JPH0920737A - Production of biodegradable chelete using chloroacetaldehyde or its acetal as raw material and l,l-ethylenediaminedisuccinic acid - Google Patents
Production of biodegradable chelete using chloroacetaldehyde or its acetal as raw material and l,l-ethylenediaminedisuccinic acidInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、クロルアセトアルデヒ
ドまたはそのアセタールから、Ｌ，Ｌ−エチレンジアミ
ンジコハク酸（以下、Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳという）および
そのアルカリ金属塩を製造する方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing L, L-ethylenediaminedisuccinic acid (hereinafter referred to as L, L-EDDS) and its alkali metal salt from chloroacetaldehyde or its acetal.
【０００２】Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳおよびそのアルカリ金属
塩は、生分解性キレート剤として、洗浄剤組成物、洗剤
ビルダー、重金属封鎖剤、過酸化物安定剤などに広く用
いられる。L, L-EDDS and its alkali metal salts are widely used as biodegradable chelating agents in detergent compositions, detergent builders, heavy metal sequestering agents, peroxide stabilizers and the like.
【０００３】[0003]
【従来の技術】Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳを製造する方法は、従
来から幾つか知られている。例えば、１分子のジブロモ
エタンに２分子のＬ−アスパラギン酸を付加する方法
（Inorganic Chemistry 1968年, 7 巻, 2405ページ) 、
あるいは、１分子のジクロロエタンに２分子のＬ−アス
パラギン酸を付加する方法（Chm. Zvesti, 1966年, 20
巻, 414 ページ) などがある。また、ＥＤＤＳの立体異
性体混合物を製造する従来技術としては、１分子のエチ
レンジアミンに２分子のマレイン酸を付加する方法（Zh
urnal Obschei Khimii, 1978年, 49巻, 659 ページ) が
知られている。これら従来技術の問題点について以下に
述べる。2. Description of the Related Art Several methods for producing L, L-EDDS have been conventionally known. For example, a method of adding two molecules of L-aspartic acid to one molecule of dibromoethane (Inorganic Chemistry 1968, Vol. 7, p. 2405),
Alternatively, a method of adding 2 molecules of L-aspartic acid to 1 molecule of dichloroethane (Chm. Zvesti, 1966, 20
Volume, page 414). Further, as a conventional technique for producing a stereoisomer mixture of EDDS, a method of adding 2 molecules of maleic acid to 1 molecule of ethylenediamine (Zh
urnal Obschei Khimii, 1978, 49, 659). The problems of these conventional techniques will be described below.
【０００４】ジブロモエタンを用いる従来技術は、Ｌ，
Ｌ−ＥＤＤＳ以外にも副生成物を伴うため、目的物を実
用的な反応収率で得るには至っていない。また、反応収
率が反応液のｐＨ、反応温度、ジブロモエタンの滴下速
度等の微細な変動によって大きく左右されるため、再現
性のある易工程とは成り難い。しかも、反応後に多量の
ブロム化合物が排出されるため、その廃液処理の点で重
大な課題を残す。更には、ジブロモエタンは、その不安
定性および毒性のため、入手の容易な原料とは言い難
く、近年は発癌性の疑いのため工業原料としての生産は
更に縮小されている。一方、ジクロロエタンを用いる従
来技術では、反応性の低下により、Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳの
収率は、ジブロモエタンを用いた場合よりも更に低下す
る。The prior art using dibromoethane is L,
Since a by-product is included in addition to L-EDDS, the desired product has not been obtained in a practical reaction yield. Further, the reaction yield is greatly influenced by minute fluctuations such as the pH of the reaction solution, the reaction temperature, and the dropping rate of dibromoethane, so that it is difficult to obtain a reproducible and easy process. Moreover, since a large amount of bromine compound is discharged after the reaction, there remains a serious problem in the treatment of the waste liquid. Furthermore, dibromoethane cannot be said to be an easily available raw material due to its instability and toxicity, and in recent years, production as an industrial raw material has been further reduced due to suspicion of carcinogenicity. On the other hand, in the conventional technique using dichloroethane, the yield of L, L-EDDS is further decreased as compared with the case of using dibromoethane, due to the decrease in reactivity.
【０００５】また、ＥＤＤＳの立体異性体混合物を製造
する従来技術は、ＥＤＤＳのＤ，Ｄ−体とＤ，Ｌ−体と
を、目的とするＬ，Ｌ−ＥＤＤＳ以上の生成比で与える
ため、ＥＤＤＳの生分解性キレート剤としての実用性に
致命的な課題を残している。すなわち、Ｄ，Ｄ−ＥＤＤ
Ｓは、生分解性に乏しく、環境中に大量に放出された
際、深刻な事態が懸念される。また、Ｄ，Ｌ−ＥＤＤＳ
は、本質的な生分解性は有するものの、分解速度は、
Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳに大きく劣り、易分解性とは言い難
い。Further, the prior art for producing a stereoisomer mixture of EDDS gives D, D-forms and D, L-forms of EDDS in a production ratio higher than the intended L, L-EDDS. There remains a fatal issue in the practicality of EDDS as a biodegradable chelating agent. That is, D, D-EDD
S is poor in biodegradability, and when it is released in a large amount in the environment, there is a fear of a serious situation. In addition, D, L-EDDS
Has an essential biodegradability, but the degradation rate is
It is much inferior to L and L-EDDS, and it is hard to say that it is easily decomposed.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、これら従来
技術の問題点を解決すべくなされたもので、Ｌ，Ｌ−Ｅ
ＤＤＳおよびそのアルカリ金属塩の工業的に有利な製造
方法を提供することを目的としており、具体的には、工
業的に入手が容易なクロルアセトアルデヒドまたはその
アセタールとＬ−アスパラギン酸を原料とし、生分解性
に極めて優れたＬ，Ｌ−ＥＤＤＳを、再現性の良い易工
程にて、高収率、高純度で提供することを課題とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve these problems of the prior art, and L, LE
An object of the present invention is to provide an industrially advantageous method for producing DDS and its alkali metal salt. Specifically, chloroacetaldehyde or its acetal and L-aspartic acid, which are industrially easily available, are used as raw materials to produce raw materials. An object of the present invention is to provide L, L-EDDS which is extremely excellent in decomposability in a high yield and a high purity in an easy process with good reproducibility.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究の結果、クロルアセトアルデヒド
またはそのアセタールのＬ−アスパラギン酸に対する求
核付加反応により、２−オキソメチル−Ｌ−アスパラギ
ン酸が容易に生成することを見いだした。また、このよ
うにして得られた２−オキソメチル−Ｌ−アスパラギン
酸が、更に１分子のＬ−アスパラギン酸と脱水縮合反応
によりシッフ塩基を容易に生成することを見いだした。
そして、このシッフ塩基を接触水素添加あるいは金属水
素化物等による還元反応に供すると、目的とするＬ，Ｌ
−ＥＤＤＳが高収率、高純度で，ラセミ化を伴わずに得
られることを見いだした。Means for Solving the Problems As a result of intensive research to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that 2-oxomethyl-L-asparagine is formed by a nucleophilic addition reaction of chloracetaldehyde or its acetal to L-aspartic acid. It was found that the acid was easily produced. Further, it was found that the 2-oxomethyl-L-aspartic acid thus obtained easily produces a Schiff base by a dehydration condensation reaction with one molecule of L-aspartic acid.
When this Schiff base is subjected to catalytic hydrogenation or reduction reaction with a metal hydride or the like, the desired L, L
-We have found that EDDS is obtained in high yield, high purity and without racemization.
【０００８】すなわち、本発明は、Ｌ−アスパラギン酸
にクロルアセトアルデヒドをアルカリ性条件下で付加し
て２−オキソメチル−Ｌ−アスパラギン酸を生成させた
後、更に１分子のＬ−アスパラギン酸を縮合させて生成
したシッフ塩基を還元し、次いで鉱酸で酸析結晶化する
ことを特徴とする、Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳの製造方法に関す
る。That is, according to the present invention, chloracetaldehyde is added to L-aspartic acid under alkaline conditions to form 2-oxomethyl-L-aspartic acid, and then one molecule of L-aspartic acid is condensed. The present invention relates to a method for producing L, L-EDDS, which comprises reducing the produced Schiff base and then crystallizing by acid precipitation with a mineral acid.
【０００９】また、本発明は、Ｌ−アスパラギン酸にク
ロルアセトアルデヒドのアセタールをアルカリ性条件下
で付加させてから脱アセタール化して２−オキソメチル
−Ｌ−アスパラギン酸を生成させた後、更に１分子のＬ
−アスパラギン酸を縮合させて生成したシッフ塩基を還
元し、次いで鉱酸で酸析結晶化することを特徴とする、
Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳの製造方法に関する。According to the present invention, L-aspartic acid is added with an acetal of chloroacetaldehyde under alkaline conditions and then deacetalized to produce 2-oxomethyl-L-aspartic acid, and then one molecule of L is added.
-Reducing a Schiff base produced by condensing aspartic acid, and then acidifying and crystallizing with a mineral acid,
The present invention relates to a method for manufacturing L, L-EDDS.
【００１０】以下に本発明を詳細に報告する。本発明の
方法は、１分子のクロルアセトアルデヒドを１分子のＬ
−アスパラギン酸のアミノ基にアルカリ性条件下で求核
付加させ、２−オキソメチル−Ｌ−アスパラギン酸を生
成する共役付加工程、また、その反応生成物である２−
オキソメチル−Ｌ−アスパラギン酸のアルデヒド基に、
更に１分子のＬ−アスパラギン酸のアミノ基を脱水縮合
させるシッフ塩基生成工程、更に、その反応生成物であ
るシッフ塩基を還元して、Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳのアルカリ
金属塩を生成するシッフ塩基還元工程、そして、その反
応生成物に鉱酸を添加して目的とするＬ，Ｌ−ＥＤＤＳ
を単離する酸析結晶化工程からなる。The present invention will be described in detail below. According to the method of the present invention, one molecule of chloracetaldehyde is added to one molecule of L.
-Nucleophilic addition to the amino group of aspartic acid under alkaline conditions to produce 2-oxomethyl-L-aspartic acid, a conjugate addition step, and its reaction product, 2-
In the aldehyde group of oxomethyl-L-aspartic acid,
Further, a Schiff base production step of dehydrating and condensing one molecule of an amino group of L-aspartic acid, and further, a Schiff base reduction for producing an alkali metal salt of L, L-EDDS by reducing the reaction product of the Schiff base. Process, and adding the mineral acid to the reaction product, the target L, L-EDDS
And an acid precipitation crystallization step for isolating.
【００１１】あるいは、１分子のクロルアセトアルデヒ
ドのアセタールを１分子のＬ−アスパラギン酸のアミノ
基にアルカリ性条件下で求核付加させる求核付加工程、
求核付加工程の後、連続的に脱アセタールして２−オキ
ソメチル−Ｌ−アスパラギン酸を生成する脱アセタール
化工程、また、その反応生成物である２−オキソメチル
−Ｌ−アスパラギン酸のアルデヒド基に、更に１分子の
Ｌ−アスパラギン酸のアミノ基を脱水縮合させるシッフ
塩基生成工程、更に、その反応生成物であるシッフ塩基
を還元して、Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳのアルカリ金属塩を生成
するシッフ塩基還元工程、そして、その反応生成物に鉱
酸を添加して目的とするＬ，Ｌ−ＥＤＤＳを単離する酸
析結晶化工程からなる。Alternatively, a nucleophilic addition step of nucleophilically adding one molecule of chloroacetaldehyde acetal to one molecule of the amino group of L-aspartic acid under alkaline conditions,
After the nucleophilic addition step, a deacetalization step of continuously deacetalizing to generate 2-oxomethyl-L-aspartic acid, and to the aldehyde group of the reaction product 2-oxomethyl-L-aspartic acid. , A Schiff base producing step of dehydrating and condensing one molecule of an amino group of L-aspartic acid, and further, a Schiff base for producing an alkali metal salt of L, L-EDDS by reducing the reaction product of the Schiff base. It comprises a reduction step and an acid precipitation crystallization step in which a mineral acid is added to the reaction product to isolate the desired L, L-EDDS.
【００１２】本発明において用いられるクロルアセトア
ルデヒドあるいはそのアセタールは、最近の総説 (Far
m. Zh. ( Kiev) 1991年, 6 号, 17ページ) で詳細の述
べられているように、医薬品、紙加工剤等の有機合成原
料として極めて有用性に富んだ化合物であり、工業原料
として容易に入手できる。Chloracetaldehyde or its acetal used in the present invention is described in a recent review (Far
m. Zh. (Kiev) 1991, No. 6, p. 17), it is a compound with extremely high utility as an organic synthetic raw material for pharmaceuticals, paper processing agents, etc. Readily available.
【００１３】本発明の求核付加工程において用いられる
クロルアセトアルデヒドは、水溶液の使用形態として、
濃度２０〜１００重量％、好ましくは、４０〜６０重量
％のものが選択される。また、クロルアセトアルデヒド
のアセタール類を用いる場合は、純度８０重量％以上、
好ましくは、純度９５重量％以上のものが選択される。
アセタールの種類としては、調整が容易であり、しか
も、ある程度の水溶性を保持するジメチルアセタール、
ジエチルアセタール、エチレンアセタールが好ましく選
択される。Chloracetaldehyde used in the nucleophilic addition step of the present invention is used in the form of an aqueous solution.
A concentration of 20 to 100% by weight, preferably 40 to 60% by weight is selected. When using acetals of chloroacetaldehyde, the purity is 80% by weight or more,
Preferably, those having a purity of 95% by weight or more are selected.
As the type of acetal, dimethyl acetal, which is easy to adjust and retains water solubility to some extent,
Diethyl acetal and ethylene acetal are preferably selected.
【００１４】本発明において用いられるアスパラギン酸
は、Ｄ−体、Ｌ−体、およびラセミ体のいずれを選択し
ても化学反応的には同様であるが、生分解性に極めて優
れたＬ，Ｌ−ＥＤＤＳを得ようとする目的から、Ｌ−体
が好ましく選択される。その際、Ｌ−アスパラギン酸
は、工業的に入手できる純度７０％以上、好ましくは８
５％以上の固体が使用できるが、その製造途中で得られ
るアルカリ金属塩またはそのアルカリ金属塩の水溶液を
直接用いることもできる。The aspartic acid used in the present invention has the same chemical reaction regardless of whether the D-form, the L-form or the racemic form is selected, but L, L which is extremely excellent in biodegradability. The L-form is preferably selected for the purpose of obtaining EDDS. At that time, L-aspartic acid is industrially available with a purity of 70% or more, preferably 8%.
A solid content of 5% or more can be used, but an alkali metal salt obtained during the production or an aqueous solution of the alkali metal salt can also be directly used.
【００１５】本発明の求核付加工程において用いられる
Ｌ−アスパラギン酸の使用量は、クロルアセトアルデヒ
ドあるいはそのアセタール類に対し、１．８〜２．６倍
モル、好ましくは１．９〜２．２倍モルの範囲で適宜選
択される。この使用量は、次工程のシッフ塩基生成工程
を連続的に実施するため、アクロレインに対し約２倍モ
ルのＬ−アスパラギン酸を、あらかじめ存在させること
による。しかし、次工程のシッフ塩基生成工程を段階的
に実施する場合は、クロルアセトアルデヒドあるいはそ
のアセタール類に対し、０．８〜１．６倍モル、好まし
くは０．９〜１．２倍モルのＬ−アスパラギン酸を使用
することが望ましい。The amount of L-aspartic acid used in the nucleophilic addition step of the present invention is 1.8 to 2.6 times mol, preferably 1.9 to 2.2, relative to chloroacetaldehyde or its acetals. It is appropriately selected within a double molar range. The amount used is based on the presence of approximately twice the molar amount of L-aspartic acid in advance with respect to acrolein in order to continuously carry out the Schiff base production step of the next step. However, when the step of producing the Schiff base in the next step is carried out stepwise, 0.8 to 1.6 times mol, preferably 0.9 to 1.2 times mol of L relative to chloracetaldehyde or its acetals is used. -It is desirable to use aspartic acid.
【００１６】求核付加工程における初期ｐＨ条件は、ア
ルカリ金属水酸化物、またはその水溶液の添加によって
中性〜弱アルカリ性に設定される。アルカリ金属として
は、Ｌｉ、Ｎａ，Ｋ，好ましくは、Ｋ、Ｎａが用いられ
る。アルカリ金属水酸化物の代わりに、Ｌ−アスパラギ
ン酸アルカリ金属塩、またはその水溶液を直接用いても
よい。The initial pH condition in the nucleophilic addition step is set to neutral to weakly alkaline by adding an alkali metal hydroxide or its aqueous solution. Li, Na, K, preferably K, Na is used as the alkali metal. Instead of the alkali metal hydroxide, L-aspartic acid alkali metal salt or its aqueous solution may be used directly.
【００１７】求核付加工程における混合方法としては、
Ｌ−アスパラギン酸のアルカリ性水溶液にクロルアセト
アルデヒドあるいはそのアセタール類を、反応液中に蓄
積しない程度の速度で滴下する方法が、最も一般的に採
用される。クロルアセトアルデヒドの水溶液、あるい
は、クロルアセトアルデヒドアセタールの懸濁水溶液に
にＬ−アスパラギン酸のアルカリ性水溶液を滴下する方
法も可能である。The mixing method in the nucleophilic addition step is as follows:
The most commonly used method is to add chloroacetaldehyde or its acetal to an alkaline aqueous solution of L-aspartic acid at a rate such that it does not accumulate in the reaction solution. A method in which an alkaline aqueous solution of L-aspartic acid is added dropwise to an aqueous solution of chloracetaldehyde or a suspension solution of chloracetaldehyde acetal is also possible.
【００１８】滴下時の反応液の温度は、０〜６０℃、好
ましくは０〜５０℃の範囲で実施することが望ましい。
滴下時の急激な温度上昇は、反応液の著しい着色を引き
起こし、目的とする２−オキソメチル−Ｌ−アスパラギ
ン酸の反応収率は、大きく低下する。The temperature of the reaction solution at the time of dropping is preferably 0 to 60 ° C., preferably 0 to 50 ° C.
The rapid temperature rise at the time of dropping causes remarkable coloration of the reaction solution, and the reaction yield of the desired 2-oxomethyl-L-aspartic acid is greatly reduced.
【００１９】求核付加工程における反応ｐＨ条件は、７
〜１３、好ましくは８〜１２の範囲で適宜選択される。
ｐＨ１３以上では、クロルアセトアルデヒドあるいはそ
のアセタール類の分解が著しく、また一方、ｐＨ７以下
でも、反応性が著しく低下する。また、設定ｐＨは、通
常、クロルアセトアルデヒドあるいはそのアセタール類
の滴下と同時に、それと等モルのアルカリ金属水酸化物
の２０〜５０重量％水溶液を同時滴下することによって
達成される。この際、求核付加工程における初期ｐＨ条
件設定に使用したアルカリ金属の水酸化物と同一のもの
が選択される。The reaction pH condition in the nucleophilic addition step is 7
To 13, preferably 8 to 12 is appropriately selected.
At pH 13 or higher, chloracetaldehyde or its acetals are significantly decomposed, while at pH 7 or lower, the reactivity is significantly lowered. The set pH is usually achieved by dropping chloroacetaldehyde or an acetal thereof at the same time as dropping a 20-50 wt% aqueous solution of an alkali metal hydroxide in an equimolar amount. At this time, the same alkali metal hydroxide as that used for setting the initial pH condition in the nucleophilic addition step is selected.
【００２０】求核付加工程における滴下、熟成温度は、
１０〜１００℃、好ましくは４０〜７０℃の範囲で適宜
選択される。滴下時間は、１〜２４時間、好ましくは１
〜４時間の範囲で適宜選択され、また、熟成時間は、１
〜５時間、好ましくは１〜３時間の範囲で適宜選択され
る。The dropping and aging temperatures in the nucleophilic addition step are
It is appropriately selected in the range of 10 to 100 ° C, preferably 40 to 70 ° C. The dropping time is 1 to 24 hours, preferably 1
To 4 hours, and the aging time is 1
It is appropriately selected within the range of ˜5 hours, preferably 1-3 hours.
【００２１】以上の様に求核付加工程においてクロルア
セトアルデヒドを用いた場合、２−オキソメチル−Ｌ−
アスパラギン酸が直接生成する。一方、クロルアセトア
ルデヒドのアセタールを用いた場合は、付加生成物を脱
アセタール化することによって初めて、２−オキソメチ
ル−Ｌ−アスパラギン酸が生成する。When chloracetaldehyde is used in the nucleophilic addition step as described above, 2-oxomethyl-L-
Aspartic acid is directly produced. On the other hand, when the acetal of chloroacetaldehyde is used, 2-oxomethyl-L-aspartic acid is first produced by deacetalizing the addition product.
【００２２】クロルアセトアルデヒドのアセタールを用
いた場合に必要となる脱アセタール化工程は、通常、求
核付加工程後の反応液ｐＨを変化させるだけで、連続的
に実施される。The deacetalization step required when using the acetal of chloroacetaldehyde is usually carried out continuously only by changing the pH of the reaction solution after the nucleophilic addition step.
【００２３】脱アセタール化工程における反応ｐＨ条件
は、２〜６、好ましくは２．５〜５．５の範囲で適宜選
択される。ｐＨの設定には、１０〜１００重量％、好ま
しくは２０〜６０重量％の硫酸水溶液が用いられる。The reaction pH conditions in the deacetalization step are appropriately selected within the range of 2 to 6, preferably 2.5 to 5.5. For setting the pH, a sulfuric acid aqueous solution of 10 to 100% by weight, preferably 20 to 60% by weight is used.
【００２４】脱アセタール化工程における熟成温度は、
１０〜１００℃、好ましくは４０〜７０℃の範囲で適宜
選択される。また、熟成時間は、１〜５時間、好ましく
は１〜３時間の範囲で適宜選択される。The aging temperature in the deacetalization step is
It is appropriately selected in the range of 10 to 100 ° C, preferably 40 to 70 ° C. The aging time is appropriately selected within the range of 1 to 5 hours, preferably 1 to 3 hours.
【００２５】脱アセタール化工程は、熟成後の反応液の
ｐＨ値を、求核付加工程終了直後のｐＨ値に再調整する
ことによって、次工程であるシッフ塩基生成工程への移
行が可能になる。この際、求核付加工程における初期ｐ
Ｈ条件設定に使用したのと同じアルカリ金属の水酸化物
の２０〜５０重量％水溶液が再ｐＨ調整に用いられる。In the deacetalization step, the pH value of the reaction solution after aging is readjusted to the pH value immediately after the completion of the nucleophilic addition step, whereby the shift to the next step, the Schiff base production step, becomes possible. . At this time, the initial p in the nucleophilic addition step
A 20 to 50 wt% aqueous solution of the same alkali metal hydroxide as that used for setting the H condition is used for re-pH adjustment.
【００２６】本発明におけるシッフ塩基生成工程は、前
工程のある求核付加工程あるいは脱アセタール化工程と
連続的に実施されるのが有利である。すなわち、求核付
加工程および脱アセタール化工程において、クロルアセ
トアルデヒドあるいはそのアセタール類を約２倍モルの
Ｌ−アスパラギン酸存在下に反応させると、２−オキソ
エチル−Ｌ−アスパラギン酸の生成に引き続き、更にも
う１分子のＬ−アスパラギン酸が脱水縮合してシッフ塩
基の生成が進行する。この連続的工程において、求核付
加が非可逆的に進行するのに対しシッフ塩基生成が可逆
的であるため、仮にシッフ塩基生成が求核付加に先んず
ることがあっても、２−オキソメチル−Ｌ−アスパラギ
ン酸のシッフ塩基の生成が、結果的に大きく優先的に進
行する。The Schiff base production step in the present invention is advantageously carried out continuously with the nucleophilic addition step or the deacetalization step, which is a preceding step. That is, in the nucleophilic addition step and the deacetalization step, when chloracetaldehyde or an acetal thereof is reacted in the presence of about 2-fold moles of L-aspartic acid, the formation of 2-oxoethyl-L-aspartic acid is further continued after the formation of 2-oxoethyl-L-aspartic acid. Another molecule of L-aspartic acid is dehydrated and condensed to generate a Schiff base. In this continuous process, the nucleophilic addition proceeds irreversibly, whereas the Schiff base formation is reversible, so even if the Schiff base formation may precede the nucleophilic addition, 2-oxomethyl The production of the L-aspartic acid Schiff base proceeds largely and preferentially as a result.
【００２７】シッフ塩基生成工程を求核付加工程あるい
は脱アセタール化工程と連続的に実施する場合、設定ｐ
Ｈは、７〜１３、好ましくは８〜１２の範囲がよい。熟
成温度は、０〜６０℃、好ましくは０〜５０℃の範囲が
よい。また、熟成時間は、０〜２４時間、好ましくは０
〜４時間の範囲で適宜選択される。When the Schiff base production step is carried out continuously with the nucleophilic addition step or the deacetalization step, the setting p
H is in the range of 7 to 13, preferably 8 to 12. The aging temperature is 0 to 60 ° C, preferably 0 to 50 ° C. The aging time is 0 to 24 hours, preferably 0.
It is appropriately selected within the range of 4 hours.
【００２８】シッフ塩基生成工程を求核付加工程あるい
は脱アセタール化工程に対し、段階的に分割して実施す
ることも可能である。その際、段階的に追加するアスパ
ラギン酸の量は、求核付加工程で使用したクロルアセト
アルデヒドあるいはそのアセタール類に対して０．８〜
１．６倍モル、好ましくは０．９〜１．２倍モル用いる
のがよい。その場合、反応液の急激なｐＨ変動を抑制す
るため、７〜１３、好ましくは８〜１２の範囲のアルカ
リ金属塩として用いるのが好ましい。It is also possible to carry out the step of generating the Schiff base in a stepwise manner with respect to the nucleophilic addition step or the deacetalization step. At that time, the amount of aspartic acid added stepwise is 0.8 to 0.8 with respect to the chloroacetaldehyde or its acetal used in the nucleophilic addition step.
It is good to use 1.6 times mol, preferably 0.9 to 1.2 times mol. In that case, it is preferable to use as an alkali metal salt in the range of 7 to 13, preferably 8 to 12, in order to suppress the rapid pH change of the reaction solution.
【００２９】シッフ塩基生成工程をに対し、段階的に実
施する場合、熟成時間は、２〜２４時間、好ましくは１
〜４時間の範囲で適宜選択される。このように、二工程
の段階的実施は、工程の煩雑さおよび熟成時間の延長の
点において不利であるが、目的に応じて２−オキソメチ
ル−Ｌ−アスパラギン酸またはそのアルカリ金属塩を単
離する場合に採用される。When the step of producing the Schiff base is carried out stepwise, the aging time is 2 to 24 hours, preferably 1
It is appropriately selected within the range of 4 hours. Thus, the stepwise implementation of the two steps is disadvantageous in that the steps are complicated and the aging time is extended, but 2-oxomethyl-L-aspartic acid or its alkali metal salt is isolated depending on the purpose. Will be adopted in case.
【００３０】本発明におけるシッフ塩基還元工程にて実
施される水素化反応は、触媒を用いた接触水素添加反
応、または金属水素化物等による還元反応によって達成
される。The hydrogenation reaction carried out in the Schiff base reduction step of the present invention is achieved by a catalytic hydrogenation reaction using a catalyst or a reduction reaction with a metal hydride or the like.
【００３１】シッフ塩基還元工程の接触水素添加反応に
おいて用いられる触媒は、ニッケル、パラジウム、ロジ
ウム、ルテニウム、プラチナなどの重金属が不均一触媒
として用いられる。この内、反応性および原料の入手性
に最も優れるのがニッケルであり、ラネーＮｉとして用
いられる。また、その他の重金属も使用可能であるが原
料の入手性の見地から、Ｐｄ−Ｃ、Ｒｈ−Ｃ、Ｒｈ−Ａ
ｌ2 Ｏ3 、ＰｔＯ2 などとして、回収再利用することが
望ましい。As the catalyst used in the catalytic hydrogenation reaction in the Schiff base reduction step, a heavy metal such as nickel, palladium, rhodium, ruthenium or platinum is used as a heterogeneous catalyst. Of these, nickel has the highest reactivity and availability of raw materials, and is used as Raney Ni. Also, other heavy metals can be used, but from the viewpoint of availability of raw materials, Pd-C, Rh-C, Rh-A
It is desirable to collect and reuse as l 2 O 3 , PtO 2 or the like.
【００３２】シッフ塩基還元工程の接触水素添加反応に
おいて用いられる触媒の使用量は、求核付加工程におい
て使用したクロルアセトアルデヒドあるいはそのアセタ
ール類に対し、１〜３０モル％、好ましくは５〜１０モ
ル％用いられる。The amount of the catalyst used in the catalytic hydrogenation reaction in the Schiff base reduction step is 1 to 30 mol%, preferably 5 to 10 mol% based on the chloroacetaldehyde or its acetal used in the nucleophilic addition step. Used.
【００３３】シッフ塩基還元工程の接触水素添加反応
は、シッフ塩基生成工程後の反応生成物に直接触媒を添
加し、水素雰囲気下にて激しく攪拌することによって開
始される。水素圧は、０〜１００気圧、好ましくは２０
〜５０気圧の範囲で適宜選択される。The catalytic hydrogenation reaction in the Schiff base reduction step is started by adding a catalyst directly to the reaction product after the Schiff base production step and stirring vigorously in a hydrogen atmosphere. The hydrogen pressure is 0 to 100 atm, preferably 20.
It is appropriately selected within the range of 50 atm.
【００３４】シッフ塩基還元工程の接触水素添加反応に
おける反応温度は、２０〜１００℃、好ましくは４０〜
７０℃の範囲で適宜選択される。また、熟成時間は、１
〜２４時間、好ましくは２〜５時間の範囲で適宜選択さ
れる。反応後、使用した触媒は、静置沈降後の傾斜濾
過、あるいは、セライト等の濾過序剤を用いた濾過によ
って速やかに濾別される。濾別された触媒は、洗浄およ
び活性化の後、再生利用されることが望ましい。The reaction temperature in the catalytic hydrogenation reaction in the Schiff base reduction step is 20 to 100 ° C., preferably 40 to
It is appropriately selected within the range of 70 ° C. The aging time is 1
It is appropriately selected within the range of -24 hours, preferably 2-5 hours. After the reaction, the catalyst used is promptly separated by gradient filtration after stationary settling or filtration using a filtering agent such as Celite. The filtered off catalyst is preferably recycled after washing and activation.
【００３５】得られる濾液は、無色または微褐色の、や
や粘性を帯びた、透明な液体であり、次工程の酸析結晶
化工程に直接用いられる。The resulting filtrate is a colorless or slightly brownish, slightly viscous, transparent liquid, which is directly used in the subsequent acid precipitation crystallization step.
【００３６】次に、本発明のシッフ塩基還元工程におい
て、金属水素化物による還元反応にを実施する場合につ
いて述べる。Next, the case of carrying out the reduction reaction with a metal hydride in the Schiff base reduction step of the present invention will be described.
【００３７】シッフ塩基還元工程において用いられる金
属水素化物としては、ＮａＢＨ3 ＣＮ、ＮａＢＨ4 、Ｎ
ａＨ2 ＰＯ2 等が用いられるが、反応の際の設定ｐＨは
それぞれ異なる。ＮａＢＨ3 ＣＮを用いる場合は、設定
ｐＨ５〜１２、好ましくは、５〜７がよい。ＮａＢＨ4
を用いる場合は、設定ｐＨ９〜１３、好ましくは、１０
〜１２がよい。また、ＮａＨ2 ＰＯ2 を用いる場合は、
設定ｐＨ８〜１３、好ましくは、１０〜１２がよい。い
ずれの金属水素化物のを用いた場合でも、高アルカリ性
側程、還元電位が増大するため反応性は上昇するが、ア
ルカリ性条件が強すぎると副生生物の増大と着色が増大
するので、反応を設定ｐＨ範囲外で実施することは、後
の目的物取得の際、深刻な収率低下につながるので避け
るべきである。Examples of the metal hydride used in the Schiff base reduction step include NaBH 3 CN, NaBH 4 and N.
Although aH 2 PO 2 or the like is used, the set pH during the reaction is different. When NaBH 3 CN is used, the set pH is 5 to 12, preferably 5 to 7. NaBH 4
When using, the set pH is 9 to 13, preferably 10
~ 12 is good. When NaH 2 PO 2 is used,
The set pH is 8 to 13, preferably 10 to 12. Whichever metal hydride is used, the higher the alkalinity side, the higher the reduction potential and the higher the reactivity.However, if the alkaline conditions are too strong, the by-products increase and the coloration increases. It should be avoided that it is carried out out of the set pH range because it will seriously reduce the yield when the target substance is obtained later.
【００３８】金属水素化物を用いたシッフ塩基還元工程
における反応温度は、０〜１００℃、好ましくは２０〜
５０℃の範囲で適宜選択される。また、熟成時間は、１
〜３６時間、好ましくは４〜８時間の範囲で適宜選択さ
れる。得られる反応液は、黄褐色または茶褐色の液体で
あり、次工程の酸析結晶化工程に直接用いられる。The reaction temperature in the Schiff base reduction step using a metal hydride is 0 to 100 ° C., preferably 20 to
It is appropriately selected within the range of 50 ° C. The aging time is 1
To 36 hours, preferably 4 to 8 hours. The obtained reaction liquid is a yellowish brown or dark brown liquid, which is directly used in the subsequent acid precipitation crystallization step.
【００３９】本発明における酸析結晶化工程は、シッフ
塩基還元工程後得られた反応液に、鉱酸を加えることに
よって達成される。用いられる鉱酸としては、硫酸、塩
酸、硝酸等があげられるが、特に硫酸が好ましく用いら
れる。硫酸は、工業的に入手可能な純度６０〜９８％の
ものから選択され、加水分解工程によって得られた反応
液をｐＨ１．０〜３．０、好ましくは、１．５〜２．５
に調節するための必要量が用いられる。硫酸滴下時の温
度は、１０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃の範囲
で実施するのが良く、滴下時間は、０．５〜３時間、好
ましくは１〜２時間の範囲が良い。The acid precipitation crystallization step in the present invention is achieved by adding a mineral acid to the reaction solution obtained after the Schiff base reduction step. Examples of the mineral acid used include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid and the like, and sulfuric acid is particularly preferably used. Sulfuric acid is selected from industrially available ones having a purity of 60 to 98%, and the reaction liquid obtained by the hydrolysis step has a pH of 1.0 to 3.0, preferably 1.5 to 2.5.
The required amount to adjust to is used. The temperature at the time of dropping sulfuric acid is preferably 10 to 100 ° C., preferably 40 to 80 ° C., and the dropping time is 0.5 to 3 hours, preferably 1 to 2 hours.
【００４０】目的物であるＬ，Ｌ−ＥＤＤＳは、硫酸添
加後の反応物を０〜５０℃、好ましくは１０〜４０℃に
て、０〜７２時間、好ましくは１〜５時間熟成した後、
析出する結晶を、吸引濾過または遠心濾過することによ
って得られる。L, L-EDDS which is a target product is aged after the reaction product after addition of sulfuric acid at 0 to 50 ° C., preferably 10 to 40 ° C. for 0 to 72 hours, preferably 1 to 5 hours,
The precipitated crystals are obtained by suction filtration or centrifugal filtration.
【００４１】得られる目的物の結晶は、通常、結晶表面
に付着した微量の硫酸根を含む母液を少量の水を用いて
洗浄する以外、再結晶化を行わなくとも充分高純度であ
る。The crystals of the target substance obtained are usually of sufficiently high purity without recrystallization, except that the mother liquor containing a trace amount of sulfate on the crystal surface is washed with a small amount of water.
【００４２】[0042]
【実施例】次に、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will now be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.
【００４３】実施例１ 攪拌機、温度計、滴下漏斗および蒸留装置を付したオー
トクレーブ型反応器に、水 (1,079kg)を仕込み、48重量
％ＮａＯＨ水溶液（1,254kg, 15.1kmol)、次いでＬ−ア
スパラギン酸 (1,000kg, 7.52kmol)を攪拌下に連続して
溶解した。このようにして調製した酸換算30重量％のＬ
−アスパラギン酸二ナトリウム水溶液に、50重量％のク
ロロアセトアルデヒド水溶液(573g, 3.67kmol)および48
重量％の水酸化ナトリウム水溶液(306kg, 3.67kmol)
を、反応液温度40℃、および攪拌下に、1.5 時間かけて
滴下した。滴下終了後、反応液温度40〜50℃で、更に4.
5 時間、攪拌を継続した。この反応液にラネーニッケル
(W6, 50重量％懸濁液，42kg, 0.37kmol) を加え、反応
装置内の空気を水素ガスで充分置換した後、装置を密閉
し水素圧を50気圧まで上昇させ、次いで、激しい攪拌下
にて、反応液温度を25℃から75℃まで1 時間かけて徐々
に昇温させた後、50℃にて5.5 時間、激しい攪拌を続け
た。この間、水素圧が75気圧まで低下する毎に、水素の
補給を行い100 気圧とした。反応液を室温まで放冷静置
後、上清を吸引濾過装置上にあけ、次いで残査も吸引濾
過装置上にあけに水 (150kg)で洗浄し、濾液 (4,350 k
g) を得た。この濾液に、98重量％硫酸 (880kg, 8.80km
ol)を1.5 時間かけて滴下した。この間、反応液の温度
は80℃に昇温した。反応液を再び33℃まで放冷し、析出
したＬ，Ｌ−ＰＤＤＳの結晶を遠心分離にて濾過した。
更に、20℃の水 (40kg) で二回洗浄して湿結晶 (1,244
g) を得た。送風乾燥後のＬ，Ｌ−ＥＤＤＳ（1,049kg,
3.59kmol，収率98%)は、均一な白色結晶であり、ＨＰ
ＬＣ分析の結果、生成したＬ，Ｌ−ＥＤＤＳの化学純度
および光学純度は、いずれも99% 以上であった。Example 1 An autoclave type reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a distillation apparatus was charged with water (1,079 kg), 48 wt% NaOH aqueous solution (1,254 kg, 15.1 kmol), and then L-asparagine. The acid (1,000 kg, 7.52 kmol) was continuously dissolved under stirring. 30% by weight of acid-converted L prepared in this way
-In a disodium aspartate aqueous solution, a 50% by weight aqueous chloroacetaldehyde solution (573 g, 3.67 kmol) and 48
Wt% aqueous sodium hydroxide solution (306kg, 3.67kmol)
Was added dropwise over 1.5 hours at a reaction liquid temperature of 40 ° C. and with stirring. After the dropping is completed, the reaction solution temperature is 40 to 50 ° C, and 4.
The stirring was continued for 5 hours. Raney nickel is added to this reaction solution.
(W6, 50 wt% suspension, 42 kg, 0.37 kmol) was added and the air in the reactor was sufficiently replaced with hydrogen gas, then the device was sealed and the hydrogen pressure was raised to 50 atm, and then under vigorous stirring. The temperature of the reaction solution was gradually raised from 25 ° C to 75 ° C over 1 hour, and then vigorous stirring was continued at 50 ° C for 5.5 hours. During this period, hydrogen was replenished to 100 atm every time the hydrogen pressure dropped to 75 atm. After allowing the reaction solution to cool to room temperature, the supernatant was placed on a suction filtration device, and the residue was also placed on a suction filtration device and washed with water (150 kg), and the filtrate (4,350 k
g) got. 98% by weight sulfuric acid (880kg, 8.80km)
ol) was added dropwise over 1.5 hours. During this time, the temperature of the reaction solution was raised to 80 ° C. The reaction solution was cooled to 33 ° C. again, and the precipitated L, L-PDDS crystals were filtered by centrifugation.
Further, it was washed twice with water (40 kg) at 20 ° C to obtain wet crystals (1,244
g) got. L, L-EDDS (1,049kg, after blow drying)
3.59kmol, yield 98%) is a uniform white crystal, HP
As a result of LC analysis, the chemical purity and optical purity of the produced L, L-EDDS were both 99% or more.
【００４４】実施例２ 攪拌機、温度計、滴下漏斗および蒸留装置を付したオー
トクレーブ型反応器に、水 (1,079kg)を仕込み、48重量
％ＮａＯＨ水溶液（1,254kg, 15.1kmol)、次いでＬ−ア
スパラギン酸 (1,000kg, 7.52kmol)を攪拌下に連続して
溶解した。このようにして調製した酸換算30重量％のＬ
−アスパラギン酸二ナトリウム水溶液に、98重量％のク
ロロアセトアルデヒドジメチルアセタ−ル水溶液 (467k
g, 3.67kmol)および48重量％の水酸化ナトリウム水溶液
(306kg, 3.67kmol) を、反応液温度40℃、および攪拌下
に、1.5 時間かけて滴下した。滴下終了後、反応液温度
40〜50℃で、更に4.5 時間、攪拌を継続した。次に、こ
の反応液に98重量％硫酸（280kg, 2.8kmol) を、0.5 時
間かけて滴下した後、反応液温度40〜50℃で、更に2.0
時間、攪拌を継続した。続いて、48重量％の水酸化ナト
リウム水溶液(466kg, 5.6kmol)を0.5 時間かけて滴下し
た。この反応液にラネーニッケル (W6, 50重量％懸濁
液，42kg，0.37kmol) を加え、反応装置内の空気を水素
ガスで充分置換した後、装置を密閉し水素圧を50気圧ま
で上昇させ、次いで、激しい攪拌下にて、反応液温度を
25℃から75℃まで1 時間かけて徐々に昇温させた後、50
℃にて5.5 時間、激しい攪拌を続けた。この間、水素圧
が75気圧まで低下する毎に、水素の補給を行い100 気圧
とした。反応液を室温まで放冷静置後、上清を吸引濾過
装置上にあけ、次いで残査も吸引濾過装置上にあけに水
(150kg)で洗浄し、濾液 (5,055kg)を得た。この濾液
に、98重量％硫酸 (880kg, 8.80kmol)を1.5 時間かけて
滴下した。この間、反応液の温度は80℃に昇温した。反
応液を再び33℃まで放冷し、析出したＬ，Ｌ−ＰＤＤＳ
の結晶を遠心分離にて濾過した。更に、20℃の水 (40k
g) で二回洗浄して湿結晶 (1,211g) を得た。送風乾燥
後のＬ，Ｌ−ＥＤＤＳ（1,007kg, 3.45kmol, 収率94%)
は、均一な白色結晶であり、ＨＰＬＣ分析の結果、生成
したＬ，Ｌ−ＥＤＤＳの化学純度および光学純度は、い
ずれも99% 以上であった。Example 2 An autoclave type reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a distillation apparatus was charged with water (1,079 kg), and a 48 wt% NaOH aqueous solution (1,254 kg, 15.1 kmol) was added, followed by L-asparagine. The acid (1,000 kg, 7.52 kmol) was continuously dissolved under stirring. 30% by weight of acid-converted L prepared in this way
-In a disodium aspartate aqueous solution, a 98% by weight chloroacetaldehyde dimethyl acetal aqueous solution (467 k
g, 3.67 kmol) and 48% by weight aqueous sodium hydroxide solution
(306 kg, 3.67 kmol) was added dropwise over 1.5 hours while the reaction solution temperature was 40 ° C. and stirring. Reaction temperature after dropping
Stirring was continued at 40-50 ° C for an additional 4.5 hours. Next, 98% by weight sulfuric acid (280 kg, 2.8 kmol) was added dropwise to this reaction solution over 0.5 hour, and then the reaction solution was further heated at 40 to 50 ° C for 2.0 hours.
Stirring was continued for hours. Subsequently, a 48 wt% sodium hydroxide aqueous solution (466 kg, 5.6 kmol) was added dropwise over 0.5 hour. Raney nickel (W6, 50 wt% suspension, 42 kg, 0.37 kmol) was added to this reaction solution, the air in the reactor was sufficiently replaced with hydrogen gas, and the apparatus was sealed and the hydrogen pressure was raised to 50 atm. Then, under vigorous stirring, the reaction solution temperature
Gradually raise the temperature from 25 ° C to 75 ° C over 1 hour, then
Vigorous stirring was continued for 5.5 hours at ℃. During this period, hydrogen was replenished to 100 atm every time the hydrogen pressure dropped to 75 atm. After allowing the reaction solution to cool to room temperature and allowing it to stand, pour the supernatant onto a suction filtration device, and then water the residue to the suction filtration device.
It was washed with (150 kg) to obtain a filtrate (5,055 kg). 98 wt% sulfuric acid (880 kg, 8.80 kmol) was added dropwise to the filtrate over 1.5 hours. During this time, the temperature of the reaction solution was raised to 80 ° C. The reaction solution was allowed to cool to 33 ° C. again, and precipitated L, L-PDDS
The crystals were filtered by centrifugation. In addition, water at 20 ℃ (40k
The crystals were washed twice with g) to obtain wet crystals (1,211g). L, L-EDDS after blow drying (1,007kg, 3.45kmol, yield 94%)
Is a uniform white crystal, and as a result of HPLC analysis, both the chemical purity and the optical purity of the produced L, L-EDDS were 99% or more.
【００４５】実施例３ 実施例１と同様に、求核付加反応、シッフ塩基生成反応
を連続的に行った。この反応液に、ＮａＢＨ4 (43kg,
1.13kmol)を水 (400 kg) にあらかじめ溶解して作成し
ておいた懸濁液を、反応温度10℃、攪拌下、0.5 時間に
て加えた。その後、反応液温度を45℃まで上昇させ、更
に5.5 時間、攪拌を続けた。この濾液に、98重量％硫酸
(1,540kg, 15.4kmol) を1.5 時間かけて滴下した。こ
の間、反応液の温度は80℃に昇温した。反応液を再び33
℃まで放冷し、析出したＬ，Ｌ−ＰＤＤＳの結晶を遠心
分離にて濾過した。更に、20℃の水 (40kg)で二回洗浄
して湿結晶 (1,160g）を得た。送風乾燥後のＬ，Ｌ−Ｅ
ＤＤＳ（1,020kg, 3.49kmol ，収率95%)は、均一な白色
結晶であり、ＨＰＬＣ分析の結果、生成したＬ，Ｌ−Ｅ
ＤＤＳの化学純度および光学純度は、いずれも99% 以上
であった。Example 3 In the same manner as in Example 1, the nucleophilic addition reaction and the Schiff base formation reaction were continuously carried out. NaBH 4 (43 kg,
A suspension prepared by dissolving 1.13 kmol) in water (400 kg) in advance was added at a reaction temperature of 10 ° C. under stirring for 0.5 hour. Then, the temperature of the reaction solution was raised to 45 ° C., and stirring was continued for further 5.5 hours. 98% by weight sulfuric acid was added to this filtrate.
(1,540 kg, 15.4 kmol) was added dropwise over 1.5 hours. During this time, the temperature of the reaction solution was raised to 80 ° C. 33 reaction mixture again
The mixture was allowed to cool to 0 ° C, and the precipitated L, L-PDDS crystals were filtered by centrifugation. Further, it was washed twice with water (40 kg) at 20 ° C. to obtain wet crystals (1,160 g). L and LE after blast drying
DDS (1,020 kg, 3.49 kmol, yield 95%) was a uniform white crystal, and L, LE produced as a result of HPLC analysis.
The chemical and optical purities of DDS were both 99% or higher.
【００４６】実施例４ 実施例２と同様に、求核付加反応、シッフ塩基生成反応
を連続的に行った。この反応液に、ＮａＢＨ4 (43kg,
1.13kmol)を水 (400 kg) にあらかじめ溶解して作成し
ておいた懸濁液を、反応温度10℃、攪拌下、0.5 時間に
て加えた。その後、反応液温度を45℃まで上昇させ、更
に5.5 時間、攪拌を続けた。この濾液に、98重量％硫酸
(1540kg, 15.4kmol）を1.5 時間かけて滴下した。この
間、反応液の温度は80℃に昇温した。反応液を再び33℃
まで放冷し、析出したＬ，Ｌ−ＰＤＤＳの結晶を遠心分
離にて濾過した。更に、20℃の水 (40kg) で二回洗浄し
て湿結晶 (1,013g) を得た。送風乾燥後のＬ，Ｌ−ＥＤ
ＤＳ（986kg, 3.38kmol，収率92%)は、均一な白色結晶
であり、ＨＰＬＣ分析の結果、生成したＬ，Ｌ−ＥＤＤ
Ｓの化学純度および光学純度は、いずれも99% 以上であ
った。Example 4 In the same manner as in Example 2, the nucleophilic addition reaction and the Schiff base formation reaction were continuously carried out. NaBH 4 (43 kg,
A suspension prepared by dissolving 1.13 kmol) in water (400 kg) in advance was added at a reaction temperature of 10 ° C. under stirring for 0.5 hour. Then, the temperature of the reaction solution was raised to 45 ° C., and stirring was continued for further 5.5 hours. 98% by weight sulfuric acid was added to this filtrate.
(1540kg, 15.4kmol) was added dropwise over 1.5 hours. During this time, the temperature of the reaction solution was raised to 80 ° C. The reaction solution is 33 ℃ again
After cooling to room temperature, the precipitated L, L-PDDS crystals were filtered by centrifugation. Further, it was washed twice with water (40 kg) at 20 ° C. to obtain wet crystals (1,013 g). L, L-ED after blast drying
DS (986 kg, 3.38 kmol, yield 92%) was a uniform white crystal, and L and L-EDD produced as a result of HPLC analysis.
Both the chemical purity and the optical purity of S were 99% or more.
【００４７】実施例５〜８ 98重量％のクロルアセトアルデヒドジメチルアセタ−ル
(467kg)の代わりに、98重量％のクロルアセトアルデヒ
ドジエチルアセタ−ル (571kg)、または、98重量％のク
ロルアセトアルデヒドエチレンアセタ−ル (459kg)を用
いた以外、実施例２および実施例４と同様の操作を実施
し、Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳの結晶を得た。結果を表１に示
す。Examples 5-8 98% by weight of chloroacetaldehyde dimethyl acetal
Example 2 and Example 4 except that 98% by weight of chloroacetaldehyde diethyl acetal (571 kg) or 98% by weight of chloroacetaldehyde ethylene acetate (459 kg) was used instead of (467 kg). The same operation as above was performed to obtain L, L-EDDS crystals. The results are shown in Table 1.
【００４８】[0048]
【表１】 [Table 1]
【００４９】本発明の方法によれば、工業的に入手が極
めて容易なクロルアセトアルデヒドおよびそのアセター
ル類とＬ−アスパラギン酸を原料とし、生分解性に極め
て優れたＬ，Ｌ−ＥＤＤＳを、高収率、高純度で得るこ
とができる。また、本発明は次のような利点もある。 （１）クロルアセトアルデヒドまたはそのアセタール
は、入手の容易な工業原料であり、Ｌ，Ｌ−ＥＤＤＳの
大量工業生産の原料として適切である。 （２）共役付加、シッフ塩基生成、シッフ塩基還元の各
工程を、すべて一槽反応にて実施可能なため、Ｌ，Ｌ−
ＥＤＤＳの大量工業生産考えた場合、極めて有利なプロ
セスとなる。 （３）共役付加、シッフ塩基生成、シッフ塩基還元の各
工程が、温和な条件にて進行するため、反応の制御が容
易である。According to the method of the present invention, chloroacetaldehyde and its acetals and L-aspartic acid, which are industrially very easily available, are used as raw materials, and L, L-EDDS excellent in biodegradability is obtained with high yield. Can be obtained with high purity. The present invention also has the following advantages. (1) Chloracetaldehyde or its acetal is an easily available industrial raw material and is suitable as a raw material for mass industrial production of L, L-EDDS. (2) Since the steps of conjugate addition, Schiff base generation, and Schiff base reduction can all be carried out in a single tank reaction, L, L-
Considering the mass industrial production of EDDS, this is an extremely advantageous process. (3) Since the steps of conjugate addition, Schiff base generation, and Schiff base reduction proceed under mild conditions, the reaction can be easily controlled.
Claims (4)
デヒドをアルカリ性条件下で付加した後、更に１分子の
Ｌ−アスパラギン酸を縮合させて生成したシッフ塩基を
還元し、次いで鉱酸で酸析結晶化することを特徴とす
る、Ｌ，Ｌ−エチレンジアミンジコハク酸の製造方法。1. A Schiff base produced by adding chloracetaldehyde to L-aspartic acid under alkaline conditions and further condensing one molecule of L-aspartic acid to reduce the Schiff base, and then acidifying and crystallizing with a mineral acid. A method for producing L, L-ethylenediaminedisuccinic acid, which comprises:
デヒドのアセタールをアルカリ性条件下で付加させてか
ら脱アセタール化した後、更に１分子のＬ−アスパラギ
ン酸を縮合させて生成したシッフ塩基を還元し、次いで
鉱酸で酸析結晶化することを特徴とする、Ｌ，Ｌ−エチ
レンジアミンジコハク酸の製造方法。2. An L-aspartic acid acetal of chloracetaldehyde is added under alkaline conditions and then deacetalized, and then one molecule of L-aspartic acid is condensed to reduce a Schiff base, which is then produced. A method for producing L, L-ethylenediaminedisuccinic acid, which comprises crystallizing by acid precipitation with a mineral acid.
または金属水素化合物により行うことを特徴とする、請
求項１または２記載のＬ，Ｌ−エチレンジアミンジコハ
ク酸の製造方法。3. The method for producing L, L-ethylenediaminedisuccinic acid according to claim 1 or 2, wherein the reduction of the Schiff base is carried out by a catalytic hydrogenation reaction or a metal hydrogen compound.
が、ジメチルアセタール、ジエチルアセタール、エチレ
ンアセタールである請求項２記載のＬ，Ｌ−エチレンジ
アミンジコハク酸の製造方法。4. The method for producing L, L-ethylenediaminedisuccinic acid according to claim 2, wherein the acetal of chloroacetaldehyde is dimethyl acetal, diethyl acetal or ethylene acetal.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7186599A JPH0920737A (en) | 1995-06-30 | 1995-06-30 | Production of biodegradable chelete using chloroacetaldehyde or its acetal as raw material and l,l-ethylenediaminedisuccinic acid |
| PCT/JP1996/001223 WO1996035662A1 (en) | 1995-05-09 | 1996-05-09 | Process for producing alkylenediaminediorganic acid and salts thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7186599A JPH0920737A (en) | 1995-06-30 | 1995-06-30 | Production of biodegradable chelete using chloroacetaldehyde or its acetal as raw material and l,l-ethylenediaminedisuccinic acid |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH0920737A true JPH0920737A (en) | 1997-01-21 |
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Family Applications (1)
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| JP7186599A Pending JPH0920737A (en) | 1995-05-09 | 1995-06-30 | Production of biodegradable chelete using chloroacetaldehyde or its acetal as raw material and l,l-ethylenediaminedisuccinic acid |
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| JP (1) | JPH0920737A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105985252A (en) * | 2015-02-11 | 2016-10-05 | 上海美悦生物科技发展有限公司 | Aspartic acid-ornithine crystal IV and preparation method thereof |
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1995
- 1995-06-30 JP JP7186599A patent/JPH0920737A/en active Pending
Cited By (1)
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| CN105985252A (en) * | 2015-02-11 | 2016-10-05 | 上海美悦生物科技发展有限公司 | Aspartic acid-ornithine crystal IV and preparation method thereof |
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