JPH09211201A - Optical article with coating film and its production - Google Patents

Optical article with coating film and its production

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JPH09211201A
JPH09211201A JP8021240A JP2124096A JPH09211201A JP H09211201 A JPH09211201 A JP H09211201A JP 8021240 A JP8021240 A JP 8021240A JP 2124096 A JP2124096 A JP 2124096A JP H09211201 A JPH09211201 A JP H09211201A
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JP
Japan
Prior art keywords
layer
refractive index
hard coat
modified layer
organic compound
Prior art date
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Pending
Application number
JP8021240A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Suzuki
哲男 鈴木
Hiroshi Niikura
宏 新倉
Atsushi Abe
淳 阿部
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Priority to EP96113919A priority patent/EP0762151A3/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical article having a coating film which has high environmental resistance and can be formed in continuous processes by vapor phase growth method. SOLUTION: This product consists of a synthetic resin base body, a modified layer formed on the base body, and a hard coating layer formed on the modified layer. The modified layer contains at least one of Si and Ti compds. and has the refractive index changing in the thickness direction. The hard coating layer is thicker than the modified layer, has a const. refractive index and contains Si and O. The modified layer is formed in such a manner that at least the interface part in contact with the hard coating layer is in an amorphous state.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐擦傷性向上のた
めの硬化層を表面に備えた物品の製造方法に係わり、特
に、CRTディスプレー、光学用レンズ、液晶表示素子
などの光学的物品の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an article having a cured layer on its surface for improving scratch resistance, and particularly to an optical article such as a CRT display, an optical lens and a liquid crystal display device. It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】眼鏡用プラスチックレンズ等の光学物品
の耐擦傷性を向上させるために、ハードコートと呼ばれ
る被膜を表面に形成する技術が知られている。この被膜
を形成するために、従来、シランカップリング剤に対象
物を浸漬する浸漬表面処理(ディッピング)技術が用い
られている。この浸漬表面処理技術は、対象物の素材が
合成樹脂である場合、耐熱性の点などから非常に有効な
技術であることが知られている。
2. Description of the Related Art There is known a technique of forming a coating called a hard coat on the surface in order to improve scratch resistance of optical articles such as spectacle plastic lenses. In order to form this coating, a dipping surface treatment (dipping) technique of dipping an object in a silane coupling agent has been conventionally used. It is known that this immersion surface treatment technique is a very effective technique from the viewpoint of heat resistance when the material of the object is a synthetic resin.

【0003】また、浸漬表面処理技術においては、被膜
の材質が異なると、浸漬剤の組成も異なる。このため、
例えば、プラスチックレンズにハードコートを形成する
場合には、新たな高屈折率レンズが開発されるのたび
に、これに対応可能な屈折率のハードコートを形成する
ための浸漬剤を開発しなければならない。そのため、浸
漬剤の開発費用の負担が重くなってきている。
Further, in the immersion surface treatment technique, if the material of the coating film is different, the composition of the dipping agent is also different. For this reason,
For example, when forming a hard coat on a plastic lens, every time a new high-refractive index lens is developed, a dipping agent must be developed to form a hard coat having a refractive index compatible with this. I won't. Therefore, the burden of development cost of the dipping agent is becoming heavy.

【0004】また、プラスチックレンズの場合、レンズ
の屈折率ごとに用いる浸漬剤が異なるため、浸漬表面処
理用の装置等の設備を、屈折率ごとに、複数台設置しな
ければならない。このため、設備の減価償却費が毎年増
大する傾向にある。
Further, in the case of a plastic lens, since the dipping agent used differs depending on the refractive index of the lens, it is necessary to install a plurality of equipment such as a device for dipping surface treatment for each refractive index. Therefore, the depreciation cost of equipment tends to increase every year.

【0005】さらに、最近では特注品のプラスチックレ
ンズを受注する傾向がある。特に、眼鏡レンズの場合、
1ペア(2枚)で受注し、そのまま製造工場の一貫製造
ラインを流れる工程などが検討されている。この場合、
特注品がどのような屈折率であってもハードコートを形
成できるようにするためには、常に全屈折率分の浸漬表
面処理装置ラインを設置しておく必要があり、生産効率
が悪くなる欠点を有している。
Further, recently, there is a tendency to receive an order for a custom-made plastic lens. Especially for eyeglass lenses,
Orders are received for one pair (two sheets), and the process of directly flowing through the integrated manufacturing line of the manufacturing plant is being considered. in this case,
In order to be able to form a hard coat regardless of the refractive index of a custom-made product, it is necessary to always install a dipping surface treatment equipment line for all the refractive indexes, which is a drawback that production efficiency deteriorates. have.

【0006】また、従来の浸漬表面処理法でハードコー
トを形成する場合、コートする前の表面処理として、ア
ルカリ溶液に浸すというような表面の活性化処理等が不
可欠である。しかしながら、最近、環境問題などからこ
れらに使用される廃液処理等の問題が起こり始めてい
る。
When a hard coat is formed by a conventional dipping surface treatment method, surface activation treatment such as dipping in an alkaline solution is indispensable as the surface treatment before coating. However, recently, problems such as waste liquid treatment used for these have begun to occur due to environmental problems and the like.

【0007】さらにまた、従来の被膜の製造工程では縮
合硬化工程が必須であり、この工程に数時間要するた
め、納期の短縮化を計る上で非常に重要な改善上の課題
となっている。
Furthermore, a condensation curing step is indispensable in the conventional coating film manufacturing step, and this step requires several hours, which is a very important improvement problem in shortening the delivery time.

【0008】また、複数の被膜を積層する必要のある物
品の場合、これらの被膜を全て浸漬表面処理法で形成す
ると、高価な浸漬剤が何種類も必要になり、製造コスト
に見合わなくなるという問題も生じている。
Further, in the case of an article in which a plurality of coatings need to be laminated, if these coatings are all formed by the dipping surface treatment method, many kinds of expensive dipping agents are required, which is not suitable for the manufacturing cost. There are also problems.

【0009】そこで、浸漬表面処理法を用いずに被膜を
形成する技術として、プラズマCVDによって被膜を製
造する技術が、特開平5ー140356に開示されてい
る。この技術は、車両などに使われる透明樹脂製窓に、
密着性及び表面硬度を向上させるための表面硬化膜を形
成するために、プラズマCVDによってシリコン含有膜
(SiOx膜)を形成するものである。
Therefore, as a technique for forming a coating without using the dipping surface treatment method, a technique for producing a coating by plasma CVD is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 140356/1993. This technology is used for transparent resin windows used in vehicles,
A silicon-containing film (SiOx film) is formed by plasma CVD in order to form a surface hardened film for improving adhesion and surface hardness.

【0010】また、複数層の被膜を形成するために、ヨ
ーロッパ特許EP−203730号においては、光学部
品基材上に有機ケイ素化合物を浸漬表面処理法により形
成し、その上に反射防止膜を形成し、さらにその上に有
機物硬化性物質(撥水性コート)を形成させることが提
案されている。
Further, in order to form a multi-layer coating, in European Patent EP-203730, an organosilicon compound is formed on an optical component substrate by a dip surface treatment method, and an antireflection film is formed thereon. Then, it is proposed to further form an organic substance curable substance (water repellent coat) on it.

【0011】また、特開昭62−247302号公報で
は、無機物の反射防止コート膜上に、シラザン化合物を
形成させ、撥水性を持たせ表面を改質させる技術が開示
されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-247302 discloses a technique of forming a silazane compound on an antireflection coating film of an inorganic material to impart water repellency to modify the surface.

【0012】また、眼鏡プラスチックレンズの場合に
は、プラスチックレンズを保護するためのハードコート
と呼ばれる有機シリコーン被膜を浸漬表面処理法(ディ
ッピング法)によって形成した後、反射防止膜を真空蒸
着法により形成する方法を用いる。このとき、2〜3種
類のハードコート設備を利用して、数種類のプラスチッ
クレンズに対応したハードコート被膜を機能的に選択
し、複数種類のプラスチックレンズに同一のハードコー
ト被膜を形成させることにより、製造コストを低減させ
る工夫が行なわれている。
In the case of eyeglass plastic lenses, an organic silicone coating called a hard coat for protecting the plastic lenses is formed by a dipping surface treatment method (dipping method), and then an antireflection film is formed by a vacuum deposition method. Method is used. At this time, by using two to three types of hard coat equipment, functionally selecting a hard coat film corresponding to several types of plastic lenses, and forming the same hard coat film on a plurality of types of plastic lenses, Measures have been taken to reduce the manufacturing cost.

【0013】また、特開平7−56001号および特開
平7−56002号公報には、プラスチックレンズのハ
ードコート層の屈折率を、膜厚方向について変化させる
ことにより、干渉縞の発生を抑制することが開示されて
いる。このために、ハードコート層を高屈折率材料と低
屈折率材料とを混合した材料で形成し、膜厚方向につい
て混合割合を変化させることにより、屈折率を変化させ
ている。
Further, in JP-A-7-56001 and JP-A-7-56002, the occurrence of interference fringes is suppressed by changing the refractive index of the hard coat layer of the plastic lens in the film thickness direction. Is disclosed. For this reason, the hard coat layer is formed of a material in which a high refractive index material and a low refractive index material are mixed, and the refractive index is changed by changing the mixing ratio in the film thickness direction.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開平5−140356号公報に記載されている方法で
形成された被膜は、耐温水性が低く、眼鏡用プラスチッ
クレンズのように耐温水性が要求される対象物には使用
できない。具体的には、この方法で形成された被膜は、
80℃、10分の温水浸漬テストにおいて、膜が隆起し
てしまい、外観上の良好な品質が得られない欠点を有し
ている。
However, the coating film formed by the method described in JP-A-5-140356 described above has a low hot water resistance and, like a plastic lens for eyeglasses, a hot water resistance. Cannot be used for required objects. Specifically, the coating formed by this method,
In a hot water immersion test at 80 ° C. for 10 minutes, the film is bulged, which has a drawback that a good quality in appearance cannot be obtained.

【0015】また、EP−203730号等のように、
浸漬表面処理法と、他の気相成長方法とを組み合わせて
複数層の被膜を形成する方法は、浸漬表面処理法により
形成する被膜の硬化時間に、非常に長い時間が必要であ
る。また、次の反射防止膜の形成工程へ移るために、一
度大気に晒される状態が避けられず、一貫した工程を連
続して行うことが困難である。
In addition, like EP-203730,
The method of forming a coating film of a plurality of layers by combining the immersion surface treatment method and another vapor phase growth method requires a very long time for curing the coating film formed by the immersion surface treatment method. In addition, since the process moves to the next step of forming the antireflection film, it is inevitable that the film is once exposed to the atmosphere, and it is difficult to perform consistent steps continuously.

【0016】また、特開平7−56001号および特開
平7−56002号公報記載の技術においては、ハード
コート層の屈折率を変化させることにより、干渉縞の発
生を抑制することは可能であるが、この層を、プラスチ
ックレンズを保護するためのハードコート層として実際
に作用させるためには、硬い膜にする必要がある。その
ために、ハードコート層は、通常、厚い膜(通常3μm
以上)に形成される。しかしながら、前記の開示された
技術においては、プラズマ中に発生する金属および酸素
等の各正負イオンからなる空間電荷を平衡状態に保つた
めには、それらの各正負イオンを安定化させる制御が必
要であるが、実際には、この制御を長い時間にわたり行
なうことは、基板側に発生するバイアス電圧が不安定に
なりやすい。そのため、プラズマによる放電が、断続あ
るいは中断される現象が伴い、形成される薄膜内部の原
子組成比が不均一になり、ハードコート層内の酸素結合
状態の欠損が生じ、形成される酸化物膜が低級酸化物を
含むようになり、ハードコート層自体が吸収を生じ、着
色してしまう。
Further, in the techniques described in JP-A-7-56001 and JP-A-7-56002, it is possible to suppress the generation of interference fringes by changing the refractive index of the hard coat layer. In order for this layer to actually act as a hard coat layer for protecting the plastic lens, it needs to be a hard film. Therefore, the hard coat layer is usually a thick film (usually 3 μm).
Above). However, in the above disclosed technique, in order to keep the space charge composed of positive and negative ions such as metal and oxygen generated in the plasma in an equilibrium state, it is necessary to control the positive and negative ions to stabilize. However, in practice, performing this control for a long time tends to make the bias voltage generated on the substrate side unstable. Therefore, the discharge due to plasma is intermittently or interrupted, the atomic composition ratio inside the formed thin film becomes non-uniform, the oxygen bond state in the hard coat layer is lost, and the formed oxide film. Will contain a lower oxide, and the hard coat layer itself will absorb and color.

【0017】したがって、特開平7−56001号およ
び特開平7−56002号公報記載の技術で、実際にハ
ードコート層を形成すると、ハードコート層が着色して
しまい、実用上、問題が生じる。この着色は、ハードコ
ート層の機械的耐久性を向上させるために、膜厚を大き
くするほど顕著になる。
Therefore, when the hard coat layer is actually formed by the techniques described in JP-A-7-56001 and JP-A-7-56002, the hard coat layer is colored, which causes a problem in practical use. This coloring becomes more remarkable as the film thickness is increased in order to improve the mechanical durability of the hard coat layer.

【0018】よって、眼鏡等の透明なプラスチックレン
ズに、特開平7−56001号および特開平7−560
02号公報記載の技術を実施することは、実際には非常
に困難である。
Therefore, a transparent plastic lens such as spectacles can be applied to JP-A-7-56001 and JP-A-7-560.
It is actually very difficult to carry out the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 02-202.

【0019】また、本発明者は、基材とハードコート層
との間に、厚さ方向に向かって屈折率が変化する変性層
を、様々な条件で形成することを試みた。しかし、形成
された光学物品の中には、膜が剥離したり、光学的な特
性に問題が発生したり、また、衝撃に対して弱いという
問題点が生じた。
The present inventor has also tried to form a modified layer whose refractive index changes in the thickness direction between the base material and the hard coat layer under various conditions. However, in the formed optical article, there are problems that the film is peeled off, a problem occurs in optical characteristics, and that it is weak against impact.

【0020】また、従来のディッピング(浸漬処理)に
よる有機系シリコーンハードコートをプラスチックレン
ズ上に設けた場合、レンズをディッピング溶液に垂直方
向に浸すため、レンズ半径方向における膜厚分布のムラ
が生じてしまう。例え、レンズとハードコートの屈折率
をほぼ同じにしたとしても、この両者の界面における反
射の相違が生じてしまい、干渉縞(リップル)が強調さ
れてしまい、美的外観を損なってしまうことは免れな
い。このことは、レンズ自体が曲面を有しているため、
特に顕著に現れることが判った。
Further, when an organic silicone hard coat by conventional dipping (immersion treatment) is provided on a plastic lens, the lens is soaked in a dipping solution in a vertical direction, so that unevenness in film thickness distribution occurs in the radial direction of the lens. I will end up. For example, even if the refractive index of the lens and the hard coat are made approximately the same, the difference in reflection at the interface between the two causes the interference fringes (ripple) to be emphasized, which impairs the aesthetic appearance. Absent. This means that the lens itself has a curved surface,
It turned out that it appears particularly noticeably.

【0021】本発明は、上記問題点を解決し、耐環境性
が大きく、光学特性が優れ、気相成長法により一貫した
工程で形成することができる被膜を備えた光学物品を提
供することを目的とする。
The present invention solves the above problems and provides an optical article having a coating having a high environmental resistance, excellent optical characteristics and which can be formed in a consistent process by a vapor phase growth method. To aim.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】本発明者は、基材とハー
ドコート層との間に、厚さ方向に向かって屈折率が変化
する変性層を、様々な条件で形成し、その際の変性層の
材料、成膜条件、変性層とハードコート層または基材と
の相性など、各条件における問題点について研究した。
その結果、ハードコート層との界面部分の屈折率変性層
をアモルファス構造とすることにより、基材とハードコ
ート層の界面の区別をなくし、屈折率変性層とハードコ
ード層、ならびに、基材とハードコート層とを密着性を
高めることができ、しかも、界面からの反射を防ぐこと
ができることがわかった。
Means for Solving the Problems The present inventor has formed a modified layer whose refractive index changes in the thickness direction between a base material and a hard coat layer under various conditions. The problems under each condition such as the material of the modified layer, the film forming conditions, and the compatibility between the modified layer and the hard coat layer or the substrate were studied.
As a result, by making the refractive index modified layer at the interface with the hard coat layer an amorphous structure, the interface between the base material and the hard coat layer is not distinguished, and the refractive index modified layer and the hard code layer, and the base material It was found that the adhesion with the hard coat layer can be enhanced and reflection from the interface can be prevented.

【0023】よって、上記目的を達成するために、本発
明によれば、合成樹脂基材と、前記基材上に形成され、
Si系およびTi系の化合物の少なくとも一方を含み、
厚さ方向に向かって屈折率が変化している変性層と、前
記変性層上に形成され、前記変性層よりも厚い膜厚を有
し、かつ、屈折率が一定であり、SiおよびOを含むハ
ードコート層とを有し、前記変性層は、少なくとも前記
ハードコート層と接する界面の部分がアモルファスであ
ることを特徴とする光学物品が提供される。
Therefore, in order to achieve the above object, according to the present invention, a synthetic resin base material and a base material formed on the base material,
Containing at least one of Si-based and Ti-based compounds,
A modified layer having a refractive index changing in the thickness direction, and a film formed on the modified layer, having a thickness larger than that of the modified layer, having a constant refractive index, and containing Si and O. And a hard coat layer containing the hard coat layer, wherein the modified layer is amorphous at least at a portion of an interface in contact with the hard coat layer.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】本発明の発明の実施の形態につい
て説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described.

【0025】本発明においては、減圧容器内にアルコキ
シ基含有有機チタン化合物及びアルコキシ基含有有機珪
素化合物の各モノマーを気体状態にし、プラズマ雰囲気
中各モノマーガスを導入し、基材上にそれらのモノマー
とプラズマ反応で生成される形成化合物を各々のモノマ
ーの流量比を加減させながら薄膜堆積させていくとによ
り、基材とハードコートとの間に、中間的な密着性の良
好な有機または無機化合物屈折率変性層を形成する。
In the present invention, each monomer of the alkoxy group-containing organotitanium compound and the alkoxy group-containing organosilicon compound is made into a gas state in a vacuum vessel, each monomer gas is introduced in a plasma atmosphere, and the monomer is placed on the substrate. By forming a thin film of the compound formed by the plasma reaction while adjusting the flow rate ratio of each monomer, an organic or inorganic compound having good intermediate adhesion between the base material and the hard coat. A refractive index modified layer is formed.

【0026】その上に、本来のハードコート層なるアル
コキシ基含有有機及び/または無機珪素化合物薄膜を形
成する。
An alkoxy group-containing organic and / or inorganic silicon compound thin film, which is the original hard coat layer, is formed thereon.

【0027】このとき変性層は、ハードコート層との界
面付近が、アモルファス状の構造となるように形成す
る。これにより、プラスチック基材とハードコート層と
の強固な密着強度与え、またさらには、干渉縞を抑制さ
せることができる。
At this time, the modified layer is formed such that the vicinity of the interface with the hard coat layer has an amorphous structure. As a result, a strong adhesion strength between the plastic base material and the hard coat layer can be provided, and furthermore, interference fringes can be suppressed.

【0028】本願発明におけるアモルファス状の構造と
は、Si系およびTi系の少なくとも一方の物質を主成
分とするアモルファス構造を有しているが、本願発明
は、このSi系およびTi系の少なくとも一方の物質を
主成分とするアモルファス構造の一部に有機化合物が含
まれている構造も含まれる。
The amorphous structure in the present invention has an amorphous structure containing at least one of Si-based and Ti-based substances as a main component, but the present invention is based on at least one of the Si-based and Ti-based materials. A structure in which an organic compound is included in a part of the amorphous structure containing the substance as a main component is also included.

【0029】本発明では、基材として、ポリカーボネイ
ト、ポリメチルメタクリレートおよびその共重合体、ジ
エチレングリコールビスアリルカーボネイト(ピッツバ
ークプレート ガラス社製 CR−39)の重合体、ポ
リエステル、不飽和ポリエステル、アクリロニトリルー
スチレン共重合体、塩化ビニル、ポリウレタン、エポキ
シ樹脂、ハロゲン(但し、フッ素を除く)および水酸基
を含有するモノまたはジ(メタ)アクリレートとイソシ
アネート化合物との重合体またはその共重合体等から任
意に選択された材料からなる基材を用いることができ
る。ポリエステルのなかでは、特にポリエチレンテレフ
タレートが好ましく使用される。
In the present invention, as the base material, polycarbonate, polymethyl methacrylate and its copolymer, a polymer of diethylene glycol bisallyl carbonate (CR-39 manufactured by Pittsburgh Plate Glass Co., Ltd.), polyester, unsaturated polyester, acrylonitrile-styrene copolymer are used. Arbitrarily selected from polymers, vinyl chloride, polyurethane, epoxy resins, halogens (excluding fluorine), polymers of mono- or di (meth) acrylates containing hydroxyl groups and isocyanate compounds, or copolymers thereof. A base material made of a material can be used. Among the polyesters, polyethylene terephthalate is particularly preferably used.

【0030】また、これらの中で特に好ましくは、ジエ
チレングリコールビスアリルカーボネイトの重合体、ポ
リウレタン、および、ハロゲン(但し、フッ素を除く)
および水酸基を含有するモノまたはジ(メタ)アクリレ
ートとイソシアネート化合物と重合体またはその共重合
体のうちのいずれかからなる基材が使用できる。
Of these, particularly preferred are polymers of diethylene glycol bisallyl carbonate, polyurethane, and halogens (excluding fluorine).
Further, a substrate composed of a mono- or di- (meth) acrylate having a hydroxyl group, an isocyanate compound, a polymer or a copolymer thereof can be used.

【0031】また、基材は低屈折率のものから1.70
以上の高屈折率のものを用いることができる。
The base material has a low refractive index of 1.70.
It is possible to use one having a high refractive index as described above.

【0032】本発明の製造方法において、第1および第
2の工程において用いられるSiを含む有機化合物とし
ては、テトラエトキシシラン Si(OC25)4、ジメ
トキシジメチルシラン (CH3)2Si(OCH3)2、メチ
ルトリメトキシシラン CH3Si(OCH3)3、テトラ
メトキシシラン Si(OCH3)4、エチルトリメトキシ
シラン C25Si(OCH3)3、ジエトキシジメチルシ
ラン (C25O)2Si(CH3)2、メチルトリエトキシシ
ラン CH3Si(OC25)3等が好適に用いられる。
In the production method of the present invention, as the Si-containing organic compound used in the first and second steps, tetraethoxysilane Si (OC 2 H 5 ) 4 and dimethoxydimethylsilane (CH 3 ) 2 Si ( OCH 3) 2, methyltrimethoxysilane CH 3 Si (OCH 3) 3 , tetramethoxysilane Si (OCH 3) 4, ethyltrimethoxysilane C 2 H 5 Si (OCH 3 ) 3, diethoxy dimethyl silane (C 2 H 5 O) 2 Si (CH 3) 2, methyltriethoxysilane CH 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 and the like are suitably used.

【0033】また、本発明の製造方法において、第1の
工程において用いられるTiを含む有機化合物として
は、テトラメトキシチタン Ti(OCH3)4、テトラエ
トキシチタン Ti(OC25)4、テトラ-i-プロポキシ
チタン Ti(O-i-C37)4、テトラ-n-プロポキシチ
タン Ti(O-n-C37)4、テトラ-n-ブトキシチタン
Ti(O-n-C49)4、テトラ-i-ブトキシチタン Ti
(O-i-C49)4、テトラ-sec-ブトキシチタン Ti(O
-sec-C49)4、テトラ-t-ブトキシチタン Ti(O-t-
49)4、テトラジエチルアミノチタン Ti(N(C2
5)2)4等が好適に用いられる。
In the production method of the present invention, the organic compounds containing Ti used in the first step include tetramethoxy titanium Ti (OCH 3 ) 4 , tetraethoxy titanium Ti (OC 2 H 5 ) 4 , tetra -i- propoxytitanium Ti (O-i-C 3 H 7) 4, tetra -n- propoxytitanium Ti (O-n-C 3 H 7) 4, tetra -n- butoxy Ti (O-n-C 4 H 9 ) 4 , tetra-i-butoxytitanium Ti
(O-i-C 4 H 9 ) 4 , tetra-sec-butoxytitanium Ti (O
-sec-C 4 H 9) 4 , tetra -t- butoxy Ti (O-t-
C 4 H 9 ) 4 , tetradiethylaminotitanium Ti (N (C 2
H 5 ) 2 ) 4 and the like are preferably used.

【0034】これらのSiを含む有機化合物およびTi
を含む有機化合物は、その一種類を単独で用いても良
く、また、二種類以上を併用してもよい。
Organic compounds containing these Si and Ti
As the organic compound containing, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

【0035】また、本発明において変性層およびハード
コート層を形成する際に使用されるプラズマを用いた化
学気相成長(CVD)法は、原料ガスに熱エネルギー及
び電気的エネルギーを与えることにより放電させ、その
プラズマ雰囲気中の非熱平衡状態において反応を促進さ
せ、基材上に薄膜を堆積させる方法であり、通常使われ
てるものには平行平板電極型、容量結合型または誘導結
合型等がある。特に本発明においては、基材の主平面に
平行に電界と磁界とをかけるプラズマ促進CVD(PE
CVD)法により形成することが好適である。
Further, in the chemical vapor deposition (CVD) method using plasma, which is used in forming the modified layer and the hard coat layer in the present invention, discharge is performed by applying heat energy and electric energy to the source gas. This is a method of accelerating the reaction in a non-thermal equilibrium state in the plasma atmosphere and depositing a thin film on the substrate. Commonly used methods include a parallel plate electrode type, a capacitive coupling type or an inductive coupling type. . Particularly in the present invention, plasma-enhanced CVD (PE) in which an electric field and a magnetic field are applied in parallel to the main plane of the substrate.
The CVD method is preferable.

【0036】というのは、電界と平行に磁界を印加する
ことにより、対向する電極の間には磁界による電場が起
こり、プラズマ中のイオンは基板ホルダー側に加速され
る。また、この磁界による電場により、プラズマ密度が
均一化され、基板へのイオン損傷および温度上昇などが
抑制できる。従って、特にプラスチックレンズのような
透明な基材材料に薄膜を形成させる場合や、イオン損傷
により側鎖基が破断されやすい材料や耐熱性の低い材料
からなる基材を用いる場合、基材の損傷が少ないため、
磁界をかけるプラズマ促進CVDが非常に有効である。
By applying a magnetic field parallel to the electric field, an electric field due to the magnetic field occurs between the opposing electrodes, and the ions in the plasma are accelerated toward the substrate holder. Further, the electric field due to this magnetic field makes the plasma density uniform, and it is possible to suppress ion damage to the substrate and temperature rise. Therefore, especially when forming a thin film on a transparent substrate material such as a plastic lens, or when using a substrate made of a material whose side chain group is easily broken by ion damage or a material with low heat resistance, damage to the substrate Because there are few
Plasma-enhanced CVD that applies a magnetic field is very effective.

【0037】透明樹脂基材に屈折率変性層及びハードコ
ート層を形成する場合、それらの形成材料として、Ti
系及び/またはSi系アルコキシ基含有有機化合物から
なるモノマー及び/または酸素ガスを真空室へ導入し、
プラズマ雰囲気中で反応させ、透明樹脂基材に屈折率変
性層及びハードコート層を堆積させる。特に、屈折率変
性層を形成させる場合は、屈折率変性層とその上のハー
ドコート層との界面付近が疑似不定形アモルファス構造
になるように形成させることにより、強固な密着強度が
得られ、さらには、干渉縞を抑制させることができる。
必要に応じてその上に反射防止膜を形成し、さらにま
た、必要に応じて反射防止膜上に、フッ素系および/ま
たは珪素系有機化合物からなる撥水性の薄膜を形成する
ことができる。
When the refractive index modifying layer and the hard coat layer are formed on the transparent resin substrate, Ti is used as a forming material for them.
Introducing a monomer and / or oxygen gas composed of a system-based and / or Si-based alkoxy group-containing organic compound into a vacuum chamber,
The reaction is performed in a plasma atmosphere to deposit the refractive index modification layer and the hard coat layer on the transparent resin substrate. In particular, when forming the refractive index modified layer, by forming so that the vicinity of the interface between the refractive index modified layer and the hard coat layer on it has a pseudo amorphous amorphous structure, a strong adhesion strength is obtained, Furthermore, interference fringes can be suppressed.
If necessary, an antireflection film may be formed thereon, and if necessary, a water-repellent thin film made of a fluorine-based and / or silicon-based organic compound may be formed on the antireflection film.

【0038】本発明において反射防止膜の形成方法は特
に限定されものではない。即ち、化学的気相成長法(C
VD)、物理的気相成長法が適宜に利用できる。具体的
形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法,イオンプ
レーティング法,プラズマCVD法等で適宜に選択すれ
ば良い。
In the present invention, the method for forming the antireflection film is not particularly limited. That is, the chemical vapor deposition method (C
VD) and physical vapor deposition methods can be appropriately used. A specific forming method may be appropriately selected from a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plasma CVD method and the like.

【0039】また、本発明において必要に応じて、水ヤ
ケ防止コートを前記反射防止膜の上に設けても良い。な
お、水ヤケ防止コートに用いられる有機シラザン化合物
として下記単位式で示す Cp2p+1CH2CH2Si(NH)1.5 (ただし、pは正の整数)のものが好適に用いられる。
Further, in the present invention, a water stain prevention coat may be provided on the antireflection film, if necessary. As the organic silazane compound used in the water scorching preventing coating shown by the following unit formula C p F 2p + 1 CH 2 CH 2 Si (NH) 1.5 ( Here, p is a positive integer) are those preferably used.

【0040】水ヤケ防止コートの形成方法は、浸漬法等
の湿式法または真空蒸着、スパッタリング、CVD法等
の乾式法で形成することが可能である。
As the method for forming the water stain prevention coat, a wet method such as an immersion method or a dry method such as vacuum deposition, sputtering, or CVD can be used.

【0041】また、基材上にウレタン系、ポリビニルア
セタール等からなる衝撃吸収層を設ければ更に密着性、
耐衝撃性の向上した光学物品が得られる。
Further, if a shock absorbing layer made of urethane type, polyvinyl acetal or the like is provided on the base material, the adhesiveness is further improved.
An optical article with improved impact resistance can be obtained.

【0042】次に本発明による具体的な製造方法につい
て示す。Tiアルコキシ基含有有機化合物が入ったモノ
マー容器が真空室に接続器を外部から加熱することによ
り、気化させて真空室へ導入すると同時に酸素ガスも導
入する。その時の各々のガスの流量はそれぞれの目的に
あったものを適宜に選択すればよいが、好ましくは、S
i系アルコキシ基含有有機化合物のガスの場合は80〜
200SCCM、Ti系アルコキシ基含有有機化合物の
ガスの場合は30〜200SCCM、また、酸素ガスは
50〜200SCCMをそれぞれ単独若しくは併用させ
て真空室へ流す。
Next, a specific manufacturing method according to the present invention will be described. The monomer container containing the Ti-alkoxy group-containing organic compound heats the connector to the vacuum chamber from the outside to vaporize it and introduce it into the vacuum chamber, and at the same time introduce oxygen gas. The flow rate of each gas at that time may be appropriately selected according to each purpose, but preferably S
In the case of i-type alkoxy group-containing organic compound gas,
200 SCCM, 30 to 200 SCCM in the case of a Ti-based alkoxy group-containing organic compound gas, and 50 to 200 SCCM of oxygen gas are used individually or in combination and flow into the vacuum chamber.

【0043】その際の真空室内の圧力を0.5〜12P
aの範囲で安定させ、カソード側に高周波2〜3.5K
Wを印加する。それと同時に、真空室外部に設置されて
いる電磁石コイルに電流を流し、プラズマ雰囲気中に磁
界がかかるようにして低気圧アーク放電を安定化させ
る。このような磁界のかけ方により、対向する電極の間
には電場が起こり、プラズマ中のイオンは基板ホルダー
側に加速される。また、この電場により、プラズマ密度
が均一化され、基板へのイオン損傷および温度上昇など
が抑制できる。従って、特にプラスチックレンズのよう
な基板材料に薄膜を形成させる場合、イオン損傷により
側鎖基が破断されやすい材料や耐熱性の低い材料などを
扱う場合、非常に有効な薄膜形成が可能となる。
The pressure in the vacuum chamber at that time is 0.5 to 12 P.
Stabilized in the range of a, high frequency 2 to 3.5K on the cathode side
Apply W. At the same time, a current is applied to an electromagnet coil installed outside the vacuum chamber to stabilize the low pressure arc discharge by applying a magnetic field to the plasma atmosphere. Due to such a method of applying a magnetic field, an electric field is generated between opposing electrodes, and ions in plasma are accelerated toward the substrate holder side. In addition, this electric field makes the plasma density uniform and suppresses ion damage to the substrate and temperature rise. Therefore, when a thin film is formed on a substrate material such as a plastic lens, or when a material whose side chain group is easily broken by ion damage or a material having low heat resistance is used, a very effective thin film can be formed.

【0044】このような手法により、プラスチックレン
ズ上に直接Ti系及び/あるいはSi系アルコキシ基含
有有機化合物薄膜からなる屈折率変性層及び/あるいは
硬化層を形成することができる。
By such a method, it is possible to directly form the refractive index modifying layer and / or the hardening layer made of the Ti-based and / or Si-based alkoxy group-containing organic compound thin film on the plastic lens.

【0045】特に、この屈折率変性層と硬化層との界面
近傍においては、Si系アルコキシ基含有有機化合物の
ガス流量を徐々に増加させ、同時に、Ti系アルコキシ
基含有有機化合物のガス流量を徐々に減少させる。この
とき、Si系アルコキシ基含有有機化合物のガス流量の
変化量と、Ti系アルコキシ基含有有機化合物のガス流
量の変化量との比が、それぞれの変化量に含まれるSi
原子の数とTi原子の数との比に換算した場合に、1:
(3以下)になるように、正確に流量をそれぞれ増加お
よび減少させる。これにより、屈折率変化層は、ハード
コート層との界面近傍が、アモルファス構造を呈するよ
うになる。この原子比の範囲外の場合は結晶構造を呈す
るようになり、界面の密着強度が下がってしまう傾向に
なる。
Particularly, in the vicinity of the interface between the refractive index modified layer and the hardened layer, the gas flow rate of the Si-based alkoxy group-containing organic compound is gradually increased, and at the same time, the gas flow rate of the Ti-based alkoxy group-containing organic compound is gradually increased. Reduce to. At this time, the ratio of the change amount of the gas flow rate of the Si-based alkoxy group-containing organic compound to the change amount of the gas flow rate of the Ti-based alkoxy group-containing organic compound is included in each change amount.
When converted to the ratio of the number of atoms and the number of Ti atoms, it is 1:
Accurately increase and decrease the flow rate so as to be (3 or less). As a result, the refractive index change layer has an amorphous structure near the interface with the hard coat layer. If the atomic ratio is out of this range, a crystalline structure is exhibited, and the adhesion strength at the interface tends to decrease.

【0046】[0046]

【0047】[0047]

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により具体
的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるもの
ではない。以下の実施例は、眼鏡用プラスチックレンズ
に被膜を形成する実施例である。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. The following examples are examples of forming a coating on a plastic lens for eyeglasses.

【0048】(実施例1)本実施例では、ポリウレタン
系レンズ基材上に、バルツェルス(Balzers)社
製PECVD装置と真空蒸着装置とを用いて、屈折率変
性層と、3層構造のハードコート層と、反射防止膜とを
形成する。PECVD装置の真空室と真空蒸着装置の真
空室とは、ロードロック室で連結されている。ロードロ
ック室は、基材を、PECVD装置の真空室から真空蒸
着室の真空室へ真空を保った状態で移動させるための空
間である。
Example 1 In this example, a refractive index modifying layer and a hard coat having a three-layer structure were formed on a polyurethane lens substrate using a PECVD apparatus manufactured by Balzers and a vacuum vapor deposition apparatus. A layer and an antireflection film are formed. The vacuum chamber of the PECVD apparatus and the vacuum chamber of the vacuum vapor deposition apparatus are connected by a load lock chamber. The load lock chamber is a space for moving the base material from the vacuum chamber of the PECVD apparatus to the vacuum chamber of the vacuum deposition chamber while maintaining a vacuum.

【0049】PECVD装置は、真空室外に電磁コイル
を備えている。電磁コイルは、真空室内に配置された一
対の電極の間の空間に、電界と平行な方向に磁界をかけ
るように配置されている。電極間の空間には、カローセ
ルタイプの基材ホルダーが、基材の主平面を電界の向き
と平行に保持するように配置されている。
The PECVD apparatus has an electromagnetic coil outside the vacuum chamber. The electromagnetic coil is arranged in the space between the pair of electrodes arranged in the vacuum chamber so as to apply a magnetic field in a direction parallel to the electric field. In the space between the electrodes, a carousel-type base material holder is arranged so as to hold the main plane of the base material parallel to the direction of the electric field.

【0050】まず、ポリウレタン系レンズを超音波洗浄
機に通して洗浄後、Balzers社製PECVD装置
の真空室に設置し、2.7×10ー4Paまで排気した
後、ジメチルジエトキシランのガスを流量11SCCM
及びテトライソプロポキシチタンのガスを流量9SCC
M流し、真空室の圧力が 2.9Paになるまで導入す
る。外部電磁石コイルに2.6Aの電流を流すと同時
に、カソードに高周波出力0.6KWを45秒間印加
し、その間にテトライソプロポキシチタンのガスを1分
間当たり3SCCMの割合で、徐々に減少させ、同時に
ジメチルジエトキシシランのガスを1分間当たり5SC
CMの割合で増加させながら、膜厚260nmの屈折率
変性層を基材の両面に形成した。
First, the polyurethane lens was cleaned by passing it through an ultrasonic cleaning machine, placed in a vacuum chamber of a PECVD apparatus manufactured by Balzers, evacuated to 2.7 × 10 −4 Pa, and then dimethyldiethoxylane gas was discharged. Flow rate 11 SCCM
And tetraisopropoxy titanium gas flow 9SCC
Flow M and introduce until the pressure in the vacuum chamber reaches 2.9 Pa. At the same time as applying a current of 2.6 A to the external electromagnet coil, a high frequency output of 0.6 KW was applied to the cathode for 45 seconds, during which tetraisopropoxy titanium gas was gradually reduced at a rate of 3 SCCM per minute, and at the same time. Dimethyldiethoxysilane gas 5 SC / min
A refractive index modified layer having a thickness of 260 nm was formed on both surfaces of the base material while increasing the ratio of CM.

【0051】ジメチルジエトキシシランのガスの流量の
増加量である5SCCM中に含まれるSi原子の数と、
テトライソプロポキシチタンガスの流量の減少量3SC
CM中に含まれるTi原子の数との比は、1:1.2で
ある。
The number of Si atoms contained in 5 SCCM, which is the increase in the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas,
Decrease in flow rate of tetraisopropoxy titanium gas 3SC
The ratio with the number of Ti atoms contained in CM is 1: 1.2.

【0052】さらに、続いて、ジメチルジエトキシシラ
ンのガスを流量100SCCMと酸素ガスを流量35S
CCM流し、真空室の圧力が2.9Paになって流量が
安定したところで、外部電磁石コイルに2.6Aの電流
を流すと同時に、カソードに高周波出力0.8KWを2
5分間印加することにより、屈折率変性層の上にハード
コート層を形成した。さらに、酸素ガスの流量を70S
CCMに増加して、真空室の圧力が2.9Paになるよ
うに排気系のコンダクタンスをバリアブルオリフィスに
より調整し、カソードの高周波出力を1KWに上げて、
引き続き25分間ハードコート層を形成し、最後に、酸
素ガスの流量を140SCCMに増加して、さらにまた
25分間ハードコート層を形成した。
Further, subsequently, the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas is 100 SCCM and the flow rate of oxygen gas is 35 S.
When the CCM flowed and the pressure in the vacuum chamber became 2.9 Pa and the flow rate became stable, a current of 2.6 A was passed through the external electromagnet coil, and at the same time, a high frequency output of 0.8 kW was applied to the cathode.
A hard coat layer was formed on the refractive index modified layer by applying for 5 minutes. Furthermore, the flow rate of oxygen gas is 70S.
The conductance of the exhaust system is adjusted by the variable orifice so that the pressure in the vacuum chamber becomes 2.9 Pa by increasing to CCM, and the high frequency output of the cathode is raised to 1 KW.
Subsequently, the hard coat layer was formed for 25 minutes, and finally, the flow rate of oxygen gas was increased to 140 SCCM, and the hard coat layer was formed for another 25 minutes.

【0053】次に、レンズ基材ホルダーをロードロック
室に移動して、このレンズ基材ホルダーを90°反転さ
せることにより、レンズ基材の一方の面を蒸着源の方に
向かせて真空蒸着室へ送り、1.3×10ー3 Paまで
排気した後、電子ビーム加熱蒸着法により、反射防止膜
の各層を下記蒸着条件により各ハードコート層の上に形
成した。
Next, the lens base material holder is moved to the load lock chamber, and the lens base material holder is inverted by 90 °, so that one surface of the lens base material is directed toward the vapor deposition source and vacuum vapor deposition is performed. After being sent to a chamber and evacuated to 1.3 × 10 −3 Pa, each layer of the antireflection film was formed on each hard coat layer by the electron beam heating vapor deposition method under the following vapor deposition conditions.

【0054】 真空蒸着諸条件 A:オングストローム 第1層目 酸化チタン 420A(幾何的膜厚) 蒸着時圧力 4×10ー3Pa(O2雰囲気) 第2層目 二酸化珪素 420A(幾何的膜厚) 蒸着時圧力 1×10ー3Pa 第3層目 酸化チタン 2160A(幾何的膜厚) 蒸着時圧力 5×10ー3Pa(O2雰囲気) 第4層目 二酸化珪素 1200A(幾何的膜厚) 蒸着時圧力 1×10ー3Pa 以上により、レンズの片方の面に反射防止膜を形成させ
た後、今度はレンズ基材ホルダーに付随する両面反転機
構により、もう一方の面を蒸発源の方向に反転させて、
再度、前記と同様の蒸着条件により、反射防止膜を形成
した。 (実施例2)第2の実施例では、第1の実施例と同様
に、屈折率変性層、ハードコート層、反射防止膜を形成
するが、屈折率変性層を形成する際のジメチルジエトキ
シシランのガスの流量の増加量を8SCCMとし、テト
ライソプロポキシチタンガスの流量の減少量を6SCC
Mとした。
Various Conditions of Vacuum Deposition A: First Layer of Angstrom Titanium Oxide 420A (Geometric Film Thickness) Pressure during Deposition 4 × 10 −3 Pa (O 2 Atmosphere) Second Layer of Silicon Dioxide 420A (Geometric Film Thickness) Evaporation pressure 1 × 10 −3 Pa Third layer Titanium oxide 2160A (geometric film thickness) Evaporation pressure 5 × 10 −3 Pa (O 2 atmosphere) Fourth layer Silicon dioxide 1200A (geometric film thickness) Evaporation After forming an anti-reflection film on one surface of the lens with an hourly pressure of 1 × 10 −3 Pa or more, this time the other surface is turned toward the evaporation source by the double-sided inversion mechanism attached to the lens substrate holder. Flip it over,
Again, an antireflection film was formed under the same vapor deposition conditions as above. (Example 2) In the second example, as in the first example, a refractive index modification layer, a hard coat layer, and an antireflection film are formed, but dimethyldiethoxy when forming the refractive index modification layer. The amount of increase in the flow rate of silane gas is 8 SCCM, and the amount of decrease in the flow rate of tetraisopropoxy titanium gas is 6 SCC.
M.

【0055】ジメチルジエトキシシランのガスの流量の
増加量である8SCCM中に含まれるSi原子の数と、
テトライソプロポキシチタンガスの流量の減少量6SC
CM中に含まれるTi原子の数との比は、1:1.8で
ある。
The number of Si atoms contained in 8 SCCM, which is the increase in the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas,
Reduction amount of tetraisopropoxy titanium gas 6SC
The ratio with the number of Ti atoms contained in CM is 1: 1.8.

【0056】他の製造工程は、第1の実施例と同じであ
るので説明を省略する。
Since the other manufacturing steps are the same as those in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

【0057】(実施例3)第3の実施例では、第1の実
施例と同様に、屈折率変性層、ハードコート層、反射防
止膜を形成するが、屈折率変性層を形成する際にジメチ
ルジエトキシシランのガスの流量の増加量を11SCC
Mとし、テトライソプロポキシチタンガスの流量の減少
量を9SCCMとした。
(Embodiment 3) In the third embodiment, the refractive index modifying layer, the hard coat layer and the antireflection film are formed in the same manner as in the first embodiment, but when the refractive index modifying layer is formed. Increase the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas by 11 SCC
M, and the amount of decrease in the flow rate of tetraisopropoxy titanium gas was 9 SCCM.

【0058】ジメチルジエトキシシランのガスの流量の
増加量である11SCCM中に含まれるSi原子の数
と、テトライソプロポキシチタンガスの流量の減少量9
SCCM中に含まれるTi原子の数との比は、1:2.
6である。
The number of Si atoms contained in 11 SCCM, which is the increase in the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas, and the decrease in the flow rate of tetraisopropoxytitanium gas, 9
The ratio with the number of Ti atoms contained in SCCM is 1: 2.
6.

【0059】(実施例4)第4の実施例は、第1の実施
例により反射防止膜まで形成した基材レンズを再度ロー
ドロック室にもどして、レンズ基材ホルダーを90°反
転させた後、再度PECVD装置の真空室へ送り1.3
×10ー3Paまで排気した後、ヘキサメチルジシラザン
及び酸素からなる混合ガスを各々10SCCM及び50
SCCMの流量で真空室へ導入し、真空室のその時の圧
力を8Paに制御し、外部電磁石コイルに2.6Aの電
流を流すと同時に、カソードに高周波出力0.6KWを
印加し、膜厚50〜100オングストロームになるよう
に水ヤケ防止コートなる撥水性薄膜を形成した。
(Embodiment 4) In the fourth embodiment, the base lens having the antireflection film formed according to the first embodiment is returned to the load lock chamber again, and the lens base holder is inverted by 90 °. , Send it again to the vacuum chamber of PECVD equipment 1.3
After evacuation to × 10 −3 Pa, a mixed gas of hexamethyldisilazane and oxygen was added at 10 SCCM and 50 respectively.
It is introduced into the vacuum chamber at a flow rate of SCCM, the pressure in the vacuum chamber at that time is controlled to 8 Pa, a current of 2.6 A is passed through the external electromagnet coil, and at the same time, a high frequency output of 0.6 kW is applied to the cathode, and a film thickness of 50 A water-repellent thin film, which is a water stain resistant coating, was formed to have a thickness of about 100 Å.

【0060】(比較例1)ポリウレタン系レンズを超音
波洗浄機に通して洗浄後、Balzers社製PECV
D装置の真空室に設置し、2.7×10ー4Paまで排気
した後、ジメチルジエトキシランのガスを流量11SC
CM及びテトライソプロポキシチタンのガスを流量9S
CCM流し、真空室の圧力が 2.9Paになるまで導
入し、外部電磁石コイルに2.6Aの電流を流すと同時
に、カソードに高周波出力0.6KWを45秒間印加
し、その間にテトライソプロポキシチタンのガスを1分
間当たり11SCCMの割合で、徐々に減少させ、同時
にジメチルジエトキシシランのガスを1分間当たり13
SCCMの割合で増加させながら、膜厚260nmの屈
折率変性層を基材の両面に形成した。
(Comparative Example 1) A polyurethane lens was passed through an ultrasonic cleaner to clean it, and then PECV manufactured by Balzers.
Was placed in a vacuum chamber of the D device was evacuated to 2.7 × 10 over 4 Pa, the flow rate of dimethyl diethoxy-run gas 11SC
CM and tetraisopropoxy titanium gas flow rate 9S
CCM is flown and introduced until the pressure in the vacuum chamber reaches 2.9 Pa, a current of 2.6 A is flown to the external electromagnet coil, and at the same time, a high frequency output of 0.6 KW is applied to the cathode for 45 seconds, during which tetraisopropoxytitanium is applied. Gas is gradually reduced at a rate of 11 SCCM per minute, and at the same time, dimethyldiethoxysilane gas is reduced to 13 per minute.
A refractive index modified layer having a thickness of 260 nm was formed on both surfaces of the substrate while increasing the ratio of SCCM.

【0061】ジメチルジエトキシシランのガスの流量の
増加量である13SCCM中に含まれるSi原子の数
と、テトライソプロポキシチタンガスの流量の減少量1
3SCCM中に含まれるTi原子の数との比は、1:
3.2である。
The number of Si atoms contained in 13 SCCM, which is the increase in the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas, and the decrease in the flow rate of tetraisopropoxytitanium gas, 1
The ratio with the number of Ti atoms contained in 3SCCM is 1:
3.2.

【0062】上記で形成した各々の屈折率変性層の上
に、さらに、続いて、ジメチルジエトキシシランのガス
を流量100SCCMと酸素ガスを流量35SCCM流
し、真空室の圧力が2.9Paになって流量が安定した
ところで、外部電磁石コイルに2.6Aの電流を流すと
同時に、カソードに高周波出力0.8KWを25分間印
加して硬化層を形成した。さらに、酸素ガスの流量を7
0SCCMに増加して、真空室の圧力が2.9Paにな
るように排気系のコンダクタンスをバリアブルオリフィ
スにより調整し、カソードの高周波出力を1KWに上げ
て、引き続き25分間硬化層を形成し、最後に、酸素ガ
スの流量を140SCCMに増加して、さらにまた25
分間硬化層を形成した。
On each of the refractive index modified layers formed as described above, a flow rate of dimethyldiethoxysilane of 100 SCCM and a flow rate of oxygen gas of 35 SCCM were further passed, and the pressure in the vacuum chamber became 2.9 Pa. When the flow rate was stable, a current of 2.6 A was applied to the external electromagnet coil, and at the same time, a high frequency output of 0.8 KW was applied to the cathode for 25 minutes to form a hardened layer. Furthermore, the flow rate of oxygen gas is set to 7
Increase to 0SCCM, adjust the conductance of the exhaust system with a variable orifice so that the pressure in the vacuum chamber becomes 2.9 Pa, raise the high frequency output of the cathode to 1 KW, and subsequently form a hardened layer for 25 minutes, and finally Increase the flow rate of oxygen gas to 140 SCCM, and
A cured layer was formed for a minute.

【0063】次に、レンズ基材ホルダーをロードロック
室に移動して、このレンズ基材ホルダーを90°反転さ
せて、レンズ基材の一方の面を蒸着源の方を向かせて、
真空蒸着室へ送り、1.3×10ー3 Paまで排気した
後、電子ビーム加熱蒸着法により、反射防止膜の各層を
下記蒸着条件により各硬化層の上に形成した。
Next, the lens base material holder is moved to the load lock chamber, the lens base material holder is inverted by 90 °, and one surface of the lens base material is turned toward the vapor deposition source.
After being sent to a vacuum evaporation chamber and evacuated to 1.3 × 10 −3 Pa, each layer of the antireflection film was formed on each cured layer under the following evaporation conditions by an electron beam heating evaporation method.

【0064】 真空蒸着諸条件 A:オングストローム 第1層目 酸化チタン 420A(幾何的膜厚) 蒸着時圧力 4×10ー3Pa(O2雰囲気) 第2層目 二酸化珪素 420A(幾何的膜厚) 蒸着時圧力 1×10ー3Pa 第3層目 酸化チタン 2160A(幾何的膜厚) 蒸着時圧力 5×10ー3Pa(O2雰囲気) 第4層目 二酸化珪素 1200A(幾何的膜厚) 蒸着時圧力 1×10ー3Pa (比較例2)第2の比較例では、第1の比較例と同様
に、屈折率変性層、ハードコート層、反射防止膜を形成
するが、屈折率変性層を形成する際にジメチルジエトキ
シシランのガスの流量の増加量を15SCCMとし、テ
トライソプロポキシチタンガスの流量の減少量を13S
CCMとした。
Various Conditions of Vacuum Deposition A: First Layer of Angstrom Titanium Oxide 420A (Geometric Film Thickness) Pressure during Deposition 4 × 10 −3 Pa (O 2 Atmosphere) Second Layer Silicon Dioxide 420A (Geometric Film Thickness) Evaporation pressure 1 × 10 −3 Pa Third layer Titanium oxide 2160A (geometric film thickness) Evaporation pressure 5 × 10 −3 Pa (O 2 atmosphere) Fourth layer Silicon dioxide 1200A (geometric film thickness) Evaporation Pressure per hour 1 × 10 −3 Pa (Comparative Example 2) In the second comparative example, the refractive index modifying layer, the hard coat layer and the antireflection film are formed as in the first comparative example, but the refractive index modifying layer is formed. When forming the gas, the amount of increase in the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas is set to 15 SCCM, and the amount of decrease in the flow rate of tetraisopropoxy titanium gas is set to 13S.
It was CCM.

【0065】ジメチルジエトキシシランのガスの流量の
増加量である15SCCM中に含まれるSi原子の数
と、テトライソプロポキシチタンガスの流量の減少量1
3SCCM中に含まれるTi原子の数との比は、1:
4.0である。
The number of Si atoms contained in 15 SCCM, which is the increase in the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas, and the decrease in the flow rate of tetraisopropoxytitanium gas, 1
The ratio with the number of Ti atoms contained in 3SCCM is 1:
4.0.

【0066】(比較例3)第3の比較例では、第1の比
較例と同様に、屈折率変性層、ハードコート層、反射防
止膜を形成するが、屈折率変性層を形成する際にジメチ
ルジエトキシシランのガスの流量の増加量を22SCC
Mとし、テトライソプロポキシチタンガスの流量の減少
量を20SCCMとした。
Comparative Example 3 In the third comparative example, the refractive index modifying layer, the hard coat layer and the antireflection film are formed as in the first comparative example, but when the refractive index modifying layer is formed. Increase the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas by 22SCC
M, and the decrease amount of the flow rate of tetraisopropoxy titanium gas was 20 SCCM.

【0067】ジメチルジエトキシシランのガスの流量の
増加量である22SCCM中に含まれるSi原子の数
と、テトライソプロポキシチタンガスの流量の減少量2
0SCCM中に含まれるTi原子の数との比は、1:
6.0である。
The number of Si atoms contained in 22SCCM, which is the increase in the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas, and the decrease in the flow rate of tetraisopropoxytitanium gas, 2
The ratio with the number of Ti atoms contained in 0 SCCM is 1:
6.0.

【0068】つぎに、上述の実施例および比較例で得ら
れた眼鏡用プラスチックレンズの試料について、機械的
耐久性を評価した。下記に評価内容を示す。
Next, the mechanical durability of the plastic lens samples for eyeglasses obtained in the above Examples and Comparative Examples was evaluated. The evaluation details are shown below.

【0069】評価項目 1)密着性 JIS D−202に準じて、試料表面に、1mm間隔
の切り込みを縦横にいれ、セロハンテープ(ニチバン製
商品名 セロテープ)をこの切り込みの上に貼り付
け、4kgの力でこのテープをはがし、膜はがれが生じ
るかどうかを調べる。
Evaluation Items 1) Adhesion According to JIS D-202, cuts with a 1 mm interval are vertically and horizontally placed on the surface of the sample, and cellophane tape (cellophane tape manufactured by Nichiban Co., Ltd.) is stuck on the cuts and 4 kg Peel off the tape with force to see if film peeling occurs.

【0070】2)耐擦傷性 (a)粗さ#0000のスチールウールを荷重600g
で試料に押しつけ、15秒間に30回往復させた後、試
料表面の傷の有無を調べる。
2) Scratch resistance (a) Steel wool having a roughness of # 0000 is loaded under a load of 600 g.
The sample is pressed against the sample and reciprocated 30 times in 15 seconds, and then the sample surface is checked for scratches.

【0071】(b)砂消しゴム(ライオン製 商品名
砂消しゴムER−502)を荷重500gで試料に押し
つけ、15秒間に30往復させた後、試料表面の傷の有
無を調べる。
(B) Sand eraser (Lion product name
A sand eraser ER-502) is pressed against the sample with a load of 500 g, and reciprocates 30 times for 15 seconds, and then the sample surface is checked for scratches.

【0072】3)耐温水 恒温槽の80℃の市水に10分間浸漬した後、試料表面
の膜に変化があるかどうかを調べる。
3) Hot water resistance After soaking in 80 ° C. city water in a constant temperature bath for 10 minutes, it is examined whether there is any change in the film on the sample surface.

【0073】4)耐熱性 エアー・オーブンの100℃の大気中に5分間放置した
後、試料表面の膜に変化があるかどうかを調べる。
4) Heat resistance After being left in an air oven at 100 ° C. for 5 minutes, it is examined whether or not the film on the sample surface is changed.

【0074】5)耐アルカリ性 水酸化ナトリウム水溶液(PH11)に6時間浸漬した
後、試料表面の膜に変化があるかどうかを調べる。
5) Alkali resistance After immersing in an aqueous solution of sodium hydroxide (PH11) for 6 hours, it is examined whether or not the film on the surface of the sample is changed.

【0075】6)耐酸性 硝酸水溶液(PH1)に6時間浸漬した後、試料表面の
膜に変化があるかどうかを調べる。
6) Acid resistance After dipping in an aqueous nitric acid solution (PH1) for 6 hours, it is examined whether or not the film on the sample surface is changed.

【0076】7)耐衝撃性 上述の各実施例および比較例において、基材レンズとし
て、中心厚1.2mmのレンズを使用したものを試料と
する。そして、米国のFDA規格に基づき、127cm
の高さから試料レンズの中心部に、16.4gの鋼球を
落下させて、割れないものを合格とした。
7) Impact resistance In each of the above-mentioned Examples and Comparative Examples, a sample using a lens having a center thickness of 1.2 mm as a base lens is used as a sample. And 127 cm based on US FDA standards
A steel ball weighing 16.4 g was dropped from the height to the center of the sample lens, and one that did not crack was passed.

【0077】8)干渉縞 自然光を照射した場合に、干渉縞がほとんど見えないも
のを良好、干渉縞が目視で見えるものを不良とする。
8) Interference fringes When natural light is irradiated, the ones in which the interference fringes are hardly visible are regarded as good, and the ones in which the interference fringes are visible are regarded as bad.

【0078】上述の評価項目について、実施例および比
較例の評価結果を、表1にまとめて示す。
With respect to the above-mentioned evaluation items, Table 1 collectively shows the evaluation results of Examples and Comparative Examples.

【0079】[0079]

【表1】 [Table 1]

【0080】表1からわかるように、上述の実施例の全
ての試料は、密着性、耐擦傷性(スチールウール)、耐
薬品性(酸)、耐衝撃性、干渉縞において、比較例の全
ての試料よりも優れている。また、耐熱性において、本
実施例の試料は、比較例3の試料よりも優れ、比較例
1、2の試料と同等である。また、耐擦傷性(砂消しゴ
ム)、耐温水性、耐薬品性(アルカリ)については、比
較例と同等の耐久性を示これは、つぎのようなことに起
因すると考えられる。
As can be seen from Table 1, all the samples of the above-mentioned examples are in all of the comparative examples in terms of adhesion, scratch resistance (steel wool), chemical resistance (acid), impact resistance and interference fringes. Better than the sample. Further, in the heat resistance, the sample of this example is superior to the sample of Comparative Example 3 and is equivalent to the samples of Comparative Examples 1 and 2. Further, with respect to scratch resistance (sand eraser), warm water resistance, and chemical resistance (alkali), the same durability as that of the comparative example is shown, which is considered to be due to the following.

【0081】本実施例では、ハードコート層と基材との
間に変性層を配置している。変性層は、ハードコート層
との界面付近がアモルファス構造になっている。これに
より、屈折変性層と硬化層との密着性が良好になり、耐
擦傷性の向上、耐衝撃性の向上、さらには、干渉縞を防
止する効果が得られる。また、変性層を100nmより
厚く、900nmよりも薄くしているため、密着性がさ
らに高められている。
In this embodiment, the modified layer is arranged between the hard coat layer and the base material. The modified layer has an amorphous structure near the interface with the hard coat layer. As a result, the adhesion between the refraction-modified layer and the cured layer becomes good, and the effects of improving scratch resistance, impact resistance, and preventing interference fringes can be obtained. Further, since the modified layer is thicker than 100 nm and thinner than 900 nm, the adhesiveness is further enhanced.

【0082】また、本実施例のハードコート層は、PE
CVDによって形成する際の混合ガス圧を、0.5〜1
2Paの範囲に制御している。これにより、本実施例の
ハードコート層は、組成と組織そのものが、耐久性に優
れたものになっている。また、これに加え、本実施例の
ハードコート層は、高屈折率材料を含まないため、酸素
量の調節により容易に透明にできるため、膜厚を厚く形
成することができ、この厚さにより、さらに機械的耐久
性と耐薬品性とが得られる。従って、ハードコート層
は、機械的耐久性、耐薬品性に優れ、ハードコート層と
して作用している。
Further, the hard coat layer of this embodiment is made of PE.
The mixed gas pressure when forming by CVD is 0.5 to 1
It is controlled within the range of 2 Pa. As a result, the composition and structure of the hard coat layer of this example are excellent in durability. In addition, in addition to this, the hard coat layer of the present embodiment does not contain a high refractive index material, so that it can be easily made transparent by adjusting the amount of oxygen, so that it can be formed in a large film thickness. Furthermore, mechanical durability and chemical resistance can be obtained. Therefore, the hard coat layer has excellent mechanical durability and chemical resistance and acts as a hard coat layer.

【0083】このような変性層とハードコート層の作用
によって、本実施例の被膜を備えたプラスチックレンズ
は、高い耐環境性が得られている。
Due to the effects of the modified layer and the hard coat layer, the plastic lens provided with the coating of this embodiment has high environmental resistance.

【0084】す。Yes.

【0085】また、本実施例のハードコート層は、低屈
折率材料のシリコンの酸化物を含んでいるため、厚さが
厚くとも、容易に透明にできる。
Further, since the hard coat layer of this embodiment contains the oxide of silicon which is a low refractive index material, it can be easily made transparent even if it is thick.

【0086】また、変性層は、ハードコート層であるハ
ードコート層とは別に設けられた膜であり、しかも、ハ
ードコート層よりも基材側に配置されているため、変性
層自体の機械的耐久性および耐薬品性は要求されない。
したがって、本実施例の変性層は、膜厚を薄くすること
ができる。変性層は、屈折率を変化させるために、酸素
が欠乏して着色しやすい高屈折率材料のTiの酸化物を
含んでいるが、本実施例では、膜厚を薄くすることがで
きるため、透明にすることができる。
Further, the modified layer is a film provided separately from the hard coat layer which is a hard coat layer, and is disposed on the base material side of the hard coat layer. Durability and chemical resistance are not required.
Therefore, the modified layer of this example can be made thin. The modified layer contains an oxide of Ti, which is a high-refractive-index material that is deficient in oxygen and easily colored in order to change the refractive index, but in this embodiment, since the film thickness can be made thin, Can be transparent.

【0087】また、反射防止膜も、各層の膜厚が薄いた
め、透明にすることができる。
Also, the antireflection film can be made transparent because each layer is thin.

【0088】このように、本実施例では、被膜全体の耐
久性を保ちながら、ハードコート層、変性層、反射防止
膜の各膜を透明にできるため、透明な被膜が得られ、眼
鏡用のプラスチックレンズの被膜として用いるのに適し
ている。
As described above, in this embodiment, since the hard coat layer, the modified layer, and the antireflection film can be made transparent while maintaining the durability of the entire film, a transparent film can be obtained, which is suitable for eyeglasses. Suitable for use as a coating for plastic lenses.

【0089】また、本実施例のプラスチックレンズの製
造方法は、ドライプロセスのみで、変性層、第1、第
2、第3のハードコート層、反射防止膜を連続して形成
することができる。この製造方法は、工程が非常に単純
であり、しかも従来の湿式プロセスのように、廃液処理
や、表面活性化処理や、縮合硬化工程等が不要であるた
め、製造コストを低減することができる。また、環境汚
染問題も解決できる。さらに、本実施例の製造方法は、
ガスの種類や真空容器内の圧力等の成膜条件を変えるの
みで、1台のPECVD装置で、屈折率等の膜性質を変
化させた被膜を製造することができる。したがって、湿
式プロセスのように予め溶液を準備しておく必要はな
く、1ロット2枚のレンズのような特注レンズの製造を
短い納期で行うことができる。
In the method of manufacturing the plastic lens of this embodiment, the modified layer, the first, second and third hard coat layers and the antireflection film can be continuously formed only by the dry process. This manufacturing method has very simple steps, and unlike the conventional wet process, waste liquid treatment, surface activation treatment, condensation curing step, etc. are not required, so the manufacturing cost can be reduced. . Moreover, the problem of environmental pollution can be solved. Furthermore, the manufacturing method of the present embodiment is
By only changing the film forming conditions such as the type of gas and the pressure in the vacuum container, a single PECVD apparatus can be used to produce a film in which the film properties such as the refractive index are changed. Therefore, unlike a wet process, it is not necessary to prepare a solution in advance, and a custom-made lens such as a lens of two lenses in one lot can be manufactured in a short delivery time.

【0090】上述の実施例では、磁界によってプラズマ
密度を高めるPECVD装置を用いたが、磁界を用いな
いプラズマCVD装置を用いることももちろん可能であ
る。
Although the PECVD apparatus for increasing the plasma density by the magnetic field is used in the above embodiment, it is of course possible to use the plasma CVD apparatus which does not use the magnetic field.

【0091】[0091]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、耐環境性が大きく、光学特性がすぐれ、気相成長法
により一貫した工程で形成することができる被膜を備え
た光学物品を提供することができる。
As described above, according to the present invention, there is provided an optical article having a coating having a large environment resistance, excellent optical characteristics and which can be formed in a consistent process by a vapor phase growth method. Can be provided.

【0092】本願発明の製造方法により製造された光学
物品は、耐擦傷性、耐衝撃性、耐温水性、耐熱性、耐薬
品性、機械的強度、透明性にも優れ、更に干渉縞の発生
しない光学物品が得られる。特に、本願発明の光学物品
は、基材上に気相成長法で形成した変性層を設け、これ
とハードコート層との界面をアモルファス状にすること
により、密着性が更に向上したものとなる。
The optical article produced by the production method of the present invention is excellent in scratch resistance, impact resistance, hot water resistance, heat resistance, chemical resistance, mechanical strength and transparency, and further, interference fringes are generated. An optical article that does not exist is obtained. In particular, the optical article of the present invention has a modified layer formed by the vapor phase growth method on the substrate, and the interface between the modified layer and the hard coat layer is made amorphous so that the adhesion is further improved. .

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】合成樹脂基材と、 前記基材上に形成され、Si系およびTi系の化合物の
少なくとも一方を含み、厚さ方向に向かって屈折率が変
化している変性層と、 前記変性層上に形成され、前記変性層よりも厚い膜厚を
有し、かつ、屈折率がほぼ一定であり、SiおよびOを
含むハードコート層とを有し、 前記変性層は、少なくとも前記ハードコート層と接する
界面の部分がアモルファス状であることを特徴とする光
学物品。
1. A synthetic resin substrate, a modified layer formed on the substrate, containing at least one of a Si-based compound and a Ti-based compound, and having a refractive index changing in the thickness direction, A hard coat layer formed on the modified layer, having a film thickness thicker than that of the modified layer, having a substantially constant refractive index, and containing Si and O; An optical article characterized in that an interface portion in contact with the coat layer is amorphous.
【請求項2】基材上に被膜を備えた光学物品の製造方法
であって、 前記基材の上に、Siを含む有機化合物ガスおよびTi
を含む有機化合物ガスの少なくとも一方を用い、プラズ
マを用いた化学気相成長法により、前記基材上に厚さ方
向に向かって屈折率が変化している変性層を形成する第
1の工程と、 前記変性層の上に、Siを含む有機化合物ガスと、酸素
ガスとの混合ガスを用い、プラズマを用いた化学気相成
長法により、ハードコート層を形成する第2の工程とを
有し、 前記第1の工程で供給する前記Siを含む有機化合物ガ
スの供給量を時間の経過とともに徐々に増加させ、同時
に、Tiを含む有機化合物ガスの供給量を時間の経過と
ともに徐々に減少させることを特徴とする被膜を備えた
光学物品の製造方法。
2. A method of manufacturing an optical article having a coating film on a substrate, wherein an organic compound gas containing Si and Ti are provided on the substrate.
A first step of forming a modified layer whose refractive index changes in the thickness direction on the base material by a chemical vapor deposition method using plasma using at least one of organic compound gases containing A second step of forming a hard coat layer on the modified layer by a chemical vapor deposition method using plasma using a mixed gas of an organic compound gas containing Si and an oxygen gas. , Gradually increasing the supply amount of the organic compound gas containing Si supplied in the first step with time, and at the same time gradually decreasing the supply amount of the organic compound gas containing Ti with time. The manufacturing method of the optical article provided with the coating characterized by the above.
【請求項3】請求項2において、前記Siを含む有機化
合物ガスの一定時間あたりの増加量と、Tiを含む有機
化合物ガスの前記一定時間あたりの減少量との比は、前
記ガスの増加量中に含まれるSi原子の数と前記ガスの
減少量中に含まれるTi原子の数に換算した場合に、
1:(3以下)に制御することを特徴とする被膜を備え
た光学物品の製造方法。
3. The ratio of the amount of increase in the organic compound gas containing Si per unit time to the amount of decrease of the organic compound gas containing Ti per unit time in the ratio of the increase amount of the gas according to claim 2. When converted into the number of Si atoms contained therein and the number of Ti atoms contained in the reduced amount of the gas,
A method for producing an optical article provided with a coating, which is controlled to 1: (3 or less).
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