JPH09199777A - モードロックレーザー装置 - Google Patents
モードロックレーザー装置Info
- Publication number
- JPH09199777A JPH09199777A JP8276692A JP27669296A JPH09199777A JP H09199777 A JPH09199777 A JP H09199777A JP 8276692 A JP8276692 A JP 8276692A JP 27669296 A JP27669296 A JP 27669296A JP H09199777 A JPH09199777 A JP H09199777A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cavity
- passive mode
- laser device
- locked laser
- fiber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
- H01S3/06708—Constructional details of the fibre, e.g. compositions, cross-section, shape or tapering
- H01S3/06712—Polarising fibre; Polariser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
- H01S3/06791—Fibre ring lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/094003—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light the pumped medium being a fibre
- H01S3/094007—Cladding pumping, i.e. pump light propagating in a clad surrounding the active core
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
- H01S3/09415—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/11—Mode locking; Q-switching; Other giant-pulse techniques, e.g. cavity dumping
- H01S3/1106—Mode locking
- H01S3/1112—Passive mode locking
- H01S3/1115—Passive mode locking using intracavity saturable absorbers
- H01S3/1118—Semiconductor saturable absorbers, e.g. semiconductor saturable absorber mirrors [SESAMs]; Solid-state saturable absorbers, e.g. carbon nanotube [CNT] based
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/11—Mode locking; Q-switching; Other giant-pulse techniques, e.g. cavity dumping
- H01S3/1106—Mode locking
- H01S3/1121—Harmonically mode locking lasers, e.g. modulation frequency equals multiple integers or a fraction of the resonator roundtrip time
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
調整可能な反復率を有する超短パルスを発生させるこ
と。 【解決手段】 10ナノ秒台の寿命を有する半導体飽和
吸収体を100ナノ秒台のキャビティー往復時間を有す
るファイバーレーザーに挿入することによって、受動的
調和モードロックが得られ、基本キャビティー周波数の
整数倍のパルスが安定して発生した。レーザーの光学的
な制限が可能な偏光状態において、20から500MH
zの周波数範囲のパルスが得られ、この周波数範囲で
は、キャビティーへのポンプ出力レベルを単純に選択す
ることによって別の反復率を選択し得た。キャビティー
一往復の時間内におけるパルスジッターは300ピコ秒
と50ピコ秒の間と測定され、周波数範囲の側波帯は最
高70dBまで抑圧し得た。飽和吸収体はキャビティー
反復率を安定化させ、受動的モードロックを開始させる
ために利用される。非線形偏光展開によりモードロック
が持続され、また、パルスの振幅変動を抑圧させるため
に光学的な制限が加えられる。
Description
クファイバーレーザーに関し、さらに詳しくは、反復率
が調整可能な受動的モードロックファイバーレーザーと
超短パルス発生方法に関するものである。
d Physics B, B58,197 (199
4)等に公開されているように、計測器やセンサーに関
してモードロックファイバーレーザーを応用すると高平
均出力や高反復率による恩恵を受け得る。しかしなが
ら、エルビウムファイバーレーザーから高平均出力や高
反復率を得るためには、キャビティー内に必要なファイ
バー長が長くなるために厳しい制約が存在する。Fer
mann他(Optics Letters,20,
172 (1995))に教示されているように、チャ
ープファイバー格子をファイバー発振器に組み込むこと
により(パルス幅の増大と引き替えに)出力の制約を克
服し得るが、反復率に関する制約は存在し続ける。米国
特許出願第08/445,287号等に開示されている
ように、レーザーシステムをさらに複雑化させたチャー
プパルス増幅に基づくファイバーシステムにも同じ限界
が存在する。
てキャビティー内の反復率を増加させることによりファ
イバーレーザーの平均出力を増加させることができる。
Yoshida他(Applied Physics
Letters, 60,932 (1992))やD
ennis他(Electronics Letter
s, 28, 1894 (1992))に開示された
初期の受動的調和モードロックシステムでは、レーザー
の反復率を増加させるために副キャビティーが受動的モ
ードロックファイバーレーザーに組み込まれている。し
かし、副キャビティーの利用は、副キャビティーと主キ
ャビティーとの間の位相を調整する必要があるため、本
質的に不安定な設計へとつながる。さらに、副キャビテ
ィーの長さを変更することなく反復率を調整することは
不可能である。その代わりに、キャビティー内で電気−
光学変調器を使用することによってパルス反復率を安定
させることは可能である(C.R. Doerr他,
Optics Letters, vol. 19,
p. 31−33, 1994)。光学的な制限が存在
する場合は、副キャビティーを使用しなくともパルス振
幅変動を抑え、安定した調和モードロックを得られる。
しかし、変調器を使用する場合は通常、キャビティー長
を変調器の反復率に電子的にロックしなければならない
ため、高価な電子駆動装置ならびにキャビティー長安定
機構が要求される。
5,414,725号明細書に位相感応型副キャビティ
ーを使用せず、キャビティー内に飽和吸収体を非対照的
に配設したシステムが開示されている。吸収体の位置設
定は本質的に副キャビティーを定義することにもなるの
で、動作原理は副キャビティーを使用したシステムと類
似したものになる。しかしながら、飽和吸収体内におけ
る二つのパルスの相互作用は振幅効果によって支配され
ている(即ち、二つのパルスが飽和吸収体の領域内で衝
突した場合にのみ飽和吸収体が選択的にエネルギーを解
放する)ため、「副キャビティー」の位相を制御する必
要はなくなる。しかしながら、Fermann他が提案
したシステムには、反復率が飽和吸収体の位置設定によ
り決定され、キャビティー内の素子を物理的に移動させ
ることによってのみ調整が可能であるという限界があ
る。
調整可能な反復率を得ことに関する問題点の部分的解決
策が提案された(Electronics Lette
rs, 29, 1860 (1993))。Grud
inin他は、ソリトンの相互作用がファイバーレーザ
ーにおいて安定した受動的調和モードロックを誘発し得
ることを発見した。Grudininが最初の研究にて
仮定した通り、現在は一般的に長命の音響光学的相互作
用がファイバーレーザー内でのパルス間のソリトン反発
作用へつながると信じられている(A.N. Pili
petskii他, Optics Letters,
20, 907 (1995)、S.Gray他 ,
Optics Letters, 20, 189
(1995))。言い換えると、これは数十ミリ秒から
数秒程度の期間において安定した調和モードロックパル
ス列の連続的発生を導く。
ninによって提案されたシステムは、非常に偏光状態
に敏感で、15以上のキャビティー長を有する非常に長
いファイバー環状キャビティー内でのみ作動が可能であ
ったため、実用的なシステムではなかった。明らかに、
このような長いファイバーレーザー内の偏光状態は環境
変化の影響を大きく受けるため、これらのレーザーの安
定動作時間は高々数時間である。さらに、Grudin
in他は調和モードロックレーザーでパルスの振幅変動
を安定化させるために必要なキャビティー内に光学的な
制限を加え得る手段を何も採用していなかった(C.
R. Doerr他)。受動的調和モードロックにおい
てパルス内の反発力はその振幅に依存するため、光学的
な制限を加えることによりパルスジッターの低い受動的
調和モードロックパルスの発生が促進される。
いため、キャビティー内における小さな残留反射の効果
は完全に覆い隠されてしまうことが多い。つまり、キャ
ビティー内に小さな反射が存在しても、パルスがキャビ
ティー内に均一に分配されることはなく、パルス群とし
てそのまま保持されるのである。定在波キャビティーは
本質的に高次のキャビティー内反射の影響を受けるため
(K. Tamura他、Optics Letter
s, 18, 220 (1993))、定在波キャビ
ティー内で受動的調和モードロックを得ることはできな
い。
ステムは数十mWの出力を発生し得るが、高価で非実用
的なポンプ源を必要とする。数百MHzの反復率で作動
しているシステムは数百mWのポンプ出力を必要とする
ため、Grudinin他が教示するシステムは大きく
かさばるチタン:サファイヤレーザーをポンプ源としな
ければならない。チタン:サファイヤレーザーをMOP
A(Master−Oscillator Power
Amplifier diode laser)に変
更したとしても、MOPAの製造コストが高いため、シ
ステムのコストを低減させることはできない。
用効果】本発明の目的は、調和モードロックを繰り返し
誘発でき、安定したファイバーレーザーを提供すること
である。さらに、本発明の目的は、調整可能な反復率を
有し、超短波パルスを発生し得る安定した受動的モード
ロックファイバーレーザーを提供することである。本発
明の実施例の一つには、レーザーキャビティー内にキャ
ビティー往復時間の約十分の一のキャリア寿命を有する
飽和吸収体が配設されている。光学的な制限が存在する
場合、飽和吸収体は定在波キャビティー内における調和
モードロックを可能にし、キャビティーの一部に偏光保
持ファイバーを使用することで環境変化に対して安定化
されたキャビティー設計を可能にし得る(Ferman
n他, Optics Letters, 19, 4
3(1994))。そのため、本発明は信頼性が非常に
高く、本質的に人為的な調整が不要なシステムである。
の米国特許3,808,549号明細書に開示されてい
るように、二重クラッドファイバーを発振器に組み込む
ことによって固体ポンプレーザーやMOPAを不必要に
することである。その結果、全システムを低価格なダイ
オード配列レーザーによってクラッドポンプすることが
可能となる。本発明に沿って最適化されたレーザーシス
テムは平均出力が数十mWで少なくとも1GHzの反復
率を達成し得る。
した受動的調和モードロックファイバーレーザーを示し
たものである。エルビウム・ドープ・ファイバー1aは
約14の長さの偏光保持ファイバーで、重量でおよそ9
00ppmのレベルでドープ処理されている。偏光保持
特性を持たず、ドープ処理されていない適切な長さのフ
ァイバーを使用することにより、キャビティー内の分散
はわずかにマイナスに調整される。ファイバー1aの一
端には波長分割マルチプレクサ1bが接続されている。
波長分割マルチプレクサ1bにはポンプPumpとファ
ラデー回転子鏡FRMが接続されている。また、キャビ
ティーはFermann他(Optics Lette
rs19, 43 (1994))に開示された技術を
含んでおり(ファイバー1aの両端にファラデー回転子
FRおよびファラデー回転子鏡FRMが配設されてい
る)、キャビティー内の線形偏光変動の補正およびキャ
ビティー内の非線形偏光展開(Nonlinear P
olarization Evolution)を安定
化させ得るようになっている。この実施例において、非
線形偏光展開による受動的モードロックは、ファイバー
1aの一端とキャビティー内偏光子4の間に配設された
四分の一波長板3および二分の一波長板2によって確保
されている。このレーザーの信号光出力はキャビティー
内偏光子4より取り出される。偏光子4より取り出され
る信号光の量は偏光子4とキャビティー鏡6との間に配
設された四分の一波長板5により調整し得る。ファイバ
ーレーザーのポンピングは、980nmで最高110m
W程度の出力を有するピグテール単一モードレーザーダ
イオード、または、500mWの程度の出力を有するM
OPAレーザーによって行い得る。受動的モードロック
を開始させるには、半導体飽和吸収体7をキャビティー
一端に挿入するか、または、キャビティーの一端に配置
した鏡を振動させれば良い。半導体飽和吸収体7は反射
放熱板上にエピタキシャル法にて形成された2μmのI
nGaAsP膜に基づくもので、1ナノ秒未満〜20ナ
ノ秒程度のキャリア寿命を有する。このようにして形成
されたサンプルのキャリア寿命は20ナノ秒程度である
が、プロトン衝撃によってキャリア寿命を短縮させ得
る。飽和吸収体の寿命の測定にはポンプ−プローブ方式
を用いることができる。
mW程度のポンプ出力レベルを維持し、1ナノ秒〜20
ナノ秒の範囲のキャリア寿命を有する飽和吸収体を使用
することにより、基本キャビティー反復率で受動的モー
ドロックを自動的に開始(Self−Start)させ
ることが可能となる。図2は本発明によって発生したパ
ルスのスペクトルを示す。発生したパルスは200フェ
ムト秒程度のパルス幅を有しており(ガウス形を仮定し
た場合)、自己相関関数軌跡を有するとともに近似的に
帯域幅が制限されている。一般的に、受動的モードロッ
クを自動的に介しさせ、かつ、信頼性を犠牲にすること
なく発振器から得られる最高パルス出力は約30pJで
ある。
クを安定させ得るということを実証するために、下記の
実験を行った。 1) 発振器に供給されるポンプの出力レベルを適当に
15mW以上に設定し、飽和吸収体7を取り除いて、受
動的モードロックを作動させるために反射鏡を振動させ
ると、キャビティーの一往復時間内に大量のパルスを発
生させ得たが、パルスの分離は一様でなく、常に混沌と
した固まりのままであった。 2) 発振器に供給されるポンプの出力レベルを適当に
15mW以上に設定し、5ナノ秒以下のキャリア寿命を
有する飽和吸収体を使用すると、自動的に受動的モード
ロックが開始され、キャビティーの一往復時間内に大量
のパルスを発生させ得たが、安定した反復率は得られ
ず、パルスは混沌とした固まりのままであった。5ナノ
秒程度のキャリア寿命を有するサンプルを使用した場合
に、ときどきパルスの分離が可能になる場合があった
が、一往復間におけるパルス間のジッターは数ナノ秒で
あった。 3) 発振器に供給されるポンプの出力レベルを適当に
15mW以上に設定し、5ナノ秒より長いキャリア寿命
を有する飽和吸収体を使用すると、自動的に受動的モー
ドロックが開始され、キャビティーの一往復時間内に大
量のパルスを発生させ得た。しかし、今回は数秒の間に
安定した受動的調和モードロックを得ることができた。
実際、安定した受動的調和モードロックは25〜250
MHz(4.7MHzのステップで測定)の周波数の範
囲内で得られ、反復率の上限はMOPAレーザーから得
られる最高ポンプ出力レベルにより制限された。
支配的なパルスジッターは、実際には、キャビティーの
一往復時間内におけるパルス間の相対的位置の不確定要
素であるため、パルスジッターはキャビティーの基本周
波数における高周波スペクトルの側波帯として現れる。
実際に、−30dB以上の高周波側波帯抑圧が25〜2
50MHzの周波数範囲の全域で得られた。
列の高周波スペクトルを示す。図3において、キャビテ
ィーの一往復時間内の基本周波数における側波帯抑圧は
約−47dBであった。高速オシロスコープで観測した
結果、これに相当するキャビティーの一往復時間内にお
ける最高パルス対パルスジッター(PPJC)は100
ピコ秒未満であった。反復率が25〜250MHzの範
囲では、同様のジッター特性(つまり、PPJC<30
0ピコ秒)を有する安定した受動的調和モードロックが
得られる。PPJCは出力結合の減少に伴って減少する
ので、パルス出力が10pJ未満の場合、50dB以上
の側波帯抑圧が得られる。能動的にポンプ出力を安定化
させれば、最高70dB程度の側波帯抑圧が得られる。
状態を変更することなく獲得でき、所定の安定したポン
プ出力レベルにおいて完全に安定している。また、パル
スの反復率に影響を与えることなくレーザーに対して機
械的な摂動を与えることもできる。しかしながら、機械
的な摂動は短期的なパルスジッターの増加につながる場
合もある。音響−光学的なパルスの相互作用は、一般的
に、確定されたパルス反復率において強い共鳴の対象と
なるため、音響−光学的な相互作用はそれらの共鳴の周
辺でのみ安定した受動的調和モードロックを誘発するこ
とができ(Pilipetskii他, Optics
Letters 20, 907,(1995)を参
照)、飽和吸収帯を採用した場合のようにあらゆる周波
数域にわたって安定した受動的調和モードロックを誘発
することはできないと信じられている。従って、ここに
実証されたとおりに,音響−光学的な相互作用の使用の
みで真に調整可能なパルス反復率を得ることはできな
い。 4) 前述のレーザーの分散は(ドープ処理されていな
いファイバーの長さを変えることによって)調整され、
キャビティー全体の分散がマイナス値である場合には分
散の大きさに関わりなく受動的調和モードロックが実現
可能であることが実証されたが、キャビティー内の分散
が大きなプラス値(例えば50000フェムト秒2 )で
あった場合は、受動的調和モードロックは実現不可能だ
った。 5) 最後に、エルビウム・ドープ・ファイバーをさら
に高いドープ・レベルのファイバーに代えて実験を行っ
た。一般的に、10ナノ秒以下のキャリア寿命を有する
飽和吸収体は、20MHzより高い基本反復率を有する
キャビティーにおいて受動的調和モードロックを誘発さ
せることはできなかったが、そのかわりに連続的なレー
ザーのQスイッチ現象が観測された。この結果、受動的
モードロックを可能にするためには、飽和吸収体のキャ
リア寿命はキャビティーの一往復時間に比べて十分の一
程度に小さく設定するべきである。同様の結果が、半導
体飽和吸収体を利用してモードロックされた他のレーザ
ーシステムにおいても観測されており、非常に長いキャ
リア寿命に関連して開始されるQスイッチ現象はキャビ
ティー内の出力変動の成長を妨げ、レーザーの安定性に
関連するとされている(例:U. Keller他,
Optics Letters, 18, 217
(1993))。
内の一往復時間の約十分の一のキャリア寿命を有する可
飽和吸収対を使用した場合、受動的モードロックをが開
始できないだけでなく、受動的調和モードロックも安定
させ得ないことが実証された。飽和吸収体を選択する場
合、受動的調和モードロックを安定して達成するために
二つの条件がある: 1) キャビティーの一往復時間に匹敵するキャリア寿
命を有する飽和吸収体は、レーザーが連続的なQスイッ
チ現象を呈してしまうため、どのタイプの受動的モード
ロックも開始させることができない。 2) キャビティーの一往復時間に比べて非常に短いキ
ャリア寿命を有する飽和吸収体は、キャビティー内のパ
ルスが群を成してしまうため、受動的モードロックを開
始させることができない。
ーは非常に複雑な非線形システムであるため、様々な要
因がパルス反復率の安定化に関係する。安定性がキャリ
ア寿命に依存していることから、長寿命のパルス反発力
は飽和吸収体から直接生じているようである。さらに、
非線形偏光展開はキャビティー内の光学的な制限につな
がることがあり(C.R. Doeer他, Opti
cs Letters, 19, 31 (199
4))、このことは飽和吸収体が存在する場合はパルス
の分離へとつながる。
変化させ、レーザーの出力パルスエネルギーとキャビテ
ィー内の偏光子で拒絶された信号光のパルスエネルギー
を(高速な光検出器を利用して)観測することによって
証明されたように、光学的な制限は受動的調和モードロ
ックが達成された際には必ず存在する。ここにおいて、
ポンプ出力の変化は偏光子において拒絶されたパルス・
エネルギーの変化につながり、出力パルスエネルギーは
殆ど一定のレベルにとどまる(つまり、拒絶されたパル
スエネルギーが±50%程度変化しても出力パルスエネ
ルギーの変化は±5%未満である)。光学的な制限は、
二つの線形偏光固有モード間の非線形の位相遅れの差分
に基づいて非線形反射の正弦波応答から生じるため
(C.R.Doerr他、参照)、反射率の飽和は一定
のパルスエネルギーにおいて(つまり、レーザー内で発
振しているパルスの非線形位相遅れのために)得られ
る。よって、あらゆるポンプ出力の変化は吸収され、キ
ャビティーの一往復時間内における全てのパルスは安定
した振幅を有することになる。実際に、受動的調和モー
ドロックを達成するためには、光学的な制限を可能にす
る偏光状態を選択すると非常に効率的である。
れた飽和吸収体のデザインは前述の通りであるが、同じ
吸収体をクラッドポンプ式受動的調和モードロックファ
イバーレーザーにおけるパルス反復率の安定化に利用す
ることも可能である。クラッドポンプ式受動的調和モー
ドロックファイバーレーザーでは、MOPAポンプレー
ザーを低価格なダイオードアレイレーザーに置き換える
ことが可能になる。
ロックファイバー発振器の実施例を示す。Er3+でドー
プ処理されYb3+で増感された4mの単一二重クラッド
・ファイバー8が利得媒体として使用され(J. D.
Minelly他, IEEE Photonics
Technology Letters, 5,30
1 (1993))、Yb3+からのエネルギー転送を通
じてのEr3+のポンピングを可能にしている。ファイバ
ー8には約800ppm(1モルあたり)のErと約8
000ppm(1モルあたり)のYbとのドープ処理が
施されている。コアの直径は6μmであり、開口率NA
は0.16である。20ナノ秒のキャリア寿命を有する
飽和吸収体を使用するためには、キャビティーの一往復
時間(基本往復時間)が約100ナノ秒になるようにキ
ャビティーの長さを調整する。このために、ドープ処理
が施されていない長さ6.6mのコーニング製SMF−
28ファイバー9がキャビティーに追加されている。図
示していないが、この他にドープ処理がされていない長
さ0.6mのコーニング製DCファイバー(ポジティブ
分散ファイバー)がキャビティーの一部に加えられてい
るので、本実施例装置におけるキャビティーの一往復時
間は120ナノ秒、基本パルス反復率は8.33MHz
である。キャビティー一往復時の分散はD2 =−0.2
6ピコ秒2であると推定された。
は、973nmの波長を発生し、標準出力が1Wで、1
00×1μmの面積を有するダイオード配列11を使用
して二色鏡10を通じてポンプされる。1倍の画像シス
テムを使用することにより、アクティブ・ファイバーの
内側クラッドにおいて最高60%の結合率が得られる。
前述の実験の通り、定常状態におけるモードロック機構
として、また、光学的な制限のために、Fermann
他, Optics Letters 19,43
(1994)に開示された非線形偏光展開が使用され
る。また、環境変化に対する安定性を向上させるため
に、一対のファラデー回転子FRがキャビティー内に挿
入される。パルス発生を自動的に開始させ、かつ、受動
的調和モードロックを可能にするためには、15ナノ秒
のキャリア寿命を有するInGaAsP飽和吸収体12
を使用し得る。実験を容易にするために、飽和吸収体1
2はポンプ11と反対側の一端に配設されている。な
お、図4において、レンズL1、L2、L3、L4は異
なる素子間を効率よく結合するために挿入されている。
また、キャビティーの両端にはキャビティー鏡M1とM
3が配設されている。
い上、ファイバーの効率が比較的低いため、図4のレー
ザーから得ることのできる最高連続波出力はわずか7.
5mWである。モードロック作動中の最高出力は2.5
mWであった。最高パルス反復率が128.6MHzで
あるため、パルスエネルギーは20nJとなる。図5
に、ポンプ電流を上下に変動させて測定したキャビティ
ー内のパルス数を示す。本実施例では1400mAのポ
ンプ電流は500mWのポンプ出力に相当する。この実
験では手動でポンプ出力を上下に変動させ、特定のパル
ス数における安定性を失わないように注意が払われた。
ポンプ出力を上下させると顕著なヒステリシスが観測さ
れた。ポンプ出力の上昇中には、以前のパルス数に一つ
以上のパルスが加わることが度々観測されたが、ポンプ
出力の下降中には(少なくともパルス数が比較的低い領
域においては)パルス数が確実に一つづつ低化した。こ
の結果、パルス数に関する安定限界が低いことが確認さ
れた。
(レーザーダイオードのスイッチを入れた場合など)に
は、ポンプ出力が徐々に変動した場合に比べ、一般的に
高いパルス数が得られた。少なくともパルス数が比較的
低い領域においては、パルス数はポンプ出力と変動速度
の両方に従う関数であり、再現性も高い。さらに、長期
的な変動は低複屈折ファイバーを短くすることにより取
り除くことができる。
安定性プラトー状態の中間地点で得ることができ、プラ
トー状態の中間地点では300ピコ秒よりも小さいPP
JCが33MHz以上のあらゆる周波数にて得られた。
パルスジッターの減少は反復率の増大とともに観測さ
れ、100MHz程度のパルスレートでは50−100
ピコ秒のPPJCが得られた。100ピコ秒未満のPP
JCの場合、50dB以上のの側波帯抑圧を得ることが
できた。
ス幅は600フェムト秒程度である。長いポジティブ分
散ファイバーを利用してキャビティーの分散を補正する
ことにより200−300フェムト秒のパルス幅が容易
に得られる。最後に、本発明はクラッドポンプ式ファイ
バーレーザーを高い平均出力と高い反復率で作動させる
ために利用することもできる。キャビティー内の損失を
低減させる以外に、より大きなクラッドを有することに
より、より面積が大きくて高出力のポンプダイオードを
結合し得る二重クラッドファイバーを使用することによ
って出力を増大させることができる。それゆえに、連続
波出力で20mW程度に相当する出力を有し、少なくと
も1GHzのパルス反復率を有するレーザーが容易に実
現できる。
飽和吸収体によって受動的調和モードロックを誘発する
初めてのシステムである。それゆえに、飽和吸収体は受
動的モードロックの開始と受動的モードロックにおける
パルス成形に限らず、受動的調和モードロックにおける
パルスジッターの最小化にも使用され得る。この結果、
飽和吸収体の使用により受動的モードロックレーザーへ
のポンプ出力のレベルを変化させることによって反復率
を調整が可能になる。環境的に安定したキャビティー設
計を使用することによって、カー型非線形と光学的な制
限を探求することが可能になり、これらレーザーの安定
性をさらに高めることが可能になる。二重クラッドファ
イバーの使用により低価格なダイオード・アレイ・レー
ザーをファイバーレーザーのポンピングのために使用で
きるようになる。
ルビウム・ドープ・ファイバーを使用しているが、言う
までもなくその他の希土類がドープ処理されたファイバ
ーで代用してもよい。別の実施例では、定在波キャビテ
ィーが環状キャビティー16と透過用の飽和吸収体17
に取り替えられ、ファイバーアイソレータ18によって
両向性または単向性が選択される。図6に、このシステ
ムの一般的なキャビティー構成を示す。なお、二重クラ
ッドファイバーや分散補正ファイバーをここに使用する
こともできる。また、別の全ファイバーカプラー(図示
せず)を加えることによって追加の出力結合を得ること
もできる。
ャビティー内で使用した別の実施例を示す。なお、この
実施例においても透過型または反射型の飽和吸収体が使
用可能である。この実施例では、偏光子Pとキャビティ
ー鏡M4、M5の配置を全ファイバー・ループと取り替
えてもよい。また、別の実施例として、全ファイバー・
ループを利得ファイバーの両端に使用することもでき
る。全部が単一モードファイバーの場合、鏡M2を全フ
ァイバー波長分割多重カプラーと取り替えてもよい。二
重クラッドファイバーの場合、マルチモード波長分割多
重カプラーを使用し得る。キャビティー鏡M1は部分反
射性を有し、キャビティー内の信号光の一部をキャビテ
ィー外へ出力する。
ルスジッターを最小化させるために調和分割を使用し得
る。図8に調和分割されたキャビティー設計の例を示
す。図8では、定在波キャビティーは一つの飽和吸収体
SAを含んでおり、飽和吸収体は調和分割を可能にする
ためにキャビティーの末端から離れて配設されている
(Fermann他, 米国特許第5,414,725
号明細書に開示された通り)。キャビティーの長さLと
nLの比率も同特許に含まれている。なお、ファイバー
カプラー(図示せず)を使用することによって出力結合
を得ることも可能である。
的に安定したキャビティー設計と互換性があり、非線形
偏光展開がパルス成形を行い、光学的な制限を加える。
図8においては、エルビウム・ドープ・ファイバー1a
の両端にファラデー回転子FRとファラデー回転子鏡F
RMとが配設されており、環境変化の影響に伴いエルビ
ウム・ドープ・ファイバー中に発生する偏光状態の変化
が補正されるようになっている。飽和吸収体17はキャ
ビティー鏡M1から距離Lの地点に配設されている。ま
た、本実施例のキャビティーは調和的に分割されたファ
ブリ・ペローキャビティーが得られるように、飽和吸収
体17とファラデー回転子鏡FRMの間の距離がnL
(n=整数)となるように設計されている。
ー・ブラッグ格子CFBGがキャビティー内の分散補正
に使用され得る。チャープファイバーブラッグ格子はキ
ャビティーへ直接接合されるか、または、図9に示した
ように利得ファイバーに組み込み得る。ここにおいて二
重クラッドまたは一重クラッドファイバーを使用するこ
とができ、単一モードファイバーを使用する場合にはダ
イオード配列レーザーでなく単一モードダイオードレー
ザーが使用される。また、図9に示した実施例では、キ
ャビティー内の分散を補償し、偏光状態を制御するため
に単一モード分散補償ファイバー19がキャビティー内
に挿入されている。
ン、フィルター、複屈折チューニング板、またはバルク
格子などの波長調整素子20をキャビティーに組み込ん
でいる。前述した実施例のように、一重または二重クラ
ッドファイバーを使用することができ、また、鏡M2を
全ファイバー波長分割多重カプラーに取り替えることも
できる。図10に示す通り、一つ以上の飽和吸収体1
2’をキャビティー内に使用することもできる。
施例では非線形全ファイバーループが受動的調和モード
ロックに使用される。ここでは、光はキャビティーの右
手側のループの周りを時計回りと反時計回りに伝播する
(I.N. Duling」, Optics Let
ters, 16, 539 (1991)参照)。通
常二つの光の回路の強度レベルは異なるため、カプラー
21にてパルスが干渉した時点で非線形のパルス短縮と
光学的な制限が得られる。ファイバー全体を偏光保持フ
ァイバーとすることもでき、同図に示した非逆数的線形
位相シフターで位相制御装置PC2を置き換えることに
より線形の環境変化の影響を受けにくい位相シフトが時
計回りおよび反時計回りに伝搬する光の間で達成され得
る。非逆数的線形位相シフターはファラデー回転子2
2、23および波長板24を備える。キャビティーの左
手側のループを使用するかわりに、カプラーのリードの
一本を利用して飽和吸収体鏡に取り付けることもでき
る。同様に、キャビティーの左手側にカプラーのリード
の一本のみが使用されている場合には、偏光子がカプラ
ーのリードの一端と飽和吸収体の間に挿入され得る。さ
らに、カプラーをさらにバイアスさせるために、ファラ
デー回転子をカプラーのリードの一端と偏光子の間に挿
入し得る。
特許は、参考文献として特に編入されたものである。本
文では本発明の多数の実施例が記載されているが、その
発明の技術的思想を逸脱することなく様々な実施態様が
考えられることは当業者であれば容易に理解できること
であろう。
図である。
一般的なパルススペクトルを示すグラフである。
0.5MHzで発生したパルス列の高周波スペクトルを
示すグラフである。
図である。
電流を上下にランピングさせた場合に測定されたキャビ
ティー内のパルス数を示すグラフである。
三実施例を示すブロック図である。
本発明の第四実施例を示すブロック図である。
割ファイバーレーザーを利用した本発明の第五実施例装
置を示すブロック図である。
てキャビティー内での分散補正を行った本発明の第六実
施例装置を示すブロック図である。
み込まれた本発明の第七実施例装置を示すブロック図で
ある。
線形全ファイバーループを設けた本発明の第八実施例を
示すブロック図および同実施例に適用し得る線形位相シ
フターを示すブロック図である。
4:偏光子 6:キャビティーミラー 7:半導体飽和吸収器 8:Er−Ybドープ・能動ファイバー(利得媒体) 9:コーニングのSFM−28(商品名)ファイバー 10:二色鏡(ダイクロイックミラー) 11:ダイ
オードアレイ 12:吸収器 16:リングキャビティー 17:
飽和吸収器(SA) 18:ファイバー・アイソレーター P:偏光子 M,M1,M2,M3:ミラー M4,M5:キャビ
ティーミラー SA:飽和吸収器 CFBG:チャープファイバー・
ブラッグ格子 PC2:偏光コントローラー L1,L2,L3,L
4:レンズ FR:ファラデー回転子(旋光器) λ/2:二分の一波長板 λ/4:四分の一波長板
Claims (42)
- 【請求項1】モードロックレーザーの光学的ポンピング
を行うポンプ手段と、 前記レーザーのエネルギーを調整する光学的なキャビテ
ィーと、 前記キャビティー内で光学的な短パルスの発生を開始さ
せ、維持する始動手段と、 前記キャビティーの基本周波数の整数倍の反復率を有す
る前記光学的な短パルスを伝播させるための光学ファイ
バー利得媒体と、 前記キャビティーからレーザーエネルギーを取り出すた
めの出力手段と、 前記基本キャビティーの一往復時間よりも短く、前記基
本キャビティーの一往復時間の百分の一よりも長いキャ
リア寿命を有する少なくとも一つの半導体飽和吸収体を
含み、前記キャビティー内におけるパルス分離を最大化
するためのパルス分離手段と、 パルス振幅の変動を最小化するためにキャビティーに光
学的な制限を加える光学的制限手段と、 を備える受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項2】前記短パルスは高速カー非線形性によって
維持される請求項1記載の受動的モードロックレーザー
装置。 - 【請求項3】前記光学的制限が高速カー非線形性によっ
て誘発される請求項1記載の受動的モードロックレーザ
ー装置。 - 【請求項4】さらに前記利得媒体の線形位相変動を補正
する補正手段を備える請求項1記載の受動的モードロッ
クレーザー装置。 - 【請求項5】さらにファイバーの二つの偏光固有モード
の間の線形位相遅れを制御するための四分の一および二
分の一波長板を備える請求項4記載の受動的モードロッ
クレーザー装置。 - 【請求項6】さらに偏光子と、少なくとも一つのキャビ
ティー鏡と、出力結合を調整するために前記偏光子と前
記偏光子に最も近接した前記キャビティー鏡の間に配設
された第二の四分の一波長板とを備える請求項5記載の
受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項7】さらに前記キャビティーの分散を制御する
ために、分散補正ファイバーとチャープ・ファイバー・
ブラッグ格子のどちらか一方から成る分散制御手段を有
する請求項1記載の受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項8】前記利得媒体は希土類でドープ処理された
ガラスファイバーである請求項1記載の受動的モードロ
ックレーザー装置。 - 【請求項9】前記利得媒体は希土類によってドープ処理
された二重クラッドガラスファイバーであり、ダイオー
ド・アレイ・レーザーによりポンプされる請求項1記載
の受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項10】前記チャープ・ファイバー・ブラッグ格
子は直接前記利得媒体に組み込まれ、前記利得媒体は前
記チャープ・ファイバー・ブラッグ格子を介してポンプ
される請求項7記載の受動的モードロックレーザー装
置。 - 【請求項11】少なくとも一つの前記飽和吸収体は前記
キャビティーの一端に隣接している請求項1記載の受動
的モードロックレーザー装置。 - 【請求項12】ファイバーカプラーが出力結合に使用さ
れている請求項1記載の受動的モードロックレーザー装
置。 - 【請求項13】さらに出力結合のために部分反射性飽和
吸収体を備える請求項1記載の受動的モードロックレー
ザー装置。 - 【請求項14】前記ファイバーの複屈折は5x10-7未
満である請求項1記載の受動的モードロックレーザー装
置。 - 【請求項15】15.非線形偏光展開による非線形パル
ス整形を安定化させるために前記利得媒体の複屈折率が
1×10-7未満である請求項4記載の受動的モードロッ
クレーザー装置。 - 【請求項16】さらに、 前記キャビティーの第一端に配設された偏光子と、 前記光学ファイバーに接合された二重被服ファイバー
と、 前記キャビティーの第二端に配設されたキャビティー鏡
を含む反射手段と、 前記反射手段の前に配設された第一ファラデー回転子
と、 第二ファラデー回転子と、 を備える請求項4記載の受動的モードロックレーザー装
置。 - 【請求項17】さらに、前記ファイバーの二つの偏光固
有モード間の線形位相遅延を制御するための四分の一波
長板と二分の一波長板を備える請求項16記載の受動的
モードロックレーザー装置。 - 【請求項18】さらに、少なくとも一つのキャビティー
鏡と、調整可能な出力結合のために、前記偏光子と前記
偏光子に最も近いキャビティー鏡の間に配設された第二
の四分の一波長板を備える請求項17記載の受動的モー
ドロックレーザー装置。 - 【請求項19】前記ファラデー回転子の一つはキャビテ
ィー鏡と組み合わされ、ファラデー回転子鏡を構成して
いる請求項16記載の受動的モードロックレーザー装
置。 - 【請求項20】前記光学ファイバーの一部分は1×10
-7より大きな複屈折率を有し、同光学ファイバーの別の
部分は1×10-7未満の複屈折率を有し、低複屈折の光
学ファイバーは前記キャビティー鏡の前に配設される請
求項16記載の受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項21】前記光学ファイバーの一部分は1×10
-7より大きな複屈折率を有し、同光学ファイバーの別の
部分は1×10-7未満の複屈折率を有し、低複屈折の光
学ファイバーは前記キャビティー鏡の前に配設される請
求項17記載の受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項22】前記ファラデー回転子の一つはキャビテ
ィー鏡と組み合わされ、ファラデー回転子鏡を構成して
いる請求項18記載の受動的モードロックレーザー装
置。 - 【請求項23】前記光学ファイバーの一部分は1×10
-7より大きな複屈折率を有し、同光学ファイバーの別の
部分は1×10-7未満の複屈折率を有し、低複屈折の光
学ファイバーは前記キャビティー鏡の前に配設される請
求項18記載の受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項24】さらに、前記ファイバーの二つの偏光固
有モードの間の線形位相遅延を制御するための四分の一
波長板および二分の一波長板を備える請求項15記載の
受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項25】さらに、偏光子と、少なくとも一つのキ
ャビティー鏡と、調整可能な出力結合のために、前記偏
光子と前記偏光子に最も近いキャビティー鏡との間に配
設された第二の四分の一波長板を備える請求項17記載
の受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項26】さらに、偏光子と、少なくとも一つのキ
ャビティー鏡と、調整可能な出力結合のために、前記偏
光子と前記偏光子に最も近いキャビティー鏡との間に配
設された第二の四分の一波長板を備える請求項24記載
の受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項27】前記光学ファイバーは環状キャビティー
を構成する請求項1記載の受動的モードロックレーザー
装置。 - 【請求項28】前記キャビティーはファイバー・ループ
を備える請求項1記載の受動的モードロックレーザー装
置。 - 【請求項29】前記キャビティーは光学ループを備える
請求項1記載の受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項30】さらに、エタロン、光学ファイバー、複
屈折同調板、およびバルク格子のうち少なくとも一つを
有する波長同調素子を備える請求項1記載の受動的モー
ドロックレーザー装置。 - 【請求項31】前記飽和吸収体の一つはキャビティー鏡
から往復距離Lの地点に配設され、調和的に分割された
ファブリ・ペローキャビティーを得られるように前記キ
ャビティーの残りは往復距離nL(n=整数)の長さを
有する請求項1記載の受動的モードロックレーザー装
置。 - 【請求項32】前記飽和吸収体の少なくとも一つは、調
和分割キャビティーを構成するために二つのキャビティ
ー鏡の一方から距離Lの地点に配設される請求項16記
載の受動的モードロックレーザー装置。 - 【請求項33】前記飽和吸収体の少なくとも一つは前記
キャビティーの一端に隣接し、さらに出力結合のために
部分反射性の飽和吸収体を備える請求項2記載の受動的
モードロックレーザー装置。 - 【請求項34】さらに出力結合のための部分反射性の飽
和吸収体を備える請求項2記載の受動的モードロックレ
ーザー装置。 - 【請求項35】前記飽和吸収体の少なくとも一つは前記
キャビティーの一端に隣接する請求項4記載の受動的モ
ードロックレーザー装置。 - 【請求項36】さらに、出力結合のための部分反射性の
飽和吸収体を備える請求項4記載の受動的モードロック
レーザー装置。 - 【請求項37】前記飽和吸収体の少なくとも一つは前記
キャビティーの一端に隣接する請求項7記載の受動的モ
ードロックレーザー装置。 - 【請求項38】さらに、出力結合のための部分反射性の
飽和吸収体を備える請求項7記載の受動的モードロック
レーザー装置。 - 【請求項39】前記ポンプ手段は半導体ダイオードレー
ザーを含む請求項1記載の受動的モードロックレーザー
装置。 - 【請求項40】前記半導体ダイオードレーザーは、単一
モードダイオードレーザーおよびダイオード配列レーザ
ーのうちどちらか一方である請求項39記載の受動的モ
ードロックレーザー装置。 - 【請求項41】前記ファイバーの複屈折率は1×10−
7よりも大きい請求項1記載の受動的モードロックレー
ザー装置。 - 【請求項42】さらに、 単一モード・光学ファイバーおよび二重クラッドファイ
バーのうちどちらか一方を使用した利得媒体と、 二重被服ファイバーまたは前記光学ファイバー内の線形
位相変動を補正するためのファラデー回転子鏡と、 偏光子と、 前記偏光子と共に前記ファラデー回転子鏡によって誘発
された偏光回転を補償する二分の一波長板と、 を備える請求項29記載の受動的モードロックレーザー
装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/546062 | 1995-10-20 | ||
US08/546,062 US5701319A (en) | 1995-10-20 | 1995-10-20 | Method and apparatus for generating ultrashort pulses with adjustable repetition rates from passively modelocked fiber lasers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09199777A true JPH09199777A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=24178704
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8276692A Pending JPH09199777A (ja) | 1995-10-20 | 1996-10-18 | モードロックレーザー装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5701319A (ja) |
JP (1) | JPH09199777A (ja) |
DE (1) | DE19642925B4 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002368313A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Aisin Seiki Co Ltd | 受動型モードロック・ファイバーレーザー |
JP2006005349A (ja) * | 2004-06-14 | 2006-01-05 | Jds Uniphase Corp | パルス・レーザ装置および方法 |
JP2012169607A (ja) * | 2011-01-24 | 2012-09-06 | Canon Inc | 光源装置及びこれを用いた光干渉断層撮像装置、及び光発振方法 |
JP2013105813A (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-30 | Sony Corp | 半導体レーザ装置組立体 |
KR101340387B1 (ko) * | 2012-05-30 | 2013-12-11 | 한국과학기술원 | 포화흡수체와 비선형 편광 회전 현상을 통해 모드 동기가 되는 10 MHz 이하의 반복률을 갖는 광섬유 레이저 공진기 |
Families Citing this family (75)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2316761B (en) * | 1996-08-23 | 2001-01-03 | Univ Southampton | Optical dispersion compensation |
US7656578B2 (en) | 1997-03-21 | 2010-02-02 | Imra America, Inc. | Microchip-Yb fiber hybrid optical amplifier for micro-machining and marking |
US7576909B2 (en) | 1998-07-16 | 2009-08-18 | Imra America, Inc. | Multimode amplifier for amplifying single mode light |
US6212209B1 (en) * | 1998-03-16 | 2001-04-03 | Lucent Technologies, Inc. | Switchable laser using a faraday rotator |
US6144788A (en) * | 1998-06-30 | 2000-11-07 | Honeywell, Inc. | High stability fiber light source |
US6275512B1 (en) * | 1998-11-25 | 2001-08-14 | Imra America, Inc. | Mode-locked multimode fiber laser pulse source |
DE19954109C2 (de) * | 1999-03-25 | 2001-03-29 | Forschungsverbund Berlin Ev | Vorrichtung zur Erzeugung kurzer Laserimpulse mit passiver Modenkopplung durch 2-Photonenabsorption |
US7723642B2 (en) | 1999-12-28 | 2010-05-25 | Gsi Group Corporation | Laser-based system for memory link processing with picosecond lasers |
US7838794B2 (en) | 1999-12-28 | 2010-11-23 | Gsi Group Corporation | Laser-based method and system for removing one or more target link structures |
US7671295B2 (en) | 2000-01-10 | 2010-03-02 | Electro Scientific Industries, Inc. | Processing a memory link with a set of at least two laser pulses |
US6996136B1 (en) * | 2000-05-05 | 2006-02-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Ultrashort-pulse fiber laser with a dispersion-managed cavity |
US6885683B1 (en) | 2000-05-23 | 2005-04-26 | Imra America, Inc. | Modular, high energy, widely-tunable ultrafast fiber source |
US7088756B2 (en) * | 2003-07-25 | 2006-08-08 | Imra America, Inc. | Polarization maintaining dispersion controlled fiber laser source of ultrashort pulses |
US7190705B2 (en) | 2000-05-23 | 2007-03-13 | Imra America. Inc. | Pulsed laser sources |
US6603791B2 (en) * | 2000-12-12 | 2003-08-05 | Keopsys, Inc. | High power fiber amplifiers with passive pump module alignment |
US6563080B2 (en) * | 2001-02-15 | 2003-05-13 | Scimed Life Systems, Inc. | Laser cutting of stents and other medical devices |
US6927359B2 (en) * | 2001-06-14 | 2005-08-09 | Advanced Cardiovascular Systems, Inc. | Pulsed fiber laser cutting system for medical implants |
FI113503B (fi) * | 2002-03-13 | 2004-04-30 | Optoelectronics Res Ct | Menetelmä moodilukitun pulssijonon järjestämiseksi pumppumodulaation avulla |
JP2003283016A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-03 | Aisin Seiki Co Ltd | 受動型モードロック・ファイバーレーザー |
US7103076B2 (en) * | 2002-10-24 | 2006-09-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ultrashort pulsed laser and optical head using the same |
US7224518B2 (en) * | 2003-02-25 | 2007-05-29 | Toptica Photonics Ag | Fiber-optic amplification of light pulses |
US7361171B2 (en) | 2003-05-20 | 2008-04-22 | Raydiance, Inc. | Man-portable optical ablation system |
US7095772B1 (en) | 2003-05-22 | 2006-08-22 | Research Foundation Of The University Of Central Florida, Inc. | Extreme chirped/stretched pulsed amplification and laser |
US7414780B2 (en) | 2003-06-30 | 2008-08-19 | Imra America, Inc. | All-fiber chirped pulse amplification systems |
US8921733B2 (en) | 2003-08-11 | 2014-12-30 | Raydiance, Inc. | Methods and systems for trimming circuits |
US7115514B2 (en) | 2003-10-02 | 2006-10-03 | Raydiance, Inc. | Semiconductor manufacturing using optical ablation |
US7367969B2 (en) | 2003-08-11 | 2008-05-06 | Raydiance, Inc. | Ablative material removal with a preset removal rate or volume or depth |
US7143769B2 (en) | 2003-08-11 | 2006-12-05 | Richard Stoltz | Controlling pulse energy of an optical amplifier by controlling pump diode current |
US9022037B2 (en) | 2003-08-11 | 2015-05-05 | Raydiance, Inc. | Laser ablation method and apparatus having a feedback loop and control unit |
US8173929B1 (en) | 2003-08-11 | 2012-05-08 | Raydiance, Inc. | Methods and systems for trimming circuits |
US7413847B2 (en) | 2004-02-09 | 2008-08-19 | Raydiance, Inc. | Semiconductor-type processing for solid-state lasers |
US7804864B2 (en) | 2004-03-31 | 2010-09-28 | Imra America, Inc. | High power short pulse fiber laser |
US7486705B2 (en) | 2004-03-31 | 2009-02-03 | Imra America, Inc. | Femtosecond laser processing system with process parameters, controls and feedback |
US20060000814A1 (en) | 2004-06-30 | 2006-01-05 | Bo Gu | Laser-based method and system for processing targeted surface material and article produced thereby |
US7349452B2 (en) | 2004-12-13 | 2008-03-25 | Raydiance, Inc. | Bragg fibers in systems for the generation of high peak power light |
US8135050B1 (en) | 2005-07-19 | 2012-03-13 | Raydiance, Inc. | Automated polarization correction |
DE102005042073B4 (de) * | 2005-08-31 | 2010-11-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Faserlaser |
US7245419B2 (en) | 2005-09-22 | 2007-07-17 | Raydiance, Inc. | Wavelength-stabilized pump diodes for pumping gain media in an ultrashort pulsed laser system |
US20070075060A1 (en) * | 2005-09-30 | 2007-04-05 | Shedlov Matthew S | Method of manufacturing a medical device from a workpiece using a pulsed beam of radiation or particles having an adjustable pulse frequency |
US7308171B2 (en) | 2005-11-16 | 2007-12-11 | Raydiance, Inc. | Method and apparatus for optical isolation in high power fiber-optic systems |
US20070116068A1 (en) * | 2005-11-21 | 2007-05-24 | Mao Hong W | System and components for generating single-longitudinal-mode nanosecond laser beam having a wavelength in the range from 760nm to 790nm |
US7436866B2 (en) | 2005-11-30 | 2008-10-14 | Raydiance, Inc. | Combination optical isolator and pulse compressor |
US7444049B1 (en) | 2006-01-23 | 2008-10-28 | Raydiance, Inc. | Pulse stretcher and compressor including a multi-pass Bragg grating |
US9130344B2 (en) | 2006-01-23 | 2015-09-08 | Raydiance, Inc. | Automated laser tuning |
US8189971B1 (en) | 2006-01-23 | 2012-05-29 | Raydiance, Inc. | Dispersion compensation in a chirped pulse amplification system |
US8232687B2 (en) | 2006-04-26 | 2012-07-31 | Raydiance, Inc. | Intelligent laser interlock system |
US7822347B1 (en) | 2006-03-28 | 2010-10-26 | Raydiance, Inc. | Active tuning of temporal dispersion in an ultrashort pulse laser system |
KR101383197B1 (ko) * | 2006-05-11 | 2014-04-09 | 에스피아이 레이저스 유케이 리미티드 | 광방사선 제공 장치 |
DE102007022561B4 (de) * | 2007-05-14 | 2010-09-16 | Meos Ag | Aktiver Rotationssensor |
CA2695953C (en) * | 2007-08-09 | 2018-05-01 | Nicolas Godbout | Tunable mode-locked laser |
US7903326B2 (en) | 2007-11-30 | 2011-03-08 | Radiance, Inc. | Static phase mask for high-order spectral phase control in a hybrid chirped pulse amplifier system |
US8125704B2 (en) | 2008-08-18 | 2012-02-28 | Raydiance, Inc. | Systems and methods for controlling a pulsed laser by combining laser signals |
US20120033686A1 (en) * | 2010-01-29 | 2012-02-09 | The University Of Ottawa | All-gain guiding yb-dobed femtosecond fiber laser |
US8953651B2 (en) | 2010-02-24 | 2015-02-10 | Alcon Lensx, Inc. | High power femtosecond laser with repetition rate adjustable according to scanning speed |
US20110206071A1 (en) * | 2010-02-24 | 2011-08-25 | Michael Karavitis | Compact High Power Femtosecond Laser with Adjustable Repetition Rate |
US9054479B2 (en) * | 2010-02-24 | 2015-06-09 | Alcon Lensx, Inc. | High power femtosecond laser with adjustable repetition rate |
US8279901B2 (en) * | 2010-02-24 | 2012-10-02 | Alcon Lensx, Inc. | High power femtosecond laser with adjustable repetition rate and simplified structure |
US8556511B2 (en) | 2010-09-08 | 2013-10-15 | Abbott Cardiovascular Systems, Inc. | Fluid bearing to support stent tubing during laser cutting |
KR20140018183A (ko) | 2010-09-16 | 2014-02-12 | 레이디안스, 아이엔씨. | 적층 재료의 레이저 기반 처리 |
US8554037B2 (en) | 2010-09-30 | 2013-10-08 | Raydiance, Inc. | Hybrid waveguide device in powerful laser systems |
US8787410B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-07-22 | Imra America, Inc. | Compact, coherent, high brightness light sources for the mid and far IR |
KR101216013B1 (ko) * | 2011-06-03 | 2012-12-27 | 고려대학교 산학협력단 | 에너지 조절이 가능한 단일 편광 단일 펄스 모드 잠금 레이저 발생 장치 |
US8908739B2 (en) | 2011-12-23 | 2014-12-09 | Alcon Lensx, Inc. | Transverse adjustable laser beam restrictor |
US9325144B2 (en) | 2012-02-14 | 2016-04-26 | TeraDiode, Inc. | Two-dimensional multi-beam stabilizer and combining systems and methods |
EP2637265B1 (en) * | 2012-03-05 | 2018-08-29 | Menlo Systems GmbH | Laser with non-linear optical loop mirror |
CN102684056B (zh) * | 2012-05-16 | 2014-09-03 | 清华大学 | 最佳透过率可调的激光器 |
WO2014023828A2 (de) * | 2012-08-09 | 2014-02-13 | Rofin-Lasag Ag | Anordnung zum bearbeiten von werkstücken mit einem laserstrahl |
EP2846421A1 (en) | 2013-09-06 | 2015-03-11 | Menlo Systems GmbH | Laser with non-linear optical loop mirror |
US20160268766A1 (en) | 2013-10-21 | 2016-09-15 | Genia Photonics Inc. | Synchronized tunable mode-locked lasers |
DE102016103093A1 (de) * | 2016-02-01 | 2017-08-03 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Laserpulsen |
AT521942B1 (de) | 2018-12-14 | 2022-09-15 | Daniel Kopf Dr | Gütegeschalteter Festkörperlaser |
AT522108B1 (de) * | 2019-01-31 | 2022-09-15 | Montfort Laser Gmbh | Passiv gütegeschalteter Festkörperlaser |
CN113346341B (zh) * | 2021-05-18 | 2022-08-26 | 西北大学 | 一种全正色散的基于偏置nalm锁模的飞秒光纤激光器 |
CN114268013B (zh) * | 2021-12-23 | 2022-08-23 | 深圳大学 | 可饱和吸收体制作方法、可饱和吸收体和激光器 |
CN118073946A (zh) * | 2024-04-19 | 2024-05-24 | 哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院) | 一种可实时调谐差频的全光纤双波长同步锁模脉冲激光器 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4435809A (en) * | 1981-09-14 | 1984-03-06 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Passively mode locked laser having a saturable absorber |
US5414725A (en) * | 1993-08-03 | 1995-05-09 | Imra America, Inc. | Harmonic partitioning of a passively mode-locked laser |
US5689519A (en) * | 1993-12-20 | 1997-11-18 | Imra America, Inc. | Environmentally stable passively modelocked fiber laser pulse source |
US5440573A (en) * | 1994-03-22 | 1995-08-08 | Imra America, Inc. | Method and apparatus for controlling laser emmision wavelength using non-linear effects |
US5450427A (en) * | 1994-10-21 | 1995-09-12 | Imra America, Inc. | Technique for the generation of optical pulses in modelocked lasers by dispersive control of the oscillation pulse width |
-
1995
- 1995-10-20 US US08/546,062 patent/US5701319A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-10-17 DE DE19642925A patent/DE19642925B4/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-18 JP JP8276692A patent/JPH09199777A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002368313A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Aisin Seiki Co Ltd | 受動型モードロック・ファイバーレーザー |
JP2006005349A (ja) * | 2004-06-14 | 2006-01-05 | Jds Uniphase Corp | パルス・レーザ装置および方法 |
JP2012169607A (ja) * | 2011-01-24 | 2012-09-06 | Canon Inc | 光源装置及びこれを用いた光干渉断層撮像装置、及び光発振方法 |
JP2013105813A (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-30 | Sony Corp | 半導体レーザ装置組立体 |
US9906000B2 (en) | 2011-11-11 | 2018-02-27 | Sony Corporation | Semiconductor laser apparatus assembly |
KR101340387B1 (ko) * | 2012-05-30 | 2013-12-11 | 한국과학기술원 | 포화흡수체와 비선형 편광 회전 현상을 통해 모드 동기가 되는 10 MHz 이하의 반복률을 갖는 광섬유 레이저 공진기 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19642925A1 (de) | 1997-04-24 |
DE19642925B4 (de) | 2007-07-12 |
US5701319A (en) | 1997-12-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH09199777A (ja) | モードロックレーザー装置 | |
US5627848A (en) | Apparatus for producing femtosecond and picosecond pulses from modelocked fiber lasers cladding pumped with broad area diode laser arrays | |
US6570892B1 (en) | Passively mode-locked fiber lasers | |
US6072811A (en) | Integrated passively modelocked fiber lasers and method for constructing the same | |
JP3781206B2 (ja) | モードロックレーザー装置 | |
US8548014B2 (en) | Environmentally stable passively modelocked fiber laser pulse source | |
US9153929B2 (en) | Mode-locked multi-mode fiber laser pulse source | |
US6778565B2 (en) | Pulse-generating laser | |
US9819141B2 (en) | Compact fiber short pulse laser sources | |
US20140105233A1 (en) | Apparatus for generating single-polarization mode-locked laser capable of energy control | |
Zhao et al. | High fundamental repetition rate fiber lasers operated in strong normal dispersion regime | |
CN116131077A (zh) | 一种超短脉冲光纤激光器 | |
Morse et al. | High repetition rate, high average power, femtosecond erbium fiber ring laser | |
CN220914739U (zh) | 一种高功率高稳定性全保偏九字型锁模光纤激光器 | |
Phillips et al. | Actively mode-locked fiber lasers | |
Crittenden et al. | Polarization-maintaining picosecond oscillator based on quantum dot SESAM | |
Sun et al. | All-fiber polarization maintaining erbium-doped fiber laser based on nonlinear amplifying loop mirror | |
Chen | High repetition rate fiber lasers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050706 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060411 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060628 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060703 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061011 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070525 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20070720 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070810 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20070824 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20070829 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080324 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080624 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080627 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081020 |