JPH09180623A - Cathode for electronic tube - Google Patents
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- JPH09180623A JPH09180623A JP34196395A JP34196395A JPH09180623A JP H09180623 A JPH09180623 A JP H09180623A JP 34196395 A JP34196395 A JP 34196395A JP 34196395 A JP34196395 A JP 34196395A JP H09180623 A JPH09180623 A JP H09180623A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、ブラウン管等に
使用される電子管用陰極、特に動作中のカットオフ電圧
の変動を抑制する構造に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cathode for an electron tube used in a cathode ray tube or the like, and more particularly to a structure for suppressing fluctuation of cutoff voltage during operation.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図７は、特開平３−２５７７３５号公報
に開示されたテレビジョン受像機用ブラウン管に用いら
れている従来の陰極を示す図である。図において、１は
シリコン（Ｓｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）等の還元性元
素を微量含有し、ニッケル（Ｎｉ）を主成分とする一端
が閉塞された帽状の基体金属で、その側壁部が略円筒状
を呈したスリーブ４の一端に溶接固定されている。２は
電子放射物質層であり、この電子放射物質層２は少なく
ともバリウム（Ｂａ）を含み、他にストロンチュウム
（Ｓｒ）およびカルシウム（Ｃａ）を含む三元のアルカ
リ土類金属酸化物２１の中に酸化スカンジュウム等の希
土類金属酸化物２２を分散した構成である。３は、上記
スリーブ４内に配設されたヒータで、このヒータ３を加
熱することによって基体金属１が加熱され、電子放射物
質層２から熱電子を放出させるものである。５は基体金
属１上に形成された、基体金属中に含有されている還元
性元素より還元性が小さく、且つ基体金属１の主成分で
あるニッケルより還元性が大きい金属からなる金属層で
あり、この金属層５上面に電子放射物質層２が被覆形成
されている。2. Description of the Related Art FIG. 7 is a diagram showing a conventional cathode used in a cathode ray tube for a television receiver disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-257735. In the figure, reference numeral 1 is a cap-shaped base metal containing a small amount of reducing elements such as silicon (Si) and magnesium (Mg) and having nickel (Ni) as a main component with one end closed, and the side wall portion thereof is substantially It is welded and fixed to one end of a sleeve 4 having a cylindrical shape. Reference numeral 2 denotes an electron emitting material layer, which contains at least barium (Ba), and ternary alkaline earth metal oxide 21 containing strontium (Sr) and calcium (Ca). It has a structure in which a rare earth metal oxide 22 such as scandium oxide is dispersed. Reference numeral 3 denotes a heater arranged in the sleeve 4, and by heating the heater 3, the base metal 1 is heated, and thermoelectrons are emitted from the electron emitting material layer 2. Reference numeral 5 denotes a metal layer formed on the base metal 1 and made of a metal having a lower reducibility than the reducing element contained in the base metal and a higher reducibility than nickel which is the main component of the base metal 1. The electron emitting material layer 2 is formed on the upper surface of the metal layer 5 by coating.
【０００３】次に、このよう構成された電子管用陰極の
製造方法について説明する。まず、基体金属１の表面に
金属層５となるタングステンを０. ２〜２ｕｍの厚さで
形成する。次に電子放射物質層２を被着形成する。この
被着形成の手順は、まず、バリウム、ストロンチウム、
カルシウムの三元炭酸塩と所定量の酸化スカンジュウム
をニトロセルロースからなるバインダーおよび酢酸ブチ
ルからなる有機溶剤と共に混合して懸濁液を作製し、こ
の懸濁液を基体金属１の頂部に形成された金属層５の上
にスプレイ法等で塗布することにより形成される。電子
放射物質層２が塗布された後、この陰極は電子銃に組み
込まれ、次に、ブラウン管の排気工程中にヒータ３によ
って加熱される。この際、三元炭酸塩は熱分解によりア
ルカリ土類金属酸化物２１に変化する。排気工程の後、
さらに高温加熱され活性化が行われる。この際、アルカ
リ土類金属酸化物２１の一部が還元されて電子放射物質
層２が半導体的性質を有するように活性化を行うことに
より、基体金属１上にアルカリ土類金属酸化物２１と希
土類金属酸化物２２との混合物からなる電子放射物質層
２が形成される。Next, a method of manufacturing the thus constructed cathode for an electron tube will be described. First, tungsten, which will be the metal layer 5, is formed on the surface of the base metal 1 to a thickness of 0.2 to 2 μm. Next, the electron emitting material layer 2 is deposited. The procedure for this deposition is as follows: barium, strontium,
A ternary carbonate of calcium and a predetermined amount of scandium oxide were mixed with a binder made of nitrocellulose and an organic solvent made of butyl acetate to prepare a suspension, which was formed on the top of the base metal 1. It is formed by coating the metal layer 5 by a spray method or the like. After the electron emissive material layer 2 has been applied, this cathode is incorporated into the electron gun and then heated by the heater 3 during the evacuation process of the cathode ray tube. At this time, the ternary carbonate is converted to the alkaline earth metal oxide 21 by thermal decomposition. After the exhaust process
Further, it is heated at a high temperature and activated. At this time, a part of the alkaline earth metal oxide 21 is reduced so that the electron emitting material layer 2 is activated so as to have a semiconductor property. The electron emitting material layer 2 made of a mixture with the rare earth metal oxide 22 is formed.
【０００４】この活性化工程において、アルカリ土類金
属酸化物２１の一部は次のように反応する。すなわち、
基体金属１中に含有されたシリコン、マグネシウム等の
還元性元素は拡散によって金属層５と電子放射物質層２
との界面に移動し、アルカリ土類金属酸化物２１と反応
する。例えば、アルカリ土類金属酸化物２１として酸化
バリウム（ＢａＯ）を例にすると、次式１、２のように
反応するものである。 ４ＢａＯ＋Ｓｉ＝２Ｂａ＋Ｂａ2 ＳｉＯ4 ・・・（１） ＢａＯ＋Ｍｇ＝Ｂａ＋ＭｇＯ ・・・（２） この反応の結果、金属層５上に被着形成されたアルカリ
土類金属酸化物２１である酸化バリウム（ＢａＯ）の一
部が還元されて、酸素欠乏型の半導体となり、電子放射
が容易となる。また、アルカリ土類金属酸化物２１は、
金属層５の成分であるタングステンとは次式３のように
反応し、同様に酸素欠乏型の半導体となる。 ２ＢａＯ＋１／３Ｗ＝Ｂａ＋１／３Ｂａ3 ＷＯ6 ・・・（３）In this activation step, part of the alkaline earth metal oxide 21 reacts as follows. That is,
The reducing elements such as silicon and magnesium contained in the base metal 1 are diffused to the metal layer 5 and the electron emitting material layer 2.
It moves to the interface with and reacts with the alkaline earth metal oxide 21. For example, when barium oxide (BaO) is taken as an example of the alkaline earth metal oxide 21, it reacts as in the following equations 1 and 2. 4BaO + Si = 2Ba + Ba 2 SiO 4 (1) BaO + Mg = Ba + MgO (2) As a result of this reaction, barium oxide (BaO), which is the alkaline earth metal oxide 21 deposited on the metal layer 5. Is partially reduced to an oxygen-deficient semiconductor, which facilitates electron emission. Further, the alkaline earth metal oxide 21 is
Tungsten, which is a component of the metal layer 5, reacts as shown in the following expression 3 to similarly become an oxygen-deficient semiconductor. 2BaO + ／ W = Ba + ／ Ba 3 WO 6 (3)
【０００５】一般に、酸化物陰極の場合、上述した反応
時に生成される副生成物で中間層と呼ばれるバリウムシ
リケイト（Ｂａ2 ＳｉＯ4 ）、酸化マグネシウム（Ｍｇ
Ｏ）やバリウムタングステート（Ｂａ3 ＷＯ6 ）が金属
層５と電子放射物質層２との界面に集中的に形成される
ため、この中間層の影響によりマグネシウム、シリコン
およびタングステンの拡散速度が抑制され、その結果過
剰Ｂａの供給不足が生じ、高電流密度動作を制限する。
一方、電子放射物質層２に希土類金属酸化物２２が含有
される場合は、酸化スカンジュウムの場合を例にとる
と、陰極動作時の金属層５と電子放射物質層２との界面
では基体金属１中および金属層５を拡散移動してきた還
元剤の一部と酸化スカンジュウムとが次式４のように反
応して少量の金属状のスカンジュウムが生成され、この
金属状のスカンジュウムは上記界面に存在する。 １／２Ｓｃ2 Ｏ3 ＋３／２Ｍｇ＝Ｓｃ＋３／２ＭｇＯ ・・・（４）In general, in the case of an oxide cathode, barium silicate (Ba 2 SiO 4 ), which is a by-product generated during the above-mentioned reaction and is called an intermediate layer, and magnesium oxide (Mg)
O) and barium tungstate (Ba 3 WO 6 ) are concentratedly formed at the interface between the metal layer 5 and the electron emitting material layer 2, and the diffusion rate of magnesium, silicon and tungsten is suppressed by the influence of this intermediate layer. As a result, insufficient supply of excess Ba occurs, limiting high current density operation.
On the other hand, when the rare earth metal oxide 22 is contained in the electron emitting material layer 2, taking the case of scandium oxide as an example, the base metal 1 is formed at the interface between the metal layer 5 and the electron emitting material layer 2 during cathode operation. A part of the reducing agent that has diffused and moved in the inside and the metal layer 5 reacts with scandium oxide as shown in the following formula 4 to generate a small amount of metallic scandium, and this metallic scandium exists at the interface. . 1 / 2Sc 2 O 3 + 3 / 2Mg = Sc + 3 / 2MgO (4)
【０００６】この金属状のスカンジュウムは金属層５上
に形成された中間層、例えばＢａ2ＳｉＯ4 を次式５の
ように分解する作用を有するので、過剰Ｂａの供給が改
善され、希土類金属酸化物２２が含まれない場合よりも
高電流密度動作が可能となると考えられる。このよう
に、基体金属１上に金属層５を形成した電子管用陰極
は、遊離バリウムの生成が豊富で高電流密度動作が可能
であるという長所がある。 １／２Ｂａ2 ＳｉＯ4 ＋４／３Ｓｃ＝Ｂａ＋１／２Ｓｉ＋２／３Ｓｃ2 Ｏ3 ・・・（５）This metallic scandium has a function of decomposing the intermediate layer formed on the metal layer 5, for example, Ba 2 SiO 4 as shown in the following formula 5, so that the supply of excess Ba is improved and the rare earth metal oxide is oxidized. It is considered that a higher current density operation can be performed than when the object 22 is not included. As described above, the cathode for an electron tube in which the metal layer 5 is formed on the base metal 1 has an advantage that free barium is abundantly generated and a high current density operation is possible. 1 / 2Ba 2 SiO 4 + 4 / 3Sc = Ba + 1 / 2Si + 2 / 3Sc 2 O 3 (5)
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】上記のように構成され
た従来の電子管用陰極では、ニッケルからなる基体金属
１上に形成されたタングステンからなる金属層５が、動
作中に徐々に基体金属１の表面から内部に拡散し、ニッ
ケルとタングステンとの金属間化合物が形成される。従
って、表面から順に、純タングステン層、ニッケルとタ
ングステンとの金属間化合物層、ニッケル金属層の三層
構造となる。特に、基体金属１の表面近傍に形成される
ニッケルとタングステンとの金属間化合物層は、他の層
に比較して密度が小さいため、片面に集中した熱応力に
より基体金属１が変形すると推定される。このため、長
時間の動作中に第１グリッドと陰極表面の間隔が変動し
てしまい、カットオフ電圧が変動し、画面の明るさが徐
々に変動したり、あるいはカラーブラウン管の場合、色
調が変動する等の問題を有していた。In the conventional cathode for an electron tube configured as described above, the metal layer 5 made of tungsten formed on the base metal 1 made of nickel is gradually formed during operation. Diffuses from the surface to the inside to form an intermetallic compound of nickel and tungsten. Therefore, a three-layer structure of a pure tungsten layer, an intermetallic compound layer of nickel and tungsten, and a nickel metal layer is formed in this order from the surface. In particular, since the intermetallic compound layer of nickel and tungsten formed near the surface of the base metal 1 has a lower density than other layers, it is estimated that the base metal 1 is deformed by the thermal stress concentrated on one surface. It For this reason, the interval between the first grid and the cathode surface fluctuates during long-time operation, the cutoff voltage fluctuates, and the screen brightness gradually fluctuates, or in the case of a color cathode ray tube, the color tone fluctuates. There was a problem such as doing.
【０００８】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、長時間の動作時における基体
金属１の熱応力による変形を防止し、カットオフ電圧の
変動を抑制することにより、高輝度、高精細ブラウン管
への適用が可能な電子管用陰極を得ることを目的とす
る。The present invention has been made to solve the above problems, and prevents deformation of the base metal 1 due to thermal stress during long-time operation and suppresses variation in cutoff voltage. Therefore, it is an object of the present invention to obtain a cathode for an electron tube which can be applied to a high-luminance and high-definition CRT.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】この発明に係わる電子管
用陰極は、ニッケルを主成分とし、少なくとも一種の還
元剤を含有する基体金属と、この基体金属の表面および
裏面に形成され、基体金属に含有される還元剤の少なく
とも一種より還元性が小さいかあるいは同等であり、且
つニッケルよりも還元性が大きい金属よりなる金属部材
と、この金属部材上に被着形成され、少なくともバリウ
ムを含むアルカリ土類金属酸化物と希土類金属酸化物を
含有する電子放射物質層を備えたものである。A cathode for an electron tube according to the present invention comprises a base metal containing nickel as a main component and containing at least one reducing agent, and a base metal formed on the front and back surfaces of the base metal. A metal member made of a metal having a reducibility lower than or equal to that of at least one reducing agent contained therein and having a reducibility higher than nickel, and an alkaline earth containing at least barium deposited and formed on the metal member. It is provided with an electron emitting material layer containing a group oxide of a metal and a rare earth metal oxide.
【００１０】また、基体金属の表面および裏面に形成さ
れた金属部材を、共に金属層としたものである。また、
基体金属の表面および裏面に形成された金属部材を、共
に金属粉末層としたものである。また、基体金属の表面
に形成された金属部材を金属層とし、裏面に形成された
金属部材を金属粉末層としたものである。また、基体金
属の表面に形成された金属部材を金属粉末層とし、裏面
に形成された金属部材を金属層としたものである。さら
に、金属層または金属粉末層は、タングステン（Ｗ）、
モリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）またはタンタル
（Ｔａ）等の金属よりなるものである。Further, the metal members formed on the front and back surfaces of the base metal are both metal layers. Also,
The metal members formed on the front and back surfaces of the base metal are both metal powder layers. Further, the metal member formed on the front surface of the base metal is a metal layer, and the metal member formed on the back surface is a metal powder layer. Further, the metal member formed on the front surface of the base metal is a metal powder layer, and the metal member formed on the back surface is a metal layer. Further, the metal layer or the metal powder layer is made of tungsten (W),
It is made of a metal such as molybdenum (Mo), chromium (Cr) or tantalum (Ta).
【００１１】[0011]
実施の形態１．図１は、本発明の実施の形態１である電
子管用陰極を示す拡大断面図である。図において、１は
シリコン（Ｓｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）等の還元性元
素を微量含有し、ニッケル（Ｎｉ）を主成分とする一端
が閉塞された帽状の金属基体で、略円筒状のスリーブ４
の一端に固定されている。２は、電子放射物質層であ
り、この電子放射物質層２は、少なくともバリウム（Ｂ
ａ）を含み、他にストロンチュウム（Ｓｒ）およびカル
シュウム（Ｃａ）の両方あるいは片方を含むアルカリ土
類金属酸化物２１の中に酸化スカンジュウム等の希土類
金属酸化物２２を分散した構成である。５ａは、基体金
属１と電子放射物質層２との間に被着形成されたタング
ステンからなる金属層、５ｂは基体金属１のもう一方の
片面に被着形成されたタングステンからなる金属層であ
る。Embodiment 1 FIG. 1 is an enlarged sectional view showing a cathode for an electron tube which is Embodiment 1 of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a cap-shaped metal base body containing a small amount of a reducing element such as silicon (Si) or magnesium (Mg) and having nickel (Ni) as a main component with one end closed, and a substantially cylindrical sleeve. Four
Is fixed to one end. 2 is an electron emitting material layer, and this electron emitting material layer 2 is at least barium (B
It is a structure in which a rare earth metal oxide 22 such as scandium oxide is dispersed in an alkaline earth metal oxide 21 containing a) and additionally containing strontium (Sr) and / or calcium (Ca). Reference numeral 5a is a metal layer made of tungsten deposited between the base metal 1 and the electron emitting material layer 2, and 5b is a metal layer made of tungsten deposited on the other surface of the base metal 1. .
【００１２】次に、このように構成された電子管用陰極
の製造法の一例について説明する。まず、基体金属１を
洗浄後、真空中で基体金属１の表面にタングステンから
なる厚さ１ｕｍの金属層５ａを蒸着またはスパッタリン
グなどの方法で形成する。次いで、基体金属１の裏側か
ら同様にタングステンからなる１ｕｍの金属層５ｂを、
蒸着またはスパッタリング等の方法で形成する。次に、
ニクロム製のスリーブ４に溶接を行った後、水素雰囲気
中で約１０００℃の熱処理を行う。次に、希土類金属酸
化物である酸化スカンジュウムをアルカリ土類金属酸化
物に重量比で約３％分散した電子放射物質層２をスプレ
イ法によって約８０ｕｍの厚さで基体金属１の外側に形
成された金属層５ａ上に塗布する。Next, an example of a method of manufacturing the cathode for an electron tube having the above structure will be described. First, after cleaning the base metal 1, the metal layer 5a made of tungsten and having a thickness of 1 μm is formed on the surface of the base metal 1 in vacuum by a method such as vapor deposition or sputtering. Next, a 1 um metal layer 5b made of tungsten is also formed from the back side of the base metal 1.
It is formed by a method such as vapor deposition or sputtering. next,
After welding the sleeve 4 made of nichrome, heat treatment is performed at about 1000 ° C. in a hydrogen atmosphere. Next, an electron emission material layer 2 in which scandium oxide, which is a rare earth metal oxide, is dispersed in an alkaline earth metal oxide in a weight ratio of about 3% is formed on the outside of the base metal 1 by a spray method to a thickness of about 80 um. It is applied on the metal layer 5a.
【００１３】電子放射物質層２が塗布された後、この陰
極は電子銃に組み込まれ、次にブラウン管の排気工程中
にヒータ３によって加熱される。この際、電子放射物質
層２中の三元炭酸塩が熱分解によりアルカリ土類金属酸
化物２１に変化する。排気工程の後、さらに高温加熱さ
れ活性化が行われる。この際、アルカリ土類金属酸化物
２１の一部が還元されて電子放射物質層２が半導体的性
質を有するようになり、金属層５ａ上にアルカリ土類金
属酸化物２１と希土類金属酸化物２２との混合物からな
る電子放射物質層２が形成させる。After the electron emissive material layer 2 has been applied, this cathode is incorporated into the electron gun and then heated by the heater 3 during the cathode ray tube evacuation process. At this time, the ternary carbonate in the electron emitting material layer 2 is changed into the alkaline earth metal oxide 21 by thermal decomposition. After the evacuation step, high temperature heating is performed and activation is performed. At this time, a part of the alkaline earth metal oxide 21 is reduced so that the electron emitting material layer 2 has a semiconductor property, and the alkaline earth metal oxide 21 and the rare earth metal oxide 22 are provided on the metal layer 5a. The electron emitting material layer 2 made of a mixture of
【００１４】この活性化工程において、アルカリ土類金
属酸化物２１の一部は次のように反応する。すなわち、
基体金属１中に含有されたシリコン、マグネシウム等の
還元性元素は拡散によって金属層５ａと電子放射物質層
２との界面に移動し、アルカリ土類金属酸化物２１と反
応する。例えば、アルカリ土類金属酸化物２１として酸
化バリウム（ＢａＯ）を例にとると、次式１、２のよう
に反応するものである。 ４ＢａＯ＋Ｓｉ＝２Ｂａ＋Ｂａ2 ＳｉＯ4 ・・・（１） ＢａＯ＋Ｍｇ＝Ｂａ＋ＭｇＯ ・・・（２）In this activation step, a part of the alkaline earth metal oxide 21 reacts as follows. That is,
Reducing elements such as silicon and magnesium contained in the base metal 1 move to the interface between the metal layer 5a and the electron emitting material layer 2 by diffusion and react with the alkaline earth metal oxide 21. For example, when barium oxide (BaO) is taken as an example of the alkaline earth metal oxide 21, it reacts as in the following equations 1 and 2. 4BaO + Si = 2Ba + Ba 2 SiO 4 (1) BaO + Mg = Ba + MgO (2)
【００１５】この反応の結果、金属層５ａ上に被着形成
されたアルカリ土類金属酸化物２１である酸化バリウム
（ＢａＯ）の一部が還元されて、酸素欠乏型の半導体と
なり、電子放射が容易となる。また、アルカリ土類金属
酸化物２１は、金属層５ａの成分であるタングステンと
は次式３のように反応し、同様に酸素欠乏型の半導体と
なる。 ２ＢａＯ＋１／３Ｗ＝Ｂａ＋１／３Ｂａ3 ＷＯ6 ・・・（３）As a result of this reaction, a part of barium oxide (BaO), which is the alkaline earth metal oxide 21 deposited on the metal layer 5a, is reduced to become an oxygen-deficient semiconductor, and electron emission occurs. It will be easy. Further, the alkaline earth metal oxide 21 reacts with tungsten, which is a component of the metal layer 5a, as shown in the following Expression 3, and similarly becomes an oxygen-deficient semiconductor. 2BaO + ／ W = Ba + ／ Ba 3 WO 6 (3)
【００１６】一般に、酸化物陰極の場合、上述した反応
時に生成される副生成物で中間層と呼ばれるバリウムシ
リケイト（Ｂａ2 ＳｉＯ4 ）、酸化マグネシウム（Ｍｇ
Ｏ）やバリウムタングステート（Ｂａ3 ＷＯ6 ）が金属
層５ａと電子放射物質層２との界面に集中的に形成され
るため、この中間層の影響によりマグネシウム、シリコ
ンおよびタングステンの拡散速度が抑制され、その結果
過剰Ｂａの供給不足が生じ、高電流密度動作を制限す
る。一方、電子放射物質層２に希土類金属酸化物２２が
含有される場合は、酸化スカンジュウムの場合を例にと
ると、陰極動作時の金属層５ａと電子放射物質層２との
界面では基体金属１中および金属層５ａを拡散移動して
きた還元剤の一部と酸化スカンジュウムとが次式４のよ
うに反応して少量の金属状のスカンジュウムが生成さ
れ、金属状のスカンジュウムは上記界面に存在する。 １／２Ｓｃ2 Ｏ3 ＋３／２Ｍｇ＝Ｓｃ＋３／２ＭｇＯ ・・・（４）Generally, in the case of an oxide cathode, it is a by-product produced during the above-mentioned reaction and is called barium silicate (Ba 2 SiO 4 ), magnesium oxide (Mg).
O) and barium tungstate (Ba 3 WO 6 ) are intensively formed at the interface between the metal layer 5a and the electron emitting material layer 2, and the diffusion rate of magnesium, silicon and tungsten is suppressed by the influence of this intermediate layer. As a result, insufficient supply of excess Ba occurs, limiting high current density operation. On the other hand, when the rare earth metal oxide 22 is contained in the electron emitting material layer 2, taking the case of scandium oxide as an example, at the interface between the metal layer 5a and the electron emitting material layer 2 during cathode operation, the base metal 1 A part of the reducing agent that has diffused and moved in the inside and the metal layer 5a reacts with scandium oxide as shown in the following formula 4 to generate a small amount of metallic scandium, and the metallic scandium exists at the interface. 1 / 2Sc 2 O 3 + 3 / 2Mg = Sc + 3 / 2MgO (4)
【００１７】この金属状のスカンジュウムは金属層５ａ
上に形成された中間層、例えばＢａ2 ＳｉＯ4 を次式５
のように分解する作用を有するので、過剰Ｂａの供給が
改善され、希土類金属酸化物２２が含まれない場合より
も高電流密度動作が可能であると考えられる。 １／２Ｂａ2 ＳｉＯ4 ＋４／３Ｓｃ＝Ｂａ＋１／２Ｓｉ＋２／３Ｓｃ2 Ｏ3 ・・・（５）This metallic scandium is the metallic layer 5a.
An intermediate layer formed on the upper layer, for example, Ba 2 SiO 4 is expressed by the following formula 5
As described above, it is considered that the supply of excess Ba is improved and a higher current density operation is possible as compared with the case where the rare earth metal oxide 22 is not included. 1 / 2Ba 2 SiO 4 + 4 / 3Sc = Ba + 1 / 2Si + 2 / 3Sc 2 O 3 (5)
【００１８】本実施の形態における電子管用陰極では、
ニッケルからなる基体金属１の両面に形成されたタング
ステンからなる金属層５ａ、５ｂが、動作中に徐々に金
属基体１の表面および裏面から内部に拡散し、ニッケル
とタングステンとの金属間化合物が形成される。従っ
て、表面および裏面から順に、純タングステン層、ニッ
ケルとタングステンとの金属間化合物層、ニッケル金属
層の三層構造となる。特に、基体金属１の表面（裏面）
近傍に形成されるニッケルとタングステンとの金属間化
合物層は、他の層に比較して密度が小さく、従来の片面
にのみ金属層５を形成した構造では、片面に集中した熱
応力により基体金属１が変形するという問題があった
が、本実施の形態によれば、基体金属１の両面に金属層
５ａ、５ｂを設けたため、金属間化合物が基体金属１の
両面に形成され、基体金属１の両面に均等に熱応力が加
わり、基体金属１の変形が防止される。In the cathode for electron tube according to the present embodiment,
The metal layers 5a, 5b made of tungsten formed on both surfaces of the base metal 1 made of nickel gradually diffuse into the inside from the front surface and the back surface of the metal base 1 during operation to form an intermetallic compound of nickel and tungsten. To be done. Therefore, a three-layer structure of a pure tungsten layer, an intermetallic compound layer of nickel and tungsten, and a nickel metal layer is formed in this order from the front surface and the back surface. Especially, the front surface (back surface) of the base metal 1
The intermetallic compound layer of nickel and tungsten formed in the vicinity has a lower density than other layers, and in the conventional structure in which the metal layer 5 is formed only on one side, the base metal is concentrated by thermal stress concentrated on one side. However, according to the present embodiment, since the metal layers 5a and 5b are provided on both sides of the base metal 1, the intermetallic compound is formed on both sides of the base metal 1, so that the base metal 1 can be deformed. Thermal stress is evenly applied to both surfaces of the base metal 1 and the base metal 1 is prevented from being deformed.
【００１９】図２は、このように構成された電子管用陰
極をブラウン管用の電子銃に組み込み、第一グリッドの
孔径が０. ４mmの１４吋のディスプレイ用ブラウン管で
寿命試験を実施した結果を示す図である。寿命試験条件
としてはヒータ電圧を定格６. ３Ｖとし、２. ５時間Ｏ
Ｎ、０. ５時間ＯＦＦの間欠条件とし、また陰極からの
取り出し電流密度は２Ａ／cm2 とした。図２において、
横軸は寿命試験時間、縦軸はカットオフ電圧を示し初期
値を１００とした相対値で示している。図２より、本実
施の形態の電子管用電極は、従来の構成のものと比較し
てカットオフ電圧の変化が少なく、カットオフ電圧の変
動が著しく改善されていることがわかる。FIG. 2 shows the result of a life test carried out on a 14-inch display CRT having a first grid hole diameter of 0.4 mm, in which the cathode for an electron tube having the above-described structure is incorporated in an electron gun for a CRT. It is a figure. As a life test condition, the heater voltage is rated at 6.3 V, and 2.5 hours O
An intermittent condition of OFF for 0.5 hour was set for N, and the current density taken out from the cathode was 2 A / cm 2 . In FIG.
The horizontal axis represents the life test time, and the vertical axis represents the cutoff voltage, which is shown as a relative value with the initial value being 100. It can be seen from FIG. 2 that the electron tube electrode of the present embodiment has a smaller change in cutoff voltage and a significantly improved cutoff voltage variation as compared with the conventional structure.
【００２０】このように、本実施の形態によれば、希土
類金属酸化物を含む電子放射物質層２と基体金属１の間
に金属層５ａを形成したので、過剰Ｂａの生成が促進さ
れ、高電流密度動作が可能になるとともに、基体金属１
の裏面にも金属層５ｂを形成したので、長時間の動作中
において基体金属１の両面に均等な熱応力が加えられ、
熱応力による基体金属１の変形が防止され、カットオフ
電圧の変動を抑制することができる。このため、長時間
の動作時の画面の明るさの変動や、あるいはカラーブラ
ウン管の場合色調の変動が防止でき、高輝度、高精細ブ
ラウン管への適用が可能な電子管用陰極を得ることがで
きる。As described above, according to the present embodiment, since the metal layer 5a is formed between the electron emitting material layer 2 containing a rare earth metal oxide and the base metal 1, the generation of excess Ba is promoted and the high Ba content is increased. Current density operation becomes possible and base metal 1
Since the metal layer 5b is also formed on the back surface of the base metal 1, uniform thermal stress is applied to both surfaces of the base metal 1 during long-time operation,
Deformation of the base metal 1 due to thermal stress can be prevented, and fluctuations in the cutoff voltage can be suppressed. Therefore, it is possible to obtain a cathode for an electron tube which can prevent a change in screen brightness during long-term operation or a change in color tone in the case of a color cathode ray tube and can be applied to a high brightness and high definition cathode ray tube.
【００２１】実施の形態２．図３は、本発明の実施の形
態２である電子管用陰極を示す拡大断面図である。図に
おいて、６ａは、基体金属１上に被着形成された金属粉
末層、６ｂは基体金属１のもう一方の片面に被着形成さ
れた金属粉末層である。なお、図中同一、相当部分には
同一符号を付し、説明を省略する。Embodiment 2 FIG. FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a cathode for an electron tube which is Embodiment 2 of the present invention. In the figure, 6a is a metal powder layer deposited on the base metal 1, and 6b is a metal powder layer deposited on the other side of the base metal 1. Note that the same or corresponding parts in the drawings are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【００２２】次に、このように構成された電子管用陰極
の製造法の一例について説明する。まず、基体金属１を
スリーブ４に溶接後、洗浄を行い、次いで基体金属１の
表面に粒径が０. ５ｕｍないし１. ０ｕｍのタングステ
ン粉末をスプレイによって被着し、厚さ１ｕｍないし３
ｕｍの金属粉末層６ａを形成する。この被着形成の手順
は、まず、タングステン粉末をバインダである硝化綿と
有機溶剤である酢酸ブチル溶液と混合し、２４時間ボー
ルミルを行う。次に通常のスプレイ方法によって約２ｕ
ｍの厚さになるように基体金属１上に塗布する。次い
で、基体金属１の裏側から同様にタングステン粉末によ
り約２ｕｍの厚さの金属粉末層６ｂを形成する。この場
合はスプレイ法でもよく、または一定量のタングステン
粉末と溶媒とからなるペーストをスリーブ４の内部に注
入して被着形成させることもできる。次に、水素雰囲気
中で約１０００°Ｃの熱処理を行う。Next, an example of a method of manufacturing the electron tube cathode thus constructed will be described. First, the base metal 1 is welded to the sleeve 4 and then washed, and then the surface of the base metal 1 is coated with a tungsten powder having a grain size of 0.5 μm to 1.0 μm by spraying to a thickness of 1 μm to 3 μm.
The um metal powder layer 6a is formed. In the procedure for forming the deposit, first, tungsten powder is mixed with nitrified cotton as a binder and a butyl acetate solution as an organic solvent, and a ball mill is performed for 24 hours. Then about 2u by normal spray method
It is coated on the base metal 1 so as to have a thickness of m. Next, a metal powder layer 6b having a thickness of about 2 μm is similarly formed from the back side of the base metal 1 with tungsten powder. In this case, a spray method may be used, or a paste composed of a certain amount of tungsten powder and a solvent may be injected into the inside of the sleeve 4 to form a deposit. Next, heat treatment is performed at about 1000 ° C. in a hydrogen atmosphere.
【００２３】次に、希土類金属酸化物である酸化スカン
ジュウムをアルカリ土類金属酸化物に重量比で約３％分
散した電子放射物質層２をスプレイ法によって約８０ｕ
ｍの厚さで基体金属１の外側に形成された金属粉末層６
ａ上に塗布する。電子放射物質層２が塗布された後、こ
の陰極は電子銃に組み込まれ、次にブラウン管の排気工
程中にヒータ３によって加熱される。この際、電子放射
物質層２中の三元炭酸塩は熱分解によりアルカリ土類金
属酸化物２１に変化する。排気工程の後、さらに高温加
熱され活性化が行われる。この際、アルカリ土類金属酸
化物２１の一部が還元されて電子放射物質層２が半導体
的性質を有するようになり、金属粉末層６ａ上にアルカ
リ土類金属酸化物２１と希土類金属酸化物２２との混合
物からなる電子放射物質層２が形成される。この活性化
工程において、本実施の形態に示す電子管用陰極におい
ても、前述の実施の形態１で示した式１ないし式５のよ
うな反応が行われる。Next, the electron emitting material layer 2 in which scandium oxide, which is a rare earth metal oxide, is dispersed in an alkaline earth metal oxide in a weight ratio of about 3%, is sprayed to about 80 u.
a metal powder layer 6 formed on the outside of the base metal 1 with a thickness of m
Apply on a. After the electron emissive material layer 2 has been applied, this cathode is incorporated into the electron gun and then heated by the heater 3 during the evacuation process of the cathode ray tube. At this time, the ternary carbonate in the electron emitting material layer 2 is converted into the alkaline earth metal oxide 21 by thermal decomposition. After the evacuation step, high temperature heating is performed and activation is performed. At this time, a part of the alkaline earth metal oxide 21 is reduced so that the electron emitting material layer 2 has a semiconductor property, and the alkaline earth metal oxide 21 and the rare earth metal oxide are formed on the metal powder layer 6a. The electron-emitting material layer 2 made of a mixture with 22 is formed. In this activation step, the reactions of the formulas 1 to 5 shown in the first embodiment are also performed in the electron tube cathode shown in the present embodiment.
【００２４】本実施の形態による電子管用陰極において
は、タングステンからなる金属粉末層６ａ、６ｂが動作
中に徐々にニッケルからなる金属基体１の表面および裏
面から内部に拡散することにより形成されるニッケルと
タングステンとの金属間化合物が、基体金属１の両面に
形成されるため、長時間の動作中において基体金属１の
両面に均等に熱応力が加わり、基体金属１の変形が防止
される。In the cathode for an electron tube according to the present embodiment, nickel formed by the metal powder layers 6a, 6b made of tungsten gradually diffusing into the inside from the front and back surfaces of the metal base 1 made of nickel during operation. Since the intermetallic compound of tungsten and tungsten is formed on both sides of the base metal 1, thermal stress is evenly applied to both sides of the base metal 1 during long-time operation, and deformation of the base metal 1 is prevented.
【００２５】図４は、このように構成された電子管用陰
極をブラウン管用の電子銃に組み込み、第一グリッドの
孔径が０. ４mmの１４吋のディスプレイ用ブラウン管で
寿命試験を実施した結果を示す図である。寿命試験条件
としてはヒータ電圧を定格６. ３Ｖとし、２. ５時間Ｏ
Ｎ、０. ５時間ＯＦＦの間欠条件とし、また陰極からの
取り出し電流密度は２Ａ／cm2 とした。図４において、
横軸は寿命試験時間、縦軸はカットオフ電圧を示し初期
値を１００とした相対値で示している。図４より、本実
施の形態の電子管用電極においても、実施の形態１と同
様に、従来の構成のものと比較してカットオフ電圧の変
化が少なく、カットオフ電圧の変動が著しく改善されて
いることがわかる。FIG. 4 shows the results of carrying out a life test on a cathode ray tube for a cathode ray tube having the above-described structure in an electron gun for a cathode ray tube and performing a life test on a cathode ray tube for a 14-inch display having a first grid hole diameter of 0.4 mm. It is a figure. As a life test condition, the heater voltage is rated at 6.3 V, and 2.5 hours O
An intermittent condition of OFF for 0.5 hour was set for N, and the current density taken out from the cathode was 2 A / cm 2 . In FIG.
The horizontal axis represents the life test time, and the vertical axis represents the cutoff voltage, which is shown as a relative value with the initial value being 100. As can be seen from FIG. 4, in the electron tube electrode of the present embodiment as well as in the first embodiment, the change in the cutoff voltage is small and the change in the cutoff voltage is remarkably improved as compared with the conventional structure. You can see that
【００２６】このように、本実施の形態によれば、希土
類金属酸化物を含む電子放射物質層２と基体金属１の間
に金属粉末層６ａを形成したので、過剰Ｂａの生成が促
進され高電流密度動作が可能になるとともに、基体金属
１の裏面にも金属粉末層６ｂを形成したので、長時間の
動作中において基体金属１の両面に均等な熱応力が加え
られ、熱応力による基体金属１の変形が防止され、カッ
トオフ電圧の変動を抑制することができる。このため、
長時間の動作時の画面の明るさの変動や、あるいはカラ
ーブラウン管の場合色調の変動が防止でき、高輝度、高
精細ブラウン管への適用が可能な電子管用陰極を得るこ
とができる。As described above, according to the present embodiment, since the metal powder layer 6a is formed between the electron-emitting material layer 2 containing a rare earth metal oxide and the base metal 1, the generation of excess Ba is promoted and the amount of excess Ba is increased. Since the current density operation becomes possible and the metal powder layer 6b is formed on the back surface of the base metal 1, uniform thermal stress is applied to both surfaces of the base metal 1 during a long-time operation, and the base metal 1 is caused by the thermal stress. The deformation of No. 1 can be prevented, and the fluctuation of the cutoff voltage can be suppressed. For this reason,
It is possible to obtain a cathode for an electron tube which can prevent a change in screen brightness during long-term operation or a change in color tone in the case of a color cathode ray tube and can be applied to a high brightness and high definition cathode ray tube.
【００２７】実施の形態３．図５は、本発明の実施の形
態３である電子管用陰極を示す拡大断面図である。図に
おいて、５は、基体金属１と電子放射物質層２との間に
被着形成された金属層である。６は基体金属１のもう一
方の片面に被着形成された金属粉末層である。なお、図
中同一または相当部分には同一符号を付し、説明を省略
する。Embodiment 3 FIG. 5 is an enlarged sectional view showing a cathode for an electron tube which is Embodiment 3 of the present invention. In the figure, 5 is a metal layer deposited between the base metal 1 and the electron emitting material layer 2. Reference numeral 6 is a metal powder layer deposited and formed on the other surface of the base metal 1. In the drawings, the same or corresponding parts are designated by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【００２８】次に、このように構成された電子管用陰極
の製造法の一例について説明する。まず、基体金属１を
スリーブ４に溶接後、洗浄を行い、次いで真空中で基体
金属１の表面にタングステンよりなる厚さ１ｕｍの金属
層５を蒸着またはスパッタリング法により形成する。次
いで基体金属１の裏面に粒径が０. ５ｕｍないし１．０
ｕｍのタングステン粉末をスプレイによって被着し、厚
さ１ｕｍないし３ｕｍの金属粉末層６を形成する。この
被着形成の手順は、まず、タングステン粉末をバインダ
である硝化綿と有機溶剤である酢酸ブチル溶液と混合
し、２４時間ボールミルを行う。次に通常のスプレイ方
法によって約２ｕｍの厚さになるように基体金属１の裏
側に塗布する。この塗布は、スプレイ法以外に例えば一
定量のタングステン粉末と溶媒とからなるペーストをス
リーブ４の内部に注入して被着形成させることもでき
る。次に、水素雰囲気中で約１０００℃の熱処理を行
う。その後は、実施の形態１、２と同様に電子放射物質
層２をスプレイ法によって基体金属１の外側に形成され
た金属層５上に塗布後、電子銃に組み込み、次にブラウ
ン管の排気工程中にヒータ３によって加熱され、さらに
高温加熱により活性化が行われる。この活性化工程にお
いて、本実施の形態に示す電子管用陰極においても、前
述の実施の形態１で示した式１ないし式５のような反応
が行われる。Next, an example of a method of manufacturing the electron tube cathode thus constructed will be described. First, after the base metal 1 is welded to the sleeve 4, cleaning is performed, and then a metal layer 5 made of tungsten and having a thickness of 1 μm is formed on the surface of the base metal 1 in vacuum by vapor deposition or sputtering. Then, on the back surface of the base metal 1, the grain size is 0.5 μm to 1.0 μm.
A um tungsten powder is applied by spraying to form a metal powder layer 6 having a thickness of 1 um to 3 um. In the procedure for forming the deposit, first, tungsten powder is mixed with nitrified cotton as a binder and a butyl acetate solution as an organic solvent, and a ball mill is performed for 24 hours. Next, the back side of the base metal 1 is coated by a conventional spraying method so as to have a thickness of about 2 μm. In addition to the spray method, this coating may be performed by injecting a paste containing a certain amount of tungsten powder and a solvent into the inside of the sleeve 4 to form a coating. Next, heat treatment is performed at about 1000 ° C. in a hydrogen atmosphere. After that, as in the first and second embodiments, the electron emitting material layer 2 is applied on the metal layer 5 formed on the outer side of the base metal 1 by the spray method, and then incorporated into an electron gun, and then during the cathode ray tube exhausting step. Is heated by the heater 3 and further activated by high temperature heating. In this activation step, the reactions of the formulas 1 to 5 shown in the first embodiment are also performed in the electron tube cathode shown in the present embodiment.
【００２９】本実施の形態による電子管用陰極において
は、タングステンからなる金属層５および金属粉末層６
が動作中に徐々にニッケルからなる金属基体１の表面お
よび裏面から内部に拡散することにより形成されるニッ
ケルとタングステンとの金属間化合物が、基体金属１の
両面に形成されるため、長時間の動作中において基体金
属１の両面に均等に熱応力が加わり、基体金属１の変形
が防止される。In the cathode for an electron tube according to this embodiment, the metal layer 5 and the metal powder layer 6 made of tungsten are included.
During operation, an intermetallic compound of nickel and tungsten, which is formed by gradually diffusing from the front surface and the back surface of the metal base 1 made of nickel, is formed on both surfaces of the base metal 1, so that During operation, thermal stress is evenly applied to both surfaces of the base metal 1, and deformation of the base metal 1 is prevented.
【００３０】図６は、このように構成された電子管用陰
極をブラウン管用の電子銃に組み込み、第一グリッドの
孔径が０. ４mmの１４吋のディスプレイ用ブラウン管で
寿命試験を実施した結果を示す図である。寿命試験条件
としてはヒータ電圧を定格６. ３Ｖとし、２. ５時間Ｏ
Ｎ、０. ５時間ＯＦＦの間欠条件とし、また陰極からの
取り出し電流密度は２Ａ／cm2 とした。図６において、
横軸は寿命試験時間、縦軸はカットオフ電圧を示し初期
値を１００とした相対値で示している。図６より、本実
施の形態の電子管用電極においても、実施の形態１およ
び２と同様に、従来の構成のものと比較してカットオフ
電圧の変化が少なく、カットオフ電圧の変動が著しく改
善されていることがわかる。FIG. 6 shows the results of carrying out a life test on a cathode ray tube for a cathode ray tube having the above-described structure in an electron gun for a cathode ray tube and performing a life test on a 14 inch display cathode ray tube having a hole diameter of the first grid of 0.4 mm. It is a figure. As a life test condition, the heater voltage is rated at 6.3 V, and 2.5 hours O
An intermittent condition of OFF for 0.5 hour was set for N, and the current density taken out from the cathode was 2 A / cm 2 . In FIG.
The horizontal axis represents the life test time, and the vertical axis represents the cutoff voltage, which is shown as a relative value with the initial value being 100. As shown in FIG. 6, in the electron tube electrode of the present embodiment as well as in the first and second embodiments, the change in the cutoff voltage is smaller than that in the conventional structure, and the variation in the cutoff voltage is remarkably improved. You can see that it is done.
【００３１】このように、本実施の形態によれば、希土
類金属酸化物を含む電子放射物質層２と基体金属１の間
に金属層５を形成したので、過剰Ｂａの生成が促進さ
れ、高電流密度動作が可能になるとともに、基体金属１
の裏面にも金属粉末層６を形成したので、長時間の動作
中において基体金属１の両面に均等な熱応力が加えら
れ、熱応力による基体金属１の変形が防止され、カット
オフ電圧の変動を抑制することができる。このため、長
時間の動作時の画面の明るさの変動や、あるいはカラー
ブラウン管の場合色調の変動が防止でき、高輝度、高精
細ブラウン管への適用が可能な電子管用陰極を得ること
ができる。As described above, according to the present embodiment, since the metal layer 5 is formed between the electron emitting material layer 2 containing a rare earth metal oxide and the base metal 1, the production of excess Ba is promoted and the high Ba content is increased. Current density operation becomes possible and base metal 1
Since the metal powder layer 6 is also formed on the back surface of the base metal 1, uniform thermal stress is applied to both surfaces of the base metal 1 during long-time operation, deformation of the base metal 1 due to thermal stress is prevented, and variation in cutoff voltage is caused. Can be suppressed. Therefore, it is possible to obtain a cathode for an electron tube which can prevent a change in screen brightness during long-term operation or a change in color tone in the case of a color cathode ray tube and can be applied to a high brightness and high definition cathode ray tube.
【００３２】なお、本実施の形態では、電子放射物質層
２と基体金属１の間に金属層５を、基体金属１の裏面に
金属粉末層６を形成したが、電子放射物質層２と基体金
属１の間に金属粉末層、基体金属１の裏面に金属層の組
み合わせでも同様の効果が得られる。In this embodiment, the metal layer 5 is formed between the electron emitting material layer 2 and the base metal 1, and the metal powder layer 6 is formed on the back surface of the base metal 1. The same effect can be obtained by combining a metal powder layer between the metals 1 and a metal layer on the back surface of the base metal 1.
【００３３】また、実施の形態１ないし３においては、
主成分がニッケルからなる基体金属中にシリコン（Ｓ
ｉ）およびマグネシウム（Ｍｇ）の還元性金属を微量含
むものを用いたが、シリコンあるいはマグネシウムの少
なくともどちらか一種のみの場合であっても同様の効果
が得られる。さらに、基体金属中の還元剤よりも還元性
が小さいかあるいは同等であり、且つ基体金属のニッケ
ルよりも還元性が大きい金属層あるいは金属粉末層とし
てタングステン（Ｗ）の場合を例として示したが、タン
グステンに限らず、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔ
ａ）、クロム（Ｃｒ）等の金属であっても同様の効果を
奏する。Further, in the first to third embodiments,
Silicon (S
Although i) and a material containing a trace amount of reducing metal such as magnesium (Mg) are used, the same effect can be obtained even when at least one of silicon and magnesium is used. Furthermore, although the case where tungsten (W) is used as the metal layer or the metal powder layer having a reducing property lower than or equal to that of the reducing agent in the base metal and having a reducing property higher than that of the base metal nickel has been shown as an example. , Tungsten, molybdenum (Mo), tantalum (T
The same effect can be obtained even with metals such as a) and chromium (Cr).
【図１】 この発明の実施の形態１である電子管用陰極
を示す拡大断面図である。FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view showing a cathode for an electron tube which is Embodiment 1 of the present invention.
【図２】 この発明の実施の形態１である電子管用陰極
の寿命試験中におけるカットオフ電圧の変動率を示す図
である。FIG. 2 is a diagram showing a variation rate of a cutoff voltage during a life test of the cathode for an electron tube according to the first embodiment of the present invention.
【図３】 この発明の実施の形態２である電子管用陰極
を示す拡大断面図である。FIG. 3 is an enlarged sectional view showing a cathode for an electron tube which is Embodiment 2 of the present invention.
【図４】 この発明の実施の形態２である電子管用陰極
の寿命試験中におけるカットオフ電圧の変動率を示す図
である。FIG. 4 is a diagram showing a variation rate of a cutoff voltage during a life test of a cathode for an electron tube which is Embodiment 2 of the present invention.
【図５】 この発明の実施の形態３である電子管用陰極
を示す拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing a cathode for an electron tube which is Embodiment 3 of the present invention.
【図６】 この発明の実施の形態３である電子管用陰極
の寿命試験中におけるカットオフ電圧の変動率を示す図
である。FIG. 6 is a diagram showing a variation rate of a cutoff voltage during a life test of a cathode for an electron tube which is Embodiment 3 of the present invention.
【図７】 従来の電子管用陰極を示す拡大断面図であ
る。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing a conventional cathode for an electron tube.
１ 基体金属、２ 電子放射物質層、３ ヒータ、４
スリーブ、５、５ａ、５ｂ 金属層、６、６ａ、６ｂ
金属粉末層、２１ アルカリ土類金属酸化物、２２ 希
土類金属酸化物。1 base metal, 2 electron emitting material layer, 3 heater, 4
Sleeve, 5, 5a, 5b Metal layer, 6, 6a, 6b
Metal powder layer, 21 alkaline earth metal oxides, 22 rare earth metal oxides.
フロントページの続き (72)発明者 斉藤 正人 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 大平 卓也 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 寺本 浩行 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内Front page continued (72) Masato Saito, Masato Saito 2-3-3 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Sanryo Electric Co., Ltd. (72) Takuya Ohira 2-3-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Sanryo Electric Co., Ltd. In-house (72) Inventor Hiroyuki Teramoto 2-3-3 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Sanryo Electric Co., Ltd.
Claims (6)
の還元剤を含有する基体金属、 この基体金属の表面および裏面に形成された、上記還元
剤の少なくとも一種より還元性が小さいかあるいは同等
であり、且つニッケルよりも還元性が大きい金属よりな
る金属部材、 この金属部材上に被着形成され、少なくともバリウムを
含むアルカリ土類金属酸化物と希土類金属酸化物を含有
する電子放射物質層を備えたことを特徴とする電子管用
陰極。1. A base metal containing nickel as a main component and containing at least one reducing agent, and having a reducing property lower than or equal to that of at least one of the reducing agents formed on the front and back surfaces of the base metal. A metal member made of a metal having a reducing property higher than that of nickel; and an electron emitting material layer deposited on the metal member and containing an alkaline earth metal oxide containing at least barium and a rare earth metal oxide. A cathode for an electron tube, which is characterized in that
金属部材は、共に金属層であることを特徴とする請求項
１記載の電子管用陰極。2. The cathode for an electron tube according to claim 1, wherein the metal members formed on the front surface and the back surface of the base metal are both metal layers.
金属部材は、共に金属粉末層であることを特徴とする請
求項１記載の電子管用陰極。3. The cathode for an electron tube according to claim 1, wherein the metal members formed on the front surface and the back surface of the base metal are both metal powder layers.
金属層であり、基体金属の裏面に形成された金属部材は
金属粉末層であることを特徴とする請求項１記載の電子
管用陰極。4. The cathode for an electron tube according to claim 1, wherein the metal member formed on the front surface of the base metal is a metal layer, and the metal member formed on the back surface of the base metal is a metal powder layer. .
金属粉末層であり、基体金属の裏面に形成された金属部
材は金属層であることを特徴とする請求項１記載の電子
管用陰極。5. The cathode for an electron tube according to claim 1, wherein the metal member formed on the front surface of the base metal is a metal powder layer, and the metal member formed on the back surface of the base metal is a metal layer. .
ブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）またはタンタル（Ｔ
ａ）等の金属よりなることを特徴とする請求項１〜請求
項５のいずれか一項に記載の電子管用陰極。6. The metal member is made of tungsten (W), molybdenum (Mo), chromium (Cr) or tantalum (T).
The cathode for an electron tube according to claim 1, wherein the cathode is made of a metal such as a).
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP34196395A JP2936460B2 (en) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | Cathode for electron tube |
| TW085112605A TW375753B (en) | 1995-12-27 | 1996-10-15 | Electron tube cathode |
| KR1019960058638A KR100257779B1 (en) | 1995-12-27 | 1996-11-28 | A cathode for an electron tube |
| CN96118574A CN1090802C (en) | 1995-12-27 | 1996-12-06 | Cathode for electron tube |
| NL1004830A NL1004830C2 (en) | 1995-12-27 | 1996-12-19 | Cathode for electron tube. |
| US08/771,916 US6091189A (en) | 1995-12-27 | 1996-12-23 | Cathode for an electron tube |
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Country Status (1)
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-
1995
- 1995-12-27 JP JP34196395A patent/JP2936460B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997049108A1 (en) * | 1996-06-20 | 1997-12-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Cathode for electronic tube |
| US6124666A (en) * | 1996-11-29 | 2000-09-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electron tube cathode |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2936460B2 (en) | 1999-08-23 |
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