JPH09170970A - Standard gas dilution apparatus, standard gas generation apparatus and liquid sample container for generation of standard gas - Google Patents

Standard gas dilution apparatus, standard gas generation apparatus and liquid sample container for generation of standard gas

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JPH09170970A
JPH09170970A JP7348740A JP34874095A JPH09170970A JP H09170970 A JPH09170970 A JP H09170970A JP 7348740 A JP7348740 A JP 7348740A JP 34874095 A JP34874095 A JP 34874095A JP H09170970 A JPH09170970 A JP H09170970A
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gas
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a highly accurate low-concentration standard gas even when a dilution part has a small number of steps. SOLUTION: A standard gas fed to an entrance of a flow rate controller 4 and discharged out from an exit is supplied to a main flow path 24. A dilution gas is supplied to the main flow path 24 from a first branch 26 and a third branch path 28 which are branched from the main flow path 24 and closer in this order to the flow rate controller 4. A part of the gas in the main flow path 24 is discharged through a second branch 27. Flow rates of the supplied and discharged gases are controlled by flow rate controllers 29, 30, 31 installed in the middle of the branches 26, 27, 28.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、標準ガスを低濃度
標準ガスに希釈する標準ガス希釈装置、液体試料から標
準ガスを発生する標準ガス発生装置、及びこれに用いる
ことができる標準ガス発生用液体試料容器に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a standard gas diluting device for diluting a standard gas into a low-concentration standard gas, a standard gas generating device for generating a standard gas from a liquid sample, and a standard gas generating device usable therefor. The present invention relates to a liquid sample container.

【0002】[0002]

【従来の技術】標準ガスは各種のガス分析装置の較正な
どに用いられるものであり、従来から、液体試料から低
濃度標準ガスを発生させる低濃度標準ガス発生装置とし
て、特開平4−81650号公報に開示された標準ガス
調整装置が知られている。
2. Description of the Related Art A standard gas is used for calibration of various gas analyzers and the like, and has been conventionally used as a low-concentration standard gas generator for generating a low-concentration standard gas from a liquid sample. The standard gas adjusting device disclosed in the publication is known.

【0003】この従来の低濃度標準ガス発生装置(標準
ガス調整装置)は、液体試料から比較的高濃度の標準ガ
スを発生させる標準ガス発生部と、該標準ガス発生部に
より発生された標準ガスを低濃度標準ガスに希釈する標
準ガス希釈装置とから構成されている。前記標準ガス発
生部は、一流路のガス配管の途中に圧力調整器、流量コ
ントローラと液体試料の入った孔のあいた液体試料容器
を内包する試料室とをガスの流れに沿ってこの順序に配
置したものである。前記標準ガス希釈装置は、前記標準
ガス発生部に直結された蒸気試料供給流路と該蒸気試料
供給流路から分岐された4つの分岐管を持ち、前記標準
ガス発生部に近い方から、第1、第3分岐は流量コント
ローラを配置したガス排出口に接続し、第2、第4分岐
はガスの流れに沿ってこの順に圧力調整器と流量コント
ローラを配置したガス導入口を接続してなるものであ
る。
This conventional low-concentration standard gas generating device (standard gas adjusting device) is a standard gas generating part for generating a relatively high-concentration standard gas from a liquid sample, and a standard gas generated by the standard gas generating part. And a standard gas diluting device that dilutes the standard gas with a low concentration standard gas. In the standard gas generating unit, a pressure regulator, a flow rate controller, and a sample chamber containing a liquid sample container having a hole containing a liquid sample are arranged in this order along the gas flow in the middle of one-way gas pipe. It was done. The standard gas diluting device has a vapor sample supply channel directly connected to the standard gas generation section and four branch pipes branched from the vapor sample supply channel. The first and third branches are connected to a gas outlet in which a flow controller is arranged, and the second and fourth branches are connected to a gas inlet in which a pressure regulator and a flow controller are arranged in this order along the flow of gas. It is a thing.

【0004】この従来の低濃度標準ガス発生装置で採用
されている前記標準ガス希釈装置によれば、前記標準ガ
ス発生部から標準ガス希釈装置に供給される標準ガス中
の液体試料濃度をC’、前記標準ガス発生部から標準ガ
ス希釈装置に供給される標準ガスの流量をL1’、第1
分岐から排気されるガスの流量をL2’、第2分岐から
給気されるガスの流量をL3’、第3分岐から排気され
るガスの流量をL4’、第2分岐から給気されるガスの
流量をL5’とすると、流量L1’−L2’+L3’−
L4’+L5’、濃度C’・[(L1’−L2’)/
(L1’−L2’+L3’)]・[(L1’−L2’+
L3’−L4’)/(L1’−L2’+L3’−L4’
+L5’)]の低濃度標準ガスが得られ、ppb領域の
低濃度標準ガスが得られる。
According to the standard gas diluter used in this conventional low-concentration standard gas generator, the liquid sample concentration in the standard gas supplied from the standard gas generator to the standard gas diluter is C '. , The flow rate of the standard gas supplied from the standard gas generation unit to the standard gas diluter is L1 ′,
The flow rate of the gas discharged from the branch is L2 ′, the flow rate of the gas supplied from the second branch is L3 ′, the flow rate of the gas discharged from the third branch is L4 ′, the gas supplied from the second branch. When the flow rate of L5 ′ is L5 ′, the flow rate L1′−L2 ′ + L3′−
L4 ′ + L5 ′, concentration C ′ · [(L1′−L2 ′) /
(L1'-L2 '+ L3')] [[L1'-L2 '+
L3'-L4 ') / (L1'-L2' + L3'-L4 '
+ L5 ′)] low-concentration standard gas is obtained, and a low-concentration standard gas in the ppb region is obtained.

【0005】そして、前記従来の低濃度標準ガス発生装
置で採用されている前記標準ガス希釈装置では、前記蒸
気試料供給流路にはバックグラウンドや共存妨害物質の
発生源となる流量コントローラ等が一切設けられていな
いので、高精度の濃度で低濃度標準ガスが得られる。
In the standard gas diluter used in the conventional low-concentration standard gas generator, the vapor sample supply passage has no flow rate controller or the like as a source of background or coexisting interfering substances. Since it is not provided, a low-concentration standard gas can be obtained with a highly accurate concentration.

【0006】また、前記従来の低濃度標準ガス発生装置
で採用されている液体試料容器は、ガラス材料で一体に
構成されている。
Further, the liquid sample container used in the conventional low-concentration standard gas generator is integrally formed of a glass material.

【0007】また、従来、比較的高濃度の標準ガスのガ
ス源として、予め高精度の濃度に調整された標準ガスが
収容されたボンベが用いられることも多い。
[0007] Conventionally, as a gas source of a relatively high-concentration standard gas, a cylinder containing a standard gas whose concentration is adjusted in advance with high accuracy is often used.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の低濃度標準ガス発生装置で用いられている標準ガス
希釈装置では、第1分岐及び第2分岐からなる1段目の
希釈部の希釈率が(L1’−L2’)/(L1’−L
2’+L3’)であるため、高希釈率を得るためには、
L1’−L2’(すなわち、標準ガス発生部からの標準
ガスの流量L1’と第1分岐から排気されるガスの流量
L2’との差)を小さくしなければならない。しかし、
L1’−L2’を精度良く小さくすることは非常に困難
である。すなわち、蒸気試料供給流路には前記標準ガス
発生部に直結されていることから試料室を流れるガスの
流量がそのままL1’となるため、L1’をある程度大
きくしなければならず、L1’−L2’を小さくするた
めにはL2’を大きくせざるを得ないが、L2’を大き
くするとL2’に制御するための流量コントローラの精
度に応じてL2’のばらつきが大きくなるので、結局L
1’−L2’を精度良く小さくすることは非常に困難で
ある。なお、試料室を流れるガスの流量がある程度大き
くなければ、液体試料容器内の液体試料の蒸発量が不安
定になってしまう。したがって、前記従来の低濃度標準
ガス発生装置で用いられている標準ガス希釈装置では、
高希釈率を得ることができず、高精度の濃度でppt領
域の低濃度標準ガスを得ることはできなかった。L1’
−L2’を小さくせずに、分岐数を増やして3段以上の
希釈部を設けることが考えられるが、その場合には構成
要素の数が増えてコストアップを免れない。また、希釈
部の段数を増やすとそれに応じて濃度の精度が劣化せざ
るを得ないことから希釈の段数には一定の限界があるの
で、前記従来の低濃度標準ガス発生装置で用いられてい
る標準ガス希釈装置では、結局、高精度の濃度でppt
領域の低濃度標準ガスを得ることはできなかった。
However, in the standard gas diluting device used in the conventional low-concentration standard gas generator, the dilution ratio of the first-stage diluting section consisting of the first branch and the second branch is (L1'-L2 ') / (L1'-L
2 '+ L3'), so to obtain a high dilution rate,
L1'-L2 '(that is, the difference between the flow rate L1' of the standard gas from the standard gas generating portion and the flow rate L2 'of the gas exhausted from the first branch) must be reduced. But,
It is very difficult to accurately reduce L1′-L2 ′. That is, since the vapor sample supply channel is directly connected to the standard gas generation unit, the flow rate of the gas flowing through the sample chamber is L1 ′ as it is, so L1 ′ must be increased to some extent. In order to make L2 'small, L2' must be made large, but if L2 'is made large, the variation of L2' becomes large according to the accuracy of the flow rate controller for controlling to L2 '.
It is very difficult to reduce 1′-L2 ′ with high accuracy. If the flow rate of the gas flowing through the sample chamber is not large to some extent, the evaporation amount of the liquid sample in the liquid sample container becomes unstable. Therefore, in the standard gas diluter used in the conventional low-concentration standard gas generator,
It was not possible to obtain a high dilution rate, and it was not possible to obtain a low-concentration standard gas in the ppt region with a highly accurate concentration. L1 '
It is conceivable to increase the number of branches and provide three or more dilution sections without reducing -L2 ', but in that case, the number of constituent elements increases and the cost increase cannot be avoided. In addition, since the accuracy of the concentration must be deteriorated accordingly when the number of stages of the dilution section is increased, there is a certain limit to the number of stages of dilution, so that the conventional low-concentration standard gas generator is used. After all, in the standard gas diluter, ppt with high precision concentration
It was not possible to obtain a low-concentration standard gas in the region.

【0009】また、前記従来の低濃度標準ガス発生装置
では、前記標準ガス希釈装置の前記蒸気試料供給流路に
前記標準ガス発生部が直結されているので、前記標準ガ
ス希釈装置により前記標準ガス発生部で液体試料から発
生した一種類の標準ガスのみしか希釈することができな
かった。したがって、例えば、液体試料による標準ガス
ではなく、予め用意された比較的高濃度の標準ガス(例
えば、ボンベに収容されている標準ガス)を希釈しよう
とする場合には、前記従来の低濃度標準ガス発生装置と
は別個に、当該標準ガスを希釈するための標準ガス希釈
装置を用意しなければならず、著しく不経済であった。
Further, in the conventional low-concentration standard gas generator, the standard gas generator is directly connected to the vapor sample supply passage of the standard gas diluter, so that the standard gas diluter is used to generate the standard gas. It was possible to dilute only one type of standard gas generated from the liquid sample at the generation part. Therefore, for example, when diluting a standard gas having a relatively high concentration prepared in advance (for example, a standard gas contained in a cylinder) instead of the standard gas of a liquid sample, the conventional low concentration standard is used. A standard gas diluting device for diluting the standard gas must be prepared separately from the gas generator, which is extremely uneconomical.

【0010】さらに、前記従来の低濃度標準ガス発生装
置の標準ガス発生部で用いられている液体試料容器は、
前述したようにガラス材料で一体に構成されているの
で、製造に熟練及び手数を要しコストアップを免れな
い。また、前記液体試料容器はガラス材料で一体に構成
されているので、当該液体試料容器に形成した孔の大き
さ及び厚みを精度良く所望の大きさ及び厚みにすること
ができないことから、製造した孔あき容器の個々につい
て較正(前記試料室に一定流量のガスを長時間流し続け
たときの、液体試料容器中の液体試料の減少量を精密天
秤で測定して求めることによる較正)を行わなければな
らず、多大な労力を要していた。さらに、前記液体試料
容器はガラス材料で一体に構成されているので、液体試
料を液体試料容器内に出し入れする場合には液体試料容
器の孔から行われているが、前記標準ガス発生部におい
て比較的濃度の低い標準ガスを得る場合には、液体試料
容器の孔が小さくされるため、液体試料容器内への液体
試料の出し入れに著しく手数を要していた。そして、注
射針のような器具を用いるとしても液体試料容器の孔が
あまりに小さければ液体試料容器内への液体試料の出し
入れが不可能となってしまうので、液体試料容器の孔の
大きさを小さくするには一定の限界がある。このため、
前記標準ガス発生部において発生させる標準ガスの濃度
を低くするにも限界があった。
Further, the liquid sample container used in the standard gas generating part of the conventional low-concentration standard gas generator is
As described above, since the glass material is integrally formed, it requires skill and labor for manufacturing, and the cost is inevitable. Since the liquid sample container is integrally formed of a glass material, the size and thickness of the holes formed in the liquid sample container cannot be accurately adjusted to a desired size and thickness, and thus the liquid sample container was manufactured. Calibration must be performed for each perforated container (calibration by measuring the reduction amount of the liquid sample in the liquid sample container with a precision balance when a constant flow rate of gas is kept flowing for a long time). It required a great deal of effort. Furthermore, since the liquid sample container is integrally formed of a glass material, when the liquid sample is taken in and out of the liquid sample container, it is performed from the hole of the liquid sample container. In order to obtain a standard gas having a low dynamic concentration, the holes of the liquid sample container are made small, so that it takes a great deal of effort to take the liquid sample in and out of the liquid sample container. Even if a device such as an injection needle is used, if the hole of the liquid sample container is too small, the liquid sample cannot be taken in and out of the liquid sample container, so the size of the hole of the liquid sample container should be small. There is a certain limit to this. For this reason,
There is also a limit to how low the concentration of the standard gas generated in the standard gas generating section is.

【0011】なお、標準ガス発生のために用いる液体試
料容器は、例えば、JIS−K0226に記載されてい
る装置(ガス中に既知の濃度の液体試料(水)蒸気を混
合するために用いる装置)において用いられている孔の
あいた液体試料容器である拡散管付き容器もガラス材料
で一体に構成されていることからも明らかなように、ガ
ラス材料で一体に構成すべきものである、というのがこ
の分野における従来の技術常識であった。
The liquid sample container used for generating the standard gas is, for example, a device described in JIS-K0226 (a device used for mixing liquid sample (water) vapor of known concentration in gas). As is clear from the fact that the container with a diffusion tube that is a liquid sample container with holes used in (1) is also made of glass material, it should be made of glass material. It was the conventional technical common sense in the field.

【0012】さらに、前述したように、比較的高濃度の
標準ガスのガス源として、予め高精度の濃度に調整され
た標準ガスが収容されたボンベが用いられることも多い
が、このような標準ガス入りのボンベを製造するには著
しく手数を要しこのボンベは非常に高価である。また、
例えば、標準ガス中の水分がボンベの内壁に吸着されな
いように保存には特別な取り扱いが必要であるととも
に、そのような取り扱いを行っても経時的に標準ガスの
濃度が変化してしまうので、当該ボンベガスの寿命は短
いものであった。
Further, as described above, a cylinder containing a standard gas whose concentration has been adjusted in advance with high precision is often used as a gas source of a relatively high-concentration standard gas. It takes a great deal of effort to manufacture a gas-filled cylinder, and this cylinder is very expensive. Also,
For example, special handling is required for storage so that water in the standard gas is not adsorbed on the inner wall of the cylinder, and even if such handling is performed, the concentration of the standard gas will change over time. The life of the cylinder gas was short.

【0013】本発明は前記事情に鑑みてなされたもので
あり、本発明の1つの目的は、希釈部の段数が少なくて
も高精度の濃度で低濃度標準ガスを得ることができ、ま
たppt領域の極低濃度標準ガスを得ることも可能であ
る標準ガス希釈装置及びこれを用いた低濃度標準ガス発
生装置を提供することである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to obtain a low-concentration standard gas with a highly accurate concentration even when the number of stages of the diluting section is small, and ppt. It is an object of the present invention to provide a standard gas diluting device capable of obtaining an extremely low standard gas concentration in a region and a low concentration standard gas generating device using the standard gas diluting device.

【0014】本発明の他の目的は、1つの標準ガス希釈
装置により異なる種類の標準ガスを希釈することができ
る標準ガス希釈装置及びこれを用いた低濃度標準ガス発
生装置を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a standard gas diluting device capable of diluting different kinds of standard gas with one standard gas diluting device and a low concentration standard gas generating device using the standard gas diluting device. .

【0015】本発明の更に他の目的は、製造が容易で安
価であるとともに、個々の全てのものについて較正を行
う必要がなく、しかも、液体試料の出し入れが容易で低
濃度の標準ガスを発生させることも可能である標準ガス
発生用液体試料容器及びこれを用いた標準ガス発生装置
を提供することを目的とする。
Yet another object of the present invention is that it is easy and inexpensive to manufacture, does not require calibration for all individual items, and that it is easy to put in and take out a liquid sample and generates a low-concentration standard gas. It is an object of the present invention to provide a liquid sample container for standard gas generation that can also be used, and a standard gas generator using the same.

【0016】本発明の更に他の目的は、標準ガス入りボ
ンベに替わる安価で取り扱いも容易な代替手段としての
標準ガス発生装置を提供することである。
Still another object of the present invention is to provide a standard gas generator which is an inexpensive and easy-to-use alternative to the standard gas cylinder.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の第1の態様による標準ガス希釈装置は、主
流入口と主流出口とを有し、前記主流入口に流入された
標準ガスを低濃度標準ガスに希釈して前記主流出口から
流出させる標準ガス希釈装置において、流入口が前記主
流入口に接続された第1の流量コントローラと、一端が
前記第1の流量コントローラの流出口に接続されるとと
もに他端が前記主流出口に接続された主流路と、前記主
流路から分岐された1つ以上の分岐路と、を備えたもの
である。そして、前記1つ以上の分岐路のうちの、前記
第1の流量コントローラに近い方から奇数番目の分岐路
は、前記主流路に希釈用のガスを給気させる給気路であ
って、途中に流量コントローラが設置された給気路であ
る。前記1つ以上の分岐路のうちの、前記第1の流量コ
ントローラに近い方から偶数番目の分岐路は、前記主流
路からガスを排気させる排気路であって、途中に流量コ
ントローラが設置された排気路である。
In order to solve the above problems, a standard gas diluting device according to a first aspect of the present invention has a main inlet and a main outlet, and a standard gas introduced into the main inlet is provided. In a standard gas diluting device for diluting into a low-concentration standard gas and flowing out from the main outlet, a first flow controller having an inlet connected to the main inlet and one end connected to an outlet of the first flow controller. The main flow path has the other end connected to the main flow outlet, and one or more branch paths branched from the main flow path. Of the one or more branch passages, the odd-numbered branch passages closer to the first flow rate controller are air supply passages for supplying the main passage with dilution gas, and This is the air supply passage in which the flow controller is installed. Of the one or more branch passages, the even-numbered branch passages closer to the first flow rate controller are exhaust passages for exhausting gas from the main flow passage, and the flow rate controller is installed on the way. It is an exhaust path.

【0018】この第1の態様による標準ガス希釈装置で
は、第1の流量コントローラが主流入口と主流出口との
間の流路(前述した従来の標準ガス発生装置の標準ガス
希釈装置における蒸気試料供給流路に相当する)に設け
られているので、第1の流量コントローラとこれに近い
方から1番目の分岐路とが1段目の希釈部となり、この
1段目の希釈部の希釈率は、前述した第1の流量コント
ローラの流出口から主流路に流出するガスの流量をL
1、1番目の分岐路から給気されるガスの流量をL2と
すると、L1/(L1+L2)となる。そして、前記第
1の流量コントローラに近い方から2番目以降の分岐路
(ただし、2番目以降の分岐路は必ずしも必要ない)に
関しては、前述した従来の低濃度標準ガス発生装置で用
いられている標準ガス発生装置の3番目の分岐以降と同
様の作用を担い、2段目以降の希釈部を構成し、その希
釈率も同様である。このように、1段目の希釈部の希釈
率がL1/(L1+L2)となるので、前記第1の流量
コントローラによるガスの流量L1は精度良く小さくす
ることができることから、1段目の希釈部の希釈率を精
度良く小さくすることができ、これにより、希釈部の段
数が少なくても全体として高精度の希釈率を得ることが
でき、高精度の濃度で低濃度標準ガスを得ることがで
き、例えば、ppt領域の極低濃度標準ガスも得ること
が可能となる。
In the standard gas diluting device according to the first aspect, the first flow controller controls the flow path between the main inlet and the main outlet (the vapor sample supply in the standard gas diluting device of the conventional standard gas generator described above). Corresponding to the flow path), the first flow controller and the first branch path from the one closest to the flow controller serve as the first-stage dilution section, and the dilution ratio of the first-stage dilution section is , The flow rate of the gas flowing from the outlet of the above-mentioned first flow rate controller to the main flow path is L
If the flow rate of the gas supplied from the first and first branch paths is L2, then L1 / (L1 + L2). The second and subsequent branch passages from the side closer to the first flow rate controller (however, the second and subsequent branch passages are not necessarily required) are used in the conventional low-concentration standard gas generator described above. It has the same function as that of the third branch of the standard gas generator and thereafter, constitutes the second and subsequent dilution sections, and has the same dilution rate. Since the dilution rate of the first-stage dilution section is L1 / (L1 + L2), the gas flow rate L1 by the first flow rate controller can be accurately reduced. It is possible to accurately reduce the dilution rate of, so that even if the number of stages of the dilution section is small, a highly accurate dilution rate can be obtained as a whole, and a low-concentration standard gas can be obtained with a highly accurate concentration. For example, it becomes possible to obtain an extremely low-concentration standard gas in the ppt region.

【0019】ところで、前記従来の低濃度標準ガス発生
装置で採用されている前記標準ガス希釈装置では、主流
入口と主流出口との間の流路にはバックグラウンドや共
存妨害物質の発生源となる流量コントローラ等を一切設
けないことにより、高精度の濃度で低濃度標準ガスを得
ようとするものであった。しかしながら、本件発明者の
研究により、主流入口に近い側でバックグラウンドや共
存妨害物質が発生しても、主流入口に近い側では標準ガ
スの濃度が高くガス中の試料の量が多いので、試料の量
に対してバックグラウンドや共存妨害物質の量は無視し
得る程度であり、当該バックグラウンドや共存妨害物質
は最終的に得る低濃度標準ガスの濃度の精度に実質的に
影響を与えないことが判明した。したがって、前記第1
の流量コントローラはバックグラウンドや共存妨害物質
の発生源となるものの、前記第1の流量コントローラは
主流入口に最も近い側に設けられ、前記第1の流量コン
トローラの流出口と主流出口との間の主流路にはバック
グラウンドや共存妨害物質の発生源となる流量コントロ
ーラ等が一切設けられていないので、高精度の濃度で低
濃度標準ガスが得られる。
In the standard gas diluter used in the conventional low-concentration standard gas generator, the flow path between the main inlet and the main outlet serves as a source of background and coexisting interfering substances. It was an attempt to obtain a low-concentration standard gas with a highly accurate concentration by not providing a flow rate controller or the like. However, according to the research conducted by the present inventors, even if background or coexisting substances are generated on the side close to the main inlet, the concentration of the standard gas is high on the side close to the main inlet, so that the amount of the sample in the gas is large. The amount of background and coexisting interfering substances is negligible with respect to the amount of, and the background and coexisting interfering substances do not substantially affect the accuracy of the final concentration of low-concentration standard gas. There was found. Therefore, the first
The first flow controller is provided on the side closest to the main inlet, and the first flow controller is provided between the outlet and the main outlet of the first flow controller. Since the main flow path is not provided with a flow controller or the like which is a source of background and coexistence interfering substances, a low-concentration standard gas can be obtained with high accuracy.

【0020】本発明の第2の態様による標準ガス希釈装
置は、前記第1の態様による標準ガス希釈装置におい
て、互いに異なる標準ガスを給気する複数の標準ガス給
気路と、前記複数の標準ガス給気路を切り換えてそのい
ずれか1つのみを前記標準ガス希釈装置の前記主流入口
に連通させる切り換え手段と、を更に備えたものであ
る。
The standard gas diluting device according to a second aspect of the present invention is the standard gas diluting device according to the first aspect, wherein a plurality of standard gas supply passages for supplying different standard gases and a plurality of the standard gas diluting devices are provided. Switching means for switching the gas supply passage so that only one of the gas supply passages communicates with the main inlet of the standard gas diluting device.

【0021】この第2の態様による標準ガス希釈装置に
よれば、希釈部の段数が少なくても高精度の濃度で低濃
度標準ガスを得ることができるのみならず、複数の標準
ガス給気路と切り換え手段とを備えているので、別個に
標準ガス希釈装置を用いることなく、1つの標準ガス希
釈装置により異なる種類の標準ガスを希釈することがで
き、経済的である。
With the standard gas diluting device according to the second aspect, not only the low-concentration standard gas can be obtained with high accuracy even if the number of stages of the diluting section is small, but a plurality of standard gas supply passages are also provided. Since it is equipped with a switching means, it is possible to dilute different kinds of standard gas with one standard gas diluting device without separately using the standard gas diluting device, which is economical.

【0022】本発明の第3の態様による標準ガス希釈装
置は、主流入口と主流出口とを有し、前記主流入口に流
入された標準ガスを低濃度標準ガスに希釈して前記主流
出口から流出させる標準ガス希釈装置において、互いに
異なる標準ガスを給気する複数の標準ガス給気路と、前
記複数の標準ガス給気路を切り換えてそのいずれか1つ
のみを前記標準ガス希釈装置の前記主流入口に連通させ
る切り換え手段と、を備えたものである。
The standard gas diluting device according to the third aspect of the present invention has a main inlet and a main outlet, and dilutes the standard gas introduced into the main inlet into a low-concentration standard gas and flows out from the main outlet. In the standard gas dilution device, a plurality of standard gas supply passages for supplying different standard gases and the plurality of standard gas supply passages are switched, and only one of them is used as the main stream of the standard gas dilution device. And a switching means for communicating with the entrance.

【0023】この第3の態様による標準ガス希釈装置に
よれば、複数の標準ガス給気路と切り換え手段とを備え
ているので、別個に標準ガス希釈装置を用いることな
く、1つの標準ガス希釈装置により異なる種類の標準ガ
スを希釈することができ、経済的である。この第3の態
様では、希釈部の構成自体は特に限定されるものではな
く、例えば、前述した従来の標準ガス発生装置において
用いられている標準ガス希釈装置と同一の希釈部を採用
してもよい。
According to the standard gas diluting device of the third aspect, since a plurality of standard gas supply passages and switching means are provided, one standard gas diluting device can be used without separately using the standard gas diluting device. It is economical because different types of standard gas can be diluted by the device. In the third aspect, the structure itself of the diluting unit is not particularly limited, and for example, even if the same diluting unit as the standard gas diluting device used in the conventional standard gas generating device described above is adopted. Good.

【0024】本発明の第4の態様による低濃度標準ガス
発生装置は、液体試料の入った孔のあいた液体試料容器
を内包し、試料ガスが流入されるとともに前記液体試料
の蒸気を含んだ試料ガスが標準ガスとして流出する試料
室と、前記試料室内の圧力を調整する圧力調整器と、前
記試料室内に流入する前記試料ガスの流量を調整する流
量コントローラと、前記試料室から流出した標準ガスの
一部を排気する標準ガス排気路と、前記試料室から流出
した標準ガスの残りの一部を給気する標準ガス給気路
と、を備えた標準ガス発生部と、前記第1の態様による
標準ガス希釈装置と、を備え、前記標準ガス発生部の前
記標準ガス給気路が前記標準ガス希釈装置の前記主流入
口に接続されたものである。
A low-concentration standard gas generator according to a fourth aspect of the present invention includes a liquid sample container having a hole containing a liquid sample therein, and a sample gas is introduced into the sample container containing the vapor of the liquid sample. A sample chamber in which gas flows out as a standard gas, a pressure regulator for adjusting the pressure in the sample chamber, a flow rate controller for adjusting the flow rate of the sample gas flowing into the sample chamber, and a standard gas flowing out of the sample chamber A standard gas exhaust path for exhausting a part of the standard gas and a standard gas supply path for supplying the remaining part of the standard gas flowing out from the sample chamber; and the first aspect. And a standard gas diluting device according to 1., wherein the standard gas supply passage of the standard gas generating unit is connected to the main inlet of the standard gas diluting device.

【0025】この第4の態様による低濃度標準ガス発生
装置によれば、希釈部の段数が少なくても、標準ガス発
生部により液体試料から発生した標準ガスを希釈して高
精度の濃度で低濃度標準ガスを得ることができる。な
お、前述した従来の標準ガス発生装置では、蒸気試料供
給流路には前記標準ガス発生部に直結されていることか
ら試料室を流れるガスの流量がそのまま希釈装置に導入
されるため、希釈装置に導入されるガスの流量をある程
度大きくしなければならなかった。この点、前記第4の
態様によれば、前記試料室から流出した標準ガスの一部
が標準ガス排気路から排気され、試料室から流出した標
準ガスの残りの一部を標準ガス給気路により標準ガス希
釈装置の主流入口に給気しているので、試料室を流れる
ガスの量を大きくして液体試料の蒸発量の安定化を図り
つつ、前記第1の流量コントローラの流出口から主流路
に流出するガスの流量を小さくできる。
According to the low-concentration standard gas generator according to the fourth aspect, the standard gas generated from the liquid sample is diluted by the standard gas generator to reduce the concentration with high accuracy even if the number of stages of the dilution unit is small. A concentration standard gas can be obtained. In the above-mentioned conventional standard gas generator, the flow rate of the gas flowing through the sample chamber is directly introduced to the diluter because the vapor sample supply flow path is directly connected to the standard gas generator, so that the diluter is used. It was necessary to increase the flow rate of the gas introduced into the chamber to some extent. In this respect, according to the fourth aspect, a part of the standard gas flowing out of the sample chamber is exhausted from the standard gas exhaust passage, and the remaining part of the standard gas flowing out of the sample chamber is separated from the standard gas supply passage. Since air is supplied to the main inlet of the standard gas diluter by means of the above, the amount of gas flowing through the sample chamber is increased to stabilize the evaporation amount of the liquid sample, while the main flow is supplied from the outlet of the first flow rate controller. The flow rate of the gas flowing out to the passage can be reduced.

【0026】本発明の第5の態様による低濃度標準ガス
発生装置は、液体試料の入った孔のあいた液体試料容器
を内包し、試料ガスが流入されるとともに前記液体試料
の蒸気を含んだ試料ガスが標準ガスとして流出する試料
室と、前記試料室内の圧力を調整する圧力調整器と、前
記試料室内に流入する前記試料ガスの流量を調整する流
量コントローラと、前記試料室から流出した標準ガスの
一部を排気する標準ガス排気路と、前記試料室から流出
した標準ガスの残りの一部を給気する標準ガス給気路
と、を備えた標準ガス発生部と、前記第2又は第3の態
様による標準ガス希釈装置と、を備え、前記標準ガス発
生部の前記標準ガス給気路が前記標準ガス希釈装置の前
記複数の標準ガス給気路のうちの1つであるものであ
る。
A low-concentration standard gas generator according to a fifth aspect of the present invention includes a liquid sample container having a hole containing a liquid sample therein, and a sample gas is introduced into the sample container containing vapor of the liquid sample. A sample chamber in which gas flows out as a standard gas, a pressure regulator for adjusting the pressure in the sample chamber, a flow rate controller for adjusting the flow rate of the sample gas flowing into the sample chamber, and a standard gas flowing out of the sample chamber A standard gas exhaust path for exhausting a part of the standard gas and a standard gas supply path for supplying the remaining part of the standard gas flowing out from the sample chamber, and the second or the second standard gas generating section. The standard gas dilution device according to the third aspect, wherein the standard gas supply passage of the standard gas generation unit is one of the plurality of standard gas supply passages of the standard gas dilution device. .

【0027】この第5の態様による低濃度標準ガス発生
装置によれば、別個に標準ガス希釈装置を用いることな
く、1つの標準ガス希釈装置により、液体試料から発生
した標準ガスと他の種類の標準ガス(例えば、ボンベガ
ス)を希釈することができ、経済的である。
According to the low-concentration standard gas generator according to the fifth aspect, the standard gas generated from the liquid sample and other types of standard gas can be generated by one standard gas diluting device without separately using the standard gas diluting device. Standard gas (for example, cylinder gas) can be diluted, which is economical.

【0028】本発明の第6の態様による標準ガス発生用
液体試料容器は、液体試料が収容され上方に開口部を有
する金属製の容器本体と、前記容器本体の前記開口部を
覆うとともに前記容器本体内の空間を外部に連絡させる
孔を有する金属製のカバー部材と、前記容器本体の一部
及び前記カバー部材の一部を含む金属製のガスケット構
造であって、前記容器本体と前記カバー部材とを分離自
在に固定させて前記容器本体内の空間を前記孔を除いて
気密に保つガスケット構造と、を備えたものである。
A standard gas generating liquid sample container according to a sixth aspect of the present invention is a container body made of a metal for accommodating a liquid sample and having an opening at an upper portion, and covering the opening of the container main body and the container. A metal cover member having a hole for communicating a space in the main body to the outside, and a metal gasket structure including a part of the container body and a part of the cover member, wherein the container body and the cover member And a gasket structure that keeps the space inside the container body airtight except for the holes.

【0029】この第6の態様による液体試料容器では、
金属製の容器本体、金属製のカバー部材及びこれらの一
部を含む金属製のガスケット構造が採用されているの
で、ガラス部材で一体に構成されたものに比べて製造が
容易で安価となる。また、金属製のカバー部材に孔を形
成しておけばよいので、例えば、ドリル等を用いた機械
加工や放電加工等により孔を形成することができ、した
がって、孔の大きさ及び厚みを精度良く所望の大きさ及
び厚みにすることができるので、製造した液体試料容器
の個々について時間と労力を要する較正を行う必要がな
くなる。また、容器本体とカバー部材とを分離すること
ができるので、液体試料の出し入れの際には、カバー部
材を容器本体から分離して容器本体の開口部から液体試
料を出し入れすることにより、液体試料の出し入れを極
めて容易に行うことができる。このようにして液体試料
の出し入れができるので、カバー部材の孔の大きさは、
当該孔から液体試料の出し入れが不可能な大きさに小さ
くすることもできるので、液体試料の蒸気量を極めて微
小にすることができ、発生する標準ガスの濃度を低くす
ることもできる。さらに、容器本体とカバー部材とを分
離することができるので、孔の大きさの異なる複数のカ
バー部材を予め用意しておけば、カバー部材を交換する
だけで、液体試料の蒸発量を変えることができ、ひいて
は発生する標準ガスの濃度を変えることもできる。
In the liquid sample container according to the sixth aspect,
Since the container body made of metal, the cover member made of metal, and the gasket structure made of metal including a part of these are used, the manufacturing is easier and less expensive than the one integrally configured by the glass member. Further, since the holes may be formed in the metal cover member, the holes can be formed by, for example, machining using a drill or electrical discharge machining. Therefore, the size and thickness of the holes can be accurately controlled. The desired size and thickness can be well achieved, eliminating the need for time-consuming and labor-intensive calibrations of each manufactured liquid sample container. Further, since the container body and the cover member can be separated, when the liquid sample is taken in and out, the cover member is separated from the container body, and the liquid sample is taken in and out from the opening of the container body. Can be put in and taken out very easily. Since the liquid sample can be taken in and out in this manner, the size of the hole of the cover member is
Since it is possible to reduce the size of the liquid sample so that it cannot be taken in and out from the hole, the vapor amount of the liquid sample can be made extremely small, and the concentration of the standard gas generated can be lowered. Furthermore, since the container body and the cover member can be separated, if a plurality of cover members having different hole sizes are prepared in advance, the evaporation amount of the liquid sample can be changed by simply replacing the cover member. It is possible to change the concentration of the generated standard gas.

【0030】本発明の第7の態様による低濃度標準ガス
発生装置は、前記第4又は第5の態様による低濃度標準
ガス発生装置において、前記液体試料容器が前記第6の
態様による標準ガス発生用液体試料容器であるものであ
る。
A low-concentration standard gas generator according to a seventh aspect of the present invention is the low-concentration standard gas generator according to the fourth or fifth aspect, wherein the liquid sample container generates the standard gas according to the sixth aspect. It is a liquid sample container for use.

【0031】本発明の第8の態様による標準ガス発生装
置は、一端に純ガスが給気される流路と、該流路の途中
に設置された圧力調整器と、前記流路の途中において前
記圧力調整器の下流側に設置され、液体試料の入った孔
のあいた液体試料容器を内包する試料室と、前記流路の
途中において前記試料室の下流側に設置された流量コン
トローラと、を備えたものである。
In the standard gas generator according to the eighth aspect of the present invention, a flow path is provided with pure gas at one end, a pressure regulator installed in the middle of the flow path, and in the middle of the flow path. A sample chamber installed on the downstream side of the pressure regulator and containing a liquid sample container having a hole containing a liquid sample, and a flow rate controller installed on the downstream side of the sample chamber in the middle of the flow path, Be prepared.

【0032】本発明の第9の態様による標準ガス発生装
置は、前記第8の態様による標準ガス発生装置におい
て、前記液体試料容器が前記第6の態様による標準ガス
発生用液体試料容器であるものである。
A standard gas generator according to a ninth aspect of the present invention is the standard gas generator according to the eighth aspect, wherein the liquid sample container is the standard gas generating liquid sample container according to the sixth aspect. Is.

【0033】なお、前記第8の態様による標準ガス発生
装置では、前記液体試料容器は、前記第6の態様による
標準ガス発生用液体試料容器に限定されるものではな
く、例えば、前述した従来の低濃度標準ガス発生装置で
採用されている液体試料容器を用いてもよいし、JIS
−K0226に記載されている装置において採用されて
いる拡散管付き容器を用いてもよい。もっとも、前記第
9の態様のように、前記第6の態様による液体試料容器
を用いると、前記第6の態様に関連して既に説明した利
点が得られるので好ましい。
In the standard gas generator according to the eighth aspect, the liquid sample container is not limited to the standard gas generating liquid sample container according to the sixth aspect. The liquid sample container used in the low-concentration standard gas generator may be used.
The container with the diffusion tube employed in the device described in K0226 may be used. However, it is preferable to use the liquid sample container according to the sixth aspect as in the ninth aspect because the advantages already described in relation to the sixth aspect can be obtained.

【0034】前記第8及び第9の態様による標準ガス発
生装置によれば、前記流路の一端に給気された純ガス
は、圧力調整器により一定圧力に保たれるとともに流量
コントローラにより流量が一定に保たれ、試料室内を通
過して標準ガスとなって前記流路の他端へ向かう。な
お、前記流路の一端には、例えば、純ガスを収容したボ
ンベを接続すればよい。したがって、この標準ガス発生
装置は、予め高精度の濃度に調整された標準ガスが収容
されたボンベの代替手段として用いることができる。そ
して、この標準ガス発生装置は、必要に応じて標準ガス
を発生させるものであり、予め用意した標準ガスを保存
するものではないので、取り扱いが容易である。また、
このような標準ガス発生装置は、予め高精度の濃度に調
整された標準ガスが収容されたボンベに比べて格段に経
済的である。
According to the standard gas generators of the eighth and ninth aspects, the pure gas supplied to one end of the flow path is kept at a constant pressure by the pressure regulator and the flow rate is controlled by the flow rate controller. It is kept constant and passes through the sample chamber to become a standard gas toward the other end of the flow path. A cylinder containing pure gas may be connected to one end of the flow path. Therefore, this standard gas generator can be used as an alternative to a cylinder containing standard gas whose concentration has been adjusted in advance with high accuracy. The standard gas generator generates standard gas as needed and does not store standard gas prepared in advance, so that it is easy to handle. Also,
Such a standard gas generator is much more economical than a cylinder containing standard gas whose concentration is adjusted with high accuracy in advance.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態によ
る低濃度標準ガス発生装置について、図1を参照して説
明する。図1は、本実施の形態による低濃度標準ガス発
生装置を示す概略構成図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A low-concentration standard gas generator according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a low-concentration standard gas generator according to the present embodiment.

【0036】図1に示すように、標準ガスを収容したボ
ンベ等(図示せず)からの標準ガスを給気する標準ガス
給気路としての管路1の一端がバルブ2の一方の口に接
続されている。バルブ2の他方の口が管路3を介して第
1の流量コントローラ4の流入口に接続されている。管
路1から給気される標準ガスと異なる種類の標準ガスを
給気する標準ガス給気路としての管路5の一端がバルブ
6の一方の口に接続され、該バルブ6の他方の口が管路
7を介して前記管路3の途中に接続されている。前記バ
ルブ2,6として実際には例えば集合バルブが用いられ
ており、該集合バルブは、管路1と管路5とを切り換え
てその一方のみを流量コントローラ4の流入口に連通さ
せる切り換え部を構成している。
As shown in FIG. 1, one end of a conduit 1 serving as a standard gas supply passage for supplying standard gas from a cylinder (not shown) containing the standard gas is provided at one end of the valve 2. It is connected. The other port of the valve 2 is connected to the inflow port of the first flow rate controller 4 via the conduit 3. One end of a pipeline 5 as a standard gas supply passage for supplying a standard gas of a different type from the standard gas supplied from the pipeline 1 is connected to one port of a valve 6, and the other port of the valve 6 is connected. Is connected to the middle of the pipeline 3 via the pipeline 7. In practice, for example, a collective valve is used as the valves 2 and 6, and the collective valve has a switching unit that switches between the pipeline 1 and the pipeline 5 and connects only one of them to the inlet of the flow rate controller 4. I am configuring.

【0037】また、ボンベやラインガス配管等(図示せ
ず)からの高純度ガス(純ガス)を給気する管路8の一
端が、モレキュラーシーブなどの不純物除去のための純
化器9の流入口に接続されている。純化器9の流出口
は、熱交換器10の一端に接続されている。管路8から
給気される高純度ガスの純度が十分に高い場合には、純
化器9は取り除いてもよい。熱交換器10の他端は管路
11を介して流量コントローラ12の流入口に接続され
ている。流量コントローラ12の流出口は、管路13を
介して試料室14の流入口に接続され、流量コントロー
ラ12は試料室14に流入する試料ガスの流量を調整す
る。試料室14は、液体試料15の入った孔16のあい
た液体試料容器17を内包している。管路8から給気さ
れる高純度ガスは、標準ガスを発生するための試料ガス
となり、試料室14内に流入した試料ガスが液体試料1
5の蒸気を含んで標準ガスとなる。試料室14の流出口
が前記管路5の他端に接続されている。また、試料室1
4から流出した標準ガスの一部を排気する排気路として
の管路18の一端が、前記管路3の途中に接続されてい
る。なお、バルブ2が閉じるとともにバルブ6が開いて
いる場合には、管路3は、試料室14から流出した標準
ガスの残りの一部を給気する標準ガス給気路となる。管
路18の他端はニードルバルブ19の一方の口に接続さ
れている。圧力計20が、管路21を介して管路18の
途中に接続されている。バルブ2が閉じるとともにバル
ブ6が開いている場合には、圧力計20を見ながらニー
ドルバルブ19を調整することにより試料室14内の圧
力を調整することができ、本実施の形態では、ニードル
バルブ19が試料室14内の圧力を調整する圧力調整器
となっている。もっとも、ニードルバルブ19に代えて
他の圧力調整器を用いてもよい。ニードルバルブ19の
他方の口は、管路22を介して排気ポンプ23の吸気口
に接続されている。排気ポンプ23の排気口は解放され
ている。本実施の形態では、前述した要素5,7〜19
が液体試料15による標準ガスを発生させる標準ガス発
生部を構成している。
Further, one end of a pipe line 8 for supplying a high-purity gas (pure gas) from a cylinder, a line gas pipe or the like (not shown) has a flow of a purifier 9 for removing impurities such as molecular sieves. Connected to the entrance. The outlet of the purifier 9 is connected to one end of the heat exchanger 10. The purifier 9 may be removed when the purity of the high-purity gas supplied from the conduit 8 is sufficiently high. The other end of the heat exchanger 10 is connected to the inflow port of the flow rate controller 12 via the pipe 11. The outlet of the flow controller 12 is connected to the inlet of the sample chamber 14 via the pipe 13, and the flow controller 12 adjusts the flow rate of the sample gas flowing into the sample chamber 14. The sample chamber 14 contains a liquid sample container 17 having a hole 16 containing a liquid sample 15. The high-purity gas supplied from the pipe line 8 becomes a sample gas for generating a standard gas, and the sample gas flowing into the sample chamber 14 is the liquid sample 1
It contains 5 vapors and becomes standard gas. The outlet of the sample chamber 14 is connected to the other end of the conduit 5. Also, the sample chamber 1
One end of a pipe 18 as an exhaust passage for exhausting a part of the standard gas flowing out from the pipe 4 is connected to the middle of the pipe 3. When the valve 2 is closed and the valve 6 is opened, the conduit 3 serves as a standard gas supply path for supplying the remaining part of the standard gas flowing out from the sample chamber 14. The other end of the conduit 18 is connected to one port of the needle valve 19. The pressure gauge 20 is connected to the middle of the pipeline 18 via the pipeline 21. When the valve 2 is closed and the valve 6 is open, the pressure in the sample chamber 14 can be adjusted by adjusting the needle valve 19 while observing the pressure gauge 20, and in the present embodiment, the needle valve 19 is used. Reference numeral 19 is a pressure regulator for adjusting the pressure in the sample chamber 14. However, another pressure regulator may be used instead of the needle valve 19. The other port of the needle valve 19 is connected to the intake port of the exhaust pump 23 via the conduit 22. The exhaust port of the exhaust pump 23 is open. In the present embodiment, the elements 5, 7 to 19 described above are used.
Constitutes a standard gas generating part for generating a standard gas by the liquid sample 15.

【0038】また、第1の流量コントローラ4の流出口
には、標準ガス希釈装置の主流路としての管路24の一
端が接続されている。管路24の他端は、本実施の形態
による低濃度標準ガス発生装置により最終的に得られた
低濃度標準ガスを用いて較正を行う大気圧質量分析装置
などの高感度ガス分析装置25の流入口に接続されてい
る。高感度ガス分析装置25の流出口は解放されてい
る。管路24から3つの分岐路26,27,28が分岐
されている。分岐路26,27,28の途中にはそれぞ
れ流量コントローラ29,30,31が設置されてい
る。分岐路26の端部であって管路24と反対側の端部
はバルブ32の一方の口に接続され、該バルブ32の他
方の口は管路33を介して前記管路11の途中に接続さ
れている。分岐路28の端部であって管路24と反対側
の端部は、分岐路26の途中に接続されている。ボンベ
やラインガス配管等(図示せず)からの高純度ガスを給
気する管路34の一端が、純化器35の流入口に接続さ
れている。管路34により給気される高純度ガスは、管
路1から給気する標準ガスを管路8により給気される高
純度ガスによっては希釈することができない場合に、管
路1から給気する標準ガスを希釈するための希釈用ガス
として用いられるものである。純化器35の流出口は、
熱交換器36の一端に接続されている。熱交換器36の
他端はバルブ37の一方の口に接続され、該バルブ37
の他方の口は分岐路26の途中に接続されている。バル
ブ32,37として、集合バルブが用いられている。な
お、管路1から給気する標準ガスを管路8により給気さ
れる高純度ガスによっては希釈することができる場合に
は、バルブ32,37、純化器35及び熱交換器36を
取り除き、管路33と管路26とを接続しておいてもよ
い。なお、以上の説明からわかるように、流量コントロ
ーラ4に近い方から1番目の分岐路26及び3番目の分
岐路28は、管路24に希釈用のガスを給気させる給気
路となっている。分岐路27における流量コントローラ
30と管路24との間には熱交換器38が設置されてい
る。分岐路27の端部であって管路24と反対側の端部
は、前記管路22の途中に接続されている。したがっ
て、流量コントローラ4から2番目の分岐路27は、管
路24からガスを排気させる排気路となっている。
Further, one end of a pipe line 24 as a main flow path of the standard gas diluting device is connected to the outlet of the first flow rate controller 4. The other end of the pipe line 24 is provided with a high-sensitivity gas analyzer 25 such as an atmospheric pressure mass spectrometer for performing calibration using the low-concentration standard gas finally obtained by the low-concentration standard gas generator according to the present embodiment. It is connected to the inlet. The outlet of the high sensitivity gas analyzer 25 is open. Three branch lines 26, 27 and 28 are branched from the pipe line 24. Flow controllers 29, 30, and 31 are installed in the middle of the branch paths 26, 27, and 28, respectively. An end of the branch path 26, which is opposite to the end of the conduit 24, is connected to one opening of the valve 32, and the other opening of the valve 32 is connected to the middle of the conduit 11 via the conduit 33. It is connected. An end portion of the branch passage 28, which is opposite to the pipe passage 24, is connected to the middle of the branch passage 26. One end of a pipe line 34 for supplying high-purity gas from a cylinder, a line gas pipe or the like (not shown) is connected to an inlet of a purifier 35. The high-purity gas supplied through the conduit 34 is supplied from the conduit 1 when the standard gas supplied through the conduit 1 cannot be diluted with the high-purity gas supplied through the conduit 8. It is used as a diluting gas for diluting the standard gas. The outlet of the purifier 35 is
It is connected to one end of the heat exchanger 36. The other end of the heat exchanger 36 is connected to one port of the valve 37, and the valve 37
The other port of is connected to the middle of the branch path 26. Collective valves are used as the valves 32 and 37. If the standard gas supplied from the conduit 1 can be diluted with the high-purity gas supplied through the conduit 8, the valves 32 and 37, the purifier 35 and the heat exchanger 36 are removed, The conduit 33 and the conduit 26 may be connected in advance. As can be seen from the above description, the first branch path 26 and the third branch path 28 from the side closer to the flow rate controller 4 serve as air supply paths for supplying the pipe 24 with the dilution gas. There is. A heat exchanger 38 is installed between the flow rate controller 30 and the pipeline 24 in the branch passage 27. The end portion of the branch passage 27, which is opposite to the end portion of the pipe passage 24, is connected to the middle of the pipe passage 22. Therefore, the second branch 27 from the flow rate controller 4 is an exhaust path for exhausting gas from the conduit 24.

【0039】本実施の形態では、流量コントローラ4、
管路24、途中に流量コントローラ29が設置された1
番目の分岐路26、途中に流量コントローラ30が設置
された2番目の分岐路27及び途中に流量コントローラ
31が設置された3番目の分岐路28により、2段希釈
による標準ガス希釈装置が構成されている。流量コント
ローラ4の流入口側の部分が当該標準ガス希釈装置の主
流入口となっており、管路24の高感度ガス分析装置2
5側の端部が当該標準ガス希釈装置の主流出口となって
おり、当該標準ガス希釈装置は、前記主流入口に流入さ
れた標準ガスを低濃度標準ガスに希釈して前記主流出口
から流出させる。流量コントローラ4及び途中に流量コ
ントローラ29が設置された1番目の分岐路26が、1
段目の希釈部を構成している。また、途中に流量コント
ローラ30が設置された2番目の分岐路27及び途中に
流量コントローラ31が設置された3番目の分岐路28
が、2段目の希釈部を構成している。
In this embodiment, the flow rate controller 4,
Pipeline 24, a flow controller 29 installed in the middle 1
A standard gas diluting device by two-stage dilution is configured by the second branch 26, the second branch 27 in which the flow controller 30 is installed in the middle, and the third branch 28 in which the flow controller 31 is installed in the middle. ing. The part on the inlet side of the flow rate controller 4 serves as the main inlet of the standard gas diluting device, and the high-sensitivity gas analyzer 2 of the pipeline 24 is provided.
The end on the 5 side is the main outlet of the standard gas diluting device, and the standard gas diluting device dilutes the standard gas introduced into the main inlet into a low-concentration standard gas and causes it to flow out from the main outlet. . The flow controller 4 and the first branch path 26 in which the flow controller 29 is installed are 1
It constitutes the dilution section of the stage. In addition, a second branch 27 with a flow controller 30 installed midway and a third branch 28 with a flow controller 31 installed midway.
Constitutes the second-stage dilution section.

【0040】本実施の形態では、分岐路28の途中にお
いて流量コントローラ31と管路24との間には、純化
器41が設置されている。この純化器41は、流量コン
トローラ31から発生する共存妨害物質等を除去するた
めに設けられたものである。すなわち、純化器41は、
分岐路28が最終段の希釈部を構成していることから、
分岐路28によって、管路24におけるガス中の試料濃
度が低下している箇所に希釈用のガスが給気されるの
で、流量コントローラ31から発生する共存妨害物質の
量が当該箇所のガス中の試料の量に対して無視し得ない
場合があることに鑑みて、設けられたものである。もっ
とも、流量コントローラ31から発生する共存妨害物質
の量が当該箇所のガス中の試料の量に対して無視し得る
場合には、純化器41を除去してもよい。また、必要に
応じて、分岐路26の途中において流量コントローラ2
9と管路24との間にも、純化器を設置設置してもよ
い。
In the present embodiment, a purifier 41 is installed between the flow rate controller 31 and the pipe 24 in the middle of the branch 28. The purifier 41 is provided to remove coexistence interfering substances and the like generated from the flow rate controller 31. That is, the purifier 41 is
Since the branch path 28 constitutes the final-stage dilution section,
Since the diluting gas is supplied to the portion of the pipe 24 where the sample concentration in the gas is lowered by the branch passage 28, the amount of the coexisting interfering substance generated from the flow rate controller 31 is equal to that of the gas in the portion. It is provided in view of the fact that the amount of sample cannot be ignored. However, if the amount of the coexisting interfering substance generated from the flow rate controller 31 is negligible with respect to the amount of the sample in the gas at the location, the purifier 41 may be removed. Further, if necessary, the flow rate controller 2 may be provided in the middle of the branch path 26.
A purifier may be installed between the pipe 9 and the pipe 24.

【0041】なお、管路1から給気する標準ガスや前記
液体試料15や管路8及び管路34から給気する高純度
ガスについては、特に限定されるものではないが、例え
ば、液体試料15として水やアルコールなどを用いるこ
とができ、前記高純度ガスとして窒素やアルゴンや水素
や酸素などを用いることができる。
The standard gas supplied from the conduit 1 and the high-purity gas supplied from the liquid sample 15 and the conduits 8 and 34 are not particularly limited. Water or alcohol can be used as 15, and nitrogen, argon, hydrogen, oxygen, or the like can be used as the high-purity gas.

【0042】また、本実施の形態では、図1に示すよう
に、管路24の内壁にガス中の試料成分(例えば、水
分)が吸着されないようにするべく、管路24を所望の
高温に加熱する温度調節器39が設けられている。ま
た、試料室14のみならず、前述した要素2〜7,10
〜18,24,26〜33,36〜39が、所望の一定
温度に調整する温度調節器としての恒温槽40内に収容
されている。この恒温槽40により試料室14内の温度
が一定に保たれ、流量コントローラ12により試料室1
4内を流れるガスの流量が一定に保たれ、ニードルバル
ブ19により試料室14内の圧力が一定に保たれ、液体
試料容器17の孔16の大きさ及び厚み(深さ)が一定
であるので、管路5から流出する標準ガスの濃度は一定
となる。また、本実施の形態では、前述した要素2〜
7,10〜18,24,26〜33,36〜39が恒温
槽40内に収容されているとともに熱交換器10,3
6,38が設けられているので、流量コントローラ4,
12,29,30,31の両側でガスの温度がほぼ同一
となる。このため、流量コントローラ4,12,29,
30,31として、質量流量に比例した温度変化を検出
することにより流量を検出する流量センサを備えた高精
度流量コントローラ(例えば、株式会社エステック製の
「SECシリーズ」の流量コントローラ)を用いた場合
であっても、各部のガスの流量を高精度に制御すること
ができ、好ましい。なお、必要に応じて、流量コントロ
ーラ29,31と管路24との間にもそれぞれ熱交換器
を設けてもよい。
Further, in this embodiment, as shown in FIG. 1, in order to prevent the sample component (for example, water) in the gas from being adsorbed on the inner wall of the pipe line 24, the pipe line 24 is heated to a desired high temperature. A temperature controller 39 for heating is provided. In addition to the sample chamber 14, the above-mentioned elements 2 to 7 and 10
-18, 24, 26-33, 36-39 are housed in a constant temperature bath 40 as a temperature controller for adjusting the temperature to a desired constant temperature. The temperature in the sample chamber 14 is kept constant by the constant temperature bath 40, and the sample chamber 1 is controlled by the flow rate controller 12.
Since the flow rate of the gas flowing in 4 is kept constant, the pressure in the sample chamber 14 is kept constant by the needle valve 19, and the size and thickness (depth) of the hole 16 of the liquid sample container 17 are constant. The concentration of the standard gas flowing out from the conduit 5 becomes constant. In addition, in the present embodiment, the above-mentioned elements 2 to
7, 10-18, 24, 26-33, 36-39 are housed in a constant temperature bath 40 and heat exchangers 10, 3
6 and 38 are provided, the flow rate controller 4,
The temperature of the gas is substantially the same on both sides of 12, 29, 30, 31. Therefore, the flow rate controllers 4, 12, 29,
When a high-precision flow rate controller (for example, a flow rate controller of "SEC series" manufactured by STEC Co., Ltd.) having a flow rate sensor that detects a flow rate by detecting a temperature change proportional to the mass flow rate is used as 30, 31 However, the gas flow rate of each part can be controlled with high accuracy, which is preferable. It should be noted that a heat exchanger may be provided between the flow rate controllers 29, 31 and the conduit 24, if necessary.

【0043】前記液体試料容器17としては、前述した
特開平4−81650号公報に開示された低濃度標準ガ
ス発生装置で採用されている液体試料容器を用いてもよ
いし、JIS−K0226に記載されている装置におい
て採用されている拡散管付き容器を用いてもよい。しか
しながら、液体試料容器17として、例えば、図2
(a)〜(c)に示すような液体試料容器17A,17
B,17Cを用いることが好ましい。図2(a)〜
(c)は、それぞれ液体試料容器17の例を示す断面図
である。
As the liquid sample container 17, the liquid sample container used in the low-concentration standard gas generator disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 4-81650 may be used, and it is described in JIS-K0226. The container with the diffusion tube employed in the existing device may be used. However, as the liquid sample container 17, for example, as shown in FIG.
Liquid sample containers 17A, 17 as shown in (a) to (c)
It is preferable to use B and 17C. FIG.
(C) is a cross-sectional view showing an example of the liquid sample container 17.

【0044】図2(a)に示す液体試料容器17Aは、
液体試料15が収容され上方に開口部を有する円筒状の
容器本体50と、中央に孔51aが形成された円板状の
ガスケット51と、ガスケット51を容器本体50の上
部との間に挟持する締め付け部材52と、を備えてい
る。孔51aは、必要に応じて複数形成してもよい。締
め付け部材52は中央に大きな開口部52aを有するキ
ャップ状に構成され、締め付け部材52の側部の内周面
には雌ねじ部52bが形成され、該側部の外面がナット
と同様に六角に構成されている。容器本体50の外周面
の上側部分には、前記雌ねじ部52bと螺合する雄ねじ
部50aが形成されている。容器本体50の上面には環
状の凸部50bが形成され、締め付け部材52の上部の
下面には前記凸部50bと対応する位置に環状の凸部5
2cが形成されており、これらの凸部50b,52c間
にガスケット51が挟持されるようになっている。した
がって、液体試料容器17Aでは、ガスケット51が、
容器本体50の前記開口部を覆うとともに容器本体50
内の空間を外部に連絡させる孔51aを有するカバー部
材となっている。また、液体試料容器17Aでは、凸部
50b,52c及びガスケット51が、容器本体50と
カバー部材であるガスケット51とを分離自在に固定さ
せて容器本体50内の空間を前記孔51aを除いて気密
に保つガスケット構造を構成している。容器本体50、
締め付け部材52及びガスケット51は、例えばステン
レス、ニッケル、ステンレスに金メッキ又は銀メッキを
施したものなどの金属で構成されている。本例では、前
記孔51aが図1中の液体試料容器17の孔16に相当
している。
The liquid sample container 17A shown in FIG.
A cylindrical container main body 50 that holds the liquid sample 15 and has an opening at the top, a disk-shaped gasket 51 having a hole 51a formed in the center, and the gasket 51 are sandwiched between the upper part of the container main body 50. And a tightening member 52. A plurality of holes 51a may be formed if necessary. The tightening member 52 is formed in a cap shape having a large opening 52a in the center, an internal thread portion 52b is formed on the inner peripheral surface of the side portion of the tightening member 52, and the outer surface of the side portion is hexagonal like a nut. Has been done. A male screw portion 50a that is screwed with the female screw portion 52b is formed on the upper portion of the outer peripheral surface of the container body 50. An annular convex portion 50b is formed on an upper surface of the container body 50, and an annular convex portion 5 is formed on a lower surface of an upper portion of the fastening member 52 at a position corresponding to the convex portion 50b.
2c is formed, and the gasket 51 is sandwiched between these convex portions 50b and 52c. Therefore, in the liquid sample container 17A, the gasket 51 is
The container body 50 covers the opening of the container body 50.
The cover member has a hole 51a for connecting the inner space to the outside. Further, in the liquid sample container 17A, the convex portions 50b and 52c and the gasket 51 detachably fix the container body 50 and the gasket 51 that is the cover member, and the space inside the container body 50 is airtight except for the hole 51a. A gasket structure that keeps Container body 50,
The tightening member 52 and the gasket 51 are made of metal such as stainless steel, nickel, and stainless steel plated with gold or silver. In this example, the hole 51a corresponds to the hole 16 of the liquid sample container 17 in FIG.

【0045】図2(b)に示す液体試料容器17Bは、
前記液体試料容器17Aとほぼ同様に構成されているの
で、図2(b)において図2(a)と同一又は対応する
要素には同一符号を付し、その重複した説明は省略す
る。液体試料容器17Bが液体試料容器17Aと異なる
所は、液体試料容器17Bでは、ガスケット51は前記
孔51aに代えて大きな開口部51bを有し環状に構成
され、締め付け具52は開口部52aに代えて中央に孔
52dを有している点のみである。液体試料容器17B
では、締め付け部材52が、容器本体50の前記開口部
を覆うとともに容器本体50内の空間を外部に連絡させ
る孔52dを有するカバー部材となっている。また、液
体試料容器17Aでは、凸部50b,52c及びガスケ
ット51が、容器本体50とカバー部材である締め付け
部材52とを分離自在に固定させて容器本体50内の空
間を前記孔51aを除いて気密に保つガスケット構造を
構成している。本例では、前記孔52dが図1中の液体
試料容器17の孔16に相当している。
The liquid sample container 17B shown in FIG.
Since the liquid sample container 17A has almost the same configuration, the same or corresponding elements in FIG. 2 (b) as those in FIG. 2 (a) are designated by the same reference numerals, and the duplicate description thereof will be omitted. The liquid sample container 17B is different from the liquid sample container 17A in that in the liquid sample container 17B, the gasket 51 has an annular shape having a large opening 51b instead of the hole 51a, and the fastening tool 52 has an opening 52a. It only has a hole 52d at the center. Liquid sample container 17B
Then, the tightening member 52 is a cover member having a hole 52d that covers the opening of the container body 50 and connects the space in the container body 50 to the outside. Further, in the liquid sample container 17A, the convex portions 50b and 52c and the gasket 51 detachably fix the container body 50 and the tightening member 52 which is the cover member, and the space inside the container body 50 is removed except for the hole 51a. The gasket structure is kept airtight. In this example, the hole 52d corresponds to the hole 16 of the liquid sample container 17 in FIG.

【0046】図2(c)に示す液体試料容器17Cは、
前記液体試料容器17Bとほぼ同様に構成されているの
で、図2(c)において図2(b)と同一又は対応する
要素には同一符号を付し、その重複した説明は省略す
る。液体試料容器17Cが液体試料容器17Bと異なる
所は、液体試料容器17Cでは、容器本体50の上面に
は環状の凸部50bが形成されていない点のみである。
液体試料容器17Bでは、液体試料容器17Cと同様
に、締め付け部材52が、容器本体50の前記開口部を
覆うとともに容器本体50内の空間を外部に連絡させる
孔52dを有するカバー部材となっている。また、液体
試料容器17Aでは、液体試料容器50の上面、凸部5
2c及びガスケット51が、容器本体50とカバー部材
である締め付け部材52とを分離自在に固定させて容器
本体50内の空間を前記孔51aを除いて気密に保つガ
スケット構造を構成している。
The liquid sample container 17C shown in FIG.
Since the liquid sample container 17B has almost the same structure, the same or corresponding elements in FIG. 2 (c) as those in FIG. 2 (b) are denoted by the same reference numerals, and the duplicate description thereof will be omitted. The liquid sample container 17C is different from the liquid sample container 17B only in that the liquid sample container 17C does not have an annular convex portion 50b formed on the upper surface of the container body 50.
In the liquid sample container 17B, similarly to the liquid sample container 17C, the tightening member 52 is a cover member that covers the opening of the container body 50 and has a hole 52d that connects the space in the container body 50 to the outside. . Further, in the liquid sample container 17A, the upper surface of the liquid sample container 50, the convex portion 5
The 2c and the gasket 51 constitute a gasket structure that keeps the space inside the container body 50 airtight except the hole 51a by fixing the container body 50 and the fastening member 52, which is a cover member, in a separable manner.

【0047】前記液体試料容器17A,17B,17C
によれば、前述したように構成されているので、ガラス
部材で一体に構成されたものに比べて製造が容易で安価
となる。また、カバー部材である金属製のガスケット5
1a又は締め付け部材52に孔51a又は52dを形成
しておけばよいので、例えば、ドリル等を用いた機械加
工や放電加工等により孔51a,52dを形成すること
ができ、したがって、孔51a,52dの大きさ及び厚
みを精度良く所望の大きさ及び厚みにすることができる
ので、製造した液体試料容器17A(あるいは17B又
は17C)の個々について時間と労力を要する較正を行
う必要がなくなる。また、容器本体50、ガスケット5
1及び締め付け部材52を分離することができるので、
液体試料15の出し入れの際には、これらを分離して容
器本体50の上方の開口部から液体試料15を出し入れ
することにより、液体試料15の出し入れを極めて容易
に行うことができる。このようにして液体試料15の出
し入れができるので、孔51a,52dの大きさは、当
該孔51a,52dから液体試料15の出し入れが不可
能な大きさに小さくすることもできるので、液体試料1
5の蒸気量を極めて微小にすることができ、発生する標
準ガスの濃度を低くすることもできる。さらに、容器本
体50、ガスケット51及び締め付け部材52を分離す
ることができるので、孔51a,52dの大きさの異な
る複数のガスケット51又は締め付け部材52を予め用
意しておけば、カバー部材であるガスケット51又は締
め付け部材52を交換するだけで、液体試料15の蒸発
量を変えることができ、ひいては発生する標準ガスの濃
度を変えることもできる。以上の理由で、液体試料容器
17として、図2(a)〜(c)に示すような液体試料
容器17A,17B,17Cを用いることが好ましい。
Liquid sample containers 17A, 17B, 17C
According to this, since it is configured as described above, it is easier and cheaper to manufacture as compared with the one integrally configured by the glass member. In addition, a metal gasket 5 that is a cover member
Since it is sufficient to form the holes 51a or 52d in the fastening member 52 or 1a, the holes 51a and 52d can be formed by, for example, machining using a drill or electrical discharge machining, and therefore the holes 51a and 52d. Since the size and thickness of the liquid sample container can be accurately set to the desired size and thickness, it is not necessary to perform time-consuming and labor-intensive calibration for each manufactured liquid sample container 17A (or 17B or 17C). In addition, the container body 50 and the gasket 5
Since the 1 and the tightening member 52 can be separated,
When the liquid sample 15 is taken in and out, the liquid sample 15 can be taken out and put in very easily by separating them and putting the liquid sample 15 in and out through the opening above the container body 50. Since the liquid sample 15 can be taken in and out in this manner, the size of the holes 51a, 52d can be made small so that the liquid sample 15 cannot be taken in and out through the holes 51a, 52d.
The vapor amount of 5 can be made extremely small, and the concentration of the generated standard gas can be lowered. Further, since the container body 50, the gasket 51 and the tightening member 52 can be separated from each other, if a plurality of gaskets 51 or tightening members 52 having different sizes of the holes 51a and 52d are prepared in advance, the gasket which is the cover member. The evaporation amount of the liquid sample 15 can be changed by changing only the 51 or the fastening member 52, and thus the concentration of the standard gas generated can be changed. For the above reasons, it is preferable to use the liquid sample containers 17A, 17B, and 17C as shown in FIGS. 2A to 2C as the liquid sample container 17.

【0048】次に、図1に示す低濃度標準ガス発生装置
の動作について説明する。
Next, the operation of the low-concentration standard gas generator shown in FIG. 1 will be described.

【0049】液体試料15による低濃度標準ガスを得る
場合は、バルブ2,37を閉じ、バルブ6,32を開
く。その結果、管路8から給気された高純度ガスが、純
化器9を経た後、熱交換器10、管路11及び流量コン
トローラ12を経て試料室14内で液体試料15の蒸気
を一定濃度Cで含んだ標準ガスとなり、該標準ガスは管
路5、バルブ6及び管路7を通過する。管路7を通過し
た標準ガスの一部は管路18、ニードルバルブ19、管
路22及び排気ポンプ23を経て排気され、管路7を通
過した標準ガスの残りの一部は管路3を経て流量コント
ローラ4の流入口に流入する。また、管路8から給気さ
れた高純度ガスが、純化器9を経た後、管路11,33
及びバルブ32を経て、希釈用ガスとして、それぞれ分
岐路26,28から管路24に給気される。
To obtain the low-concentration standard gas by the liquid sample 15, the valves 2 and 37 are closed and the valves 6 and 32 are opened. As a result, the high-purity gas supplied from the pipe 8 passes through the purifier 9, and then passes through the heat exchanger 10, the pipe 11 and the flow rate controller 12, and the vapor of the liquid sample 15 in the sample chamber 14 has a constant concentration. It becomes the standard gas contained in C, and the standard gas passes through the pipe line 5, the valve 6 and the pipe line 7. Part of the standard gas that has passed through the conduit 7 is exhausted through the conduit 18, the needle valve 19, the conduit 22 and the exhaust pump 23, and the remaining part of the standard gas that has passed through the conduit 7 passes through the conduit 3. After that, it flows into the inlet of the flow rate controller 4. Further, the high-purity gas supplied from the pipeline 8 passes through the purifier 9 and then the pipelines 11, 33
And, via the valve 32, the gas is supplied to the pipe line 24 from the branch lines 26 and 28 as dilution gas, respectively.

【0050】そして、流量コントローラ4の流入口に流
入した一定濃度Cの試料15を含む標準ガスは、前記標
準ガス希釈装置により以下のようにして希釈が行われ
る。すなわち、まず、流量コントローラ4の流入口に流
入し該流量コントローラ4の流出口から流出して管路2
4に流入する濃度Cの標準ガスの流量は、該流量コント
ローラ4により制御されて流量L1となり、その後、1
番目の分岐路29から流量L2で管路24に供給された
希釈用ガスにより希釈される(1段希釈)。この流量制
御は流量コントローラ29により行われる。次いで、こ
の1段希釈ガスは、2番目の分岐路27からその一部
(流量L3)が排気され、3番目の分岐路28から流量
L4で管路24に供給された希釈用ガスにより希釈され
(2段希釈)、極低濃度の標準ガスとなって高感度ガス
分析装置25に供給される。この流量制御は、流量コン
トローラ30,31により行われる。
Then, the standard gas containing the sample 15 having a constant concentration C flowing into the inlet of the flow controller 4 is diluted by the standard gas diluting device as follows. That is, first, the flow path controller 4 enters the inflow port, flows out of the flow rate controller 4 through the outflow port, and then the pipeline 2
The flow rate of the standard gas having the concentration C flowing into 4 is controlled by the flow rate controller 4 to become the flow rate L1, and then 1
It is diluted with the diluting gas supplied to the pipe line 24 from the second branch line 29 at the flow rate L2 (one-stage dilution). This flow rate control is performed by the flow rate controller 29. Next, a part (flow rate L3) of this first-stage dilution gas is exhausted from the second branch passage 27, and is diluted with the dilution gas supplied to the pipe line 24 from the third branch passage 28 at the flow rate L4. (Two-stage dilution), it becomes an extremely low-concentration standard gas and is supplied to the high-sensitivity gas analyzer 25. This flow rate control is performed by the flow rate controllers 30 and 31.

【0051】以上のようにして希釈され最終的に得られ
る極低濃度の標準ガス中の試料濃度は、C・[L1/
(L1+L2)]・[(L1+L2−L3)/(L1+
L2−L3+L4)]で与えられる。流量L1,L2,
L3,L4を流量コントローラ4,29,30,31に
よって変化させることにより、最終的に任意の極低濃度
標準ガスを得ることができる。
The sample concentration in the ultra-low concentration standard gas which is finally obtained by diluting as described above is C. [L1 /
(L1 + L2)] [[L1 + L2-L3) / (L1 +
L2-L3 + L4)]. Flow rate L1, L2
By changing L3 and L4 by the flow rate controllers 4, 29, 30 and 31, finally, an extremely low concentration standard gas can be obtained.

【0052】一方、管路1により給気される標準ガスに
基づいて低濃度標準ガスを得る場合は、バルブ2を開
き、バルブ6,19を閉じ(ニードルバルブ19は必ず
しも閉じなくてもよい)、バルブ32,37うちの一方
を開いて他方を閉じる。その結果、管路1から給気され
た、試料を一定濃度で含んだ標準ガスが、バルブ2及び
管路3を経て流量コントローラ4の流入口に流入する。
また、管路8又は管路34から給気された高純度ガス
が、希釈用ガスとして、分岐路26,28から管路24
に給気される。この場合も、流量コントローラ4の流入
した流入口に流入した標準ガスは、前述した場合と同様
に前記標準ガス希釈装置により希釈されて極低濃度の標
準ガスとなって高感度ガス分析装置25に供給される。
On the other hand, when the low-concentration standard gas is obtained based on the standard gas supplied through the conduit 1, the valve 2 is opened and the valves 6 and 19 are closed (the needle valve 19 does not necessarily have to be closed). , One of the valves 32 and 37 is opened and the other is closed. As a result, the standard gas containing the sample at a constant concentration, which is supplied from the pipe line 1, flows into the inlet of the flow rate controller 4 via the valve 2 and the pipe line 3.
Further, the high-purity gas supplied from the pipe 8 or the pipe 34 is used as a diluting gas from the branch pipes 26, 28 to the pipe 24.
Is supplied with air. In this case as well, the standard gas flowing into the inflow port of the flow rate controller 4 is diluted by the standard gas diluting device into an extremely low-concentration standard gas in the high-sensitivity gas analyzer 25 as in the case described above. Supplied.

【0053】以上の説明からわかるように、本実施の形
態によれば、1段目の希釈部(流量コントローラ4及び
途中に流量コントローラ29が設置された1番目の分岐
路26)の希釈率は、L1/(L1+L2)となるの
で、流量コントローラ4によるガスの流量L1は精度良
く小さくすることができることから、1段目の希釈部の
希釈率を精度良く小さくすることができ、これにより、
希釈部の段数が少なくても全体として高精度の希釈率を
得ることができ、高精度の濃度で低濃度標準ガスを得る
ことができ、例えば、ppt領域の極低濃度標準ガスも
得ることが可能となる。また、本実施の形態によれば、
試料室14から流出した標準ガスがそのまま全部流量コ
ントローラ4に流入するわけではなく、当該標準ガスの
一部が管路18から排気され、当該標準ガスの残りの一
部が流量コントローラ4に給気されるので、試料室14
を流れるガスの量を大きくして液体試料15の蒸発量の
安定化を図りつつ、流量コントローラ4の流出口から管
路24に流出するガスの流量L1を小さくでき、したが
って、液体試料による標準ガスに対しても高精度の希釈
率を得ることができる。
As can be seen from the above description, according to the present embodiment, the dilution ratio of the first-stage dilution section (the flow controller 4 and the first branch path 26 in which the flow controller 29 is installed in the middle) is , L1 / (L1 + L2), the gas flow rate L1 by the flow rate controller 4 can be accurately reduced, and thus the dilution rate of the first-stage dilution section can be accurately reduced.
Even if the number of stages of the diluting section is small, a highly accurate dilution ratio can be obtained as a whole, and a low-concentration standard gas can be obtained with a high-accuracy concentration. For example, an extremely low-concentration standard gas in the ppt region can also be obtained. It will be possible. According to the present embodiment,
Not all the standard gas flowing out from the sample chamber 14 flows into the flow rate controller 4 as it is, but a part of the standard gas is exhausted from the pipe line 18, and the remaining part of the standard gas is supplied to the flow rate controller 4. Sample chamber 14
The amount of gas flowing through the liquid sample 15 can be increased to stabilize the evaporation amount of the liquid sample 15, and the flow rate L1 of the gas flowing out from the outlet of the flow rate controller 4 to the conduit 24 can be reduced. Even with respect to, it is possible to obtain a highly accurate dilution rate.

【0054】ところで、標準ガス希釈装置における主流
入口に近い側でバックグラウンドや共存妨害物質が発生
しても、主流入口に近い側では標準ガスの濃度が高くガ
ス中の試料の量が多いので、試料の量に対してバックグ
ラウンドや共存妨害物質の量は無視し得る程度であり、
当該バックグラウンドや共存妨害物質は最終的に得る低
濃度標準ガスの濃度の精度に実質的に影響を与えない。
したがって、流量コントローラ4はバックグラウンドや
共存妨害物質の発生源となるものの、流量コントローラ
4は主流入口に最も近い側に設けられ、流量コントロー
ラ4の流出口と主流出口との間の主流路である管路24
にはバックグラウンドや共存妨害物質の発生源となる流
量コントローラ等が一切設けられていないので、高精度
の濃度で低濃度標準ガスが得られる。
By the way, even if background or coexisting substances are generated on the side near the main inlet of the standard gas diluter, the concentration of the standard gas is high on the side near the main inlet, and the amount of sample in the gas is large. The amount of background and coexisting substances is negligible with respect to the amount of sample,
The background and the coexistence interfering substance do not substantially affect the accuracy of the finally obtained low-concentration standard gas concentration.
Therefore, although the flow rate controller 4 is a source of the background and coexistence interfering substances, the flow rate controller 4 is provided on the side closest to the main inlet, and is a main flow path between the outlet of the flow controller 4 and the main outlet. Pipeline 24
Since there is no flow controller or the like that is a source of background and coexistence interfering substances, the low-concentration standard gas can be obtained with high accuracy.

【0055】また、本実施の形態によれば、前述したよ
うにバルブ2とバルブ6とを切り換えることにより1つ
の前記標準ガス希釈装置により異なる種類の標準ガスを
希釈することができ、経済的である。
Further, according to the present embodiment, by switching the valve 2 and the valve 6 as described above, different standard gases of different types can be diluted by one standard gas dilution device, which is economical. is there.

【0056】次に、本発明の他の実施の形態による、標
準ガス入りボンベの代替手段としての標準ガス発生装置
について、図3を参照して説明する。図3は、本実施の
形態による標準ガス発生装置を示す概略構成図である。
なお、図3において、図1中の構成要素と同一構成要素
には同一符号を付してある。
Next, a standard gas generator as an alternative means of the standard gas-containing cylinder according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a standard gas generator according to the present embodiment.
In FIG. 3, the same components as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals.

【0057】本実施の形態による標準ガス発生装置は、
一端に純ガスが給気される流路60と、流路60の途中
に設置された圧力調整器61と、流路60の途中におい
て圧力調整器61の下流側に設置され、液体試料15の
入った孔16のあいた液体試料容器17を内包する試料
室14と、流路60の途中において試料室14の下流側
に設置された流量コントローラ62と、を備えている。
なお、流路60の一端には、例えば、純ガスを収容した
ボンベやラインガス配管等を接続すればよい。
The standard gas generator according to this embodiment is
The flow path 60 having a pure gas supplied to one end, the pressure adjuster 61 installed in the middle of the flow path 60, the downstream side of the pressure adjuster 61 in the middle of the flow path 60, The sample chamber 14 that encloses the liquid sample container 17 having the hole 16 therein is provided, and the flow rate controller 62 that is installed on the downstream side of the sample chamber 14 in the middle of the flow path 60.
A cylinder containing pure gas, a line gas pipe, or the like may be connected to one end of the flow path 60.

【0058】図3中の試料室14及び液体試料容器17
は、図1中の試料室14及び液体試料容器17と同一で
あり、液体試料容器17としては、前述した特開平4−
81650号公報に開示された低濃度標準ガス発生装置
で採用されている液体試料容器を用いてもよいし、JI
S−K0226に記載されている装置において採用され
ている拡散管付き容器を用いてもよいが、液体試料容器
17として、例えば、図2(a)〜(c)に示すような
液体試料容器17A,17B,17Cを用いることが好
ましい。
The sample chamber 14 and the liquid sample container 17 in FIG.
Is the same as the sample chamber 14 and the liquid sample container 17 in FIG.
The liquid sample container used in the low-concentration standard gas generator disclosed in Japanese Patent No. 81650 may be used.
The container with the diffusion tube employed in the apparatus described in S-K0226 may be used, but as the liquid sample container 17, for example, a liquid sample container 17A as shown in FIGS. , 17B, 17C are preferably used.

【0059】また、本実施の形態では、流路60の途中
において試料室14と圧力調整器61との間には、熱交
換器63が設置されている。試料室14及び熱交換器6
3は、所望の一定の温度に調整する温度調節器としての
恒温槽64内に収容されている。なお、必要に応じて、
圧力調整器61の下流側に純化器を設置してもよい。
Further, in the present embodiment, a heat exchanger 63 is installed between the sample chamber 14 and the pressure adjuster 61 in the middle of the flow path 60. Sample chamber 14 and heat exchanger 6
3 is housed in a constant temperature bath 64 as a temperature controller that adjusts the temperature to a desired constant temperature. If necessary,
A purifier may be installed on the downstream side of the pressure regulator 61.

【0060】本実施の形態によれば、この恒温槽64に
より試料室14内の温度が一定に保たれ、流量コントロ
ーラ12により試料室14内を流れるガスの流量が一定
に保たれ、ニードルバルブ19により試料室14内の圧
力が一定に保たれ、液体試料容器17の孔16の大きさ
及び厚み(深さ)が一定であるので、試料室14を通過
して流路60の他端から得られる標準ガスの濃度は一定
となる。
According to the present embodiment, the temperature in the sample chamber 14 is kept constant by the constant temperature bath 64, the flow rate of the gas flowing in the sample chamber 14 is kept constant by the flow rate controller 12, and the needle valve 19 is used. Since the pressure in the sample chamber 14 is kept constant and the size and thickness (depth) of the hole 16 of the liquid sample container 17 are constant, the sample 16 passes through the sample chamber 14 and is obtained from the other end of the flow channel 60. The concentration of the standard gas used is constant.

【0061】したがって、本実施の形態による標準ガス
発生装置は、予め高精度の濃度に調整された標準ガスが
収容されたボンベの代替手段として用いることができ
る。そして、この標準ガス発生装置は、必要に応じて標
準ガスを発生させるものであり、予め用意した標準ガス
を保存するものではないので、取り扱いが容易である。
また、このような標準ガス発生装置は、予め高精度の濃
度に調整された標準ガスが収容されたボンベに比べて格
段に経済的である。
Therefore, the standard gas generator according to the present embodiment can be used as an alternative to a cylinder containing standard gas whose concentration has been adjusted in advance with high accuracy. The standard gas generator generates standard gas as needed and does not store standard gas prepared in advance, so that it is easy to handle.
Further, such a standard gas generator is much more economical than a cylinder containing standard gas whose concentration is adjusted in advance with high accuracy.

【0062】なお、熱交換器63は、流路60の一端か
ら給気された純ガスの温度が試料室14内の所望の温度
と異なるような場合、当該純ガスを当該温度に近づけて
高精度の濃度の標準ガスを得る上で好ましいものである
が、本発明では必ずしも設ける必要はない。
When the temperature of the pure gas supplied from one end of the flow passage 60 is different from the desired temperature in the sample chamber 14, the heat exchanger 63 brings the pure gas close to the temperature to raise the temperature. This is preferable for obtaining a standard gas having an accurate concentration, but it is not always necessary in the present invention.

【0063】以上、本発明の各実施の形態について説明
したが、本発明はこれらの実施の形態に限定されるもの
ではない。
Although the respective embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments.

【0064】例えば、図1に示す低濃度標準ガス発生装
置では、2つの標準ガス給気路である管路1,7を切り
換えているが、3つ以上の標準ガス給気路を切り換える
ように構成してもよい。また、図1に示す低濃度標準ガ
ス発生装置では、2段の希釈部で構成されているが、2
段目の希釈部に相当する希釈部を1つ以上追加して3段
の希釈部で構成してもよいし、さほど高希釈率が必要な
い場合には2段目の希釈部を取り除いて1段の希釈部で
構成してもよい。
For example, in the low-concentration standard gas generator shown in FIG. 1, the two standard gas supply passages, that is, the pipelines 1 and 7 are switched, but three or more standard gas supply passages are switched. You may comprise. In addition, the low-concentration standard gas generator shown in FIG.
One or more dilution sections corresponding to the second-stage dilution section may be added to form a three-stage dilution section, or if the dilution rate is not so high, the second-stage dilution section may be removed. It may be composed of a diluting unit in stages.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
希釈部の段数が少なくても高精度の濃度で低濃度標準ガ
スを得ることができ、またppt領域の極低濃度標準ガ
スを得ることも可能である標準ガス希釈装置及びこれを
用いた低濃度標準ガス発生装置を提供することができ
る。また、本発明によれば、1つの標準ガス希釈装置に
より異なる種類の標準ガスを希釈することができる標準
ガス希釈装置及びこれを用いた低濃度標準ガス発生装置
を提供することができる。さらに、本発明によれば、製
造が容易で安価であるとともに、個々の全てのものにつ
いて較正を行う必要がなく、しかも、液体試料の出し入
れが容易で低濃度の標準ガスを発生させることも可能で
ある標準ガス発生用液体試料容器及びこれを用いた標準
ガス発生装置を提供することができる。さらにまた、本
発明によれば、標準ガス入りボンベに替わる安価で取り
扱いも容易な代替手段としての標準ガス発生装置を提供
することができる。
As described above, according to the present invention,
A standard gas diluting device and a low concentration using the standard gas diluting device, which can obtain a low-concentration standard gas with a highly accurate concentration even when the number of stages of the diluting section is small, and can obtain an extremely low-concentration standard gas in the ppt region. A standard gas generator can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a standard gas diluting device capable of diluting different kinds of standard gas with one standard gas diluting device and a low-concentration standard gas generating device using the standard gas diluting device. Furthermore, according to the present invention, it is easy and inexpensive to manufacture, and it is not necessary to calibrate all individual items, and furthermore, it is possible to easily take in and out a liquid sample and generate a low-concentration standard gas. It is possible to provide a standard gas generating liquid sample container and a standard gas generating device using the same. Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a standard gas generator as an alternative means that is an inexpensive and easy-to-use alternative to the standard gas-containing cylinder.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態による低濃度標準ガス発
生装置を示す概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a low-concentration standard gas generator according to an embodiment of the present invention.

【図2】液体試料容器の各例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing each example of a liquid sample container.

【図3】本発明の他の実施の形態による標準ガス発生装
置を示す概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a standard gas generator according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,3,5,7,8,11,13,18,21,22,
33,34 管路 2,6,32,37 バルブ 4,12,29〜31,62 流量コントローラ 9,35,41 純化器 10,36,38,63 熱交換器 14 試料室 15 液体試料 16 孔 17,17A,17B,17C 液体試料容器 19 ニードルバルブ 20 圧力計 23 排気ポンプ 24 主流路(管路) 26,27,28 分岐路 39 温度調節器 40,64 恒温槽 50 容器本体 51 ガスケット 52 締め付け部材 60 流路 61 圧力調節器
1,3,5,7,8,11,13,18,21,22
33,34 Pipe line 2,6,32,37 Valve 4,12,29-31,62 Flow controller 9,35,41 Purifier 10,36,38,63 Heat exchanger 14 Sample chamber 15 Liquid sample 16 Hole 17 , 17A, 17B, 17C Liquid sample container 19 Needle valve 20 Pressure gauge 23 Exhaust pump 24 Main flow path (pipe line) 26, 27, 28 Branch path 39 Temperature controller 40, 64 Constant temperature chamber 50 Container body 51 Gasket 52 Tightening member 60 Flow path 61 Pressure regulator

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 主流入口と主流出口とを有し、前記主流
入口に流入された標準ガスを低濃度標準ガスに希釈して
前記主流出口から流出させる標準ガス希釈装置におい
て、 流入口が前記主流入口に接続された第1の流量コントロ
ーラと、 一端が前記第1の流量コントローラの流出口に接続され
るとともに他端が前記主流出口に接続された主流路と、 前記主流路から分岐された1つ以上の分岐路と、 を備え、 前記1つ以上の分岐路のうちの、前記第1の流量コント
ローラに近い方から奇数番目の分岐路は、前記主流路に
希釈用のガスを給気させる給気路であって、途中に流量
コントローラが設置された給気路であり、 前記1つ以上の分岐路のうちの、前記第1の流量コント
ローラに近い方から偶数番目の分岐路は、前記主流路か
らガスを排気させる排気路であって、途中に流量コント
ローラが設置された排気路である、 ことを特徴とする標準ガス希釈装置。
1. A standard gas diluter having a main inlet and a main outlet, wherein a standard gas introduced into the main inlet is diluted into a low-concentration standard gas and flows out from the main outlet, the inlet being the main flow. A first flow controller connected to the inlet; a main flow path having one end connected to the outlet of the first flow controller and the other end connected to the main flow outlet; and 1 branched from the main flow path One or more branch passages, among the one or more branch passages, the odd-numbered branch passages closer to the first flow rate controller supply the dilution gas to the main passage. An air supply passage, in which a flow rate controller is installed on the way, wherein an even-numbered branch passage from the one closer to the first flow controller among the one or more branch passages is Exhaust gas from the main flow path A standard gas diluter characterized in that it is an exhaust path with a flow rate controller installed in the middle.
【請求項2】 互いに異なる標準ガスを給気する複数の
標準ガス給気路と、 前記複数の標準ガス給気路を切り換えてそのいずれか1
つのみを前記標準ガス希釈装置の前記主流入口に連通さ
せる切り換え手段と、 を更に備えたことを特徴とする請求項1記載の標準ガス
希釈装置。
2. A plurality of standard gas supply passages for supplying different standard gases, and a plurality of the standard gas supply passages are switched to select one of them.
The standard gas diluting device according to claim 1, further comprising: switching means for communicating only one with the main inlet of the standard gas diluting device.
【請求項3】 主流入口と主流出口とを有し、前記主流
入口に流入された標準ガスを低濃度標準ガスに希釈して
前記主流出口から流出させる標準ガス希釈装置におい
て、 互いに異なる標準ガスを給気する複数の標準ガス給気路
と、 前記複数の標準ガス給気路を切り換えてそのいずれか1
つのみを前記標準ガス希釈装置の前記主流入口に連通さ
せる切り換え手段と、 を備えたことを特徴とする標準ガス希釈装置。
3. A standard gas diluting device having a main inlet and a main outlet, wherein a standard gas introduced into the main inlet is diluted into a low-concentration standard gas and then flows out from the main outlet, different standard gases are used. One of a plurality of standard gas supply passages for supplying air and a plurality of the standard gas supply passages switched between
And a switching means for communicating only one of them with the main inlet of the standard gas diluting device.
【請求項4】 液体試料の入った孔のあいた液体試料容
器を内包し、試料ガスが流入されるとともに前記液体試
料の蒸気を含んだ試料ガスが標準ガスとして流出する試
料室と、前記試料室内の圧力を調整する圧力調整器と、
前記試料室内に流入する前記試料ガスの流量を調整する
流量コントローラと、前記試料室から流出した標準ガス
の一部を排気する標準ガス排気路と、前記試料室から流
出した標準ガスの残りの一部を給気する標準ガス給気路
と、を備えた標準ガス発生部と、 請求項1記載の標準ガス希釈装置と、 を備え、 前記標準ガス発生部の前記標準ガス給気路が前記標準ガ
ス希釈装置の前記主流入口に接続されたことを特徴とす
る低濃度標準ガス発生装置。
4. A sample chamber containing a liquid sample container having a hole containing a liquid sample therein, into which a sample gas flows, and a sample gas containing vapor of the liquid sample flows out as a standard gas, and the sample chamber. Pressure regulator to adjust the pressure of
A flow rate controller for adjusting the flow rate of the sample gas flowing into the sample chamber, a standard gas exhaust path for exhausting a part of the standard gas flowing out of the sample chamber, and a remaining one of the standard gas flowing out of the sample chamber. A standard gas supply section for supplying air to the unit; and a standard gas diluting device according to claim 1, wherein the standard gas supply path of the standard gas generation section is the standard gas supply section. A low-concentration standard gas generator, which is connected to the main inlet of the gas diluter.
【請求項5】 液体試料の入った孔のあいた液体試料容
器を内包し、試料ガスが流入されるとともに前記液体試
料の蒸気を含んだ試料ガスが標準ガスとして流出する試
料室と、前記試料室内の圧力を調整する圧力調整器と、
前記試料室内に流入する前記試料ガスの流量を調整する
流量コントローラと、前記試料室から流出した標準ガス
の一部を排気する標準ガス排気路と、前記試料室から流
出した標準ガスの残りの一部を給気する標準ガス給気路
と、を備えた標準ガス発生部と、 請求項2又は3記載の標準ガス希釈装置と、 を備え、 前記標準ガス発生部の前記標準ガス給気路が前記標準ガ
ス希釈装置の前記複数の標準ガス給気路のうちの1つで
あることを特徴とする低濃度標準ガス発生装置。
5. A sample chamber containing a liquid sample container having a hole containing a liquid sample therein, into which a sample gas is introduced and a sample gas containing vapor of the liquid sample flows out as a standard gas, and the sample chamber. Pressure regulator to adjust the pressure of
A flow rate controller for adjusting the flow rate of the sample gas flowing into the sample chamber, a standard gas exhaust path for exhausting a part of the standard gas flowing out of the sample chamber, and a remaining one of the standard gas flowing out of the sample chamber. A standard gas supply section for supplying air to the unit, and a standard gas diluting device according to claim 2 or 3, wherein the standard gas supply path of the standard gas generation section is A low-concentration standard gas generator, which is one of the plurality of standard gas supply paths of the standard gas diluter.
【請求項6】 液体試料が収容され上方に開口部を有す
る金属製の容器本体と、 前記容器本体の前記開口部を覆うとともに前記容器本体
内の空間を外部に連絡させる孔を有する金属製のカバー
部材と、 前記容器本体の一部及び前記カバー部材の一部を含む金
属製のガスケット構造であって、前記容器本体と前記カ
バー部材とを分離自在に固定させて前記容器本体内の空
間を前記孔を除いて気密に保つガスケット構造と、 を備えたことを特徴とする標準ガス発生用液体試料容
器。
6. A metal container main body for accommodating a liquid sample and having an opening above, and a metal container main body having a hole for covering the opening of the container main body and for communicating a space in the container main body to the outside. A cover member, and a metal gasket structure including a part of the container body and a part of the cover member, wherein the container body and the cover member are detachably fixed to form a space in the container body. A standard gas generating liquid sample container, comprising: a gasket structure for keeping airtight except for the holes.
【請求項7】 前記液体試料容器が請求項6記載の標準
ガス発生用液体試料容器であることを特徴とする請求項
4又は5記載の低濃度標準ガス発生装置。
7. The low-concentration standard gas generator according to claim 4 or 5, wherein the liquid sample container is the standard gas generating liquid sample container according to claim 6.
【請求項8】 一端に純ガスが給気される流路と、該流
路の途中に設置された圧力調整器と、前記流路の途中に
おいて前記圧力調整器の下流側に設置され、液体試料の
入った孔のあいた液体試料容器を内包する試料室と、前
記流路の途中において前記試料室の下流側に設置された
流量コントローラと、を備えたことを特徴とする標準ガ
ス発生装置。
8. A flow path to which pure gas is supplied at one end, a pressure adjuster installed in the middle of the flow path, and a flow adjuster installed downstream of the pressure adjuster in the middle of the flow path. A standard gas generator, comprising: a sample chamber containing a liquid sample container having a hole containing a sample therein; and a flow rate controller installed on the downstream side of the sample chamber in the middle of the flow path.
【請求項9】 前記液体試料容器が請求項6記載の標準
ガス発生用液体試料容器であることを特徴とする請求項
8記載の標準ガス発生装置。
9. The standard gas generator according to claim 8, wherein the liquid sample container is the standard gas generating liquid sample container according to claim 6.
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