JPH09180495A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

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JPH09180495A
JPH09180495A JP7341644A JP34164495A JPH09180495A JP H09180495 A JPH09180495 A JP H09180495A JP 7341644 A JP7341644 A JP 7341644A JP 34164495 A JP34164495 A JP 34164495A JP H09180495 A JPH09180495 A JP H09180495A
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JP
Japan
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signal
redundancy
input
address signal
column
Prior art date
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Pending
Application number
JP7341644A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaru Ota
賢 太田
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH09180495A publication Critical patent/JPH09180495A/en
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the reduction in operating speed and to suppress the expansion of a semiconductor element region. SOLUTION: A semiconductor storage has a row/column separation circuit 1, a light amplifier 2, a read amplifier 3, a logic circuit 4, a row decoder 5, a column decoder 6, a read/write selection circuit 7, and a cell array part 8. Then, when a colunm address signal 103 corresponding to a faulty memory cell included in the cell array part 8 is inputted in the column decoder 6, the column address is judged to be a faulty address and a column address signal 108 corresponding to a redundancy switch corresponding to the substituted address is outputted and is inputted to the cell array part 8. Also, in the column decoder 6, no precharge signal input is required from the logic circuit 4 as different from before.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の典型的な半導体記憶装置の構成が
図4のブロック図に示されており、また、当該半導体記
憶装置内部のメモリセル部の部分構成例が図6に示され
ている。図4に示されるように、当該半導体記憶装置
は、セルアレイ部8と、外部から入力されるアドレス信
号101を入力してロウアドレス信号102およびカラ
ムアドレス信号103に分離して出力するロウ/カラム
分離回路1と、ロウアドレス信号102を入力してデコ
ードし、ロウアドレスデコード信号107を出力してセ
ルアレイ部8に入力するロウデコーダ5と、プリチャー
ジ信号117の入力を介して、カラムアドレス信号10
3を入力してデコードし、置換されるべきカラムアドレ
スデコード信号108および正常なカラムアドレスデコ
ード信号109を出力して、セルアレイ部8に入力する
カラムデコーダ6と、セルアレイ部8に対するデータの
書込み/読出しを切替選択するリード/ライト選択回路
7と、外部から入力される書込み用のデータ信号110
を入力し、増幅して出力するライトアンプ2と、セルア
レイ部8よりリード/ライト選択回路7を介して出力さ
れる読出しデータを増幅してデータ信号111として外
部に出力するリードアンプ3と、所定の制御信号116
の入力を受けて、ロウ/カラム分離回路1、カラムデコ
ーダ6およびリート/ライト選択回路7に対して、それ
ぞれロウ/カラム分離信号104、プリチャージ信号1
17およびリード/ライト選択信号105を出力するロ
ジック回路4とを備えて構成される。
2. Description of the Related Art The structure of a typical conventional semiconductor memory device is shown in the block diagram of FIG. 4, and an example of partial structure of a memory cell portion inside the semiconductor memory device is shown in FIG. . As shown in FIG. 4, the semiconductor memory device includes a cell array section 8 and a row / column separation circuit that receives an address signal 101 input from the outside and outputs the row address signal 102 and a column address signal 103 separately. The column address signal 10 is input via the circuit 1, the row decoder 5 that inputs and decodes the row address signal 102, outputs the row address decode signal 107 and inputs the row address decode signal 107, and the precharge signal 117.
3 is input and decoded, the column address decode signal 108 to be replaced and the normal column address decode signal 109 are output, and is input to the cell array unit 8 and the column decoder 6 and writing / reading of data to / from the cell array unit 8 are performed. And a read / write selection circuit 7 for switching and selecting, and a data signal 110 for writing input from the outside
A write amplifier 2 which inputs, amplifies and outputs, a read amplifier 3 which amplifies read data output from the cell array section 8 via the read / write selection circuit 7 and outputs the data as a data signal 111 to the outside. Control signal 116
Input to the row / column separation circuit 1, the column decoder 6 and the read / write selection circuit 7, respectively.
17 and a logic circuit 4 which outputs a read / write selection signal 105.

【0003】なお、近年においては、セルアレイ部8の
記憶容量の規模拡大に伴ない、メモリセル数が増大し、
これに起因してメモリセルにおける欠陥発生確率も増大
する傾向にある。このようにメモリセルの欠陥を補完
し、セルアレイ部8における欠陥発生率を低減するため
の手法として、データの書き込み/読み出し時において
は、当該不良メモリセルのアドレスに対しては、他の正
常なメモリセルを置換することによりセルアレイ部8の
歩留りを向上させるという方法が採られている。上記の
従来例は、セルアレイ部8に対する当該リダンダンシ機
能として、カラムアドレスに対応する機能のみが付与さ
れている例であり、カラムデコーダ6より出力されるカ
ラムアドレスデコーダ信号108は、上記の代替えメモ
リセルが配置されるリダンダンシ専用のデジット線に対
して、リダンダンシYスイッチ入力として入力される信
号である。
Incidentally, in recent years, the number of memory cells has increased as the storage capacity of the cell array section 8 has increased,
Due to this, the probability of occurrence of defects in the memory cell tends to increase. As a method for complementing the defect of the memory cell and reducing the defect occurrence rate in the cell array section 8 as described above, at the time of writing / reading data, the address of the defective memory cell is not normally changed to another normal value. A method is adopted in which the yield of the cell array section 8 is improved by replacing the memory cells. The above-mentioned conventional example is an example in which only the function corresponding to the column address is added as the redundancy function to the cell array section 8, and the column address decoder signal 108 output from the column decoder 6 is the above-mentioned alternative memory cell. Is a signal input as a redundancy Y switch input to the redundancy dedicated digit line.

【0004】図4において、アドレス系の信号処理につ
いては、まず、外部より入力されるアドレス信号101
は、ロウ/カラム分離回路1において、ロジック回路4
より入力されるロウ/カラム分離信号104により制御
されて、ロウアドレス信号102およびカラムアドレス
信号103に分離されて出力され、それぞれ対応するロ
ウデコーダ5およびカラムデコーダ6に入力される。ロ
ウデコーダ5においては、当該ロウアドレス信号102
はデコードされて、ロウアドレスデコード信号107と
して出力され、セルアレイ部8の対応するワード線に入
力される。また、同様に、カラムデコーダ6において
は、ロジック回路4より出力されるプリチャージ信号1
17を介してカラムアドレス信号103がデコードさ
れ、上述のように、アドレスデコード信号108がリダ
ンダンシYスイッチ入力として出力されて、セルアレイ
部8の対応するリダンダンシ専用のデジット線に入力さ
れるとともに、カラムアドレスデコード信号109がY
スイッチ入力として出力されて、同じくセルアレイ部8
の対応するデジット線に入力される。
In FIG. 4, for address-related signal processing, first, an address signal 101 input from the outside
Is a logic circuit 4 in the row / column separation circuit 1.
It is controlled by the row / column separation signal 104 input by the input, separated into the row address signal 102 and the column address signal 103, output, and input to the corresponding row decoder 5 and column decoder 6, respectively. In the row decoder 5, the relevant row address signal 102
Are decoded, output as a row address decode signal 107, and input to the corresponding word line of the cell array section 8. Similarly, in the column decoder 6, the precharge signal 1 output from the logic circuit 4 is also output.
The column address signal 103 is decoded via 17 and, as described above, the address decode signal 108 is output as the redundancy Y switch input and is input to the corresponding redundancy-dedicated digit line of the cell array section 8 and the column address. Decode signal 109 is Y
It is output as a switch input, and the cell array unit 8 is also output.
Is input to the corresponding digit line of.

【0005】ここにおいて、図6のセルアレイ部6にお
ける部分回路図を参照して、カラムアドレスデコード信
号108および109の作用について説明する。図6に
おいて、ワード線118および119、データバス12
2、デジット線123、124および125の配置、な
らびにセンスアンプ活性化信号120および121の入
力に対応して、メモリセル27、センスアンプ28およ
びトランスファゲート29が配置されている。図6は、
説明の都合上、セルアレイ部8の1部分のみを示す図で
あり、実際には、セルアレイ部8の記憶容量に対応し
て、数多くのメモリセル、センスアンプ、トランスファ
ゲート、ワード線およびデジット線等が配置されてい
る。そして、図6においては、2ビットのカラムアドレ
スに対応するメモリセル27に対する2個のトランスフ
ァゲート29に入力されるリダンダンシYスイッチ入
力、および1ビットのカラムアドレスに対応するリダン
ダンシ用メモリセル27のトランスファゲート29に入
力されるリダンダンシYスイッチ入力の状態が示されて
いる。即ち、Yスイッチ入力に対応するデジット線12
3および124に対して、リダンダンシYスイッチ入力
に対応するデジット線125が設けられている。このデ
ジット線125は、他のデジット線に配置されているメ
モリセルに障害が生じた場合に活用されるリダンダンシ
専用のデジット線である。なお、図6においては、Yス
イッチ入力として、デジット線123および124に対
応する2つのYスイッチ入力が示されているが、図4に
おいては、これらのYスイッチ入力の内の1つのYスイ
ッチ入力のみがカラムアドレスデコード信号109とし
て示されており、他のYスイッチ入力としてのカラムア
ドレスデコード信号は省略されている。また、ワード線
118および119等には、前述のロウアドレスデコー
ド信号107が入力され、センスアンプ活性化信号12
0および121等は、ロジック回路4より入力される信
号であり、データバス122は、データ信号の入出力用
として用いられている。
The operation of column address decode signals 108 and 109 will now be described with reference to the partial circuit diagram of cell array portion 6 of FIG. In FIG. 6, word lines 118 and 119, data bus 12
2, memory cells 27, sense amplifiers 28 and transfer gates 29 are arranged corresponding to the arrangement of digit lines 123, 124 and 125 and the input of sense amplifier activation signals 120 and 121. FIG.
For convenience of explanation, it is a diagram showing only one part of the cell array portion 8. In reality, a large number of memory cells, sense amplifiers, transfer gates, word lines, digit lines, etc. are provided corresponding to the storage capacity of the cell array portion 8. Are arranged. In FIG. 6, the redundancy Y switch input to the two transfer gates 29 for the memory cell 27 corresponding to the 2-bit column address, and the transfer of the redundancy memory cell 27 corresponding to the 1-bit column address. The state of the redundancy Y switch input to the gate 29 is shown. That is, the digit line 12 corresponding to the Y switch input
For 3 and 124, a digit line 125 corresponding to the redundancy Y switch input is provided. The digit line 125 is a redundancy-dedicated digit line which is utilized when a memory cell arranged on another digit line fails. Although two Y switch inputs corresponding to the digit lines 123 and 124 are shown as Y switch inputs in FIG. 6, one Y switch input of these Y switch inputs is shown in FIG. Only the column address decode signal 109 is shown and the other column address decode signals as Y switch inputs are omitted. The row address decode signal 107 described above is input to the word lines 118 and 119 and the like, and the sense amplifier activation signal 12 is input.
0 and 121 are signals input from the logic circuit 4, and the data bus 122 is used for inputting / outputting data signals.

【0006】一般に、カラムデコーダ6より出力される
カラムアドレスデコード信号109は、上述のように、
セルアレイ部8の記憶容量に対応して形成されるメモリ
セルの配置数に対する複数ビットの信号であり、それぞ
れ各カラムに対応して配置される複数のトランスファゲ
ート29に入力される複数のYスイッチ入力信号として
形成されている。またカラムアドレスデコード信号10
8は、カラムアドレスに対応するリダンダンシ用のデジ
ット線125に配置されるトランスファゲート29に入
力されるリダンダンシYスイッチ入力信号として形成さ
れる。このYスイッチ入力および図6においては、1ビ
ットのカラムアドレスに対応するリダンダンシ用メモリ
セル27のトランスファゲート29に入力されるリダン
ダンシYスイッチ入力、および2ビットのカラムアドレ
スに対応するメモリセル27に対する2個のトランスフ
ァゲート29に入力されるリダンダンシYスイッチ入力
の状態が示されている。
In general, the column address decode signal 109 output from the column decoder 6 is as described above.
It is a signal of a plurality of bits corresponding to the number of arranged memory cells formed corresponding to the storage capacity of the cell array portion 8, and a plurality of Y switch inputs inputted to a plurality of transfer gates 29 arranged corresponding to respective columns. It is formed as a signal. In addition, the column address decode signal 10
Reference numeral 8 is formed as a redundancy Y switch input signal input to the transfer gate 29 arranged on the redundancy digit line 125 corresponding to the column address. In this Y switch input, and in FIG. 6, the redundancy Y switch input that is input to the transfer gate 29 of the redundancy memory cell 27 corresponding to the 1-bit column address, and 2 for the memory cell 27 that corresponds to the 2-bit column address. The state of the redundancy Y switch input to each transfer gate 29 is shown.

【0007】上述のカラムデコーダ6は、図2の本発明
において用いられているカラムデコーダ6の1実施形態
に準ずる構成となっており、カラムリダンダンシ回路9
と、リダンダンシYスイッチ活性化ブロック10と、カ
ラムプリデコーダ11と、カラムメインデコーダ12と
を備えて構成される。但し、本従来例におけるカラムデ
コーダ6においては、図4において説明したように、ロ
ジック回路4より出力されるプリチャージ信号117
が、当該カラムデコーダに入力されており、このプリチ
ャージ信号117は、図2に示されるカラムリダンダン
シ回路9に入力されているが、図2は、本発明における
実施形態を示す図であり、当該プリチャージ信号117
は記載されていない。また、カラムリダンダンシ回路9
は、その詳細内部構成例が図5に示されている。
The above-mentioned column decoder 6 has a structure according to one embodiment of the column decoder 6 used in the present invention of FIG. 2, and the column redundancy circuit 9 is provided.
, A redundancy Y switch activation block 10, a column predecoder 11 and a column main decoder 12. However, in the column decoder 6 in the conventional example, as described in FIG. 4, the precharge signal 117 output from the logic circuit 4 is used.
Is input to the column decoder, and the precharge signal 117 is input to the column redundancy circuit 9 shown in FIG. 2. FIG. 2 is a diagram showing an embodiment of the present invention. Precharge signal 117
Is not listed. In addition, the column redundancy circuit 9
FIG. 5 shows an example of its detailed internal configuration.

【0008】図5において、ロジック回路4より出力さ
れるプリチャージ信号117は、PMOSトランジスタ
20およびNMOSトランジスタ21により形成される
反転回路に入力され、その出力線上にレベル信号118
が出力される。当該反転回路の出力線には、それぞれリ
ダダンシヒューズ22−0、22−1、22−2、22
−3、22−4、22−5、22−6、22−7、22
−8および22−9と、それぞれのリダンダンシヒュー
ズに直列接続され、ドレインが接地されるNMOSトラ
ンジスタ23−0、23−1、23−2、23−3、2
3−4、23−5、23−6、23−7、23−8およ
び23−9が設けられおり、また、一方において、5ビ
ットのカラムアドレスy0 、y1 、y2 、y3 およびy
4 を含むカラムアドレス信号103が入力されて、カラ
ムアドレスy0 は、NMOSトランジスタ23−0のゲ
ートおよびインバータ24−1により反転されてNMO
Sトランジスタ23−0のゲートに入力され、カラムア
ドレスy1 は、NMOSトランジスタ23−2のゲート
およびインバータ24−2により反転されてNMOSト
ランジスタ23−3のゲートに入力され、カラムアドレ
スy2 は、NMOSトランジスタ23−4のゲートおよ
びインバータ24−3により反転されてNMOSトラン
ジスタ23−5のゲートに入力され、カラムアドレスy
3 は、NMOSトランジスタ23−6のゲートおよびイ
ンバータ24−4により反転されてNMOSトランジス
タ23−7のゲートに入力され、カラムアドレスy
4 は、NMOSトランジスタ23−8のゲートおよびイ
ンバータ24−5により反転されてNMOSトランジス
タ23−9のゲートに入力される。これらのカラムアド
レス信号入力に対応して、前記レベル信号118のレベ
ルが設定され、インバータ25および26を介してリダ
ンダンシ判定信号112として出力される。このリダン
ダンシ判定信号112は、リダンダンシYスイッチ活性
化ブロック10およびカラムプリデコーダ11に入力さ
れ、リダンダンシYスイッチ活性化ブロック10から
は、前述のリダンダンシ用のカラムアドレスデコード信
号108が出力され、またカラムプリデコーダ11より
出力されるカラムプリデコード信号113は、カラムメ
インデコーダ12を介してカラムアドレスデコード信号
108として出力されて、セルアレイ部8に入力され
る。なお、図5は、カラムアドレス信号103が5ビッ
トの信号である場合の1例であるが、動作説明上におい
ては、このように限定された例を用いても一般性が失わ
れることはない。
In FIG. 5, the precharge signal 117 output from the logic circuit 4 is input to the inverting circuit formed by the PMOS transistor 20 and the NMOS transistor 21, and the level signal 118 is output on its output line.
Is output. Redundancy fuses 22-0, 22-1, 22-2, 22 are connected to the output lines of the inverting circuit, respectively.
-3, 22-4, 22-5, 22-6, 22-7, 22
-8 and 22-9, and NMOS transistors 23-0, 23-1, 23-2, 23-3, 2 connected in series to the respective redundancy fuses and having their drains grounded.
3-4, 23-5, 23-6, 23-7, 23-8 and 23-9 are provided, and on the other hand, 5 bit column addresses y 0 , y 1 , y 2 , y 3 and y
The column address signal 103 including 4 is input, and the column address y 0 is inverted by the gate of the NMOS transistor 23-0 and the inverter 24-1 to obtain the NMO.
The column address y 1 is input to the gate of the S transistor 23-0, inverted by the gate of the NMOS transistor 23-2 and the inverter 24-2 and input to the gate of the NMOS transistor 23-3, and the column address y 2 is The column address y is inverted by the gate of the NMOS transistor 23-4 and the inverter 24-3 and input to the gate of the NMOS transistor 23-5.
3 is inverted by the gate of the NMOS transistor 23-6 and the inverter 24-4 and input to the gate of the NMOS transistor 23-7.
4 is inverted by the gate of the NMOS transistor 23-8 and the inverter 24-5 and input to the gate of the NMOS transistor 23-9. The level of the level signal 118 is set corresponding to the input of these column address signals, and is output as the redundancy determination signal 112 via the inverters 25 and 26. The redundancy determination signal 112 is input to the redundancy Y switch activation block 10 and the column predecoder 11, and the redundancy Y switch activation block 10 outputs the above-mentioned redundancy column address decode signal 108 and the column predecode signal. The column predecode signal 113 output from the decoder 11 is output as a column address decode signal 108 via the column main decoder 12 and input to the cell array unit 8. Note that FIG. 5 shows an example of the case where the column address signal 103 is a 5-bit signal, but in the operation description, generality is not lost even if such a limited example is used. .

【0009】次に、図5を参照して、不良カラムアドレ
ス信号の入力を識別して、所定のリダンダンシ判定信号
112を出力するカラムリダンダンシ回路9について、
その不良アドレス設定方法および動作について説明す
る。まず、PMOSトランジスタ20およびNMOSト
ランジスタ21により形成される反転回路には、正常動
作モードに対応する“L”レベルのプリチャージ信号1
17が入力される。またカラムアドレス信号103とし
ては、セルアレイ部8に対する書き込み動作/読み出し
動作テスト時において障害不良と判定されて、置換され
るべき障害メモリセルに対応するカラムアドレス信号が
0 、y1 、y2 、y3 およびy4 であった場合には、
当該不良カラムアドレスy0 、y1 、y2 、y3 および
4 を含むカラムアドレス信号103が入力される。そ
して、このような不良カラムアドレスの入力に対応し
て、インバータ26より出力されるリダンダンシ判定信
号112が“H”レベルにて出力されるように、リダン
ダンシヒューズ22−0〜22−9の内の何れかのリダ
ンダンシヒューズが人為的に切断される。その1例とし
て、不良カラムアドレスが、y0 =“0”、y1
“1”、y2 =“1”、y3=“0”およびy4
“1”の場合には、リダンダンシヒューズ22−1、2
2−2、22−4、22−7および22−8が引抜かれ
て、それぞれの回路は接地点に対して切断される。こう
することにより、例えば、ロウ/カラム分離回路1より
入力されるカラムアドレス信号103が、y0
“0”、y1 =“1”、y2 =“1”、y3 =“0”お
よびy4 =“1”を含む上記の不良アドレスであった場
合には、リダンダンシヒューズ22−0、22−3、2
2−5、22−6および22−9に対応するNMOSト
ランジスタ23−0、23−3、23−5、23−6お
よび23−9は全てオフ状態となり、しかも他のNMO
Sトランジスタは全て導通状態となるが、対応するリダ
ンダンシヒューズが全て切断されているために、レベル
信号118は“H”レベルの状態に保持される。従っ
て、インバータ25および26を介して、リダンダンシ
判定信号112としては“H”レベルの信号が出力され
る。また正常なメモリセルに対応するカラムアドレス信
号103が入力された場合には、少なくとも、NMOS
トランジスタ23−0、23−3、23−5、23−6
および23−9の内の1つのNMOSトランジスタがオ
ンの状態となり、レベル信号118は“L”レベルに転
移して、リダンダンシ判定信号112としては“L”レ
ベルの信号が出力される。即ち、置換されるべき不良カ
ラムアドレス信号103が入力される場合には、リダン
ダンシ判定信号112は“H”レベルの信号として出力
される。
Next, referring to FIG. 5, a column redundancy circuit 9 for identifying the input of a defective column address signal and outputting a predetermined redundancy judgment signal 112 will be described.
The defective address setting method and operation will be described. First, in the inverting circuit formed by the PMOS transistor 20 and the NMOS transistor 21, the "L" level precharge signal 1 corresponding to the normal operation mode is provided.
17 is input. Further, as the column address signal 103, the column address signals corresponding to the defective memory cells to be replaced when they are determined to be defective in the write / read operation test for the cell array unit 8 are y 0 , y 1 , y 2 , If y 3 and y 4 , then
A column address signal 103 including the defective column addresses y 0 , y 1 , y 2 , y 3 and y 4 is input. Then, in response to the input of such a defective column address, the redundancy judgment signal 112 output from the inverter 26 is output at the "H" level, and the redundancy fuses 22-0 to 22-9 are selected. One of the redundancy fuses is artificially blown. As an example thereof, the defective column address is y 0 = “0”, y 1 =
"1", y 2 = " 1", y 3 = "0" and y 4 =
In the case of "1", the redundancy fuses 22-1, 2
2-2, 22-4, 22-7 and 22-8 are pulled out, and the respective circuits are disconnected from the ground point. By doing so, for example, the column address signal 103 input from the row / column separation circuit 1 becomes y 0 =
"0", y 1 = " 1", y 2 = "1", when was the aforementioned defective address comprising y 3 = "0" and y 4 = "1", the redundancy fuse 22-0, 22-3, 2
The NMOS transistors 23-0, 23-3, 23-5, 23-6, and 23-9 corresponding to 2-5, 22-6, and 22-9 are all turned off, and other NMO
Although all the S transistors are in the conductive state, the level signal 118 is held at the “H” level because all the corresponding redundancy fuses are cut off. Therefore, the “H” level signal is output as the redundancy determination signal 112 via the inverters 25 and 26. When the column address signal 103 corresponding to a normal memory cell is input, at least the NMOS
Transistors 23-0, 23-3, 23-5, 23-6
One of the NMOS transistors 23 and 23-9 is turned on, the level signal 118 is transferred to the “L” level, and the redundancy determination signal 112 is output as the “L” level signal. That is, when the defective column address signal 103 to be replaced is input, the redundancy determination signal 112 is output as an "H" level signal.

【0010】このリダンダンシ判定信号112は、リダ
ンダンシYスイッチ活性化ブロック10を介して、リダ
ンダンシYスイッチ入力として作用するカラムアドレス
デコード信号108として出力され、セルアレイ部8の
対応するデジット線に入力される。また、カラムプリデ
コーダ11およびカラムメインデコーダ12を介して、
外部からのカラムアドレス信号に対応するYスイッチ入
力として作用するカラムアドレスデコード信号109と
して出力され、セルアレイ部8の対応するデジット線に
入力される。なお、カラムプリデコーダ11には、置換
されるべき欠陥メモリセルに対応するデジット線が活性
化されないように作用する論理機能が組込まれている。
The redundancy judgment signal 112 is output as a column address decode signal 108 acting as a redundancy Y switch input via the redundancy Y switch activation block 10 and is input to a corresponding digit line of the cell array section 8. Further, via the column predecoder 11 and the column main decoder 12,
It is output as a column address decode signal 109 which acts as a Y switch input corresponding to a column address signal from the outside, and is input to a corresponding digit line of the cell array section 8. The column predecoder 11 has a built-in logic function for preventing the digit line corresponding to the defective memory cell to be replaced from being activated.

【0011】図4において、データの書き込み(ライ
ト)時においては、外部より入力されるデータ入力信号
110は、ライトアンプ2において増幅されてリード/
ライト選択回路7に入力される。リード/ライト選択回
路7においては、ロジック回路4より入力されるリード
/ライト分離信号105により制御されて、データ入力
信号110が選択されてセルアレイ部8のデータバスに
入力され、ロウデコーダ5およびカラムデコーダ6より
それぞれ出力されるロウアドレステコード信号107お
よびカラムアドレスデコード信号109により指定され
るメモリセルに格納される。また、データの読み出し時
においては、ロウアドレステコード信号107およびカ
ラムアドレスデコード信号109により指定されるメモ
リセルに格納されていたデータが、リード/ライト選択
回路7およびリードアンプ3を介して、データ出力信号
111として外部に出力される。
In FIG. 4, at the time of writing (writing) data, a data input signal 110 input from the outside is amplified by the write amplifier 2 and read / write.
It is input to the write selection circuit 7. In the read / write selection circuit 7, the data input signal 110 is selected and input to the data bus of the cell array section 8 under the control of the read / write separation signal 105 input from the logic circuit 4, and the row decoder 5 and the column It is stored in the memory cell designated by the row address tecode signal 107 and the column address decode signal 109 respectively output from the decoder 6. Further, at the time of reading data, the data stored in the memory cell designated by the row address tecode signal 107 and the column address decode signal 109 is transferred to the data via the read / write selection circuit 7 and the read amplifier 3. The output signal 111 is output to the outside.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置においては、カラムリダンダンシ回路におい
て、正常メモルセルに対応するカラムアドレス信号の入
力時に、当該カラムリダンダンシ回路内の反転回路の出
力線上のレベル信号118のレベルをリダンダンシヒュ
ーズおよびNMOSトランジスタを介して“L”レベル
に引き抜く際に、当該NMOSトランジスタのサイズが
小さい場合には動作速度が低下するという欠点があり、
この対策として動作速度を高めるために、前記NMOS
トランジスタのサイズを大きくする場合には、当該NM
OSトランジスタにより占有される半導体素子領域が過
大になるという欠点がある。
In the conventional semiconductor memory device described above, in the column redundancy circuit, when the column address signal corresponding to the normal memory cell is input, the level signal on the output line of the inverting circuit in the column redundancy circuit is input. When the level of 118 is pulled to the “L” level through the redundancy fuse and the NMOS transistor, there is a drawback that the operation speed is reduced when the size of the NMOS transistor is small.
As a countermeasure, in order to increase the operation speed, the NMOS
When increasing the size of the transistor, the NM
There is a drawback that the semiconductor device area occupied by the OS transistor becomes excessively large.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、メモリセルアレイを含み、外部からのアドレス信号
入力を受けて、前記メモリセルアレイに対するデータの
書き込み/読み出しを行う半導体記憶装置において、前
記メモリセルアレイにおける不良メモリセルに対応する
アドレス信号を判別して、所定のリダンダンシ判定信号
を生成して出力する手段として、ゲートに入力される所
定のリダンダンシ活性化信号によりオン・オフ制御さ
れ、外部から入力されるnビットのアドレス信号Ai
(i=0、1、2、…………n)のそれぞれの入力に対
応するn個の第1のMOSトランジスタと、前記n個の
第1のMOSトランジスタに対して、それぞれ直列接続
されるn個の第1のリダンダンシヒューズと、前記nビ
ットのアドレス信号Ai をそれぞれ反転して出力するn
個の第1のインバータと、ゲートに入力される前記リダ
ンダンシ活性化信号によりオン・オフ制御され、前記n
個の第1のインバータにより反転されて出力されるnビ
ットのアドレス信号Ai のそれぞれの入力に対応するn
個の第2のMOSトランジスタと、前記n個の第2のM
OSトランジスタに対して、それぞれ直列接続されると
ともに、前記nビットのアドレス信号Aiの入力に対し
て出力側に対応する特定の節点Ni において、隣接する
前記n個の第1のリダンダンシヒューズと端末が接続さ
れるn個の第2のリダンダンシヒューズと、前記リダン
ダンシ活性化信号を反転して出力する第2のインバータ
と、ゲートに入力される前記第2のインバータにより反
転出力されるリダンダンシ活性化信号によりオン・オフ
制御され、前記n個の節点Ni に接続される配線と接地
点との間に挿入接続されるn個の第2のMOSトランジ
スタと、前記nビットのアドレス信号Ai の入力に対応
して、前記n個の節点Ni に出力されるアドレス信号の
論理積を出力するAND回路と、を少なくとも備えて構
成されるリダンダンシ判定回路を備えて構成されること
を特徴としている。
According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a memory cell array, which receives an address signal from the outside to write / read data to / from the memory cell array. As a means for discriminating an address signal corresponding to a defective memory cell in a cell array and generating and outputting a predetermined redundancy determination signal, on / off control is performed by a predetermined redundancy activation signal input to a gate, and externally input. N-bit address signal Ai
N first MOS transistors corresponding to respective inputs (i = 0, 1, 2, ..., N) and the n first MOS transistors are respectively connected in series. n first redundancy fuses and n for inverting and outputting the n-bit address signal Ai
N first inverters and ON / OFF control by the redundancy activation signal input to the gate,
N corresponding to each input of the n-bit address signal Ai which is inverted and output by the first inverters.
Second MOS transistors and the n second M transistors
The n first redundancy fuses and terminals adjacent to each other are connected in series to the OS transistor and are adjacent to each other at a specific node Ni corresponding to the output side with respect to the input of the n-bit address signal Ai. N second redundancy fuses connected, a second inverter that inverts and outputs the redundancy activation signal, and a redundancy activation signal that is inverted and output by the second inverter that is input to the gate Corresponding to n second MOS transistors which are on / off controlled and are inserted and connected between the wiring connected to the n node Ni and the ground point, and the input of the n-bit address signal Ai. And an AND circuit that outputs a logical product of the address signals output to the n nodes Ni. It is characterized by being configured with a constant circuit.

【0014】なお、前記メモリセルアレイにおける不良
メモリセルに対応するアドレス信号がカラムアドレス信
号であり、当該カラムアドレス信号を判別して、所定の
リダンダンシ判定信号を生成して出力する手段として、
前記nビットのアドレス信号Ai が、nビットのカラム
アドレス信号として規定されるようにしてもよい。
The address signal corresponding to the defective memory cell in the memory cell array is a column address signal. As a means for discriminating the column address signal and generating and outputting a predetermined redundancy determination signal,
The n-bit address signal Ai may be defined as an n-bit column address signal.

【0015】または、前記メモリセルアレイにおける不
良メモリセルに対応するアドレス信号がロウアドレス信
号であり、当該ロウアドレス信号を判別して、所定のリ
ダンダンシ判定信号を生成して出力する手段として、前
記nビットのアドレス信号Ai が、nビットのロウアド
レス信号として規定されるようにしてもよい。
Alternatively, the address signal corresponding to the defective memory cell in the memory cell array is a row address signal, and the n bits are used as means for discriminating the row address signal and generating and outputting a predetermined redundancy determination signal. Address signal Ai may be defined as an n-bit row address signal.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0017】図1は本発明の1実施形態を示すブロック
図である。図1に示されるように、本実施形態は、セル
アレイ部8と、外部から入力されるアドレス信号101
を入力してロウアドレス信号102およびカラムアドレ
ス信号103に分離して出力するロウ/カラム分離回路
1と、ロウアドレス信号102を入力してデコードし、
ロウアドレスデコード信号107を出力してセルアレイ
部8に入力するロウデコーダ5と、カラムアドレス信号
103を入力してデコードし、置換されるべきカラムア
ドレスデコード信号108および正常なカラムアドレス
デコード信号109を出力して、セルアレイ部8に入力
するカラムデコーダ6と、セルアレイ部8に対するデー
タの書込み/読出しを切替選択するリード/ライト選択
回路7と、外部から入力される書込み用のデータ信号1
10を入力し、増幅して出力するライトアンプ2と、セ
ルアレイ部8よりリード/ライト選択回路7を介して出
力される読出しデータを増幅してデータ信号111とし
て外部に出力するリードアンプ3と、所定の制御信号1
16の入力を受けて、ロウ/カラム分離回路1、リート
/ライト選択回路7およびセルアレイ部8に対して、そ
れぞれロウ/カラム分離信号104、リード/ライト選
択信号105およびセンスアンプ活性化信号106を出
力するロジック回路4とを備えて構成される。本実施形
態の従来例と異なる主要点は、カラムデコーダ6の内部
構成およびその動作機能の差異にあり、従って、ロジッ
ク回路4からのプリチャージ信号入力も必要としない。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, in this embodiment, a cell array unit 8 and an address signal 101 input from the outside are provided.
, And the row / column separation circuit 1 for separating and outputting the row address signal 102 and the column address signal 103, and the row address signal 102 for input and decoding,
A row decoder 5 that outputs a row address decode signal 107 and inputs it to the cell array unit 8 and a column address signal 103 that inputs and decodes it and outputs a column address decode signal 108 to be replaced and a normal column address decode signal 109. Then, the column decoder 6 input to the cell array unit 8, the read / write selection circuit 7 for switching and selecting the writing / reading of data to / from the cell array unit 8, and the data signal 1 for writing input from the outside.
A write amplifier 2 which inputs 10, amplifies and outputs, and a read amplifier 3 which amplifies read data output from the cell array unit 8 through the read / write selection circuit 7 and outputs the amplified data as a data signal 111 to the outside. Predetermined control signal 1
In response to 16 inputs, the row / column separation circuit 1, the read / write selection circuit 7 and the cell array section 8 are supplied with the row / column separation signal 104, the read / write selection signal 105 and the sense amplifier activation signal 106, respectively. And a logic circuit 4 for outputting. The main point of the present embodiment different from the conventional example is the difference in the internal configuration of the column decoder 6 and its operation function, and therefore, the precharge signal input from the logic circuit 4 is not required.

【0018】また、図2はカラムデコーダ6の構成を示
すブロック図であり、図3は、図3におけるカラムリダ
ンダンシ回路9の内部構成を示す図である。図2におい
て、リダンダンシYスチッチ活性化ブロック10、カラ
ムプリデコーダ11およびカラムメインデコーダ12等
の動作は、前述の従来例の場合と同様であるので、その
説明は省略し、図3を参照してカラムリダンダンシ回路
9の動作について説明するものとする。
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the column decoder 6, and FIG. 3 is a diagram showing the internal configuration of the column redundancy circuit 9 in FIG. In FIG. 2, the operations of the redundancy Y-stitch activation block 10, the column predecoder 11, the column main decoder 12, and the like are the same as those in the above-described conventional example, and therefore the description thereof will be omitted and refer to FIG. The operation of the column redundancy circuit 9 will be described.

【0019】図3において、抵抗およびヒューズ14の
分割電圧により、リダンダンシ活性化信号114のレベ
ルが設定されており、当該リダンダンシ活性化信号11
4のレベルは、NMOSトランジスタ16ー0、16ー
1、16ー2、16ー3、16ー4、16ー5、………
………、16ー2n、16ー(2n+1)のゲートに供
給されている。また、リダンダンシ活性化信号114の
レベルは、インバータ17ー(n+1)により反転され
て、NMOSトランジスタ18ー1、18ー2、18ー
3、……………、18ーnのゲートに供給されている。
ロウ/カラム分離回路1より出力されるカラムアドレス
信号103は、本実施形態においては、nビットのカラ
ムアドレスA0 、A1 、A2 、………………An により
形成されており、カラムアドレスA0 は、NMOSトラ
ンジスタ16−0およびリダンダンシヒューズ15ー0
と、インバータ17ー1、NMOSトランジスタ16−
1およびリダンダンシヒューズ15ー1を介してAND
回路19に入力され、カラムアドレスA1 は、NMOS
トランジスタ16−2およびリダンダンシヒューズ15
ー2と、インバータ17ー2、NMOSトランジスタ1
6−3およびリダンダンシヒューズ15ー3を介してA
ND回路19に入力され、カラムアドレスA2 は、NM
OSトランジスタ16−4およびリダンダンシヒューズ
15ー4と、インバータ17ー3、NMOSトランジス
タ16−5およびリダンダンシヒューズ15ー5を介し
てAND回路19に入力され、またカラムアドレスAn
は、NMOSトランジスタ16−2nおよびリダンダン
シヒューズ15ー2nと、インバータ17ーn、NMO
Sトランジスタ16ー(2n+1)およびリダンダンシ
ヒューズ15ー(2n+1)を介してAND回路19に
入力されている。また、AND回路19に入力されるレ
ベル信号115ー0〜115ーnのレベルを接地レベル
に引き込むように作用するNMOSトランジスタ18ー
1、18ー2、18ー3、……………、18ーnは、そ
れぞれゲートに供給されるリダンダンシ活性化信号11
4の反転レベルによりオン・オフ制御されている。
In FIG. 3, the level of the redundancy activation signal 114 is set by the resistance and the divided voltage of the fuse 14, and the redundancy activation signal 11 is set.
The levels of 4 are NMOS transistors 16-0, 16-1, 16-2, 16-3, 16-4, 16-5, ...
It is supplied to the gates of 16-2n and 16- (2n + 1). The level of the redundancy activation signal 114 is inverted by the inverter 17- (n + 1) and supplied to the gates of the NMOS transistors 18-1, 18-2, 18-3, ..., 18-n. ing.
Column address signal 103 output from the row / column separation circuit 1, in the present embodiment, the column address of n bits A 0, A 1, A 2, is formed by .................. A n, The column address A 0 corresponds to the NMOS transistor 16-0 and the redundancy fuse 15-0.
Inverter 17-1, NMOS transistor 16-
AND through 1 and redundancy fuse 15-1
The column address A 1 input to the circuit 19 is the NMOS
Transistor 16-2 and redundancy fuse 15
-2, inverter 17-2, NMOS transistor 1
6-3 and the redundancy fuse 15-3
The column address A 2 input to the ND circuit 19 is NM
It is input to the AND circuit 19 through the OS transistor 16-4 and the redundancy fuse 15-4, the inverter 17-3, the NMOS transistor 16-5 and the redundancy fuse 15-5, and the column address A n.
Is an NMOS transistor 16-2n, a redundancy fuse 15-2n, an inverter 17-n, and an NMO.
It is input to the AND circuit 19 via the S transistor 16- (2n + 1) and the redundancy fuse 15- (2n + 1). Further, the NMOS transistors 18-1, 18-2, 18-3, ..., 18 acting to pull the levels of the level signals 115-0 to 115-n input to the AND circuit 19 to the ground level. -N is the redundancy activation signal 11 supplied to each gate
On / off control is performed by the inversion level of 4.

【0020】次に、図3において、不良カラムアドレス
の入力に対応して、リダンダンシヒューズ15ー0、1
5ー1、15ー2、15ー3、15ー4、……………、
15ー2n、15ー(2n+1)の引き抜きを行う場合
には、ヒューズ14を引き抜いて、リダンダンシ活性化
信号114を“H”レベルに設定する。これにより、N
MOSトランジスタ18ー1〜18ーnは全てオフの状
態となる。そして、従来例の場合と同様に、置換される
べき不良カラムアドレス信号を形成するnビットのカラ
ムアドレスA0 、A1 、A2 、………………An を入力
して、AND回路19より出力されるリダンダンシ判定
信号112が“H”レベルにて出力されるように、リダ
ンダンシヒューズ15−0〜15−(2n+1)の内の
何れかのリダンダンシヒューズを人為的に引き抜いて回
路を切断する。例えば、不良カラムアドレスが、A0
“0”、A1 =“1”、A2 =“1”、………………A
n=“0”の場合には、リダンダンシヒューズ15−
0、15−3、15−5、……………15−2nが引抜
かれて、それぞれの回路はAND回路19に対する入力
回路として切断され除外される。こうすることにより、
例えば、ロウ/カラム分離回路1より入力されるカラム
アドレス信号103が、A0 =“0”、A1 =“1”、
2 =“1”、………………、An =“0”を含む上記
の不良カラムアドレスであった場合には、アドレスA0
=“0”は、インバータ17ー1により反転されて、N
MOSトランジスタ16ー0およびリダンダンシヒュー
ズ15−0を介して、“1”レベルのレベル信号115
ー0としてAND回路19に入力され、アドレスA1
“1”は、NMOSトランジスタ16ー2およびリダン
ダンシヒューズ15−2を介して、“1”レベルのレベ
ル信号115ー1としてAND回路19に入力され、ア
ドレスA2 =“1”は、NMOSトランジスタ16ー4
およびリダンダンシヒューズ15−4を介して、“1”
レベルのレベル信号115ー2としてAND回路19に
入力され、また、アドレスAn =“0”は、インバータ
17ーnにより反転されて、NMOSトランジスタ16
ー(2n+1)を介して、“1”レベルのレベル信号1
15ーnとしてAND回路19に入力される。従って、
AND回路19より出力されるリダンダンシ判定信号1
12としては“H”レベルの信号が出力される。また正
常なメモリセルに対応するカラムアドレス信号103が
入力された場合には、少なくとも、レベル信号115ー
0〜115ーnの内の1つのレベル信号は “L”レベ
ルにて出力される状態となり、AND回路19より出力
されるリダンダンシ判定信号112としては常に“L”
レベルの信号として出力される。即ち、置換されるべき
不良カラムアドレス信号103が入力される場合には、
リダンダンシ判定信号112は“H”レベルの信号とし
て出力される。なお、不良カラムアドレスが存在しない
場合には、ヒューズ14を引き抜くことなく、リダンダ
ンシ活性化信号114を“L”レベルに設定することに
より、NMOSトランジスタ18ー0〜18ーnを全て
オンの状態として、AND回路19より出力されるリダ
ンダンシ判定信号112を常時“L”レベルに設定する
ことも可能である。
Next, referring to FIG. 3, the redundancy fuses 15-0, 1 correspond to the input of the defective column address.
5-1, 15-2, 15-3, 15-4, ……………,
In the case of pulling out 15-2n and 15- (2n + 1), the fuse 14 is pulled out and the redundancy activation signal 114 is set to the "H" level. This gives N
All the MOS transistors 18-1 to 18-n are turned off. Then, as in the case of the conventional example, the n-bit column addresses A 0 , A 1 , A 2 , ... ...... A n forming the defective column address signal to be replaced are input and the AND circuit is input. In order that the redundancy judgment signal 112 output from 19 is output at "H" level, one of the redundancy fuses 15-0 to 15- (2n + 1) is artificially pulled out to disconnect the circuit. To do. For example, the defective column address is A 0 =
“0”, A 1 = “1”, A 2 = “1”, ……………… A
When n = "0", the redundancy fuse 15-
0, 15-3, 15-5, ..., 15-2n are pulled out, and the respective circuits are disconnected and excluded as input circuits to the AND circuit 19. By doing this,
For example, if the column address signal 103 input from the row / column separation circuit 1 is A 0 = “0”, A 1 = “1”,
In the case of the above defective column address including A 2 = “1”, ..., And A n = “0”, the address A 0
= “0” is inverted by the inverter 17-1, and N
The level signal 115 of “1” level is passed through the MOS transistor 16-0 and the redundancy fuse 15-0.
-0 is input to the AND circuit 19 and the address A 1 =
“1” is input to the AND circuit 19 as the level signal 115-1 of “1” level via the NMOS transistor 16-2 and the redundancy fuse 15-2, and the address A 2 = “1” is set to the NMOS transistor 16-2. -4
And “1” via the redundancy fuse 15-4.
The level signal 115-2 of the level is input to the AND circuit 19, and the address A n = "0" is inverted by the inverter 17-n to generate the NMOS transistor 16
-(2n + 1) through the level signal 1 of "1" level
15-n is input to the AND circuit 19. Therefore,
Redundancy judgment signal 1 output from the AND circuit 19
As "12", an "H" level signal is output. When the column address signal 103 corresponding to a normal memory cell is input, at least one of the level signals 115-0 to 115-n is in the state of being output at "L" level. , The redundancy judgment signal 112 output from the AND circuit 19 is always "L".
It is output as a level signal. That is, when the defective column address signal 103 to be replaced is input,
The redundancy determination signal 112 is output as an "H" level signal. When there is no defective column address, the redundancy activation signal 114 is set to the “L” level without pulling out the fuse 14 to turn on all the NMOS transistors 18-0 to 18-n. It is also possible to always set the redundancy judgment signal 112 output from the AND circuit 19 to the “L” level.

【0021】図2において、このリダンダンシ判定信号
112は、リダンダンシYスイッチ活性化ブロック10
を介して、リダンダンシYスイッチ入力として作用する
カラムアドレスデコード信号108として出力され、セ
ルアレイ部8の対応するデジット線に入力される。ま
た、カラムアドレス信号103およびリダンダンシ判定
信号112の入力を受けて、カラムプリデコーダ11お
よびカラムメインデコーダ12を介して、外部からのカ
ラムアドレス信号に対応するYスイッチ入力として作用
するカラムアドレスデコード信号109として出力さ
れ、セルアレイ部8の対応するデジット線に入力され
る。なお、カラムプリデコーダ11には、置換されるべ
き欠陥メモリセルに対応するデジット線が活性化されな
いように作用する論理機能が組込まれている。
In FIG. 2, the redundancy judgment signal 112 is the redundancy Y switch activation block 10.
Is output as a column address decode signal 108 which acts as a redundancy Y switch input, and is input to the corresponding digit line of the cell array section 8. Further, the column address decode signal 109 that receives the column address signal 103 and the redundancy judgment signal 112 and acts as a Y switch input corresponding to the column address signal from the outside via the column predecoder 11 and the column main decoder 12. And is input to the corresponding digit line of the cell array section 8. The column predecoder 11 has a built-in logic function for preventing the digit line corresponding to the defective memory cell to be replaced from being activated.

【0022】図3により明らかなように、本実施形態に
おいては、カラムデコーダ6において、不良カラムアド
レス判定用としてロジック回路よりプリチャージ信号の
供給を受けることが不要になるとともに、カラムデコー
ダ6内部のカラムリダンダンシ回路9において、正常メ
モルセルに対応するカラムアドレス信号の入力時に、プ
リチャージ信号の反転信号レベルを、リダンダンシヒュ
ーズを介して接地レベルに設定する際のNMOSトラン
ジスタのサイズの大小に起因する課題が排除され、これ
により、動作速度の低下を防止することができるととも
に、前記NMOSトランジスタのサイズの大型化に伴な
う半導体素子領域の増大を回避することが可能となる。
As is apparent from FIG. 3, in the present embodiment, it becomes unnecessary for the column decoder 6 to receive the supply of the precharge signal from the logic circuit for determining the defective column address, and the internal structure of the column decoder 6 is reduced. In the column redundancy circuit 9, when the column address signal corresponding to the normal memory cell is input, there is a problem caused by the size of the NMOS transistor when the inversion signal level of the precharge signal is set to the ground level via the redundancy fuse. As a result, it is possible to prevent a decrease in the operating speed, and it is possible to avoid an increase in the semiconductor element region accompanying the increase in the size of the NMOS transistor.

【0023】なお、上記の実施形態においては、リダン
ダンシの対象として、カラムアドレスに対応する不良メ
モリセルが介在する場合を例として動作説明を行ってい
るが、本発明は、これに限定されるものではなく、リダ
ンダンシの対象がロウアドレスの場合、およびカラムア
ドレスおよびロウアドレスの両アドレスを対象とする場
合においても有効に適用されることは云うまでない。
In the above embodiment, the operation has been described by taking as an example the case where a defective memory cell corresponding to a column address is interposed as the object of redundancy, but the present invention is not limited to this. However, it goes without saying that the present invention is effectively applied to the case where the redundancy target is a row address and the case where both the column address and the row address are targets.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、不良メ
モリセルに対応するアドレス信号入力に対して、変換さ
れるべきリダンダンシメモリセルに対応するアドレス信
号を判別してリダンダンシ判定信号を出力する手段とし
て、所定のリダンダンシヒューズに直列接続され、リダ
ンダンシ活性化信号により制御されて、複数ビットのア
ドレス信号に対するトランスファゲートとして機能する
MOSトランジスタを含み、当該MOSトランジスタお
よび対応する導通状態のリダンダンシヒューズを経由し
て出力されるレベル信号の論理積によりリダンダンシ判
定信号を出力する手段を備えることにより、当該MOS
トランジスタのサイズに影響されることなく、動作速度
の低下を防止することが可能となるとともに、MOSト
ランジスタのサイズの大型化に起因する半導体素子領域
の拡大を抑制することができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, an address signal corresponding to a redundancy memory cell to be converted is discriminated from an address signal input corresponding to a defective memory cell, and a redundancy discrimination signal is output. The means includes a MOS transistor that is connected in series to a predetermined redundancy fuse, is controlled by a redundancy activation signal, and functions as a transfer gate for the address signal of a plurality of bits, via the MOS transistor and the corresponding conductive redundancy fuse. By providing a means for outputting the redundancy judgment signal by the logical product of the level signals output by
It is possible to prevent a decrease in operating speed without being affected by the size of the transistor, and it is possible to suppress the expansion of the semiconductor element region due to the increase in size of the MOS transistor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の1実施形態を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention.

【図2】前記1実施形態におけるカラムデコーダを示す
ブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a column decoder in the first embodiment.

【図3】本実施形態におけるカラムリダンダンシ回路の
1実施形態を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an embodiment of a column redundancy circuit according to the present embodiment.

【図4】従来例を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing a conventional example.

【図5】従来例におけるカラムリダンダンシ回路の1例
を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a column redundancy circuit in a conventional example.

【図6】セルアレイ部の部分を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing a portion of a cell array section.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ロウ/カラム分離回路 2 ライトアンプ 3 リードアンプ 4 ロジック回路 5 ロウデコーダ 6 カラムデコーダ 7 リート/ライト選択回路 8 セルアレイ部 9 カラムリダンダンシ回路 10 リダンダンシYスイッチ活性化ブロック 11 カラムプリデコーダ 12 カラムメインデコーダ 13 抵抗 14 ヒューズ 15−0〜15−(2n+1)、22−0〜22−9
リダンダンシヒューズ 16−0〜16−(2n+1)、18−1〜18−n、
21、23−0〜23−9 NMOSトランジスタ 17−1〜17−(2n+1)、24−1〜24−5、
25、26 インバータ 19 AND回路 20 PMOSトランジスタ 27 メモリセル 28 センスアンプ 29 トランスファゲート 101 アドレス信号 102 ロウアドレス信号 103 カラムアドレス信号 104 ロウ/カラム分離信号 105 リード/ライト分離信号 106 センスアンプ活性化信号 107 ロウアドレスデコード信号 108、109 カラムアドレスデコード信号 110 データ入力信号 111 データ出力信号 112 リダンダンシ判定信号 113 カラムプリデコード信号 114 リダンダンシ活性化信号 115−0〜115−n、118 レベル信号 116 制御信号 117 プリチャージ信号 118、119 ワード線 120、121 センスアップ活性化信号 122 データバス 123〜125 ビット線
1 Row / Column Separation Circuit 2 Write Amplifier 3 Read Amplifier 4 Logic Circuit 5 Row Decoder 6 Column Decoder 7 Write / Write Select Circuit 8 Cell Array Section 9 Column Redundancy Circuit 10 Redundancy Y Switch Activation Block 11 Column Predecoder 12 Column Main Decoder 13 Resistance 14 Fuse 15-0 to 15- (2n + 1), 22-0 to 22-9
Redundancy fuses 16-0 to 16- (2n + 1), 18-1 to 18-n,
21, 23-0 to 23-9 NMOS transistors 17-1 to 17- (2n + 1), 24-1 to 24-5,
25, 26 Inverter 19 AND circuit 20 PMOS transistor 27 Memory cell 28 Sense amplifier 29 Transfer gate 101 Address signal 102 Row address signal 103 Column address signal 104 Row / column separation signal 105 Read / write separation signal 106 Sense amplifier activation signal 107 Row Address decode signal 108, 109 Column address decode signal 110 Data input signal 111 Data output signal 112 Redundancy determination signal 113 Column predecode signal 114 Redundancy activation signal 115-0 to 115-n, 118 Level signal 116 Control signal 117 Precharge signal 118, 119 Word lines 120, 121 Sense up activation signal 122 Data bus 123 to 125 bit lines

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルアレイを含み、外部からのア
ドレス信号入力を受けて、前記メモリセルアレイに対す
るデータの書き込み/読み出しを行う半導体記憶装置に
おいて、前記メモリセルアレイにおける不良メモリセル
に対応するアドレス信号を判別して、所定のリダンダン
シ判定信号を生成して出力する手段として、 ゲートに入力される所定のリダンダンシ活性化信号によ
りオン・オフ制御され、外部から入力されるnビットの
アドレス信号Ai (i=0、1、2、…………n)のそ
れぞれの入力に対応するn個の第1のMOSトランジス
タと、 前記n個の第1のMOSトランジスタに対して、それぞ
れ直列接続されるn個の第1のリダンダンシヒューズ
と、 前記nビットのアドレス信号Ai をそれぞれ反転して出
力するn個の第1のインバータと、 ゲートに入力される前記リダンダンシ活性化信号により
オン・オフ制御され、前記n個の第1のインバータによ
り反転されて出力されるnビットのアドレス信号Ai の
それぞれの入力に対応するn個の第2のMOSトランジ
スタと、 前記n個の第2のMOSトランジスタに対して、それぞ
れ直列接続されるとともに、前記nビットのアドレス信
号Ai の入力に対して出力側に対応する特定の節点Ni
において、隣接する前記n個の第1のリダンダンシヒュ
ーズと端末が接続されるn個の第2のリダンダンシヒュ
ーズと、 前記リダンダンシ活性化信号を反転して出力する第2の
インバータと、 ゲートに入力される前記第2のインバータにより反転出
力されるリダンダンシ活性化信号によりオン・オフ制御
され、前記n個の節点Ni に接続される配線と接地点と
の間に挿入接続されるn個の第2のMOSトランジスタ
と、 前記nビットのアドレス信号Ai の入力に対応して、前
記n個の節点Ni に出力されるアドレス信号の論理積を
出力するAND回路と、 を少なくとも備えて構成されるリダンダンシ判定回路を
備えて構成されることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device including a memory cell array, which receives an address signal from the outside and writes / reads data to / from the memory cell array, and determines an address signal corresponding to a defective memory cell in the memory cell array. As a means for generating and outputting a predetermined redundancy judgment signal, on / off control is performed by a predetermined redundancy activation signal input to the gate, and an n-bit address signal Ai (i = 0) input from the outside is controlled. , 1, 2, ..., N) corresponding to respective inputs of n first MOS transistors, and n first MOS transistors connected in series to the n first MOS transistors, respectively. 1 redundancy fuse, and n first n-bit address signals Ai for inverting and outputting the n-bit address signal Ai. Inverters and n number of n-bit address signals Ai which are on / off controlled by the redundancy activation signal input to the gate and are inverted and output by the n number of first inverters. Second n-type MOS transistor and the n-th second n-type MOS transistor are respectively connected in series and correspond to the output side for the input of the n-bit address signal Ai.
In, the n second redundancy fuses to which terminals are connected to the adjacent n first redundancy fuses, the second inverter that inverts and outputs the redundancy activation signal, and the second inverter On / off control is performed by the redundancy activation signal inverted and output by the second inverter, and n second n-channels are inserted and connected between the wiring connected to the n node Ni and the ground point. A redundancy determination circuit configured to include at least a MOS transistor and an AND circuit that outputs a logical product of the address signals output to the n nodes Ni in response to the input of the n-bit address signal Ai. A semiconductor memory device comprising:
【請求項2】 前記メモリセルアレイにおける不良メモ
リセルに対応するアドレス信号がカラムアドレス信号で
あり、当該カラムアドレス信号を判別して、所定のリダ
ンダンシ判定信号を生成して出力する手段として、前記
nビットのアドレス信号Ai が、nビットのカラムアド
レス信号として規定される請求項1記載の半導体記憶装
置。
2. An address signal corresponding to a defective memory cell in the memory cell array is a column address signal, and the n bits are used as means for determining the column address signal and generating and outputting a predetermined redundancy determination signal. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the address signal Ai is defined as an n-bit column address signal.
【請求項3】 前記メモリセルアレイにおける不良メモ
リセルに対応するアドレス信号がロウアドレス信号であ
り、当該ロウアドレス信号を判別して、所定のリダンダ
ンシ判定信号を生成して出力する手段として、前記nビ
ットのアドレス信号Ai が、nビットのロウアドレス信
号として規定される請求項1記載の半導体記憶装置。
3. An address signal corresponding to a defective memory cell in the memory cell array is a row address signal, and the n bits are used as means for determining the row address signal and generating and outputting a predetermined redundancy determination signal. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said address signal Ai is defined as an n-bit row address signal.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07192491A (en) * 1993-11-18 1995-07-28 Samsung Electron Co Ltd Method and circuit for row redundancy of semiconductor memory device

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