JPH09198710A - Optical disk and its manufacturing method - Google Patents

Optical disk and its manufacturing method

Info

Publication number
JPH09198710A
JPH09198710A JP8027334A JP2733496A JPH09198710A JP H09198710 A JPH09198710 A JP H09198710A JP 8027334 A JP8027334 A JP 8027334A JP 2733496 A JP2733496 A JP 2733496A JP H09198710 A JPH09198710 A JP H09198710A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
film
transparent substrate
optical disk
stamper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8027334A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hironobu Shinohara
弘信 篠原
Yasuo Hara
康夫 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority to JP8027334A priority Critical patent/JPH09198710A/en
Publication of JPH09198710A publication Critical patent/JPH09198710A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical disk which can sufficiently cope with high-degree densification and is superior in durability against a high temperature and high humidity. SOLUTION: This type of optical disk is produced by forming uneven pits on a transparent substrate which is 30 to 300μm in thickness and composed of thermoplastic norborne resin, a functional film on said uneven pit surface and laminating a protective layer on the said film. And, the optical disk is produced by coating UV-hardenable resin on the film, bringing a stamper having uneven pits in pressure-contact with the resin coating and then hardening the resin by applying UV rays or forming uneven pits on the substrate to form an active film by heat-pressing a stamper directly on a transparent substrate composed of thermoplastic norbornane-based resin and then forming a protective film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクに関
し、特にシート上に凹凸ピットを形成後、記録膜、反射
膜等を積層したのちディスク形状に打ち抜きすることに
よって得られる光ディスクに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk, and more particularly to an optical disk obtained by forming concave and convex pits on a sheet, laminating a recording film, a reflective film, etc., and then punching it into a disk shape.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、透明フィルムに記録層を形成
し、ついでディスクの形に打ち抜くことによりディスク
を製造する方法が知られている。たとえば、フォトポリ
マー法(2P法)は、所定の情報が記憶された凹凸ピッ
トを有するスタンパー(金型)と、ディスク基材となる
透明基板との間に、紫外線硬化型樹脂を充填あるいは塗
布し、紫外線を照射して該樹脂を硬化させた後、スタン
パーをはぎ取って透明基板上に凹凸ピットを有する記録
層を形成し、金属の蒸着またはスパッタリング等の手段
によってその凹凸ピット面上に金属反射膜が形成され、
さらにその上に保護膜が形成されてディスクの形に打ち
抜くものである。ところが、従来上記のような光ディス
クに用いられてきた透明基板は、その材料として用いら
れる樹脂に起因する様々な問題を有しており、実際にこ
れらのフィルムに記録パターンを形成した後打ち抜きに
よってディスクを得ることはきわめて困難であった。た
とえば、透明基板としてはポリカーボネート樹脂(P
C)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリメチル
メタクリレート樹脂(PMMA)、ポリイミド樹脂(P
I)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)等の
ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂(PAR)等の
芳香族ポリエステル樹脂等からなるフィルムが知られて
いるが、PCは光弾性係数が約9×10-12cm2/dyne
と大きいため、複屈折が大きくなりすぎること、不均一
となること、組立時や環境変化に基づいて生じたわずか
な応力で複屈折が変化する問題があり、また表面硬度が
小さいためにフィルム製造時、あるいは機能付与のため
の積層、被膜形成等の加工時に傷が付きやすく、取り扱
いに注意しなければならず生産性に劣るものになる。
またTACやPMMAは耐熱性や吸水性に劣るため、記
録膜や反射膜等の被膜形成や熱硬化性樹脂などによるパ
ターン形成などの機能付与でかかる熱によって変形した
り、取り扱い途中で周囲の湿気を吸収することにより基
板にソリなどが生じ機能が劣化することがあった。PE
Tは結晶性ポリマーであるため複屈折が生じやすく耐熱
性にも不充分であり、また記録膜や反射膜などの機能性
被膜との密着性にも劣るため、使用途中で膜間に水分が
浸入して膜劣化を引き起こす問題があった。またPIは
熱硬化性樹脂であるため、フィルム成形の自由度に制限
があるため生産性に劣り、また得られたフィルムは着色
していることが多く光ディスク用途としては不適であ
る。同様にPARからなるフィルムは着色していること
が多く透明性が十分でないため、厳しい光学特性が要求
される光ディスク用途としては不適であった。特に近
年、光ディスクの高密度化にともない、ディスク基板に
も厳しい光学特性が求められており、また、被膜形成な
ど生産工程でかかる熱などによって光学特性が変化する
ことのない耐熱性も要求されるため、従来広く用いられ
る透明フィルムではかかるディスク基板を得ることは困
難であった。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is known a method of manufacturing a disc by forming a recording layer on a transparent film and then punching the disc into a disc shape. For example, in the photopolymer method (2P method), an ultraviolet curable resin is filled or applied between a stamper (mold) having concave and convex pits in which predetermined information is stored and a transparent substrate serving as a disk base material. After irradiating ultraviolet rays to cure the resin, the stamper is peeled off to form a recording layer having concave and convex pits on a transparent substrate, and a metal reflection film is formed on the concave and convex pit surface by means such as metal deposition or sputtering. Is formed,
Further, a protective film is formed on top of it and punched out in the shape of a disk. However, the transparent substrate that has been conventionally used for the optical disc as described above has various problems caused by the resin used as the material thereof, and the disc is formed by punching after actually forming a recording pattern on these films. It was extremely difficult to obtain. For example, as a transparent substrate, a polycarbonate resin (P
C), triacetyl cellulose (TAC), polymethyl methacrylate resin (PMMA), polyimide resin (P
Films made of I), polyester resins such as polyethylene terephthalate resin (PET), and aromatic polyester resins such as polyarylate resin (PAR) are known, but PC has a photoelastic coefficient of about 9 × 10 −12 cm. 2 / dyne
Therefore, there is a problem that the birefringence becomes too large, becomes non-uniform, and the birefringence changes due to a slight stress generated during assembly or environmental changes. At the time, or during processing such as stacking for imparting a function or film formation, scratches are likely to occur, and care must be taken in handling, resulting in poor productivity.
Since TAC and PMMA have poor heat resistance and water absorption, they are deformed by the heat applied by forming functions such as film formation of recording film and reflective film and pattern formation of thermosetting resin, and the surrounding moisture during handling. There is a case that the function is deteriorated due to warping of the substrate due to the absorption of the. PE
Since T is a crystalline polymer, birefringence easily occurs, heat resistance is insufficient, and adhesion to a functional film such as a recording film or a reflective film is poor. There was a problem of infiltration and deterioration of the film. Further, since PI is a thermosetting resin, the productivity is inferior because the degree of freedom in film forming is limited, and the obtained film is often colored and is unsuitable for optical disk applications. Similarly, since a film made of PAR is often colored and has insufficient transparency, it was unsuitable for optical disk applications where severe optical characteristics are required. Particularly in recent years, as optical discs have become higher in density, disc substrates are required to have strict optical characteristics, and heat resistance is required so that the optical characteristics do not change due to heat applied in the production process such as film formation. Therefore, it has been difficult to obtain such a disk substrate with a transparent film which has been widely used in the past.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の課題を背景になされたもので、耐熱性、成形性、寸
法安定性、記録膜や反射膜などの機能性被膜との密着性
に優れ、複屈折が小さく光学特性に優れた光ディスクを
提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has heat resistance, moldability, dimensional stability, and adhesion to a functional film such as a recording film or a reflective film. The present invention provides an optical disc having excellent optical characteristics, small birefringence, and excellent optical characteristics.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、熱可塑性ノル
ボルネン系樹脂からなる透明基板上に、凹凸ピット、機
能性被膜および保護膜が積層されてなることを特徴とす
る光ディスクならびに熱可塑性ノルボルネン系樹脂から
なる透明基板上に、紫外線硬化性樹脂を塗布し凹凸ピッ
トを有するスタンパーを圧着させた後紫外線によって樹
脂を硬化させるか、または熱可塑性ノルボルネン系樹脂
からなる透明基板上に直接スタンパーを熱プレスするこ
とにより凹凸ピットを基板上に形成した後、能性被膜を
形成し、ついで保護膜を形成することを特徴とする光デ
ィスクの製造方法を提供するものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is an optical disk and a thermoplastic norbornene-based optical disk characterized by comprising a transparent substrate made of a thermoplastic norbornene-based resin, and a concavo-convex pit, a functional film and a protective film laminated on the transparent substrate. A UV-curable resin is applied on a transparent substrate made of resin, and a stamper having concave and convex pits is pressure-bonded, and then the resin is cured by UV rays, or the stamper is directly heat-pressed on the transparent substrate made of thermoplastic norbornene-based resin. By providing the uneven pits on the substrate by the above, a functional film is formed, and then a protective film is formed.

【0005】本発明に用いられる熱可塑性ノルボルネン
樹脂は、その繰り返し単位中にノルボルナン骨格を有す
るものである。例えば、この熱可塑性樹脂としては、一
般式(I)〜(IV)で表されるノルボルナン骨格を含
むものである。
The thermoplastic norbornene resin used in the present invention has a norbornane skeleton in its repeating unit. For example, the thermoplastic resin contains a norbornane skeleton represented by the general formulas (I) to (IV).

【0006】[0006]

【化1】 Embedded image

【0007】[0007]

【化2】 Embedded image

【0008】[0008]

【化3】 Embedded image

【0009】[0009]

【化4】 (式中、A、B、CおよびDは、水素原子または1価の
有機基を示す。) 本発明において使用することのできるノルボルナン骨格
を有する熱可塑性樹脂としては、例えば特開昭60−1
68708号公報、特開昭62−252406号公報、
特開昭62−252407号公報、特開平2−1334
13号公報、特開昭63−145324号公報、特開昭
63−264626号公報、特開平1−240517号
公報、特公昭57−8815号公報などに記載されてい
る樹脂などを挙げることができる。この熱可塑性樹脂の
具体例としては、下記一般式(V)で表される少なくと
も1種のテトラシクロドデセン誘導体または該テトラシ
クロドデセンと共重合可能な不飽和環状化合物とをメタ
セシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる
水添重合体を挙げることができる。
Embedded image (In the formula, A, B, C and D represent a hydrogen atom or a monovalent organic group.) Examples of the thermoplastic resin having a norbornane skeleton which can be used in the present invention include JP-A-60-1.
68708, JP-A-62-252406,
JP 62-252407 A, JP 2-1334
Resins described in JP-A No. 13, JP-A-63-145324, JP-A-63-264626, JP-A-1-240517, JP-B-57-8815 and the like can be mentioned. . Specific examples of the thermoplastic resin include metathesis polymerization of at least one tetracyclododecene derivative represented by the following general formula (V) or an unsaturated cyclic compound copolymerizable with the tetracyclododecene. A hydrogenated polymer obtained by hydrogenating the obtained polymer can be exemplified.

【0010】[0010]

【化5】 (式中A〜Dは、前記に同じ。) 前記一般式(V)で表されるテトラシクロドデセン誘導
体において、A、B、CおよびDのうちに極性基を含む
ことが、耐熱性や機能性皮膜との密着性の点から好まし
い。さらに、この極性基が−(CH2 n COOR
3 (ここで、R3は炭素数1〜20の炭化水素基、nは
0〜10の整数を示す)で表される基であることが、得
られる水添重合体が高いガラス転移温度を有するものと
なるので好ましい 特に、この−(CH2 n COOR
3 で表される基は、一般式(V)のテトラシクロドデセ
ン誘導体の1分子あたりに1個含有されることが好まし
い。前記一般式において、R1 は炭素数1〜20の炭化
水素基であるが、炭素数が多くなるほど得られる水添重
合体の吸湿性が小さくなる点では好ましいが、得られる
水添重合体のガラス転移温度とのバランスの点から、炭
素数1〜4の鎖状アルキル基または炭素数5以上の
(多)環状アルキル基であることが好ましく、特にメチ
ル基、エチル基、シクロヘキシル基であることが好まし
い 。さらに、−(CH2 n COOR3 で表される基
が結合した炭素原子に、同時に炭素数1〜10の炭化水
素基が置換基として結合されている一般式(V)のテト
ラシクロドデセン誘導体は、吸湿性を低下させるので好
ましい。特に、この置換基がメチル基またはエチル基で
ある一般式(V)のテトラシクロドデセン誘導体は、そ
の合成が容易な点で好ましい。具体的には、8−メチル
−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.
2,5 7,10]ドデカ−8−エンが好ましい。
Embedded image (In the formula, A to D are the same as above.) In the tetracyclododecene derivative represented by the general formula (V), it is preferable that A, B, C and D contain a polar group in order to improve heat resistance and heat resistance. It is preferable in terms of adhesion to the functional film. Further, the polar group - (CH 2) n COOR
3 (wherein R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 10), the hydrogenated polymer obtained has a high glass transition temperature. It is preferable that the compound has-(CH 2 ) n COOR.
The group represented by 3 is preferably contained in one molecule per molecule of the tetracyclododecene derivative of the general formula (V). In the above general formula, R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, which is preferable in that the hygroscopicity of the obtained hydrogenated polymer becomes smaller as the number of carbon atoms increases, but the hydrogenated polymer obtained is From the viewpoint of the balance with the glass transition temperature, a chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a (poly) cyclic alkyl group having 5 or more carbon atoms is preferable, and a methyl group, an ethyl group, and a cyclohexyl group are particularly preferable. Is preferred. Furthermore, - (CH 2) carbon atom group is bonded, represented by n COOR 3, simultaneously tetracyclododecene of general formula (V) which is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which is bonded as a substituent Derivatives are preferred because they reduce hygroscopicity. In particular, the tetracyclododecene derivative of the general formula (V) in which the substituent is a methyl group or an ethyl group is preferable in that the synthesis is easy. Specifically, 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.
1 2,5 1 7,10 ] dodeca-8-ene is preferred.

【0011】これらのテトラシクロドデセン誘導体、あ
るいはこれと共重合可能な不飽和環状化合物の混合物
は、例えば特開平4−77520号公報第4頁右上欄第
12行〜第6頁右下欄第6行に記載された方法によっ
て、メタセシス重合、水素添加され、本発明に使用され
る熱可塑性樹脂とすることができる。また、前記水添重
合体のガラス転移温度(Tg)は100℃〜250℃の
範囲であることが好ましく、特に120〜200℃の範
囲であることが好ましい。100℃未満では該樹脂組成
物からなる成形品の耐熱性が劣る。また、Tgが250
℃を超えるものは、成形温度が高くなり樹脂が焼けて着
色するなど良質な成形品を得ることが難しくなる。ま
た、水添重合体の水素添加率は、60MHz、 1H−N
MRで測定した値が50%以上、好ましくは90%以
上、さらに好ましくは98%以上である。水素添加率が
高いほど、熱や光に対する安定性が優れる。
These tetracyclododecene derivatives or a mixture of unsaturated cyclic compounds copolymerizable therewith are disclosed, for example, in JP-A-4-77520, page 4, upper right column, line 12 to page 6, lower right column, The thermoplastic resin used in the present invention can be prepared by metathesis polymerization and hydrogenation by the method described in line 6. Further, the glass transition temperature (Tg) of the hydrogenated polymer is preferably in the range of 100 ° C to 250 ° C, particularly preferably in the range of 120 to 200 ° C. When the temperature is lower than 100 ° C., the heat resistance of a molded article made of the resin composition is poor. In addition, Tg is 250
If the temperature is higher than 0 ° C, the molding temperature becomes high and the resin is burned and colored, so that it becomes difficult to obtain a high-quality molded product. The hydrogenation rate of the hydrogenated polymer is 60 MHz, 1 H-N
The value measured by MR is 50% or more, preferably 90% or more, more preferably 98% or more. The higher the hydrogenation rate, the better the stability to heat and light.

【0012】なお、本発明において、ノルボルナン骨格
を有する熱可塑性樹脂として使用される水添重合体は、
該水添重合体中に含まれるゲル含有量が5重量%以下で
あることが好ましく、さらに1重量%であることが好ま
しい。本発明において、透明基板の材料として用いる熱
可塑性ノルボルネン系樹脂には、必要に応じ、本発明の
効果を損ねない範囲で公知の酸化防止剤、例えば2,6
−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2’−
ジオキシ−3,3’−ジ−t−ブチル−5,5’−ジメ
チルフェニルメタン、テトラキス[メチレン−3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネート]メタン、1,1,3−トリス(2−メ
チル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタ
ン、1,3,5ートリメチル−2,4,6−トリス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル−
ベンゼン、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2’
−ジオキシ−3,3’−ジ−t−ブチル−5,5’−ジ
エチルフェニルメタン、3,9−ビス[1,1−ジメチ
ル−2−[β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]、
2,4,8,10−テトラオキスピロ[5,5]ウンデ
カン、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホス
ファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サ
イクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−
t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、2,
2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)
オクチルホスファイトを添加することができる。
In the present invention, the hydrogenated polymer used as the thermoplastic resin having a norbornane skeleton is
The gel content in the hydrogenated polymer is preferably 5% by weight or less, more preferably 1% by weight. In the present invention, the thermoplastic norbornene-based resin used as the material of the transparent substrate may be, if necessary, a known antioxidant such as 2,6 as long as the effect of the present invention is not impaired.
-Di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2'-
Dioxy-3,3'-di-t-butyl-5,5'-dimethylphenylmethane, tetrakis [methylene-3-
(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
Propionate] methane, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di- t-butyl-4-hydroxybenzyl-
Benzene, stearyl-β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2 ′
-Dioxy-3,3'-di-t-butyl-5,5'-diethylphenylmethane, 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- [β- (3-t-butyl-4-hydroxy -5
-Methylphenyl) propionyloxy] ethyl],
2,4,8,10-Tetraoxpyro [5,5] undecane, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-) Butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,6-di-
t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,
2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl)
Octyl phosphite can be added.

【0013】また、上記の熱可塑性ノルボルネン系樹脂
には、上記のような酸化防止剤の他に、必要に応じて紫
外線吸収剤、例えばp−t−ブチルフェニルサリシレ−
ト、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−(2’−ジ
ヒドロキシ−4’−m−オクトキシフェニル)ベンゾト
リアゾール;安定剤、帯電防止剤、難燃剤、耐衝撃性改
良用エラストマーなどを添加することができる。また、
加工性を向上させる目的で滑剤などの添加剤を添加する
こともできる。 本発明において、上記熱可塑性ノル
ボルネン系樹脂は公知のシートまたはフィルムの成形方
法、例えば押出成形、溶液流延法などの方法により本発
明の光ディスクの透明基板とすることができる。この場
合、該透明基板の厚さは30〜300μm、好ましくは
70〜200μmである。
In addition to the above-mentioned antioxidant, the above-mentioned thermoplastic norbornene-based resin may optionally contain an ultraviolet absorber such as pt-butylphenyl salicylase.
2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2- (2'-dihydroxy-4'-m-octoxyphenyl) benzotriazole; Stabilizers, antistatic agents, flame retardants, impact resistance improving elastomers and the like can be added. Also,
Additives such as lubricants may be added for the purpose of improving workability. In the present invention, the above-mentioned thermoplastic norbornene-based resin can be used as the transparent substrate of the optical disk of the present invention by a known sheet or film forming method such as extrusion molding or solution casting. In this case, the thickness of the transparent substrate is 30 to 300 μm, preferably 70 to 200 μm.

【0014】該透明基板を用いて光ディスクを製造する
には、まず、透明基板に凹凸ピットを形成する。凹凸ピ
ットは透明基板上に紫外線硬化性樹脂あるいは熱硬化性
樹脂などを塗布し、次いで所定の情報が記憶された凹凸
ピットを有するスタンパーを圧着させた後紫外線または
熱によって樹脂を硬化させる方法、または透明基板上に
直接スタンパーを熱プレスすることにより凹凸ピットを
基板上に形成させる方法を挙げることができる。紫外線
硬化性樹脂としては、公知のアクリル系樹脂などが、熱
硬化性樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂など
が挙げられる。次に凹凸ピットの上に反射膜、記録膜、
誘電体膜などの機能性被膜を形成する。機能性皮膜は無
機化合物でも有機化合物でもよい。機能性皮膜として使
用できる無機化合物としては反射膜ではNi、Al、A
u、Ptなどの反射率の高い金属、記録膜ではTb−F
e系合金、Dy−Fe系合金、Cd−Tb系合金、Cd
−Tb−Dy−Fe系合金、Cd−Co系合金、Tb−
Fe−Co系合金などの希土類−遷移金属アモルファス
合金の他に、Ge−Te系、Sb−Te系、In−Sb
系などの相変化型記録材料やTe−CS2、Pb−Te
−Se、Te−C、TeO2、Sb−Se、Bi−Te
など追記型記録材料など、誘電体膜ではCdS、Zn
S、ZnSe、SiO2、Si、Si34、AlN、T
iO2、TaO2、MgF2などの化合物を挙げること子
ができる。有機化合物としては記録膜ではメチン・ポリ
メチン系、キノン類、ナフトキノン類、アントラキノン
類、フタロシアニン系、ジチオール系、テトラヒドコリ
ン類、ジオキサン類、ジチアジン類、チアビリリウム
類、ポリフィリン類などは挙げられる。機能性皮膜の形
成は蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、ディッピング法、スピンコーティング法など公知の
方法が用いられる。機能性皮膜の膜厚は通常100〜5
000オングストロームである。本発明においては、機
能性皮膜の上には保護膜が形成される。保護膜を形成す
る材料としてはアクリル系など公知の紫外線硬化性樹脂
が挙げられる。上記のように透明基板上に凹凸ピット、
機能性皮膜、保護膜を形成後、ディスク形状に打ち抜く
ことにより光ディスクを製造することができる。
To manufacture an optical disk using the transparent substrate, first, uneven pits are formed on the transparent substrate. The concave and convex pits are formed by applying an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin on a transparent substrate, then pressing a stamper having concave and convex pits in which predetermined information is stored, and then curing the resin by ultraviolet rays or heat, or A method of forming uneven pits on the substrate by directly hot pressing a stamper on the transparent substrate can be mentioned. The ultraviolet curable resin may be a known acrylic resin, and the thermosetting resin may be a phenol resin or an epoxy resin. Next, a reflective film, a recording film,
A functional film such as a dielectric film is formed. The functional film may be an inorganic compound or an organic compound. Inorganic compounds that can be used as a functional film include Ni, Al, A in the reflective film.
u, Pt and other metals with high reflectance, Tb-F for recording film
e-based alloy, Dy-Fe-based alloy, Cd-Tb-based alloy, Cd
-Tb-Dy-Fe based alloy, Cd-Co based alloy, Tb-
In addition to rare earth-transition metal amorphous alloys such as Fe-Co based alloys, Ge-Te based, Sb-Te based, In-Sb
Phase-change recording material or a Te-CS 2 such systems, Pb-Te
-Se, Te-C, TeO 2 , Sb-Se, Bi-Te
For write-once recording materials such as CdS, Zn for dielectric films
S, ZnSe, SiO 2 , Si, Si 3 N 4 , AlN, T
Examples thereof include compounds such as iO 2 , TaO 2 , and MgF 2 . In the recording film, examples of the organic compound include methine / polymethine compounds, quinones, naphthoquinones, anthraquinones, phthalocyanines, dithiols, tetrahydrcholines, dioxane, dithiazines, thiabilylium, and porphyrins. Known methods such as a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a dipping method, and a spin coating method are used for forming the functional film. The thickness of the functional coating is usually 100-5
000 angstroms. In the present invention, a protective film is formed on the functional film. As a material for forming the protective film, a known ultraviolet curable resin such as acrylic resin can be used. Uneven pits on the transparent substrate, as described above,
After forming the functional film and the protective film, the optical disk can be manufactured by punching into a disk shape.

【0015】また、適当なシートからなる支持体上に上
記と同様の方法で凹凸ピットおよび能性被膜を形成し、
ついで紫外線硬化性樹脂など無色透明な樹脂からなる透
明接着層を機能性被膜上に塗布した後、上記のノルボル
ネン系樹脂からなる透明基板を圧着したものをディスク
形状に打ち抜き、必要に応じて該支持体を剥離する方法
によっても光ディスクとすることができる。ここで支持
体としては光線透過率20%以上のシートであれば特に
限定されるものではないが、紫外線照射により樹脂を硬
化する際に照射量を少なく抑えることができる点で、高
い光線透過率を有するものを用いることが好ましい。本
発明の光ディスクはコンパクトディスク(CD)、レー
ザーディスク(LD)、CD−ROM、CD−I、CD
−R、MD、MO、DRAW、E−DRAWなどの高密
度情報記録担体として好適に用いることができる。ま
た、本発明の光ディスクを貼り合わせることによりDV
Dなど両面読み取りの光ディスクとすることも可能であ
る。
Further, uneven pits and a functional film are formed on a support made of a suitable sheet by the same method as described above.
Then, a transparent adhesive layer made of a colorless transparent resin such as an ultraviolet curable resin is applied on the functional coating, and the transparent substrate made of the above norbornene resin is pressure-bonded and punched into a disk shape, and if necessary, the supporting An optical disk can be obtained by a method of peeling off the body. Here, the support is not particularly limited as long as it is a sheet having a light transmittance of 20% or more, but it has a high light transmittance because the irradiation amount can be suppressed to be small when the resin is cured by ultraviolet irradiation. It is preferable to use those having The optical disc of the present invention is a compact disc (CD), laser disc (LD), CD-ROM, CD-I, CD.
It can be suitably used as a high density information recording carrier such as -R, MD, MO, DRAW, E-DRAW. Also, by bonding the optical disk of the present invention to a DV
It is also possible to use a double-sided read optical disc such as D.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明がこれによって限定されるものではない。なお、
実施例中、部および%は、特に断らないかぎり重量基準
である。 参考例1 8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ
[4.4.0.12,5 .17,10]ドデカ−3−エン10
0g、1,2−ジメトキシエタン60g、シクロヘキサ
ン240g、1−ヘキセン9g、およびジエチルアルミ
ニウムクロライド0.96モル/lのトルエン溶液3.
4mlを、内容積1リットルのオートクレーブに加え
た。一方、別のフラスコに、六塩化タングステンの0.
05モル/lの1,2−ジメトキシエタン溶液20ml
とパラアルデヒドの0.1モル/lの1,2−ジメトキ
シエタン溶液10mlを混合した。この混合溶液4.9
mlを、前記オートクレーブ中の混合物に添加した。密
栓後、混合物を80℃に加熱して4時間攪拌を行った。
得られた重合体溶液に、1,2−ジメトキシエタンとシ
クロヘキサンの2/8(重量比)の混合溶媒を加えて重
合体/溶媒が1/10(重量比)にしたのち、トリエタ
ノールアミン20gを加えて10分間攪拌した。この重
合溶液に、メタノール500gを加えて30分間攪拌し
て静置した。2層に分離した上層を除き、再びメタノー
ルを加えて攪拌、静置後、上層を除いた。同様の操作を
さらに2回行い、得られた下層をシクロヘキサン、1,
2−ジメトキシエタンで適宜希釈し、重合体濃度が10
%のシクロヘキサン−1,2−ジメトキシエタン溶液を
得た。この溶液に20gのパラジウム/シリカマグネシ
ア[日揮化学(株)製、パラジウム量=5%]を加え
て、オートクレーブ中で水素圧40kg/cm2 として
165℃で4時間反応させたのち、水添触媒をろ過によ
って取り除き、水添重合体溶液を得た。また、この水添
重合体溶液に、酸化防止剤であるペンタエリスリチル−
テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート]を、水添重合体に対
して0.1%加えてから、360℃で減圧下に脱溶媒を
行なった。次いで溶融した樹脂を窒素下雰囲気で押出機
によりペレット化し、重量平均分子量7.0×104
水添率99.5%、ガラス転移温度168℃の熱可塑性
樹脂Aを得た。 参考例2 6−エチリデン−2−テトラシクロドデセンを、(a)
−1の時と同様にメタセシス開環重合した後、水添し、
ペレット化して重量平均分子量5.5×104、水添率
99.5%、ガラス転移温度140℃の熱可塑性樹脂B
を得た。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
The present invention is not limited by this. In addition,
In Examples, parts and% are based on weight unless otherwise specified. Reference Example 1 8-Methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodeca-3-en 10
2. A toluene solution of 0 g, 60 g of 1,2-dimethoxyethane, 240 g of cyclohexane, 9 g of 1-hexene, and 0.96 mol / l of diethylaluminum chloride.
4 ml was added to an autoclave having a volume of 1 liter. On the other hand, in another flask, 0.1 kg of tungsten hexachloride was added.
20 ml of a 05 mol / l 1,2-dimethoxyethane solution
And 10 ml of a 0.1 mol / l 1,2-dimethoxyethane solution of paraaldehyde were mixed. This mixed solution 4.9
ml was added to the mixture in the autoclave. After sealing, the mixture was heated to 80 ° C. and stirred for 4 hours.
To the obtained polymer solution, a mixed solvent of 2/8 (weight ratio) of 1,2-dimethoxyethane and cyclohexane was added to make the polymer / solvent 1/10 (weight ratio), and then 20 g of triethanolamine was added. Was added and stirred for 10 minutes. 500 g of methanol was added to the polymerization solution, and the mixture was stirred for 30 minutes and allowed to stand. The upper layer separated into two layers was removed, methanol was added again, and the mixture was stirred and allowed to stand, and then the upper layer was removed. The same operation was further performed twice, and the obtained lower layer was cyclohexane, 1,
Dilute appropriately with 2-dimethoxyethane and polymer concentration is 10
% Cyclohexane-1,2-dimethoxyethane solution. 20 g of palladium / silica magnesia [manufactured by Nikki Chemical Co., Ltd., palladium amount = 5%] was added to this solution, and the mixture was reacted in an autoclave at 165 ° C. under a hydrogen pressure of 40 kg / cm 2 for 4 hours. Was removed by filtration to obtain a hydrogenated polymer solution. Further, pentaerythrityl-, an antioxidant, was added to this hydrogenated polymer solution.
After adding 0.1% of tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] to the hydrogenated polymer, the solvent was removed at 360 ° C. under reduced pressure. . Next, the molten resin was pelletized by an extruder in an atmosphere under nitrogen, and the weight average molecular weight was 7.0 × 10 4 ,
A thermoplastic resin A having a hydrogenation rate of 99.5% and a glass transition temperature of 168 ° C. was obtained. Reference Example 2 6-Ethylidene-2-tetracyclododecene was added to (a)
After the metathesis ring-opening polymerization as in the case of -1, hydrogenation was carried out,
Thermoplastic resin B pelletized to have a weight average molecular weight of 5.5 × 10 4 , a hydrogenation rate of 99.5%, and a glass transition temperature of 140 ° C.
I got

【0017】実施例1 参考例1で得られた熱可塑性樹脂Aを280℃で押出成
形して厚さ0.1mmのフィルムを得た。このフィルム
の複屈折をエリプソメーターにて測定した。このフィル
ムの上に、以下に示した組成の紫外線硬化型樹脂組成物
(以下「紫外線硬化型組成物a」という)を約30μm
の厚みで塗布し、ついでスタンパーをローラーによって
圧着して、フィルム側より1J/cm2の紫外線を0.
5秒間照射して紫外線硬化型組成物aの硬化を行った。 <紫外線硬化型樹脂組成物a> エポキシアクリレート 60g (共栄社油脂化学工業製 エポキシエステル3002A) トリメチロールプロパントリアクリレート 25g (東亜合成化学工業製 アロニックスM−309) アクリル酸 15g (大阪有機化学工業製) 光開始剤 4g (チバガイギー製 イルガキュアー184) 硬化終了後、スタンパーを剥離して得られた凹凸ピット
面上に中外炉工業(株)製、インラインスパッタリング
装置を用いて、真空度8×10-3Torr、スパッタリ
ング開始時の基板温度70℃の条件下で、アルミニウム
を600オングストロームの厚みに成膜させた。ついで
アルミニウム面上に紫外線硬化型樹脂組成物aを塗布、
紫外線照射によって硬化させることによって10μm厚
の保護膜を形成した後、ディスク型状に打ち抜き光ディ
スクを得た。この光ディスクについて、CDエラー測定
器によりピットエラーレートを測定し、以下の評価基準
に従って評価を行った。評価結果を表1に示す。 ○;ピットエラーレート 0以上20未満 △;ピットエラーレート 20以上100未満 ×;ピットエラーレート 100以上
Example 1 The thermoplastic resin A obtained in Reference Example 1 was extrusion molded at 280 ° C. to obtain a film having a thickness of 0.1 mm. The birefringence of this film was measured by an ellipsometer. On this film, an ultraviolet curable resin composition having the composition shown below (hereinafter referred to as “ultraviolet curable composition a”) is about 30 μm.
And then press the stamper with a roller, and apply 1 J / cm 2 of ultraviolet rays from the film side to 0.
The UV curable composition a was cured by irradiation for 5 seconds. <Ultraviolet curable resin composition a> Epoxy acrylate 60 g (Kyoeisha Yushi-Seikagaku Kogyo Epoxy ester 3002A) Trimethylolpropane triacrylate 25 g (Toagosei Kagaku Kogyo Aronix M-309) Acrylic acid 15 g (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) Initiator 4 g (Irgacure 184 manufactured by Ciba Geigy) After curing, the indentation pit surface obtained by peeling the stamper was used, and the vacuum degree was 8 × 10 -3 Torr using an in-line sputtering device manufactured by Chugai Furnace Industry Co., Ltd. Then, aluminum was deposited to a thickness of 600 angstroms under the condition that the substrate temperature at the start of sputtering was 70 ° C. Then, the ultraviolet curable resin composition a is applied onto the aluminum surface,
A protective film having a thickness of 10 μm was formed by curing by ultraviolet irradiation, and then a disc-shaped optical disc was obtained. With respect to this optical disk, the pit error rate was measured by a CD error measuring device and evaluated according to the following evaluation criteria. Table 1 shows the evaluation results. ○: Pit error rate 0 or more and less than 20 △: Pit error rate 20 or more and less than 100 ×; Pit error rate 100 or more

【0018】実施例2 熱可塑性樹脂Aのかわりに参考例2で得られた熱可塑性
樹脂Bを用いたほかは、実施例1と同様にフィルム成形
て複屈折を測定し、ついで該フィルム上に凹凸ピット
層、アルミニウム膜、保護膜を順次形成してディスク形
状に打ち抜き光ディスクを得た。得られた光ディスクに
ついて実施例1と同様にピットエラーレートを測定し評
価を行った。評価結果を表1に示す。 比較例1 熱可塑性樹脂Aのかわりにポリカーボネートフィルム
(帝人(株)製厚さ0.1mm)を用いて実施例1と同
様の方法で光ディスクを作成して評価を行った。評価結
果を表1に示す。 比較例2 熱可塑性樹脂Aのかわりにポリエチレンテレフタレート
フィルム(東レ(株)製、厚さ0.1mm)を用いて実
施例1と同様の方法で光ディスクを作成して評価を行っ
た。評価結果を表1に示す。
Example 2 The procedure of Example 1 was repeated except that the thermoplastic resin B obtained in Reference Example 2 was used instead of the thermoplastic resin A, and the birefringence of the film was measured. An uneven pit layer, an aluminum film, and a protective film were sequentially formed to obtain a disc-shaped optical disc. The pit error rate of the obtained optical disk was measured and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the evaluation results. Comparative Example 1 An optical disc was prepared in the same manner as in Example 1 using a polycarbonate film (manufactured by Teijin Ltd., thickness: 0.1 mm) instead of the thermoplastic resin A, and evaluated. Table 1 shows the evaluation results. Comparative Example 2 An optical disc was prepared in the same manner as in Example 1 using a polyethylene terephthalate film (manufactured by Toray Industries, Inc., thickness: 0.1 mm) instead of the thermoplastic resin A and evaluated. Table 1 shows the evaluation results.

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明の光ディスクは、透明基板として
耐熱性、成形性、光学特性、寸法安定性、膜密着性に優
れたフィルムを用いるため、光ディスクの高密度化に十
分対応できるものであり、高温・高湿下での耐久性にも
優れている。
The optical disk of the present invention uses a film having excellent heat resistance, moldability, optical characteristics, dimensional stability, and film adhesion as a transparent substrate, and therefore can sufficiently cope with high density optical disks. It also has excellent durability under high temperature and high humidity.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる厚
さ30〜300μmの透明基板上に、凹凸ピット、機能
性被膜および保護膜が積層されてなることを特徴とする
光ディスク。
1. An optical disc comprising a transparent substrate having a thickness of 30 to 300 μm and made of a thermoplastic norbornene-based resin, on which uneven pits, a functional coating and a protective film are laminated.
【請求項2】 熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる透
明基板上に、紫外線硬化性樹脂を塗布し凹凸ピットを有
するスタンパーを圧着させた後紫外線によって樹脂を硬
化させるか、または熱可塑性ノルボルネン系樹脂からな
る透明基板上に直接スタンパーを熱プレスすることによ
り凹凸ピットを基板上に形成した後、機能性被膜を形成
し、ついで保護膜を形成することを特徴とする光ディス
クの製造方法。
2. A transparent substrate made of a thermoplastic norbornene resin is coated with an ultraviolet curable resin and a stamper having concave and convex pits is pressure-bonded, and then the resin is cured by ultraviolet rays, or made of a thermoplastic norbornene resin. A method for manufacturing an optical disc, comprising forming a concave-convex pit on a substrate by directly hot-pressing a stamper on a transparent substrate, forming a functional film, and then forming a protective film.
【請求項3】 支持体上に紫外線硬化性樹脂を塗布し、
凹凸ピットを有するスタンパーを圧着させた後紫外線に
よって樹脂を硬化させるか、または透明基板上に直接ス
タンパーを熱プレスすることにより凹凸ピットを形成
後、機能性被膜を形成し、ついで透明接着層を機能性被
膜上に塗布した後、熱可塑性ノルボルネン系樹脂からな
る透明基板を接着する光ディスクの製造方法。
3. An ultraviolet curable resin is applied on a support,
After pressing a stamper with concave and convex pits, the resin is cured by ultraviolet rays, or by directly pressing the stamper on a transparent substrate to form concave and convex pits, a functional coating is formed, and then a transparent adhesive layer functions. A method for manufacturing an optical disc, which comprises applying a transparent substrate made of a thermoplastic norbornene-based resin after coating on a transparent coating.
JP8027334A 1996-01-22 1996-01-22 Optical disk and its manufacturing method Pending JPH09198710A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8027334A JPH09198710A (en) 1996-01-22 1996-01-22 Optical disk and its manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8027334A JPH09198710A (en) 1996-01-22 1996-01-22 Optical disk and its manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09198710A true JPH09198710A (en) 1997-07-31

Family

ID=12218176

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8027334A Pending JPH09198710A (en) 1996-01-22 1996-01-22 Optical disk and its manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09198710A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220017798A (en) * 2020-08-05 2022-02-14 주식회사 모토모 Mobile device contorl apparatus and connecting method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220017798A (en) * 2020-08-05 2022-02-14 주식회사 모토모 Mobile device contorl apparatus and connecting method thereof
WO2022050481A1 (en) * 2020-08-05 2022-03-10 주식회사 모토모 Mobile device controller using charging port and connection method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS60228115A (en) Manufacture of die proper to usage for duplicating method ofplastic information carrier
EP0182585B1 (en) Optical disc base plate
US5200120A (en) Method of forming optical discs
EP0224312B1 (en) Matrix
JP3581246B2 (en) Manufacturing method of bonded optical disk
JPS63158501A (en) Production of substrate for optical disc
EP1484377A1 (en) Photo-curable adhesive sheet, photo-curable transfer sheet, optical information recording medium and method for preparing optical information recording medium
WO2006002561A1 (en) Method for the production of multilayer discs
JP4165635B2 (en) Manufacturing method of optical information recording medium
TWI284898B (en) Manufacturing method optical recording media and optical recording media
JPH09198710A (en) Optical disk and its manufacturing method
EP0240752B1 (en) Erasable optical disk having an improved optically transparent substrate
JPH09245376A (en) Optical disk
JP3429954B2 (en) Optical information recording medium
JPH07334866A (en) Optical disk and its production
JPWO2008111312A1 (en) Multilayer information recording medium manufacturing method, signal transfer substrate and manufacturing method thereof
US5118548A (en) Substrate for information-recording media
TW200903480A (en) Ultraviolet-curing composition for optical disk and optical disk
JPH0242659A (en) Optical disk for information recording
JPH11185303A (en) Production of optical disk and apparatus for production thereof
JP2011107182A (en) Shielding material
KR20040029063A (en) Optical storage medium and method of manufacturing same
JPS58153241A (en) Optical disk
TWI231499B (en) Optical disk substrate
JP4776140B2 (en) Photocurable transfer sheet, optical information recording substrate, manufacturing method thereof, and optical information recording medium

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20031118