JPH09198626A - Magnetoresistive head - Google Patents

Magnetoresistive head

Info

Publication number
JPH09198626A
JPH09198626A JP8009478A JP947896A JPH09198626A JP H09198626 A JPH09198626 A JP H09198626A JP 8009478 A JP8009478 A JP 8009478A JP 947896 A JP947896 A JP 947896A JP H09198626 A JPH09198626 A JP H09198626A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
thin film
film layer
ferromagnetic thin
longitudinal bias
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8009478A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2874627B2 (en
Inventor
Nobuyuki Ikezawa
延幸 池澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP947896A priority Critical patent/JP2874627B2/en
Publication of JPH09198626A publication Critical patent/JPH09198626A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2874627B2 publication Critical patent/JP2874627B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obviate the occurrence of an output change by ferromagnetic thin film in end region by forming a longitudinal bias field in adjacent joint parts and generating longitudinal bias in a magnetoresistive(MR) element. SOLUTION: The MR layer 13 exists only on the central active region and the longitudinal bias layers 15 consisting of a nonmagnetic material layer 17, a ferromagnetic thin film layer 16 and antiferromagnetic thin film layer 14 are formed in the end regions forming the adjacent joint parts. A nonmagnetic metallic layer 17 is formed on the ground surface of the ferromagnetic thin film layer 16, thereby, the stabilization of the magnetic characteristics of the ferromagnetic thin film layer 16 is made possible and the characteristics desirable as the magnetic head are obtd. The exchange bond bias between the ferromagnetic thin film layer 16 and the antiferromagnetic thin film layer 14 is thereby increased, and from this, the output change by the ferromagnetic thin film layer 14 in the end regions is lessened.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気抵抗効果ヘッド
に係り、特に磁気記録再生装置の再生ヘッドとして用い
られる磁気抵抗効果ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetoresistive effect head, and more particularly to a magnetoresistive effect head used as a reproducing head of a magnetic recording / reproducing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、高い再生感度を有し、かつ、
再生出力が磁気記録媒体−磁気ヘッド間の相対速度に依
存しないので、磁気記録装置の高密度化、小型化に対し
て有利なデバイスとして、磁気抵抗効果(MR)ヘッド
が知られている。かかるMRヘッドにおいては、MR素
子に電極を取り付けて電流を流し、MR素子の抵抗変化
を出力として検出している。このMRヘッドと電極の取
り付け方法としては多くのものが開発されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, it has a high reproduction sensitivity and
Since the reproduction output does not depend on the relative speed between the magnetic recording medium and the magnetic head, a magnetoresistive effect (MR) head is known as a device advantageous for increasing the density and size of the magnetic recording apparatus. In such an MR head, an electrode is attached to the MR element to pass a current, and the change in resistance of the MR element is detected as an output. Many methods have been developed for attaching the MR head and the electrodes.

【0003】図6は従来の磁気抵抗効果ヘッドの一例の
構成断面図を示す。同図に示すように、この従来の磁気
抵抗効果(MR)ヘッドは、軟磁性薄膜層11上に非磁
性スペーサ層12、磁気抵抗効果層13が積層され、更
にその上に反強磁性薄膜層14及び導体リード層21が
形成された構成である。
FIG. 6 is a sectional view showing the structure of an example of a conventional magnetoresistive head. As shown in the figure, in this conventional magnetoresistive (MR) head, a nonmagnetic spacer layer 12 and a magnetoresistive effect layer 13 are laminated on a soft magnetic thin film layer 11, and an antiferromagnetic thin film layer is further formed thereon. 14 and the conductor lead layer 21 are formed.

【0004】このMRヘッドは、全体にわたって延びる
MR素子である磁気抵抗効果層13を含んでいる。交換
バイアス層は、端部領域上にのみ延びて、縦方向バイア
スを発生させ、薄い非磁性スペーサ層12によって磁気
抵抗効果層13から隔離された軟磁性薄膜層11が横方
向バイアスを発生させる。読み取り信号は、導体リード
層21と導体リード層21の間の間隔によって決定され
る。
This MR head includes a magnetoresistive effect layer 13 which is an MR element extending over the entire MR head. The exchange bias layer extends only on the end region to generate a longitudinal bias, and the soft magnetic thin film layer 11 separated from the magnetoresistive effect layer 13 by the thin nonmagnetic spacer layer 12 generates a lateral bias. The read signal is determined by the distance between the conductor lead layers 21.

【0005】また、従来の他の磁気抵抗効果ヘッドとし
ては、例えば特開平7−57223号公報記載のMRヘ
ッドがある。このMRヘッドは、能動領域にのみMR素
子が存在し、端部領域に強磁性薄膜及び反強磁性薄膜を
成膜することにより交換結合バイアスを発生させ、能動
領域に縦方向バイアスを生じさせる構成である。
Another conventional magnetoresistive head is, for example, an MR head described in Japanese Patent Laid-Open No. 7-57223. In this MR head, an MR element exists only in the active region, and by forming a ferromagnetic thin film and an antiferromagnetic thin film in the end region, an exchange coupling bias is generated and a longitudinal bias is generated in the active region. Is.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかるに、図6に示し
た従来のMRヘッドは、能動領域における出力変化の他
に、端部領域においてもMR素子が存在するために僅か
ではあるが出力変化を生じる。この出力変化は、実デバ
イスにした際に、クロストークを悪化させる原因とな
る。そのために、上記の構成の従来のMRヘッドは今後
要求される高密度化の可能性が限定される。
However, in the conventional MR head shown in FIG. 6, in addition to the output change in the active region, the MR device is present in the end region as well, but there is a slight change in the output. Occurs. This change in output causes deterioration of crosstalk when the device is used as an actual device. For this reason, the conventional MR head having the above-described structure has a limited possibility of higher density in the future.

【0007】また、後者の公報記載の従来のMRヘッド
は、能動領域のみにMR素子が存在するが、強磁性層と
反強磁性層との交換結合が十分でない場合、端部領域の
強磁性薄膜による出力変化を生じるという問題がある。
In the conventional MR head described in the latter publication, the MR element exists only in the active region, but when the exchange coupling between the ferromagnetic layer and the antiferromagnetic layer is not sufficient, the ferromagnetic element in the end region is ferromagnetic. There is a problem in that the output changes due to the thin film.

【0008】本発明は以上の点に鑑みなされたもので、
MR素子が中心の能動領域上にのみ存在し、隣接接合部
に縦方向バイアス場を形成することにより、MR素子に
縦方向バイアスを発生させ、端部領域における強磁性薄
膜による出力変化を生じない磁気抵抗効果ヘッドを提供
することを目的とする。
[0008] The present invention has been made in view of the above points,
The MR element exists only on the central active region, and by forming a longitudinal bias field at the adjacent junction, a longitudinal bias is generated in the MR element and the output change due to the ferromagnetic thin film does not occur in the end region. An object is to provide a magnetoresistive effect head.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するため、基板上の中央の能動領域に形成された少な
くとも磁気抵抗効果層を含む層と、能動領域の隣接接合
部に縦方向バイアス場を生成する縦方向バイアス層とを
有し、縦方向バイアス層は、基板上の隣接接合部上に広
がる非磁性金属層と、非磁性金属層上に形成された強磁
性薄膜層と、強磁性薄膜層上に形成された反強磁性薄膜
層とからなる構造としたものである。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention is directed to a layer including at least a magnetoresistive layer formed in a central active region on a substrate and a vertical direction in an adjacent junction of the active region. A longitudinal bias layer for generating a bias field, the longitudinal bias layer comprising a non-magnetic metal layer extending over an adjacent junction on the substrate, a ferromagnetic thin film layer formed on the non-magnetic metal layer, The structure has an antiferromagnetic thin film layer formed on a ferromagnetic thin film layer.

【0010】ここで、非磁性金属層はタンタル又はチタ
ンが、強磁性薄膜層はニッケル−鉄合金が、反強磁性薄
膜層はマンガンを含む合金が望ましい。
Here, it is desirable that the non-magnetic metal layer be tantalum or titanium, the ferromagnetic thin film layer be a nickel-iron alloy, and the antiferromagnetic thin film layer be an alloy containing manganese.

【0011】本発明では、強磁性薄膜と反強磁性薄膜と
の交換結合により端部領域より能動領域に縦方向バイア
ス場を生じさせるMRヘッドを作成する際に、強磁性薄
膜の下地に非磁性金属層が形成されており、これによ
り、強磁性薄膜の磁気特性を磁気ヘッドに望ましい特性
に安定化させることができることが本発明者の実験によ
り確認された。これにより、本発明では、交換結合バイ
アスを大きくすることができる。
According to the present invention, when an MR head that produces a longitudinal bias field from an end region to an active region by exchange coupling between a ferromagnetic thin film and an antiferromagnetic thin film, a non-magnetic underlayer of the ferromagnetic thin film is formed. It was confirmed by experiments by the present inventor that a metal layer is formed, and thereby the magnetic characteristics of the ferromagnetic thin film can be stabilized to the characteristics desirable for the magnetic head. As a result, in the present invention, the exchange coupling bias can be increased.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て説明する。図1は本発明になるMRヘッドの一実施の
形態の構造断面図を示す。同図に示すように、このMR
ヘッドは、セラミックス基板1上の中心領域に軟磁性薄
膜層11、非磁性スペーサ層12及び磁気抵抗効果(M
R)層13が積層された能動領域を構成し、その能動領
域に隣接して非磁性金属層17、強磁性薄膜層16及び
反強磁性薄膜層14が順次積層され、更に反強磁性薄膜
層14上に導体リード層21が形成された構造である。
Next, an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a structural sectional view of an embodiment of an MR head according to the present invention. As shown in the figure, this MR
The head has a soft magnetic thin film layer 11, a non-magnetic spacer layer 12 and a magnetoresistive effect (M
R) layer 13 constitutes an active region in which layers are laminated, and a nonmagnetic metal layer 17, a ferromagnetic thin film layer 16 and an antiferromagnetic thin film layer 14 are sequentially laminated adjacent to the active region, and further, an antiferromagnetic thin film layer. 14 is a structure in which the conductor lead layer 21 is formed on the surface 14.

【0013】すなわち、このMRヘッドは、MR層13
が中心の能動領域上にのみ存在し、それに隣接して隣接
接合部を形成する端部領域に、非磁性金属層17、強磁
性薄膜層16及び反強磁性薄膜層14からなる縦方向バ
イアス場を生成する縦方向バイアス層15が形成されて
いる。
That is, this MR head has the MR layer 13
Exists only on the central active region, and a longitudinal bias field composed of the non-magnetic metal layer 17, the ferromagnetic thin film layer 16 and the antiferromagnetic thin film layer 14 is formed in the end region adjacent to the central active region. Is formed in the vertical direction bias layer 15.

【0014】次に、この実施の形態のMRヘッドの製造
方法について図2乃至図5と共に説明する。まず、図2
に示すように、AlTiC等のセラミックス基板1上
に、軟磁性薄膜層11が成膜され、更にその上に非磁性
スペーサ層12が成膜されて、横方向バイアス構造が形
成される。
Next, a method of manufacturing the MR head according to this embodiment will be described with reference to FIGS. First, FIG.
As shown in FIG. 5, a soft magnetic thin film layer 11 is formed on a ceramic substrate 1 such as AlTiC, and a nonmagnetic spacer layer 12 is further formed thereon to form a lateral bias structure.

【0015】次に、図2に示すように、非磁性スペーサ
層12の上にMR層13が成膜され、その上にフォトレ
ジスト等を塗布し、ステンシル31を形成するためにフ
ォトレジストをパターン化する。ここでは、ステンシル
31はイメージリバーサル法を用いた単層レジストによ
り構成されている。
Next, as shown in FIG. 2, an MR layer 13 is formed on the non-magnetic spacer layer 12, a photoresist or the like is applied thereon, and a photoresist is patterned to form a stencil 31. Turn into. Here, the stencil 31 is composed of a single layer resist using the image reversal method.

【0016】1回の露光及び1回の現像工程がレジスト
のエッジの輪郭を定義する。アンダーカットは適切な露
光量及び適切な現像液内におけるレジストの溶解により
生成され、アンダーカット距離は現像時間により決定さ
れる。また、アンダーカットの高さは露光時間により決
定される。
One exposure and one development step defines the edge contour of the resist. The undercut is generated by dissolving the resist in an appropriate exposure amount and an appropriate developing solution, and the undercut distance is determined by the developing time. The height of the undercut is determined by the exposure time.

【0017】次に、図3に示すように、軟磁性薄膜層1
1、非磁性スペーサ層12及びMR層13がステンシル
31をマスクとして、イオンミリング、スパッタエッチ
ング又は化学的エッチングにより加工され、パターニン
グされる。これら軟磁性薄膜層11、非磁性スペーサ層
12及びMR層13は上方向に行くほど狭くなり、それ
らの傾斜エッジは、ステンシル31により定義される。
Next, as shown in FIG. 3, the soft magnetic thin film layer 1
1. The non-magnetic spacer layer 12 and the MR layer 13 are processed and patterned by ion milling, sputter etching or chemical etching using the stencil 31 as a mask. The soft magnetic thin film layer 11, the non-magnetic spacer layer 12 and the MR layer 13 become narrower in the upward direction, and their inclined edges are defined by the stencil 31.

【0018】次に、上記の素子に対して非磁性金属層1
7、強磁性薄膜層16及び反強磁性薄膜層14が順次積
層されてなる縦方向バイアス層15が図4に示すように
形成される。このとき、ステンシル31は縦方向バイア
ス層15のエッジを定義するために使用される。なお、
上記の縦方向バイアス層15はステンシル31の上面に
も付着する。
Next, the non-magnetic metal layer 1 is added to the above device.
7, a longitudinal bias layer 15 is formed by sequentially stacking the ferromagnetic thin film layer 16 and the antiferromagnetic thin film layer 14 as shown in FIG. At this time, the stencil 31 is used to define the edge of the vertical bias layer 15. In addition,
The vertical bias layer 15 also adheres to the upper surface of the stencil 31.

【0019】次に、同じステンシル31を使用して、図
4に示すように、導体リード層21がセンサ導体リード
を生成するように、縦方向バイアス層15上に成膜され
る。このときステンシル31の上面にも導体リード層2
1が付着する。
The same stencil 31 is then used to deposit a conductor lead layer 21 on the longitudinal bias layer 15 to create sensor conductor leads, as shown in FIG. At this time, the conductor lead layer 2 is also formed on the upper surface of the stencil 31.
1 is attached.

【0020】その後、ステンシル31とその上面にかな
りの量付着した縦方向バイアス層15成膜時の磁性材料
や導体リード層21成膜時の導体リード材料が、それぞ
れリフトオフプロセスにより一緒に取り除かれ、図5に
示すように、縦方向バイアス層15を端部領域に有する
MRヘッドが形成される。この縦方向バイアス層15
は、能動領域にのみ広がるMR3層構造(すなわち、軟
磁性薄膜層11、非磁性スペーサ層12及びMR層13
の積層構造)と磁気的に連続な隣接接合を有する。
Thereafter, the stencil 31 and the magnetic material deposited on the upper surface of the stencil 31 in a considerable amount at the time of forming the longitudinal bias layer 15 and the conductor lead material at the time of forming the conductor lead layer 21 are removed together by a lift-off process. As shown in FIG. 5, the MR head having the vertical bias layer 15 in the end region is formed. This longitudinal bias layer 15
Is a MR3 layer structure extending only to the active region (that is, the soft magnetic thin film layer 11, the non-magnetic spacer layer 12 and the MR layer 13).
And a magnetically continuous adjacent junction.

【0021】このMRヘッドでは、縦方向バイアス層1
5を構成する強磁性薄膜層16の下地に非磁性金属層1
7を形成しており、これにより、強磁性薄膜層16の磁
気特性を安定化させることができ、磁気ヘッドとして望
ましい特性が得られることが本発明者の実験により確認
された。よって、強磁性薄膜層16と反強磁性薄膜層1
4との交換結合バイアスを大きくすることができ、この
ことから端部領域での強磁性薄膜層14による出力変化
を低減することができる。
In this MR head, the longitudinal bias layer 1
The non-magnetic metal layer 1 is provided as an underlayer of the ferromagnetic thin film layer 16 constituting
It has been confirmed by experiments by the present inventor that the magnetic characteristics of the ferromagnetic thin film layer 16 can be stabilized and desirable characteristics as a magnetic head can be obtained. Therefore, the ferromagnetic thin film layer 16 and the antiferromagnetic thin film layer 1
It is possible to increase the exchange-coupling bias with respect to No. 4 and thereby reduce the output change due to the ferromagnetic thin film layer 14 in the end region.

【0022】この実施の形態における縦方向バイアス層
15の最下層の非磁性金属層17にはタンタル(Ta)
やチタン(Ti)等の材料が望ましい。また、縦方向バ
イアス層15の中間層の強磁性薄膜層16には、ニッケ
ル−鉄(NiFe)が好適である。更に、縦方向バイア
ス層15の最上層の反強磁性薄膜層14には、マンガン
−鉄(MnFe)やマンガン−ニッケル(MnNi)が
望ましい。導体リード層21には、金(Au)、銅(C
u)及びタングステン(W)等の比抵抗の小さい非磁性
金属が望ましい。
The bottom nonmagnetic metal layer 17 of the longitudinal bias layer 15 in this embodiment is tantalum (Ta).
Materials such as titanium and titanium (Ti) are desirable. Further, nickel-iron (NiFe) is suitable for the ferromagnetic thin film layer 16 which is an intermediate layer of the vertical bias layer 15. Further, manganese-iron (MnFe) or manganese-nickel (MnNi) is desirable for the uppermost antiferromagnetic thin film layer 14 of the longitudinal bias layer 15. The conductor lead layer 21 includes gold (Au), copper (C
u) and tungsten (W) are preferably non-magnetic metals having a low specific resistance.

【0023】また、能動領域のMR3層の軟磁性薄膜層
11には、コバルト−ジルコニウム−モリブデン(Co
ZrMo)あるいはニッケル−鉄−ロジウム(NiFe
Rh)が望ましく、非磁性スペーサ層12には非磁性金
属のタンタル(Ta)あるいはチタン(Ti)が望まし
く、MR層13にはニッケル−鉄(NiFe)が望まし
い。
The soft magnetic thin film layer 11 of the MR3 layer in the active region is made of cobalt-zirconium-molybdenum (Co).
ZrMo) or nickel-iron-rhodium (NiFe
Rh) is desirable, non-magnetic spacer layer 12 is preferably non-magnetic metal tantalum (Ta) or titanium (Ti), and MR layer 13 is desirably nickel-iron (NiFe).

【0024】なお、本発明は上記の実施の形態に限定さ
れるものではなく、例えばステンシル31を形成する工
程において2層レジストを使用してもよい。この2層レ
ジストによるステンシルを使用する場合、ステンシルは
比較的薄い下層及び厚いイメージング層により形成され
る。1回の露光及び1回の現像工程によりレジストのエ
ッジの輪郭がイメージリバーサル法と同様に定義され、
アンダーカットは適切な現像液内における下層の溶解に
より生成され、アンダーカット距離は現像時間により決
定される。また、アンダーカットの高さは下層のレジス
トの厚さにより決定される。
The present invention is not limited to the above embodiment, and a two-layer resist may be used in the step of forming the stencil 31, for example. When using this two-layer resist stencil, the stencil is formed by a relatively thin underlayer and a thick imaging layer. With one exposure and one development process, the edge contour of the resist is defined similarly to the image reversal method,
The undercut is produced by dissolution of the lower layer in a suitable developing solution, and the undercut distance is determined by the developing time. The height of the undercut is determined by the thickness of the underlying resist.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
MR層が能動領域にのみ存在し、縦方向バイアス層がM
R層との隣接接合部を形成する各端部領域に設けられた
MRヘッドにおいて、強磁性薄膜の下地に非磁性金属層
を形成して交換結合バイアスを大きくすることができる
ようにしたため、端部領域での交換結合バイアスを大き
くすることにより端部領域での強磁性薄膜による出力変
化を低減させることができる。
As described above, according to the present invention,
The MR layer exists only in the active region, and the longitudinal bias layer is M.
In the MR head provided in each end region forming the adjacent junction with the R layer, the non-magnetic metal layer is formed under the ferromagnetic thin film so that the exchange coupling bias can be increased. By increasing the exchange coupling bias in the partial region, it is possible to reduce the output change due to the ferromagnetic thin film in the end region.

【0026】また、本発明によれば、製造し易い、MR
層が能動領域にのみ存在し、縦方向バイアス層がMR層
との隣接接合部を形成する各端部領域に設けられたMR
ヘッドを実現できる。
Further, according to the present invention, MR which is easy to manufacture
MR with layers present only in the active region and longitudinal bias layers at each end region forming an adjacent junction with the MR layer.
The head can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態の構造断面図である。FIG. 1 is a structural cross-sectional view of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態の製造過程での構造断面
図(その1)である。
FIG. 2 is a structural cross-sectional view (No. 1) in the manufacturing process of the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施の形態の製造過程での構造断面
図(その2)である。
FIG. 3 is a structural cross-sectional view (No. 2) in the manufacturing process of the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施の形態の製造過程での構造断面
図(その3)である。
FIG. 4 is a structural cross-sectional view (3) in the manufacturing process of the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施の形態の製造過程での構造断面
図(その4)である。
FIG. 5 is a structural cross-sectional view (No. 4) in the manufacturing process of the embodiment of the present invention.

【図6】従来の一例の構造断面図である。FIG. 6 is a structural cross-sectional view of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 セラミックス基板 11 軟磁性薄膜層 12 非磁性スペーサ層 13 磁気抵抗効果(MR)層 14 反強磁性薄膜層 15 縦方向バイアス層 16 強磁性薄膜層 17 非磁性薄膜層 21 導体リード層 31 ステンシル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramics substrate 11 Soft magnetic thin film layer 12 Nonmagnetic spacer layer 13 Magnetoresistance effect (MR) layer 14 Antiferromagnetic thin film layer 15 Longitudinal bias layer 16 Ferromagnetic thin film layer 17 Nonmagnetic thin film layer 21 Conductor lead layer 31 Stencil

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上の中央の能動領域に形成された少
なくとも磁気抵抗効果層を含む層と、 前記能動領域の隣接接合部に縦方向バイアス場を生成す
る縦方向バイアス層とを有し、前記縦方向バイアス層
は、前記基板上の前記隣接接合部上に広がる非磁性金属
層と、該非磁性金属層上に形成された強磁性薄膜層と、
該強磁性薄膜層上に形成された反強磁性薄膜層とからな
ることを特徴とする磁気抵抗効果ヘッド。
1. A layer comprising at least a magnetoresistive layer formed in a central active region of a substrate, and a longitudinal bias layer for generating a longitudinal bias field at an adjacent junction of the active region. The longitudinal bias layer includes a nonmagnetic metal layer extending on the adjacent junction on the substrate, and a ferromagnetic thin film layer formed on the nonmagnetic metal layer.
A magnetoresistive head comprising an antiferromagnetic thin film layer formed on the ferromagnetic thin film layer.
【請求項2】 前記非磁性金属層は、タンタル又はチタ
ンからなることを特徴とする請求項1記載の磁気抵抗効
果ヘッド。
2. The magnetoresistive head according to claim 1, wherein the non-magnetic metal layer is made of tantalum or titanium.
【請求項3】 前記強磁性薄膜層は、ニッケル−鉄合金
からなることを特徴とする請求項1記載の磁気抵抗効果
ヘッド。
3. The magnetoresistive head according to claim 1, wherein the ferromagnetic thin film layer is made of a nickel-iron alloy.
【請求項4】 前記反強磁性薄膜層は、マンガンを含む
合金からなることを特徴とする請求項1記載の磁気抵抗
効果ヘッド。
4. The magnetoresistive head according to claim 1, wherein the antiferromagnetic thin film layer is made of an alloy containing manganese.
JP947896A 1996-01-23 1996-01-23 Magnetoresistive head Expired - Fee Related JP2874627B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP947896A JP2874627B2 (en) 1996-01-23 1996-01-23 Magnetoresistive head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP947896A JP2874627B2 (en) 1996-01-23 1996-01-23 Magnetoresistive head

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09198626A true JPH09198626A (en) 1997-07-31
JP2874627B2 JP2874627B2 (en) 1999-03-24

Family

ID=11721370

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP947896A Expired - Fee Related JP2874627B2 (en) 1996-01-23 1996-01-23 Magnetoresistive head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2874627B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001003130A1 (en) * 1999-07-05 2001-01-11 Fujitsu Limited Spin-valve magnetoresistance effect head, composite magnetic head comprising the same, and magnetoresistance recorded medium drive
KR100354687B1 (en) * 1999-10-05 2002-09-30 알프스 덴키 가부시키가이샤 Spin-valve type thin film magnetic element and manufacturing method thereof
US7692901B2 (en) 2006-12-13 2010-04-06 Tdk Corporation Magnetoresistive effect thin-film magnetic head with anti-ferromagnetic layer for magnetic domain control

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001003130A1 (en) * 1999-07-05 2001-01-11 Fujitsu Limited Spin-valve magnetoresistance effect head, composite magnetic head comprising the same, and magnetoresistance recorded medium drive
EP1193692A1 (en) * 1999-07-05 2002-04-03 Fujitsu Limited Spin-valve magnetoresistance effect head, composite magnetic head comprising the same, and magnetoresistance recorded medium drive
EP1193692A4 (en) * 1999-07-05 2002-08-21 Fujitsu Ltd Spin-valve magnetoresistance effect head, composite magnetic head comprising the same, and magnetoresistance recorded medium drive
US6501627B2 (en) 1999-07-05 2002-12-31 Fujitsu Limited Spin-valve magnetoresistive head, and composite-type magnetic head and magnetic recording medium drive using the same
KR100354687B1 (en) * 1999-10-05 2002-09-30 알프스 덴키 가부시키가이샤 Spin-valve type thin film magnetic element and manufacturing method thereof
US7692901B2 (en) 2006-12-13 2010-04-06 Tdk Corporation Magnetoresistive effect thin-film magnetic head with anti-ferromagnetic layer for magnetic domain control

Also Published As

Publication number Publication date
JP2874627B2 (en) 1999-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0172018B1 (en) Magnetoresistive element
US5992004A (en) Method for producing a thin film magnetic head
JPH03125311A (en) Converter for reading reluctance with hard magnetic bias and method of manufacturing the same
US20070008658A1 (en) Thin-film magnetic head and method of making the same
KR19990022350A (en) Recording transducer reinforced with magnetic flux in association with a shared shield on a magnetoresistive read head and method of manufacturing the same
US5657191A (en) Stabilization of giant magnetoresistive transducers
US5880910A (en) Magneto-resistive reading head with two slanted longitudinal bias films and two slanted leads
JP2720806B2 (en) Magnetoresistive head and method of manufacturing the same
JP2001155313A (en) Thin film magnetic head and its manufacturing method
JP2004327565A (en) Method of manufacturing magnetic detector
JP2874627B2 (en) Magnetoresistive head
JP2002319721A (en) Magnetic detecting element and manufacturing method therefor
JP3774374B2 (en) Magnetic sensing element and manufacturing method thereof
JP2003060264A (en) Magnetic detection element, and manufacturing method therefor
JPH10163545A (en) Magnetoresistive effect element and manufacture thereof
JP2002151755A (en) Magnetoresistive effect element, its manufacturing method, and thin film magnetic head using it
JP3741981B2 (en) Magnetic sensing element and manufacturing method thereof
JPH08329422A (en) Magnetoresistance effect head and its production
JP3164050B2 (en) Manufacturing method of magnetoresistive composite head
JPH08255315A (en) Thin-film magnetic head and its production
JP2853675B2 (en) Magnetoresistive read transducer and method of manufacturing the same
US7065859B2 (en) Method for manufacturing a thin film magnetic head
JPH08147638A (en) Magnetoresistance read converter
JPH0981916A (en) Magnetoresistance effect type head
JPH0863716A (en) Magneto-resistance effect type head

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090114

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees