JPH09172237A - プリント配線板 - Google Patents

プリント配線板

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Publication number
JPH09172237A
JPH09172237A JP34907695A JP34907695A JPH09172237A JP H09172237 A JPH09172237 A JP H09172237A JP 34907695 A JP34907695 A JP 34907695A JP 34907695 A JP34907695 A JP 34907695A JP H09172237 A JPH09172237 A JP H09172237A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
layer
wiring board
gold
printed wiring
Prior art date
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Pending
Application number
JP34907695A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Serizawa
精一 芹澤
Masahiro Igawa
匡弘 井川
Takaharu Takasaki
隆治 高崎
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Individual
Original Assignee
Individual
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は薄い置換型金めっき層でも耐熱性
に優れたボンディング性能を持つプリント配線板を提供
するものである。 【解決手段】 この発明は樹脂又はセラミック或は各種
金属等の上に下地層として銅はく又は銅めっきを持ち、
その銅上にNiめっき、Pd−Niめっき、Auめっき
を持つボンディング用プリント基板において、その表面
層のAuめっきは置換型無電解めっきであり、前記Au
めっきの下地Pd−Niめっきとしては厚み0.03〜
2μmの無電解めっき層又は電解めっき層を設けたこと
を特徴とするプリント配線板を提供するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はボンディング用プ
リント配線板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来ボンディング用プリント配線板は銅
めっきでパターン形成後Niめっきを行い次の二通りの
方法でAuめっきが行なわれている。第一の方法はNi
めっき上に置換型無電解Auめっきする。第二の方法は
Niめっき上に置換型無電解Auめっき後、還元型無電
解Auめっきする。また、銅めっきでパターン形成後、
直接次の二通りの方法でAuめっきが行われている。第
三の方法はCuめっき上に置換型無電解Auめっきす
る。第四の方法はCuめっき上に置換型無電解Auめっ
き後、還元型無電解Auめっきする。前記第一と第三の
方法では耐熱性がなく、ボンディング性が悪い。また、
第二と第四の方法では還元用無電解金めっき浴の安定性
がなくビーカーテストスケールでは製作可能であるが、
実製造スケールでは浴分解等で不可能である。また、特
開平1−117390号公報にはプリント基板での無電
解パラジウム上の自己触媒型無電解金めっきの方法が提
示されているが、自己触媒型無電解金めっき(還元型無
電解金めっき)ではその金めっき浴の安定性がないとい
う問題点がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この発明は薄い置換型
金めっき層でも耐熱性に優れたボンディング性能を持つ
プリント配線板を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明は樹脂又はセラ
ミック或は各種金属等の上に下地層として銅はく又は銅
めっきを持ち、その銅上にNiめっき又はNi合金めっ
き、Pd−Niめっき、Auめっきを持つボンディング
用プリント配線板において、その表面層のAuめっきは
置換型無電解めっきであり、前記Auめっきの下地Pd
−Niめっきとしては厚み0.03〜2μmの無電解め
っき層又は電解めっき層を設けたことを特徴とするプリ
ント配線板を提供するものである。この発明の置換型無
電解金めっき層の厚みは0.1〜1μmであり、0.2
〜0.5μmがより望ましい。また、Pd−Niめっき
層の厚みは0.03〜2μmであり、0.05〜0.5
μmがより望ましい。
【0005】
【作用】以上のようにして製作したこの発明によるボン
ディング用プリント基板は金めっきが従来品より耐熱性
に優れたボンディング性能を得ることができる。その理
由は従来品の置換型金めっき層のみではめっき厚が薄い
ために下地ニッケルの金への拡散や金めっきピンホール
を介してのニッケルの金への拡散があるために熱処理後
のボンディング性が極めて悪い。この発明によれば下地
層にPd−Ni層があるために下地ニッケルからの拡散
が大幅に抑制され、金めっき層の純粋性が保たれるとと
もに、そのPd−Ni層中のニッケルに作用して、上層
の置換型金めっき層も0.2〜0.5μmのめっきが可
能であったと推察される。
【0006】
【発明の実施の形態】以下この発明の実施の形態につい
て説明する。銅めっき又はエッチングによりパターン形
成された標準的なプリント配線板に無電解ニッケルを3
〜5μm、その上に日本高純度化学株式会社からパラブ
ライトPN(商標)として市販されている無電解Pd−
Niめっき液により0.1μmパラジウムめっきして金
めっきの下地とした。次に日本高純度化学株式会社から
IMGOLD NS(商標)として市販されている置換
型無電解金めっき液により厚み0.25μmの金めっき
を施した実施例1の製品を5個製作した。比較例1とし
てPd−Ni層がなくその他はZ実施例1と同様にして
製作した比較例1の製品を5個製作した。
【0007】実施例1と比較例1の各々に半導体チップ
接着ペーストキュア条件である160℃、60分の熱処
理を実施後、直径25μmの金ワイヤーにてボンディン
グテストを行い、ボンディング強度を測定した。実施例
1のものはボンディング強度が7g以上であり、ワイヤ
ー剥れの発生はなく、良品と判断された。比較例1のも
のはボンディング強度が4g以下のものもあり、ワイヤ
ー剥れの発生も見られ、不良品と判断された。
【0008】
【実施例】タングステンを主体とするメタライズ印刷さ
れた標準的なセラミックパッケージに無電解ニッケルを
3〜5μm、その上に実施例1と同様にパラジウム、金
めっきを施した実施例2の製品を5個製作した。比較例
2としてパラジウム層がなくその他は実施例2と同様に
したものを5個製作した。
【0009】実施例2と比較例2の各々を実施例1等と
同じボンディングテストを実施し、その強度測定を行っ
た。実施例2のものはボンディング強度が6g以上あ
り、ワイヤー剥れの発生はなく、良品と判断された。比
較例2のものはボンディング強度が4g以下のものもあ
り、ワイヤー剥れの発生も見られ、不良品と判断され
た。
【0010】
【発明の効果】この発明によるプリント配線板は前述し
たように金めっき層の下地にPa−Ni層が設けてある
ので、金へのニッケルからの拡散が防止できて金めっき
層の純粋性が保たれて耐熱性に優れた良好なボンディン
グ性能が得られるという効果を有している。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 樹脂又はセラミック或は各種金属等の上
    に下地層として銅はく又は銅めっきを持ち、その銅上に
    Niめっき又はNi合金めっき、Pd−Niめっき、金
    めっきを持つボンディング用プリント配線板において、
    その表面層の金めっきは置換型無電解めっきであり、前
    記金めっきの下地Pd−Niめっきとしては厚み0.0
    3〜2μmの無電解めっき層又は電解めっき層を設けた
    ことを特徴とするプリント配線板。
JP34907695A 1995-12-20 1995-12-20 プリント配線板 Pending JPH09172237A (ja)

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JP34907695A JPH09172237A (ja) 1995-12-20 1995-12-20 プリント配線板

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JPH09172237A true JPH09172237A (ja) 1997-06-30

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JP34907695A Pending JPH09172237A (ja) 1995-12-20 1995-12-20 プリント配線板

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006339609A (ja) * 2005-06-06 2006-12-14 Kyocer Slc Technologies Corp 配線基板およびその製造方法
JP2008306159A (ja) * 2007-05-09 2008-12-18 Hitachi Chem Co Ltd 電子部品及びその製造方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006339609A (ja) * 2005-06-06 2006-12-14 Kyocer Slc Technologies Corp 配線基板およびその製造方法
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