JPH09171153A - Illumination optical system - Google Patents

Illumination optical system

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Publication number
JPH09171153A
JPH09171153A JP33065795A JP33065795A JPH09171153A JP H09171153 A JPH09171153 A JP H09171153A JP 33065795 A JP33065795 A JP 33065795A JP 33065795 A JP33065795 A JP 33065795A JP H09171153 A JPH09171153 A JP H09171153A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
optical element
slit
beam splitter
optical system
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP33065795A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shingo Kashima
伸悟 鹿島
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH09171153A publication Critical patent/JPH09171153A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form various patterns with the least loss of light quantity by providing an element for bisecting a laser beam, an optical element including condensing elements having different power in two directions orthogonal to an optical axis, and an element for compositing respective luminous fluxes from the optical element again. SOLUTION: The collimated laser beams 1 are bisected and reflected by a beam splitter 2, and further reflected at a right angle by a mirror 3. The luminous flux is made incident on the optical element 5 consisting of two condensing elements 4 having the different power in two directions on a plane orthogonal to the optical axis and condensed in a slit state, and further changed to two parallel luminous fluxes through the optical element 5'. Meanwhile, the luminous flux transmitted through the beam splitter 2 is made incident on the optical element 8 and condensed in the slit state orthogonal to the slit by the luminous flux reflected by the beam splitter 2. The luminous flux is changed to two parallel luminous fluxes through the optical element 8' and composited with two parallel luminous fluxes changed through the optical element 5'.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、物体の表面形状や
欠陥等を観察したり、オートフォーカス用の指標として
スリット光を組み合わせたパターンを物体上に投影した
りするのに用いられる、パターン投影照明光学系に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern projection used for observing a surface shape, a defect, etc. of an object and projecting a pattern in which slit light is combined as an index for autofocus on the object. Illumination optics.

【0002】[0002]

【従来の技術】パターン投影技術としては、従来下記の
3つの手法が知られている。即ち、所望のパターンマ
スクをコリメートされたレーザ光束中に入れ、パターン
以外の光を遮蔽する方法、所望のパターンマスクを、
通常のランプによるケーラー照明或いはレーザとフライ
アイレンズアレイ等のインテグレータによる疑似的ケー
ラー照明等を用いて一様に照明し、照明されたそのマス
クパターンを光学系で投影する方法、物体上での所望
のパターンを逆フーリエ変換したものを光学系の瞳位置
に置き、そのフーリエ像として所望のパターンを物体上
に形成する方法である。
2. Description of the Related Art The following three techniques are known as pattern projection techniques. That is, a desired pattern mask is put in a collimated laser beam to shield light other than the pattern, and the desired pattern mask is
A method of projecting the illuminated mask pattern with an optical system by uniformly illuminating it using normal lamp Koehler illumination or laser and fly eye lens array integrator pseudo-Kohler illumination, etc. In this method, a pattern obtained by inverse Fourier transforming the pattern is placed at the pupil position of the optical system, and a desired pattern is formed on the object as its Fourier image.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記及び
の方法では、照明光をマスキングするため光量損失が
大きく、またレーザ光で疑似的ケーラー照明を行うため
光学系が複雑且つ高価なものとなり、さらにスペックル
ノイズが発生するという問題がある。又、上記の方法
では、瞳をマスキングするためやはり光量不足が生じ、
またパターンの逆フーリエ変換用マスクの作製や光学系
の瞳位置にパターンを配設するのが難しい等の問題があ
る。
By the way, in the above method and method, since the illumination light is masked, the light amount loss is large, and since the pseudo Koehler illumination is performed by the laser light, the optical system becomes complicated and expensive. There is a problem that speckle noise occurs. Also, in the above method, since the pupil is masked, the amount of light is insufficient,
Further, there is a problem that it is difficult to fabricate a mask for inverse Fourier transform of the pattern and to arrange the pattern at the pupil position of the optical system.

【0004】本発明は、従来の技術の有するこのような
問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、レーザ光の光量を殆ど損失することなしに、ス
リット光を組み合わせた様々なパターンを形成すること
のできる照明光学系を提供しようとするものである。
The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and an object of the present invention is to combine slit light with almost no loss of the light amount of laser light. The present invention aims to provide an illumination optical system capable of forming various patterns.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による照明光学系は、平行光にコリメートさ
れたレーザ光と、このレーザ光を少なくとも2分割する
素子と、該素子により分割された光束の各光路内に配置
されていて光軸に直交する2方向で異なるパワーを有す
る集光素子を少なくとも1つ含む光学素子と、この光学
素子からの各光束を再合成する素子とを備えている。こ
れにより、面内の2方向で形状の異なる少なくとも1つ
の(円形や正方形でない)パターンが形成され、それら
が同軸上に合成される。
In order to achieve the above object, an illumination optical system according to the present invention comprises a laser beam collimated into parallel light, an element for splitting the laser beam into at least two, and the element for splitting the laser beam. An optical element including at least one light-collecting element having different powers in two directions orthogonal to the optical axis, disposed in each optical path of the generated light beam, and an element for recombining the light beams from the optical element. I have it. As a result, at least one (not circular or square) pattern having different shapes in the two directions in the plane is formed, and these patterns are coaxially combined.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】実施形態を説明するに先立ち、図
1を用いて本発明の概念を説明する。図1に示すよう
に、コリメートされたレーザ光1は第1のビームスプリ
ッタ2により2分割され、このビームスプリッタ2で反
射された光束はミラー3により更に直角に反射される。
この直角に反射された光束は、光軸に直交する面内の2
方向でパワーの異なる集光素子(シリンドリカルレン
ズ)4を2つ並設して成る光学素子5に入射されて、ス
リット状に集光される。このようにして集光されたスリ
ット状の光束は、集光素子4とは焦点距離の異なるシリ
ンドリカルレンズ4′,4′を集光レンズ4,4と夫々
対向させて並設して成る光学素子5′を介して、2本の
平行光束に変換される。この2本の平行光束はミラー6
により直角に反射され、第2のビームスプリッタ7へ導
かれて、そこを透過せしめられる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Prior to describing the embodiments, the concept of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the collimated laser beam 1 is split into two by a first beam splitter 2, and the light flux reflected by this beam splitter 2 is further reflected at a right angle by a mirror 3.
This light beam reflected at a right angle is 2 in the plane orthogonal to the optical axis.
The light is incident on an optical element 5 formed by arranging two condensing elements (cylindrical lenses) 4 having different powers in different directions and condensed in a slit shape. The slit-shaped light flux thus condensed is an optical element in which cylindrical lenses 4'and 4'having different focal lengths from the condenser element 4 are arranged in parallel so as to face the condenser lenses 4 and 4, respectively. It is converted into two parallel light beams via 5 '. These two parallel light beams are reflected by the mirror 6
Is reflected at a right angle by, is guided to the second beam splitter 7, and is transmitted therethrough.

【0007】一方、第1のビームスプリッタ2を透過し
た光束は、光学素子5と同様に構成されていて、それを
光軸の周りに90゜回転した状態で設置された光学素子
8に入射され、ビームスプリッタ2で反射された光束の
場合と直交するスリット状に集光される。この集光され
たスリット状の光束は、光学素子5′と同様に構成され
ていて光軸の周りに90゜回転した状態で光学素子8に
対向して設置された光学素子8′を介して、2本の平行
光束に変換される。この2本の平行光束は、第2のビー
ムスプリッタ7で反射され、ミラー6により反射されて
来た前記2本の平行光束と合成される。この合成された
光束のパターンは図2に示すように井桁状となる。この
場合、井桁を形成する各光束の光量はレーザ光1の光量
の略半分になるだけで、合成後は元の光量とほぼ等しく
なり途中での光量損失は殆どないから、明るいパターン
が得られる。
On the other hand, the light beam which has passed through the first beam splitter 2 has the same structure as that of the optical element 5 and is incident on the optical element 8 which is installed in a state of being rotated by 90 ° about the optical axis. The light beam reflected by the beam splitter 2 is condensed into a slit shape orthogonal to the case of the light beam. This condensed slit-shaped light beam is transmitted through the optical element 8'which is constructed in the same manner as the optical element 5'and is opposed to the optical element 8 in a state of being rotated by 90 ° about the optical axis. It is converted into two parallel light beams. The two parallel light fluxes are reflected by the second beam splitter 7 and are combined with the two parallel light fluxes reflected by the mirror 6. The pattern of the combined light flux becomes a cross pattern as shown in FIG. In this case, the light quantity of each light beam forming the cross beam is only about half of the light quantity of the laser light 1, and is almost equal to the original light quantity after combining, and there is almost no light quantity loss on the way, so that a bright pattern is obtained. .

【0008】次に、本発明の実施形態について説明す
る。実施例1 図1は、本実施例の構成を示している。この実施例にお
いては、コリメートされたレーザ光1は10mm×10mm
の大きさを有し、紙面に対し45゜の角度に直線偏光し
ている。第1のビームスプリッタ2としては偏光ビーム
スプリッタが用いられ、紙面内で振動する成分を反射す
るようにされている。光学素子5を構成するシリンドリ
カルレンズ4は、有効範囲が10mm×5mm,焦点距離が
100mmのものであり、更に光学素子5′を構成するシ
リンドリカルレンズ4′としては、有効範囲が10mm×
1mm,焦点距離が20mmのものが用いられる。かくし
て、大きさが10mm×1mmの2本のスリット状平行光束
が得られる。第2のビームスプリッタ7としては、紙面
内で振動する成分を透過する偏光ビームスプリッタが用
いられる。
Next, an embodiment of the present invention will be described. Example 1 FIG. 1 shows the configuration of this example. In this embodiment, the collimated laser beam 1 is 10 mm × 10 mm
And is linearly polarized at an angle of 45 ° with respect to the paper surface. A polarization beam splitter is used as the first beam splitter 2, and reflects a component that vibrates in the plane of the drawing. The cylindrical lens 4 forming the optical element 5 has an effective range of 10 mm × 5 mm and a focal length of 100 mm. Further, the cylindrical lens 4 ′ forming the optical element 5 ′ has an effective range of 10 mm ×.
A lens with a focal length of 1 mm and a focal length of 20 mm is used. Thus, two slit-shaped parallel luminous fluxes having a size of 10 mm × 1 mm can be obtained. As the second beam splitter 7, a polarization beam splitter that transmits a component that vibrates in the paper surface is used.

【0009】第1のビームスプリッタ2を透過した光束
は、紙面に垂直な方向で振動する成分のもので、光学素
子8及び8′を透過することにより、ミラー6で反射さ
れた2本のスリット状平行光束を90゜回転させた状態
の大きさが10mm×1mmの2本のスリット状平行光束と
なり、偏光ビームスプリッタ7で反射されて、ミラー6
で反射され偏光ビームスプリッタ7を透過して来た2本
のスリット状平行光束と合成される。その結果、図2に
示したような10mm×1mmの大きさのスリット光から成
る井桁パターンが得られ、光量損失は殆どない。
The luminous flux transmitted through the first beam splitter 2 is a component vibrating in a direction perpendicular to the plane of the drawing. The luminous flux transmitted through the optical elements 8 and 8'is reflected by the mirror 6 to form two slits. -Shaped parallel luminous flux is rotated by 90 ° to form two slit-shaped parallel luminous fluxes with a size of 10 mm × 1 mm, which are reflected by the polarization beam splitter 7 and are reflected by the mirror 6
Are combined with the two slit-shaped parallel luminous fluxes reflected by and transmitted through the polarization beam splitter 7. As a result, a double beam pattern composed of slit light with a size of 10 mm × 1 mm as shown in FIG. 2 is obtained, and there is almost no light amount loss.

【0010】実施例2 本実施例においても、図1に示したのと同様の構成の光
学系が用いられる。但し、レーザ光1としてランダム偏
光しているものが使用され、第1のビームスプリッタ2
としてハーフミラーが用いられ、第2のビームスプリッ
タ7としては図3に示すようなスリットミラー9が用い
られ、その他の光学素子は実施例1と同様のものが用い
られている。スリットミラー9としては、反射ミラー6
で反射されて来た2本の平行光束のみを透過するスリッ
ト状部分9aを除いて全面に反射ミラーコートを施した
ものが用いられる。得られたスリット光のパターンは図
2に示したものと同様であり、光量損失は殆どない。
Embodiment 2 Also in this embodiment, an optical system having the same structure as that shown in FIG. 1 is used. However, randomly polarized laser light is used as the laser beam 1, and the first beam splitter 2
3 is used as the second beam splitter 7, and the other optical elements are the same as those in the first embodiment. As the slit mirror 9, the reflection mirror 6
A reflective mirror coat is used on the entire surface except for the slit-shaped portion 9a which transmits only the two parallel light beams reflected by the. The pattern of the obtained slit light is similar to that shown in FIG. 2, and there is almost no light amount loss.

【0011】実施例3 図4は、本実施例の構成を示している。この実施例にお
いては、コリメートされたレーザ光1は、その波長での
位相差が約0.63π或いは1.36πとなる矩形状等
間隔の回折格子10に導かれるようになっている。この
ような位相差を持つ回折格子10は、入射光を0次光
(直進する光)と±1次光とに3分割する。この場合、
3分割された光束の強度はほぼ等しくなる。これらの3
分割された光束は、3角プリズムの頂点部を平面に成形
して成る台形プリズム11に導かれ、ここで±1次光は
光軸に平行な光束となるように屈折させられる。そし
て、各光束はアナモルフイックレンズ12によってスリ
ット状に集光され、各々異なるパワーのアナモルフイッ
クレンズ13でコリメートされる。この場合、各アナモ
ルフイックレンズのパワー及び方向は、上記のアナモル
フイックレンズ系で、生成されるスリット状平行光束が
同一形状で各々60゜の角度をなすように決定される。
次に、これらのコリメートされた各光束は、台形プリズ
ム14に導かれて屈折され、回折格子10と同様に構成
された回折格子15により合成される。かくして得られ
る光束のパターンは、図5に示されたようになる。
Embodiment 3 FIG. 4 shows the configuration of this embodiment. In this embodiment, the collimated laser light 1 is guided to a rectangular equally spaced diffraction grating 10 having a phase difference of about 0.63π or 1.36π at that wavelength. The diffraction grating 10 having such a phase difference divides the incident light into three light beams of 0th order light (light that travels straight) and ± 1st order light. in this case,
The intensity of the luminous flux divided into three becomes substantially equal. These three
The split luminous flux is guided to a trapezoidal prism 11 formed by shaping the apex portion of a triangular prism into a flat surface, where the ± first-order light is refracted so as to become a luminous flux parallel to the optical axis. Then, each light flux is condensed into a slit shape by the anamorphic lens 12, and collimated by the anamorphic lens 13 having different power. In this case, the power and direction of each anamorphic lens are determined so that the slit-shaped parallel light fluxes generated in the above anamorphic lens system have the same shape and form an angle of 60 °.
Next, these collimated light beams are guided to the trapezoidal prism 14 and refracted, and are combined by the diffraction grating 15 configured similarly to the diffraction grating 10. The pattern of the luminous flux thus obtained is as shown in FIG.

【0012】本実施例では、各光束を夫々1つのアナモ
ルフイックレンズ13で集光させるようにしているが、
これに代えてアナモルフイックレンズアレイや図6に示
すような回折光学素子によるアナモルフイック集光素子
を用いて、更に複雑なパターンを形成するようにするこ
とも可能である。
In this embodiment, each light flux is focused by one anamorphic lens 13, respectively.
Instead of this, it is also possible to use an anamorphic lens array or an anamorphic condensing element having a diffractive optical element as shown in FIG. 6 to form a more complicated pattern.

【0013】実施例4 図7は本実施例の構成を示している。この実施例におい
ては、コリメートされたレーザ光1は、3角プリズム1
6に導かれて2分割され、更にもう1つの3角プリズム
17に導かれて光軸に平行な2本の平行光束にされる。
そして、これらの平行光束は、図4に示された実施例3
と同様な構成のアナモフイックアフォーカル系により成
形及び合成されて、使用に供される。
Embodiment 4 FIG. 7 shows the configuration of this embodiment. In this embodiment, the collimated laser light 1 is the triangular prism 1
The light is guided to 6 and divided into two, and further guided to another triangular prism 17 to be made into two parallel light beams parallel to the optical axis.
Then, these parallel light fluxes are generated in the third embodiment shown in FIG.
It is molded and synthesized by an anamorphic afocal system having the same structure as described above and used.

【0014】実施例5 図8は、本実施例の構成を示している。この実施例は、
例えば、合成された十字パターンのスリット光Lが、図
8(a)に示すように投影面18上に角度θをなして入
射せしめられると、投影面18上に現われる十字パター
ンが1/sin θ倍に拡大されるのを考慮して、成形光学
系のアナモフイック倍率を予め調整し、図8(b)に示
された如き寸法比の十字光が得られるようにして、投影
面18上には図8(c)に示される如く縦横長さの等し
い十字パターンが得られるようにしたものである。
Embodiment 5 FIG. 8 shows the construction of this embodiment. This example is
For example, when the combined cross-shaped slit light L is incident on the projection surface 18 at an angle θ as shown in FIG. 8A, the cross pattern appearing on the projection surface 18 becomes 1 / sin θ. In consideration of being magnified twice, the anamorphic magnification of the molding optical system is adjusted in advance so that the cross light having the dimensional ratio as shown in FIG. As shown in FIG. 8C, a cross pattern having the same vertical and horizontal lengths can be obtained.

【0015】以上各実施例について説明したが、本発明
はこれに限定されるものではなく、様々な組み合わせに
より様々なパターンの照明光を得ることができることは
言うまでもない。
Although the respective embodiments have been described above, it is needless to say that the present invention is not limited to this, and various combinations of illumination lights can be obtained.

【0016】以上説明したように、本発明に係る照明光
学系は、前述の特許請求の範囲に記載した特徴のほか
に、以下のような特徴を有している。
As described above, the illumination optical system according to the present invention has the following features in addition to the features described in the above claims.

【0017】(1)前記集光素子の2つのパワー方向は
分割された各光束において異なっている、請求項1に記
載の照明光学系。これにより、少なくとも2つのパター
ンの方向が各々異なるようにすることができる。
(1) The illumination optical system according to claim 1, wherein the two power directions of the condensing element are different in each of the divided luminous fluxes. This allows at least two patterns to have different directions.

【0018】(2)前記光学素子は、そのパワー方向が
一致するように対向配置されている、請求項1又は上記
(1)に記載の照明光学系。これにより、各々のパター
ンの方向と形状を維持したまま、拡大又は縮小が可能で
あり且つ平行光束に変換することもできる。
(2) The illumination optical system according to claim 1 or (1), wherein the optical elements are arranged so as to face each other so that their power directions coincide with each other. As a result, it is possible to enlarge or reduce while maintaining the direction and shape of each pattern, and it is also possible to convert into a parallel light flux.

【0019】(3)再合成された光束が照射物体に対し
て角度をもって入射する際は、その角度による照射範囲
の拡大縮小を考慮して合成前の光束の形状を予め決めて
おくようにした、請求項1に記載の照明光学系。これに
より、投影面上でのパターンを所望のものにすることが
できる。
(3) When the recombined light flux is incident on the irradiation object at an angle, the shape of the light flux before composition is determined in advance in consideration of the enlargement / reduction of the irradiation range depending on the angle. The illumination optical system according to claim 1. This makes it possible to obtain a desired pattern on the projection surface.

【0020】(4)レーザ光を少なくとも2分割する素
子が、屈折光学素子又は回折光学素子である、請求項1
に記載の照明光学系。これにより、各々の素子の特徴を
生かした光学系とすることができる。例えば、回折光学
素子を用いれば、1つの素子で光束を3分割することも
可能である。
(4) The element for dividing the laser beam into at least two is a refractive optical element or a diffractive optical element.
The illumination optical system described in. This makes it possible to provide an optical system that makes the best use of the characteristics of each element. For example, if a diffractive optical element is used, it is possible to divide the light flux into three by one element.

【0021】(5)前記光学素子が屈折光学素子又は回
折光学素子である、請求項1に記載の照明光学系。これ
により、夫々の素子の特徴を生かした光学系とすること
ができる。例えば、回折光学素子を用いれば、そのピッ
チを任意に調整することにより非球面効果を持たせるこ
とができ、屈折系の球面素子より収差を小さくすること
ができる。又、レーザが波長の異なる複数の光を発振す
るものである場合には、屈折素子と回折素子を組み合わ
せることにより、色収差を補正することもできる。
(5) The illumination optical system according to claim 1, wherein the optical element is a refractive optical element or a diffractive optical element. This makes it possible to provide an optical system that makes the best use of the characteristics of each element. For example, if a diffractive optical element is used, an aspherical effect can be provided by arbitrarily adjusting the pitch, and the aberration can be made smaller than that of the spherical element of the refraction system. When the laser oscillates a plurality of lights having different wavelengths, it is possible to correct chromatic aberration by combining a refraction element and a diffraction element.

【0022】(6)光束を再合成する素子が、屈折光学
素子又は回折光学素子である、請求項1に記載の照明光
学系。これにより、各素子の特徴を生かした光学系とす
ることができる。例えば、回折光学素子を用いれば、1
つの素子で3つの光束を1つに合成することも可能であ
る。
(6) The illumination optical system according to claim 1, wherein the element for recombining the light flux is a refractive optical element or a diffractive optical element. This makes it possible to provide an optical system that makes the most of the characteristics of each element. For example, if a diffractive optical element is used,
It is also possible to combine three light fluxes into one with one element.

【0023】(7)平行光にコリメートされたレーザ光
と、該レーザ光を少なくとも2分割する素子の代わり
に、少なくとも2つのコリメートされたレーザ光を用い
るようにした、請求項1に記載の照明光学系。これによ
り、1つのレーザからの光を分割することなく、各々の
レーザ光を所望の形状にし、それらを合成することによ
り複雑なパターンを得ることができ、又、各々のレーザ
光の波長を変えておけば、複数の波長の混在したパター
ンを得ることもできる。
(7) The illumination according to claim 1, wherein at least two collimated laser beams are used instead of the collimated laser beam and the element for dividing the laser beam into at least two. Optical system. This makes it possible to obtain a complicated pattern by combining each laser light into a desired shape without splitting the light from one laser and changing the wavelength of each laser light. If so, it is possible to obtain a pattern in which a plurality of wavelengths are mixed.

【0024】[0024]

【発明の効果】上述のように、本発明によれば、殆ど光
量を損失することなしに様々なパターンを投影すること
の出来る照明光学系を提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide an illumination optical system capable of projecting various patterns with almost no loss of light amount.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る照明光学系の一実施例の構成を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an example of an illumination optical system according to the present invention.

【図2】図1に示された実施例によって得られる照明光
のパターンを示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a pattern of illumination light obtained by the embodiment shown in FIG.

【図3】本発明に係る照明光学系の他の実施例に用いら
れるスリットミラーの正面図である。
FIG. 3 is a front view of a slit mirror used in another embodiment of the illumination optical system according to the present invention.

【図4】本発明に係る照明光学系の更に他の実施例の構
成を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing the configuration of still another embodiment of the illumination optical system according to the present invention.

【図5】図4に示された実施例によって得られる照明光
のパターンを示す図である。
5 is a diagram showing a pattern of illumination light obtained by the embodiment shown in FIG.

【図6】図4に示された実施例に適用され得る回折光学
素子の正面図である。
6 is a front view of a diffractive optical element that can be applied to the embodiment shown in FIG.

【図7】本発明に係る照明光学系の更に他の実施例の一
部の構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a part of the configuration of still another embodiment of the illumination optical system according to the present invention.

【図8】本発明に係る照明光学系の更に他の実施例の説
明図で、(a)は投影面に照明光が斜めに入射する状態
を示す図、(b)は入射する照明光の十字パターンを示
す図、(c)は(b)に示された照明光が投影面上に入
射せしめられた場合の十字パターンを示す図である。
8A and 8B are explanatory views of still another embodiment of the illumination optical system according to the present invention, FIG. 8A shows a state in which illumination light is obliquely incident on the projection surface, and FIG. 8B is a diagram showing incident illumination light. FIG. 7C is a diagram showing a cross pattern, and FIG. 9C is a diagram showing a cross pattern when the illumination light shown in FIG. 7B is incident on the projection surface.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ光 2,7 ビームスプリッタ 3,6 ミラー 4,4′ 集光素子(シリンドリカルレンズ) 5,5′,8,8′ 光学素子 9 スリットミラー 10,15 回折格子 11,14 台形プリズム 12,13 アナモルフイックレンズ 16,17 3角プリズム 18 投影面 1 Laser Light 2,7 Beam Splitter 3,6 Mirror 4,4 'Condensing Element (Cylindrical Lens) 5,5', 8,8 'Optical Element 9 Slit Mirror 10,15 Diffraction Grating 11,14 Trapezoidal Prism 12,13 Anamorphic lens 16,17 Trigonal prism 18 Projection surface

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平行光にコリメートされたレーザ光と、
該レーザ光を少なくとも2分割する素子と、該素子によ
り分割された光束の各光路内に配置されていて光軸に直
交する2方向で異なるパワーを有する集光素子を少なく
とも1つ含む光学素子と、該光学素子からの各光束を再
合成する素子とを備えた照明光学系。
1. A laser beam collimated into parallel light,
An element which divides the laser beam into at least two, and an optical element which is arranged in each optical path of the light beam divided by the element and includes at least one condensing element having different powers in two directions orthogonal to the optical axis. And an element for recombining the light fluxes from the optical element.
JP33065795A 1995-12-19 1995-12-19 Illumination optical system Withdrawn JPH09171153A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014224798A (en) * 2013-03-12 2014-12-04 ジーイー・アビエイション・システムズ・エルエルシー Method of forming grid defining first relative reference frame

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