JPH09188764A - Production of polysiloxane hole transporting material - Google Patents

Production of polysiloxane hole transporting material

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JPH09188764A
JPH09188764A JP29392096A JP29392096A JPH09188764A JP H09188764 A JPH09188764 A JP H09188764A JP 29392096 A JP29392096 A JP 29392096A JP 29392096 A JP29392096 A JP 29392096A JP H09188764 A JPH09188764 A JP H09188764A
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JP
Japan
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group
polysiloxane
hole
siz
monovalent hydrocarbon
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP29392096A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuo Kushibiki
信男 櫛引
Kikuko Takeuchi
貴久子 竹内
Hideki Kobayashi
秀樹 小林
Toru Masatomi
亨 正富
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DuPont Toray Specialty Materials KK
Original Assignee
Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
Dow Corning Asia Ltd
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Publication date
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Publication of JPH09188764A publication Critical patent/JPH09188764A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the above material useful for electrophotographic devices, etc., by binding a hole transporting group to a silicon atom in a polysiloxane resin. SOLUTION: (A) One or more kinds of silicon compounds selected from among the formula R3 SiZ (R is a monovalent hydrocarbon group; Z is a hydrolyzable group), the formula R2 SiZ2 , the formula R1 SiZ3 and the formula SiZ and/or its partial hydrolysis condensation product is subjected to co-hydrolytic condensation with (B) a hole transporting organosilicon compound of the formula A-[R<1> SiR<2> 3-n Qn ]p [A is an aromatic substituted tertiary amine having plural aromatic groups and is an organic group derived from a hole transporting compound having 4.5-6.2eV ionized potential; R<1> is a 1-18C alkylene; R<2> is a 1-15C monovalent hydrocarbon; Q is a hydrolyzable group; (n) is an integer of 1-3; (p) is an integer of 1-3] in an organic solvent. Furthermore, the component A is a compound capable of providing a polysiloxane resin having 0.5-1.5 ratio of a monovalent hydrocarbon group to silicon atom by hydrolytic condensation.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリシロキサン中
のケイ素原子に正孔輸送性基を結合してなる電子写真装
置等に用いられるポリシロキサン系正孔輸送材料の製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a polysiloxane-based hole-transporting material for use in an electrophotographic device or the like in which a hole-transporting group is bonded to a silicon atom in polysiloxane.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真感光体は電子写真プロセスに応
じた電気特定、光学特性が要求されるのみならず、感光
体には帯電プロセスにおける耐久性、現像・転写プロセ
スその後のトナー除去プロセスにおける耐磨耗性等化学
的、機械的耐久性が要求される。近年、無公害、高生産
性の視点から有機化合物を用いた電子写真感光体が主流
となりつつある。有機感光体は正孔輸送能を有する有機
化合物をアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂中に分散もしく
は溶解したものであり、これを電荷発生層上に塗布し、
或いは電荷発生物質を上記に分散させた樹脂を塗布する
等の手法により構成されている。
2. Description of the Related Art An electrophotographic photosensitive member is required not only to have electrical characteristics and optical characteristics according to an electrophotographic process, but also to have durability in a charging process and durability in a toner removing process after a developing / transferring process. Chemical and mechanical durability such as abrasion resistance is required. In recent years, electrophotographic photoreceptors using organic compounds have become mainstream from the viewpoints of pollution-free and high productivity. The organic photoconductor is one in which an organic compound having a hole transporting ability is dispersed or dissolved in a resin such as an acrylic resin, a polycarbonate resin, a polyester resin, or a polyurethane resin, which is coated on the charge generation layer,
Alternatively, it is configured by a method of applying a resin in which the charge generating substance is dispersed as described above.

【0003】電子写真プロセスにおいて、電荷輸送層に
は単に電荷発生層で発生した電荷を感光体表面に輸送す
る以外にも電気的、機械的特性が求められている。コロ
ナ帯電性及びそれに伴う劣化に係わる特性、トナー現
像、転写性及びクリーニング特性等、加えて、製膜等生
産プロセスに係わる数多くの特性が求められており、必
ずしも現行有機感光体が満足されているわけではない。
これらの欠点を改善するため、コロナ放電等に対し安定
性が高く、低表面エネルギーという特性からシリコーン
樹脂が注目され、下記に示すような検討が行われてき
た。シリコーンオイル添加(特開昭61−13295
4)、ポリジメチルシロキサン、シリコーン樹脂粉体等
を添加(特開平4−324454)することで感光体の
表面特性を改良する試み、架橋シリコーン樹脂を添加し
たもの、ポリカーボネートとのブロック共重合、シリコ
ーン変性ポリウレタン、シリコーン変性ポリエステル等
が感光体材料感光体表面保護材として検討された。
In the electrophotographic process, the charge transport layer is required to have electrical and mechanical characteristics in addition to simply transporting the charges generated in the charge generation layer to the surface of the photoreceptor. In addition to corona chargeability and characteristics associated with deterioration, toner development, transferability and cleaning characteristics, many characteristics related to production processes such as film formation are required, and current organic photoreceptors are not always satisfied. Do not mean.
In order to improve these drawbacks, silicone resins have attracted attention because of their high stability against corona discharge and low surface energy, and the following studies have been conducted. Addition of silicone oil (JP-A-61-129595)
4), an attempt to improve the surface characteristics of the photoconductor by adding polydimethylsiloxane, silicone resin powder, etc. (JP-A-4-324454), addition of a crosslinked silicone resin, block copolymerization with polycarbonate, silicone Modified polyurethane, silicone modified polyester, and the like have been investigated as photosensitive material surface protecting materials for photosensitive materials.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ポリシロキサン樹脂は
他の樹脂に対して十分な相溶性を示さないため、単に他
の樹脂にブレンドすると相分離を生じ、あるいはブレン
ド樹脂表面にブリードして特性が変化する。これを改良
しようとしてブロック共重合体が使用されたが、高分子
化学で知られているごとく本質的に非相溶である樹脂か
らなるブロック共重合体は相分離構造を形成する。この
場合も光散乱を生じることになる。
Since the polysiloxane resin does not exhibit sufficient compatibility with other resins, if it is simply blended with another resin, phase separation occurs, or bleeding on the surface of the blended resin results in poor properties. Change. Although block copolymers have been used in an attempt to improve this, block copolymers consisting of resins that are essentially incompatible, as is known in polymer chemistry, form phase separated structures. In this case also, light scattering will occur.

【0005】又、本質的にポリシロキサン樹脂は電気的
に中性且つ不活性であるため、ポリシロキサン樹脂単独
では全く正孔輸送能を有しないため、正孔輸送材を添加
して機能化する必要がある。しかし、ポリシロキサン樹
脂は一般の有機低分子を多量に均一に分散溶解させるこ
とが困難な樹脂である。本発明の目的はポリシロキサン
樹脂中のケイ素原子に、正孔輸送機能を付与する正孔輸
送性基を均一に結合させてなる、正孔輸送能を有するポ
リシロキサン樹脂の製造方法を提供することにある。
Further, since the polysiloxane resin is essentially electrically neutral and inactive, the polysiloxane resin alone has no hole transporting ability. Therefore, a hole transporting material is added for functionalization. There is a need. However, the polysiloxane resin is a resin in which it is difficult to uniformly disperse a large amount of general low molecular weight organic molecules in a uniform manner. An object of the present invention is to provide a method for producing a polysiloxane resin having a hole-transporting ability, which is obtained by uniformly bonding a hole-transporting group imparting a hole-transporting function to a silicon atom in the polysiloxane resin. It is in.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、下記第1成分
と第2成分とを有機溶媒中で共加水分解縮合することを
特徴とするポリシロキサン系正孔輸送材料の製造方法で
ある。 第1成分:加水分解縮合により1価の炭化水素基のケイ
素原子に対する比が0.5〜1.5であるポリシロキサ
ン樹脂を与えることのできるケイ素化合物(但し、同ケ
イ素化合物は次の,,及びの中から選ばれる1
種以上のシリコン化合物である。 R3 SiZ R2 SiZ21 SiZ3 SiZ4 ここでRは1価の炭化水素基、Zは加水分解性基であ
る。)及び/又はその部分加水分解縮合生成物。 第2成分:下記式(1)で表される正孔輸送性有機ケイ
素化合物 A−〔R1 SiR2 3-n n p (1) (ここに、Aは複数の芳香族基を有する芳香族置換3級
アミンであって、イオン化ポテンシャルが4.5〜6.
2eVである正孔輸送性化合物から誘導された有機基を表
し、R1 は炭素数1〜18のアルキレン基、R2 はハロ
ゲンを有することのある炭素数1〜15の1価の炭化水
素基、Qは加水分解性基、nは1〜3の整数、pは1〜
3の整数である。前記「誘導された」とは、前記正孔輸
送性化合物の有する前記芳香環の水素原子又は他の置換
基を取って生じたことをいう。)
The present invention is a method for producing a polysiloxane hole transporting material, which comprises co-hydrolyzing and condensing the following first and second components in an organic solvent. First component: a silicon compound capable of giving a polysiloxane resin having a ratio of monovalent hydrocarbon groups to silicon atoms of 0.5 to 1.5 by hydrolysis condensation (provided that the silicon compound is 1 selected from and
It is a silicon compound of at least one species. R 3 SiZ R 2 SiZ 2 R 1 SiZ 3 SiZ 4 Here, R is a monovalent hydrocarbon group and Z is a hydrolyzable group. ) And / or a partial hydrolysis condensation product thereof. Second component: a hole-transporting organosilicon compound represented by the following formula (1) A- [R 1 SiR 2 3-n Q n ] p (1) (where A has a plurality of aromatic groups) An aromatic substituted tertiary amine having an ionization potential of 4.5 to 6.
2 eV represents an organic group derived from a hole transporting compound, R 1 is an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, and R 2 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms which may have halogen. , Q is a hydrolyzable group, n is an integer of 1 to 3, p is 1 to
It is an integer of 3. The term “derived” means that it is generated by taking a hydrogen atom or another substituent of the aromatic ring contained in the hole transporting compound. )

【0007】前記加水分解性基Qの例としては水酸基、
アルコキシ基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチル
アミノ基、アセトキシ基、プロペノキシ基、等があげら
れる。これらのうちで水酸基、及び、メトキシ基、エト
キシ基、ブトキシ基、プロポキシ基等の炭素数1〜6の
アルコキシが好ましい。前記R1 は原素原子数1〜6の
アルキレン基であることが好ましい。
As an example of the hydrolyzable group Q, a hydroxyl group,
Examples thereof include an alkoxy group, a methylethylketoxime group, a diethylamino group, an acetoxy group and a propenoxy group. Among these, a hydroxyl group and alkoxy having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group and a propoxy group are preferable. The above R 1 is preferably an alkylene group having 1 to 6 atoms.

【0008】本発明における第1成分のケイ素化合物と
は、加水分解縮合により1価の炭化水素基のケイ素原子
に対する比が0.5〜1.5であるポリシロキサン樹脂
を与えることのできる前記ケイ素化合物及び/又はその
部分加水分解縮合生成物のことを指す。ここで1価の炭
化水素基とは脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基から
なる群から選ばれる1価の炭化水素基のことをいう。ケ
イ素原子に直接結合した1価の炭化水素基Rとしては、
炭素数1−18の直鎖或いは分岐の飽和炭化水素基、例
えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、ヘキ
シル、2−エチルヘキシル、ドデシル、オクタデシル
等、アルケニル基、例えばビニル、アリル等、アリール
基例えばフェニル、トリル、ハロゲン化炭化水素基、例
えばトリフロロプロピル、ヘプタフロロペンチル、ナノ
フロロヘキシル等で代表されるフロロ炭化水素基、クロ
ロメチル、クロロエチル等、炭素数1−18の直鎖或い
は分岐であるかを問わず飽和炭化水素基ハロゲン置換体
をあげることができる。また、ここで加水分解性基Z
は、格別に限定されるものではないが、水酸基、アルコ
キシ基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルアミノ
基、アセトキシ基、プロペノキシ基等が挙げられる。従
って、前記ケイ素化合物は有機及び無機のいずれの化合
物であってよい。しかしZは有機基であることが好まし
い。本発明における樹脂の合成には、特公昭26−26
96、特開昭28−297に記載されている方法を始め
として“Chemistry and Technol
ogy of Silicones”,Walter
Noll著、Academic Press,Inc.
(1968),P191記載のシロキサンポリマー合成
方法が適用できる。第1のケイ素化合物の溶媒に対する
溶解性は必ずしも良好とはいえないが、トルエン等芳香
族炭化水素、クロロホルム等ハロゲン化炭化水素に良好
な溶解性を示すことから、これらを通常使用される溶媒
と混合した溶媒の使用が薦められる。得られた共重合ポ
リシロキサンに水又は有機溶媒を加え分離する。その
後、水洗して中和する。このようにして製造された共重
合ポリシロキサン中には、0.01〜10重量%のケイ
素原子に結合した水酸基及び/又は加水分解性基が含ま
れている。これは多すぎては貯蔵安定性が悪化し、少な
すぎては製膜後の物性に影響する。0.1〜4.0重量
%の範囲にあるのが好ましい。
The silicon compound as the first component in the present invention is a silicon compound that can give a polysiloxane resin having a ratio of monovalent hydrocarbon groups to silicon atoms of 0.5 to 1.5 by hydrolysis and condensation. It refers to a compound and / or a partial hydrolysis-condensation product thereof. Here, the monovalent hydrocarbon group refers to a monovalent hydrocarbon group selected from the group consisting of an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group. As the monovalent hydrocarbon group R directly bonded to a silicon atom,
A straight chain or branched saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, amyl, hexyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, octadecyl, etc., an alkenyl group, for example, vinyl, allyl, an aryl group, for example. Phenyl, tolyl, a halogenated hydrocarbon group, for example, a fluorohydrocarbon group represented by trifluoropropyl, heptafluoropentyl, nanofluorohexyl, etc., chloromethyl, chloroethyl, etc., which is a straight or branched chain having 1 to 18 carbon atoms. Regardless of this, a saturated hydrocarbon group halogen-substituted product can be mentioned. In addition, here, the hydrolyzable group Z
Is not particularly limited, and examples thereof include a hydroxyl group, an alkoxy group, a methylethylketoxime group, a diethylamino group, an acetoxy group, and a propenoxy group. Therefore, the silicon compound may be either an organic compound or an inorganic compound. However, Z is preferably an organic group. For the synthesis of the resin in the present invention, Japanese Patent Publication No. 26-26
96, the method described in JP-A-28-297 and "Chemistry and Technology".
ogy of Silicones ”, Walter
Noll, Academic Press, Inc.
(1968), the siloxane polymer synthesis method described in P191 can be applied. Although the solubility of the first silicon compound in a solvent is not necessarily good, it shows good solubility in aromatic hydrocarbons such as toluene and halogenated hydrocarbons such as chloroform, and therefore these are considered to be solvents commonly used. The use of mixed solvents is recommended. Water or an organic solvent is added to the obtained copolymerized polysiloxane and separated. After that, it is washed with water to be neutralized. The copolymerized polysiloxane produced in this manner contains 0.01 to 10% by weight of a silicon atom-bonded hydroxyl group and / or a hydrolyzable group. If it is too large, the storage stability deteriorates, and if it is too small, it affects the physical properties after film formation. It is preferably in the range of 0.1 to 4.0% by weight.

【0009】本発明製造方法により製造されるポリシロ
キサン系正孔輸送材料は、目的に応じて、実用上充分な
電荷輸送性、感度及び機械的強度等の特性を有すること
が望ましい。これらの特性は、主として該ポリシロキサ
ン系正孔輸送材料における、前記第2成分の正孔輸送性
有機ケイ素化合物に由来する単位の量により調整される
ものである。その必要量は目的に応じて多少変動するも
のである。通常は第1成分に由来する単位の100重量
部に対して、第2成分に由来する単位が10重量部〜2
00重量部が推奨され、好ましくは第2成分が30重量
部〜150重量部、更に好ましくは同じく第2成分が3
0重量部〜100重量部が推奨される。該ポリシロキサ
ン系正孔輸送材料は第2成分の正孔輸送性有機ケイ素化
合物に由来する単位の量が低下すると電荷輸送性が不十
分になり、感度が低下する。また、同単位の量が過剰の
場合、機械的強度が不足してくる傾向がある。
The polysiloxane-based hole transporting material produced by the production method of the present invention preferably has practically sufficient characteristics such as charge transportability, sensitivity and mechanical strength depending on the purpose. These properties are adjusted mainly by the amount of the units derived from the hole transporting organosilicon compound of the second component in the polysiloxane hole transporting material. The required amount varies somewhat depending on the purpose. Usually, the unit derived from the second component is 10 parts by weight to 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the unit derived from the first component.
00 parts by weight is recommended, preferably 30 parts by weight to 150 parts by weight of the second component, more preferably 3 parts by weight of the second component.
0 to 100 parts by weight is recommended. When the amount of the units derived from the hole-transporting organosilicon compound as the second component decreases, the polysiloxane-based hole-transporting material has insufficient charge-transporting property and the sensitivity decreases. Further, when the amount of the same unit is excessive, the mechanical strength tends to be insufficient.

【0010】本発明に於て用いられる第2成分の正孔輸
送性有機ケイ素化合物は、電子供与性基が炭化水素基を
介してアルコキシシリル基に代表される加水分解性基を
有するシリル基に結合しているものである。直接結合し
た場合、芳香族基の芳香環のπ電子がケイ素のd電子と
π−d相互作用を生じてイオン化ポテンシャルが変動す
るおそれがあるので、これを避けて有機光導電体設計を
容易にするためである。
The second component, the hole-transporting organosilicon compound used in the present invention, is a silyl group having an electron-donating group having a hydrolyzable group represented by an alkoxysilyl group via a hydrocarbon group. It is one that is combined. In the case of direct bonding, the π electron of the aromatic ring of the aromatic group may cause a π-d interaction with the d electron of silicon to change the ionization potential. Avoiding this, the organic photoconductor design can be facilitated. This is because

【0011】第2成分の正孔輸送性有機ケイ素化合物の
製造方法の1つとしては、複数の芳香族基を有する芳香
族置換3級アミンであって、イオン化ポテンシャルが
4.5〜6.2eVである正孔輸送性化合物において、該
芳香族基上に不飽和脂肪族炭化水素基を置換させ、更に
該不飽和脂肪族炭化水素基に、水素原子と加水分解性基
とを置換基として有するケイ素化合物(以下、水素化ケ
イ素化合物と称する)を反応させる方法が挙げられる。
この方法によれば、該芳香族基に置換した不飽和脂肪族
炭化水素基(例えば、芳香環に置換したビニル基)に、
ハイドロシリレーション反応により前記水素化ケイ素化
合物に由来するシリル基(例えば、アルコキシシリル
基)が導入される。前記水素化ケイ素化合物は有機ケイ
素化合物であることが好ましい。尚、該芳香族基にビニ
ル基等の不飽和脂肪族炭化水素基を導入する方法として
は、芳香環に置換したメチル基又は水素原子をホルミル
化し、アルデヒドを付加脱水してビニル基を導入するこ
とができる。この後ハイドロシリレーション反応が利用
できる。他の方法として、芳香族基に置換した飽和炭化
水素基、例えばメチル基をブロモメチル化してリチオ錯
体とし、これをハロゲン化アルコキシシランと反応させ
る方法がある。本発明におけるイオン化ポテンシャル
は、大気圧下、光電子分光法(理研計器製、表面分析装
置AC−1を使用)により測定される。
One of the methods for producing the second component, a hole-transporting organosilicon compound, is an aromatic-substituted tertiary amine having a plurality of aromatic groups and has an ionization potential of 4.5 to 6.2 eV. In the hole-transporting compound, the unsaturated aliphatic hydrocarbon group is substituted on the aromatic group, and the unsaturated aliphatic hydrocarbon group further has a hydrogen atom and a hydrolyzable group as a substituent. A method of reacting a silicon compound (hereinafter referred to as a silicon hydride compound) can be mentioned.
According to this method, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group substituted with the aromatic group (for example, a vinyl group substituted with an aromatic ring),
A silyl group (for example, an alkoxysilyl group) derived from the silicon hydride compound is introduced by the hydrosilylation reaction. The silicon hydride compound is preferably an organosilicon compound. As a method for introducing an unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as a vinyl group into the aromatic group, a methyl group or a hydrogen atom substituted on the aromatic ring is formylated, and an aldehyde is dehydrated to introduce a vinyl group. be able to. After this, a hydrosilylation reaction can be used. As another method, there is a method in which a saturated hydrocarbon group substituted with an aromatic group, for example, a methyl group is bromomethylated to form a lithio complex, and this is reacted with a halogenated alkoxysilane. The ionization potential in the present invention is measured under atmospheric pressure by photoelectron spectroscopy (manufactured by Riken Keiki, using a surface analyzer AC-1).

【0012】本発明の製造方法に使用されるイオン化ポ
テンシャルが4.5〜6.2電子ボルトである芳香族置
換3級アミンとしては以下のものが挙げられる。尚下記
式において、Meはメチルを、Etはエチルを表す。
Examples of the aromatic-substituted tertiary amine having an ionization potential of 4.5 to 6.2 eV used in the production method of the present invention include the following. In the formulas below, Me represents methyl and Et represents ethyl.

【0013】[0013]

【化1】 Embedded image

【0014】[0014]

【化2】 Embedded image

【0015】[0015]

【化3】 Embedded image

【0016】[0016]

【化4】 Embedded image

【0017】[0017]

【化5】 Embedded image

【0018】[0018]

【化6】 [Chemical 6]

【0019】[0019]

【化7】 Embedded image

【0020】[0020]

【化8】 Embedded image

【0021】[0021]

【化9】 Embedded image

【0022】[0022]

【化10】 Embedded image

【0023】[0023]

【化11】 Embedded image

【0024】[0024]

【化12】 Embedded image

【0025】[0025]

【化13】 Embedded image

【0026】[0026]

【化14】 Embedded image

【0027】[0027]

【化15】 Embedded image

【0028】[0028]

【化16】 Embedded image

【0029】[0029]

【化17】 Embedded image

【0030】[0030]

【化18】 Embedded image

【0031】第2成分の正孔輸送性有機ケイ素化合物の
製造方法について、前記水素化ケイ素化合物に由来する
シリル基として、その代表的な例としてアルコキシシリ
ル基の場合を、また、該芳香族置換3級アミンの芳香環
に置換した不飽和脂肪族炭化水素基として、同じくビニ
ル基の場合を例にとり、以下に詳述する。上記芳香族置
換3級アミンの芳香環のどの位置にアルコキシシリル基
を導入するかは特に限定されず、また、全ての芳香環に
アルコキシシリル基が結合していることは必ずしも必要
ではない。後述のポリシロキサン樹脂への溶解性等を考
慮して決められる。この場合、ビニル基を、窒素に結合
した芳香族環に導入する方法としては、上述のように芳
香環に置換したメチル基又は水素原子をホルミル化し、
アルデヒドに付加脱水してビニル基を導入することがで
きる。また、芳香族置換2級アミンの水素とビニル基が
置換したハロゲン化芳香族化合物との間で脱ハロゲン化
水素を行うことによっても導入することができる。
Regarding the method for producing the hole transporting organosilicon compound as the second component, a typical example of the silyl group derived from the silicon hydride compound is an alkoxysilyl group, and the aromatic substitution is also performed. The unsaturated aliphatic hydrocarbon group substituted on the aromatic ring of the tertiary amine will be described in detail below taking the case of a vinyl group as an example. At which position in the aromatic ring of the aromatic-substituted tertiary amine the alkoxysilyl group is introduced is not particularly limited, and it is not always necessary that the alkoxysilyl group is bonded to all aromatic rings. It is determined in consideration of solubility in a polysiloxane resin described later. In this case, as a method for introducing the vinyl group into the aromatic ring bonded to nitrogen, the methyl group or hydrogen atom substituted on the aromatic ring as described above is formylated,
A vinyl group can be introduced by addition dehydration to an aldehyde. It can also be introduced by performing dehydrohalogenation between the hydrogen of the aromatic-substituted secondary amine and the halogenated aromatic compound substituted with the vinyl group.

【0032】本発明において、イオン化ポテンシャルが
4.5〜6.2電子ボルトである芳香族置換3級アミン
の芳香族環に結合したビニル基と反応しうる前記水素化
ケイ素化合物としては、例えば分子中に水素原子及びア
ルコキシ基をケイ素原子の必須の置換基とする水素化有
機ケイ素化合物等があり、これをハイドロシリレーショ
ン反応によってビニル基に付加結合させる。ケイ素原子
に直接結合した水素原子は、ビニル基に付加するハイド
ロシリレーション反応には必須の成分であり、また、ア
ルコキシ基としては、アルコキシ基をOR3 で表わした
場合、R3 として、炭素数1〜6のメチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、アミル、ヘキシル等比較的低鎖長の鎖
状の又は分岐のアルキルから、ハイドロシリレーション
反応時の安定性、加水分解性等を考慮し目的用途に応じ
て選択される。
In the present invention, the silicon hydride compound capable of reacting with the vinyl group bonded to the aromatic ring of the aromatic-substituted tertiary amine having an ionization potential of 4.5 to 6.2 eV is, for example, a molecule. Among them are hydrogenated organosilicon compounds having a hydrogen atom and an alkoxy group as essential substituents of a silicon atom, which are additionally bonded to a vinyl group by a hydrosilylation reaction. The hydrogen atom directly bonded to the silicon atom is an essential component for the hydrosilylation reaction to be added to the vinyl group, and the alkoxy group is the number of carbon atoms as R 3 when the alkoxy group is represented by OR 3. From 1 to 6 methyl, ethyl, propyl, butyl, amyl, hexyl and other chain-like or branched alkyls with relatively low chain length, considering the stability and hydrolyzability during hydrosilation reaction, etc. Will be selected accordingly.

【0033】また、この場合一般式中のnはケイ素に置
換したアルコキシ基の数を表すが、複数の場合は一般に
は親水性が増し、且つ、縮合可能な基が複数存在する場
合は架橋剤としても作用するため、親水性と併せて架橋
による樹脂の硬さも考慮して設定されねばならない。
In this case, n in the general formula represents the number of silicon-substituted alkoxy groups, and when it is plural, hydrophilicity is generally increased, and when plural condensable groups are present, a crosslinking agent is used. Therefore, it must be set in consideration of not only the hydrophilicity but also the hardness of the resin due to crosslinking.

【0034】水素原子及びアルコキシ基以外のケイ素原
子に直接結合した有機基R2 はポリシロキサンのケイ素
上の置換基の種類に応じて、樹脂に対する溶解性、ハイ
ドロシリレーション反応時の反応性、その他ポリシロキ
サン系樹脂の性質調節等種々の目的に応じてメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、アミル、ヘキシル等、アルケ
ニル基、例えばビニル、アリル等、アリール基例えばフ
ェニル、トリル等、ハロゲン化炭化水素基、例えばトリ
フルオロプロピル、ヘプタフルオロペンチル、ナノフル
オロヘキシル等で代表されるフロロ炭化水素基等からな
る群から適宜選ぶことができる。ポリシロキサンのケイ
素上の置換基がメチルであれば、R2 がメチル基である
ほうが溶解性がよいことは容易に想像できる。
The organic group R 2 directly bonded to a silicon atom other than the hydrogen atom and the alkoxy group is soluble in the resin, the reactivity during the hydrosilylation reaction, and the like, depending on the kind of the substituent on the silicon of the polysiloxane. Methyl, ethyl, propyl, butyl, amyl, hexyl, etc., alkenyl groups such as vinyl, allyl, etc. aryl groups such as phenyl, tolyl etc., halogenated hydrocarbon groups, etc. according to various purposes such as property adjustment of polysiloxane resin. For example, it can be appropriately selected from the group consisting of fluorohydrocarbon groups represented by trifluoropropyl, heptafluoropentyl, nanofluorohexyl and the like. When the substituent on the silicon of the polysiloxane is methyl, it can be easily imagined that the solubility is better when R 2 is a methyl group.

【0035】第1成分のケイ素化合物とは、加水分解縮
合してシリコーンレジンとなることができるものであ
り、各種アルコキシシラン等がこの範ちゅうに含まれ
る。加水分解縮合してシリコーンレジンとなることがで
きるものであれば、特に限定されるものではないが、好
適にはオルガノトリアルコキシシランが選択される。オ
ルガノトリアルコキシシランは加水分解縮合によりシリ
コーン業界で通常Tレジンと呼ばれるシリコーンレジン
を与えるものである。ケイ素原子に直接結合した1価の
脂肪族又は芳香族炭化水素基としては、炭素数1〜18
の直鎖又は分岐の飽和炭化水素基、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、2−エチル
ヘキシル、ドデシル、オクタデシル等、アルケニル基、
例えばビニル、アリル等、アリール基例えばフェニル、
トリル、ハロゲン化炭化水素基、例えばトリフルオロプ
ロピル、ヘプタフルオロペンチル、ナノフルオロヘキシ
ル等で代表されるフロロ炭化水素基、クロロメチル、ク
ロロエチル等、炭素数1−18の直鎖或いは分岐である
かを問わず飽和炭化水素基ハロゲン置換体をあげること
ができる。本発明において、最終生成物であるポリシロ
キサンにおけるケイ素原子に対する1価の炭化水素基の
数の比が0.5〜1.5の範囲を変えない限り、一分子
中に複数の加水分解性基を有するケイ素化合物を第3の
共重合成分として加えることもできる。例えば、ジオル
ガノジアルコキシシラン、テトラオルガノジアルコキシ
ジシロキサン等が、ポリシロキサン樹脂の機械的強度、
製膜性等の物性調節の目的により適宜選択される。
The silicon compound as the first component is one that can be hydrolyzed and condensed to form a silicone resin, and various alkoxysilanes and the like are included in this category. There is no particular limitation as long as it can be hydrolyzed and condensed into a silicone resin, but organotrialkoxysilane is preferably selected. Organotrialkoxysilanes provide the silicone resin commonly referred to in the silicone industry as T-resin by hydrolytic condensation. The monovalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group directly bonded to the silicon atom has 1 to 18 carbon atoms.
A linear or branched saturated hydrocarbon group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, amyl, hexyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, octadecyl, etc., an alkenyl group,
For example, vinyl, allyl, etc., aryl groups such as phenyl,
Tolyl, halogenated hydrocarbon groups such as trifluoropropyl, heptafluoropentyl, and fluorohydrocarbon groups represented by nanofluorohexyl, chloromethyl, chloroethyl, etc. In any case, a saturated hydrocarbon group halogen-substituted product can be used. In the present invention, as long as the ratio of the number of monovalent hydrocarbon groups to silicon atoms in the final product, polysiloxane, does not change within the range of 0.5 to 1.5, a plurality of hydrolyzable groups are included in one molecule. It is also possible to add a silicon compound having a as a third copolymerization component. For example, diorganodialkoxysilane, tetraorganodialkoxydisiloxane and the like, mechanical strength of the polysiloxane resin,
It is appropriately selected depending on the purpose of controlling physical properties such as film-forming property.

【0036】ケイ素原子に対する1価の有機基の数のな
す比が0.5〜1.5の範囲より小さい場合、数値が小
さくなるに連れ樹脂は硬く且つ脆くなる一般的傾向があ
り、数値が大きくなる場合はその逆の傾向がある。従っ
て、ケイ素原子に置換したアルキル基の種類、正孔輸送
性有機ケイ素化合物の構造及び共重合量をも考慮し、共
重合体の構造は最適化される。
When the ratio of the number of monovalent organic groups to silicon atoms is smaller than the range of 0.5 to 1.5, the resin tends to become hard and brittle as the numerical value becomes smaller. If it gets bigger, the opposite is true. Therefore, the structure of the copolymer is optimized in consideration of the type of the alkyl group substituted on the silicon atom, the structure of the hole transporting organic silicon compound and the amount of the copolymerization.

【0037】本発明によるポリシロキサン系正孔輸送材
料は、適当な溶媒に溶解させて電子写真感光体製造に供
することができる。使用する溶媒はコーティングにも供
するため、感光体を構成する他の材料への影響を考慮し
て選択されねばならない。コーティングには公知のコー
ティング方法、例えば浸漬、スプレイコート、スピンコ
ート等、によって機材上に塗布する。その後、溶媒の沸
点近傍の温度で加熱し十分に残留溶媒を除去した後、室
温から150℃の範囲で硬化させることによって塗膜が
形成される。このようにして形成されたコーティング膜
は白濁等は認められず、厚さ数ミクロンから数十ミクロ
ンの透明な塗膜が形成された。
The polysiloxane hole transport material according to the present invention can be dissolved in a suitable solvent and used for the production of an electrophotographic photoreceptor. Since the solvent used also serves for coating, it must be selected in consideration of the influence on other materials constituting the photoreceptor. The coating is performed on the equipment by a known coating method such as dipping, spray coating, spin coating and the like. Then, after heating at a temperature near the boiling point of the solvent to sufficiently remove the residual solvent, the coating film is formed by curing in the range of room temperature to 150 ° C. No white turbidity was observed in the coating film thus formed, and a transparent coating film having a thickness of several microns to several tens of microns was formed.

【0038】[0038]

【実施例】【Example】

(合成例1) (4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェ
ニルアミンの合成) (4−(N,N−ジフェニルアミノ)ベンズアルデヒド
の合成)三つ口フラスコにトリフェニルアミン101.
4gとDMF35.5mlを入れ、氷水冷却下、撹拌しな
がらオキシ塩化リン84.4mlを滴下し、温度を95℃
に上げて5時間反応させた。反応液を4Lの温水へ注ぎ
1時間撹拌した。その後、沈殿物をロ取し、エタノール
/水(1:1)の混合溶液で洗浄し、4−(N,N−ジ
フェニルアミノ)ベンズアルデヒドを得た。収量91.
5g(収率81.0%)。
(Synthesis Example 1) (Synthesis of 4- [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine) (Synthesis of 4- (N, N-diphenylamino) benzaldehyde) Triphenylamine 101.
4 g of DMF and 35.5 ml of DMF were added, phosphorus oxychloride 84.4 ml was added dropwise with stirring under ice water cooling, and the temperature was raised to 95 ° C.
And allowed to react for 5 hours. The reaction solution was poured into 4 L of warm water and stirred for 1 hour. Then, the precipitate was collected by filtration and washed with a mixed solution of ethanol / water (1: 1) to obtain 4- (N, N-diphenylamino) benzaldehyde. Yield 91.
5 g (81.0% yield).

【0039】(4−ビニルトリフェニルアミンの合成)
水素化ナトリウム14.6g、1,2−ジメトキシエタ
ン700mlを三つ口フラスコに取り、室温で撹拌しなが
らトリメチルホスフォニウムブロマイド130.8gを
加えた。次に無水エタノールを一滴加えた後、70℃で
4時間反応させた。これに4−(N,N−ジフェニルア
ミノ)ベンズアルデヒド100gを加え、70℃に温度
を上げ5時間反応させた。反応液を濾過し、濾液と沈澱
物のエーテル抽出液を一緒にし水洗した。ついで、エー
テル液を塩化カルシウムで脱水後、エーテルを除去し、
反応混合物を得た。これをエタノールから再結晶を行
い、針状、淡黄色のビニルトリフェニルアミンを得た。
収量83.4g(収率84.0%)。
(Synthesis of 4-vinyltriphenylamine)
Sodium hydride (14.6 g) and 1,2-dimethoxyethane (700 ml) were placed in a three-necked flask, and trimethylphosphonium bromide (130.8 g) was added with stirring at room temperature. Next, one drop of absolute ethanol was added, and the mixture was reacted at 70 ° C. for 4 hours. 4- (N, N-diphenylamino) benzaldehyde 100g was added to this, the temperature was raised to 70 degreeC, and it was made to react for 5 hours. The reaction solution was filtered, and the filtrate and the ether extract of the precipitate were combined and washed with water. Then, the ether solution was dehydrated with calcium chloride and then the ether was removed,
A reaction mixture was obtained. This was recrystallized from ethanol to obtain acicular, pale yellow vinyltriphenylamine.
Yield 83.4 g (84.0% yield).

【0040】(4−ビニルトリフェニルアミンのヒドロ
シリル化)トルエン40ml、トリエトキシシラン9.9
g(60mmol)及びトリス(テトラメチルジビニルジシ
ロキサン)二白金(O)のトルエン溶液0.018mmol
を三つ口フラスコに取り、室温で撹拌しながら4−ビニ
ルトリフェニルアミン8.2gのトルエン溶液20mlを
滴下した。滴下終了後、70℃で3時間撹拌を行った
後、溶媒を減圧下で除き、淡黄色油状の4−〔2−(ト
リエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンを得
た。収量12.1g(収率91.7%)。
(Hydrosilylation of 4-vinyltriphenylamine) Toluene 40 ml, triethoxysilane 9.9
0.018 mmol of a toluene solution of g (60 mmol) and tris (tetramethyldivinyldisiloxane) diplatinum (O)
Into a three-necked flask, 20 ml of a toluene solution of 8.2 g of 4-vinyltriphenylamine was added dropwise while stirring at room temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred at 70 ° C. for 3 hours, and then the solvent was removed under reduced pressure to obtain pale yellow oily 4- [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine. Yield 12.1 g (91.7% yield).

【0041】(合成例2) (4,4′,4″−トリス〔2−(トリエトキシシリ
ル)エチル〕トリフェニルアミンの合成) (トリ(4−ホルミルフェニル)アミンの合成)三つ口
フラスコにトリフェニルアミン50.7gとDMF5
3.3mlを入れ、氷水冷却下、撹拌しながらオキシ塩化
リン126.6mlを滴下した。滴下終了後、混合溶液を
95℃で5時間反応させ、5Lの温水へ注ぎ1時間撹拌
した。その後、沈殿物をロ取し、エタノール/水(1:
1)の混合溶液で洗浄し、トリ(4−ホルミルフェニ
ル)アミンを得た。収量65.3g(収率95.9
%)。
(Synthesis Example 2) (Synthesis of 4,4 ', 4 "-tris [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine) (Synthesis of tri (4-formylphenyl) amine) Three-necked flask 50.7 g of triphenylamine and DMF5
3.3 ml was added, and 126.6 ml of phosphorus oxychloride was added dropwise while cooling with ice water. After the dropwise addition was completed, the mixed solution was reacted at 95 ° C. for 5 hours, poured into 5 L of warm water, and stirred for 1 hour. Then, the precipitate was collected by filtration, and ethanol / water (1:
It was washed with the mixed solution of 1) to obtain tri (4-formylphenyl) amine. Yield 65.3 g (yield 95.9
%).

【0042】(トリ(4−ビニルフェニル)アミンの合
成)水素化ナトリウム14.6g、1,2−ジメトキシ
エタン700mlを三つ口フラスコに取り、室温で撹拌し
ながらトリメチルホスフォニウムブロマイド130.8
gを加えた。次に無水エタノールを一滴加えた後、70
℃で4時間反応させた。以上のようにして得られた反応
混合液にトリ(4−ホルミルフェニル)アミン40.2
gを加え、70℃で5時間反応させた後、ロ別し、ロ取
したケーキをエーテル抽出しロ液と一緒にした後、水洗
した。ついで、エーテル液を塩化カルシウムで脱水後、
エーテルを除去し、反応混合物を得た。これをエタノー
ルで再結晶二回行い、針状、淡黄色のトリ(4−ビニル
フェニル)アミンを得た。収量38.4g(収率97.
3%)。
(Synthesis of tri (4-vinylphenyl) amine) Sodium hydride (14.6 g) and 1,2-dimethoxyethane (700 ml) were placed in a three-neck flask, and trimethylphosphonium bromide (130.8) was stirred at room temperature.
g was added. Then add a drop of absolute ethanol and then 70
The reaction was performed at 4 ° C. for 4 hours. Tri (4-formylphenyl) amine 40.2 was added to the reaction mixture obtained as described above.
g was added, and the mixture was reacted at 70 ° C. for 5 hours, separated by filtration, and the filtered cake was extracted with ether, combined with the filtrate, and washed with water. Then, after dehydrating the ether solution with calcium chloride,
The ether was removed to give a reaction mixture. This was recrystallized twice with ethanol to obtain needle-shaped, pale yellow tri (4-vinylphenyl) amine. Yield 38.4 g (yield 97.
3%).

【0043】(トリ(4−ビニルフェニル)アミンのヒ
ドロシリル化)トルエン40ml、トリエトキシシラン
9.9g(60mmol)及びトリス(テトラメチルジビニ
ルジシロキサン)二白金(O)のトルエン溶液0.01
8mmolを三つ口フラスコに取り、室温で撹拌しながらト
リ(4−ビニルフェニル)アミン3.3g(13mmol)
のトルエン溶液20mlを滴下した。滴下終了後、70℃
で3時間撹拌を行った後、溶媒を減圧下で除去し、淡黄
色油状の4,4′,4″−〔2−(トリエトキシシリ
ル)エチル〕トリフェニルアミンを得た。収量7.8g
(収率80.6%)。
(Hydrosilylation of tri (4-vinylphenyl) amine) Toluene 40 ml, triethoxysilane 9.9 g (60 mmol) and tris (tetramethyldivinyldisiloxane) diplatinum (O) in toluene solution 0.01
8 mmol was placed in a three-necked flask, and 3.3 g (13 mmol) of tri (4-vinylphenyl) amine was stirred at room temperature.
20 ml of a toluene solution of was added dropwise. After dropping, 70 ° C
After stirring for 3 hours, the solvent was removed under reduced pressure to obtain pale yellow oily 4,4 ', 4 "-[2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine. Yield 7.8 g.
(Yield 80.6%).

【0044】(実施例1)フラスコに、合成例1で合成
した4−{2−(トリエトキシシリル)エチル}トリフ
ェニルアミン7.9g(18ミリモル)、メチルトリメ
トキシシラン81g、フェニルトリメトキシシラン20
gとテトラブチルチタネート0.15gを入れ撹拌しな
がら、メタノール20gと水10gの混合液を滴下し
た。滴下終了後さらに、2時間混合させた。次いで、揮
発性の溶媒を減圧下で除去して、式: (QC2 4 SiO3/2)a (CH3 SiO3/2)b (C6
5 SiO3/2)c −(O 1/2 R)d (但し、Qはパラ−ジフェニルアミノ−フェニル基であ
り、Rはメチル基またはエチル基であり、a:b:c:
dの比は、およそ0.2:1:1.9:2である。)で
示されるポリシロキサン樹脂(S)を得た。ポリシロキ
サン樹脂(S)10gにトルエン5gとテトラヒドロフ
ラン5gを加えて溶解し、これをガラス板にバーコート
を用いて塗布し、140℃で15時間乾燥硬化させた。
顕微鏡で観察したところ、均一フィルムが形成されたこ
とが判明した。
(Example 1) Synthesis in a flask according to Synthesis Example 1
4- {2- (triethoxysilyl) ethyl} trif
7.9 g (18 mmol) of phenylamine, methyl trime
81 g of toxysilane, 20 of phenyltrimethoxysilane
g and tetrabutyl titanate 0.15 g
Then, a mixed solution of 20 g of methanol and 10 g of water was dropped.
Was. After the dropping was completed, the mixture was further mixed for 2 hours. Then,
The volatile solvent was removed under reduced pressure to give the formula: (QCTwoHFourSiO3/2)a(CHThreeSiO3/2)b(C6
HFiveSiO3/2)c− (O 1/2R)d (However, Q is a para-diphenylamino-phenyl group.
R is a methyl group or an ethyl group, and a: b: c:
The ratio of d is approximately 0.2: 1: 1.9: 2. )so
The polysiloxane resin (S) shown was obtained. Polysiloki
Sun resin (S) 10 g, toluene 5 g and tetrahydrof
Add 5 g of orchid to dissolve it, and bar coat it on a glass plate.
Was applied and dried and cured at 140 ° C. for 15 hours.
When observed under a microscope, it was confirmed that a uniform film had been formed.
It turned out.

【0045】(正孔輸送能試験) (1)5cm×5cmのアルミ板を洗浄後、実施例1の溶液
をキャストし、溶媒を除去し乾燥させた。これを140
℃で15時間加熱させて硬化し、厚さ12μmのフィル
ムをアルミ板上に形成させた。該フィルムの表面に1kV
でコロナ帯電させた。一方アルミ板側から直流電源(T
R6120・アドバンテスト株式会社製)を用いて1kV
のプラス電荷を注入した。該フィルム表面上の電位を表
面電位計(TREK142000)で測定したところ表
面電荷は中和され600Vに減少した。 (2)上記(1)と同様な方法で実施例1の溶液を用い
てITOガラス上にフィルムを形成させた。更に、該フ
ィルム上に対向電極として金を蒸着させた。金電極側か
ら337nmのN2 レーザーを照射し、Time−of−
Flight(TOF)法で正孔のドリフト移動度を測
定した。外挿した移動度は室温で7×10-8cm2 /Vsで
あった。
(Hole Transportability Test) (1) After washing an aluminum plate of 5 cm × 5 cm, the solution of Example 1 was cast, the solvent was removed and the product was dried. 140 this
The film was heated at 0 ° C. for 15 hours to be cured, and a film having a thickness of 12 μm was formed on an aluminum plate. 1kV on the surface of the film
It was charged with corona. On the other hand, DC power supply (T
R6120, manufactured by Advantest Corporation) 1kV
Injected positive charge. When the potential on the film surface was measured with a surface potential meter (TREK142000), the surface charge was neutralized and decreased to 600V. (2) A film was formed on the ITO glass by using the solution of Example 1 in the same manner as in the above (1). Further, gold was vapor-deposited on the film as a counter electrode. Irradiate a 337 nm N 2 laser from the gold electrode side, and time-of-
The drift mobility of holes was measured by the Flight (TOF) method. The extrapolated mobility was 7 × 10 −8 cm 2 / Vs at room temperature.

【0046】(実施例2)フラスコに、トルエン40
g、合成例1で合成した4−{2−(トリエトキシシリ
ル)エチル}トリフェニルアミン7.9g(18ミリモ
ル)とメチルシルセスキオキサン(メチルトリメトキシ
シランの部分加水分解縮合物、但し、メトキシ基を33
wt%含有する)60g、メタノール10g、水6gとを
混合しながら、2時間加熱還流させた。次いで、揮発性
の溶媒を減圧下で除去して、式: (QC2 4 SiO3/2)x (CH3 SiO3/2)y (O
1/2 R)z (但し、Qはパラ−ジフェニルアミノ−フェニル基であ
り、Rはメチル基またはエチル基であり、x:y:zの
比は、およそ0.2:7:2である。)で示されるポリ
シロキサン樹脂(T)を得た。ポリシロキサン樹脂
(T)10gをトルエン10gに溶解し、これをガラス
板にバーコートを用いて塗布し、140℃で15時間乾
燥した。顕微鏡で観察したところ、均一フィルムが形成
されたことが判明した。
Example 2 Toluene 40 was added to a flask.
g, 4- {2- (triethoxysilyl) ethyl} triphenylamine synthesized in Synthesis Example 1 (7.9 g (18 mmol)) and methylsilsesquioxane (a partial hydrolyzed condensate of methyltrimethoxysilane, 33 methoxy groups
The mixture was heated to reflux for 2 hours while mixing 60 g (containing wt%), 10 g of methanol, and 6 g of water. The volatile solvent is then removed under reduced pressure to give the formula: (QC 2 H 4 SiO 3/2 ) x (CH 3 SiO 3/2 ) y (O
1/2 R) z (wherein Q is a para-diphenylamino-phenyl group, R is a methyl group or an ethyl group, and the ratio of x: y: z is approximately 0.2: 7: 2. .) To obtain a polysiloxane resin (T). 10 g of the polysiloxane resin (T) was dissolved in 10 g of toluene, and this was coated on a glass plate using a bar coat and dried at 140 ° C. for 15 hours. Observation under a microscope revealed that a uniform film had been formed.

【0047】(実施例3)フラスコに、トルエン40
g、合成例1で合成した4−{2−(トリエトキシシリ
ル)エチル}トリフェニルアミン13gと、メチルシリ
コーンレジンオリゴマ−〔メチルシロキシ単位(MeS
iO3/2 ):ジメチルシロキシ単位(Me2Si
2/2 ):SiO2 単位の比が、80:15:5であ
り、メトキシ基を25wt%含有する〕45g、メタノー
ル10g、水2gとを混合しながら50℃で2時間加熱
し、式: (QC2 4 SiO3/2)a (MeSiO3/2)b (Me2
SiO2/2)c (SiO 2)d (O1/2 R)e (但し、Qはパラ−ジフェニルアミノ−フェニル基であ
り、Meはメチル基であり、Rはメチル基または水素原
子であり、a:b:c:d:eの比は、およそ0.0
6:0.8:0.15:0.05:0.3である。)で
示されるポリシロキサン樹脂(U)溶液を得た。ポリシ
ロキサン樹脂(U)溶液10gを、ガラス板にバーコー
トを用いて塗布し、110℃で5時間乾燥した。顕微鏡
で観察したところ、均一なフィルムが形成されたことが
判明した。
Example 3 Toluene 40 was added to a flask.
g, 4- {2- (triethoxysilyl) synthesized in Synthesis Example 1
13 g of ethyl) triphenylamine and methylsilyl
Corn Resin Oligomer-Methylsiloxy Unit (MeS
iO3/2): Dimethylsiloxy unit (MeTwoSi
O2/2): SiOTwoThe unit ratio is 80: 15: 5
Containing 25 wt% of methoxy group] 45 g, methanol
Heating at 50 ° C for 2 hours while mixing 10g of water and 2g of water
And the formula: (QCTwoHFourSiO3/2)a(MeSiO3/2)b(MeTwo
SiO2/2)c(SiO Two)d(O1/2R)e (However, Q is a para-diphenylamino-phenyl group.
, Me is a methyl group, R is a methyl group or hydrogen source
Child, and the ratio of a: b: c: d: e is about 0.0.
The ratio is 6: 0.8: 0.15: 0.05: 0.3. )so
The polysiloxane resin (U) solution shown was obtained. policy
Add 10 g of the Roxaxane resin (U) solution to a glass plate using Barco
And was dried at 110 ° C. for 5 hours. microscope
As a result, it was confirmed that a uniform film was formed.
found.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 秀樹 千葉県市原市千種海岸2番2 東レ・ダウ コーニング・シリコーン株式会社研究開発 本部内 (72)発明者 正富 亨 千葉県市原市千種海岸2番2 東レ・ダウ コーニング・シリコーン株式会社研究開発 本部内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Hideki Kobayashi 2-2 Chikusaigan, Ichihara-shi, Chiba Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd. Research & Development Division (72) Toru Masatomi 2nd Chikusaigan, Ichihara-shi, Chiba 2 Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記第1成分と第2成分とを有機溶媒中
で共加水分解縮合することを特徴とするポリシロキサン
系正孔輸送材料の製造方法。 第1成分:加水分解縮合により1価の炭化水素基のケイ
素原子に対する比が0.5〜1.5であるポリシロキサ
ン樹脂を与えることのできるケイ素化合物(但し、同ケ
イ素化合物は次の,,及びの中から選ばれる1
種以上のものである。 R3 SiZ R2 SiZ21 SiZ3 SiZ4 ここでRは1価の炭化水素基、Zは加水分解性基であ
る。)及び/又はその部分加水分解縮合生成物。 第2成分:下記式(1)で示される正孔輸送性有機ケイ
素化合物 A−〔R1 SiR2 3-n n p (1) (ここに、Aは複数の芳香族基を有する芳香族置換3級
アミンであって、イオン化ポテンシャルが4.5〜6.
2eVである正孔輸送性化合物から誘導された有機基を表
し、R1 は炭素数1〜18のアルキレン基、R2 はハロ
ゲンを有することのある炭素数1〜15の1価の炭化水
素基、Qは加水分解性基、nは1〜3の整数、pは1〜
3の整数である。)
1. A method for producing a polysiloxane-based hole transport material, comprising co-hydrolyzing and condensing the following first component and second component in an organic solvent. First component: a silicon compound capable of giving a polysiloxane resin having a ratio of monovalent hydrocarbon groups to silicon atoms of 0.5 to 1.5 by hydrolysis condensation (provided that the silicon compound is 1 selected from and
More than a seed. R 3 SiZ R 2 SiZ 2 R 1 SiZ 3 SiZ 4 Here, R is a monovalent hydrocarbon group and Z is a hydrolyzable group. ) And / or a partial hydrolysis condensation product thereof. Second component: a hole-transporting organosilicon compound represented by the following formula (1) A- [R 1 SiR 2 3-n Q n ] p (1) (where A is a fragrance having a plurality of aromatic groups) Group III-substituted tertiary amines having an ionization potential of 4.5-6.
2 eV represents an organic group derived from a hole transporting compound, R 1 is an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, and R 2 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms which may have halogen. , Q is a hydrolyzable group, n is an integer of 1 to 3, p is 1 to
It is an integer of 3. )
【請求項2】 前記ポリシロキサン系正孔輸送材料の製
造方法において、一般式(1)で示される正孔輸送性有
機ケイ素化合物の加水分解性基がアルコキシ基である請
求項1記載のポリシロキサン系正孔輸送材料の製造方
法。
2. The polysiloxane according to claim 1, wherein the hydrolyzable group of the hole-transporting organosilicon compound represented by the general formula (1) is an alkoxy group in the method for producing a polysiloxane-based hole-transporting material. Method of manufacturing a hole transporting material.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US6372398B1 (en) 2000-04-18 2002-04-16 Fuji Xerox Co., Ltd. Electronic device, manufacturing method of electronic device, electrophotographic photoreceptor, and process cartridge

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