JPH09219095A - Nonvolatile semiconductor memory - Google Patents

Nonvolatile semiconductor memory

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JPH09219095A
JPH09219095A JP2531796A JP2531796A JPH09219095A JP H09219095 A JPH09219095 A JP H09219095A JP 2531796 A JP2531796 A JP 2531796A JP 2531796 A JP2531796 A JP 2531796A JP H09219095 A JPH09219095 A JP H09219095A
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precharge
memory cell
transistor
cell array
read
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和彦 三木
Osamu Matsumoto
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an EPROM dispensing with equipment of overlapped parts as preventive measures of malfunctions of sense amplifiers due to charge shares. SOLUTION: In an EPROM of precharge and discharge system, in a precharge circuit 16 precharging data lines DLs and bit lines BLs before reading out data from memory arrays 10a, 10b, the precharge driving force with respect to the memory cell array of a reference side is set larger than the precharge driving force with respect to the memory cell array of a read side and a timing is set so that dischargings are started almost as soon as precharging are completed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、不揮発性メモリ集
積回路あるいは論理型集積回路などに搭載される不揮発
性半導体メモリに係り、特にプリチャージ・ディスチャ
ージ方式の不揮発性半導体メモリに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a non-volatile semiconductor memory mounted in a non-volatile memory integrated circuit or a logic integrated circuit, and more particularly to a precharge / discharge type non-volatile semiconductor memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】EPROM(紫外線消去・再書き込み可
能なROM)、EEPROM(電気的消去・再書き込み
可能なROM)、マスクROMなどの不揮発性半導体メ
モリにおいて、データ読み出し前にリード側のビット線
・リファレンス側のビット線をプリチャージし、データ
読み出し時にリード側のビット線・リファレンス側のビ
ット線をディスチャージさせることにより両者間に電位
差を発生させ、この電位差をセンスアンプによりセンス
増幅するプリチャージ・ディスチャージ方式が採用され
ることが多い。
2. Description of the Related Art In non-volatile semiconductor memories such as EPROM (ultraviolet erasable / rewritable ROM), EEPROM (electrically erasable / rewritable ROM), mask ROM, etc. Precharge / discharge by precharging the reference side bit line and discharging the read side bit line / reference side bit line during data read to generate a potential difference between them and sense amplification of this potential difference by a sense amplifier. The method is often adopted.

【0003】図3は、従来のプリチャージ・ディスチャ
ージ方式のEPROMにおける一部を示す回路図であ
る。図3において、10aは第1のメモリセルアレイ、
10bは第2のメモリセルアレイである。上記各メモリ
セルアレイは、それぞれメモリセル用の複数個のトラン
ジスタがマトリクス状に配列されている。上記セルトラ
ンジスタは、浮遊ゲートおよび制御ゲートの二層ゲート
構造を有するNMOSトランジスタからなり、上記メモ
リセルアレイのうちの一行分のメモリセルはリファレン
ス電位生成用のリファレンスセル11rであり、残りの
複数行のメモリセルはデータ記憶用のリードセル11で
ある。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a part of a conventional precharge / discharge type EPROM. In FIG. 3, 10a is the first memory cell array,
10b is a second memory cell array. In each of the memory cell arrays, a plurality of transistors for memory cells are arranged in a matrix. The cell transistor is composed of an NMOS transistor having a double-layer gate structure of a floating gate and a control gate. One row of memory cells in the memory cell array is a reference cell 11r for generating a reference potential, and the remaining plurality of rows have a plurality of rows. The memory cell is the read cell 11 for storing data.

【0004】WLはワード線であり、メモリセルアレイ
の同一ロウのリードセル用の複数のセルトランジスタ1
1の各制御ゲートに共通に接続されており、ロウデコー
ダ(図示せず)からのワード線信号により選択駆動され
る。
WL is a word line, and a plurality of cell transistors 1 for read cells in the same row of the memory cell array.
1 is commonly connected to each control gate and is selectively driven by a word line signal from a row decoder (not shown).

【0005】RWLはリファレンスワード線であり、メ
モリセルアレイの同一ロウのリファレンスセル用の複数
のセルトランジスタ11rの各制御ゲートに共通に接続
されており、ロウデコーダ(図示せず)からのリファレ
ンスワード線信号により選択駆動される。
RWL is a reference word line, which is commonly connected to the respective control gates of a plurality of cell transistors 11r for reference cells in the same row of the memory cell array, and a reference word line from a row decoder (not shown). It is selectively driven by a signal.

【0006】BLはビット線であり、メモリセルアレイ
の同一カラムの複数のリードセル用トランジスタおよび
1個のリファレンスセル用トランジスタ11rの各ドレ
インに共通に接続されている。
BL is a bit line, which is commonly connected to the drains of a plurality of read cell transistors and one reference cell transistor 11r in the same column of the memory cell array.

【0007】SLはメモリセルアレイのソース線であ
り、上記同一カラムの複数のセルトランジスタ11の各
ソースに共通に接続され、複数カラム(本例では4カラ
ム)のソース線が一括接続されており、この一括接続さ
れたソース線SLと接地電位(VSS)ノードとの間には
ディスチャージ用NMOSトランジスタ12が接続され
ており、そのゲートにはディスチャージ信号DISが与
えられる。
SL is a source line of the memory cell array, which is commonly connected to the sources of the plurality of cell transistors 11 in the same column, and the source lines of a plurality of columns (four columns in this example) are collectively connected. A discharge NMOS transistor 12 is connected between the collectively connected source line SL and a ground potential (VSS) node, and a discharge signal DIS is applied to its gate.

【0008】13は前記各ビット線BLに対応して一端
が接続されたカラム選択用のNMOSトランジスタであ
り、カラムデコーダ(図示せず)からのカラム選択信号
により選択駆動される。そして、複数カラム(本例では
4カラム)における各カラム選択用トランジスタ13の
他端が一括接続されている。
Reference numeral 13 denotes an NMOS transistor for column selection, one end of which is connected to each bit line BL, and is selectively driven by a column selection signal from a column decoder (not shown). Then, the other ends of the respective column selection transistors 13 in a plurality of columns (four columns in this example) are collectively connected.

【0009】14は、上記複数のカラム選択用トランジ
スタ13の一括接続端に一端が接続されたビット線電位
クランプ用のNMOSトランジスタ14である。上記ビ
ット線電位クランプ用のNMOSトランジスタ14は、
読み出し時のビット線電位をクランプするためのもので
あり、閾値電圧が0V付近のI型トランジスタが用いら
れており、そのゲートには約1Vのバイアス電位Vbias
が与えられる。
Reference numeral 14 is an NMOS transistor 14 for clamping the bit line potential, one end of which is connected to the collective connection terminal of the plurality of column selecting transistors 13. The NMOS transistor 14 for clamping the bit line potential is
It is for clamping the bit line potential at the time of reading, and an I-type transistor whose threshold voltage is around 0V is used, and its gate has a bias potential Vbias of about 1V.
Is given.

【0010】15は上記2個のメモリセルアレイ10
a、10bに共通に設けられ、データ読み出し時に前記
一対のデータ線DL間に発生する電位差をセンス増幅す
るラッチ型のセンスアンプである。
Reference numeral 15 is the two memory cell arrays 10 described above.
It is a latch type sense amplifier which is provided commonly to a and 10b and senses and amplifies a potential difference generated between the pair of data lines DL during data reading.

【0011】前記センスアンプ15は、2個の二入力ノ
アゲート151の各一方の入力端が各他方の出力端に交
差接続されたフリップフロップ回路からなり、一対の入
力ノードに対応して2個のメモリセルアレイ10a、1
0bにおけるビット線電位クランプ用トランジスタ14
の他端側のデータ線DLが接続されている。
The sense amplifier 15 is composed of a flip-flop circuit in which one input end of each of the two two-input NOR gates 151 is cross-connected to the other output end of each of the two input NOR gates 151. Memory cell array 10a, 1
0b bit line potential clamp transistor 14
The data line DL on the other end side of is connected.

【0012】31は前記一対のデータ線DLと通常の電
源電位VCCが与えられるVCCノードとの間(つまり、V
CCノードとセンスアンプ15の一対の入力ノードとの
間)にそれぞれ接続されたプリチャージ用PMOSトラ
ンジスタ311からなるプリチャージ回路であり、上記
プリチャージ用PMOSトランジスタ311のゲートに
はプリチャージ信号/PRが与えられる。
Reference numeral 31 is between the pair of data lines DL and a VCC node to which a normal power supply potential VCC is applied (that is, V
The precharge circuit is composed of a precharge PMOS transistor 311 connected between the CC node and a pair of input nodes of the sense amplifier 15), and the gate of the precharge PMOS transistor 311 has a precharge signal / PR. Is given.

【0013】なお、前記リードセル11は、書き込み状
態ではゲート閾値が高く、非書き込み状態ではゲート閾
値が低く設定されており、リファレンスセル11rはゲ
ート閾値が低く設定されており、かつ、リファレンスセ
ルのgmはリードセルのgmよりも小さく設定されてい
る。
The read cell 11 has a high gate threshold in a written state and a low gate threshold in a non-written state, and the reference cell 11r has a low gate threshold and gm of the reference cell. Is smaller than gm of the read cell.

【0014】図4は、図3のEPROMにおけるデータ
読み出し動作の一例を示すタイミング波形図である。図
3のEPROMのデータ読み出し動作は、よく知られて
いるように、選択すべきメモリセルのアドレスが確定
し、選択すべき一方のメモリセルアレイ(例えば10
a)のリードセルおよび他方のメモリセルアレイ(例え
ば10b)のリファレンスセルが選択された後、データ
読み出し前にプリチャージ信号/PRが“L”レベルに
なる。これにより、プリチャージ用トランジスタ311
がオン状態になり、データ線DLおよびビット線BLが
“H”レベル(電源電位VCC)にプリチャージされる。
FIG. 4 is a timing waveform chart showing an example of a data read operation in the EPROM of FIG. As is well known, in the data read operation of the EPROM of FIG. 3, the address of the memory cell to be selected is determined, and one memory cell array (for example, 10 memory cells) to be selected is selected.
After the read cell of a) and the reference cell of the other memory cell array (for example, 10b) are selected, the precharge signal / PR becomes "L" level before data reading. As a result, the precharge transistor 311
Is turned on, and the data line DL and the bit line BL are precharged to the "H" level (power supply potential Vcc).

【0015】この際、選択されたリードセルトランジス
タ11がオン状態であると、このトランジスタ11を介
してそれに接続されている共通ソース線SLもプリチャ
ージされ、選択されたリファレンスセルトランジスタ1
1r(オン状態)を介してそれに接続されている共通ソ
ース線SLがプリチャージされる。
At this time, if the selected read cell transistor 11 is in the ON state, the common source line SL connected thereto via this transistor 11 is also precharged, and the selected reference cell transistor 1
The common source line SL connected to it via 1r (on state) is precharged.

【0016】次に、プリチャージ信号/PRが“H”レ
ベルになり、プリチャージが終了すると、データ読み出
し動作が開始する。この時、ディスチャージ信号DIS
は“H”レベルになっており、共通ソース線SL、オン
状態のリードセルトランジスタ11に接続されているビ
ット線BLおよびこれに対応するデータ線DL、リファ
レンスセルトランジスタ11rに接続されているビット
線BLおよびこれに対応するデータ線DLがそれぞれデ
ィスチャージされる。
Next, when the precharge signal / PR becomes "H" level and the precharge is completed, the data read operation is started. At this time, the discharge signal DIS
Is at the "H" level, the common source line SL, the bit line BL connected to the read cell transistor 11 in the ON state and the corresponding data line DL, and the bit line connected to the reference cell transistor 11r. BL and the corresponding data line DL are discharged.

【0017】そして、所定時間が経過し、リード側のデ
ータ線DLとリファレンス側のデータ線DLとの間に選
択リードセル11の記憶データに応じた極性の所定値Δ
V以上の電位差が生じると、記憶データに応じてセンス
アンプ15の出力ノードの電位が“L”レベルあるいは
“H”レベルになり、図示しないが出力バッファを経て
読み出しデータOUTとして出力する。
Then, after a lapse of a predetermined time, a predetermined polarity value Δ between the read side data line DL and the reference side data line DL according to the stored data of the selected read cell 11.
When a potential difference of V or more occurs, the potential of the output node of the sense amplifier 15 becomes "L" level or "H" level according to the stored data, and the read data OUT is output through an output buffer (not shown).

【0018】前記したようなデータ読み出し動作に際し
て、リファレンス側では、各カラムのリファレンスセル
11rが選択された場合に各カラムのリファレンスセル
11rが全てオン状態になり、選択されたカラムのリフ
ァレンスセル11r(オン状態)に流れる電流が共通ソ
ース線SLを介して非選択カラムのリファレンスセル1
1r(オン状態)に回り込んで流れるので、リファレン
ス側のデータ線DLの負荷容量は比較的大きい。
In the data read operation as described above, on the reference side, when the reference cells 11r of each column are selected, all the reference cells 11r of each column are turned on, and the reference cells 11r of the selected column ( The current flowing in the ON state) is the reference cell 1 of the non-selected column via the common source line SL.
The load capacitance of the data line DL on the reference side is relatively large because it flows around 1r (on state).

【0019】これに対して、リード側では、各カラムの
リードセル11が選択された場合にゲート閾値が低く設
定されている任意数のリードセル11のみオン状態にな
る。この場合、選択されたカラムのリードセル11がオ
ン状態であれば、これに流れる電流が共通ソース線SL
を介して非選択カラムのリードセル11のうちでオン状
態のリードセルに回り込んで流れるようになり、選択さ
れたカラムのリードセル11がオフ状態であれば回り込
み電流は生じない。
On the other hand, on the read side, when the read cells 11 of each column are selected, only an arbitrary number of read cells 11 having a low gate threshold value are turned on. In this case, if the read cell 11 of the selected column is in the ON state, the current flowing therethrough is the common source line SL.
Of the read cells 11 in the non-selected column to flow around the read cells in the ON state. If the read cells 11 in the selected column are in the OFF state, no sneak current is generated.

【0020】従って、共通ソース線SLに接続されてい
るリードセル11群の記憶データの状態によっては、2
個のメモリセルアレイ10a、10bがプリチャージさ
れる時におけるリファレンス側のデータ線DLの寄生負
荷容量とリード側のデータ線DLの寄生負荷容量とが等
しい場合だけでなく、リファレンス側のデータ線DLの
寄生負荷容量の方がリード側のデータ線DLの寄生負荷
容量よりも大きくなる場合がある。
Therefore, depending on the state of the storage data of the read cell 11 group connected to the common source line SL, 2
Not only when the parasitic load capacitance of the reference side data line DL and the parasitic load capacitance of the read side data line DL when the memory cell arrays 10a and 10b are precharged are equal, The parasitic load capacitance may be larger than the parasitic load capacitance of the data line DL on the read side.

【0021】前者のようにリファレンス側のデータ線D
Lの寄生負荷容量とリード側のデータ線DLの寄生負荷
容量とが等しい場合には、プリチャージ終了後において
リファレンス側の共通ソース線SLの電位とリード側の
共通ソース線SLの電位とが等しい。ここで、予めリフ
ァレンスセルのgmはリードセル11のgmよりも小さ
く設定されているので、データ読み出し動作(ディスチ
ャージ)を開始すると、リード側の共通ソース線SLお
よびデータ線DLがディスチャージされる場合には、リ
ード側のデータ線DLの電位がリファレンス側のデータ
線DLの電位よりも速く低下するので、センスアンプ1
5はリードセル11の記憶データを正しく検知して増幅
することが可能である。
The data line D on the reference side as in the former case
When the parasitic load capacitance of L and the parasitic load capacitance of the data line DL on the read side are equal, the potential of the common source line SL on the reference side and the potential of the common source line SL on the read side are equal after the completion of precharge. . Here, since the gm of the reference cell is set to be smaller than the gm of the read cell 11 in advance, if the common source line SL and the data line DL on the read side are discharged when the data read operation (discharge) is started. , The potential of the data line DL on the read side drops faster than the potential of the data line DL on the reference side.
5 can correctly detect and amplify the stored data in the read cell 11.

【0022】これに対して、後者のようにリファレンス
側のデータ線DLの寄生負荷容量の方がリード側のデー
タ線DLの寄生負荷容量よりも大きい場合には、プリチ
ャージ終了後においてリファレンス側の共通ソース線S
Lの電位の方がリード側の共通ソース線SLの電位より
も低くなる(不平衡状態になる)。
On the other hand, if the parasitic load capacitance of the data line DL on the reference side is larger than the parasitic load capacitance of the data line DL on the read side as in the latter case, on the reference side after the end of precharge. Common source line S
The potential of L becomes lower than that of the common source line SL on the lead side (becomes an unbalanced state).

【0023】このような不平衡状態のままでデータ読み
出し動作(ディスチャージ)を開始すると、リード側の
共通ソース線SLおよびデータ線DLがディスチャージ
される場合には、リード側のデータ線DLの電位よりも
リファレンス側の共通ソース線SLおよびデータ線DL
の電位の方が速く低下するような場合があり、センスア
ンプ15はリードセル11の非書き込み状態の記憶デー
タを書き込み状態の記憶データとして誤って検知して増
幅するような誤動作のおそれがある。
When the data read operation (discharge) is started in such an unbalanced state, when the common source line SL and the data line DL on the read side are discharged, the potential of the data line DL on the read side is exceeded. Also the common source line SL and the data line DL on the reference side
There is a possibility that the potential of 2 decreases faster, and there is a risk of malfunction in which the sense amplifier 15 erroneously detects and amplifies the stored data in the non-written state of the read cell 11 as the stored data in the written state.

【0024】そこで、プリチャージ後におけるリファレ
ンス側の共通ソース線SLの電位とリード側の共通ソー
ス線SLの電位との不平衡をプリチャージ期間内に解消
しておくために、プリチャージ終了前からディスチャー
ジを開始するようにしている。つまり、プリチャージ期
間とディスチャージ期間の一部をオーバーラップさせて
いる。
Therefore, in order to eliminate the imbalance between the potential of the common source line SL on the reference side after the precharge and the potential of the common source line SL on the read side within the precharge period, before the end of the precharge. I am trying to start the discharge. That is, part of the precharge period and the discharge period are overlapped.

【0025】しかし、上記したようにチャージシェアに
よる誤動作の防止対策としてプリチャージ期間とディス
チャージ期間とにオーバーラップ部を設けることは、実
質的にディスチャージ期間が短くなり、読み出し動作の
高速化あるいは動作電源の低電圧化に対する妨げとなっ
ている。
However, as described above, the provision of the overlap portion between the precharge period and the discharge period as a measure for preventing malfunction due to charge sharing substantially shortens the discharge period, speeding up the read operation or operating power supply. This is an obstacle to lowering the voltage of.

【0026】なお、オーバーラップ部を設けることなく
チャージシェアによる誤動作の防止を図る対策として、
プリチャージ期間中もディスチャージを行う方式が提案
されているが、この方式は消費電流の増加を招き、バッ
テリー駆動などの低消費電力を要求される半導体メモリ
への適用には不向きである。
As a measure for preventing malfunction due to charge sharing without providing an overlapping part,
A method of discharging even during the precharge period has been proposed, but this method causes an increase in current consumption and is not suitable for application to a semiconductor memory such as a battery drive which requires low power consumption.

【0027】[0027]

【発明が解決しようとする課題】上記したようにデータ
読み出し前にリード側のビット線・リファレンス側のビ
ット線がプリチャージされ、データ読み出し時にリード
側のデータ線とリファレンス側のデータ線との間の電位
差がセンスアンプによりセンス増幅されるプリチャージ
・ディスチャージ方式のEPROMにおいて、チャージ
シェアによる誤動作の防止対策としてプリチャージ期間
とディスチャージ期間とにオーバーラップ部を設ける従
来の方式は、高速読み出し動作に対する妨げになるとい
う問題があった。
As described above, the bit line on the read side and the bit line on the reference side are precharged before the data is read, and the data is read between the read side data line and the reference side data line during data reading. In a precharge / discharge type EPROM in which the potential difference between the two is sense-amplified by a sense amplifier, the conventional method in which an overlap portion is provided between the precharge period and the discharge period as a measure for preventing malfunction due to charge sharing is an obstacle to high-speed read operation. There was a problem of becoming.

【0028】本発明は、データ読み出し前にリード側の
ビット線・リファレンス側のビット線がプリチャージさ
れ、データ読み出し時にリード側のデータ線とリファレ
ンス側のデータ線との間の電位差がセンスアンプにより
センス増幅されるプリチャージ・ディスチャージ方式の
不揮発性半導体メモリにおいて、チャージシェアによる
誤動作の防止対策としてオーバーラップ部を設けなくて
済む不揮発性半導体メモリを提供することを目的とす
る。
According to the present invention, the bit line on the read side and the bit line on the reference side are precharged before the data is read, and the potential difference between the data line on the read side and the data line on the reference side is read by the sense amplifier during data reading. It is an object of the present invention to provide a non-volatile semiconductor memory of a precharge / discharge type which is sense-amplified and which does not require an overlapping part as a measure for preventing malfunction due to charge sharing.

【0029】[0029]

【課題を解決するための手段】本発明は、データ読み出
し前にリード側のビット線・リファレンス側のビット線
がプリチャージされ、データ読み出し時にリード側のデ
ータ線とリファレンス側のデータ線との間の電位差がセ
ンスアンプによりセンス増幅されるプリチャージ・ディ
スチャージ方式の不揮発性半導体メモリにおいて、前記
プリチャージ回路は、リード側のメモリセルアレイに対
するプリチャージ駆動力よりもリファレンス側のメモリ
セルアレイに対するプリチャージ駆動力の方が大きく設
定されており、プリチャージの終了とほぼ同時にディス
チャージが開始するようにタイミングが設定されている
ことを特徴とする。
According to the present invention, the bit line on the read side and the bit line on the reference side are precharged before the data is read, and the data line on the read side and the data line on the reference side are connected during data reading. In a non-volatile semiconductor memory of a precharge / discharge system in which a potential difference between the two is sense-amplified by a sense amplifier, the precharge circuit has a precharge driving force for a memory cell array on a reference side rather than a precharge driving force for a memory cell array on a read side. Is set larger, and the timing is set so that the discharge starts at almost the same time as the precharge ends.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実
施の形態に係るプリチャージ・ディスチャージ方式のE
PROMの一部を概略的に示す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an E of a precharge / discharge system according to the first embodiment of the present invention.
1 schematically shows a part of a PROM.

【0031】図1において、10aは第1のメモリセル
アレイ、10bは第2のメモリセルアレイである。上記
各メモリセルアレイは、それぞれメモリセル用の複数個
のトランジスタがマトリクス状に配列されている。上記
セルトランジスタは、浮遊ゲートおよび制御ゲートの二
層ゲート構造を有するNMOSトランジスタからなり、
上記メモリセルアレイのうちの一行分のメモリセルはリ
ファレンス電位生成用のリファレンスセル11rであ
り、残りの複数行のメモリセルはデータ記憶用のリード
セル11である。
In FIG. 1, 10a is a first memory cell array and 10b is a second memory cell array. In each of the memory cell arrays, a plurality of transistors for memory cells are arranged in a matrix. The cell transistor comprises an NMOS transistor having a two-layer gate structure of a floating gate and a control gate,
One row of memory cells of the memory cell array is a reference cell 11r for generating a reference potential, and the remaining memory cells of a plurality of rows are read cells 11 for storing data.

【0032】WLはワード線であり、メモリセルアレイ
の同一ロウのリードセル用の複数のセルトランジスタ1
1の各制御ゲートに共通に接続されており、ロウデコー
ダ(図示せず)からのワード線信号により選択駆動され
る。
WL is a word line, and a plurality of cell transistors 1 for read cells in the same row of the memory cell array.
1 is commonly connected to each control gate and is selectively driven by a word line signal from a row decoder (not shown).

【0033】RWLはリファレンスワード線であり、メ
モリセルアレイの同一ロウのリファレンスセル用の複数
のセルトランジスタ11rの各制御ゲートに共通に接続
されており、ロウデコーダ(図示せず)からのリファレ
ンスワード線信号により選択駆動される。
RWL is a reference word line, which is commonly connected to the respective control gates of a plurality of cell transistors 11r for reference cells in the same row of the memory cell array, and a reference word line from a row decoder (not shown). It is selectively driven by a signal.

【0034】BLはビット線であり、メモリセルアレイ
の同一カラムの複数のリードセル用トランジスタおよび
1個のリファレンスセル用トランジスタ11rの各ドレ
インに共通に接続されている。
BL is a bit line, which is commonly connected to the drains of a plurality of read cell transistors and one reference cell transistor 11r in the same column of the memory cell array.

【0035】SLはメモリセルアレイのソース線であ
り、上記同一カラムの複数のセルトランジスタ11の各
ソースに共通に接続され、複数カラム(本例では4カラ
ム)のソース線が一括接続されており、この一括接続さ
れたソース線SLと接地電位(VSS)ノードとの間には
ディスチャージ用NMOSトランジスタ12が接続され
ており、そのゲートにはディスチャージ信号DISが与
えられる。
SL is a source line of the memory cell array, which is commonly connected to the sources of the plurality of cell transistors 11 in the same column, and the source lines of a plurality of columns (four columns in this example) are collectively connected. A discharge NMOS transistor 12 is connected between the collectively connected source line SL and a ground potential (VSS) node, and a discharge signal DIS is applied to its gate.

【0036】13は前記各ビット線BLに対応して一端
が接続されたカラム選択用のNMOSトランジスタであ
り、カラムデコーダ(図示せず)からのカラム選択信号
により選択駆動される。そして、複数カラム(本例では
4カラム)における各カラム選択用トランジスタ13の
他端が一括接続されている。
Reference numeral 13 denotes an NMOS transistor for column selection, one end of which is connected to each bit line BL, and is selectively driven by a column selection signal from a column decoder (not shown). Then, the other ends of the respective column selection transistors 13 in a plurality of columns (four columns in this example) are collectively connected.

【0037】14は、上記複数のカラム選択用トランジ
スタ13の一括接続端に一端が接続されたビット線電位
クランプ用のNMOSトランジスタ14である。上記ビ
ット線電位クランプ用のNMOSトランジスタ14は、
読み出し時のビット線電位をクランプするためのもので
あり、閾値電圧が0V付近のI型トランジスタが用いら
れており、そのゲートには約1Vのバイアス電位Vbias
が与えられる。
Reference numeral 14 denotes an NMOS transistor 14 for clamping the bit line potential, one end of which is connected to the collective connection terminal of the plurality of column selecting transistors 13. The NMOS transistor 14 for clamping the bit line potential is
It is for clamping the bit line potential at the time of reading, and an I-type transistor whose threshold voltage is around 0V is used, and its gate has a bias potential Vbias of about 1V.
Is given.

【0038】15は上記2個のメモリセルアレイ10
a、10bに共通に設けられ、データ読み出し時に前記
一対のデータ線DL間に発生する電位差をセンス増幅す
るラッチ型のセンスアンプである。
Reference numeral 15 is the above two memory cell arrays 10
It is a latch type sense amplifier which is provided commonly to a and 10b and senses and amplifies a potential difference generated between the pair of data lines DL during data reading.

【0039】前記センスアンプ15は、2個の二入力ノ
アゲート151の各一方の入力端が各他方の出力端に交
差接続されたフリップフロップ回路からなり、一対の入
力ノードに対応して2個のメモリセルアレイ10a、1
0bにおけるビット線電位クランプ用トランジスタ14
の他端側のデータ線DLが接続されている。
The sense amplifier 15 is composed of a flip-flop circuit in which one input end of each of the two two-input NOR gates 151 is cross-connected to the other output end of each of the two input NOR gates 151. Memory cell array 10a, 1
0b bit line potential clamp transistor 14
The data line DL on the other end side of is connected.

【0040】なお、前記リードセル11は、書き込み状
態ではゲート閾値が高く、非書き込み状態ではゲート閾
値が低く設定されており、リファレンスセル11rはゲ
ート閾値が低く設定されており、かつ、リファレンスセ
ル11rのgmはリードセル11のgmよりも小さく設
定されている。
The read cell 11 has a high gate threshold value in the written state and a low gate threshold value in the non-written state, and the reference cell 11r has a low gate threshold value. The gm is set smaller than the gm of the read cell 11.

【0041】さらに、本実施の形態では、前記一対のデ
ータ線DLと通常の電源電位VCCが与えられるVCCノー
ドとの間に接続されるプリチャージ回路16として、リ
ード側のメモリセルアレイに対するプリチャージ駆動力
よりもリファレンス側ののメモリセルアレイに対するプ
リチャージ駆動力の方が大きく設定されている。また、
プリチャージ期間の終了とほぼ同時にディスチャージ期
間が開始するようにタイミングが設定されている。
Further, in the present embodiment, as the precharge circuit 16 connected between the pair of data lines DL and the VCC node to which the normal power supply potential VCC is applied, the precharge driving for the memory cell array on the read side is performed. The precharge driving force for the memory cell array on the reference side is set to be larger than the force. Also,
The timing is set so that the discharge period starts at almost the same time as the end of the precharge period.

【0042】上記プリチャージ回路16の具体例として
は、本例では、前記VCCノードと一対のデータ線DLと
の間(つまり、VCCノードとセンスアンプ15の一対の
入力ノードとの間)にそれぞれ対応して接続された第1
のプリチャージ用PMOSトランジスタ161および第
2のプリチャージ用PMOSトランジスタ162と、同
じく前記VCCノードとセンスアンプ15の一対の入力ノ
ードとの間にそれぞれ対応して接続された(つまり、前
記第1のプリチャージ用トランジスタ161および第2
のプリチャージ用トランジスタ162にそれぞれ対応し
て並列に接続された)第3のプリチャージ用PMOSト
ランジスタ163および第4のプリチャージ用PMOS
トランジスタ164とからなる。
As a specific example of the precharge circuit 16, in this example, the precharge circuit 16 is provided between the VCC node and the pair of data lines DL (that is, between the VCC node and the pair of input nodes of the sense amplifier 15). Correspondingly connected first
Of the precharge PMOS transistor 161 and the second precharge PMOS transistor 162, and are similarly connected between the VCC node and the pair of input nodes of the sense amplifier 15 (that is, the first precharge PMOS transistor 161). Precharging transistor 161 and second
And a third precharge PMOS transistor 163 and a fourth precharge PMOS transistor 163, which are connected in parallel corresponding to the precharge transistor 162, respectively.
And a transistor 164.

【0043】この場合、第1〜第4のプリチャージ用ト
ランジスタの相互コンダクタンスを対応してgm1 、g
m2 、gm3 、gm4 で表わすと、 gm1 =gm4 < gm2 =gm3 の関係を有するように設定されている。本例では、第1
〜第4のプリチャージ用トランジスタのゲート幅を対応
してW1 、W2 、W3 、W4 で表わすと、 W1 :W2 :W3 :W4 =1:4:4:1 の関係を有するように設定されている。
In this case, the transconductances of the first to fourth precharge transistors are correspondingly gm1 and gm.
When expressed by m2, gm3, and gm4, it is set to have a relationship of gm1 = gm4 <gm2 = gm3. In this example, the first
~ When the gate width of the fourth precharge transistor is correspondingly represented by W1, W2, W3, and W4, it is set to have a relationship of W1: W2: W3: W4 = 1: 4: 4: 1. There is.

【0044】そして、上記第1のプリチャージ用トラン
ジスタ161および第2のプリチャージ用トランジスタ
162の各ゲートには第1のプリチャージ信号/PRa
が与えられ、第3のプリチャージ用トランジスタ163
および第4のプリチャージ用トランジスタ163の各ゲ
ートには第2のプリチャージ信号/PRbが与えられ
る。
The gates of the first precharge transistor 161 and the second precharge transistor 162 have a first precharge signal / PRa at their gates.
Is supplied to the third precharge transistor 163.
The second precharge signal / PRb is applied to each gate of the fourth precharge transistor 163.

【0045】この場合、前記第1のメモリセルアレイ1
0aのリードセル11/第2のメモリセルアレイ10b
のリファレンスセル11rが選択される場合には、第1
のプリチャージ信号/PRaが“L”レベル(活性状
態)に制御され、第2のプリチャージ信号/PRbは
“H”レベル(非活性状態)に制御される。
In this case, the first memory cell array 1
0a read cell 11 / second memory cell array 10b
If the reference cell 11r of
Precharge signal / PRa is controlled to "L" level (active state), and second precharge signal / PRb is controlled to "H" level (inactive state).

【0046】これに対して、第2のメモリセルアレイ1
0bのリードセル11/第1のメモリセルアレイ10a
のリファレンスセル11rが選択される場合には、第2
のプリチャージ信号/PRbが“L”レベル(活性状
態)に制御され、第1のプリチャージ信号/PRaは
“H”レベル(非活性状態)に制御される。
On the other hand, the second memory cell array 1
0b read cell 11 / first memory cell array 10a
If the reference cell 11r of
Precharge signal / PRb is controlled to "L" level (active state), and first precharge signal / PRa is controlled to "H" level (inactive state).

【0047】このような構成により、第1のメモリセル
アレイ10aのリードセル11/第2のメモリセルアレ
イ10bのリファレンスセル11rが選択される場合に
は、第1のプリチャージ信号/PRaにより第1のプリ
チャージ用トランジスタ161およびこれより駆動力の
大きい第2のプリチャージ用トランジスタ162がオン
駆動されるので、プリチャージ終了状態では、リードセ
ル11の記憶データの状態にかかわらず、リファレンス
側とリード側とで共通ソース線SLが均等にプリチャー
ジされているか、リファレンス側の共通ソース線SLの
方がリード側の共通ソース線SLよりも多量にプリチャ
ージされている状態になる。
With this configuration, when the read cell 11 of the first memory cell array 10a / the reference cell 11r of the second memory cell array 10b is selected, the first precharge signal / PRa is used to generate the first precharge signal. Since the charging transistor 161 and the second precharging transistor 162 having a larger driving force than this are turned on, in the precharge completion state, the reference side and the read side are irrespective of the state of the stored data of the read cell 11. The common source line SL is evenly precharged, or the common source line SL on the reference side is precharged in a larger amount than the common source line SL on the read side.

【0048】これに対して、第2のメモリセルアレイ1
0bのリードセル11/第1のメモリセルアレイ10a
のリファレンスセル11rが選択される場合には、第2
のプリチャージ信号/PRbにより第4のプリチャージ
用トランジスタ164およびこれより駆動力の大きい第
3のプリチャージ用トランジスタ163がオン駆動され
るので、プリチャージ終了状態では、リードセル11の
記憶データの状態にかかわらず、リファレンス側とリー
ド側とで共通ソース線SLが均等にプリチャージされて
いるか、リファレンス側の共通ソース線SLの方がリー
ド側の共通ソース線SLよりも多量にプリチャージされ
ている状態になる。
On the other hand, the second memory cell array 1
0b read cell 11 / first memory cell array 10a
If the reference cell 11r of
Since the fourth precharge transistor 164 and the third precharge transistor 163 having a larger driving force than this are turned on by the precharge signal / PRb of, the state of the storage data of the read cell 11 in the precharge end state is Regardless of this, the common source line SL is evenly precharged on the reference side and the read side, or the common source line SL on the reference side is precharged more than the common source line SL on the read side. It becomes a state.

【0049】次に、図1のEPROMにおけるデータ読
み出し動作について図2に示すタイミング波形を参照し
ながら説明する。選択すべきメモリセルのアドレスが確
定し、選択すべき一方のメモリセルアレイのリードセル
11および他方のメモリセルアレイのリファレンスセル
11rが選択された後、データ読み出し前にプリチャー
ジ信号/PRが“L”レベルになる。これにより、プリ
チャージ回路16がオン状態になり、データ線DLおよ
びビット線BLが“H”レベル(電源電位VCC)にプリ
チャージされる。
Next, the data read operation in the EPROM of FIG. 1 will be described with reference to the timing waveforms shown in FIG. After the address of the memory cell to be selected is determined and the read cell 11 of one memory cell array to be selected and the reference cell 11r of the other memory cell array are selected, the precharge signal / PR is set to the “L” level before data reading. become. As a result, the precharge circuit 16 is turned on, and the data line DL and the bit line BL are precharged to the "H" level (power supply potential VCC).

【0050】この際、選択されたリードセルトランジス
タ11がオン状態であると、このトランジスタを介して
共通ソース線SLもプリチャージされ、選択されたリフ
ァレンスセルトランジスタ11r(オン状態)を介して
共通ソース線SLがプリチャージされる。
At this time, if the selected read cell transistor 11 is in the on state, the common source line SL is also precharged via this transistor, and the common source is supplied via the selected reference cell transistor 11r (on state). Line SL is precharged.

【0051】この場合、選択されたカラムと共通ソース
線SLを共有するリードセル11群の記憶データの状態
にかかわらず、プリチャージ終了状態では、リード側の
共通ソース線SLとリファレンス側の共通ソース線SL
とが均等にプリチャージされているか、リード側の共通
ソース線SLよりもリファレンス側の共通ソース線SL
の方が多量にプリチャージされている状態になる。
In this case, in the precharge completed state, the common source line SL on the read side and the common source line on the reference side are irrespective of the state of the storage data of the read cells 11 sharing the common source line SL with the selected column. SL
Are evenly precharged, or the common source line SL on the reference side is more than the common source line SL on the read side.
Is more precharged.

【0052】次に、プリチャージ信号/PRが“H”レ
ベルになってプリチャージが終了するとともに、ディス
チャージ信号DISが“H”レベルになってデータ読み
出し動作が開始する。この時、共通ソース線SL、オン
状態のリードセルトランジスタ11に接続されているビ
ット線BLおよびこれに対応するデータ線DL、リファ
レンスセルトランジスタ11rに接続されているビット
線BLおよびこれに対応するデータ線DLがそれぞれデ
ィスチャージされる。
Next, the precharge signal / PR goes to "H" level to end the precharge, and the discharge signal DIS goes to "H" level to start the data read operation. At this time, the common source line SL, the bit line BL connected to the read cell transistor 11 in the ON state and the corresponding data line DL, the bit line BL connected to the reference cell transistor 11r and the corresponding data The lines DL are discharged respectively.

【0053】これにより、選択されたリードセルトラン
ジスタ11のオン/オフ状態およびリファレンスセルト
ランジスタ11rの読み出し電流に応じて所定時間経過
後にリード側のデータ線DLとリファレンス側のデータ
線DLとの間に選択リードセル11の記憶データに応じ
た極性の所定値ΔV以上の電位差が生じる。この電位差
がセンスアンプ15により検知・増幅され、記憶データ
に応じてセンスアンプ15の出力ノードの電位が“L”
レベルあるいは“H”レベルになり、出力バッファ(図
示せず)を経て読み出しデータとして出力する。
As a result, depending on the ON / OFF state of the selected read cell transistor 11 and the read current of the reference cell transistor 11r, a predetermined time elapses between the read side data line DL and the reference side data line DL. A potential difference of not less than a predetermined value ΔV of the polarity is generated according to the storage data of the selected read cell 11. This potential difference is detected and amplified by the sense amplifier 15, and the potential of the output node of the sense amplifier 15 is "L" according to the stored data.
It becomes the level or the "H" level, and is output as read data through an output buffer (not shown).

【0054】上記したようなデータ読み出し動作に際し
て、リファレンス側では、リファレンスワード線RWL
により各カラムのリファレンスセル11rが選択された
場合に、各カラムのリファレンスセル11rが全てオン
状態になり、選択されたカラムのリファレンスセル11
r(オン状態)に流れる電流が共通ソース線SLを介し
て非選択カラムのリファレンスセル11r(オン状態)
に回り込んで流れるので、リファレンス側のデータ線D
Lの負荷容量は比較的大きい。
In the data read operation as described above, on the reference side, the reference word line RWL
When the reference cell 11r of each column is selected by, all the reference cells 11r of each column are turned on, and the reference cell 11r of the selected column is selected.
The current flowing in r (on state) passes through the common source line SL and the reference cell 11r (on state) of the unselected column
The data line D on the reference side
The load capacity of L is relatively large.

【0055】これに対して、リード側では、ワード線に
より各カラムのリードセル11が選択された場合に、ゲ
ート閾値が低く設定されている任意数のリードセル11
のみオン状態になる。この場合、選択されたカラムのリ
ードセル11がオン状態であれば、これに流れる電流が
共通ソース線SLを介して非選択カラムのリードセル1
1のうちでオン状態のリードセル11に回り込んで流れ
るようになり、選択されたカラムのリードセル11がオ
フ状態であれば回り込み電流は生じない。
On the other hand, on the read side, when the read cell 11 of each column is selected by the word line, an arbitrary number of read cells 11 whose gate thresholds are set low.
Only turned on. In this case, if the read cell 11 of the selected column is in the ON state, the current flowing through the read cell 11 of the non-selected column passes through the common source line SL.
Among them, the sneak current flows into the read cell 11 in the ON state and flows, and if the read cell 11 in the selected column is in the OFF state, the sneak current does not occur.

【0056】従って、共通ソース線SLに接続されてい
るリードセル11群の記憶データの状態によっては、2
個のメモリセルアレイ10a、10bがプリチャージさ
れる時におけるリファレンス側のデータ線DLの寄生負
荷容量とリード側のデータ線DLの寄生負荷容量とが等
しい場合だけでなく、リファレンス側のデータ線DLの
寄生負荷容量の方がリード側のデータ線DLの寄生負荷
容量よりも大きくなる場合があるが、本例のプリチャー
ジ回路16によるプリチャージの終了状態では、リファ
レンス側の共通ソース線SLとリード側の共通ソース線
SLとが均等にプリチャージされている(前記したよう
な寄生負荷容量の不平衡状態によるプリチャージ量の不
平衡状態が解消されている)か、リファレンス側の共通
ソース線SLの方がリード側の共通ソース線SLよりも
多量にプリチャージされている。
Therefore, depending on the state of the storage data of the read cell 11 group connected to the common source line SL, 2
Not only when the parasitic load capacitance of the reference side data line DL and the parasitic load capacitance of the read side data line DL when the memory cell arrays 10a and 10b are precharged are equal, The parasitic load capacitance may be larger than the parasitic load capacitance of the data line DL on the read side. However, in the precharge completion state by the precharge circuit 16 of this example, the common source line SL on the reference side and the read side. Common source line SL is uniformly precharged (the above-mentioned unbalanced state of the precharge amount due to the unbalanced state of the parasitic load capacitance is eliminated) or the common source line SL on the reference side. A larger amount is precharged than the common source line SL on the read side.

【0057】前者のようにリファレンス側とリード側と
で共通ソース線SLが均等にプリチャージされている場
合には、予めリファレンスセルのgmはリードセルのg
mよりも小さく設定されているので、データ読み出し動
作(ディスチャージ)を開始した時にリード側の共通ソ
ース線およびデータ線がディスチャージされる場合(リ
ードセルが非書き込み状態、オン状態の場合)に、リー
ド側のデータ線の電位がリファレンス側のデータ線の電
位よりも速く低下する。
When the common source line SL is uniformly precharged on the reference side and the read side as in the former case, gm of the reference cell is previously g of the read cell.
Since it is set smaller than m, when the common source line and data line on the read side are discharged when the data read operation (discharge) is started (when the read cell is in the non-write state or the ON state), the read side The potential of the data line of # 1 drops faster than the potential of the data line of the reference side.

【0058】これに対して、後者のようにリファレンス
側の共通ソース線SLの方がリード側の共通ソース線S
Lよりも多量にプリチャージされている場合には、デー
タ読み出し動作(ディスチャージ)を開始した時にリー
ド側の共通ソース線SLおよびデータ線DLがディスチ
ャージされる場合に、リード側のデータ線DLの電位が
リファレンス側のデータ線DLの電位よりも速く低下す
る。
On the contrary, like the latter, the common source line SL on the reference side is the common source line S on the lead side.
If the precharge is larger than L, the potential of the read side data line DL is discharged when the read side common source line SL and the data line DL are discharged when the data read operation (discharge) is started. Decreases faster than the potential of the data line DL on the reference side.

【0059】換言すれば、共通ソース線SLに接続され
ているリードセル群の記憶データの状態にかかわらず、
ディスチャージの開始によってリード側のデータ線DL
がディスチャージされる場合(リードセルが非書き込み
状態、オン状態)には、常に、リード側のデータ線DL
の電位がリファレンス側のデータ線DLの電位よりも速
く低下するので、センスアンプ15はリードセルの記憶
データを正しく検知して増幅することが可能である。
In other words, regardless of the state of the stored data of the read cell group connected to the common source line SL,
Data line DL on the read side due to the start of discharge
Is discharged (the read cell is in the non-write state or the ON state), the data line DL on the read side is always present.
Since the potential of the voltage V.sub.2 drops faster than the potential of the data line DL on the reference side, the sense amplifier 15 can correctly detect and amplify the data stored in the read cell.

【0060】これに対して、リード側のデータ線がディ
スチャージされない場合(リードセルが書き込み状態、
オフ状態)であれば、リファレンス側のデータ線DLの
電位がリード側のデータ線の電位よりも速く低下するの
で、センスアンプ15はリードセルの記憶データを正し
く検知して増幅することが可能である。
On the other hand, when the data line on the read side is not discharged (the read cell is in the written state,
In the off state), the potential of the data line DL on the reference side drops faster than the potential of the data line on the read side, so that the sense amplifier 15 can correctly detect and amplify the stored data in the read cell. .

【0061】従って、従来例のようにプリチャージ終了
前からディスチャージを開始する(つまり、プリチャー
ジ期間とディスチャージ期間の一部をオーバーラップさ
せる)必要がなくなり、ディスチャージ期間を十分に確
保できるので、読み出し動作の高速化あるいは動作電源
の低電圧化が可能になる。
Therefore, unlike the conventional example, it is not necessary to start the discharge before the end of the precharge (that is, the precharge period and a part of the discharge period are overlapped), and the discharge period can be sufficiently secured. It is possible to speed up the operation or reduce the voltage of the operating power supply.

【0062】図3は、本発明の第2の実施の形態に係る
プリチャージ・ディスチャージ方式のEPROMの一部
を概略的に示す。図3に示すEPROMは、図1に示し
たEPROMと比べて、(1)VCCノードと前記データ
線DL対との間に接続されている第1のプリチャージ回
路31の構成、(2)VCCノードと前記共通ソース線S
Lとの間に第2のプリチャージ回路32が付加接続され
ている点が異なり、その他は同じであるので図1中と同
一符号を付している。
FIG. 3 schematically shows a part of the precharge / discharge type EPROM according to the second embodiment of the present invention. Compared with the EPROM shown in FIG. 1, the EPROM shown in FIG. 3 has (1) a configuration of the first precharge circuit 31 connected between the VCC node and the data line DL pair, and (2) VCC. Node and the common source line S
The second precharge circuit 32 is additionally connected to L, and the other parts are the same, and are therefore denoted by the same reference numerals as in FIG.

【0063】上記第1のプリチャージ回路31の具体例
としては、VCCノードとデータ線DL対との間に互いに
ほぼ同一サイズの第5のプリチャージ用PMOSトラン
ジスタ311がそれぞれ接続され、それぞれのゲートに
プリチャージ信号/PRが与えられる。
As a concrete example of the first precharge circuit 31, the fifth precharge PMOS transistors 311 of substantially the same size are connected between the Vcc node and the data line DL pair, and their respective gates are connected. Is supplied with a precharge signal / PR.

【0064】また、前記第2のプリチャージ回路32の
具体例としては、VCCノードと前記共通ソース線SLと
の間に第6のプリチャージ用PMOSトランジスタ32
1および共通ソース線電位クランプ用のI型のNMOS
トランジスタ322が直列に接続され、第6のプリチャ
ージ用トランジスタ321のゲートに前記プリチャージ
信号/PRが与えられ、共通ソース線電位クランプ用N
MOSトランジスタ322のゲートに前記バイアス電位
Vbiasが与えられる。
As a concrete example of the second precharge circuit 32, a sixth precharge PMOS transistor 32 is provided between the VCC node and the common source line SL.
1 and I-type NMOS for common source line potential clamp
A transistor 322 is connected in series, the precharge signal / PR is applied to the gate of the sixth precharge transistor 321, and a common source line potential clamp N
The bias potential Vbias is applied to the gate of the MOS transistor 322.

【0065】このような構成により、プリチャージ期間
には、プリチャージ信号/PRにより第5のプリチャー
ジ用トランジスタ311および第6のプリチャージ用ト
ランジスタ321がオン駆動されるので、プリチャージ
終了状態では、リードセル11の記憶データの状態にか
かわらず、リファレンス側の共通ソース線SLとリード
側の共通ソース線SLとが均等にプリチャージされてい
る。
With such a configuration, during the precharge period, the fifth precharge transistor 311 and the sixth precharge transistor 321 are turned on by the precharge signal / PR, so that in the precharge end state. The common source line SL on the reference side and the common source line SL on the read side are evenly precharged regardless of the state of the stored data in the read cell 11.

【0066】従って、データ読み出し動作において、セ
ンスアンプ15は、図1のEPROMにおけると同様に
リードセルトランジスタ11から読み出された記憶デー
タを正しく検知・増幅することが可能になる。
Therefore, in the data read operation, the sense amplifier 15 can correctly detect and amplify the stored data read from the read cell transistor 11 as in the EPROM of FIG.

【0067】[0067]

【発明の効果】上述したように本発明によれば、チャー
ジシェアによるセンスアンプの誤動作の防止対策として
オーバーラップ部を設けなくて済む不揮発性半導体メモ
リを提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a non-volatile semiconductor memory that does not require an overlapping portion as a measure for preventing malfunction of the sense amplifier due to charge sharing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係るEPROMの
一部を示す回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a part of an EPROM according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1中のセルトランジスタの読み出し動作例を
示すタイミング波形図。
2 is a timing waveform chart showing an example of a read operation of a cell transistor in FIG.

【図3】本発明の第2の実施の形態に係るEPROMの
一部を示す回路図。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a part of an EPROM according to a second embodiment of the present invention.

【図4】従来のEPROMの一部を示す回路図。FIG. 4 is a circuit diagram showing a part of a conventional EPROM.

【図5】図4中のセルトランジスタの読み出し動作例を
示すタイミング波形図。
5 is a timing waveform chart showing an example of a read operation of the cell transistor in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10a…第1のメモリセルアレイ、 10b…第2のメモリセルアレイ、 11…リードセルトランジスタ、 11r…リファレンスセルトランジスタ、 12…ディスチャージ用トランジスタ、 13…カラム選択用トランジスタ、 14…ビット線電位クランプ用トランジスタ、 15…センスアンプ、 16…プリチャージ回路、 161…第1のプリチャージ用トランジスタ、 162…第2のプリチャージ用トランジスタ、 163…第3のプリチャージ用トランジスタ、 164…第4のプリチャージ用トランジスタ、 BL…ビット線、 WL…ワード線、 RWL…リファレンスワード線、 SL…ソース線、 DL…データ線。 10a ... 1st memory cell array, 10b ... 2nd memory cell array, 11 ... Read cell transistor, 11r ... Reference cell transistor, 12 ... Discharge transistor, 13 ... Column selection transistor, 14 ... Bit line potential clamping transistor, 15 ... Sense amplifier, 16 ... Precharge circuit, 161 ... 1st precharge transistor, 162 ... 2nd precharge transistor, 163 ... 3rd precharge transistor, 164 ... 4th precharge transistor , BL ... bit line, WL ... word line, RWL ... reference word line, SL ... source line, DL ... data line.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 記憶データに応じて選択時にオン状態/
オフ状態になるように閾値が設定されたデータ記憶用の
不揮発性のリードセルトランジスタと選択時にオン状態
となるように閾値が設定されたリファレンス用の不揮発
性のリファレンスセルトランジスタが行列状に配列され
た第1のメモリセルアレイおよび第2のメモリセルアレ
イと、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれ同一行のリー
ドセルトランジスタの制御ゲートに共通に接続された複
数のワード線と、 前記各メモリセルアレイにおける同一行のリファレンス
セルトランジスタの制御ゲートに共通に接続されたリフ
ァレンスワード線と、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれ同一列の複数
個のリードセルトランジスタおよび1個のリファレンス
セルトランジスタの各ドレインに共通に接続された複数
のビット線と、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれ同一列の複数
個のリードセルトランジスタおよび1個のリファレンス
セルトランジスタの各ソースに共通に接続された複数の
ソース線と、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれ複数列のソー
ス線が一括接続された共通ソース線と、 前記共通ソース線と接地電位ノードとの間に接続され、
前記メモリセルアレイからデータを読み出す時にオン状
態に制御されるディスチャージ回路と、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれのビット線に
対応して各一端が接続され、各他端が一括接続されたカ
ラム選択用のトランジスタと、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれ複数列の各カ
ラム選択用トランジスタの一括接続端に一端が接続さ
れ、他端にデータ線が接続され、ゲートにバイアス電位
が与えられるビット線電位クランプ用トランジスタと、 前記2個のメモリセルアレイに共通に設けられ、前記2
個のメモリセルアレイの各データ線に一対の入力ノード
が接続され、データ読み出し時に前記2個のメモリセル
アレイのデータ線間に発生する電位差を検知・増幅する
ラッチ型のセンスアンプと、 電源電位が与えられる電源ノードと前記一対のデータ線
との間に接続され、前記メモリセルアレイからデータを
読み出す前に前記データ線およびビット線をプリチャー
ジするように制御されるプリチャージ回路と、 とを具備し、前記プリチャージ回路は、リード側のメモ
リセルアレイに対するプリチャージ駆動力よりもリファ
レンス側のメモリセルアレイに対するプリチャージ駆動
力の方が大きく設定されており、 前記プリチャージ回路によるプリチャージの終了とほぼ
同時に前記ディスチャージ回路によるディスチャージが
開始するようにタイミングが設定されていることを特徴
とする不揮発性半導体メモリ。
1. An ON state / when selected according to stored data
A non-volatile read cell transistor for data storage whose threshold value is set to be in the off state and a non-volatile reference cell transistor for reference whose threshold value is set to be in the on state when selected are arranged in a matrix. A first memory cell array and a second memory cell array; a plurality of word lines commonly connected to the control gates of read cell transistors in the same row in each memory cell array; and a reference in the same row in each memory cell array. A reference word line commonly connected to a control gate of a cell transistor, and a plurality of bits commonly connected to a plurality of read cell transistors and a drain of one reference cell transistor in the same column in each memory cell array. Line and each of the above A plurality of source lines commonly connected to respective sources of a plurality of read cell transistors and one reference cell transistor in the same column in the memory cell array and a plurality of source lines in each of the memory cell arrays are collectively connected. A common source line, and is connected between the common source line and a ground potential node,
A discharge circuit that is controlled to be in an ON state when reading data from the memory cell array, and a column selection transistor in which one end is connected to each bit line in each memory cell array and the other ends are collectively connected. And a bit line potential clamping transistor having one end connected to a collective connection end of each column selection transistor in each of the plurality of columns in each of the memory cell arrays, a data line connected to the other end, and a bias potential applied to a gate, The memory cell array is commonly provided to the two memory cell arrays, and
A pair of input nodes is connected to each data line of each memory cell array, and a latch-type sense amplifier that detects and amplifies a potential difference generated between the data lines of the two memory cell arrays at the time of reading data and a power supply potential are applied. A precharge circuit connected between the power supply node and the pair of data lines, the precharge circuit being controlled so as to precharge the data lines and the bit lines before reading data from the memory cell array. In the precharge circuit, the precharge driving force for the reference side memory cell array is set to be larger than the precharge driving force for the read side memory cell array, and at the same time as the end of the precharge by the precharge circuit, the precharge driving force is set. Start the discharge by the discharge circuit. Nonvolatile semiconductor memory, wherein the timing is set.
【請求項2】 前記プリチャージ回路は、前記電源ノー
ドとセンスアンプの一対の入力ノードとの間にそれぞれ
対応して接続された第1のプリチャージ用PMOSトラ
ンジスタおよび第2のプリチャージ用PMOSトランジ
スタと、同じく前記電源ノードとセンスアンプの一対の
入力ノードとの間にそれぞれ対応して接続された第3の
プリチャージ用PMOSトランジスタおよび第4のプリ
チャージ用PMOSトランジスタとからなり、 前記第1、第2、第3、第4のプリチャージ用トランジ
スタの相互コンダクタンスを対応してgm1 、gm2 、
gm3 、gm4 で表わすと、 gm1 < gm2 gm3 < gm4 の関係を有するように設定されており、 第1のプリチャージ用トランジスタおよび第2のプリチ
ャージ用トランジスタの各ゲートには第1のプリチャー
ジ信号が与えられ、第3のプリチャージ用トランジスタ
および第4のプリチャージ用トランジスタの各ゲートに
は第2のプリチャージ信号が与えられ、 前記第1のメモリセルアレイのリードセル/第2のメモ
リセルアレイのリファレンスセルが選択される場合に
は、第1のプリチャージ信号が活性状態、第2のプリチ
ャージ信号は非活性状態に制御され、 前記第2のメモリセルアレイのリードセル/第1のメモ
リセルアレイのリファレンスセルが選択される場合に
は、第2のプリチャージ信号が活性状態、第1のプリチ
ャージ信号は非活性状態に制御されることを特徴とする
請求項1記載の不揮発性半導体メモリ。
2. The precharge circuit includes a first precharge PMOS transistor and a second precharge PMOS transistor connected between the power supply node and a pair of input nodes of a sense amplifier, respectively. And a third precharging PMOS transistor and a fourth precharging PMOS transistor which are similarly connected between the power supply node and the pair of input nodes of the sense amplifier, respectively. Corresponding transconductances of the second, third, and fourth precharge transistors are gm1, gm2,
When expressed by gm3 and gm4, it is set to have a relationship of gm1 <gm2 gm3 <gm4, and the first precharge signal is applied to each gate of the first precharge transistor and the second precharge transistor. And a second precharge signal is applied to the gates of the third precharge transistor and the fourth precharge transistor, and the read cell of the first memory cell array / the reference of the second memory cell array is provided. When the cell is selected, the first precharge signal is controlled to the active state and the second precharge signal is controlled to the inactive state, and the read cell of the second memory cell array / the reference cell of the first memory cell array is controlled. Is selected, the second precharge signal is active, the first precharge signal is The nonvolatile semiconductor memory according to claim 1, characterized in that it is controlled in an inactive state.
【請求項3】 前記gm1 、gm2 、gm3 、gm4 の
関係は、 gm1 =gm4 、gm2 =gm3 であることを特徴とす
る請求項1または2記載の不揮発性半導体メモリ。
3. The non-volatile semiconductor memory according to claim 1, wherein the relationships among the gm1, gm2, gm3 and gm4 are gm1 = gm4 and gm2 = gm3.
【請求項4】 前記リードセルトランジスタの相互コン
ダクタンスよりも前記リファレンスセルトランジスタの
相互コンダクタンスの方が小さく設定されていることを
特徴とする請求項1乃至3記載のいずれか1項に記載の
不揮発性半導体メモリ。
4. The non-volatile according to claim 1, wherein the transconductance of the reference cell transistor is set smaller than the transconductance of the read cell transistor. Semiconductor memory.
【請求項5】 記憶データに応じて選択時にオン状態/
オフ状態になるように閾値が設定されたデータ記憶用の
不揮発性のリードセルトランジスタと選択時にオン状態
となるように閾値が設定されたリファレンス用の不揮発
性のリファレンスセルトランジスタが行列状に配列され
た第1のメモリセルアレイおよび第2のメモリセルアレ
イと、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれ同一行のリー
ドセルトランジスタの制御ゲートに共通に接続された複
数のワード線と、 前記各メモリセルアレイにおける同一行のリファレンス
セルトランジスタの制御ゲートに共通に接続されたリフ
ァレンスワード線と、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれ同一列の複数
個のリードセルトランジスタおよび1個のリファレンス
セルトランジスタの各ドレインに共通に接続された複数
のビット線と、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれ同一列の複数
個のリードセルトランジスタおよび1個のリファレンス
セルトランジスタの各ソースに共通に接続された複数の
ソース線と、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれ複数列のソー
ス線が一括接続された共通ソース線と、 前記共通ソース線と接地電位ノードとの間に接続され、
前記メモリセルアレイからデータを読み出す時にオン状
態に制御されるディスチャージ回路と、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれのビット線に
対応して各一端が接続され、各他端が一括接続されたカ
ラム選択用のトランジスタと、 前記各メモリセルアレイにおけるそれぞれ複数列の各カ
ラム選択用トランジスタの一括接続端に一端が接続さ
れ、他端にデータ線が接続され、ゲートにバイアス電位
が与えられるビット線電位クランプ用トランジスタと、 前記2個のメモリセルアレイに共通に設けられ、前記2
個のメモリセルアレイの各データ線に一対の入力ノード
が接続され、データ読み出し時に前記2個のメモリセル
アレイのデータ線間に発生する電位差を検知・増幅する
ラッチ型のセンスアンプと、 電源ノードと前記一対のデータ線との間に接続され、前
記メモリセルアレイからデータを読み出す前に前記デー
タ線およびビット線をプリチャージするように制御され
る第1のプリチャージ回路と、 前記電源ノードと前記共通ソース線との間に接続され、
前記メモリセルアレイからデータを読み出す前に前記共
通ソース線をプリチャージするように制御される第2の
プリチャージ回路とを具備し、前記第1のプリチャージ
回路によるプリチャージの終了とほぼ同時に前記ディス
チャージ回路によるディスチャージが開始するようにタ
イミングが設定されていることを特徴とする不揮発性半
導体メモリ。
5. An ON state at the time of selection according to stored data /
A non-volatile read cell transistor for data storage whose threshold value is set to be in the off state and a non-volatile reference cell transistor for reference whose threshold value is set to be in the on state when selected are arranged in a matrix. A first memory cell array and a second memory cell array; a plurality of word lines commonly connected to the control gates of read cell transistors in the same row in each memory cell array; and a reference in the same row in each memory cell array. A reference word line commonly connected to a control gate of a cell transistor, and a plurality of bits commonly connected to a plurality of read cell transistors and a drain of one reference cell transistor in the same column in each memory cell array. Line and each of the above A plurality of source lines commonly connected to respective sources of a plurality of read cell transistors and one reference cell transistor in the same column in the memory cell array and a plurality of source lines in each of the memory cell arrays are collectively connected. A common source line, and is connected between the common source line and a ground potential node,
A discharge circuit that is controlled to be in an ON state when reading data from the memory cell array, and a column selection transistor in which one end is connected to each bit line in each memory cell array and the other ends are collectively connected. And a bit line potential clamping transistor having one end connected to a collective connection end of each column selection transistor in each of the plurality of columns in each of the memory cell arrays, a data line connected to the other end, and a bias potential applied to a gate, The memory cell array is commonly provided to the two memory cell arrays, and
A pair of input nodes are connected to each data line of each memory cell array, and a latch type sense amplifier that detects and amplifies a potential difference generated between the data lines of the two memory cell arrays at the time of reading data, a power supply node and the above A first precharge circuit connected between a pair of data lines and controlled to precharge the data lines and bit lines before reading data from the memory cell array; the power supply node and the common source Connected between the wire and
A second precharge circuit that is controlled to precharge the common source line before reading data from the memory cell array, and the discharge is performed substantially at the same time when the precharge by the first precharge circuit is completed. A non-volatile semiconductor memory, wherein timing is set so that discharge by a circuit starts.
【請求項6】 前記第1のプリチャージ回路は、前記電
源ノードとデータ線対との間に互いにほぼ同一サイズを
有する第5のプリチャージ用PMOSトランジスタがそ
れぞれ接続され、それぞれのゲートにプリチャージ信号
が与えられ、 前記第2のプリチャージ回路は、前記電源ノードとと前
記共通ソース線との間に第6のプリチャージ用PMOS
トランジスタおよび共通ソース線電位クランプ用NMO
Sトランジスタが直列に接続され、前記第6のプリチャ
ージ用トランジスタのゲートに前記プリチャージ信号が
与えられ、前記共通ソース線電位クランプ用NMOSト
ランジスタのゲートに前記バイアス電位が与えられるこ
とを特徴とする請求項5記載の不揮発性半導体メモリ。
6. The first precharge circuit is configured such that fifth precharge PMOS transistors having substantially the same size are connected between the power supply node and the data line pair, and the respective gates are precharged. A signal is applied, and the second precharge circuit includes a sixth precharge PMOS between the power supply node and the common source line.
NMO for transistor and common source line potential clamp
S transistors are connected in series, the gate of the sixth precharge transistor is supplied with the precharge signal, and the gate of the common source line potential clamping NMOS transistor is supplied with the bias potential. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 5.
【請求項7】 前記リードセルトランジスタの相互コン
ダクタンスよりも前記リファレンスセルトランジスタの
相互コンダクタンスの方が小さく設定されていることを
特徴とする請求項5または6記載の不揮発性半導体メモ
リ。
7. The non-volatile semiconductor memory according to claim 5, wherein the transconductance of the reference cell transistor is set smaller than the transconductance of the read cell transistor.
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