution to make it acidic, and the mixture was extracted with methylene chloride. The extract was washed with water and saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude cyclized crude product. 173.5 g (0.9 mol) of a 28% methanol solution of sodium methoxide was added to the obtained crude cyclized product, and the mixture was refluxed for 24 hours. Water and diluted hydrochloric acid were added to the reaction solution to adjust the pH to 11, and the mixture was extracted with methylene chloride. Dilute hydrochloric acid was added to the aqueous layer to adjust the pH to 3, and the mixture was extracted with methylene chloride. The obtained organic layers were combined, washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 28 g (yield 38%) of a white powder. Melting point 10
8-109 ° C ( 1 H-NMR: δppm) 3.45 (s, 3H, O
CH 3), 3.19 (m, 2H, CH 2), 2.22
(M, 1H), 1.47 ( s, 3H, CH 3), 1.2
3 (m, 1H)

【0040】(参考例1)5−メトキシ−3−(4−メ
チルスホニル−2−ニトロベンゾイル)−5−メチルビ
シクロ〔4.1.0〕ヘプタン−2,4−ジオン(cis
)の製造
Reference Example 1 5-Methoxy-3- (4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoyl) -5-methylbicyclo [4.1.0] heptane-2,4-dione (cis
)Manufacturing of

【0041】[0041]

【化17】 Embedded image

【0042】5−メトキシ−5−メチルビシクロ[4.1.
0] ヘプタン−2,4−ジオン(cis)2.1g(1
2.5mmol)を20mlの塩化メチレンに溶解さ
せ、1.4g(13.9mmol)のトリエチルアミン
を加え、室温で10分間攪拌した。3−メトキシ−2−
メチル−4−メチルスルホニルベンゾイルクロリド
3.28g(12.5mmol)を加え、更に2時間攪
拌した。反応液に水及び希塩酸を加え塩化メチレンで抽
出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧留去し、O−ベンゾイル体の粗生成物を得た。この
ものはシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ベンゼ
ン:酢酸エチル=4:1の混合溶媒で溶出)で精製し、
粘稠な液体2.34gを得た(収率48%)。得られた
O−ベンゾイル体2.34g(5.94mmol)をア
セトニトリル20mlに溶解させ、トリエチルアミン
0.7g(6.9mmol)とアセントンシアンヒドリ
ン0.1g(1.2mmol)を加えて室温で5時間攪
拌した。反応液に水及び希塩酸を加え、酸性にし、塩化
メチレンで抽出した。シリカゲルクロマトグラフィー
(クロロホルム:メタノール=50:1の混合溶媒で溶
出)で精製し、標記化合物を白色結晶として1.02g
(収率44%)得た。融点165−168℃ このものは優れた除草活性を有し、除草剤として有用で
ある。
5-methoxy-5-methylbicyclo [4.1.
0] 2.1 g of heptane-2,4-dione (cis) (1
2.5 mmol) was dissolved in 20 ml of methylene chloride, 1.4 g (13.9 mmol) of triethylamine was added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes. 3-methoxy-2-
Methyl-4-methylsulfonylbenzoyl chloride
3.28 g (12.5 mmol) was added, and the mixture was further stirred for 2 hours. Water and diluted hydrochloric acid were added to the reaction solution and extracted with methylene chloride, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product of O-benzoyl compound. This product was purified by silica gel column chromatography (eluting with a mixed solvent of benzene: ethyl acetate = 4: 1),
2.34 g of a viscous liquid was obtained (48% yield). 2.34 g (5.94 mmol) of the obtained O-benzoyl compound was dissolved in 20 ml of acetonitrile, 0.7 g (6.9 mmol) of triethylamine and 0.1 g (1.2 mmol) of acetone cyanohydrin were added, and the mixture was stirred at room temperature. Stir for 5 hours. Water and diluted hydrochloric acid were added to the reaction solution to make it acidic, and the mixture was extracted with methylene chloride. Purification by silica gel chromatography (eluting with a mixed solvent of chloroform: methanol = 50: 1) gave the title compound as white crystals (1.02 g).
(Yield 44%) was obtained. Melting point 165-168 ° C This compound has excellent herbicidal activity and is useful as a herbicide.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、除草剤
として有用な3−置換ベンゾイル−ビシクロヘプタン−
2,4−ジオン誘導体の中間原料であるビシクロヘプタ
ン−2,4−ジオン誘導体のシス異性体のみを立体選択
的に製造する方法である。本発明の方法は、工業的に安
価な原料のみを使用するものであって極めて経済性に優
れている。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the present invention provides 3-substituted benzoyl-bicycloheptane-useful herbicides.
This is a method for stereoselectively producing only the cis isomer of the bicycloheptane-2,4-dione derivative, which is an intermediate raw material of the 2,4-dione derivative. The method of the present invention uses only industrially inexpensive raw materials and is extremely economical.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】以下の(1)、(2)および(3)の工程
からなることを特徴とする式(I)で表されるビシクロ
ヘプタン−2,4−ジオン誘導体のシス異性体の製造
法。 【化1】 (式中、R1 、R2 は、それぞれ独立して、直鎖または
分枝のC1-6 アルキル基を表す。) (1)式(II) 【化2】 (式中、R1 、R2 は、前記と同じ意味を表し、R3
直鎖または分枝のC1-6アルキル基を表す。)で表され
るα−アルコキシ−α−アルキル酢酸エステルに、式
(III) 【化3】 (式中、R4 、R5 は、それぞれ独立して、直鎖または
分岐のC1-6 アルキル基またはトリメチルシリル基を表
す。)で表されるリチウムアミド類を反応させ、一般式
XSiRa b c (Ra 、Rb 、Rc はそれぞれ直鎖
または分枝のC1-4 アルキルを表し、Xはハロゲン原子
を表す。)で表されるトリアルキルシリルハライドを加
えて、一般式(IV) 【化4】 (式中、R1 、R2 、R3 、Ra 、Rb およびRc は前
記と同じ意味を表す。)で表されるケテンシリルアセタ
ールを単離する工程。 (2)(1)の工程の反応物に、ルイス酸の存在下、式
(V) 【化5】 (式中、Yはハロゲン原子を表す。)で表される1−ハ
ロゲノ−2−ペンテン−4−オンを反応させる工程。 (3)(2)の工程の反応物に塩基を作用させて、一般
式(I) 【化6】で表されるビシクロヘプタン−2,4−ジオン
誘導体のシス異性体を得る工程。
1. A process for producing a cis isomer of a bicycloheptane-2,4-dione derivative represented by the formula (I), which comprises the following steps (1), (2) and (3): Law. Embedded image (In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a linear or branched C 1-6 alkyl group.) (1) Formula (II) (In the formula, R 1 and R 2 represent the same meaning as described above, and R 3 represents a linear or branched C 1-6 alkyl group.) Α-alkoxy-α-alkyl acetic acid ester And has the formula (III) (In the formula, R 4 and R 5 each independently represent a linear or branched C 1-6 alkyl group or a trimethylsilyl group.) And reacted with a lithium amide represented by the general formula XSiR a R A trialkylsilyl halide represented by b R c (R a , R b , and R c each represent a linear or branched C 1-4 alkyl, and X represents a halogen atom), and a compound represented by the general formula (IV) (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R a , R b and R c have the same meanings as described above.) A step of isolating the ketene silyl acetal. (2) In the reaction product of the step (1), in the presence of a Lewis acid, the compound of the formula (V): (In the formula, Y represents a halogen atom.) A step of reacting 1-halogeno-2-penten-4-one. (3) A step of reacting the reaction product of the step (2) with a base to obtain a cis isomer of the bicycloheptane-2,4-dione derivative represented by the general formula (I):
【請求項2】工程(1)において使用されるリチウムア
ミド類が、リチウムジイソプロピルアミドまたはリチウ
ムビス(トリメチルシリル)アミドであることことを特
徴とする請求項1に記載のビシクロヘプタン−2,4−
ジオン誘導体のシス異性体の製造法。
2. The bicycloheptane-2,4- according to claim 1, wherein the lithium amide used in the step (1) is lithium diisopropylamide or lithium bis (trimethylsilyl) amide.
Process for producing cis isomer of dione derivative.
【請求項3】工程(2)において使用されるルイス酸
が、四塩化チタン、塩化第2鉄、塩化第2スズ、塩化ア
ルミニウムおよび塩化亜鉛からなる群から選ばれる一種
であることを特徴とする、請求項1に記載のビシクロヘ
プタン−2,4−ジオン誘導体のシス異性体の製造法。
3. The Lewis acid used in step (2) is one selected from the group consisting of titanium tetrachloride, ferric chloride, stannic chloride, aluminum chloride and zinc chloride. The method for producing the cis isomer of the bicycloheptane-2,4-dione derivative according to claim 1.
【請求項4】工程(3)において使用される塩基が、ア
ルカリ金属アルコキシドまたはアルカリ土類金属アルコ
キシドであることを特徴とする請求項1に記載のビシク
ロヘプタン−2,4−ジオン誘導体のシス異性体の製造
法。
4. The cis isomerization of the bicycloheptane-2,4-dione derivative according to claim 1, wherein the base used in the step (3) is an alkali metal alkoxide or an alkaline earth metal alkoxide. Body manufacturing method.
JP5091296A 1996-02-14 1996-02-14 Stereoselective production of cis-substituted bicycloheptanedione derivative Pending JPH09221444A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5091296A JPH09221444A (en) 1996-02-14 1996-02-14 Stereoselective production of cis-substituted bicycloheptanedione derivative

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5091296A JPH09221444A (en) 1996-02-14 1996-02-14 Stereoselective production of cis-substituted bicycloheptanedione derivative

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09221444A true JPH09221444A (en) 1997-08-26

Family

ID=12872002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5091296A Pending JPH09221444A (en) 1996-02-14 1996-02-14 Stereoselective production of cis-substituted bicycloheptanedione derivative

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09221444A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6960679B2 (en) 2003-04-25 2005-11-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Preparation of silyl ketene acetal and disilyl ketene acetal

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6960679B2 (en) 2003-04-25 2005-11-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Preparation of silyl ketene acetal and disilyl ketene acetal
US7112710B2 (en) 2003-04-25 2006-09-26 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Preparation of silyl ketene acetal and disilyl ketene acetal

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6552204B1 (en) Synthesis of 3,6-dialkyl-5,6-dihydro-4-hydroxy-pyran-2-one
US5003087A (en) Process for preparing a naphthalene derivative and a synthetic intermediate thereof
JP5150501B2 (en) Method for synthesizing HMG-CoA reductase inhibitor
JPH06329624A (en) Production of azetidinone derivative
JP4881298B2 (en) Method for producing indenol ester or ether
Ito et al. Highly stereoselective reformatsky reactions of 3-(2-Bromopropionyl)-2-oxazolidone derivatives with various aldehydes
JPH09221444A (en) Stereoselective production of cis-substituted bicycloheptanedione derivative
EP0095835B1 (en) Preparing 4,7-dialkoxybenzofurans, and intermediates used therein
US5434289A (en) Process for producing optically active β-hydroxyketone
JP2958834B2 (en) Azetidin-2-one derivatives
KR100979496B1 (en) Novel process for preparing 5-hydroxy-3-oxo-hexanoic acid derivative
HU209916B (en) Process for preparation of 2-aryl-5-/trifluoro-methyl/-pyrrole derivatives having insecticidal, acaricidal, nematocidal activity
JPH09221445A (en) Stereoselective production of trans-substituted bicycloheptanedione derivative
US4582924A (en) α-Fluoroalkyl carboxylic acid esters and process for preparing the same
US5977414A (en) 2,3-Dihalogeno-6-trifluoromethylbenzene derivatives and processes for the preparation thereof
JP2000080082A (en) Production of 5-halogeno-2-substituted pyridine
JP2936741B2 (en) Hydroxyiminoheptanoic acid esters and method for producing the same
JPH054943A (en) Optically active beta,delta-diketo-acid ester and reduced material thereof
JP2860506B2 (en) Halogenoallyl alcohol derivatives
JPH0245614B2 (en)
JPH04225990A (en) Preparation of 1-alkoxyhexatriene-2- carboxylic acid ester
JP2958835B2 (en) Method for producing 4- (1-carboxyalkyl) azetidin-2-one derivative
JPH10101614A (en) Production of alpha alpha-difluoro-beta-hydroxy ester
JPH0348909B2 (en)
CA1273352A (en) Intermediates useful in the preparation of hmg-coa reductase inhibitors