JPH09216407A - Recording head - Google Patents

Recording head

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JPH09216407A
JPH09216407A JP8023845A JP2384596A JPH09216407A JP H09216407 A JPH09216407 A JP H09216407A JP 8023845 A JP8023845 A JP 8023845A JP 2384596 A JP2384596 A JP 2384596A JP H09216407 A JPH09216407 A JP H09216407A
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JP
Japan
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electrodes
ion flow
electrode
row
ion
Prior art date
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Application number
JP8023845A
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Japanese (ja)
Inventor
Makoto Mentani
信 面谷
Masataka Ota
正孝 太田
Masaru Ozawa
勝 小沢
Masashi Fujita
政志 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
N T T ADVANCE TECHNOL KK
NTT Advanced Technology Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
N T T ADVANCE TECHNOL KK
NTT Advanced Technology Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
Application filed by N T T ADVANCE TECHNOL KK, NTT Advanced Technology Corp, Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical N T T ADVANCE TECHNOL KK
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Publication of JPH09216407A publication Critical patent/JPH09216407A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a homogeneous electrostatic charge image by making ionic beams go straight. SOLUTION: Line electrodes 2-1-2-4 are formed on the downside of an insulator substrate 1, and row electrodes 3-1-3-n are formed on the upside of the insulator substrate 1. The electric fields between the line and row electrodes becomes concurrent to ionic beams only when the line electrodes to which an 'L' level voltage is applied overlaps the row electrodes to which a 'H' level voltage is applied. Ionic beams pass through ionic beam pass holes 4 located at overlapping position. Dummy electrodes 5-1 and 5-2 are given the same electric potential as that of the row electrodes at the time the ionic beams are hindered from passing through. The outside and inside electric fields across the electrodes 2-1-2-4 are kept symmetric, causing the ionic beams passing through the passing holes 4 to go straight in the direction perpendicular to the line electrodes without a deflection.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、静電記録方式のフ
ァクシミリやプリンタなどに使用される記録ヘッドに関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a recording head used in an electrostatic recording type facsimile or printer.

【0002】[0002]

【従来の技術】イオン流制御による静電記録方式(イオ
ンフロー記録方式)は、カラー画像を高画質かつ低ラン
ニングコストで提供できる記録方式として有望である。
図4はイオン流の制御原理を示す図であり、11はイオ
ン発生源、12は開口部14を備えた2枚の電極からな
るイオン流制御板、16は導電性材料18の上に誘電体
樹脂19が形成された記録媒体、17はコロナ放電によ
りイオン発生源11から放出されたイオンである。
2. Description of the Related Art An electrostatic recording method (ion flow recording method) by controlling an ion flow is promising as a recording method capable of providing a high quality color image at a low running cost.
FIG. 4 is a view showing the principle of controlling the ion flow, 11 is an ion generation source, 12 is an ion flow control plate consisting of two electrodes having an opening 14, and 16 is a conductive material 18 and a dielectric material. A recording medium on which the resin 19 is formed, and 17 are ions emitted from the ion generation source 11 by corona discharge.

【0003】イオン17は、イオン流制御板12の2枚
の電極間の電場を変化させることによって制御される。
すなわち、イオン流に対して電極間電場が図4(a)に
示すように順方向の場合は、イオン流は開口部14を通
過し、電極間電場が図4(b)に示すように逆方向の場
合は通過が阻止される。こうして、イオン17が記録媒
体16に選択的に照射されて媒体16上に電荷像が形成
され、通常はこれにトナーを付着させて可視像として記
録がなされる。
The ions 17 are controlled by changing the electric field between the two electrodes of the ion flow control plate 12.
That is, when the inter-electrode electric field is in the forward direction with respect to the ion flow as shown in FIG. 4A, the ion flow passes through the opening 14 and the inter-electrode electric field is reverse as shown in FIG. 4B. In the case of direction, passage is blocked. In this way, the recording medium 16 is selectively irradiated with the ions 17 to form a charge image on the recording medium 16. Normally, toner is attached to the recording image to record as a visible image.

【0004】図5はこのような基本原理を利用した従来
の記録ヘッドの平面図、図6は図5のI−I線断面図で
ある。1は絶縁体基板、2−1〜2−4は絶縁体基板1
の下面に形成された行電極、3−1〜3−nは絶縁体基
板1の上面に形成された列電極、4は上記の開口部14
に相当するイオン流通過孔、6は記録媒体である。この
ように行電極2−1〜2−4と列電極3−1〜3−nか
らなるマトリクス構成とすることにより、イオン流通過
孔4の数を増やして1ラインの解像度(1ラインのドッ
ト数は4(行電極の数)×n(列電極の数)となる)を
上げ、また制御に要する回路の単純化を図っている。そ
して、行電極2−1〜2−4と列電極3−1〜3−nに
イオン流通過孔選択パルス電圧を加え、特定のイオン流
通過孔4から選択的にイオン流を照射させることによ
り、静電記録を行う。
FIG. 5 is a plan view of a conventional recording head utilizing such a basic principle, and FIG. 6 is a sectional view taken along the line I--I of FIG. 1 is an insulator substrate, 2-1 to 2-4 are insulator substrates 1
Row electrodes formed on the lower surface of the insulating substrate 1, 3-1 to 3-n are column electrodes formed on the upper surface of the insulator substrate 1, and 4 is the opening 14 described above.
Is an ion flow passage hole, and 6 is a recording medium. By thus forming the matrix configuration of the row electrodes 2-1 to 2-4 and the column electrodes 3-1 to 3-n, the number of the ion flow passage holes 4 is increased and the resolution of one line (dots of one line). The number is increased to 4 (the number of row electrodes) × n (the number of column electrodes)), and the circuit required for control is simplified. Then, by applying an ion flow passage hole selection pulse voltage to the row electrodes 2-1 to 2-4 and the column electrodes 3-1 to 3-n, the ion flow is selectively irradiated from a specific ion flow passage hole 4. , Electrostatic recording.

【0005】このとき、中央部の行電極2−2、2−3
の位置のイオン流通過孔4を通るイオン流17は、記録
媒体6に向かって直進するのに対し、端部の行電極2−
1、2−4の位置の通過孔4を通るイオン流17は、図
6に示すように行電極と直角方向に偏向し、イオン流制
御板と垂直に進まなくなる。なぜならば、このような記
録ヘッドにおいては、「L」レベルの電圧が印加された
行電極と「H」レベルの電圧が印加された列電極とが絶
縁体基板1を挟んで重なった場合のみ、列電極と行電極
間の電界がイオン流17に対して順方向となり、この重
なった位置のイオン流通過孔4をイオン流17が通過す
る。
At this time, the central row electrodes 2-2, 2-3
While the ion flow 17 passing through the ion flow passage hole 4 at the position of (4) goes straight toward the recording medium 6, the row electrode 2-
The ion flow 17 passing through the passage holes 4 at the positions 1 and 2-4 is deflected in the direction perpendicular to the row electrodes as shown in FIG. 6 and does not proceed perpendicularly to the ion flow control plate. This is because, in such a recording head, only when the row electrode to which the “L” level voltage is applied and the column electrode to which the “H” level voltage is applied overlap each other with the insulator substrate 1 in between. The electric field between the column electrode and the row electrode is in the forward direction with respect to the ion flow 17, and the ion flow 17 passes through the ion flow passage hole 4 at the overlapping position.

【0006】そして、ある行電極に「L」レベルの電圧
を与えることにより、この行電極の通過孔4をイオン流
17が通過するとき、残りの行電極はイオン流の通過を
阻止する「H」レベルの電位に設定されており、これら
の行電極の通過孔4をイオン流17が通ることはできな
いようになっている。これにより、例えば行電極2−2
の位置の通過孔4をイオン流17が通過するとき、行電
極2−2の電位は、図4(a)、(b)の説明からも分
かるように、この電極を挟む行電極2−1、2−3の電
位よりも低いので、電極2−1から2−2、電極2−3
から2−2へと向かう電界が電極2−2の周囲に形成さ
れる。したがって、行電極2−2を挟む周囲の電界が均
一となり、イオン流17は直進する。これは、行電極2
−3の場合も同様である。
By applying a voltage of "L" level to a certain row electrode, when the ion stream 17 passes through the passage hole 4 of this row electrode, the remaining row electrodes block the passage of the ion stream "H". The electric potential is set to a level "" so that the ion flow 17 cannot pass through the passage holes 4 of these row electrodes. Thereby, for example, the row electrode 2-2
When the ion flow 17 passes through the passage hole 4 at the position, the potential of the row electrode 2-2 is, as can be seen from the description of FIGS. 4A and 4B, the row electrode 2-1 sandwiching this electrode. Since the potential is lower than that of the electrodes 2-3, the electrodes 2-1 to 2-2 and the electrode 2-3 are
An electric field from the electrode 2-2 to the electrode 2-2 is formed around the electrode 2-2. Therefore, the electric field around the row electrode 2-2 becomes uniform, and the ion flow 17 goes straight. This is row electrode 2
The same applies to the case of -3.

【0007】これに対し、端部の行電極2−1の隣には
行電極2−2しかないので、電極2−1の位置の通過孔
4をイオン流17が通過するとき、電極2−1の周囲に
は電極2−2から2−1へと向かう電界だけが存在す
る。よって、行電極2−1を挟む周囲の電界が中央部と
は同一条件とはなり得ず、イオン流17が偏向する原因
となる。これは、同じく端部の行電極2−4の場合も同
様である。
On the other hand, since only the row electrode 2-2 is adjacent to the row electrode 2-1 at the end, when the ion flow 17 passes through the passage hole 4 at the position of the electrode 2-1, the electrode 2- There is only an electric field around 1 around the electrode 2-2 to 2-1. Therefore, the electric field around the row electrode 2-1 cannot be in the same condition as the central part, which causes the ion current 17 to be deflected. This also applies to the row electrodes 2-4 at the ends.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】以上のように従来の記
録ヘッドでは、イオン流通過孔を通ったイオン流に偏向
が生じて記録媒体上の所望の位置から外れた位置に到達
し、記録媒体上に不均一な静電荷像が形成されるため、
画像に記録ムラが発生しやすいという問題点があった。
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、
均一な静電荷像を形成することができる記録ヘッドを提
供することを目的とする。
As described above, in the conventional recording head, the ion flow passing through the ion flow passage holes is deflected to reach a position deviating from the desired position on the recording medium, and Since a non-uniform electrostatic charge image is formed on the top,
There is a problem that recording unevenness easily occurs in the image.
The present invention has been made to solve the above problems,
An object is to provide a recording head capable of forming a uniform electrostatic charge image.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の記録ヘッドは、
イオン発生源とイオン流制御板とを備え、イオン流制御
板は、記録媒体と対向するように配置された絶縁体基板
と、この絶縁体基板の第1の面に形成された、記録位置
を選択するための電圧を入力とする複数の行電極と、絶
縁体基板を挟んで行電極と立体交差するように絶縁体基
板の第2の面に形成された、記録情報に応じた電圧を入
力とする複数の列電極と、行電極、列電極及び絶縁体基
板を貫通して形成された、イオン流を通過させるための
イオン流通過孔と、複数の行電極のうち両端に位置する
2つの行電極の外側に、この電極と平行に形成されたダ
ミー電極とを有するものであり、このダミー電極にはイ
オン流の通過を阻止する際の行電極と同じ電位を与える
ようにしたものである。イオン流の通過を阻止する際の
行電極と同じ電位をダミー電極に与えることにより、両
端に位置する行電極を挟む周囲の電界の対称性が保たれ
ることになり、イオン流通過孔を通るイオン流は行電極
と直角の方向に偏向することなく直進する。
According to the present invention, there is provided a recording head comprising:
The ion flow control plate includes an ion generation source and an ion flow control plate, and the ion flow control plate defines a recording position formed on the first surface of the insulating substrate so as to face the recording medium. A plurality of row electrodes that receive a voltage for selection and a voltage according to the recorded information that is formed on the second surface of the insulating substrate so as to intersect the row electrodes with the insulating substrate interposed therebetween are input. A plurality of column electrodes, an ion flow passage hole for passing an ion flow formed through the row electrode, the column electrode and the insulator substrate, and two row electrodes located at both ends of the plurality of row electrodes. A dummy electrode formed in parallel to the row electrode is provided outside the row electrode, and the same potential as that of the row electrode when blocking passage of an ion current is applied to the dummy electrode. . By applying the same potential as the row electrodes when blocking the passage of the ion current to the dummy electrodes, the symmetry of the electric field around the row electrodes located at both ends is maintained, and the dummy electrodes pass through the ion current passage holes. The ion stream goes straight without being deflected in the direction perpendicular to the row electrodes.

【0010】また、複数の列電極のうち両端に位置する
2つの列電極の外側に、この電極と平行に形成されたダ
ミー電極を有するものであり、このダミー電極には列電
極に印加される電圧範囲内の電位を与えるようにしたも
のである。列電極に印加される電圧範囲内の電位をダミ
ー電極に与えることにより、両端に位置する列電極を挟
む周囲の電界の対称性が改善されることになり、イオン
流通過孔を通るイオン流は列電極と直角の方向に偏向す
ることなく直進する。
Further, a dummy electrode formed in parallel with the two column electrodes located at both ends of the plurality of column electrodes is provided outside the column electrodes, and the dummy electrodes are applied to the column electrodes. The electric potential is applied within the voltage range. By applying to the dummy electrodes a potential within the voltage range applied to the column electrodes, the symmetry of the electric field around the column electrodes located at both ends is improved, and the ion flow through the ion flow passage holes is reduced. It goes straight without being deflected in the direction perpendicular to the column electrodes.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施の形態
となる記録ヘッドの平面図、図2は図1のI−I線断面
図、図3はこの記録ヘッドの各電極に印加する電圧波形
を示すタイミングチャート図である。図1、図2におい
て、1は絶縁体基板、2−1〜2−4は行電極、3−1
〜3−nは列電極、4はイオン流通過孔、5−1、5−
2は行電極2−1、2−4の外側に形成されたダミー電
極、6は導電性材料の上に誘電体樹脂が形成された記録
媒体、7はイオン流である。
1 is a plan view of a recording head according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line I--I of FIG. 1, and FIG. 3 shows each electrode of this recording head. It is a timing chart figure which shows the voltage waveform to apply. In FIGS. 1 and 2, 1 is an insulator substrate, 2-1 to 2-4 are row electrodes, 3-1.
˜3-n is a column electrode, 4 is an ion flow passage hole, 5-1 and 5-
Reference numeral 2 is a dummy electrode formed outside the row electrodes 2-1, 2-4, 6 is a recording medium in which a dielectric resin is formed on a conductive material, and 7 is an ion flow.

【0012】イオン流7を制御するイオン流制御板は、
絶縁体基板1、行電極2−1〜2−4、列電極3−1〜
3−n、イオン流通過孔4およびダミー電極5−1、5
−2から構成される。そして、図示しない送り機構によ
り、記録媒体6は、所定の位置に固定されたイオン流制
御板、つまり記録ヘッドに対して図1の矢印のように上
下方向に移動する。
The ion flow control plate for controlling the ion flow 7 is
Insulator substrate 1, row electrodes 2-1 to 2-4, column electrodes 3-1 to
3-n, ion flow passage hole 4 and dummy electrodes 5-1, 5
-2. Then, the recording medium 6 is vertically moved by an unillustrated feeding mechanism with respect to the ion flow control plate fixed at a predetermined position, that is, the recording head, as shown by an arrow in FIG.

【0013】このような記録ヘッドを用いて静電記録を
行うには、行電極2−1〜2−4に図3(b)〜(e)
のような電圧A1〜A4をそれぞれ印加し、列電極3−
1、3−2には画像データのドット情報に応じた図3
(g)、(h)のような電圧B1、B2をそれぞれ印加
する。なお、ここでは列電極3−1、3−2のみに電圧
を印加する説明がなされているが、その他の列電極3−
3〜3−nにもドット情報に応じた電圧を同様に加える
ことは言うまでもない。
In order to carry out electrostatic recording using such a recording head, the row electrodes 2-1 to 2-4 are shown in FIGS.
The voltages A1 to A4 as shown in FIG.
1 and 3-2 correspond to the dot information of the image data shown in FIG.
The voltages B1 and B2 as shown in (g) and (h) are applied, respectively. It should be noted that although the description is given here that the voltage is applied only to the column electrodes 3-1, 3-2, the other column electrodes 3-
It goes without saying that a voltage corresponding to dot information is similarly applied to 3 to 3-n.

【0014】そして、「L」レベルの電圧が印加された
行電極と「H」レベルの電圧が印加された列電極とが絶
縁体基板1を挟んで重なった場合のみ、列電極と行電極
間の電界がイオン流7に対して順方向となり、この重な
った位置のイオン流通過孔4をイオン流7が通過する。
Only when the row electrode to which the "L" level voltage is applied and the column electrode to which the "H" level voltage is applied overlap with each other with the insulator substrate 1 sandwiched therebetween, between the column electrode and the row electrode. The electric field of is in the forward direction with respect to the ion flow 7, and the ion flow 7 passes through the ion flow passage hole 4 at the overlapping position.

【0015】このようなイオン流制御により1ラインの
記録は以下のようにして行われる。なお、実際の制御に
おいては、記録ヘッドの解像度よりも行電極のピッチの
方が大きいので、媒体6が行電極間を移動する間に電圧
パルスA1〜A4のサイクルが数回繰り返されるが、こ
こでは説明を簡単にするために、媒体6が行電極2−1
から2−4の位置まで移動する間に上記サイクルが1回
行われるものとする。
Recording of one line is performed as follows by controlling the ion flow as described above. In the actual control, since the pitch of the row electrodes is larger than the resolution of the recording head, the cycle of the voltage pulses A1 to A4 is repeated several times while the medium 6 moves between the row electrodes. In order to simplify the explanation, the medium 6 is the row electrode 2-1.
It is assumed that the above cycle is performed once while moving from the position to the position of 2-4.

【0016】まず、図3のt1の時点で電圧A1を
「L」レベルにして行電極2−1を選択し、列電極3−
1〜3−nにドット情報に応じた電圧パルスを印加す
る。これにより、行電極2−1の位置(横方向は3−1
から3−nまで)のイオン流通過孔4からイオン流7が
ドット情報に応じて選択的に記録媒体6に照射される。
続いて、t2の時点で電圧A2を「L」レベルにして行
電極2−2を選択し、列電極3−1〜3−nにドット情
報に応じた電圧パルスを印加する。これにより、行電極
2−2の位置のイオン流通過孔4からイオン流7が選択
的に記録媒体6に照射される。
First, at time t1 in FIG. 3, the voltage A1 is set to the "L" level to select the row electrode 2-1 and the column electrode 3-.
A voltage pulse corresponding to dot information is applied to 1 to 3-n. As a result, the position of the row electrode 2-1 (the horizontal direction is 3-1
To 3-n), the ion flow 7 is selectively applied to the recording medium 6 from the ion flow passage hole 4 according to the dot information.
Then, at time t2, the voltage A2 is set to "L" level to select the row electrode 2-2, and the voltage pulse according to the dot information is applied to the column electrodes 3-1 to 3-n. As a result, the ion flow 7 is selectively applied to the recording medium 6 from the ion flow passage hole 4 at the position of the row electrode 2-2.

【0017】このとき、記録媒体6が図1の上方から下
方に動いているとすると、イオン流7は、行電極2−1
の選択によって記録媒体6上に形成された電荷の間に照
射される。次いで、上記と同様にt3の時点で電圧A3
によって行電極2−3を選択することにより、イオン流
7は、行電極2−3の位置の通過孔4を通って、行電極
2−1の選択によって媒体6上に形成された電荷と行電
極2−2の選択によって形成された電荷の間に照射され
る。
At this time, assuming that the recording medium 6 is moving from the upper side to the lower side in FIG. 1, the ion flow 7 is generated by the row electrode 2-1.
The irradiation is performed during the electric charge formed on the recording medium 6 by the selection. Then, at the time t3, the voltage A3
By selecting the row electrode 2-3 by the row electrode 2-3, the ion flow 7 passes through the passage hole 4 at the position of the row electrode 2-3, and the charge and the row formed on the medium 6 by the selection of the row electrode 2-1. It is irradiated during the charge formed by the selection of electrode 2-2.

【0018】最後に、t4の時点で電圧A4によって行
電極2−4を選択することにより、イオン流7は、行電
極2−4の位置の通過孔4を通って、行電極2−1の選
択によって形成された電荷と行電極2−3の選択によっ
て形成された電荷の間に照射される。こうして、記録媒
体6を動かしながら行電極2−1〜2−4を順次選択す
ることにより、記録媒体6上に静電荷像の1ライン分が
形成される。
Finally, at time t4, by selecting the row electrode 2-4 by the voltage A4, the ion flow 7 passes through the passage hole 4 at the position of the row electrode 2-4, and then the ion flow 7 of the row electrode 2-1. Irradiation is performed between the charge formed by selection and the charge formed by selection of the row electrode 2-3. In this way, one line of the electrostatic charge image is formed on the recording medium 6 by sequentially selecting the row electrodes 2-1 to 2-4 while moving the recording medium 6.

【0019】このような静電記録において、中央の行電
極2−2又は2−3が選択されてこの電極に「L」レベ
ルの電圧パルスが印加されるとき、この電極を挟む2つ
の行電極(例えば、選択された行電極が2−2であれば
行電極2−1と2−3)の電位は「H」レベルとなる。
ところが、行電極2−1又は2−4が選択されるとき、
この電極は2つの行電極に挟まれていないので、前述の
ように周囲の電界に不均一が生じる。
In such electrostatic recording, when the central row electrode 2-2 or 2-3 is selected and a voltage pulse of "L" level is applied to this electrode, the two row electrodes sandwiching this electrode are sandwiched. (For example, if the selected row electrode is 2-2, the potentials of the row electrodes 2-1 and 2-3) become the “H” level.
However, when the row electrode 2-1 or 2-4 is selected,
Since this electrode is not sandwiched between the two row electrodes, the surrounding electric field becomes nonuniform as described above.

【0020】そこで、行電極2−1、2−4の外側にダ
ミー電極5−1、5−2を設け、この電極5−1、5−
2にイオン流7の通過を阻止するときの行電極の電位
(電圧パルスA1〜A4の「H」レベル)と同電位の電
圧C1、C2を印加しておく。これにより、行電極2−
1が選択されたとき、この電極は「H」レベルの行電極
2−2とダミー電極5−1に挟まれることになり、周囲
の電界の対称性が保たれる。同様に、行電極2−4が選
択されたとき、この電極は「H」レベルの行電極2−3
とダミー電極5−2に挟まれることになり、周囲の電界
の対称性が保たれる。
Therefore, dummy electrodes 5-1 and 5-2 are provided outside the row electrodes 2-1 and 2-4, and the electrodes 5-1 and 5- are provided.
Voltages C1 and C2 having the same potential as the potential of the row electrode (“H” level of the voltage pulses A1 to A4) when the passage of the ion flow 7 is blocked are applied to 2. Thereby, the row electrode 2-
When 1 is selected, this electrode is sandwiched between the "H" level row electrode 2-2 and the dummy electrode 5-1, and the symmetry of the surrounding electric field is maintained. Similarly, when the row electrode 2-4 is selected, this electrode is the "H" level row electrode 2-3.
Since it is sandwiched between the dummy electrodes 5-2, the symmetry of the surrounding electric field is maintained.

【0021】よって、行電極2−1〜2−4の何れにつ
いても、電極を挟む両隣の電界の対称性が保たれるの
で、イオン流通過孔4を通ったイオン流7は、行電極と
直角の方向に偏向することなく、イオン流制御板と垂直
に記録媒体6に向かって直進する。こうして、記録媒体
6上に形成される電荷像の画素は所定の位置からずれる
ことなく正確な位置に形成され、記録ムラのない画像が
得られる。
Accordingly, in any of the row electrodes 2-1 to 2-4, the symmetry of the electric fields on both sides of the electrodes is maintained, so that the ion flow 7 passing through the ion flow passage hole 4 is It travels straight toward the recording medium 6 perpendicularly to the ion flow control plate without being deflected in the direction of the right angle. In this way, the pixels of the charge image formed on the recording medium 6 are formed at accurate positions without shifting from the predetermined positions, and an image without recording unevenness is obtained.

【0022】イオン流制御板の構成例としては、例えば
300DPIの解像度の4行構成の記録ヘッドを想定す
ると、絶縁体基板1として厚さ50〜200μm程度の
ポリイミド等を使用し、電極2−1〜2−4、3−1〜
3−n、5−1、5−2としては厚さ5〜30μm程度
の銅パターンを用いればよい。行電極2−1〜2−4の
幅は200〜400μm程度、行電極同士のピッチは3
00〜600μm程度、列電極3−1〜3−nの幅は2
00〜400μm程度、列電極同士のピッチは約340
μm、イオン流通過孔4の大きさは直径100〜200
μmである。もちろん、これ以外の値を使ってもよい。
As an example of the structure of the ion flow control plate, assuming a recording head having a four-row structure with a resolution of 300 DPI, polyimide or the like having a thickness of about 50 to 200 μm is used as the insulating substrate 1, and the electrode 2-1. ~ 2-4, 3-1 ~
As the 3-n, 5-1, 5-2, a copper pattern having a thickness of about 5 to 30 μm may be used. The width of the row electrodes 2-1 to 2-4 is about 200 to 400 μm, and the pitch between the row electrodes is 3
The width of the column electrodes 3-1 to 3-n is about 2 to 200 μm.
The pitch between the column electrodes is about 340.
μm, the size of the ion flow passage hole 4 is 100 to 200 in diameter.
μm. Of course, any other value may be used.

【0023】また、行電極とダミー電極の間隔は上記行
電極のピッチと同じとする。そして、ダミー電極の幅は
行電極の幅をほぼ最小値として、望ましくはイオン流制
御板と記録媒体6の間隔(例えば1mm)以上にすれば
よい。ダミー電極5−1、5−2の幅が広い方が望まし
いのは、電極2−1、2−4の内側に複数の行電極が存
在するため、これらと外側のダミー電極5−1、5−2
との条件を揃えた方が良いからである。
The distance between the row electrodes and the dummy electrodes is the same as the pitch between the row electrodes. Then, the width of the dummy electrode is preferably set to be equal to or more than the interval (for example, 1 mm) between the ion flow control plate and the recording medium 6 with the width of the row electrode being substantially the minimum value. It is desirable that the dummy electrodes 5-1 and 5-2 have a large width because a plurality of row electrodes are present inside the electrodes 2-1 and 2-4. -2
This is because it is better to match the conditions with.

【0024】なお、本実施の形態では、行電極が4本の
場合で説明したが、行電極は2本以上あれば同様の効果
を得ることができる。また、本実施の形態では、記録媒
体6に近い方に行電極を配したが、この配置を逆転させ
て媒体6に近い方に列電極を配置してもよい。この場合
は、行電極と列電極に加える電圧を本実施の形態と変え
る必要があるが、ダミー電極に加える電圧は、本実施の
形態と同様にイオン流の通過を阻止するときの行電極と
同電位にしておけばよい。
In the present embodiment, the case where there are four row electrodes has been described, but the same effect can be obtained if there are two or more row electrodes. Further, in the present embodiment, the row electrodes are arranged closer to the recording medium 6, but this arrangement may be reversed to arrange the column electrodes closer to the medium 6. In this case, the voltage applied to the row electrode and the column electrode needs to be changed from that of the present embodiment, but the voltage applied to the dummy electrode is the same as that of the row electrode when blocking the passage of the ion current as in the present embodiment. The same potential should be set.

【0025】また、本実施の形態では、ダミー電極5−
1、5−2にイオン流7の通過を阻止するときの行電極
と同電位(「H」レベル)の電圧C1、C2を常時印加
しているが、少なくとも行電極2−1又は2−4の位置
の通過孔4をイオン流7が通過する間(つまり、電圧A
1又はA4が「L」レベルの間)だけ上記電位の電圧
(「H」レベル)を与えるようにしてもよい。このよう
な電圧を与える具体的な方法としては、例えば行電極2
−2〜2−4に印加する電圧の何れかを電圧C1として
ダミー電極5−1に与え、行電極2−1〜2−3に印加
する電圧の何れかを電圧C2としてダミー電極5−2に
与えるようにしてもよい。
In the present embodiment, the dummy electrode 5-
Voltages C1 and C2 having the same potential (“H” level) as the row electrode when blocking the passage of the ion current 7 are always applied to 1 and 5-2, but at least the row electrode 2-1 or 2-4. While the ion flow 7 is passing through the passage hole 4 at the position (that is, the voltage A
1 or A4 may be applied with the voltage (“H” level) of the above potential only during the “L” level. As a specific method of applying such a voltage, for example, the row electrode 2
Any of the voltages applied to −2 to 2-4 is applied to the dummy electrode 5-1 as the voltage C1, and any of the voltages applied to the row electrodes 2-1 to 2-3 is applied to the dummy electrode 5-2. May be given to.

【0026】また、本実施の形態では行電極2−1〜2
−4のみを対象としたが、列電極においても両端の列電
極3−1、3−nについて同様にイオン流の偏向が生じ
る。このイオン流を直進させるためには、列電極3−
1、3−nの外側に列電極と平行するダミー電極を設け
て、このダミー電極に列電極に印加される電圧範囲(電
圧パルスB1、B2の「H」レベルから「L」レベルの
範囲)内の電位を与えておけばよい。このような電圧を
与えることにより、電位が記録情報に応じて常時変動す
る列電極に対しても同様の効果を得ることができる。
Further, in this embodiment, the row electrodes 2-1 and 2-2 are provided.
Although only -4 is targeted, the deflection of the ion current similarly occurs in the column electrodes 3-1 and 3-n at both ends. To make this ion flow go straight, the column electrode 3-
A dummy electrode parallel to the column electrode is provided outside 1, 3-n, and the voltage range applied to the column electrode on the dummy electrode (range from "H" level to "L" level of voltage pulses B1 and B2) The internal potential should be given. By applying such a voltage, the same effect can be obtained even for the column electrode whose potential constantly changes according to the recorded information.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明によれば、イオン流の通過を阻止
する際の行電極と同じ電位をダミー電極に与えることに
より、両端に位置する行電極の周囲の電界の対称性が保
たれることになり、イオン流通過孔を通るイオン流が行
電極と直角の方向に偏向することなく直進するので、静
電荷像の画素を所望の位置からずれることなく正確な位
置に形成することができ、記録ムラのない画像を得るこ
とができる。
According to the present invention, by providing the dummy electrodes with the same potential as the row electrodes when blocking the passage of the ion current, the symmetry of the electric field around the row electrodes located at both ends is maintained. This means that the ion flow passing through the ion flow passage holes goes straight without being deflected in the direction perpendicular to the row electrodes, so that the pixel of the electrostatic charge image can be formed at the correct position without shifting from the desired position. It is possible to obtain an image without recording unevenness.

【0028】また、列電極に印加される電圧範囲内の電
位をダミー電極に与えることにより、両端に位置する列
電極の周囲の電界の対称性が改善されることになり、イ
オン流通過孔を通るイオン流が列電極と直角の方向に偏
向することなく直進するので、静電荷像の画素を所望の
位置からずれることなく正確な位置に形成することがで
き、記録ムラのない画像を得ることができる。
Further, by applying a potential within the voltage range applied to the column electrodes to the dummy electrodes, the symmetry of the electric field around the column electrodes located at both ends is improved, so that the ion current passage holes are Since the passing ion flow goes straight without being deflected in the direction perpendicular to the column electrodes, the pixels of the electrostatic charge image can be formed at the correct position without shifting from the desired position, and an image without recording unevenness can be obtained. You can

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第1の実施の形態となる記録ヘッド
の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a recording head according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1のI−I線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II of FIG. 1;

【図3】 図1の記録ヘッドの各電極に印加する電圧波
形を示すタイミングチャート図である。
3 is a timing chart showing a voltage waveform applied to each electrode of the recording head of FIG.

【図4】 イオン流の制御原理を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a principle of controlling an ion flow.

【図5】 従来の記録ヘッドの平面図である。FIG. 5 is a plan view of a conventional recording head.

【図6】 図5のI−I線断面図である。6 is a cross-sectional view taken along line I-I of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…絶縁体基板、2−1〜2−4…行電極、3−1〜3
−n…列電極、4…イオン流通過孔、5−1、5−2…
ダミー電極、6…記録媒体、7…イオン流。
1 ... Insulator substrate, 2-1 to 2-4 ... Row electrodes, 3-1 to 3
-N ... column electrode, 4 ... ion flow passage hole, 5-1, 5-2 ...
Dummy electrode, 6 ... Recording medium, 7 ... Ion flow.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 正孝 東京都武蔵野市御殿山一丁目1番3号 ク リスタルパークビル エヌ・ティ・ティ・ アドバンステクノロジ株式会社内 (72)発明者 小沢 勝 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 藤田 政志 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masataka Ota 1-3-3 Gotenyama, Musashino-shi, Tokyo Christal Park Building NTT Advanced Technology Co., Ltd. (72) Inventor Masaru Ozawa Shinjuku-ku, Tokyo Nishi-Shinjuku 3-19-2 Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Masashi Fujita 3--19-3 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Nippon Telegraph and Telephone Corporation

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 イオン発生源と、イオンの流れを制御す
るイオン流制御板とを備え、イオン発生源から放出され
たイオン流をイオン流制御板を通して記録媒体に照射し
て記録媒体上に電荷像を形成する記録ヘッドにおいて、 前記イオン流制御板は、記録媒体と対向するように配置
された絶縁体基板と、 この絶縁体基板の第1の面に形成された、記録位置を選
択するための電圧を入力とする複数の行電極と、 絶縁体基板を挟んで行電極と立体交差するように絶縁体
基板の第2の面に形成された、記録情報に応じた電圧を
入力とする複数の列電極と、 行電極、列電極及び絶縁体基板を貫通して形成された、
イオン流を通過させるためのイオン流通過孔と、 前記複数の行電極のうち両端に位置する2つの行電極の
外側に、この電極と平行に形成されたダミー電極とを有
するものであり、 このダミー電極にはイオン流の通過を阻止する際の行電
極と同じ電位を与えることを特徴とする記録ヘッド。
1. An ion generation source and an ion flow control plate for controlling the flow of ions, wherein the recording medium is irradiated with the ion flow emitted from the ion generation source through the ion flow control plate to charge the recording medium. In the recording head for forming an image, the ion flow control plate is provided with an insulating substrate arranged to face the recording medium, and for selecting a recording position formed on the first surface of the insulating substrate. A plurality of row electrodes for receiving the voltage of the input voltage, and a plurality of row electrodes for inputting the voltage according to the recorded information formed on the second surface of the insulating substrate so as to intersect the row electrodes with the insulating substrate interposed therebetween. Column electrodes, and row electrodes, column electrodes and insulator substrate formed through
An ion flow passage hole for passing an ion flow, and a dummy electrode formed in parallel to the two row electrodes located at both ends of the plurality of row electrodes, the dummy electrodes being formed in parallel with the electrode. A recording head characterized in that a dummy electrode is applied with the same potential as a row electrode when blocking passage of an ion stream.
【請求項2】 イオン発生源と、イオンの流れを制御す
るイオン流制御板とを備え、イオン発生源から放出され
たイオン流をイオン流制御板を通して記録媒体に照射し
て記録媒体上に電荷像を形成する記録ヘッドにおいて、 前記イオン流制御板は、記録媒体と対向するように配置
された絶縁体基板と、 この絶縁体基板の第1の面に形成された、記録位置を選
択するための電圧を入力とする複数の行電極と、 絶縁体基板を挟んで行電極と立体交差するように絶縁体
基板の第2の面に形成された、記録情報に応じた電圧を
入力とする複数の列電極と、 行電極、列電極及び絶縁体基板を貫通して形成された、
イオン流を通過させるためのイオン流通過孔と、 前記複数の列電極のうち両端に位置する2つの列電極の
外側に、この電極と平行に形成されたダミー電極とを有
するものであり、 このダミー電極には列電極に印加される電圧範囲内の電
位を与えることを特徴とする記録ヘッド。
2. An ion generation source and an ion flow control plate for controlling the flow of ions, wherein the recording medium is irradiated with the ion flow emitted from the ion generation source through the ion flow control plate to charge the recording medium. In the recording head for forming an image, the ion flow control plate is provided with an insulating substrate arranged to face the recording medium, and for selecting a recording position formed on the first surface of the insulating substrate. A plurality of row electrodes for receiving the voltage of the input voltage, and a plurality of row electrodes for inputting the voltage according to the recorded information formed on the second surface of the insulating substrate so as to intersect the row electrodes with the insulating substrate interposed therebetween. Column electrodes, and row electrodes, column electrodes and insulator substrate formed through
An ion flow passage hole for passing an ion flow, and a dummy electrode formed in parallel to the two column electrodes positioned at both ends of the plurality of column electrodes, the dummy electrodes being formed in parallel with the electrode. A recording head characterized in that a potential within a voltage range applied to a column electrode is applied to a dummy electrode.
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