JPH09143404A - Coating material for cutting ultraviolet ray and article having ultraviolet light absorbing layer - Google Patents

Coating material for cutting ultraviolet ray and article having ultraviolet light absorbing layer

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JPH09143404A
JPH09143404A JP30565695A JP30565695A JPH09143404A JP H09143404 A JPH09143404 A JP H09143404A JP 30565695 A JP30565695 A JP 30565695A JP 30565695 A JP30565695 A JP 30565695A JP H09143404 A JPH09143404 A JP H09143404A
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JP
Japan
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group
coating material
ultraviolet
component
parts
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JP30565695A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeyuki Yamaki
健之 山木
Meiji Goto
明治 後藤
Minoru Inoue
井上  稔
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a coating material capable of providing a coating film hardly deteriorating ultraviolet light absorbing ability even by irradiation with ultraviolet light for a long period of time, by introducing an ultraviolet light absorber into a silicone-based coating agent. SOLUTION: This coating material for cutting ultraviolet ray preferably comprises (A) a silicon compound of the formula, R<2> n Si (OR<1> )4-n ' (B) an organic ultraviolet light absorber having a side chain containing an ester cross-linking of the general formula,-R<3> COOR<4> (R<1> , R<2> and R<4> are each a monofunctional hydrocarbon; R<3> is a bifunctional hydrocarbon chain; (n) is 0-3), (C) an acidic catalyst and water. The component C contains acidic colloidal silica, the silica content of the silica is 5-95wt.% based on the solid content of the sum of the component A and the component C, water content is 0.001-1.0mol based on the component A of 1 equivalent OR<1> group. Further the component A preferably contains (i) R<2> Si (OR<1> )3 and (ii) a silicon compound of the formula, R<2> 2 Si (OR<1> )2 in the ratio of 0.1-60 pts.wt. of the component (ii) based on 100 pts.wt. of the component (i).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シリコーン系コー
ティング材に紫外線吸収剤を導入した紫外線カットコー
ティング材に関し、特に紫外線吸収能力が劣化しにくい
塗膜が得られる紫外線カットコーティング材に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultraviolet cut coating material obtained by introducing an ultraviolet absorber into a silicone-based coating material, and more particularly to an ultraviolet cut coating material capable of obtaining a coating film whose ultraviolet absorbing ability is not easily deteriorated.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、紫外線吸収剤をシリコーン系コー
ティング材に導入した紫外線カットコーティング材で
は、長期間紫外線を照射すると、紫外線吸収剤自身の劣
化やマイグレーション等により、その紫外線吸収能力が
劣化し、長期耐久性に欠けるという問題があり、その改
善が求められている。長期耐久性を改善する例として、
特開昭58−213075号に開示されているように、
紫外線吸収剤の末端官能基として一般式−Si(O
7 3 で表される官能基(ここでR7 は同一又は異種
の置換もしくは非置換の1価炭化水素基を表す。)を付
与した紫外線吸収剤を合成し、この紫外線吸収剤とシリ
コーン系コーティング材とを反応させ、紫外線吸収剤を
シリコーンに固定化する方法が提案されている。しか
し、この特定の末端官能基を付与した紫外線吸収剤は入
手が困難であるという問題があり、この方法と異なる他
の長期耐久性を改善する手段が求められている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in an ultraviolet cut coating material in which an ultraviolet absorbent is introduced into a silicone-based coating material, when it is irradiated with ultraviolet rays for a long period of time, its ultraviolet absorbing ability deteriorates due to deterioration or migration of the ultraviolet absorbent itself, There is a problem of lacking long-term durability, and its improvement is required. As an example of improving long-term durability,
As disclosed in JP-A-58-213075,
The general formula -Si (O
R 7 ) 3 A UV absorber having a functional group (wherein R 7 represents the same or different substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group) is synthesized, and the UV absorber and silicone are synthesized. A method has been proposed in which an ultraviolet absorber is immobilized on silicone by reacting it with a system coating material. However, there is a problem that it is difficult to obtain the ultraviolet absorber having this specific terminal functional group, and there is a demand for another means for improving long-term durability, which is different from this method.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の事情
に鑑みてなされたものであって、その目的とするところ
は、シリコーン系コーティング材に紫外線吸収剤を導入
した紫外線カットコーティング材であって、長期間紫外
線を照射しても紫外線吸収能力が劣化しにくい塗膜が得
られる紫外線カットコーティング材を提供すること、及
び、その紫外線カットコーティング材を塗布して得られ
る塗膜を有する物品を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is an ultraviolet cut coating material obtained by introducing an ultraviolet absorber into a silicone coating material. And to provide an ultraviolet cut coating material capable of obtaining a coating film whose ultraviolet absorption ability is less likely to deteriorate even when irradiated with ultraviolet rays for a long time, and an article having the coating film obtained by applying the ultraviolet cut coating material. To provide.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明の紫
外線カットコーティング材は、下記の(1A)、(1
B)、(1C)及び水を含んでなる紫外線カットコーテ
ィング材である。 (1A)一般式R2 n Si(OR1 4-n で表されるケ
イ素化合物 (1B)一般式−R3 COOR4 で表されるエステル架
橋を含む側鎖を有する有機紫外線吸収剤 (1C)酸性触媒 ここで、R1 、R2 及びR4 は1価の炭化水素基を表
し、R3 は2価の炭化水素鎖を表し、nは0〜3の整数
を表す。
The ultraviolet cut coating material of the invention according to claim 1 is the following (1A), (1)
It is an ultraviolet cut coating material containing B), (1C) and water. (1A) Silicon compound represented by the general formula R 2 n Si (OR 1 ) 4-n (1B) Organic UV absorber having a side chain containing an ester bridge represented by the general formula —R 3 COOR 4 (1C ) Acid catalyst Here, R 1 , R 2 and R 4 represent a monovalent hydrocarbon group, R 3 represents a divalent hydrocarbon chain, and n represents an integer of 0 to 3.

【0005】請求項2に係る発明の紫外線カットコーテ
ィング材は、(1C)として酸性コロイダルシリカを含
んでなる請求項1記載の紫外線カットコーティング材で
ある。
The ultraviolet cut coating material of the invention according to claim 2 is the ultraviolet cut coating material according to claim 1, which comprises acidic colloidal silica as (1C).

【0006】請求項3に係る発明の紫外線カットコーテ
ィング材は、酸性コロイダルシリカが含有するシリカ分
が、(1A)と(1C)を合計したものの固形分中で占
める割合が5〜95重量%である請求項2記載の紫外線
カットコーティング材である。
In the ultraviolet blocking coating material of the invention according to claim 3, the silica content of the acidic colloidal silica is 5 to 95% by weight in the solid content of the total of (1A) and (1C). According to another aspect of the present invention, there is provided an ultraviolet cut coating material.

【0007】請求項4に係る発明の紫外線カットコーテ
ィング材は、水の含有量がOR1 基1当量の(1A)当
たり水0.001〜1.0モルである請求項1から請求
項3までのいずれかに記載の紫外線カットコーティング
材である。
In the ultraviolet protection coating material of the invention according to claim 4, the content of water is 0.001 to 1.0 mol of water per (1A) of 1 equivalent of OR 1 group. The ultraviolet cut coating material according to any one of 1.

【0008】請求項5に係る発明の紫外線カットコーテ
ィング材は、(1A)がR2 Si(OR1 3 で表され
るケイ素化合物とR2 2 Si(OR1 2 で表されるケ
イ素化合物を含有しており、R2 Si(OR1 3 で表
されるケイ素化合物100重量部に対するR2 2 Si
(OR1 2 で表されるケイ素化合物の割合が0.1〜
60重量部である請求項1から請求項4までのいずれか
に記載の紫外線カットコーティング材である。
In the ultraviolet protection coating material of the invention according to claim 5, (1A) is a silicon compound represented by R 2 Si (OR 1 ) 3 and a silicon compound represented by R 2 2 Si (OR 1 ) 2 . R 2 2 Si based on 100 parts by weight of a silicon compound represented by R 2 Si (OR 1 ) 3.
The ratio of the silicon compound represented by (OR 1 ) 2 is 0.1 to 0.1.
The ultraviolet cut coating material according to any one of claims 1 to 4, which is 60 parts by weight.

【0009】請求項6に係る発明の紫外線カットコーテ
ィング材は、下記の(2A)、(2B)、(2C)及び
前記(1B)を含んでなる紫外線カットコーティング材
である。 (2A)一般式R5 n SiX4-n で表され(式中、R5
は同一又は異種の置換もしくは非置換の炭素数1〜8の
1価炭化水素基を表し、nは0〜3の整数、Xは加水分
解性基を表す。)、その50モル%以上がn=1の成分
である加水分解性オルガノシランを有機溶媒又は水に分
散された酸性コロイダルシリカ中で、X基1当量の前記
加水分解性オルガノシラン当たり水0.001〜0.5
モルを使用する条件下で部分加水分解したオルガノシラ
ンのシリカ分散オリゴマー溶液 (2B)平均組成式がR6 a Si(OH)b
(4-a-b)/2 で表される(式中、R 6 は同一又は異種の置
換もしくは非置換の炭素数1〜8の1価炭化水素基を表
し、a及びbはそれぞれ0.2≦a≦2、0.0001
≦b≦3、a+b<4の関係を満たす数を表す。)分子
中にシラノール基を有するポリオルガノシロキサン (2C)硬化触媒 請求項7に係る発明の紫外線吸収層を有する物品は、請
求項1から請求項6までのいずれかに記載の紫外線カッ
トコーティング材を塗布して得られる紫外線吸収層を有
する物品である。
[0009] The ultraviolet cut coat of the invention according to claim 6
The wing materials are (2A), (2B), (2C) and
Ultraviolet ray blocking coating material containing the above (1B)
It is. (2A) General formula RFive nSix4-nIs represented by (where R isFive
Is the same or different substituted or unsubstituted C1-8
Represents a monovalent hydrocarbon group, n is an integer of 0 to 3, and X is hydrolyzed
Represents a degradable group. ), 50 mol% or more of which n = 1
Of the hydrolyzable organosilane is dissolved in an organic solvent or water.
In acidic colloidal silica dispersed, 1 equivalent of X group
Water 0.001 to 0.5 per hydrolyzable organosilane
Organosila partially hydrolyzed under conditions using moles
Silica dispersion oligomer solution (2B)6 aSi (OH)bO
(4-ab) / 2Is represented by (where R is 6Are the same or different
Represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Where a and b are 0.2 ≦ a ≦ 2 and 0.0001, respectively.
It represents a number that satisfies the relationship of ≦ b ≦ 3 and a + b <4. )molecule
A polyorganosiloxane (2C) curing catalyst having a silanol group therein, wherein the article having the ultraviolet absorbing layer of the invention according to claim 7 is a
The ultraviolet cup according to any one of claims 1 to 6.
It has an ultraviolet absorption layer obtained by applying a coating material
It is an article that does.

【0010】請求項8に係る発明の紫外線吸収層を有す
る物品は、その物品がガラス又はフィルムである請求項
7記載の紫外線吸収層を有する物品である。
The article having an ultraviolet absorbing layer of the invention according to claim 8 is the article having an ultraviolet absorbing layer according to claim 7, which is glass or film.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明における(1A)は一般式
2 n Si(OR1 4-n で表されるケイ素化合物であ
る。ここで、R1 及びR2 は1価の炭化水素基を表し、
同一のものであっても良いし、異なるものであっても良
い。そして、nは0〜3の整数を表す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (1A) in the present invention is a silicon compound represented by the general formula R 2 n Si (OR 1 ) 4-n . Here, R 1 and R 2 represent a monovalent hydrocarbon group,
They may be the same or different. And n represents the integer of 0-3.

【0012】このR2 は1価の炭化水素基であれば、特
に限定するものではないが、炭素数1〜8の置換又は非
置換の1価の炭化水素基が好適であり、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基;
シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアル
キル基;2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル
基などのアラルキル基;フェニル基、トリル基のような
アリール基;ビニル基、アリル基のようなアルケニル
基;クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、3,3,3-ト
リフルオロプロピル基などのハロゲン置換炭化水素基及
びγ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシドキシプ
ロピル基、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基、γ−
メルカプトプロピル基などの置換炭化水素基を例示する
ことができる。これらの中でも合成の容易さ、あるいは
入手の容易さから炭素数1〜4のアルキル基とフェニル
基が好ましい。
The R 2 is not particularly limited as long as it is a monovalent hydrocarbon group, but a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, for example, a methyl group. Alkyl groups such as ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group and octyl group;
Cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; aralkyl groups such as 2-phenylethyl group and 3-phenylpropyl group; aryl groups such as phenyl group and tolyl group; alkenyl groups such as vinyl group and allyl group; chloro Halogen-substituted hydrocarbon groups such as methyl group, γ-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group and γ-methacryloxypropyl group, γ-glycidoxypropyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group , Γ−
A substituted hydrocarbon group such as a mercaptopropyl group can be exemplified. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a phenyl group are preferable because of their ease of synthesis or availability.

【0013】また、R1 は1価の炭化水素基であれば、
特に限定するものではないが、炭素数1〜4のアルキル
基が好適である。具体的には、n=0のテトラアルコキ
シシランとしてはテトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシランなどが例示でき、n=1のオルガノトリアルコ
キシシランとしてはメチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキ
シシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシ
ランなどが例示できる。また、n=2のジオルガノジア
ルコキシシランとしてはジメチルジメトキシシラン、ジ
メチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラ
ン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメ
トキシシランなどが例示でき、n=3のトリオルガノア
ルコキシシランとしてはトリメチルメトキシシラン、ト
リエチルメトキシシラン、トリメチルイソプロポキシシ
ラン、ジメチルイソブチルメトキシシランなどが例示で
きる。
If R 1 is a monovalent hydrocarbon group,
Although not particularly limited, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable. Specific examples of the tetraalkoxysilane having n = 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane, and examples of the organotrialkoxysilane having n = 1 include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, and methyltriisopropoxy. Examples thereof include silane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, and 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane. Examples of the diorganodialkoxysilane with n = 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane, and examples of the triorganoalkoxysilane with n = 3 include Examples include trimethylmethoxysilane, triethylmethoxysilane, trimethylisopropoxysilane, and dimethylisobutylmethoxysilane.

【0014】本発明における(1B)は一般式−R3
OOR4 で表されるエステル架橋を含む側鎖を有する有
機紫外線吸収剤である。この有機紫外線吸収剤の主骨格
は特に限定されるものではなく、例えばベンゾフェノン
系、ベンゾトリアゾール系、サリシレート系、蓚酸アニ
リド系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン
系などが例示できる。
(1B) in the present invention is represented by the general formula --R 3 C
It is an organic ultraviolet absorber having a side chain containing an ester bridge represented by OOR 4 . The main skeleton of the organic ultraviolet absorber is not particularly limited, and examples thereof include benzophenone-based, benzotriazole-based, salicylate-based, oxalic acid anilide-based, diphenylcyanoacrylate-based, and triazine-based.

【0015】また、R4 は1価の炭化水素基を表し、特
に限定するものではないが、炭素数1〜12の置換又は
非置換の1価の炭化水素基が好適であり、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基;
シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアル
キル基;2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル
基などのアラルキル基;フェニル基、トリル基のような
アリール基;ビニル基、アリル基のようなアルケニル
基;クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、3,3,3-ト
リフルオロプロピル基などのハロゲン置換炭化水素基及
びγ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシドキシプ
ロピル基、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基、γ−
メルカプトプロピル基などの置換炭化水素基を例示する
ことができる。これらの中でも合成の容易さ、あるいは
入手の容易さから炭素数1〜12のアルキル基が好まし
い。
R 4 represents a monovalent hydrocarbon group and is not particularly limited, but a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms is preferable, for example, a methyl group. Alkyl groups such as ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group and octyl group;
Cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; aralkyl groups such as 2-phenylethyl group and 3-phenylpropyl group; aryl groups such as phenyl group and tolyl group; alkenyl groups such as vinyl group and allyl group; chloro Halogen-substituted hydrocarbon groups such as methyl group, γ-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group and γ-methacryloxypropyl group, γ-glycidoxypropyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group , Γ−
A substituted hydrocarbon group such as a mercaptopropyl group can be exemplified. Among these, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferable from the viewpoint of ease of synthesis or availability.

【0016】また、R3 は2価の炭化水素鎖であり、特
に限定するものではないが、例えば直鎖状あるいは非直
鎖状のメチル鎖、エチル鎖、プロピル鎖、ブチル鎖、ペ
ンチル鎖、ヘキシル鎖、ヘプチル鎖、オクチル鎖などの
アルキル鎖;フェニル鎖、トリル鎖のようなアリール
鎖、2−フェニルエチル鎖、3−フェニルプロピル鎖な
どのアラルキル鎖などが例示でき、これらの中でも合成
の容易さ、あるいは入手の容易さから炭素数1〜12の
アルキル鎖が好ましい。
R 3 is a divalent hydrocarbon chain, and is not particularly limited, and examples thereof include linear or non-linear methyl chains, ethyl chains, propyl chains, butyl chains, pentyl chains, Examples include alkyl chains such as hexyl chain, heptyl chain and octyl chain; aryl chains such as phenyl chain and tolyl chain, and aralkyl chains such as 2-phenylethyl chain and 3-phenylpropyl chain. Of these, easy synthesis is possible. Or, an alkyl chain having 1 to 12 carbon atoms is preferable from the viewpoint of easy availability.

【0017】また、(1B)としてはアルキル鎖で2量
体化したエステル架橋を含む側鎖を有する有機紫外線吸
収剤であってもよい。そして(1B)である有機紫外線
吸収剤の好適な含有量は、その有機紫外線吸収剤固有の
吸収波長及び吸収強度によって異なるが、紫外線カット
コーティング材全体の重量に対し、0.1〜50重量%
の範囲内であることが好ましい。
Further, (1B) may be an organic ultraviolet absorber having a side chain containing an ester bridge dimerized with an alkyl chain. And, the preferable content of the organic ultraviolet absorber which is (1B) varies depending on the absorption wavelength and the absorption intensity specific to the organic ultraviolet absorber, but is 0.1 to 50% by weight with respect to the total weight of the ultraviolet cut coating material.
Is preferably within the range.

【0018】本発明における(1C)は酸性触媒であ
り、この酸性触媒は前記(1A)の硬化反応を促進する
作用をし、特に限定するものではないが、例えば塩酸、
硝酸等の水溶性の酸や酸性コロイダルシリカ等が例示で
き、造膜性に優れる皮膜を得ることができる点で、酸性
コロイダルシリカを使用することが望ましい。なお、塩
基性コロイダルシリカを使用した場合も(1A)の硬化
反応を促進するが、(1B)の有機紫外線吸収剤が黄変
するので、本発明においては酸性コロイダルシリカを使
用することが望ましい。
In the present invention, (1C) is an acidic catalyst, and this acidic catalyst acts to accelerate the curing reaction of (1A) and is not particularly limited. For example, hydrochloric acid,
Water-soluble acids such as nitric acid and acidic colloidal silica can be exemplified, and it is preferable to use acidic colloidal silica because a film having excellent film-forming properties can be obtained. When the basic colloidal silica is used, the curing reaction of (1A) is promoted, but the organic ultraviolet absorber of (1B) turns yellow, so that it is desirable to use acidic colloidal silica in the present invention.

【0019】酸性コロイダルシリカとしては、水に分散
したものあるいはアルコールなどの非水系の有機溶媒に
分散したものが使用できる。一般にこのような酸性コロ
イダルシリカは固形分としてのシリカを20〜50重量
%含有している。また、水分散コロイダルシリカを使用
する場合、固形分以外の成分として存在する水は後に示
すように、(1A)成分の硬化反応に必要な硬化剤とし
て用いることができる。水分散酸性コロイダルシリカは
通常水ガラスから作ることができるが、市販品を容易に
入手できる。また、有機溶媒分散の酸性コロイダルシリ
カは前記水分散のものの水を有機溶媒に置換することで
容易に調整することができるが、市販品を容易に入手で
きる。コロイダルシリカが分散している有機溶媒の種類
は、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族ア
ルコール類;エチレングリコール、エチレングリコール
モノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチ
ルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレン
グリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル
等のジエチレングリコールの誘導体及びジアセトンアル
コール等を挙げることができ、これらからなる群より選
ばれた1種もしくは2種以上のものを使用することがで
きる。さらに、これらの親水性有機溶媒と併用してトル
エン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ンオキシムなども用いることができる。
As the acidic colloidal silica, those dispersed in water or those dispersed in a non-aqueous organic solvent such as alcohol can be used. Generally, such acidic colloidal silica contains 20 to 50% by weight of silica as a solid content. When water-dispersed colloidal silica is used, water present as a component other than the solid content can be used as a curing agent necessary for the curing reaction of the component (1A), as will be shown later. Water-dispersed acidic colloidal silica can usually be made from water glass, but commercial products are easily available. The acidic colloidal silica dispersed in an organic solvent can be easily prepared by substituting the organic solvent for water in the aqueous dispersion, but a commercially available product can be easily obtained. Examples of the organic solvent in which colloidal silica is dispersed include lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol and isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, acetic acid ethylene glycol monoethyl ether and the like. Examples thereof include ethylene glycol derivatives; diethylene glycol, diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol monobutyl ether, and diacetone alcohol. One or more selected from the group consisting of these can be used. Further, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone oxime, etc. can be used in combination with these hydrophilic organic solvents.

【0020】そして、酸性コロイダルシリカが含有する
シリカ分が、(1A)と(1C)を合計したものの固形
分中で占める割合が5〜95重量%であることが好まし
い。この場合の固形分とは、(1A)と(1C)が硬化
して固形化した際に生成する成分を指しており、(1
A)及び(1C)として使用した原料の構造式から計算
により算出される値であり、加水分解して生成する固形
成分及び酸性コロイダルシリカが含有するシリカ分等の
固形成分で構成される。酸性コロイダルシリカが含有す
るシリカ分の占める割合が5重量%未満であると得られ
る塗膜の塗膜硬度が不足し、95重量%より多いとコロ
イダルシリカの均一分散が困難となり、コーティング材
がゲル化するなどの不都合を招来することがある。
The silica content of the acidic colloidal silica is preferably 5 to 95% by weight in the solid content of the sum of (1A) and (1C). The solid content in this case refers to a component produced when (1A) and (1C) are hardened and solidified, and (1
It is a value calculated by calculation from the structural formulas of the raw materials used as A) and (1C), and is composed of a solid component such as a solid component produced by hydrolysis and a silica component contained in the acidic colloidal silica. When the proportion of silica contained in the acidic colloidal silica is less than 5% by weight, the coating hardness of the resulting coating film is insufficient, and when it exceeds 95% by weight, uniform dispersion of the colloidal silica becomes difficult and the coating material is gel. This may lead to inconvenience such as deterioration.

【0021】請求項1に係る発明の紫外線カットコーテ
ィング材は、前記の(1A)、(1B)及び(1C)と
共に硬化剤として水を含んでいる。水の含有量は、OR
1 基1当量の(1A)当たり水0.001〜1.0モル
であることが望ましく、より好ましくは0.5〜1.0
モルである。この理由は0.001モル未満では(1
A)の硬化反応が生じにくく、また1.0モルより多い
と(1A)同士の硬化反応が優先され、(1A)のアル
コキシド部と(1B)のエステル部との架橋が阻害さ
れ、紫外線吸収能力の劣化防止効果が不十分となる恐れ
があるからである。また、紫外線カットコーティング材
を調整する際に、必要に応じてpH調整をおこなっても
よい。
The ultraviolet cut coating material of the invention according to claim 1 contains water as a curing agent together with the above (1A), (1B) and (1C). Water content is OR
Water is preferably 0.001 to 1.0 mol per 1 equivalent of 1 group (more preferably 0.5 to 1.0 mol).
Is a mole. The reason for this is (1
The curing reaction of A) is unlikely to occur, and when it is more than 1.0 mol, the curing reaction of (1A) is prioritized, the crosslinking between the alkoxide part of (1A) and the ester part of (1B) is inhibited, and the ultraviolet absorption. This is because the effect of preventing deterioration of performance may be insufficient. Further, when adjusting the ultraviolet cut coating material, pH adjustment may be performed as necessary.

【0022】請求項5に係る発明の紫外線カットコーテ
ィング材は、請求項1記載のコーティング材において、
(1A)がR2 Si(OR1 3 で表されるケイ素化合
物とR2 2 Si(OR1 2 で表されるケイ素化合物を
含有しており、R2 Si(OR1 3 で表されるケイ素
化合物100重量部に対するR2 2 Si(OR1 2
表されるケイ素化合物の割合が0.1〜60重量部であ
ることを特徴とする。(1A)としてR2 Si(O
1 3 で表されるケイ素化合物を主として含有するこ
とにより塗膜硬度が強まる。そして、上記のR2 2 Si
(OR1 2 で表されるケイ素化合物の割合が0.1重
量部未満であると塗膜にクラックが発生する場合があ
り、60重量部を越えると塗膜硬度が低下するという問
題が生じる場合があるので上記の範囲内とすることが好
ましい。
The ultraviolet blocking coating material of the invention according to claim 5 is the coating material according to claim 1,
(1A) contains a silicon compound represented by R 2 Si (OR 1 ) 3 and a silicon compound represented by R 2 2 Si (OR 1 ) 2 and is represented by R 2 Si (OR 1 ) 3 . The ratio of the silicon compound represented by R 2 2 Si (OR 1 ) 2 to 100 parts by weight of the silicon compound is 0.1 to 60 parts by weight. As (1A), R 2 Si (O
By mainly containing the silicon compound represented by R 1 ) 3 , the coating film hardness is increased. Then, the above R 2 2 Si
If the proportion of the silicon compound represented by (OR 1 ) 2 is less than 0.1 parts by weight, cracks may occur in the coating film, and if it exceeds 60 parts by weight, the hardness of the coating film may decrease. In some cases, the above range is preferable.

【0023】請求項6に係る発明の紫外線カットコーテ
ィング材は、前記の(2A)、(2B)、(2C)及び
前記(1B)を含んでなる紫外線カットコーティング材
である。
An ultraviolet cut coating material according to a sixth aspect of the present invention is an ultraviolet cut coating material containing the above (2A), (2B), (2C) and (1B).

【0024】(2A)のシリカ分散オリゴマーは皮膜形
成に際して、硬化反応に預かる官能基としての加水分解
性基を有するベースポリマーの主成分である。これは有
機溶媒又は水に分散されたコロイダルシリカに、一般式
5 n SiX4-n で表される加水分解性オルガノシラン
の1種以上を加え、コロイダルシリカ中の水あるいは別
途添加された水で、加水分解性オルガノシランを部分加
水分解することで得られる。R5 の具体例としては前記
のR2 において例示した炭素数1〜8の置換又は非置換
の1価の炭化水素基と同じものを例示できる。
The silica-dispersed oligomer (2A) is the main component of the base polymer having a hydrolyzable group as a functional group that is involved in the curing reaction when forming a film. This is obtained by adding one or more hydrolyzable organosilanes represented by the general formula R 5 n SiX 4-n to colloidal silica dispersed in an organic solvent or water, and adding water in the colloidal silica or water added separately. Then, it is obtained by partially hydrolyzing the hydrolyzable organosilane. Specific examples of R 5 are the same as those of the substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms exemplified in the above R 2 .

【0025】一般式R5 n SiX4-n の中の加水分解性
基Xとしてはアルコキシ基、アセトキシ基、オキシム
基、エノキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基な
どが挙げられる。入手の容易さ及びシリカ分散オリゴマ
ー溶液を調整しやすいことからアルコキシ基が好まし
い。一般式R5 n SiX4-n で表される加水分解性オル
ガノシランとしては、0〜3の整数であるnによって決
まるが、モノ、ジ、トリ、テトラの各官能性のアルコキ
シシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、
エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン
類、アミドシラン類などが挙げられる。具体的なアルコ
キシシラン類を例示するとn=0のテトラアルコキシシ
ランとしてはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ランなどが例示でき、n=1のオルガノトリアルコキシ
シランとしてはメチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フ
ェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシランな
どが例示できる。また、n=2のジオルガノジアルコキ
シシランとしてはジメチルジメトキシシラン、ジメチル
ジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフ
ェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシ
ランなどが例示でき、n=3のトリオルガノアルコキシ
シランとしてはトリメチルメトキシシラン、トリエチル
メトキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラン、ジ
メチルイソブチルメトキシシランなどが例示できる。
Examples of the hydrolyzable group X in the general formula R 5 n SiX 4-n include an alkoxy group, an acetoxy group, an oxime group, an enoxy group, an amino group, an aminoxy group and an amide group. An alkoxy group is preferable because it is easily available and the silica dispersion oligomer solution is easily prepared. The hydrolyzable organosilane represented by the general formula R 5 n SiX 4-n is determined by n, which is an integer of 0 to 3, but mono-, di-, tri-, and tetra-functional alkoxysilanes and acetoxy. Silanes, oxime silanes,
Examples include enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Specific examples of alkoxysilanes include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane as the tetraalkoxysilane with n = 0, and methyltrimethoxysilane and methyltriethoxysilane as the organotrialkoxysilane with n = 1. Examples thereof include methyltriisopropoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, and 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane. Examples of the diorganodialkoxysilane with n = 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane, and examples of the triorganoalkoxysilane with n = 3 include Examples include trimethylmethoxysilane, triethylmethoxysilane, trimethylisopropoxysilane, and dimethylisobutylmethoxysilane.

【0026】また、一般式R5 n SiX4-n で表される
加水分解性オルガノシランのうち50モル%以上はn=
1である3官能性であることが必要であり、より好まし
くは60モル%以上であり、最も好ましくは70モル%
以上である。n=1のものが50モル%未満では十分な
塗膜硬度が得られないと共に、乾燥硬化性が劣り易い。
In the hydrolyzable organosilane represented by the general formula R 5 n SiX 4-n , 50 mol% or more is n =
It is necessary to have a trifunctionality of 1, more preferably 60 mol% or more, and most preferably 70 mol%.
That is all. If n = 1 is less than 50 mol%, sufficient coating film hardness cannot be obtained, and the dry curability tends to be poor.

【0027】(2A)中のコロイダルシリカはコーティ
ング材の硬化塗膜の硬度を高めるために必須のものであ
る。このコロイダルシリカは(2A)の固形分中に、シ
リカ分として5〜95重量%の範囲で含有されることが
望ましい。この(2A)の固形分とは、(2A)が硬化
して固形化した際に生成する成分を指しており、例えば
(2A)を室温で48時間放置して得られる固形分がこ
の(2A)の固形分である。コロイダルシリカのシリカ
分の含有率が5重量%未満であると所望の塗膜硬度が得
られず、95重量%を越えるとコロイダルシリカの均一
分散が困難となり(2A)がゲル化などの不都合を招来
することがある。
The colloidal silica in (2A) is essential for increasing the hardness of the cured coating film of the coating material. The colloidal silica is preferably contained in the solid content of (2A) in the range of 5 to 95% by weight as the silica content. The solid content of (2A) refers to a component produced when (2A) is cured and solidified. For example, the solid content obtained by allowing (2A) to stand at room temperature for 48 hours is (2A). ) Is the solid content. If the silica content of the colloidal silica is less than 5% by weight, the desired coating hardness cannot be obtained, and if it exceeds 95% by weight, it is difficult to uniformly disperse the colloidal silica (2A). May be invited.

【0028】(2A)のシリカ分散オリゴマーは、加水
分解性オルガノシランを水分散コロイダルシリカ又は有
機溶媒分散コロイダルシリカ中で部分加水分解して得る
ことができる。水の使用量は加水分解性基(X)1当量
の加水分解性オルガノシラン当たり、水0.001〜
0.5モルの範囲内とする。0.001モル未満では十
分な部分加水分解物が得られず、その結果塗膜強度が不
十分となり、0.5モルを越えると部分加水分解物の安
定性が悪くなるという問題が生じる。部分加水分解する
方法は特に限定されず、加水分解性オルガノシランとコ
ロイダルシリカを混合して、必要量の水を添加配合すれ
ばよく、このとき部分加水分解反応は常温で進行する。
また、部分加水分解反応を促進させるため60〜100
℃に加温してもよい。さらに部分加水分解反応を促進さ
せる目的で塩酸、酢酸、ハロゲン化シラン、クロロ酢
酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プ
ロピオン酸、グルタル酸、グリコール酸、マレイン酸、
マロン酸、トルエンスルホン酸、蓚酸などの有機酸及び
無機酸を触媒に用いてもよい。
The silica-dispersed oligomer (2A) can be obtained by partially hydrolyzing a hydrolyzable organosilane in water-dispersed colloidal silica or organic solvent-dispersed colloidal silica. The amount of water used is 0.001 to 1 part of water per 1 equivalent of hydrolyzable organosilane.
It is within the range of 0.5 mol. If it is less than 0.001 mol, a sufficient partial hydrolyzate cannot be obtained, resulting in insufficient coating strength, and if it exceeds 0.5 mol, the stability of the partial hydrolyzate becomes poor. The method of partial hydrolysis is not particularly limited, and it suffices to mix the hydrolyzable organosilane and colloidal silica and add and mix the required amount of water. At this time, the partial hydrolysis reaction proceeds at room temperature.
Further, in order to accelerate the partial hydrolysis reaction, 60 to 100
You may heat to ℃. Further, for the purpose of promoting partial hydrolysis reaction, hydrochloric acid, acetic acid, silane halide, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid,
Organic and inorganic acids such as malonic acid, toluenesulfonic acid and oxalic acid may be used as catalysts.

【0029】(2A)が長期的に安定した性能を持つた
めには、液のpHを2.0〜7.0、好ましくは2.5
〜6.5、より好ましくは3.0〜6.0にするとよ
い。pHが2.0〜7.0の範囲外であると、特に水の
使用量がX基1当量に対し水0.3モル以上では(2
A)の長期的な性能低下が生じやすい。(2A)のpH
が2.0よりさらに酸性側であれば、アンモニア、エチ
レンジアミン等の塩基性試薬を添加して調整すればよ
く、pHが7.0より塩基性側であれば塩酸、硝酸、酢
酸等の酸性試薬を用いて調整すればよく、また、その調
整方法については特に限定はない。
In order for (2A) to have stable performance for a long period of time, the pH of the liquid is 2.0 to 7.0, preferably 2.5.
-6.5, more preferably 3.0-6.0. When the pH is out of the range of 2.0 to 7.0, particularly when the amount of water used is 0.3 mol or more of water with respect to 1 equivalent of the X group, (2
Long-term performance deterioration of A) is likely to occur. PH of (2A)
If the pH is more than 2.0, it may be adjusted by adding a basic reagent such as ammonia or ethylenediamine. If the pH is more than 7.0, an acidic reagent such as hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid, etc. It suffices to make the adjustment using, and the adjusting method is not particularly limited.

【0030】(2B)のシラノール基含有ポリオルガノ
シロキサンは平均組成式がR6 a Si(OH)b
(4-a-b)/2 で表される。式中のR6 の具体例としては、
上記のR 5 と同様に、前記のR2 において例示した炭素
数1〜8の置換又は非置換の1価の炭化水素基と同じも
のを例示できるが、好ましくは、炭素数1〜4のアルキ
ル基、フェニル基、ビニル基又はγ−グリシドキシプロ
ピル基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−アミノプ
ロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基などの置換炭
化水素基であり、より好ましくはメチル基もしくはフェ
ニル基である。また前記式中のa及びbはそれぞれ0.
2≦a≦2、0.0001≦b≦3、a+b<4の関係
を満たす数である。aが0.2未満又はbが3を越える
と硬化塗膜にクラックが生じるなどの不都合があり、ま
た、aが2を越え4以下の場合、又はbが0.0001
未満では硬化がうまく進行しないという不都合が生じ
る。(2B)のシラノール基含有ポリオルガノシロキサ
ンは、例えばメチルトリクロロシラン、ジメチルジクロ
ロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジク
ロロシラン、もしくはこれらに対応するアルコキシシラ
ンの1種もしくは2種以上の混合物を大量の水で加水分
解することで得ることができる。なお、シラノール基含
有ポリオルガノシロキサンを得るのに、アルコキシシラ
ンを用いて加水分解した場合、加水分解されないアルコ
キシ基が共存するようなポリオルガノシロキサンが得ら
れることもあるが、このようなポリオルガノシロキサン
を用いても差し支えない。
(2B) Silanol group-containing polyorgano
The average composition formula of siloxane is R6 aSi (OH)bO
(4-ab) / 2It is represented by R in the formula6As a specific example of
R above FiveSimilarly to the above RTwoExamples of carbon
The same as the substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group of number 1 to 8
Although it is possible to exemplify, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable.
Group, phenyl group, vinyl group or γ-glycidoxy pro
Pill group, γ-methacryloxypropyl group, γ-aminop
Substituted carbon such as ropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group
A hydrogenated group, more preferably a methyl group or a phenyl group.
It is a nyl group. Further, a and b in the above formula are each 0.
Relationship of 2 ≦ a ≦ 2, 0.0001 ≦ b ≦ 3, a + b <4
Is a number that satisfies. a is less than 0.2 or b is more than 3
May cause inconvenience such as cracks in the cured coating film.
When a exceeds 2 and is 4 or less, or b is 0.0001.
If it is less than 1, there will be a problem that curing will not proceed well.
You. (2B) Silanol group-containing polyorganosiloxa
For example, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane
Losilane, phenyltrichlorosilane, diphenyldichlorosilane
Lolosilane, or alkoxysila corresponding to these
Water with a large amount of water.
It can be obtained by solving. In addition, containing silanol group
To obtain polyorganosiloxane containing
Alcohols that are not hydrolyzed when
We have obtained polyorganosiloxanes in which xy groups coexist.
In some cases, such polyorganosiloxane
Can be used.

【0031】(2C)の硬化触媒は、(2A)と(2
B)との縮合反応を促進し、塗膜を硬化させる作用をす
る。この硬化触媒としてはアルキルチタン酸塩、オクチ
ル酸錫ジラウレート、ジブチル錫ジラウレート、ジオク
チル錫ジマレート等のカルボン酸の金属塩;ジブチルア
ミン−2−ヘキソエート、ジメチルアミンアセテート、
エタノールアミンアセテート等のアミン塩;酢酸テトラ
メチルアンモニウム等のカルボン酸第4級アンモニウム
塩;テトラエチルペンタミンのようなアミン類;N−β
−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン等のアミン系シランカップリング剤;
p−トルエンスルホン酸、フタル酸、塩酸等の酸類;ア
ルミニウムアルコキシド、アルミニウムキレート等のア
ルミニウム化合物、水酸化カリウムなどのアルカリ触
媒;テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタ
ネート、チタニウムテトラアセチルアセトネート等のチ
タニウム化合物、メチルトリクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン、トリメチルモノクロロシラン等のハロゲ
ン化シラン等があるが、これらの他に(2A)と(2
B)との縮合反応の促進に有効なものであれば特に制限
はない。
The curing catalyst of (2C) is (2A) and (2C).
It has the function of promoting the condensation reaction with B) and hardening the coating film. As the curing catalyst, a metal salt of a carboxylic acid such as alkyl titanate, tin octylate dilaurate, dibutyltin dilaurate, dioctyltin dimaleate; dibutylamine-2-hexoate, dimethylamine acetate,
Amine salts such as ethanolamine acetate; carboxylic acid quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium acetate; amines such as tetraethylpentamine; N-β
-Amine-based silane coupling agents such as aminoethyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane and N-β-aminoethyl-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane;
Acids such as p-toluenesulfonic acid, phthalic acid and hydrochloric acid; aluminum compounds such as aluminum alkoxide and aluminum chelate; alkali catalysts such as potassium hydroxide; titanium compounds such as tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate and titanium tetraacetylacetonate, There are halogenated silanes such as methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, and trimethylmonochlorosilane, but in addition to these, (2A) and (2
There is no particular limitation as long as it is effective for promoting the condensation reaction with B).

【0032】(2A)と(2B)の配合割合は、(2
A)と(2B)の合計を100重量部としたとき、(2
A)1〜99重量部に対して(2B)99〜1重量部で
あることが好ましく、より好ましくは(2A)5〜95
重量部に対して(2B)95〜5重量部、最も好ましく
は(2A)10〜90重量部に対して(2B)90〜1
0重量部である。(2A)が1重量部未満であると常温
硬化性に劣り、また、十分な塗膜硬度が得られない。一
方(2A)が99重量部を越えると硬化性が不安定でか
つ良好な塗膜が得られないことがある。また、(2C)
の硬化触媒の添加量は(2A)と(2B)の合計を10
0重量部としたとき、0.0001〜10重量部である
ことが好ましく、より好ましくは0.0005〜8重量
部であり、最も好ましくは0.0007〜5重量部であ
る。0.0001重量部未満であると常温硬化性に劣
り、また、10重量部を越えると耐熱性、耐候性が損な
われる。
The mixing ratio of (2A) and (2B) is (2
When the total of (A) and (2B) is 100 parts by weight, (2
A) 1 to 99 parts by weight, (2B) is preferably 99 to 1 parts by weight, and more preferably (2A) 5 to 95 parts.
95 to 5 parts by weight to (2B), most preferably (2B) 90 to 1 to 10 to 90 parts by weight.
0 parts by weight. If the content of (2A) is less than 1 part by weight, the room temperature curability is poor, and sufficient coating film hardness cannot be obtained. On the other hand, if the amount of (2A) exceeds 99 parts by weight, the curability may be unstable and a good coating film may not be obtained. Also, (2C)
The addition amount of the curing catalyst of (2A) and (2B) is 10
When it is 0 parts by weight, it is preferably 0.0001 to 10 parts by weight, more preferably 0.0005 to 8 parts by weight, and most preferably 0.0007 to 5 parts by weight. If it is less than 0.0001 parts by weight, the room temperature curing property is poor, and if it exceeds 10 parts by weight, heat resistance and weather resistance are impaired.

【0033】(2A)のシリカ分散オリゴマーに含有さ
れる加水分解性基と(2B)のシラノール基とは(2
C)の硬化触媒存在下で、常温もしくは低温加熱するこ
とにより縮合反応して硬化被膜を形成する。従って、湿
気硬化タイプのコーティング材とは異なり、常温で硬化
するときにも湿度の影響をほとんど受けない。また、加
熱処理により縮合反応を促進して硬化被膜を形成するこ
とができる。
The hydrolyzable group contained in the silica-dispersed oligomer (2A) and the silanol group (2B) are (2)
By heating at room temperature or low temperature in the presence of the curing catalyst of C), a condensation reaction is caused to form a cured film. Therefore, unlike a moisture-curing type coating material, it is hardly affected by humidity even when cured at room temperature. Further, the heat treatment can accelerate the condensation reaction to form a cured film.

【0034】請求項6に記載のコーティング材は各種有
機溶媒で希釈して使用できる。有機溶媒の種類は(2
A)あるいは(2B)の1価炭化水素基の種類もしくは
分子量の大きさによって適宜選定することができる。こ
の有機溶媒の具体例については、前記において(1C)
として酸性コロイダルシリカを使用する場合のコロイダ
ルシリカが分散している有機溶媒として例示したものと
同じ有機溶媒を例示できる。
The coating material according to claim 6 can be diluted with various organic solvents before use. The type of organic solvent is (2
It can be appropriately selected depending on the type or molecular weight of the monovalent hydrocarbon group of A) or (2B). For specific examples of this organic solvent, see (1C) above.
As the organic solvent in which the colloidal silica is dispersed when the acidic colloidal silica is used as the organic solvent, the same organic solvents as those exemplified can be exemplified.

【0035】請求項7に係る発明の紫外線吸収層を有す
る物品は、請求項1から請求項6までのいずれかに記載
の紫外線カットコーティング材を塗布して得られる紫外
線吸収層を有している。紫外線カットコーティング材の
塗布方法については、特に限定はなく、例えば刷毛塗
り、スプレー、浸漬、フロー、ロール、カーテン、ナイ
フコート等の各種塗布方法を選択することができる。そ
して、コーティング材を塗布した後、乾燥(必要に応じ
て焼き付け)を行うことにより紫外線吸収層が得られ
る。コーティング材を塗布する際に、物品の材質や表面
状態によっては、物品の表面にプライマー層を予め形成
させておいても良い。また、紫外線吸収層の厚みについ
ては、特に制限するものではないが、0.1〜50μm
程度が好ましく、塗膜が長期的に安定して密着、保持さ
れ、クラックやハガレが発生しないために、より好まし
くは1〜10μmである。そして、物品としては、特に
限定するものではないが、ガラス又はフィルムであれ
ば、窓等に利用できるので好ましい。
An article having an ultraviolet absorbing layer of the invention according to claim 7 has an ultraviolet absorbing layer obtained by applying the ultraviolet cut coating material according to any one of claims 1 to 6. . The application method of the ultraviolet cut coating material is not particularly limited, and various application methods such as brush application, spraying, dipping, flow, roll, curtain, knife coating and the like can be selected. After applying the coating material, drying (baking if necessary) is performed to obtain the ultraviolet absorbing layer. When applying the coating material, a primer layer may be formed in advance on the surface of the article depending on the material and surface condition of the article. The thickness of the ultraviolet absorbing layer is not particularly limited, but is 0.1 to 50 μm.
It is preferably about 1 to 10 μm, because the coating film is stably adhered and held for a long period of time and cracks and peeling do not occur. The article is not particularly limited, but glass or film is preferable because it can be used for windows and the like.

【0036】[0036]

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて
説明する。実施例及び比較例中「部」はすべて「重量
部」を、「%」はすべて「重量%」を表す。また、分子
量はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー)により、測定機種として東ソー(株)製のHLC8
020を用いて、標準ポリスチレンで検量線を作成し、
測定したものである。なお、本発明は下記実施例に限定
されない。
The present invention will be described below based on examples and comparative examples. In the examples and comparative examples, all "parts" represent "parts by weight" and all "%" represent "% by weight". Further, the molecular weight is measured by GPC (gel permeation chromatography), and HLC8 manufactured by Tosoh Corp. is used as a measuring model.
Using 020, create a calibration curve with standard polystyrene,
Measured. In addition, this invention is not limited to a following example.

【0037】(実施例1)メチルトリメトキシシラン
〔(1A)成分〕100部に、酸性コロイダルシリカ
〔(1C)成分〕であるIPAオルガノシリカゾル〔商
品名「OSCAL1432」、触媒化成工業(株)製、
固形分30%〕60部、ジメチルジメトキシシラン
〔(1A)成分〕30部及び下記の有機紫外線吸収剤
〔(1B)成分〕5部を混合し、次いでイソプロピルア
ルコール(以下IPAと略す)100部で希釈し、さら
に水39部を添加し、攪拌する。得られた液を60℃恒
温槽中で加熱することにより分子量をMw =1200に
調製して紫外線カットコーティング材を得た。
Example 1 100 parts of methyltrimethoxysilane [(1A) component] and 100 parts of acidic colloidal silica [(1C) component] IPA organosilica sol [trade name "OSCAL1432", manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.] ,
Solid content 30%] 60 parts, dimethyldimethoxysilane [(1A) component] 30 parts and the following organic UV absorber [(1B) component] 5 parts are mixed, and then 100 parts of isopropyl alcohol (hereinafter abbreviated as IPA). Dilute, add 39 parts of water, and stir. The obtained liquid was heated in a constant temperature bath at 60 ° C. to adjust the molecular weight to M w = 1200 to obtain an ultraviolet cut coating material.

【0038】上記の有機紫外線吸収剤としては下記の一
般式化1で表されるベンゾトリアゾール誘導体の−R8
が−C(CH3 3 であり、−R9 が−C2 4 COO
817であるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(商
品名「TINUVIN384」、CIBA−GEIGY
社製)を使用した。なお、一般式化1中のR8 とR9
1価の有機基を表している。
As the above-mentioned organic ultraviolet absorber, -R 8 of the benzotriazole derivative represented by the following general formula 1 is used.
A There -C (CH 3) 3, -R 9 is -C 2 H 4 COO
C 8 H 17 benzotriazole-based UV absorber (trade name “TINUVIN 384”, CIBA-GEIGY
Was used. In addition, R 8 and R 9 in the general formula 1 represent a monovalent organic group.

【0039】[0039]

【化1】 Embedded image

【0040】上記で得られた紫外線カットコーティング
材を、アセトンで洗浄したガラス板(材質はパイレック
スガラス)上にスプレー塗装で硬化被膜厚で5μmにな
るように塗布し、150℃で30分間硬化させて紫外線
吸収層を有するガラス板を得た。この紫外線吸収層を有
するガラス板について、紫外線吸収能の劣化率を後記の
試験方法で評価し、その結果を表1に示した。
The UV-cut coating material obtained above was applied onto a glass plate (made of Pyrex glass) washed with acetone by spray coating so that the coating film thickness was 5 μm and cured at 150 ° C. for 30 minutes. A glass plate having an ultraviolet absorbing layer was obtained. With respect to the glass plate having this ultraviolet absorbing layer, the deterioration rate of the ultraviolet absorbing ability was evaluated by the test method described below, and the results are shown in Table 1.

【0041】(実施例2)メチルトリメトキシシラン
〔(1A)成分〕100部に、酸性コロイダルシリカ
〔(1C)成分〕であるIPAオルガノシリカゾル〔商
品名「OSCAL1432」、触媒化成工業(株)製、
固形分30%〕90部及び上記のベンゾトリアゾール系
紫外線吸収剤(商品名「TINUVIN384」、CI
BA−GEIGY社製)5部を混合し、次いでIPA1
00部で希釈し、さらに水37.7部を添加し、攪拌す
る。得られた液を60℃恒温槽中で加熱することにより
分子量をMw =1500に調製して紫外線カットコーテ
ィング材を得た。
(Example 2) 100 parts of methyltrimethoxysilane [(1A) component] and 100 parts of acidic colloidal silica [(1C) component] IPA organosilica sol [trade name "OSCAL1432", manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.] ,
Solid content 30%] 90 parts and the above-mentioned benzotriazole-based ultraviolet absorber (trade name "TINUVIN384", CI
BA-GEIGY) 5 parts, and then IPA1
Dilute with 00 parts, add 37.7 parts of water, and stir. The obtained liquid was heated in a constant temperature bath at 60 ° C. to adjust the molecular weight to M w = 1500 to obtain an ultraviolet cut coating material.

【0042】上記で得られた紫外線カットコーティング
材を、アセトンで洗浄したガラス板(材質はパイレック
スガラス)上にスプレー塗装で硬化被膜厚で5μmにな
るように塗布し、150℃で30分間硬化させて紫外線
吸収層を有するガラス板を得た。この紫外線吸収層を有
するガラス板について、紫外線吸収能の劣化率を後記の
試験方法で評価し、その結果を表1に示した。
The UV-cut coating material obtained above was applied onto a glass plate (made of Pyrex glass) washed with acetone by spray coating so as to have a coating film thickness of 5 μm and cured at 150 ° C. for 30 minutes. A glass plate having an ultraviolet absorbing layer was obtained. With respect to the glass plate having this ultraviolet absorbing layer, the deterioration rate of the ultraviolet absorbing ability was evaluated by the test method described below, and the results are shown in Table 1.

【0043】(実施例3)メチルトリメトキシシラン
〔(1A)成分〕100部に、酸性コロイダルシリカ
〔(1C)成分〕であるIPAオルガノシリカゾル〔商
品名「OSCAL1432」、触媒化成工業(株)製、
固形分30%〕60部及び上記のベンゾトリアゾール系
紫外線吸収剤(商品名「TINUVIN384」、CI
BA−GEIGY社製)10部を混合し、次いでIPA
100部で希釈し、さらに水37.7部を添加し、攪拌
する。得られた液を60℃恒温槽中で加熱することによ
り分子量をMw =1300に調製して紫外線カットコー
ティング材を得た。
(Example 3) 100 parts of methyltrimethoxysilane [(1A) component] and 100 parts of acidic colloidal silica [(1C) component] IPA organosilica sol [trade name "OSCAL1432", manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.] ,
Solid content 30%] 60 parts and the above-mentioned benzotriazole-based ultraviolet absorber (trade name "TINUVIN384", CI
(Manufactured by BA-GEIGY) 10 parts, and then IPA
Dilute with 100 parts, add 37.7 parts of water, and stir. The obtained liquid was heated in a constant temperature bath at 60 ° C. to adjust the molecular weight to M w = 1300 to obtain an ultraviolet cut coating material.

【0044】上記で得られた紫外線カットコーティング
材を、アセトンで洗浄したガラス板(材質はパイレック
スガラス)上にスプレー塗装で硬化被膜厚で5μmにな
るように塗布し、150℃で30分間硬化させて紫外線
吸収層を有するガラス板を得た。この紫外線吸収層を有
するガラス板について、紫外線吸収能の劣化率を後記の
試験方法で評価し、その結果を表1に示した。
The UV-cut coating material obtained above was applied onto a glass plate (made of Pyrex glass) washed with acetone by spray coating so that the coating film thickness was 5 μm and cured at 150 ° C. for 30 minutes. A glass plate having an ultraviolet absorbing layer was obtained. With respect to the glass plate having this ultraviolet absorbing layer, the deterioration rate of the ultraviolet absorbing ability was evaluated by the test method described below, and the results are shown in Table 1.

【0045】(比較例1)メチルトリメトキシシラン
〔(1A)成分〕100部に、酸性コロイダルシリカ
〔(1C)成分〕であるIPAオルガノシリカゾル〔商
品名「OSCAL1432」、触媒化成工業(株)製、
固形分30%〕90部及び前記一般式化1で表されるベ
ンゾトリアゾール誘導体の−R8 、−R9 の部分が共に
−C(CH3 2 2 5 ベンゾトリアゾール系紫外線
吸収剤(商品名「TINUVIN328」、CIBA−
GEIGY社製)5部を混合し、次いでIPA100部
で希釈し、さらに水37.7部を添加し、攪拌する。得
られた液を60℃恒温槽中で加熱することにより分子量
をMw =1500に調製して紫外線カットコーティング
材を得た。
Comparative Example 1 Methyltrimethoxysilane
[(1A) component] 100 parts with acidic colloidal silica
[(1C) component] IPA organosilica sol [quote
Product name "OSCAL1432", manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.
Solid content 30%] 90 parts and a compound represented by the general formula 1
-R of benzotriazole derivative8, -R9Together
-C (CHThree) TwoCTwoHFiveBenzotriazole UV
Absorbent (trade name "TINUVIN328", CIBA-
GEIGY) 5 parts, then IPA 100 parts
The mixture is diluted with, 37.7 parts of water is added, and the mixture is stirred. Profit
By heating the liquid obtained in a constant temperature bath at 60 ° C, the molecular weight is
To Mw= 1500 and UV cut coating
I got the material.

【0046】上記で得られた紫外線カットコーティング
材を、アセトンで洗浄したガラス板(材質はパイレック
スガラス)上にスプレー塗装で硬化被膜厚で5μmにな
るように塗布し、150℃で30分間硬化させて紫外線
吸収層を有するガラス板を得た。この紫外線吸収層を有
するガラス板について、紫外線吸収能の劣化率を後記の
試験方法で評価し、その結果を表1に示した。
The UV-cut coating material obtained above was applied onto a glass plate (made of Pyrex glass) washed with acetone by spray coating so that the coating film thickness was 5 μm and cured at 150 ° C. for 30 minutes. A glass plate having an ultraviolet absorbing layer was obtained. With respect to the glass plate having this ultraviolet absorbing layer, the deterioration rate of the ultraviolet absorbing ability was evaluated by the test method described below, and the results are shown in Table 1.

【0047】次に実施例4〜実施例6及び比較例2の紫
外線カットコーティング材に使用する各成分の調整例を
説明する。
Next, an example of adjusting each component used in the ultraviolet cut coating materials of Examples 4 to 6 and Comparative Example 2 will be described.

【0048】まず、(2A)成分の調整例を説明する。 (調整例2A−1)攪拌機、加温ジャケット、コンデン
サー及び温度計を取りつけたフラスコ中にIPA分散コ
ロイダルシリカゾル〔商品名「IPA−ST」、粒子径
10〜20nm、固形分30%、水分0.5%、日産化
学工業(株)製、〕100部、メチルトリメトキシシラ
ン68部、前記一般式化1で表されるベンゾトリアゾー
ル誘導体の−R8 が−C(CH3 3 であり、−R9
−C2 4 COOC8 17であるベンゾトリアゾール系
紫外線吸収剤(商品名「TINUVIN384」、CI
BA−GEIGY社製)3部及び水10.8部を投入し
て攪拌しながら65℃の温度で約5時間かけて部分加水
分解反応を行い、冷却して(2A)成分を得た。このも
のは、室温で48時間放置したときの固形分は36%で
あった。ここで得た(2A)成分を2A−1と称する。 2A−1の調整条件: ・加水分解性基1当量のメチルトリメトキシシランに対する水のモル数 −−−−− 0.4モル ・(2A)の固形分中のシリカ分含有率 −−−−− 47.3% ・n=1の加水分解性オルガノシランのモル% −−−−− 100モル%
First, an example of adjusting the (2A) component will be described. (Preparation Example 2A-1) IPA-dispersed colloidal silica sol [trade name "IPA-ST", particle size 10 to 20 nm, solid content 30%, water content 0. 5] in a flask equipped with a stirrer, a heating jacket, a condenser and a thermometer. 5%, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.,] 100 parts, 68 parts of methyltrimethoxysilane, the general formalized -R 8 benzotriazole derivative represented by 1 is -C (CH 3) 3, and - A benzotriazole-based ultraviolet absorber in which R 9 is —C 2 H 4 COOC 8 H 17 (trade name “TINUVIN 384”, CI
3 parts of BA-GEIGY) and 10.8 parts of water were added and the partial hydrolysis reaction was carried out at a temperature of 65 ° C. for about 5 hours with stirring, followed by cooling to obtain the component (2A). This product had a solid content of 36% when left at room temperature for 48 hours. The component (2A) obtained here is referred to as 2A-1. Condition for adjusting 2A-1: -Number of moles of water relative to 1 equivalent of hydrolyzable group of methyltrimethoxysilane ------ 0.4 moles-Silica content in solid content of (2A) -------- -47.3% -mol% of hydrolyzable organosilane with n = 1 ---------- 100 mol%

【0049】(調整例2A−2)攪拌機、加温ジャケッ
ト、コンデンサー及び温度計を取りつけたフラスコ中に
キシレン・nブタノール分散コロイダルシリカゾル〔商
品名「XBA−ST」、粒子径10〜20nm、固形分
30%、水分0.2%、日産化学工業(株)製、〕10
0部、メチルトリメトキシシラン68部及び前記一般式
化1で表されるベンゾトリアゾール誘導体の−R8 が−
C(CH3 3 であり、−R9 が−C2 4 COOC8
17であるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(商品名
「TINUVIN384」、CIBA−GEIGY社
製)3部を投入して攪拌しながら65℃の温度で約5時
間かけて部分加水分解反応を行い、冷却して(2A)成
分を得た。このものは、室温で48時間放置したときの
固形分は36%であった。ここで得た(2A)成分を2
A−2と称する。 2A−2の調整条件: ・加水分解性基1当量のメチルトリメトキシシランに対する水のモル数 −−−−− 7×10-3モル ・(2A)の固形分中のシリカ分含有率 −−−−− 47.2% ・n=1の加水分解性オルガノシランのモル% −−−−− 100モル%
(Adjustment Example 2A-2) Stirrer, heating jacket
In a flask equipped with a condenser, condenser and thermometer.
Xylene / n-butanol dispersion colloidal silica sol [quote
Product name "XBA-ST", particle size 10-20 nm, solid content
30%, moisture 0.2%, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.] 10
0 part, 68 parts of methyltrimethoxysilane and the above general formula
Of the benzotriazole derivative represented by Chemical formula 18But-
C (CHThree)ThreeAnd -R9Is -CTwoH FourCOOC8
H17Benzotriazole-based UV absorber (trade name
"TINUVIN 384", CIBA-GEIGY
(Production) Add 3 parts and stir at a temperature of 65 ° C for about 5 hours
Partially hydrolyzes over a period of time, cools (2A)
Got a minute. This one is
The solid content was 36%. The component (2A) obtained here is 2
It is called A-2. Condition for adjusting 2A-2: -Number of moles of water relative to 1 equivalent of hydrolyzable group of methyltrimethoxysilane ------ 7 × 10-3Silica content in solid content of (2A) ----- 47.2% Mol% of hydrolyzable organosilane of n = 1 --100 mol%

【0050】(調整例2A−3)攪拌機、加温ジャケッ
ト、コンデンサー及び温度計を取りつけたフラスコ中に
IPA分散コロイダルシリカゾル〔商品名「IPA−S
T」、粒子径10〜20nm、固形分30%、水分0.
5%、日産化学工業(株)製、〕100部、メチルトリ
メトキシシラン68部、ジメチルジメトキシシラン18
部、前記一般式化1で表されるベンゾトリアゾール誘導
体の−R8 が−C(CH3 3 であり、−R9 が−C2
4 COOC8 17であるベンゾトリアゾール系紫外線
吸収剤(商品名「TINUVIN384」、CIBA−
GEIGY社製)3部、水2.7部及び無水酢酸0.1
部を投入して攪拌しながら80℃の温度で約3時間かけ
て部分加水分解反応を行い、冷却して(2A)成分を得
た。このものは、室温で48時間放置したときの固形分
は36%であった。ここで得た(2A)成分を2A−3
と称する。 2A−3の調整条件: ・加水分解性基1当量の加水分解性オルガノシラン(メチルトリメトキシシラ ン及びジメチルジメトキシシラン)に対する水のモル数 −−−−− 0.1モル ・(2A)の固形分中のシリカ分含有率 −−−−− 40.2% ・n=1の加水分解性オルガノシランのモル% −−−−− 77モル%
(Preparation Example 2A-3) IPA-dispersed colloidal silica sol [trade name "IPA-S" was placed in a flask equipped with a stirrer, a heating jacket, a condenser and a thermometer.
T ”, particle size 10 to 20 nm, solid content 30%, water content 0.
5%, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.] 100 parts, methyltrimethoxysilane 68 parts, dimethyldimethoxysilane 18
Parts, the general formalized -R 8 benzotriazole derivatives -C represented by 1 (CH 3) a 3, -R 9 is -C 2
H 4 COOC 8 H 17 benzotriazole-based UV absorber (trade name “TINUVIN 384”, CIBA-
(Manufactured by GEIGY) 3 parts, water 2.7 parts and acetic anhydride 0.1
Part of the mixture was added and stirred to carry out a partial hydrolysis reaction at a temperature of 80 ° C. for about 3 hours and then cooled to obtain a component (2A). This product had a solid content of 36% when left at room temperature for 48 hours. The component (2A) obtained here is used as 2A-3
Called. 2A-3 adjustment conditions: -The number of moles of water for 1 equivalent of the hydrolyzable group of hydrolyzable organosilane (methyltrimethoxysilane and dimethyldimethoxysilane) -------- 0.1 mol- (2A) Silica content in solid content --- 40.2% -mol% of hydrolyzable organosilane with n = 1 --77-mol%

【0051】(調整例2A−4)TINUVIN384
に代えて、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として、
前記一般式化1で表されるベンゾトリアゾール誘導体の
−R8 、−R9 の部分が共に−C(CH3 2 2 5
であるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(商品名「T
INUVIN328」、CIBA−GEIGY社製)3
部を使用するようにした以外は、調整例2A−2と同様
にして(2A)成分を得た。このものは、室温で48時
間放置したときの固形分は36%であった。ここで得た
(2A)成分を2A−4と称する。 2A−4の調整条件: ・加水分解性基1当量のメチルトリメトキシシランに対する水のモル数 −−−−− 7×10-3モル ・(2A)の固形分中のシリカ分含有率 −−−−− 47.2% ・n=1の加水分解性オルガノシランのモル% −−−−− 100モル%
(Adjustment Example 2A-4) TINUVIN384
Instead of, as a benzotriazole-based ultraviolet absorber,
The general formalized -R 8 benzotriazole derivative represented by 1, both -C portions of -R 9 (CH 3) 2 C 2 H 5
Benzotriazole-based UV absorber (trade name "T
INUVIN 328 ", manufactured by CIBA-GEIGY) 3
Component (2A) was obtained in the same manner as in Preparation Example 2A-2, except that the parts were used. This product had a solid content of 36% when left at room temperature for 48 hours. The component (2A) obtained here is referred to as 2A-4. Condition for adjusting 2A-4: -Number of moles of water relative to 1 equivalent of methyltrimethoxysilane of the hydrolyzable group ------ 7 x 10 -3 moles-Silica content in solid content of (2A) --- --47.2% Mol% of hydrolyzable organosilane with n = 1 ------- 100 mol%

【0052】次に(2B)成分の調整例を説明する。 (調整例2B−1)攪拌機、加温ジャケット、コンデン
サー、滴下ロート及び温度計を取りつけたフラスコ中に
メチルトリイソプロポキシシラン220部(1モル)と
トルエン150部を秤り取り、その混合溶液中に攪拌し
ながら、1%塩酸水溶液108部を20分で滴下してメ
チルトリイソプロポキシシランを加水分解した。滴下終
了から40分後に攪拌を止め、反応液を分液ロートに移
し静置して2層に分離した。塩酸を含んだ下層の水・イ
ソプロピルアルコールの混合液を分液除去し、次いで残
ったトルエンの樹脂溶液中の塩酸を水洗で除去し、さら
にトルエン減圧除去した後、得られた反応物をイソプロ
ピルアルコールで希釈して、平均分子量(Mw)約20
00のシラノール基含有ポリオルガノシロキサンのイソ
プロピルアルコール40%溶液を得た。ここで得た(2
B)成分を2B−1と称する。
Next, an example of adjusting the (2B) component will be described. (Adjustment Example 2B-1) 220 parts (1 mol) of methyltriisopropoxysilane and 150 parts of toluene were weighed out in a flask equipped with a stirrer, a heating jacket, a condenser, a dropping funnel and a thermometer, and in a mixed solution thereof. With stirring, 108 parts of a 1% hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise over 20 minutes to hydrolyze methyltriisopropoxysilane. After 40 minutes from the end of the dropping, stirring was stopped, and the reaction solution was transferred to a separating funnel and allowed to stand still to separate into two layers. The lower layer mixture of water and isopropyl alcohol containing hydrochloric acid was removed by liquid separation, then the remaining hydrochloric acid in the resin solution of toluene was removed by washing with water, and the toluene was removed under reduced pressure. Diluted with, average molecular weight (M w ) about 20
A silanol group-containing polyorganosiloxane of No. 00 in 40% isopropyl alcohol was obtained. Got here (2
Component B) is referred to as 2B-1.

【0053】(調整例2B−2)攪拌機、加温ジャケッ
ト、コンデンサー、滴下ロート及び温度計を取りつけた
フラスコ中に水1000部、アセトン50部を秤り取
り、その混合溶液中にメチルトリクロロシラン44.8
部(0.3モル)、ジメチルジクロロシラン38.7部
(0.3モル)及びフェニルトリクロロシラン84.6
部(0.4モル)をトルエン200部に溶解したものを
攪拌下に滴下しながら加水分解した。滴下終了から40
分後に攪拌を止め、反応液を分液ロートに移し静置して
2層に分離した。塩酸を含んだ下層の液を分液除去し、
次いで残った上層のポリオルガノシロキサンのトルエン
溶液を減圧ストリッピングにかけ、この溶液中に残存し
ている水及び塩酸を過剰のトルエンと共に留去して、平
均分子量(Mw )約3000のシラノール基含有ポリオ
ルガノシロキサンのトルエン60%溶液を得た。ここで
得た(2B)成分を2B−2と称する。
(Preparation Example 2B-2) 1000 parts of water and 50 parts of acetone were weighed into a flask equipped with a stirrer, a heating jacket, a condenser, a dropping funnel and a thermometer, and methyltrichlorosilane 44 was added to the mixed solution. .8
Parts (0.3 mol), dimethyldichlorosilane 38.7 parts (0.3 mol) and phenyltrichlorosilane 84.6.
One part (0.4 mol) dissolved in 200 parts of toluene was hydrolyzed while being added dropwise with stirring. 40 from the end of dropping
After a minute, stirring was stopped, and the reaction solution was transferred to a separating funnel and allowed to stand to separate into two layers. The lower layer liquid containing hydrochloric acid is separated and removed,
Then, the remaining toluene solution of the upper polyorganosiloxane was subjected to vacuum stripping, and the water and hydrochloric acid remaining in this solution were distilled off together with an excess of toluene, thereby containing a silanol group having an average molecular weight (M w ) of about 3000. A 60% toluene solution of polyorganosiloxane was obtained. The component (2B) obtained here is referred to as 2B-2.

【0054】(実施例4)表2に示すように、(2A)
成分である2A−1を70部、(2B)成分である2B
−1を30部、(2C)成分としてN−β−アミノエチ
ル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシランを1部
混合して紫外線カットコーティング材を得た。なお、
(1B)成分は前記2A−1中に含まれている。
Example 4 As shown in Table 2, (2A)
70 parts of 2A-1 which is an ingredient, 2B which is a (2B) ingredient
-1 was mixed with 30 parts and 1 part of N-β-aminoethyl-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane as a component (2C) to obtain an ultraviolet cut coating material. In addition,
The component (1B) is contained in the above 2A-1.

【0055】次に、エタノールで洗浄したポリエステル
フィルム上にスプレー塗装でアクリル系プライマーを硬
化被膜厚で1μmになるように塗布し、80℃30分間
硬化させた後、その上に上記で得られた紫外線カットコ
ーティング材を硬化被膜厚で約10μmになるように塗
布し、80℃で30分間硬化させて紫外線吸収層を有す
るフィルムを得た。この紫外線吸収層を有するフィルム
について、紫外線吸収能の劣化率を後記の試験方法で評
価し、その結果を表2に示した。
Next, an acrylic primer was applied onto a polyester film washed with ethanol by spray coating so that the film thickness for curing would be 1 μm, and after curing at 80 ° C. for 30 minutes, the above was obtained above. An ultraviolet cut coating material was applied so as to have a cured film thickness of about 10 μm, and cured at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a film having an ultraviolet absorbing layer. The deterioration rate of the ultraviolet absorbing ability of the film having the ultraviolet absorbing layer was evaluated by the test method described below, and the results are shown in Table 2.

【0056】(実施例5)表2に示すように、(2A)
成分である2A−2を60部、(2B)成分である2B
−1を40部、(2C)成分としてN−β−アミノエチ
ル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシランを2部
混合して紫外線カットコーティング材を得た。なお、
(1B)成分は前記2A−2中に含まれている。
(Example 5) As shown in Table 2, (2A)
60 parts of component 2A-2, 2B of component (2B)
40 parts of -1 and 2 parts of N-β-aminoethyl-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane as the component (2C) were mixed to obtain an ultraviolet cut coating material. In addition,
The component (1B) is contained in the above 2A-2.

【0057】次に、エタノールで洗浄したポリエステル
フィルム上にスプレー塗装でアクリル系プライマーを硬
化被膜厚で1μmになるように塗布し、80℃30分間
硬化させた後、その上に上記で得られた紫外線カットコ
ーティング材を硬化被膜厚で約10μmになるように塗
布し、80℃で30分間硬化させて紫外線吸収層を有す
るフィルムを得た。この紫外線吸収層を有するフィルム
について、紫外線吸収能の劣化率を後記の試験方法で評
価し、その結果を表2に示した。
Next, an acrylic primer was applied onto a polyester film washed with ethanol by spray coating so that the film thickness for curing would be 1 μm, and after curing at 80 ° C. for 30 minutes, the above was obtained above. An ultraviolet cut coating material was applied so as to have a cured film thickness of about 10 μm, and cured at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a film having an ultraviolet absorbing layer. The deterioration rate of the ultraviolet absorbing ability of the film having the ultraviolet absorbing layer was evaluated by the test method described below, and the results are shown in Table 2.

【0058】(実施例6)表2に示すように、(2A)
成分である2A−3を50部、(2B)成分である2B
−2を50部、(2C)成分としてN−β−アミノエチ
ル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシランを2部
混合して紫外線カットコーティング材を得た。なお、
(1B)成分は前記2A−3中に含まれている。
Example 6 As shown in Table 2, (2A)
50 parts of 2A-3 which is an ingredient, 2B which is a (2B) ingredient
-2 parts and 50 parts of N-β-aminoethyl-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane as a component (2C) were mixed to obtain an ultraviolet cut coating material. In addition,
The component (1B) is contained in the above 2A-3.

【0059】次に、エタノールで洗浄したポリエステル
フィルム上にスプレー塗装でアクリル系プライマーを硬
化被膜厚で1μmになるように塗布し、80℃30分間
硬化させた後、その上に上記で得られた紫外線カットコ
ーティング材を硬化被膜厚で約10μmになるように塗
布し、80℃で30分間硬化させて紫外線吸収層を有す
るフィルムを得た。この紫外線吸収層を有するフィルム
について、紫外線吸収能の劣化率を後記の試験方法で評
価し、その結果を表2に示した。
Next, an acrylic primer was applied onto the polyester film washed with ethanol by spray coating so that the film thickness for curing would be 1 μm, and after curing at 80 ° C. for 30 minutes, the above-obtained product was obtained thereon. An ultraviolet cut coating material was applied so as to have a cured film thickness of about 10 μm, and cured at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a film having an ultraviolet absorbing layer. The deterioration rate of the ultraviolet absorbing ability of the film having the ultraviolet absorbing layer was evaluated by the test method described below, and the results are shown in Table 2.

【0060】(比較例2)表2に示すように、(2A)
成分である2A−4を60部、(2B)成分である2B
−1を40部、(2C)成分としてN−β−アミノエチ
ル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシランを2部
混合して紫外線カットコーティング材を得た。なお、
(1B)成分であるTINUVIN384は2A−4に
は含まれておらず、代りに前記一般式化1で表されるベ
ンゾトリアゾール誘導体の−R8 、−R9 の部分が共に
−C(CH3 2 2 5 であるベンゾトリアゾール系
紫外線吸収剤(商品名「TINUVIN328」、CI
BA−GEIGY社製)を2A−4は含んでいる。
(Comparative Example 2) As shown in Table 2, (2A)
60 parts of component 2A-4, 2B of component (2B)
40 parts of -1 and 2 parts of N-β-aminoethyl-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane as the component (2C) were mixed to obtain an ultraviolet cut coating material. In addition,
(1B) is a component TINUVIN384 is not included in the 2A-4, benzotriazole derivatives of -R 8 represented by instead general formalized 1, -C are both part of the -R 9 (CH 3 ) 2 C 2 H 5 benzotriazole-based UV absorber (trade name “TINUVIN 328”, CI
2A-4 contains BA-GEIGY).

【0061】次に、エタノールで洗浄したポリエステル
フィルム上にスプレー塗装でアクリル系プライマーを硬
化被膜厚で1μmになるように塗布し、80℃30分間
硬化させた後、その上に上記で得られた紫外線カットコ
ーティング材を硬化被膜厚で約10μmになるように塗
布し、80℃で30分間硬化させて紫外線吸収層を有す
るフィルムを得た。この紫外線吸収層を有するフィルム
について、紫外線吸収能の劣化率を後記の試験方法で評
価し、その結果を表2に示した。
Next, an acrylic primer was applied by spray coating on a polyester film washed with ethanol so that the film thickness for curing would be 1 μm, and after curing at 80 ° C. for 30 minutes, the above-obtained product was obtained. An ultraviolet cut coating material was applied so as to have a cured film thickness of about 10 μm, and cured at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a film having an ultraviolet absorbing layer. The deterioration rate of the ultraviolet absorbing ability of the film having the ultraviolet absorbing layer was evaluated by the test method described below, and the results are shown in Table 2.

【0062】(紫外線吸収能の劣化率の試験方法)作製
した紫外線吸収層を有するガラス又は紫外線吸収層を有
するフィルムに対して、促進耐候性試験機(スガ試験機
社製、商品名サンシャインスーパーロングライフウェザ
ーメーター、型番WEL−SUN−HC型)により12
00時間の促進試験を行って、紫外線吸収能の劣化につ
いての促進試験を行う。促進試験前後の試験サンプルの
紫外線吸収率を分光特性試験機を用いて測定し、下記式
より紫外線吸収能の劣化率を算出する。なお、紫外線吸
収率は300〜380nmの範囲を測定した。 紫外線吸収能の劣化率=(1−促進試験後の紫外線吸収
率/促進試験前の紫外線吸収率)×100
(Test Method for Deterioration Rate of Ultraviolet Absorbing Ability) For the prepared glass having an ultraviolet absorbing layer or a film having an ultraviolet absorbing layer, an accelerated weather resistance tester (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., trade name Sunshine Super Long) is used. 12 by life weather meter, model number WEL-SUN-HC type)
The accelerated test for 00 hours is performed to perform the accelerated test for deterioration of the ultraviolet absorbing ability. The ultraviolet absorption rate of the test sample before and after the acceleration test is measured using a spectral characteristic tester, and the deterioration rate of the ultraviolet absorption capacity is calculated from the following formula. The ultraviolet absorption was measured in the range of 300 to 380 nm. Deterioration rate of UV absorption capacity = (1-UV absorption rate after accelerated test / UV absorption rate before accelerated test) × 100

【0063】[0063]

【表1】 [Table 1]

【0064】[0064]

【表2】 [Table 2]

【0065】表1及び表2の結果から、本発明の実施例
は、比較例に比べ紫外線吸収能の劣化率が少ないことが
確認できた。
From the results shown in Tables 1 and 2, it was confirmed that the examples of the present invention had a lower deterioration rate of the ultraviolet absorbing ability than the comparative examples.

【0066】[0066]

【発明の効果】請求項1〜請求項6に係る紫外線カット
コーティング材は、シリコーン系コーティング材に紫外
線吸収剤として一般式−R3 COOR4 で表されるエス
テル架橋を含む側鎖を有する有機紫外線吸収剤をを導入
しているので、請求項1〜請求項6に係る紫外線カット
コーティング材によれば長期間紫外線を照射しても紫外
線吸収能力が劣化しにくい塗膜が得られる。
UV coating material according to claims 1 to 6, according to the invention are organic ultraviolet having a side chain containing an ester bridge of the general formula -R 3 COOR 4 as an ultraviolet absorber in the silicone based coating material Since the absorbent is introduced, the ultraviolet cut coating materials according to claims 1 to 6 can provide a coating film in which the ultraviolet absorbing ability is not easily deteriorated even when irradiated with ultraviolet rays for a long period of time.

【0067】また、請求項7及び請求項8に係る紫外線
吸収層を有する物品は、請求項1〜請求項6に係る紫外
線カットコーティング材を用いて紫外線吸収層が形成さ
れているので、長期間紫外線を照射しても紫外線吸収能
力が劣化しにくいという好ましい性能を有する物品とな
る。
Further, since the article having the ultraviolet absorbing layer according to claim 7 and claim 8 has the ultraviolet absorbing layer formed by using the ultraviolet cut coating material according to claim 1 to claim 6, The article has a preferable performance that the ultraviolet absorbing ability is not easily deteriorated even when the ultraviolet ray is irradiated.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記の(1A)、(1B)、(1C)及
び水を含んでなる紫外線カットコーティング材。 (1A)一般式R2 n Si(OR1 4-n で表されるケ
イ素化合物 (1B)一般式−R3 COOR4 で表されるエステル架
橋を含む側鎖を有する有機紫外線吸収剤 (1C)酸性触媒 ここで、R1 、R2 及びR4 は1価の炭化水素基を表
し、R3 は2価の炭化水素鎖を表し、nは0〜3の整数
を表す。
1. An ultraviolet cut coating material containing the following (1A), (1B), (1C) and water. (1A) Silicon compound represented by the general formula R 2 n Si (OR 1 ) 4-n (1B) Organic UV absorber having a side chain containing an ester bridge represented by the general formula —R 3 COOR 4 (1C ) Acid catalyst Here, R 1 , R 2 and R 4 represent a monovalent hydrocarbon group, R 3 represents a divalent hydrocarbon chain, and n represents an integer of 0 to 3.
【請求項2】 (1C)として酸性コロイダルシリカを
含んでなる請求項1記載の紫外線カットコーティング
材。
2. The ultraviolet cut coating material according to claim 1, which comprises acidic colloidal silica as (1C).
【請求項3】 酸性コロイダルシリカが含有するシリカ
分が、(1A)と(1C)を合計したものの固形分中で
占める割合が5〜95重量%である請求項2記載の紫外
線カットコーティング材。
3. The ultraviolet cut coating material according to claim 2, wherein the silica content of the acidic colloidal silica is 5 to 95% by weight in the solid content of the total of (1A) and (1C).
【請求項4】 水の含有量がOR1 基1当量の(1A)
当たり水0.001〜1.0モルである請求項1から請
求項3までのいずれかに記載の紫外線カットコーティン
グ材。
4. A water content of 1 equivalent of OR 1 group (1A)
The ultraviolet cut coating material according to any one of claims 1 to 3, which has a water content of 0.001 to 1.0 mol.
【請求項5】 (1A)がR2 Si(OR1 3 で表さ
れるケイ素化合物とR2 2 Si(OR1 2 で表される
ケイ素化合物を含有しており、R2 Si(OR1 3
表されるケイ素化合物100重量部に対するR2 2 Si
(OR1 2で表されるケイ素化合物の割合が0.1〜
60重量部である請求項1から請求項4までのいずれか
に記載の紫外線カットコーティング材。
5. (1A) contains a silicon compound represented by R 2 Si (OR 1 ) 3 and a silicon compound represented by R 2 2 Si (OR 1 ) 2 , and R 2 Si (OR 1 ) R 2 2 Si based on 100 parts by weight of the silicon compound represented by 3
The ratio of the silicon compound represented by (OR 1 ) 2 is 0.1 to 0.1.
The ultraviolet cut coating material according to any one of claims 1 to 4, which is 60 parts by weight.
【請求項6】 下記の(2A)、(2B)、(2C)及
び前記(1B)を含んでなる紫外線カットコーティング
材。 (2A)一般式R5 n SiX4-n で表され(式中、R5
は同一又は異種の置換もしくは非置換の炭素数1〜8の
1価炭化水素基を表し、nは0〜3の整数、Xは加水分
解性基を表す。)、その50モル%以上がn=1の成分
である加水分解性オルガノシランを有機溶媒又は水に分
散された酸性コロイダルシリカ中で、X基1当量の前記
加水分解性オルガノシラン当たり水0.001〜0.5
モルを使用する条件下で部分加水分解したオルガノシラ
ンのシリカ分散オリゴマー溶液 (2B)平均組成式がR6 a Si(OH)b
(4-a-b)/2 で表される(式中、R 6 は同一又は異種の置
換もしくは非置換の炭素数1〜8の1価炭化水素基を表
し、a及びbはそれぞれ0.2≦a≦2、0.0001
≦b≦3、a+b<4の関係を満たす数を表す。)分子
中にシラノール基を有するポリオルガノシロキサン (2C)硬化触媒
6. The following (2A), (2B), (2C) and
And an ultraviolet cut coating containing the above (1B)
Wood. (2A) General formula RFive nSix4-nIs represented by (where R isFive
Is the same or different substituted or unsubstituted C1-8
Represents a monovalent hydrocarbon group, n is an integer of 0 to 3, and X is hydrolyzed
Represents a degradable group. ), 50 mol% or more of which n = 1
Of the hydrolyzable organosilane is dissolved in an organic solvent or water.
In acidic colloidal silica dispersed, 1 equivalent of X group
Water 0.001 to 0.5 per hydrolyzable organosilane
Organosila partially hydrolyzed under conditions using moles
Silica dispersion oligomer solution (2B)6 aSi (OH)bO
(4-ab) / 2Is represented by (where R is 6Are the same or different
Represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Where a and b are 0.2 ≦ a ≦ 2 and 0.0001, respectively.
It represents a number that satisfies the relationship of ≦ b ≦ 3 and a + b <4. )molecule
Polyorganosiloxane (2C) curing catalyst having silanol groups in the interior
【請求項7】 請求項1から請求項6までのいずれかに
記載の紫外線カットコーティング材を塗布して得られる
紫外線吸収層を有する物品。
7. An article having an ultraviolet absorbing layer obtained by applying the ultraviolet cut coating material according to any one of claims 1 to 6.
【請求項8】 前記物品がガラス又はフィルムである請
求項7記載の紫外線吸収層を有する物品。
8. The article having an ultraviolet absorbing layer according to claim 7, wherein the article is glass or film.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997049778A1 (en) * 1996-06-27 1997-12-31 Nippon Oil Company, Ltd. Ultraviolet absorbing material and ultraviolet absorbing plate
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